JP2003268111A - Resin for lens - Google Patents

Resin for lens

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JP2003268111A
JP2003268111A JP2002078585A JP2002078585A JP2003268111A JP 2003268111 A JP2003268111 A JP 2003268111A JP 2002078585 A JP2002078585 A JP 2002078585A JP 2002078585 A JP2002078585 A JP 2002078585A JP 2003268111 A JP2003268111 A JP 2003268111A
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JP
Japan
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group
bis
acid
hydroxyphenyl
residue
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Application number
JP2002078585A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Sugimura
正宏 杉村
Keijiro Takanishi
慶次郎 高西
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermoplastic resin for a lens having a high refractive index and a high Abbe's number with improved color tone. <P>SOLUTION: This resin comprises a phosphonic residue expressed by the formula (1) (R is a 1-20C hydrocarbon group; X denotes oxygen, sulfur or selenium), a bivalent phenolic residue expressed by the formula (2) (R's are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a 1-20C aliphatic hydrocarbon group, a 1-20C aromatic hydrocarbon group, a halogen atom and a nitro group; p and q are each an integer satisfying p+q=0 to 8; Y is selected from the group consisting of a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom and a specified substituent group) and a carbonate residue, the mole fractions of the phosphonic residue and the carbonate residue satisfy the inequality (3): 1>(a)/[(a)+(b)]≥0.05 (wherein (a) and (b) denote mole numbers of the phosphonic residue and the carbonate residue, respectively.) and the content of sodium is less than 5 ppm. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、着色問題と耐熱性
が改善された高屈折率、高分散性のレンズ用樹脂に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin for lenses having a high refractive index and a high dispersibility, which has improved coloring problems and heat resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】無色透明材料の主要な用途として光学レ
ンズがあるが、その中で眼鏡用レンズについては、薄型
化、軽量化、ファッション性等の観点から活発な材料開
発が行われている。現在では耐衝撃性、軽量性等の利点
から、市場の90%は樹脂レンズが占めるようになって
いる。
2. Description of the Related Art Optical lenses are used mainly as colorless transparent materials. Among them, spectacle lenses are being actively developed from the viewpoints of thinning, weight saving and fashionability. At present, 90% of the market is occupied by resin lenses due to advantages such as impact resistance and light weight.

【0003】従来の眼鏡レンズ用樹脂はCR39、アク
リル、ウレタンの3つに大別され(特開平06−016
729号公報など)、低分散、高屈折を目指して多くの
樹脂が開発実用化されている。これらの樹脂はすべて熱
硬化性であるため、光学レンズへの成形は注型重合が用
いられるが、この方法は重合時間が長く、その後のアニ
ーリングプロセスなど、製造コストが高いという問題点
がある。
Conventional spectacle lens resins are roughly classified into CR39, acrylic, and urethane (Japanese Patent Laid-Open No. 06-016).
No. 729, etc.), many resins have been developed and put to practical use aiming at low dispersion and high refraction. Since all of these resins are thermosetting, casting polymerization is used for molding into an optical lens, but this method has a problem that the polymerization time is long and the manufacturing cost is high, such as the subsequent annealing process.

【0004】一方、熱可塑性光学用樹脂の代表的なもの
としてポリカーボネートがある。これはその無色透明性
や耐衝撃性を生かしてディスク用基板等に用いられてい
る。この樹脂をレンズに適用する場合、熱可塑性である
ため成形性がよく、熱硬化性樹脂に比べ格段にレンズ製
造コストを安くできるという利点がある。しかし、屈折
率が低いため(1.58)眼鏡レンズ用途としては保護
眼鏡程度にしか適用されていない。またポリカーボネー
ト以外の芳香族系の熱可塑性樹脂は、屈折率は高いもの
の高分散性、着色性等の問題があり、光学レンズ用途に
は適用できない。
On the other hand, polycarbonate is a typical thermoplastic optical resin. This is used for a disk substrate or the like by taking advantage of its colorless transparency and impact resistance. When this resin is applied to a lens, it has an advantage that it has good moldability because it is thermoplastic and that the lens manufacturing cost can be significantly reduced as compared with a thermosetting resin. However, because of its low refractive index (1.58), it is applied only to protective eyeglasses as an eyeglass lens application. Aromatic thermoplastic resins other than polycarbonate have a high refractive index but have problems such as high dispersibility and colorability, and thus cannot be applied to optical lens applications.

【0005】このような中、ホスホン酸残基を主鎖中に
有する熱可塑性樹脂(米国特許第6,288,210
号)は高屈折、低分散であることから眼鏡レンズ用途に
好適な特性を有する樹脂である。しかしながら、ホスホ
ン酸残基を有する樹脂溶解性・融解性などが悪いことか
らレンズを成形した場合に白濁するという問題もあっ
た。さらに、製造の際に着色するという問題や耐熱性が
悪いという問題もあった。その結果、高屈折率、低分散
と言う特徴を活かしきれず、その用途は限定的であっ
た。
Under these circumstances, a thermoplastic resin having a phosphonic acid residue in its main chain (US Pat. No. 6,288,210)
No.) is a resin having properties suitable for spectacle lens applications because of its high refraction and low dispersion. However, since the resin having a phosphonic acid residue has poor solubility / meltability, there is also a problem of clouding when a lens is molded. Further, there is a problem of coloring during manufacturing and a problem of poor heat resistance. As a result, the features of high refractive index and low dispersion cannot be fully utilized, and their use is limited.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、か
かる従来技術の背景に鑑み、製造の際の着色の原因を同
定し、着色の問題を解決したレンズ用の樹脂を提供する
ものである。
Therefore, in view of such background of the prior art, the present invention provides a resin for a lens in which the cause of coloring during manufacturing is identified and the coloring problem is solved. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、以下の構成を有するものである。すなわ
ち、(A)下記一般式(1)で示されるホスホン酸残
基、および下記一般式(2)で示される2価フェノール
残基およびカーボネート残基を含み、かつホスホン酸残
基とカーボネート残基のモル分率が式(3)を満足し、
かつナトリウムの含有量が5ppm未満であることを特
徴とするレンズ用樹脂、 一般式(1)
To solve the above problems, the present invention has the following constitution. That is, (A) contains a phosphonic acid residue represented by the following general formula (1) and a divalent phenol residue and a carbonate residue represented by the following general formula (2), and contains a phosphonic acid residue and a carbonate residue. The mole fraction of satisfies Equation (3),
And a resin for lenses, characterized in that the content of sodium is less than 5 ppm, the general formula (1)

【0008】[0008]

【化7】 [Chemical 7]

【0009】一般式(2)General formula (2)

【0010】[0010]

【化8】 [Chemical 8]

【0011】[式(1)中Rは炭素数1〜20の炭化水
素基、Xは酸素、硫黄あるいはセレンを表す。式(2)
中R'は各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族
炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロ
ゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ
る。p、qはp+q=0〜8の整数、Yは単結合、酸素
原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シク
ロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アル
キレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリ
デン基、カルボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィン
オキシド基、芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシ
ラン基、ジアルキルシラン基、フルオレン基、分岐鎖含
有アルキリデン基、分岐鎖含有シクロアルキリデン基か
らなる群から選ばれる。] 1> (a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
基のモル数を示す。](B) 上記(A)記載の一般式
(2)が下記一般式(4)〜(7)のいずれかで表され
ることを特徴とするレンズ用樹脂。 一般式(4)
[In the formula (1), R represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and X represents oxygen, sulfur or selenium. Formula (2)
Each R'is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group. p and q are integers of p + q = 0 to 8, Y is a single bond, oxygen atom, sulfur atom, alkylene group, alkylidene group, cycloalkylene group, cycloalkylidene group, halo-substituted alkylene group, halo-substituted alkylidene group, phenylalkylidene group. A carbonyl group, a sulfone group, an aliphatic phosphine oxide group, an aromatic phosphine oxide group, an alkylsilane group, a dialkylsilane group, a fluorene group, a branched chain-containing alkylidene group, and a branched chain-containing cycloalkylidene group. 1> (a) / [(a) + (b)] ≧ 0.05 (3) [where (a) represents the phosphonic acid residue and (b) represents the number of moles of the carbonate residue.] ] (B) A resin for a lens, wherein the general formula (2) described in the above (A) is represented by any one of the following general formulas (4) to (7). General formula (4)

【0012】[0012]

【化9】 [Chemical 9]

【0013】一般式(5)General formula (5)

【0014】[0014]

【化10】 [Chemical 10]

【0015】一般式(6)General formula (6)

【0016】[0016]

【化11】 [Chemical 11]

【0017】一般式(7)General formula (7)

【0018】[0018]

【化12】 [Chemical 12]

【0019】(C)前記の樹脂は、ホスホナイト残基を
含有し、かつ前記ホスホナイト残基の含有比が前記ホス
ホン酸残基に対し等モル以下であることを特徴とする前
記(A)または(B)記載の樹脂。
(C) The resin contains a phosphonite residue, and the content ratio of the phosphonite residue is not more than an equimolar amount to the phosphonic acid residue. The resin described in B).

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明者らは、係る樹脂の着色原
因が樹脂本来の成分ではなく、また、工程中積極的に用
いられないナトリウムイオンにあることを検知し、これ
を除去することで溶融成形時の着色性を劇的に低減する
ことができることを究明したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present inventors have detected that the cause of coloring of such a resin is not the original component of the resin and also sodium ion which is not actively used during the process, and removes it. It was clarified that the coloring property at the time of melt molding can be dramatically reduced by.

【0021】本発明に用いられる樹脂は、下記一般式
(1)で示されるホスホン酸残基、および下記一般式
(2)で示される2価フェノール残基およびカーボネー
ト残基を含む樹脂である。 一般式(1)
The resin used in the present invention is a resin containing a phosphonic acid residue represented by the following general formula (1) and a divalent phenol residue and a carbonate residue represented by the following general formula (2). General formula (1)

【0022】[0022]

【化13】 [Chemical 13]

【0023】一般式(2)General formula (2)

【0024】[0024]

【化14】 [Chemical 14]

【0025】上記一般式(1)で表されるホスホン酸残
基のリン原子に置換する置換基Rの具体例としては、フ
ェニル、ハロ置換フェニル、メトキシフェニル、エトキ
シフェニル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル、
ビニル、アリル、ベンジル、アミノアルキル、ヒドロキ
シアルキル、ハロ置換アルキル、アルキルサルファイド
基等が挙げられる。
Specific examples of the substituent R substituting the phosphorus atom of the phosphonic acid residue represented by the general formula (1) are phenyl, halo-substituted phenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, ethyl, isopropyl, cyclohexyl,
Examples thereof include vinyl, allyl, benzyl, aminoalkyl, hydroxyalkyl, halo-substituted alkyl and alkylsulfide groups.

【0026】かかるホスホン酸残基をその基本構造であ
るホスホン酸として具体的に例示すると、メチルホスホ
ン酸、エチルホスホン酸、n−プロピルホスホン酸、イ
ソプロピルホスホン酸、n−ブチルホスホン酸、イソブ
チルホスホン酸、t―ブチルホスホン酸、n−ペンチル
ホスホン酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシル
ホスホン酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホ
ン酸、ジクロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホ
ン酸、ジブロモメチルホスホン酸、2−クロロエチルホ
スホン酸、1、2−ジクロロエチルホスホン酸、2―ブ
ロモエチルホスホン酸、1、2−ジブロモエチルホスホ
ン酸、3−クロロプロピルホスホン酸、2、3−ジクロ
ロプロピルホスホン酸3−ブロモプロピルホスホン酸、
2、3−ジブロモプロピルホスホン酸、2−クロロー1
−メチルエチルホスホン酸、1、2−ジクロロー1−メ
チルエチルホスホン酸、2−ブロモー1−メチルエチル
ホスホン酸、1、2−ジブロモー1−メチルエチルホス
ホン酸、4−クロロブチルホスホン酸、3、4−ジクロ
ロブチルホスホン酸、4−ブロモブチルホスホン酸、
3、4−ジブロモブチルホスホン酸、3−クロロー1―
メチルプロピルホスホン酸、2、3−ジクロロ−1−メ
チルプロピルホスホン酸、3−ブロモ−1メチルプロピ
ルホスホン酸、2、3−ジブロモ−1−メチルホスホン
酸、1−クロロメチルプロピルホスホン酸、1−クロロ
ー1−クロロメチルプロピルホスホン酸、1−ブロモメ
チルプロピルホスホン酸、1−ブロモ−1−ブロモメチ
ルプロピルホスホン酸、5−クロロペンチルホスホン
酸、4、5−ジクロロペンチルホスホン酸、5−ブロモ
ペンチルホスホン酸、4、5−ジブロモペンチルホスホ
ン酸、1−ヒドロキシメチルホスホン酸、2−ヒドロキ
シエチルホスホン酸、3−ヒドロキシプロピルホスホン
酸、4−ヒドロキシブチルホスホン酸、5−ヒドロキシ
ペンチルホスホン酸、1−アミノメチルホスホン酸、2
−アミノエチルホスホン酸、3−アミノプロピルホスホ
ン酸、4−アミノブチルホスホン酸、5−アミノペンチ
ルホスホン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチ
オエチルホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、
メチルチオブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホ
ン酸、エチルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピ
ルホスホン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピ
ルチオエチルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン
酸、フェニルホスホン酸、4−クロロフェニルホスホン
酸、3、4−ジクロロフェニルホスホン酸、3、5−ジ
クロロフェニルホスホン酸、4−ブロモフェニルホスホ
ン酸、3、4−ブロモフェニルホスホン酸、3、5−ブ
ロモフェニルホスホン酸、4−メトキシフェニルホスホ
ン酸、3、4−ジメトキシフェニルホスホン酸、1―ナ
フチルホスホン酸、2―ナフチルホスホン酸、ベンジル
ホスホン酸、4−ブロモフェニルメチルホスホン酸、
3、4−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、3、5−
ジブロモフェニルメチルホスホン酸、2−フェニルエチ
ルホスホン酸、2−(4−ブロモフェニル)エチルホスホ
ン酸、2−(3、4−ジブロモフェニル)エチルホスホン
酸、2−(3、5−ジブロモフェニル)エチルホスホン
酸、3−フェニルプロピルホスホン酸、3−(4−ブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、3−(3、4−ジブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、3−(3、5−ジブロ
モフェニル)プロピルホスホン酸、4−フェニルブチル
ホスホン酸、4−(4−ブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、4−(3、4−ジブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、4−(3、5−ジブロモフェニル)ブチルホスホン
酸、2―ピリジルホスホン酸、3−ピリジルホスホン
酸、4−ピリジルホスホン酸、1−ピロリジノメチルホ
スホン酸、1―ピロリジノエチルホスホン酸、1−ピロ
リジノプロピルホスホン酸、1−ピロリジノブチルホス
ホン酸、ピロール−1−ホスホン酸、ピロール−2―ホ
スホン酸、ピロール−3−ホスホン酸、チオフェン−2
―ホスホン酸、チオフェン−3―ホスホン酸、ジチアン
−2―ホスホン酸、トリチアン−2―ホスホン酸、フラ
ン−2―ホスホン酸、フラン−3―ホスホン酸、ビニル
ホスホン酸、アリルホスホン酸などが挙げられ、またこ
れらのリン原子に2重結合で結合している酸素原子が硫
黄原子に置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられ
る。これらは1種類でも、複数種が含まれていても構わ
ない。
Specific examples of such a phosphonic acid residue as its basic structure, phosphonic acid, include methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, n-propylphosphonic acid, isopropylphosphonic acid, n-butylphosphonic acid, isobutylphosphonic acid, t-butylphosphonic acid, n-pentylphosphonic acid, neopentylphosphonic acid, cyclohexylphosphonic acid, benzylphosphonic acid, chloromethylphosphonic acid, dichloromethylphosphonic acid, bromomethylphosphonic acid, dibromomethylphosphonic acid, 2-chloroethylphosphonic acid, 1, 2-dichloroethylphosphonic acid, 2-bromoethylphosphonic acid, 1,2-dibromoethylphosphonic acid, 3-chloropropylphosphonic acid, 2,3-dichloropropylphosphonic acid 3-bromopropylphosphonic acid,
2,3-dibromopropylphosphonic acid, 2-chloro-1
-Methylethylphosphonic acid, 1,2-dichloro-1-methylethylphosphonic acid, 2-bromo-1-methylethylphosphonic acid, 1,2-dibromo-1-methylethylphosphonic acid, 4-chlorobutylphosphonic acid, 3,4 -Dichlorobutylphosphonic acid, 4-bromobutylphosphonic acid,
3,4-dibromobutylphosphonic acid, 3-chloro-1-
Methylpropylphosphonic acid, 2,3-dichloro-1-methylpropylphosphonic acid, 3-bromo-1methylpropylphosphonic acid, 2,3-dibromo-1-methylphosphonic acid, 1-chloromethylpropylphosphonic acid, 1-chloro- 1-chloromethylpropylphosphonic acid, 1-bromomethylpropylphosphonic acid, 1-bromo-1-bromomethylpropylphosphonic acid, 5-chloropentylphosphonic acid, 4,5-dichloropentylphosphonic acid, 5-bromopentylphosphonic acid 4,5-dibromopentylphosphonic acid, 1-hydroxymethylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid, 3-hydroxypropylphosphonic acid, 4-hydroxybutylphosphonic acid, 5-hydroxypentylphosphonic acid, 1-aminomethylphosphonic acid, Two
-Aminoethylphosphonic acid, 3-aminopropylphosphonic acid, 4-aminobutylphosphonic acid, 5-aminopentylphosphonic acid, methylthiomethylphosphonic acid, methylthioethylphosphonic acid, methylthiopropylphosphonic acid,
Methylthiobutylphosphonic acid, ethylthiomethylphosphonic acid, ethylthioethylphosphonic acid, ethylthiopropylphosphonic acid, propylthiomethylphosphonic acid, propylthioethylphosphonic acid, butylthiomethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid, 4-chlorophenylphosphonic acid, 3, 4-dichlorophenylphosphonic acid, 3,5-dichlorophenylphosphonic acid, 4-bromophenylphosphonic acid, 3,4-bromophenylphosphonic acid, 3,5-bromophenylphosphonic acid, 4-methoxyphenylphosphonic acid, 3,4- Dimethoxyphenylphosphonic acid, 1-naphthylphosphonic acid, 2-naphthylphosphonic acid, benzylphosphonic acid, 4-bromophenylmethylphosphonic acid,
3,4-dibromophenylmethylphosphonic acid 3,5-
Dibromophenylmethylphosphonic acid, 2-phenylethylphosphonic acid, 2- (4-bromophenyl) ethylphosphonic acid, 2- (3,4-dibromophenyl) ethylphosphonic acid, 2- (3,5-dibromophenyl) ethylphosphonic acid Acid, 3-phenylpropylphosphonic acid, 3- (4-bromophenyl) propylphosphonic acid, 3- (3,4-dibromophenyl) propylphosphonic acid, 3- (3,5-dibromophenyl) propylphosphonic acid, 4 -Phenylbutylphosphonic acid, 4- (4-bromophenyl) butylphosphonic acid, 4- (3,4-dibromophenyl) butylphosphonic acid, 4- (3,5-dibromophenyl) butylphosphonic acid, 2-pyridylphosphonic acid Acid, 3-pyridylphosphonic acid, 4-pyridylphosphonic acid, 1-pyrrolidinomethylphosphonic acid, 1-pyrrolidinoethylphos Acid, 1-pyrrolidinopropyl phosphonic acid, 1-pyrrolidinopyridine butyl phosphonic acid, pyrrole-1-phosphonic acid, pyrrole-2-phosphonic acid, pyrrole-3-phosphonic acid, thiophene -2
-Phosphonic acid, thiophen-3-phosphonic acid, dithian-2-phosphonic acid, trithian-2-phosphonic acid, furan-2-phosphonic acid, furan-3-phosphonic acid, vinylphosphonic acid, allylphosphonic acid, etc. Further, thiophosphonic acid in which an oxygen atom bonded to these phosphorus atoms by a double bond is substituted with a sulfur atom is also included. These may be one kind or may contain plural kinds.

【0027】また、本発明の樹脂には、他のリン含有単
位として3価のリン官能基を有するホスホナイト残基を
含有することができる。このようなホスホナイト残基の
例としては、前記のホスホン酸残基を対応するホスフィ
ン酸残基として同様に挙げることができる。このホスフ
ィン酸残基の導入により、樹脂に耐酸化性を付与するこ
とができる。その含有量としては、光学特性等の特性の
安定性を考慮すると、ホスホン酸残基の50モル%以下
が好ましく、より好ましくは25モル%以下、さらに好
ましくは10モル%以下である。下限としては、好まし
くは、1モル%以上である。
Further, the resin of the present invention may contain a phosphonite residue having a trivalent phosphorus functional group as another phosphorus-containing unit. As an example of such a phosphonite residue, the above-mentioned phosphonic acid residue can be similarly mentioned as the corresponding phosphinic acid residue. By introducing this phosphinic acid residue, it is possible to impart oxidation resistance to the resin. The content thereof is preferably 50 mol% or less of the phosphonic acid residue, more preferably 25 mol% or less, and further preferably 10 mol% or less in consideration of stability of properties such as optical properties. The lower limit is preferably 1 mol% or more.

【0028】次に、一般式(2)で表される2価フェノ
ール残基をその基本構造である2価フェノールとして具
体的に例示すると、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(4−メチル−2−ヒドロキ
シフェニル)メタン、1,1−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘプタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロオクタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−エチルヘキサン、2,2−ビ
ス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、4,4'−ビフェノール、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロパン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタ
ン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3−アリル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イ
ソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3−secブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビスフェノールフロ
ーレン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−
5−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、4,4'−〔1,4−フェニレン−ビス(2−プロ
ピリデン)〕−ビス(2−メチルフェノール)、1,1
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン、4,4'−ジヒドロキシフェニルエーテ
ル、1,1−ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、
2,4'−メチレンビスフェノール、1,1−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビ
ス(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)エタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチル
−ブタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、3,3
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン、3,3−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)ノナン、1,1−ビス(3
−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)デカン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)デカン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメ
タン、テルペンジフェノール、1,1−ビス(3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロパン、
2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジtert
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−
ビス(3,5−ジsecブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(2−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチルフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(3−ノニル−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,
1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチ
ル−6−メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエ
タン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸ブチルエス
テル、1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−
フルオロフェニル)メタン、2,2−ビス(4ーヒドロ
キシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(3−フルオ
ロ−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、
1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(p−フルオロフェニル)メタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(p−フルオロ
フェニル)メタン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5
−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、3,3'−ジメチル−4,4'−ビフェノール、
3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ビフェノ
ール、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル−
4,4'−ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ケトン、3,3'−ジフルオロ−4,4'−ビフェノ
ール、3,3',5,5'−テトラフルオロ−4,4'−
ビフェノール、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジメチ
ルシラン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)チオエーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)エーテル、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)チオエーテル、ビス(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)チオエーテル、1,
1−ビス(2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−フェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス(3−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカン、2,2−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ドデカ
ン、1,1−ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(3,5−ジtert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)−2
−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジtert−ブチルフェニル)エタン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン酸メチルエ
ステル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサ
チンビスクレゾール、2,2',3,3',5,5'−ヘ
キサメチル−4,4'−ビフェノール、ビス(2−ヒド
ロキシフェニル)メタン、2,4'−メチレンビスフェ
ノール、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、ビス(2−ヒドロキシ−3
−アリルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロキシ−5−フ
ェニルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−メチル−
4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタ
ン、ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘ
キシルフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタデカン、2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)ペンタデカン、2,2−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ペン
タデカン、1,2−ビス(3,5−ジtert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジtert−ブチルフェニル)メタン、
2,2−ビス(3−スチリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(p−ニトロフェニル)エタン、ビス(3,
5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビ
ス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1−フェニルメタン、ビス(3,5−ジフルオロ−4−
ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、
2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、3,3',5,5'−テトラtert−ブチル
−2,2'−ビフェノール、2,2'−ジアリル−4,
4'−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5,5−テトラメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,4−トリメチル
−シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3,3−ジメチル−5−エチル−シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロペンタン、1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,
3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス
(3,5−ジフェニル−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,
5−トリメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−ト
リメチル−シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリ
メチル−シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)フルオレン、9、9−ビス(3,5−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、1,1−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−
3,3,5−トリメチル−シクロヘキサン、α、α−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピ
ルベンゼン等が挙げられ、これらは1種類でも、複数種
含まれていても構わない。
Specific examples of the divalent phenol residue represented by the general formula (2) as the basic structure of the divalent phenol include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) methane and 1-bis (4-hydroxyphenyl) methane. , 1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-methyl-2-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2, 2-bis (4
-Hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cycloheptane, 1, 1-
Bis (4-hydroxyphenyl) cyclooctane, 2,
2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-ethylhexane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane , 4,4′-biphenol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4
-Hydroxyphenyl) -2-methylpropane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis ( 3-allyl-4-
Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,
2-bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-secbutyl-4)
-Hydroxyphenyl) propane, bisphenolfluorene, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-
5-tert-butylphenyl) -2-methylpropane, 4,4 ′-[1,4-phenylene-bis (2-propylidene)]-bis (2-methylphenol), 1,1
-Bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4'-dihydroxyphenyl ether, 1,1-bis (2-hydroxyphenyl) methane,
2,4'-methylenebisphenol, 1,1-bis (3
-Methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-
Bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-methylphenyl) ethane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methyl-butane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane , 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 3,3
-Bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (2-hydroxy-)
3,5-Dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) nonane, 1,1-bis (3
-Methyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1- Bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (2-hydroxy-
3-tert-butyl-5-methylphenyl) methane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, terpene diphenol, 1,1-bis (3-te
rt-Butyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-)
tert-butylphenyl) -2-methylpropane,
2,2-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3,5-ditert)
-Butyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-
Bis (3,5-disecbutyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-)
Hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-ditert-butylphenyl) ethane, 1,1-bis (3-nonyl-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis ( 3,5-di ter
t-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,
1-bis (2-hydroxy-3,5-ditert-butyl-6-methylphenyl) methane, 1,1-bis (3-
Phenyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid butyl ester, 1,1-bis (3-fluoro-4-) Hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-
Fluorophenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane,
1,1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) -1- (p-fluorophenyl) methane, 1,1-
Bis (4-hydroxyphenyl) -1- (p-fluorophenyl) methane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dichloro) -4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (3,5-dibromo-4)
-Hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,5)
-Dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,
2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenol,
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol, 3,3 ′, 5,5′-tetratert-butyl-
4,4'-biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) ketone, 3,3'-difluoro-4,4'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-
Biphenol, bis (4-hydroxyphenyl) dimethylsilane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone,
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) Thioether, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) thioether, bis (3,5-dimethyl-
4-hydroxyphenyl) ether, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) thioether, 1,
1-bis (2,3,5-trimethyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) dodecane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) ) Dodecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) dodecane, 1,1-bis (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (3,5-Ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) -2
-Methyl propane, 1,1-bis (2-hydroxy-
3,5-ditert-butylphenyl) ethane, 2,2
-Bis (4-hydroxyphenyl) propanoic acid methyl ester, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanoic acid ethyl ester, isatin bisphenol, isatin biscresol, 2,2 ', 3,3', 5 5'-hexamethyl-4,4'-biphenol, bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2,4'-methylenebisphenol, 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2- (4-hydroxyphenyl) -2- (2-hydroxyphenyl) propane, bis (2-hydroxy-3)
-Allylphenyl) methane, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) ethane, bis ( 2-hydroxy-5-phenylphenyl) methane, 1,1-bis (2-methyl-)
4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, bis (2-methyl-4-hydroxy-5-cyclohexylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3 -Methyl-4-hydroxyphenyl) pentadecane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) pentadecane, 1,2-bis (3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl) ethane , Bis (2-hydroxy-3,5-ditert-butylphenyl) methane,
2,2-bis (3-styryl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1- (p-nitrophenyl) ethane, bis (3,3
5-difluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl)-
1-phenylmethane, bis (3,5-difluoro-4-
Hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) diphenylmethane,
2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl)
Propane, 3,3 ', 5,5'-tetra-tert-butyl-2,2'-biphenol, 2,2'-diallyl-4,
4'-biphenol, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3
5,5-tetramethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,4-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3-dimethyl-5 -Ethyl-cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,
3,5-trimethyl-cyclopentane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3,
3,5-Trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-diphenyl-4-hydroxyphenyl)-
3,3,5-Trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,3
5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3-
Phenyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl-cyclohexane, 9,9- Bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,1-
Bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)-
Examples include 3,3,5-trimethyl-cyclohexane, α, α-bis (4-hydroxyphenyl) -1,4-diisopropylbenzene and the like, and these may be contained in one kind or in plural kinds.

【0029】これらの2価フェノールにおいては、特
に、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4
−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペン
タンが好ましく採用される。係る2価フェノールを用い
ることで、光学特性すなわち、優れて高屈折率でありか
つ低分散であり、特にレンズ用途において好適に使用で
きるのである。
Among these dihydric phenols, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4 are particularly preferable.
-Methylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 2,
2-bis (4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane is preferably adopted. By using such a dihydric phenol, it has excellent optical properties, that is, a high refractive index and a low dispersion, and it can be suitably used particularly in lens applications.

【0030】本発明のカーボネート残基とは、炭酸骨格
のことである。その導入についてはジフェニルカーボネ
ートなどの炭酸エステルやホスゲン、トリホスゲンなど
の炭酸ハライドなどの炭酸誘導体を用いることで導入で
きる。
The carbonate residue of the present invention is a carbonate skeleton. The introduction can be performed by using a carbonic acid ester such as diphenyl carbonate or a carbonic acid derivative such as carbonic acid halide such as phosgene or triphosgene.

【0031】本発明に用いる樹脂は前記の一般式(1)
で示されるホスホン酸残基と前記のカーボネート残基の
モル分率が式(3)を満足する。
The resin used in the present invention is represented by the above general formula (1).
The mole fraction of the phosphonic acid residue represented by and the carbonate residue satisfies the formula (3).

【0032】1>(a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
基のモル数を示す。]この比率が1であると、樹脂の溶
融性や溶解性が極端に悪くなり、成形性も悪くなる。ま
た、この比率が0.05未満であると屈折率などの光学
材料としての特性が不十分である。好ましく0.90以
下から0.30以上であり、より好ましくは0.85以
下から0.50以上である。
1> (a) / [(a) + (b)] ≧ 0.05 (3) [where (a) is the phosphonic acid residue and (b) is the number of moles of the carbonate residue. . When this ratio is 1, the meltability and solubility of the resin are extremely deteriorated and the moldability is also deteriorated. If this ratio is less than 0.05, the characteristics such as the refractive index as an optical material are insufficient. It is preferably 0.90 or less and 0.30 or more, and more preferably 0.85 or less and 0.50 or more.

【0033】本発明に用いる樹脂は、本発明の目的を損
なわない範囲において、前記の一般式(1)、(2)で
表された残基の他に他の残基が共重合された樹脂であっ
ても、他の樹脂成分がブレンドされたものであっても構
わない。
The resin used in the present invention is a resin in which other residues are copolymerized in addition to the residues represented by the above general formulas (1) and (2) as long as the object of the present invention is not impaired. Alternatively, it may be a blend of other resin components.

【0034】次に本発明の樹脂の具体的な方法について
例を挙げて説明する。
Next, a concrete method of the resin of the present invention will be described with reference to examples.

【0035】本発明の樹脂は、溶融重合法、溶液重合
法、界面重合法などで得ることができる。用いるモノマ
ーとしては、重合法に応じ適宜選択することができる
が、一般式(1)のホスホン酸残基を構成するモノマー
としては、ホスホン酸塩化物、ホスホン酸エステル、ホ
スホン酸アミドなどのホスホン酸誘導体が挙げられる。
The resin of the present invention can be obtained by a melt polymerization method, a solution polymerization method, an interfacial polymerization method or the like. The monomer to be used can be appropriately selected depending on the polymerization method, but as the monomer constituting the phosphonic acid residue of the general formula (1), phosphonic acid chloride, phosphonic acid ester, phosphonic acid amide and the like phosphonic acid can be used. Examples include derivatives.

【0036】以下、樹脂の重合法について更に具体的に
説明する。
The resin polymerization method will be described in more detail below.

【0037】本発明の樹脂の製造方法としては、酸ハラ
イドと2価のフェノールを有機溶剤中で反応させる溶液
重合法(A.Conix Ind.Eng.che
m.,51,147,1959年、特公昭37−559
9号公報)、酸ハライドと2価のフェノールを塩化マグ
ネシウム等の触媒存在下で加熱する溶融重合法、2価の
酸と2価のフェノールをジアリルカーボネートの存在下
で加熱する溶融重合法(特公昭38−26299号公
報)、水と相溶しない有機溶剤に溶解せしめた2価の酸
ハライドとアルカリ水溶液に溶解せしめた2価のフェノ
ールとを混合する界面重合法(W.M.EARECKS
ON J.Poly.Sci.XL399,1959
年、特公昭40−1959号公報)等が挙げられるが、
溶融重合法では樹脂が着色しやすく、また界面重縮合法
では高分子量の樹脂を合成しにくいことから、特に溶液
重合法が好適に採用される。
As the method for producing the resin of the present invention, a solution polymerization method (A. Conix Ind. Eng. Che, in which an acid halide and a divalent phenol are reacted in an organic solvent).
m. , 51, 147, 1959, Japanese Examined Patent Publication No. 37-559
No. 9), a melt polymerization method of heating an acid halide and a divalent phenol in the presence of a catalyst such as magnesium chloride, and a melt polymerization method of heating a divalent acid and a divalent phenol in the presence of diallyl carbonate (special JP-B-38-26299), an interfacial polymerization method (WM EAREKKS) in which a divalent acid halide dissolved in an organic solvent incompatible with water and a divalent phenol dissolved in an alkaline aqueous solution are mixed.
ON J. Poly. Sci. XL399, 1959
, Japanese Patent Publication No. 40-1959) and the like,
The solution polymerization method is particularly preferably used because the resin is easily colored by the melt polymerization method and it is difficult to synthesize a high molecular weight resin by the interfacial polycondensation method.

【0038】溶液重合法について一例を説明すると、ホ
スホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体と、
2価フェノールをトリエチルアミンなどの塩基存在下混
合して反応させ、続いてカーボネート残基の前駆体分
子、たとえばトリホスゲンなどを添加して縮合重合する
ことによって本発明の樹脂を得ることができる。ホスホ
ン酸誘導体あるいはカーボネート誘導体としてはそれら
のハロゲン化物、酸無水物、エステル等が用いられるが
特に限定されない。
An example of the solution polymerization method will be described. A phosphonic acid derivative which is a precursor molecule of a phosphonic acid residue,
The resin of the present invention can be obtained by mixing and reacting a dihydric phenol in the presence of a base such as triethylamine, followed by addition of a precursor molecule of a carbonate residue such as triphosgene and condensation polymerization. As the phosphonic acid derivative or carbonate derivative, halides, acid anhydrides, esters and the like thereof are used, but are not particularly limited.

【0039】分子量を調節する方法としては、重合時に
一官能の物質を添加して行うことができる。ここで言う
分子量調節剤として用いられる一官能物質としては、フ
ェノール、クレゾール、p−tert−ブチルフェノー
ル等の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタン
スルホニルクロライド、フェニルクロロホルメート等の
一価酸クロライド類が挙げられる。
As a method for adjusting the molecular weight, a monofunctional substance can be added during the polymerization. Examples of the monofunctional substance used as the molecular weight regulator include monohydric phenols such as phenol, cresol and p-tert-butylphenol, monohydric acid chlorides such as benzoic acid chloride, methanesulfonyl chloride and phenylchloroformate. Is mentioned.

【0040】本発明の樹脂に含まれるナトリウムの量は
5ppm以下である。ナトリウムの含有量とは、樹脂中
に含まれるナトリウムを金属ナトリウムの重量に換算し
て算出されるものである。ナトリウムの含量が5ppm
以下、より好ましくは1ppm以下にすることで溶融成
形時の着色の問題が解決する。
The amount of sodium contained in the resin of the present invention is 5 ppm or less. The sodium content is calculated by converting the sodium contained in the resin into the weight of metallic sodium. Sodium content is 5ppm
The problem of coloration during melt molding can be solved by setting the content to 1 ppm or less, more preferably below.

【0041】なお、本発明においてナトリウム含量の測
定方法は、蛍光X線分析法を用いるものとする。
In the present invention, the method for measuring the sodium content uses the fluorescent X-ray analysis method.

【0042】ナトリウムの混入については、一般的な溶
融エステル交換反応でナトリウムフェノラートを使用す
ることに起因する。通常溶融法では水洗工程がないこと
からナトリウムを除去することができない。また、界面
重縮合を行う場合にはモノマーにビスフェノールのナト
リウム塩を使用する。界面重縮合では水洗工程がある
が、ナトリウム塩がモノマーの当モル量生成することか
ら水洗が難しく、樹脂中にナトリウム塩が残留する。よ
って、ナトリウムフェノラートを使用する重合方法は着
色抑制という観点からは好ましくない。
Contamination of sodium is due to the use of sodium phenolate in the general melt transesterification reaction. Usually, the melting method cannot remove sodium because there is no washing step. When interfacial polycondensation is carried out, sodium salt of bisphenol is used as a monomer. Although there is a water washing step in the interfacial polycondensation, washing with water is difficult because the sodium salt is produced in an equimolar amount of the monomer, and the sodium salt remains in the resin. Therefore, the polymerization method using sodium phenolate is not preferable from the viewpoint of suppressing coloration.

【0043】一方、ナトリウムフェノラートを使用して
いない溶液重合においてもナトリウムが混入しうること
がわかった。ビスフェノール類がナトリウムを含有して
いるからである。これはビスフェノール類の製造工程に
おいてガラスフィルター濾過をしていることから、濾過
時にガラスからナトリウムが溶出しビスフェノール類に
混入するためと推測される。このようなビスフェノール
を原料に用いた場合、樹脂中にナトリウムが残存する。
溶液重合では、通常、重合終了後の樹脂溶液を塩酸など
で中和・水洗などの処理を施していたが、樹脂溶液と塩
酸との接触時間も短く、ナトリウムの除去という観点で
は不十分であった。
On the other hand, it was found that sodium can be mixed in the solution polymerization without using sodium phenolate. This is because the bisphenols contain sodium. It is presumed that this is because sodium is eluted from the glass during the filtration and is mixed into the bisphenols, because the glass filters are used in the manufacturing process of the bisphenols. When such bisphenol is used as a raw material, sodium remains in the resin.
In solution polymerization, usually, the resin solution after completion of polymerization is subjected to treatment such as neutralization with hydrochloric acid and washing with water, but the contact time between the resin solution and hydrochloric acid is short, which is insufficient from the viewpoint of sodium removal. It was

【0044】樹脂中のナトリウムは、60℃以上の希塩
酸中で加熱処理することで除去できることがわかった。
加熱時間については、好ましくは30分以上、24時間
未満、より好ましくは1時間以上、12時間未満であ
る。処理時間が30分未満ではナトリウム除去が不十分
である。一方24時間以上では、分子量低下の懸念があ
る。加熱処理に用いる塩酸の濃度については、1N以下
の希塩酸であることが望ましい。濃塩酸を用いた場合に
は、やはり分子量低下の懸念がある。
It was found that sodium in the resin can be removed by heat treatment in dilute hydrochloric acid at 60 ° C. or higher.
The heating time is preferably 30 minutes or more and less than 24 hours, more preferably 1 hour or more and less than 12 hours. If the treatment time is less than 30 minutes, sodium removal is insufficient. On the other hand, if the time is 24 hours or more, there is a concern that the molecular weight will decrease. The concentration of hydrochloric acid used for the heat treatment is preferably 1N or less of dilute hydrochloric acid. When concentrated hydrochloric acid is used, there is still a concern that the molecular weight will decrease.

【0045】本発明のポリマーには、その特性を損なわ
ない範囲で、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミ
ン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加する
ことができる。
To the polymer of the present invention, various hindered phenol-based, hindered amine-based, thioether-based, and phosphorus-based antioxidants can be added within a range that does not impair the properties thereof.

【0046】また、本発明のポリマーは、有機溶媒に対
して高い溶解性を有しており、このような溶媒として
は、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、トルエン、キシレ
ン、γ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール、イソホ
ロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ヘキサフル
オロイソプロパノール等が挙げられる。さらに、本発明
のポリマーは非晶性であり、非晶性であるかどうかは、
公知の方法例えば示差走差熱量分析(DSC)や動的粘
弾性測定等により融点が存在しているかどうかを確認す
ればよい。
The polymer of the present invention has a high solubility in organic solvents, and examples of such solvents include methylene chloride, chloroform, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1, 2-dichloroethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, toluene, xylene, γ-butyrolactone, benzyl alcohol, isophorone, chlorobenzene, dichlorobenzene, hexafluoroisopropanol and the like can be mentioned. Further, the polymers of the present invention are amorphous and whether amorphous
The presence or absence of the melting point may be confirmed by a known method such as differential scanning calorimetry (DSC) or dynamic viscoelasticity measurement.

【0047】本発明の樹脂は、係る方法によって溶融成
形後の樹脂の色調が劇的に改善される。すなわち、厚み
3mmの樹脂板としたときの黄色度(ΔYI)として5
以下である。好ましくは、2.5以下、より好ましく
は、2.0以下である。この黄色度は、次式にて定義さ
れる。
The resin of the present invention dramatically improves the color tone of the resin after melt molding by such a method. That is, the yellowness index (ΔYI) of a resin plate having a thickness of 3 mm is 5
It is the following. It is preferably 2.5 or less, more preferably 2.0 or less. This yellowness is defined by the following equation.

【0048】 YI=100×(1.28X−1.06Z)/Y X、Y、Z:標準光Cにおける試料の三刺激値 ΔYI=YI2−YI1 ΔYI:黄色度 YI1:リファレンス値 YI2:試料の測定値 本発明の樹脂は、例えば、メガネレンズやコンタクトレ
ンズなどのレンズ用途、家電機器などの筐体用途、CD
ロムやDVDロムなどの記録媒体用基板用途、磁気フィ
ルムや位相差フィルムなどのフィルム用途、難燃剤用途
などに用いることができる。
YI = 100 × (1.28X-1.06Z) / Y X, Y, Z: Tristimulus value ΔYI = YI 2 −YI 1 ΔYI of sample under standard light C: Yellowness YI 1 : Reference value YI 2 : Measured value of sample The resin of the present invention is used for, for example, lens applications such as eyeglass lenses and contact lenses, housing applications for home appliances, CD
It can be used for substrates for recording media such as ROM and DVD ROM, film applications such as magnetic films and retardation films, flame retardant applications and the like.

【0049】[0049]

【実施例】本発明の具体的実施態様を以下に実施例をも
って述べるが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
EXAMPLES Specific embodiments of the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0050】ナトリウム含有量は以下の測定に依った。
理学電機製RIX−1000を使用した。クロム管球を
用いて管電圧50kV、管電流50mAで、検量線から
ナトリウム量を測定した。なお、重合して得られたポリ
マーは、プレス成形で30mmφ×3mm厚の円板状成
形品とし、30mmφのフォルダーを用いて測定を行っ
た。
The sodium content was based on the following measurements.
RIX-1000 manufactured by Rigaku Denki was used. The amount of sodium was measured from a calibration curve at a tube voltage of 50 kV and a tube current of 50 mA using a chrome tube. The polymer obtained by polymerization was press-molded into a disk-shaped molded product of 30 mmφ × 3 mm thickness, and the measurement was performed using a 30 mmφ folder.

【0051】黄色度(ΔYI)は以下の測定に依った。The yellowness index (ΔYI) was based on the following measurement.

【0052】樹脂試料をプレス成型によってφ30m
m、厚さ3mmの円盤状の樹脂プレートに成形する。つ
いで、この試料をデジタルカラーコンピュータ(スガ試
験機(株)社製:SM−7−CH)を用いて透過法によ
り3刺激値(X、Y、Z)を求め、式(6)によりYI
2を求める。また、空気から同様にX、Y、Zを求め、
同様にリファレンス値YI1を求め、式(7)によって
△YIを求める。
A resin sample is press-molded with a diameter of 30 m.
m, and molded into a disk-shaped resin plate having a thickness of 3 mm. Then, the tristimulus values (X, Y, Z) of this sample were determined by a transmission method using a digital color computer (SM-7-CH manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and YI was calculated by the equation (6).
Ask for 2 . Moreover, X, Y, Z are similarly obtained from the air,
Similarly, the reference value YI 1 is calculated, and ΔYI is calculated by the equation (7).

【0053】 YI=100×(1.28X−1.06Z)/Y (6) X、Y、Z:標準光Cにおける試料の三刺激値 ΔYI=YI2−YI1 (7) ΔYI:黄色度 YI1:リファレンス値(空気から測定) YI2:試料の測定値 数平均分子量は以下の測定に依った。YI = 100 × (1.28X−1.06Z) / Y (6) X, Y, Z: Tristimulus value of sample under standard light C ΔYI = YI 2 −YI 1 (7) ΔYI: Yellowness YI 1 : Reference value (measured from air) YI 2 : Measured value of sample The number average molecular weight was determined by the following measurement.

【0054】ゲルパーミュレーションクロマトグラフィ
ー(GPC:東ソー(株)社製 SC−8020)を用
いて測定した。測定条件はカラム(shodex GP
CK−806L 2本直結)を使用、カラム温度は35
℃、フローはクロロホルム1ml/分、検出器はUVを
使用した。試料注入量は0.2wt%溶液50μlとし
た。分子量の算定は予め作成したポリスチレンを用いた
検量線を使用した。 〔樹脂の重合1〕窒素雰囲気下、ジクロロメタン(10
L)中に1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン(4mol・ナトリウム含量は10ppm)、お
よびトリエチルアミン(8.8mol)を混合し、氷冷下
攪拌した。この溶液にフェニルホスホン酸ジクロライド
(3mol)のジクロロメタン(9L)溶液を60分間かけ
て滴下し、滴下終了後室温で120分間攪拌した。その
後、濃度0.571mol/Lのトリホスゲンのジクロ
ロメタン(583mL)溶液を30分かけて滴下し、滴下
終了後120分間攪拌した。
It was measured using gel permeation chromatography (GPC: SC-8020 manufactured by Tosoh Corporation). The measurement conditions are columns (shodex GP
CK-806L 2 direct connection), column temperature is 35
C., the flow was chloroform 1 ml / min, and the detector was UV. The sample injection amount was 50 μl of the 0.2 wt% solution. For the calculation of the molecular weight, a calibration curve prepared in advance using polystyrene was used. [Resin Polymerization 1] Dichloromethane (10
L-) was mixed with 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (4 mol · sodium content was 10 ppm) and triethylamine (8.8 mol), and the mixture was stirred under ice cooling. Phenylphosphonic acid dichloride in this solution
A solution of (3 mol) in dichloromethane (9 L) was added dropwise over 60 minutes, and after completion of the addition, the mixture was stirred at room temperature for 120 minutes. Then, a dichloromethane (583 mL) solution of triphosgene having a concentration of 0.571 mol / L was added dropwise over 30 minutes, and after the addition was completed, the mixture was stirred for 120 minutes.

【0055】次にオイルバスを用いて溶液温度30℃で
120分間攪拌した。その後、12時間室温にて攪拌を
行った。
Then, using an oil bath, the solution was stirred at a temperature of 30 ° C. for 120 minutes. Then, the mixture was stirred for 12 hours at room temperature.

【0056】反応溶液に1N塩酸(10L)を加え5分攪
拌した。静置して上層の水層を酸性であることを確認し
た後除去した。さらに同様に0.1N塩酸で処理を2回
行い樹脂溶液を得た。70℃の温水(23L)を入れた
蓋部分に留出溶媒回収設備のついた内容積35Lのステ
ンレス製の容器に樹脂溶液を溶媒を留出させつつ20分
かけて容器内に添加した。添加終了後、容器内から樹脂
塊を回収した。
1N Hydrochloric acid (10 L) was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 5 minutes. After allowing to stand, the upper aqueous layer was confirmed to be acidic and then removed. Further, similarly, treatment with 0.1N hydrochloric acid was performed twice to obtain a resin solution. The resin solution was added to the container over 20 minutes while distilling the solvent into a stainless steel container having an internal volume of 35 L and equipped with a distillation solvent recovery facility in a lid portion containing warm water (23 L) at 70 ° C. After the addition was completed, a resin block was collected from the container.

【0057】樹脂塊を粉砕、次いで乾燥することで樹脂
粗粉末を得た。ナトリウム含量は8.5ppm。数平均
分子量は82000。
A resin lump was obtained by crushing the resin mass and then drying. The sodium content is 8.5 ppm. The number average molecular weight is 82,000.

【0058】実施例1 四フッ化エチレン樹脂コートしたステンレス容器中に樹
脂粗粉末50gと0.1N塩酸500mlを入れ、四フ
ッ化エチレン樹脂製の攪拌翼で攪拌しつつ70℃で6時
間加熱処理した。
Example 1 50 g of resin coarse powder and 500 ml of 0.1N hydrochloric acid were placed in a stainless steel container coated with tetrafluoroethylene resin, and heat-treated at 70 ° C. for 6 hours while stirring with a stirring blade made of tetrafluoroethylene resin. did.

【0059】冷却後、ポリエステル製の濾布を用いて濾
過をして樹脂粉末2を得た。ナトリウム含量は0.3p
pmであった。また、数平均分子量は82000であっ
た。
After cooling, filtration was performed using a polyester filter cloth to obtain a resin powder 2. Sodium content is 0.3p
It was pm. The number average molecular weight was 82,000.

【0060】得られた樹脂粉末2を、樹脂のガラス転移
温度点以上である250℃に加熱した金型に投入しプレ
ス成形した。金型はφ30mmの円盤状のプレートが成
形可能なもの用いた。金型を閉じ、圧力2tにて加圧
後、金型を冷却した。金型を分割することによってφ3
0mm、厚さ3mmの円盤状の樹脂プレートを得た。
The resin powder 2 obtained was placed in a mold heated to 250 ° C., which is higher than the glass transition temperature of the resin, and press-molded. The mold used was one capable of forming a disk-shaped plate having a diameter of 30 mm. The mold was closed, and after applying pressure of 2 t, the mold was cooled. Φ3 by dividing the mold
A disk-shaped resin plate having a thickness of 0 mm and a thickness of 3 mm was obtained.

【0061】得られた樹脂プレートについてデジタルカ
ラーコンピュータを用いて黄色度を測定したところ、
1.1であった。さらに樹脂プレートを熱風オーブン中
で(タバイ製:PHH−200)60℃で2週間処理し
た後、再び黄色度を測定したところ1.6であった。
When the degree of yellowness of the obtained resin plate was measured using a digital color computer,
It was 1.1. Further, the resin plate was treated at 60 ° C. for 2 weeks in a hot air oven (Tabay: PHH-200), and the yellowness was measured again.

【0062】比較例1 実施例1と同様の手法で樹脂粗粉末の黄色度を測定した
ところ、熱処理前の黄色度が1.8、熱処理後の黄色度
は10.9であった。
Comparative Example 1 When the yellowness of the resin coarse powder was measured by the same method as in Example 1, the yellowness before the heat treatment was 1.8 and the yellowness after the heat treatment was 10.9.

【0063】以上の結果より、本発明で色調を改善でき
ることが明らかである。さらに耐熱性も向上しているこ
とがわかった。
From the above results, it is clear that the present invention can improve the color tone. It was also found that the heat resistance was also improved.

【0064】また、実施例1で得た樹脂の成形品を互い
に直行する2面を、該2面が鏡面仕上げになるようにサ
ンドペーパーで研磨し、次いで、バフ研磨した。
Further, two surfaces of the resin molded product obtained in Example 1 which were perpendicular to each other were sanded with sandpaper so that the two surfaces had a mirror finish, and then buffed.

【0065】この研磨した樹脂試料片を屈折計(カルニ
ュー光学工業(株)製:KPR−2)にて評価を行い、
d線(波長:587.6nm)屈折率(nd)、式(4)
より求められるアッベ数(νd)を測定したところ、屈折
率1.629、アッベ数27.2と高屈折率、低分散の
樹脂であることがわかった。
The polished resin sample piece was evaluated with a refractometer (KPR-2 manufactured by Calnew Optical Co., Ltd.),
d-line (wavelength: 587.6 nm) refractive index (nd), formula (4)
The Abbe number (νd) obtained from the above was measured, and it was found that the resin had a high refractive index and a low dispersion with a refractive index of 1.629 and an Abbe number of 27.2.

【0066】なお、アッベ数とは光学分散性を表す指標
であり、下記(7)式で定義される。
The Abbe number is an index representing optical dispersibility and is defined by the following equation (7).

【0067】 アッベ数(νd)=(nd-1)/(nf-nc) (7) nd:d線(波長587.6nm)屈折率 nf:f線(波長656.3nm)屈折率 nc:c線(波長486.1nm)屈折率 実施例1で得た樹脂を用いて眼鏡レンズ用の樹脂成形品
を成形したところ、成形性もよく、また、歪みも少ない
極めて良好な成形品が得られた。
Abbe number (νd) = (nd-1) / (nf-nc) (7) nd: d line (wavelength 587.6 nm) Refractive index nf: f line (wavelength 656.3 nm) Refractive index nc: c Line (wavelength 486.1 nm) Refractive index A resin molded product for an eyeglass lens was molded using the resin obtained in Example 1. As a result, a very good molded product with good moldability and little distortion was obtained. .

【0068】また、実施例1で得た樹脂を用いて延伸フ
ィルムを作製したところ、透明性、色調にも優れ、波長
分散特性も良好である位相差フィルムを作製できること
がわかった。
Further, when a stretched film was produced using the resin obtained in Example 1, it was found that a retardation film having excellent transparency and color tone and good wavelength dispersion characteristics can be produced.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明により高屈折率、高アッベ数を有
し、かつ色調の改善された熱可塑性樹脂を提供でき、こ
の樹脂よりなるレンズは各種分野に用いることができ
る。
According to the present invention, a thermoplastic resin having a high refractive index and a high Abbe number and an improved color tone can be provided, and a lens made of this resin can be used in various fields.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるホスホン酸
残基、および下記一般式(2)で示される2価フェノー
ル残基およびカーボネート残基を含み、かつホスホン酸
残基とカーボネート残基のモル分率が式(3)を満足
し、かつナトリウムの含有量が5ppm未満であること
を特徴とするレンズ用樹脂。 一般式(1) 【化1】 一般式(2) 【化2】 [式(1)中Rは炭素数1〜20の炭化水素基、Xは酸
素、硫黄あるいはセレンを表す。式(2)中R'は各々
独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、
炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、炭
化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれる。p、qは
p+q=0〜8の整数、Yは単結合、酸素原子、硫黄原
子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン
基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハ
ロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、カル
ボニル基、スルホン基、脂肪族ホスフィンオキシド基、
芳香族ホスフィンオキシド基、アルキルシラン基、ジア
ルキルシラン基、フルオレン基、分岐鎖含有アルキリデ
ン基、分岐鎖含有シクロアルキリデン基からなる群から
選ばれる。] 1> (a)/[(a)+(b)]≧0.05 (3) [ここで、(a)はホスホン酸残基、(b)はカーボネート残
基のモル数を示す。]
1. A phosphonic acid residue represented by the following general formula (1) and a divalent phenol residue and a carbonate residue represented by the following general formula (2), and a phosphonic acid residue and a carbonate residue. The resin for lenses is characterized by satisfying the formula (3) and having a sodium content of less than 5 ppm. General formula (1) General formula (2) [In the formula (1), R represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and X represents oxygen, sulfur or selenium. In formula (2), R'is each independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms,
It is selected from the group consisting of aromatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, halogen atoms, hydrocarbon groups and nitro groups. p and q are integers of p + q = 0 to 8, Y is a single bond, oxygen atom, sulfur atom, alkylene group, alkylidene group, cycloalkylene group, cycloalkylidene group, halo-substituted alkylene group, halo-substituted alkylidene group, phenylalkylidene group. , Carbonyl group, sulfone group, aliphatic phosphine oxide group,
It is selected from the group consisting of an aromatic phosphine oxide group, an alkylsilane group, a dialkylsilane group, a fluorene group, a branched chain-containing alkylidene group, and a branched chain-containing cycloalkylidene group. 1> (a) / [(a) + (b)] ≧ 0.05 (3) [where (a) represents the phosphonic acid residue and (b) represents the number of moles of the carbonate residue.] ]
【請求項2】請求項1記載の一般式(2)が下記一般式
(4)〜(7)のいずれかで表されることを特徴とする
レンズ用樹脂。 一般式(4) 【化3】 一般式(5) 【化4】 一般式(6) 【化5】 一般式(7) 【化6】 [式(4)〜(7)中R'は各々独立に水素原子、炭素
数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香
族炭化水素基、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基か
らなる群から選ばれる。p、qはp+q=0〜8の整
数。]
2. A resin for lenses, characterized in that the general formula (2) according to claim 1 is represented by any one of the following general formulas (4) to (7). General formula (4) General formula (5) General formula (6) General formula (7): [In formulas (4) to (7), R'is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a hydrocarbon group, It is selected from the group consisting of nitro groups. p and q are integers of p + q = 0 to 8. ]
【請求項3】前記の樹脂は、ホスホナイト残基を含有
し、かつ前記ホスホナイト残基の含有比が前記ホスホン
酸残基に対し等モル以下であることを特徴とする請求項
1または2記載の樹脂。
3. The resin according to claim 1, wherein the resin contains a phosphonite residue, and the content ratio of the phosphonite residue is not more than equimolar to the phosphonic acid residue. resin.
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