JP2003262958A - Image recording material - Google Patents

Image recording material

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JP2003262958A
JP2003262958A JP2002065781A JP2002065781A JP2003262958A JP 2003262958 A JP2003262958 A JP 2003262958A JP 2002065781 A JP2002065781 A JP 2002065781A JP 2002065781 A JP2002065781 A JP 2002065781A JP 2003262958 A JP2003262958 A JP 2003262958A
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative image recording material adaptable to a heat mode for forming a lithographic printing plate excellent in printing durability (the number of sheets printable) in which ablation by laser scanning during recording is suppressed, an image of high picture quality having no contamination in a non-image part can be formed, and the formed image part has high strength. <P>SOLUTION: The recording material contains (A) a polymer compound having at least one kind of structural unit expressed by general formula (1), (2) or (3) by ≥0.1 mol% and <30 mol%, soluble or swellable with water or an alkaline aqueous solution, (B) a photothermal converting agent, and (C) a compound which generates a radical by exposure to light at the wavelength the photothermal converting agent absorbs the light. The material can form an image by heat-mode exposure. In formulae, each of A<SP>1</SP>, A<SP>2</SP>and A<SP>3</SP>represents oxygen atom, sulfur atom or -N(R<SP>21</SP>)-, wherein R<SP>21</SP>represents an alkyl group, each of G<SP>1</SP>, G<SP>2</SP>and G<SP>3</SP>represents a divalent organic group, each of X and Z represents oxygen atom, sulfur atom or the like, Y represents oxygen atom, sulfur atom, phenylene group or the like, and each of R<SP>1</SP>to R<SP>20</SP>represents a monovalent organic group. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線レーザを用
いたヒートモード露光により画像形成することができる
ヒートモード対応ネガ型画像記録材料に関し、詳しく
は、記録層の画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版
印刷版を形成し得るネガ型の画像記録材料に関する。 【0002】 【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生するラジカル開始剤
と、重合性化合物とを含む記録層を有する平版印刷版材
料である。 【0003】通常、このようなネガ型の画像記録材料
は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重
合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部
を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型
の画像形成材料は、赤外線レーザ照射のエネルギーによ
り記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形
成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画
像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが
一般的である。このような光又は熱による重合系の記録
層を有する印刷版としては、特開平8−108621
号、特開平9−34110号の各公報に記載されるよう
な光重合性或いは熱重合性組成物を記録層として用いる
技術が知られている。これらの記録層は高感度画像形成
性に優れているものの、支持体として、親水化処理され
た基板を用いた場合、記録層と支持体との界面における
密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があった。ま
た、感度を向上させるため、高出力の赤外線レーザを用
いることも検討されているが、レーザー走査時に記録層
のアブレーションが発生し光学系を汚染する懸念がある
といった問題もあった。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、記録時
のレーザー走査におけるアブレーションが抑制され、非
画像部の汚れのない高画質の画像形成が可能で、形成さ
れた画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を
形成しうるネガ型の画像記録材料を提供することにあ
る。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、水又はアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物と
して、特定の構造単位を高分子組成中、0.1モル%以
上、30モル%未満含む樹脂を用いることにより、画像
部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成し得
ることを見出し本発明を完成した。即ち、本発明の画像
記録材料は、(A)下記一般式(1)、(2)、(3)
で表される構造単位のうち少なくとも1種を、0.1モ
ル%以上、30モル%未満含むことを特徴とする、水又
はアルカリ性水溶液に可溶或いは膨潤する高分子化合物
と、(B)光熱変換剤と、(C)(B)光熱変換剤が吸
収する事のできる波長の光のヒートモード露光によりラ
ジカルを生成する化合物と、を含有し、ヒートモード露
光により画像形成可能なことを特徴とする。さらに、前
記ヒートモード対応ネガ型画像記録材料は、(D)ラジ
カル重合性化合物を含有していてもよい。 【0006】 【化2】 【0007】(式中、A1、A2、A3はそれぞれ独立に
酸素原子、硫黄原子、−N(R21)−を表し、R21は置
換基を有しても良いアルキル基を表す。G1、G2、G3
は、それぞれ独立に2価の有機基を表す。X、Zは、そ
れぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、−N(R22)−を表
し、R22は置換基を有しても良いアルキル基を表す。Y
は、酸素原子、硫黄原子、置換基を有しても良いフェニ
レン基、−N(R23)−を表し、R23は置換基を有して
も良いアルキル基を表す。R1〜R20は、それぞれ独立
に1価の有機基を表す。) 【0008】本発明の画像記録材料においては、バイン
ダーの機能を果たす高分子化合物として、一般式
(1)、(2)、(3)で表される構成単位の少なくと
も1種以上を、高分子組成のうち0.1モル%以上、3
0モル%未満含むものを用いている。以下、明確ではな
いが、その効果について説明する。特に、このバインダ
ーを用いた画像記録材料をヒートモード対応平版印刷版
原版の記録層に使用した場合における効果について説明
する。一般式(1)、(2)、(3)で表される構造単
位は、ラジカル反応性の高い官能基を有するものである
ため、赤外線レーザ走査露光時によりラジカルが発生し
た後に速やかに高分子バインダー間で架橋反応を起こ
す。このような構造単位を高分子組成中に含有すること
で、硬化膜形成すなわち現像液や有機溶剤に対する不溶
化が非常に速く起きる。通常、ラジカル重合を利用した
硬化膜形成において多くの場合、充分な強度の硬化膜を
得るために外部酸素によるラジカル重合阻害を抑制し、
充分に反応を進行させる目的で記録層の上層に酸素遮断
層(保護層)を設けるが、本発明のバインダーを用いた
場合、酸素による重合阻害の影響を実質ほとんど受けな
い。そのため、酸素遮断層を設ける必要がなくなるとい
うメリットを有する。 【0009】しかし、この構造単位の含有量が30モル
%を上回る場合、硬化膜形成すなわち現像液や有機溶剤
に対する不溶化がより早く起こるものの、キズ残膜が発
生しやすいという問題を抱えていた。ここでいうキズ残
膜とは、爪先や針先などで記録層面を機械的に引っ掻い
たとき、その部分が現像処理しても膜として残るという
現象であり、このようなことが起きると、非画像部であ
るにも関わらず画像として印刷物に転写されてしまうと
いうものである。このようにキズ残膜が発生しやすいヒ
ートモード対応平版印刷版原版を使用すると、刷版搬送
時の取り扱いに注意を要したり、露光装置であるプレー
トセッターの刷版くわえ部分に残膜が出るなど、ハンド
リング性の悪い刷版となる。そこで、一般式(1)、
(2)、(3)で表される構造単位のうち少なくとも1
種を0.1モル以上、30モル%未満含有し、ラジカル
開始剤としてオニウム塩化合物を用いることで、硬化性
を損なうことなく、上記キズ残膜に係る問題を解決する
ことできた。さらに、赤外線レーザ走査露光時によりラ
ジカルが発生した後に速やかに架橋反応を起こし、架橋
密度の高い硬化膜を形成するため、記録層の他の低分子
成分、例えば、光熱変換剤などがアブレーションを起こ
し、記録層から放出されることが抑制され、光学系の汚
染が抑制されるという効果を奏するものと考えられる。 【0010】また、このような構造単位を有すること
で、バインダーポリマーと画像記録材料を構成する他の
成分、例えばラジカルを生成する化合物との相溶性が改
善されるため、組成物の経時的な相分離の発生が抑制さ
れ、保存安定性に優れるものと考えられる。 【0011】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。以下、本発明におけるヒートモード露光
の定義について詳述する。Hans−Joachim
Timpe,IS&Ts NIP 15:1999 I
nternational Conference o
n Digital Printing Techno
logies.P.209に記載されているように、感
光体材料において光吸収物質(例えば色素)を光励起さ
せ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するそ
の光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化まで
のプロセスには大きく分けて二つのモードが存在するこ
とが知られている。1つは光励起された光吸収物質が感
光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用
(例えば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失
活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像
形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆ
るフォトンモードであり、もう1つは光励起された光吸
収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質
が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き
起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局
所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散る
アブレーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する
多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略す
る。 【0012】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により1光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。 【0013】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度(W/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密
度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。 【0014】そして、事実上ヒートモード露光では感光
材料の版面での露光パワー密度が5000W/cm2
上必要であり、好ましくは10000W/cm2以上必
要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0
×105W/cm2以上の高パワー密度レーザを利用する
とアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好
ましくない。 【0015】 【発明の実施の形態】以下、本発明の画像記録材料につ
いて詳細に説明する。本発明の画像記録材料は、(A)
一般式(1)、(2)、(3)で表される構造単位のう
ち、少なくとも1種を、0.1モル%以上、30モル%
未満含む、水又はアルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する
高分子化合物(以下、適宜、特定アルカリ可溶性高分子
と称する)、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光
熱変換剤が吸収することのできる波長の光のヒートモー
ド露光によりラジカルを生成する化合物を含有すること
を特徴とする。さらに、前記ヒートモード対応ネガ型画
像記録材料は、(D)ラジカル重合性化合物を含有する
ことができる。以下に、本発明の画像記録材料に使用し
うる各化合物について順次説明する。 【0016】〔(A)特定アルカリ可溶性高分子〕本発
明で画像記録材料にバインダー成分として使用する高分
子化合物は、一般式(1)、(2)、(3)で表される
構造単位のうち少なくとも1種を、0.1モル%以上、
30モル%未満含有する、水又はアルカリ水溶液に可溶
或いは膨潤する高分子化合物である。 【0017】 【化3】 【0018】前記一般式(1)において、R1〜R3はそ
れぞれ独立に、1価の有機基を表すが、水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、R 1、R2は水素原子が好ましく、R3は水素原子、
メチル基が好ましい。R4〜R6はそれぞれ独立に、1価
の有機基を表すが、R4としては、水素原子または置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。また、
5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキ
シ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基
を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有して
もよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有しもよいアリール基が
好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオ
キシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等
が挙げられる。 【0019】A1、Xは、それぞれ独立して、酸素原
子、硫黄原子、又は、−N(R21)−を表し、ここで、
21としては、水素原子、置換基を有してもよいアルキ
ル基などが挙げられる。G1は、2価の有機基を表す
が、置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。より
好ましくは、炭素数1〜20の置換基を有してもよいア
ルキル基、炭素数3〜20の置換基を有してもよいシク
ロアルキル基、炭素数6〜20の置換基を有してもよい
芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有しても
よい炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐アルキル基、
炭素数3〜10の置換基を有してもよいシクロアルキル
基、炭素数6〜12の置換基を有してもよい芳香族基が
強度、現像性等の性能上、好ましい。 【0020】ここで、G1における置換基としては、水
素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、水酸基、ア
ミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが
好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結合した
基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤として
オニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化する。 【0021】 【化4】 【0022】前記一般式(2)において、R7〜R9はそ
れぞれ独立に、1価の有機基を表すが、水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、R 7、R8は水素原子が好ましく、R9は水素原子、
メチル基が好ましい。R10〜R12は、それぞれ独立に1
価の有機基を表すが、この有機基としては、具体的には
例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキ
シ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基
を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有して
もよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基
が好ましい。ここで、導入可能な置換基としては、一般
式(1)において挙げたものが同様に例示される。 【0023】A2は、それぞれ独立して、酸素原子、硫
黄原子、又は、−N(R21)−を表し、ここで、R21
しては、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられる。G2は、2価の有機基を表すが、置換
基を有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、
炭素数1〜20の置換基を有してもよいアルキル基、炭
素数3〜20の置換基を有してもよいシクロアルキル
基、炭素数6〜20の置換基を有してもよい芳香族基な
どが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数
1〜10の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数3〜
10の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数
6〜12の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像
性等の性能上、好ましい。ここで、G2における置換基
としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例え
ば、水酸基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を
含まないものが好ましい。このような水素原子がヘテロ
原子に結合した基を連結基部分に有したものと、後述す
る開始剤としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定
性が劣化する。Yは、酸素原子、硫黄原子、−N
(R23)−または置換基を有してもよいフェニレン基を
表す。ここで、R23としては、水素原子、置換基を有し
てもよいアルキル基などが挙げられる。 【0024】 【化5】 【0025】前記一般式(3)において、R13〜R15
それぞれ独立に、1価の有機基を表すが、水素原子、置
換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、R13、R15は水素原子が好ましく、R15は水素原
子、メチル基が好ましい。R16〜R20は、それぞれ独立
に1価の有機基を表すが、R16〜R20は、例えば、水素
原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシ
カルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を
有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい
アルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリール
スルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、ア
ルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入
しうる置換基としては、一般式(1)においてあげたも
のが例示される。A3、Zは、酸素原子、硫黄原子、又
は−N(R21)−を表す。R21としては、一般式(1)
におけるのと同様のものが挙げられる。 【0026】G3は、2価の有機基を表すが、置換基を
有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、炭素
数1〜20の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数
3〜20の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭
素数6〜20の置換基を有してもよい芳香族基などが挙
げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数1〜1
0の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数3〜10の
置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数6〜1
2の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の
性能上、好ましい。ここで、G3における置換基として
は、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、水酸
基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まない
ものが好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結
合した基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤
としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化
する。 【0027】本発明のヒートモード対応ネガ型画像記録
材料に必須成分として使用される(A)特定アルカリ可
溶性高分子は、下記に示す合成方法1)〜3)の少なく
とも1つにより製造することできる。 【0028】合成方法1)下記一般式(4)で表される
ラジカル重合性化合物1種以上を0.1モル%以上、3
0モル%未満と、下記一般式(4)で表される構造単位
を有さない他のラジカル重合性化合物を1種以上と、を
通常のラジカル重合法によって共重合させ、所望の高分
子化合物の前駆体を合成した後に、塩基を用いて、プロ
トンを引き抜きLを脱離させ、前記一般式(1)で表さ
れる構造を有する所望の高分子化合物を得る方法。この
とき、高分子化合物前駆体の製造には、一般に公知の懸
濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができ
る。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、
ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであっ
てもよい。 【0029】 【化6】 【0030】式中、Lは、アニオン性脱離基を表す。好
ましくは、ハロゲン原子、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。R3〜R6、A1及びG1、Xについては前記一般
式(1)で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。また、脱離反応を生起させるために用いる塩基とし
ては、無機化合物、有機化合物のどちらを使用しても良
い。好ましい無機化合物塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、
有機化合物塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドのような金
属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソ
プロピルエチルアミンのような有機アミン化合物等が挙
げられる。一般式(4)で表されるラジカル重合性化合
物としては、下記の化合物(M−1)〜(M−12)を
例として挙げることできるがこれらに限定されるもので
はない。 【0031】 【化7】 【0032】 【化8】【0033】これら、ラジカル重合性化合物は、市販品
として、あるいは、本発明者らが先に提案した特願20
00−249569号明細書に記載の合成法により容易
に入手できる。 【0034】合成方法2)以下に詳述するような特定の
官能基を有するラジカル重合性化合物1種以上を0.1
モル%以上、30モル%未満と、特定の官能基を有さな
い他のラジカル重合性化合物を1種以上と、を通常のラ
ジカル重合法によって共重合し、幹高分子化合物を合成
した後に、側鎖の該官能基と、下記一般式(5)または
(6)、(7)で表される構造を有する化合物と、を反
応させ、前記一般式(1)または(2)、(3)で表さ
れる構造を有する所望の高分子化合物を得る方法。幹高
分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法ある
いは溶液重合法などを適用することができる。その共重
合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重
合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。 【0035】 【化9】 【0036】一般式(5)中、R4〜R6は、前記一般式
(1)で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式(5)で表される基を有する低分子化合物の
例としては、2−ヒドロキシルエチルアクリレート、2
−ヒドロキシルエチルメタクリレート、4−ヒドロキシ
ブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロリ
ド、メタクリル酸クロリド、N,N−ジメチル−2−ア
ミノエチルメタクリレート、2−クロロエチルメタクリ
レート、2−イソシアン酸エチルメタクリレート、3−
イソシアン酸プロピルメタクリレート、グリシジルアク
リレート、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチルメタクリレート、2−ブロモエ
チルメタクリレート、3−ブロモプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、4−ヒド
ロキシブチルメタクリルアミド、イタコン酸等が挙げら
れる。 【0037】一般式(6)中、R10〜R12は、前記一般
式(2)で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式(6)で表される基を有する低分子化合物の
例としては、エチレングリコールモノビニルエーテル、
プロピレングリコールモノビニルエーテル、ブチレング
リコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノビニルエーテル、1−クロロエチルビニルエーテル、
1−アミノエチルビニルエーテル、4−クロロメチルス
チレン、p−スチレンカルボン酸等が例として挙げられ
る。 【0038】一般式(7)中、R16〜R20は、前記一般
式(3)で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式(7)で表される構造を有する化合物として
は、アリルアルコール、アリルアミン、ジアリルアミ
ン、2−アリロキシエチルアルコール、2−クロロ−1
−ブテン、アリルイソシアネート等が例として挙げられ
る。 【0039】また、特定の官能基の例としては、水酸
基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、カルボン
酸無水物基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基、イソシ
アネート基、エポキシ基等が挙げられる。これら官能基
を有するラジカル重合性化合物としては、2−ヒドロキ
シルエチルアクリレート、2−ヒドロキシルエチルメタ
クリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、
N,N−ジメチル−2−アミノエチルメタクリレート、
2−クロロエチルメタクリレート、2−イソシアン酸エ
チルメタクリレート、3−イソシアン酸プロピルメタク
リレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアク
リレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタ
クリレート、2−ブロモエチルメタクリレート、3−ブ
ロモプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリルアミ
ド、イタコン酸等が挙げられる。 【0040】さらに、特定の官能基を有さない他のラジ
カル重合性化合物の例としては、例えば、アクリル酸エ
ステル類、メタクリル酸エステル類、N,N−2置換ア
クリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、
スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル
類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられ
る。 【0041】具体的には、例えば、アルキルアクリレー
ト(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ま
しい)等のアクリル酸エステル類、(具体的には、例え
ば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2,2
−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒド
ロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパン
モノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、
アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレート
など)、 【0042】アルキルメタクリレート(該アルキル基の
炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル
酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オ
クチルメタクリレー卜、4−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,
2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペン
タエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレ
ート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタ
クリレート、ナフチルメタクリレートなど)、 【0043】スチレン、アルキルスチレン等のスチレン
類、(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシル
スチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオ
ルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキ
シメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えば
メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレ
ン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例
えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルス
チレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブ
ロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル
−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらを
1種あるいは2種以上用いることができる。 【0044】合成方法3)前記一般式(6)または
(7)で表される不飽和基と、該不飽和基よりもさらに
付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジ
カル重合性化合物の1種以上とを共重合させ、前記一般
式(2)または(3)で表される構造を有する所望の高
分子化合物を得るか(但し、一般式(6)または(7)
で表される不飽和基を有する構造単位の含有量が高分子
化合物中、0.1モル%以上、30モル%未満であるよ
うに仕込み量を調整する)、あるいは、前記一般式
(6)または(7)で表される不飽和基と該不飽和基よ
りもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを
有するラジカル重合性化合物1種以上を0.1モル%以
上、30モル%未満と、前記のような基を有さない他の
ラジカル重合性化合物を1種以上と、を通常のラジカル
重合法によって共重合し、前記一般式(2)または
(3)で表される構造を有する所望の高分子化合物を得
る方法。高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁
重合法あるいは溶液重合法などを適用することができ
る。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、
ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであっ
てもよい。 【0045】一般式(6)で表される不飽和基と該不飽
和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和
基とを有するラジカル重合性化合物としては、ビニルア
クリレート、ビニルメタクリレート、2−フェニルビニ
ルアクリレート、2−フェニルビニルメタクリレート、
1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリ
レート、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミ
ド等が例として挙げられる。 【0046】一般式(7)で表される不飽和基と、該不
飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和
基とを有するラジカル重合性化合物としては、アリルア
クリレート、アリルメタクリレート、2−アリロキシエ
チルアクリレート、2−アリロキシエチルメタクリレー
ト、プロパルギルアクリレート、プロパルギルメタクリ
レート、N−アリルアクリレート、N−アリルメタクリ
レート、N,N−ジアリルアクリレート、N,N−ジア
リルメタクリレート、アリルアクリルアミド、アリルメ
タクリルアミド等が例として挙げられる。 【0047】これら製造方法(合成方法)は、いずれか
ひとつを行うか、または、それぞれ組み合わせて(A)
特定アルカリ可溶性高分子を得てもよい。一般式
(1)、(2)、(3)で表される構造単位の含有量
は、0.1モル%以上、30モル%未満の範囲であるこ
とを要し、より好ましい範囲は、10〜25モル%であ
る。この範囲において硬化性と耐刷性、更にはキズ残膜
の抑制が良好となる傾向にある。 【0048】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子化
合物には、非画像部除去性などの諸性能を向上させるた
めに、酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させ
てもよい。このようなラジカル重合性が有する酸基とし
ては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基など
があり、特に好ましいものは、カルボン酸である。カル
ボン酸を含有するラジカル重合性化合物としては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、インクロトン酸、マレイン酸、p−カルボキシルス
チレンなどがあり、特に好ましいものは、アクリル酸、
メタクリル酸、p−カルボキシルスチレンである。これ
らを1種あるいは1種以上用いることができ、これら共
重合成分の好適に使用される含有量は、0〜50モル%
であり、特に好ましくは、アルカリ水現像による画像強
度ダメージ抑制という観点から、0〜30モル%であ
る。30モル%を越えるとアルカリ水現像による画像強
度ダメージを受けやすくなる。 【0049】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−
2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル
などが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは2種以
上混合してもよい。 【0050】本発明の(A)特定アルカリ水可溶性化合
物は、質量平均分子量で、好ましくは40,000以上
であり、さらに好ましくは、8万〜18万の範囲であ
る。8万を下回ると硬化膜強度が不足し、18万を越え
ると現像性が低下する。また、本発明に係る(A)特定
高分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよ
い。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合
は、15質量%以下が望ましい。 【0051】本発明に係る高分子化合物は単独で用いて
も、2種以上を混合して用いてもよい。また、一般式
(1)、(2)、(3)で表される基を有しない他の高
分子化合物を混合して用いてもよい。この場合、他の高
分子化合物は、高分子化合物中で50質量%以下で、更
に好ましくは10質量%以下である。本発明の画像記録
材料中に含まれる(A)特定高分子化合物の含有量は固
形分で約5〜95質量%であり、好ましくは、約40〜
90質量%である。含有量が少なすぎる場合には、記録
層の強度が不足し、耐刷性が低下する傾向があり、多す
ぎると画像形成性に影響を与え、画質が低下する可能性
があり、いずれ好ましくない。 【0052】以下に、本発明に係る(A)特定アルカリ
可溶性高分子の代表的な合成例と具体的な高分子化合物
を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 (合成例) 1)高分子化合物(1)の合成(合成例1) コンデンサー、撹拌機を取り付けた500ml三口フラ
スコに、1−メトキシ−2−プロパノール240mlを
入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、前記例示化合物
(M−4)30.9g、ベンジルメタクリレート74.
0g,メタクリル酸12.1g、V−65(和光純薬
製)0.870gの1−メトキシ−2−プロパノール2
40ml溶液を2時間半かけて滴下させた。さらに、7
0℃で2時間反応させた。反応混液を0℃に冷却した
後、撹拌しながら、トリエチルアミン56.7gを滴下
し、徐々に室温まで昇温させながら、12時間反応させ
た。反応混液を0℃に冷却した後、撹拌しながら、5M
HClを反応混液のpHが6以下になるまで滴下し
た。反応液を水5L中に投じ、重合体を析出させた。こ
れを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化合物(1)を得
た。NMRスペクトルより、(M−4)由来の基がすべ
てアクリル基に変換されたことが確認された。ポリスチ
レンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定し
た結果、97,000であった。 【0053】2)幹高分子化合物(1)の合成 コンデンサー、撹拌機を取り付けた1000ml三口フ
ラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール175gを
入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、メタクリル酸6
9.7g、t−ブチルメタクリレート69.7g、V−
59(和光純薬製)0.673gの1−メトキシ−2−
プロパノール175g溶液を2時間半かけて滴下させ
た。さらに、70℃で2時間反応させた。室温まで冷却
した後に、水3L中に投じ、重合体を析出させた。これ
を、濾取、洗浄、乾燥し、幹高分子化合物(1)を8
3.0g得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、
質量平均分子量を測定した結果、121,000であっ
た。また、滴定により測定した酸価は2.30meq/
gであった。 【0054】3)高分子化合物(2)の合成(合成例
2) コンデンサー、撹拌機を取り付けた1000ml三口フ
ラスコに、前記幹高分子化合物(1)80g、及び、p
−メトキシフェノール1gを入れ、ジメチルスホキシド
320gに溶解したのち、滴下ロートを用いて、1,8
−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン4
8.0gを滴下した。室温で30分撹拌した後に、3−
ブロモエチルメタクリレート19.5gを滴下し、60
℃で8時間撹拌した。室温まで冷却した後に、水3L中
に投じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾
燥し、高分子化合物(2)を72g得た。ポリスチレン
を標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定した結
果、128,000であった。また、滴定により測定し
た酸価は1.01meq/gであった。幹高分子化合物
(1)の酸価と高分子化合物(2)の酸価の差およびH
NMRより下記表1に示す構造であることが確認され
た。 【0055】4)高分子化合物(3)の合成(合成例
3) コンデンサー、撹拌機を取り付けた1000ml三口フ
ラスコに、前記幹高分子化合物(1)80g、p−メト
キシフェノール1gを入れ、ジメチルスホキシド320
gに溶解したのち、滴下ロートを用いて、1,8−ジア
ザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン48.0g
を滴下した。室温で30分撹拌した後に、p−クロロメ
チルスチレン16.0gを滴下し、60℃で8時間撹拌
した。室温まで冷却した後に、水3L中に投じ、重合体
を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化
合物(3)を81.2g得た。ポリスチレンを標準物質
としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(G
PC)により、質量平均分子量を測定した結果、13
5,000であった。また、滴定により測定した酸価は
1.02meq/gであった。幹高分子化合物(1)の
酸価と高分子化合物(3)の酸価の差およびH NMR
より表1に示す構造であることが確認された。 【0056】5)高分子化合物(4)の合成(合成例
4) コンデンサー、撹拌機を取り付けた2000ml三口フ
ラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール750gを
入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、アリルメタクリ
レート88.3g,メタクリル酸9.0g、ベンジルメ
タクリレート74.0g、V−59(和光純薬製)0.
679gの1−メトキシ−2−プロパノール750g溶
液を2時間半かけて滴下させた。さらに、70℃で2時
間反応させた。室温まで冷却した後に、水3L中に投
じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥
し、高分子化合物(4)を150.0g得た。ポリスチ
レンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定し
た結果、132,000であった。また、滴定により測
定した酸価は1.00meq/gであった。 【0057】(合成例5〜17)合成例1〜4と同様に
して仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下に示す高
分子化合物(5)〜(17)を合成した。これらの重合
体の質量平均分子量を、合成例1〜4と同じ方法で測定
した。上記合成法により得られた(A)特定アルカリ可
溶性樹脂を、下記表1〜4に、その構成単位の構造、重
合モル比で示し、さらに測定した質量平均分子量を併記
する(高分子化合物1〜高分子化合物17)。 【0058】 【表1】【0059】 【表2】【0060】 【表3】【0061】 【表4】 【0062】〔(B)光熱変換剤〕本発明の画像記録材
料は、ヒートモード露光、代表的には、赤外線を発する
レーザにより記録を行うことから、光熱変換剤を用いる
ことが必須である。光熱変換剤は、所定の波長の光を吸
収し、熱に変換する機能を有している。この際発生した
熱により、後述する(C)成分、即ちこの(B)光熱変
換剤が吸収し得る波長の光のヒートモード露光によりラ
ジカルを生成する化合物が分解し、ラジカルを発生す
る。 【0063】本発明において使用される光熱変換剤とし
ては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱
を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用
いることができる。本発明において使用される好ましい
光熱変換剤は、入手容易な高出力レーザーへの適合性の
観点から波長760nm〜1200nmに吸収極大を有
する赤外線吸収性染料又は顔料である。 【0064】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。 【0065】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。 【0066】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。 【0067】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。 【0068】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成
中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定
性、経済性に優れるため最も好ましい。 【0069】 【化10】 【0070】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を
表す。ここで、X2は酸素原子または、硫黄原子を示
し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ
原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1
〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子と
は、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 【0071】 【化11】 【0072】R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原
子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存
安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭
化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは
互いに結合し、5員環または6員環を形成していること
が特に好ましい。 【0073】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Za-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8
いずれかにスルホ基が置換されている場合は、Za-
必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定
性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフル
オロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、
過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオ
ン、およびアリールスルホン酸イオンである。 【0074】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平11−31062
3号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特
願2000−224031号明細書の段落番号[001
2]〜[0038]、特願2000−211147号明
細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載され
たものを挙げることができる。 【0075】 【化12】 【0076】 【化13】【0077】 【化14】 【0078】 【化15】【0079】前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数
7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カ
チオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホ
ニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カ
チオン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9
14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲ
ン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選
択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組
合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭
素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14
びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易
性と効果の観点から好ましい。 【0080】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0081】 【化16】 【0082】 【化17】 【0083】前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZ
-と同義である。 【0084】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0085】 【化18】【0086】 【化19】 【0087】前記一般式(d)中、R29ないしR31は各
々独立に、水素原子、アルキル基、またはアリール基を
示す。R33およびR34は各々独立に、アルキル基、置換
オキシ基、またはハロゲン原子を示す。nおよびmは各
々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、または
31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、ま
たR29および/またはR30はR33と、またR31および/
またはR32はR34と結合して環を形成しても良く、さら
に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R 33同士あ
るいはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。
2およびX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基であり、X2およびX3の少なくとも一方
は水素原子またはアルキル基を示す。Qは置換基を有し
ていてもよいトリメチン基またはペンタメチン基であ
り、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Z
-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZ
-と同義である。 【0088】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0089】 【化20】 【0090】 【化21】 【0091】前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、II
IB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。 【0092】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0093】 【化22】 【0094】本発明において光熱変換剤として使用され
る顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。 【0095】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。 【0096】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。 【0097】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。 【0098】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。 【0099】本発明においては、これらの光熱変換剤は
1種のみを用いてもよく、2種以上を併用することもで
きるが、感度の観点から、一般式(a)で示される色素
が最も好ましく、なかでも、ジアリールアミノ基を有す
るシアニン色素が最も好ましい。 【0100】これらの光熱変換剤は、記録層組成物中
に、全固形分の0.1〜20質量%添加されることが好
ましい。この範囲より少なすぎる場合には露光による特
性変化の感度が低くなり、感光性が充分に得られない傾
向があり、多すぎる場合には膜の均一性や強度が低下す
る傾向にあるため、いずれも好ましくない。これらの光
熱変換剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、
別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型画像形成
材料を作成した際に、記録層の波長760nm〜120
0nmの範囲における吸収極大での光学濃度が、0.1
〜3.0の間にあることが好ましい。この範囲をはずれ
た場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記光
熱変換剤の添加量と記録層の厚みとにより決定されるた
め、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより
得られる。記録層の光学濃度は常法により測定すること
ができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白
色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必
要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成
し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム
等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測
定する方法等が挙げられる。 【0101】〔(C)ヒートモード露光によりラジカル
を生成する化合物〕ヒートモード露光によりラジカルを
生成する化合物(以下、適宜、ラジカル開始剤と称す
る)は、前記(B)光熱変換剤と組み合わせて用い、光
熱変換剤が吸収し得る波長の光、例えば、赤外線レーザ
を照射した際にその光又は熱或いはその双方のエネルギ
ーによりラジカルを発生し、(A)特定アルカリ可溶性
高分子、及び、所望により併用される後述する(D)重
合性の不飽和基を有するラジカル重合性化合物の重合を
開始、促進させる化合物を指す。ここで、「ヒートモー
ド露光」とは、前述した本発明における定義に従うもの
とする。 【0102】ラジカル開始剤としては、公知の光重合開
始剤、熱重合開始剤などを選択して使用することがで
き、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するト
リアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド
化合物、キノンジアジドなどが挙げられるが、オニウム
塩が高感度であり、好ましい。 【0103】本発明において好適に用いられるラジカル
を発生する化合物としては、オニウム塩が挙げられ、具
体的には、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニ
ウム塩である。これらのオニウム塩は酸発生剤としての
機能も有するが、後述するラジカル重合性化合物と併用
する際には、ラジカル重合の開始剤として機能する。本
発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般
式(I)〜(III)で表されるオニウム塩である。 【0104】 【化23】 【0105】式(I)中、Ar11とAr12は、それぞれ
独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個以
下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有す
る場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニト
ロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数
12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下
のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフル
オロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対
イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフ
ルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸
イオンである。 【0106】式(II)中、Ar21は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以
下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21-はZ11-
同義の対イオンを表す。 【0107】式(III)中、R31、R32及びR33は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。 【0108】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、本願出願人が先に提案
した特願平11−310623号明細書の段落番号[0
030]〜[0033]に記載されたものや特願200
0−160323号明細書の段落番号[0015]〜
[0046]に記載されたものを挙げることができる。 【0109】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、
さらに360nm以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【0110】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜
30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が0.1
質量%未満であると感度が低くなり、また50質量%を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併
用しても良い。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【0111】〔(D)ラジカル重合性化合物〕本発明の
画像記録材料には、感度、画像形成性を向上させる目的
で、ラジカル重合性化合物を併用することができる。こ
こで、併用可能なラジカル重合性化合物は、少なくとも
一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合
性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくと
も1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ
る。このような化合物群は当該産業分野において広く知
られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定
なく用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プ
レポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、
又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化
学的形態をもつ。 【0112】モノマー及びその共重合体の例としては、
不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげられ、
好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキ
シル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を
有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能も
しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反
応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮
合反応物等も好適に使用される。 【0113】また、イソシアナート基やエポキシ基等の
親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類及びチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多
官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換
反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽
和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン
等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。 【0114】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシ
プロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。 【0115】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。 【0116】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。 【0117】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。 【0118】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。 【0119】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。 【0120】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。 【0121】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。 【0122】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。 【0123】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式(IV)で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 【0124】 CH2=C(R34)COOCH2CH(R35)OH 一般式(IV) 【0125】一般式(IV)中、R34及びR35は、それぞ
れ独立に水素原子又はメチル基を示す。 【0126】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417号、特公昭62−39418号記載のエチ
レンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適
である。 【0127】さらに、特開昭63−277653号、特
開昭63−260909号、特開平1−105238号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。 【0128】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1
984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。 【0129】ラジカル重合性化合物は単独で用いても2
種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物
について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか
併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細
は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設
定できる。 【0130】画像記録材料中のラジカル重合性化合物の
配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多
すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、画像
記録層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録
層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液か
らの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの
場合、組成物全成分に対して5〜80質量%、好ましく
は20〜75質量%である。 【0131】本発明において、前記(A)特定アルカリ
可溶性高分子と、(D)ラジカル重合性化合物とを併用
する場合、(A)成分と(D)成分の比率は、質量比
で、1:0.05〜1:3の範囲で併用され、好ましく
は1:0.1〜1:2の範囲、さらに好ましくは1:
0.3〜1:1.5の範囲である。 【0132】ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に
対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面接着性等の観点から、適切な構造、配合、添加
量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上
塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。 【0133】〔その他の成分〕本発明の画像記録材料に
は、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添
加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染
料を画像の着色剤として使用することができる。具体的
には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#10
3、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。 【0134】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、記録層塗布液全固形分に対し、
0.01〜10質量%の割合である。 【0135】また、本発明においては、画像記録材料の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の
不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム
塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物
の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全
組成物の約0.1質量%〜約10質量%が好ましい。 【0136】また、本発明における画像記録材料は、主
として平版印刷版原版の画像記録層を形成するために用
いられるが、そのような画像記録層の現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740
号や特開平3−208514号に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号、特
開平4−13149号に記載されているような両性界面
活性剤を添加することができる。 【0137】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。 【0138】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録
層塗布液中に占める割合は、0.05〜15質量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。 【0139】さらに、本発明に係る記録層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。 【0140】本発明の画像記録材料を使用して平版印刷
版原版を製造するには、通常、画像記録材料の構成成分
を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適
当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテ
ート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テト
ラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等を挙げることができるがこれに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50質量%である。 【0141】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平
版印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0g
/m 2が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見か
けの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下す
る。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。 【0142】本発明に係る記録層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−17
0950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全記録層
の材料固形分中0.01〜1質量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5質量%である。 【0143】本発明の画像記録材料は、主として、平版
印刷版原版の記録層として使用される。前記平版印刷版
原版は、少なくとも、支持体と、記録層とを有し、必要
に応じて、更に保護層を有する。以下、前記平版印刷版
原版の構成要素である支持体及び保護層について説明す
る。 【0144】〔支持体〕本発明の画像記録材料を用いて
平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、
例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プ
ラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板
などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積
層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミ
ネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィル
ム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が
含まれる。 【0145】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜
0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmであ
る。 【0146】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理
が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝
酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号公報に開示されているよ
うに両者を組み合わせた方法も利用することができる。 【0147】このように粗面化されたアルミニウム板
は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を
経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化
処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処
理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成
する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リ
ン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。 【0148】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。 【0149】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。 【0150】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30質
量%、好ましくは0.5〜10質量%であり、25℃で
のpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜80
℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を配合してもよ
い。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝
酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムの
ような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚
酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB
族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化
チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四
ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニ
ウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムな
どを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしく
は、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用
することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は
0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.
05〜5.0質量%である。珪酸塩処理により、アルミ
ニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の
際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が
向上する。 【0151】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特
開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合
物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物から
なる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のう
ち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(O
374、Si(OC494などの珪素のアルコキシ
化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化
物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。 【0152】〔保護層〕本発明の画像記録材料を平版印
刷版原版に用いる場合は、通常、露光を大気中で行うた
め、光重合性組成物を含む画像記録層の上に、さらに、
保護層を設ける事が好ましく、この様な保護層に望まれ
る特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低
く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着
性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる
ことであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性
高分子化合物を用いることが一般的である。 【0153】本発明の画像記録材料においては、皮膜形
成樹脂として、塗膜形成後の膜中溶存酸素量が低く、更
に外部からの酸素遮断性が高い前記特定のポリウレタン
樹脂を用いているため、酸素などの重合阻害による画像
形成性の低下を抑制し得るという利点を有するため、必
ずしもこのような保護層を備えなくてもよいが、さらに
外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像
強度を高める目的で上記保護層を備えてもよい。 【0154】〔平版印刷版原版による印刷〕上述された
支持体表面に、本発明の画像記録材料を記録層として作
製した平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録すること
ができる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる
熱的な記録も可能である。本発明においては、波長76
0nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザにより画像露光されることが好まし
い。 【0155】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。 【0156】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ性水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が
挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わ
せて用いられる。 【0157】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強
度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。 【0158】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。 【0159】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水
素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元
剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。 【0160】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。 【0161】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。 【0162】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。 【0163】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布された平版印
刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッ
サー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されて
いるバーニングプロセッサー:BP−1300)等で高
温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像
を形成している成分の種類にもよるが、180〜300
℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。 【0164】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。 【0165】このような処理によって、本発明の画像記
録材料より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【0166】 【実施例】以下、本発明を合成例、実施例及び比較例に
よって更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって
制限されるものではない。 【0167】〔実施例1〜6、比較例1〜3〕 (支持体の作成)99.5%以上のアルミニウムと、F
e 0.30%、Si 0.10%、Ti 0.02
%、Cu 0.013%を含むJIS A1050合金
の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理に
は、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱
ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこな
った。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚50
0mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物
が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質
化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続
焼鈍炉中で500℃、60秒中間焼鈍した後、冷間圧延
を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とし
た。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延
後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。
その後、平面性を向上させるためにテンションレベラー
にかけた。 【0168】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。 【0169】次いで、支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%
の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、ス
マット除去処理を行った。 【0170】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。 【0171】その後、印刷版非画像部としての親水性を
確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪
酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの
接触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。
Siの付着量は10mg/m 2であった。以上により作
成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μm
であった。 【0172】(記録層の形成)下記記録層塗布液1を調
製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体に
ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて11
5℃で45秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原
版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2
範囲内であった。 【0173】 <記録層塗布液1> ・アルカリ可溶性高分子:(A)成分(表5に記載の化合物、表5に記載の量 ) ・赤外線吸収剤「IR−1」:(B)成分 0.10g ・ラジカル開始剤「S−1」:(C)成分 0.45g ・ラジカル重合性化合物:(D)成分(表5に記載の化合物、表5に記載の量 ) ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.0lg (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・p−メトキシフェノール 0.001g ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g 【0174】 【表5】 【0175】なお、本発明における実施例に使用するア
ルカリ可溶性高分子は、前記合成例により得られた
(A)特定アルカリ可溶性高分子であり、本発明におけ
る比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構成単位に
ついては下記に示す。 【0176】 【化24】【0177】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した(B)赤外線吸収剤の具体例を以下に示
す。 【0178】 【化25】 【0179】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した(C)ラジカル開始剤の具体例を以下に示
す。 【0180】 【化26】 【0181】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した(D)ラジカル重合性化合物の具体例を以
下に示す。 【0182】 【化27】 【0183】(露光)得られた前期各平版印刷版原版
を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCre
o社製Trendsetter3244VFSにて、出
力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネル
ギー188mJ/cm2、解像度2400dpiの条件
で露光した。 【0184】(現像処理)露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処
理した。現像液は、下記(D−1)を仕込み液、下記
(D−2)を補充液に用いた。現像欲浴の温度は30
℃、現像時間を12秒で処理した。この際、補充液は自
動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となる
ように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシ
ャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水
希釈液を用いた。 <現像液(D−1)> ・水酸化カリウム 3g ・炭酸水素カリウム 1g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩 8g ・水 785g 【0185】 <現像液(D−2)> ・水酸化カリウム 6g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩 4g ・シリコンTSA−731 0.1g (東芝シリコーン社(株)製) ・水 786.9g 【0186】〔耐刷性の評価〕次に、小森コーポレーシ
ョン(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。この
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前
記表5に併記する。 【0187】〔耐キズ性の評価〕上記記録層を塗布した
平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機
器としては、HEIDON社製Scratching
TESTER HEIDON−14を用い、引っ掻き針
として0.4mmRダイヤ針を用い、針上の荷重を変化
させながら、400mm/minの速さで記録層表面を
引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行
い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。
荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に
優れることになる。結果を前記表5に併記する。以上、
表5に明らかな様に、本発明の画像記録材料を記録層と
して用いた実施例1〜6の平版印刷版原版は、本発明の
範囲外の公知のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例1
〜3に比べ、優れた耐刷性および耐キズ性を達成してい
ることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のア
ブレーションは見られなかった。 【0188】〔実施例7〜10、比較例4〜5〕実施例
1〜6及び比較例1〜3で用いたのと同様のアルミニウ
ム支持体上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、
80℃雰囲気下で30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1
0mg/m2であった。 (下塗り層用塗布液) 下記組成の化合物を混合し、下塗り層用塗布液を調製した。 ・2−アミノエチルホスホン酸 0.5g ・メタノール 40g ・純水 60g 【0189】(記録層の形成)下記に示す記録層塗布液
2を前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバ
ーで塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾
燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、1.
2〜1.3g/m2の範囲内であった。 【0190】 <記録層塗布液2> ・アルカリ可溶性高分子:(A)成分(表6に記載の化合物、表6に記載の量 ) ・赤外線吸収剤「IR−2」:(B)成分 0.08g ・ラジカル開始剤「S−2」:(C)成分 0.30g ・ラジカル重合性化合物:(D)成分(表6に記載の化合物、表6に記載の量 ) ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム0.001g ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g 【0191】 【表6】【0192】(露光)得られた平版印刷版原版を、水冷
式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製T
rendsetter3244VFSにて、出力6.5
W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネルギー18
8mJ/cm2、解像度、解像度2400dpiの条件
で露光した。 【0193】(現像処理)露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処
理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイ
ルム(株)製DP−4の1:8水希釈液を用いた。現像
欲浴の温度は30℃、現像時間を12秒で処理した。こ
の際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝
導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。
また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製F
N−6の1:1水希釈液を用いた。 【0194】〔耐刷性および汚れ性の評価〕得られた平
版印刷版原版を、それぞれ60℃で3日間保存、及び、
45℃、湿度75%RHで3日間保存して強制経時させ
た後、前記実施例1〜6および前記比較例1〜3と同様
の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。。結果を
前記表6に併記する。表6に明らかな様に、本発明の画
像記録材料を記録層として用いた実施例7〜10の平版
印刷版原版は、本発明の範囲外の公知のアルカリ可溶性
高分子を用いた比較例4〜5に比べ、非画像部の汚れも
なく、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存し
た後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安
定性に優れていることがわかった。 【0195】〔実施例11〜15、比較例6〜7〕実施
例1〜6及び比較例1〜3で用いたのと同様のアルミニ
ウム支持体上に、下記記録層塗布液3を調製し、上記ア
ルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風
式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平版印刷版
原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2
の範囲内であった。 <記録層塗布液3> ・高分子化合物 (表7に記載の化合物、表7に記載の量) ・赤外線吸収剤「IR−3」 0.10g ・ラジカル開始剤「S−1」 0.50g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g 【0196】 【表7】【0197】(露光)得られた平版印刷版原版を、水冷
式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製T
rendsetter3244VFSにて、出力9W、
外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100
mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光し
た。 【0198】(現像処理)露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム(株)製DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現
像欲浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャー
は、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈
液を用いた。 【0199】〔耐刷性および耐キズ性の評価〕次に、ハ
イデルベルクSOR−KZ印刷機を用いて印刷した。こ
の際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷
できるかを計測し、耐刷性を評価した。また、実施例1
〜6及び比較例1〜3と同様に耐キズ性について評価を
行った。以上、表7に明らかな様に、本発明の画像記録
材料を記録層として用いた実施例11〜15の平版印刷
版原版は、本発明の範囲外の公知のアルカリ可溶性高分
子を用いた比較例6〜7に比べ、優れた耐刷性および耐
キズ性を達成していることがわかる。 【0200】 【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザおよび半導体レーザを用いて記録することによ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接可能で
あり、平版印刷版原版用の記録層に用いた場合、アブレ
ーションを起こすことなく、高強度で高画質の画像を形
成することができ、優れた耐刷性を達成し得るネガ型画
像記録材料を提供することができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses an infrared laser.
Image formation by heat mode exposure
For details on heat-mode negative image recording materials
Is a lithographic plate with high image area strength and excellent printing durability.
The present invention relates to a negative type image recording material capable of forming a printing plate. [0002] 2. Description of the Related Art Recent developments in lasers
In particular, an individual having a light emitting region from the near infrared to the infrared region.
For body lasers and semiconductor lasers, high output and downsizing
It is. Therefore, digital data such as computers
These records are used as exposure light sources when making plates directly from
The user is very useful. In the infrared region mentioned above
Red using an infrared laser
Negative lithographic printing plate materials for external lasers are infrared absorbers
And radical initiators that generate radicals by light or heat
And a lithographic printing plate having a recording layer containing a polymerizable compound
It is a fee. Usually, such a negative image recording material is used.
The radicals generated by light or heat are used as initiators.
Causing a reaction, curing the recording layer in the exposed area,
A recording method is used to form. Such negative type
The image forming material of this type depends on the energy of infrared laser irradiation.
Compared to the positive type which causes solubilization of the recording layer
It has a low productivity and promotes a curing reaction by polymerization, thereby producing a strong image.
In order to form the image area, heat treatment is performed before the development process.
It is common. Recording of such a polymerization system by light or heat
JP-A-8-108621 discloses a printing plate having a layer.
No. and JP-A-9-34110
A photopolymerizable or thermally polymerizable composition as a recording layer
Technology is known. These recording layers form high-sensitivity images
Although it has excellent properties, it is hydrophilized as a support.
At the interface between the recording layer and the support.
There was a problem that adhesion was low and printing durability was poor. Ma
In order to improve sensitivity, a high-power infrared laser is used.
However, the recording layer during laser scanning
Ablation may occur, contaminating the optical system
There was also a problem. [0004] The present invention solves the above problems.
The purpose of the present invention is to record
Ablation in laser scanning is suppressed and non-
It is possible to form high-quality images with no stains on the image area.
A lithographic printing plate with high image area strength and excellent printing durability
To provide a negative type image recording material that can be formed.
The [0005] [Means for Solving the Problems] The present inventors have intensively studied.
As a result, a polymer compound soluble in water or an alkaline aqueous solution and
Specific structural units in the polymer composition at 0.1 mol% or less
By using a resin containing less than 30 mol%, the image
Can form a lithographic printing plate with high strength and high printing durability
The present invention has been completed. That is, the image of the present invention
The recording material is (A) the following general formulas (1), (2), (3)
At least one of the structural units represented by
Water or less, more than 30 mol%, water or
Is a polymer compound that is soluble or swellable in an alkaline aqueous solution
(B) the photothermal conversion agent and (C) (B) the photothermal conversion agent absorb
It is possible to obtain
A compound that produces dicar, and heat mode dew
An image can be formed by light. Furthermore, before
The heat mode-compatible negative image recording material is (D)
A cal-polymerizable compound may be contained. [0006] [Chemical 2] (Wherein A1, A2, AThreeEach independently
Oxygen atom, sulfur atom, -N (Rtwenty one)-, Rtwenty oneIs
The alkyl group which may have a substituent is represented. G1, G2, GThree
Each independently represents a divalent organic group. X and Z are
Each independently an oxygen atom, a sulfur atom, -N (Rtwenty two)-
And Rtwenty twoRepresents an alkyl group which may have a substituent. Y
Is a phenyl atom which may have an oxygen atom, a sulfur atom or a substituent.
Ren group, -N (Rtwenty three)-, Rtwenty threeHas a substituent
Represents a good alkyl group. R1~ R20Are independent
Represents a monovalent organic group. ) In the image recording material of the present invention,
As a high molecular compound that performs the function of
(1), (2), at least the structural unit represented by (3)
1 type or more, 0.1 mol% or more of the polymer composition, 3
What contains less than 0 mol% is used. The following is not clear
I will explain the effect. In particular, this binder
Lithographic printing plate compatible with heat mode
Explains the effect when used for the recording layer of the original
To do. The structure represented by the general formulas (1), (2), (3)
The position has a functional group with high radical reactivity.
Therefore, radicals are generated during infrared laser scanning exposure.
Immediately after the cross-linking reaction between polymer binders
The Containing such a structural unit in the polymer composition
In-cured film formation, ie insoluble in developer and organic solvent
It happens very quickly. Usually using radical polymerization
In the case of cured film formation, a cured film with sufficient strength is often used.
To suppress radical polymerization inhibition by external oxygen to obtain,
Oxygen blocking on the upper layer of the recording layer for the purpose of sufficient reaction
A layer (protective layer) is provided, but the binder of the present invention is used.
In the case of
Yes. Therefore, it is no longer necessary to provide an oxygen barrier layer
It has a merit. However, the content of this structural unit is 30 mol.
%, The cured film is formed, that is, a developer or an organic solvent.
Although insolubilization to
I had a problem that it was easy to live. The scratch left here
A film mechanically scratches the recording layer surface with the tip of a nail or the tip of a needle.
The part remains as a film even after development processing.
When this happens, it is a non-image area.
However, if it is transferred to printed matter as an image,
That's what it says. In this way, scratches are likely to form a scratch film.
If you use a lithographic printing plate precursor that supports auto mode,
Play with care when handling or playing as an exposure device
Hands such as a residual film appearing on the plate holder of the tossetter
The printing plate has poor ring characteristics. Therefore, the general formula (1),
(2) At least one of the structural units represented by (3)
Containing 0.1 mol or more and less than 30 mol% of seed, radical
By using an onium salt compound as an initiator, curability
To solve the above problems related to scratched film without damaging
I was able to. In addition, more laser
Crosslink reaction occurs immediately after the occurrence of dicarls
Other small molecules in the recording layer to form a hardened film with high density
Components such as photothermal conversion agents cause ablation.
However, emission from the recording layer is suppressed, and the optical system is contaminated.
It is considered that the dyeing is suppressed. Also, having such a structural unit
And other materials that make up the binder polymer and image recording material
Compatibility with components, for example, compounds that generate radicals is improved.
To prevent the phase separation of the composition over time.
Therefore, it is considered that the storage stability is excellent. In the present invention, “heat mode pair”
“Adaptive” means that recording by heat mode exposure is possible.
Means. Hereinafter, heat mode exposure in the present invention
The definition of is described in detail. Hans-Joachim
Time, IS & Ts NIP 15: 1999 I
international Conference o
n Digital Printing Technology
logs. P. 209, as described in
Light absorbers (eg, dyes) are photoexcited in photoconductor materials.
Through chemical or physical changes.
From photoexcitation to chemical or physical changes in light-absorbing materials
There are roughly two modes in this process.
Is known. One is the photo-excited light-absorbing material
Any photochemical interaction with other reactants in the photomaterial
(E.g. energy transfer, electron transfer)
As a result, the activated reactant is shown in the image above.
Causes chemical or physical changes necessary for formation
And the other is photoexcited light absorption.
The collected material generates heat and deactivates, and the heat is used to react with it.
Cause the chemical or physical changes necessary for image formation as described above.
It is a so-called heat mode that wakes up. In addition, substance is station
It explodes explosively by the energy of light gathered in places
Ablation and one molecule absorb many photons at once
There are special modes such as multiphoton absorption, but they are omitted here.
The An exposure process using each of the above modes
This is called photon mode exposure and heat mode exposure. Fo
The technical difference between ton mode exposure and heat mode exposure
A few photons to be exposed for the energy of the target reaction
It can be used by adding the amount of energy.
For example, consider using n photons to cause a reaction.
Yeah. Photon mode exposure uses photochemical interaction
Therefore, the principle of conservation of quantum energy and momentum is important.
Use one photon of energy by subcontracting
I can't. In other words, to cause some kind of reaction
Relationship of “one photon energy amount ≧ reaction energy amount”
is required. On the other hand, after heat excitation in heat mode exposure
To generate heat and convert light energy into heat
The amount of energy can be added. Therefore, "n pieces
The relationship of “photon energy amount ≧ reaction energy amount”
That will be enough. However, heat addition is necessary for this energy amount addition.
Limited by diffusion. In other words, the exposure area that we are paying attention to now
The next light from the minute (reaction point) until the heat escapes by heat diffusion
If an excitation-deactivation process occurs and heat is generated, the heat is reliably stored.
Product addition results in a temperature rise in that part. But next
If the heat generation is slow, the heat escapes and does not accumulate. One
In heat mode exposure, the same total exposure energy is used.
Even when there is a short amount of light irradiation
Result when irradiated with low energy for a long time
However, a shorter time is advantageous for heat accumulation. Of course, in photon mode exposure, subsequent reactive species
A similar phenomenon may occur due to the diffusion of
In fact, this does not happen. That is, photosensitive material
In photon mode, the exposure power
Density (W / cm2) (= Energy density per unit time
Sensitivity of the photosensitive material (reaction required for image formation)
Energy amount) is constant, but heat mode
Will increase the intrinsic sensitivity of the photosensitive material with respect to the exposure power density.
Will be. Therefore, it is practically used as an image recording material.
In addition, fix the exposure time enough to maintain the required productivity.
Then, when comparing each mode, photon mode exposure
Is usually about 0.1 mJ / cm2Achieved high sensitivity
Because the reaction occurs at any small exposure dose,
The problem of low exposure fogging in unexposed areas is likely to occur. Against this
In heat mode exposure, the exposure amount is not more than a certain level.
The reaction with the thermal stability of the photosensitive material
Usually 50mJ / cm2Degree is required, but low exposure
The problem of fog is avoided. In effect, heat mode exposure is sensitive.
Exposure power density on the plate surface of the material is 5000 W / cm2Less than
Necessary, preferably 10,000 W / cm2Necessary
It becomes important. However, although not detailed here, 5.0
× 10FiveW / cm2Use the above high power density laser
It is favorable because of problems such as ablation and contamination of the light source.
It ’s not good. [0015] BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The image recording material of the present invention is described below.
And will be described in detail. The image recording material of the present invention comprises (A)
The structural unit represented by the general formula (1), (2), (3)
That is, at least one kind is 0.1 mol% or more and 30 mol%
Soluble or swell in water or aqueous alkaline solution
Polymer compound (hereinafter referred to as specific alkali-soluble polymer
), (B) a photothermal conversion agent, and (C) (B) light.
Heat mode of light of a wavelength that the heat conversion agent can absorb
Containing compounds that generate radicals upon exposure to light
It is characterized by. In addition, the heat mode compatible negative print
The image recording material contains (D) a radical polymerizable compound.
be able to. The following is used for the image recording material of the present invention.
Each possible compound will be described in turn. [(A) Specific alkali-soluble polymer]
It is bright and used as a binder component in image recording materials.
The child compound is represented by the general formula (1), (2), (3)
0.1 mol% or more of at least one of the structural units,
Soluble in water or alkaline aqueous solution containing less than 30 mol%
Alternatively, it is a polymer compound that swells. [0017] [Chemical 3] In the general formula (1), R1~ RThreeHaso
Each independently represents a monovalent organic group, but a hydrogen atom, substituted
And an alkyl group which may have a group.
R 1, R2Is preferably a hydrogen atom, RThreeIs a hydrogen atom,
A methyl group is preferred. RFour~ R6Are independently monovalent
Represents an organic group of RFourAs a hydrogen atom or a substitution
And an alkyl group which may have a group.
Are preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. Also,
RFive, R6Each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom.
Child, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group,
An ano group, an alkyl group which may have a substituent, and a substituent
Aryl group which may be substituted, alkoxy which may have a substituent
Si group, aryloxy group which may have a substituent, substituent
An alkylsulfonyl group that may have a substituent,
Good arylsulfonyl groups, etc.
Has a hydrogen atom, an alkoxycarbonyl group, and a substituent.
An alkyl group that may be substituted, and an aryl group that may have a substituent
preferable. Here, the substituent that can be introduced is methoxy.
Sicarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropio
Xoxycarbonyl group, methyl group, ethyl group, phenyl group, etc.
Is mentioned. A1, X are independently oxygenated
Child, sulfur atom, or -N (Rtwenty one) −, Where
Rtwenty oneAs a hydrogen atom, an alkyl optionally having a substituent.
And the like. G1Represents a divalent organic group
However, the alkyl group which may have a substituent is preferable. Than
Preferably, it may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms.
Alkyl group, cyclyl having 3 to 20 carbon atoms
It may have a cycloalkyl group and a substituent having 6 to 20 carbon atoms.
Aromatic groups, etc. are mentioned.
A linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Cycloalkyl which may have a substituent having 3 to 10 carbon atoms
Group, an aromatic group which may have a substituent of 6 to 12 carbon atoms
It is preferable in terms of performance such as strength and developability. Where G1As a substituent in
A group in which an elementary atom is bonded to a heteroatom, such as a hydroxyl group, an
Those that do not contain mino groups, thiol groups, or carboxyl groups
preferable. Such a hydrogen atom bonded to a heteroatom
As a initiator having a group in the linking group portion and an initiator described later
When an onium salt compound is used in combination, the storage stability deteriorates. [0021] [Formula 4] In the general formula (2), R7~ R9Haso
Each independently represents a monovalent organic group, but a hydrogen atom, substituted
And an alkyl group which may have a group.
R 7, R8Is preferably a hydrogen atom, R9Is a hydrogen atom,
A methyl group is preferred. RTen~ R12Are each independently 1
The organic group is a valent organic group.
For example, hydrogen atom, halogen atom, dialkylamino
Group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group,
An ano group, an alkyl group which may have a substituent, and a substituent
Aryl group which may be substituted, alkoxy which may have a substituent
Si group, aryloxy group which may have a substituent, substituent
An alkylsulfonyl group that may have a substituent,
Good arylsulfonyl groups, etc.
Has a hydrogen atom, an alkoxycarbonyl group, and a substituent.
Alkyl group which may be substituted, aryl group which may have a substituent
Is preferred. Here, as the substituent that can be introduced,
What was mentioned in Formula (1) is illustrated similarly. A2Each independently represents an oxygen atom, sulfur
Yellow atom or -N (Rtwenty one)-, Where Rtwenty oneWhen
For example, a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
And so on. G2Represents a divalent organic group, but is substituted
An alkyl group which may have a group is preferred. Preferably,
Alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, carbon
Cycloalkyl optionally having a substituent of 3 to 20 primes
Group, aromatic group which may have a substituent having 6 to 20 carbon atoms
Among them, the number of carbons that may have a substituent
1 to 10 linear or branched alkyl group, 3 to 3 carbon atoms
Cycloalkyl group optionally having 10 substituents, carbon number
Aromatic groups optionally having 6 to 12 substituents are strong and developable
It is preferable in terms of performance such as property. Where G2Substituent in
As a group in which a hydrogen atom is bonded to a heteroatom, for example
Hydroxyl group, amino group, thiol group, carboxyl group
What does not contain is preferable. Such hydrogen atoms are heterogeneous.
Those having a group bonded to an atom in the linking group moiety, and those described later.
Storage stability when combined with an onium salt compound as an initiator
Deteriorates. Y is an oxygen atom, a sulfur atom, -N
(Rtwenty three)-Or a phenylene group which may have a substituent
Represent. Where Rtwenty threeAs having a hydrogen atom and a substituent
And an alkyl group that may be used. [0024] [Chemical formula 5] In the general formula (3), R13~ R15Is
Each independently represents a monovalent organic group,
And an alkyl group that may have a substituent.
R13, R15Is preferably a hydrogen atom, R15Is a hydrogen field
A child or a methyl group is preferred. R16~ R20Are independent
Represents a monovalent organic group, R16~ R20For example, hydrogen
Atom, halogen atom, dialkylamino group, alkoxy
Carbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, substituent
An alkyl group that may have a substituent and an ant that may have a substituent
Group, an alkoxy group which may have a substituent, a substituent
May have an aryloxy group and a substituent.
Alkylsulfonyl group, aryl optionally having substituent (s)
Sulfonyl group, etc., among them, hydrogen atom,
Lucoxycarbonyl group, optionally substituted alkyl
An aryl group which may have a group or a substituent is preferable. Introduction
Examples of the substituent that can be used are those shown in the general formula (1).
Is exemplified. AThree, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, or
Is -N (Rtwenty one)-. Rtwenty oneAs general formula (1)
The same thing as in is mentioned. GThreeRepresents a divalent organic group,
The alkyl group which may have is preferable. Preferably carbon
Alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms
Cycloalkyl group optionally having 3 to 20 substituents, charcoal
An aromatic group that may have a substituent having a prime number of 6 to 20 is listed.
In particular, the carbon number of 1 to 1 which may have a substituent
0 linear or branched alkyl group, 3 to 10 carbon atoms
Cycloalkyl group which may have a substituent, carbon number 6-1
The aromatic group which may have 2 substituents has strength, developability, etc.
It is preferable in terms of performance. Where GThreeAs a substituent in
Is a group in which a hydrogen atom is bonded to a heteroatom, such as hydroxy
Does not contain a group, amino group, thiol group or carboxyl group
Those are preferred. Such hydrogen atoms are bonded to heteroatoms.
Having a combined group in the linking group portion, and an initiator to be described later
Storage stability deteriorates when combined with onium salt compound
To do. Heat type negative image recording of the present invention
Used as an essential ingredient in the material (A) Specific alkali is acceptable
The soluble polymer is less of the synthesis methods 1) to 3) shown below.
Both can be manufactured by one. Synthesis Method 1) Represented by the following general formula (4)
0.1 mol% or more of at least one radical polymerizable compound
Less than 0 mol% and a structural unit represented by the following general formula (4)
One or more other radically polymerizable compounds not having
Copolymerization is carried out by the usual radical polymerization method.
After synthesizing the precursor of the child compound,
Ton is extracted, L is desorbed, and expressed by the general formula (1)
A method for obtaining a desired polymer compound having a structure. this
In the production of polymer compound precursors, generally known suspensions are used.
Suspension polymerization method or solution polymerization method can be applied
The As the constitution of the copolymer, a block copolymer,
Random copolymer, graft copolymer, etc.
May be. [0029] [Chemical 6] In the formula, L represents an anionic leaving group. Good
Preferred examples include halogen atoms and sulfonate esters.
It is done. RThree~ R6, A1And G1, X in general
The same ones listed in formula (1) can be used.
The In addition, the base used to cause the elimination reaction
Either inorganic or organic compounds can be used.
Yes. Preferred inorganic compound bases include sodium hydroxide
, Potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate
Um, potassium carbonate, potassium bicarbonate, etc.
Organic compound bases include sodium methoxide, nato
Gold such as lithium ethoxide, potassium t-butoxide
Genus alkoxide, triethylamine, pyridine, diiso
Organic amine compounds such as propylethylamine
I can get lost. Radical polymerizable compound represented by the general formula (4)
As the product, the following compounds (M-1) to (M-12)
Can be mentioned as an example,
There is no. [0031] [Chemical 7] [0032] [Chemical 8]These radically polymerizable compounds are commercially available products.
Or, the patent application 20 previously proposed by the present inventors
Easy by the synthesis method described in the specification of 00-24969
Available at: Synthesis Method 2) Specific methods as detailed below
0.1 or more of radically polymerizable compounds having a functional group
More than mol% and less than 30 mol% and have no specific functional group
One or more other radically polymerizable compounds are
Copolymerized by dical polymerization to synthesize trunk polymer compounds
After that, the functional group of the side chain and the following general formula (5) or
(6), a compound having the structure represented by (7),
And represented by the general formula (1) or (2), (3).
A method for obtaining a desired polymer compound having a structure. Trunk height
There are generally known suspension polymerization methods for the production of molecular compounds
Alternatively, a solution polymerization method or the like can be applied. That weight
The composition is composed of block copolymer, random copolymer
Any of a coalescence, a graft copolymer, etc. may be sufficient. [0035] [Chemical 9] In the general formula (5), RFour~ R6Is the general formula
The same ones listed in (1) can be used.
The Of a low molecular weight compound having a group represented by the general formula (5)
Examples include 2-hydroxylethyl acrylate, 2
-Hydroxylethyl methacrylate, 4-hydroxy
Butyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate
, Acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid chloride
Methacrylic acid chloride, N, N-dimethyl-2-a
Minoethyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate
Rate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, 3-
Propyl isocyanate, glycidyl acrylate
Relate, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxy
Cycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxy
Cycyclohexylmethyl methacrylate, 2-bromoe
Tyl methacrylate, 3-bromopropyl methacrylate
, 2-hydroxyethyl methacrylamide, 4-hydride
Roxybutyl methacrylamide, itaconic acid, etc.
It is. In the general formula (6), RTen~ R12The above general
The same ones listed in formula (2) can be used.
The Of a low molecular weight compound having a group represented by the general formula (6)
Examples include ethylene glycol monovinyl ether,
Propylene glycol monovinyl ether, butylene
Recall monovinyl ether, diethylene glycol
No vinyl ether, 1-chloroethyl vinyl ether,
1-aminoethyl vinyl ether, 4-chloromethyls
Examples include tylene, p-styrene carboxylic acid, etc.
The In the general formula (7), R16~ R20The above general
The same ones listed in formula (3) can be used.
The As a compound having a structure represented by the general formula (7)
Are allyl alcohol, allylamine, diallylamine
, 2-allyloxyethyl alcohol, 2-chloro-1
-Butene, allyl isocyanate, etc.
The Examples of specific functional groups include hydroxy acid
Group, carboxyl group, carboxylic acid halide group, carvone
Acid anhydride group, amino group, halogenated alkyl group, isocyanate
Examples include ananate group and epoxy group. These functional groups
Examples of the radical polymerizable compound having 2-hydroxy
Silethyl acrylate, 2-hydroxylethyl meta
Acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-
Hydroxybutyl methacrylate, acrylic acid, methacrylate
Lauric acid, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride,
N, N-dimethyl-2-aminoethyl methacrylate,
2-chloroethyl methacrylate, 2-isocyanate
Tyl methacrylate, propyl methacrylate 3-isocyanate
Relate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate
Relate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acetate
Relate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl meta
Chlorate, 2-bromoethyl methacrylate, 3-butyl
Lomopropyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate
Tacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate
And itaconic acid. Furthermore, other radicals having no specific functional group
Examples of cal-polymerizable compounds include, for example, acrylic acid ester.
Stealth, methacrylates, N, N-2 substituted amines
Kurylamides, N, N-2-substituted methacrylamides,
Styrenes, acrylonitriles, methacrylonitrile
Radically polymerizable compounds selected from the group
The Specifically, for example, alkyl accelerators
(The alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms.
Acrylic esters such as
For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid
Propyl, butyl acrylate, amyl acrylate, acrylic
Ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic
Acid-t-octyl, chloroethyl acrylate, 2,2
-Dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydride
Loxypentyl acrylate, trimethylolpropane
Monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate
Glycidyl acrylate, benzyl acrylate
, Methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylic
Rate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.),
Aryl acrylates (eg phenyl acrylate)
Such), Alkyl methacrylate (of the alkyl group)
Methacryl such as those having 1 to 20 carbon atoms are preferred)
Acid esters (eg methyl methacrylate, ethyl
Methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl
Methacrylate, amyl methacrylate, hexylme
Tacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzy
Methacrylate, chlorobenzyl methacrylate,
Cutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate
Rate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,
2-Dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate
, Trimethylolpropane monomethacrylate, pen
Taerythritol monomethacrylate, glycidyl meta
Chlorate, furfuryl methacrylate, tetrahydro
Furfuryl methacrylate), aryl methacrylate
(Eg phenyl methacrylate, cresyl meta
Acrylate, naphthyl methacrylate, etc.), Styrene such as styrene and alkylstyrene
(E.g., methyl styrene, dimethyl styrene,
Limethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene
, Isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl
Styrene, cyclohexylstyrene, decylstyrene,
Benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoro
Rumethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxy
Dimethyl styrene), alkoxy styrene (eg
Methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene
, Dimethoxystyrene, etc.), halogen styrene (eg
For example, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlors
Tylene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene
, Bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene
, Fluorstyrene, trifluorostyrene, 2-butyl
Lom-4-trifluoromethylstyrene, 4-fluoro
-3-trifluoromethylstyrene), acryloni
Examples include tolyl and methacrylonitrile. these
One type or two or more types can be used. Synthesis method 3) The above general formula (6) or
An unsaturated group represented by (7), and further than the unsaturated group
Radius having ethylenically unsaturated groups rich in addition polymerization
Copolymerize with one or more of calpolymerizable compounds,
The desired height having the structure represented by formula (2) or (3)
To obtain a molecular compound (provided that general formula (6) or (7)
The content of the structural unit having an unsaturated group represented by
It is 0.1 mol% or more and less than 30 mol% in the compound.
Adjust the feed amount), or the above general formula
The unsaturated group represented by (6) or (7) and the unsaturated group
Furthermore, ethylenically unsaturated groups rich in addition polymerization
0.1 mol% or less of one or more radical polymerizable compounds having
On the other hand, less than 30 mol% and other groups having no such groups
One or more radical polymerizable compounds and a normal radical
Copolymerization by a polymerization method, and the general formula (2) or
A desired polymer compound having the structure represented by (3) is obtained.
Method. For the production of polymer compounds, generally known suspensions
Polymerization method or solution polymerization method can be applied
The As the constitution of the copolymer, a block copolymer,
Random copolymer, graft copolymer, etc.
May be. The unsaturated group represented by the general formula (6) and the unsaturated group
More ethylenic unsaturation than addition of hydration groups
As the radically polymerizable compound having a group,
Chlorate, vinyl methacrylate, 2-phenyl vinyl
Acrylate, 2-phenyl vinyl methacrylate,
1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate
Rate, vinyl acrylamide, vinyl methacrylate
An example is given. An unsaturated group represented by the general formula (7);
More ethylenic unsaturation than addition of saturated groups
As the radical polymerizable compound having a group, allyl
Chlorate, allyl methacrylate, 2-allyloxye
Tyl acrylate, 2-allyloxyethyl methacrylate
, Propargyl acrylate, propargyl methacrylate
Rate, N-allyl acrylate, N-allyl methacrylate
Rate, N, N-diallyl acrylate, N, N-dia
Lyl methacrylate, allyl acrylamide, allyl methacrylate
An example is tacrylamide. Any of these production methods (synthesis methods)
Do one or combine (A)
A specific alkali-soluble polymer may be obtained. General formula
Content of structural unit represented by (1), (2), (3)
Is in the range of 0.1 mol% or more and less than 30 mol%.
And a more preferable range is 10 to 25 mol%.
The Within this range, curability and printing durability, and scratch residue film
There is a tendency that the suppression of is good. Specific alkali-soluble polymerization according to the present invention
The compound has various performances such as non-image area removability.
For this purpose, a radical polymerizable compound having an acid group is copolymerized.
May be. Such an acid group having radical polymerizability
For example, carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid group, etc.
Particularly preferred are carboxylic acids. Cal
Examples of radically polymerizable compounds containing boronic acid include
Acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, croton
Acid, incrotonic acid, maleic acid, p-carboxyl
There are ethylene and the like, and particularly preferred are acrylic acid,
Methacrylic acid, p-carboxylstyrene. this
One or more of these can be used,
The content preferably used for the polymerization component is 0 to 50 mol%.
Particularly preferably, image strength by alkaline water development is used.
From the viewpoint of suppressing damage, it is 0-30 mol%
The If it exceeds 30 mol%, the image strength is increased by alkaline water development.
Will be more susceptible to damage. Used for the synthesis of such polymer compounds.
Examples of the solvent that can be used include ethylene dichloride,
Cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone,
Ethanol, propanol, butanol, ethanol
Tylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol
Monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate
1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-
2-propyl acetate, N, N-dimethylformami
N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide
Sid, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate
Etc. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
You may mix on top. (A) Specific alkaline water soluble compound of the present invention
The product is a mass average molecular weight, preferably 40,000 or more
More preferably, it is in the range of 80,000 to 180,000.
The If it is less than 80,000, the cured film strength is insufficient, exceeding 180,000.
As a result, developability deteriorates. Also, (A) specific according to the present invention
The polymer compound may contain unreacted monomers.
Yes. In this case, the proportion of monomer in the polymer compound
Is preferably 15% by mass or less. The polymer compound according to the present invention is used alone.
Also, two or more kinds may be mixed and used. The general formula
(1), (2), other height not having the group represented by (3)
You may mix and use a molecular compound. In this case, other high
The molecular compound is 50% by mass or less in the polymer compound.
Preferably, it is 10 mass% or less. Image recording of the present invention
The content of the specific polymer compound (A) contained in the material is
About 5 to 95% by mass in form, preferably about 40 to
90% by mass. If the content is too low, record
The layer strength is insufficient and the printing durability tends to decrease.
If it is too close, it may affect image formation and may reduce image quality.
Which is not preferable. The (A) specific alkali according to the present invention will be described below.
Representative synthetic examples of soluble polymers and specific polymer compounds
The present invention is not limited to these examples.
Yes. (Synthesis example) 1) Synthesis of polymer compound (1) (Synthesis Example 1) 500ml three-necked flask with condenser and stirrer
To Suko, 240 ml of 1-methoxy-2-propanol
And heated to 70 ° C. Exemplified compounds under nitrogen flow
(M-4) 30.9 g, benzyl methacrylate 74.
0g, Methacrylic acid 12.1g, V-65 (Wako Pure Chemicals
0.870 g of 1-methoxy-2-propanol 2
A 40 ml solution was added dropwise over 2.5 hours. In addition, 7
The reaction was performed at 0 ° C. for 2 hours. The reaction mixture was cooled to 0 ° C.
Then, 56.7 g of triethylamine was added dropwise with stirring.
And let it react for 12 hours while gradually raising the temperature to room temperature.
It was. The reaction mixture was cooled to 0 ° C. and then stirred with 5M.
  Add HCl dropwise until the pH of the reaction mixture is 6 or less.
It was. The reaction solution was poured into 5 L of water to precipitate a polymer. This
This is filtered, washed and dried to obtain the polymer compound (1).
It was. From the NMR spectrum, all the groups derived from (M-4)
It was confirmed that it was converted to an acrylic group. Police
Gel permeation chromatography using len as standard
The mass average molecular weight is measured by the Raffy method (GPC).
As a result, it was 97,000. 2) Synthesis of trunk polymer compound (1) 1000ml three-necked fan with condenser and stirrer
To Lasco, add 175 g of 1-methoxy-2-propanol.
And heated to 70 ° C. Methacrylic acid 6 under nitrogen flow
9.7 g, t-butyl methacrylate 69.7 g, V-
59 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.673 g of 1-methoxy-2-
175 g of propanol solution was added dropwise over 2.5 hours
It was. Furthermore, it was made to react at 70 degreeC for 2 hours. Cool to room temperature
Then, it was poured into 3 L of water to precipitate a polymer. this
Is filtered, washed and dried, and the trunk polymer compound (1) 8
3.0 g was obtained. Gel par with polystyrene as standard
By the Miation Chromatography Method (GPC)
As a result of measuring the mass average molecular weight, it was 121,000.
It was. The acid value measured by titration is 2.30 meq /
g. 3) Synthesis of polymer compound (2) (Synthesis example)
2) 1000ml three-necked fan with condenser and stirrer
In LASCO, 80 g of the trunk polymer compound (1) and p
-Put 1 g of methoxyphenol, dimethyl sulfoxide
After dissolving in 320 g, using a dropping funnel, 1,8
-Diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene 4
8.0 g was dripped. After stirring at room temperature for 30 minutes,
19.5 g of bromoethyl methacrylate was added dropwise, and 60
Stir at 8 ° C. for 8 hours. After cooling to room temperature, in 3 L of water
The polymer was precipitated. This is filtered, washed and dried.
It dried and 72g of polymer compounds (2) were obtained. polystyrene
Gel permeation chromatograph using as standard substance
As a result of measuring the mass average molecular weight by the GPC method (GPC)
As a result, it was 128,000. Also measured by titration
The acid value was 1.01 meq / g. Trunk polymer compound
Difference between acid value of (1) and acid value of polymer compound (2) and H
  NMR confirmed the structure shown in Table 1 below.
It was. 4) Synthesis of polymer compound (3) (Synthesis example)
3) 1000ml three-necked fan with condenser and stirrer
To Lasco, 80 g of the trunk polymer compound (1), p-meth
Add 1 g of xylphenol and dimethyl sulfoxide 320
After being dissolved in g, 1,8-dia is added using a dropping funnel.
Zabicyclo [5.4.0] -7-undecene 48.0g
Was dripped. After stirring for 30 minutes at room temperature, p-chloromethyl
16.0 g of styrene styrene was added dropwise and stirred at 60 ° C. for 8 hours.
did. After cooling to room temperature, it is poured into 3 L of water to give a polymer
Was precipitated. This is filtered, washed, dried, and polymerized
81.2 g of Compound (3) was obtained. Polystyrene as standard
Gel permeation chromatography method (G
PC) and the mass average molecular weight was measured.
5,000. The acid value measured by titration is
It was 1.02 meq / g. Of trunk polymer compound (1)
Difference between acid value and acid value of polymer compound (3) and H NMR
As a result, the structure shown in Table 1 was confirmed. 5) Synthesis of polymer compound (4) (Synthesis example)
4) 2000ml three-necked fan with condenser and stirrer
750 g of 1-methoxy-2-propanol was added to Lasco.
And heated to 70 ° C. Allyl methacrylate in a nitrogen stream
Rate 88.3 g, methacrylic acid 9.0 g, benzyl ester
Tacrylate 74.0 g, V-59 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries)
679 g of 1-methoxy-2-propanol 750 g dissolved
The liquid was added dropwise over 2 hours and a half. 2 o'clock at 70 ° C
It was made to react between. After cooling to room temperature, throw it into 3 L of water.
The polymer was precipitated. This is filtered, washed and dried
As a result, 150.0 g of a polymer compound (4) was obtained. Police
Gel permeation chromatography using len as standard
The mass average molecular weight is measured by the Raffy method (GPC).
As a result, it was 132,000. Also measured by titration.
The determined acid value was 1.00 meq / g. (Synthesis Examples 5 to 17) Similar to Synthesis Examples 1 to 4
Change the monomer type and composition ratio,
Molecular compounds (5) to (17) were synthesized. These polymerizations
The mass average molecular weight of the body is measured by the same method as in Synthesis Examples 1 to 4
did. (A) obtained by the above synthesis method
The soluble resins are shown in the following Tables 1 to 4 in terms of the structure and weight of the structural units.
Shown in total molar ratio, and also shows the measured mass average molecular weight
(Polymer Compound 1 to Polymer Compound 17). [0058] [Table 1][0059] [Table 2][0060] [Table 3][0061] [Table 4] [(B) Photothermal conversion agent] Image recording material of the present invention
The material emits heat mode exposure, typically infrared
Uses a photothermal conversion agent because recording is performed with a laser.
It is essential. A photothermal conversion agent absorbs light of a predetermined wavelength.
It has a function of converting into heat. Occurred at this time
Due to heat, component (C) described later, that is, (B) photothermal change
The heat mode exposure of light of a wavelength that can be absorbed by the replacement agent
Compounds that generate dicarls decompose and generate radicals
The As a photothermal conversion agent used in the present invention
Absorb the light energy radiation used for recording and heat
There is no particular limitation on the absorption wavelength range as long as it is a substance that generates oxygen.
Can be. Preferred for use in the present invention
Photothermal converters are compatible with readily available high power lasers.
From the viewpoint, it has an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.
Infrared absorbing dye or pigment. Examples of the dye include commercially available dyes and “dye”.
"Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1968)
Known materials described in the literature can be used. concrete
Azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes
, Naphthoquinone dye, anthraquinone dye, phthalose
Anine dye, carbonium dye, quinone imine dye,
Chin dye, cyanine dye, squarylium dye, piliri
Um salt, metal thiolate complex, oxonol dye, dii
Such as monium dye, aminium dye, croconium dye, etc.
Dyes. Preferred dyes include, for example, JP-A-5.
8-125246, JP 59-84356, JP
Sho 59-202829, JP-A 60-78787, etc.
Cyanine dyes described in JP-A-58-1736
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in Japanese Patent No. 94595, JP-A-5
8-112793, JP-A-58-224793, Special
No. 59-48187, JP-A-59-73996,
JP-A-60-52940, JP-A-60-63744
Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-1
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.
Cyanine dyes described in British Patent 434,875
Can. US Pat. No. 5,156,938
The near-infrared absorption sensitizer described above is also preferably used.
Substituted aryl radicals as described in allowed 3,881,924.
Nzo (thio) pyrylium salt, JP-A 57-142645
No. (US Pat. No. 4,327,169)
Nthiapyrylium salt, JP 58-181051 A
58-220143, 59-41363, 59
-84248, 59-84249, 59-14
6063 and 59-146061
Pyrylium compounds, described in JP-A-59-216146
Cyanine dyes described in US Pat. No. 4,283,475
Pentamethine thiopyrylium salt, etc.
No. 514, No. 5-19702
Umum compounds are also preferably used. Another preferred example of the dye is rice.
In Japanese Patent No. 4,756,993, formula (I),
Name near-infrared absorbing dyes listed as (II)
You can. Of these dyes, particularly preferred
Cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol
Dyes, squarylium pigments, pyrylium salts, thiopyri
Examples thereof include a lithium dye and a nickel thiolate complex. The
In addition, dyes represented by the following general formulas (a) to (e)
Is preferable because of its excellent photothermal conversion efficiency.
The cyanine dye represented by (a) is a polymerizable composition of the present invention.
High polymerization activity and stable when used in
It is most preferable because of its excellent property and economy. [0069] Embedded image In general formula (a), X1Is a hydrogen atom, halo
Gen atom, -NPh2, X2-L1Or the group shown below
Represent. Where X2Indicates an oxygen atom or a sulfur atom
And L1Is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, hetero
Aromatic rings with atoms, carbon atoms containing heteroatoms 1
-12 hydrocarbon groups are shown. Here, heteroatoms and
Represents N, S, O, a halogen atom, or Se. [0071] Embedded image R1And R2Are each independently
A hydrocarbon group having 1 to 12 molecules is shown. Storage of recording layer coating solution
From stability, R1And R2Is charcoal with 2 or more carbon atoms
It is preferably a hydride group, and further R1And R2What is
Bonded together to form a 5-membered or 6-membered ring
Is particularly preferred. Ar1, Ar2Are the same or different
Aromatic hydrocarbons that may have a substituent
Indicates the basis. Preferred aromatic hydrocarbon groups include ben
Zen ring and naphthalene ring are mentioned. Also preferred
As the substituent, hydrocarbon having 12 or less carbon atoms
Group, halogen atom, alkoxy having 12 or less carbon atoms
Groups. Y1, Y2Are the same or different
And may have a sulfur atom or 12 or fewer carbon atoms
A dialkylmethylene group; RThree, RFourAre the same
May be the same or different, and may have a substituent.
A hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms is shown. Preferred position
As the substituent, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms,
A carboxyl group and a sulfo group are mentioned. RFive, R6, R
7And R8Can be the same or different,
Indicates a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms
The From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Ma
Za-Represents a counter anion. However, R1~ R8of
When any of the sulfo groups is substituted, Za-Is
unnecessary. Preferred Za-Storage stability of recording layer coating solution
Characteristics, halogen ion, perchlorate ion, tetrafur
Oroborate ion, hexafluorophosphate ion
And sulfonate ions, particularly preferably
Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion
And aryl sulfonate ions. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a)
In addition to the following examples, Japanese Patent Application No. 11-31062
Paragraph Nos. [0017] to [0019]
Paragraph No. [001] of application 2000-224031
2] to [0038], Japanese Patent Application No. 2000-2111147
Described in paragraph numbers [0012] to [0023] of the booklet
Can be mentioned. [0075] Embedded image [0076] Embedded image[0077] Embedded image [0078] Embedded imageIn the general formula (b), L represents the number of conjugated carbon atoms.
Represents 7 or more methine chains, and the methine chains have a substituent.
The substituents may be bonded together to form a ring structure
May be. Zb+Indicates a counter cation. Preferred versus
Thion includes ammonium, iodonium, sulfo
Ni, phosphonium, pyridinium, alkali metal
Thion (Ni+, K+, Li+) And the like. R9~
R14And R15~ R20Are independently of one another hydrogen atom or halogen
Atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkeni
Group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfoni
Selected from the group consisting of
Selected substituents, or two or three of these
Represents the combined substituents, bonded together to form a ring structure
May be. Here, in the general formula (b), L is conjugated charcoal.
Representing a methine chain of 7 atoms and R9~ R14And
And R15~ R20Are all readily available that represent hydrogen atoms.
From the viewpoint of properties and effects. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (b) include
Can be mentioned as examples. [0081] Embedded image [0082] Embedded image In the general formula (c), YThreeAnd YFourIt
Respectively, oxygen atom, sulfur atom, selenium atom, or tellurium source
Represents a child. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms.
Rtwenty one~ Rtwenty fourAnd Rtwenty five~ R28Are the same
May be different, hydrogen atom, halogen atom, cyano
Group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkini
Group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfi group
Represents a nyl group, an oxy group or an amino group. In the formula, Z
a-Represents a counter anion, Z in the general formula (a)
a-It is synonymous with. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (c) include the following:
Can be mentioned as examples. [0085] Embedded image[0086] Embedded image In the general formula (d), R29Or R31Each
Each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
Show. R33And R34Each independently represents an alkyl group or a substituent
An oxy group or a halogen atom is shown. n and m are each
Each independently represents an integer of 0 to 4. R29And R30Or
R31And R32May be bonded to each other to form a ring.
R29And / or R30Is R33And again R31and/
Or R32Is R34To form a ring.
And R33Or R34R is present when there are multiple 33Mutual
Rui or R34They may be bonded to each other to form a ring.
X2And XThreeEach independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or
Or an aryl group, X2And XThreeAt least one of
Represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q has a substituent
May be a trimethine group or a pentamethine group.
In other words, a ring structure may be formed together with a divalent organic group. Z
c-Represents a counter anion, Z in the general formula (a)
a-It is synonymous with. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (d) are as follows:
Can be mentioned as examples. [0089] Embedded image [0090] Embedded image In the general formula (e), R35~ R50Is that
Independently, a hydrogen atom or halogen atom which may have a substituent.
Child, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl
Group, alkynyl group, hydroxyl group, carbonyl group, thio group,
Sulfonyl, sulfinyl, oxy, amino,
It shows a nium salt structure. M is two hydrogen atoms or metal
Shows atoms, halometal groups, and oxymetal groups.
The metal atoms contained include IA, IIA, II of the periodic table
IB, IVB group atoms, first, second and third period transition metals,
Lanthanoid elements, among others, copper, magnesium
Iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, vana
Palladium is preferred. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (e) are as follows:
Can be mentioned as examples. [0093] Embedded image In the present invention, it is used as a photothermal conversion agent.
Commercially available pigments and color indexes
(CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (Japan Pigment Technical Association)
Edition, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC
Published in 1986), "Printing ink technology" issued by CMC
Edition, published in 1984)
The The types of pigment include black pigment, yellow face
, Orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Examples include polymer-bound dyes. Specifically, insoluble
Zo pigment, azo lake pigment, condensed azo pigment, chelate azo
Pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, key
Nacridone pigments, dioxazine pigments, isoindole
Non-based pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, firefly
Light pigments, inorganic pigments, carbon black, etc. can be used.
Of these pigments, carbon black is preferred.
is there. These pigments may be used without surface treatment.
Alternatively, a surface treatment may be applied. For surface treatment method
The method of surface coating with resin and wax, surfactant
Method of adhering, reactive substances (eg silane cups)
Ring agents, epoxy compounds, polyisocyanates, etc.)
A method of bonding to the pigment surface is conceivable. Above surface
The treatment method is "Characteristics and application of metal soap" (Shoshobo),
“Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and
To "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986)
Has been described. The particle size of the pigment is in the range of 0.01 μm to 10 μm.
Preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm
More preferably, it is particularly 0.1 μm to 1 μm.
It is preferable that it exists in the range. The particle size of the pigment is 0.01μ
When less than m, the stability of the dispersion in the image recording layer coating solution
In addition, it is not preferable, and if it exceeds 10 μm, image recording
It is not preferable in terms of the uniformity of the recording layer. As a method of dispersing the pigment, ink production
And well-known dispersion techniques used for toner production, etc.
The Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, and atomizers.
Lighter, Pearl mill, Super mill, Ball mill, Y
Impeller, despather, KD mill, colloid mill, da
Inatron, 3-roll mill, pressure kneader, etc.
It is. For details, see “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986). In the present invention, these photothermal conversion agents are
Only one type may be used, or two or more types may be used in combination.
However, from the viewpoint of sensitivity, the dye represented by the general formula (a)
Is most preferred, and in particular, has a diarylamino group
Most preferred are cyanine dyes. These photothermal conversion agents are contained in the recording layer composition.
In addition, 0.1 to 20% by mass of the total solid content is preferably added.
Good. If it is less than this range, exposure
Sensitivity of the change in sex is low, and the photosensitivity cannot be obtained sufficiently.
If it is too much, the uniformity and strength of the film will decrease.
Neither is preferable. These lights
The heat conversion agent may be added to the same layer as other components,
Another layer may be provided and added to it, but negative image formation
When the material is prepared, the wavelength of the recording layer is 760 nm to 120
The optical density at the absorption maximum in the range of 0 nm is 0.1
It is preferably between ˜3.0. Out of this range
The sensitivity tends to be low. The optical density is the light
It is determined by the amount of heat conversion agent added and the thickness of the recording layer.
Therefore, the predetermined optical density can be controlled by controlling both conditions.
can get. The optical density of the recording layer should be measured by a conventional method.
Can do. As a measuring method, for example, transparent or white
On a color support, the coating amount after drying is required as a lithographic printing plate.
Forming a recording layer with a thickness determined as appropriate within the required range
And measuring with a transmission optical densitometer, aluminum
A recording layer is formed on a reflective support such as
And the like. [(C) radical by heat mode exposure
Compound that produces radicals by heat mode exposure
The resulting compound (hereinafter referred to as a radical initiator as appropriate)
Is used in combination with the photothermal conversion agent (B).
Light of a wavelength that can be absorbed by the heat conversion agent, for example, an infrared laser
Energy of light and / or heat when irradiated
-Generates radicals, and (A) is soluble in specific alkalis
Polymer and (D) weight described later used in combination if desired
Polymerization of radically polymerizable compounds having compatible unsaturated groups
Refers to a compound that initiates and promotes. Here, "Heat mode
"Exposure" follows the definition in the present invention described above
And As the radical initiator, known photopolymerization cleavage can be used.
You can select and use an initiator, thermal polymerization initiator, etc.
For example, an onium salt, a trihalomethyl group
Liazine compound, peroxide, azo polymerization initiator, azide
Compound, quinonediazide, etc.
Salts are preferred because of their high sensitivity. Radicals preferably used in the present invention
Examples of compounds that generate onium salts include onium salts,
Physically, iodonium salts, diazonium salts, sulfoni
Umm salt. These onium salts are used as acid generators.
Although it also has a function, it is used in combination with the radical polymerizable compound described later
In doing so, it functions as an initiator for radical polymerization. Book
The onium salt suitably used in the invention is the following general
It is an onium salt represented by the formulas (I) to (III). [0104] Embedded image In the formula (I), Ar11And Ar12Respectively
Independently, the number of carbon atoms which may have a substituent is 20 or less.
The lower aryl group is shown. This aryl group has a substituent
Preferred substituents in the case of halogen atom, nitro
B group, alkyl group having 12 or less carbon atoms, carbon atom number
12 or fewer alkoxy groups or 12 or fewer carbon atoms
Of the aryloxy group. Z11-Is halogen
ON, perchlorate ion, carboxylate ion, tetrafur
Oroborate ion, hexafluorophosphate ion
And a pair selected from the group consisting of sulfonate ions
Ion, preferably perchlorate ion, hexaf
Luophosphate ion and aryl sulfonic acid
Ion. In the formula (II), Artwenty oneHas a substituent
And an aryl group having 20 or less carbon atoms. Good
Preferred substituents include halogen atoms, nitro groups, carbon
Alkyl group having 12 or less atoms, 12 or less carbon atoms
An alkoxy group having 12 or less carbon atoms
Si group, alkylamino group having 12 or less carbon atoms, carbon
Dialkylamino group having 12 or less atoms, 1 carbon atom
2 or less arylamino groups or 12 or less carbon atoms
Examples include the lower diarylamino group. Ztwenty one-Is Z11-When
Represents a synonymous counter ion. In the formula (III), R31, R32And R33The
Each may be the same or different and has a substituent.
And a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. Good
Preferred substituents include halogen atoms, nitro groups, carbon
Alkyl group having 12 or less atoms, 12 or less carbon atoms
Or an aryl having 12 or less carbon atoms
An oxy group is mentioned. Z31-Is Z11-Counter ion synonymous with
Represents. In the present invention, it can be suitably used.
As a specific example of the onium salt, the applicant previously proposed
Paragraph No. [0 of Japanese Patent Application No. 11-310623
030] to [0033] and Japanese Patent Application 200
Paragraph Nos. [0015] to 0-160323 specification
[0046] can be mentioned. The onium salt used in the present invention is:
The maximum absorption wavelength is preferably 400 nm or less,
Furthermore, it is preferable that it is 360 nm or less. like this
By making the absorption wavelength in the ultraviolet region, lithographic printing plate
The original can be handled under white light. These onium salts are used in the entire recording layer coating solution.
0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to the solid content
30% by mass, particularly preferably 1-20% by mass
It can be added to the recording layer coating solution. Addition amount is 0.1
If it is less than mass%, the sensitivity will be low, and 50 mass% will be reduced.
If it exceeds, smearing occurs in the non-image area during printing. These
Only one type of nium salt may be used, or two or more types may be used together.
May be used. In addition, these onium salts
It can be added to the same layer, or another layer can be added
May be. [(D) Radical polymerizable compound] of the present invention
Image recording materials have the purpose of improving sensitivity and image formability
Thus, a radically polymerizable compound can be used in combination. This
Here, the radically polymerizable compound that can be used in combination is at least
Radical polymerization with one ethylenically unsaturated double bond.
Compound with at least terminal ethylenically unsaturated bond
Is selected from compounds having 1, preferably 2 or more
The Such compounds are widely known in the industry.
These are particularly limited in the present invention.
It can be used without any problems. These include, for example, monomers,
Repolymers, ie dimers, trimers and oligomers,
Or a mixture thereof and a copolymer thereof.
It has a morphological form. Examples of monomers and copolymers thereof include
Unsaturated carboxylic acids (eg acrylic acid, methacrylic
Acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, male
Acid, etc.), its esters and amides,
Preferably, unsaturated carboxylic acid and aliphatic polyhydric alcohol
Esters with compounds, unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent compounds
Amides with amine compounds are used. Hydroxy
Nucleophilic substituents such as sil groups, amino groups and mercapto groups
Has unsaturated carboxylic esters, amides and monofunctional
Addition reaction with polyfunctional isocyanates and epoxies
Dehydration condensation with monofunctional or polyfunctional carboxylic acid
Combined reactants and the like are also preferably used. Further, an isocyanate group, an epoxy group, etc.
An unsaturated carboxylic acid ester having an electrophilic substituent or
Amides, monofunctional or polyfunctional alcohols, alcohols
Addition reaction products with amines and thiols,
Unsaturation with leaving substituents such as thiol and tosyloxy groups
Carboxylic acid esters or amides and monofunctional or polyfunctional
Substitution with functional alcohols, amines and thiols
Reactants are also suitable. As another example,
Unsaturated phosphonic acid, styrene instead of Japanese carboxylic acid
It is also possible to use a group of compounds replaced with, for example. Aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated cal
Specific examples of radically polymerizable compounds that are esters with boronic acid
Examples include acrylic acid esters, ethylene glycol
Coal diacrylate, triethylene glycol diac
Relate, 1,3-butanediol diacrylate, te
Tramethylene glycol diacrylate, propylene glycol
Recall diacrylate, neopentyl glycol dia
Chlorate, trimethylolpropane triacrease
Trimethylolpropane tri (acryloyloxy)
Propyl) ether, trimethylol ethane triacryl
Rate, hexanediol diacrylate, 1,4-silane
Chlohexanediol diacrylate, tetraethylene
Glycol diacrylate, pentaerythritol dia
Acrylate, pentaerythritol triacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentae
Lithritol diacrylate, dipentaerythritol
Hexaacrylate, sorbitol triacrylate,
Sorbitol tetraacrylate, sorbitol penta
Acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri
(Acryloyloxyethyl) isocyanurate, poly
There are ester acrylate oligomers and the like. Examples of methacrylic acid esters include tetrameth
Tylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol
Cold dimethacrylate, neopentyl glycol dimethyl
Tacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate
, Trimethylolethane trimethacrylate, ethyl
Lenglycol dimethacrylate, 1,3-butanedio
Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate
, Pentaerythritol dimethacrylate, penta
Erythritol trimethacrylate, pentaerythrito
Tetramethacrylate, dipentaerythritol di
Methacrylate, dipentaerythritol hexametac
Relate, sorbitol trimethacrylate, sorbite
Tetramethyl methacrylate, bis [p- (3-methacrylic
(Luoxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl
Tylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy
B) Phenyl] dimethylmethane. Itaconic acid esters include ethylene glycol.
Recall Diitaconate, Propylene Glycol Diita
Conate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethyle
Glycol diitaconate, pentaerythritol di
Itaconate, sorbitol tetritaconate, etc.
The Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol.
Recall dicrotonate, tetramethylene glycol di
Crotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Examples include sorbitol tetradicrotonate. As the isocrotonic acid ester, ethyl ester is used.
Glycol diisocrotonate, pentaerythritol
Rudiisocrotonate, sorbitol tetraisocroto
There are nates. Maleic acid esters include ethylene glycol.
Recall dimaleate, triethylene glycol dimale
, Pentaerythritol dimaleate, sorbitol te
There are trauma rates. Examples of other esters include, for example, special
Kosho 46-27926, JP-B 51-47334, JP
Aliphatic alcohol-based esthetics described in Sho 57-196231
JP-A-59-5240, JP-A-59-524
1, having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149
Containing an amino group described in JP-A-1-165613
What is used is also suitably used. In addition, an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated catalyst.
Specific examples of amide monomers with rubonic acid include
Renbis-acrylamide, methylenebis-methacrylic
Amide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamid
1,6-hexamethylenebis-methacrylamide,
Diethylenetriaminetrisacrylamide, Xylile
Bisacrylamide, Xylylenebismethacrylami
There are Examples of other preferred amide monomers
The cyclohexylene described in JP-B-54-21726
The one with the structure can be given. Further, addition reaction of isocyanate and hydroxyl group
Also suitable for urethane-based addition-polymerizable compounds produced using
As a specific example, for example, Japanese Patent Publication No. 4
2 per molecule described in Japanese Patent No. 8-41708
Polyisocyanate having isocyanate groups above
The compound contains a hydroxyl group represented by the following general formula (IV)
Polymerization of 2 or more in one molecule with vinyl monomer added
Vinyl urethane compounds containing a functional vinyl group
It is. [0124]   CH2= C (R34) COOCH2CH (R35) OH General Formula (IV) In the general formula (IV), R34And R35Is that
It independently represents a hydrogen atom or a methyl group. Japanese Patent Laid-Open No. 51-37193, Japanese Patent
Described in No. 2-332293 and Japanese Patent Publication No. 2-16765
Urethane acrylates such as
No. 49860, Shoko Sho 56-17654, Shoko Sho 62
No. 39394 and Japanese Patent Publication No. 62-39418
Urethane compounds having a lenoxide framework are also suitable
It is. Further, JP-A 63-277653, JP
Japanese Utility Model Laid-Open No. 63-260909, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-105238
The amino structure or sulfide structure described in
You may use the radically polymerizable compound which has. Other examples include Japanese Patent Laid-Open No. 48-641.
83, JP-B 49-43191, JP-B 52-30
490, polyester as described in each publication
Acrylate, epoxy resin and (meth) acrylic acid
Multifunctional acrylics such as reacted epoxy acrylates
Rate and methacrylate can be raised. Also,
No.46-43946, No.1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493
You can also list things. In some cases, JP
A perfluoroalkyl group described in Sho 61-222048
The containing structure is preferably used. Furthermore, Japan Adhesion Association
Magazine vol. 20, no. 7, 300-308 pages (1
984) as a photo-curable monomer and oligomer
What is interposed can also be used. The radical polymerizable compound may be used alone or 2
Two or more species may be used in combination. These radically polymerizable compounds
What type of structure is used or whether it is used alone
Details of usage, such as whether to use in combination or how much to add
Can be set arbitrarily according to the performance design of the final recording material.
Can be determined. Of the radically polymerizable compound in the image recording material
As for the compounding ratio, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity, but a larger amount
If it is too high, undesirable phase separation may occur,
Problems in the manufacturing process due to the adhesiveness of the recording layer (for example, recording
Transfer of layer components, manufacturing failure due to adhesion) or developer
This may cause problems such as precipitation. From these perspectives
Therefore, the preferable blending ratio of the radical polymerizable compound is many
The case, preferably 5 to 80% by weight, preferably
Is 20-75 mass%. In the present invention, the (A) specific alkali
Combined use of soluble polymer and (D) radical polymerizable compound
The ratio of the component (A) to the component (D) is the mass ratio
And preferably used in the range of 1: 0.05 to 1: 3.
Is in the range of 1: 0.1 to 1: 2, more preferably 1:
It is in the range of 0.3 to 1: 1.5. The radical polymerizable compound is used in oxygen.
Polymerization inhibition, resolution, fogging, refractive index change
Structure, blending, and addition from the standpoint of manufacturing, surface adhesion, etc.
The amount can be selected arbitrarily, and depending on the case, the undercoat or top
Layer construction and coating methods such as coating can also be performed. [Other components] In the image recording material of the present invention,
If necessary, various compounds other than these may be added.
You may add. For example, dyes with large absorption in the visible light range
The material can be used as an image colorant. concrete
The oil yellow # 101, oil yellow # 10
3, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oy
Le Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black
BY, Oil Black BS, Oil Black T-50
5 (made by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pi
Pure Blue, Crystal Violet (CI4255
5), methyl violet (CI42535), ethyl
Violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue
-(CI52015), etc., and JP-A-62-229324
The dye described in No. 7 can be mentioned. Ma
Phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon bras
Pigments such as lacquer and titanium oxide can also be suitably used.
The These colorants are used in the image area after image formation.
It is preferable to add it because it is easy to distinguish non-image areas.
Yes. The amount added is based on the total solid content of the recording layer coating solution.
The ratio is 0.01 to 10% by mass. In the present invention, the image recording material
Of radically polymerizable compounds during preparation or storage
Add a small amount of thermal polymerization inhibitor to prevent unnecessary thermal polymerization.
It is desirable to add. Suitable thermal polymerization inhibitors include
Idroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl
Ru-p-cresol, pyrogallol, t-butylcateco
, Benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl
-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebi
(4-methyl-6-tert-butylphenol), N-ni
Toroso-N-phenylhydroxylamine aluminum
Examples include salts. The amount of thermal polymerization inhibitor added is the total composition
About 0.01% by mass to about 5% by mass relative to the mass of
Yes. If necessary, prevent polymerization inhibition by oxygen
In order to induce higher fatty acids such as behenic acid and behenic acid amide
The surface of the recording layer is added during the drying process after applying a conductor.
May be unevenly distributed. The amount of higher fatty acid derivative added is
About 0.1% to about 10% by weight of the composition is preferred. The image recording material in the present invention is mainly composed of
As used for forming the image recording layer of lithographic printing plate precursor
However, the development conditions for such an image recording layer
In order to broaden the stability of the treatment, JP-A-62-251740
No. or JP-A-3-208514
Nonionic surfactant, JP-A-59-121044, Special
Amphoteric interfaces as described in Kaihei 4-13149
An activator can be added. As specific examples of the nonionic surfactant,
Rubitan tristearate, sorbitan monopalmitate
, Sorbitan trioleate, monoglyceride stearate
Lido, polyoxyethylene nonylphenyl ether, etc.
Can be mentioned. As specific examples of the amphoteric surfactant,
Rudi (aminoethyl) glycine, alkylpolyamino ester
Tilglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyl
Chill-N-hydroxyethylimidazolinium betai
N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example,
Product name Amorgen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
The Recording of the above nonionic surfactants and amphoteric surfactants
The proportion in the layer coating solution is preferably 0.05 to 15% by mass.
More preferably, it is 0.1-5 mass%. Further, in the recording layer coating solution according to the present invention,
Is plasticized to give the film flexibility, etc.
The agent is added. For example, polyethylene glycol,
Tributyl enoate, diethyl phthalate, dibuty phthalate
, Dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, phosphoric acid
Tricresyl, tributyl phosphate, trioctyl phosphate
, Tetrahydrofurfuryl oleate, etc.
The Planographic printing using the image recording material of the present invention
In order to produce a plate precursor, the components of the image recording material are usually used.
Together with each component required for the coating solution in a solvent
What is necessary is just to apply | coat on a suitable support body. The solvent used here and
Are ethylene dichloride, cyclohexanone,
Tyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propano
, Ethylene glycol monomethyl ether, 1-methyl
Toxi-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate
, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimeth
Xiethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethyl
Ruacetamide, N, N-dimethylformamide, Tet
Lamethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfur
Foxide, sulfolane, γ-butyl lactone, tolue
Water, water, etc., but are not limited to this
is not. These solvents are used alone or in combination.
The Concentration of the above components in the solvent (total solid content including additives)
Is preferably 1 to 50% by mass. Further, the description on the support obtained after coating and drying.
The coating amount (solid content) of the recording layer varies depending on the application.
Generally speaking, the printing plate precursor is 0.5 to 5.0 g.
/ M 2Is preferred. As the application amount decreases,
However, the film properties of the image recording layer are reduced.
The Various methods can be used as the coating method.
For example, bar coater coating, spin coating, spattering
Lay coating, curtain coating, dip coating, air knife
Coating, blade coating, roll coating, etc.
The The recording layer coating liquid according to the present invention has a coating property.
Surfactants for improving the quality, for example, JP-A-62-17
Fluorosurfactant as described in No. 0950
Can be added. The preferred addition amount is the total recording layer
0.01 to 1% by mass in the solid content of the material, more preferably
0.05 to 0.5% by mass. The image recording material of the present invention is mainly a lithographic plate.
Used as a recording layer for printing plate precursors. The lithographic printing plate
The master has at least a support and a recording layer and is necessary.
Depending on the case, a protective layer is further provided. Hereinafter, the lithographic printing plate
Explain the support and protective layer, which are the components of the original
The [Support] Using the image recording material of the present invention
As a support used when forming a lithographic printing plate precursor
There is no particular limitation as long as it is a dimensionally stable plate-like material,
For example, paper, plastic (eg, polyethylene,
Laminated with polypropylene, polystyrene, etc.)
Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic
Plastic film (eg cellulose diacetate, trivinegar)
Acid cellulose, cellulose propionate, cellulose butyrate
, Cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene
Terephthalate, polyethylene, polystyrene, poly
Propylene, polycarbonate, polyvinyl acetal
Etc.). These are resin films and metal plates
Even a single-component sheet such as a product of two or more materials
It may be a layered body.
Nate or vapor deposited paper or plastic fill
Laminated sheets of different plastic films
included. As the support, a polyester fill is used.
Or aluminum plate is preferred, among which dimensional stability
Aluminum plates that are good and relatively inexpensive are particularly preferred.
That's right. Suitable aluminum plates are pure aluminum plates and
Alloy plate containing aluminum as a main component and containing trace amounts of foreign elements
In addition, aluminum is laminated or evaporated.
It may be a plastic film. Aluminum alloy
The foreign elements contained in silicon include silicon, iron, manganese, copper,
Gnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium
Etc. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass
It is as follows. Aluminum particularly suitable in the present invention
Is pure aluminum but completely pure aluminum
Is difficult to manufacture due to refining technology.
It may be contained. Thus applied to the present invention
Aluminum plate is not specified for its composition.
In addition, a well-known and publicly-used aluminum plate is appropriately used.
Can be used. The thickness of the aluminum plate is
About 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15
0.4 mm, particularly preferably 0.2 to 0.3 mm
The Prior to roughening the aluminum plate,
If desired, for example, the surface activity to remove surface rolling oil
Degreasing treatment with an organic agent, organic solvent or alkaline aqueous solution
Is done. The roughening treatment of the surface of the aluminum plate
For example, the surface is mechanically roughened.
Method for electrochemically dissolving and roughening the surface
It is carried out by a method in which the surface is selectively dissolved. machine
Typical methods include ball polishing, brush polishing, and brass
It is possible to use a known method such as a polishing method or a buffing method.
Yes. Electrochemical roughening methods include hydrochloric acid or glass.
There is a method of performing an alternating current or direct current in an acid electrolyte. Ma
It is disclosed in JP-A-54-63902.
In other words, a method in which both are combined can also be used. The aluminum plate roughened in this way
If necessary, alkali etching treatment, neutralization treatment
Via, anodized to increase surface water retention and wear resistance
Processing can be performed. Anodizing of aluminum plate
A porous oxide film is formed as the electrolyte used for processing.
It is possible to use various types of electrolytes.
Acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof
The The concentration of those electrolytes depends on the type of electrolyte.
It is decided. The anodic oxidation treatment conditions depend on the electrolyte used.
However, in general, it cannot be specified.
Solution concentration is 1-80% by mass solution, liquid temperature is 5-70 ° C.,
Current density 5-60A / dm2, Voltage 1-100V, electrolysis
A time range of 10 seconds to 5 minutes is appropriate. anodization
The amount of film is 1.0 g / m2The above is preferable, but more preferable
Preferably 2.0-6.0g / m2Range. Anodic acid
1.0 g / m of chemical coating2If it is less than 1, the printing durability is insufficient.
Or scratches on non-image areas of planographic printing plates
The so-called `` scratch that ink adheres to the scratched part during printing
Dirt "tends to occur. In addition, such anodizing treatment
Applied to the surface of the lithographic printing plate support,
0.01-3 g / m on the back side due to the back of the line of energy2
In general, an anodic oxide coating is formed. The hydrophilization treatment of the support surface is carried out by the above anodic oxidation.
It is given after processing and has been known for some time
A processing method is used. As such a hydrophilic treatment,
U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
61, 3,280,734 and 3,902,7
Alkali metal silicates as disclosed in publication No. 34
(For example, sodium silicate aqueous solution) method. This way
In, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution
Or electrolytic treatment. In addition, JP 36-22
Calcium zirconate fluoride disclosed in Japanese Patent No. 063
And U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,15.
Disclosed in US Pat. Nos. 3,461 and 4,689,272.
Treatment with polyvinyl phosphonic acid, etc.
Is used. Of these, particularly preferred in the present invention.
A new hydrophilic treatment is a silicate treatment. About silicate treatment
This will be described below. The aluminum plate treated as described above
Anodized film with 0.1-30 alkali metal silicate
% By weight, preferably 0.5 to 10% by weight, at 25 ° C.
In an aqueous solution having a pH of 10 to 13, for example, 15 to 80
Immerse at a temperature of 0.5 to 120 seconds. Alkali metal silicate water
If the pH of the solution is lower than 10, the solution will gel and from 13.0
If it is too high, the oxide film will be dissolved. Used in the present invention
Examples of alkali metal silicates include sodium silicate and silicic acid
Potassium, lithium silicate, etc. are used. Alkaline gold
Hydroxides used to increase the pH of aqueous silicate solutions
Chemicals include sodium hydroxide, potassium hydroxide, hydroxide
There is lithium fluoride. Note that the above treatment liquid is alkaline.
May contain earth metal salts or Group IVB metal salts
Yes. Alkaline earth metal salts include calcium nitrate, glass
Of strontium acid, magnesium nitrate, barium nitrate
Such as nitrates, sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates,
Water-soluble salts such as acid salts and borates are exemplified. IVB
Group metal salts such as titanium tetrachloride, titanium trichloride, fluoride
Titanium potassium, Titanium potassium oxalate, Titanium sulfate, Four
Titanium iodide, chlorinated zirconium oxide, zirconium dioxide
Um, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride
Can be mentioned. Alkaline earth metal salt
Used Group IVB metal salt alone or in combination of two or more
can do. The preferred range of these metal salts is
It is 0.01-10 mass%, and a more preferable range is 0.00.
It is 05-5.0 mass%. By silicate treatment, aluminum
Since the hydrophilicity on the surface of the nium plate is further improved,
The ink is less likely to adhere to the non-image area,
improves. On the back side of the support, a back cover is provided if necessary.
Is provided. As such a back coat, JP
Organic polymer compounds described in JP-A-5-45885 and special compounds
Organic or inorganic metal compounds described in Kaihei 6-35174
From metal oxides obtained by hydrolysis and polycondensation of products
A coating layer is preferably used. These coating layers
Si (OCHThree)Four, Si (OC2HFive)Four, Si (O
CThreeH7)Four, Si (OCFourH9)FourSilicon alkoxy etc.
Compounds are cheap and readily available, and then the metal oxidation given
A coating layer of the product is particularly preferred because of its excellent development resistance. [Protective layer] The image recording material of the present invention is applied to a lithographic mark.
When used as a printing plate precursor, exposure is usually performed in air.
Therefore, on the image recording layer containing the photopolymerizable composition,
It is preferable to provide a protective layer, which is desirable for such a protective layer.
As a characteristic, low permeability of low molecular weight compounds such as oxygen is low.
In addition, it has good light transmission for exposure and adhesion with the recording layer.
It is easy to remove in the development process after exposure.
That is, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrroline
Don, acidic cellulose, gelatin, gum arabic,
Water-soluble with relatively excellent crystallinity such as reacrylic acid
It is common to use a polymer compound. In the image recording material of the present invention, a film type is used.
As a synthetic resin, the amount of dissolved oxygen in the film after film formation is low.
The specific polyurethane having a high oxygen barrier property from the outside
Since resin is used, images due to polymerization inhibition of oxygen, etc.
This has the advantage that the decrease in formability can be suppressed.
There is no need to provide such a protective layer,
Improves oxygen barrier from the outside and forms image, especially image
You may provide the said protective layer in order to raise intensity | strength. [Printing by planographic printing plate precursor]
The image recording material of the present invention is formed as a recording layer on the support surface.
The prepared lithographic printing plate precursor should be recorded with an infrared laser.
Can do. Also by UV lamp or thermal head
Thermal recording is also possible. In the present invention, the wavelength 76
Solid-state laser that emits infrared light from 0 nm to 1200 nm
And image exposure with a semiconductor laser is preferred.
Yes. After exposure with an infrared laser, the
The image recording material is preferably water or an alkaline aqueous solution
Developed with An alkaline aqueous solution is used as the developer.
As a developer and replenisher for the image recording material of the present invention.
A conventionally known alkaline aqueous solution can be used. example
For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate
Um, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate
Um, potassium, ammonium, sodium carbonate,
Same potassium, same ammonium, sodium bicarbonate, same
Potassium, ammonium, sodium borate, potassium
Um, ammonium, sodium hydroxide, ammonium
Inorganic alkali salts such as um, potassium and lithium
Can be mentioned. Monomethylamine, dimethylamino
, Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine
Min, triethylamine, monoisopropylamine, di
Isopropylamine, triisopropylamine, n-butyl
Tylamine, monoethanolamine, diethanolamine
, Triethanolamine, monoisopropanolamine
, Diisopropanolamine, ethyleneimine, ethyl
Organic alkali agents such as range amine and pyridine are also used.
The These alkaline agents are used alone or in combination of two or more.
Used. Further, when developing using an automatic processor
Is the same as the developer or more alkaline than the developer.
By adding a high-grade aqueous solution (replenisher) to the developer.
Without changing the developer in the developer tank for a long time,
It is known that a large amount of lithographic printing plate precursors can be processed.
The This replenishment method is preferably applied also in the present invention.
The In the developer and replenisher, development property is promoted or suppressed.
System, dispersion of development residue, and high ink affinity in the printing plate image area
Various surfactants and organic solvents as needed
Can be added. Preferred surfactants are anions
-Based, cationic, nonionic and amphoteric surfactants
It is done. Preferred organic solvent is benzyl alcohol
Etc. Also polyethylene glycol youth
Is a derivative thereof, or polypropylene glycol or
Addition of such derivatives is also preferred. Also, Arabic, Soviet
You can also add non-reducing sugars such as rubitt and mannit
Yes. In addition, the developer and replenisher may be used as necessary.
Hydroquinone, resorcin, sulfite or sulfite water
Inorganic salt reduction of sodium and potassium salts of boric acid
Addition of organic carboxylic acid, antifoaming agent, water softener
You can also. Using the developers and replenishers described above,
The image-treated printing plate contains washing water, a surfactant and the like.
Desensitizing oil containing rinsing liquid, gum arabic and starch derivatives
After-treatment with liquid. Printing plate material for image recording material of the present invention
As a post-processing when using as
Various combinations can be used. In recent years, the plate making work has been rationalized in the plate making / printing industry.
Automatic processing machines for printing plate materials are widely used
It is used. This automatic processor generally has a developing section and a rear
An apparatus that consists of a processing unit and conveys a printing plate and each processing liquid
It consists of a tank and a spray device.
Each processing solution pumped up by the pump
-It develops by spraying from the nozzle. Ma
Recently, a submerged guide in a processing liquid tank filled with the processing liquid.
Process printing plate by dipping and transporting it with rolls
Methods are also known. In such automatic processing,
Replenish each treatment solution with a replenisher according to the processing amount, operating time, etc.
Can be processed. In addition, the electrical conductivity is
It can be sensed by the sir and automatically replenished. Ma
In addition, the so-called single-use disposal is performed with a virtually unused processing solution.
Processing methods can also be applied. The lithographic printing plate obtained as described above is
Applying desensitized gum as desired, then use in printing process
Lithographic printing plates with even higher printing durability
If so, a burning process is performed. Lithographic printing plate
If you are burning, before the burning
-2518, 55-28062, JP 62-3
1859 and 61-159655.
It is preferable to treat with a surface-conditioning liquid as described above. As the method, the surface conditioning liquid is soaked.
Apply on a lithographic printing plate with a sponge or absorbent cotton,
Apply the printing plate by dipping it in a vat filled with surface-adjusting liquid.
The method and application by an automatic coater are applied. Ma
After application, use a squeegee or squeegee roller to
Uniform application amount gives better results
The The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m.2
(Dry mass) is appropriate. A lithographic stamp with a surface-adjusting solution applied
The plate is dried if necessary before the burning process.
Sir (for example, sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Burning processor: BP-1300) etc.
Heated to warm. In this case, the heating temperature and time
180-300 depending on the type of ingredients forming
The range of 1 to 20 minutes is preferable in the range of ° C. A lithographic printing plate that has been burned is necessary.
Depending on the situation, water washing, gumming, etc. have been performed as appropriate.
Can be treated with water-soluble polymer compounds, etc.
If the surface preparation liquid contained is used, do not gum it.
So-called desensitizing treatment can be omitted. Through such processing, the image recording of the present invention is performed.
The planographic printing plate obtained from the recording material is used for offset printing machines, etc.
It is used for printing a large number of sheets. [0166] EXAMPLES The present invention will be described below as synthesis examples, examples and comparative examples.
Therefore, the present invention will be described in more detail.
It is not limited. [Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 to 3] (Preparation of support) 99.5% or more of aluminum and F
e 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02
%, JIS A1050 alloy containing 0.013% Cu
The molten metal was cleaned and cast. For cleaning process
Removes unnecessary gases such as hydrogen in the melt.
Gas treatment and ceramic tube filter treatment
It was. The casting method was a DC casting method. Solidified board thickness 50
An ingot of 0mm is chamfered 10mm from the surface, intermetallic compound
Homogeneous at 550 ° C for 10 hours to prevent coarsening
The treatment was performed. Then, hot rolled at 400 ° C and continuous
Cold rolling after intermediate annealing at 500 ° C for 60 seconds in an annealing furnace
To obtain a rolled aluminum plate having a plate pressure of 0.30 mm.
It was. Cold rolling by controlling the roughness of the rolling roll
The subsequent centerline average surface roughness Ra was controlled to 0.2 μm.
Then tension leveler to improve flatness
I went to. Next, a surface treatment for forming a lithographic printing plate support is carried out.
I did it. First, remove the rolling oil on the aluminum plate surface
For 30 seconds at 50 ° C with 10% sodium aluminate aqueous solution
Perform degreasing treatment, 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C for 30 seconds
Neutralization and smut removal treatment were performed. Next, the adhesion between the support and the recording layer is improved.
And the surface of the support in order to give water retention to the non-paint rear part
A so-called graining treatment was performed to roughen the surface. 1%
45% aqueous solution containing nitric acid and 0.5% aluminum nitrate
Indirect while keeping the temperature at ℃ and flowing the aluminum web into the aqueous solution
Current density 20A / dm due to power supply cell2, Duty
Anode-side electricity quantity of 240 C / dm with an alternating waveform with a ratio of 1: 1
2Electrolytic graining was performed by giving 10% after that
Etching with sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C for 30 seconds
And neutralize with 30% aqueous sulfuric acid at 50 ° C for 30 seconds.
A mat removal treatment was performed. Furthermore, wear resistance, chemical resistance and water retention are improved.
In order to form an oxide film on the support by anodic oxidation.
Made. Uses 20% sulfuric acid aqueous solution at 35 ° C as electrolyte
Indirect power feeding while carrying the aluminum web through the electrolyte
14 A / dm depending on the cell2Electrolytic treatment with direct current
2.5g / m2An anodic oxide film was prepared. Thereafter, hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate is obtained.
To secure it, silicate processing was performed. Processing is No. 3
Keep 1.5% aqueous solution of sodium carbonate at 70 ° C
It was carried so that the contact time was 15 seconds, and further washed with water.
The amount of Si deposited is 10 mg / m 2Met. By the above
Ra (center line surface roughness) of the formed support is 0.25 μm.
Met. (Formation of recording layer) The following recording layer coating solution 1 was prepared.
To the aluminum support obtained as described above.
Apply using a wire bar, 11 with a hot air dryer
The recording layer is formed by drying at 5 ° C. for 45 seconds.
Got a version. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g / m2of
It was within the range. [0173] <Recording layer coating solution 1>   Alkali-soluble polymer: component (A) (compound described in Table 5, amount described in Table 5 )   Infrared absorber “IR-1”: Component (B) 0.10 g   -Radical initiator “S-1”: component (C) 0.45 g   Radical polymerizable compound: component (D) (compound described in Table 5, amount described in Table 5 )   ・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonic Acid 0.04g   ・ Fluorosurfactant 0.0 lg       (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)   ・ P-methoxyphenol 0.001g   ・ Methyl ethyl ketone 9.0g   ・ Methanol 10.0g   1-methoxy-2-propanol 8.0g [0174] [Table 5] It should be noted that a) used in the examples of the present invention.
Lucari soluble polymer was obtained by the above synthesis example
(A) A specific alkali-soluble polymer,
The structural unit of the alkali-soluble polymer used in the comparative example
This is shown below. [0176] Embedded imageSimilarly, examples and comparisons in the present invention
Specific examples of (B) infrared absorber used in the examples are shown below.
The [0178] Embedded image Similarly, examples and comparisons in the present invention
Specific examples of the (C) radical initiator used in the examples are shown below.
The [0180] Embedded image Similarly, examples and comparisons in the present invention
Specific examples of the (D) radical polymerizable compound used in the examples are as follows.
Shown below. [0182] Embedded image (Exposure) Each lithographic printing plate precursor obtained in the previous period
With a water-cooled 40W infrared semiconductor laser
At the Trendsetter 3244VFS manufactured by o
Power 6.5W, outer drum rotation speed 81rpm, plate surface energy
Ghee 188mJ / cm2, Resolution 2400 dpi
And exposed. (Development processing) After exposure, Fuji Photo Film
Development using an automatic processor Stablon 900NP manufactured by KK
I managed. As the developer, the following (D-1) is charged, and the following
(D-2) was used as a replenisher. The development bath temperature is 30
The processing was carried out at 12 ° C. for 12 seconds. At this time, the replenisher is
The electric conductivity of the developer in the developing bath of the dynamic developing machine becomes constant.
Was automatically adjusted while adjusting. Also finish
Is a 1: 1 water of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Diluent was used. <Developer (D-1)>   ・ Potassium hydroxide 3g   ・ Potassium bicarbonate 1g   ・ Potassium carbonate 2g   ・ Sodium sulfite 1g   ・ Polyethylene glycol mononaphthyl ether 150g   ・ Dibutyl naphthalenesulfonic acid sodium salt 50g   ・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 8g   ・ 785g water [0185] <Developer (D-2)>   ・ Potassium hydroxide 6g   ・ Potassium carbonate 2g   ・ Sodium sulfite 1g   ・ Polyethylene glycol mononaphthel ether 150g   ・ Dibutyl naphthalenesulfonic acid sodium salt 50g   ・ Hydroxyethanediphosphonic acid potassium salt 4g   ・ Silicon TSA-731 0.1g               (Toshiba Silicone Co., Ltd.)   ・ Water 786.9g [Evaluation of printing durability] Next, Komori Corporation
Printing was performed using Lislon, a printing machine manufactured by Ron Co., Ltd. this
How many sheets can be printed with sufficient ink density
The printing durability was evaluated by visual observation. Previous result
This is also shown in Table 5. [Evaluation of scratch resistance] The recording layer was applied.
The scratch resistance of the lithographic printing plate precursor was evaluated. Machine
As a container, Scratching made by HEIDON
Using TESTER HEIDON-14, scratching needle
As a 0.4mmR diamond needle, changing the load on the needle
The surface of the recording layer at a speed of 400 mm / min.
I scratched it. The original plate after scratching is subjected to the development process described above.
The magnitude of the load in which the remaining film was visually observed was evaluated.
The greater the load, the less likely the scratch film will form and the greater the scratch resistance.
It will be excellent. The results are also shown in Table 5. that's all,
As is apparent from Table 5, the image recording material of the present invention was used as a recording layer.
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 6 used as
Comparative Example 1 using a known alkali-soluble polymer outside the range
Compared to ~ 3, excellent printing durability and scratch resistance are achieved.
I understand that In addition, the exposure
No bralation was seen. [Examples 7 to 10, Comparative Examples 4 to 5] Examples
The same aluminum used in 1-6 and Comparative Examples 1-3
On the film support, apply the coating solution for the undercoat layer shown below,
It dried for 30 seconds in 80 degreeC atmosphere. The dry coating amount is 1
0 mg / m2Met. (Coating solution for undercoat layer) A compound having the following composition was mixed to prepare an undercoat layer coating solution.   ・ 2-aminoethylphosphonic acid 0.5g   ・ Methanol 40g   ・ Pure water 60g (Formation of recording layer) Recording layer coating liquid shown below
2 on the support on which the undercoat layer is formed.
And dried at 115 ° C for 45 seconds with a hot air dryer.
The lithographic printing plate precursor was obtained by drying. The coating amount after drying is as follows:
2 to 1.3 g / m2It was in the range. [0190] <Recording layer coating solution 2>   Alkali-soluble polymer: component (A) (compound described in Table 6, amount described in Table 6 )   Infrared absorber “IR-2”: component (B) 0.08 g   ・ Radical initiator “S-2”: Component (C) 0.30 g   Radical polymerizable compound: component (D) (compound described in Table 6, amount described in Table 6 )   ・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonic Acid 0.04g   ・ Fluorine-based surfactant 0.01g       (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)   ・ 0.001 g of N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum   ・ Methyl ethyl ketone 9.0g   ・ Methanol 10.0g   1-methoxy-2-propanol 8.0g [0191] [Table 6](Exposure) The obtained lithographic printing plate precursor was cooled with water.
Creo T equipped with a 40W infrared semiconductor laser
output 6.5 at rendsetter 3244VFS
W, outer drum rotation speed 81 rpm, plate surface energy 18
8mJ / cm2, Resolution, resolution 2400 dpi
And exposed. (Development processing) After exposure, Fuji Photo Film
Development using an automatic processor Stablon 900NP manufactured by KK
I managed. The developer is Fuji Photo Fiber for both the feed and replenishers.
A 1: 8 water dilution of DP-4 manufactured by Rum Co., Ltd. was used. developing
The bath temperature was 30 ° C. and the development time was 12 seconds. This
At this time, the replenisher is used for the electrical transfer of the developer in the developing bath of the automatic processor.
It was automatically added while adjusting the conductivity to be constant.
The finisher is F made by Fuji Photo Film Co., Ltd.
A 1: 1 water dilution of N-6 was used. [Evaluation of printing durability and stain resistance]
Each of the printing plate precursors is stored at 60 ° C. for 3 days, and
Store at 45 ° C, humidity 75% RH for 3 days and force aging
After, similar to Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3
The printing durability and stain resistance were evaluated. . The result
This is also shown in Table 6. As is apparent from Table 6, the image of the present invention
Lithographic plates of Examples 7 to 10 using an image recording material as a recording layer
The printing plate precursor is known alkali-soluble outside the scope of the present invention.
Compared with Comparative Examples 4 to 5 using a polymer, stains on the non-image area are also observed.
It has excellent printing durability and is stored at high temperature and high humidity.
After that, the printing durability and stain resistance of the non-image area are not deteriorated.
It was found to be excellent in qualitative. [Examples 11 to 15, Comparative Examples 6 to 7] Implementation
The same aluminum as used in Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3
The following recording layer coating solution 3 is prepared on the aluminum support, and
Apply to the luminium support using a wire bar and warm air
Lithographic printing plate after drying for 45 seconds at 115 ° C. in a dry dryer
I got the original version. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g / m2
It was in the range. <Recording layer coating solution 3>   -High molecular compound (compound described in Table 7, amount described in Table 7)   ・ Infrared absorber “IR-3” 0.10 g   ・ Radical initiator "S-1" 0.50g   ・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonic Acid 0.04g   ・ Fluorine-based surfactant 0.01g         (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)   ・ Methyl ethyl ketone 9.0g   ・ Methanol 10.0g   1-methoxy-2-propanol 8.0g [0196] [Table 7](Exposure) The obtained lithographic printing plate precursor is cooled with water.
Creo T equipped with a 40W infrared semiconductor laser
With a rendsetter 3244VFS, output 9W,
External drum rotation speed 210rpm, plate surface energy 100
mJ / cm2, Exposure at a resolution of 2400 dpi
It was. (Development processing) After exposure, Fuji Photo Film
Development processing using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Co., Ltd.
did. The developer is Fuji Photo Fiber for both the feed and replenishers.
A 1: 1 water dilution of DN-3C manufactured by Rum Co., Ltd. was used. Present
The temperature of the image greedy bath was 30 ° C. Also finisher
Is a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The liquid was used. [Evaluation of printing durability and scratch resistance]
Printing was performed using an Idelberg SOR-KZ press. This
When printing, how many sheets should be printed with sufficient ink density
The printing durability was evaluated by measuring whether it was possible. Example 1
Evaluation for scratch resistance as in -6 and Comparative Examples 1-3
went. As is apparent from Table 7, the image recording of the present invention
Lithographic printing of Examples 11 to 15 using the material as a recording layer
The plate precursor is a known alkali-soluble high content outside the scope of the present invention.
Compared with Comparative Examples 6 to 7 using a child, excellent printing durability and durability
It can be seen that scratch properties are achieved. [0200] According to the present invention, a solid that emits infrared rays.
By recording with laser and semiconductor laser
Directly from digital data such as computers
Yes, when used for the recording layer for lithographic printing plate precursors,
Form high-intensity, high-quality images without causing
Negative prints that can be made and achieve excellent printing durability
An image recording material can be provided.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 (A)下記一般式(1)、(2)、
(3)で表される構造単位のうち少なくとも1種を、
0.1モル%以上、30モル%未満含むことを特徴とす
る、水又はアルカリ性水溶液に可溶或いは膨潤する高分
子化合物と、(B)光熱変換剤と、 (C)(B)光熱変換剤が吸収する事のできる波長の光
のヒートモード露光によりラジカルを生成する化合物
と、 を含有し、ヒートモード露光により画像形成可能なこと
を特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。 【化1】 (式中、A1、A2、A3はそれぞれ独立に酸素原子、硫
黄原子、−N(R21)−を表し、R21は置換基を有して
も良いアルキル基を表す。G1、G2、G3は、それぞれ
独立に2価の有機基を表す。X、Zは、それぞれ独立に
酸素原子、硫黄原子、−N(R22)−を表し、R22は置
換基を有しても良いアルキル基を表す。Yは、酸素原
子、硫黄原子、置換基を有しても良いフェニレン基、−
N(R23)−を表し、R23は置換基を有しても良いアル
キル基を表す。R1〜R20は、それぞれ独立に1価の有
機基を表す。)
(A) The following general formulas (1), (2),
At least one of the structural units represented by (3),
A polymer compound that is soluble or swells in water or an aqueous alkaline solution, (B) a photothermal conversion agent, and (C) (B) a photothermal conversion agent, comprising 0.1 mol% or more and less than 30 mol% And a compound that generates radicals by heat mode exposure of light having a wavelength that can be absorbed, and is capable of forming an image by heat mode exposure. [Chemical 1] (In the formula, A 1 , A 2 and A 3 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 21 ) —, and R 21 represents an alkyl group which may have a substituent. G 1 , G 2 and G 3 each independently represents a divalent organic group, X and Z each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 22 ) —, and R 22 has a substituent. And Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, a phenylene group which may have a substituent,-
N (R 23) - represents, R 23 represents an alkyl group which may have a substituent. R 1 to R 20 each independently represents a monovalent organic group. )
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