JP2003279629A - Circuit for generating pulse, semiconductor testing device using the same, method of testing semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device - Google Patents

Circuit for generating pulse, semiconductor testing device using the same, method of testing semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device

Info

Publication number
JP2003279629A
JP2003279629A JP2003006768A JP2003006768A JP2003279629A JP 2003279629 A JP2003279629 A JP 2003279629A JP 2003006768 A JP2003006768 A JP 2003006768A JP 2003006768 A JP2003006768 A JP 2003006768A JP 2003279629 A JP2003279629 A JP 2003279629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pulse
circuit
generation circuit
dummy
delay
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003006768A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4149273B2 (en
Inventor
Fujio Onishi
富士夫 大西
Kenichi Shinpo
健一 新保
Ritsuro Orihashi
律郎 折橋
Tadashi Fukuzaki
正 福崎
Nobuo Motoki
伸男 本木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2003006768A priority Critical patent/JP4149273B2/en
Publication of JP2003279629A publication Critical patent/JP2003279629A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4149273B2 publication Critical patent/JP4149273B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such a problem that a dispersion is generated in the propagation delay time of a delay circuit by a factor of a temperature change accompanying the fluctuation of electric power consumption, so as to make the pulse generation time difficult to be controlled precisely, in a delay circuit using a CMOS-IC. <P>SOLUTION: This pulse generation circuit of the present invention is provided with a dummy pulse generating means for generating a dummy pulse in a period in which a pulse is not generated originally, and by keeping the electric power consumption constant in the pulse generating circuit, without expanding a dummy delay circuit (electric power consumption circuit) of a large scale, the electric power consumption per unit time is controlled to be constant. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、パルス発生回路お
よび該パルス発生回路を用いた半導体試験装置、および
半導体試験方法および半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pulse generation circuit, a semiconductor test apparatus using the pulse generation circuit, a semiconductor test method, and a semiconductor device manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、被試験対象としてのICの機能
試験は、各基本(試験)周期内で、IC試験装置からは
被試験ICに各種の試験信号が印加され、その被試験I
Cからの各種の応答信号各々はIC試験装置内に取り込
まれ、各々についての判定タイミング下にその良否判定
が行われることによって、ICとしての機能が正常であ
るか否かが試験されるものとなっている。
2. Description of the Related Art Generally, in a functional test of an IC to be tested, various test signals are applied to the IC under test from an IC test device within each basic (test) cycle, and the test under test I is performed.
Each of the various response signals from C is taken into the IC test apparatus, and the quality of each is judged at the judgment timing for each, so that whether the function as the IC is normal or not is tested. Has become.

【0003】ところで、近年、IC類一般の高速動作化
に伴い、それらIC類を試験するLSI試験装置では、
試験波形の発生時間(タイミング)の精度が試験性能を
左右する。特にLSI試験装置に備えられているパルス
発生回路が発生するタイミングエッジには、非常に高い
時間精度が要求される。
By the way, in recent years, with the increase in operating speed of ICs in general, an LSI test apparatus for testing those ICs has
The accuracy of the generation time (timing) of the test waveform affects the test performance. In particular, the timing edge generated by the pulse generation circuit provided in the LSI test apparatus requires extremely high time accuracy.

【0004】ここで、図16に従来のパルス発生回路の
概要を示す。
Here, FIG. 16 shows an outline of a conventional pulse generating circuit.

【0005】パルス発生回路1は主に、データ演算回路
5、パルス生成回路6およびパルス遅延回路7を備え
る。データ演算回路5は、パターン生成回路(図示せ
ず)から動作クロック4-1に同期して送られてくるテ
ストパターンデータ3に基づき、パルスの発生タイミン
グを決める遅延データ9を演算し、パルス生成回路6お
よびパルス遅延回路7に出力する。パルス生成回路6お
よびパルス遅延回路7は、それぞれ遅延分解能(遅延単
位)の異なる遅延データ9(TC、D、A)をもとに、
指定されたタイミングにパルスを発生させる。
The pulse generation circuit 1 mainly includes a data operation circuit 5, a pulse generation circuit 6 and a pulse delay circuit 7. The data calculation circuit 5 calculates the delay data 9 that determines the pulse generation timing based on the test pattern data 3 sent in synchronization with the operation clock 4-1 from the pattern generation circuit (not shown), and generates the pulse. It outputs to the circuit 6 and the pulse delay circuit 7. The pulse generation circuit 6 and the pulse delay circuit 7 are based on the delay data 9 (TC, D, A) having different delay resolutions (delay units), respectively.
Generates a pulse at the specified timing.

【0006】続いて、図17を用いて、パルス生成回路
6の制御動作を説明する。図20には、図17に示す各
回路部の動作タイミングを示す。図20を用い、動作例
として、マスタクロック2を500MHz(2ns周
期)とし、動作クロック4-1を250MHz(4ns
周期)としたときの、パルス生成回路6の説明を行う。
Next, the control operation of the pulse generation circuit 6 will be described with reference to FIG. FIG. 20 shows the operation timing of each circuit unit shown in FIG. As an operation example using FIG. 20, the master clock 2 is set to 500 MHz (2 ns cycle), and the operation clock 4-1 is set to 250 MHz (4 ns).
The pulse generation circuit 6 will be described below.

【0007】まず、パルス生成回路6は、データ演算回
路5から送られてくる遅延データ(TC)9-1を基に
パルスを発生させることができる。ここで、遅延データ
9-1(TC)は、動作クロック4-1に同期して送られ
てくるため、パルスの発生(遅延)分解能は動作クロッ
ク周期(本例では4ns周期)となる。
First, the pulse generation circuit 6 can generate a pulse based on the delay data (TC) 9-1 sent from the data operation circuit 5. Here, since the delay data 9-1 (TC) is sent in synchronization with the operation clock 4-1, the pulse generation (delay) resolution is the operation clock cycle (4 ns cycle in this example).

【0008】また、パルス生成回路6では、動作クロッ
クの半分の周期であるマスタクロック2を使用している
ため、動作クロックの半分の周期(=マスタクロック周
期:本例では2ns)を遅延分解能としてパルスを遅延
させることができる。図17では、遅延データ(D)9
-2をFFd11にてマスタクロックに同期してラッチ
し、遅延データ(D)9-2が"0"のときは、FFcm
p10の出力パルスをFF1(14)側へ、"1"のとき
はFF2(15)側へ出力する。FF1(14)および
FF2(15)は、それぞれ送られてきたパルスをラッ
チして、FF2(15)はさらに次段のFF2'(1
6)へパルスを出力する。すなわち、遅延データ(D)
9-2が"1"であれば、出力パルスは"0"の遅延経路に
比べて、マスタクロック2で動作するフリップフロップ
を一段多く通過するため、パルスをマスタクロックの1
周期分の時間だけパルスを遅延させて出力することがで
きる。
Further, since the pulse generation circuit 6 uses the master clock 2 which is a half cycle of the operation clock, the half cycle of the operation clock (= master clock cycle: 2 ns in this example) is used as the delay resolution. The pulse can be delayed. In FIG. 17, the delay data (D) 9
-2 is latched by FFd11 in synchronization with the master clock, and when delay data (D) 9-2 is "0", FFcm
The output pulse of p10 is output to the FF1 (14) side, and when it is "1", it is output to the FF2 (15) side. The FF1 (14) and the FF2 (15) latch the pulses respectively sent thereto, and the FF2 (15) further FF2 '(1
Output pulse to 6). That is, the delay data (D)
If 9-2 is "1", the output pulse passes through one more stage of the flip-flop operating at the master clock 2 as compared with the delay path of "0", so that the pulse is set at 1 of the master clock.
The pulse can be output after delaying the pulse by the time corresponding to the period.

【0009】また、図17に示すパルス生成回路6で
は、動作クロック4-1で生成されたFF1(14)お
よびFF2'(16)の出力を、次段のORゲート17
を介してFFor18にてラッチし、FFor18の出
力と、マスタクロック2のネガティブエッジで一度ラッ
チしたFFs出力の反転値とでAND処理(As19)
することによって、パルス幅を成形して出力している。
Further, in the pulse generation circuit 6 shown in FIG. 17, the outputs of the FF1 (14) and FF2 '(16) generated by the operation clock 4-1 are used as the OR gate 17 of the next stage.
Via FFor18, and AND processing is performed with the output of FFor18 and the inverted value of the FFs output latched once at the negative edge of master clock 2 (As19).
By doing so, the pulse width is shaped and output.

【0010】次に、パルス遅延回路7では、遅延データ
(A)9-3をもとに、パルス生成回路で生成されたパ
ルスを、動作クロック周期の半分以下の遅延分解能で遅
延させることができる。
Next, the pulse delay circuit 7 can delay the pulse generated by the pulse generation circuit based on the delay data (A) 9-3 with a delay resolution of half the operation clock period or less. .

【0011】図18を用いてパルス遅延回路7の動作の
一例について説明する。パルス遅延回路7は、主に、遅
延回路30と、非同期の遅延データ(A)9-3を出力
パルスに同期して読み出すためのFIFO31および、
リード用FF32で構成される。
An example of the operation of the pulse delay circuit 7 will be described with reference to FIG. The pulse delay circuit 7 mainly includes a delay circuit 30, a FIFO 31 for reading the asynchronous delay data (A) 9-3 in synchronization with an output pulse, and
The read FF 32 is used.

【0012】まず、遅延データ(A)9-3は動作クロ
ック4-1に同期してFIFO31へ書き込まれ格納さ
れる。書き込まれた遅延データ(A)9-3は、パルス
遅延回路7を通過したひとつ前の出力パルス7-1の立
ち下がりタイミングをトリガにして、FIFO31から
読み出され、遅延回路30に入力される。
First, the delay data (A) 9-3 is written and stored in the FIFO 31 in synchronization with the operation clock 4-1. The written delay data (A) 9-3 is read from the FIFO 31 and input to the delay circuit 30 by using the falling timing of the output pulse 7-1 immediately before which has passed through the pulse delay circuit 7 as a trigger. .

【0013】遅延回路30は図19のように、インバー
タ等で構成された遅延素子群34および、パルスの経路
を選択する選択回路33で構成されており、遅延データ
(A)9-3によってパルスの通過する経路が選択さ
れ、パルスの遅延量が決まる。
As shown in FIG. 19, the delay circuit 30 is composed of a delay element group 34 composed of inverters and the like, and a selection circuit 33 for selecting a pulse path. Is selected and the delay amount of the pulse is determined.

【0014】図19の例では、遅延データが"1"のと
き、入力された内部パルス6-1は遅延素子群34(遅
延量Ans)を持つ遅延時間の長い側の経路を通過
し、"0"のときは遅延素子群34を持たない遅延時間の
短い側の経路を通過する。
In the example shown in FIG. 19, when the delay data is "1", the input internal pulse 6-1 passes through the path having the delay element group 34 (delay amount Ans) on the long delay time side, When it is 0 ", it passes through the path having the short delay time without the delay element group 34.

【0015】以上のようにパルス発生回路1は、パルス
生成回路6におけるデジタル的な遅延時間とパルス遅延
回路7におけるアナログ的な遅延時間を組み合わせるこ
とによって所望のタイミングでパルスを発生させること
ができる。
As described above, the pulse generation circuit 1 can generate a pulse at a desired timing by combining the digital delay time in the pulse generation circuit 6 and the analog delay time in the pulse delay circuit 7.

【0016】そのためパルス発生回路1はパルスジェネ
レータなどの波形生成装置や、LSI試験装置(LSI
テスタ)などに多く利用されている。特にLSI試験装
置では、試験波形の発生精度が試験性能を左右するた
め、パルス発生回路1のパルス発生精度には、非常に高
い精度が要求される。
Therefore, the pulse generation circuit 1 includes a waveform generator such as a pulse generator and an LSI test device (LSI).
It is often used for testers). Particularly in the LSI test apparatus, the test waveform generation accuracy influences the test performance, and thus the pulse generation accuracy of the pulse generation circuit 1 is required to be extremely high.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかし、パルス生成回
路6とパルス遅延回路7に設定する遅延時間を組み合わ
せることによって所望のタイミングでパルスを発生させ
ていた従来のパルス発生回路1では、出力パルスの発生
周期を変化させたときに、回路の消費電力が変動してし
まうため、パルスの発生タイミングにばらつきが生じ、
パルスの発生精度が劣化してしまうという問題がある。
However, in the conventional pulse generation circuit 1 which generates a pulse at a desired timing by combining the delay times set in the pulse generation circuit 6 and the pulse delay circuit 7, the output pulse When the generation period is changed, the power consumption of the circuit fluctuates, so the pulse generation timing varies,
There is a problem that the accuracy of pulse generation deteriorates.

【0018】より詳細に説明すると次の通りである。A more detailed description is as follows.

【0019】LSI試験装置などでは、パルスの発生周
期はテストパターンによって変化させる必要があるた
め、必ずしもパルスの発生周期は一定にはならない。一
方、パルス発生回路1の消費電力は、パルスの発生周期
(単位時間当たりのパルス発生間隔)と、パルスに与え
る遅延時間(遅延回路内の遅延ゲート通過時間)に比例
する。また、パルスに与える遅延時間もテストパターン
によってそれぞれ異なる。従って、LSI試験装置で
は、異なる種類のLSIを検査する場合や、同種類のL
SIであっても検査条件を変えた場合、パルス発生回路
1の消費電力は一定にならない。
In an LSI tester or the like, the pulse generation period needs to be changed according to the test pattern, so the pulse generation period is not always constant. On the other hand, the power consumption of the pulse generation circuit 1 is proportional to the pulse generation cycle (pulse generation interval per unit time) and the delay time given to the pulse (delay gate passage time in the delay circuit). The delay time given to the pulse also differs depending on the test pattern. Therefore, in the LSI test apparatus, when inspecting different types of LSIs or when the same type of L
Even with SI, if the inspection conditions are changed, the power consumption of the pulse generation circuit 1 will not be constant.

【0020】このようにパルス発生回路1の消費電力が
一定にならないと、(1)消費電力の変動に伴う電圧の
変化が出力パルスのジッタを増加させてしまう、(2)
パルス発生回路内の遅延回路を主にCMOSゲートアレ
イで構成すると、パルスの発生周期が変わって消費電力
が変動すると、回路内の温度(ジャンクション温度)が
変化し、遅延回路の伝搬遅延時間にばらつきが生じる。
これによって、パルスの発生タイミングにばらつきが生
じ、パルスの発生精度が劣化してしまうという問題が生
じる。特にCMOS回路は、その特性上、消費電力の変
動に伴う温度変化および電圧変化が要因となり、回路の
伝播遅延時間に誤差が生じやすい。
If the power consumption of the pulse generation circuit 1 is not constant in this way, (1) the change in the voltage due to the change in the power consumption increases the jitter of the output pulse, (2)
If the delay circuit in the pulse generation circuit is mainly composed of a CMOS gate array, the temperature (junction temperature) in the circuit changes when the pulse generation cycle changes and the power consumption changes, and the propagation delay time of the delay circuit varies. Occurs.
As a result, there is a problem in that the pulse generation timing varies and the pulse generation accuracy deteriorates. In particular, a CMOS circuit is likely to have an error in the propagation delay time of the circuit due to the temperature change and the voltage change due to the change in power consumption due to its characteristics.

【0021】そこで、パルス発生回路には、消費電力変
動に伴う電圧変動および、遅延回路の伝搬遅延時間ばら
つきを抑制するために、動作中の消費電力を一定にする
技術が必須となる。
Therefore, in the pulse generation circuit, a technique for making the power consumption constant during operation is indispensable in order to suppress the voltage variation due to the power consumption variation and the propagation delay time variation of the delay circuit.

【0022】この技術に関し、従来は、図21に示すよ
うに、パルス発生回路の遅延回路(第一の遅延回路)と
は別にパルス発生回路の動作中の消費電力を一定にする
ために電力消費回路(第二の遅延回路)を別途設けてい
た。
With respect to this technique, conventionally, as shown in FIG. 21, in addition to the delay circuit (first delay circuit) of the pulse generating circuit, the power consumption is kept constant in order to keep the power consumption during operation of the pulse generating circuit constant. A circuit (second delay circuit) was separately provided.

【0023】例えば、特開平8-330920号公報に
は、パルスの発生しない周期に電流補償用のパルスを生
成し、そのパルスで別途用意したダミーの電力消費回路
を駆動させることでパルス発生回路の消費電力を一定に
する方法が開示されている。
For example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-330920, a pulse for current compensation is generated in a period in which no pulse is generated, and a dummy power consumption circuit prepared separately is driven by the pulse to generate a pulse generator circuit. A method of keeping power consumption constant is disclosed.

【0024】また、特開2000-275309号公報
には、パルスの遅延時間のばらつきによって生じる消費
電力の変動を、各パルスの遅延時間の差をダミーの遅延
回路で補間し、全てのパルスの遅延時間を一定にするこ
とによって低減する方法が開示されている。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-275309, fluctuations in power consumption caused by variations in pulse delay time are interpolated by a dummy delay circuit for the difference in delay time of each pulse, and the delay of all pulses is delayed. A method of reducing by keeping the time constant is disclosed.

【0025】[0025]

【特許文献1】特開平8-330920号公報[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-330920

【0026】[0026]

【特許文献2】特開2000-275309号公報 しかし、これらの方法では、消費電力の変動や、パルス
に与える遅延時間のばらつきを低減するために、電力ま
たは遅延時間を補間するためのダミーの遅延回路(電力
消費回路)を別途用意する必要があった。これは、遅延
回路が各出力ピン毎に必要なことを考慮すると、回路全
体の消費電力を合わせるためには、各ピン毎に、本来の
遅延回路と同等の回路規模を持つダミーの遅延回路を新
たに用意しなければならず、パルス発生回路の回路規模
が増大してしまうという問題があった。
However, in these methods, in order to reduce fluctuations in power consumption and variations in delay time given to pulses, a dummy delay for interpolating power or delay time is used. It was necessary to prepare a circuit (power consumption circuit) separately. Considering that a delay circuit is required for each output pin, in order to match the power consumption of the entire circuit, a dummy delay circuit with the same circuit scale as the original delay circuit should be provided for each pin. There has been a problem that the circuit scale of the pulse generation circuit is increased because it must be newly prepared.

【0027】そこで本発明は、従来例のように大規模な
ダミーの遅延回路(電力消費回路)を増設することな
く、パルス発生回路における消費電力を一定に保ち、パ
ルス発生時間の精度を高めたパルス発生回路を提供する
ことを目的とする。
Therefore, in the present invention, the power consumption in the pulse generation circuit is kept constant and the accuracy of the pulse generation time is improved without adding a large-scale dummy delay circuit (power consumption circuit) as in the conventional example. An object is to provide a pulse generation circuit.

【0028】また、タイミング(時間)が高精度に制御
された試験波形を印加できるLSI試験装置を提供する
事を目的とする。
It is another object of the present invention to provide an LSI test apparatus which can apply a test waveform whose timing (time) is controlled with high accuracy.

【0029】また、タイミング(時間)が高精度に制御
された試験波形を用いて、高速動作する半導体装置(L
SI)を検査する半導体検査方法および製造方法を提供
することを目的とする。
Further, by using a test waveform whose timing (time) is controlled with high accuracy, a semiconductor device (L
It is an object to provide a semiconductor inspection method and a manufacturing method for inspecting (SI).

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば次の
とおりである。パルス発生回路およびそれを用いたパル
ス発生器において、本物のパルスが発生しない周期を検
出し、ダミーのパルス(以下、ダミーパルスと記述す
る)の発生を制御することができるダミーパルス制御手
段を備え、パルスの発生周期(単位時間あたりのパルス
発生間隔)を、ダミーパルスを使って調整するものであ
る。
The outline of the typical inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. The pulse generation circuit and the pulse generator using the same are provided with a dummy pulse control means capable of detecting a period in which a real pulse does not occur and controlling generation of a dummy pulse (hereinafter, referred to as a dummy pulse). The pulse generation cycle (pulse generation interval per unit time) is adjusted using a dummy pulse.

【0031】また、パルス発生回路であって、パルス発
生回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定す
る情報を有するパターンデータをもとに該パルス発生回
路から出力されるパルスの発生時間を演算するデータ演
算回路と、該パターンデータにおいてパルスが発生しな
い周期を検出し、該パルスが発生しない周期にダミーパ
ルスを発生させるダミーパルス制御回路と、該パターン
データに基づき発生されるパルスおよび該ダミーパルス
を生成するパルス生成回路と、該パルス生成回路と出力
ピンの間にあり、かつ該パルス生成回路で生成されたダ
ミーパルスを取り除くための論理ゲート回路を備えたも
のである。
Further, in the pulse generation circuit, the generation time of the pulse output from the pulse generation circuit is calculated based on the pattern data having information for determining whether or not the pulse is generated in the pulse generation circuit. Data calculation circuit, a dummy pulse control circuit for detecting a period in which a pulse is not generated in the pattern data, and generating a dummy pulse in a period in which the pulse is not generated, a pulse generated based on the pattern data, and the dummy pulse And a logic gate circuit between the pulse generation circuit and the output pin for removing the dummy pulse generated by the pulse generation circuit.

【0032】また、マスタクロックと、試験波形に関す
る情報を含んだパターンデータを生成するパターン生成
回路と、該マスタクロックと該パターンデータを受け取
り、試験波形を生成するタイミング発生回路と、該試験
波形を被試験半導体装置(LSI)に印加するドライバ
と、被試験半導体装置からの応答波形の判定を行う比較
回路と、判定された結果を記憶するフェイルメモリを有
する半導体試験装置であって、該タイミング発生回路は
試験波形の立ち上がりおよび立ち下がりのタイミングを
決定するパルスを発生するパルス発生回路と、該パルス
に基づき該試験波形を生成する波形フォーマッタを有
し、さらに該パルス発生回路は該パターンデータのなか
からパルス発生回路でパルスが発生されない周期を検出
し、該パルスが発生されない周期にダミーパルスを発生
させるダミーパルス制御回路を備えているものである。
Further, a master clock, a pattern generation circuit for generating pattern data including information on a test waveform, a timing generation circuit for receiving the master clock and the pattern data and generating a test waveform, and the test waveform A semiconductor test device having a driver applied to a semiconductor device under test (LSI), a comparison circuit for judging a response waveform from the semiconductor device under test, and a fail memory for storing the judgment result, the timing generation The circuit has a pulse generation circuit that generates a pulse that determines the rising and falling timings of the test waveform, and a waveform formatter that generates the test waveform based on the pulse, and the pulse generation circuit further includes the pattern data. Pulse generation circuit detects a period in which no pulse is generated, and the pulse is generated In which it is provided with a dummy pulse control circuit for generating a dummy pulse period not.

【0033】また、予め定められた周期ごとに、パルス
発生回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定
する情報を有するパターンデータのなかから、パルスが
発生されない周期を検出し、該パルスが発生されない周
期にダミーパルスを発生させることにより、安定した消
費電力のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置
を検査する半導体検査方法である。
Further, for each predetermined cycle, a cycle in which no pulse is generated is detected from the pattern data having information for determining whether or not to generate a pulse in the pulse generation circuit, and the pulse is generated. It is a semiconductor inspection method for inspecting a semiconductor device by using a test waveform formed under stable power consumption by generating a dummy pulse in a cycle not performed.

【0034】また、半導体ウエハに回路素子を作りこむ
工程と、該半導体ウエハ上で該回路素子の電極と外部接
続端子を電気的に接続する配線を形成する工程と、該半
導体ウエハに保護膜を形成する工程と、該半導体ウエハ
をダイシングする工程と、該半導体ウエハの状態でまた
はダイシングされ個別化された状態で半導体装置を検査
する工程を有する半導体装置の製造方法であって、該検
査工程において、予め定められた周期ごとに、パルス発
生回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定す
る情報を有するパターンデータのなかから、パルスが発
生されない周期を検出し、該パルスが発生されない周期
にダミーパルスを発生させることにより、安定した消費
電力のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置を
検査する半導体装置の製造方法である。
Further, a step of forming a circuit element on the semiconductor wafer, a step of forming a wiring for electrically connecting the electrode of the circuit element and an external connection terminal on the semiconductor wafer, and a protective film on the semiconductor wafer. What is claimed is: 1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a semiconductor wafer; dicing the semiconductor wafer; and inspecting a semiconductor device in a state of the semiconductor wafer or in a state of being diced and individualized. , Detects a cycle in which no pulse is generated from pattern data having information for determining whether or not to generate a pulse in the pulse generation circuit for each predetermined cycle, and dummy the cycle in which the pulse is not generated. By generating a pulse, a semiconductor device that inspects a semiconductor device using a test waveform formed under stable power consumption It is a method of manufacture.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を、図面
を用いて詳しく説明する。なお、発明の実施の形態を説
明するための全図において、同一機能を有するものは同
一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments of the invention, components having the same function are designated by the same reference numeral, and the repeated description thereof will be omitted.

【0036】(実施の形態1)図1に本発明を用いた一
実施例の回路構成を示す。
(Embodiment 1) FIG. 1 shows a circuit configuration of an embodiment using the present invention.

【0037】本実施例のパルス発生回路101は、マス
タクロック2と、マスタクロック2を分周または逓倍す
ることのできるクロック分周・逓倍回路4と、パターン
生成回路(図省略)からのテストパターンデータ3をも
とに出力パルスの発生時間(遅延データ9(TC、D、
A))を演算するデータ演算回路5と、パターン生成回
路からのテストパターンデータ3のなかから、パルス発
生回路101でパルスが発生されない周期(時間、期
間)を検出し、ダミーパルスの発生を制御するダミーパ
ルス制御回路103と、遅延データ(D)103-2に
基づきマスタクロックに同期したタイミングで、ダミー
パルスも含むパルスを生成するパルス生成回路102
と、遅延データ(A)103-3をもとに出力パルスを
マスタクロック周期以下の微小遅延時間で遅延させるこ
とのできるパルス遅延回路104と、パルス遅延回路1
04の出力からダミーパルスをマスクするためのAND
ゲート105で構成する。
The pulse generation circuit 101 of this embodiment includes a master clock 2, a clock division / multiplication circuit 4 capable of dividing or multiplying the master clock 2, and a test pattern from a pattern generation circuit (not shown). Generation time of output pulse based on data 3 (delay data 9 (TC, D,
A)) The data calculation circuit 5 for calculating the pattern and the test pattern data 3 from the pattern generation circuit detects the period (time, period) in which the pulse generation circuit 101 does not generate a pulse, and controls the generation of the dummy pulse. And a pulse generation circuit 102 for generating a pulse including a dummy pulse at a timing synchronized with the master clock based on the delay data (D) 103-2.
And a pulse delay circuit 104 capable of delaying an output pulse based on the delay data (A) 103-3 with a minute delay time of a master clock cycle or less, and the pulse delay circuit 1
AND for masking dummy pulse from 04 output
The gate 105 is used.

【0038】第一の実施例では、上記のような構成をと
ることにより、パルス生成回路102内での単位時間当
たりのパルスの発生数を一定にでき、これによりパルス
発生回路全体の消費電力を一定にすることができる。
In the first embodiment, the number of pulses generated per unit time in the pulse generation circuit 102 can be made constant by adopting the above-mentioned configuration, and thus the power consumption of the entire pulse generation circuit can be reduced. Can be constant.

【0039】以下、より具体的に説明する。A more specific description will be given below.

【0040】ここでは動作例として、マスタクロック2
を500MHz(2ns周期)とし、動作クロック4-
1はクロック分周・逓倍回路4にてマスタクロック2を
二分周して生成した250MHz(4ns周期)を使用
した場合のパルス発生回路101を用いて、本実施例の
説明を行う。なお、これらの周期を必要に応じて変更さ
せても良いことはいうまでもない。
Here, as an operation example, the master clock 2
Is set to 500 MHz (2 ns cycle) and operation clock 4-
The first embodiment will be described with reference to the pulse generating circuit 101 in the case of using 250 MHz (4 ns cycle) generated by dividing the master clock 2 into two by the clock dividing / multiplying circuit 4. Needless to say, these cycles may be changed as necessary.

【0041】まず、データ演算回路5は、パターン生成
回路(図省略)から動作クロック4-1に同期して送ら
れてくるテストパターンデータ3に基づき、パルスの発
生タイミングを決める遅延データ(TC)9-1と、
(D)9-2および(A)9-3を演算し、動作クロック
に同期したタイミングで出力する。データ演算回路5か
ら出力される遅延データ(TC)9-1と(D)9-2
は、ダミーパルス制御回路に送られ、遅延データ(A)
9-3も、ダミーパルス制御回路に送られる。
First, the data operation circuit 5 delays data (TC) which determines the timing of pulse generation based on the test pattern data 3 sent in synchronization with the operation clock 4-1 from a pattern generation circuit (not shown). 9-1
(D) 9-2 and (A) 9-3 are calculated and output at a timing synchronized with the operation clock. Delay data (TC) 9-1 and (D) 9-2 output from the data operation circuit 5
Is sent to the dummy pulse control circuit and the delay data (A)
9-3 is also sent to the dummy pulse control circuit.

【0042】ここで、遅延データ9(TC、D、A)は
それぞれパルスの遅延分解能が異なり、本実施例では
(TC)9-1は、動作クロック4-1の1周期を遅延単
位とした遅延データ(ここでは4ns遅延データ)であ
る。また、遅延データ(D)9-2は、マスタクロック
周期(動作クロック4-1の1/2周期)を遅延単位とし
た遅延データ(ここでは2ns遅延データとなる)を表
す。遅延データ(A)9-3は、マスタクロック周期
(動作クロック4-1の1/2周期)未満の微小遅延デー
タ(ここでは2ns未満遅延データ)を表している。こ
こで、遅延データ(D)9-2の遅延単位は遅延データ
(TC)9-1の遅延分解能よりも小さい。
Here, the delay data 9 (TC, D, A) have different pulse delay resolutions. In this embodiment, (TC) 9-1 uses one cycle of the operation clock 4-1 as a delay unit. It is delay data (here, 4 ns delay data). The delay data (D) 9-2 represents delay data (here, 2 ns delay data) in which the master clock cycle (1/2 cycle of the operation clock 4-1) is used as a delay unit. The delay data (A) 9-3 represents minute delay data (here, delay data of less than 2 ns) shorter than the master clock cycle (1/2 cycle of the operation clock 4-1). Here, the delay unit of the delay data (D) 9-2 is smaller than the delay resolution of the delay data (TC) 9-1.

【0043】次に、ダミーパルス制御回路103の構成
を図2に示す。ダミーパルス制御回路103は、データ
演算回路5から送られてくる遅延データ(TC)9-1
が"0"、すなわちパルス発生回路101内において本物
のパルスが発生しない周期(LSIに印加する試験波形
を生成するうえで、本来パルス発生回路101でパルス
を発生する必要がない期間)を検出し、その周期(時
間、期間)にダミーパルスを発生するように、遅延デー
タ(D)9-2、(A)9-3を制御する回路である。
Next, the configuration of the dummy pulse control circuit 103 is shown in FIG. The dummy pulse control circuit 103 uses the delay data (TC) 9-1 sent from the data operation circuit 5
Is "0", that is, a cycle in which a real pulse is not generated in the pulse generation circuit 101 (a period in which the pulse generation circuit 101 does not originally need to generate a pulse to generate a test waveform to be applied to the LSI) is detected. , A circuit which controls the delay data (D) 9-2 and (A) 9-3 so as to generate a dummy pulse in the cycle (time, period).

【0044】なお、本物のパルスとは、パターン生成回
路からのテストパターンデータ3に基づいてパルス発生
回路101で発生されるパルス(パターン生成回路から
のテストパターンデータ3に基づいてパルス生成回路1
02で生成されるパルス)のことをいい、ダミーパルス
とはパターン生成回路からのテストパターンデータ3か
らはパルス発生回路101でパルスを発生する必要はな
いが、パルス発生回路101全体の消費電力を一定等に
するためにパルス生成回路102で生成されるパルスの
ことをいう。
The real pulse means a pulse generated by the pulse generation circuit 101 based on the test pattern data 3 from the pattern generation circuit (the pulse generation circuit 1 based on the test pattern data 3 from the pattern generation circuit 1).
The pulse generated by the pulse generation circuit 101 does not need to be generated by the pulse generation circuit 101 from the test pattern data 3 from the pattern generation circuit. A pulse generated by the pulse generation circuit 102 in order to make it constant or the like.

【0045】ダミーパルス制御回路103は、遅延デー
タ9を一度ラッチするためのFF109〜111と、遅
延データ9からダミーパルスの出力を制御する論理ゲー
ト群108、および112〜113と、遅延データ(T
C)9-1をダミーパルスのマスク信号としてダミーパ
ルスに同期して出力するためのFIFOm106および
FFmsk107で構成される。
The dummy pulse control circuit 103 includes FFs 109 to 111 for latching the delay data 9 once, logic gate groups 108 and 112 to 113 for controlling the output of the dummy pulse from the delay data 9, and the delay data (T
C) It is composed of a FIFO m106 and an FFmsk 107 for outputting 9-1 as a mask signal of the dummy pulse in synchronization with the dummy pulse.

【0046】図2に示す回路では、各遅延データの経路
に設けたFF109〜111でパイプライン構成となっ
ており、FFの出力データが現在の周期(4ns)にお
ける遅延データとなり、FFでラッチする前のデータ
が、次の4ns(周期)における遅延データを示してい
る。ダミーパルス制御回路103では、このFFでラッ
チする前の遅延データ(TC)および(D)から、次の
周期にパルスが発生するか、発生しないかの判断を行
い、ダミーパルスの発生を制御する。これにより、ダミ
ーパルスを発生させるか、させないかを判断する時点
で、その判断すべき周期に本物のパルスがあるかないか
を判断できるので、パルス生成回路102内での単位時
間当たりのパルスの発生数を一定にできる。
In the circuit shown in FIG. 2, the FFs 109 to 111 provided in the respective delay data paths have a pipeline structure, and the output data of the FF becomes the delay data in the current cycle (4 ns) and is latched by the FF. The previous data shows the delay data in the next 4 ns (cycle). The dummy pulse control circuit 103 determines whether or not a pulse will be generated in the next cycle from the delay data (TC) and (D) before being latched by the FF, and controls the generation of the dummy pulse. . Accordingly, at the time of determining whether or not to generate the dummy pulse, it is possible to determine whether or not there is a real pulse in the period to be determined, so that the pulse generation circuit 102 generates a pulse per unit time. The number can be constant.

【0047】なお、次の周期に発生させるダミーパルス
の遅延量は、現在の周期に発生しているパルスにつなが
らないように、現在の周期の遅延データによって決定さ
れることが望ましい。具体的にいうと、現在の周期にあ
る本物のパルスと次の周期にある(発生させるべき)ダ
ミーパルスが連続すると、本物のパルスまたはダミーパ
ルスが微妙にずれた場合には本物のパルスとダミーパル
スと結合した形となる。2つのパルスがつながって一つ
のパルスとなる(見かけ上見える)場合、パルス生成回
路で本来生成すべきパルスが正確に生成されないという
問題が生じるからである。AND113は、現在の周期
に発生しているパルスの2ns遅延データが1のとき、
次の周期に発生させるパルスの2ns遅延データも1と
なるよう動作する。また、ダミーパルスの2ns未満遅
延データは、常に0となるよう、AND112で制御さ
れる(図5参照)。
The delay amount of the dummy pulse generated in the next cycle is preferably determined by the delay data of the current cycle so as not to connect to the pulse generated in the current cycle. Specifically, when a real pulse in the current cycle and a dummy pulse in the next cycle (to be generated) continue, the real pulse and the dummy pulse are slightly deviated from each other. It becomes the form combined with the pulse. This is because when two pulses are connected to form one pulse (apparently visible), the pulse generation circuit may not accurately generate the pulse that should be generated. AND113, when the 2ns delay data of the pulse occurring in the current cycle is 1,
The 2 ns delay data of the pulse generated in the next cycle is also set to 1. Further, the delay data of the dummy pulse less than 2 ns is controlled by the AND 112 so that it is always 0 (see FIG. 5).

【0048】ここで、図2に示したダミーパルス制御回
路103の論理回路構成は、単位時間当たりのパルス発
生数が一定となる論理であれば、ダミーパルスに与える
遅延時間設定(図2では0nsもしくは2ns)も含
め、これに限定されない。
Here, the logic circuit configuration of the dummy pulse control circuit 103 shown in FIG. 2 is a delay time setting (0 ns in FIG. 2) given to the dummy pulse if the logic is such that the number of pulses generated per unit time is constant. Alternatively, it is not limited to this, including 2 ns).

【0049】また、ダミーパルス制御回路103では、
パルス発生回路101の最終段でダミーパルスをマスク
する(ダミーパルスを取り除く)ためのマスク信号10
3-1を生成する。ダミーパルスマスク信号MSK10
3-1とは、すなわち本物のパルス発生タイミングを示
すデータであり、図2では遅延データ(TC)9-1を
使用する。但し、ダミーパルスを適切なタイミングで発
生させるため、遅延データ(TC)9-1とダミーパル
スマスク信号MSK103-1のタイミングはずれてし
まう。すなわち、パルス生成回路102およびパルス遅
延回路104から出力されるパルス(ダミーパルスを含
んでいる)とマスク信号は非同期となるために、これら
を同期させる手段が必要となる。図2では、FIFO
(バッファ)を利用し、動作クロック周期でFIFOm
106に書き込んだ遅延データ(TC)9-1を、パル
ス遅延回路104から出力されるひとつ前の周期のパル
スを利用し、立ち下がりのタイミングをリードクロック
としてFIFOm106から読み出すことによって、出
力パルスに同期したマスク信号を生成している。
In the dummy pulse control circuit 103,
Mask signal 10 for masking the dummy pulse (removing the dummy pulse) at the final stage of the pulse generation circuit 101.
Generate 3-1. Dummy pulse mask signal MSK10
3-1 is data indicating the actual pulse generation timing, and delay data (TC) 9-1 is used in FIG. However, since the dummy pulse is generated at an appropriate timing, the delay data (TC) 9-1 and the dummy pulse mask signal MSK103-1 are out of timing. That is, since the pulse (including the dummy pulse) output from the pulse generation circuit 102 and the pulse delay circuit 104 and the mask signal are asynchronous, means for synchronizing them is required. In FIG. 2, the FIFO
(Buffer) is used and FIFOm
The delay data (TC) 9-1 written in 106 is synchronized with the output pulse by using the pulse of the previous cycle output from the pulse delay circuit 104 and reading the falling timing from the FIFOm 106 as the read clock. The generated mask signal is generated.

【0050】次に、図3を用いてパルス生成回路102
の制御動作を説明する。
Next, the pulse generation circuit 102 will be described with reference to FIG.
The control operation of will be described.

【0051】パルス生成回路102では、マスタクロッ
ク2(ここでは2ns周期)を動作クロックとして使用
することによって、2ns単位でパルスを遅延させるこ
とができる。
In the pulse generation circuit 102, by using the master clock 2 (here, 2 ns cycle) as the operation clock, the pulse can be delayed in units of 2 ns.

【0052】図3では、2ns遅延データ(D)103
-2をFFd114にてマスタクロック2に同期してラ
ッチし、次段の選択回路の選択信号として使用する。遅
延データ(D)103-2が"0"のときは、FFd11
4の出力をFF1(117)側へ、"1"のときはFF2
(118)側へ出力する。FF1(117)およびFF
2(118)は、それぞれ送られてきたパルスをラッチ
して、FF2(118)はさらに次段のFF2'(11
9)へパルスを出力する。すなわち、2ns遅延データ
(D)103-2が"1"であれば、マスタクロック2
(2ns周期)で動作するフリップフロップを一段多く
通過するため、入力されたパルスを2ns遅延させて出
力することができる。
In FIG. 3, 2 ns delayed data (D) 103
-2 is latched by the FFd 114 in synchronization with the master clock 2 and used as a selection signal for the selection circuit in the next stage. When the delay data (D) 103-2 is "0", FFd11
4 output to FF1 (117) side, FF2 when "1"
Output to the (118) side. FF1 (117) and FF
2 (118) latches the pulse respectively sent, and FF2 (118) further FF2 '(11
Output pulse to 9). That is, if the 2 ns delay data (D) 103-2 is "1", the master clock 2
Since one more stage passes through the flip-flops operating in (2 ns cycle), the input pulse can be delayed by 2 ns and output.

【0053】また、図3に示すパルス生成回路102で
は、出力パルスのパルス幅を縮めるために、FF1(1
17)およびFF2'(119)の出力を、次段のOR
ゲート(120)を介してFFor121にてラッチ
し、マスタクロック2と、マスタクロック2のネガティ
ブエッジで一度ラッチしたFFor121の出力とでA
ND処理(As122)を行っている。
Further, in the pulse generation circuit 102 shown in FIG. 3, in order to reduce the pulse width of the output pulse, FF1 (1
17) and the output of FF2 '(119), the OR of the next stage
The master clock 2 is latched by the FFor 121 via the gate (120), and the master clock 2 and the output of the FFor 121 latched once at the negative edge of the master clock 2
The ND process (As122) is being performed.

【0054】次に、パルス遅延回路104では、パルス
生成回路102で生成されたパルスを、2ns未満遅延
データ(A)103-3をもとにマスタクロック周期
(2ns)以下の微小時間で遅延させることができる。
Next, in the pulse delay circuit 104, the pulse generated by the pulse generation circuit 102 is delayed by a minute time of 2 ns or less of the master clock period based on the delay data (A) 103-3 of less than 2 ns. be able to.

【0055】図4を用いてパルス遅延回路104の動作
について説明する。パルス遅延回路104は、主に、遅
延回路30と、非同期の遅延データ(A)103-3を
出力パルスに同期して読み出すためのFIFO31およ
び、リード用FF32で構成される。
The operation of the pulse delay circuit 104 will be described with reference to FIG. The pulse delay circuit 104 mainly includes a delay circuit 30, a FIFO 31 for reading asynchronous delayed data (A) 103-3 in synchronization with an output pulse, and a read FF 32.

【0056】まず、2ns未満遅延データ(A)103
-3は動作クロック4-1に同期してFIFO31へ書き
込まれ格納される。書き込まれた遅延データ(A)10
3-3は、パルス遅延回路104を通過した一つ前の周
期の、出力パルス104-1の立ち下がりエッジをトリ
ガにして、FIFO31から読み出され、遅延回路30
に入力される。
First, delay data (A) 103 of less than 2 ns
-3 is written and stored in the FIFO 31 in synchronization with the operation clock 4-1. Written delay data (A) 10
3-3 is read from the FIFO 31 by using the falling edge of the output pulse 104-1 of the immediately preceding cycle which has passed through the pulse delay circuit 104 as a trigger, and the delay circuit 30-3.
Entered in.

【0057】遅延回路30は図19のように、インバー
タ等で構成された遅延素子群34および、パルスの経路
を選択する選択回路33で構成されており、遅延データ
(A)9-3によってパルスの通過する経路が選択さ
れ、パルスの遅延量が決まる。
As shown in FIG. 19, the delay circuit 30 is composed of a delay element group 34 composed of inverters and the like and a selection circuit 33 for selecting a pulse path. Is selected and the delay amount of the pulse is determined.

【0058】図19の例では、遅延データが"1"のと
き、入力された内部パルス6-1は遅延素子群34(遅
延量Ans)を持つ、遅延時間の長い側の経路を通過す
るため、配線遅延を無視すると、パルスはAns後に出
力されることになる。遅延データが"0"のときは遅延素
子群34を持たない遅延時間の短い側の経路を通過する
ため、パルスは0ns後に出力される。
In the example of FIG. 19, when the delay data is "1", the input internal pulse 6-1 passes through the path having the delay element group 34 (delay amount Ans) and having the long delay time. If the wiring delay is ignored, the pulse will be output after Ans. When the delay data is "0", the pulse passes through the path having the short delay time without the delay element group 34, so that the pulse is output after 0 ns.

【0059】図4では、パルス遅延回路104を1回路
しか示していないが、これらパルス遅延回路104を多
段構成とし、遅延経路(遅延時間)の組み合わせを増や
すことにより、遅延の可変幅を増やすことはもちろんの
こと、詳細なパルス遅延を設定することも可能である。
Although only one pulse delay circuit 104 is shown in FIG. 4, the pulse delay circuit 104 has a multi-stage configuration and the number of combinations of delay paths (delay times) is increased to increase the variable width of the delay. Of course, it is also possible to set a detailed pulse delay.

【0060】図5に、パルス発生回路内の各回路部にお
ける動作タイミングを示す。
FIG. 5 shows the operation timing in each circuit section in the pulse generation circuit.

【0061】図5のタイミングチャートでは、本実施例
のパルス発生回路において、ダミーパルス制御回路で制
御されるダミーパルス用の遅延データから、ダミーパル
スが生成される経過を示している。ダミーパルスを発生
させることにより、パルス生成回路の出力パルスは、常
に4nsの間に1発のパルスを発生することになるた
め、単位時間あたりの消費電力が常に一定になることが
わかる。
The timing chart of FIG. 5 shows the process of generating the dummy pulse from the delay data for the dummy pulse controlled by the dummy pulse control circuit in the pulse generation circuit of this embodiment. By generating the dummy pulse, the output pulse of the pulse generation circuit always generates one pulse in 4 ns, and it is understood that the power consumption per unit time is always constant.

【0062】以上のように、本実施例では、本物のパル
スが発生しない周期を検出し、その周期にダミーパルス
を発生させるダミーパルス制御回路103によって、単
位時間(本実施例では動作クロック周期4ns)あたり
のパルス発生を制御し、単位時間あたりの消費電力を常
に一定にすることができる。
As described above, in the present embodiment, the dummy pulse control circuit 103 that detects a period in which a real pulse does not occur and generates a dummy pulse in that period is used for a unit time (operation clock period 4 ns in this embodiment). The pulse generation per unit time can be controlled so that the power consumption per unit time can be kept constant.

【0063】また、ダミーパルスを本物のパルスと同じ
遅延回路を通過させる構成とすることで、特別な電力消
費回路を別途設ける必要はなく、小型化のまま消費電力
の安定化を実現できる。
Further, by making the dummy pulse pass through the same delay circuit as the real pulse, it is not necessary to separately provide a special power consumption circuit, and the power consumption can be stabilized while the size is reduced.

【0064】また、パルス発生回路101の消費電力を
一定にすることができるため、電圧変動および回路内の
温度変化を抑制し、パルス発生時間の精度を高めた新た
なパルス発生回路を提供することができる。
Further, since the power consumption of the pulse generation circuit 101 can be made constant, a new pulse generation circuit which suppresses voltage fluctuations and temperature changes in the circuit and improves the accuracy of pulse generation time is provided. You can

【0065】(実施の形態2)次に、本発明の第2の実
施形態について図6〜11を用いて説明する。本発明の
パルス発生回路201は、マスタクロック2とマスタク
ロックを分周または逓倍することのできるクロック分周
・逓倍回路4と、パターン生成回路(図省略)からのテ
ストパターンデータ3をもとに出力パルスの発生時間
(遅延データ9(TC、D、A))を演算するデータ演
算回路5と、パルスが発生しない周期を検出し、パルス
が発生しない時間によって少なくとも1種類以上のダミ
ーパルスの発生を制御するダミーパルス制御回路203
と、ダミーパルス制御回路203からの出力データ(遅
延データ(TC)203-1,203-3、(D)203-
2,203-4)に基づいて、少なくとも1種類以上のダ
ミーパルスおよび本物のパルスを生成するパルス生成回
路202と、遅延データ(A)203-5をもとに出力
パルスをマスタクロック周期以下の微小時間で遅延させ
ることができ、また、ダミーパルスの種類によってパル
スが通過する遅延回路の段数を調整する(パルスの消費
電力を調整する)手段を持つパルス遅延回路206と、
パルス遅延回路の出力からダミーパルスをマスクするた
めのANDゲート212で構成される。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The pulse generation circuit 201 of the present invention is based on a master clock 2, a clock division / multiplication circuit 4 capable of dividing or multiplying the master clock, and test pattern data 3 from a pattern generation circuit (not shown). A data operation circuit 5 for calculating the output pulse generation time (delay data 9 (TC, D, A)) and a period in which no pulse is generated, and at least one type of dummy pulse is generated depending on the time in which no pulse is generated. Pulse control circuit 203 for controlling
And output data from the dummy pulse control circuit 203 (delay data (TC) 203-1, 203-3, (D) 203-
2, 203-4), a pulse generation circuit 202 for generating at least one kind of dummy pulse and a real pulse, and an output pulse based on the delay data (A) 203-5 with a master clock cycle or less. A pulse delay circuit 206 having means for adjusting the number of stages of the delay circuit through which the pulse passes (adjusting the power consumption of the pulse), which is capable of delaying in a minute time, and which depends on the type of dummy pulse;
It is composed of an AND gate 212 for masking the dummy pulse from the output of the pulse delay circuit.

【0066】ここでは動作例として、マスタクロックを
500MHz(2ns周期)とし、動作クロック4-1
はクロック分周・逓倍回路4にてマスタクロックを分周
して生成した250MHz(4ns周期)を使用する場
合のパルス発生回路201について説明を行う。
As an operation example, the master clock is set to 500 MHz (2 ns cycle) and the operation clock 4-1 is used.
The pulse generation circuit 201 in the case of using 250 MHz (4 ns cycle) generated by dividing the master clock by the clock division / multiplication circuit 4 will be described.

【0067】まず、実施例1で説明したパルス発生回路
の場合、本物のパルスがいかなる周期で発生している場
合でも、単位時間(動作クロック周期)あたりのパルス
発生数は一定となるため、動作クロック周期あたりの消
費電力は一定にすることができる。但し、図6の波形2
33に示すように、例えば本物のパルス232が14n
sで発生する場合に、パルスの発生間隔が4nsになら
ない時間(丸で囲んだ地点)が生じてしまい、もっと短
い単位時間(例えば2ns)あたりの消費電力は一定に
ならない。
First, in the pulse generation circuit described in the first embodiment, the number of pulses generated per unit time (operation clock cycle) is constant regardless of the period in which the real pulse is generated. The power consumption per clock cycle can be made constant. However, the waveform 2 in FIG.
33, for example, a real pulse 232 is 14n
When it occurs in s, a time (circled point) where the pulse generation interval is not 4 ns occurs, and the power consumption per shorter unit time (for example, 2 ns) is not constant.

【0068】そこで、本実施例(第二の実施例)では、
ダミーパルス制御回路203において、現在の周期にお
けるパルス出力の有無と、その次の周期のパルス遅延デ
ータおよび、さらにその次の周期のパルス遅延データか
ら、パルスの発生していない時間(パルス間隔)を検出
し、下記に示す条件で2種類のダミーパルスの出力を制
御することによって、2ns(マスタクロック周期)あ
たりの消費電力を一定にする。 (条件1) 前後のパルス間隔 t が8ns(動作クロ
ック2周期分)以上空いている場合(t≧8ns) → 動作1 前のパルスから4ns後のタイミングに消
費電力"1"のダミーパルス(1)を発生させる (条件2) 前後のパルス間隔 t が6ns〜8ns以
下の場合(6ns≦t<8ns) → 動作2 前のパルスから4ns後のタイミングに消
費電力"0.5"のダミーパルス(2)を発生させる (条件3) 前後のパルス間隔 t が6ns以下の場合 → 動作3 ダミーパルスは発生させない 例として、動作クロック4-1が250MHz(4ns
周期)のパルス発生回路において、4nsに1発のパル
スが発生したときの消費電力を"1"とすると、6ns周
期のような間隔でパルスが発生している場合、1発のパ
ルスは"1.5"相当の電力を消費しなければ、単位時間
当たりの消費電力は一定にならない。
Therefore, in this embodiment (second embodiment),
In the dummy pulse control circuit 203, the time (pulse interval) in which no pulse is generated is determined from the presence / absence of pulse output in the current cycle, the pulse delay data in the next cycle, and the pulse delay data in the next cycle. By detecting and controlling the output of two types of dummy pulses under the conditions shown below, the power consumption per 2 ns (master clock cycle) is made constant. (Condition 1) When the pulse interval t before and after is 8 ns (two operation clock cycles) or more (t ≧ 8 ns) → a dummy pulse (1) with power consumption "1" at a timing 4 ns after the pulse before the operation 1 ) Is generated (condition 2) When the pulse interval t before and after is 6 ns to 8 ns or less (6 ns ≦ t <8 ns) → operation 2 A dummy pulse of power consumption “0.5” (4 ns after the pulse before the operation 2) 2) is generated (Condition 3) When the pulse interval t before and after is 6 ns or less → Operation 3 As an example in which the dummy pulse is not generated, the operation clock 4-1 is 250 MHz (4 ns
In the pulse generation circuit of (cycle), if the power consumption when one pulse is generated in 4 ns is "1", one pulse is "1" when the pulses are generated at intervals such as a 6 ns cycle. If the power equivalent to .5 "is not consumed, the power consumption per unit time will not be constant.

【0069】そこで、ダミーパルス制御回路203は、
前のパルスから4ns後のタイミングに、"0.5"の消
費電力を持ったダミーパルス(2)を発生させ、ダミー
パルス(1)が負担できない残りの2ns分の電力消費
を補うことによって、単位時間当たり(マスタクロック
2ns周期)の消費電力を一定にする。
Therefore, the dummy pulse control circuit 203
By generating a dummy pulse (2) having a power consumption of "0.5" at a timing 4 ns after the previous pulse and compensating for the remaining power consumption of 2 ns that the dummy pulse (1) cannot bear, The power consumption per unit time (master clock 2 ns cycle) is kept constant.

【0070】ここで、ダミーパルス(2)は、図9に示
すように、パルス遅延回路を1/2に分割し、後半の遅
延回路だけを通過させることによって"0.5"の消費電
力を実現している。
Here, as shown in FIG. 9, the dummy pulse (2) divides the pulse delay circuit into halves and passes only the latter half of the delay circuit, so that the power consumption of "0.5" is obtained. Has been realized.

【0071】図7〜8を用いてダミーパルス制御回路2
03の構成を示す。
A dummy pulse control circuit 2 will be described with reference to FIGS.
The structure of No. 03 is shown.

【0072】ダミーパルス制御回路203は、遅延デー
タ9をもとにダミーパルス(1)および(2)の発生を
制御するダミーパルス制御部207および、ダミーパル
スマスク信号MSK203-6を出力するためのFIF
Omsk209およびFFmsk210で構成されてお
り、データ演算回路5から送られてくる遅延データ9を
動作クロック4-1に同期して転送し、ダミーパルス制
御部207にて本物のパルスおよびダミーパルス
(1)、(2)の遅延データを生成する。
The dummy pulse control circuit 203 outputs the dummy pulse control section 207 for controlling the generation of the dummy pulses (1) and (2) based on the delay data 9 and the dummy pulse mask signal MSK203-6. FIF
It is composed of Omsk 209 and FFmsk 210, and transfers the delay data 9 sent from the data operation circuit 5 in synchronization with the operation clock 4-1 and the dummy pulse control unit 207 generates a real pulse and a dummy pulse (1). , (2) delay data is generated.

【0073】ここで、ダミーパルス制御部207におけ
るダミーパルスの出力制御について図8および図20を
用いて説明する。
Here, the output control of the dummy pulse in the dummy pulse control section 207 will be described with reference to FIGS. 8 and 20.

【0074】ダミーパルス制御部207は、FF213
〜220を用いて2段のパイプライン構成となってお
り、各遅延データの転送を行っている。ここで、FF2
16〜218にラッチされた出力は現在の周期の遅延デ
ータを示している。また、FF213〜215とFF2
16〜FF218間の遅延データは、次の周期の遅延デ
ータを示し、FF213〜215にラッチされる前の遅
延データはさらに次の周期の遅延データを示している。
The dummy pulse control unit 207 has the FF 213.
Up to 220 are used to form a two-stage pipeline configuration, and each delay data is transferred. Where FF2
The outputs latched in 16 to 218 represent the delay data of the current cycle. In addition, FF213-215 and FF2
The delay data between 16 and FF218 shows the delay data of the next cycle, and the delay data before being latched by FF213-215 shows the delay data of the next cycle.

【0075】ダミーパルス制御部207では、これらの
遅延データから、ダミーパルスを発生させるか、また、
どの種類のダミーパルスを発生させるかの制御を行うこ
とができる。
The dummy pulse control section 207 generates a dummy pulse from these delay data,
It is possible to control which kind of dummy pulse is generated.

【0076】本実施例におけるダミーパルス制御部20
7では、2種類のダミーパルスを発生させることができ
る。
Dummy pulse control unit 20 in this embodiment
In 7, it is possible to generate two types of dummy pulses.

【0077】各ダミーパルスの発生条件は、次に挙げる
5条件が存在し、図8および図12に示す真理値表を用
いて説明する。
The conditions for generating each dummy pulse include the following five conditions, which will be described with reference to the truth table shown in FIGS. 8 and 12.

【0078】図12におけるパルスの記号は、"P"が通
常のパルスを表し、"D"がダミーパルス(1)を、"
D'"はダミーパルス(2)を表している。また、各記号
の下付き数字"0"と"2"は、そのパルスの2ns遅延デ
ータの有無を示している。
In the pulse symbols in FIG. 12, "P" represents a normal pulse, "D" represents a dummy pulse (1), and "D" represents a dummy pulse (1).
D '"represents a dummy pulse (2), and the subscript numbers" 0 "and" 2 "of each symbol indicate the presence or absence of 2 ns delay data of the pulse.

【0079】まず、ダミーパルス(1)の発生条件につ
いて説明する。 [1]現在の周期に発生しているパルスの2ns遅延デ
ータが"0"で、かつ、次の周期の4ns遅延データが"
0"の場合、現在の周期のパルスから8ns以上パルス
が発生しないことがわかる。よって、AND221に
て、次の周期にダミーパルス(1)(2ns遅延無し)
の遅延データを発生させる(図12(a)参照)。 [2]現在の周期に発生しているパルスの2ns遅延デ
ータが"1"で、かつ、次の周期、およびさらに次の周期
の4ns遅延データが"0"の場合、現在の周期のパルス
から8ns以上パルスが発生しないことがわかる。よっ
て、AND223にて、次の周期にダミーパルス(1)
(2ns遅延有り)の遅延データを発生させる(図12
(b)参照)。 [3]現在の周期に発生しているパルスの2ns遅延デ
ータが"1"で、かつ、次の周期の4ns遅延データが"
0"、かつ、さらに次の周期の4ns遅延データおよび
2ns遅延データが"1の場合、現在の周期のパルスか
ら次のパルスまで、8nsの間隔が空いていることがわ
かる。よって、AND224にて、次の周期にダミーパ
ルス(1)(2ns遅延有り)の遅延データを発生させ
る(図12(c)参照)。
First, the conditions for generating the dummy pulse (1) will be described. [1] The 2 ns delay data of the pulse generated in the current cycle is "0", and the 4 ns delay data of the next cycle is "
In the case of 0 ", it is understood that no pulse is generated for 8 ns or more from the pulse of the current cycle. Therefore, the AND 221 outputs the dummy pulse (1) (no 2 ns delay) in the next cycle.
The delay data is generated (see FIG. 12A). [2] When the 2 ns delay data of the pulse generated in the current cycle is "1" and the 4 ns delay data of the next cycle and the next cycle is "0", the pulse of the current cycle It can be seen that no pulse is generated for 8 ns or longer. Therefore, the AND 223 causes the dummy pulse (1) in the next cycle.
Delay data (with 2 ns delay) is generated (see FIG. 12).
(See (b)). [3] The 2 ns delay data of the pulse generated in the current cycle is "1" and the 4 ns delay data of the next cycle is "1".
When 0 "and the 4 ns delay data and the 2 ns delay data of the next cycle are" 1 ", it can be seen that there is an interval of 8 ns from the pulse of the current cycle to the next pulse. Therefore, the AND 224 generates the delay data of the dummy pulse (1) (with a delay of 2 ns) in the next cycle (see FIG. 12C).

【0080】次に、ダミーパルス(2)の発生条件につ
いて説明する。 [4]現在の周期に発生しているパルスの2ns遅延デ
ータが"0"で、かつ、次の周期の4ns遅延データおよ
び2ns遅延データが"1"の場合、現在の周期のパルス
から次のパルスまで6nsの間隔が空いていることがわ
かる。よって、AND228にて、現在の周期のパルス
から4ns後に、消費電力"0.5"のダミーパルス
(2)(2ns遅延無し)の遅延データを発生させる
(図12(d)参照)。 [5]現在の周期に発生しているパルスの2ns遅延デ
ータが"1"で、かつ、次の周期の4ns遅延データが"
0で、かつ、さらに次の周期の4ns遅延データが"
1"、2ns遅延データが"0"の場合、現在の周期のパ
ルスから次のパルスまで6nsの間隔が空いていること
がわかる。よって、AND229にて、現在の周期のパ
ルスから4ns後に、消費電力"0.5"のダミーパルス
(2)(2ns遅延有り)の遅延データを発生させる
(図12(e)参照)。
Next, the conditions for generating the dummy pulse (2) will be described. [4] If the 2 ns delay data of the pulse generated in the current cycle is "0" and the 4 ns delay data and the 2 ns delay data of the next cycle are "1", the pulse of the current cycle It can be seen that there is a 6 ns interval before the pulse. Therefore, the AND 228 generates the delay data of the dummy pulse (2) of power consumption "0.5" (no 2 ns delay) 4 ns after the pulse of the current cycle (see FIG. 12 (d)). [5] The 2 ns delay data of the pulse generated in the current cycle is "1" and the 4 ns delay data of the next cycle is "1".
0 and the 4ns delay data of the next cycle is "
When the delay data of 1 "and 2 ns is" 0 ", it can be seen that there is a 6 ns interval from the pulse of the current cycle to the next pulse. Delay data of a dummy pulse (2) of power "0.5" (with 2 ns delay) is generated (see FIG. 12 (e)).

【0081】また、遅延データ(A)203-5につい
ては、ダミーパルスが発生する周期では"0"となるよう
AND225で制御される。
Further, the delay data (A) 203-5 is controlled by the AND 225 so that it becomes "0" in the period in which the dummy pulse is generated.

【0082】ここで、ダミーパルス制御回路203は、
上記動作を実現する回路であることが条件であり、これ
を実現する回路は図8に示す論理回路に限定されない。
Here, the dummy pulse control circuit 203 is
The condition is that it is a circuit that realizes the above operation, and the circuit that realizes the above operation is not limited to the logic circuit shown in FIG.

【0083】図10にパルス生成回路202の構成を示
す。
FIG. 10 shows the configuration of the pulse generation circuit 202.

【0084】パルス生成回路202は、ダミーパルス制
御回路203から、通常パルス&ダミーパルス(1)の
遅延データおよび、ダミーパルス(2)の遅延データを
受け取り、通常パルス&ダミーパルス(1)と、ダミー
パルス(2)を生成するための回路であり、パルス生成
回路自体の構成は、図16で説明したパルス生成回路6
と同じ動作を行うものであり、遅延データ(TC、D)
に基づいたパルスを発生させることができる。
The pulse generation circuit 202 receives the delay data of the normal pulse & dummy pulse (1) and the delay data of the dummy pulse (2) from the dummy pulse control circuit 203, and receives the normal pulse & dummy pulse (1), This is a circuit for generating the dummy pulse (2), and the configuration of the pulse generation circuit itself is the pulse generation circuit 6 described in FIG.
It performs the same operation as, and delay data (TC, D)
Pulse can be generated based on

【0085】以上のように、本実施例では、動作クロッ
ク周期(動作クロック単位時間)あたりのパルス制御で
は電力の消費を補えない時間帯であっても、消費電力を
調整した第二のダミーパルスを発生させることによっ
て、パルス発生回路の消費電力を一定に保つことができ
る。
As described above, in the present embodiment, the second dummy pulse whose power consumption is adjusted is used even in the time zone in which the power consumption cannot be supplemented by the pulse control per operation clock cycle (operation clock unit time). Is generated, the power consumption of the pulse generating circuit can be kept constant.

【0086】また、パルス発生回路201の消費電力を
一定にすることができるため、電圧変動および回路内の
温度変化を抑制し、パルス発生時間の精度を高めた新た
なパルス発生回路を提供することができる。
Further, since the power consumption of the pulse generating circuit 201 can be made constant, it is possible to suppress a voltage fluctuation and a temperature change in the circuit, and to provide a new pulse generating circuit with improved accuracy of pulse generation time. You can

【0087】(実施の形態3)次に、本発明の第3の実
施形態について説明する。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described.

【0088】パルス発生回路101におけるパルス遅延
回路104では、パルス生成回路102で生成されたパ
ルスを、遅延データ(A)103-3をもとにマスタク
ロック周期以下の微少遅延時間で遅延させることができ
る。従来のパルス遅延回路104の構成および動作は図
4に示したとおりである。
In the pulse delay circuit 104 of the pulse generation circuit 101, the pulse generated by the pulse generation circuit 102 can be delayed with a minute delay time of the master clock period or less based on the delay data (A) 103-3. it can. The configuration and operation of the conventional pulse delay circuit 104 are as shown in FIG.

【0089】ここで、本実施例における遅延回路301
の回路構成について、図13を用いて説明する。
Here, the delay circuit 301 in the present embodiment.
The circuit configuration of will be described with reference to FIG.

【0090】遅延回路301は、少なくとも1個以上の
インバータ等の遅延素子で構成された遅延素子群304
と、遅延素子群304の素子数(=パルスの伝搬遅延時
間)が異なる少なくとも2経路以上の遅延経路を有して
おり、どの遅延経路を通過させるのかを選択する選択回
路305を遅延素子群304の後段に配置した構成にな
っている。
The delay circuit 301 comprises a delay element group 304 composed of at least one delay element such as an inverter.
And the delay element group 304 has at least two or more delay paths having different numbers of elements (= pulse propagation delay time), and the delay element group 304 is provided with a selection circuit 305 for selecting which delay path is to be passed. It is arranged in the latter stage.

【0091】これにより、本遅延回路では、遅延データ
(A)303がどの遅延経路を選択するのかに関係な
く、入力パルス302は、すべての経路の、すべての遅
延素子を通過するため、その時の消費電力は一定とな
る。
As a result, in this delay circuit, the input pulse 302 passes through all delay elements of all paths regardless of which delay path is selected by the delay data (A) 303. The power consumption is constant.

【0092】このように選択される遅延経路に関係なく
消費電力が一定となる遅延回路301を、第一の実施例
で説明したパルス発生回路101のパルス遅延回路内に
用いることにより、設定する遅延時間の変化に伴う消費
電力の変動を抑制し、パルス発生回路内の消費電力を一
定に保つことができるため、さらに高精度なパルス発生
回路が実現できる。
By using the delay circuit 301 whose power consumption is constant irrespective of the delay path thus selected in the pulse delay circuit of the pulse generation circuit 101 described in the first embodiment, the delay to be set is set. Since it is possible to suppress the fluctuation of the power consumption due to the change of time and keep the power consumption in the pulse generating circuit constant, it is possible to realize a more highly accurate pulse generating circuit.

【0093】(実施の形態4)次に、図14、15を用
いて、本発明の第4の実施形態として、LSI試験装置
401の動作、すなわち半導体装置の試験(検査)方法
について説明する。
(Fourth Embodiment) Next, with reference to FIGS. 14 and 15, an operation of an LSI test apparatus 401, that is, a semiconductor device test (inspection) method will be described as a fourth embodiment of the present invention.

【0094】本実施例では、第一の実施例で挙げたパル
ス発生回路101を用いたLSI試験装置401につい
て説明する。
In this embodiment, an LSI test apparatus 401 using the pulse generation circuit 101 mentioned in the first embodiment will be described.

【0095】LSI試験装置401は、被試験LSI4
12に試験波形408を与え、被試験LSI412から
戻ってくる応答波形409と、あらかじめ用意されてい
る期待値との比較・良否判定を行うことでLSIの動作
試験を行う装置である。
The LSI test apparatus 401 is the LSI under test 4
12 is a device for performing an operation test of an LSI by giving a test waveform 408 to 12 and comparing a response waveform 409 returned from the LSI under test 412 with an expected value prepared in advance and judging the quality.

【0096】LSI試験装置401は、主に、試験波形
や期待値のテストパターンデータ404を生成するパタ
ーン生成回路402と、そのテストパターンに基づいて
試験波形408を発生するタイミング発生回路406、
試験波形408の振幅を調節するドライバ410と、応
答波形409の電圧値(L/H)判定を行うアナログ比
較回路411、判定結果を記憶するフェイルメモリ40
3、および、これらの各回路を制御するCPU407
と、LSI試験装置401を駆動するマスタクロック2
で構成される。
The LSI test apparatus 401 mainly includes a pattern generation circuit 402 for generating test pattern data 404 of a test waveform and an expected value, and a timing generation circuit 406 for generating a test waveform 408 based on the test pattern.
A driver 410 that adjusts the amplitude of the test waveform 408, an analog comparison circuit 411 that determines the voltage value (L / H) of the response waveform 409, and a fail memory 40 that stores the determination result.
3 and a CPU 407 for controlling each of these circuits
And a master clock 2 for driving the LSI test apparatus 401
Composed of.

【0097】図14はIC試験装置の一例を示すブロッ
ク図であり、図15はタイミング発生回路の構成の一例
を示すブロック図である。
FIG. 14 is a block diagram showing an example of the IC test apparatus, and FIG. 15 is a block diagram showing an example of the configuration of the timing generation circuit.

【0098】パターン生成回路402は、試験波形や期
待値の情報を含んだテストパターンデータ404(パタ
ーンデータ)を生成する。
The pattern generation circuit 402 generates test pattern data 404 (pattern data) including information on test waveforms and expected values.

【0099】タイミング発生回路406は、マスタクロ
ック2からマスタクロックを受け取り、かつパターン生
成回路402からテストパターンデータ404を受け取
り、内部のパルス発生回路1にて、試験波形408の立
ち上がり/立ち下がりのタイミングを示すタイミングエ
ッジ(=パルス)413と、応答波形409の判定タイ
ミングを決めるストローブパルスの立ち上がり/立ち下
がりのタイミングを示すタイミングエッジ(=パルス)
414を発生する。ここで、タイミング発生回路406
は、図15に示すように、パルス発生回路1と、波形フ
ォーマッタ415およびデジタル比較回路416を備え
ている。
The timing generation circuit 406 receives the master clock from the master clock 2 and the test pattern data 404 from the pattern generation circuit 402, and the internal pulse generation circuit 1 raises / falls the timing of the test waveform 408. (413) and a timing edge (= pulse) 413 that indicates the rising / falling timing of the strobe pulse that determines the determination timing of the response waveform 409.
414 is generated. Here, the timing generation circuit 406
As shown in FIG. 15, includes a pulse generation circuit 1, a waveform formatter 415, and a digital comparison circuit 416.

【0100】試験波形408の立ち上がり/立ち下がり
のタイミングを示す試験波形のタイミングエッジ413
を受け取った波形フォーマッタ415は、パターン生成
回路402からのテストパターンデータ404をもとに
タイミングエッジ413から試験波形を形成し(試験波
形に変換し)、試験波形408としてドライバ410に
出力する。
Timing edge 413 of the test waveform showing the rising / falling timing of the test waveform 408.
The waveform formatter 415 that has received is formed a test waveform from the timing edge 413 based on the test pattern data 404 from the pattern generation circuit 402 (converted into a test waveform) and outputs it as a test waveform 408 to the driver 410.

【0101】ドライバ410では、波形フォーマッタ4
15から出力された試験波形408の基準電圧と振幅を
調整し、被試験LSI412に印加する。
In the driver 410, the waveform formatter 4
The reference voltage and amplitude of the test waveform 408 output from 15 are adjusted and applied to the LSI under test 412.

【0102】アナログ比較回路411では、被試験LS
Iから返ってきた応答波形409の論理値電圧(L/
H)の判定を行う。
In the analog comparison circuit 411, the LS under test is tested.
The logical value voltage (L / L of the response waveform 409 returned from I
H) is determined.

【0103】そして、決められた電圧値を満足していれ
ば、タイミング発生回路406内のデジタル比較回路4
16でパターン生成回路402から送られてくる期待値
との判定を行う。ここで応答結果が期待値と一致しなか
った場合、このLSIは不良と判定され、不良判定結果
がフェイルメモリ403に書き込まれる。
If the predetermined voltage value is satisfied, the digital comparison circuit 4 in the timing generation circuit 406 is
At 16, it is determined that the expected value is sent from the pattern generation circuit 402. If the response result does not match the expected value, the LSI is determined to be defective, and the defect determination result is written in the fail memory 403.

【0104】LSI試験装置401では、試験波形の発
生時間(タイミング)の精度が試験性能を左右する。特
にパルス発生回路1が発生するタイミングエッジには、
非常に高い時間精度が要求される。
In the LSI test apparatus 401, the accuracy of the generation time (timing) of the test waveform affects the test performance. Especially at the timing edge generated by the pulse generation circuit 1,
Very high time accuracy is required.

【0105】本実施例では、LSI試験装置401内に
上記実施例で説明したパルス発生回路を適用することに
より、パルス発生回路内の消費電力変動を抑制し、温度
変動に伴うパルス発生タイミングのばらつきを低減する
ことができるため、高精度に制御された試験波形を発生
することができるLSI試験装置を実現できる。また、
小規模な回路で消費電力の安定化を実現できるため、高
性能なLSIの試験に伴い必須となるLSI試験装置4
01の多出力(多ピン化)にも対応できる。
In this embodiment, by applying the pulse generation circuit described in the above embodiment in the LSI test apparatus 401, fluctuations in power consumption in the pulse generation circuit are suppressed and variations in pulse generation timing due to temperature fluctuations. Therefore, it is possible to realize an LSI test apparatus capable of generating a test waveform controlled with high accuracy. Also,
The LSI test equipment 4 is indispensable for testing high-performance LSIs because it can stabilize power consumption with a small-scale circuit.
It is also possible to support 01 multi-output (multi-pin).

【0106】(実施の形態5)続いて、他の実施例で説
明した半導体試験装置からの試験波形を用いた半導体装
置の試験方法および半導体装置の製造方法について説明
する。
(Fifth Embodiment) Next, a semiconductor device testing method and a semiconductor device manufacturing method using a test waveform from the semiconductor testing device described in another embodiment will be described.

【0107】図22は、上記実施例によって形成された
試験波形により検査され出荷される半導体装置の製造方
法を示すフローチャートである。図22において、ステ
ップS1の工程において製造された製品ウエハは、ステ
ップS2において、P検(Pellet検査)により初
期の不良選別が行われる。そして、選別された良品のウ
エハは、ステップS3又はS5に進む。ステップS3に
進むかS5に進むかの選択は、製造設備等の関係から選
択される。
FIG. 22 is a flow chart showing a method of manufacturing a semiconductor device which is inspected and shipped by the test waveform formed by the above embodiment. In FIG. 22, the product wafer manufactured in the process of step S1 is subjected to initial defect selection by P inspection (Pellet inspection) in step S2. Then, the selected non-defective wafer proceeds to step S3 or S5. The selection as to whether to proceed to step S3 or S5 is made based on the relation of manufacturing equipment and the like.

【0108】ステップS3においては、製品ウエハのダ
イシングを行い、良品チップのみがステップS4におい
て、CSP(Chip Size Package)や
BGA(Ball Grid Array)等に個々に
パッケージングされる。そして、ステップS7に進む。
In step S3, the product wafer is diced, and only non-defective chips are individually packaged in CSP (Chip Size Package), BGA (Ball Grid Array) or the like in step S4. Then, the process proceeds to step S7.

【0109】また、ステップS5においては、ウエハ上
でさらに一括で配線パターンや保護膜の形成、さらに、
半田ボール付けまでを行う。続いて、ステップS6にお
いて、配線パターン等が形成されたウエハが、ダイシン
グにより個々に分割される。そして、ステップS7に進
む。
In step S5, the wiring pattern and the protective film are collectively formed on the wafer.
Perform solder ball attachment. Subsequently, in step S6, the wafer on which the wiring pattern and the like are formed is individually divided by dicing. Then, the process proceeds to step S7.

【0110】ステップS7においては、半導体装置の検
査方法が実施される。つまり、個々に分割された最終形
状の製品は、バーンイン試験にかけられ最終選別がなさ
れる。そして、最終的に良品となったものがステップS
8において出荷される。
In step S7, a semiconductor device inspection method is performed. In other words, the final-shaped products that have been individually divided are subjected to a burn-in test for final selection. Then, the product that finally becomes a good product is step S.
Shipped at 8.

【0111】本実施例では、上記実施例で説明した半導
体試験装置からの試験波形を用いて、図22のS2、S
7の検査工程を行う。これにより、タイミング(時間)
が高精度に制御された試験波形を用いて、高性能な(高
速動作する)半導体装置(LSI)を検査し、半導体装
置を製造することができる。
In this embodiment, S2 and S in FIG. 22 are used by using the test waveform from the semiconductor test apparatus described in the above embodiment.
The inspection step 7 is performed. This gives the timing (time)
It is possible to inspect a high-performance (high-speed-operating) semiconductor device (LSI) by using a test waveform controlled with high precision and manufacture the semiconductor device.

【0112】(実施の形態6)次に、本発明の第6の実
施形態について、図23を用いて説明する。本実施例の
パルス発生回路101を構成する機能ブロックの動作
は、図1に示したものと同じである。
(Sixth Embodiment) Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The operation of the functional blocks constituting the pulse generation circuit 101 of this embodiment is the same as that shown in FIG.

【0113】本実施例では、回路基板やマルチチップモ
ジュールもしくはLSIチップに搭載したパルス発生回
路において、パルスが通過する経路を含む回路群と、そ
れ以外の回路群とで、電源およびグラウンド(電源系と
いうこともある)を分離することにより、電源ノイズの
伝搬を抑制し、パルス発生精度を向上させることが目的
である。
In the present embodiment, in the pulse generation circuit mounted on the circuit board, the multi-chip module or the LSI chip, the circuit group including the path through which the pulse passes and the other circuit groups include a power source and a ground (power source system). The purpose is to suppress the propagation of power supply noise and improve the accuracy of pulse generation.

【0114】回路基板内やマルチチップモジュールもし
くはLSIチップ内で電源およびグラウンドを分離し、
パルスが通過する経路を含む回路群を分離領域A-6
0、それ以外の回路群を分離領域B-61としたとき、
分離領域B-61内の回路が動作することによって生じ
る電源ノイズが、パルスの通過経路である分離領域A-
60に伝搬するのを抑制できるため、電源ノイズによる
パルス発生時間の精度劣化を抑制することができる。
The power supply and the ground are separated in the circuit board, the multi-chip module or the LSI chip,
Isolate the circuit group including the path through which the pulse passes through A-6
0, when the other circuit group is the separation area B-61,
The power supply noise generated by the operation of the circuit in the separation area B-61 is the separation area A- which is the passage path of the pulse.
Since it is possible to suppress the propagation to 60, it is possible to suppress the accuracy deterioration of the pulse generation time due to the power supply noise.

【0115】分離した電源およびグラウンドは、理想的
には別電源として完全に分離したほうが良い。その他の
方法として、パルス発生回路の外側(LSIチップの外
側)でバイパスコンデンサを介して接続することによ
り、分離領域Bからの電源ノイズが分離領域Aへの回り
込みことを低減することができる。
Ideally, the separated power supply and ground should be completely separated as separate power supplies. As another method, by connecting via a bypass capacitor outside the pulse generation circuit (outside the LSI chip), it is possible to reduce power supply noise from the isolation region B from flowing into the isolation region A.

【0116】さらに、上述した電源分離は一例であり、
分離領域A,B間の電源およびグランドにおける特性イ
ンピーダンスが高くなるように設計することにより同一
の効果を実現しても良い。
Furthermore, the above-mentioned power supply separation is an example,
The same effect may be realized by designing so that the characteristic impedance in the power supply and the ground between the isolation regions A and B becomes high.

【0117】なお、電源領域を分離することにより、L
SIチップ等においては、高集積化が可能になるといっ
た効果もある。
By separating the power supply region, L
The SI chip and the like also have the effect of enabling high integration.

【0118】本実施例は、上記1から5の実施例に適用
することは可能であり、上記効果が得られることはいう
までもない。
It is needless to say that this embodiment can be applied to the above embodiments 1 to 5 and the above effects can be obtained.

【0119】(実施の形態7)続いて、図24を用い
て、図23に記載したデータ演算回路5の一構成例を説
明する。本実施例においては、図23で説明した分離領
域B−61から発生する電源ノイズ自体を低減すること
が目的である。
(Seventh Embodiment) Next, with reference to FIG. 24, a configuration example of the data operation circuit 5 shown in FIG. 23 will be described. The purpose of this embodiment is to reduce the power supply noise itself generated from the isolation region B-61 described with reference to FIG.

【0120】本実施の形態は、ダミーパルス発生回路お
よびダミー回路(電力消費回路)をデータ演算回路内に
適用したものである。動作クロック4-1の周期で動作
しない回路の消費電力を一定にするために、本来のパル
スが発生されない時間を検出し、その周期に別途用意し
たダミー回路を動作させて電力を消費することによっ
て、パルス発生回路全体の消費電力をさらに安定させ、
パルス発生の時間精度を向上することができる。
In this embodiment, the dummy pulse generating circuit and the dummy circuit (power consumption circuit) are applied in the data operation circuit. In order to make the power consumption of the circuit that does not operate in the cycle of the operation clock 4-1 constant, by detecting the time when the original pulse is not generated and operating the dummy circuit prepared separately in that cycle to consume the power. , Further stabilize the power consumption of the entire pulse generation circuit,
The time accuracy of pulse generation can be improved.

【0121】本データ演算回路5は、動作クロックを計
数するカウンタ51と、タイミングデータ演算回路55
からの遅延データをラッチするFF55と、カウンタの
出力とFF55からの出力遅延データ(TC)を比較
し、一致したときに一致信号(パルス発生信号)を出力
する一致検出器53と、その一致信号をラッチするFF
56と、動作クロック4-1と一致信号の論理積をとる
AND57と、ダミーパルス発生回路(AND)58
と、ダミー回路(電力消費回路)59で構成される。
The data arithmetic circuit 5 includes a counter 51 for counting operation clocks and a timing data arithmetic circuit 55.
The coincidence detector 53 that compares the output of the counter with the output delay data (TC) of the counter, and outputs the coincidence signal (pulse generation signal), and the coincidence signal. FF that latches
56, an AND 57 that takes the logical product of the operation clock 4-1 and the coincidence signal, and a dummy pulse generation circuit (AND) 58.
And a dummy circuit (power consumption circuit) 59.

【0122】本回路では、ダミーパルス発生回路(AN
D)58において一致信号(パルス発生信号)を反転さ
せて動作クロック4-1との論理和を取ることにより、
本来パルスの発生しない周期にダミーパルスを発生させ
ている。
In this circuit, the dummy pulse generating circuit (AN
D) Invert the coincidence signal (pulse generation signal) in 58 and take the logical sum of the operation clock 4-1 and
Dummy pulses are generated in a cycle in which no pulse is originally generated.

【0123】また、ダミーの電力消費回路を有するダミ
ー回路59は、クロックバッファ等で構成され、元のパ
ルス発生回路の動作クロック周期で動作しない回路とほ
ぼ同等の回路規模(消費電力)を有する。
The dummy circuit 59 having a dummy power consumption circuit is composed of a clock buffer or the like, and has a circuit scale (power consumption) almost equal to that of a circuit which does not operate in the operation clock cycle of the original pulse generation circuit.

【0124】従って、ダミー回路59は、入力されたダ
ミーパルスによって、本来パルスが発生しない周期に、
パルス発生時と同等の電力を消費することによって、パ
ルス発生回路内の消費電力を一定にすることができる。
Therefore, the dummy circuit 59 causes the input dummy pulse to have a cycle in which no pulse originally occurs.
By consuming the same power as when the pulse is generated, the power consumption in the pulse generation circuit can be made constant.

【0125】また、ダミー回路59は、入力されたダミ
ーパルスの通過経路を切り替える手段を設けて消費され
る電力を調整可能な回路構成としても良い。
Further, the dummy circuit 59 may have a circuit structure capable of adjusting the consumed power by providing a means for switching the passage route of the inputted dummy pulse.

【0126】(実施の形態8)次に、図25を用いて、
実施の形態7と同様の効果を得る為のデータ演算回路5
の別の実施の形態について説明する。
(Embodiment 8) Next, referring to FIG.
Data operation circuit 5 for obtaining the same effect as in the seventh embodiment
Another embodiment will be described.

【0127】図25のデータ演算回路5は、動作クロッ
クを計数するカウンタ51と、カウンタ51出力と演算
回路52からの出力遅延データ(CT)52−4とを比
較し、一致したときに一致信号を出力する一致検出器5
3と、一致検出器53からの一致信号をイネーブルと
し、動作クロック4-1に同期して遅延データ52−4
および遅延データ9−2,9−3を発生する演算回路5
2で構成される。さらに、本例における演算回路52
は、FF52−1,52−3、およびFFおよび組み合
わせ回路で構成される回路群52−2からなり、ここで
使用するFFは、イネーブル信号(EN)により現在入
力されているデータ信号(D)を取り込むものである。
The data operation circuit 5 of FIG. 25 compares the counter 51 that counts the operation clock with the output of the counter 51 and the output delay data (CT) 52-4 from the operation circuit 52, and when they match, a match signal is output. Coincidence detector 5 that outputs
3 and the coincidence signal from the coincidence detector 53 are enabled, and the delay data 52-4 is synchronized with the operation clock 4-1.
And an arithmetic circuit 5 for generating delay data 9-2, 9-3
It consists of 2. Furthermore, the arithmetic circuit 52 in this example
Is composed of FFs 52-1, 52-3, and a circuit group 52-2 composed of FFs and combinational circuits. The FFs used here are the data signal (D) currently input by the enable signal (EN). Is to take in.

【0128】図26はそのデータ演算回路5の動作チャ
ートであり、動作クロック4−1に同期して動作するカ
ウンタ、演算回路52の出力である遅延データ52−
4、9−2、9−3、および一致検出器53の出力9−
1を示す。演算回路5は、テストパターンデータ3から
のデータにより所定の演算を行い遅延データ52−4
(“2”)、および9−2,9−3(データa)を出力
する。遅延データ52−4はカウンタ51からの出力と
逐次一致検出回路で比較され、カウント値“2”の時に
一致信号(“High”レベル)が出力される。この一
致信号により、演算回路52では、次の遅延データを発
生する為の演算が行われ、遅延データ52−4
(“5”)および、遅延データ9−2,9−3(データ
b)が出力される。以下、同様に次々と演算回路52で
は、遅延データを発生する。
FIG. 26 is an operation chart of the data operation circuit 5, in which the counter which operates in synchronization with the operation clock 4-1 and the delay data 52- which is the output of the operation circuit 52
4, 9-2, 9-3 and the output 9- of the coincidence detector 53
1 is shown. The arithmetic circuit 5 performs a predetermined arithmetic operation on the data from the test pattern data 3 to obtain the delay data 52-4.
("2") and 9-2, 9-3 (data a) are output. The delay data 52-4 is compared with the output from the counter 51 by the successive coincidence detection circuit, and the coincidence signal (“High” level) is output when the count value is “2”. With this coincidence signal, the arithmetic circuit 52 performs an operation for generating the next delay data, and the delay data 52-4
(“5”) and the delay data 9-2 and 9-3 (data b) are output. Thereafter, similarly, the arithmetic circuit 52 similarly generates delay data.

【0129】ここで、演算回路52内のFFは、動作ク
ロックで常に動作するため、データ演算が必要のない周
期においても、FFに動作クロックが入力されることで
動作する部分で電流が常に消費される。これにより、遅
延データ(TC)が発生される周期と発生しない周期間
での電流消費量の増減を低減することができる。
Here, since the FF in the arithmetic circuit 52 always operates with the operation clock, current is always consumed in the portion which operates by inputting the operation clock to the FF even in the period in which data operation is not required. To be done. As a result, it is possible to reduce the increase or decrease in the current consumption amount between the period in which the delay data (TC) is generated and the period in which the delay data (TC) is not generated.

【0130】つまり、演算回路52において、データの
演算が必要の無いときでも、FFで電流が消費される様
にすることで、ノイズ電圧の要因である消費電流の増減
の低減を行うものである。
That is, in the arithmetic circuit 52, even when data calculation is not required, the FF consumes the current, thereby reducing the increase or decrease in the consumption current which is a factor of the noise voltage. .

【0131】実施の形態7,8で述べたデータ演算回路
を他の実施の形態1から6の少なくともいずれかと組み
合わせることにより、さらにパルス発生時間の精度を高
めたパルス発生回路を提供できることはいうまでもな
い。
It goes without saying that by combining the data operation circuit described in the seventh and eighth embodiments with at least one of the other first to sixth embodiments, it is possible to provide a pulse generation circuit with further improved accuracy in pulse generation time. Nor.

【0132】さらに、実施の形態7,8で述べた例は、
図23で述べたパルス発生回路101の分離領域A,B
を1つの半導体チップで実現し、電源またはグランドが
同一のものを使用した構成の場合には、特に効果的であ
る。
Furthermore, the examples described in the seventh and eighth embodiments are as follows.
Separation areas A and B of the pulse generation circuit 101 described in FIG.
This is particularly effective in the case where the above is realized by one semiconductor chip and the same power supply or ground is used.

【0133】また、実施の形態7,8で述べたデータ演
算回路を、図21のように、パルス発生回路の遅延回路
とは別にパルス発生回路の動作中の消費電力を一定にす
るために電力消費回路(ダミー回路)を別途設けたパル
ス発生回路に適用しても、パルス発生時間の精度を高め
ることができることはいうまでもない。
Further, as shown in FIG. 21, the data operation circuit described in the seventh and eighth embodiments is provided with a power supply in order to keep constant power consumption during operation of the pulse generation circuit separately from the delay circuit of the pulse generation circuit. It goes without saying that the accuracy of the pulse generation time can be improved even if the consumption circuit (dummy circuit) is separately applied to the pulse generation circuit.

【0134】演算回路52、55は、消費電流を一定に
するようにして、消費電流に応じて変動する消費電力
(回路のジャンクション温度)、および電流変化による
電源電圧を低減することができる回路を特徴とするもの
である。従って、演算回路52、55で記載された論理
回路以外であっても、同様の効果を得られる演算回路は
本実施例の範囲内であることはいうまでもない。
The arithmetic circuits 52 and 55 are circuits which can reduce the power consumption (junction temperature of the circuit) which fluctuates according to the consumed current and the power supply voltage due to the current change, by keeping the consumed current constant. It is a feature. Therefore, it goes without saying that arithmetic circuits other than the logic circuits described in the arithmetic circuits 52 and 55 can obtain the same effect within the scope of the present embodiment.

【0135】以上、本発明者によってなされた発明を実
施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0136】また、上記実施例において開示した観点の
代表的なものは次の通りである。
The representative aspects disclosed in the above embodiments are as follows.

【0137】パルス発生回路であって、パルス発生回路
でパルスを発生させるか発生させないかを決定する情報
を有するパターンデータのなかから、パルスが発生され
ない周期を検出し、該パルスが発生されない周期にダミ
ーパルスを発生させるダミーパルス制御回路を有するも
のである。
In the pulse generation circuit, the cycle in which no pulse is generated is detected from the pattern data having the information for determining whether or not the pulse is generated in the pulse generation circuit, and the cycle in which the pulse is not generated is detected. It has a dummy pulse control circuit for generating a dummy pulse.

【0138】上記記載のパルス発生回路であって、該パ
ルス発生回路からパルスを出力する前に、前記発生させ
たダミーパルスを取り除くための論理ゲート回路を備え
たものである。
The pulse generating circuit described above is provided with a logic gate circuit for removing the generated dummy pulse before outputting the pulse from the pulse generating circuit.

【0139】また、前記記載のパルス発生回路であっ
て、さらに前記ダミーパルス制御回路は、該ダミーパル
ス制御回路で発生されたダミーパルスがパルス遅延回路
を通過することにより生じた遅延量を検出し、該検出結
果に基づいて該ダミーパルス発生回路からダミーパルス
を取り除くための信号を出力するものである。
Further, in the pulse generation circuit described above, the dummy pulse control circuit further detects a delay amount caused by the dummy pulse generated by the dummy pulse control circuit passing through the pulse delay circuit. A signal for removing the dummy pulse from the dummy pulse generation circuit is output based on the detection result.

【0140】また、上記記載のパルス発生回路であっ
て、さらに前記ダミーパルス制御回路は、該ダミーパル
ス制御回路で発生されたダミーパルスがパルス遅延回路
を通過したタイミングを検出し、該検出されたタイミン
グに基づいて該ダミーパルス発生回路からダミーパルス
を取り除くための信号を出力するものである。
Further, in the pulse generating circuit described above, the dummy pulse control circuit further detects the timing when the dummy pulse generated by the dummy pulse control circuit passes through the pulse delay circuit, and the dummy pulse control circuit detects the detected timing. A signal for removing the dummy pulse from the dummy pulse generation circuit is output based on the timing.

【0141】パルス発生回路であって、パルス発生回路
でパルスを発生させるか発生させないかを決定する情報
を有するパターンデータをもとに該パルス発生回路から
出力されるパルスの発生時間を演算するデータ演算回路
と、該パターンデータにおいてパルスが発生しない周期
を検出し、該パルスが発生しない周期にダミーパルスを
発生させるダミーパルス制御回路と、該パターンデータ
に基づき発生されるパルスおよび該ダミーパルスを生成
するパルス生成回路と、該パルス生成回路と出力ピンの
間にあり、かつ該パルス生成回路で生成されたダミーパ
ルスを取り除くための論理ゲート回路を備えたものであ
る。
Data for calculating the pulse generation time output from the pulse generation circuit based on pattern data having information for determining whether or not the pulse is generated by the pulse generation circuit An arithmetic circuit, a dummy pulse control circuit that detects a period in which a pulse is not generated in the pattern data and generates a dummy pulse in a period in which the pulse is not generated, a pulse generated based on the pattern data, and the dummy pulse And a logic gate circuit between the pulse generating circuit and the output pin for removing the dummy pulse generated by the pulse generating circuit.

【0142】上記記載のパルス発生回路であって、前記
パルス発生回路と前記論理ゲートの間にパルス遅延回路
を有するものである。
The pulse generating circuit described above has a pulse delay circuit between the pulse generating circuit and the logic gate.

【0143】上記記載のパルス発生回路であって、前記
ダミーパルス制御回路は前記パルス発生回路に第一の遅
延データを与え、該パルス遅延回路に第二の遅延データ
を与え、かつ該第二の遅延データの遅延単位は該第一の
遅延データの遅延単位よりも小さいものである。
In the pulse generating circuit described above, the dummy pulse control circuit supplies the pulse generating circuit with first delay data, the pulse delay circuit with second delay data, and the second delay data. The delay unit of the delay data is smaller than the delay unit of the first delay data.

【0144】上記記載のパルス発生回路であって、前記
ダミーパルス発生回路は複数種類のダミーパルスを発生
できるものである。
In the pulse generation circuit described above, the dummy pulse generation circuit can generate a plurality of types of dummy pulses.

【0145】上記記載のパルス発生回路であって、該パ
ルス生成回路に備えられているパルス生成回路では、周
期ごとに一定のパルス数が生成されるものである。
In the pulse generating circuit described above, the pulse generating circuit provided in the pulse generating circuit generates a constant number of pulses for each cycle.

【0146】上記記載のパルス発生回路であって、該パ
ルス生成回路に備えられているパルス生成回路の消費電
力は周期ごとに一定であるものである。
In the pulse generating circuit described above, the power consumption of the pulse generating circuit included in the pulse generating circuit is constant for each cycle.

【0147】上記記載のパルス発生回路を備えたことを
特徴とする半導体検査装置である。
A semiconductor inspecting apparatus comprising the pulse generating circuit described above.

【0148】マスタクロックと、試験波形に関する情報
を含んだパターンデータを生成するパターン生成回路
と、該マスタクロックと該パターンデータを受け取り、
試験波形を生成するタイミング発生回路と、該試験波形
を被試験半導体装置(LSI)に印加するドライバと、
被試験半導体装置からの応答波形の判定を行う比較回路
と、判定された結果を記憶するフェイルメモリを有する
半導体試験装置であって、該タイミング発生回路は試験
波形の立ち上がりおよび立ち下がりのタイミングを決定
するパルスを発生するパルス発生回路と、該パルスに基
づき該試験波形を生成する波形フォーマッタを有し、さ
らに該パルス発生回路は該パターンデータのなかからパ
ルス発生回路でパルスが発生されない周期を検出し、該
パルスが発生されない周期にダミーパルスを発生させる
ダミーパルス制御回路を備えているものである。
A master clock, a pattern generation circuit for generating pattern data containing information on a test waveform, the master clock and the pattern data,
A timing generation circuit for generating a test waveform, a driver for applying the test waveform to a semiconductor device under test (LSI),
What is claimed is: 1. A semiconductor testing device comprising: a comparison circuit for determining a response waveform from a semiconductor device under test; and a fail memory for storing the determination result, wherein the timing generation circuit determines the rising and falling timings of the test waveform. And a waveform formatter that generates the test waveform based on the pulse, and the pulse generation circuit detects a period in which no pulse is generated by the pulse generation circuit from the pattern data. A dummy pulse control circuit for generating a dummy pulse in a cycle in which the pulse is not generated is provided.

【0149】上記記載の半導体試験装置であって、前記
パルス発生回路は前記波形フォーマッタへパルスを出力
する前に、前記ダミーパルスを取り除くための論理ゲー
ト回路を備えたものである。
In the semiconductor test apparatus described above, the pulse generation circuit includes a logic gate circuit for removing the dummy pulse before outputting the pulse to the waveform formatter.

【0150】マスタクロックと、試験波形に関する情報
を含んだパターンデータを生成するパターン生成回路
と、該マスタクロックと該パターンデータを受け取り、
試験波形を生成するタイミング発生回路と、該試験波形
を被試験半導体装置に印加するドライバと、該被試験半
導体装置からの応答波形の判定を行う比較回路と、判定
された結果を記憶するフェイルメモリを有する半導体試
験装置であって、該タイミング発生回路は該試験波形の
立ち上がりおよび立ち下がりのタイミングを決定するパ
ルスを発生するパルス発生回路と、該パルスに基づき該
試験波形を生成する波形フォーマッタを有し、さらに該
パルス発生回路は該パターンデータをもとに該パルス発
生回路から出力されるパルスの発生時間を演算するデー
タ演算回路と、該パターンデータのなかでパルスが発生
しない周期を検出し、該パルスが発生しない周期にダミ
ーパルスを発生させるダミーパルス制御回路と、該パタ
ーンデータに基づき発生するパルスおよび該ダミーパル
スを生成するパルス生成回路と、該パルス生成回路のあ
とに該ダミーパルス制御回路で生成されたダミーパルス
を取り除くための論理ゲート回路を備えたものである。
A master clock, a pattern generation circuit for generating pattern data containing information about a test waveform, the master clock and the pattern data,
A timing generation circuit for generating a test waveform, a driver for applying the test waveform to a semiconductor device under test, a comparison circuit for determining a response waveform from the semiconductor device under test, and a fail memory for storing the determined result. In the semiconductor test apparatus having the above, the timing generation circuit has a pulse generation circuit that generates a pulse that determines the rising and falling timings of the test waveform, and a waveform formatter that generates the test waveform based on the pulse. Further, the pulse generation circuit further detects a period in which no pulse is generated in the pattern data, the data calculation circuit calculating a generation time of the pulse output from the pulse generation circuit based on the pattern data, A dummy pulse control circuit for generating a dummy pulse in a cycle in which the pulse is not generated, and A pulse generating circuit for generating a generated pulse and the dummy pulse, those having a logic gate circuit for removing a dummy pulse generated by the dummy pulse control circuit after the said pulse generating circuit.

【0151】上記記載のパルス発生回路を用いて形成さ
れた試験波形を用いて半導体装置を検査する半導体検査
方法である。
A semiconductor inspection method for inspecting a semiconductor device using a test waveform formed by using the pulse generation circuit described above.

【0152】予め定められた周期ごとに、パルス発生回
路でパルスを発生させるか発生させないかを決定する情
報を有するパターンデータのなかから、パルスが発生さ
れない周期を検出し、該パルスが発生されない周期にダ
ミーパルスを発生させることにより、安定した消費電力
のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置を検査
する半導体検査方法である。
A cycle in which no pulse is generated is detected from pattern data having information for determining whether or not a pulse is generated in the pulse generation circuit for each predetermined cycle, and a cycle in which the pulse is not generated is detected. It is a semiconductor inspection method for inspecting a semiconductor device by using a test waveform formed under stable power consumption by generating a dummy pulse at.

【0153】また、半導体ウエハに回路素子を作りこむ
工程と、該半導体ウエハ上で該回路素子の電極と外部接
続端子を電気的に接続する配線を形成する工程と、該半
導体ウエハに保護膜を形成する工程と、該半導体ウエハ
をダイシングする工程と、該半導体ウエハの状態でまた
はダイシングされ個別化された状態で半導体装置を検査
する工程を有する半導体装置の製造方法であって、該検
査工程において、予め定められた周期ごとに、パルス発
生回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定す
る情報を有するパターンデータのなかから、パルスが発
生されない周期を検出し、該パルスが発生されない周期
にダミーパルスを発生させることにより、安定した消費
電力のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置を
検査する半導体装置の製造方法である。
Further, a step of forming a circuit element on the semiconductor wafer, a step of forming a wiring for electrically connecting the electrode of the circuit element and an external connection terminal on the semiconductor wafer, and a protective film on the semiconductor wafer. What is claimed is: 1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a semiconductor wafer; dicing the semiconductor wafer; and inspecting a semiconductor device in a state of the semiconductor wafer or in a state of being diced and individualized. , Detects a cycle in which no pulse is generated from pattern data having information for determining whether or not to generate a pulse in the pulse generation circuit for each predetermined cycle, and dummy the cycle in which the pulse is not generated. By generating a pulse, a semiconductor device that inspects a semiconductor device using a test waveform formed under stable power consumption It is a method of manufacture.

【0154】[0154]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)単位時間当たりのパルス発生回路の消費電力を一
定(安定)にすることができるため、パルス発生回路内
の温度変化が抑制され、遅延回路の伝搬遅延時間誤差
(ばらつき)を低減でき、高精度なパルス発生回路を実
現できる。また、設定する遅延量が変化しても消費電力
が変動しないパルス遅延回路を組み合わせることによ
り、さらにパルス発生回路の消費電力を一定に保つこと
ができる。(2)タイミング(時間)が高精度に制御さ
れた試験波形を印加できるLSI試験装置を提供でき
る。 (3)タイミング(時間)が高精度に制御された試験波
形を用いて、高速動作する半導体装置(LSI)を検査
し、半導体装置を製造することができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. (1) Since the power consumption of the pulse generation circuit per unit time can be made constant (stable), the temperature change in the pulse generation circuit is suppressed, and the propagation delay time error (variation) of the delay circuit can be reduced, A highly accurate pulse generation circuit can be realized. Further, by combining a pulse delay circuit whose power consumption does not change even if the set delay amount changes, the power consumption of the pulse generating circuit can be further kept constant. (2) It is possible to provide an LSI test apparatus that can apply a test waveform whose timing (time) is controlled with high accuracy. (3) It is possible to manufacture a semiconductor device by inspecting a semiconductor device (LSI) operating at high speed by using a test waveform whose timing (time) is controlled with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1におけるダミーパルス制
御回路を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a dummy pulse control circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1におけるパルス生成回路
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a pulse generation circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1におけるパルス遅延回路
を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a pulse delay circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の効果および実施の形態1における各回
路部のタイミングを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an effect of the present invention and timing of each circuit unit in the first embodiment.

【図6】本発明の実施の形態2における課題を示す図で
ある。
FIG. 6 is a diagram showing a problem in the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態2を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2におけるダミーパルス制
御部を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a dummy pulse control unit according to the second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態2におけるパルス遅延回路
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a pulse delay circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態2におけるパルス生成回
路を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a pulse generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の効果および実施の形態2における各
回路部のタイミングを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an effect of the present invention and a timing of each circuit unit in the second embodiment.

【図12】本発明の実施の形態2におけるダミーパルス
発生条件を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing conditions for generating a dummy pulse according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施の形態3における遅延回路を示
す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a delay circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態4におけるLSI試験装
置の概要を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing an outline of an LSI test apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施の形態4におけるLSI試験装
置におけるタイミング発生回路を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a timing generation circuit in an LSI test apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図16】従来のパルス発生回路の概要図である。FIG. 16 is a schematic diagram of a conventional pulse generation circuit.

【図17】従来のパルス発生回路におけるパルス生成回
路を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a pulse generation circuit in a conventional pulse generation circuit.

【図18】従来のパルス発生回路におけるパルス遅延回
路を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a pulse delay circuit in a conventional pulse generation circuit.

【図19】従来のパルス発生回路における遅延回路を示
す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a delay circuit in a conventional pulse generation circuit.

【図20】従来のパルス発生回路における各回路部のタ
イミングを示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing the timing of each circuit unit in the conventional pulse generation circuit.

【図21】従来のパルス発生回路の一例を示す図であ
る。
FIG. 21 is a diagram showing an example of a conventional pulse generation circuit.

【図22】半導体装置の製造工程を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing the manufacturing process of the semiconductor device.

【図23】本発明の実施の形態6におけるパルス発生回
路を示す図である。
FIG. 23 is a diagram showing a pulse generation circuit according to a sixth embodiment of the present invention.

【図24】本発明の実施の形態7におけるデータ演算回
路を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing a data operation circuit according to a seventh embodiment of the present invention.

【図25】本発明の実施の形態8におけるデータ演算回
路を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing a data operation circuit according to an eighth embodiment of the present invention.

【図26】本発明の実施の形態8の動作チャートを示す
図である。
FIG. 26 is a diagram showing an operation chart according to the eighth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…パルス発生回路、2…マスタクロック、3…テスト
パターンデータ、4…クロック分周・逓倍回路、4-1
…動作クロック、5…データ演算回路、6…パルス生成
回路、6-1…内部パルス、7…パルス遅延回路、7-1
…遅延回路出力パルス、8…出力ピン、9…遅延デー
タ、9-1…遅延データ(TC)、9-2…遅延データ
(D)、9-3…遅延データ(A)、10…フリップフ
ロップ(以降、FFと記載)FFcmp、11…FF(F
Fd)、12…AND(A1)、13…AND(A
2)、14…FF(FF1)、15…FF(FF2)、
16…FF(FF2’)、17…OR、18…FF(F
For)、19…AND(As)、30…遅延回路、31
…FIFO、31a…FIFO(FIFOa)、31b
…FIFO(FIFOb)、32…FF、32a…FF
(FFa)、32b…FF(FFb)、33…選択回
路、34…遅延素子群、35…OR、51…カウンタ、
52…演算回路、53…一致検出器、54…タイミング
データ演算回路、55…タイミングデータ演算回路、5
6…FF、57…AND、58…AND、59…ダミー
回路(電力消費回路)、60…分離領域A、61…分離
領域B、101…パルス発生回路、102…パルス生成
回路、103…ダミーパルス制御回路、103-1…ダ
ミーパルスマスク信号MSK、103-2…遅延データ
(D)、103-3…遅延データ(A)、104…パル
ス遅延回路、104-1…遅延回路出力パルス、105…
AND、106…FIFO(FIFOm)、107…F
F(FFmsk)、108…OR、109…FF、110
…FF、111…FF、112…AND、113…AN
D、114…FF(FFd)、115…AND(A
1)、116…AND(A2)、117…FF(FF
1)、118…FF(FF2)、119…FF(FF
2’)、120…OR、121…FF(FFor)、12
2…AND(As)、201…パターン発生回路、20
2…パルス生成回路、203…ダミーパルス制御回路、
204…通常パルス&ダミーパルス(1)生成回路、2
04-1…通常パルス&ダミーパルス(1)、205…
ダミーパルス(2)回路、205-1…ダミーパルス
(2)、206…パルス遅延回路、206-1…遅延回
路出力パルス、206-2…リードクロック、207…
ダミーパルス(1)制御部、207-1…ダミー(1)
遅延データ(TC)、207-2…ダミー(1)遅延デ
ータ(D)、208…ダミーパルス(2)制御回路、2
08-1…ダミー(2)遅延データ(TC)、208-2
…ダミー(2)遅延データ(D)、209…FIFO
(FIFOmsk)、210…FF(FFmsk)、211…
OR、212…AND、213…FF、214…FF、
215…FF、216…FF、217…FF、218…
FF、219…FF、220…FF、221…AND、
222…FF、223…AND、224…AND、22
5…AND、226…OR、301…遅延回路、302
…入力パルス、303…遅延データ(A)、304…遅
延素子群、305…選択回路、306…出力パルス、4
01…LSI試験装置、402…パターン生成回路、4
03…フェイルメモリ、404…テストパターンデー
タ、405…判定結果、406…タイミング発生回路、
407…CPU、408…試験波形、409…応答波
形、410…ドライバ、411…アナログ比較回路、4
12…被試験LSI、413…タイミングエッジ(パル
ス)、414…タイミングエッジ(パルス)、415…
波形フォーマッタ、416…デジタル比較回路。
1 ... Pulse generation circuit, 2 ... Master clock, 3 ... Test pattern data, 4 ... Clock division / multiplication circuit, 4-1
... operation clock, 5 ... data operation circuit, 6 ... pulse generation circuit, 6-1 ... internal pulse, 7 ... pulse delay circuit, 7-1
... delay circuit output pulse, 8 ... output pin, 9 ... delay data, 9-1 ... delay data (TC), 9-2 ... delay data (D), 9-3 ... delay data (A), 10 ... flip-flop (Hereinafter referred to as FF) FFcmp, 11 ... FF (F
Fd), 12 ... AND (A1), 13 ... AND (A
2), 14 ... FF (FF1), 15 ... FF (FF2),
16 ... FF (FF2 '), 17 ... OR, 18 ... FF (F
For), 19 ... AND (As), 30 ... Delay circuit, 31
... FIFO, 31a ... FIFO (FIFOa), 31b
... FIFO (FIFOb), 32 ... FF, 32a ... FF
(FFa), 32b ... FF (FFb), 33 ... Selection circuit, 34 ... Delay element group, 35 ... OR, 51 ... Counter,
52 ... Operation circuit, 53 ... Matching detector, 54 ... Timing data operation circuit, 55 ... Timing data operation circuit, 5
6 ... FF, 57 ... AND, 58 ... AND, 59 ... Dummy circuit (power consumption circuit), 60 ... Separation area A, 61 ... Separation area B, 101 ... Pulse generation circuit, 102 ... Pulse generation circuit, 103 ... Dummy pulse Control circuit 103-1 ... Dummy pulse mask signal MSK, 103-2 ... Delay data (D), 103-3 ... Delay data (A), 104 ... Pulse delay circuit, 104-1 ... Delay circuit output pulse, 105 ...
AND, 106 ... FIFO (FIFOm), 107 ... F
F (FFmsk), 108 ... OR, 109 ... FF, 110
... FF, 111 ... FF, 112 ... AND, 113 ... AN
D, 114 ... FF (FFd), 115 ... AND (A
1), 116 ... AND (A2), 117 ... FF (FF
1), 118 ... FF (FF2), 119 ... FF (FF
2 '), 120 ... OR, 121 ... FF (FFor), 12
2 ... AND (As), 201 ... Pattern generation circuit, 20
2 ... Pulse generation circuit, 203 ... Dummy pulse control circuit,
204 ... Normal pulse & dummy pulse (1) generation circuit, 2
04-1 ... Normal pulse & dummy pulse (1), 205 ...
Dummy pulse (2) circuit, 205-1 ... Dummy pulse (2), 206 ... Pulse delay circuit, 206-1 ... Delay circuit output pulse, 206-2 ... Read clock, 207 ...
Dummy pulse (1) control unit, 207-1 ... Dummy (1)
Delay data (TC), 207-2 ... Dummy (1) Delay data (D), 208 ... Dummy pulse (2) Control circuit, 2
08-1 ... dummy (2) delay data (TC), 208-2
... dummy (2) delay data (D), 209 ... FIFO
(FIFOmsk), 210 ... FF (FFmsk), 211 ...
OR, 212 ... AND, 213 ... FF, 214 ... FF,
215 ... FF, 216 ... FF, 217 ... FF, 218 ...
FF, 219 ... FF, 220 ... FF, 221 ... AND,
222 ... FF, 223 ... AND, 224 ... AND, 22
5 ... AND, 226 ... OR, 301 ... Delay circuit, 302
... input pulse, 303 ... delay data (A), 304 ... delay element group, 305 ... selection circuit, 306 ... output pulse, 4
01 ... LSI test device, 402 ... Pattern generation circuit, 4
03 ... Fail memory, 404 ... Test pattern data, 405 ... Judgment result, 406 ... Timing generation circuit,
407 ... CPU, 408 ... Test waveform, 409 ... Response waveform, 410 ... Driver, 411 ... Analog comparison circuit, 4
12 ... LSI to be tested, 413 ... Timing edge (pulse), 414 ... Timing edge (pulse), 415 ...
Waveform formatter 416 ... Digital comparison circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新保 健一 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 折橋 律郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 福崎 正 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 本木 伸男 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2G132 AB07 AD07 AE06 AE08 AG01 AG08 AL00    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Kenichi Shinbo             292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Inside the Hitachi, Ltd. production technology laboratory (72) Inventor Ritsuro Orihashi             292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Inside the Hitachi, Ltd. production technology laboratory (72) Inventor Tadashi Fukusaki             Hitachi Electronics, 3-16-3 Higashi, Shibuya-ku, Tokyo             Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Nobuo Motoki             Hitachi Electronics, 3-16-3 Higashi, Shibuya-ku, Tokyo             Engineering Co., Ltd. F-term (reference) 2G132 AB07 AD07 AE06 AE08 AG01                       AG08 AL00

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パルス発生回路でパルスを発生させるか
発生させないかを決定する情報を有するパターンデータ
のなかから、パルスが発生されない周期を検出し、該パ
ルスが発生されない周期にダミーパルスを発生させるダ
ミーパルス制御回路を有することを特徴とするパルス発
生回路。
1. A pulse generation circuit detects a period in which a pulse is not generated from pattern data having information for determining whether or not to generate a pulse, and generates a dummy pulse in a period in which the pulse is not generated. A pulse generation circuit having a dummy pulse control circuit.
【請求項2】 請求項1に記載のパルス発生回路であっ
て、該パルス発生回路からパルスを出力する前に、前記
発生させたダミーパルスを取り除くための論理ゲート回
路を備えたことを特徴とするパルス発生回路。
2. The pulse generating circuit according to claim 1, further comprising a logic gate circuit for removing the generated dummy pulse before outputting the pulse from the pulse generating circuit. Pulse generator circuit.
【請求項3】 請求項1に記載のパルス発生回路であっ
て、 さらに前記ダミーパルス制御回路は、該ダミーパルス制
御回路で発生されたダミーパルスがパルス遅延回路を通
過することにより生じた遅延量を検出し、該検出結果に
基づいて該ダミーパルス制御回路からダミーパルスを取
り除くための信号を出力することを特徴とするパルス発
生回路。
3. The pulse generation circuit according to claim 1, wherein the dummy pulse control circuit further includes a delay amount generated by a dummy pulse generated by the dummy pulse control circuit passing through a pulse delay circuit. Is detected and a signal for removing the dummy pulse from the dummy pulse control circuit is output based on the detection result.
【請求項4】 請求項1に記載のパルス発生回路であっ
て、さらに前記ダミーパルス制御回路は、該ダミーパル
ス制御回路で発生されたダミーパルスがパルス遅延回路
を通過したタイミングを検出し、該検出されたタイミン
グに基づいて該ダミーパルス制御回路からダミーパルス
を取り除くための信号を出力することを特徴とするパル
ス発生回路。
4. The pulse generation circuit according to claim 1, wherein the dummy pulse control circuit further detects a timing when a dummy pulse generated by the dummy pulse control circuit has passed through a pulse delay circuit, A pulse generation circuit, which outputs a signal for removing a dummy pulse from the dummy pulse control circuit based on the detected timing.
【請求項5】 パルス発生回路でパルスを発生させるか
発生させないかを決定する情報を有するパターンデータ
をもとに該パルス発生回路から出力されるパルスの発生
時間を演算するデータ演算回路と、該パターンデータに
おいてパルスが発生しない周期を検出し、該パルスが発
生しない周期にダミーパルスを発生させるダミーパルス
制御回路と、該パターンデータに基づき発生されるパル
スおよび該ダミーパルスを生成するパルス生成回路と、
該パルス生成回路と出力ピンの間にあり、かつ該パル
ス生成回路で生成されたダミーパルスを取り除くための
論理ゲート回路を備えたことを特徴とするパルス発生回
路。
5. A data calculation circuit for calculating a generation time of a pulse output from the pulse generation circuit based on pattern data having information for determining whether the pulse generation circuit generates a pulse or not. A dummy pulse control circuit for detecting a period in which no pulse is generated in the pattern data and generating a dummy pulse in the period in which the pulse is not generated; and a pulse generation circuit for generating a pulse generated based on the pattern data and the dummy pulse ,
A pulse generation circuit comprising a logic gate circuit between the pulse generation circuit and an output pin and for removing a dummy pulse generated by the pulse generation circuit.
【請求項6】 請求項5に記載のパルス発生回路であっ
て、前記パルス生成回路と前記論理ゲートの間に前記パ
ルス生成回路で生成されたパルスを遅延させる回路を有
することを特徴とするパルス発生回路。
6. The pulse generation circuit according to claim 5, further comprising a circuit for delaying a pulse generated by the pulse generation circuit between the pulse generation circuit and the logic gate. Generator circuit.
【請求項7】 請求項6に記載のパルス発生回路であっ
て、前記ダミーパルス制御回路は前記パルス生成回路に
第一の遅延データを与え、該パルス遅延回路に第二の遅
延データを与え、かつ該第二の遅延データの遅延分解能
は該第一の遅延データの遅延分解能よりも小さいことを
特徴とするパルス発生回路。
7. The pulse generation circuit according to claim 6, wherein the dummy pulse control circuit supplies first delay data to the pulse generation circuit and second delay data to the pulse delay circuit, Further, the pulse generation circuit is characterized in that the delay resolution of the second delay data is smaller than the delay resolution of the first delay data.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項に記載のパ
ルス発生回路であって、前記ダミーパルス制御回路は複
数種類のダミーパルスを発生できることを特徴としたパ
ルス発生回路。
8. The pulse generation circuit according to claim 1, wherein the dummy pulse control circuit is capable of generating a plurality of types of dummy pulses.
【請求項9】 請求項1〜7のいずれか1項に記載のパ
ルス発生回路であって、該パルス発生回路に備えられて
いるパルス生成回路では、周期ごとに一定のパルス数が
生成されることを特徴とするパルス発生回路。
9. The pulse generation circuit according to claim 1, wherein the pulse generation circuit included in the pulse generation circuit generates a constant number of pulses for each cycle. A pulse generation circuit characterized by the above.
【請求項10】 請求項1〜7のいずれか1項に記載の
パルス発生回路であって、該パルス発生回路の消費電力
は周期ごとに一定であることを特徴とするパルス発生回
路。
10. The pulse generating circuit according to claim 1, wherein power consumption of the pulse generating circuit is constant for each cycle.
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
のパルス発生回路を備えたことを特徴とする半導体検査
装置。
11. A semiconductor inspection apparatus comprising the pulse generation circuit according to claim 1. Description:
【請求項12】 マスタクロックと、試験波形に関する
情報を含んだパターンデータを生成するパターン生成回
路と、該マスタクロックと該パターンデータを受け取
り、試験波形を生成するタイミング発生回路と、該試験
波形を被試験半導体装置に印加するドライバと、被試験
半導体装置からの応答波形の判定を行う比較回路と、判
定された結果を記憶するフェイルメモリを有する半導体
試験装置であって、該タイミング発生回路は試験波形の
立ち上がりおよび立ち下がりのタイミングを決定するパ
ルスを発生するパルス発生回路と、該パルスに基づき該
試験波形を生成する波形フォーマッタを有し、さらに該
パルス発生回路は該パターンデータのなかからパルス発
生回路でパルスが発生されない周期を検出し、該パルス
が発生されない周期にダミーパルスを発生させるダミー
パルス制御回路を備えていることを特徴とする半導体試
験装置。
12. A master clock, a pattern generation circuit for generating pattern data including information on a test waveform, a timing generation circuit for receiving the master clock and the pattern data and generating a test waveform, and the test waveform. A semiconductor test apparatus having a driver applied to a semiconductor device under test, a comparison circuit for judging a response waveform from the semiconductor device under test, and a fail memory for storing the judgment result, wherein the timing generation circuit is a test circuit. The pulse generation circuit has a pulse generation circuit that generates a pulse that determines the rising and falling timings of the waveform, and a waveform formatter that generates the test waveform based on the pulse. The pulse generation circuit further generates a pulse from the pattern data. The circuit detects a period in which no pulse is generated, and determines the period in which the pulse is not generated. A semiconductor test apparatus comprising a dummy pulse control circuit for generating a dummy pulse.
【請求項13】 請求項12に記載の半導体試験装置で
あって、前記パルス発生回路は前記波形フォーマッタへ
パルスを出力する前に、前記ダミーパルスを取り除くた
めの論理ゲート回路を備えたことを特徴とする半導体試
験装置。
13. The semiconductor test apparatus according to claim 12, wherein the pulse generation circuit includes a logic gate circuit for removing the dummy pulse before outputting the pulse to the waveform formatter. Semiconductor test equipment.
【請求項14】 マスタクロックと、試験波形に関する
情報を含んだパターンデータを生成するパターン生成回
路と、該マスタクロックと該パターンデータを受け取
り、試験波形を生成するタイミング発生回路と、該試験
波形を被試験半導体装置に印加するドライバと、該被試
験半導体装置からの応答波形の判定を行う比較回路と、
判定された結果を記憶するフェイルメモリを有する半導
体試験装置であって、該タイミング発生回路は該試験波
形の立ち上がりおよび立ち下がりのタイミングを決定す
るパルスを発生するパルス発生回路と、該パルスに基づ
き該試験波形を生成する波形フォーマッタを有し、さら
に該パルス発生回路は該パターンデータをもとに該パル
ス発生回路から出力されるパルスの発生時間を演算する
データ演算回路と、該パターンデータのなかからパルス
発生回路でパルスが発生されない周期を検出し、該パル
スが発生されない周期にダミーパルスを発生させるダミ
ーパルス制御回路と、該パターンデータに基づき発生す
るパルスおよび該ダミーパルスを生成するパルス生成回
路と、該パルス生成回路のあとに該ダミーパルス制御回
路で生成されたダミーパルスを取り除くための論理ゲー
ト回路を備えたことを特徴とする半導体試験装置。
14. A master clock, a pattern generation circuit for generating pattern data including information on a test waveform, a timing generation circuit for receiving the master clock and the pattern data and generating a test waveform, and the test waveform. A driver applied to the semiconductor device under test, and a comparison circuit for determining a response waveform from the semiconductor device under test,
A semiconductor test apparatus having a fail memory for storing the result of judgment, wherein the timing generation circuit generates a pulse for determining a rising timing and a falling timing of the test waveform, and a pulse generation circuit for generating a pulse based on the pulse. The pulse generation circuit further includes a waveform formatter for generating a test waveform, and the pulse generation circuit calculates a pulse generation time output from the pulse generation circuit based on the pattern data; A dummy pulse control circuit for detecting a period in which no pulse is generated by the pulse generation circuit and generating a dummy pulse in the period in which the pulse is not generated; a pulse generated based on the pattern data and a pulse generation circuit for generating the dummy pulse , The dummy pulse control circuit generated after the pulse generation circuit The semiconductor test apparatus characterized by comprising a logic gate circuit for removing Parusu.
【請求項15】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
のパルス発生回路を用いて形成された試験波形を用いて
半導体装置を検査することを特徴とする半導体検査方
法。
15. A semiconductor inspection method, comprising inspecting a semiconductor device using a test waveform formed by using the pulse generating circuit according to claim 1. Description:
【請求項16】 予め定められた周期ごとに、パルス発
生回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定す
る情報を有するパターンデータのなかから、パルスが発
生されない周期を検出し、該パルスが発生されない周期
にダミーパルスを発生させることにより、安定した消費
電力のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置を
検査することを特徴とする半導体検査方法。
16. A pulse generation circuit detects a cycle in which no pulse is generated from pattern data having information for determining whether to generate a pulse or not in a pulse generation circuit for each predetermined cycle, and the pulse is generated. A semiconductor inspection method characterized by inspecting a semiconductor device by using a test waveform formed under stable power consumption by generating a dummy pulse in a cycle not performed.
【請求項17】 半導体ウエハに回路素子を作りこむ工
程と、該半導体ウエハ上で該回路素子の電極と外部接続
端子を電気的に接続する配線を形成する工程と、該半導
体ウエハに保護膜を形成する工程と、該半導体ウエハを
ダイシングする工程と、該半導体ウエハの状態でまたは
ダイシングされ個別化された状態で半導体装置を検査す
る工程を有する半導体装置の製造方法であって、該検査
工程において、予め定められた周期ごとに、パルス発生
回路でパルスを発生させるか発生させないかを決定する
情報を有するパターンデータのなかから、パルスが発生
されない周期を検出し、該パルスが発生されない周期に
ダミーパルスを発生させることにより、安定した消費電
力のもとで形成された試験波形を用いて半導体装置を検
査することを特徴とする半導体装置の製造方法。
17. A step of forming a circuit element on a semiconductor wafer, a step of forming wiring for electrically connecting an electrode of the circuit element and an external connection terminal on the semiconductor wafer, and a protective film on the semiconductor wafer. What is claimed is: 1. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a semiconductor wafer; dicing the semiconductor wafer; and inspecting a semiconductor device in a state of the semiconductor wafer or in a state of being diced and individualized. , Detects a cycle in which no pulse is generated from pattern data having information for determining whether or not to generate a pulse in the pulse generation circuit for each predetermined cycle, and dummy the cycle in which the pulse is not generated. A semiconductor device is inspected by using a test waveform formed under stable power consumption by generating a pulse. Of manufacturing a semiconductor device.
【請求項18】 請求項1〜7のいずれか1項に記載の
パルス発生回路であって、出力するパルスが通過する経
路を含む回路群と、それ以外の第2の回路群の電源およ
びグランドを分離することを特徴とするパルス発生回
路。
18. The pulse generation circuit according to claim 1, wherein a circuit group including a path through which an output pulse passes, and a power supply and a ground of a second circuit group other than the circuit group. A pulse generation circuit characterized by separating the.
【請求項19】 請求項18に記載のパルス発生回路で
あって、第2の回路群にダミー消費回路を設けたことを
特徴とするパルス発生回路。
19. The pulse generating circuit according to claim 18, wherein a dummy consuming circuit is provided in the second circuit group.
JP2003006768A 2002-01-18 2003-01-15 PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST DEVICE USING PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD Expired - Lifetime JP4149273B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003006768A JP4149273B2 (en) 2002-01-18 2003-01-15 PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST DEVICE USING PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002010741 2002-01-18
JP2002-10741 2002-01-18
JP2003006768A JP4149273B2 (en) 2002-01-18 2003-01-15 PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST DEVICE USING PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003279629A true JP2003279629A (en) 2003-10-02
JP4149273B2 JP4149273B2 (en) 2008-09-10

Family

ID=29253025

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003006768A Expired - Lifetime JP4149273B2 (en) 2002-01-18 2003-01-15 PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST DEVICE USING PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4149273B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005073740A1 (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Advantest Corporation Testing apparatus and testing method
WO2006035604A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Advantest Corporation Current consumption balance circuit, compensation current amount adjusting method, timing generator, and semiconductor testing apparatus
WO2006041063A1 (en) * 2004-10-13 2006-04-20 Advantest Corporation Timing generator and testing apparatus
JP2006191113A (en) * 2005-01-07 2006-07-20 Samsung Electronics Co Ltd Multi-chip package capable of shortening testing time
US20150104011A1 (en) * 2011-09-13 2015-04-16 Combined Conditional Access Development & Support, LLC Preservation of encryption

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005073740A1 (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Advantest Corporation Testing apparatus and testing method
US7409615B2 (en) 2004-01-29 2008-08-05 Advantest Corporation Test apparatus and test method
WO2006035604A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Advantest Corporation Current consumption balance circuit, compensation current amount adjusting method, timing generator, and semiconductor testing apparatus
US7558692B2 (en) 2004-09-27 2009-07-07 Advantest Corp. Consumption current balance circuit, compensation current amount adjusting method, timing generator, and semiconductor testing apparatus
WO2006041063A1 (en) * 2004-10-13 2006-04-20 Advantest Corporation Timing generator and testing apparatus
JP2006112873A (en) * 2004-10-13 2006-04-27 Advantest Corp Timing generator and testing device
US7557560B2 (en) 2004-10-13 2009-07-07 Advantest Corporation Timing generator and test device
JP4669258B2 (en) * 2004-10-13 2011-04-13 株式会社アドバンテスト Timing generator and test apparatus
JP2006191113A (en) * 2005-01-07 2006-07-20 Samsung Electronics Co Ltd Multi-chip package capable of shortening testing time
US20150104011A1 (en) * 2011-09-13 2015-04-16 Combined Conditional Access Development & Support, LLC Preservation of encryption
US11418339B2 (en) * 2011-09-13 2022-08-16 Combined Conditional Access Development & Support, Llc (Ccad) Preservation of encryption

Also Published As

Publication number Publication date
JP4149273B2 (en) 2008-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6326200B2 (en) Circuit and method for measuring
US7036055B2 (en) Arrangements for self-measurement of I/O specifications
JPH11112308A (en) Synchronous delay circuit device
JP2003329742A (en) Multiple scan chain circuit with pin sharing, its test method, and scan vector loading method
US5578938A (en) Semiconductor integrated circuit having a clock skew test circuit
US7080302B2 (en) Semiconductor device and test system therefor
US7373566B2 (en) Semiconductor device for accurate measurement of time parameters in operation
JP4149273B2 (en) PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST DEVICE USING PULSE GENERATION CIRCUIT, SEMICONDUCTOR TEST METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
US7085982B2 (en) Pulse generation circuit and semiconductor tester that uses the pulse generation circuit
KR20130126435A (en) Digital signal generator and automatic test equipment having the same
US6898741B2 (en) Arrangements for self-measurement of I/O timing
US8797082B2 (en) Apparatus and methods for clock characterization
US20070067686A1 (en) Method and apparatus for testing an integrated device&#39;s input/output (I/O)
JP2003329740A (en) Device and method for inspecting semiconductor, and method for manufacturing semiconductor device
US6966022B1 (en) System and method for determining integrated circuit logic speed
US20110181298A1 (en) Measurement apparatus and test apparatus
JP3202722B2 (en) Operation speed evaluation circuit and method for clock synchronous circuit
US8339155B2 (en) System and method for detecting soft-fails
US8578227B2 (en) Delay test device and system-on-chip having the same
JP3442226B2 (en) Integrated circuit with delay evaluation circuit
JP2012255693A (en) Semiconductor integrated circuit and control method thereof
JPH11174125A (en) Semiconductor test circuit
Pei et al. A Low Overhead Leakage Test Structure for TSVs of 3D ICs
JPH11125660A (en) Timing generator for semiconductor test device
Patel et al. On-board setup-hold time measurement using FPGA based adaptive methodology

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050704

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20060516

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080516

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080603

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080625

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4149273

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704

Year of fee payment: 5

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term