JP2003283076A - High frequency board - Google Patents

High frequency board

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JP2003283076A
JP2003283076A JP2002084179A JP2002084179A JP2003283076A JP 2003283076 A JP2003283076 A JP 2003283076A JP 2002084179 A JP2002084179 A JP 2002084179A JP 2002084179 A JP2002084179 A JP 2002084179A JP 2003283076 A JP2003283076 A JP 2003283076A
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group
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将司 西口
Hirotaka Kobune
浩孝 小船
Tatsuhiro Iketani
達宏 池谷
Haruo Yoshida
晴雄 吉田
Joji Shibata
譲治 柴田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a board exhibiting excellent dielectric characteristics in the high frequency region, especially an excellent dielectric loss tangent, and excellent heat resistance, a prepreg and a metal foil with resin. <P>SOLUTION: In the high frequency board produced by polymerizing and hardening a polymer composite, the polymer composite contains a fluorene compound, an indene compound or a mixture thereof having at least one polymer unsaturation group in one molecule. A prepreg produced by impregnating a glass cloth with the polymer composite, and a metal foil with resin produced by coating a copper foil with the polymer composite are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高周波領域で使用
される電子部品や回路基板に適した高周波用基板に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency substrate suitable for electronic components and circuit boards used in a high frequency region.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の高度情報化社会の進展とともに、
情報処理、情報通信の分野で高速化、高機能化が求めら
れてきている。これに伴い、コンピュータや移動通信機
器等に用いられる部品の材料にはより高い性能が要求さ
れるようになってきている。情報量の増大に対応するに
は演算速度を向上させなければならないが、このために
は信号伝播速度の高速化、すなわち信号伝播遅延時間の
短縮が必要である。ここで、信号伝播の遅延は材料の誘
電率と密接に関係しており、誘電率が低いほど遅延時間
短縮に有利である。情報通信の分野においては移動通信
機器のチャンネル数の増大に伴い、使用する周波数はよ
り高周波数へと移行しつつある。高周波には、熱に変換
して損失する性質があるため、電気信号を効率よく伝達
するためには、伝送損失の小さい材料が必要である。伝
送損失は誘電率、誘電正接と密接に関係しており、これ
らが低いほど伝送損失は小さくなる。このような背景か
ら情報処理、情報通信の分野で、低誘電率、低誘電正接
に優れた材料を用いた高周波用基板が強く求められてい
る。
2. Description of the Related Art With the progress of the advanced information society in recent years,
In the fields of information processing and information communication, higher speed and higher functionality have been demanded. Along with this, higher performance has been required for materials of parts used for computers and mobile communication devices. To cope with the increase in the amount of information, the calculation speed must be improved, but for this purpose, the signal propagation speed must be increased, that is, the signal propagation delay time must be shortened. Here, the delay of signal propagation is closely related to the dielectric constant of the material, and the lower the dielectric constant, the more advantageous the reduction of the delay time. In the field of information communication, the frequency to be used is shifting to higher frequency with the increase in the number of channels of mobile communication devices. Since a high frequency has a property of being converted into heat and losing, a material having a small transmission loss is required to efficiently transfer an electric signal. The transmission loss is closely related to the dielectric constant and the dielectric loss tangent, and the lower these are, the smaller the transmission loss becomes. From such a background, in the fields of information processing and information communication, there is a strong demand for a high frequency substrate using a material having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent.

【0003】こうした高周波用基板に用いられる材料と
しては、例えばポリベンゾシクロブテン(R.A.Kirchhof
f et al., Macromol. Symp. 54/55, 531 (1992))、フ
ッ素化ポリビフェニレンエーテル(特開平10−74751号
公報)、複素環式側鎖を有するポリフェニレン化合物
(特開平9−278879号公報)、ポリフマル酸エステル
(特開平9−208697号公報)、ポリノルボルネン(特開
平5−214079号公報)、ポリキノキサリン(特許第27057
99号公報)、フッ素化ポリキノリン(特表平6−500591
号公報)、側鎖アリル基置換ポリフェニレンエーテル
(特開昭64−69628号公報、特開平4−183707号公報、同
6−207096号公報)、アリル基またはプロパルギル基で
末端封止したポリフェニレンエーテル(特公平7−51625
号公報)等が挙げられる。しかしながら、これら先行技
術で提案された材料は、架橋密度が低く線膨張係数が大
きい、耐薬品性に乏しい、靭性に乏しい、製造に煩雑か
つ多段の工程を要する。賦形に特殊な溶剤が必要、等の
諸問題を有しているのが実状である。
As a material used for such a high frequency substrate, for example, polybenzocyclobutene (RA Kirchhof)
f et al., Macromol. Symp. 54/55, 531 (1992)), fluorinated polybiphenylene ether (JP-A-10-74751), polyphenylene compound having a heterocyclic side chain (JP-A-9-278879). Gazette), polyfumaric acid ester (JP-A-9-208697), polynorbornene (JP-A-5-214079), polyquinoxaline (Patent No. 27057).
99 gazette), fluorinated polyquinoline (Table 6-500591)
Gazette), a side chain allyl group-substituted polyphenylene ether (JP-A-64-69628, JP-A-4-183707,
6-2007096), polyphenylene ether end-capped with an allyl group or a propargyl group (Japanese Patent Publication No. 7-51625).
Gazette) and the like. However, the materials proposed in these prior arts have a low crosslink density, a large linear expansion coefficient, a poor chemical resistance, a poor toughness, a complicated manufacturing process, and a multi-step process. Actually, there are various problems such as the need for a special solvent for shaping.

【0004】また本発明者らは、先に新規なビニルベン
ジルエーテル化合物を提案した(特開平9−31006号公
報)。この化合物は、広い温度、周波数領域で低誘電
率、低誘電正接、および低吸水性を示す化合物であり、
現在の基板材料に対する厳しい要求を満たす数少ない材
料の1つである。しかし、基板材料に求められる性能は
現在ますます高くなり、例えばこの先の次世代通信機器
等ではさらに優れた誘電特性が求められている。
The present inventors have previously proposed a novel vinylbenzyl ether compound (Japanese Patent Laid-Open No. 9-31006). This compound is a compound showing a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, and a low water absorption in a wide temperature and frequency range,
It is one of the few materials that meets the current stringent requirements for substrate materials. However, the performance required for the substrate material is becoming higher and higher, and further excellent dielectric properties are required for the next-generation communication equipments in the future.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、高周波領域で誘電特性、特に低誘電正接に優れ、か
つ耐熱性にも優れた基板、プリプレグ、および樹脂付き
金属箔を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate, a prepreg, and a resin-coated metal foil which have excellent dielectric properties, particularly low dielectric loss tangent, and excellent heat resistance in the high frequency range. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、重合
性組成物を重合・硬化せしめてなる高周波用基板におい
て、前記重合性組成物が、1分子中少なくとも1つの重
合性不飽和基を有するフルオレン化合物を含むことを特
徴とする高周波用基板(ただし、前記重合性不飽和基が
すべてビニルベンジル基である場合を除く)である。請
求項2の発明は、フルオレン化合物が、重合性不飽和基
としてアリル基および/またはプロパルギル基を有する
か、あるいは前記不飽和基の1つ以上とビニルベンジル
基とを共に有する請求項1に記載の高周波用基板であ
る。請求項3の発明は、重合性組成物を重合・硬化せし
めてなる高周波用基板において、前記重合性組成物が、
1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有するイン
デン化合物を含むことを特徴とする高周波用基板であ
る。請求項4の発明は、重合性不飽和基がビニルベンジ
ル基、アリル基および/またはプロパルギル基である請
求項3に記載の高周波用基板である。請求項5の発明
は、重合性組成物を重合・硬化せしめてなる高周波用基
板において、前記重合性組成物が、1分子中少なくとも
1つの重合性不飽和基を有するフルオレン化合物と、1
分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有するインデ
ン化合物とを含むことを特徴とする高周波用基板であ
る。請求項6の発明は、フルオレン化合物が、下記一般
式1で示される化合物の1種または2種以上であり、か
つ重合性組成物が、前記フルオレン化合物と、ビニルベ
ンジルハライド、アリルハライドおよびプロパルギルハ
ライドから選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和
基を有するハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロ
メチル化合物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合
物を含む請求項2に記載の高周波用基板である。 (一般式1)
According to a first aspect of the present invention, in a high frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, the polymerizable composition has at least one polymerizable unsaturated group in one molecule. A high frequency substrate comprising a fluorene compound having: (except when all the polymerizable unsaturated groups are vinylbenzyl groups). In the invention of claim 2, the fluorene compound has an allyl group and / or a propargyl group as the polymerizable unsaturated group, or has both one or more of the unsaturated groups and a vinylbenzyl group. It is a high frequency substrate. According to a third aspect of the present invention, in a high frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, the polymerizable composition comprises:
A high frequency substrate comprising an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule. The invention of claim 4 is the high frequency substrate according to claim 3, wherein the polymerizable unsaturated group is a vinylbenzyl group, an allyl group and / or a propargyl group. According to a fifth aspect of the present invention, in a high frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, the polymerizable composition comprises a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule, and
A high frequency substrate comprising: an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. In the invention of claim 6, the fluorene compound is one kind or two or more kinds of compounds represented by the following general formula 1, and the polymerizable composition is the fluorene compound, vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide. The high frequency substrate according to claim 2, comprising a compound obtained by reacting a halogen compound having at least one polymerizable unsaturated group selected from the group with a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. Is. (General formula 1)

【0007】[0007]

【化3】 [Chemical 3]

【0008】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜5の同じでも異なっていてもよいアルキル基、ア
ルコキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基
およびアリール基から選択される1種以上の基を示す) 請求項7の発明は、インデン化合物が、下記一般式2で
示される化合物の1種または2種以上であり、かつ重合
性組成物が、前記インデン化合物と、ビニルベンジルハ
ライド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドか
ら選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有す
るハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化
合物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む
請求項4に記載の高周波用基板である。 (一般式2)
(Wherein R is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, which may be the same or different, an alkoxy group, a thioalkoxy group, a thioaryloxy group and an aryl group. In the invention of claim 7, the indene compound is one kind or two or more kinds of compounds represented by the following general formula 2, and the polymerizable composition is the indene compound and vinylbenzyl. A compound obtained by reacting a halogen compound having at least one polymerizable unsaturated group selected from halides, allyl halides and propargyl halides with a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. 4 is a high frequency substrate. (General formula 2)

【0009】[0009]

【化4】 [Chemical 4]

【0010】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭
素数1〜5の同じでも異なっていてもよいアルキル基、ア
ルコキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基
およびアリール基から選択される1種以上の基を示す) 請求項8の発明は、フルオレン化合物が、前記一般式1
で示される化合物の1種または2種以上であり、インデ
ン化合物が、前記一般式2で示される化合物の1種また
は2種以上であり、かつ重合性組成物が、前記フルオレ
ン化合物と、前記インデン化合物と、ビニルベンジルハ
ライド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドか
ら選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有す
るハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化
合物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む
請求項5に記載の高周波用基板である。請求項9の発明
は、重合性不飽和基を有するハロゲン化合物のハロメチ
ル基と炭素数2〜20のジハロメチル化合物のハロメチル
基との当量比が0.9/0.1〜0.1/0.9である請求項6ない
し8のいずれか1項に記載の高周波用基板である。請求
項10の発明は、重合性組成物が、1分子中少なくとも
1つの重合性不飽和基を有するフルオレン化合物と、こ
れと共重合可能な化合物とを配合してなる組成物である
請求項1に記載の高周波用基板である。請求項11の発
明は、重合性組成物が、1分子中少なくとも1つの重合
性不飽和基を有するインデン化合物と、これと共重合可
能な化合物とを配合してなる組成物である請求項3に記
載の高周波用基板である。請求項12の発明は、請求項
1、3、5、6、7、8、10または11に記載の重合
性組成物を繊維材料に含浸して得られるプリプレグであ
る。請求項13の発明は、繊維材料がガラスクロスであ
る請求項12に記載のプリプレグである。請求項14の
発明は、請求項12または13に記載のプリプレグを単
独で、または積層して加熱、加圧に施して得られる高周
波用基板である。請求項15の発明は、請求項12また
は13に記載のプリプレグを単独で、または積層し、さ
らに金属箔を重ねて加熱、加圧に施して得られる金属張
り高周波用基板である。請求項16の発明は、金属箔上
に、請求項1、3、5、6、7、8、10または11に
記載の重合性組成物を塗工し、両者を一体化せしめてな
る樹脂付き金属箔である。請求項17の発明は、導電層
上に請求項1、3、5、6、7、8、10または11に
記載の重合性組成物を塗工し重合・硬化させ、硬化物の
上にさらに導電層を設けたことを特徴とする多層積層基
板である。
(In the formula, R is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may be the same or different, an alkoxy group, a thioalkoxy group, a thioaryloxy group and an aryl group. In the invention of claim 8, the fluorene compound is represented by the general formula 1
The indene compound is one or more of the compounds represented by the general formula 2, and the polymerizable composition is the fluorene compound and the indene. Obtained by reacting a compound, a halogen compound having at least one polymerizable unsaturated group selected from vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide, and a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of alkali. The high frequency substrate according to claim 5, further comprising a compound. The invention of claim 9 is such that the equivalent ratio of the halomethyl group of the halogen compound having a polymerizable unsaturated group to the halomethyl group of the dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms is 0.9 / 0.1 to 0.1 / 0.9. The high frequency substrate according to any one of 1. The invention of claim 10 is a composition in which the polymerizable composition comprises a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and a compound copolymerizable therewith. The high frequency substrate described in. The invention of claim 11 is a composition in which the polymerizable composition comprises an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and a compound copolymerizable therewith. The high frequency substrate described in. The invention of claim 12 is a prepreg obtained by impregnating a fibrous material with the polymerizable composition according to claim 1, 3, 5, 6, 7, 8, 10 or 11. The invention of claim 13 is the prepreg according to claim 12, wherein the fiber material is glass cloth. A fourteenth aspect of the present invention is a high-frequency substrate obtained by heating or pressing the prepreg according to the twelfth or thirteenth aspect alone or in a laminated manner. A fifteenth aspect of the present invention is a metal-clad high-frequency substrate obtained by singly or laminating the prepreg according to the twelfth or thirteenth aspect, further stacking metal foils, and applying heat and pressure. According to a sixteenth aspect of the present invention, a resin is obtained by coating the metal foil with the polymerizable composition according to the first, third, fifth, sixth, seventh, eighth, tenth or eleventh aspect, and integrating the two. It is a metal foil. According to a seventeenth aspect of the invention, the polymerizable composition according to the first, third, fifth, sixth, seventh, eighth, tenth or eleventh aspect is applied onto the conductive layer, polymerized and cured, and further on the cured product. A multi-layer laminated substrate having a conductive layer.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明に使用される重合性組成物
は、次の5つの態様がある。 (1)1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有す
るフルオレン化合物を含む; (2)1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有す
るインデン化合物を含む; (3)1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有す
るフルオレン化合物と、1分子中少なくとも1つの重合
性不飽和基を有するインデン化合物との混合物を含む; (4)1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有す
るフルオレン化合物と、これと共重合可能な化合物とを
配合してなる組成物; (5)1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有す
るインデン化合物と、これと共重合可能な化合物とを配
合してなる組成物。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polymerizable composition used in the present invention has the following five modes. (1) Includes a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule; (2) Includes an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule; (3) At least one in one molecule A mixture of a fluorene compound having one polymerizable unsaturated group and an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule; (4) fluorene having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule A composition comprising a compound and a compound copolymerizable therewith; (5) an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule, and a compound copolymerizable therewith Composition.

【0012】まず、前記(1)の態様について説明す
る。1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有する
フルオレン化合物としては、とくに制限されないが、例
えば、重合性不飽和基としてアリル基および/またはプ
ロパルギル基を有するか、あるいは前記不飽和基の1つ
以上とビニルベンジル基とを共に有する化合物が好まし
い。さらに具体的には、前記(1)の重合性組成物は、
フルオレン化合物として前記一般式1で示される化合物
の1種または2種以上を用い、これにビニルベンジルハ
ライド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドか
ら選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有す
るハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化
合物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む
のがよい。このような化合物は、フルオレン骨格の9位
に前記ハロゲン化合物およびジハロメチル化合物が結合
していると考えられる。
First, the mode (1) will be described. The fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule is not particularly limited, but for example, has an allyl group and / or propargyl group as the polymerizable unsaturated group, or one of the unsaturated groups. A compound having both of the above and a vinylbenzyl group is preferable. More specifically, the polymerizable composition of (1) above
As the fluorene compound, one or more compounds represented by the general formula 1 are used, and a halogen compound having at least one polymerizable unsaturated group selected from vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide is used. It is preferable to include a compound obtained by reacting a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. In such a compound, the halogen compound and the dihalomethyl compound are considered to be bonded to the 9-position of the fluorene skeleton.

【0013】前記重合性不飽和基を有するハロゲン化物
としては、m−ビニルベンジルクロライド、p−ビニルベ
ンジルクロライド、m−ビニルベンジルブロマイド、p−
ビニルベンジルブロマイド、アリルクロライド、アリル
ブロマイド、プロパルギルクロライド、プロパルギルブ
ロマイドが挙げられ、これらは単独でも2種以上を混合
して用いてもよい。
Examples of the halide having a polymerizable unsaturated group include m-vinylbenzyl chloride, p-vinylbenzyl chloride, m-vinylbenzyl bromide and p-vinylbenzyl bromide.
Examples thereof include vinylbenzyl bromide, allyl chloride, allyl bromide, propargyl chloride and propargyl bromide, and these may be used alone or in combination of two or more.

【0014】炭素数2〜20のジハロメチル化合物とし
ては(なお本発明でいうジハロメチル化合物とは、分子
中に−CHX(式中、Xはハロゲン原子を表す)基を
2つ有する化合物である)、例えば、1,2−ジクロロエ
タン、1,2−ジブロモエタン、1,3−ジクロロプロパン、
1,3−ジブロモプロパン、1,4−ジクロロブタン、1,4−
ジブロモブタン等のアルキレンジハライド、o−キシリ
レンジクロライド、o−キシリレンジブロマイド、m−キ
シリレンジクロライド、m−キシリレンジブロマイド、p
−キシリレンジクロライド、p−キシリレンジブロマイ
ド、4,4'−ビス(クロロメチル)ビフェニル、4,4'−ビ
ス(クロロメチル)ジフェニルエーテル、4,4'−ビス
(クロロメチル)ジフェニルスルフィド、2,6−ビス
(ブロモメチル)ナフタレン、1,8−ビス(ブロモメチ
ル)ナフタレン、1,4−ビス(クロロメチル)ナフタレ
ン等のジハロメチル化合物が挙げられ、これらは分子内
環化反応が起こらぬ範囲でそれぞれ単独でも2種類以上
を混合して用いてもよい。
The dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms (the dihalomethyl compound in the present invention is a compound having two —CH 2 X (wherein X represents a halogen atom) groups in the molecule. ), For example, 1,2-dichloroethane, 1,2-dibromoethane, 1,3-dichloropropane,
1,3-dibromopropane, 1,4-dichlorobutane, 1,4-
Alkylene dihalides such as dibromobutane, o-xylylene dichloride, o-xylylene dibromide, m-xylylene dichloride, m-xylylene dibromide, p
-Xylylene dichloride, p-xylylene dibromide, 4,4'-bis (chloromethyl) biphenyl, 4,4'-bis (chloromethyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (chloromethyl) diphenyl sulfide, 2, Dihalomethyl compounds such as 6-bis (bromomethyl) naphthalene, 1,8-bis (bromomethyl) naphthalene, and 1,4-bis (chloromethyl) naphthalene are listed, and each of them is independent within a range where intramolecular cyclization does not occur. However, two or more kinds may be mixed and used.

【0015】重合性不飽和基を有するハロゲン化物のハ
ロメチル基と炭素数2〜20のジハロメチル化合物のハ
ロメチル基との当量比は、ジハロメチル化合物によるゲ
ル化が起こらない範囲で選択できるが、0.9/0.1〜0.1
/0.9が好ましい。重合性不飽和基を有するハロゲン化
物がこれより少なくなると硬化性が悪くなり、耐熱性等
の硬化物の諸物性が低下してしまう。
The equivalent ratio of the halomethyl group of the halide having a polymerizable unsaturated group to the halomethyl group of the dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms can be selected within the range where gelation by the dihalomethyl compound does not occur, but is 0.9 / 0.1. ~ 0.1
/0.9 is preferable. When the amount of the halide having a polymerizable unsaturated group is less than that, the curability deteriorates, and the physical properties of the cured product such as heat resistance deteriorate.

【0016】反応溶媒としてはジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン、ジオキサン、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、
1,3−ジメトキシプロパン、1,2−ジメトキシプロパン、
テトラメチレンスルホン、ヘキサメチルホスホアミド、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセト
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエ
ン、キシレン等およびこれらの混合物が挙げられ、これ
らの中から原料種や反応条件に応じて反応系が均一にな
るような溶剤種を選択すればよい。
As the reaction solvent, dimethylformamide,
Dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether,
1,3-dimethoxypropane, 1,2-dimethoxypropane,
Tetramethylene sulfone, hexamethylphosphoamide,
Examples include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, cyclohexane, methyl cyclohexane, toluene, xylene, etc., and mixtures thereof. From among these, a solvent species that makes the reaction system uniform depending on the raw material species and reaction conditions can be selected. Good.

【0017】アルカリとしては、アルカリ金属あるいは
アルカリ土類金属のアルコキサイド、水素化物、水酸化
物、例えばナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキ
サイド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、反応系を非水
系とするか、含水系とするかでアルカリ種を選択すれば
よい。アルカリの使用割合は、原料のハロメチル基1当
量に対して1.1〜3.0当量がよい。当量が1.1未満である
と、反応速度が著しく遅くなったり、反応が完全に進行
せずに原料が残ってしまい硬化物性に好ましくない影響
を与える、また3当量を超えて用いても残存アルカリの
除去に多量の洗浄水等を使用するため、経済的でない。
Examples of the alkali include alkali metal or alkaline earth metal alkoxides, hydrides and hydroxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium hydride, potassium hydride, sodium hydroxide and potassium hydroxide. The alkaline species may be selected depending on whether the reaction system is a non-aqueous system or a water-containing system. The proportion of alkali used is preferably 1.1 to 3.0 equivalents per equivalent of the starting halomethyl group. If the equivalent is less than 1.1, the reaction rate will be significantly slowed down, or the reaction will not proceed completely and the raw materials will remain, adversely affecting the cured physical properties, and even if used in excess of 3 equivalents, residual alkali It is not economical because a large amount of cleaning water is used for removal.

【0018】また、アルカリ存在下での反応には、相間
移動触媒を用いることができる。例えば相間移動触媒と
して、各種オニウム塩、例えば、テトラ−n−ブチルア
ンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウ
ムハイドロゲンサルフェート、ベンジルトリメチルアン
モニウムクロライド、トリカプリルメチルアンモニウム
クロライド等の四級アンモニウム化合物、テトラ−n−
ブチルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリフェニル
ホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウム
クロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド等
の四級ホスホニウム化合物、ベンジルテトラメチレンス
ルホニウムブロマイド等の三級スルホニウム化合物およ
びこれらの混合物が挙げられる。これらの相間移動触媒
の使用量は触媒種、あるいは反応温度により触媒効果が
異なるために一概に規定できないが、一般的には原料の
ハロメチル基1当量に対して0.01〜0.5当量程度使用すれ
ば十分である。
A phase transfer catalyst can be used for the reaction in the presence of alkali. For example, as a phase transfer catalyst, various onium salts, for example, quaternary ammonium compounds such as tetra-n-butylammonium bromide, tetra-n-butylammonium hydrogensulfate, benzyltrimethylammonium chloride, tricaprylmethylammonium chloride, tetra-n-
Examples thereof include quaternary phosphonium compounds such as butylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium chloride and tetraphenylphosphonium bromide, tertiary sulfonium compounds such as benzyltetramethylenesulfonium bromide and mixtures thereof. The amount of these phase transfer catalysts used cannot be unconditionally specified because the catalytic effect varies depending on the catalyst species or the reaction temperature, but generally 0.01 to 0.5 equivalent is sufficient with respect to 1 equivalent of the halomethyl group of the raw material. Is.

【0019】反応温度および反応時間は、使用する原料
化合物の種類、反応条件によって異なるために一概に規
定できないが、それぞれ30〜100℃で0.5〜20時間であれ
ばよい。100℃を超える反応温度では、熱重合等の好ま
しくない反応を併発することがあることから好ましくな
い。また30℃未満でも反応は進行するが、長時間を要す
ることから経済的でない。
The reaction temperature and reaction time cannot be specified unconditionally because they vary depending on the kind of the starting material compound used and the reaction conditions, but may be 0.5 to 20 hours at 30 to 100 ° C., respectively. A reaction temperature of more than 100 ° C. is not preferable because unfavorable reactions such as thermal polymerization may occur at the same time. The reaction proceeds even at a temperature lower than 30 ° C, but it is not economical because it takes a long time.

【0020】また、必要に応じて反応系に重合防止剤を
添加してもよく、例えば、t−ブチルカテコール、2,4−
ジ−t−ブチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、2
−t−ブチル−4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフ
ェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハ
イドノキノンモノメチルエーテル、t−ブチルハイドロ
キノン、レゾルシン、ピロガロール、フェノチアジン、
銅塩等が挙げられる。これらの重合防止剤の使用量は、
その種類によって効果が異なるため、一概に規定できな
いが、重合性組成物に対して数ppm〜2000ppmで十分であ
る。
If desired, a polymerization inhibitor may be added to the reaction system, for example, t-butylcatechol, 2,4-
Di-t-butylphenol, 2-t-butylphenol, 2
-T-butyl-4-nitrophenol, 2,4-dinitrophenol, hydroquinone, methylhydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butylhydroquinone, resorcin, pyrogallol, phenothiazine,
Examples include copper salts. The amount of these polymerization inhibitors used is
Since the effect varies depending on the type, it cannot be specified unconditionally, but several ppm to 2000 ppm is sufficient for the polymerizable composition.

【0021】次に、前記(2)の態様について説明す
る。1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有する
インデン化合物としては、とくに制限されないが、例え
ば、重合性不飽和基としてビニルベンジル基、アリル基
および/またはプロパルギル基を有する化合物が好まし
い。さらに具体的には、前記(2)の重合性組成物は、
インデン化合物として前記一般式2で示される化合物の
1種または2種以上を用い、これにビニルベンジルハラ
イド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドから
選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有する
ハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化合
物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物であるの
がよい。このような化合物は、インデン骨格の1,3位
に前記ハロゲン化合物およびジハロメチル化合物が結合
していると考えられる。なお、前記重合性不飽和基を有
するハロゲン化物、炭素数2〜20のジハロメチル化合
物、両者の当量比、反応溶媒、アルカリ種、相間移動触
媒種、反応条件等は、前記(1)の態様と同じである。
Next, the mode (2) will be described. The indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule is not particularly limited, but for example, a compound having a vinylbenzyl group, an allyl group and / or a propargyl group as the polymerizable unsaturated group is preferable. More specifically, the polymerizable composition of (2) above
As the indene compound, one or more compounds represented by the general formula 2 are used, and a halogen compound having at least one polymerizable unsaturated group selected from vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide is used. The compound is preferably a compound obtained by reacting a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. In such a compound, the halogen compound and the dihalomethyl compound are considered to be bonded to the 1,3 positions of the indene skeleton. The halide having a polymerizable unsaturated group, the dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms, the equivalent ratio of the two, the reaction solvent, the alkali species, the phase transfer catalyst species, the reaction conditions and the like are the same as those in the embodiment of (1). Is the same.

【0022】次に、前記(3)の態様について説明す
る。この態様において、1分子中少なくとも1つの重合
性不飽和基を有するフルオレン化合物、および1分子中
少なくとも1つの重合性不飽和基を有するインデン化合
物は、前記(1)および(2)の態様と同じものを挙げ
ることができる。この場合、フルオレン化合物とインデ
ン化合物の配合割合は、0.1/0.9〜0.9/0.1(重量比)
である。
Next, the mode (3) will be described. In this aspect, the fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and the indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule are the same as those in the above aspects (1) and (2). I can list things. In this case, the mixing ratio of the fluorene compound and the indene compound is 0.1 / 0.9 to 0.9 / 0.1 (weight ratio)
Is.

【0023】次に、前記(4)の態様について説明す
る。この態様において、1分子中少なくとも1つの重合
性不飽和基を有するフルオレン化合物は、前記(1)の
態様と同じものを挙げることができる。前記フルオレン
化合物と共重合可能な化合物としては、ポリマー、オリ
ゴマーおよび/またはモノマーがあり、その具体的な例
としては、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、マレイミド樹脂、ポリフ
ェノールのポリシアナート樹脂、エポキシ樹脂等のポリ
マー、ビニルベンジルエーテル樹脂等の重合性不飽和基
を有するオリゴマー、トリアリルイソシアヌレート、ト
リアリルシアヌレート等のモノマーおよびプレポリマー
等、さらにはフルオレンのビニルベンジル化合物等が挙
げられる。さらにスチレン、ビニルトルエン、ジビニル
ベンゼン、ビニルベンジルエーテル化合物等の単量体
や、各種公知の単官能あるいは多官能(メタ)アクリル
酸誘導体化合物を用いることもできる。共重合可能な化
合物の使用量は、共重合可能な化合物の種類、相溶性、
硬化物の用途等によっても異なるため、一概に規定でき
ないが、フルオレン化合物100重量部に対して、0〜
300重量部、好ましくは0〜100重量部である。3
00重量部を超える使用量では、誘電特性の低下や組成
物からの分離・滲出等が起こり易くなるために好ましく
ない。
Next, the mode (4) will be described. In this aspect, as the fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule, the same ones as in the above aspect (1) can be mentioned. As the compound copolymerizable with the fluorene compound, there are polymers, oligomers and / or monomers, and specific examples thereof include vinyl ester resins, unsaturated polyester resins, diallyl phthalate resins, maleimide resins, polyphenol polycyanate resins. Polymers such as epoxy resins, oligomers having a polymerizable unsaturated group such as vinylbenzyl ether resins, monomers and prepolymers such as triallyl isocyanurate and triallyl cyanurate, and vinylbenzyl compounds such as fluorene. . Furthermore, monomers such as styrene, vinyltoluene, divinylbenzene, vinylbenzyl ether compounds, and various known monofunctional or polyfunctional (meth) acrylic acid derivative compounds can be used. The amount of the copolymerizable compound used depends on the type of the copolymerizable compound, compatibility,
Although it cannot be specified unconditionally because it depends on the use of the cured product, etc., it is 0 to 100 parts by weight of the fluorene compound.
300 parts by weight, preferably 0 to 100 parts by weight. Three
If it is used in an amount of more than 00 parts by weight, the dielectric properties are deteriorated and separation / exudation from the composition is likely to occur, which is not preferable.

【0024】次に、前記(5)の態様について説明す
る。この態様において、1分子中少なくとも1つの重合
性不飽和基を有するインデン化合物は、前記(2)の態
様と同じものを挙げることができる。前記インデン化合
物と共重合可能な化合物およびその使用量は、前記
(4)の態様と同じである。
Next, the mode (5) will be described. In this aspect, examples of the indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule are the same as those in the aspect (2). The compound copolymerizable with the indene compound and the amount of the compound used are the same as those in the aspect (4).

【0025】また本発明における重合性組成物には、必
要に応じてニーダー、ブレンダー、ロール等によって充
填材や難燃剤を配合することで誘電率や難燃性を調節す
ることができる。充填材の例としてはシリカ、アルミ
ナ、ジルコニア、二酸化チタン、水酸化マグネシウム、
水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、各種誘電体セラ
ミクス等が挙げられる。難燃剤としてはハロゲン系やリ
ン系、窒素系などの市販の難燃剤を用いることができ
る。
The dielectric composition and flame retardancy can be adjusted by adding a filler and a flame retardant to the polymerizable composition of the present invention with a kneader, blender, roll or the like, if necessary. Examples of the filler are silica, alumina, zirconia, titanium dioxide, magnesium hydroxide,
Examples thereof include aluminum hydroxide, calcium carbonate, various dielectric ceramics, and the like. As the flame retardant, a halogen-based, phosphorus-based, nitrogen-based, or other commercially available flame retardant can be used.

【0026】重合性組成物の重合・硬化は、熱、光、電
子線などの公知の方法を採用することができる。また硬
化剤を使用して硬化反応を促進したりすることも有用で
ある。硬化温度は、重合性不飽和基の種類、硬化剤の種
類と使用量等によって異なるため、一概に規定できない
が、20〜250℃、好ましくは50〜250℃である。硬化温度
が20℃未満では、硬化が不十分となる場合があり、好ま
しくない。
For the polymerization and curing of the polymerizable composition, known methods such as heat, light and electron beam can be adopted. It is also useful to use a curing agent to accelerate the curing reaction. The curing temperature varies depending on the type of the polymerizable unsaturated group, the type of the curing agent and the amount used, and therefore cannot be specified unconditionally, but is 20 to 250 ° C, preferably 50 to 250 ° C. If the curing temperature is lower than 20 ° C, curing may be insufficient, which is not preferable.

【0027】硬化剤を使用する場合は、例えばベンゾイ
ルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシ
ン−3、t−ブチルクミルパーオキサイド、メチルエチル
ケトンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−
ブチルパーベンゾエート等を用途に応じて使用すること
ができる。その使用量は、重合性組成物の不飽和基の種
類、濃度、使用する硬化剤の種類、半減期温度、必要と
する安定性等によって異なるが、概ね組成物の0〜10重
量%である。
When a curing agent is used, for example, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2,
5-Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, t-butylcumyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, dicumyl peroxide, t-
Butyl perbenzoate and the like can be used depending on the application. The amount used varies depending on the type and concentration of unsaturated groups in the polymerizable composition, the type of curing agent used, half-life temperature, required stability, etc., but is generally 0 to 10% by weight of the composition. .

【0028】この他、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸
鉛、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸
亜鉛、ジメチルアニリン、フェニルモルフォリン等の公
知の硬化促進剤を使用することもできる。また硬化条件
の調整のために、ハイドロキノン、ベンゾキノン、銅塩
等の公知の硬化遅延剤を配合してもよい。
In addition, known curing accelerators such as manganese naphthenate, lead naphthenate, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, zinc octylate, dimethylaniline and phenylmorpholine can be used. Further, a known curing retarder such as hydroquinone, benzoquinone, and a copper salt may be blended in order to adjust the curing conditions.

【0029】このようにして得られた本発明の高周波用
基板は、100MHz以上、特に1GHz以上の高周波領域で
の使用に適する。このような高周波領域において、誘電
正接は0.002〜0.01程度を維持することができ
る。
The high frequency substrate of the present invention thus obtained is suitable for use in a high frequency region of 100 MHz or higher, particularly 1 GHz or higher. In such a high frequency region, the dielectric loss tangent can be maintained at about 0.002 to 0.01.

【0030】また本発明は、前記の重合性組成物を繊維
材料に含浸して得られるプリプレグを提供するものであ
る。本発明のプリプレグの作成に用いられる繊維材料と
してはガラス繊維、炭素繊維、芳香族ポリアミド繊維、
炭化珪素繊維、アルミナ繊維など公知の繊維材料を用い
ることができるが、好ましくは低誘電性(低誘電率、低
誘電正接)を有するガラス繊維からなるガラスクロスを
使用することが好ましい。繊維材料の含有量は強度や成
形性等の観点からプリプレグに対して30〜70重量%
であることが好ましい。本発明において、重合性組成物
を繊維材料に含浸させる方法としては、公知の溶剤法あ
るいは無溶剤法のどちらの方法も用いることができる。
溶剤法に用いる溶剤としては、プリプレグ中の残存溶剤
をできるだけ少なくし、耐熱性の低下やクラック、ボイ
ドの発生を回避するために比較的低沸点の溶剤、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素系溶剤等を用いることができる。このような
方法で重合性組成物が繊維材料に含浸したものを必要に
応じて80〜130℃で10分〜180分乾燥および熱
処理を施すことによってプリプレグを得ることができ
る。
The present invention also provides a prepreg obtained by impregnating a fibrous material with the above-mentioned polymerizable composition. As the fiber material used for preparing the prepreg of the present invention, glass fiber, carbon fiber, aromatic polyamide fiber,
Known fiber materials such as silicon carbide fibers and alumina fibers can be used, but it is preferable to use glass cloth made of glass fibers having low dielectric properties (low dielectric constant, low dielectric loss tangent). The content of the fiber material is 30 to 70% by weight with respect to the prepreg from the viewpoint of strength and moldability.
Is preferred. In the present invention, as a method of impregnating the fiber material with the polymerizable composition, any known solvent method or solventless method can be used.
As the solvent used in the solvent method, the residual solvent in the prepreg is reduced as much as possible, and the heat resistance is reduced or cracked, and a solvent having a relatively low boiling point in order to avoid the occurrence of voids, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. The above-mentioned ketone solvents, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, and the like can be used. A prepreg can be obtained by subjecting the fibrous material impregnated with the polymerizable composition to drying and heat treatment at 80 to 130 ° C. for 10 to 180 minutes, if necessary.

【0031】得られたプリプレグは、これを単独で、ま
たは積層して加熱、加圧に施すことにより、高周波用基
板を得ることができる。すなわち、所定の厚みのプリプ
レグ単独、あるいは所定の厚みとなるようにプリプレグ
を積層し、熱プレス等の公知の方法にて加熱加圧成形を
行うことにより高周波用基板を得ることができる。成形
条件は80〜250℃、好ましくは100〜200℃、
5〜100kg/cm2の圧力、0.5〜10時間が例示
され、必要に応じて段階的に昇温することも効果的であ
る。
The obtained prepreg can be used alone or in a laminated form to apply heat and pressure to obtain a high frequency substrate. That is, a high-frequency substrate can be obtained by using a prepreg alone having a predetermined thickness, or stacking prepregs so as to have a predetermined thickness, and performing heat-press molding by a known method such as hot pressing. The molding conditions are 80 to 250 ° C, preferably 100 to 200 ° C.
The pressure is 5 to 100 kg / cm 2 and the time is 0.5 to 10 hours, for example, and it is also effective to raise the temperature stepwise as necessary.

【0032】また本発明は、前記のプリプレグを単独
で、または積層し、さらに金属箔を重ねて加熱、加圧に
施して得られる金属張り高周波用基板を提供するもので
ある。すなわち、所定の厚みのプリプレグ単独、あるい
は所定の厚みとなるようにプリプレグを積層し、その積
層体の両面に金属箔を重ね、前記の加熱加圧成形を行う
ことにより金属張り高周波用基板を得ることができる。
本発明で使用する金属箔は、銅、金、銀、アルミニウム
等が挙げられるが、銅が好ましい。また必要に応じて電
解箔や圧延箔を使用することができる。
The present invention also provides a metal-clad high-frequency substrate obtained by singly or laminating the above prepregs, further stacking metal foils, and applying heat and pressure. That is, a prepreg having a predetermined thickness alone, or prepregs are laminated so as to have a predetermined thickness, metal foils are laminated on both surfaces of the laminated body, and the metal-clad high-frequency substrate is obtained by performing the heating and pressurizing. be able to.
Examples of the metal foil used in the present invention include copper, gold, silver, aluminum and the like, but copper is preferable. If necessary, electrolytic foil or rolled foil can be used.

【0033】また、上述のような銅箔等の金属箔上に前
記重合性組成物あるいはその溶液をドクターブレードコ
ート法等により塗工し、80〜130℃で10分〜18
0分乾燥および熱処理を施すことによって両者が一体化
した樹脂付き金属箔を得ることも可能で、これを用いて
高周波用基板としてもよい。また樹脂付き金属箔をコア
材に重ねて加熱加圧成形することにより多層積層基板と
してもよい。
Further, the above-mentioned polymerizable composition or a solution thereof is applied onto a metal foil such as the above-mentioned copper foil by a doctor blade coating method or the like, and at 80 to 130 ° C. for 10 minutes to 18 minutes.
It is also possible to obtain a resin-coated metal foil in which the both are integrated by performing drying for 0 minutes and heat treatment, and this may be used as a high-frequency substrate. Alternatively, a resin laminated metal foil may be layered on a core material and subjected to heat and pressure molding to form a multilayer laminated substrate.

【0034】また、本発明によれば、導電層上に前記の
重合性組成物を塗工し重合・硬化させ、硬化物の上にさ
らに導電層を設けた多層積層基板を提供するものであ
る。このような多層積層基板は、例えば導電層として厚
さ18μmの銅箔を用い、その上に重合性組成物を厚さ
20〜200μm好ましくは50〜100μmの絶縁層
として塗布し、熱硬化させ、その上にさらに導電層を形
成する、いわゆるビルドアップ法により作製することが
できる。
Further, according to the present invention, there is provided a multi-layer laminated substrate in which the above-mentioned polymerizable composition is applied onto a conductive layer, polymerized and cured, and a conductive layer is further provided on the cured product. . Such a multilayer laminated substrate uses, for example, a copper foil having a thickness of 18 μm as a conductive layer, a polymerizable composition is applied thereon as an insulating layer having a thickness of 20 to 200 μm, preferably 50 to 100 μm, and heat-cured, It can be manufactured by a so-called build-up method, in which a conductive layer is further formed on it.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例および比較例により本発明をさ
らに説明するが、本発明はこれらの例に限定されるもの
ではない。なお特記しない限り、例中の部は重量部を意
味する。なお実施例で行われた測定の方法を以下に示
す。
The present invention will be further described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, unless otherwise indicated, the part in an example means a weight part. The measuring methods used in the examples are shown below.

【0036】誘電特性:HP社製ベクトルネットワークア
ナライザHP8753Eを用い、1.6mm×1.5mm×75mmの角柱状
試験片を用いて空洞共振器摂動法で5GHzの誘電率および
誘電正接を測定した。1 H−核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR):テトラメチル
シランを内部標準物質にして、日本電子社製JNM−LA300
を用いて測定した。 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC):昭
和電工社製Shodex GPCSYSTEM 21(カラムKF−802、KF−
803、KF−805)を用い、溶出液テトラヒドロフラン、溶
出速度1ml/分で測定した。なお、このGPCは分子量の確
認のために採用した。 半田耐熱性試験:JIS C 0054に準拠して行い、260℃
の半田浴に120秒間浸漬し、表面状態や形状に変化が
ないことを確認した。
Dielectric property: Using a vector network analyzer HP8753E manufactured by HP, a dielectric constant and a dielectric loss tangent at 5 GHz were measured by a cavity resonator perturbation method using a 1.6 mm × 1.5 mm × 75 mm prismatic test piece. 1 H-nuclear magnetic resonance spectrum ( 1 H-NMR): Tetramethylsilane was used as an internal standard substance, and JNM-LA300 manufactured by JEOL Ltd.
Was measured using. Gel permeation chromatography (GPC): Shodex GPCSYSTEM 21 (column KF-802, KF- manufactured by Showa Denko KK)
803, KF-805) was used as the eluent and the elution rate was 1 ml / min. This GPC was used to confirm the molecular weight. Solder heat resistance test: conducted according to JIS C 0054, 260 ° C
It was immersed for 120 seconds in the solder bath of No. 1 and it was confirmed that there was no change in surface condition or shape.

【0037】(合成例1)温度調節器、攪拌装置、冷却
コンデンサー、滴下ロート、酸素吹き込み口を備えたフ
ラスコにフルオレン249g(1.5モル)、トルエン250g、
テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド22g(0.069
モル)、アリルクロライド76g(1.0モル)、セイミケミ
カル社製ビニルベンジルクロライドCMS−AM(m/p異性
体:50/50重量%混合物)335g(純度91%、2.0モル)
を仕込み、攪拌しながら40℃まで昇温して均一な溶液に
した。これに50重量%NaOH水溶液240g(NaOH、6モル)
を加えて、その後60℃で8時間反応させた。次にフラス
コ内容物を2N塩酸で中和した後、蒸留水で2回洗浄し、
トルエンを減圧留去後、得られたオレンジ色の粘ちょう
液体を真空乾燥することにより、フルオレンにビニルベ
ンジル基とアリル基が置換した半固体状の化合物を得
た。これを化合物1とする。なお、化合物1の確認は1H
−NMRで行った。
(Synthesis Example 1) 249 g (1.5 mol) of fluorene and 250 g of toluene were placed in a flask equipped with a temperature controller, a stirrer, a cooling condenser, a dropping funnel, and an oxygen inlet.
22 g of tetra-n-butylammonium bromide (0.069
Mol), 76 g (1.0 mol) of allyl chloride, 335 g of vinylbenzyl chloride CMS-AM (m / p isomer: 50/50 wt% mixture) manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd. (purity 91%, 2.0 mol)
Was charged, and the temperature was raised to 40 ° C. with stirring to form a uniform solution. To this, 240 g of 50 wt% NaOH aqueous solution (NaOH, 6 mol)
Was added and then reacted at 60 ° C. for 8 hours. Next, after neutralizing the contents of the flask with 2N hydrochloric acid, washed twice with distilled water,
After the toluene was distilled off under reduced pressure, the obtained orange viscous liquid was vacuum dried to obtain a semi-solid compound in which fluorene was substituted with vinylbenzyl group and allyl group. This is designated as Compound 1. Confirmation of Compound 1 is 1 H
-By NMR.

【0038】(合成例2)温度調節器、攪拌装置、冷却
コンデンサー、滴下ロート、窒素吹き込み口を備えたフ
ラスコ中を窒素置換し、そこにインデン46.5g(0.4モ
ル)、トルエン200g、テトラ−n−ブチルアンモニウム
ブロマイド7.75g(0.024モル)、フェノチアジン0.08g
(0.0004モル)、50重量%NaOH水溶液128.0g(NaOH、1.
6モル)を仕込み、攪拌しながら50℃まで昇温して均一
な溶液にした。濃青緑色の溶液にセイミケミカル社製ビ
ニルベンジルクロライドCMS−AM(m/p異性体:50/50
重量%混合物)134.1g(純度91%、0.8モル)を15分か
けて滴下し、その後50〜52℃で10時間反応させた。次に
フラスコ内容物を2N塩酸で中和した後、蒸留水で2回洗
浄し、トルエンを減圧留去後、得られたオレンジ色の粘
ちょう液体をメタノールで洗浄した後に真空乾燥するこ
とにより、インデンにビニルベンジル基が置換した液状
の化合物を得た。これを化合物2とする。なお、化合物
2の確認は1H−NMRで行った。
(Synthesis Example 2) A flask equipped with a temperature controller, a stirrer, a cooling condenser, a dropping funnel, and a nitrogen inlet was replaced with nitrogen, and 46.5 g (0.4 mol) of indene, 200 g of toluene, and tetra-n were added thereto. -Butyl ammonium bromide 7.75 g (0.024 mol), phenothiazine 0.08 g
(0.0004 mol), 128.0 g of 50 wt% NaOH aqueous solution (NaOH, 1.
(6 mol) was charged and the temperature was raised to 50 ° C. with stirring to form a uniform solution. To the dark blue-green solution, Seimi Chemical Co. vinylbenzyl chloride CMS-AM (m / p isomer: 50/50)
13% (wt% mixture) (purity 91%, 0.8 mol) was added dropwise over 15 minutes, and then the mixture was reacted at 50 to 52 ° C for 10 hours. Then, after neutralizing the contents of the flask with 2N hydrochloric acid, washed twice with distilled water, after distilling off the toluene under reduced pressure, the orange viscous liquid obtained was washed with methanol and then vacuum dried, A liquid compound in which indene was substituted with a vinylbenzyl group was obtained. This is designated as Compound 2. The compound 2 was confirmed by 1 H-NMR.

【0039】(合成例3)温度調節器、攪拌装置、冷却
コンデンサー、滴下ロートを備えたフラスコにインデン
55g(0.48モル)、フルオレン237g(1.43モル)、トル
エン1000g、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド
22g(0.069モル)、p-キシリレンジクロリド250g(1.43
モル)、セイミケミカル社製ビニルベンジルクロライド
CMS−AM(m/p異性体:50/50重量%混合物)240g(純
度91%、1.43モル)を仕込み、攪拌しながら40℃まで昇
温して均一な溶液にした。これに50重量%NaOH水溶液34
4g(NaOH、8.6モル)を加えて、その後70℃で8時間反応
させた。次にフラスコ内容物を2N塩酸で中和した後、蒸
留水で2回洗浄し、トルエンを減圧留去後、得られたオ
レンジ色の粘ちょう液体をメタノールで洗浄し、真空乾
燥することにより、フルオレンとインデンがキシリレン
でつながったオリゴマー化合物にビニルベンジル基が置
換した重量平均分子量Mw3000の固体化合物を得
た。これを化合物3とする。なお、化合物3の確認は1H
−NMRで行った。
(Synthesis Example 3) An indene was placed in a flask equipped with a temperature controller, a stirrer, a cooling condenser and a dropping funnel.
55 g (0.48 mol), fluorene 237 g (1.43 mol), toluene 1000 g, tetra-n-butylammonium bromide
22 g (0.069 mol), p-xylylene dichloride 250 g (1.43
Mol), vinylbenzyl chloride manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.
240 g (purity 91%, 1.43 mol) of CMS-AM (m / p isomer: 50/50 wt% mixture) was charged, and the temperature was raised to 40 ° C with stirring to form a uniform solution. 50 wt% NaOH aqueous solution 34
4 g (NaOH, 8.6 mol) was added, and then the mixture was reacted at 70 ° C. for 8 hours. Next, after neutralizing the contents of the flask with 2N hydrochloric acid, washed twice with distilled water, after distilling off the toluene under reduced pressure, the resulting orange viscous liquid was washed with methanol, and by vacuum drying, A solid compound having a weight average molecular weight Mw of 3,000 was obtained in which a vinylbenzyl group was substituted in an oligomer compound in which fluorene and indene were linked by xylylene. This is designated as Compound 3. Confirmation of Compound 3 is 1 H
-By NMR.

【0040】(比較合成例1)温度調節器、撹拌装置、
冷却コンデンサー、滴下ロートを備えた1リットルの四
つ口フラスコに、ジシクロペンタジエン骨格フェノール
樹脂DPP−3H(日本石油化学社製特殊フェノール樹
脂)45g(0.25当量)、ビニルベンジルクロライ
ドCMS−AM(m−/p−異性体:50/50重量%
混合物))38.1g(純度91%,0.25モル)、テ
トラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド2.4g、
2,4−ジニトロフェノール0.038g、メチルエチ
ルケトン200gを仕込み、攪拌溶解したものに75℃
で50重量%NaOH水溶液40g(NaOH純度95
%、0.475モル)を20分かけて滴下し、さらに7
5℃で4時間撹拌を続けた。室温まで冷却した後、2N
塩酸で反応混合物を中和し、トルエン100gを追加し
た後、有機層を300gの蒸留水で3回洗浄した。メチ
ルエチルケトンを減圧除去した後、反応物を300ml
のメタノールに沈澱させ、固形分を濾取した後、真空オ
ーブン中50℃で乾燥し、ビニルベンジルエーテル化合
物を収率95%で得た。これを化合物4とする。
(Comparative Synthesis Example 1) Temperature controller, stirring device,
In a 1 liter four-necked flask equipped with a cooling condenser and a dropping funnel, dicyclopentadiene skeleton phenol resin DPP-3H (special petroleum resin manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) 45 g (0.25 equivalent), vinylbenzyl chloride CMS-AM (M- / p-isomer: 50/50 wt%
Mixture)) 38.1 g (purity 91%, 0.25 mol), tetra-n-butylammonium bromide 2.4 g,
At a temperature of 75 ° C., 0.038 g of 2,4-dinitrophenol and 200 g of methyl ethyl ketone were charged and dissolved with stirring.
40 g of 50% by weight NaOH aqueous solution (NaOH purity 95
%, 0.475 mol) over 20 minutes and then 7
Stirring was continued for 4 hours at 5 ° C. 2N after cooling to room temperature
After neutralizing the reaction mixture with hydrochloric acid and adding 100 g of toluene, the organic layer was washed 3 times with 300 g of distilled water. After removing methyl ethyl ketone under reduced pressure, 300 ml of the reaction product
Of methanol, the solid content was collected by filtration, and dried in a vacuum oven at 50 ° C. to obtain a vinylbenzyl ether compound in a yield of 95%. This is designated as Compound 4.

【0041】(実施例1)化合物1の60%トルエン溶
液をガラスクロスWEA18K105BZ2(日東紡(株))に含浸
させたのち120℃で60分乾燥し、プリプレグを得
た。このプリプレグ10プライを積層し、150℃2時
間、180℃5時間、200℃5時間の加熱加圧成形
(40kg/cm2)を行い板厚1.6mm、ガラス繊維含
有量60%の積層板を得た。
(Example 1) A 60% toluene solution of Compound 1 was impregnated in glass cloth WEA18K105BZ2 (Nitto Boseki Co., Ltd.) and dried at 120 ° C for 60 minutes to obtain a prepreg. 10 plies of this prepreg are laminated and subjected to heat and pressure molding (40 kg / cm 2 ) at 150 ° C. for 2 hours, 180 ° C. for 5 hours, and 200 ° C. for 5 hours to obtain a laminate having a plate thickness of 1.6 mm and a glass fiber content of 60% Got

【0042】(実施例2)化合物2をガラスクロスWEA1
8K105BZ2(日東紡(株))に含浸させたのち120℃で
30分放置しプリプレグを得た。このプリプレグ10プ
ライを積層し、150℃2時間、180℃6時間の加熱
加圧成形(40kg/cm2)を行い板厚1.6mm、ガラ
ス繊維含有量62%の積層板を得た。
Example 2 Compound 2 was used as glass cloth WEA1.
After impregnating it with 8K105BZ2 (Nitto Boseki Co., Ltd.), it was left at 120 ° C. for 30 minutes to obtain a prepreg. 10 plies of this prepreg were laminated and subjected to heat and pressure molding (40 kg / cm 2 ) at 150 ° C. for 2 hours and 180 ° C. for 6 hours to obtain a laminated plate having a plate thickness of 1.6 mm and a glass fiber content of 62%.

【0043】(実施例3)化合物3の60%トルエン溶
液をガラスクロスWEA18K105BZ2(日東紡(株))に含浸
させたのち120℃で60分乾燥し、プリプレグを得
た。このプリプレグ10プライを積層し、150℃2時
間、180℃6時間の加熱加圧成形(40kg/cm2)を
行い板厚1.6mm、ガラス繊維含有量60%の積層板
を得た。
Example 3 A glass cloth WEA18K105BZ2 (Nitto Boseki Co., Ltd.) was impregnated with a 60% toluene solution of the compound 3 and dried at 120 ° C. for 60 minutes to obtain a prepreg. 10 plies of this prepreg were laminated and subjected to heat and pressure molding (40 kg / cm 2 ) at 150 ° C. for 2 hours and 180 ° C. for 6 hours to obtain a laminated plate having a plate thickness of 1.6 mm and a glass fiber content of 60%.

【0044】(実施例4)化合物1の90部に対してフ
ェニルマレイミド10部を添加し60%トルエン溶液に
調整した樹脂溶液をガラスクロスWEA18K105BZ2(日東紡
(株))に含浸させたのち120℃で60分乾燥し、プ
リプレグを得た。このプリプレグ10プライを積層し、
150℃2時間、180℃5時間、200℃5時間の加
熱加圧成形(40kg/cm2)を行い板厚1.6mm、ガ
ラス繊維含有量61%の積層板を得た。
Example 4 A resin solution prepared by adding 10 parts of phenylmaleimide to 90 parts of the compound 1 to prepare a 60% toluene solution was impregnated into a glass cloth WEA18K105BZ2 (Nitobo Co., Ltd.) and then 120 ° C. And dried for 60 minutes to obtain a prepreg. Laminate 10 plies of this prepreg,
Heat press molding (40 kg / cm 2 ) was performed at 150 ° C. for 2 hours, 180 ° C. for 5 hours, and 200 ° C. for 5 hours to obtain a laminate having a plate thickness of 1.6 mm and a glass fiber content of 61%.

【0045】(実施例5)化合物1の100部と化合物
2の120部を80部のトルエンに溶解した樹脂溶液を
35μm銅箔(3EC/三井金属工業(株))に厚さ10
0μmになるように塗工し、100℃で60分乾燥し、
さらに120℃2時間加熱して半硬化状態にした(2つ
作製した)。この2つの樹脂付き銅箔の樹脂と樹脂が接
触するように重ね合わせ、150℃2時間、180℃6
時間の加熱加圧成形(40kg/cm2)を行い、得られた
試料を用いてJIS C 6481の方法で銅箔の引き剥がし強さ
を測定した結果、1.2kgf/cmであった。
Example 5 A resin solution prepared by dissolving 100 parts of compound 1 and 120 parts of compound 2 in 80 parts of toluene was applied to a 35 μm copper foil (3EC / Mitsui Metal Industry Co., Ltd.) to give a thickness of 10 parts.
Coat to 0 μm and dry at 100 ° C for 60 minutes,
Further, it was heated at 120 ° C. for 2 hours to be in a semi-cured state (two were prepared). The two copper foils with resin are placed on top of each other so that the resin is in contact with each other, and the temperature is 150 ° C for 2 hours and 180 ° C for 6 hours.
After heat and pressure molding for 40 hours (40 kg / cm 2 ), the peel strength of the copper foil was measured by the method of JIS C 6481 using the obtained sample, and the result was 1.2 kgf / cm.

【0046】(比較例1)化合物4を60%トルエンに
溶解して樹脂溶液を調整し、この樹脂溶液をガラスクロ
スWEA18K105BZ2(日東紡(株))に含浸させたのち12
0℃で90分乾燥しプリプレグを得た。このプリプレグ
10プライを積層し150℃2時間、180℃6時間の
加熱加圧成形(40kg/cm2)を行い板厚1.6mm、
ガラス繊維含有量62%の積層板を得た。
Comparative Example 1 Compound 4 was dissolved in 60% toluene to prepare a resin solution, and this resin solution was impregnated into glass cloth WEA18K105BZ2 (Nittobo Co., Ltd.), and then 12
It was dried at 0 ° C for 90 minutes to obtain a prepreg. This prepreg 10 ply is laminated and subjected to heat and pressure molding (40 kg / cm 2 ) at 150 ° C. for 2 hours and 180 ° C. for 6 hours to obtain a plate thickness of 1.6 mm,
A laminated plate having a glass fiber content of 62% was obtained.

【0047】(比較例2)ビスフェノールAタイプのエ
ポキシ樹脂エピコート1001(ジャパンエポキシレジ
ン社製)を90部、ノボラック型エポキシ樹脂DEN438
(ダウ・ケミカル日本社製)を10部、硬化剤としてジ
シアンジアミドを5部、硬化促進剤としてベンジルジメ
チルアミン0.3部をアセトン70部に溶解させて調整
した樹脂溶液をガラスクロスWEA18K105BZ2(日東紡
(株))に含浸させたのち80℃で5分、続いて160
℃で5分乾燥しプリプレグを得た。このプリプレグ10
プライを積層し、160℃で1時間の加熱加圧成形(7
0kg/cm2)を行い板厚1.6mm、ガラス繊維含有量
62%の積層板を得た。
(Comparative Example 2) 90 parts of bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1001 (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) and novolac type epoxy resin DEN438.
A resin solution prepared by dissolving 10 parts (manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.), 5 parts of dicyandiamide as a curing agent, and 0.3 parts of benzyldimethylamine as a curing accelerator in 70 parts of acetone was prepared as a glass cloth WEA18K105BZ2 (Nittobo). Co., Ltd.) and then at 160C for 5 minutes, then 160
It was dried at ℃ for 5 minutes to obtain a prepreg. This prepreg 10
Plies are laminated and heated and pressed at 160 ° C for 1 hour (7
0 kg / cm 2 ) to obtain a laminated plate having a plate thickness of 1.6 mm and a glass fiber content of 62%.

【0048】前記実施例および比較例により得られた積
層板の特性を表1に示した。
The characteristics of the laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples are shown in Table 1.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明によれば、高周波領域で誘電特
性、特に低誘電正接に優れ、かつ耐熱性にも優れた基板
およびプリプレグ、樹脂付き金属箔が提供される。
According to the present invention, there are provided a substrate, a prepreg, and a resin-coated metal foil which have excellent dielectric properties, particularly low dielectric loss tangent, and excellent heat resistance in a high frequency range.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 T // C08L 45:00 C08L 45:00 (72)発明者 吉田 晴雄 東京都町田市成瀬台1−12−7 (72)発明者 柴田 譲治 埼玉県本庄市日の出2−4−20 Fターム(参考) 4F072 AA07 AB06 AB08 AB09 AB10 AB29 AB30 AD03 AD05 AD09 AD55 AE02 AE07 AE08 AG03 AG17 AG19 AH02 AH21 AH25 AJ04 AK02 AK03 AK14 AL13 4F100 AB01A AG00B AK11B AK11K BA02 DG12B DH02B GB43 JG05 JG10 JJ03 4J100 AB07P AB15P BC48P CA01 CA04 JA44 5E346 AA12 CC04 CC14 DD12 HH06─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/46 H05K 3/46 T // C08L 45:00 C08L 45:00 (72) Inventor Haruo Yoshida Tokyo 1-12-7 Narusedai, Miyakomachida (72) Inventor Joji Shibata 2-4-20 Hinode, Honjo City, Saitama Prefecture (reference) 4F072 AA07 AB06 AB08 AB09 AB10 AB29 AB30 AD03 AD05 AD09 AD55 AE02 AE07 AE08 AG03 AG17 AG19 AH02 AH21 AH25 AJ04 AK02 AK03 AK14 AL13 4F100 AB01A AG00B AK11B AK11K BA02 DG12B DH02B GB43 JG05 JG10 JJ03 4J100 AB07P AB15P BC48P CA01 CA04 JA44 5E346 AA12 CC04 CC14 DD12 HH06

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 重合性組成物を重合・硬化せしめてなる
高周波用基板において、前記重合性組成物が、1分子中
少なくとも1つの重合性不飽和基を有するフルオレン化
合物を含むことを特徴とする高周波用基板(ただし、前
記重合性不飽和基がすべてビニルベンジル基である場合
を除く)。
1. A high frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, wherein the polymerizable composition contains a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule. High frequency substrate (except when all the polymerizable unsaturated groups are vinylbenzyl groups).
【請求項2】 フルオレン化合物が、重合性不飽和基と
してアリル基および/またはプロパルギル基を有する
か、あるいは前記不飽和基の1つ以上とビニルベンジル
基とを共に有する請求項1に記載の高周波用基板。
2. The high frequency wave according to claim 1, wherein the fluorene compound has an allyl group and / or a propargyl group as a polymerizable unsaturated group, or has both one or more of the unsaturated groups and a vinylbenzyl group. Substrate.
【請求項3】 重合性組成物を重合・硬化せしめてなる
高周波用基板において、前記重合性組成物が、1分子中
少なくとも1つの重合性不飽和基を有するインデン化合
物を含むことを特徴とする高周波用基板。
3. A high frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, wherein the polymerizable composition contains an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule. High frequency board.
【請求項4】 重合性不飽和基がビニルベンジル基、ア
リル基および/またはプロパルギル基である請求項3に
記載の高周波用基板。
4. The high frequency substrate according to claim 3, wherein the polymerizable unsaturated group is a vinylbenzyl group, an allyl group and / or a propargyl group.
【請求項5】 重合性組成物を重合・硬化せしめてなる
高周波用基板において、前記重合性組成物が、1分子中
少なくとも1つの重合性不飽和基を有するフルオレン化
合物と、1分子中少なくとも1つの重合性不飽和基を有
するインデン化合物とを含むことを特徴とする高周波用
基板。
5. A high-frequency substrate obtained by polymerizing and curing a polymerizable composition, wherein the polymerizable composition has a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and at least 1 in one molecule. A high frequency substrate comprising: an indene compound having two polymerizable unsaturated groups.
【請求項6】 フルオレン化合物が、下記一般式1で示
される化合物の1種または2種以上であり、かつ重合性
組成物が、前記フルオレン化合物と、ビニルベンジルハ
ライド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドか
ら選ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有す
るハロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化
合物とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む
請求項2に記載の高周波用基板。 (一般式1) 【化1】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の同
じでも異なっていてもよいアルキル基、アルコキシ基、
チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基およびアリー
ル基から選択される1種以上の基を示す)
6. The fluorene compound is one or more compounds represented by the following general formula 1, and the polymerizable composition is selected from the fluorene compound, vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide. The high frequency substrate according to claim 2, comprising a compound obtained by reacting at least one kind of halogen compound having a polymerizable unsaturated group with a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. (General formula 1) (In the formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may be the same or different, an alkoxy group,
Denotes one or more groups selected from a thioalkoxy group, a thioaryloxy group and an aryl group)
【請求項7】 インデン化合物が、下記一般式2で示さ
れる化合物の1種または2種以上であり、かつ重合性組
成物が、前記インデン化合物と、ビニルベンジルハライ
ド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドから選
ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有するハ
ロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化合物
とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む請求
項4に記載の高周波用基板。 (一般式2) 【化2】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の同
じでも異なっていてもよいアルキル基、アルコキシ基、
チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基およびアリー
ル基から選択される1種以上の基を示す)
7. The indene compound is one or more compounds represented by the following general formula 2, and the polymerizable composition is selected from the indene compound, vinylbenzyl halide, allyl halide and propargyl halide. The high frequency substrate according to claim 4, comprising a compound obtained by reacting a halogen compound having at least one kind of polymerizable unsaturated group with a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali. (General formula 2) (In the formula, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may be the same or different, an alkoxy group,
Denotes one or more groups selected from a thioalkoxy group, a thioaryloxy group and an aryl group)
【請求項8】 フルオレン化合物が、前記一般式1で示
される化合物の1種または2種以上であり、インデン化
合物が、前記一般式2で示される化合物の1種または2
種以上であり、かつ重合性組成物が、前記フルオレン化
合物と、前記インデン化合物と、ビニルベンジルハライ
ド、アリルハライドおよびプロパルギルハライドから選
ばれる少なくとも1種以上の重合性不飽和基を有するハ
ロゲン化合物と、炭素数2〜20のジハロメチル化合物
とをアルカリ存在下で反応させて得た化合物を含む請求
項5に記載の高周波用基板。
8. The fluorene compound is one or more of the compounds represented by the general formula 1, and the indene compound is one or two of the compounds represented by the general formula 2.
At least one and the polymerizable composition, the fluorene compound, the indene compound, a vinyl benzyl halide, a halogen compound having at least one or more polymerizable unsaturated group selected from allyl halide and propargyl halide, The high frequency substrate according to claim 5, comprising a compound obtained by reacting a dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms in the presence of an alkali.
【請求項9】 重合性不飽和基を有するハロゲン化合物
のハロメチル基と炭素数2〜20のジハロメチル化合物の
ハロメチル基との当量比が0.9/0.1〜0.1/0.9である請
求項6ないし8のいずれか1項に記載の高周波用基板。
9. The equivalent ratio between the halomethyl group of the halogen compound having a polymerizable unsaturated group and the halomethyl group of the dihalomethyl compound having 2 to 20 carbon atoms is 0.9 / 0.1 to 0.1 / 0.9. The high frequency substrate as described in 1 above.
【請求項10】 重合性組成物が、1分子中少なくとも
1つの重合性不飽和基を有するフルオレン化合物と、こ
れと共重合可能な化合物とを配合してなる組成物である
請求項1に記載の高周波用基板。
10. The composition according to claim 1, wherein the polymerizable composition is a mixture of a fluorene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and a compound copolymerizable therewith. High frequency board.
【請求項11】 重合性組成物が、1分子中少なくとも
1つの重合性不飽和基を有するインデン化合物と、これ
と共重合可能な化合物とを配合してなる組成物である請
求項3に記載の高周波用基板。
11. The composition according to claim 3, wherein the polymerizable composition is a mixture of an indene compound having at least one polymerizable unsaturated group in one molecule and a compound copolymerizable therewith. High frequency board.
【請求項12】 請求項1、3、5、6、7、8、10
または11に記載の重合性組成物を繊維材料に含浸して
得られるプリプレグ。
12. The method according to claim 1, 3, 5, 6, 7, 8, and 10.
Alternatively, a prepreg obtained by impregnating a fibrous material with the polymerizable composition as described in 11 above.
【請求項13】 繊維材料がガラスクロスである請求項
12に記載のプリプレグ。
13. The prepreg according to claim 12, wherein the fiber material is glass cloth.
【請求項14】 請求項12または13に記載のプリプ
レグを単独で、または積層して加熱、加圧に施して得ら
れる高周波用基板。
14. A high frequency substrate obtained by subjecting the prepreg according to claim 12 or 13 alone or by laminating the prepregs to heating and pressing.
【請求項15】 請求項12または13に記載のプリプ
レグを単独で、または積層し、さらに金属箔を重ねて加
熱、加圧に施して得られる金属張り高周波用基板。
15. A metal-clad high-frequency substrate obtained by singly or laminating the prepreg according to claim 12 or 13, and further stacking metal foils and applying heat and pressure.
【請求項16】 金属箔上に、請求項1、3、5、6、
7、8、10または11に記載の重合性組成物を塗工
し、両者を一体化せしめてなる樹脂付き金属箔。
16. The method according to claim 1, 3, 5, 6, on a metal foil.
A resin-coated metal foil obtained by applying the polymerizable composition as described in 7, 8, 10 or 11 and integrating both.
【請求項17】 導電層上に請求項1、3、5、6、
7、8、10または11に記載の重合性組成物を塗工し
重合・硬化させ、硬化物の上にさらに導電層を設けたこ
とを特徴とする多層積層基板。
17. The method according to claim 1, 3, 5, 6, on the conductive layer.
A multi-layer laminated substrate characterized in that the polymerizable composition according to 7, 8, 10 or 11 is applied, polymerized and cured, and a conductive layer is further provided on the cured product.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005325197A (en) * 2004-05-13 2005-11-24 Showa Highpolymer Co Ltd Thermosetting resin composition, prepreg using the same, metal foil with resin, and board
US7342053B2 (en) 2004-01-28 2008-03-11 Ajinomoto Co., Inc. Resin composition, adhesive film using the same and multilayer printed circuit board
JP2021161173A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 日本化薬株式会社 Olefin compound, curable resin composition and cured product thereof
WO2022207741A1 (en) 2021-03-31 2022-10-06 Huntsman Advanced Materials Licensing (Switzerland) Gmbh Low dielectric resin composition and an article of manufacture prepared therefrom
WO2023224021A1 (en) * 2022-05-19 2023-11-23 株式会社レゾナック Resin composition, prepreg, laminate, resin film, printed wiring board and semiconductor package

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7342053B2 (en) 2004-01-28 2008-03-11 Ajinomoto Co., Inc. Resin composition, adhesive film using the same and multilayer printed circuit board
JP2005325197A (en) * 2004-05-13 2005-11-24 Showa Highpolymer Co Ltd Thermosetting resin composition, prepreg using the same, metal foil with resin, and board
JP2021161173A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 日本化薬株式会社 Olefin compound, curable resin composition and cured product thereof
JP7360981B2 (en) 2020-03-31 2023-10-13 日本化薬株式会社 Olefin compounds, curable resin compositions and cured products thereof
WO2022207741A1 (en) 2021-03-31 2022-10-06 Huntsman Advanced Materials Licensing (Switzerland) Gmbh Low dielectric resin composition and an article of manufacture prepared therefrom
WO2023224021A1 (en) * 2022-05-19 2023-11-23 株式会社レゾナック Resin composition, prepreg, laminate, resin film, printed wiring board and semiconductor package

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