JP2003261653A - Process for preparing sulfonic acid group-containing polymer - Google Patents

Process for preparing sulfonic acid group-containing polymer

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JP2003261653A
JP2003261653A JP2002061034A JP2002061034A JP2003261653A JP 2003261653 A JP2003261653 A JP 2003261653A JP 2002061034 A JP2002061034 A JP 2002061034A JP 2002061034 A JP2002061034 A JP 2002061034A JP 2003261653 A JP2003261653 A JP 2003261653A
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acid group
sulfuric acid
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晋吾 高杉
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a process for preparing a sulfonic acid group-containing polymer which may be used for electrolytes for primary or secondary batteries, polymer solid electrolytes for fuel cells, display devices, various sensors, signal transmission media, solid capacitors, ion exchange membranes, etc. <P>SOLUTION: In the process for preparing the sulfonic acid group-containing polymer, upon sulfonating a polyarylene polymer, ≥10 ml sulfuric acid with a concentration of 95.5-97.4 wt.% is used against 1 g polymer, and a reaction liquid comprising the polyarylene polymer and sulfuric acid is maintained at ≥20°C. Alternatively, in the process for preparing the sulfonic acid group- containing polymer, upon sulfonating a polyarylene polymer, ≥3 ml sulfuric acid with a concentration of ≥97.5 wt.% is used against 1 g polymer, and a reaction liquid comprising the polyarylene polymer and sulfuric acid is maintained at ≤25°C. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一次電池用電解
質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、
表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデン
サー、イオン交換膜などに利用可能なスルホン酸基含有
重合体の製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell,
The present invention relates to a method for producing a sulfonic acid group-containing polymer that can be used in display devices, various sensors, signal transmission media, solid capacitors, ion exchange membranes and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】スルホン酸基含有重合体の製造方法とし
ては、例えばPolymer Preprints, Japan, vol.42, No.
3, p.730(1993); Polymer Preprints, Japan, vol.42,
No.3, p.736(1994); Polymer Preprints, Japan, vol.4
2, No.7, p.2490(1993).等に開示されているように、ス
ルホン酸基を有しない重合体を、無水硫酸、発煙硫酸、
クロロスルホン酸、硫酸、亜硫酸水素ナトリウムなどの
スルホン化剤を用いてスルホン化させることが知られて
いる。特に、硫酸を用いてスルホン化する方法が簡便な
スルホン化法として一般的に用いられている。しかしな
がら、この方法を用いる場合、反応条件によっては、反
応溶液の溶液粘度が異常に高く、攪拌、取扱いが困難で
あったり、スルホン酸基の導入量のコントロールが困難
である等の問題点があった。スルホン酸基の導入量が高
すぎる場合には、プロトン伝導度は向上するものの、得
られるスルホン酸基含有重合体の機械的強度を著しく損
なう、靭性に劣る材料となる等の問題点があった。
2. Description of the Related Art As a method for producing a sulfonic acid group-containing polymer, for example, Polymer Preprints, Japan, vol. 42, No.
3, p.730 (1993); Polymer Preprints, Japan, vol.42,
No.3, p.736 (1994); Polymer Preprints, Japan, vol.4
2, No. 7, p. 2490 (1993). Etc., a polymer having no sulfonic acid group is treated with sulfuric anhydride, fuming sulfuric acid,
It is known to sulfonate using a sulfonating agent such as chlorosulfonic acid, sulfuric acid and sodium hydrogen sulfite. In particular, the method of sulfonation using sulfuric acid is generally used as a simple sulfonation method. However, when this method is used, depending on the reaction conditions, there are problems that the solution viscosity of the reaction solution is abnormally high, it is difficult to stir and handle, and it is difficult to control the amount of sulfonic acid groups introduced. It was If the introduced amount of the sulfonic acid group is too high, although the proton conductivity is improved, there is a problem that the mechanical strength of the obtained sulfonic acid group-containing polymer is significantly impaired, and the material becomes inferior in toughness. .

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
的課題を背景になされたもので、スルホン化反応時の溶
液粘度を適正な範囲にコントロールが可能で、スルホン
酸基の導入量を容易にコントロール可能なスルホン酸基
含有重合体の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made against the background of conventional technical problems, and it is possible to control the solution viscosity during the sulfonation reaction within an appropriate range and to control the amount of sulfonic acid groups introduced. It is to provide a method for producing a sulfonic acid group-containing polymer that can be easily controlled.

【0004】[0004]

【課題を解決する具体的手段】本発明はポリアリーレン
系重合体をスルホン化する際に、濃度95.5〜97.
4重量%の硫酸を、重合体1gに対して10ml以上使
用し、20℃以上の反応液中で行うことを特徴とするス
ルホン酸基含有重合体の製造方法ならびにポリアリーレ
ン系重合体をスルホン化する際に、濃度97.5%重量
以上の硫酸を、重合体1gに対して3ml以上使用し、
25℃以下の反応液中で行うことを特徴とするスルホン
酸基含有重合体の製造方法を提供するものである。
In the present invention, when a polyarylene polymer is sulfonated, a concentration of 95.5 to 97.
A method for producing a sulfonic acid group-containing polymer, characterized in that 10 ml or more of 4% by weight of sulfuric acid is used for 1 g of the polymer, and the reaction is carried out in a reaction solution at 20 ° C. or more, and a polyarylene polymer is sulfonated. When using, sulfuric acid having a concentration of 97.5% by weight or more is used in an amount of 3 ml or more per 1 g of the polymer
The present invention provides a method for producing a sulfonic acid group-containing polymer, which is carried out in a reaction solution at 25 ° C or lower.

【0005】本発明におけるポリアリーレン系重合体と
しては、下記一般式(A)で表されるモノマー(A)
と、下記一般式(B−1)〜(B−4)から選ばれる少
なくとも1種のモノマー(B)とを反応させて得られる
重合体が用いられる。
The polyarylene polymer in the present invention is a monomer (A) represented by the following general formula (A).
And a polymer obtained by reacting at least one monomer (B) selected from the following general formulas (B-1) to (B-4) with each other.

【0006】(A)(A)

【化1】 式(A)中、R〜R'は互いに同一でも異なっていても
よく、フッ素原子を除くハロゲン原子または−OSO2
Z(ここで、Zはアルキル基、フッ素置換アルキル基ま
たはアリール基を示す。)で表される基を示す。Zが示
すアルキル基としてはメチル基、エチル基などが挙げら
れ、フッ素置換アルキル基としてはトリフルオロメチル
基などが挙げられ、アリール基としてはフェニル基、p
−トリル基などが挙げられる。R1〜R8は互いに同一で
も異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキ
ル基、フッ素置換アルキル基、アリル基およびアリール
基からなる群より選ばれた少なくとも1種の原子または
基を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基などが挙
げられ、メチル基、エチル基などが好ましい。フッ素置
換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフ
ルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオ
ロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘ
キシル基などが挙げられ、トリフルオロメチル基、ペン
タフルオロエチル基などが好ましい。アリル基として
は、プロペニル基などが挙げられ、アリール基として
は、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げ
られる。Xは2価の電子吸引性基を示し、電子吸引性基
としては、例えば−CO−、−CONH−、−(C
2p−(ここで、pは1〜10の整数である)、−C
(CF32−、−COO−、−SO−、−SO2−など
が挙げられる。なお、電子吸引性基とは、ハメット(Ha
mmett)置換基常数がフェニル基のm位の場合、0.0
6以上、p位の場合、0.01以上の値となる基をい
う。Yは2価の電子供与性基を示し、電子供与性基とし
ては、例えば−O−、−S−、−CH=CH−、−C≡
C−および下記式
[Chemical 1] Wherein (A), R~R 'may be the same or different from each other, a halogen atom or -OSO 2 except fluorine atom
Z represents a group represented by Z (wherein Z represents an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group or an aryl group). Examples of the alkyl group represented by Z include a methyl group and an ethyl group, examples of the fluorine-substituted alkyl group include a trifluoromethyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and p.
-A tolyl group and the like. R 1 to R 8 may be the same or different and each represents at least one atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an allyl group and an aryl group. . As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group,
Examples thereof include a propyl group, a butyl group, an amyl group and a hexyl group, with a methyl group and an ethyl group being preferred. Examples of the fluorine-substituted alkyl group include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluorobutyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group. Are preferred. Examples of the allyl group include a propenyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a pentafluorophenyl group. X represents a divalent electron-withdrawing group, and as the electron-withdrawing group, for example, -CO-, -CONH-,-(C
F 2 ) p- (where p is an integer of 1 to 10), -C
(CF 3) 2 -, - COO -, - SO -, - SO 2 - , and the like. The electron-withdrawing group is Hammett (Ha
mmett) When the substituent constant is m-position of the phenyl group, 0.0
A group having a value of 6 or more and 0.01 or more in the case of the p-position. Y represents a divalent electron-donating group, and examples of the electron-donating group include -O-, -S-, -CH = CH-, -C≡.
C- and the following formula

【化2】 で表される基などが挙げられる。[Chemical 2] And the like.

【0007】nは0または正の整数であり、上限は通常
100、好ましくは80である。上記一般式(A)で表
されるモノマーとして具体的には、例えば4,4'−ジク
ロロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロベンズアニリ
ド、ビス(クロロフェニル)ジフルオロメタン、2,2
−ビス(4−クロロフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、4−クロロ安息香酸−4−クロロフェニル、ビス
(4−クロロフェニル)スルホキシド、ビス(4−クロ
ロフェニル)スルホン、これらの化合物において塩素原
子が臭素原子またはヨウ素原子に置き換わった化合物、
さらにこれらの化合物において4位に置換したハロゲン
原子が3位に置換した化合物などが挙げられる。また上
記一般式(A)で表されるモノマーとして具体的には、
例えば4,4'−ビス(4−クロロベンゾイル)ジフェニ
ルエーテル、4,4'−ビス(4−クロロベンゾイルアミ
ノ)ジフェニルエーテル、4,4'−ビス(4−クロロフ
ェニルスルホニル)ジフェニルエーテル、4,4'−ビス
(4−クロロフェニル)ジフェニルエーテルジカルボキ
シレート、4,4'−ビス〔(4−クロロフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル〕ジフェ
ニルエーテル、4,4'−ビス〔(4−クロロフェニル)
−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル〕ジフ
ェニルエーテル、4,4'−ビス〔(4−クロロフェニ
ル)テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、これ
らの化合物において塩素原子が臭素原子またはヨウ素原
子に置き換わった化合物、さらにこれらの化合物におい
て4位に置換したハロゲン原子が3位に置換した化合
物、さらにこれらの化合物においてジフェニルエーテル
の4位に置換した基の少なくとも1つが3位に置換した
化合物などが挙げられる。
N is 0 or a positive integer, and the upper limit is usually 100, preferably 80. Specific examples of the monomer represented by the general formula (A) include 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzanilide, bis (chlorophenyl) difluoromethane, and 2,2.
-Bis (4-chlorophenyl) hexafluoropropane, 4-chlorophenyl-4-chlorophenyl, bis (4-chlorophenyl) sulfoxide, bis (4-chlorophenyl) sulfone, in these compounds, the chlorine atom becomes a bromine atom or an iodine atom. The replaced compound,
Furthermore, compounds in which a halogen atom substituted at the 4-position in these compounds is substituted at the 3-position and the like can be mentioned. Further, specifically as the monomer represented by the above general formula (A),
For example, 4,4'-bis (4-chlorobenzoyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-chlorobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-chlorophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-chlorophenyl) diphenyl ether dicarboxylate, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl)-
1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [(4-chlorophenyl)
-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) tetrafluoroethyl] diphenyl ether, in which chlorine atom is changed to bromine atom or iodine atom Examples of the substituted compounds, compounds in which a halogen atom substituted in the 4-position of these compounds is substituted in the 3-position, and compounds in which at least one of the groups substituted in the 4-position of diphenyl ether in these compounds is substituted in the 3-position, and the like. To be

【0008】さらに上記一般式(A)で表されるモノマ
ーとしては、2,2−ビス[4−{4−(4−クロロベ
ンゾイル)フェノキシ}フェニル]−1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−{4−(4−
クロロベンゾイル)フェノキシ}フェニル]スルホン、
および下記式で表される化合物が挙げられる。
Further, as the monomer represented by the above general formula (A), 2,2-bis [4- {4- (4-chlorobenzoyl) phenoxy} phenyl] -1,1,1,3,3,
3-hexafluoropropane, bis [4- {4- (4-
Chlorobenzoyl) phenoxy} phenyl] sulfone,
And a compound represented by the following formula.

【化3】 [Chemical 3]

【0009】上記一般式(A)で表されるモノマーは、
例えば以下に示す方法で合成することができる。まず電
子吸引性基で連結されたビスフェノールを対応するビス
フェノールのアルカリ金属塩とするために、N−メチル
−2−ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、スル
ホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキサイド
などの誘電率の高い極性溶媒中でリチウム、ナトリウ
ム、カリウムなどのアルカリ金属、水素化アルカリ金
属、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属炭酸塩などを加
える。通常、アルカリ金属はフェノールの水酸基に対
し、過剰気味で反応させ、通常、1.1〜2倍当量を使
用する。好ましくは、1.2〜1.5倍当量の使用であ
る。この際、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトー
ルなどの水と共沸する溶媒を共存させて、電子吸引性基
で活性化されたフッ素、塩素等のハロゲン原子で置換さ
れた芳香族ジハライド化合物、例えば、4,4'−ジフル
オロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロベンゾフェノ
ン、4,4'−クロロフルオロベンゾフェノン、ビス(4
−クロロフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロフェ
ニル)スルホン、4−フルオロフェニル−4'−クロロ
フェニルスルホン、ビス(3−ニトロ−4−クロロフェ
ニル)スルホン、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,
6−ジフルオロベンゾニトリル、ヘキサフルオロベンゼ
ン、デカフルオロビフェニル、2,5−ジフルオロベン
ゾフェノン、1,3−ビス(4−クロロベンゾイル)ベ
ンゼンなどを反応させる。反応性から言えば、フッ素化
合物が好ましいが、次の芳香族カップリング反応を考慮
した場合、末端が塩素原子となるように芳香族求核置換
反応を組み立てる必要がある。活性芳香族ジハライドは
ビスフェノールに対し、2〜4倍モル、好ましくは2.
2〜2.8倍モルの使用である。芳香族求核置換反応の
前に予め、ビスフェノールのアルカリ金属塩としていて
もよい。反応温度は60℃〜300℃で、好ましくは8
0℃〜250℃の範囲である。反応時間は15分〜10
0時間、好ましくは1時間〜24時間の範囲である。最
も好ましい方法としては、下記式
The monomer represented by the above general formula (A) is
For example, it can be synthesized by the following method. First, in order to convert the bisphenol linked with an electron-withdrawing group into the corresponding alkali metal salt of bisphenol, dielectrics such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, diphenylsulfone, and dimethyl sulfoxide are used. Add an alkali metal such as lithium, sodium and potassium, an alkali metal hydride, an alkali metal hydroxide and an alkali metal carbonate in a highly polar solvent. Usually, the alkali metal is reacted with the hydroxyl group of phenol with a slight excess, and usually 1.1 to 2 times equivalent is used. Preferably, it is 1.2 to 1.5 times equivalent. At this time, a solvent azeotropic with water such as benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane, octane, chlorobenzene, dioxane, tetrahydrofuran, anisole, and phenetole is allowed to coexist, and fluorine or chlorine activated by an electron-withdrawing group is used. An aromatic dihalide compound substituted with a halogen atom of, for example, 4,4′-difluorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-chlorofluorobenzophenone, bis (4
-Chlorophenyl) sulfone, bis (4-fluorophenyl) sulfone, 4-fluorophenyl-4'-chlorophenyl sulfone, bis (3-nitro-4-chlorophenyl) sulfone, 2,6-dichlorobenzonitrile, 2,
6-difluorobenzonitrile, hexafluorobenzene, decafluorobiphenyl, 2,5-difluorobenzophenone, 1,3-bis (4-chlorobenzoyl) benzene and the like are reacted. From the viewpoint of reactivity, a fluorine compound is preferable, but in consideration of the following aromatic coupling reaction, it is necessary to assemble the aromatic nucleophilic substitution reaction so that the terminal is a chlorine atom. The active aromatic dihalide is 2 to 4 times mol, preferably 2.
It is the use of 2-2.8 times mole. Before the aromatic nucleophilic substitution reaction, an alkali metal salt of bisphenol may be used in advance. The reaction temperature is 60 ° C to 300 ° C, preferably 8
It is in the range of 0 ° C to 250 ° C. Reaction time is 15 minutes to 10 minutes
It is 0 hour, preferably 1 hour to 24 hours. The most preferable method is the following formula

【化4】 (式中、Yは一般式(A)に関して定義した通りであ
る。)で示される活性芳香族ジハライドとして反応性の
異なるハロゲン原子を一個づつ有するクロロフルオロ体
を用いることであり、フッ素原子が優先してフェノキシ
ドと求核置換反応が起きるので、目的の活性化された末
端クロロ体を得るのに好都合である。
[Chemical 4] (In the formula, Y is as defined for the general formula (A).) As the active aromatic dihalide represented by the formula (A), a chlorofluoro compound having one halogen atom with different reactivity is used, and a fluorine atom is preferred. Then, nucleophilic substitution reaction with phenoxide occurs, which is convenient for obtaining the desired activated terminal chloro compound.

【0010】または特開平2−159号公報に記載のよ
うに求核置換反応と親電子置換反応を組み合わせ、目的
の電子吸引性基、電子供与性基からなる屈曲性化合物の
合成方法がある。具体的には電子吸引性基で活性化され
た芳香族ビスハライド、例えば、ビス(4−クロロフェ
ニル)スルホンをフェノールとで求核置換反応させてビ
スフェノキシ置換体とする。次いで、この置換体を例え
ば、4−クロロ安息香酸クロリドとのフリーデルクラフ
ト反応から目的の化合物を得る。ここで用いる電子吸引
性基で活性化された芳香族ビスハライドは上記で例示し
た化合物が適用できる。フェノール化合物は置換されて
いてもよいが、耐熱性や屈曲性の観点から、無置換化合
物が好ましい。なお、フェノールの置換反応にはアルカ
リ金属塩とするのが、好ましく、使用可能なアルカリ金
属化合物は上記に例示した化合物を使用できる。使用量
はフェノール1モルに対し、1.2〜2倍モルである。
反応に際し、上述した極性溶媒や水との共沸溶媒を用い
ることができる。ビスフェノキシ化合物を塩化アルミニ
ウム、3フッ化ホウ素、塩化亜鉛などのルイス酸のフリ
ーデルクラフト反応の活性化剤存在下に、アシル化剤と
して、クロロ安息香酸クロライドを反応させる。クロロ
安息香酸クロライドはビスフェノキシ化合物に対し、2
〜4倍モル、好ましくは2.2〜3倍モルの使用であ
る。フリーデルクラフト活性化剤は、アシル化剤のクロ
ロ安息香酸などの活性ハライド化合物1モルに対し、
1.1〜2倍当量使用する。反応時間は15分〜10時
間の範囲で、反応温度は−20℃から80℃の範囲であ
る。使用溶媒は、フリーデルクラフト反応に不活性な、
クロロベンゼンやニトロベンゼンなどを用いることがで
きる。
Alternatively, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-159, there is a method for synthesizing a flexible compound comprising a desired electron-withdrawing group and electron-donating group by combining a nucleophilic substitution reaction and an electrophilic substitution reaction. Specifically, an aromatic bishalide activated by an electron-withdrawing group, for example, bis (4-chlorophenyl) sulfone is subjected to a nucleophilic substitution reaction with phenol to obtain a bisphenoxy-substituted product. Then, the substituted compound is subjected to, for example, a Friedel-Crafts reaction with 4-chlorobenzoic acid chloride to obtain the target compound. The compounds exemplified above can be applied to the aromatic bishalide activated by the electron-withdrawing group used here. The phenol compound may be substituted, but an unsubstituted compound is preferable from the viewpoint of heat resistance and flexibility. In addition, it is preferable to use an alkali metal salt for the phenol substitution reaction, and as the usable alkali metal compound, the compounds exemplified above can be used. The amount used is 1.2 to 2 times mol per mol of phenol.
In the reaction, the above polar solvent or an azeotropic solvent with water can be used. A bisphenoxy compound is reacted with chlorobenzoic acid chloride as an acylating agent in the presence of an activator of a Friedel-Crafts reaction of a Lewis acid such as aluminum chloride, boron trifluoride, zinc chloride and the like. Chlorobenzoic acid chloride is 2 relative to the bisphenoxy compound.
-4 times mol, preferably 2.2 to 3 times mol. Friedel-Crafts activator is based on 1 mol of an active halide compound such as chlorobenzoic acid as an acylating agent.
1. Use 1-2 times equivalent amount. The reaction time is in the range of 15 minutes to 10 hours, and the reaction temperature is in the range of -20 ° C to 80 ° C. The solvent used is inert to the Friedel-Crafts reaction,
Chlorobenzene, nitrobenzene, etc. can be used.

【0011】また、一般式(A)において、nが2以上で
あるモノマー(A)は、例えば、一般式(A)において電
子供与性基Bであるエーテル性酸素の供給源となるビス
フェノールと、電子吸引性基Aである、>C=O、−S
2−、および/または>C(CF32とを組み合わし
た、具体的には2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1,1,
1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)ケトン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)スルホンなどのビスフェノールのアルカリ金属塩と
過剰の4,4-ジクロロベンゾフェノン、ビス(4-クロロフ
ェニル)スルホンなどの活性芳香族ハロゲン化合物との
置換反応をN-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルア
セトアミド、スルホランなどの極性溶媒存在下で前記単
量体の合成手法に順次重合して得られる。このようなモ
ノマー(A)の例示としては、下記式で表される化合物な
どを挙げることができる。
In the general formula (A), the monomer (A) in which n is 2 or more is, for example, bisphenol serving as a source of etheric oxygen which is the electron donating group B in the general formula (A), Electron-withdrawing group A,> C = O, -S
O 2 − and / or> C (CF 3 ) 2 in combination, specifically 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,
Alkali metal salts of bisphenol such as 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) sulfone and excess 4,4 -Substitution reaction with an active aromatic halogen compound such as dichlorobenzophenone and bis (4-chlorophenyl) sulfone, in the presence of a polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide and sulfolane. It is obtained by sequentially polymerizing according to the synthetic method of. Examples of such a monomer (A) include compounds represented by the following formula.

【0012】[0012]

【化5】 [Chemical 5]

【0013】[0013]

【化6】 [Chemical 6]

【0014】[0014]

【化7】 上記において、nは2以上、好ましくは2〜100であ
る。
[Chemical 7] In the above, n is 2 or more, preferably 2 to 100.

【0015】次に一般式(B−1)〜(B−4)で表さ
れるモノマーについて説明する。 (B−1)
Next, the monomers represented by the general formulas (B-1) to (B-4) will be described. (B-1)

【化8】 式中、RおよびR'は互いに同一でも異なっていてもよ
く、上記一般式(A)中のRおよびR'と同様の基を示
す。R9〜R15は互いに同一でも異なっていてもよく、
水素原子、フッ素原子およびアルキル基からなる群より
選ばれた少なくとも1種の原子または基を示す。R9
15が示すアルキル基としては、上記一般式(A)中の
1〜R8が示すアルキル基と同様のものが挙げられる。
mは0、1または2を示す。Xは上記一般式(A)でX
として示したものと同様の群から選ばれた2価の電子吸
引性基を示す。Yは上記一般式(A)でYとして示した
ものと同様の群から選ばれた2価の電子供与性基を示
す。Wはフェニル基、ナフチル基および下記式(C−
1)〜(C−3)で表される基からなる群より選ばれる
少なくとも1種の基を示す。
[Chemical 8] In the formula, R and R ′ may be the same as or different from each other and represent the same groups as R and R ′ in the general formula (A). R 9 to R 15 may be the same or different,
At least one atom or group selected from the group consisting of hydrogen atom, fluorine atom and alkyl group is shown. R 9 ~
Examples of the alkyl group represented by R 15 include the same as the alkyl groups represented by R 1 to R 8 in the general formula (A).
m represents 0, 1 or 2. X is the above general formula (A)
Represents a divalent electron-withdrawing group selected from the same group as shown in. Y represents a divalent electron donating group selected from the same group as that shown as Y in the above general formula (A). W is a phenyl group, a naphthyl group or the following formula (C-
At least one group selected from the group consisting of the groups represented by 1) to (C-3) is shown.

【0016】上から(C−1)、(C−2)、(C−
3)
From the top, (C-1), (C-2), (C-
3)

【化9】 式中、Aは電子供与性基または単結合を示す。電子供与
性基としては、上記一般式(A)でYとして示したもの
と同様の群から選ばれた2価の電子供与性基が挙げられ
る。R16およびR17は水素原子、アルキル基およびアリ
ール基からなる群より選ばれる原子または基を示す。R
16およびR17が示す、アルキル基およびアリール基とし
ては、上記一般式(A)中のR1〜R8が示すアルキル基
およびアリール基と同様のものが挙げられる。R18〜R
26は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フ
ッ素原子およびアルキル基からなる群より選ばれる少な
くとも1種の原子または基を示す。qは0または1を示
す。上記一般式(B−1)で表されるモノマーとして
は、下記式で表される化合物が挙げられる。
[Chemical 9] In the formula, A represents an electron-donating group or a single bond. Examples of the electron donating group include a divalent electron donating group selected from the same group as that shown as Y in the above general formula (A). R 16 and R 17 represent an atom or a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group and an aryl group. R
Examples of the alkyl group and aryl group represented by 16 and R 17 include those similar to the alkyl group and aryl group represented by R 1 to R 8 in the general formula (A). R 18 ~ R
26 may be the same or different and each represents at least one atom or group selected from the group consisting of hydrogen atom, fluorine atom and alkyl group. q represents 0 or 1. Examples of the monomer represented by the general formula (B-1) include compounds represented by the following formula.

【化10】 より具体的には、一般式(B−1)で表される化合物と
しては、下記式で表される化合物が挙げられる。
[Chemical 10] More specifically, examples of the compound represented by the general formula (B-1) include compounds represented by the following formula.

【0017】[0017]

【化11】 [Chemical 11]

【0018】[0018]

【化12】 [Chemical 12]

【0019】また、上記のような化合物において、塩素
原子を臭素原子またはヨウ素原子に置き換えた化合物も
例示することができる。
Further, in the above compounds, compounds in which chlorine atom is replaced with bromine atom or iodine atom can be exemplified.

【0020】上から(B−2)、(B−3)、(B−
4)
From above (B-2), (B-3), (B-
4)

【化13】 [Chemical 13]

【0021】式(B−2)〜(B−4)中、Rおよび
R'は互いに同一でも異なっていてもよく、上記一般式
(A)中のRおよびR'と同様の基を示す。R27〜R34
は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ
素原子、アルキル基、フッ素置換アルキル基、アリール
基または下記一般式(D)で表される基を示す。
In the formulas (B-2) to (B-4), R and R'may be the same or different from each other and represent the same groups as R and R'in the general formula (A). R 27 ~ R 34
May be the same or different and each represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an aryl group or a group represented by the following general formula (D).

【0022】(D)(D)

【化14】 式(D)中、R35〜R43は互いに同一でも異なっていて
もよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、フッ素
置換アルキル基を示す。R27〜R34、R35〜R43が示す
アルキル基、フッ素置換アルキル基としては、R1〜R8
が示すアルキル基、フッ素置換アルキル基と同様の基が
挙げられる。またR27〜R34が示すアリール基として
は、R1〜R8が示すアリール基と同様の基が挙げられ
る。Xは上記一般式(A)でXとして示したものと同様
の群から選ばれた2価の電子吸引性基を示す。Yは上記
一般式(A)でYとして示したものと同様の群から選ば
れた2価の電子供与性基を示す。
[Chemical 14] In formula (D), R 35 to R 43 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a fluorine-substituted alkyl group. The alkyl group and fluorine-substituted alkyl group represented by R 27 to R 34 and R 35 to R 43 include R 1 to R 8
And the same groups as the alkyl group and the fluorine-substituted alkyl group represented by. Examples of the aryl group represented by R 27 to R 34 include the same groups as the aryl group represented by R 1 to R 8 . X represents a divalent electron-withdrawing group selected from the same group as that shown as X in the above general formula (A). Y represents a divalent electron donating group selected from the same group as that shown as Y in the above general formula (A).

【0023】上記一般式(B−2)で表されるモノマー
として具体的には、例えばp−ジクロロベンゼン、p−
ジメチルスルフォニロキシベンゼン、2,5−ジクロロ
トルエン、2,5−ジメチルスルフォニロキシベンゼ
ン、2,5−ジクロロ−p−キシレン、2,5−ジクロロ
ベンゾトリフルオライド、1,4−ジクロロ−2,3,5,
6−テトラフルオロベンゼン、およびこれらの化合物に
おいて塩素原子を臭素原子またはヨウ素原子に置き換え
た化合物などが挙げられる。上記一般式(B−3)で表
されるモノマーとして具体的には、例えば4,4'−ジメ
チルスルフォニロキシビフェニル、4,4'−ジメチルス
ルフォニロキシ−3,3'−ジプロペニルビフェニル、
4,4'−ジブロモビフェニル、4,4'−ジヨードビフェ
ニル、4,4'−ジメチルスルフォニロキシ−3,3'−ジ
メチルビフェニル、4,4'−ジメチルスルフォニロキシ
−3,3'−ジフルオロビフェニル、4,4'−ジメチルス
ルフォニロキシ−3,3'5,5'−テトラフルオロビフェ
ニル、4,4'−ジブロモオクタフルオロビフェニル、
4,4'−ジメチルスルフォニロキシオクタフルオロビフ
ェニルなどが挙げられる。上記一般式(B−4)で表さ
れるモノマーとして具体的には、例えばm−ジクロロベ
ンゼン、m−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、2,
4−ジクロロトルエン、3,5−ジクロロトルエン、2,
6−ジクロロトルエン、3,5−ジメチルスルフォニロ
キシトルエン、2,6−ジメチルスルフォニロキシトル
エン、2,4−ジクロロベンゾトリフルオライド、3,5
−ジクロロベンゾトリフルオライド、1,3−ジブロモ
−2,4,5,6−テトラフルオロベンゼン、およびこれ
らの化合物において塩素原子を臭素原子またはヨウ素原
子に置き換えた化合物などが挙げられる。また、分子量
調節剤としては4−クロロベンゾフェノンのような片末
端ハロゲン化合物(フッ素を除く)を用いて、所定の分
子量に調整できる。
Specific examples of the monomer represented by the above general formula (B-2) include p-dichlorobenzene and p-dichlorobenzene.
Dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichlorotoluene, 2,5-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichloro-p-xylene, 2,5-dichlorobenzotrifluoride, 1,4-dichloro-2, Three, five,
Examples thereof include 6-tetrafluorobenzene, and compounds in which a chlorine atom is replaced with a bromine atom or an iodine atom in these compounds. Specific examples of the monomer represented by the above general formula (B-3) include, for example, 4,4′-dimethylsulfonyloxybiphenyl, 4,4′-dimethylsulfonyloxy-3,3′-dipropenylbiphenyl,
4,4'-dibromobiphenyl, 4,4'-diiodobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3'- Difluorobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3'5,5'-tetrafluorobiphenyl, 4,4'-dibromooctafluorobiphenyl,
4,4′-dimethylsulfonyloxyoctafluorobiphenyl and the like can be mentioned. Specific examples of the monomer represented by the above general formula (B-4) include m-dichlorobenzene, m-dimethylsulfonyloxybenzene, and 2,
4-dichlorotoluene, 3,5-dichlorotoluene, 2,
6-dichlorotoluene, 3,5-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,6-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,4-dichlorobenzotrifluoride, 3,5
-Dichlorobenzotrifluoride, 1,3-dibromo-2,4,5,6-tetrafluorobenzene, and compounds in which a chlorine atom is replaced with a bromine atom or an iodine atom in these compounds. Further, as the molecular weight regulator, a halogen compound at one end (excluding fluorine) such as 4-chlorobenzophenone can be used to adjust the molecular weight to a predetermined value.

【0024】ポリアリーレン系重合体は上記モノマーを
触媒の存在下に反応させるが、使用される触媒は、遷移
金属化合物を含む触媒系であり、この触媒系としては、
遷移金属塩および配位子となる化合物(以下、「配位
子成分」という。)、または配位子が配位された遷移金
属錯体(銅塩を含む)、ならびに還元剤を必須成分と
し、さらに、重合速度を上げるために、「塩」を添加し
てもよい。ここで、遷移金属塩としては、塩化ニッケ
ル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチル
アセトナートなどのニッケル化合物;塩化パラジウム、
臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化
合物;塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物;塩化
コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバル
ト化合物などが挙げられる。これらのうち特に、塩化ニ
ッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。また、配位子成
分としては、トリフェニルホスフィン、2,2'−ビピリ
ジン、1,5−シクロオクタジエン、1,3−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパンなどが挙げられる。これら
のうち、トリフェニルホスフィン、2,2'−ビピリジン
が好ましい。上記配位子成分である化合物は、1種単独
で、あるいは2種以上を併用することができる。
The polyarylene polymer is obtained by reacting the above-mentioned monomers in the presence of a catalyst, and the catalyst used is a catalyst system containing a transition metal compound.
A transition metal salt and a compound serving as a ligand (hereinafter, referred to as “ligand component”), or a transition metal complex (including a copper salt) in which a ligand is coordinated, and a reducing agent are essential components, Further, a "salt" may be added to increase the polymerization rate. Here, as the transition metal salt, nickel compounds such as nickel chloride, nickel bromide, nickel iodide, and nickel acetylacetonate; palladium chloride,
Palladium compounds such as palladium bromide and palladium iodide; iron compounds such as iron chloride, iron bromide and iron iodide; cobalt compounds such as cobalt chloride, cobalt bromide and cobalt iodide. Of these, nickel chloride and nickel bromide are particularly preferable. Examples of the ligand component include triphenylphosphine, 2,2'-bipyridine, 1,5-cyclooctadiene and 1,3-bis (diphenylphosphino) propane. Of these, triphenylphosphine and 2,2'-bipyridine are preferable. The compound that is the ligand component may be used alone or in combination of two or more.

【0025】さらに、配位子が配位された遷移金属錯体
としては、例えば、塩化ニッケルビス(トリフェニルホ
スフィン)、臭化ニッケルビス(トリフェニルホスフィ
ン)、ヨウ化ニッケルビス(トリフェニルホスフィ
ン)、硝酸ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)、
塩化ニッケル(2,2'−ビピリジン)、臭化ニッケル
(2,2'−ビピリジン)、ヨウ化ニッケル(2,2'−ビ
ピリジン)、硝酸ニッケル(2,2'−ビピリジン)、ビ
ス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル、テトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)ニッケル、テトラキス
(トリフェニルホスファイト)ニッケル、テトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウムなどが挙げられ
る。これらのうち、塩化ニッケルビス(トリフェニルホ
スフィン)、塩化ニッケル(2,2'−ビピリジン)が好
ましい。上記触媒系に使用することができる還元剤とし
ては、例えば、鉄、亜鉛、マンガン、アルミニウム、マ
グネシウム、ナトリウム、カルシウムなどが挙げられ
る。これらのうち、亜鉛、マグネシウム、マンガンが好
ましい。これらの還元剤は、有機酸などの酸に接触させ
ることにより、より活性化して用いることができる。
Further, examples of the transition metal complex having a ligand coordinated include nickel chloride bis (triphenylphosphine), nickel bromide bis (triphenylphosphine), nickel iodide bis (triphenylphosphine), Nickel nitrate bis (triphenylphosphine),
Nickel chloride (2,2'-bipyridine), nickel bromide (2,2'-bipyridine), nickel iodide (2,2'-bipyridine), nickel nitrate (2,2'-bipyridine), bis (1, 5-cyclooctadiene) nickel, tetrakis (triphenylphosphine) nickel, tetrakis (triphenylphosphite) nickel, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, etc. are mentioned. Of these, nickel chloride bis (triphenylphosphine) and nickel chloride (2,2′-bipyridine) are preferable. Examples of the reducing agent that can be used in the above catalyst system include iron, zinc, manganese, aluminum, magnesium, sodium, calcium and the like. Of these, zinc, magnesium and manganese are preferable. These reducing agents can be further activated and used by bringing them into contact with an acid such as an organic acid.

【0026】また、上記触媒系において使用することの
できる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化ナトリ
ウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸ナトリ
ウムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、塩化カ
リウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カリウム
などのカリウム化合物;フッ化テトラエチルアンモニウ
ム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチル
アンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、硫酸
テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム化合物な
どが挙げられる。これらのうち、臭化ナトリウム、ヨウ
化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルアンモ
ニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好ましい。
As the "salt" which can be used in the above catalyst system, sodium compounds such as sodium fluoride, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide and sodium sulfate, potassium fluoride, potassium chloride, odor, etc. Examples thereof include potassium compounds such as potassium iodide, potassium iodide and potassium sulfate; ammonium compounds such as tetraethylammonium fluoride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide and tetraethylammonium sulfate. Of these, sodium bromide, sodium iodide, potassium bromide, tetraethylammonium bromide and tetraethylammonium iodide are preferred.

【0027】各成分の使用割合は、遷移金属塩または遷
移金属錯体が、上記モノマーの総計1モルに対し、通
常、0.0001〜10モル、好ましくは0.01〜
0.5モルである。0.0001モル未満では、重合反
応が十分に進行しないことがあり、一方、10モルを超
えると、分子量が低下することがある。触媒系におい
て、遷移金属塩および配位子成分を用いる場合、この配
位子成分の使用割合は、遷移金属塩1モルに対し、通
常、0.1〜100モル、好ましくは1〜10モルであ
る。0.1モル未満では、触媒活性が不十分となること
があり、一方、100モルを超えると、分子量が低下す
ることがある。また、還元剤の使用割合は、上記モノマ
ーの総計1モルに対し、通常、0.1〜100モル、好
ましくは1〜10モルである。0.1モル未満では、重
合が十分進行しないことがあり、100モルを超える
と、得られる重合体の精製が困難になることがある。さ
らに、「塩」を使用する場合、その使用割合は、上記モ
ノマーの総計1モルに対し、通常、0.001〜100
モル、好ましくは0.01〜1モルである。0.001
モル未満では、重合速度を上げる効果が不十分であるこ
とがあり、、100モルを超えると、得られる重合体の
精製が困難となることがある。使用することのできる重
合溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、シクロヘ
キサノン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトンなどが挙げら
れる。これらのうち、テトラヒドロフラン、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドンが好ましい。これらの重合
溶媒は、十分に乾燥してから用いることが好ましい。重
合溶媒中における上記モノマーの総計の濃度は、通常、
1〜90重量%、好ましくは5〜40重量%である。ま
た、重合する際の重合温度は、通常、0〜200℃、好
ましくは50〜120℃である。また、重合時間は、通
常、0.5〜100時間、好ましくは1〜40時間であ
る。このようにして上記一般式(A)で表されるモノマ
ー(A)と、上記一般式(B−1)〜(B−4)で表さ
れるモノマーから選ばれる少なくとも1種のモノマー
(B)を重合させることにより、ポリアリーレンを含む
重合溶液が得られる。
The proportion of each component used is such that the transition metal salt or transition metal complex is usually 0.0001 to 10 mol, preferably 0.01 to 10 mol, based on 1 mol of the total of the above monomers.
It is 0.5 mol. If it is less than 0.0001 mol, the polymerization reaction may not proceed sufficiently, while if it exceeds 10 mol, the molecular weight may decrease. When a transition metal salt and a ligand component are used in the catalyst system, the ratio of the ligand component used is usually 0.1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, based on 1 mol of the transition metal salt. is there. If it is less than 0.1 mol, the catalytic activity may be insufficient, whereas if it exceeds 100 mol, the molecular weight may be lowered. The ratio of the reducing agent used is usually 0.1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, based on 1 mol of the total amount of the above monomers. If it is less than 0.1 mol, polymerization may not proceed sufficiently, and if it exceeds 100 mol, purification of the resulting polymer may be difficult. Furthermore, when a "salt" is used, its use ratio is usually 0.001 to 100 per 1 mol of the total amount of the above monomers.
The molar amount is preferably 0.01 to 1 mol. 0.001
If it is less than 100 mol, the effect of increasing the polymerization rate may be insufficient, and if it exceeds 100 mol, purification of the resulting polymer may be difficult. Examples of the polymerization solvent that can be used include tetrahydrofuran, cyclohexanone, dimethylsulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone. Of these, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide,
N-methyl-2-pyrrolidone is preferred. It is preferable to use these polymerization solvents after drying them sufficiently. The total concentration of the above monomers in the polymerization solvent is usually
It is 1 to 90% by weight, preferably 5 to 40% by weight. Moreover, the polymerization temperature at the time of superposition | polymerization is 0-200 degreeC normally, Preferably it is 50-120 degreeC. The polymerization time is usually 0.5 to 100 hours, preferably 1 to 40 hours. Thus, at least one monomer (B) selected from the monomer (A) represented by the general formula (A) and the monomer represented by the general formulas (B-1) to (B-4). By polymerizing, a polymerization solution containing polyarylene is obtained.

【0028】次に、本発明においては、スルホン酸基を
有しない上記共重合体を硫酸を用いてスルホン酸基を導
入する。
Next, in the present invention, a sulfonic acid group is introduced into the above copolymer having no sulfonic acid group using sulfuric acid.

【0029】すなわち、このスルホン化の反応条件とし
ては、上記スルホン酸基を有しない共重合体を、無溶剤
下あるいは溶剤存在下で、上記スルホン化剤と反応させ
る。本発明においては重合体をスルホン化する際に、濃
度95.5〜97.4重量%の硫酸を使用する場合に
は、重合体1gに対して硫酸を10mL以上、好ましく
は10〜50mL使用し、20℃以上、好ましくは25
〜30℃で10〜30時間反応を行う。硫酸量が10m
L未満では、反応溶液の粘度が高すぎるため攪拌が出来
なくなる。本発明の反応液とは、前記重合体と硫酸から
なるものであるが、この反応液の温度が20℃未満では
スルホン化速度が遅すぎるため、目的のスルホン化等量
のポリマーを得ることが困難である。また、重合体をス
ルホン化する際に、濃度97.5重量%以上の硫酸を使
用する場合には、重合体1gに対して3ml以上、好ま
しくは3〜50mL使用し、反応液の温度25℃以下、
好ましくは5〜15℃で10〜30時間反応を行う。硫
酸量が3ml未満では溶液粘度が高すぎるため攪拌が困
難であり、反応温度が25℃を超えるとスルホン化速度
が速すぎるため、スルホン化が進みすぎ目的のスルホン
化等量のポリマーを得ることが困難である。本発明にお
いて、スルホン化の際に有機溶剤を併用して使用しない
ことが好ましいが、必要に応じて有機溶剤を使用するこ
とも可能である。その場合、使用できる溶剤としては、
例えばn−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、N、N−ジ
メチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドのような非プロトン系極性溶剤の
ほか、テトラクロロエタン、ジクロロエタン、クロロホ
ルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素などが挙
げられる。
That is, as the reaction conditions for the sulfonation, the copolymer having no sulfonic acid group is reacted with the sulfonating agent in the absence or presence of a solvent. In the present invention, when sulphonating a polymer, when sulfuric acid having a concentration of 95.5 to 97.4% by weight is used, 10 mL or more, preferably 10 to 50 mL, of sulfuric acid is used for 1 g of the polymer. , 20 ° C or higher, preferably 25
The reaction is carried out at -30 ° C for 10-30 hours. Sulfuric acid amount is 10m
If it is less than L, stirring cannot be performed because the viscosity of the reaction solution is too high. The reaction solution of the present invention is composed of the above polymer and sulfuric acid, but if the temperature of the reaction solution is lower than 20 ° C., the sulfonation rate is too slow, so that a target sulfonation equivalent amount of the polymer can be obtained. Have difficulty. Moreover, when using sulfuric acid having a concentration of 97.5% by weight or more when sulfonation of the polymer, 3 ml or more, preferably 3 to 50 mL, is used per 1 g of the polymer, and the temperature of the reaction solution is 25 ° C. Less than,
The reaction is preferably carried out at 5 to 15 ° C for 10 to 30 hours. If the amount of sulfuric acid is less than 3 ml, the solution viscosity is too high and stirring is difficult, and if the reaction temperature exceeds 25 ° C, the sulfonation rate is too fast, so that the sulfonation proceeds too much to obtain the target sulfonation equivalent amount of polymer. Is difficult. In the present invention, it is preferable not to use an organic solvent together during the sulfonation, but it is also possible to use an organic solvent if necessary. In that case, as the solvent that can be used,
For example, hydrocarbon solvents such as n-hexane, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide,
In addition to aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane, dichloroethane, chloroform and methylene chloride can be used.

【0030】このようにして得られる、スルホン化重合
体の、スルホン酸基量は、0.5〜3ミリグラム当量/
g、好ましくは0.8〜2.8ミリグラム当量/gであ
る。0.5ミリグラム当量/g未満では、プロトン伝導
性が上がらず、一方3ミリグラム当量/gを超えると、
親水性が向上し、水溶性重合体となってしまうか、また
水溶性に至らずとも耐久性が低下する。上記のスルホン
酸基量は、モノマー(A)とモノマー(B)の使用割
合、さらにモノマー(A)の種類、組合せを変えること
により、容易に調整することができる。
The amount of sulfonic acid group in the sulfonated polymer thus obtained is 0.5 to 3 mg / eq.
g, preferably 0.8 to 2.8 milligram equivalents / g. If it is less than 0.5 milliequivalent / g, the proton conductivity does not increase, while if it exceeds 3 milliequivalent / g,
The hydrophilicity is improved and the polymer becomes a water-soluble polymer, or the durability is reduced even if the polymer is not water-soluble. The amount of the sulfonic acid group can be easily adjusted by changing the use ratio of the monomer (A) and the monomer (B), and the type and combination of the monomer (A).

【0031】また、このようにして得られる本発明のス
ルホン酸基含有共重合体のスルホン化前の前駆体の重合
体の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、1
万〜50万、好ましくは2万〜40万、更に好ましくは
5万〜30万である。1万未満では、成形フィルムにク
ラックが発生するなど、塗膜性が不十分であり、また強
度的性質にも問題がある。一方、50万を超えると、ス
ルホン化反応時の粘度が高くなり、取扱いが困難であ
り、スルホン化重合体の加工性が不良になるなどの問題
がある。
The molecular weight of the thus obtained precursor polymer of the sulfonic acid group-containing copolymer of the present invention before sulfonation is 1 in terms of polystyrene equivalent weight average molecular weight.
It is 10,000 to 500,000, preferably 20,000 to 400,000, and more preferably 50,000 to 300,000. If it is less than 10,000, the coating film properties are insufficient, such as cracks in the molded film, and there is a problem in strength properties. On the other hand, when it exceeds 500,000, the viscosity during the sulfonation reaction becomes high, the handling is difficult, and the processability of the sulfonated polymer becomes poor.

【0032】本発明のスルホン酸基含有共重合体の分子
量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、2万〜10
0万、好ましくは5万〜80万、更に好ましくは10万
〜60万である。
The sulfonic acid group-containing copolymer of the present invention has a molecular weight of 20,000 to 10 in terms of polystyrene equivalent weight average molecular weight.
It is 0,000, preferably 50,000 to 800,000, and more preferably 100,000 to 600,000.

【0033】以下、本発明を実施例により、さらに具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限される
ものではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【実施例】測定方法 スルホン酸等量 得られたスルホン酸基含有重合体の水洗水が中性になる
まで洗浄し、フリーの残存している酸を除いて充分に水
洗し、乾燥後、所定量を秤量し、THF/水の混合溶剤に溶
解し、フェノールフタレインを指示薬とし、NaOHの
標準液を用いて滴定を行い、中和点から、スルホン酸等
量を求めた。分子量の測定 スルホン化前の前駆体重合体の重量平均分子量は、溶剤
としてテトラヒドロフラン(THF)を用い、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって、
ポリスチレン換算の分子量を求めた。スルホン化物の分
子量は、溶剤として臭化リチウムと燐酸を添加したN−
メチルー2−ピロリドン(NMP)を溶離液として用
い、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)によって、ポリスチレン換算の分子量を求めた。熱水耐性の評価 スルホン化物からNMPを溶剤として用いて、約50μ
m厚のキャストフィルムを作製し、24時間120℃の
熱水中に浸した後の重量保持率で評価した。
[Examples] Measurement method Equivalent amount of sulfonic acid Rinsing of the obtained sulfonic acid group-containing polymer was washed until the water became neutral, the free residual acid was removed, and the polymer was thoroughly washed with water and dried. A fixed amount was weighed, dissolved in a mixed solvent of THF / water, titrated using phenolphthalein as an indicator and a standard solution of NaOH, and the equivalent amount of sulfonic acid was determined from the neutralization point. Measurement of Molecular Weight The weight average molecular weight of the precursor polymer before sulfonation was determined by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent.
The polystyrene equivalent molecular weight was determined. The molecular weight of the sulfonate is N- with the addition of lithium bromide and phosphoric acid as solvents.
Gel permeation chromatography (GP) using methyl-2-pyrrolidone (NMP) as an eluent
The molecular weight in terms of polystyrene was determined by C). Evaluation of hot water resistance Using NMP as a solvent from sulfonated product, about 50μ
An m-thick cast film was prepared and evaluated by the weight retention rate after being immersed in hot water at 120 ° C. for 24 hours.

【0034】[参考例 ポリアリーレンの合成] (オリゴマーの調製)撹拌機、温度計、冷却管、Dean-S
tark管、窒素導入の三方コックをとりつけた1Lの三つ
口のフラスコに、2.2−ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1,
1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン(ビスフェノールA
F)67.3g(0.20モル)、4,4'-ジクロロベンゾフェノン
(4,4'-DCBP)60.3g(0.24モル)、炭酸カリウム71.
9g(0.52モル)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMA
c)300mL、トルエン150mLをとり、オイルバス中、
窒素雰囲気下で加熱し撹拌下130℃で反応させた。反応
により生成する水をトルエンと共沸させ、Dean-Stark管
で系外に除去しながら反応させると、約3時間で水の生
成がほとんど認められなくなった。反応温度を130℃か
ら徐々に150℃まで上げた。その後、反応温度を徐々に1
50℃まで上げながら大部分のトルエンを除去し、150℃
で10時間反応を続けた後、4,4'-DCBP10.0g(0.040
モル)を加え、さらに5時間反応した。得られた反応液
を放冷後、副生した無機化合物の沈殿物を濾過除去し、
濾液を4Lのメタノール中に投入した。沈殿した生成物
を濾別、回収し乾燥後、テトラヒドロフラン300mLに
溶解した。これをメタノール4Lに再沈殿し、目的の化
合物95g(収率85%)を得た。得られた重合体のGPC
(THF溶媒)で求めたポリスチレン換算の数平均分子
量は4,200、重量平均分子量は8,300であった。また、得
られた重合体はTHF、NMP、DMAc、スルホラン
などに可溶で、Tgは110℃、熱分解温度は498℃であっ
た。得られた重合体は式(I):
[Reference Example: Synthesis of polyarylene] (Preparation of oligomer) Stirrer, thermometer, cooling tube, Dean-S
In a 1-L three-necked flask equipped with a tark tube and a three-way cock for introducing nitrogen, 2.2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropane (bisphenol A
F) 67.3 g (0.20 mol), 4,4'-dichlorobenzophenone
(4,4'-DCBP) 60.3 g (0.24 mol), potassium carbonate 71.
9 g (0.52 mol), N, N-dimethylacetamide (DMA
c) Take 300 mL and 150 mL of toluene, and in an oil bath,
The mixture was heated under a nitrogen atmosphere and reacted at 130 ° C. with stirring. When the water produced by the reaction was azeotropically distilled with toluene and the reaction was carried out while removing it out of the system with a Dean-Stark tube, almost no water production was observed in about 3 hours. The reaction temperature was gradually increased from 130 ° C to 150 ° C. Then gradually increase the reaction temperature to 1
Removed most of toluene while raising the temperature to 50 ℃
After continuing the reaction for 10 hours at 4,4'-DCBP 10.0g (0.040
Mol) was added and the reaction was continued for 5 hours. After allowing the obtained reaction solution to cool, the precipitate of the inorganic compound by-produced is removed by filtration,
The filtrate was poured into 4 L of methanol. The precipitated product was separated by filtration, collected, dried and then dissolved in 300 mL of tetrahydrofuran. This was reprecipitated in 4 L of methanol to obtain 95 g of the desired compound (yield 85%). GPC of the obtained polymer
The polystyrene reduced number average molecular weight determined by (THF solvent) was 4,200, and the weight average molecular weight was 8,300. The obtained polymer was soluble in THF, NMP, DMAc, sulfolane, etc., and had a Tg of 110 ° C and a thermal decomposition temperature of 498 ° C. The resulting polymer has the formula (I):

【化15】 …(I) で表される構造を有することが推定され、該構造と上記
の数平均分子量とから、nの平均値は7.8と求められ
た。
[Chemical 15] It was presumed to have a structure represented by (I), and the average value of n was determined to be 7.8 from the structure and the above number average molecular weight.

【0035】(ポリアリーレン系共重合体の合成)上記
で得られた式(I)のオリゴマー28.4g(2.87
mmol)、2,5−ジクロロ−4’−(4−フェノキ
シ)フェノキシベンゾフェノン(DCPPB)29.2
g(67.1mmol)、ビス(トリフェニルホスフィ
ン)ニッケルジクロリド1.37g(2.1mmo
l)、よう化ナトリウム1.36g(9.07mmo
l)、トリフェニルホスフィン7.34g(28.0m
mol)、亜鉛末11.0g(168mmol)をフラ
スコにとり、乾燥窒素置換した。N-メチル−2−ピロリ
ドン130mlを加え、80℃に加熱し、4時間攪拌
し、重合をおこなった。重合溶液をTHFで希釈し、塩
酸/メタノールで凝固回収し、メタノール洗滌を繰り返
し、THFで溶解、メタノールへ再沈殿による精製し、
濾集した重合体を真空乾燥し目的の共重合体50.7g
(96%)を得た。 GPC(THF)で求めたポリス
チレン換算の数平均分子量は40000、重量平均分子
量は145000であった。
(Synthesis of Polyarylene Copolymer) 28.4 g (2.87) of the oligomer of the formula (I) obtained above.
mmol), 2,5-dichloro-4 ′-(4-phenoxy) phenoxybenzophenone (DCPPB) 29.2.
g (67.1 mmol), bis (triphenylphosphine) nickel dichloride 1.37 g (2.1 mmo)
l), sodium iodide 1.36 g (9.07 mmo)
l), triphenylphosphine 7.34 g (28.0 m)
mol) and 11.0 g (168 mmol) of zinc powder were placed in a flask and purged with dry nitrogen. 130 ml of N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the mixture was heated to 80 ° C. and stirred for 4 hours to carry out polymerization. The polymerization solution was diluted with THF, coagulated and recovered with hydrochloric acid / methanol, repeated washing with methanol, dissolved with THF, and purified by reprecipitation in methanol,
The polymer collected by filtration is vacuum dried to obtain 50.7 g of the desired copolymer.
(96%) was obtained. The polystyrene reduced number average molecular weight determined by GPC (THF) was 40,000 and the weight average molecular weight was 145,000.

【0036】実施例1 上記で得た共重合体25gを攪拌装置、温度計を取り付
けた1000mlのセパラブルフラスコに入れ、濃度9
6.4%硫酸750mlを加え、内温を25℃に保ちな
がら窒素気流下で24時間攪拌した。反応時間6時間の
時点で反応溶液の粘度を測定(25℃)したところ40
0mPa・sであり、充分攪拌が可能であった。得られた溶
液を大量のイオン交換水の中に注ぎ入れ、重合体を沈殿
させた。洗浄水のpHが5になるまで重合体の洗浄を繰
り返した。乾燥して、29g(96%)のスルホン酸基
含有重合体を得た。スルホン酸基含有重合体のGPC(NMP)
で求めたポリスチレン換算の数平均分子量は67,00
0、重量平均分子量は277,000であった。本スル
ホン酸基含有重合体のスルホン酸等量は2.1mg等量/
gであった。このスルホン酸基含有重合体の熱水耐性試
験後の重量保持率は99%であった。
Example 1 25 g of the copolymer obtained above was placed in a 1000 ml separable flask equipped with a stirrer and a thermometer, and the concentration was adjusted to 9
750 ml of 6.4% sulfuric acid was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 24 hours while maintaining the internal temperature at 25 ° C. When the viscosity of the reaction solution was measured (25 ° C) at a reaction time of 6 hours, it was 40
It was 0 mPa · s, and sufficient stirring was possible. The obtained solution was poured into a large amount of ion-exchanged water to precipitate the polymer. The polymer was washed repeatedly until the pH of the wash water reached 5. After drying, 29 g (96%) of a sulfonic acid group-containing polymer was obtained. GPC of polymer containing sulfonic acid group (NMP)
The polystyrene-equivalent number average molecular weight calculated in
0, the weight average molecular weight was 277,000. The sulfonic acid equivalent of the present sulfonic acid group-containing polymer is 2.1 mg equivalent /
It was g. The weight retention of this sulfonic acid group-containing polymer after the hot water resistance test was 99%.

【0037】実施例2 参考例で合成した共重合体50gを攪拌装置、温度計を
取り付けた1000mlのセパラブルフラスコに入れ、
濃度98.5%硫酸650mlを加え、内温を15℃に
保ちながら窒素気流下で24時間攪拌した。反応時間6
時間の時点で反応溶液の粘度を測定(15℃)したとこ
ろ5000mPa・sであり、充分攪拌が可能であった。得
られた溶液を大量のイオン交換水の中に注ぎ入れ、重合
体を沈殿させた。洗浄水のpHが5になるまで重合体の
洗浄を繰り返した。乾燥して、59g(97%)のスル
ホン酸基含有重合体を得た。スルホン酸基含有重合体の
GPC(NMP)で求めたポリスチレン換算の数平均分子量は6
8,000、重量平均分子量は279,000であっ
た。本スルホン酸基含有重合体のスルホン酸等量は2.
1mg等量/gであった。このスルホン酸基含有重合体の
熱水耐性試験後の重量保持率は99%と良好であった。
Example 2 50 g of the copolymer synthesized in Reference Example was placed in a 1000 ml separable flask equipped with a stirrer and a thermometer,
650 ml of 98.5% concentration sulfuric acid was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 24 hours while maintaining the internal temperature at 15 ° C. Reaction time 6
When the viscosity of the reaction solution was measured (15 ° C.) at the time, it was 5000 mPa · s, and sufficient stirring was possible. The obtained solution was poured into a large amount of ion-exchanged water to precipitate the polymer. The polymer was washed repeatedly until the pH of the wash water reached 5. After drying, 59 g (97%) of a sulfonic acid group-containing polymer was obtained. Of sulfonic acid group-containing polymer
The polystyrene-equivalent number average molecular weight determined by GPC (NMP) is 6
The molecular weight was 8,000 and the weight average molecular weight was 279,000. The sulfonic acid equivalent of the sulfonic acid group-containing polymer is 2.
It was 1 mg equivalent / g. The weight retention of this sulfonic acid group-containing polymer after the hot water resistance test was good at 99%.

【0038】比較例1 参考例で合成した共重合体50gを攪拌装置、温度計を
取り付けた1000mlのセパラブルフラスコに入れ、
濃度98.5%硫酸650mlを加え、内温を30℃に
保ちながら窒素気流下で24時間攪拌した。反応時間6
時間の時点で反応溶液の粘度を測定(15℃)したとこ
ろ1000mPa・sであった。得られた溶液を大量のイオ
ン交換水の中に注ぎ入れ、重合体を沈殿させた。洗浄水
のpHが5になるまで重合体の洗浄を繰り返した。乾燥
して、59g(97%)のスルホン酸基含有重合体を得
た。スルホン酸基含有重合体のGPC(NMP)で求めたポリス
チレン換算の数平均分子量は68,000、重量平均分
子量は279,000であった。本スルホン酸基含有重
合体のスルホン酸等量は2.8mg等量/gと高く、熱水
耐性試験後の重量保持率は55%であり、サンプル取り
出し時にフィルムにクラックが発生した。
Comparative Example 1 50 g of the copolymer synthesized in Reference Example was placed in a 1000 ml separable flask equipped with a stirrer and a thermometer.
650 ml of 98.5% concentration sulfuric acid was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 24 hours while maintaining the internal temperature at 30 ° C. Reaction time 6
When the viscosity of the reaction solution was measured (15 ° C.) at the time, it was 1000 mPa · s. The obtained solution was poured into a large amount of ion-exchanged water to precipitate the polymer. The polymer was washed repeatedly until the pH of the wash water reached 5. After drying, 59 g (97%) of a sulfonic acid group-containing polymer was obtained. The polystyrene-equivalent number average molecular weight of the sulfonic acid group-containing polymer determined by GPC (NMP) was 68,000, and the weight average molecular weight was 279,000. The sulfonic acid equivalent amount of the present sulfonic acid group-containing polymer was as high as 2.8 mg equivalent / g, the weight retention rate after the hot water resistance test was 55%, and cracking occurred in the film when the sample was taken out.

【0039】比較例2 参考例で合成した共重合体50gを攪拌装置、温度計を
取り付けた1000mlのセパラブルフラスコに入れ、
濃度96.4%硫酸400mlを加え、内温を25℃に
保ちながら窒素気流下で24時間攪拌した。反応時間
中、反応溶液の粘度が非常に高く、攪拌が困難であっ
た。反応時間6時間の時点で反応溶液の粘度を測定(2
5℃)したところ500000mPa・s以上であった。
Comparative Example 2 50 g of the copolymer synthesized in Reference Example was placed in a 1000 ml separable flask equipped with a stirrer and a thermometer.
400 ml of 96.4% concentration sulfuric acid was added, and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 24 hours while maintaining the internal temperature at 25 ° C. During the reaction time, the viscosity of the reaction solution was very high and stirring was difficult. At the reaction time of 6 hours, the viscosity of the reaction solution was measured (2
When the temperature was 5 ° C.), it was 500000 mPa · s or more.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明によると、スルホン化反応時の溶
液粘度を適正な範囲にコントロールが可能で、スルホン
酸基の導入量を容易にコントロールできる製造方法を提
供することにある。
According to the present invention, it is an object of the present invention to provide a production method capable of controlling the solution viscosity during the sulfonation reaction within an appropriate range and easily controlling the amount of sulfonic acid groups introduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J032 BA03 BA08 BD05 CA12 CA14 CD02 CD09 CF03 CG01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4J032 BA03 BA08 BD05 CA12 CA14                       CD02 CD09 CF03 CG01

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリアリーレン系重合体をスルホン化
する際に、濃度95.5〜97.4重量%の硫酸を、重
合体1gに対して10ml以上使用し、ポリアリーレン
系重合体と硫酸とからなる反応液を20℃以上とするこ
と特徴とするスルホン酸基含有重合体の製造方法。
1. When sulfonating a polyarylene-based polymer, sulfuric acid having a concentration of 95.5 to 97.4% by weight is used in an amount of 10 ml or more per 1 g of the polymer to obtain a polyarylene-based polymer and sulfuric acid. The method for producing a sulfonic acid group-containing polymer is characterized in that the reaction liquid comprising
【請求項2】 ポリアリーレン系重合体をスルホン化
する際に、濃度97.5重量%以上の硫酸を、重合体1
gに対して3ml以上使用し、ポリアリーレン系重合体
と硫酸とからなる反応液を25℃以下とすることを特徴
とするスルホン酸基含有重合体の製造方法。
2. A polymer 1 containing sulfuric acid having a concentration of 97.5% by weight or more when the polyarylene polymer is sulfonated.
A method for producing a sulfonic acid group-containing polymer, characterized in that 3 ml or more per g is used and the reaction liquid comprising the polyarylene polymer and sulfuric acid is kept at 25 ° C. or lower.
【請求項3】 スルホン化される重合体の重量平均分
子量が500,000以下であるポリアリーレン系重合
体であることを特徴とする請求項1または2記載のスル
ホン酸基含有重合体の製造方法。
3. The method for producing a sulfonic acid group-containing polymer according to claim 1, wherein the sulfonated polymer is a polyarylene polymer having a weight average molecular weight of 500,000 or less. .
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