JP2003284935A - Mixing device - Google Patents

Mixing device

Info

Publication number
JP2003284935A
JP2003284935A JP2002089310A JP2002089310A JP2003284935A JP 2003284935 A JP2003284935 A JP 2003284935A JP 2002089310 A JP2002089310 A JP 2002089310A JP 2002089310 A JP2002089310 A JP 2002089310A JP 2003284935 A JP2003284935 A JP 2003284935A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve
flow rate
supply
diaphragm
chemical liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002089310A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Tsunokake
泰洋 角掛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico System Solutions Co Ltd
Original Assignee
Tokico Technology Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokico Technology Ltd filed Critical Tokico Technology Ltd
Priority to JP2002089310A priority Critical patent/JP2003284935A/en
Publication of JP2003284935A publication Critical patent/JP2003284935A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stabilize a flow rate of a chemical liquid by absorbing temporary increase in the flow rate due to the valve closing action of an on/off valve. <P>SOLUTION: A mixing device 10 is constituted so that 50% hydrofluoric acid (chemical liquid) fed through a chemical liquid supply path 12 and pure water fed through a pure water supply path 14 are mixed by a mixing nozzle 16. When compressed air is supplied to the on/off valve 43 through an air duct 43a by an air supply circuit 39, the compressed air is also supplies to a flow rate stabilization part 44. When compressed air supply to the air duct 43a is stopped by the air supply circuit 39, compressed air supply to the flow rate stabilization part 44 is stopped at the same time. In such a way, the on/off valve 43 and the flow rate stabilization part 44 are operated in conjunction with each other to supply and stop the compressed air. The flow rate stabilization part 44 absorbs a flow rate change due to the valve closing action of the on/off valve 43 to stabilize the supply amount of the chemical liquid supplied to the mixing nozzle 16. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば成分の異な
る複数の薬液を混合することで半導体や液晶などフラッ
トパネルディスプレイ製造プロセスに使用される混合液
を供給する混合装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mixing device for supplying a mixed liquid used in a flat panel display manufacturing process such as semiconductor and liquid crystal by mixing a plurality of liquid chemicals having different components.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、2種類の液体を混合するための混
合装置として純水と薬液とを混合する混合装置を例に挙
げて説明する。
2. Description of the Related Art A mixing device for mixing pure water and a chemical liquid will be described as an example of a mixing device for mixing two kinds of liquids.

【0003】従来、成分の異なる2種類の薬液を混合す
る混合装置では、一定流速、一定圧力に制御された純水
に窒素ガス等により圧送された薬液を一定流量で注入す
ることで所定濃度の薬液を得るように構成されている。
Conventionally, in a mixing device for mixing two kinds of chemical liquids having different components, a chemical liquid pressure-fed by nitrogen gas or the like is injected at a constant flow rate into pure water controlled to have a constant flow velocity and a constant pressure so that a predetermined concentration is obtained. It is configured to obtain a drug solution.

【0004】また、従来の混合装置では、各液供給経路
にエア駆動式の開閉弁が設けられている。この開閉弁
は、液流路に設けられた弁座に対して弁体が離着座する
ことで液流路を開閉しており、エアの供給により弁体が
弁座から離間して液を混合経路に供給し、エアの供給停
止により弁体が弁座に着座して液の供給を停止させるよ
うに構成されている。
Further, in the conventional mixing device, an air-driven on-off valve is provided in each liquid supply path. This on-off valve opens and closes the liquid flow path by allowing the valve element to separate from and seat on the valve seat provided in the liquid flow path, and the valve element is separated from the valve seat by the supply of air to mix the liquid. The valve body is configured to be supplied to the passage, and when the supply of air is stopped, the valve body is seated on the valve seat to stop the supply of liquid.

【0005】このように構成された混合装置では、薬液
貯留タンク内に所定量の薬液を貯留すると、エア駆動式
の開閉弁を開弁して窒素ガスの圧力で薬液を微小流量で
純水に混合する。例えば、薬液と純水との混合比が例え
ば1:99の場合、生成される混合液の液量が20L
(リットル)とすると、薬液の供給量が200mL(ミ
リリットル)であるのに対し、純水の供給量が1980
0mLとなる。
In the thus configured mixing device, when a predetermined amount of the chemical liquid is stored in the chemical liquid storage tank, the air-driven open / close valve is opened to turn the chemical liquid into pure water with a minute flow rate by the pressure of nitrogen gas. Mix. For example, when the mixing ratio of the chemical liquid and the pure water is, for example, 1:99, the liquid amount of the generated mixed liquid is 20 L.
(Liter), the supply amount of the chemical solution is 200 mL (milliliter), while the supply amount of pure water is 1980.
It becomes 0 mL.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】例えば、上記のように
混合装置に設けられたエア駆動式の開閉弁が液漏れが生
じないように弁体がダイヤフラムからなる開閉弁を例に
挙げて説明すると、上記開閉弁は、ダイヤフラムの開弁
動作によりダイヤフラムの面積に応じた流路内の一定量
の薬液を吸引し、ダイヤフラムの閉弁動作によりダイヤ
フラムの面積に応じた一定量の薬液を流路内に押し出
す。
An example of an on-off valve whose valve body is a diaphragm so that liquid leakage does not occur in the air-operated on-off valve provided in the mixing apparatus as described above will be described. The on-off valve sucks a certain amount of chemical liquid in the flow passage according to the area of the diaphragm by the opening operation of the diaphragm, and a certain amount of chemical liquid in the flow passage according to the area of the diaphragm in the flow passage by the closing operation of the diaphragm. Extrude into.

【0007】そのため、このようなダイヤフラムが弁体
として開閉動作する構成の開閉弁を用いた従来の混合装
置では、薬液貯留タンク内の一定量の薬液が混合経路に
吐出されると、開閉弁が閉弁状態に切り替わるが、その
際にダイヤフラムの閉弁動作によりダイヤフラムの面積
に応じた一定量の薬液が流路内に押し出されるため、混
合経路で混合された混合液の濃度が一時的に増大すると
いう問題があった。
Therefore, in the conventional mixing device using the opening / closing valve having such a diaphragm that opens and closes as a valve body, the opening / closing valve is opened when a certain amount of the liquid medicine in the liquid medicine storage tank is discharged into the mixing passage. The valve is switched to the closed state, but at that time the diaphragm closing action pushes a certain amount of chemical solution into the flow path according to the diaphragm area, so the concentration of the mixed solution mixed in the mixing path temporarily increases. There was a problem of doing.

【0008】また、上記のような問題は、ダイヤフラム
が弁体として開閉動作する構成の開閉弁以外のものでも
同様に生じている。
Further, the above-mentioned problems similarly occur in other than the opening / closing valve in which the diaphragm is opened / closed as a valve body.

【0009】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a mixing device which solves the above problems.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。上記請求項1
記載の発明は、異なる種類の流体を個別に供給する複数
の流体供給経路と、複数の流体供給経路毎に配された複
数の開閉弁と、複数の流体供給経路の下流端部が合流
し、複数種の流体が混合されて供給される混合経路と、
を備えてなる混合装置において、開閉弁の閉弁動作に伴
う流量の増加を吸収して混合経路への供給量を一定に保
つ流量安定手段を開閉弁の下流に設けたものであり、開
閉弁の閉弁動作に伴って流体の供給量が変動することを
防止して混合流体の濃度を安定させることが可能にな
る。
In order to solve the above problems, the present invention has the following features. Claim 1
In the invention described, a plurality of fluid supply paths for individually supplying different types of fluids, a plurality of on-off valves arranged for each of the plurality of fluid supply paths, and the downstream ends of the plurality of fluid supply paths merge, A mixing path in which a plurality of types of fluids are mixed and supplied,
In the mixing device, the flow control means is provided downstream of the opening / closing valve to absorb the increase in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve and keep the supply amount to the mixing path constant. It is possible to stabilize the concentration of the mixed fluid by preventing the fluid supply amount from varying with the valve closing operation.

【0011】上記請求項2記載の発明は、開閉弁がエア
の供給により弁部が変位して開弁する構成であり、弁部
の面積に応じた一定量の流体が流路内に押し出されるこ
とを防止して混合流体の濃度を安定させることが可能に
なる。
According to the second aspect of the present invention, the on-off valve is constructed such that the valve portion is displaced by the supply of air to open the valve portion, and a certain amount of fluid corresponding to the area of the valve portion is pushed out into the flow passage. This can be prevented and the concentration of the mixed fluid can be stabilized.

【0012】上記請求項3記載の発明は、流量安定手段
が、開閉弁へのエア供給が停止したとき、開閉弁の閉弁
動作に伴う流量の増加を吸収するように受圧部を動作さ
せる流量調整部を有するものであり、開閉弁の弁部の面
積に応じた一定量の流体が流路内に押し出されることを
防止して混合流体の濃度を安定させることが可能にな
る。
According to the third aspect of the invention, the flow rate stabilizing means operates the pressure receiving portion so as to absorb the increase in the flow rate due to the closing operation of the on-off valve when the air supply to the on-off valve is stopped. Since the adjustment unit is provided, it is possible to prevent a certain amount of fluid corresponding to the area of the valve portion of the on-off valve from being pushed out into the flow path and stabilize the concentration of the mixed fluid.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の実施の
形態について説明する。図1は本発明になる混合装置の
一実施例の概略構成を示す構成図である。図1に示され
るように、混合装置10は、例えば、薬液供給経路12
を介して供給された50%フッ化水素酸(薬液)と、純
水供給経路14を介して供給された純水とを混合ノズル
16で混合して半導体製造ラインのウエハ(図示せず)
に供給するように構成されている。尚、フッ化水素酸
は、フッ化水素(hydrogen fluoride)の水溶液であ
り、以下「薬液(HF液)」と記す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the mixing apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 1, the mixing device 10 includes, for example, a chemical liquid supply path 12
50% hydrofluoric acid (chemical solution) supplied through the nozzle and pure water supplied through the pure water supply passage 14 are mixed by a mixing nozzle 16 to obtain a wafer (not shown) in a semiconductor manufacturing line.
Is configured to supply. In addition, hydrofluoric acid is an aqueous solution of hydrogen fluoride (hydrogen fluoride), and is hereinafter referred to as a “chemical solution (HF solution)”.

【0014】薬液供給経路12は、薬液供給管路18
と、窒素ガス供給管路20とが貯留槽22の上部に接続
され、貯留槽22の底部より引き出された薬液吐出管路
24が混合ノズル16に連通されている。また、薬液吐
出管路24には、エア駆動式の開閉弁43と、開閉弁4
3の下流に設けられた流量安定部(流量安定手段)44
が配設されている。
The chemical liquid supply path 12 is composed of a chemical liquid supply line 18
And the nitrogen gas supply pipeline 20 are connected to the upper part of the storage tank 22, and the chemical liquid discharge pipeline 24 drawn out from the bottom of the storage tank 22 communicates with the mixing nozzle 16. Further, an air-driven on-off valve 43 and an on-off valve 4 are provided in the chemical liquid discharge line 24.
Flow rate stabilizing unit (flow rate stabilizing means) 44 provided downstream of
Is provided.

【0015】流量安定部44は、後述するように開閉弁
43の閉弁動作に伴う流量変化を吸収して混合ノズル1
6に供給される薬液の供給量を安定化させるものであ
る。
The flow rate stabilizing unit 44 absorbs a change in flow rate associated with the closing operation of the opening / closing valve 43, as described later, and mixes the mixing nozzle 1 with it.
It is intended to stabilize the supply amount of the chemical liquid supplied to No. 6.

【0016】また、窒素ガス供給管路20には、薬液供
給圧力を所定圧力に減圧する減圧弁26、窒素ガスの質
量流量を計測する質量流量計27、窒素ガス中の微粒子
を除去するガスフィルタ28、窒素ガスの流量を調整す
るエア駆動式の流量調整弁30が配設されている。ま
た、薬液供給管路18には、薬液の流量を計測する超音
波式渦流量計32、薬液の供給量を制御するエア駆動式
の開閉弁34が配設されている。
Further, in the nitrogen gas supply line 20, a pressure reducing valve 26 for reducing the chemical liquid supply pressure to a predetermined pressure, a mass flow meter 27 for measuring the mass flow rate of nitrogen gas, and a gas filter for removing fine particles in nitrogen gas. 28, an air-driven flow rate adjusting valve 30 for adjusting the flow rate of nitrogen gas is provided. An ultrasonic vortex flowmeter 32 for measuring the flow rate of the chemical solution and an air-driven on-off valve 34 for controlling the supply rate of the chemical solution are arranged in the chemical solution supply conduit 18.

【0017】超音波式渦流量計32は、薬液供給管路1
8から供給された薬液(HF液)の流量を計測してお
り、流量に比例したアナログ信号を発信器32aから制
御回路40に発信している。そして、制御回路40は、
このアナログ信号から得られた流量計測値に基づいて開
閉弁34を開閉制御する。
The ultrasonic type vortex flowmeter 32 includes a chemical liquid supply line 1
The flow rate of the chemical solution (HF solution) supplied from 8 is measured, and an analog signal proportional to the flow rate is transmitted from the transmitter 32a to the control circuit 40. Then, the control circuit 40
The opening / closing valve 34 is opened / closed based on the flow rate measurement value obtained from the analog signal.

【0018】質量流量計27は、窒素ガス供給管路20
から供給された窒素ガスの流量を計測しており、流量に
比例した周期のアナログ信号を発信器27aから制御回
路40に発信している。そして、制御回路40は、この
アナログ信号が設定された値で安定するように流量調整
弁30の弁開度を制御する。
The mass flow meter 27 includes a nitrogen gas supply line 20.
The flow rate of the nitrogen gas supplied from the sensor is measured, and an analog signal having a cycle proportional to the flow rate is transmitted from the transmitter 27a to the control circuit 40. Then, the control circuit 40 controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 30 so that the analog signal becomes stable at the set value.

【0019】貯留槽22は、薬液供給管路18から供給
された薬液(HF液)を一時的に貯留することで薬液
(HF液)を安定供給するものである。また、貯留槽2
2の上部には、ガス抜きのためのエア駆動式の逃がし弁
37と、圧力を測定する圧力センサ38とが設けられて
いる。尚、逃がし弁37は、薬液の注入時に開弁されて
貯留槽22の内部に残留した窒素ガスを外部へ排気する
ことで薬液注入時の負荷を軽減する。
The storage tank 22 serves to stably store the chemical liquid (HF liquid) by temporarily storing the chemical liquid (HF liquid) supplied from the chemical liquid supply pipeline 18. Also, the storage tank 2
An air-operated relief valve 37 for degassing and a pressure sensor 38 for measuring the pressure are provided on the upper part of 2. The relief valve 37 is opened at the time of injecting the chemical liquid and exhausts the nitrogen gas remaining inside the storage tank 22 to the outside, thereby reducing the load at the time of injecting the chemical liquid.

【0020】圧力センサ38からの検出信号は、制御回
路40に入力されており、制御回路40によって貯留槽
22の圧力が管理されている。また、薬液吐出管路24
には、エア駆動式の開閉弁43が配されており、開閉弁
43は制御回路40からの制御信号により開弁または閉
弁する。
The detection signal from the pressure sensor 38 is input to the control circuit 40, and the control circuit 40 manages the pressure in the storage tank 22. In addition, the chemical liquid discharge conduit 24
Is provided with an air-driven on-off valve 43, and the on-off valve 43 is opened or closed by a control signal from the control circuit 40.

【0021】また、純水供給経路14は、純水供給管路
45に純水の温度を所定温度に調整する温度調整ユニッ
ト46と、純水の流量を計測する流量計48と、純水の
供給量を調整する流量調整弁50が配設されている。流
量計48は、純水供給経路14から供給された純水の流
量を計測しており、流量に比例した周期のアナログ信号
を発信器48aから制御回路40に発信している。そし
て、制御回路40は、このアナログ信号から得られた流
量計測値に基づいて流量調整弁50の弁開度を制御す
る。
The pure water supply passage 14 has a temperature adjusting unit 46 for adjusting the temperature of the pure water to a predetermined temperature in the pure water supply pipe 45, a flow meter 48 for measuring the flow rate of the pure water, and a pure water supply unit 45. A flow rate adjusting valve 50 that adjusts the supply amount is provided. The flow meter 48 measures the flow rate of the pure water supplied from the pure water supply path 14, and sends an analog signal having a cycle proportional to the flow rate from the transmitter 48a to the control circuit 40. Then, the control circuit 40 controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 50 based on the flow rate measurement value obtained from this analog signal.

【0022】上記開閉弁34,43は、エア駆動式のノ
ーマルクローズ弁構造で構成されており、エア供給回路
39から供給されるエア(圧縮空気)により開弁動作す
る。エア供給回路39は、流量調整弁30、開閉弁3
4,43及び流量安定部44に接続された空気管路30
a,34a,43a,44aにコンプレッサ等からなる
空気源41からの圧縮空気を選択的に供給する電磁弁
(図示せず)が設けられている。
The on-off valves 34 and 43 have an air-driven normally closed valve structure, and are opened by the air (compressed air) supplied from the air supply circuit 39. The air supply circuit 39 includes the flow rate adjusting valve 30 and the opening / closing valve 3.
4, 43 and the air conduit 30 connected to the flow rate stabilizing unit 44
Solenoid valves (not shown) for selectively supplying compressed air from an air source 41 composed of a compressor or the like are provided to a, 34a, 43a, 44a.

【0023】そのため、エア供給回路39では、制御回
路40からの制御信号に基づいて空気管路30a,34
a,43a,44aへ供給する圧縮空気をオンまたはオ
フにして流量調整弁30の弁開度を調整し、開閉弁3
4,43を開弁または閉弁させ、且つ流量安定部44の
ダイヤフラム82を動作させる。
Therefore, in the air supply circuit 39, based on the control signal from the control circuit 40, the air pipelines 30a, 34
a, 43a, 44a is turned on or off to adjust the valve opening of the flow rate adjusting valve 30, and the on-off valve 3
The valves 4, 43 are opened or closed, and the diaphragm 82 of the flow rate stabilizing unit 44 is operated.

【0024】また、空気管路44aは、空気管路43a
から分岐されている。そのため、エア供給回路39によ
り圧縮空気が空気管路43aを介して開閉弁43に供給
されるときは、流量安定部44にも圧縮空気が供給され
る。また、エア供給回路39により空気管路43aへの
圧縮空気の供給が停止されると、同時に流量安定部44
への圧縮空気の供給も停止される。このように、開閉弁
43と流量安定部44とは、連動して動作するように圧
縮空気の供給・停止が行われる。
The air conduit 44a is the air conduit 43a.
It has been branched from. Therefore, when the compressed air is supplied to the on-off valve 43 via the air conduit 43a by the air supply circuit 39, the compressed air is also supplied to the flow rate stabilizing unit 44. Further, when the supply of compressed air to the air conduit 43a is stopped by the air supply circuit 39, at the same time, the flow rate stabilization unit 44
The supply of compressed air to is also stopped. In this way, the opening / closing valve 43 and the flow rate stabilizing unit 44 are supplied / stopped so that the compressed air is operated in an interlocking manner.

【0025】また、上記薬液供給管路18及び純水供給
管路45は、ハーフロロアルコキシ共重合体(PFA樹
脂)、あるいはポリフッ化ビニリデン(PVDF樹脂)
などの不純物の溶出や微粒子の発生が極めて少ない材質
により形成されている。
The chemical liquid supply line 18 and the pure water supply line 45 are half-loroalkoxy copolymer (PFA resin) or polyvinylidene fluoride (PVDF resin).
It is formed of a material in which the elution of impurities such as and the generation of fine particles are extremely small.

【0026】また、制御回路40のメモリには、流体供
給開始時、純水供給管路45に配された流量調整弁50
及び、薬液を供給する薬液吐出管路24に配された流量
調整弁30及び開閉弁43を開弁させ、且つ、流体供給
停止時、薬液を供給する薬液吐出管路24に配された流
量調整弁30及び開閉弁43、純水供給管路45に配さ
れた流量調整弁50を閉弁させる制御プログラム(制御
手段)が格納されている。
In the memory of the control circuit 40, a flow rate adjusting valve 50 arranged in the pure water supply pipe line 45 at the time of starting the fluid supply.
Also, the flow rate adjusting valve 30 and the opening / closing valve 43 arranged in the chemical liquid discharge pipeline 24 for supplying the chemical liquid are opened, and the flow rate adjustment arranged in the chemical liquid discharge pipeline 24 for supplying the chemical liquid is stopped when the fluid supply is stopped. A control program (control means) for closing the valve 30, the opening / closing valve 43, and the flow rate adjusting valve 50 arranged in the pure water supply conduit 45 is stored.

【0027】図2は混合ノズル16の構成を拡大して示
す縦断面図である。図2に示されるように、混合ノズル
16は、円錐形状に形成されたノズル本体52と、ノズ
ル本体52を貫通するノズル流路54と、ノズル流路5
4に対して角度α傾斜した方向から斜めに交差したニー
ドルパイプ56とから構成されている。
FIG. 2 is an enlarged vertical sectional view showing the structure of the mixing nozzle 16. As shown in FIG. 2, the mixing nozzle 16 includes a nozzle body 52 formed in a conical shape, a nozzle flow path 54 penetrating the nozzle body 52, and a nozzle flow path 5.
4 and a needle pipe 56 that obliquely intersects the direction in which the angle α is inclined with respect to 4.

【0028】ノズル流路54の入口54aには、純水供
給管路45が連通されており、ノズル流路54の吐出口
54bは、薬液と純水が所定の比率で混合された液を吐
出する。また、ニードルパイプ56の入口56aには、
薬液吐出管路24が連通されている。そして、ニードル
パイプ56の先端に形成された吐出口56bがノズル流
路54の中心にまで延在し、且つ吐出方向へ向けて曲げ
られている。
A pure water supply pipe 45 is communicated with an inlet 54a of the nozzle flow path 54, and a discharge port 54b of the nozzle flow path 54 discharges a liquid in which a chemical liquid and pure water are mixed at a predetermined ratio. To do. Further, at the inlet 56a of the needle pipe 56,
The chemical liquid discharge conduit 24 is in communication. The discharge port 56b formed at the tip of the needle pipe 56 extends to the center of the nozzle flow path 54 and is bent in the discharge direction.

【0029】従って、貯留槽22に供給された薬液は、
窒素ガスの圧力によりニードルパイプ56からノズル流
路54の中心に吐出される。このとき、薬液は、微少流
量で吐出されるが、ノズル流路54を流れる純水の中に
吐出されるため、液滴にならず、周囲を流れる純水と均
一性を維持しながら所定の比率で混合される。また、ニ
ードルパイプ56は、薬液の供給量が微少量であるの
で、小径なパイプにより形成されており、且つ先端部分
が絞られている。そして、ニードルパイプ56からノズ
ル流路54の中心に吐出された薬液は、ノズル流路54
を流れる過程で周囲の純水の流れと混合されて半導体製
造ラインのウエハ(図示せず)に供給される。
Therefore, the chemical solution supplied to the storage tank 22 is
It is discharged from the needle pipe 56 to the center of the nozzle channel 54 by the pressure of nitrogen gas. At this time, the chemical liquid is ejected at a very small flow rate, but since it is ejected into the pure water flowing through the nozzle flow path 54, it does not become a liquid droplet, and a predetermined amount is maintained while maintaining the uniformity with the pure water flowing around. Mixed in proportion. Further, since the needle pipe 56 supplies a very small amount of the chemical liquid, it is formed of a small-diameter pipe, and its tip portion is narrowed. Then, the chemical liquid discharged from the needle pipe 56 to the center of the nozzle channel 54 is
Is mixed with the surrounding pure water flow and supplied to a wafer (not shown) in the semiconductor manufacturing line.

【0030】尚、ノズル本体52は、耐薬品性に優れた
4フッ化エチレン樹脂(PTFE)により成形されてお
り、流体中に不純物が溶出しにくい構成になっている。
The nozzle body 52 is molded of tetrafluoroethylene resin (PTFE) having excellent chemical resistance, and has a structure in which impurities are less likely to elute in the fluid.

【0031】図3は開閉弁43の閉弁状態を示す縦断面
図である。図3に示されるように、開閉弁43は、ハウ
ジング58内に弁座60と、弁座60に離着座するダイ
ヤフラム62と、ダイヤフラム62に結合されたピスト
ン64と、ピストン64を閉弁方向に付勢するコイルバ
ネ66と、シリンダ室68に圧縮空気を供給するエア導
入口70とを有する。
FIG. 3 is a vertical sectional view showing a closed state of the opening / closing valve 43. As shown in FIG. 3, the on-off valve 43 includes a valve seat 60 in the housing 58, a diaphragm 62 that is seated on and off the valve seat 60, a piston 64 connected to the diaphragm 62, and a piston 64 in a valve closing direction. It has a coil spring 66 for urging, and an air inlet 70 for supplying compressed air to the cylinder chamber 68.

【0032】弁座60は、ハウジング58内の流入側流
路71と流出側流路73との間に形成されており、且つ
ダイヤフラム62の中央部に対向している。エア導入口
70には、空気管路43aが連通されている。そのた
め、エア供給回路39からの圧縮空気は、空気管路43
aを介してシリンダ室68に導入される。
The valve seat 60 is formed between the inflow side flow passage 71 and the outflow side flow passage 73 in the housing 58 and faces the central portion of the diaphragm 62. An air conduit 43a communicates with the air introduction port 70. Therefore, the compressed air from the air supply circuit 39 is
It is introduced into the cylinder chamber 68 via a.

【0033】ダイヤフラム62は、周縁部がハウジング
58により挟持されており、中央部が開閉方向に変位可
能に保持されている。また、ダイヤフラム62は、上面
中央にピストン64から下方に延在する軸72の端部が
結合されている。
A peripheral portion of the diaphragm 62 is sandwiched by the housing 58, and a central portion of the diaphragm 62 is held so as to be displaceable in the opening / closing direction. Further, the diaphragm 62 has an end portion of a shaft 72 extending downward from the piston 64 joined to the center of the upper surface.

【0034】シリンダ室68は、ダイヤフラム62の上
面側に接するダイヤフラム室74に連通している。その
ため、ダイヤフラム62は、シリンダ室68に圧縮空気
が供給されないときには、ピストン64を介してコイル
バネ66のばね力が伝達されて弁座60に着座する。
The cylinder chamber 68 communicates with a diaphragm chamber 74 which contacts the upper surface of the diaphragm 62. Therefore, when the compressed air is not supplied to the cylinder chamber 68, the diaphragm 62 is seated on the valve seat 60 by transmitting the spring force of the coil spring 66 via the piston 64.

【0035】さらに、ピストン64は、ダイヤフラム6
2より大きい受圧面積を有しており、図4に示されるよ
うに、シリンダ室68に圧縮空気が供給されると、コイ
ルバネ66のばね力に抗して上方向(開弁方向)に移動
する。これにより、ダイヤフラム62は、弁座60から
離間して流入側流路71から流入した流体が流出側流路
73へ流出する。
Further, the piston 64 is the diaphragm 6
It has a pressure receiving area larger than 2, and as shown in FIG. 4, when compressed air is supplied to the cylinder chamber 68, it moves upward (valve opening direction) against the spring force of the coil spring 66. . As a result, the diaphragm 62 separates from the valve seat 60 and the fluid flowing from the inflow side flow passage 71 flows out to the outflow side flow passage 73.

【0036】ダイヤフラム62は、周縁部がハウジング
58により挟持されているので、流体がダイヤフラム室
74へ漏洩することを防止するシール構造となってい
る。そのため、開閉弁43では、閉弁動作時にダイヤフ
ラム62が下方向(閉弁方向)に移動すると共に、ダイ
ヤフラム62が変位した容積分の流体を下流へ押し出
す。よって、開閉弁43の下流においては、ダイヤフラ
ム62の閉弁動作に伴って一時的に流量が増加する。
Since the peripheral edge of the diaphragm 62 is sandwiched by the housing 58, it has a sealing structure for preventing fluid from leaking to the diaphragm chamber 74. Therefore, in the on-off valve 43, the diaphragm 62 moves downward (valve closing direction) at the time of valve closing operation, and at the same time, the diaphragm 62 pushes out the fluid corresponding to the volume displaced. Therefore, downstream of the on-off valve 43, the flow rate temporarily increases with the closing operation of the diaphragm 62.

【0037】従って、薬液吐出管路24から混合ノズル
16に供給される薬液は、貯留槽22の窒素ガスの圧力
により少量ずつ一定流量で供給されているが、ダイヤフ
ラム62が閉弁動作した瞬間だけ流量が増大して濃度が
変化してしまう。
Therefore, the chemical liquid supplied from the chemical liquid discharge conduit 24 to the mixing nozzle 16 is supplied at a constant flow rate little by little due to the pressure of the nitrogen gas in the storage tank 22, but only at the moment when the diaphragm 62 is closed. The flow rate increases and the concentration changes.

【0038】図5は流量安定部44の構成を示す縦断面
図である。図5に示されるように、流量安定部44は、
ハウジング78内に弁座80と、弁座80に対向するダ
イヤフラム(受圧部)82と、ダイヤフラム82に結合
されたピストン84と、ピストン84を上方向に付勢す
るコイルバネ86と、シリンダ室88に圧縮空気を供給
するエア導入口90とを有する。
FIG. 5 is a vertical sectional view showing the structure of the flow rate stabilizing portion 44. As shown in FIG. 5, the flow rate stabilizing unit 44 is
Inside the housing 78, a valve seat 80, a diaphragm (pressure receiving portion) 82 facing the valve seat 80, a piston 84 connected to the diaphragm 82, a coil spring 86 for urging the piston 84 upward, and a cylinder chamber 88. And an air inlet 90 for supplying compressed air.

【0039】弁座80は、ハウジング78内の流入側流
路91と流出側流路93との間に形成されており、且つ
ダイヤフラム82の中央部に対向している。また、エア
導入口90は、ピストン84の上面側に形成されたシリ
ンダ室88に圧縮空気を供給するように設けられてい
る。そのため、ピストン84は、上記開閉弁43と逆の
動作を行うように設けられている。
The valve seat 80 is formed between the inflow side flow passage 91 and the outflow side flow passage 93 in the housing 78, and faces the central portion of the diaphragm 82. The air inlet 90 is provided so as to supply compressed air to the cylinder chamber 88 formed on the upper surface side of the piston 84. Therefore, the piston 84 is provided so as to perform an operation reverse to that of the opening / closing valve 43.

【0040】さらに、エア導入口90には、空気管路4
3aから分岐された空気管路44aが連通されている。
そのため、エア供給回路39からの圧縮空気は、空気管
路43a及び44aを介してシリンダ室88に導入され
る。そして、圧縮空気がエア導入口90からシリンダ室
88に供給されると、開閉弁43の開弁動作に連動して
ダイヤフラム82が下方に変位する。
Further, at the air inlet 90, the air pipe 4
The air pipeline 44a branched from 3a is communicated.
Therefore, the compressed air from the air supply circuit 39 is introduced into the cylinder chamber 88 via the air pipelines 43a and 44a. When the compressed air is supplied to the cylinder chamber 88 from the air inlet 90, the diaphragm 82 is displaced downward in conjunction with the opening operation of the opening / closing valve 43.

【0041】ダイヤフラム82は、周縁部がハウジング
78により挟持されており、中央部が上下方向に変位可
能に保持されている。また、ダイヤフラム82は、上面
中央にピストン84から下方に延在する軸92の端部が
結合されている。
A peripheral portion of the diaphragm 82 is sandwiched by the housing 78, and a central portion of the diaphragm 82 is held so as to be vertically displaceable. Further, the diaphragm 82 has an end portion of a shaft 92 extending downward from the piston 84 joined to the center of the upper surface.

【0042】シリンダ室88は、ダイヤフラム82の上
面側に接するダイヤフラム室94とピストン84を介し
て隔成されており、ピストン84の上面に圧縮空気の圧
力が作用するように形成されている。そのため、シリン
ダ室88に圧縮空気が供給されると、ピストン84は、
コイルバネ86のばね力に抗して下方向に移動する。そ
の結果、ダイヤフラム82は、弁座80に近接する方向
に変位するが、弁座80から十分に離間しているので、
流入側流路91から流入した流体は、流量変化せずに一
定流量のまま流出側流路93へ流出する。
The cylinder chamber 88 is separated from the diaphragm chamber 94, which is in contact with the upper surface side of the diaphragm 82, via a piston 84, and is formed so that the pressure of compressed air acts on the upper surface of the piston 84. Therefore, when compressed air is supplied to the cylinder chamber 88, the piston 84
It moves downward against the spring force of the coil spring 86. As a result, the diaphragm 82 is displaced in the direction of approaching the valve seat 80, but is sufficiently separated from the valve seat 80.
The fluid that has flowed in from the inflow-side flow passage 91 flows out to the outflow-side flow passage 93 with a constant flow rate without changing the flow rate.

【0043】さらに、図6に示されるように、ダイヤフ
ラム82は、シリンダ室88に圧縮空気が供給されない
ときには、ピストン84を介してコイルバネ86のばね
力が伝達されて弁座80から離間する上方向に変位す
る。これにより、流量安定部44は、ダイヤフラム82
の上動により弁座80との間に形成される流路の容積を
拡張する。
Further, as shown in FIG. 6, when the compressed air is not supplied to the cylinder chamber 88, the diaphragm 82 has an upward direction in which the spring force of the coil spring 86 is transmitted via the piston 84 to separate from the valve seat 80. Is displaced to. As a result, the flow rate stabilizing unit 44 causes the diaphragm 82 to
The upward movement expands the volume of the flow path formed between the valve seat 80 and the valve seat 80.

【0044】このダイヤフラム82の上動によりできた
空間は、弁座80から離間することで、流量の一時的な
増加分を吸収するための流量調整空間となる。そのた
め、流量安定部44は、ダイヤフラム82が上動するこ
とで、混合ノズル16に流入される流量を安定化する。
The space created by the upward movement of the diaphragm 82 becomes a flow rate adjusting space for absorbing a temporary increase in the flow rate by separating from the valve seat 80. Therefore, the flow rate stabilizing unit 44 stabilizes the flow rate flowing into the mixing nozzle 16 by moving the diaphragm 82 upward.

【0045】尚、ダイヤフラム82は、周縁部がハウジ
ング78により挟持されているので、流体がダイヤフラ
ム室84へ漏洩することを防止するシール構造となって
いる。また、ハウジング78の上部には、ピストン84
の上動位置を規制するための調整ボルト96が螺入され
ている。従って、調整ボルト96のシリンダ室88内の
突出長さを調整することで、ピストン84の上動位置が
調整される。これにより、ダイヤフラム82の変位量も
調整される。
Since the peripheral edge of the diaphragm 82 is sandwiched by the housing 78, it has a sealing structure for preventing fluid from leaking to the diaphragm chamber 84. In addition, at the top of the housing 78, the piston 84
An adjusting bolt 96 for restricting the upward movement position of the is screwed. Therefore, the upward movement position of the piston 84 is adjusted by adjusting the protruding length of the adjusting bolt 96 in the cylinder chamber 88. As a result, the displacement amount of the diaphragm 82 is also adjusted.

【0046】上記ダイヤフラム82の上動により形成さ
れる空間の容積を調整することが可能になる。そのた
め、本実施例では、開閉弁43の閉弁動作時に生じる押
し出し量よりもダイヤフラム82の上動により形成され
る空間の容積を大きくなるように調整する。これによ
り、開閉弁43の閉弁動作時に生じる押し出し量を確実
にダイヤフラム82の上動で吸収することができる。
It is possible to adjust the volume of the space formed by the upward movement of the diaphragm 82. Therefore, in the present embodiment, the volume of the space formed by the upward movement of the diaphragm 82 is adjusted to be larger than the pushing amount that occurs during the closing operation of the opening / closing valve 43. As a result, the amount of pushing that occurs during the closing operation of the opening / closing valve 43 can be reliably absorbed by the upward movement of the diaphragm 82.

【0047】図7は制御回路40が実行する制御処理を
示すフローチャートである。図7に示されるように、制
御回路40は、ステップS11(以下「ステップ」を省
略する)において、電源スイッチ(図示せず)がオンに
操作されると、S12に進み、薬液供給管路18の開閉
弁34及び逃がし弁37を開弁させてHF液の原液を貯
留槽22に供給する。このように、薬液を貯留槽22に
供給するときは、開閉弁34及び逃がし弁37を開弁さ
せることで、貯留槽22の圧力が大気圧に減圧されるた
め、薬液の供給による液面上昇に伴う圧力上昇が回避さ
れ、その分薬液の注入負荷が減少するため、短時間で所
定量の薬液を貯留槽22に供給することが可能になる。
FIG. 7 is a flow chart showing the control processing executed by the control circuit 40. As shown in FIG. 7, when the power switch (not shown) is turned on in step S11 (hereinafter “step” is omitted), the control circuit 40 proceeds to step S12, and the chemical liquid supply conduit 18 The open / close valve 34 and the relief valve 37 are opened to supply the stock solution of the HF solution to the storage tank 22. As described above, when the chemical liquid is supplied to the storage tank 22, by opening the on-off valve 34 and the relief valve 37, the pressure of the storage tank 22 is reduced to the atmospheric pressure, so that the liquid surface rises due to the supply of the chemical liquid. Since the pressure increase due to the above is avoided and the injection load of the corresponding chemical solution is reduced, it becomes possible to supply a predetermined amount of the chemical solution to the storage tank 22 in a short time.

【0048】次のS13では、超音波式渦流量計32に
より計測された薬液(HF液)の流量値が予め設定され
た所定値(目標値)に達したかどうかをチェックする。
S13において、超音波式渦流量計32により計測され
た流量値が予め設定された所定値に達するまで貯留槽2
2への薬液供給が続く。そして、S13において、超音
波式渦流量計32により計測された流量値が予め設定さ
れた所定値に達した時点でS14に進み、開閉弁34及
び逃がし弁37を閉弁させる。
In the next step S13, it is checked whether or not the flow rate value of the chemical liquid (HF liquid) measured by the ultrasonic vortex flowmeter 32 has reached a predetermined value (target value) set in advance.
In S13, the storage tank 2 is operated until the flow rate value measured by the ultrasonic vortex flowmeter 32 reaches a preset predetermined value.
The chemical supply to No. 2 continues. Then, in S13, when the flow rate value measured by the ultrasonic vortex flowmeter 32 reaches a preset predetermined value, the process proceeds to S14, and the opening / closing valve 34 and the relief valve 37 are closed.

【0049】続いて、S15では、上位の処理装置から
供給要求信号が発信されたかどうかをチェックしてお
り、供給要求信号が発信されると共に、S16に進み、
混合比率の高い方の流体(純水)を供給する純水供給管
路45に配された流量調整弁50を先に開弁させる。続
いて、S17では、流量計48により計測された流量値
に基づいて流量調整弁50の弁開度を調整する。
Subsequently, in S15, it is checked whether or not the supply request signal is transmitted from the upper processor, and the supply request signal is transmitted, and the process proceeds to S16.
The flow rate adjusting valve 50 arranged in the pure water supply conduit 45 for supplying the fluid (pure water) having a higher mixing ratio is opened first. Subsequently, in S17, the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 50 is adjusted based on the flow rate value measured by the flow meter 48.

【0050】次のS18では、流量計48により計測さ
れた流量値(瞬時流量)が所定値かどうかをチェックす
る。S18において、流量計48により計測された流量
値(瞬時流量)が所定値でないときは、S17に戻り、
流量調整弁50の弁開度を調整する。
In the next S18, it is checked whether the flow rate value (instantaneous flow rate) measured by the flow meter 48 is a predetermined value. In S18, when the flow rate value (instantaneous flow rate) measured by the flow meter 48 is not the predetermined value, the process returns to S17,
The valve opening of the flow rate adjusting valve 50 is adjusted.

【0051】また、S18において、流量計48により
計測された流量値(瞬時流量)が所定値に達したとき
は、S19に進み、混合比率の低い方の流体(薬液)を
供給するための流量調整弁30及び開閉弁43を開弁さ
せて窒素ガスを貯留槽22へ供給してガス圧で貯留槽2
2の薬液を混合ノズル16へ供給する。
If the flow rate value (instantaneous flow rate) measured by the flow meter 48 reaches a predetermined value in S18, the flow proceeds to S19 to supply the fluid (chemical solution) having the lower mixing ratio. The regulating valve 30 and the opening / closing valve 43 are opened to supply the nitrogen gas to the storage tank 22, and the storage tank 2 is operated at the gas pressure.
The chemical liquid of No. 2 is supplied to the mixing nozzle 16.

【0052】すなわち、開閉弁43は、図4に示される
ように、シリンダ室68に圧縮空気が供給されるため、
ダイヤフラム62がコイルバネ66のばね力に抗して上
方向(開弁方向)に移動する。これにより、ダイヤフラ
ム62は、弁座60から離間して流入側流路71から流
入した流体が流出側流路73へ流出して流量安定部44
へ供給される。
That is, since the on-off valve 43 is supplied with compressed air into the cylinder chamber 68 as shown in FIG.
The diaphragm 62 moves upward (valve opening direction) against the spring force of the coil spring 66. As a result, the diaphragm 62 separates from the valve seat 60 and the fluid flowing from the inflow-side flow passage 71 flows out to the outflow-side flow passage 73 to flow-rate stabilizing portion 44.
Is supplied to.

【0053】このとき、流量安定部44は、図5に示さ
れるように、シリンダ室88に圧縮空気が供給されるた
め、ピストン84は、コイルバネ86のばね力に抗して
下方向に移動する。そのため、ダイヤフラム82は、弁
座80に近接しているが、弁座80から十分に離間して
いる。よって、流入側流路91から流入した流体は、流
量変化せずに一定流量のまま流出側流路93へ流出して
混合ノズル16に供給される。
At this time, in the flow rate stabilizing portion 44, as shown in FIG. 5, since compressed air is supplied to the cylinder chamber 88, the piston 84 moves downward against the spring force of the coil spring 86. . Therefore, the diaphragm 82 is close to the valve seat 80, but is sufficiently separated from the valve seat 80. Therefore, the fluid that has flowed in from the inflow-side flow passage 91 flows out to the outflow-side flow passage 93 with a constant flow rate and is supplied to the mixing nozzle 16.

【0054】続いて、S20に進み、質量流量計27の
積算流量値が制御回路40に予め設定した設定値に達し
たかどうかをチェックする。S20において、質量流量
計27の積算流量値が制御回路40に予め設定した設定
値以下のときは、上記S19の処理を繰り返すことで貯
留槽22への窒素ガス供給を継続する。
Next, in S20, it is checked whether the integrated flow rate value of the mass flow meter 27 has reached a preset value set in the control circuit 40. In S20, when the integrated flow rate value of the mass flow meter 27 is less than or equal to the preset value set in the control circuit 40, the process of S19 is repeated to continue the nitrogen gas supply to the storage tank 22.

【0055】また、S20において、質量流量計27の
積算流量値が制御回路40に予め設定した設定値に達し
たときは、S21に進み、混合比率の低い方の流体(純
水)を供給するための流量調整弁30及び開閉弁43を
先に閉弁(図3参照)させて窒素ガスの供給を停止させ
て、混合ノズル16への薬液供給を停止させる。
Further, in S20, when the integrated flow rate value of the mass flow meter 27 reaches the preset value set in the control circuit 40, the process proceeds to S21, and the fluid (pure water) having a lower mixing ratio is supplied. The flow rate adjusting valve 30 and the opening / closing valve 43 for the above are first closed (see FIG. 3) to stop the supply of the nitrogen gas and stop the supply of the chemical liquid to the mixing nozzle 16.

【0056】すなわち、開閉弁43は、図3に示される
ように、シリンダ室68への圧縮空気の供給が停止され
るため、ダイヤフラム62がコイルバネ66のばね力に
より下方向(閉弁方向)に移動する。これにより、ダイ
ヤフラム62は、弁座60に当接して流入側流路71と
流出側流路73との間を遮断する。
That is, in the on-off valve 43, as shown in FIG. 3, the supply of compressed air to the cylinder chamber 68 is stopped, so that the diaphragm 62 moves downward (valve closing direction) by the spring force of the coil spring 66. Moving. As a result, the diaphragm 62 abuts the valve seat 60 and blocks the inflow side flow passage 71 and the outflow side flow passage 73 from each other.

【0057】これと、同時に、流量安定部44への圧縮
空気の供給も停止される。従って、流量安定部44にお
いて、図6に示されるように、シリンダ室88に圧縮空
気が供給されなくなると、ダイヤフラム82は、ピスト
ン84を介してコイルバネ86のばね力が伝達されて弁
座80から離間する上方向に変位する。
At the same time, the supply of compressed air to the flow rate stabilizing section 44 is stopped. Therefore, in the flow rate stabilizing unit 44, when compressed air is no longer supplied to the cylinder chamber 88 as shown in FIG. 6, the diaphragm 82 receives the spring force of the coil spring 86 from the valve seat 80 via the piston 84. Displaces upward in the direction of separation.

【0058】すなわち、流量安定部44は、開閉弁43
の閉弁動作と同時にダイヤフラム82の上動により弁座
80との間に形成される流路の容積を拡張する。そのた
め、流量安定部44は、ダイヤフラム82が上動するこ
とで、開閉弁43の閉弁動作に伴う流量の一時的な増加
分を吸収し、混合ノズル16に流入される流量を安定化
する。
That is, the flow rate stabilizing unit 44 is provided with the opening / closing valve 43.
Simultaneously with the valve closing operation, the volume of the flow path formed between the diaphragm 82 and the valve seat 80 is expanded. Therefore, the flow rate stabilizing unit 44 absorbs a temporary increase in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve 43 by the diaphragm 82 moving upward, and stabilizes the flow rate flowing into the mixing nozzle 16.

【0059】その後、S22で混合比率の高い方の流体
(純水)を供給する純水供給管路45の流量調整弁50
を閉弁させて混合ノズル16への純水供給を停止させ
る。
Thereafter, in S22, the flow rate adjusting valve 50 of the pure water supply conduit 45 for supplying the fluid (pure water) having the higher mixing ratio.
Is closed to stop the pure water supply to the mixing nozzle 16.

【0060】次のS23において、電源スイッチがオン
であるときは、上記S12に戻り、S12以降の処理を
繰り返す。すなわち、貯留槽22へ所定量の薬液を注入
して上位機器からの供給要求信号が入力されるのを待
つ。そして、供給要求信号が入力されると、上記S16
〜S22の処理手順で一定の比率で混合された液体を混
合ノズル16から吐出させる。
At the next step S23, if the power switch is on, the process returns to step S12 and the processes at and after S12 are repeated. That is, a predetermined amount of the chemical liquid is injected into the storage tank 22 and the input of a supply request signal from the host device is waited for. When the supply request signal is input, the above S16
Liquids mixed at a constant ratio in the processing procedure of to S22 are discharged from the mixing nozzle 16.

【0061】このように、本実施例では、流量調整弁3
0を閉弁させて窒素ガスの供給を停止させるのと同時に
開閉弁43への圧縮空気の供給を停止して、混合ノズル
16への薬液供給を停止させる。その際、流量安定部4
4は、ダイヤフラム82の上動により弁座80との間に
形成される流路の容積を拡張するため、ダイヤフラム8
2が上動することで、開閉弁43の閉弁動作に伴う流量
の一時的な増加分を吸収し、混合ノズル16に流入され
る流量を安定化する。
As described above, in this embodiment, the flow rate adjusting valve 3
When 0 is closed to stop the supply of nitrogen gas, the supply of compressed air to the opening / closing valve 43 is stopped at the same time, and the supply of the chemical liquid to the mixing nozzle 16 is stopped. At that time, the flow rate stabilizing unit 4
The diaphragm 4 expands the volume of the flow path formed between the diaphragm 8 and the valve seat 80 by the upward movement of the diaphragm 82.
By moving 2 upward, the temporary increase in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve 43 is absorbed, and the flow rate flowing into the mixing nozzle 16 is stabilized.

【0062】そのため、混合ノズル16で混合された混
合液は、開閉弁43の閉弁動作に伴う流量の変化による
影響を受けずに一定濃度のまま供給される。
Therefore, the mixed liquid mixed by the mixing nozzle 16 is supplied at a constant concentration without being affected by the change in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve 43.

【0063】尚、本実施の形態では、2種類の流体を混
合ノズル16で混合するよう構成された装置を一例とし
て挙げたが、これに限らず、例えば、2種類の流体をタ
ンク内で混合し、撹拌して供給するように構成された混
合装置にも本発明が適用できるのは勿論である。
In the present embodiment, the apparatus configured to mix the two kinds of fluids by the mixing nozzle 16 is given as an example, but the present invention is not limited to this, and for example, the two kinds of fluids are mixed in the tank. However, it goes without saying that the present invention can be applied to a mixing device configured to be stirred and supplied.

【0064】また、本実施の形態では、開閉弁43及び
流量安定部44にダイヤフラム62,82を弁体として
用いた構成を一例として挙げたが、これに限らず、例え
ば、圧縮空気の供給・停止によって動作する受圧部を有
する構成であれば良い。
Further, in the present embodiment, the construction in which the diaphragms 62 and 82 are used as the valve bodies in the on-off valve 43 and the flow rate stabilizing portion 44 is given as an example, but the present invention is not limited to this, and, for example, supply of compressed air Any configuration may be used as long as it has a pressure receiving portion that operates when stopped.

【0065】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水とを所定の割合で混合させる場合を一例として挙げ
たが、他の薬液を混合する場合にも本発明が適用できる
のは勿論である。
In the present embodiment, the case where hydrofluoric acid and pure water are mixed at a predetermined ratio has been described as an example, but the present invention can be applied to the case of mixing other chemicals. Of course.

【0066】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる2種以上の流体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。
In this embodiment, the case where two kinds of liquids of hydrofluoric acid and pure water are mixed has been described as an example, but the present invention is also applicable to the case of mixing two or more kinds of fluids having different components. Of course, the invention can be applied.

【0067】[0067]

【発明の効果】上述の如く、請求項1記載の発明によれ
ば、異なる種類の流体を個別に供給する複数の流体供給
経路と、複数の流体供給経路毎に配された複数の開閉弁
と、複数の流体供給経路の下流端部が合流し、複数種の
流体が混合されて供給される混合経路と、を備えてなる
混合装置において、開閉弁の閉弁動作に伴う流量の増加
を吸収して混合経路への供給量を一定に保つ流量安定手
段を開閉弁の下流に設けたため、開閉弁の閉弁動作に伴
って流体の供給量が変動することを防止して混合流体の
濃度を安定させることができる。
As described above, according to the first aspect of the invention, a plurality of fluid supply paths for individually supplying different kinds of fluids and a plurality of on-off valves arranged for each of the plurality of fluid supply paths are provided. In a mixing device including a mixing path in which the downstream ends of a plurality of fluid supply paths merge and a plurality of kinds of fluids are mixed and supplied, an increase in the flow rate due to the closing operation of the on-off valve is absorbed. Since the flow rate stabilizing means for keeping the supply amount to the mixing path constant is provided downstream of the on-off valve, the fluid supply amount is prevented from fluctuating due to the closing operation of the on-off valve and the concentration of the mixed fluid is controlled. Can be stabilized.

【0068】また、請求項2記載の発明によれば、開閉
弁が圧縮空気の供給により弁部が変位して開弁するた
め、弁部の面積に応じた一定量の流体が流路内に押し出
されることを防止して混合流体の濃度を安定させること
ができる。
Further, according to the second aspect of the invention, since the opening / closing valve is opened by the displacement of the valve portion by the supply of the compressed air, a certain amount of fluid corresponding to the area of the valve portion is introduced into the flow passage. The concentration of the mixed fluid can be stabilized by preventing it from being pushed out.

【0069】また、請求項3記載の発明によれば、流量
安定手段が、開閉弁への圧縮空気の供給が停止したと
き、開閉弁の閉弁動作に伴う流量の増加を吸収するよう
に受圧部を動作させる流量調整部を有するため、開閉弁
の弁部の面積に応じた一定量の流体が流路内に押し出さ
れることを防止して混合流体の濃度を安定させることが
できる。
According to the third aspect of the invention, the flow rate stabilizing means receives the pressure so as to absorb the increase in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve when the supply of the compressed air to the opening / closing valve is stopped. Since the flow rate adjusting unit that operates the unit is provided, it is possible to prevent a constant amount of fluid corresponding to the area of the valve unit of the on-off valve from being pushed out into the flow path and stabilize the concentration of the mixed fluid.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明になる混合装置の一実施例の概略構成を
示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of an embodiment of a mixing apparatus according to the present invention.

【図2】混合ノズル16の構成を拡大して示す縦断面図
である。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing an enlarged configuration of a mixing nozzle 16.

【図3】開閉弁43の閉弁状態を示す縦断面図である。FIG. 3 is a vertical sectional view showing a closed state of an opening / closing valve 43.

【図4】開閉弁43の開弁状態を示す縦断面図である。FIG. 4 is a vertical sectional view showing an open state of an opening / closing valve 43.

【図5】流量安定部44の構成を示す縦断面図である。5 is a vertical cross-sectional view showing the structure of a flow rate stabilizing unit 44. FIG.

【図6】流量安定部44の流量調整動作を示す縦断面図
である。
FIG. 6 is a vertical sectional view showing a flow rate adjusting operation of the flow rate stabilizing unit 44.

【図7】制御回路40が実行する制御処理を示すフロー
チャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a control process executed by a control circuit 40.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 混合装置 12 薬液供給経路 14 純水供給経路 16 混合ノズル 18 薬液供給管路 20 窒素ガス供給管路 22 貯留槽 24 薬液吐出管路 27 質量流量計 30 流量調整弁 34,43 開閉弁 30a,34a,43a,44a 空気管路 32 超音波式渦流量計 37 逃がし弁 38 圧力センサ 39 エア供給回路 40 制御回路 41 空気源 44 流量安定部 45 純水供給管路 46 温度調整ユニット 48 流量計 50 流量調整弁 52 ノズル本体 54 ノズル流路 56 ニードルパイプ 58,78 ハウジング 60,80 弁座 62,82 ダイヤフラム 64,86 ピストン 66,86 コイルバネ 68,88 シリンダ室 70,90 エア導入口 71,91 流入側流路 73,93 流出側流路 74,94 ダイヤフラム室 96 調整ボルト 10 Mixing device 12 Chemical supply route 14 Pure water supply route 16 mixing nozzle 18 Chemical supply line 20 Nitrogen gas supply line 22 Storage tank 24 Chemical discharge line 27 mass flow meter 30 Flow control valve 34,43 open / close valve 30a, 34a, 43a, 44a Air line 32 Ultrasonic vortex flowmeter 37 Relief valve 38 Pressure sensor 39 Air supply circuit 40 control circuit 41 Air source 44 Flow Stabilizer 45 Pure water supply line 46 Temperature control unit 48 flow meter 50 Flow control valve 52 Nozzle body 54 nozzle flow path 56 needle pipe 58,78 housing 60,80 valve seat 62,82 diaphragm 64,86 pistons 66,86 coil spring 68,88 Cylinder chamber 70,90 Air inlet 71, 91 Inflow side flow path 73, 93 Outflow side flow path 74,94 diaphragm chamber 96 adjustment bolt

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 異なる種類の流体を個別に供給する複数
の流体供給経路と、 該複数の流体供給経路毎に配された複数の開閉弁と、 前記複数の流体供給経路の下流端部が合流し、前記複数
種の流体が混合されて供給される混合経路と、 を備えてなる混合装置において、 前記開閉弁の閉弁動作に伴う流量の増加を吸収して前記
混合経路への供給量を一定に保つ流量安定手段を前記開
閉弁の下流に設けたことを特徴とする混合装置。
1. A plurality of fluid supply paths for individually supplying different kinds of fluids, a plurality of on-off valves arranged for each of the plurality of fluid supply paths, and a downstream end portion of the plurality of fluid supply paths join together. However, in a mixing device including a mixing path for mixing and supplying the plurality of types of fluids, an increase in the flow rate due to the valve closing operation of the on-off valve is absorbed to reduce the supply amount to the mixing path. A mixing device, characterized in that a flow rate stabilizing means for keeping constant is provided downstream of the on-off valve.
【請求項2】 前記開閉弁は、エアの供給により弁部が
変位して開弁することを特徴とする請求項1記載の混合
装置。
2. The mixing device according to claim 1, wherein the on-off valve opens when the valve portion is displaced by the supply of air.
【請求項3】 前記流量安定手段は、前記開閉弁へのエ
ア供給が停止したとき、前記開閉弁の閉弁動作に伴う流
量の増加を吸収するように受圧部を動作させる流量調整
部を有することを特徴とする請求項2記載の混合装置。
3. The flow rate stabilizing means has a flow rate adjusting section for operating the pressure receiving section so as to absorb an increase in the flow rate due to the closing operation of the opening / closing valve when the air supply to the opening / closing valve is stopped. The mixing device according to claim 2, wherein
JP2002089310A 2002-03-27 2002-03-27 Mixing device Pending JP2003284935A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002089310A JP2003284935A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Mixing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002089310A JP2003284935A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Mixing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003284935A true JP2003284935A (en) 2003-10-07

Family

ID=29234927

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002089310A Pending JP2003284935A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Mixing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003284935A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008302284A (en) * 2007-06-06 2008-12-18 Kansai Paint Co Ltd Paint feeder, paint feeding method, and coating method
CN114557246A (en) * 2022-04-07 2022-05-31 青岛农业大学 Efficient cultivation method for drip irrigation of water and fertilizer for corns in sandy moisture soil area and drip irrigation system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008302284A (en) * 2007-06-06 2008-12-18 Kansai Paint Co Ltd Paint feeder, paint feeding method, and coating method
CN114557246A (en) * 2022-04-07 2022-05-31 青岛农业大学 Efficient cultivation method for drip irrigation of water and fertilizer for corns in sandy moisture soil area and drip irrigation system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4512913B2 (en) Fluid mixing device
US8869825B2 (en) Flow rate control device
JP2014525376A (en) Fluid mixing delivery system
US20230365393A1 (en) High ratio fluid control
JP4445238B2 (en) Fluid control valve
US20060013704A1 (en) Liquid aeration delivery apparatus
KR102084511B1 (en) Device for adjusting specific resistance value
KR101774892B1 (en) Flushing System
JP2003284935A (en) Mixing device
TWI274238B (en) Proportion controlling valve for pressure and flow rate
KR20100080531A (en) Fluid device unit structure
CN101101087B (en) Pipe system for producing super fine air bubble in water
JP2004057873A (en) Mixing apparatus
JP2002081561A (en) Check valve structure
JP2003154243A (en) Mixing apparatus
JP5269407B2 (en) Steam ejector
JP2002276845A (en) Adjusting valve
JP2004230293A (en) Mixing apparatus
TWM618667U (en) Mixing device for vapor and liquid
JP2003284936A (en) Mixing device
JP5085404B2 (en) Flow control device
JP6478753B2 (en) Liquid discharge device
JP2004121911A (en) Mixing apparatus
JP2000220178A (en) Chemical diluting device
JP2001276254A (en) Proportional foam mixing apparatus and fire extinguishing system