JP2003256056A - Mos type reference voltage generation circuit - Google Patents

Mos type reference voltage generation circuit

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JP2003256056A JP2002025937A JP2002025937A JP2003256056A JP 2003256056 A JP2003256056 A JP 2003256056A JP 2002025937 A JP2002025937 A JP 2002025937A JP 2002025937 A JP2002025937 A JP 2002025937A JP 2003256056 A JP2003256056 A JP 2003256056A
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茂樹 中島
Takashi Ihara
隆 伊原
Shinya Yamamoto
真也 山本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reference voltage generation circuit of a semiconductor integrated circuit having a small chip occupancy area and structured with MOSFETs for giving small influence on a reference voltage caused by fluctuation of power supply voltage and temperature. <P>SOLUTION: In a circuit having a current mirror circuit (4) with a plurality of current routes structured with a P channel MOSFET and a plurality of N channel MOSFETs connected to the current routes, the MOS type reference voltage generation circuit has N channel MOSFETs: N3, N4 serially connected to the P channel MOSFET for temperature compensation of which gate is connected to an output terminal of the reference voltage. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、MOSFETによ
る半導体集積回路に構成された基準電圧発生回路に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reference voltage generating circuit formed in a semiconductor integrated circuit including MOSFETs.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、小型で小電力で且つ高速な回路が
求められるなか、ほとんどのデジタル回路がその様な要
求を満足するCMOSデバイスで構成されており、バイ
ポーラデバイスが中心であったアナログ回路の分野にお
いてもCMOSデバイスによる実現が望まれている。し
かし、アナログ回路においては、デジタル回路とは異な
り、温度による影響が無くしかも電源電圧の変動にも影
響されない基準電圧発生回路の実現が極めて重要とな
る。特に、アナログーデジタル変換回路やデジタルーア
ナログ変換回路においては、電源電圧や温度に対して安
定な基準電圧発生回路が要求される。従って、CMOS
回路を用いて安定した基準電圧発生回路を構成すること
は、アナログCMOS回路の実現には必須の要件とな
る。
2. Description of the Related Art Today, with the demand for small-sized, low-power and high-speed circuits, most digital circuits are composed of CMOS devices satisfying such requirements, and bipolar circuits are the main analog circuits. Also in the field of, the realization by CMOS devices is desired. However, in analog circuits, unlike digital circuits, it is extremely important to realize a reference voltage generation circuit that is not affected by temperature and is not affected by fluctuations in power supply voltage. Particularly, in the analog-digital conversion circuit and the digital-analog conversion circuit, a reference voltage generation circuit that is stable with respect to the power supply voltage and the temperature is required. Therefore, CMOS
Constructing a stable reference voltage generation circuit using a circuit is an essential requirement for realizing an analog CMOS circuit.

【0003】従来より半導体集積回路に構成される基準
電圧発生回路は、従来例を示す図9の如くスタートアッ
プ回路と、カレントミラー回路を具備したバンドギャッ
プ基準電圧発生回路(以下、バンドギャップ回路と記
す。)とから構成されている。
Conventionally, a reference voltage generating circuit constructed in a semiconductor integrated circuit is a bandgap reference voltage generating circuit (hereinafter referred to as a bandgap circuit) having a start-up circuit and a current mirror circuit as shown in FIG. 9 showing a conventional example. It is composed of.

【0004】スタートアップ回路は、当該バンドギャッ
プ回路への電源投入初期において、電源投入前における
安定状態から所定出力電圧が得られる安定動作状態への
移行を促進する為の始動回路である。当該回路構成で
は、電源投入に際して、PチャネルMOSFET(以
下、PMOSFETと記す。)P07及びNチャネルM
OSFET(以下、NMOSFETと記す。)N09の
ドレイン電圧を急激に立ち上げることで、速やかにNM
OSFET:N06が稼働し、NMOSFET:N01
及びN02に対する所望のゲート電圧を得ることができ
る。
The start-up circuit is a starting circuit for promoting a transition from a stable state before power-on to a stable operation state in which a predetermined output voltage is obtained at the initial stage of power-on of the bandgap circuit. In this circuit configuration, when power is turned on, a P-channel MOSFET (hereinafter referred to as PMOSFET) P07 and an N-channel M
By rapidly raising the drain voltage of the OSFET (hereinafter referred to as NMOSFET) N09, the NM is quickly
OSFET: N06 is operating, NMOSFET: N01
And the desired gate voltage for N02 can be obtained.

【0005】MOSFETの特性を決める極めて重要な
設計パラメータが、チャネルの幅:Wと、チャネルの長
さ:Lである。ここで、チャネルの幅と長さを一定比率
(同サイズである場合も含む)に定める事によって、そ
れら組となる各MOSFETのドレイン電流に一定の比
率が与えられることとなる。カレントミラー回路は、こ
の様な特性を利用したものであって、例えば、図9に示
されている様に、同サイズのPMOSFET:P01,
P02,P03をカレントミラー接続し、カレントミラ
ー接続が成された各々のソースを電源電圧VDDに接続
することによって、カレントミラー接続が成された各M
OSFETのドレイン・ソース間に、相等しい一定の電
流(以下、ドレイン電流と記す。)を流すものである。
Channel width: W and channel length: L are extremely important design parameters that determine the characteristics of the MOSFET. Here, by setting the width and length of the channel to a constant ratio (including the case of the same size), a constant ratio is given to the drain currents of the MOSFETs in the set. The current mirror circuit utilizes such characteristics, and for example, as shown in FIG. 9, PMOSFETs of the same size: P01,
By connecting P02 and P03 in a current mirror connection and connecting respective sources in the current mirror connection to the power supply voltage V DD , the respective M's in the current mirror connection are formed.
The same constant current (hereinafter, referred to as drain current) is passed between the drain and the source of the OSFET.

【0006】バンドギャップ回路は、pn接合ダイオー
ドD01を用いることにより、物理定数であるシリコン
のバンドギャップ(以下、バンドギャップと記す。)に
依存した基準電圧を発生させる回路であって、理論上、
前記カレントミラー回路のPMOSFET:P01,P
02,P03のドレイン電流が相等しい(或いは所定の
比率を持つ)ことを条件として、電源電圧VDDの変動
に影響されることなく所定の基準電圧を安定して発生す
るものである。
The bandgap circuit is a circuit for generating a reference voltage depending on a silicon bandgap (hereinafter referred to as a bandgap) which is a physical constant by using a pn junction diode D01, and theoretically,
PMOSFET of the current mirror circuit: P01, P
On condition that the drain currents of 02 and P03 are equal to each other (or have a predetermined ratio), the predetermined reference voltage is stably generated without being affected by the fluctuation of the power supply voltage V DD .

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来図に示す回路構成
では、温度変化に対して安定な基準電圧を発生する為に
必要な温度補償用の抵抗素子:R',R'が用いられ
るが、通常、抵抗素子R' には数十kΩ、抵抗素子R'
には数百kΩという非常に高い抵抗値の抵抗素子が用
いられるため、抵抗素子のチップに占める面積が大きく
なり回路を構成するMOSFETと同等以上の面積を占
めることとなって製造コストが上昇する。
The circuit configuration shown in the conventional figure.
Then, in order to generate a stable reference voltage against temperature changes
Necessary resistance element for temperature compensation: R 'Three, R 'FourIs used
However, normally, the resistance element R ' ThreeIs several tens of kΩ and resistance element R '
FourA resistance element with a very high resistance value of several hundred kΩ is used for
Therefore, the area occupied by the resistive element on the chip is large.
Occupies an area equal to or larger than that of the MOSFETs
As a result, the manufacturing cost increases.

【0008】また、N01のドレイン電圧とN02のド
レイン電圧との間に差が生じ、例えN01とN02の動
作領域がサブスレッショルド領域にあったとしても、前
記N01とN02のドレイン・ソース間電流が不一致と
なり、前記理論上理想的なカレントミラー回路の動作を
得ることが出来ない。その結果、出力段に流れる電流
が、電源電圧VDDの変動の影響を受ける形となり、V
DDに対して安定した基準電圧VREFを得ることが出
来なかった。
Further, even if a difference occurs between the drain voltage of N01 and the drain voltage of N02, and even if the operating region of N01 and N02 is in the subthreshold region, the current between the drain and source of N01 and N02 is Since they do not match, the theoretically ideal operation of the current mirror circuit cannot be obtained. As a result, the current flowing through the output stage is affected by the fluctuation of the power supply voltage V DD , and V
It was not possible to obtain a stable reference voltage V REF for DD .

【0009】本発明は、上記実情に鑑みて成されたもの
であって、チップ占有面積が小さく、電源電圧や温度の
変動による基準電圧への影響が無いMOSFETによる
半導体集積回路の基準電圧発生回路の提供を目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a small chip occupying area and has no influence on the reference voltage due to fluctuations in the power supply voltage or temperature. For the purpose of providing.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明によるMOS型基準電圧発生回路は、
温度補償用の抵抗素子をNMOSFETに置き換えてチ
ップ専有面積を縮小するとともに、より安定した基準電
圧の発生を期すべく、PMOSFETで構成される複数
の電流経路を有するカレントミラー回路と、それ等の電
流経路に接続された複数のNMOSFETを有する回路
において、ゲートが基準電圧の出力端子に接続された温
度補償用NMOSFET:N3,N4を上記PMOSF
ETと直列に接続したことを特徴とする。
A MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention made to solve the above-mentioned problems,
A current mirror circuit having a plurality of current paths composed of PMOSFETs and currents thereof are replaced with NMOSFETs to replace the temperature compensating resistance element to reduce the chip occupation area and to generate a more stable reference voltage. In a circuit having a plurality of NMOSFETs connected to a path, the temperature compensating NMOSFETs N3 and N4 whose gates are connected to the output terminal of the reference voltage are
It is characterized by being connected in series with ET.

【0011】より具体的には、PMOSFETで構成さ
れる第一、第二及び第三の電流経路を有し上記第二の電
流経路をバイアス段とするカレントミラー回路と、前記
第一の電流経路に接続されたサブスレッショルド領域で
動作するNMOSFET:N1と、前記第二の電流経路
に接続された、サブスレッショルド領域で動作するNM
OSFET:N2、ゲートが基準電圧の出力端子に接続
された温度補償用NMOSFET:N3、及び当該第二
の電流経路における上記PMOSFETと前記NMOS
FET:N2の間に直列接続されたドレイン・ソース間
電圧補正用NMOSFET:N5と、第三の電流経路に
接続されたpn接合ダイオード:D1及びゲートが基準
電圧の出力端子に接続された温度補償用NMOSFE
T:N4とでバンドギャップ基準電圧発生回路を構成し
たものが挙げられる。仕様に応じ、前記第一、第二及び
第三の電流経路それぞれについて、前記PMOSFET
を2段に直列接続して成るカレントミラー回路を有する
構成とする場合もある。
More specifically, a current mirror circuit having first, second and third current paths composed of PMOSFETs and having the second current path as a bias stage, and the first current path. And NMOSFET operating in the sub-threshold region, which is connected to, and NM operating in the sub-threshold region, which is connected to the second current path.
OSFET: N2, temperature compensating NMOSFET whose gate is connected to the output terminal of the reference voltage: N3, and the PMOSFET and the NMOS in the second current path.
Drain-source voltage correction NMOSFET: N5 connected in series between FET: N2, pn junction diode: D1 connected to the third current path, and temperature compensation in which the gate is connected to the output terminal of the reference voltage. NMOS FE
An example is a band gap reference voltage generating circuit configured with T: N4. According to the specifications, the PMOSFET is provided for each of the first, second and third current paths.
In some cases, a current mirror circuit is formed by connecting the two in series with each other.

【0012】ここで、バイアス段とは、カレントミラー
回路を構成する複数段の回路のうち、カレントミラー関
係にある全てのPMOSFETのゲートに対して同じ電
位を接続すべく当該全てのPMOSFETのゲートに接
続する電位の共通取得点が存在し、且つ当該段に流れる
電流を決定するためのNMOSFET:N3が接続され
ている段である。
Here, the bias stage is a gate of all PMOSFETs in a current mirror circuit in order to connect the same potential to the gates of all PMOSFETs in the current mirror circuit among a plurality of stages of circuits forming a current mirror circuit. In this stage, there is a common acquisition point of the potential to be connected, and NMOSFET: N3 for determining the current flowing through the stage is connected.

【0013】基準電圧の値をしきい値電圧で安定させる
べく、前記第三の電流経路に接続されたpn接合ダイオ
ード:D1に換えて、ダイオード接続のNMOSFE
T:N8を用いた構成を採っても良く、更に、該基準電
圧の制御を可能とすべく、前記ダイオード接続のNMO
SFET:N8における基板バイアス電圧VSubを調
整する基板バイアス可変回路を設けた構成とすることも
可能である。尚、前記ダイオード接続のNMOSFET
とは、ゲート・ドレイン間を短絡して用いたNMOSF
ETを指す。
In order to stabilize the value of the reference voltage at the threshold voltage, a diode-connected NMOS FE is used instead of the pn junction diode D1 connected to the third current path.
A structure using T: N8 may be adopted, and further, in order to enable control of the reference voltage, the diode-connected NMO is used.
It is also possible to employ a configuration in which a substrate bias variable circuit for adjusting the substrate bias voltage V Sub in SFET: N8 is provided. The diode-connected NMOSFET
Is an NMOSF used by short-circuiting the gate and drain
Refers to ET.

【0014】電源VDD・GND間に、PMOSFET
と、ダイオード接続のドライブ用NMOSFETをn段
に直列接続し、任意に選択した一のドライブ用NMOS
FETのドレインを前記ドレイン・ソース間電圧補正用
NMOSFET:N5のゲートに接続し、且つ、n:自
然数,及びn≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用NM
OSFETのしきい値電圧V)を満足するドライブ回
路を具備した構成とする場合もある。
Between the power source V DD and GND, a PMOSFET is provided.
And a diode-connected drive NMOSFET connected in series in n stages, and one drive NMOS arbitrarily selected
The drain of the FET is connected to the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5, and n is a natural number, and n ≦ (power supply voltage V DD ) / (drive NM)
In some cases, a drive circuit satisfying the threshold voltage V T of the OSFET is provided.

【0015】また、電源VDD・GND間に、PMOS
FETと、ダイオード接続のドライブ用NMOSFET
をl段に直列接続し、且つ、l:自然数、及びl≦(電
源電圧VDD)/(ドライブ用NMOSFETのしきい
値電圧V)を満足するドライブ回路を具備し、当該ド
ライブ回路を構成するドライブ用NMOSFETのうち
から任意に選択した一のドライブ用NMOSFETのド
レインが、前記PMOSFETで構成される第一、第二
及び第三の電流経路の電源端子として接続されると共
に、当該電源端子・GND間に、PMOSFETと、ダ
イオード接続のドライブ用NMOSFETをn段に直列
接続し、当該直列接続されたドライブ用NMOSFET
のうちから任意に選択した一のドライブ用NMOSFE
Tのドレインを前記ドレイン・ソース間電圧補正用NM
OSFET:N5のゲートに接続し、且つ、n:自然
数,及びn≦(電源端子電圧)/(ドライブ用NMOS
FETのしきい値電圧V)を満足するドライブ回路を
具備した構成とする場合もある。
Further, a PMOS is connected between the power source V DD and GND.
FET and diode-connected drive NMOSFET
Are connected in series in l stages, and a drive circuit is provided, which comprises l: natural number and l ≦ (power supply voltage V DD ) / (threshold voltage V T of drive NMOSFET), and the drive circuit is configured. The drain of one drive NMOSFET arbitrarily selected from among the drive NMOSFETs to be connected is connected as the power supply terminals of the first, second and third current paths constituted by the PMOSFET, and the power supply terminal A PMOSFET and a diode-connected drive NMOSFET are connected in series between the GND in n stages, and the drive NMOSFET is connected in series.
One drive NMOS FE arbitrarily selected from the above
The drain of T is the NM for correcting the drain-source voltage
OSFET: connected to the gate of N5, n: natural number, and n ≦ (power supply terminal voltage) / (drive NMOS)
In some cases, a drive circuit satisfying the threshold voltage V T of the FET is provided.

【0016】更に加えて、前記ドレイン・ソース間電圧
補正用NMOSFET:N5のゲートに接続されるドラ
イブ回路を構成する前記ドライブ用NMOSFETのう
ちから任意に選択した一の前記ドライブ用NMOSFE
Tのドレインがゲートに接続されると共に、前記第一の
電流経路におけるNMOSFET:N1のドレインがソ
ースに接続されたNMOSFET:N6と、前記ドレイ
ン・ソース間電圧補正用NMOSFET:N5のゲート
に接続されるドライブ回路を構成する前記ドライブ用N
MOSFETのうちから任意に選択した一の前記ドライ
ブ用NMOSFETのドレインがゲートに接続されると
共に、前記温度補償用NMOSFET:N3,N4のゲ
ートがソースに接続されたNMOSFET:N7を用い
たスタートアップ回路を有する構成とする場合もある。
In addition, one of the drive NMOSFEs arbitrarily selected from the drive NMOSFETs forming a drive circuit connected to the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5.
The drain of T is connected to the gate, the drain of the NMOSFET: N1 in the first current path is connected to the source, and the gate of the NMOSFET for drain-source voltage correction NMOSFET: N5 is connected. N for the drive forming a drive circuit
A start-up circuit using NMOSFET: N7 in which the drain of one drive NMOSFET arbitrarily selected from MOSFETs is connected to the gate and the gates of the temperature compensating NMOSFETs N3 and N4 are connected to the sources It may be configured to have.

【0017】前記MOS型基準電圧発生回路において前
記の如くドレイン・ソース間電圧補正用NMOSFE
T:N5のゲートに接続されるドライブ回路を構成する
に際し、電源VDD・GND間に、PMOSFETと、
ダイオード接続のドライブ用NMOSFETをm段に直
列接続し、且つ、m:自然数、及びm≦(電源電圧V
)/(ドライブ用NMOSFETのしきい値電圧
)を満足するドライブ回路を具備し、当該ドライブ
回路を構成するドライブ用NMOSFETのうちから任
意に選択した一のドライブ用NMOSFETのドレイン
が、前記PMOSFETで構成される第一、第二及び第
三の電流経路の電源端子として接続する構成とすること
も可能である。
In the MOS type reference voltage generating circuit, as described above, the drain-source voltage correcting NMOSFE is used.
In constructing a drive circuit connected to the gate of T: N5, a PMOSFET and a PMOSFET are connected between the power supply VDD and GND.
A diode-connected drive NMOSFET is serially connected in m stages, and m is a natural number and m ≦ (power supply voltage V D
D ) / (driving NMOSFET threshold voltage V T ) is provided, and the drain of one driving NMOSFET arbitrarily selected from the driving NMOSFETs constituting the driving circuit is It is also possible to connect the power supply terminals of the first, second and third current paths formed by PMOSFETs.

【0018】一方、上記回路構成において前記ドレイン
・ソース間電圧補正用NMOSFET:N5のゲート
を、前記ダイオード接続のドライブ用NMOSFETを
n段に直列接続し当該直列接続されたドライブ用NMO
SFETのうちから任意に選択した一のドライブ用NM
OSFETのドレインに接続することなく、基準電圧V
REFの出力端子に接続した回路構成とする場合もあ
り、その様な構成においては、電源VDD・GND間
に、PMOSFETと、ダイオード接続のドライブ用N
チャネルMOSFETをq段に直列接続し、且つ、q:
自然数、及びq≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用N
チャネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足する
ドライブ回路を設ける場合もある。
On the other hand, in the above circuit configuration, the drain
-Source voltage correction NMOSFET: N5 gate
The diode-connected drive NMOSFET
NMO for drive connected in series in n stages and connected in series
One drive NM arbitrarily selected from SFET
Reference voltage V without connecting to the drain of OSFET
REFIn some cases, the circuit may be connected to the output terminal of
In such a configuration, the power supply VDD・ Between GND
In addition, PMOSFET and N for driving the diode connection
Channel MOSFETs are connected in series in q stages, and q:
Natural number and q ≤ (power supply voltage VDD) / (N for drive
Channel MOSFET threshold voltage VT) Is satisfied
A drive circuit may be provided.

【0019】また、この様に前記ドレイン・ソース間電
圧補正用NMOSFET:N5のゲートを基準電圧の出
力端子に接続した回路構成において、電源VDD・GN
D間に、PチャネルMOSFETと、ダイオード接続の
ドライブ用NチャネルMOSFETをl段に直列接続
し、且つ、l:自然数、及びl≦(電源電圧VDD)/
(ドライブ用NチャネルMOSFETのしきい値電圧V
)を満足するドライブ回路を具備し、当該ドライブ回
路を構成するドライブ用NチャネルMOSFETのうち
から任意に選択した一のドライブ用NチャネルMOSF
ETのドレインが、前記PチャネルMOSFETで構成
される第一、第二及び第三の電流経路(1,2,3)の
電源端子として接続されると共に、当該電源端子・GN
D間に、PチャネルMOSFETと、ダイオード接続の
ドライブ用NチャネルMOSFETをq段に直列接続
し、且つ、q:自然数,及びq≦(電源端子電圧)/
(ドライブ用NチャネルMOSFETのしきい値電圧V
)を満足するドライブ回路を具備した回路構成とする
場合もある。
In addition, in the circuit configuration in which the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5 is connected to the output terminal of the reference voltage in this way, the power source V DD · GN
A P-channel MOSFET and a diode-connected drive N-channel MOSFET are connected in series between D in l stages, and l is a natural number and l ≦ (power supply voltage V DD ) /
(Threshold voltage V of drive N-channel MOSFET
T ) is provided, and one drive N-channel MOSF arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFETs forming the drive circuit.
The drain of ET is connected as a power supply terminal of the first, second and third current paths (1, 2, 3) constituted by the P-channel MOSFET, and the power supply terminal / GN is connected.
A P-channel MOSFET and a diode-connected driving N-channel MOSFET are connected in series between D in q stages, and q is a natural number and q ≦ (power supply terminal voltage) /
(Threshold voltage V of drive N-channel MOSFET
In some cases, the circuit configuration may include a drive circuit that satisfies T 1 ).

【0020】更に、前記PチャネルMOSFETと、ダ
イオード接続のドライブ用NチャネルMOSFETをq
段に直列接続し、且つ、q:自然数,及びq≦(電源端
子電圧)/(ドライブ用NチャネルMOSFETのしき
い値電圧V)を満足するドライブ回路を具備し、当該
ドライブ回路を構成する前記ドライブ用NチャネルMO
SFETのうちから任意に選択した一の前記ドライブ用
NチャネルMOSFETのドレインがゲートに接続され
ると共に、前記第一の電流経路におけるNチャネルMO
SFET:N1のドレインがソースに接続されたNチャ
ネルMOSFET:N6と、前記ドライブ用Nチャネル
MOSFETのうちから任意に選択した一の前記ドライ
ブ用NチャネルMOSFETのドレインがゲートに接続
されると共に、前記温度補償用NチャネルMOSFE
T:N3,N4のゲートがソースに接続されたNチャネ
ルMOSFET:N7を用いたスタートアップ回路を有
する構成を採ることも出来る。
Further, the P-channel MOSFET and a diode-connected N-channel MOSFET for driving are connected to q
A drive circuit that is connected in series to the stage and that satisfies q: natural number and q ≦ (power supply terminal voltage) / (threshold voltage V T of drive N-channel MOSFET) is provided, and the drive circuit is configured. N-channel MO for drive
The drain of one of the drive N-channel MOSFETs arbitrarily selected from the SFETs is connected to the gate, and the N-channel MO in the first current path is connected.
The drain of SFET: N1 is connected to the source, and the drain of one drive N-channel MOSFET arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFET is connected to the gate. N channel MOSFE for temperature compensation
It is also possible to adopt a configuration having a start-up circuit using an N-channel MOSFET: N7 in which the gates of T: N3 and N4 are connected to the sources.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明たるMOS型基準電
圧発生回路の実施の形態を図面に基づき説明する。図1
に示したサンプル回路は、PMOSFETによるカレン
トミラー回路4及びMOSFETのドレイン電圧をほぼ
等しくするためのドレイン・ソース間電圧補正用NMO
SFET:N5を具備したバンドギャップ回路と、当該
バンドギャップ回路への電源投入初期における動作の安
定化を促進するスタートアップ回路6とから構成された
基準電圧発生回路である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a MOS reference voltage generating circuit according to the present invention will be described below with reference to the drawings. Figure 1
The sample circuit shown in FIG. 2 is an NMO for correcting the drain-source voltage for making the drain voltages of the current mirror circuit 4 and the MOSFET of PMOSFET almost equal.
It is a reference voltage generating circuit including a bandgap circuit including SFET: N5 and a start-up circuit 6 that promotes stabilization of the operation of the bandgap circuit in the initial stage of power-on.

【0022】前記バンドギャップ回路は、電源電圧V
DD・GND間に、PMOSFET:P1,PMOSF
ET:P4,及びNMOSFET:N1を直列に接続し
た第一の電流経路1と、PMOSFET:P2,PMO
SFET:P5,ドレイン・ソース間電圧補正用NMO
SFET:N5,NMOSFET:N2,及び温度補償
用NMOSFET:N3を直列に接続した第二の電流経
路2と、PMOSFET:P3,PMOSFET:P
6,pn接合ダイオード:D1及び温度補正用NMOS
FET:N4を直列に接続した第三の電流経路3とを並
列に接続して構成されている。
The bandgap circuit has a power supply voltage V
PMOSFET: P1, PMOSF between DD and GND
A first current path 1 in which ET: P4 and NMOSFET: N1 are connected in series, and PMOSFET: P2, PMO
SFET: P5, NMO for drain-source voltage correction
Second current path 2 in which SFET: N5, NMOSFET: N2, and temperature compensating NMOSFET: N3 are connected in series, PMOSFET: P3, PMOSFET: P
6, pn junction diode: D1 and NMOS for temperature correction
It is constituted by connecting in parallel a third current path 3 in which FET: N4 is connected in series.

【0023】前記カレントミラー回路4は、PMOSF
ET:P2,P5のゲート・ドレイン間が短絡され、P
MOSFET:P1,P2,P3のゲート同士、及びP
MOSFET:P4,P5,P6のゲート同士が短絡さ
れて成るカレントミラー部が二段積み三列構成を呈する
形で構成されている。また、前記N1のドレイン・ゲー
ト間が短絡され、更に、NMOSFET:N1,N2の
ゲート同士が短絡されることによって、NMOSFET
によるカレントミラー構成も形作られている。当該半導
体集積回路の基準電圧発生回路の出力たる基準電圧V
REFは、前記第三の電流経路を構成するPMOSFE
T:P6とpn接合ダイオード:D1間の出力端から引
き出されるものとする。
The current mirror circuit 4 is a PMOSF.
ET: The gate and drain of P2 and P5 are short-circuited, and P
MOSFETs: P1, P2, P3 gates, and P
MOSFET: P4, P5, P6 has a current mirror portion formed by short-circuiting the gates of each other, and is configured in a two-stage stacked three-row configuration. Further, the drain and the gate of the N1 are short-circuited, and further, the gates of the NMOSFETs N1 and N2 are short-circuited to each other.
The current mirror configuration by is also formed. Reference voltage V that is the output of the reference voltage generation circuit of the semiconductor integrated circuit
REF is a PMOSFE that constitutes the third current path.
It is taken out from the output terminal between T: P6 and pn junction diode: D1.

【0024】前記スタートアップ回路6は、電源電圧V
DD・GND間に、PMOSFET:P7,ドレイン・
ゲート間を短絡させダイオード接続としたドライブ用N
MOSFET:N9,及びドライブ用NMOSFET:
N10を直列に接続し、且つn:2,及び2≦(電源電
圧VDD)/(ドライブ用NMOSFETのしきい値電
圧V)を満足するドライブ回路5と、ドレインを電源
電圧VDDに、前記バンドギャップ回路のP4・N1間
にソースを接続すると共に、前記N9・N10間にゲー
トを接続したスタートアップ用NMOSFET:N6
と、電源電圧V にドレインを接続すると共に、前記
バンドギャップ回路の温度補償用NMOSFET:N
3,N4のゲートにソースを接続し、更に、前記P7・
N10間にゲートを接続したスタートアップ用NMOS
FET:N7とから構成される。当該スタートアップ用
NMOSFET:N6及びN7が稼働することによっ
て、N1,N2及びN3,N4へ所望のゲート電圧を速
やかに供給して前記バンドギャップ回路のスタートアッ
プを行なう。尚、前記ドライブ用NMOSFET:N1
0のドレインは、上記ドレイン・ソース間電圧補正用N
MOSFET:N5のゲートに接続され、当該ドレイン
・ソース間電圧補正用NMOSFET:N5をドライブ
するために用いられる。
The startup circuit 6 has a power supply voltage V
Between DD and GND, PMOSFET: P7, drain,
N for drive with short circuit between gates and diode connection
MOSFET: N9 and drive NMOSFET:
A drive circuit 5 in which N10 is connected in series and which satisfies n: 2, and 2 ≦ (power supply voltage V DD ) / (threshold voltage V T of driving NMOSFET), and a drain to the power supply voltage V DD , A startup NMOSFET: N6 in which a source is connected between P4 and N1 of the bandgap circuit and a gate is connected between N9 and N10.
When the power supply voltage V D as well as a drain connected to the D, NMOSFET for temperature compensation of the bandgap circuit: N
The source is connected to the gates of N3 and N4, and the P7
Startup NMOS with gate connected between N10
FET: N7. By operating the startup NMOSFETs N6 and N7, a desired gate voltage is quickly supplied to N1, N2 and N3, N4 to start up the bandgap circuit. The drive NMOSFET: N1
The drain of 0 is N for voltage correction between the drain and source.
It is connected to the gate of MOSFET: N5 and is used to drive the drain-source voltage correction NMOSFET: N5.

【0025】上記構成においてPMOSFET:P1,
P2,P3のチャネル長及びチャネル幅を相互に等しく
設定すると共に、PMOSFET:P4,P5,P6の
チャネル長及びチャネル幅を相互に等しく設定し、且
つ、NMOSFET:N1,N2のチャネル長を等しく
設定すると共に、N2のチャネル幅をN1のチャネル幅
に対する適当な比率(図2の回路では8倍)に設定す
る。
In the above structure, PMOSFET: P1,
The channel lengths and channel widths of P2 and P3 are set to be equal to each other, the channel lengths and channel widths of PMOSFET: P4, P5 and P6 are set to be equal to each other, and the channel lengths of NMOSFETs: N1 and N2 are set to be equal to each other. At the same time, the N2 channel width is set to an appropriate ratio (8 times in the circuit of FIG. 2) to the N1 channel width.

【0026】NMOSFET:N1,N2は、サブスレ
ッショルド電流領域で動作させるように設計するので、
これらNMOSFET:N1,N2に流れる電流I
1(N1),I2(N2)は、下記(1)(2)式で与えられ、
pn接合ダイオード:D1に流れる電流I3(D1)は、温
度補正用NMOSFET:N3,N4の等価抵抗値をR
,Rとすれば下記(3)式で与えられる。
Since NMOSFETs N1 and N2 are designed to operate in the subthreshold current region,
Current I flowing through these NMOSFETs: N1 and N2
1 (N1) and I2 (N2) are given by the following equations (1) and (2),
The current I3 (D1) flowing through the pn junction diode: D1 is the equivalent resistance value of the temperature-correcting NMOSFETs: N3, N4.
If 3 and R 4 , they are given by the following equation (3).

【0027】[0027]

【数1】 [Equation 1]

【数2】 [Equation 2]

【数3】 ここで、 I:温度に依存しないサブスレッショルド電流 V:ゲート電圧 V:しきい値電圧 n:サブスレッショルド係数の補正項 V:熱電圧(=k・T/q) k:ボルツマン定数 T:絶対温度 q:電子の電荷量 V:pn接合ダイオードに印加される電圧 E:シリコンのバンドギャップ である。[Equation 3] Here, I S : temperature-independent subthreshold current V G : gate voltage V T : threshold voltage n: subthreshold coefficient correction term V t : thermal voltage (= k · T / q) k: Boltzmann constant T: Absolute temperature q: Charge amount of electrons V D : Voltage applied to pn junction diode E G : Bandgap of silicon

【0028】そして、前記バンドギャップ回路の第一の
電流経路1に流れる電流Iと、第二の電流経路2に流
れる電流Iと、第三の電流経路3に流れる電流I
が等しい(I=I=I)という条件を満たせば、
上記(1)(2)(3)式で与えられるI,I,I
は相互に等しいこととなる。
[0028] Then, the current I 1 flowing through the first current path 1 of the bandgap circuit, a current I 2 flowing through the second current path 2, is equal to the current I 3 flowing through the third current path 3 If the condition (I 1 = I 2 = I 3 ) is satisfied,
I 1 , I 2 , and I given by the above equations (1), (2), and (3)
3 are equal to each other.

【0029】また、基準電圧VREFは、下記(4)式
によって与えられる。
The reference voltage V REF is given by the following equation (4).

【数4】 [Equation 4]

【0030】前記基準電圧VREFの温度特性は、下記
(5)式で与えられ、pn接合ダイオード:D1に印加
される電圧Vの温度特性は、下記(6)式で与えられ
る。
The temperature characteristic of the reference voltage V REF is given by the following equation (5), and the temperature characteristic of the voltage V D applied to the pn junction diode: D1 is given by the following equation (6).

【数5】 [Equation 5]

【数6】 [Equation 6]

【0031】温度特性を平坦にするということで(Δ/
ΔT)・VREF=0とし、(5)式に代入すると下記
(7)式となる。
By flattening the temperature characteristic, (Δ /
When ΔT) · V REF = 0 and substituted into the equation (5), the following equation (7) is obtained.

【数7】 [Equation 7]

【0032】即ち、温度補正用NMOSFET:N3,
N4の等価抵抗値R,Rにおける比(R/R
が(7)式を満たすように回路を設計すれば、温度特性
が平坦で、且つ非常に安定した下記(8)式の電圧を基
準電圧VREFとして得ることができる。当該VREF
は、シリコンの物理定数であるバンドギャップの電位で
決定されるので、バンドギャップ基準電圧と呼ばれる。
That is, temperature compensating NMOSFET: N3
Ratio (R 4 / R 3 ) of equivalent resistance values R 3 and R 4 of N4
If the circuit is designed so that satisfies the expression (7), the voltage of the following expression (8), which has a flat temperature characteristic and is very stable, can be obtained as the reference voltage V REF . The V REF
Is called a bandgap reference voltage because it is determined by the bandgap potential which is a physical constant of silicon.

【数8】 [Equation 8]

【0033】図2に示したサンプル回路においては、p
n接合ダイオード:D1をドレインとゲートを短絡した
ダイオード接続のNMOSFET:N8に置き換えるこ
とが出来る様子が示されている。この様に、pn接合ダ
イオード:D1をダイオード接続のNMOSFET:N
8に置き換えた場合には、pn接合ダイオード:D1に
流れる電流I3(D1)は、上記ダイオード接続のNMOS
FET:N8のドレイン・ソース間に流れる電流I
3(N8)となり、下記(9)式によって与えられる。
In the sample circuit shown in FIG. 2, p
It is shown that the n-junction diode: D1 can be replaced by a diode-connected NMOSFET: N8 in which the drain and the gate are short-circuited. In this way, the pn junction diode: D1 is connected to the diode-connected NMOSFET: N
When replaced by 8, the current I 3 (D1) flowing through the pn junction diode: D1 is the diode-connected NMOS.
FET: Current I flowing between the drain and source of N8
3 (N8) , which is given by the following equation (9).

【数9】 そして、ダイオード接続のNMOSFET:N8に印加
される電圧の温度特性は、バンドギャップ方式の基準電
圧VREFの場合と同様に、下記(10)式で与えられ
る。
[Equation 9] The temperature characteristic of the voltage applied to the diode-connected NMOSFET: N8 is given by the following equation (10), as in the case of the bandgap reference voltage V REF .

【数10】 [Equation 10]

【0034】ここで、下記(11)式を満足するように
回路設計すれば、(Δ/ΔT)・V REF=0となり、
下記(12)式の様に基準電圧VREFが得られる。当
該基準電圧VREFは、ダイオード接続NMOSFE
T:N8のT=0 Kにおけるしきい値電圧に安定化さ
れるので、特にしきい値電圧基準電圧VTRとよぶ。
Here, to satisfy the following equation (11)
If the circuit is designed, (Δ / ΔT) ・ V REF= 0,
Reference voltage V as shown in equation (12) belowREFIs obtained. This
The reference voltage VREFIs a diode-connected NMOS FE
T: Stabilized to the threshold voltage of N8 at T = 0 K
Threshold voltage reference voltage VTRCall it.

【数11】 [Equation 11]

【数12】 [Equation 12]

【0035】上記理論上、NMOSFETの理想的なサ
ブスレッショルド電流は(1),(2)式で与えられる
ようにゲート電圧Vのみで決定され、ドレイン電圧に
は依存しない。従って、同じゲート電圧が印加されてい
るNMOSFET:N1,N2には同じIとIとい
う電流が流れるはずである。しかし、実際には、サブス
レッショルド電流はソース・ドレイン間の電圧にも依存
するので、厳密にI=Iを満たすためにはNMOS
FET:N1,N2のソース・ドレイン間電圧を等しく
する必要がある。
In theory, the ideal subthreshold current of the NMOSFET is determined only by the gate voltage V G as given by the equations (1) and (2) and does not depend on the drain voltage. Therefore, the same currents I 1 and I 2 should flow through the NMOSFETs N1 and N2 to which the same gate voltage is applied. However, in reality, the subthreshold current also depends on the voltage between the source and the drain, so in order to satisfy I 1 = I 2 exactly, the NMOS
It is necessary to make the source-drain voltages of the FETs N1 and N2 equal.

【0036】本実施例の回路では、NMOSFET:N
2のソース電圧は、NMOSFET:N1のソース電圧
に比べてI・Rの電圧分だけ高くなるが、この電圧
は通常数10mV程度であるので、そのサブスレッショ
ルド電流に及ぼす影響は無視できる。従って、この場合
には、NMOSFET:N1,N2のドレイン電圧差に
注目すればよい。上記サンプル回路のシミュレーション
結果によれば、VDDが5Vの時のNMOSFET:N
1,N2のドレイン電圧は、前記ソース・ドレイン間電
圧補正用NMOSFET:N5が無い場合には、それぞ
れ0.7Vと2.7Vとなり、約2.0Vものドレイン
電圧差が生じている。本来、この様な結果では上記理論
計算で想定したI=I=Iの関係が厳密には成立
していないので、基準電圧VREFの、VDDや温度に
対する安定性が悪くなることは容易に推測できる。
In the circuit of this embodiment, NMOSFET: N
The source voltage of 2 becomes higher than the source voltage of NMOSFET: N1 by the voltage of I 2 · R 3 , but since this voltage is usually about several tens of mV, its influence on the subthreshold current can be ignored. Therefore, in this case, attention should be paid to the drain voltage difference between the NMOSFETs N1 and N2. According to the simulation result of the sample circuit, NMOSFET: N when V DD is 5V
The drain voltages of 1 and N2 are 0.7 V and 2.7 V, respectively, when there is no source-drain voltage correction NMOSFET: N5, resulting in a drain voltage difference of about 2.0 V. Originally, in such a result, the relation of I 1 = I 2 = I 3 assumed in the theoretical calculation is not strictly established, so that the stability of the reference voltage V REF with respect to V DD and temperature deteriorates. Can be easily guessed.

【0037】しかしながら、上記サンプル回路(図1及
び図2参照)においては、前記ソース・ドレイン間電圧
補正用NMOSFET:N5に対し、前記スタートアッ
プ回路からゲート電圧が供給されることによって、電源
電圧VDDの変動等に起因してNMOSFET:N1,
N2のドレイン電圧に生じる格差を吸収する電圧補正作
用が生じ、NMOSFET:N1,N2のドレイン電圧
は、ほぼ等しい0.7Vとなる。この様に、当該ソース
・ドレイン間電圧補正用NMOSFET:N5の電圧補
正作用が、NMOSFET:N1,N2に流れるドレイ
ン電流IとI とを一致させ、前記I=I=I
という条件を厳密に成立させる作用を奏した結果とし
て、電源電圧VDDの変化に対する影響を受けない安定
した基準電圧VREFが与えられることとなる。
However, the above sample circuit (see FIG. 1 and FIG.
And FIG. 2), the source-drain voltage
Compensation NMOSFET: N5
Gate voltage is supplied from the
Voltage VDDDue to fluctuations in NMOSFET: N1,
Voltage correction operation that absorbs the difference that occurs in the drain voltage of N2
Occurs, drain voltage of NMOSFET: N1, N2
Is approximately equal to 0.7V. In this way, the source
・ Drain voltage correction NMOSFET: N5 voltage compensation
The positive action is the drain flowing in the NMOSFETs N1 and N2.
Current I1And I TwoAnd I1= ITwo= IThree
As a result of the action of strictly satisfying the condition
Power supply voltage VDDStable against changes in
Reference voltage VREFWill be given.

【0038】[0038]

【実施例】以下、上記サンプル回路の試作・測定結果に
ついて述べる。尚、先に挙げた2種類の回路から取り出
す基準電圧VREFを区別するために、pn接合ダイオ
ード:D1を用いたバンドギャップ基準電圧VREF
BRと称し、ダイオード接続NMOSFET:N8を
用いたしきい値電圧基準電圧VREFをVTRと称す
る。サンプル回路の試作は1.2ミクロン・ルールのn
ウェルCMOSプロセスで行った。
[Embodiment] The following will describe the results of trial manufacture and measurement of the above sample circuit. In order to distinguish the reference voltage V REF extracted from the above-mentioned two types of circuits, the band gap reference voltage V REF using the pn junction diode: D1 is referred to as V BR, and the diode-connected NMOSFET: N8 is used. The threshold voltage reference voltage V REF is referred to as V TR . Sample circuit prototype is 1.2 micron rule
The well CMOS process was used.

【0039】図1のサンプル回路で用いたpn接合ダイ
オードD1によるバンドギャップ基準電圧VBRのV
DD=3V,4V,5V,6V,7Vでの温度依存性デ
ータを図6に示す。測定温度は−60,−20,+2
0,+60,+100℃である。図6(イ)は、本発明
の1実施例で、温度補償用NMOSFET:N3,N4
を用いた場合、図6(ロ)は、温度補正用NMOSFE
T:N3,N4に換えてnウェル抵抗で形成した抵抗素
子R',R'(但し、R'は50kΩ、R'は63
5kΩ)を用いた場合の測定結果を示す。VDD=5.
0V、T=+20℃でのVBRは、それぞれ、約1.1
4Vと約1.26Vで、消費電流は両者とも約6マイク
ロアンペアであった。
The bandgap reference voltage VBR of the pn junction diode D1 used in the sample circuit of FIG.
FIG. 6 shows the temperature dependence data at DD = 3V, 4V, 5V, 6V, 7V. Measurement temperature is -60, -20, +2
0, +60, + 100 ° C. FIG. 6A shows a temperature compensating NMOSFET: N3, N4 according to an embodiment of the present invention.
6B shows the case where the temperature compensation NMOSFE is used.
T: N3, N4 resistive element is formed in n-well resistor in place of R '3, R' 4 (where, R '3 is 50kΩ, R' 4 is 63
The measurement result when 5 kΩ) is used is shown. V DD = 5.
V BR at 0 V and T = + 20 ° C. is about 1.1, respectively.
At 4V and about 1.26V, both consumed currents were about 6 microamps.

【0040】図2のサンプル回路で用いたダイオード接
続のNMOSFET:N8によるしきい値電圧基準電圧
TRでの、同様な測定結果を図7に示す。この時、図
7(イ)は、本発明の1実施例で、温度補償用NMOS
FET:N3,N4を用いた場合、図7(ロ)は、温度
補正用NMOSFET:N3,N4に換えてnウェル抵
抗で形成した抵抗素子R',R'(但し、R'は5
0kΩ、R'は525kΩ)を用いた場合の測定結果
を示す。VDD=5.0V,T=+20℃でのV TR
約1.14Vと約1.29Vであった。当該図から明ら
かな様に、抵抗素子に換えてNMOSFETを温度補償
用素子として用いることにより、VDD依存性は勿論の
こと温度依存性も大幅に改善された。
Diode connection used in the sample circuit of FIG.
Continuation NMOSFET: threshold voltage reference voltage by N8
VTRFIG. 7 shows the similar measurement results in the above. At this time, the figure
7 (a) is an embodiment of the present invention, in which an NMOS for temperature compensation is used.
When FET: N3 and N4 are used, FIG.
NMOSFET for correction: N3 well N instead of N3, N4
Resistance element R'formed by resistanceThree, R 'Four(However, R 'ThreeIs 5
0kΩ, R 'FourIs 525 kΩ)
Indicates. VDD= 5.0V, V at T = + 20 ° C TRIs
It was about 1.14V and about 1.29V. Clear from the figure
Kana temperature compensation of NMOSFET instead of resistance element
By using it as a device forDDNot to mention dependency
The temperature dependence was also greatly improved.

【0041】上記測定結果を、バンドギャップ基準電圧
BR及びしきい値電圧基準電圧V TRの変動率の様子
として図8に示す。尚、縦軸のΔVBR又はΔV
TRは、V DD=5.0V、T=+20℃でのバンドギ
ャップ基準電圧VBR及びしきい値電圧基準電圧VTR
電圧を基準値として、VDD=3V〜7Vの範囲及びV
DD=4V〜6Vの範囲について、T=−60℃〜10
0℃の測定範囲におけるバンドギャップ基準電圧VBR
及びしきい値電圧基準電圧VTRの最大値から最小値に
亘る変化量を、前記基準値に対する割合(%)として表
示したものである。
The above measurement result is used as a bandgap reference voltage.
VBRAnd threshold voltage reference voltage V TROf the volatility of
Is shown in FIG. In addition, ΔV on the vertical axisBROr ΔV
TRIs V DD= 5.0V, T = + 20 ℃
Cap reference voltage VBRAnd threshold voltage reference voltage VTR
V is the standard valueDD= 3V to 7V range and V
DD= T = -60 ° C to 10 for the range of 4V to 6V.
Bandgap reference voltage V in the measurement range of 0 ℃BR
And threshold voltage reference voltage VTRFrom maximum to minimum
The amount of change over time is displayed as a ratio (%) to the reference value.
It is shown.

【0042】以下、VDD=3V〜7Vの範囲における
変動率をカッコ外に、VDD=4V〜6Vの範囲におけ
る変化量をカッコ内に示す。ΔVBRは、温度補償用N
MOSFET:N3,N4を用いることによって、抵抗
素子:R',R'を用いた場合の、1.9(1.1)
%から1.2(0.4)%へと約60(40)%の変動
率に改善された。同様に、ΔVTRは、温度補償用NM
OSFETを用いることによって、抵抗素子を用いた場
合の1.7(1.0)%から1.3(0.5)%へと約
75(50)%の変動率に改善された。この様に、温度
補償用NMOSFET:N3,N4の使用によりVBR
やVTRのVDD依存性と温度依存性が大幅に改善さ
れ、その有用性が実証された。
Hereinafter, the fluctuation rate in the range of V DD = 3V to 7V is shown outside the parentheses, and the variation in the range of V DD = 4V to 6V is shown in the parentheses. ΔV BR is N for temperature compensation
MOSFET: N3, by using the N4, resistive element: R in the case of using the '3, R' 4, 1.9 (1.1)
% To 1.2 (0.4)% with a variation rate of about 60 (40)%. Similarly, ΔV TR is NM for temperature compensation.
By using the OSFET, the variation rate of about 75 (50)% was improved from 1.7 (1.0)% when the resistance element was used to 1.3 (0.5)%. Thus, by using the temperature compensating NMOSFETs: N3 and N4, V BR
The V DD dependency and the temperature dependency of V TR were significantly improved, demonstrating their usefulness.

【0043】以上に述べた測定結果は、当該基準電圧発
生回路中に存在する全てのNMOSFETについてその
基板電圧VSubを共通なGNDへ接続した場合の測定
結果であるが、図3の如く、ダイオード接続のNMOS
FET:N8をはじめとするNMOSFETの基板バイ
アス電圧VSubを調整する基板バイアス可変回路7を
設ければ、例えば、しきい値電圧基準電圧VTRを得る
場合において、VSu 電圧を変化させることにより、
ダイオード接続のNMOSFET:N8のT=0 Kで
のしきい値電圧VT0を制御できる。
The measurement results described above are the measurement results when the substrate voltage V Sub of all the NMOSFETs existing in the reference voltage generating circuit is connected to the common GND. As shown in FIG. Connection NMOS
FET: by providing the substrate bias variable circuit 7 for adjusting a substrate bias voltage V Sub of the NMOSFET, including N8, for example, in a case of obtaining a threshold voltage reference voltage V TR, changing the V Su b Voltage Due to
The threshold voltage V T0 of the diode-connected NMOSFET: N8 at T = 0 K can be controlled.

【0044】当該基準電圧発生回路中に存在する全ての
NMOSFETへの、0.0V〜−2.0Vの基板電圧
Subの印加によって、(VTRtyp電圧が1.
14Vから約0.4V高い電圧値までに亘る広範囲に制
御できる。この様に、基板電圧VSubの印加によりし
きい値電圧基準電圧VTRを広い電圧範囲にわたって可
変できることは、バンドギャップ基準電圧VBRによる
基準電圧源で得る事の出来ないしきい値電圧基準電圧V
TRを用いた基準電圧源の特長である。
By applying the substrate voltage V Sub of 0.0 V to −2.0 V to all the NMOSFETs existing in the reference voltage generating circuit, the (V TR ) typ voltage becomes 1.
It can be controlled in a wide range from 14V to a voltage value higher by about 0.4V. As described above, the fact that the threshold voltage reference voltage V TR can be varied over a wide voltage range by applying the substrate voltage V Sub means that the threshold voltage reference voltage V BR cannot be obtained by the reference voltage source by the band gap reference voltage V BR.
This is a feature of the reference voltage source using TR .

【0045】次に、電源電圧VDDを直接バンドギャッ
プ回路の電源電圧として用いない形態の実施例を示す。
図4に示すサンプル回路は、バンドギャップ回路の電源
電圧を別途ドライブ回路9によって造り出す例であり、
当該サンプル回路のドライブ回路9は、電源電圧VDD
・GND間にPMOSFET:P8、並びにドレイン・
ゲート間を短絡させダイオード接続したドライブ用NM
OSFET:N12,N13及びN14を直列に接続し
て構成し、NMOSFET:N14のドレインから図1
に示したバンドギャップ回路の電源電圧を供給する。こ
の例ではl:3、即ち、ダイオード接続のドライブ用N
MOSFETを3段直列に接続したドライブ回路9が構
成されており、3≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用
NチャネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足し
ている。また、前記バンドギャップ回路の電源端子・G
ND間にはダイオード接続のドライブ用NMOSFE
T:N9,N10を直列に接続したドライブ回路5が構
成されており、2≦(電源端子電圧)/(ドライブ用N
チャネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足して
いる。
Next, an embodiment in which the power supply voltage V DD is not directly used as the power supply voltage of the bandgap circuit will be described.
The sample circuit shown in FIG. 4 is an example in which the power supply voltage of the bandgap circuit is created by the drive circuit 9 separately.
The drive circuit 9 of the sample circuit has a power supply voltage V DD
-PMOSFET between GND: P8 and drain-
NM for drive with short circuit between gates and diode connection
OSFETs: N12, N13, and N14 are connected in series to form an NMOSFET: N14 from the drain of FIG.
The power supply voltage of the bandgap circuit shown in is supplied. In this example, 1: 3, that is, N for driving a diode connection
A drive circuit 9 in which three stages of MOSFETs are connected in series is configured and satisfies 3 ≦ (power supply voltage V DD ) / (threshold voltage V T of driving N-channel MOSFET). In addition, the power supply terminal G of the bandgap circuit
A diode-connected drive NMOS FE between ND and
A drive circuit 5 in which T: N9 and N10 are connected in series is configured, and 2 ≦ (power supply terminal voltage) / (drive N)
The threshold voltage V T of the channel MOSFET is satisfied.

【0046】また、図5に示すサンプル回路は、図1に
示す実施例のドライブ回路5のPMOSFET:P7と
ドライブ用NMOSFET:N10の間にドライブ用N
MOSFET:N11を挿入したドライブ回路8を設
け、N11のドレインをカレントミラー回路4を構成す
るPMOSFET:P1,P2,P3のソースに接続す
る。この時、ダイオード接続のドライブ用NMOSFE
T:N9,N10,N11が直列接続されたドライブ回
路8が構成されており、m:3,及び3≦(電源端子電
圧)/(ドライブ用NMOSFETのしきい値電圧
)を満足する。スタートアップに用いられるNMO
SFET:N6,N7のドレインは電源VDD、又はN
MOSFET:N11のドレインの何れかに接続する。
図5に示すサンプル回路のNMOSFET:N11又
は、図4に示すサンプル回路のNMOSFET:N14
のドレイン電圧は、VDDの3〜7(4〜6)Vに対す
る変動幅4(2)Vに対して、1.8(1.2)Vと約
1/2の変動幅に改善され、簡易の定電圧回路とみなす
ことができる。図4及び図5に示した実施例では、図1
の実施例に比べて、基準電圧の変動率は更に約70(5
0)%に改善される。
Further, the sample circuit shown in FIG. 5 is such that the drive N-channel is provided between the PMOSFET P7 and the drive NMOSFET N10 of the drive circuit 5 of the embodiment shown in FIG.
A drive circuit 8 in which MOSFET: N11 is inserted is provided, and the drain of N11 is connected to the sources of PMOSFETs: P1, P2, P3 that compose the current mirror circuit 4. At this time, the diode-connected drive NMOS FE
A drive circuit 8 in which T: N9, N10, and N11 are connected in series is configured and satisfies m: 3 and 3 ≦ (power supply terminal voltage) / (threshold voltage V T of driving NMOSFET). NMO used for startup
The drains of the SFETs N6 and N7 are the power supply V DD or N
MOSFET: Connected to either of the drains of N11.
NMOSFET: N11 of the sample circuit shown in FIG. 5 or NMOSFET: N14 of the sample circuit shown in FIG.
The drain voltage of V DD is improved to 1.8 (1.2) V, which is about 1/2 of the fluctuation range of V DD for 3 to 7 (4 to 6) V and 4 (2) V, It can be regarded as a simple constant voltage circuit. In the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, FIG.
Compared with the embodiment described above, the fluctuation rate of the reference voltage is about 70 (5
0)%.

【0047】前記図1乃至図5に示す実施例のスタート
アップ回路では、VDD・GND間に1つのPMOSF
ET:P7と、2つ又は3つのNMOSFET:N9,
N10、又はN11を直列接続した例を示し、GND側
から2つ目のNMOSFET:N10のドレインと、ド
レイン・ソース間電圧補正用NMOSFET:N5のゲ
ートを接続した。しかし、回路特性に応じてドレイン・
ソース間電圧補正用NMOSFET:N5を動作させる
ために、VDD・GND間にn段(但し、n≦VDD
)のNMOSFETを直列接続して、それらのNM
OSFETのGND側から所望の段目のドレインとドレ
イン・ソース間電圧補正用NMOSFET:N5のゲー
トを接続することも可能である。
In the start-up circuit of the embodiment shown in FIGS. 1 to 5, one PMOSF is connected between V DD and GND.
ET: P7 and two or three NMOSFETs: N9,
An example in which N10 or N11 is connected in series is shown, and the drain of the second NMOSFET: N10 from the GND side and the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5 are connected. However, depending on the circuit characteristics, the drain
Source-to-source voltage correction NMOSFET: In order to operate N5, there are n stages between V DD and GND (however, n ≦ V DD /
V T ) NMOSFETs connected in series to
It is also possible to connect the drain of the desired stage to the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5 from the GND side of the OSFET.

【0048】又、図4に示す実施例では、別のもう1段
のドライブ回路9を設置して、任意に選択した一のドラ
イブ用MOSFETのドレインから図1乃至図3に示す
実施例の電源電圧VDDに相当する回路へ電源電圧の供
給を行った。しかし、この場合には、別のドライブ回路
の追加による消費電力の増加が考えられる。そこで、図
5に示す実施例では、1段のドライブ回路8から、ドレ
イン・ソース間の電圧補正用NMOSFET:N5及び
スタートアップ用NMOSFET:N6,N7へのゲー
ト電圧供給と、カレントミラー回路4への電源電圧供給
を行い、図4に示す実施例と同様の効果が得られること
となった。
Further, in the embodiment shown in FIG. 4, another drive circuit 9 in another stage is installed so that the drain of one drive MOSFET selected arbitrarily can be used to supply the power of the embodiment shown in FIGS. The power supply voltage was supplied to the circuit corresponding to the voltage V DD . However, in this case, it is considered that the power consumption is increased by adding another drive circuit. Therefore, in the embodiment shown in FIG. 5, the gate voltage is supplied from the one-stage drive circuit 8 to the drain-source voltage correction NMOSFET N5 and the startup NMOSFETs N6 and N7, and to the current mirror circuit 4. By supplying the power supply voltage, the same effect as that of the embodiment shown in FIG. 4 can be obtained.

【0049】図10乃至図12に本発明の別のサンプル
回路を示す。これらは、前記図1、図4或いは図5と等
しい構成要素を具備するものであるが、ドレイン・ソー
ス間電圧補正用NMOSFET:N5のゲートが、基準
電圧VREFの出力端子に接続されている点でそれぞれ
異なるものである。尚、図10乃至図12では、スター
トアップ用NMOSFET:N6やN7を稼働させるド
ライブ回路を、ドレイン・ソース間電圧補正用NMOS
FET:N5のゲートが接続された図1及び図4のドラ
イブ回路5と区別してドライブ回路10と記すと共に、
図5におけるドライブ回路8と区別してドライブ回路1
1と記してある。また、図10乃至図12のサンプル回
路では、第三の電流経路3にpn接合ダイオード:D1
を用いているが、図2や図3に例示した様に、当該pn
接合ダイオード:D1にかえて、ダイオード接続したN
MOSFET:N8を用いることが出来ることは言うま
でもない。
10 to 12 show another sample circuit of the present invention. These have the same components as those in FIG. 1, FIG. 4 or FIG. 5, but the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET: N5 is connected to the output terminal of the reference voltage V REF . They differ in points. In FIGS. 10 to 12, the drive circuit for operating the startup NMOSFETs N6 and N7 is a drain-source voltage correction NMOS.
In addition to the drive circuit 10 of FIG. 1 and FIG. 4 in which the gate of the FET: N5 is connected, the drive circuit 10 is described,
The drive circuit 1 is distinguished from the drive circuit 8 in FIG.
It is written as 1. In the sample circuits of FIGS. 10 to 12, the pn junction diode D1 is provided in the third current path 3.
However, as illustrated in FIG. 2 and FIG.
Junction diode: N diode-connected instead of D1
It goes without saying that MOSFET: N8 can be used.

【0050】上記図10及び図11のサンプル回路で得
られる基準電圧VREFのVDD=3V,4V,5V,
6V,7Vでの温度依存性データを図13に示すと共
に、ドレイン・ソース間電圧補正用NMOSFET:N
5のゲートを基準電圧VREFの出力端子に接続する回
路構成の効果を検討する。T=−60℃〜100℃の範
囲におけるVBRの変動率は、図10のサンプル回路で
は図13(イ)の如く約0.05%(変動値:約0.6
mV)という結果が得られ、図11のサンプル回路では
図13(ロ)の如く約0.03%(変動値:約0.4m
V)という結果が得られた。これは、図1のサンプル回
路での結果(図6(イ)参照)である約0.6%に比べ
て、1/10以下の変動率ΔVBRが得られることとな
り、ドレイン・ソース間電圧補正用NMOSFET:N
5のゲートを基準電圧VREFの出力端子に接続する回
路構成の有効さを端的に証明していると言える。
V DD of the reference voltage V REF obtained by the sample circuits of FIGS. 10 and 11 is 3 V, 4 V, 5 V,
The temperature dependence data at 6V and 7V are shown in FIG. 13, and the drain-source voltage correction NMOSFET: N
Consider the effect of the circuit configuration in which the gate of 5 is connected to the output terminal of the reference voltage V REF . In the sample circuit of FIG. 10, the variation rate of V BR in the range of T = −60 ° C. to 100 ° C. is about 0.05% (variation value: about 0.6) as shown in FIG.
The result obtained is about 0.03% (variation value: about 0.4 m) as shown in FIG. 13B.
The result V) was obtained. This means that a variation rate ΔV BR of 1/10 or less can be obtained compared with the result of the sample circuit of FIG. 1 (see FIG. 6A) of about 0.6%, and the drain-source voltage is Correction NMOSFET: N
It can be said that the effectiveness of the circuit configuration in which the gate of No. 5 is connected to the output terminal of the reference voltage V REF is directly proved.

【0051】上記図1乃至図5、並びに図10乃至図1
2に示すサンプル回路では、基準電圧VREFの引出点
とGNDとの間に、電源VDD側からpn接合ダイオー
ドD1,NMOSFET:N4の順に、又はダイオード
接続のNMOSFET:N8,NMOSFET:N4の
順に接続したが、この順番は入れ替ることも可能であ
る。本実施例ではnウェルCMOSプロセスを用いたた
めに、nウェル内に形成したpn接合ダイオードD1の
ダイオード電流が寄生バイポーラ効果によって基板に漏
れる場合があるので、別チップ上に形成したpn接合ダ
イオードD1を用いたが、トリプル・ウェル構造のCM
OSプロセス等を用いれば、この制約はなく、1チップ
で実現できる。
1 to 5 and FIGS. 10 to 1
In the sample circuit shown in 2, the pn junction diode D1, NMOSFET: N4 or the diode-connected NMOSFET: N8, NMOSFET: N4 in this order from the power supply V DD side between the pull-out point of the reference voltage V REF and GND. Although connected, this order can be changed. Since the n-well CMOS process is used in the present embodiment, the diode current of the pn junction diode D1 formed in the n well may leak to the substrate due to the parasitic bipolar effect. Therefore, the pn junction diode D1 formed on another chip is used. Used, but CM of triple well structure
If an OS process or the like is used, there is no such limitation and it can be realized with one chip.

【0052】一方、しきい値電圧基準電圧VTRによる
基準電圧発生回路の場合には、nウェルCMOSプロセ
スでは、ダイオード接続のNMOSFET:N8のソー
スがI・R(但し、RはNMOSFET:N4の
等価抵抗値)の電圧分だけ上昇するので、その基板バイ
アス電圧によるVT0上昇分だけしきい値電圧基準電圧
TRが上昇することとなる。しかし、トリプル・ウェ
ル構造のCMOSプロセス等を用いれば、NMOSFE
T:N8の基板とソースを共通接続できるので、この基
板バイアス電圧によるVT0の変化は生じない。又、用
いるCMOSプロセスによってはNMOSFETとPM
OSFETを全て入れ替えた回路構成を採る事も可能で
ある。尚、pn接合ダイオードD1の代わりにバイポー
ラ・トランジスタを用いることもできることは言うまで
もない。
On the other hand, in the case of the reference voltage generating circuit based on the threshold voltage reference voltage V TR , in the n-well CMOS process, the diode-connected NMOSFET: N8 has a source of I 3 · R 4 (where R 4 is an NMOSFET). : Equivalent resistance value of N4), the threshold voltage reference voltage V TR rises by the amount of V T0 rise due to the substrate bias voltage. However, if the triple well structure CMOS process is used, the NMOSFE
Since the substrate and the source of T: N8 can be commonly connected, the change of V T0 due to the substrate bias voltage does not occur. Also, depending on the CMOS process used, NMOSFET and PM
It is also possible to adopt a circuit configuration in which all the OSFETs are replaced. Needless to say, a bipolar transistor can be used instead of the pn junction diode D1.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上の如く、本発明によるMOS型基準
電圧発生回路によれば、従来用いられた抵抗素子を用い
ることなく回路素子をMOSFETとpn接合ダイオー
ド又はMOSFETのみで構成することができ、チップ
面積の縮小と基準電圧の安定化が実現できた。
As described above, according to the MOS type reference voltage generating circuit of the present invention, the circuit element can be constituted by only the MOSFET and the pn junction diode or the MOSFET without using the resistance element which has been used conventionally. We were able to reduce the chip area and stabilize the reference voltage.

【0054】更に、PMOSFETで構成される複数の
電流経路を有するカレントミラー回路と、それ等の電流
経路に接続された複数のNMOSFETを有する回路に
おいて、複数のNMOSFETのソース・ドレイン間電
圧補正用MOSFETを上記PMOSFETと直列に接
続し、例えばPMOSFETで構成される第一、第二及
び第三の電流経路を有し上記第二の電流経路をバイアス
段とするカレントミラー回路と、第一の電流経路に接続
されたサブサブスレッショルド領域で動作するNMOS
FETと、第二の電流経路に接続されたサブスレッショ
ルド領域で動作するNMOSFET、及び抵抗素子に換
えて用いたNMOSFETと、第三の電流経路に接続さ
れたpn接合ダイオードと、抵抗素子に換えて用いたN
MOSFETとで構成されるバンドギャップ基準電圧発
生回路において、第二の電流経路における上記PMOS
FETとNMOSFETの間にドレイン・ソース間電圧
補正用NMOSFETを接続する構成を採ることによっ
て、前記カレントミラー回路を構成するNMOSFET
のドレイン電圧がほぼ等しくなる結果、NMOSFET
のドレイン電流が等しくなってVREFの安定性が大幅
に改善された。
Further, in a circuit having a current mirror circuit having a plurality of current paths composed of PMOSFETs and a plurality of NMOSFETs connected to these current paths, MOSFETs for correcting the source-drain voltage of the plurality of NMOSFETs are provided. Is connected in series with the PMOSFET, and has a first, second and third current path composed of, for example, PMOSFET, and a current mirror circuit having the second current path as a bias stage, and a first current path Operating in the sub-subthreshold region connected to the
FET, NMOSFET operating in the subthreshold region connected to the second current path, and NMOSFET used in place of the resistance element, pn junction diode connected to the third current path, and resistance element Used N
In a bandgap reference voltage generation circuit including a MOSFET, the PMOS in the second current path
An NMOSFET that constitutes the current mirror circuit by adopting a configuration in which a drain-source voltage correction NMOSFET is connected between the FET and the NMOSFET.
As a result of the drain voltages of the NMOSFETs becoming almost equal,
The drain currents of V REF were equalized, and the stability of V REF was significantly improved.

【0055】また、電源VDD・GND間に、PMOS
FETと、ダイオード接続のドライブ用NMOSFET
をn段に直列接続し、n:自然数,及びn≦(電源電圧
)/(ドライブ用NMOSFETのしきい値電圧
)を満足するドライブ回路を設ければ、実施例で示
した2段目以外の適当な段のドレイン電圧をドレイン・
ソース間電圧補正用NMOSFETのゲートに印加でき
るので、N1とN2等カレントミラー構成にある複数の
NMOSFETのドレイン電圧差の補正をより精密に調
整することが可能となる。
Further, a PMOS is connected between the power source V DD and GND.
FET and diode-connected drive NMOSFET
Were connected in series to the n stages, n: natural number, and n ≦ (power supply voltage V D D) / be provided drive circuit which satisfies the (threshold voltage V T of the drive for the NMOSFET), shown in Example Drain the drain voltage of an appropriate stage other than the second stage.
Since the voltage can be applied to the gate of the source-to-source voltage correction NMOSFET, it is possible to more accurately adjust the drain voltage difference between the plurality of NMOSFETs in the current mirror configuration such as N1 and N2.

【0056】また、1段目の前記ドライブ用NMOSF
ETのドレインがゲートに接続されると共に、電源V
DDがドレインに接続され、前記第一の電流経路におけ
るNMOSFETのドレインがソースに接続されたNM
OSFET:N6と、ゲートに2段目の前記ドライブ用
NMOSFETのドレインが接続され、電源VDDがド
レインに接続され、前記第二と第三の電流経路に抵抗素
子のかわりに接続されたNMOSFETのゲートがソー
スに接続されたNMOSFET:N7とを用いたスター
トアップ回路を設けることによって、所望のゲート電圧
を速やかに供給して前記バンドギャップ回路のスタート
アップを遅滞無く行なうことができる。更に、カレント
ミラー回路4の電源を3段目の前記ドライブ用NMOS
FET:N11のドレインから供給すれば、電源電圧V
DDの変化高が約1/2に改善された電源がカレントミ
ラー回路4に印加されることになり、得られる基準電圧
の変動率も大幅に改善される。
The drive NMOSF of the first stage
The drain of ET is connected to the gate and the power supply V
NM in which DD is connected to the drain and the drain of the NMOSFET in the first current path is connected to the source
OSFET: N6, the drain of the second driving NMOSFET is connected to the gate, the power supply V DD is connected to the drain, and the NMOSFET connected to the second and third current paths instead of the resistance element. By providing a start-up circuit using NMOSFET: N7 whose gate is connected to the source, a desired gate voltage can be rapidly supplied to start up the bandgap circuit without delay. Further, the power source of the current mirror circuit 4 is the drive NMOS of the third stage.
FET: If supplied from the drain of N11, the power supply voltage V
The power supply whose DD change height is improved to about 1/2 is applied to the current mirror circuit 4, and the fluctuation rate of the obtained reference voltage is also greatly improved.

【0057】前記第三の電流経路に接続されたpn接合
ダイオードを用いたバンドギャップ基準電圧がバンドギ
ャップという物理定数で決定される約1.21Vの一定
値に固定されるのに比べて、前記第三の電流経路に接続
されたpn接合ダイオードの代わりに、ダイオード接続
のNMOSFET:N8を用いることによって、基準電
圧は製造プロセスによって任意に調整可能なしきい値電
圧で制御可能となり、基準電圧の設定範囲が大幅に広く
なる。このことは、CMOSFETの微細化とともに電
源電圧が低下し、それにつれて基準電圧も低下する傾向
に対応することを可能にするものである。更に、前記ダ
イオード接続のNMOSFET:N8における基板バイ
アス電圧VSubを調整する基板バイアス可変回路を設
けたことによって、しきい値電圧基準電圧VTRを広い
電圧範囲にわたって変化させることができる。
The bandgap reference voltage using the pn junction diode connected to the third current path is fixed to a constant value of about 1.21 V, which is determined by a physical constant called a bandgap. By using a diode-connected NMOSFET: N8 instead of the pn junction diode connected to the third current path, the reference voltage can be controlled by a threshold voltage that can be arbitrarily adjusted by the manufacturing process, and the reference voltage can be set. The range will be significantly wider. This makes it possible to cope with the tendency that the power supply voltage is reduced with the miniaturization of the CMOSFET and the reference voltage is accordingly reduced. Further, by providing the substrate bias variable circuit for adjusting the substrate bias voltage V Sub in the diode-connected NMOSFET: N8, the threshold voltage reference voltage V TR can be changed over a wide voltage range.

【0058】また、温度補償用抵抗素子にかえて接続し
た前記温度補償用NMOSFET(前記N3,N4等)
のゲートを基準電圧VREFの出力端子に接続すると共
に、ドレイン・ソース間電圧補正用NMOSFET(前
記N5等)のゲートを、前記いずれのドライブ回路を構
成するドライブ用NMOSFETのドレインにも接続す
ることなく、基準電圧VREFの出力端子に接続するこ
とによって、電源電圧VDDと温度の変化に対して極めて
安定な基準電圧VREFを得ることができる。
The temperature compensating NMOSFETs (N3, N4, etc.) connected instead of the temperature compensating resistance element.
Is connected to the output terminal of the reference voltage V REF , and the gate of the drain-source voltage correction NMOSFET (N5, etc.) is also connected to the drain of the drive NMOSFET constituting any of the drive circuits. without by connecting the output terminal of the reference voltage V REF, it is possible to obtain a very stable reference voltage V REF to changes in the power supply voltage V DD and temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図2】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図3】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図4】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図5】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一例
を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図6】(イ)(ロ)第二、第三の電流経路の電流を決
定する抵抗素子に換えて温度補償用NMOSFETを用
いた場合と、従来通り抵抗素子を用いた場合について、
電圧変動による影響を含めた基準電圧V
REF(VBR)の温度特性を示したグラフである。
6A and 6B show a case where a temperature compensating NMOSFET is used in place of the resistance element that determines the current in the second and third current paths, and a case where a resistance element is used as in the conventional case.
Reference voltage V including the effect of voltage fluctuation
It is a graph which showed the temperature characteristic of REF ( VBR ).

【図7】(イ)(ロ)第二、第三の電流経路の電流を決
定する抵抗素子に換えて温度補償用NMOSFETを用
いた場合と、従来通り抵抗素子を用いた場合について、
電圧変動による影響を含めた基準電圧V
REF(VTR)の温度特性を示したグラフである。
FIG. 7 (b) shows a case where a temperature compensating NMOSFET is used in place of the resistance element that determines the current in the second and third current paths, and a case where a resistance element is used as in the conventional case.
Reference voltage V including the effect of voltage fluctuation
It is a graph which showed the temperature characteristic of REF ( VTR ).

【図8】第二、第三の電流経路の電流を決定する抵抗素
子に換えて温度補償用NMOSFETを用いた場合と、
従来通り抵抗素子を用いた場合について、電圧変動によ
る影響を含めた基準電圧VREF(VBR及びVTR
の温度特性を変動幅を以て示したグラフである。
FIG. 8 shows a case where a temperature compensating NMOSFET is used in place of the resistance element that determines the currents in the second and third current paths,
The reference voltage V REF (V BR and V TR ) including the effect of voltage fluctuation in the case where the resistance element is used as usual.
3 is a graph showing the temperature characteristics of the graph with a fluctuation range.

【図9】従来のMOS型基準電圧発生回路の一例を示す
回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of a conventional MOS reference voltage generation circuit.

【図10】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一
例を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図11】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一
例を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図12】本発明によるMOS型基準電圧発生回路の一
例を示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a MOS type reference voltage generating circuit according to the present invention.

【図13】(イ)(ロ)前記図10並びに図11に示す
MOS型基準電圧発生回路の電圧変動による影響を含め
た基準電圧VREF(VBR)の温度特性を示したグラ
フである。
13A and 13B are graphs showing the temperature characteristics of the reference voltage V REF (V BR ) including the influence of the voltage fluctuation of the MOS type reference voltage generating circuit shown in FIGS. 10 and 11.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第一の電流経路 2 第二の電流経路 3 第三の電流経路 4 カレントミラー回路 5 ドライブ回路 6 スタートアップ回路 7 基板バイアス可変回路 8 ドライブ回路 9 ドライブ回路 10 ドライブ回路 11 ドライブ回路 1 First current path 2 Second current path 3 Third current path 4 Current mirror circuit 5 drive circuit 6 Startup circuit 7 Substrate bias variable circuit 8 drive circuit 9 Drive circuit 10 drive circuit 11 Drive circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 敏弘 富山県射水郡小杉町黒河5180 富山県立大 学内 (72)発明者 金森 章 富山県射水郡小杉町黒河5180 富山県立大 学内 (72)発明者 中島 茂樹 富山県魚津市江口2184 株式会社シキノハ イテック内 (72)発明者 伊原 隆 富山県魚津市江口2184 株式会社シキノハ イテック内 (72)発明者 山本 真也 富山県魚津市江口2184 株式会社シキノハ イテック内 Fターム(参考) 5H420 NA23 NA27 NB02 NB25 NC02 NE01 NE23 5J090 AA01 AA11 AA58 CA02 CA04 CA87 CA92 FA00 FN00 HA17 HA19 HA25 KA00 KA09 MA21 TA02 TA04 5J500 AA01 AA11 AA58 AC02 AC04 AC87 AC92 AF00 AH17 AH19 AH25 AK00 AK09 AM21 AT02 AT04 NF00    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Toshihiro Matsuda             5180 Kurokawa, Kosugi-cho, Imizu-gun, Toyama Prefecture Toyama Prefectural University             On campus (72) Inventor Akira Kanemori             5180 Kurokawa, Kosugi-cho, Imizu-gun, Toyama Prefecture Toyama Prefectural University             On campus (72) Inventor Shigeki Nakajima             2184 Eguchi, Uozu City, Toyama Prefecture Shikinoha Co., Ltd.             In Itek (72) Inventor Takashi Ihara             2184 Eguchi, Uozu City, Toyama Prefecture Shikinoha Co., Ltd.             In Itek (72) Inventor Shinya Yamamoto             2184 Eguchi, Uozu City, Toyama Prefecture Shikinoha Co., Ltd.             In Itek F-term (reference) 5H420 NA23 NA27 NB02 NB25 NC02                       NE01 NE23                 5J090 AA01 AA11 AA58 CA02 CA04                       CA87 CA92 FA00 FN00 HA17                       HA19 HA25 KA00 KA09 MA21                       TA02 TA04                 5J500 AA01 AA11 AA58 AC02 AC04                       AC87 AC92 AF00 AH17 AH19                       AH25 AK00 AK09 AM21 AT02                       AT04 NF00

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 PチャネルMOSFETで構成される複
数の電流経路を有するカレントミラー回路(4)と、そ
れ等の電流経路に接続された複数のNチャネルMOSF
ETを有する回路において、ゲートが基準電圧の出力端
子に接続された温度補償用NチャネルMOSFET:N
3,N4を上記PチャネルMOSFETと直列に接続し
たMOS型基準電圧発生回路。
1. A current mirror circuit (4) having a plurality of current paths composed of P-channel MOSFETs, and a plurality of N-channel MOSFs connected to these current paths.
In a circuit having ET, a temperature compensating N-channel MOSFET whose gate is connected to an output terminal of a reference voltage: N
A MOS type reference voltage generating circuit in which N3 and N4 are connected in series with the P-channel MOSFET.
【請求項2】 PチャネルMOSFETで構成される第
一、第二及び第三の電流経路(1,2,3)を有し上記
第二の電流経路をバイアス段とするカレントミラー回路
(4)と、前記第一の電流経路(1)に接続されたサブ
スレッショルド領域で動作するNチャネルMOSFE
T:N1と、前記第二の電流経路(2)に接続された、
サブスレッショルド領域で動作するNチャネルMOSF
ET:N2、ゲートが基準電圧の出力端子に接続された
温度補償用NチャネルMOSFET:N3、及び当該第
二の電流経路(2)における上記PチャネルMOSFE
Tと前記NチャネルMOSFET:N2の間に直列接続
されたドレイン・ソース間電圧補正用NチャネルMOS
FET:N5と、第三の電流経路(3)に接続されたp
n接合ダイオード:D1及びゲートが基準電圧の出力端
子に接続された温度補償用NチャネルMOSFET:N
4とでバンドギャップ基準電圧発生回路を構成してなる
MOS型基準電圧発生回路。
2. A current mirror circuit (4) having first, second and third current paths (1, 2, 3) composed of P-channel MOSFETs and using the second current path as a bias stage. And an N-channel MOSFE operating in the subthreshold region connected to the first current path (1)
T: N1 and connected to the second current path (2),
N-channel MOSF operating in subthreshold region
ET: N2, temperature compensation N-channel MOSFET whose gate is connected to the output terminal of the reference voltage: N3, and the P-channel MOSFE in the second current path (2).
N-channel MOS for voltage correction between drain and source connected in series between T and the N-channel MOSFET: N2
FET: N5 and p connected to the third current path (3)
n-junction diode: D1 and temperature-compensating N-channel MOSFET whose gate is connected to the reference voltage output terminal: N
4. A MOS type reference voltage generating circuit comprising a bandgap reference voltage generating circuit together with 4.
【請求項3】 前記第三の電流経路(3)に接続された
pn接合ダイオード:D1に換えて、ダイオード接続の
NチャネルMOSFET:N8を用いたことを特徴とす
る前記請求項2に記載のMOS型基準電圧発生回路。
3. The diode-connected N-channel MOSFET: N8 is used in place of the pn junction diode: D1 connected to the third current path (3), and the diode-connected N-channel MOSFET: N8 is used. MOS type reference voltage generation circuit.
【請求項4】 前記ダイオード接続のNチャネルMOS
FET:N8における基板バイアス電圧VSubを調整
する基板バイアス可変回路(7)を設けたことを特徴と
する前記請求項3に記載のMOS型基準電圧発生回路。
4. The diode-connected N-channel MOS
4. The MOS reference voltage generating circuit according to claim 3, further comprising a substrate bias variable circuit (7) for adjusting the substrate bias voltage V Sub in the FET: N8.
【請求項5】 電源VDD・GND間に、PチャネルM
OSFETと、ダイオード接続のドライブ用Nチャネル
MOSFETをn段に直列接続し、任意に選択した一の
ドライブ用NチャネルMOSFETのドレインを前記ド
レイン・ソース間電圧補正用NチャネルMOSFET:
N5のゲートに接続し、且つ、n:自然数,及びn≦
(電源電圧VDD)/(ドライブ用NチャネルMOSF
ETのしきい値電圧V)を満足するドライブ回路
(5)を具備したことを特徴とする前記請求項2,3又
は4のいずれかに記載のMOS型基準電圧発生回路。
5. A P-channel M between the power supply V DD and GND.
An OSFET and a diode-connected driving N-channel MOSFET are connected in series in n stages, and the drain of one arbitrarily selected driving N-channel MOSFET is the drain-source voltage correction N-channel MOSFET:
It is connected to the gate of N5, and n is a natural number and n ≦
(Power supply voltage V DD ) / (Drive N-channel MOSF
5. The MOS type reference voltage generating circuit according to claim 2, further comprising a drive circuit (5) satisfying a threshold voltage V T of ET.
【請求項6】 電源VDD・GND間に、PチャネルM
OSFETと、ダイオード接続のドライブ用Nチャネル
MOSFETをl段に直列接続し、且つ、l:自然数、
及びl≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用Nチャネル
MOSFETのしきい値電圧V)を満足するドライブ
回路(9)を具備し、当該ドライブ回路(9)を構成す
るドライブ用NチャネルMOSFETのうちから任意に
選択した一のドライブ用NチャネルMOSFETのドレ
インが、前記PチャネルMOSFETで構成される第
一、第二及び第三の電流経路(1,2,3)の電源端子
として接続されると共に、当該電源端子・GND間に、
PチャネルMOSFETと、ダイオード接続のドライブ
用NチャネルMOSFETをn段に直列接続し、当該直
列接続されたドライブ用NチャネルMOSFETのうち
から任意に選択した一のドライブ用NチャネルMOSF
ETのドレインを前記ドレイン・ソース間電圧補正用N
チャネルMOSFET:N5のゲートに接続し、且つ、
n:自然数,及びn≦(電源端子電圧)/(ドライブ用
NチャネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足す
るドライブ回路(5)を具備したことを特徴とする前記
請求項2,3又は4のいずれかに記載のMOS型基準電
圧発生回路。
6. A P channel M between the power supply V DD and GND.
An OSFET and a diode-connected drive N-channel MOSFET are connected in series in l stages, and l is a natural number,
And a drive circuit (9) satisfying l ≦ (power supply voltage V DD ) / (threshold voltage V T of drive N-channel MOSFET), and the drive N-channel MOSFET constituting the drive circuit (9). The drain of one drive N-channel MOSFET arbitrarily selected from the above is connected as a power supply terminal of the first, second and third current paths (1, 2, 3) constituted by the P-channel MOSFET. In addition, between the power supply terminal and GND,
A P-channel MOSFET and a diode-connected drive N-channel MOSFET are connected in series in n stages, and one drive N-channel MOSF arbitrarily selected from the series-connected drive N-channel MOSFETs.
The drain of ET is connected to the drain-source voltage correction N
Channel MOSFET: connected to the gate of N5, and
4. A drive circuit (5) satisfying n: a natural number, and n ≦ (power supply terminal voltage) / (threshold voltage V T of drive N-channel MOSFET), characterized in that the drive circuit (5) is provided. 5. The MOS type reference voltage generating circuit according to any one of 4 above.
【請求項7】 前記ドライブ回路(5)を構成する前記
ドライブ用NチャネルMOSFETのうちから任意に選
択した一の前記ドライブ用NチャネルMOSFETのド
レインがゲートに接続されると共に、前記第一の電流経
路(1)におけるNチャネルMOSFET:N1のドレ
インがソースに接続されたNチャネルMOSFET:N
6と、前記ドレイン・ソース間電圧補正用NチャネルM
OSFET:N5のゲートに接続されるドライブ回路を
構成する前記ドライブ用NチャネルMOSFETのうち
から任意に選択した一の前記ドライブ用NチャネルMO
SFETのドレインがゲートに接続されると共に、前記
温度補償用NチャネルMOSFET:N3,N4のゲー
トがソースに接続されたNチャネルMOSFET:N7
を用いたスタートアップ回路(6)を有する前記請求項
5又は6のいずれかに記載のMOS型基準電圧発生回
路。
7. The drain of one of the drive N-channel MOSFETs arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFETs forming the drive circuit (5) is connected to the gate, and the first current N-channel MOSFET: N in which the drain of the N-channel MOSFET: N1 in the path (1) is connected to the source
6 and the N-channel M for correcting the drain-source voltage
OSFET: One drive N-channel MO arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFETs forming the drive circuit connected to the gate of N5.
The drain of the SFET is connected to the gate, and the gates of the temperature compensating N-channel MOSFETs N3 and N4 are connected to the sources of the N-channel MOSFET: N7.
7. The MOS reference voltage generating circuit according to claim 5, further comprising a start-up circuit (6) using the.
【請求項8】 電源VDD・GND間に、PチャネルM
OSFETと、ダイオード接続のドライブ用Nチャネル
MOSFETをm段に直列接続し、且つ、m:自然数、
及びm≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用Nチャネル
MOSFETのしきい値電圧V)を満足するドライブ
回路(9)を具備し、当該ドライブ回路(9)を構成す
るドライブ用NチャネルMOSFETのうちから任意に
選択した一のドライブ用NチャネルMOSFETのドレ
インが、前記PチャネルMOSFETで構成される第
一、第二及び第三の電流経路(1,2,3)の電源端子
として接続されたことを特徴とする前記請求項2,3又
は4のいずれかに記載のMOS型基準電圧発生回路。
8. A P-channel M between the power supply V DD and GND.
An OSFET and a diode-connected drive N-channel MOSFET are connected in series in m stages, and m is a natural number,
And a drive circuit (9) satisfying m ≦ (power supply voltage V DD ) / (threshold voltage V T of drive N-channel MOSFET), which constitutes the drive circuit (9). The drain of one drive N-channel MOSFET arbitrarily selected from the above is connected as a power supply terminal of the first, second and third current paths (1, 2, 3) constituted by the P-channel MOSFET. The MOS type reference voltage generating circuit according to claim 2, 3 or 4, characterized in that.
【請求項9】 前記ドレイン・ソース間電圧補正用Nチ
ャネルMOSFET:N5のゲートを基準電圧VREF
の出力端子に接続したことを特徴とする前記請求項2,
3又は4のいずれかに記載のMOS型基準電圧発生回
路。
9. The drain-source voltage correction N-channel MOSFET: N5 has a gate connected to a reference voltage V REF.
Said output terminal is connected to said output terminal
5. A MOS type reference voltage generating circuit according to any one of 3 and 4.
【請求項10】 電源VDD・GND間に、Pチャネル
MOSFETと、ダイオード接続のドライブ用Nチャネ
ルMOSFETをq段に直列接続し、且つ、q:自然
数、及びq≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用Nチャ
ネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足するドラ
イブ回路(10)を具備したことを特徴とする前記請求
項2,3,4又は9のいずれかに記載のMOS型基準電
圧発生回路。
10. A P-channel MOSFET and a diode-connected drive N-channel MOSFET are connected in series in q stages between the power supply V DD and GND, and q is a natural number and q ≦ (power supply voltage V DD ) / 10. The MOS type reference voltage according to claim 2, further comprising a drive circuit (10) satisfying a threshold voltage V T of a driving N-channel MOSFET. Generator circuit.
【請求項11】 電源VDD・GND間に、Pチャネル
MOSFETと、ダイオード接続のドライブ用Nチャネ
ルMOSFETをl段に直列接続し、且つ、l:自然
数、及びl≦(電源電圧VDD)/(ドライブ用Nチャ
ネルMOSFETのしきい値電圧V)を満足するドラ
イブ回路(9)を具備し、当該ドライブ回路(9)を構
成するドライブ用NチャネルMOSFETのうちから任
意に選択した一のドライブ用NチャネルMOSFETの
ドレインが、前記PチャネルMOSFETで構成される
第一、第二及び第三の電流経路(1,2,3)の電源端
子として接続されると共に、当該電源端子・GND間
に、PチャネルMOSFETと、ダイオード接続のドラ
イブ用NチャネルMOSFETをq段に直列接続し、且
つ、q:自然数,及びq≦(電源端子電圧)/(ドライ
ブ用NチャネルMOSFETのしきい値電圧V)を満
足するドライブ回路(10)を具備したことを特徴とす
る前記請求項2,3,4又は9のいずれかに記載のMO
S型基準電圧発生回路。
11. A P-channel MOSFET and a diode-connected driving N-channel MOSFET are connected in series between the power supplies V DD and GND in a l-stage, and l is a natural number and l ≦ (power supply voltage V DD ) / A drive circuit (9) satisfying (threshold voltage V T of drive N-channel MOSFET), and one drive arbitrarily selected from drive N-channel MOSFETs constituting the drive circuit (9). The drain of the N channel MOSFET for use is connected as a power supply terminal of the first, second and third current paths (1, 2, 3) constituted by the P channel MOSFET, and between the power supply terminal and GND. , P-channel MOSFET and diode-connected N-channel driving MOSFET are connected in series in q stages, and q is a natural number and q ≦ (power source terminal voltage) / any of the claims 2,3,4 or 9, characterized by including a drive circuit (10) which satisfies (threshold voltage V T of the N-channel MOSFET Drive) MO described in crab
S-type reference voltage generation circuit.
【請求項12】 前記ドライブ回路(10)を構成する
前記ドライブ用NチャネルMOSFETのうちから任意
に選択した一の前記ドライブ用NチャネルMOSFET
のドレインがゲートに接続されると共に、前記第一の電
流経路(1)におけるNチャネルMOSFET:N1の
ドレインがソースに接続されたNチャネルMOSFE
T:N6と、前記ドライブ用NチャネルMOSFETの
うちから任意に選択した一の前記ドライブ用Nチャネル
MOSFETのドレインがゲートに接続されると共に、
前記温度補償用NチャネルMOSFET:N3,N4の
ゲートがソースに接続されたNチャネルMOSFET:
N7を用いたスタートアップ回路(6)を有する前記請
求項10又は11のいずれかに記載のMOS型基準電圧
発生回路。
12. The drive N-channel MOSFET arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFETs forming the drive circuit (10).
N-channel MOSFE in which the drain of is connected to the gate and the drain of the N-channel MOSFET: N1 in the first current path (1) is connected to the source.
T: N6 and the drain of one drive N-channel MOSFET arbitrarily selected from the drive N-channel MOSFETs is connected to the gate,
N-channel MOSFETs for temperature compensation: N-channel MOSFETs in which the gates of N3 and N4 are connected to their sources:
12. The MOS type reference voltage generating circuit according to claim 10, further comprising a startup circuit (6) using N7.
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