JP2003277689A - Coating material composition and substrate coated therewith - Google Patents

Coating material composition and substrate coated therewith

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JP2003277689A
JP2003277689A JP2002086180A JP2002086180A JP2003277689A JP 2003277689 A JP2003277689 A JP 2003277689A JP 2002086180 A JP2002086180 A JP 2002086180A JP 2002086180 A JP2002086180 A JP 2002086180A JP 2003277689 A JP2003277689 A JP 2003277689A
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JP
Japan
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solvent
boiling point
coating
film
substrate
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Application number
JP2002086180A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Tokuyama
恒一 徳山
Katsumi Akata
勝己 赤田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a coating material composition suitable for forming a thin film having decreased color shading caused by color interference and provide a coated substrate having low interference color shading by applying the composition to a substrate. <P>SOLUTION: The coating material composition is composed of a solid component and a solvent component. The solvent contains 5-90 pts.wt. of a low-boiling solvent having a boiling point of 40-100°C, 1-80 pts.wt. of a medium-boiling solvent having a boiling point of 100-150°C and 0.1-50 pts.wt. of a high-boiling solvent having a boiling point of ≥150°C based on 100 pts.wt. of the total solvent components. The coated substrate having decreased color shading by interference and especially useful as an antireflection substrate is produced by coating a surface of a substrate with the coating material composition to form a thin film on the surface. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜形成に適した
塗料組成物及びそれを被覆してなる基材に関するもので
ある。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating composition suitable for thin film formation and a substrate coated with the coating composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明樹脂やガラスなどの基材の表面に反
射防止層を設けた反射防止基材は、各種の光学部品とし
て用いられている。従来から反射防止基材として、基材
の表面に高屈折率層と低屈折率層が順に積層された2層
構成のものや、基材の表面に低屈折率層が設けられた1
層構成のものが知られている。2層構成の反射防止膜の
場合、高屈折率層は基材の屈折率よりも大きい屈折率を
示す層であり、低屈折率層は高屈折率層よりも小さい屈
折率を示す層である。また、1層構成の反射防止膜の場
合、低屈折率層は基材の屈折率よりも小さい屈折率を示
す層である。高屈折率層及び低屈折率層の厚みは通常、
屈折率(n)と厚み(d)との積である光学膜厚(n×
d)で、それぞれ、可視光の波長(λ)の概ね1/4
(λ/4)又は1/2(λ/2)程度となるように調整
される。
2. Description of the Related Art An antireflection substrate having an antireflection layer provided on the surface of a substrate such as transparent resin or glass is used as various optical components. Conventionally, an antireflection substrate having a two-layer structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated on the surface of the substrate, or a low refractive index layer is provided on the surface of the substrate 1
Layered structures are known. In the case of a two-layer antireflection film, the high refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the base material, and the low refractive index layer is a layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer. . In the case of an antireflection film having a one-layer structure, the low refractive index layer is a layer having a refractive index smaller than that of the base material. The thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer is usually
Optical film thickness (n × n), which is the product of refractive index (n) and thickness (d)
In d), each is approximately 1/4 of the wavelength (λ) of visible light.
It is adjusted to be about (λ / 4) or 1/2 (λ / 2).

【0003】こうして反射防止膜が形成された基材は、
反射防止膜及び基材の屈折率、反射防止膜の光学膜厚の
違いなどに起因して、青色〜赤紫色〜赤色の干渉色が反
射光により観察されることがある。この現象は、可視光
が反射防止基材で反射するときに波長依存性があるため
に、反射率の高い波長領域の光が反射光として強く見え
るために発生する。
The substrate on which the antireflection film is formed is
Due to the difference in the refractive index of the antireflection film and the base material, the difference in the optical film thickness of the antireflection film, and the like, interference colors of blue to magenta to red may be observed by the reflected light. This phenomenon occurs because visible light has wavelength dependence when reflected by an antireflection substrate, and thus light in a wavelength region having a high reflectance appears strongly as reflected light.

【0004】ここで、基材に形成した反射防止膜の膜厚
が基材全体で一定であれば、ある干渉色を発色するが、
色ムラのない外観良好な反射防止基材となる。しかし、
反射防止用塗料を基材に塗装した場合、塗装から乾燥、
硬化を経る工程で、基材上における膜厚を完全に均一に
保つことは困難であり、かかる膜厚の不均一さに伴って
干渉色が不均一になり、外観上色ムラのあるものとな
る。このような色ムラ現象は、ディスプレイ用途、特に
基材のサイズが大きなプロジェクションテレビ、プラズ
マディスプレイパネル、液晶モニター等の前面板などの
用途において、大きな問題となる。
Here, if the thickness of the antireflection film formed on the substrate is constant over the entire substrate, a certain interference color is produced,
It becomes an antireflection substrate with good appearance without color unevenness. But,
When anti-reflective paint is applied to the base material, drying from the paint,
In the process of curing, it is difficult to keep the film thickness on the base material completely uniform, and the interference color becomes non-uniform due to the non-uniformity of the film thickness, resulting in uneven color appearance. Become. Such a color unevenness phenomenon becomes a serious problem in display applications, particularly in applications such as projection televisions, plasma display panels, and front plates such as liquid crystal monitors having large base materials.

【0005】一方、基材の表面に光触媒性コーティング
を施すことも広く行われている。光触媒性コーティング
の場合、光触媒層の膜厚は通常1μm 以下で形成される
が、光の干渉による発色が見られ、基材上の塗膜厚さが
不均一であれば、色ムラとして観察されるので、外観上
の意匠面で問題となる。
On the other hand, it is also widely practiced to apply a photocatalytic coating to the surface of a base material. In the case of photocatalytic coating, the film thickness of the photocatalytic layer is usually 1 μm or less, but color development due to light interference is observed, and if the coating film thickness on the substrate is uneven, it is observed as uneven color. Therefore, there is a problem in terms of appearance.

【0006】色ムラを低減する方法としては、塗装方式
の改善、基材に塗料を塗布した後の乾燥工程での溶剤揮
発速度の調整などが挙げられる。特に、色ムラ原因とし
て大きいものに、乾燥工程における基材上の場所による
溶剤揮発速度の不均一性がある。溶剤の揮発速度を一定
とするためには、溶剤の乾燥時間を長くすることが有効
であり、その方法として、一般には、低沸点溶剤から高
沸点溶剤への変更、乾燥ゾーンの温度低下、乾燥炉での
滞留時間の延長などが考えられる。しかし、高沸点溶剤
に変更して乾燥速度を遅くすることは、乾燥工程の時間
を多く取ることになり、生産性の低下を招く。乾燥炉で
の滞留時間の延長は、設備費や場所の問題を伴ってく
る。また、乾燥は通常、常温で行われるため、乾燥ゾー
ンの温度を常温より低くすることは、設備費の増加など
を伴う。
Examples of methods for reducing color unevenness include improving the coating method and adjusting the solvent volatilization rate in the drying step after applying the coating material to the substrate. In particular, a major cause of color unevenness is the non-uniformity of the solvent volatilization rate depending on the location on the substrate in the drying process. In order to keep the evaporation rate of the solvent constant, it is effective to lengthen the drying time of the solvent, and as a method therefor, generally, a low-boiling solvent is changed to a high-boiling solvent, the temperature of the drying zone is lowered, and the drying is performed. It is possible to extend the residence time in the furnace. However, changing the solvent to a high-boiling point solvent to slow down the drying speed requires a lot of time in the drying step, resulting in a decrease in productivity. The extension of the residence time in the drying furnace is accompanied by the problem of equipment cost and space. Moreover, since drying is usually performed at room temperature, lowering the temperature of the drying zone below room temperature is accompanied by an increase in equipment costs.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、塗装後の乾燥を常温で行った場合でも、干渉色によ
る色ムラが低減された反射防止膜などの薄膜を形成する
のに適した塗料組成物を提供し、さらには、それを基材
上に塗布して被膜を形成し、干渉色による色ムラが少な
い被覆基材を提供することにある。
Therefore, the object of the present invention is suitable for forming a thin film such as an antireflection film in which color unevenness due to interference color is reduced even when drying after coating is performed at room temperature. It is to provide a coating composition, and further to apply the composition to a substrate to form a coating film, thereby providing a coated substrate having less color unevenness due to interference color.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる目
的のもとで鋭意研究を行った結果、塗料組成物を構成す
る溶剤成分として、沸点の異なる少なくとも3種を適当
な割合で組み合わせることにより、干渉色による色ムラ
を低減できること、そしてこの塗料を基材に塗布して得
られる被覆基材は、干渉色による色ムラが少なく、反射
防止材料などとして有用であることを見出し、本発明に
至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted earnest research with the objective as a result, and as a result, as a solvent component constituting a coating composition, at least three kinds having different boiling points are combined in an appropriate ratio. Therefore, it was found that the color unevenness due to the interference color can be reduced, and that the coated substrate obtained by applying this coating material to the substrate has little color unevenness due to the interference color and is useful as an antireflection material. Invented.

【0009】すなわち本発明は、固形成分と溶剤成分よ
りなる塗料組成物であって、溶剤成分全体を100重量
部としたときに、沸点が40℃以上100℃未満の低沸
点溶剤を5〜90重量部、沸点が100℃以上150℃
未満の中沸点溶剤を1〜80重量部、及び沸点が150
℃以上の高沸点溶剤を 0.1〜50重量部の割合で含有
する塗料組成物を提供するものである。この塗料組成物
は、薄膜の形成に有効であり、薄膜であっても均一な厚
みで塗膜を形成することができる。また本発明によれ
ば、基材表面に上記塗料組成物を塗布し、被膜を形成し
てなる被覆基材も提供され、この基材は、特に反射防止
基材として有用である。
That is, the present invention is a coating composition consisting of a solid component and a solvent component, and when the total amount of the solvent component is 100 parts by weight, a low boiling point solvent having a boiling point of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. is 5 to 90. Parts by weight, boiling point is 100 ° C or higher and 150 ° C
1 to 80 parts by weight of a medium boiling solvent of less than, and a boiling point of 150
The present invention provides a coating composition containing a high boiling point solvent having a temperature of not less than 0 ° C in a proportion of 0.1 to 50 parts by weight. This coating composition is effective for forming a thin film, and even a thin film can form a coating film with a uniform thickness. Further, according to the present invention, there is also provided a coated substrate obtained by applying the coating composition to the surface of the substrate to form a coating, and this substrate is particularly useful as an antireflection substrate.

【0010】[0010]

【発明の実施形態】本発明では、塗料組成物中の溶剤成
分を、沸点が40℃以上100℃未満の低沸点溶剤、沸
点が100℃以上150℃未満の中沸点溶剤、及び沸点
が150℃以上の高沸点溶剤の少なくとも3種で構成す
る。各沸点範囲にある溶剤を2種類以上用いることも可
能である。なお、ここでいう沸点は、それぞれ1気圧で
の値である。そして、溶剤全体の量を100重量部とし
たときに、低沸点溶剤が5〜90重量部、中沸点溶剤が
1〜80重量部、及び高沸点溶剤が 0.1〜50重量部
の割合となるようにする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a solvent component in a coating composition is a low boiling point solvent having a boiling point of 40 ° C. or higher and lower than 100 ° C., a medium boiling point solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher but lower than 150 ° C., and a boiling point of 150 ° C. At least three of the above high boiling point solvents are used. It is also possible to use two or more kinds of solvents in each boiling range. The boiling points mentioned here are values at 1 atm. When the total amount of the solvent is 100 parts by weight, the proportion of the low boiling point solvent is 5 to 90 parts by weight, the medium boiling point solvent is 1 to 80 parts by weight, and the high boiling point solvent is 0.1 to 50 parts by weight. To be

【0011】このように、低沸点溶剤として1気圧での
沸点が40℃以上100℃未満のもの、中沸点溶剤とし
て1気圧での沸点が100℃以上150℃未満のもの、
そして高沸点溶剤として1気圧での沸点が150℃以上
のものを、それぞれ少なくとも1種類ずつ用いる。それ
ぞれの沸点範囲を満たす溶剤であれば、その種類は特に
限定されないが、以下にそれぞれの沸点範囲に入る溶剤
を例示する。
As described above, the low boiling point solvent has a boiling point of 40 ° C. to less than 100 ° C. at 1 atmosphere, and the medium boiling point solvent has a boiling point of 100 ° C. to less than 150 ° C. at 1 atmospheric pressure.
At least one high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher at 1 atm is used. The type of the solvent is not particularly limited as long as it is a solvent satisfying each boiling point range, but the solvent which falls within each boiling point range is exemplified below.

【0012】1気圧での沸点が40℃以上100℃未満
の低沸点溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ギ
酸エチル、アセトン、酢酸メチル、メタノール、トリフ
ルオロ酢酸、2,2,2−トリフルオロエタノール、酢
酸エチル、エタノール、メチルエチルケトン、プロピオ
ン酸メチル、ギ酸プロピル、2−プロパノール、tert−
ブチルアルコール、酢酸イソプロピル、1−プロパノー
ル、ギ酸イソブチル、プロピオン酸エチル、2−ブタノ
ールなどが挙げられる。
As the low boiling point solvent having a boiling point of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. at 1 atm, for example, diethyl ether, ethyl formate, acetone, methyl acetate, methanol, trifluoroacetic acid, 2,2,2-trifluoroethanol. , Ethyl acetate, ethanol, methyl ethyl ketone, methyl propionate, propyl formate, 2-propanol, tert-
Butyl alcohol, isopropyl acetate, 1-propanol, isobutyl formate, ethyl propionate, 2-butanol and the like can be mentioned.

【0013】1気圧での沸点が100℃以上150℃未
満の中沸点溶剤としては、例えば、水、酢酸n−プロピ
ル、tert−ペンチルアルコール、3−ペンタノン、2−
ペンタノン、酪酸メチル、ギ酸n−ブチル、イソブタノ
ール、トルエン、乳酸ペンチル、酢酸 sec−ブチル、3
−ペンタノール、メチルイソブチルケトン、1−ブタノ
ール、酢酸イソブチル、2−ペンタノール、1−メトキ
シ−2−プロパノール、酪酸エチル、2−メトキシエタ
ノール(別名メチルセロソルブ)、酢酸ブチル、2−ヘ
キサノン、1−クロロ−2−プロパノール、2−メチル
−1−ブタノール、2−クロロエタノール、モルホリ
ン、メシチルオキシド、ギ酸n−アミル、イソペンチル
アルコール、1−エトキシ−2−プロパノール、2−
(ジメチルアミノ)エタノール、2−エトキシエタノー
ル(別名エチルセロソルブ)、エチルベンゼン、エチル
モルホリン、1−ペンタノール、p−キシレン、m−キ
シレン、2−イソプロポキシエタノール、酢酸イソペン
チル、4−ヘプタノン、o−キシレン、2−メトキシエ
チルアセテート、乳酸メチル、プロピオン酸ブチル、メ
トキシプロピルアセテート、酢酸 sec−ヘキシル、酢酸
ペンチルなどが挙げられる。これら中沸点溶剤の中で
も、有機溶剤が好ましく、また有機溶剤と水との併用系
も有効である。
Examples of the medium-boiling point solvent having a boiling point of 100 ° C. or more and less than 150 ° C. at 1 atmosphere include water, n-propyl acetate, tert-pentyl alcohol, 3-pentanone, 2-
Pentanone, methyl butyrate, n-butyl formate, isobutanol, toluene, pentyl lactate, sec-butyl acetate, 3
-Pentanol, methyl isobutyl ketone, 1-butanol, isobutyl acetate, 2-pentanol, 1-methoxy-2-propanol, ethyl butyrate, 2-methoxyethanol (also known as methyl cellosolve), butyl acetate, 2-hexanone, 1- Chloro-2-propanol, 2-methyl-1-butanol, 2-chloroethanol, morpholine, mesityl oxide, n-amyl formate, isopentyl alcohol, 1-ethoxy-2-propanol, 2-
(Dimethylamino) ethanol, 2-ethoxyethanol (also known as ethyl cellosolve), ethylbenzene, ethylmorpholine, 1-pentanol, p-xylene, m-xylene, 2-isopropoxyethanol, isopentyl acetate, 4-heptanone, o-xylene. , 2-methoxyethyl acetate, methyl lactate, butyl propionate, methoxypropyl acetate, sec-hexyl acetate, pentyl acetate and the like. Among these medium boiling solvents, organic solvents are preferable, and a combination system of organic solvent and water is also effective.

【0014】1気圧での沸点が150℃以上の高沸点溶
剤としては、例えば、2−ヘプタノン、イソプロピルベ
ンゼン、乳酸エチル、2−エトキシエチルアセテート、
プロピオン酸イソペンチル、フルフラール、2−(ジエ
チルアミノ)エタノール、2−エチルブチルアセテー
ト、酪酸ブチル、2−(メトキシメトキシ)エタノール、
ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、フルフリ
ルアルコール、2−ブトキシエタノール(別名ブチルセ
ロソルブ)、2−アミノエタノール、アセト酢酸メチ
ル、3−メトキシブチルアセテート、シクロヘキシルア
セテート、1,3−ジクロロ−2−プロパノール、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、ビス(2−クロロエチ
ル)エーテル、アセト酢酸エチル、2−(イソペンチル
オキシ)エタノール、酪酸イソペンチル、乳酸ブチル、
クロロ酢酸、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、アセトニルアセトン、2−ブトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、2−エチルヘキシルアセテート、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、シアノ酢酸メチ
ル、シアノ酢酸エチル、2−(ヘキシルオキシ)エタノ
ール、o−クロロアニリン、3−クロロ−1,2−プロ
パンジオール、酢酸ベンジル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、3−ヒドロキシプロピオ
ノニトリル、サリチル酸メチル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、2−フェノキ
シエタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、2−(ベンジルオキシ)
エタノール、2−フェノキシエチルアセテート、N−フ
ェニルモルホリン、ジエタノールアミン、2,2′−チ
オジエタノール、トリエチレングリコール、トリイソプ
ロパノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げら
れる。
As the high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher at 1 atm, for example, 2-heptanone, isopropylbenzene, ethyl lactate, 2-ethoxyethyl acetate,
Isopentyl propionate, furfural, 2- (diethylamino) ethanol, 2-ethylbutyl acetate, butyl butyrate, 2- (methoxymethoxy) ethanol,
Diisobutyl ketone, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, 2-butoxyethanol (also called butyl cellosolve), 2-aminoethanol, methyl acetoacetate, 3-methoxybutyl acetate, cyclohexyl acetate, 1,3-dichloro-2-propanol, tetrahydrofuran Furyl alcohol, bis (2-chloroethyl) ether, ethyl acetoacetate, 2- (isopentyloxy) ethanol, isopentyl butyrate, butyl lactate,
Chloroacetic acid, dipropylene glycol monomethyl ether, acetonylacetone, 2-butoxyethyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, dipropylene glycol monoethyl ether, 2-ethylhexyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether, methyl cyanoacetate, Ethyl cyanoacetate, 2- (hexyloxy) ethanol, o-chloroaniline, 3-chloro-1,2-propanediol, benzyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, 3-hydroxypropiononitrile, methyl salicylate, diethylene glycol monobutyl ether. , Dipropylene glycol, tripropylene glycol monomethyl ether, 2-phenoxyethanol, di Ji glycol, diethylene glycol monobutyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, 2- (benzyloxy)
Examples thereof include ethanol, 2-phenoxyethyl acetate, N-phenylmorpholine, diethanolamine, 2,2'-thiodiethanol, triethylene glycol, triisopropanolamine, triethanolamine and the like.

【0015】本発明の塗料組成物における固形成分は、
塗布後に溶剤を揮発させたときに被膜を形成するもので
あればいずれも使用することができる。例えば、フッ化
ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロ
プロピレンのようなフルオロオレフィン類、その他フル
オロカーボン類、未硬化の若しくは部分的に硬化したフ
ルオロシリコーン類又はその前駆体、未硬化の若しくは
部分的に硬化したシリコーン類又はその前駆体、未硬化
の若しくは部分的に硬化したシロキサン類又はその前駆
体、シランカップリング剤、シリカ又はその前駆体、チ
タネート類又はその前駆体、ボロンシロキサン類又はそ
の前駆体、不飽和ポリエステル類、エポキシ化合物、ゴ
ム変性エポキシ化合物、エポキシアクリレート類、ウレ
タン類、(メタ)アクリレート類、フッ素系(メタ)ア
クリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、シリ
コーン(メタ)アクリレート類、アクリルスチレン類、
セルロース類、シリコネート類、リン酸(メタ)アクリ
レート類、リン酸エステル類、金属(メタ)アクリレー
ト類のようなモノマー、これらの単独重合体、あるいは
これらの共重合体などを挙げることができる。これらは
特に、反射防止膜の形成に有効である。
The solid component in the coating composition of the present invention is
Any material can be used as long as it forms a film when the solvent is volatilized after coating. For example, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, fluoroolefins such as hexafluoropropylene, other fluorocarbons, uncured or partially cured fluorosilicones or precursors thereof, uncured or partially cured Silicones or their precursors, uncured or partially cured siloxanes or their precursors, silane coupling agents, silica or its precursors, titanates or their precursors, boron siloxanes or their precursors, Saturated polyesters, epoxy compounds, rubber modified epoxy compounds, epoxy acrylates, urethanes, (meth) acrylates, fluorine-based (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, silicone (meth) acrylates, acrylic styrenes ,
Examples thereof include monomers such as celluloses, siliconates, phosphoric acid (meth) acrylates, phosphoric acid esters, metal (meth) acrylates, homopolymers thereof, and copolymers thereof. These are particularly effective for forming an antireflection film.

【0016】また、スチレンアクリロニトリル共重合
体、ポリカーボネート、ナイロン類、ポリオール、酢酸
ビニル樹脂、ビニルアセタール樹脂、アルキド樹脂、ポ
リエーテルポリオール、トリアセチルセルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエステル類、フェノール
樹脂類、ポリエステルイミド類、ポリアミドイミド類、
ポリイミド類、芳香族樹脂類、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、塩化ビニル樹脂、その他ビニル樹脂、ポリスチ
レン、ポリスルフィド類のような各種樹脂類、フッ化カ
ルシウム、フッ化バリウム、ケイ酸ソーダ、リン酸アル
ミニウム、酸化ホウ素のような無機バインダー類なども
使用可能である。
Further, styrene-acrylonitrile copolymers, polycarbonates, nylons, polyols, vinyl acetate resins, vinyl acetal resins, alkyd resins, polyether polyols, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyesters, phenolic resins, polyester imides. , Polyamideimides,
Polyimides, aromatic resins, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride resins, other vinyl resins, polystyrene, various resins such as polysulfides, calcium fluoride, barium fluoride, sodium silicate, aluminum phosphate, boron oxide Such inorganic binders can also be used.

【0017】さらには固形成分として、導電性材料、ま
た、酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(ZnO )、酸化スズ
(SnO2)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タ
ングステン(WO3 )、酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化鉄
(Fe2O3)のような各種光触媒性材料や、磁性材料、無
機塩化合物、その他の無機材料が含まれていてもよい。
Further, as a solid component, a conductive material such as titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), Various photocatalytic materials such as bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnetic materials, inorganic salt compounds, and other inorganic materials may be contained.

【0018】これらの固形成分は、1成分単独で、ある
いは2成分以上の混合物として使用することができる。
本発明では、特に薄膜を形成することを目的としている
ことから、被膜形成性の固形成分は、塗料組成物全体に
対して 0.1〜20重量%程度の濃度となるようにする
のが好ましい。
These solid components can be used alone or as a mixture of two or more components.
In the present invention, since the purpose is particularly to form a thin film, it is preferable that the film-forming solid component has a concentration of about 0.1 to 20% by weight based on the entire coating composition. .

【0019】また、この塗料組成物には、必要に応じ
て、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、光重合開始
剤や熱重合開始剤のような硬化触媒、界面活性剤、撥水
性付与剤、消泡剤、難燃性付与剤、可塑剤、滑剤、染
料、顔料、抗菌剤、殺菌剤、殺虫剤などの添加剤を、1
成分単独で又は2成分以上の混合物として添加使用する
ことが可能である。添加量は、添加剤の種類によって異
なるが、通常は固形成分に対して 0.01〜50重量%
程度である。なお、これらの添加剤は、それ単独では溶
剤を揮発させた後に被膜を形成する成分ではないので、
被膜形成性の固形成分とは区別される。
The coating composition may further contain an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a curing catalyst such as a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, a surfactant, and a water repellency, if necessary. Add additives such as an imparting agent, a defoaming agent, a flame retardant imparting agent, a plasticizer, a lubricant, a dye, a pigment, an antibacterial agent, a bactericidal agent, an insecticide, etc.
The components can be used alone or as a mixture of two or more components. The addition amount varies depending on the kind of the additive, but is usually 0.01 to 50% by weight based on the solid component.
It is a degree. Since these additives are not components that form a film after volatilizing the solvent by themselves,
A distinction is made from the film-forming solid components.

【0020】基材への塗料組成物の塗布は、通常行われ
る方法、例えば、スプレー法、ディッピング法、ロール
コート法、フローコート法、グラビアコート法、スピン
コート法などにより行うことができる。この際、基材の
両面に塗布することもできるし、片面に塗布することも
できる。ディッピング法で片面に塗布する場合は、例え
ば、塗布を望まない面をセパレートフィルム等でシール
して塗料組成物に浸漬し、塗工完了後にシールを剥がす
方法や、2枚の基板を非塗布面で重ねて周囲をシールし
た状態で塗料組成物に浸漬し、塗工完了後にシールを剥
がして2枚の基板を分離する方法などが採用できる。
The coating composition can be applied to the substrate by a commonly used method, for example, a spray method, a dipping method, a roll coating method, a flow coating method, a gravure coating method or a spin coating method. At this time, it can be applied to both sides of the base material, or can be applied to one side. When applying to one side by the dipping method, for example, a surface not desired to be applied is sealed with a separate film or the like, immersed in a coating composition, and the seal is peeled off after completion of coating, or two substrates are not applied It is possible to adopt a method in which two substrates are separated by immersing in a coating composition in a state where they are overlapped with each other and the periphery is sealed, and the seal is peeled off after completion of coating.

【0021】得られる塗膜を常温で乾燥すれば、色ムラ
の少ない被膜を形成することができる。ここで常温と
は、通常0〜40℃の範囲であり、好ましくは10〜3
5℃の範囲、さらに好ましくは20〜30℃の範囲であ
る。ただし、本発明の薄膜形成用塗料は、溶剤組成によ
っては、常温以下又は常温以上の乾燥温度でも、色ムラ
低減に対して効果を示す場合がある。
If the obtained coating film is dried at room temperature, a coating film with less color unevenness can be formed. Here, the room temperature is usually in the range of 0 to 40 ° C, preferably 10 to 3
It is in the range of 5 ° C, and more preferably in the range of 20 to 30 ° C. However, depending on the solvent composition, the thin film-forming coating material of the present invention may show an effect of reducing color unevenness even at a drying temperature of room temperature or lower or room temperature or higher.

【0022】塗布後に常温で乾燥を行った場合、溶剤成
分全体の量を100重量部としたときの低沸点溶剤が5
重量部よりも少ないと、色ムラのない被膜を得るために
乾燥時間が長くかかるので、生産効率上よくない。低沸
点溶剤が90重量部よりも多いと、常温での乾燥速度が
速くなるため、レベリング作用で均一な被膜になる前に
乾燥し、色ムラのある被膜となる。低沸点溶剤は、溶剤
成分全体の量100重量部に対して、10重量部以上、
さらには20重量部以上とするのが一層好ましく、また
80重量部以下、さらには60重量部以下とするのが一
層好ましい。
When the coating composition is dried at room temperature, the low boiling point solvent is 5 when the total amount of the solvent components is 100 parts by weight.
If the amount is less than the amount by weight, it takes a long time to dry in order to obtain a film without color unevenness, which is not good in terms of production efficiency. When the amount of the low boiling point solvent is more than 90 parts by weight, the drying speed at room temperature is high, so that the film is dried before the uniform film is formed by the leveling action, and the film becomes uneven in color. The low boiling point solvent is 10 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the entire solvent component,
More preferably, the amount is 20 parts by weight or more, more preferably 80 parts by weight or less, and further preferably 60 parts by weight or less.

【0023】また、溶剤成分全体の量を100重量部と
したときの中沸点溶剤が1重量部よりも少ないとき、又
は80重量部よりも多いときは、色ムラのある被膜とな
りやすい。中沸点溶剤は、溶剤成分全体の量100重量
部に対して、2重量部以上、さらには10重量部以上、
とりわけ20重量部以上とするのが一層好ましく、また
75重量部以下、さらには70重量部以下とするのが一
層好ましい。
Further, when the amount of the medium boiling point solvent is less than 1 part by weight or more than 80 parts by weight when the total amount of the solvent components is 100 parts by weight, a film with uneven color tends to be formed. The medium boiling point solvent is 2 parts by weight or more, further 10 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the entire solvent component.
In particular, it is more preferably 20 parts by weight or more, 75 parts by weight or less, and further 70 parts by weight or less.

【0024】さらに、溶剤成分全体の量を100重量部
としたときの高沸点溶剤が 0.1重量部よりも少ないと
き、又は50重量部よりも多いときは、やはり色ムラの
ある被膜となりやすい。高沸点溶剤は、溶剤成分全体の
量100重量部に対して、1重量部以上、さらには2重
量部以上とするのが一層好ましく、また40重量部以
下、さらには30重量部以下とするのが一層好ましい。
Furthermore, when the amount of the high boiling point solvent is less than 0.1 parts by weight or more than 50 parts by weight, when the total amount of the solvent components is 100 parts by weight, a coating film with uneven color tends to be formed. . The high boiling point solvent is more preferably 1 part by weight or more, further preferably 2 parts by weight or more, and 40 parts by weight or less, further 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the entire solvent component. Is more preferable.

【0025】塗布後に常温乾燥し、次いで一般には被膜
の硬化処理が施されるが、この硬化処理には、被膜の性
質、基材の耐久性、発現させる物性などに応じて、常温
放置による硬化、加熱硬化、活性エネルギー線の照射に
よる硬化、加熱乾燥後に活性エネルギー線の照射による
硬化など、通常の硬化法を用いることができる。
After coating, the coating is dried at room temperature, and then the coating is generally cured. This curing treatment involves curing at room temperature, depending on the properties of the coating, the durability of the substrate, and the physical properties to be exhibited. Ordinary curing methods such as heat curing, curing by irradiation with active energy rays, and curing by irradiation with active energy rays after drying by heating can be used.

【0026】基材に形成する被膜は、発現させる機能に
応じて、1層でもよいし、多層にしてもよい。多層にす
るときは、各層同一成分の塗料組成物を適用すること
も、また異なる組成の塗料組成物を適用することも可能
である。例えば、低反射基材を得る場合には、基材の屈
折率に対して低屈折率の光学膜厚の被膜を1層形成して
もよいし、基材の屈折率に対して高屈折率の光学膜厚の
被膜を1層形成し、さらに高屈折率被膜よりも屈折率の
低い光学膜厚の被膜を形成してもよい。その他、低反射
性能に応じて、様々な多層構成が可能である。
The coating formed on the substrate may be a single layer or multiple layers depending on the function to be exerted. In the case of multiple layers, it is possible to apply a coating composition having the same components for each layer or a coating composition having a different composition. For example, in the case of obtaining a low reflection base material, one layer of an optical film having a low refractive index with respect to the base material may be formed, or a high refractive index with respect to the base material. It is also possible to form one layer of a film having an optical film thickness of, and further form a film having an optical film thickness lower than that of the high refractive index film. In addition, various multilayer structures are possible depending on the low reflection performance.

【0027】この塗料組成物を基材の表面に塗布して被
膜を形成したときに、膜厚が1μm以下の薄膜の場合、
特に光学膜厚がλ/4やλ/2程度の薄膜の場合には、
干渉色による発色を強く生じるため、色ムラ低減効果に
優れたものとなるが、膜厚が1μm よりも厚い場合にも
色ムラ低減効果を示す場合があるので、有効である。
When this coating composition is applied to the surface of a substrate to form a film, and the film is a thin film having a thickness of 1 μm or less,
Especially in the case of a thin film having an optical film thickness of about λ / 4 or λ / 2,
Since the color development due to the interference color is strongly generated, the color unevenness reducing effect is excellent, but it is effective because the color unevenness reducing effect may be exhibited even when the film thickness is thicker than 1 μm.

【0028】本発明の塗料組成物は、基材に塗布して被
膜を形成するのに使用される。基材としては、ガラス、
セラミックス、金属のような無機基材、ポリメタクリル
酸メチル、メタクリル酸メチルを主構成単位とする共重
合体(これらメタクリル酸メチルの単独重合体又はそれ
を主構成単位とする共重合体は、一般にアクリル樹脂と
かメタクリル樹脂とか呼ばれる)、ポリスチレン、スチ
レン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、ポリカーボネート、トリアセチル
セルロース、ポリエチレンテレフタレート、セルロース
アセテートブチレートのようなプラスチック基材、無機
物と有機物のハイブリッド基材などが使用可能である。
基材中には、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、着
色剤などの添加剤が含まれていても構わない。基材の形
状は特に限定されるものでなく、通常は、フィルム状や
シート状のものが有利に使用されるが、成形品などの異
型状のものも使用可能である。基材の厚みも特に限定さ
れないが、通常 0.01〜50mm程度のものが使用され
る。
The coating composition of the present invention is used for coating a substrate to form a film. As the base material, glass,
Inorganic substrates such as ceramics and metals, polymethylmethacrylate, copolymers having methylmethacrylate as a main constituent unit (the homopolymers of these methylmethacrylates or copolymers having a main constituent unit thereof are generally Acrylic resin or methacrylic resin), polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, plastic substrates such as cellulose acetate butyrate, inorganic and organic substances. It is possible to use the hybrid base material of.
The base material may contain additives such as an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant and a colorant. The shape of the substrate is not particularly limited, and normally, a film-shaped or sheet-shaped one is advantageously used, but a deformed shape such as a molded product can also be used. Although the thickness of the base material is not particularly limited, a base material having a thickness of about 0.01 to 50 mm is usually used.

【0029】また、本発明の塗料組成物によって被覆さ
れたフィルム状のものを基材や成形品に貼合し、一体成
形品として使用することも可能である。上記塗料組成物
で被覆されたフィルムをシート状基材に積層一体化する
成形法としては、例えば、フィルムとシート状基材とを
それぞれ別個に用意し、加熱ロール間で連続的にラミネ
ートする方法、プレスで熱圧着する方法、接着層を介在
させてラミネートするウェットラミネーション法などが
挙げられる。基材が熱可塑性の場合には、圧空又は真空
成形すると同時に積層する方法、予め塗膜を形成した樹
脂フィルムに、Tダイから溶融押出しされるもう一方の
樹脂をラミネートする方法、フィルムを射出成形の雌雄
金型間に挿入し、その金型の一方の側から溶融樹脂を射
出して、射出成形体を形成すると同時にその成形体に上
記フィルムを貼合する方法、このフィルムを予備成形し
てから射出成形金型内に挿入し、金型の一方の側から溶
融樹脂を射出してフィルムと一体化する方法、このフィ
ルムを射出成形金型内で予備成形した後、その金型の一
方の側から溶融樹脂を射出してフィルムと一体化する方
法などを採用することもできる。
It is also possible to bond a film-like material coated with the coating composition of the present invention to a substrate or a molded product and use it as an integrally molded product. As a molding method for laminating and integrating a film coated with the coating composition on a sheet-shaped substrate, for example, a method in which a film and a sheet-shaped substrate are separately prepared and continuously laminated between heating rolls Examples of the method include a method of thermocompression bonding with a press and a wet lamination method of laminating with an adhesive layer interposed. When the base material is thermoplastic, a method of simultaneously laminating under pressure or vacuum forming, a method of laminating another resin melt-extruded from a T die on a resin film on which a coating film has been formed in advance, and a film injection molding The method of inserting between the male and female molds and injecting the molten resin from one side of the mold to form an injection molded body and at the same time laminating the film to the molded body, preforming this film. From the mold and then inject the molten resin from one side of the mold to integrate with the film, after pre-molding this film in the injection mold, It is also possible to adopt a method of injecting a molten resin from the side to integrate it with the film.

【0030】基材として、表面の少なくとも一部にアン
ダーコート被膜を1層又は複数層形成させたものも使用
可能である。アンダーコート被膜の形成方法は特に限定
されず、例えば、スプレー法、ディッピング法、ロール
コート法、フローコート法、グラビアコート法、スピン
コート法のようなウェット塗布法、真空蒸着、スパッタ
リングのようなドライ法などが使用可能である。アンダ
ーコート被膜の機能としては、例えば、ハードコート
性、帯電防止性、導電性、高屈折率性、薄膜被膜との密
着改良性などが挙げられる。
As the substrate, it is possible to use a substrate having one or more undercoat films formed on at least a part of the surface. The method for forming the undercoat film is not particularly limited, and examples thereof include a spray method, a dipping method, a roll coating method, a flow coating method, a gravure coating method, a wet coating method such as a spin coating method, a vacuum deposition method, and a dry coating method such as sputtering. Law etc. can be used. The functions of the undercoat film include, for example, hard coat property, antistatic property, conductivity, high refractive index property, and adhesion improving property with a thin film film.

【0031】本発明により得られる被膜は、塗料組成物
を構成する固形成分や添加剤を適当に選択することによ
って、反射防止性、光触媒性、撥水性、防水性、防曇
性、親水性、帯電防止性、導電性、電磁波シールド性、
絶縁性、防汚性、滑り止め性、電波吸収性、光反射性、
再帰反射性、熱吸収性、熱遮蔽性、張り紙防止性、非粘
着性、耐薬品性、ハードコート性、耐汗性、耐寒性、防
音性、防錆性、防振性、紫外線劣化防止性、殺虫性、抗
菌性、防カビ性、磁性、耐熱性、結露防止性などの機能
を有するものとすることができる。またこの被膜は、基
材及び下塗りへの保護材料や、トップコート層へ適用も
可能である。したがって、本発明による被膜が形成され
た基材は、上記の機能が付与された機能性基材として有
用であり、例えば、プロジェクションテレビ用前面板、
プラズマディスプレイパネル用前面板、液晶表示装置の
前面板、液晶表示装置の最表面に配置される偏光フィル
ムなど、各種表示装置の部材、また、光学レンズ、光学
フィルム、めがねレンズ、光ファイバーのクラッド材
料、導光板などの光学部品、防音板、看板、標識、建築
材料、水槽、自動車計器カバー、太陽電池カバー、ショ
ーウィンドウガラス、その他保護カバーとして使用する
ことができる。
The coating film obtained by the present invention has antireflection property, photocatalytic property, water repellency, waterproof property, antifogging property, hydrophilic property, by appropriately selecting solid components and additives constituting the coating composition. Antistatic property, conductivity, electromagnetic wave shielding property,
Insulation, antifouling, non-slip, radio wave absorption, light reflection,
Retroreflective property, heat absorption property, heat shielding property, anti-adhesive property, non-adhesive property, chemical resistance, hard coat property, sweat resistance, cold resistance, soundproofing property, rustproof property, antivibration property, and UV deterioration prevention property. , Insecticidal properties, antibacterial properties, antifungal properties, magnetism, heat resistance, anti-condensation properties, and the like. Further, this coating can be applied to a protective material for a base material and an undercoat, or a top coat layer. Therefore, the base material on which the coating according to the present invention is formed is useful as a functional base material to which the above-mentioned function is imparted, for example, a front plate for a projection television,
Plasma display panel front plate, liquid crystal display front plate, a polarizing film disposed on the outermost surface of the liquid crystal display, various display members, optical lenses, optical films, eyeglass lenses, optical fiber clad material, It can be used as an optical component such as a light guide plate, a soundproof plate, a sign, a sign, a building material, an aquarium, an automobile instrument cover, a solar cell cover, a show window glass, and other protective covers.

【0032】[0032]

【実施例】以下、実施例を示して、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はこれらの例によって限定される
ものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%及び
部は、特記ないかぎり重量基準である。
The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples,% and parts indicating the content or the amount used are based on weight unless otherwise specified.

【0033】実施例1〜3及び比較例1〜3 (A)基材の作製 (A-1) ハードコート層の形成 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを17部、
シクロヘキシルアクリレートを3部、N−ビニルピロリ
ドンを2部、重合開始剤としての2−メチル−1−〔4
−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン
−1−オンを2部、溶剤としてのメチルエチルケトン4
0部及びジアセトンアルコールを36部含有する組成物
を、ハードコート剤として用いた。住友化学工業(株)
製で厚み2mmのアクリル樹脂板“スミペックス E”を上
記ハードコート剤に浸漬し、引上げ速度50cm/分で引
き上げてディピング塗布を行った。次に40℃で10分
間乾燥した後、紫外線を照射して、上記アクリル樹脂板
の両面にハードコート層を設けた。このハードコート層
は、帯電防止性能を有している。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 (A) Preparation of Substrate (A-1) Formation of Hard Coat Layer 17 parts of dipentaerythritol hexaacrylate,
3 parts of cyclohexyl acrylate, 2 parts of N-vinylpyrrolidone, 2-methyl-1- [4 as a polymerization initiator
2 parts of-(methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, methyl ethyl ketone 4 as a solvent
A composition containing 0 part and 36 parts of diacetone alcohol was used as a hard coat agent. Sumitomo Chemical Co., Ltd.
An acrylic resin plate "SUMIPEX E" having a thickness of 2 mm was dipped in the above hard coating agent and pulled up at a pulling rate of 50 cm / min for dipping coating. Next, it was dried at 40 ° C. for 10 minutes and then irradiated with ultraviolet rays to form hard coat layers on both surfaces of the acrylic resin plate. This hard coat layer has antistatic performance.

【0034】(A-2) 高屈折率層の形成 ペンタエリスリトールトリアクリレート1.0部、テト
ラエトキシシラン0.1部、平均一次粒子径0.01μm
の酸化ジルコニウム粒子1.7部、重合開始剤としての
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン0.2部
、及び溶剤としてのイソブタノール97部を混合し
て、高屈折率層用コーティング組成物とした。この高屈
折率層用コーティング組成物に、上記(A-1) で得たハー
ドコート層を有するアクリル樹脂板を浸漬し、引上げ速
度40cm/分で引き上げてディピング塗布を行った。次
に40℃で10分間乾燥した後、紫外線を照射して、ハ
ードコート層の上に厚み約80nmの高屈折率層を設け
た。こうして両面にハードコート層と高屈折率層の順で
形成されたアクリル樹脂板を得、これを基材とした。
(A-2) Formation of High Refractive Index Layer Pentaerythritol triacrylate 1.0 part, tetraethoxysilane 0.1 part, average primary particle diameter 0.01 μm
1.7 parts of zirconium oxide particles, 0.2 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a polymerization initiator, and 97 parts of isobutanol as a solvent were mixed to obtain a coating composition for a high refractive index layer. The acrylic resin plate having the hard coat layer obtained in (A-1) above was dipped in the coating composition for a high refractive index layer, and pulled up at a pulling rate of 40 cm / min to perform dipping coating. Next, it was dried at 40 ° C. for 10 minutes and then irradiated with ultraviolet rays to form a high refractive index layer having a thickness of about 80 nm on the hard coat layer. Thus, an acrylic resin plate having a hard coat layer and a high refractive index layer formed on both sides in this order was obtained, and this was used as a base material.

【0035】(B)塗料組成物の調製 テトラメトキシシランに、それと同重量の0.1N塩酸
(1,000cm3 あたり0.1モルの HClを含有する
水溶液)を加え、そこに溶剤のメタノールを混合し、さ
らに、溶剤組成が各例ごとに表1に示す値となるよう
に、それぞれの溶剤を加えて希釈し、固形成分濃度1.
2%、溶剤量98.8%の塗料組成物を調製した。な
お、表1では、溶剤全体の量を100%として各成分の
割合を表示している。
(B) Preparation of coating composition To tetramethoxysilane, the same weight of 0.1N hydrochloric acid (aqueous solution containing 0.1 mol of HCl per 1,000 cm 3 ) was added, and the solvent methanol was added thereto. Mix and further dilute by adding each solvent so that the solvent composition becomes the value shown in Table 1 for each example, the solid component concentration 1.
A coating composition having 2% and a solvent amount of 98.8% was prepared. In addition, in Table 1, the ratio of each component is shown with the total amount of the solvent being 100%.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】(C)塗布及び色ムラ評価 上記(B)で調製した塗料組成物を用い、(A)で作製
した基材の高屈折率層の上にディッピング法により塗膜
を形成し、さらに乾燥、硬化を行って反射防止基材を作
製し、評価した。ここでは、ディッピング法により強制
的に色ムラを発生させる条件として、次のとおりの評価
方法を採用した。すなわち、物体をX軸方向(垂直方
向)に正確な速度で移動・停止させるための装置であっ
て、シグマ光機(株)製の高剛性精密型X軸ステージ
“Model CKR45-500X(Z)”、 及びそれを駆動・制御する
ためのステージコントローラー“MARK-21ED”を用い、
以下の順番で操作してディッピング塗布を行い、色ムラ
を評価して、結果を表2に示した。なお、各例で形成し
た低屈折率層の厚みはいずれも100nm前後であった。
(C) Coating and color unevenness evaluation Using the coating composition prepared in the above (B), a coating film was formed on the high refractive index layer of the substrate prepared in (A) by the dipping method, and further, An antireflection substrate was prepared by drying and curing and evaluated. Here, the following evaluation method was adopted as a condition for forcibly causing color unevenness by the dipping method. That is, a device for moving and stopping an object in the X-axis direction (vertical direction) at an accurate speed, which is a high-rigidity precision X-axis stage “Model CKR45-500X (Z)” manufactured by Sigma Optical Co., Ltd. ", And using the stage controller" MARK-21ED "to drive and control it,
The operations were performed in the following order, dipping coating was performed, color unevenness was evaluated, and the results are shown in Table 2. The thickness of the low refractive index layer formed in each example was about 100 nm.

【0038】上記装置を利用して、デッピィング法に
より200cm/分で降下し、基材が完全に浸漬した状態
で10秒間静止する。 次に引き上げ速度40cm/分で引き上げ、その際強制
的に色ムラを発生させやすくするため、5.68mm 引き
上げる毎に、停止→引上げ→停止→引上げ……を繰り返
す。 デッピング塗布後、ウェットで水平方向に発生したす
じが上下方向となるよう直ちに横吊りにして、さらに色
ムラを発生させやすくする。 この状態にて、室温で10分間乾燥させた後、80℃
で20分間加熱して低屈折率層を形成し、その外観を観
察して以下の基準で評価する。
Using the above apparatus, the substrate was lowered at a rate of 200 cm / min by the depping method, and the substrate was allowed to stand still for 10 seconds while being completely immersed. Next, pulling up at a pulling speed of 40 cm / min, and in order to make it easier to forcibly generate color unevenness at that time, every time it is pulled up by 5.68 mm, stop → pull → stop → pull… is repeated. Immediately after the dipping application, the horizontal lines are hung so that the stripes generated in the horizontal direction in the wet direction are in the vertical direction so that color unevenness is more likely to occur. In this state, after drying for 10 minutes at room temperature, 80 ℃
It is heated for 20 minutes to form a low refractive index layer, and its appearance is observed and evaluated according to the following criteria.

【0039】 ◎:色ムラが認められない。 ○:色ムラがほとんど認められない。 △:色ムラがわずかに認められる。 ×:色ムラが顕著に認められる。[0039] ⊚: No color unevenness is observed. B: Almost no color unevenness is observed. Δ: Color unevenness is slightly observed. X: Color unevenness is noticeable.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明によれば、沸点の異なる少なくと
も3種の溶剤を特定組成で組み合わせることで、薄膜で
あっても色ムラの少ない塗膜を形成できる塗料組成物が
得られる。そして、この塗料組成物からの被膜が形成さ
れた基材は、反射防止基材として特に有用である。
According to the present invention, by combining at least three kinds of solvents having different boiling points with a specific composition, it is possible to obtain a coating composition capable of forming a coating film with little color unevenness even if it is a thin film. The base material having a coating formed from this coating composition is particularly useful as an antireflection base material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2K009 AA05 AA15 BB02 BB06 BB13 BB14 BB24 CC03 CC09 CC24 CC26 CC33 CC34 CC35 CC38 CC42 DD02 DD06 DD09 4D075 BB92Z CA02 CB02 DA04 DA06 DA23 DB01 DB13 DB14 DB33 DB37 DB43 DB48 DC01 DC11 DC24 EA06 EA21 EB13 EB14 EB15 EB17 EB18 EB19 EB22 EB32 EB33 EB35 EB36 EB37 EB38 EB39 EB56 EC30 EC52 EC54 4J038 EA011 HA156 JA05 JA19 JA20 JA26 JA27 JA33 JA34 JA37 JA56 JA64 JA68 JA70 JB06 JB09 JB39 KA06 NA19   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2K009 AA05 AA15 BB02 BB06 BB13                       BB14 BB24 CC03 CC09 CC24                       CC26 CC33 CC34 CC35 CC38                       CC42 DD02 DD06 DD09                 4D075 BB92Z CA02 CB02 DA04                       DA06 DA23 DB01 DB13 DB14                       DB33 DB37 DB43 DB48 DC01                       DC11 DC24 EA06 EA21 EB13                       EB14 EB15 EB17 EB18 EB19                       EB22 EB32 EB33 EB35 EB36                       EB37 EB38 EB39 EB56 EC30                       EC52 EC54                 4J038 EA011 HA156 JA05 JA19                       JA20 JA26 JA27 JA33 JA34                       JA37 JA56 JA64 JA68 JA70                       JB06 JB09 JB39 KA06 NA19

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】固形成分と溶剤成分よりなる塗料組成物で
あって、該溶剤成分の全体を100重量部としたとき
に、沸点が40℃以上100℃未満の低沸点溶剤を5〜
90重量部、沸点が100℃以上150℃未満の中沸点
溶剤を1〜80重量部、及び沸点が150℃以上の高沸
点溶剤を 0.1〜50重量部の割合で含有することを特
徴とする塗料組成物。
1. A coating composition comprising a solid component and a solvent component, wherein when the total amount of the solvent component is 100 parts by weight, a low boiling point solvent having a boiling point of 40 ° C. or more and less than 100 ° C. is 5 to 5.
90 parts by weight, 1 to 80 parts by weight of a medium boiling point solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher and lower than 150 ° C., and 0.1 to 50 parts by weight of a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, Coating composition.
【請求項2】塗料組成物全体における固形成分の濃度が
0.1〜20重量%である請求項1記載の塗料組成物。
2. The coating composition according to claim 1, wherein the concentration of the solid component in the entire coating composition is 0.1 to 20% by weight.
【請求項3】基材表面に、請求項1又は2記載の塗料組
成物を塗布し、被膜を形成してなることを特徴とする被
覆基材。
3. A coated substrate, which is obtained by applying the coating composition according to claim 1 or 2 to the surface of the substrate to form a film.
【請求項4】被膜の厚みが1μm 以下である請求項3記
載の被覆基材。
4. The coated substrate according to claim 3, wherein the coating has a thickness of 1 μm or less.
【請求項5】被膜が反射防止膜である請求項3又は4記
載の被覆基材。
5. The coated substrate according to claim 3, wherein the coating film is an antireflection film.
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