JP2003258063A - Substrate treatment apparatus - Google Patents

Substrate treatment apparatus

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JP2003258063A
JP2003258063A JP2002061015A JP2002061015A JP2003258063A JP 2003258063 A JP2003258063 A JP 2003258063A JP 2002061015 A JP2002061015 A JP 2002061015A JP 2002061015 A JP2002061015 A JP 2002061015A JP 2003258063 A JP2003258063 A JP 2003258063A
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boat
substrate
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substrate holder
mounting
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和広 盛満
Takesato Shibata
剛吏 柴田
Tatsuhisa Matsunaga
建久 松永
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a substrate-retaining tool from easily falling down and from being damaged in a substrate treatment apparatus that has a plurality of substrate-retaining tools and the replacement function of the substrate- retaining tool. <P>SOLUTION: The substrate treatment apparatus is equipped with a treatment chamber for treating a substrate, the substrate-retaining tool 13 for retaining the substrate in the treatment chamber, a mount section 12 for mounting the substrate-retaining tool, a lock member 50 that is relatively rotatably provided to the mount section, and can be engaged with and disengaged with the substrate-retaining tool by relative rotation, and a rotary section 32 for relatively rotating the lock member and the mount section. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はシリコンウェーハ等
の被処理基板に対して、CVD、ドライエッチング、ス
パッタ等所要の処理を行う基板処理装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing a required process such as CVD, dry etching and sputtering on a substrate to be processed such as a silicon wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7、図8に於いて、従来の縦型反応炉
を具備する基板処理装置、特に2ボート交換式の基板処
理装置を説明する。
2. Description of the Related Art A substrate processing apparatus equipped with a conventional vertical reactor, particularly a two-boat exchange type substrate processing apparatus will be described with reference to FIGS.

【0003】筐体1の前面にはカセットステージ2が設
けられ、該カセットステージ2はシャッタ3を介して前
記筐体1の内部と連通している。
A cassette stage 2 is provided on the front surface of the housing 1, and the cassette stage 2 communicates with the inside of the housing 1 via a shutter 3.

【0004】該筐体1の内部前方に、前記カセットステ
ージ2と対向してカセットオープナー4が設けられ、該
カセットオープナー4の上方にはカセットストッカ5が
設けられ、該カセットストッカ5、前記カセットオープ
ナー4と前記カセットステージ2間にはカセットローダ
6が設けられている。
A cassette opener 4 is provided in front of the inside of the housing 1 so as to face the cassette stage 2. A cassette stocker 5 is provided above the cassette opener 4, and the cassette stocker 5 and the cassette opener are provided. A cassette loader 6 is provided between the cassette stage 4 and the cassette stage 2.

【0005】前記筐体1の内部後方一側にボート昇降手
段であるボートエレベータ7が設けられ、該ボートエレ
ベータ7から水平に延びる昇降アーム8にはシールキャ
ップ9が設けられ、該シールキャップ9は、処理室を形
成する反応炉11の炉口を閉塞する。前記シールキャッ
プ9にはボート載置部12(後述)が設けられ、該ボー
ト載置部12に被処理基板(以下ウェーハ)10を水平
姿勢で多段に保持する基板保持具(以下ボート)13が
載置され、前記ボート載置部12は前記ボート13を回
転可能となっている。
A boat elevator 7 which is a boat elevating means is provided on one rear side of the inside of the casing 1, and a raising and lowering arm 8 extending horizontally from the boat elevator 7 is provided with a seal cap 9 which is a seal cap 9. The furnace opening of the reaction furnace 11 forming the processing chamber is closed. The seal cap 9 is provided with a boat mounting portion 12 (described later), and a substrate holder (hereinafter, boat) 13 for holding a substrate to be processed (hereinafter, wafer) 10 in a horizontal posture in multiple stages is provided on the boat mounting portion 12. The boat mounting portion 12 is mounted so that the boat 13 can rotate.

【0006】前記ボートエレベータ7に対向して、前記
筐体1の内部後方他側にはボート交換装置14が設けら
れ、該ボート交換装置14、前記ボートエレベータ7と
前記カセットオープナー4との間に基板移載機15が設
けられている。
A boat exchanging device 14 is provided on the other inner rear side of the casing 1 so as to face the boat elevator 7, and between the boat exchanging device 14, the boat elevator 7 and the cassette opener 4. A substrate transfer machine 15 is provided.

【0007】前記カセットステージ2は図示しない外部
搬送装置及び前記カセットローダ6間でカセット16の
授受を行うものであり、前記カセットローダ6は横行、
昇降、進退可能であり、前記カセットステージ2のカセ
ット16を前記カセットオープナー4、カセットストッ
カ5に移載するものである。前記カセットオープナー4
は、前記カセット16の蓋を開閉する。
The cassette stage 2 transfers and receives the cassette 16 between an external transfer device (not shown) and the cassette loader 6, and the cassette loader 6 traverses.
It can be moved up and down and moved back and forth, and the cassette 16 of the cassette stage 2 is transferred to the cassette opener 4 and the cassette stocker 5. The cassette opener 4
Opens and closes the lid of the cassette 16.

【0008】前記基板移載機15は昇降、進退、回転可
能であり、前記カセットオープナー4上のカセット16
と前記ボート交換装置14に保持されたボート13間で
前記ウェーハ10の移載を行う。
The substrate transfer machine 15 can move up and down, advance and retreat, and rotate, and the cassette 16 on the cassette opener 4 can be moved.
Then, the wafer 10 is transferred between the boat 13 held by the boat exchanging device 14.

【0009】前記ボート交換装置14は2本のボート支
持アーム17,18を有し、該ボート支持アーム17,
18は独立して回転可能且つ昇降可能となっており、ウ
ェーハ移載位置A、ボート授受位置B、ウェーハクーリ
ング位置C間で前記ボート13の移動を行う様になって
いる。前記ウェーハ移載位置A及びウェーハクーリング
位置Cにはボート置き台19,20が設けられ、それぞ
れに前記ボート13が載置される。
The boat exchanging device 14 has two boat supporting arms 17 and 18, and the boat supporting arms 17 and 18,
Reference numeral 18 is independently rotatable and can be moved up and down, and the boat 13 is moved between a wafer transfer position A, a boat transfer position B, and a wafer cooling position C. Boat mounts 19 and 20 are provided at the wafer transfer position A and the wafer cooling position C, and the boat 13 is mounted on each of them.

【0010】前記ボート載置部12は前記ボート授受位
置Bで未処理ウェーハ10を保持したボート13を前記
ボート交換装置14から受取り、前記ボートエレベータ
7により前記ボート13が前記反応炉11の処理室に装
入される。
The boat mounting portion 12 receives the boat 13 holding the unprocessed wafers 10 at the boat transfer position B from the boat exchanging device 14, and the boat elevator 7 causes the boat 13 to move the boat 13 to the processing chamber of the reaction furnace 11. Is charged to.

【0011】該反応炉11では前記ウェーハ10が加熱
され、所要の処理ガスが処理室に導入され基板処理され
る。又、前記ボート13はウェーハ処理中成膜の均一性
を向上させる為回転される。
In the reaction furnace 11, the wafer 10 is heated and a required processing gas is introduced into the processing chamber to process the substrate. The boat 13 is rotated during the wafer processing to improve the uniformity of film formation.

【0012】処理が完了すると前記ボートエレベータ7
は前記反応炉11から前記ボート13を前記ボート授受
位置Bに引出し、前記ボート13を前記ボート交換装置
14に受渡す。
When the processing is completed, the boat elevator 7
Draws the boat 13 from the reaction furnace 11 to the boat transfer position B, and transfers the boat 13 to the boat exchange device 14.

【0013】処理済ウェーハ10を保持するボート13
は前記ウェーハクーリング位置Cに移動され、前記ボー
ト置き台20に載置され、所定の温度となる迄冷却され
る。その間、未処理ウェーハ10を保持するボート13
が前記ウェーハ移載位置Aより前記ボート授受位置Bに
移動され、前記ボート載置部12に受渡され、前記ボー
トエレベータ7により前記反応炉11に装入される。
A boat 13 for holding processed wafers 10
Is moved to the wafer cooling position C, placed on the boat stand 20 and cooled to a predetermined temperature. Meanwhile, the boat 13 holding the unprocessed wafer 10
Is moved from the wafer transfer position A to the boat transfer position B, is transferred to the boat mounting portion 12, and is loaded into the reaction furnace 11 by the boat elevator 7.

【0014】前記ウェーハクーリング位置Cで処理済ウ
ェーハ10が所定の温度迄冷却されると、前記ボート交
換装置14は処理済ウェーハ10を保持するボート13
を前記ウェーハ移載位置A迄移動し、前記ボート置き台
19に載置する。
When the processed wafer 10 is cooled to a predetermined temperature at the wafer cooling position C, the boat exchanging device 14 causes the boat 13 holding the processed wafer 10 to be held.
Is moved to the wafer transfer position A and placed on the boat stand 19.

【0015】前記基板移載機15は前記ウェーハ移載位
置Aにあるボート13から処理済ウェーハ10を前記カ
セットオープナー4上のカセット16に払出す。処理済
ウェーハ10が前記カセット16に装填されると該カセ
ット16は前記カセットローダ6により前記カセットス
テージ2へ搬送され、更に外部搬送装置により搬出され
る。
The substrate transfer machine 15 delivers the processed wafer 10 from the boat 13 at the wafer transfer position A to the cassette 16 on the cassette opener 4. When the processed wafer 10 is loaded in the cassette 16, the cassette 16 is transferred to the cassette stage 2 by the cassette loader 6 and further transferred by an external transfer device.

【0016】前記カセットローダ6により前記カセット
オープナー4に未処理ウェーハ10が装填されたカセッ
ト16が移載され、前記基板移載機15は前記カセット
16から未処理ウェーハ10を前記ウェーハ移載位置A
にある空のボート13に移載する。
The cassette 16 loaded with the unprocessed wafer 10 is transferred to the cassette opener 4 by the cassette loader 6, and the substrate transfer machine 15 transfers the unprocessed wafer 10 from the cassette 16 to the wafer transfer position A.
Transfer to an empty boat 13 at.

【0017】而して、前記ウェーハ10の処理が繰返し
実行される。
Thus, the processing of the wafer 10 is repeatedly executed.

【0018】上記基板処理装置では2つのボートを交換
するという工程があり、前記ボート載置部12、前記ボ
ート置き台19,20は前記ボート13が容易に授受で
きる様、該ボート13が単に載置されるのみの構造とな
っている。
In the substrate processing apparatus, there is a step of exchanging two boats, and the boat mounting section 12 and the boat holders 19 and 20 are simply mounted on the boat 13 so that the boat 13 can be easily exchanged. The structure is only placed.

【0019】図9により前記ボート載置部12の構造に
ついて説明する。
The structure of the boat mounting portion 12 will be described with reference to FIG.

【0020】前記シールキャップ9は前記昇降アーム8
に設けられ、前記ボート13を前記反応炉11に装入時
は該反応炉11の炉口を気密に閉塞する。前記昇降アー
ム8の下面にボート回転用モータ21が設けられてい
る。該ボート回転用モータ21の回転軸22は前記昇降
アーム8、シールキャップ9を気密に貫通し、上端部が
前記ボート載置部12に固着されている。該ボート載置
部12の中心には凹部23が形成されている。前記ボー
ト13のボート底板24には短円筒状のボート座25が
形成され、該ボート座25の中央には前記凹部23と契
合する凸部26が形成されている。
The seal cap 9 is the lifting arm 8
When the boat 13 is charged into the reaction furnace 11, the furnace opening of the reaction furnace 11 is hermetically closed. A boat rotation motor 21 is provided on the lower surface of the elevating arm 8. A rotation shaft 22 of the boat rotation motor 21 penetrates the elevating arm 8 and the seal cap 9 in an airtight manner, and an upper end portion thereof is fixed to the boat mounting portion 12. A recess 23 is formed at the center of the boat mounting portion 12. A short cylindrical boat seat 25 is formed on the boat bottom plate 24 of the boat 13, and a convex portion 26 that engages with the concave portion 23 is formed at the center of the boat seat 25.

【0021】而して、前記ボート13が前記ボート載置
部12に載置され、前記凸部26が前記凹部23に契合
することで、前記ボート13が前記ボート載置部12に
対して芯合せされる。前記ボート回転用モータ21を駆
動することで、前記回転軸22、ボート載置部12を介
して前記ボート13が回転される。
The boat 13 is mounted on the boat mounting portion 12, and the convex portion 26 engages with the concave portion 23, so that the boat 13 is aligned with the boat mounting portion 12. Be matched. By driving the boat rotation motor 21, the boat 13 is rotated via the rotation shaft 22 and the boat mounting portion 12.

【0022】図10により前記ボート置き台19の構造
を説明する。尚、前記ボート置き台20の構造は前記ボ
ート置き台19と同一である。
The structure of the boat stand 19 will be described with reference to FIG. The structure of the boat stand 20 is the same as that of the boat stand 19.

【0023】前記筐体1の床面に固着される座板27に
複数の支柱28が立設され、該支柱28にボート受座2
9が支持されている。該ボート受座29の上面には前記
ボート底板24の凸部26と契合する凹部31が形成さ
れている。
A plurality of struts 28 are erected on a seat plate 27 fixed to the floor surface of the housing 1, and the boat seat 2 is mounted on the struts 28.
9 are supported. On the upper surface of the boat receiving seat 29, a concave portion 31 that engages with the convex portion 26 of the boat bottom plate 24 is formed.

【0024】前記ボート13は前記ボート受座29に載
置され、前記凸部26が前記凹部31に契合すること
で、位置合せされる。
The boat 13 is mounted on the boat receiving seat 29, and the projection 26 engages with the recess 31 to be aligned.

【0025】[0025]

【発明が解決しようとする課題】上記した基板処理装置
では2つのボート13,13により処理が実行されるの
で、1つのボートに対してウェーハの処理が行われてい
る時に、もう1つのボートに対してウェーハの移載作業
が行われるので、時間的に無駄がなく、スループットが
向上するという長所がある。その一方で、前記ボート1
3の交換作業が必要であり、前記した様に該ボート13
は前記ボート載置部12に単に載置されるのみの構造と
なっている。又、同様に前記ボート置き台19,20に
ついても単に載置するのみの構造となっている。
In the above-described substrate processing apparatus, since the processing is executed by the two boats 13 and 13, when the wafer processing is being performed on one boat, the processing is performed on the other boat. On the other hand, since the wafer transfer operation is performed, there is an advantage that the time is not wasted and the throughput is improved. On the other hand, the boat 1
It is necessary to replace the boat 3 as described above.
Has a structure that is simply mounted on the boat mounting portion 12. Similarly, the boat holders 19 and 20 are simply mounted.

【0026】従って、メンテナンス時に作業者が誤って
前記ボート13にぶつかった場合には、倒れてしまう可
能性があり、又地震等大きな外力が作用した場合倒れて
しまう可能性もあった。
Therefore, if the operator accidentally hits the boat 13 during maintenance, the operator may fall, and if a large external force such as an earthquake acts, the operator may also fall.

【0027】ボートは石英製で壊れ易く、精密加工品で
高価であり、倒れて損傷することは大きな損害となる。
The boat is made of quartz, is fragile, is a precision-processed product, and is expensive, and falling over and damaging it is a great loss.

【0028】本発明は斯かる実情に鑑み、ボートが簡単
に倒れない様にし、ボートの破損を防止するものであ
る。
In view of the above situation, the present invention prevents the boat from easily falling and prevents damage to the boat.

【0029】[0029]

【課題を解決するための手段】本発明は、基板を処理す
る処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具と、
該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相
対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具に
係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置
部とを相対回転させる回転部とを具備する基板処理装置
に係り、又基板を多段に保持する複数の基板保持具と、
該基板保持具に保持された基板を処理する処理室と、前
記基板保持具を載置部に載置し前記処理室に前記基板保
持具を装入、引出しする昇降手段と、前記基板保持具を
載置する載置部を有する少なくとも1つの置き台と、該
置き台と前記基板保持具昇降手段との間で基板保持具の
交換を行う交換装置とを具備し、前記基板保持具昇降手
段の載置部及び前記置き台の載置部の少なくとも1つ
に、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転
により前記基板保持具に係合解除可能なロック部材と、
該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と
を設けた基板処理装置に係るものである。
According to the present invention, there is provided a processing chamber for processing a substrate, a substrate holder for holding the substrate in the processing chamber,
A mounting portion on which the substrate holder is mounted, a lock member provided so as to be rotatable relative to the mounting portion and disengageable from the substrate holder by relative rotation, the lock member and the mounting member. A plurality of substrate holders for holding the substrates in multiple stages, and
A processing chamber for processing the substrate held by the substrate holder, an elevating means for mounting the substrate holder on a mounting portion and loading and unloading the substrate holder into the processing chamber, and the substrate holder. The substrate holder elevating means includes at least one table having a placing part for mounting the substrate holder, and an exchanging device for exchanging the substrate holder between the table and the substrate holder elevating means. At least one of the placing part and the placing part of the stand, and a lock member which is provided so as to be rotatable relative to the placing part and which can be disengaged from the substrate holder by relative rotation.
The present invention relates to a substrate processing apparatus provided with a rotating unit that relatively rotates the lock member and the placing unit.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0031】尚、本実施の形態に於いて、本発明が実施
される基板処理装置の基本的な構成は図7、図8と同様
であるので説明を省略する。又、図1はボートエレベー
タのボート載置部12を示しており、図1に於いて図9
で示したものと同等のものには同符号を付してある。
In the present embodiment, the basic structure of the substrate processing apparatus in which the present invention is carried out is the same as that shown in FIGS. Further, FIG. 1 shows a boat mounting portion 12 of the boat elevator, and in FIG.
The same parts as those shown in are given the same reference numerals.

【0032】ボートエレベータ7(図7参照)から水平
方向に延びた昇降アーム8(図7参照)にシールキャッ
プ33が設けられている。該シールキャップ33の下側
にはボートロック機構を具備したボート回転機構32が
設けられている。
A seal cap 33 is provided on the elevating arm 8 (see FIG. 7) extending horizontally from the boat elevator 7 (see FIG. 7). Below the seal cap 33, a boat rotation mechanism 32 having a boat lock mechanism is provided.

【0033】前記シールキャップ33に下面にモータホ
ルダ34が固着され、該モータホルダ34の下面に減速
器35が取付けられている。該減速器35、前記モータ
ホルダ34を貫通する中空の外回転軸36が軸受37を
介して回転自在に設けられ、ボート回転軸38が前記シ
ールキャップ33を気密に貫通し、前記ボート回転軸3
8の上端にはボート載置盤39が固着されている。該ボ
ート載置盤39の上面には放射状3方向にテーパ溝41
が穿設され、ボート底板24の下面の円周三等分した位
置に位置決めピン42が突設され、該位置決めピン42
と前記テーパ溝41とが嵌合し、前記ボート載置盤39
に対するボート13の位置決めがなされる様になってい
る。又前記ボート底板24の底面には後述する様にロッ
ク穴40が設けられている。
A motor holder 34 is fixed to the lower surface of the seal cap 33, and a speed reducer 35 is attached to the lower surface of the motor holder 34. A hollow outer rotary shaft 36 that penetrates the speed reducer 35 and the motor holder 34 is rotatably provided via a bearing 37, and a boat rotary shaft 38 penetrates the seal cap 33 in an airtight manner, and the boat rotary shaft 3
A boat mounting board 39 is fixed to the upper end of 8. On the upper surface of the boat mounting board 39, taper grooves 41 are formed in three radial directions.
And a positioning pin 42 is projectingly provided at a position on the lower surface of the boat bottom plate 24 that is divided into three equal parts on the circumference.
The taper groove 41 is fitted to the boat mounting board 39
The boat 13 is positioned with respect to. A lock hole 40 is provided on the bottom surface of the boat bottom plate 24 as described later.

【0034】前記外回転軸36の前記軸受37,37間
にはウォームホイール43が嵌着され、該ウォームホイ
ール43にはウォーム44が噛合され、該ウォーム44
は図示しないボート回転モータ(図示せず)の出力軸4
5に軸着されている。前記外回転軸36の回転位置を検
出する回転検出器(図示せず)が設けられ、前記外回転
軸36のシールキャップ33に対する回転位置が検出さ
れる様になっており、又前記回転検出器は前記外回転軸
36、即ち前記ボート載置盤39の基準位置を検出可能
となっている。
A worm wheel 43 is fitted between the bearings 37, 37 of the outer rotary shaft 36, and a worm 44 is meshed with the worm wheel 43.
Is an output shaft 4 of a boat rotation motor (not shown)
It is pivoted on 5. A rotation detector (not shown) for detecting the rotation position of the outer rotation shaft 36 is provided, and the rotation position of the outer rotation shaft 36 with respect to the seal cap 33 is detected. Can detect the reference position of the outer rotation shaft 36, that is, the boat mounting plate 39.

【0035】前記外回転軸36、前記ボート回転軸38
の内部にボートロック軸46が軸受47を介して回転自
在に設けられ、又前記ボートロック軸46は気密にシー
ルされている。該ボートロック軸46は前記ボート載置
盤39より突出しており、突出端にはロック部材として
図2に見られる様な略矩形状のロックプレート50が固
着されている。前記ボートロック軸46の下端部は半円
柱状に一部が切除され、平坦面48が形成されている。
該平坦面48は前記減速器35の下面より下方に突出し
ている。
The outer rotary shaft 36 and the boat rotary shaft 38.
A boat lock shaft 46 is rotatably provided inside a bearing via a bearing 47, and the boat lock shaft 46 is hermetically sealed. The boat lock shaft 46 projects from the boat mounting board 39, and a substantially rectangular lock plate 50 as shown in FIG. 2 is fixed to the projecting end as a lock member. A part of the lower end of the boat lock shaft 46 is cut off in a semi-cylindrical shape to form a flat surface 48.
The flat surface 48 projects downward from the lower surface of the speed reducer 35.

【0036】前記ボートロック軸46の下端部には捩り
コイルバネであるロックバネ49が外嵌され、該ロック
バネ49の一端は中心側に折曲げられ、前記平坦面48
に係合され、他端は接線方向に延出し、前記外回転軸3
6に係合されている。特に図示していないが、前記ボー
トロック軸46と前記外回転軸36間には機械的にスト
ッパが設けられ、前記ロックバネ49は前記ボートロッ
ク軸46と前記外回転軸36とが確実に当接する様に初
期撓みが与えられている。
A lock spring 49, which is a torsion coil spring, is externally fitted to the lower end of the boat lock shaft 46, and one end of the lock spring 49 is bent toward the center to form the flat surface 48.
And the other end extends tangentially,
6 is engaged. Although not particularly shown, a stopper is mechanically provided between the boat lock shaft 46 and the outer rotation shaft 36, and the boat lock shaft 46 and the outer rotation shaft 36 are reliably brought into contact with each other by the lock spring 49. So the initial deflection is given.

【0037】前記減速器35の下面にはスライド軸受5
1を介してロックロッド52が前記ボートロック軸46
の軸心に直交する方向に摺動自在に設けられ、前記ロッ
クロッド52の先端は前記平坦面48に当接可能となっ
ており、前記ロックロッド52の基端はシリンダ、ソレ
ノイド等、リニア駆動器であるロックアクチュエータ5
3に連結されている。
A slide bearing 5 is provided on the lower surface of the speed reducer 35.
1 through the lock rod 52 to the boat lock shaft 46.
Is provided slidably in a direction orthogonal to the axis of the lock rod 52, the tip of the lock rod 52 can contact the flat surface 48, and the base end of the lock rod 52 is a linear drive such as a cylinder or a solenoid. Actuator 5 which is a container
It is connected to 3.

【0038】而して、該ロックアクチュエータ53によ
り前記ロックロッド52が進退され、該ロックロッド5
2の先端が前記平坦面48に当接離反する様になってお
り、前記ロックロッド52が前記平坦面48に当接した
状態では、前記ボートロック軸46の回転が拘束され
る。
Then, the lock rod 53 is advanced and retracted by the lock actuator 53, and the lock rod 5 is moved.
When the lock rod 52 is in contact with the flat surface 48, the rotation of the boat lock shaft 46 is restricted.

【0039】前記ロックプレート50、ボートロック軸
46、ロックバネ49、ロックロッド52、ロックアク
チュエータ53等はボートロック機構を構成する。
The lock plate 50, the boat lock shaft 46, the lock spring 49, the lock rod 52, the lock actuator 53 and the like constitute a boat lock mechanism.

【0040】尚、前記ボートロック軸46の回転を拘束
する方法としては、前記ボートロック軸46の下端に水
平方向に延びるピンを設け、該ピンの回転面に対して係
合部材を出入りさせる様にしてもよい。
As a method of restraining the rotation of the boat lock shaft 46, a pin extending horizontally is provided at the lower end of the boat lock shaft 46, and an engaging member is moved in and out with respect to the rotation surface of the pin. You may

【0041】前記ボート底板24には前記ロックプレー
ト50と係合離脱可能な前記ロック穴40が形成されて
いる。
The boat bottom plate 24 is formed with the lock hole 40 which can be engaged with and disengaged from the lock plate 50.

【0042】該ロック穴40は図3に見られる様に、前
記ボート底板24の内部に円板状の袋穴54が形成さ
れ、該袋穴54は鍵孔55によって開口されている。該
鍵孔55は前記袋穴54と同半径の2つの円弧と対向す
る平行な直線で形成された略矩形形状となっており、前
記ロックプレート50とは相似形状となっている。
As shown in FIG. 3, the lock hole 40 has a disk-shaped bag hole 54 formed inside the boat bottom plate 24, and the bag hole 54 is opened by a key hole 55. The key hole 55 has a substantially rectangular shape formed by parallel straight lines facing two arcs having the same radius as the blind hole 54, and has a similar shape to the lock plate 50.

【0043】而して、前記ロックプレート50が前記鍵
孔55を通して前記袋穴54に挿入され(図3(A)、
図3(B)参照)、前記ボート底板24に対して前記ボ
ートロック軸46が相対回転される(図3(C)参照)
ことで、前記ロックプレート50が前記鍵孔55と係合
し、前記ボート載置盤39と前記ボート底板24とが離
反しない様にロック、即ち前記ボート13が転倒しない
様にロックされる。
Then, the lock plate 50 is inserted into the bag hole 54 through the key hole 55 (FIG. 3 (A),
3B), the boat lock shaft 46 is rotated relative to the boat bottom plate 24 (see FIG. 3C).
As a result, the lock plate 50 engages with the key hole 55, and the boat mounting plate 39 and the boat bottom plate 24 are locked so as not to separate from each other, that is, the boat 13 is locked so as not to fall.

【0044】上記した様に、前記テーパ溝41と前記位
置決めピン42との嵌合により、前記ボート載置盤39
に対するボート13の回転方向の位置は決定される。
又、前記ロックロッド52が前記平坦面48に当接して
いない状態では、前記ボートロック軸46は前記ロック
バネ49の初期バネ力と、前記ボートロック軸46と前
記外回転軸36間のストッパにより前記ボートロック軸
46と前記ボート載置盤39との回転方向の位置は決定
される。
As described above, by fitting the tapered groove 41 and the positioning pin 42, the boat mounting board 39
The position of the boat 13 in the direction of rotation with respect to is determined.
Further, when the lock rod 52 is not in contact with the flat surface 48, the boat lock shaft 46 is caused by the initial spring force of the lock spring 49 and the stopper between the boat lock shaft 46 and the outer rotation shaft 36. The positions of the boat lock shaft 46 and the boat mounting plate 39 in the rotational direction are determined.

【0045】而して、該ボート載置盤39に載置された
前記ボート13のボート底板24の前記鍵孔55の方向
と前記ロックプレート50の方向とは、前記ボートロッ
ク軸46に前記ロックロッド52が係合していない状態
では、90°方向が異なる様になっている(図1参
照)。
The direction of the key hole 55 of the boat bottom plate 24 of the boat 13 mounted on the boat mounting plate 39 and the direction of the lock plate 50 are locked to the boat lock shaft 46. The 90 ° direction is different when the rod 52 is not engaged (see FIG. 1).

【0046】図4により、前記ボート載置部12のボー
トのロック、解除作動について説明する。
The operation of locking and releasing the boat on the boat mounting portion 12 will be described with reference to FIG.

【0047】先ず、前記ボート載置盤39に前記ボート
13を載置する場合を説明する。
First, the case of mounting the boat 13 on the boat mounting board 39 will be described.

【0048】載置する準備として、前記ロックアクチュ
エータ53が駆動され、前記ロックロッド52が突出さ
れ、前記平坦面48に当接する。前記ロックロッド52
が前記平坦面48に当接することで、前記ボートロック
軸46の回転がロックされる。
In preparation for mounting, the lock actuator 53 is driven, the lock rod 52 is projected, and abuts on the flat surface 48. The lock rod 52
Is brought into contact with the flat surface 48, the rotation of the boat lock shaft 46 is locked.

【0049】該ボートロック軸46の回転がロックされ
た状態で、前記ボート回転モータ(図示せず)が駆動さ
れ、前記ウォーム44、前記ウォームホイール43、前
記外回転軸36、前記ボート回転軸38を介して前記ボ
ート載置盤39が前記ロックプレート50に対して90
°相対回転される。回転方向は前記ロックバネ49を更
に撓ませる方向である。前記ボート載置盤39に対して
一義的に前記ボート13の位置、方向が決定されるが、
この時の該ボート13のボート底板24の鍵孔55の方
向は前記ロックプレート50の方向と合致している(図
4(A)参照)。
With the rotation of the boat lock shaft 46 locked, the boat rotation motor (not shown) is driven to drive the worm 44, the worm wheel 43, the outer rotation shaft 36, and the boat rotation shaft 38. The boat mounting board 39 with respect to the lock plate 50
° Relative rotation. The rotation direction is a direction in which the lock spring 49 is further bent. The position and direction of the boat 13 are uniquely determined with respect to the boat mounting board 39.
At this time, the direction of the key hole 55 of the boat bottom plate 24 of the boat 13 matches the direction of the lock plate 50 (see FIG. 4 (A)).

【0050】前記ボート13を前記ボート載置盤39に
載置する。前記ロックプレート50が前記鍵孔55を通
って前記袋穴54に挿入される(図4(B)参照)。
The boat 13 is mounted on the boat mounting board 39. The lock plate 50 is inserted into the bag hole 54 through the key hole 55 (see FIG. 4B).

【0051】前記ボート回転モータ(図示せず)が上記
回転方向とは逆の方向に駆動される。前記ボートロック
軸46は前記ロックロッド52により依然として回転が
拘束されており、前記ボート載置盤39が前記ロックプ
レート50に対して90°逆方向に相対回転される。回
転方向は前記ロックバネ49を復元させる方向である。
前記ボート載置盤39が90°逆方向に回転されると前
記ロックアクチュエータ53により前記ロックロッド5
2が後退され、前記ボートロック軸46はストッパ(図
示せず)で回転方向の位置が決定される。この状態で
は、上記した様に前記ロックプレート50と鍵孔55と
は90°方向が異なり、該鍵孔55に前記ロックプレー
ト50が係合した状態、即ち前記ボート13がロックさ
れた状態となる(図4(C)参照)。
The boat rotation motor (not shown) is driven in a direction opposite to the above rotation direction. The boat lock shaft 46 is still restrained from rotating by the lock rod 52, and the boat mounting plate 39 is rotated relative to the lock plate 50 by 90 ° in the opposite direction. The rotation direction is the direction in which the lock spring 49 is restored.
When the boat mounting board 39 is rotated 90 ° in the opposite direction, the lock actuator 53 causes the lock rod 5 to rotate.
2 is retracted, and the position of the boat lock shaft 46 in the rotational direction is determined by a stopper (not shown). In this state, as described above, the lock plate 50 and the key hole 55 have different 90 ° directions, and the lock plate 50 is engaged with the key hole 55, that is, the boat 13 is locked. (See FIG. 4C).

【0052】前記ロックロッド52による前記ボートロ
ック軸46のロックが解除された状態では、前記ボート
ロック軸46と前記ボート底板24とは前記ロックバネ
49を介して一体化された状態であり、前記ボート回転
モータ(図示せず)により前記ボート底板24を回転す
ることで前記ボート13はロック状態が維持されて回転
する。
When the lock of the boat lock shaft 46 by the lock rod 52 is released, the boat lock shaft 46 and the boat bottom plate 24 are integrated with each other via the lock spring 49. By rotating the boat bottom plate 24 with a rotation motor (not shown), the boat 13 is rotated while maintaining the locked state.

【0053】従って、前記ボート交換装置14によるボ
ートの搬送、交換動作中、更に前記ボート13を前記反
応炉11内に装入し、ウェーハを処理中、前記ボート1
3を回転させている状態でロック状態が維持される。
Therefore, during the boat transfer and exchange operations by the boat exchanging device 14, the boat 13 is charged into the reaction furnace 11 and wafers are processed, and the boat 1
The locked state is maintained while 3 is rotated.

【0054】前記ボート載置部12に於けるロック解除
の作動としては上記作動の逆の作動により行われる。
The unlocking operation of the boat mounting portion 12 is carried out by the reverse operation of the above operation.

【0055】ここで、前記ロックプレート50を前記ボ
ート載置盤39に対して相対復帰させる為には、前記ロ
ックロッド52を後退させ、前記ロックバネ49の復元
力により、前記ボートロック軸46を逆方向に回転させ
ることもできるが、前記ボートロック軸46の急激な回
転、停止は発塵を誘発する可能性があり、上記した様
に、ボート回転モータによりゆっくり戻すのが好まし
い。
Here, in order to return the lock plate 50 relative to the boat mounting board 39, the lock rod 52 is retracted and the boat lock shaft 46 is reversed by the restoring force of the lock spring 49. Although the boat lock shaft 46 can be rotated in any direction, sudden rotation or stop of the boat lock shaft 46 may induce dust generation, and as described above, it is preferable to slowly return the boat lock shaft 46.

【0056】尚、別の実施形態として、前記ロックバネ
49、ロックロッド52、ロックアクチュエータ53等
を省略し、直接前記ボートロック軸46を前記モータホ
ルダ34、又は減速器35に固定してもよい。この場
合、前記ボートロック軸46は回転できなくなり、ボー
ト載置盤39のみが回転することとなる。つまり、前記
ボート13を前記反応炉11に装入した状態で前記ボー
ト13を回転すると、回転中は、前記ロックプレート5
0と前記鍵孔55との方向は相対的に変化し、前記ボー
ト13が1回転する間に瞬間的には2回、前記ロックプ
レート50と前記鍵孔55の方向が同じとなり、ロック
されていない状態となる。この場合、構造を簡単にでき
低コストで実現できるという利点がある。
As another embodiment, the lock spring 49, the lock rod 52, the lock actuator 53, etc. may be omitted and the boat lock shaft 46 may be directly fixed to the motor holder 34 or the speed reducer 35. In this case, the boat lock shaft 46 cannot rotate, and only the boat mounting board 39 rotates. That is, when the boat 13 is rotated with the boat 13 loaded in the reaction furnace 11, the lock plate 5 is rotated during the rotation.
The direction of 0 and the keyhole 55 changes relative to each other, and the lock plate 50 and the keyhole 55 are locked in the same direction twice during one rotation of the boat 13. There is no state. In this case, there is an advantage that the structure can be simplified and the cost can be realized.

【0057】図5、図6によりボート置き台19につい
て説明する。尚、ボート置き台20はボート置き台19
と同一構造である。
The boat stand 19 will be described with reference to FIGS. The boat stand 20 is the boat stand 19
It has the same structure as.

【0058】筐体1に取付けられるベース56に座板5
7が固定され、該座板57に立設された支柱58を介し
てボート受座59が取付けられる。該ボート受座59の
上面には放射状に3本の前記テーパ溝41が刻設され、
該テーパ溝41は前記ボート13の前記位置決めピン4
2と嵌合する様になっている。
The seat plate 5 is attached to the base 56 attached to the housing 1.
7 is fixed, and a boat seat 59 is attached via a pillar 58 standing on the seat plate 57. Three tapered grooves 41 are radially formed on the upper surface of the boat seat 59,
The taper groove 41 serves as the positioning pin 4 of the boat 13.
It is designed to fit with 2.

【0059】前記ボート受座59の中心を貫通するロッ
クシャフト61が設けられ、該ロックシャフト61の突
出する上端には前記ロックプレート50と同形状のロッ
クプレート62が固着されている。前記ロックシャフト
61の下端は、例えば回転シリンダ、モータ、ロータリ
ソレノイド等のロータリアクチュエータ63に連結され
ている。該ロータリアクチュエータ63により前記ロッ
クシャフト61を介して前記ロックプレート62が90
°回転する様になっている。
A lock shaft 61 passing through the center of the boat seat 59 is provided, and a lock plate 62 having the same shape as the lock plate 50 is fixed to the upper end of the lock shaft 61 protruding therefrom. The lower end of the lock shaft 61 is connected to a rotary actuator 63 such as a rotary cylinder, a motor or a rotary solenoid. The rotary actuator 63 causes the lock plate 62 to move through the lock shaft 61.
° It is designed to rotate.

【0060】前記ボート受座59に前記ボート13が載
置される。前記ボート受座59に対する前記ボート13
の姿勢は前記テーパ溝41と前記位置決めピン42の嵌
合により決定される。この状態での前記鍵孔55の向き
と前記ロックプレート62の向きとは一致する様にして
おく。従って、前記ロックプレート62は前記鍵孔55
を通して前記袋穴54に挿入される。前記ボート13の
載置後、前記ロータリアクチュエータ63の駆動によ
り、前記ロックプレート62が90°回転され、前記ボ
ート13が前記ボート受座59に転倒防止の為のロック
がされる。
The boat 13 is placed on the boat seat 59. The boat 13 with respect to the boat seat 59
The posture is determined by fitting the taper groove 41 and the positioning pin 42. In this state, the direction of the key hole 55 and the direction of the lock plate 62 are made to coincide with each other. Therefore, the lock plate 62 has the key hole 55.
Through the bag hole 54. After the boat 13 is placed, the lock plate 62 is rotated by 90 ° by driving the rotary actuator 63, and the boat 13 is locked on the boat seat 59 to prevent it from falling.

【0061】而して、前記ボート13はボートエレベー
タ7に保持された状態、前記ボート置き台19,20に
保持された状態のいずれの状態でも、ロックされ、転倒
防止が施された状態となる。尚、前記ボート13のロッ
クは前記ボートエレベータ7に保持された状態、或は前
記ボート置き台19,20に保持された状態のいずれか
一方についてロックする様にしてもよい。
Thus, the boat 13 is in a locked state and a fall-prevented state in both the state of being held by the boat elevator 7 and the state of being held by the boat holders 19 and 20. . The boat 13 may be locked either in the state of being held by the boat elevator 7 or in the state of being held by the boat holders 19 and 20.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、基板を
処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持
具と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対
して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保
持具に係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前
記載置部とを相対回転させる回転部とを具備するので、
又基板を多段に保持する複数の基板保持具と、該基板保
持具に保持された基板を処理する処理室と、前記基板保
持具を載置部に載置し前記処理室に前記基板保持具を装
入、引出しする昇降手段と、前記基板保持具を載置する
載置部を有する少なくとも1つの置き台と、該置き台と
前記基板保持具昇降手段との間で基板保持具の交換を行
う交換装置とを具備し、前記基板保持具昇降手段の載置
部及び前記置き台の載置部の少なくとも1つに、該載置
部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記
基板保持具に係合解除可能なロック部材と、該ロック部
材と前記載置部とを相対回転させる回転部とを設けたの
で、基板保持具を複数有する基板処理装置に於いて、基
板保持具が載置部に載置された状態での転倒が防止さ
れ、基板保持具の破損が防止されるという優れた効果を
発揮する。
As described above, according to the present invention, a processing chamber for processing a substrate, a substrate holder for holding a substrate in the processing chamber, a mounting portion for mounting the substrate holder, and Since a lock member provided so as to be rotatable relative to the mounting portion and capable of being disengaged from the substrate holder by relative rotation, and a rotating portion for relatively rotating the lock member and the mounting portion,
Also, a plurality of substrate holders for holding substrates in multiple stages, a processing chamber for processing the substrates held by the substrate holders, the substrate holders are mounted on a mounting portion, and the substrate holders are placed in the processing chambers. A lifting means for loading and unloading, a at least one stand having a placement part for placing the substrate holder, and a substrate holder exchanged between the stand and the substrate holder lifting means. An exchanging device for performing the exchange, and the substrate holder raising / lowering means is provided with at least one of a mounting portion and a mounting portion of the mounting table so as to be rotatable relative to the mounting portion. Since the holder is provided with the lock member that can be disengaged and the rotating unit that relatively rotates the lock member and the placing unit, in a substrate processing apparatus having a plurality of substrate holders, the substrate holder is The fall of the substrate holder is prevented when it is placed on the placing part, preventing it from falling over. There is exhibited an excellent effect that but is prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態の要部を示し、ボート載置
部の立断面である。
FIG. 1 is a vertical cross-section of a boat mounting portion showing a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】同前実施の形態の要部を示すボート載置部のロ
ックプレートの平面図である。
FIG. 2 is a plan view of a lock plate of a boat mounting portion showing an essential part of the embodiment.

【図3】(A)は同前ボート載置部のロックプレートと
ボート底板との関係を示す側断面図、(B)(C)は同
前ボート載置部のロックプレートとボート底板との関係
を示す平面図である。
3 (A) is a side sectional view showing the relationship between the lock plate and the boat bottom plate of the same boat mounting section, and (B) and (C) are the cross sections of the lock plate and boat bottom plate of the same boat mounting section. It is a top view which shows a relationship.

【図4】同前ボート載置部のボートロック作動を示す説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a boat lock operation of the boat mounting section.

【図5】本発明の実施の形態のボート置き台の斜視図で
ある。
FIG. 5 is a perspective view of the boat stand according to the embodiment of the present invention.

【図6】同前ボート置き台とボートとの関係を示す断面
図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the relationship between the boat stand and the boat.

【図7】基板処理装置の全体斜視図である。FIG. 7 is an overall perspective view of a substrate processing apparatus.

【図8】同前基板処理装置の平面図である。FIG. 8 is a plan view of the front substrate processing apparatus.

【図9】従来の基板処理装置のボート載置部の立断面図
である。
FIG. 9 is a vertical cross-sectional view of a boat mounting portion of a conventional substrate processing apparatus.

【図10】該従来の基板処理装置のボート置き台の立断
面図である。
FIG. 10 is a vertical sectional view of a boat stand of the conventional substrate processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 筐体 7 ボートエレベータ 8 昇降アーム 9 シールキャップ 11 反応炉 12 ボート載置部 13 ボート 14 ボート交換装置 19 ボート置き台 20 ボート置き台 39 ボート載置盤 40 ロック穴 43 ウォームホイール 44 ウォーム 46 ボートロック軸 49 ロックバネ 50 ロックプレート 52 ロックロッド 53 ロックアクチュエータ 59 ボート受座 61 ロックシャフト 62 ロックプレート 63 ロータリアクチュエータ 1 case 7 boat elevator 8 lifting arm 9 Seal cap 11 Reactor 12 Boat rest 13 boats 14 Boat exchange device 19 boat stand 20 boat stand 39 Boat mounting board 40 lock hole 43 Worm Wheel 44 Warm 46 boat lock shaft 49 Lock spring 50 lock plate 52 Lock Rod 53 Lock actuator 59 Boat seat 61 lock shaft 62 lock plate 63 rotary actuator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松永 建久 東京都中野区東中野三丁目14番20号 株式 会社日立国際電気内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA17 FA01 FA11 FA12 GA49 HA64 HA67 MA28 MA29 MA32 NA10 PA20 PA30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Takehisa Matsunaga             3-14-20 Higashi-Nakano, Nakano-ku, Tokyo Stocks             Hitachi Kokusai Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5F031 CA02 DA17 FA01 FA11 FA12                       GA49 HA64 HA67 MA28 MA29                       MA32 NA10 PA20 PA30

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を処理する処理室と、該処理室で基
板を保持する基板保持具と、該基板保持具を載置する載
置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対
回転により前記基板保持具に係合解除可能なロック部材
と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転
部とを具備することを特徴とする基板処理装置。
1. A processing chamber for processing a substrate, a substrate holder for holding a substrate in the processing chamber, a mounting portion for mounting the substrate holder, and a rotatable relative to the mounting portion. A substrate processing apparatus comprising: a lock member that is provided to be disengaged from the substrate holder by relative rotation; and a rotating unit that relatively rotates the lock member and the placing unit.
【請求項2】 基板を多段に保持する複数の基板保持具
と、該基板保持具に保持された基板を処理する処理室
と、前記基板保持具を載置部に載置し前記処理室に前記
基板保持具を装入、引出しする昇降手段と、前記基板保
持具を載置する載置部を有する少なくとも1つの置き台
と、該置き台と前記基板保持具昇降手段との間で基板保
持具の交換を行う交換装置とを具備し、前記基板保持具
昇降手段の載置部及び前記置き台の載置部の少なくとも
1つに、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対
回転により前記基板保持具に係合解除可能なロック部材
と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転
部とを設けたことを特徴とする基板処理装置。
2. A plurality of substrate holders that hold substrates in multiple stages, a processing chamber that processes the substrates held by the substrate holders, and the substrate holders that are placed on a placement section and placed in the processing chambers. Elevating means for loading and unloading the substrate holder, at least one stand having a placing part for placing the substrate holder, and substrate holding between the stand and the substrate holder elevating means. And an exchange device for exchanging tools, which is provided on at least one of the mounting part of the substrate holder elevating means and the mounting part of the mounting table so as to be rotatable relative to the mounting part. A substrate processing apparatus comprising: a lock member that can be disengaged from the substrate holder by rotation; and a rotating unit that relatively rotates the lock member and the placing unit.
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