JP2003260404A - Cleaning method of extrusion die head, coating apparatus comprising cleaning mechanism, and coating method - Google Patents

Cleaning method of extrusion die head, coating apparatus comprising cleaning mechanism, and coating method

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JP2003260404A
JP2003260404A JP2002063711A JP2002063711A JP2003260404A JP 2003260404 A JP2003260404 A JP 2003260404A JP 2002063711 A JP2002063711 A JP 2002063711A JP 2002063711 A JP2002063711 A JP 2002063711A JP 2003260404 A JP2003260404 A JP 2003260404A
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JP
Japan
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coating
liquid
cleaning
block
chemical
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Application number
JP2002063711A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumikazu Kobayashi
史和 小林
Yasuhito Kodera
泰人 小寺
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make continuous coating by a die coater possible by cleaning a die head after discharging a solution. <P>SOLUTION: A porous structure body and a highly absorptive cloth made of ultrafine fibers are combined with each other to form a ventilative absorption block or roller. The center of the absorption body is penetrated and vacuum suction is carried out through the penetrated center so as to wipe a die head to which a coating material adheres after coating and clean it by suction and accordingly, the die head can be refreshed and continuous coating is made possible. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、デバイス製造にお
けるダイコータによる液膜形成時のダイヘッド洗浄方
法、及び前述の洗浄機構を有する塗布装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a die head cleaning method for forming a liquid film by a die coater in device manufacturing, and a coating apparatus having the cleaning mechanism described above.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体やフラットパネルディスプレイと
いったデバイスの製造を行う場合、レジストに代表され
る感光性材料やポリイミド等が使用される絶縁膜等をは
じめとし様々な液膜を形成するプロセスが頻繁に行われ
る。前出の液膜はこれまでスピンコートや印刷といった
手法で塗布されており、中でもスピンコートは簡単な機
構で高精度の膜が得られることから様々なラインに導入
されてきている。
2. Description of the Related Art When manufacturing a device such as a semiconductor or a flat panel display, a process for forming various liquid films such as an insulating film using a photosensitive material typified by a resist or polyimide is frequently used. Done. The liquid film described above has been applied by methods such as spin coating and printing, and spin coating has been introduced into various lines because a highly precise film can be obtained by a simple mechanism.

【0003】しかしスピンコートは通常滴下したコーテ
ィング材料の95%以上を回転により吹き飛ばし廃液に
してしまう。またこのとき飛散したコーティング材料が
他の装置に影響を及ばさぬように囲うことが必要とな
り、装置が大がかりになる。更に基板エッジ部にビード
と呼ばれる液滴が発生し、基板端部及び裏面にコーティ
ング材料が付着し基板搬送系やホットプレート表面を汚
染しパーティクルを発生させる。このためスピンコート
終了後にこの裏端面を処理するためのプロセスや装置を
増やし対応を取らなければならない場合が多々ある。ま
たスループットが非常に遅い。
However, in spin coating, 95% or more of the dropped coating material is normally blown off by rotation to be a waste liquid. Further, at this time, it is necessary to surround the coating material so that the scattered coating material does not affect other devices, which makes the device bulky. Further, a droplet called a bead is generated at the edge portion of the substrate, the coating material is attached to the edge portion and the back surface of the substrate, and the substrate transport system and the surface of the hot plate are contaminated to generate particles. For this reason, it is often necessary to increase the number of processes and devices for treating the back end surface after the spin coating is finished. Also, the throughput is very slow.

【0004】以上挙げたように様々な問題を抱えてい
る。
As mentioned above, there are various problems.

【0005】一方、これらの問題を解決するため、押し
出し型(ダイ)を用いた塗布装置が注目を集め、既に実
用化が始まっている。
On the other hand, in order to solve these problems, a coating apparatus using an extrusion type (die) has attracted attention and has already been put into practical use.

【0006】この塗布装置は液吐出部であるダイに、少
なくとも2枚のブレードから形成されたスリットを有
し、ここからコーティング材料をガラス基板等に押し出
し塗布するものである。
This coating apparatus has a slit, which is formed by at least two blades, in a die which is a liquid discharge section, and the coating material is extruded and coated onto a glass substrate or the like from this slit.

【0007】このときダイ尖端を基板に近づけ、ダイ尖
端と基板は数十μm〜数百μmのすき間で精密に制御さ
れ、前出のスリットからコーティング材料を押しだしダ
イ尖端と基板間にコーティング材料の液層を形成し、ダ
イもしくは基板を平行移動させることで、基板上に液膜
を形成するものである。このとき形成する液層は、メニ
スカス維持のためある程度の大きさが必要である。
At this time, the die tip is brought close to the substrate, and the die tip and the substrate are precisely controlled with a gap of several tens of μm to several hundreds of μm, the coating material is pushed out from the above-mentioned slit, and the coating material of the coating material is inserted between the die tip and the substrate. The liquid film is formed on the substrate by forming the liquid layer and moving the die or the substrate in parallel. The liquid layer formed at this time needs to have a certain size to maintain the meniscus.

【0008】そのためスピンコートに比べコーティング
材料のほとんどを基板に供給でき飛散もないため無駄が
少なく、ダイの下を基板が通過するだけで塗膜が出来る
ことから、スループットが非常に良く均一な膜を得るこ
とが出来る。
Therefore, compared with the spin coating, most of the coating material can be supplied to the substrate without scattering, so that there is little waste, and the coating film can be formed only by passing the substrate under the die. Therefore, the throughput is very good and the film is uniform. Can be obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この塗
布方法は液吐出をやめ基板からダイヘッドを引き離すこ
とで塗膜を終了するため、ダイと基板間の液層を破壊し
なければならない。このときダイと基板間には液層維持
のため多量のコーティング材料が必要であり、塗布終了
のため液層を破壊すると、この多量のコーティング材料
ずべてを基板においてくることでできず一部ヘッドに残
留し、次塗布に筋ムラや塗布開始時膜厚増大などの悪影
響を及ぼすことがある。さらにヘッドに残留した材料が
乾燥しパーティクルとなり不良発生の原因となることが
ある等の問題を抱えている。
However, in this coating method, the coating film is finished by stopping the liquid discharge and separating the die head from the substrate, so that the liquid layer between the die and the substrate must be destroyed. At this time, a large amount of coating material is required between the die and the substrate to maintain the liquid layer, and if the liquid layer is destroyed at the end of coating, this large amount of coating material cannot be brought all over the substrate and some head And may adversely affect the next coating such as streak unevenness and increase in film thickness at the start of coating. Further, there is a problem that the material remaining on the head may be dried and turned into particles, which may cause defects.

【0010】これらを解消するため、塗布終了後やダミ
ー吐出を行った後、ヘッド尖端のコーティング材料を金
属製のローラーや、ブレードで掻き取る、ブラシ洗浄を
行うなどが行われているが、簡単には解消できない。特
にコーティング材料が高粘度かつ速乾性の材料である場
合、ブレード等では掻き取りきれず次塗布に影響を及ぼ
したりパーティクルの原因となる問題は容易には解決さ
れておらず、安定した連続塗布の障害となることがしば
しばある。
In order to solve these problems, the coating material at the tip of the head is scraped off by a metal roller or blade, or brush cleaning is performed after the application is completed or after the dummy discharge is performed. I can't solve it. Especially when the coating material is a high-viscosity and quick-drying material, the problem of not being able to scrape off with a blade or the like and affecting the next coating or causing particles is not easily solved, and stable continuous coating is possible. Often an obstacle.

【0011】そこで本発明は、従来の実状を鑑みて提案
されたものであり、ダイヘッド尖端付近に付着したコー
ティング材料を除去し、ダイヘッド先端のリフレッシュ
を任意に行えることを可能とし,次塗布に影響を及ぼさ
ないヘッド状態を作るものであり、更に連続的に液溜ま
り筋といった塗布ムラの発生を抑制し均一で高品質な膜
形成を可能とし、コーティング材料の乾燥によるパーテ
ィクルの発生を防ぐダイヘッド尖端の洗浄方法、及び前
述の洗浄機構を有する塗布装置を供給しようとするもの
である。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional state of the art, and makes it possible to remove the coating material adhering to the tip of the die head and optionally refresh the tip of the die head, which affects the next coating. This is to create a head state that does not affect the temperature of the die head, further suppresses the occurrence of coating unevenness such as liquid pool streaks, enables uniform and high quality film formation, and prevents the generation of particles due to the drying of the coating material. The present invention intends to supply a cleaning method and a coating apparatus having the above-mentioned cleaning mechanism.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係わるダイヘッ
ド洗浄方法、及び前述の洗浄機構を有する液膜塗布装置
は、前記課題を解決するために、通気性のあるブロック
又はローラを薬液の付着しているダイヘッドに押し当て
る。このときブロック又はローラの液吸収性のよいもの
を使用しさらに、中心部をくりぬきその部分から真空吸
引を行うことを特徴としている。更にこのときコーティ
ング材料の主溶媒等を使用した洗浄液をダイヘッドにか
ける若しくはブロック又はローラに含ませることを特徴
としている。また、洗浄ブロック自体にも洗浄液をかけ
中心から真空吸引し自己洗浄することを特徴としてい
る。
In order to solve the above problems, a die head cleaning method according to the present invention and a liquid film coating apparatus having the aforementioned cleaning mechanism are provided with a breathable block or roller to which a chemical solution is attached. Press it against the die head that is holding. At this time, a block or roller having good liquid absorbability is used, and further, the central portion is hollowed out and vacuum suction is performed from that portion. Further, at this time, a cleaning liquid using a main solvent or the like of the coating material is applied to the die head or included in the block or the roller. Further, it is characterized in that a cleaning liquid is applied to the cleaning block itself and vacuum suction is performed from the center to perform self-cleaning.

【0013】請求項1から4の方法によれば、塗布後又
はダミー吐出後ダイヘッドに付着したコーティング材料
を吸引除去できることが本発明者らの研究により明らか
となった。
According to the methods of claims 1 to 4, it has been clarified by the present inventors that the coating material adhered to the die head after coating or after dummy ejection can be removed by suction.

【0014】さらに、請求項5から7の方法を併用する
と液吐出時間経過により乾燥し固着しかかったコーティ
ング材料も吸引除去し洗浄可能であることが本発明者ら
の研究により明らかとなった。また、請求項7と組み合
わせることで前記洗浄体の自己洗浄リフレッシュを吐出
毎又は数回おきに行い、洗浄ブロック又はローラを連続
的に使用することが可能であることが本発明者らの研究
により明らかとなった。
Further, it has been clarified by the study by the present inventors that the combined use of the methods of claims 5 to 7 makes it possible to remove the coating material which has dried and adhered with the passage of liquid ejection time by suction and can be washed. In addition, according to the study by the present inventors, it is possible to perform self-cleaning refreshment of the cleaning body every discharge or every several times by combining with claim 7, and to continuously use the cleaning block or the roller. It became clear.

【0015】請求項8,9の方法を取ると上記作用を更
に効率的に行うことが可能となる。
When the method according to claims 8 and 9 is adopted, the above operation can be performed more efficiently.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の好ま
しい実施の形態を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0017】[0017]

【実施例1】図1は本発明の特徴を模式的に表した図で
ある。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram schematically showing the features of the present invention.

【0018】同図において1,2はダイを構成するブレ
ード、3,4は洗浄液吐出ノズル、5はバキューム兼廃
液路、6は通気性のあるブロック、7は緩衝性を持つ高
吸収性クロスである。
In the figure, 1 and 2 are blades constituting a die, 3 and 4 are cleaning liquid discharge nozzles, 5 is a vacuum / waste liquid passage, 6 is a block having air permeability, and 7 is a highly absorbent cloth having a cushioning property. is there.

【0019】本発明による洗浄機構は、塗布後及びダミ
ー吐出後にダイヘッド尖端に付着したコーティング材料
の除去を図1に示すような吸引ブロックをダイヘッド尖
端に押し付け、揺動する事により拭き取る。更に、この
吸引ブロックは通気性のある多孔構造体で構成されその
中心中心部分をくり貫き固定用シャフトに接続されお
り、シャフト部分は真空吸引機構に接続されている。
The cleaning mechanism according to the present invention removes the coating material adhering to the tip of the die head after coating and after the dummy ejection by pressing a suction block as shown in FIG. Further, this suction block is composed of a breathable porous structure, is hollowed through the central portion of the suction block, and is connected to a fixing shaft, and the shaft portion is connected to a vacuum suction mechanism.

【0020】これによりブロック周辺部分より吸い取っ
た塗布液をロール中心部分に吸引しブロックシャフト部
分から真空系を通して吸引ブロックより除去すると同時
にフロック表面のコーティング材料も吸引できる構造と
なっている。また吸収を促進するため、超極細、高密度
微細構造繊維等の高吸収布をブロックに巻き付けて用い
ても良い。この布はヘッドとブロックが接触するときの
緩衝材の役割も果たす。
As a result, the coating liquid sucked from the peripheral portion of the block is sucked to the central portion of the roll and removed from the suction block through the vacuum system from the block shaft portion, and at the same time, the coating material on the flock surface can be sucked. Further, in order to promote absorption, a super-absorbent cloth such as ultra-fine and high-density fine structure fibers may be wound around the block and used. This cloth also serves as a cushioning material when the head and block come into contact with each other.

【0021】更に拭き取り洗浄を行うとき図1中の3,
4で示すようにコーティング材料の主溶媒等で作られた
洗浄液をかけダイヘッド尖端付着したコーティング材料
を溶解しながら吸引除去を行う。真空吸引中は、ダイヘ
ッドより微量なコーティング材料を吐出し、スリット内
への洗浄液の浸入及び、コーティング材料の吸出しを防
止する。また、ワークコーティング中に吸引ブロックに
洗浄液をかけフロックの自己リフレッシュをコーティン
グ毎、若しくは一定時間毎に行う。
When wiping and cleaning are further carried out, 3, in FIG.
As shown in FIG. 4, a cleaning liquid made of a main solvent of the coating material or the like is applied, and the coating material adhered to the tip of the die head is dissolved and removed by suction. During vacuum suction, a small amount of coating material is discharged from the die head to prevent the cleaning liquid from entering the slit and sucking out the coating material. In addition, the cleaning liquid is applied to the suction block during coating of the work, and the self-refreshing of the flocs is performed every coating or every fixed time.

【0022】この様な機構でダイヘッド尖端に付着した
コーティング材料の吸引除去を施すと、ダイヘッドに付
着したコーティング材料は洗浄され、コーティング前の
状態にリフレッシュされる。このヘッドを用いて連続塗
布の動作を行うと、筋ムラ等のない塗布が可能となっ
た。
When the coating material attached to the tip of the die head is sucked and removed by such a mechanism, the coating material attached to the die head is washed and refreshed to the state before coating. When the continuous coating operation was performed using this head, it was possible to perform coating without stripe unevenness.

【0023】[0023]

【実施例2】図2は本発明の特徴を模式的に表した図で
ある。
[Embodiment 2] FIG. 2 is a diagram schematically showing the features of the present invention.

【0024】同図において1,2はダイを構成するブレ
ード、3,4は洗浄液吐出ノズル、5はバキューム兼廃
液路、6は通気性のあるブロック、7は緩衝性を持つ高
吸収性クロスである。
In the figure, 1 and 2 are blades constituting a die, 3 and 4 are cleaning liquid discharge nozzles, 5 is a vacuum / waste liquid passage, 6 is a breathable block, and 7 is a highly absorbent cloth having cushioning properties. is there.

【0025】ダイヘッドに付着したコーティング材料の
吸引除去の方法として図2に示すような、ヘッドより短
い吸引ブロックを使用した。短い吸引ブロックを使用し
た場合、ヘッド尖端をスキャンするように拭き取るた
め、長尺のヘッドに対応ができる。さらに、ブロックの
外側に洗浄液吐出ノズルを設けヘッドに付着したコーテ
ィング材料に洗浄液をかけてから拭き取り吸引すること
が可能となる。さらに図2に示すようにヘッドの尖端形
状に合致するように切り欠きヘッド尖端側面のコーティ
ング材料を吸引する。この様な機構でダイヘッド尖端に
付着したコーティング材料の吸引除去を施すと、ダイヘ
ッドが長尺の場合でもダイヘッドに付着したコーティン
グ材料は洗浄され、コーティング前の状態にリフレッシ
ュされる。このヘッドを用いて連続塗布の動作を行う
と、筋ムラ等のない塗布が可能となった。
As a method of removing the coating material adhering to the die head by suction, a suction block shorter than the head as shown in FIG. 2 was used. When a short suction block is used, the tip of the head is wiped off like scanning so that it can be used for a long head. Further, a cleaning liquid discharge nozzle is provided outside the block, and the cleaning liquid can be applied to the coating material attached to the head and then wiped and sucked. Further, as shown in FIG. 2, the coating material on the tip side surface of the cutout head is sucked so as to match the tip shape of the head. When the coating material attached to the tip of the die head is sucked and removed by such a mechanism, the coating material attached to the die head is washed and refreshed to the state before coating even when the die head is long. When the continuous coating operation was performed using this head, it was possible to perform coating without stripe unevenness.

【0026】[0026]

【実施例3】図3は本発明の特徴を模式的に表した図で
ある。
[Embodiment 3] FIG. 3 is a diagram schematically showing the characteristics of the present invention.

【0027】同図において1,2はダイを構成するブレ
ード、3,4は洗浄液吐出ノズル、5はバキューム兼廃
液路、6は通気性のあるローラ、7は緩衝性を持つ高吸
収性クロスである。
In the figure, 1 and 2 are blades constituting a die, 3 and 4 are cleaning liquid discharge nozzles, 5 is a vacuum / waste liquid passage, 6 is a breathable roller, and 7 is a highly absorbent cloth having a cushioning property. is there.

【0028】ダイヘッドに付着したコーティング材料の
吸引除去の方法として図3に示すような、吸引ローラを
使用した。吸引ローラを使用した場合、ローラをヘッド
尖端に押し付け回転させ拭き取るため、正転、逆転を繰
り返し拭き取るため、ヘッド尖端側面に付着したコーテ
ィング材料を簡単に吸引除去することが可能となる。こ
の様な機構でダイヘッド尖端に付着したコーティング材
料の吸引除去を施すと、ダイヘッドが長尺の場合でもダ
イヘッドに付着したコーティング材料は洗浄され、コー
ティング前の状態にリフレッシュされる。このヘッドを
用いて連続塗布の動作を行うと、筋ムラ等のない塗布が
可能となった。
A suction roller as shown in FIG. 3 was used as a method for removing the coating material adhering to the die head by suction. When a suction roller is used, the roller is pressed against the tip of the head and rotated to wipe it off, so that the coating material adhering to the side surface of the tip of the head can be easily sucked and removed because it is repeatedly wiped forward and backward. When the coating material attached to the tip of the die head is sucked and removed by such a mechanism, the coating material attached to the die head is washed and refreshed to the state before coating even when the die head is long. When the continuous coating operation was performed using this head, it was possible to perform coating without stripe unevenness.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明に係わる洗浄方法及びその洗浄機
構を有する塗布装置は、 1.塗布終了時又はダミー吐出終了時のダイヘッドの洗
浄及びリフレッシュを次塗布に影響なきところまで行う
ことができる。 2.コーティング材料が高粘度かつ乾燥性の高い材料で
ある場合でも洗浄し、残留物を吸引除去することが可能
となる。 3.洗浄ブロック又はローラを自己洗浄リフレッシュし
継続的に使用することができ、コーティング材料の連続
塗布を可能とする。 といった効果が得られる。故に、このようなダイヘッド
先端の洗浄方法、及び前述の洗浄機構を有する塗膜装置
を用いると、デバイス製造に置いて高度な膜形成が可能
となり、安価で高品位なデバイスの大量生産が可能とな
る。
The cleaning method and the coating apparatus having the cleaning mechanism according to the present invention include: Cleaning and refreshing of the die head at the end of coating or at the end of dummy ejection can be performed up to a point where there is no effect on the next coating. 2. Even when the coating material is a highly viscous and highly dry material, it is possible to wash and remove the residue by suction. 3. The cleaning block or roller can be self-cleaning refreshed and continuously used, allowing continuous application of coating material. Such an effect can be obtained. Therefore, by using such a die head tip cleaning method and a coating film apparatus having the above-described cleaning mechanism, it is possible to perform advanced film formation in device manufacturing, and it is possible to mass-produce inexpensive and high-quality devices. Become.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の特徴を模式的に表した図であ
る。
FIG. 1 is a diagram schematically showing the features of the present invention.

【図2】図2は本発明の特徴を模式的に表した図であ
る。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the characteristics of the present invention.

【図3】図3は本発明の特徴を模式的に表した図であ
る。
FIG. 3 is a diagram schematically showing the characteristics of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ブレード 3,4 洗浄液吐出ノズル 5 バキューム兼廃液路 6 ブロック(ローラ) 7 高吸収性クロス 1, 2 blade 3,4 Cleaning liquid discharge nozzle 5 Vacuum and waste liquid 6 blocks (roller) 7 Super absorbent cloth

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F041 AA02 AA06 AB01 BA59 BA60 CA02 CA28 4F042 AA07 AA10 CC01 CC03 CC04 CC07 CC08 CC11 CC14 CC15 DA01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4F041 AA02 AA06 AB01 BA59 BA60                       CA02 CA28                 4F042 AA07 AA10 CC01 CC03 CC04                       CC07 CC08 CC11 CC14 CC15                       DA01

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも2枚のブレードにより形成さ
れたスリットを有する押し出し型(ダイ)を備え、スリ
ットからコーティング材料を押し出し、それと同時にダ
イもしくは基板を平行移動させ基板上に液膜を形成する
塗布装置において、 薬液塗布後、若しくは薬液塗布直前に上記ダイの液吐出
部分近傍に残留している薬液を吸引除去することを特徴
とする塗布装置。
1. An application method comprising an extrusion die having a slit formed by at least two blades, extruding a coating material from the slit, and at the same time moving the die or the substrate in parallel to form a liquid film on the substrate. The coating device is characterized in that the chemical liquid remaining in the vicinity of the liquid discharge portion of the die is removed by suction after the chemical liquid application or just before the chemical liquid application.
【請求項2】 前記薬液を吸引除去する機構が薬液を吸
収するブロック又はローラを有しており、これらがダイ
ヘッド尖端及び側面と接触することにより前記ダイの液
吐出部分近傍の残留薬液を除去することを特徴とする請
求項1に記載の塗布装置。
2. The mechanism for sucking and removing the chemical liquid has a block or a roller for absorbing the chemical liquid, and the residual chemical liquid in the vicinity of the liquid discharge portion of the die is removed by making contact with the tip and the side surface of the die head. The coating apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記薬液吸収ブロック又はローラの中心
部をくり貫き、その部分から真空吸引し、前記ブロック
又はローラに含まれた薬液を吸出すと同時に、薬液吸収
ブロック又はローラのリフレッシュ、及び薬液の吸引除
去を行うことを特徴とする請求項2に記載の塗布装置。
3. The chemical absorption block or roller is bored through the central portion thereof, and vacuum suction is performed from that portion to suck out the chemical contained in the block or roller, and at the same time, the chemical absorption block or roller is refreshed and the chemical is The coating device according to claim 2, wherein the suction removal is performed.
【請求項4】 前記洗浄ブロック又はローラは中心部か
ら真空吸引し、SUSの焼成体のような単なる多孔構造
体で薬液を吸引除去することを特徴とする請求項3に記
載の塗布装置。
4. The coating apparatus according to claim 3, wherein the cleaning block or the roller is vacuum-sucked from the central portion, and the chemical solution is sucked and removed by a simple porous structure such as a sintered body of SUS.
【請求項5】 前記ダイヘッド尖端に薬液の主溶媒等を
主成分とした洗浄液等をかけながら薬液を吸引除去する
ことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
5. The coating apparatus according to claim 1, wherein the chemical liquid is sucked and removed while applying a cleaning liquid containing a main solvent of the chemical liquid as a main component to the tip of the die head.
【請求項6】 前記薬液吸収ブロック又はローラに洗浄
液を含ませダイヘッドに付着した薬液を溶解しながら吸
引除去することを特徴とする請求項2に記載の塗布装
置。
6. The coating apparatus according to claim 2, wherein a cleaning liquid is included in the chemical liquid absorption block or the roller, and the chemical liquid adhering to the die head is dissolved and sucked and removed.
【請求項7】 前記洗浄ブロック又はローラ自体に洗浄
液をかけながら洗浄ブロック又はローラの中心から真空
吸引することで、ブロック内に残留している固形分や不
要物を自己洗浄し、ブロック自体をリフレッシュできる
機構を有することを特徴とする請求項5に記載の塗布装
置。
7. A vacuum is suctioned from the center of the cleaning block or roller while applying a cleaning liquid to the cleaning block or roller itself, thereby self-cleaning the solid content and unnecessary substances remaining in the block and refreshing the block itself. The coating apparatus according to claim 5, which has a mechanism capable of performing the coating.
【請求項8】 前記薬液吸収ブロックにダイ尖端と合致
する形状の溝加工を施し、吸収ブロックとダイ尖端を密
着させた状態でブロックをスキャン若しくは陽動させ、
ダイヘッドに付着した薬液を吸引除去することを特徴と
する請求項2に記載の塗布装置。
8. The chemical solution absorption block is grooved in a shape matching the die tip, and the block is scanned or moved in a state where the absorption block and the die tip are in close contact with each other,
The coating device according to claim 2, wherein the chemical liquid attached to the die head is removed by suction.
【請求項9】 前記薬液吸収ブロック又はローラを用い
洗浄液を使用して薬液除去中にスリットから薬液を微量
吐出し、毛管現象等で洗浄液がスリット内に侵入するこ
とを防止し、このとき吐出させた薬液及び洗浄液を吸引
除去しながら洗浄することを特徴とする請求項2に記載
の塗布装置。
9. The chemical liquid absorption block or roller is used to discharge a small amount of the chemical liquid from the slit during the removal of the chemical liquid by using the cleaning liquid to prevent the cleaning liquid from entering the slit due to a capillary phenomenon or the like. The coating device according to claim 2, wherein the coating liquid is washed while suctioning and removing the chemical liquid and the cleaning liquid.
【請求項10】 請求項1〜9に記載の洗浄をコーティ
ング毎、一定時間毎に行い連続的にコーティングするこ
とを特徴とした塗布方法。
10. A coating method, characterized in that the cleaning according to any one of claims 1 to 9 is performed every coating and at regular intervals to continuously coat.
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