JP2003243973A - デューティ比可変回路およびデューティ比調整回路 - Google Patents

デューティ比可変回路およびデューティ比調整回路

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 LSIのクロック分配網の末端においてもデ
ューティ比50%が実現できるようにする。 【解決手段】 被制御クロックS0は、pMOS Q
1、Q2、nMOS Q3、Q4によって構成されるイ
ンバータINV1に入力される。制御クロックS1は、
電源とINV1の出力端間に接続されたpMOS Q5
のゲートに入力される。S1はS0より位相の遅れたク
ロックである。S0がハイに転じ、S1が未だローであ
るとき、電圧変調クロックSS0は、インバータINV
2のしきい値より高くなるように設定されている。よっ
て、この時調整済クロックS2はローレベルのままであ
る。S0がローに転じるとS2もローとなる。よって、
調整済クロックS2として、ライズエッジがS1にフォ
ールエッジがS0に合わせられたクロックが得られる。
このようにして得られたクロックをLSIに供給する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI内に供給さ
れるクロックのデューティ比を変化させるデューティ比
可変回路と、このデューティ比可変回路を用いてLSI
内に供給されるクロックのデューティ比を調整するデュ
ーティ比調整回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】LSI内においては内部回路を同期をと
って動作させる必要があるためLSI全面にクロックが
供給される。一般的にはクロックはLSI全面に均等に
分配されることが望ましい。この分配方式はいろいろ提
案されている。一例としては「VLSIシステム設計
回路と実装の基礎」(中村喜三郎 中村宏 監訳 丸善
原書「Circuits, Interconnections and Packaging for
VLSI」 H.B. Bakoglu, Addison-Wesley Publishing C
ompany発行)の8章にHクロックトリー方式が紹介され
ている。クロック入力端子は通常LSIに1つで、そこ
から全面に均等分配するためにはいかなる分配方式にせ
よ、クロックドライバと呼ばれるクロック分配専用のバ
ッファを多段に接続して分配している。段数はLSIサ
イズなどによるが数段から十数段になることもある。ク
ロックドライバは一般にインバータまたはインバータを
縦続接続したバッファである。図13は、クロック分配
の一方式を示す構成図であって、上記文献の図から引用
し、加筆したものである。クロック入力端子51から入
力されたクロックは、PLL(位相同期ループ)回路5
2で逓倍され、クロックトリーにてクロックドライバ5
3を介してa、b、c、d、eの順に分配される。この
図では三段のクロックドライバ53が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のクロッ
ク分配方式では、PLL回路出力ではデューティ比50
%が補償されているが、クロックトリーにてa〜eと分
配されたクロックではデューティ比はプロセスばらつき
により50%からずれる。図14は、その様子を説明す
る波形図であって、図14の(a)〜(e)は、図13
のa〜eに対応している。デューティ比のずれ幅はプロ
セスや段数、分配方式にもよるが、+/−20%程度は
崩れることがある。一方で、クロックの高周波化は不断
に進められており、20%程度の崩れでも動作上重大な
問題を引き起こすようになってきている。例えば、2G
Hzを超えるような高周波数の場合、分配末端ではフル
振幅せずにクロックがなくなってしまうようなことも起
こり得る。また、通常の論理回路ではクロックの立ち上
がりエッジ(以下、ライズエッジと記す)のみが使用さ
れてきたが、近年ではさらなる高速化や多機能化のた
め、立ち下がりエッジ(以下、フォールエッジと記す)
を使用することもあり、この場合分配末端でのデューテ
ィ比が50%から大きくずれると正常動作が行われなく
なる可能性が生じる。本発明の課題は、上述した従来技
術の問題点を解決することであって、その目的は、分配
末端でのクロックデューティ比を例えば50%に正確に
調整できるようにシリコン、これにより動作高速化され
た場合にもLSIを安定して動作させ得るようにするこ
とである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明によれば、被制御クロック信号が入力される
インバータと、前記インバータの出力線と電源との間に
接続される、制御クロック信号によって制御される第1
種のスイッチング素子と、前記出力線の電圧を識別して
ハイ/ロ−の信号を出力する電圧弁別回路と、を有する
デューティ比可変回路、が提供される。また、上記の目
的を達成するため、本発明によれば、被制御クロック信
号が入力されるインバータと、前記インバータの出力線
と接地間に接続される、制御クロック信号によって制御
される第2種のスイッチング素子と、前記出力線の電圧
を識別してハイ/ロ−の信号を出力する電圧弁別回路
と、を有するデューティ比可変回路、が提供される。ま
た、上記の目的を達成するため、本発明によれば、被制
御クロック信号が入力されるインバータと、前記インバ
ータの出力線と電源との間に接続される、第1の制御ク
ロック信号によって制御される第1種のスイッチング素
子と、前記インバータの出力線と接地間に接続される、
第2の制御クロック信号によって制御される第2種のス
イッチング素子と、前記出力線の電圧を識別してハイ/
ロ−の信号を出力する電圧弁別回路と、を有するデュー
ティ比可変回路、が提供される。
【0005】また、上記の目的を達成するため、本発明
によれば、クロックが入力され、被制御クロック信号お
よび遅延量の異なる複数の遅延クロックをセレクタ回路
に出力するディレイラインと、前記被制御クロック信号
と前記セレクタ回路の出力信号とが入力されバッファを
介して回路にクロックを供給するデューティ比可変回路
と、分配された回路内のクロックのデューティ比を検出
するデューティ比検出回路と、前記デューティ比検出回
路が検出したデューティ比に基づいて前記セレクタ回路
を制御して、所望の遅延量の遅延クロックを出力させる
セレクタ制御回路と、を備え、前記デューティ比可変回
路は、ライズエッジまたはフォールエッジを入力された
遅延クロックのそれに揃えることを特徴とするデューテ
ィ比調整回路、が提供される。
【0006】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の
デューティ可変回路の実施の形態を示すブロック図であ
る。図1に示すように、被制御クロックS0は、インバ
ータ1に入力され、反転される。インバータ1の出力線
には、制御クロックS1が入力されこれによって制御さ
れる電圧変調回路が接続され、この回路によりインバー
タ1の出力信号は電圧変調を受けインバータ1の出力線
の出力信号は電圧変調クロックSS0に変換される。こ
の電圧変調クロックSS0は、電圧弁別回路3に入力さ
れそのしきい値電圧にしたがってハイ/ロー(論理値"
1"、"0")電圧に弁別され、これによりデューティ比
が例えば50%に調整された調整済クロックS2に変換
される。ここで、制御クロックS1は、被制御クロック
S0の位相遅れの信号が用いられる。その位相遅れ量
は、デューティ比が調整されるクロックのデューティ比
によって決定される。
【0007】インバータ1と電圧弁別回路3は、好まし
くはCMOS構成のインバータにより構成される。ま
た、電圧変調回路2は、ゲートに制御クロックS1が入
力されドレインがインバータ1の出力線に接続されソー
スが電源に接続されたpチャネルMOSトランジスタ
(以下、pMOSと記す)、またはゲートに制御クロッ
クS1が入力されドレインがインバータ1の出力線に接
続されソースが接地点に接続されたnチャネルMOSト
ランジスタ(以下、nMOSと記す)、またはゲートに
第1の制御クロックが入力されドレインがインバータ1
の出力線に接続されソースが電源に接続されたpMOS
およびゲートに第2の制御クロックが入力されドレイン
がインバータ1の出力線に接続されソースが接地点に接
続されたnMOS、によって構成される。本発明によれ
ば、上記の構成において、制御クロックS1に被制御ク
ロックS0の位相遅れ信号を与えることによって、クロ
ック波形のライズエッジまたはフォールエッジのみを動
かすことができ、クロックのデューティ比を任意に変更
することができる。
【0008】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。 [第1の実施例]図2は、本発明の第1の実施例のデュ
ーティ比可変回路の回路図であり、図3は、本発明の第
1の実施例のデューティ比調整回路のブロック図であ
る。図2に示すように、被制御クロックS0は、直列接
続されたpMOS Q1、Q2、nMOS Q3、Q4に
よって構成されるインバータINV1に入力される。制
御クロックS1は、ソースが電源に接続されドレインが
インバータINV1の出力端に接続されたpMOS Q
5のゲートに入力される。このpMOS Q5によって
電圧変調を受けることによって生成された電圧変調クロ
ックSS0は、CMOSによって構成されるインバータ
INV2に入力され、インバータINV2からはデュー
ティ比の調整された調整済クロックS2が出力される。
【0009】図3は、図2に示されたデューティ比可変
回路を含むデューティ調整回路のブロック図である。入
力クロックCLKはディレイライン11に入力され、デ
ィレイライン11からは遅延された遅延クロックS6、
S7〜Snが出力される。遅延クロックS7〜Snはセ
レクタ13に入力され、セレクタ13はセレクト信号S
5によりそのうち一つを選択して制御クロックS1とし
て出力する。一方、遅延クロックS6はディレイ回路1
2に入力される。ディレイ回路12の遅延量はセレクタ
13のそれと等しく、セレクタ13の遅延は遅延バッフ
ァであるディレイ回路12により補償される。その出力
信号である被制御クロックS0は、制御クロックS1と
ともに本発明によって設けられるデューティ比可変回路
14に入力される。その出力である調整済クロックS2
がクロック分配網15によって分配される。クロックの
デューティを検出するために、クロック分配網15の端
部から分配端クロックS3を抽出しデューティ比検出回
路16に入力し、その出力でカウンタ17をアップ/ダ
ウンさせる。そして、カウンタ17から出力されるセレ
クト信号S5によりセレクタ13を切り替える。
【0010】次に、本実施例回路の動作について説明す
る。まず、図2のデューティ比可変回路の動作を、動作
説明図である図4とタイミングチャートである図5を参
照して説明する。図5に示した期間a、b、c、dでの
回路動作を図4の(a)、(b)、(c)、(d)にて
示してある。図5において、t1はS0に対するS1の
遅れ時間である。期間aではS0とS1は共にローレベ
ルであり、pMOSQ1、Q2、Q5がオンして、SS
0がハイ、S2がローレベルとなる。期間bに入りS0
がハイレベルとなると、nMOS Q3、Q4がオンと
なり、pMOS Q5を介して電流が流れるため、ドレ
インノードの電圧(SS0)はpMOS Q5、nMO
S Q3、Q4のオン抵抗の抵抗分圧で決まる値Vdに
なる。この電圧Vdは、後段のインバータINV2の論
理しきい値Vtよりも高く設定されている。そのため、
期間bを通してS2はローレベルのままである。S0が
ハイとなった後、t1が経過すると期間cが始まり、S
0と共にS1がハイレベルとなってpMOS Q5がオ
フするため、SS0はローレベル、S2はハイレベルと
なる。
【0011】従って、S2のライズエッジはS0に対し
てS0とS1の位相差(t1)分遅れることになる。一
方、フォールエッジについては、期間dに入りS0がロ
ーレベルになると同時にpMOS Q1、Q2がオンす
るので、SS0がハイ、S2がローレベルとなり、位相
差は生じない。上記の動作により、被制御クロックS0
に対してライズエッジの位相だけがS0とS1の位相差
分遅れた調整済クロックS2を取り出すことができる。
ここで、電圧変調クロックSS0の電位Vdはトランジ
スタのDC特性で決まるので設計が容易である。
【0012】次に、図3を参照してデューティ比調整回
路100の動作について説明する。図3において、ディ
レイライン11により入力クロックCLKの位相を遅ら
せた遅延クロックS6、S7〜Snを作成する。S7〜
Snは、等間隔で順次遅延時間が大きくなっている。セ
レクタ13でその内の1つのクロックが選択され(以
下、これをSmとする)制御クロックS1として出力さ
れる。ディレイ回路12は、S6が入力されS0を出力
する。ディレイ回路12は、セレクタ13を通ってクロ
ックS7〜SnがS1として出てくる遅延時間を補償す
るためのもので、したがってその遅延時間はセレクタ1
3のそれと同じである。これによりS0とS1の位相関
係は、S6とSmの位相関係と同じになる。S0とS1
が入力されてデューティ比可変回路14はクロックのデ
ューティ比を変更する。
【0013】このデューティ比可変回路14で得られた
調整済クロックS2はクロック分配網15によりLSI
内に分配される。デューティ比50%のターゲットは、
クロックS2ではなく、別の観測ポイントで得られる分
配端クロックS3である。分配端クロックS3はデュー
ティ比検出回路16に入力されここでデューティ比が調
べられる。デューティ比をあげるか下げるかによってア
ップまたはダウン信号をカウンタ17に送り、カウンタ
17はセレクト信号S5を生成しセレクタ13を駆動す
る。この実施例のデューティ比可変回路14は、被制御
クロックS0のデューティ比に対して、調整済S2のデ
ューティ比を下げる方向にのみ働く。すなわち、本実施
例回路は被制御クロックS0のデューティ比を高くする
ことはできない。
【0014】[第2の実施例]図6は、本発明の第2の
実施例のデューティ比可変回路の回路図である。図6に
おいて、図2に示した第1の実施例の回路と同等の部分
には同一の参照符号を付し重複する説明は省略する。本
実施例においては、第1の実施例のpMOSQ5に代え
て、インバータINV1の出力端子と接地間にnMOS
Q6が接続されている。インバータINV1とnMO
S Q6に入力されるS0とS1のタイミングは第1の実
施例の場合と同じである。本実施例回路では、図7に示
すように、期間aでは、pMOS Q1、Q2がオン、
nMOS Q3、Q4、Q6がオフして、SS0がハ
イ、S2がローレベルとなる。期間bでは、nMOS
Q3、Q4がオン、期間cでは、nMOS Q3、Q
4、Q6がオンとなって、SS0がロー、S2がハイレ
ベルとなる。期間dでは、pMOS Q1、Q2がオン
するため、SS0はpMOS Q1、Q2、nMOS Q
6のオン抵抗の抵抗分圧で決まる値Vd′になる。ここ
で、インバータINV2の論理しきい値VtはVd′よ
り高く設定されている(pMOSQ1、Q2の合計オン
抵抗はnMOS Q6のオン抵抗より高く設定されてい
る)ため、S2はハイレベルを維持する。期間dが終了
すると、期間aの状態に戻る。本実施例においては、第
1の実施例と対照的に、S2のフォールエッジ側を可変
にして、デューティ比を大きくすることができる(調整
済クロックS2のデューティ比を被制御クロックS0の
それより小さくすることはできない)。
【0015】[第3の実施例]上記第1、第2の実施例
のデューティ比可変回路では、いずれもS0のデューテ
ィ比の変更方向が一方向に限定されていたが、これらを
組み合わせればS0に対しいずれの側にもS2のデュー
ティ比を可変にすることができる。図8は、本発明の第
3の実施例のデューティ調整回路200の構成を示すブ
ロック図であって、先の二つの実施例を組み合わせたも
のである。図8において、図3に示した第1の実施例の
部分と同等の部分には同一の参照符号を付し重複する説
明は省略する。本実施例においては、デューティ比可変
回路として、第1デューティ比可変回路141と第2デ
ューティ比可変回路142との2つが使用され、それぞ
れカウンタ17aにより制御される。第1デューティ比
可変回路141には、図2に示された、第2デューティ
比可変回路142には、図6に示されたデューティ比可
変回路が用いられており、それぞれ第1、第2被制御ク
ロックS0、S0 と、第1、第2制御クロックS1
、S1とが入力され、第1、第2調整済クロックS
、S2を出力する。第1、第2デューティ比可変
回路141、142に対応して、セレクタも第1セレク
タ131と第2セレクタ132の2つが用意され、それ
ぞれの出力が第1、第2制御クロックS1、S1
して第1、第2デューティ比可変回路141、142に
入力される。第1セレクタ131には、S7〜Snの外
にS0が入力される。また、第2セレクタ132には、
S7〜Snの外に第1デューティ比可変回141から出
力されるS2が入力される。ディレイライン11から
出力されるS7〜Snはディレイ回路12aを介して第
2セレクタ132に入力され、また第1デューティ比可
変回路141から出力されるS2はディレイ回路12
bを介して第2デューティ比可変回路142に入力され
る。ディレイ回路12a、12bは、第2デューティ比
可変回142に入力される第1調整済クロックS2
第2制御クロックS1の位相を合わせるための回路で
あって、ディレイ回路12aは第1セレクタ131、第
1デューティ比可変回路141の遅延を、ディレイ回路
12bは第2セレクタ132の遅延を補償するためのも
のである。S2のディレイ回路12bによって遅延さ
れたクロックが第2被制御クロックS0となる。
【0016】次に、本実施例回路の動作について説明す
る。デューティ比を下げる場合、第1デューティ比可変
回路141側のみを実効的に動作させる。このとき第2
デューティ比可変回路142を実効的に動作させないよ
うにするため、第2セレクタ132は第1調整済クロッ
クS2を選択する。デューティ比を大きくする場合、
第2デューティ比可変回路142側のみを実効的に動作
させる。このとき第1デューティ比可変回路141を実
効的に動作させないようにするため、第1セレクタ13
1は遅延クロックS6を選択する。このような動作を可
能ならしめるために、カウンタ17aは、第1セレクタ
131にS7〜Snの一つを選択させる場合には、第2
セレクタ132に第1調整済クロックS2を選択させ
る制御信号を生成し、第2セレクタ132にS7〜Sn
の一つを選択させる場合には、第1セレクタ131に遅
延クロックS6を選択させる制御信号を生成する。この
構成により、任意にデューティ比を調整することができ
る。
【0017】[第4の実施例]図9は、本発明の第4の
実施例において用いられるデューティ比可変回路の回路
図であり、図10は、本発明の第4の実施例のデューテ
ィ調整回路300の構成を示すブロック図である。図
9、図10において、他の実施例の部分と同等の部分に
は同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。図
9に示されるように、本実施例のデューティ比可変回路
では、インバータINV1の出力端と電源の間にpMO
S Q5、Q7の直列接続回路が接続され、また接地電
位との間にnMOS Q8、Q6の直列接続回路が接続
されている。Q5とQ6のゲートにはそれぞれ第1、第
2制御クロックS1、S1が入力される。Q7とQ
8のゲートには共通に切替信号U1が入力される。第1
制御クロックS1はライズエッジを、第2制御クロッ
クS1はフォールエッジを動かすための遅延クロック
である。U1はどちらのエッジを動かすかを制御する信
号である。
【0018】次に、図9に示す本実施例のデューティ比
可変回路の動作について説明する。図2のデューティ比
可変回路と同様にハイレベル期間を狭くするように働か
せるには、切替信号U1をローにする。この場合、pM
OS Q7がオン、nMOS Q8がオフするので、実質
的に図2の回路と同じになる。また、図6のデューティ
比可変回路と同様にクロックのハイレベル期間を広くす
るように働かせる場合には、切替信号U1をハイにす
る。これにより、nMOS Q8がオン、pMOSQ7
がオフするので、この場合には実質的に図6の回路と同
じになる。クロックのハイレベル期間を狭くするか広く
するかは排他的に決められるので、切替信号U1は一意
に決めることが可能である。
【0019】図10は、このデューティ比可変回路を使
用したデューティ比調整回路300のブロック図であ
る。デューティ比可変回路14aが図9に示される回路
である。本実施例においては、第1セレクタ133と第
2セレクタ134が用いられ、それぞれディレイライン
11の出力する遅延クロックS7〜Snが入力され、第
1、第2制御クロックS1、S1を出力する。切替
信号U1はカウンタ17bにおいて形成される。
【0020】[第5の実施例]図11は、本発明の第5
の実施例において用いられるデューティ比可変回路の回
路図であり、図12は、本発明の第5の実施例のデュー
ティ調整回路400の構成を示すブロック図である。図
11、図12において、他の実施例の部分と同等の部分
には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
図11に示されるように、本実施例のデューティ比可変
回路では、インバータINV1の出力端と電源の間にp
MOS Q5が接続され、また接地電位との間にnMO
S Q6が接続されている。Q5とQ6のゲートにはそ
れぞれ第1、第2制御クロックS1、S1が入力さ
れる。第1制御クロックS1はライズエッジを、第2
制御クロックS1はフォールエッジを動かすための遅
延クロックであるが、一方で、ライズエッジを動かす場
合には、S1はローレベルにおかれ、フォールエッジ
を動かす場合には、S1はハイレベルにおかれる。図
11に示す本実施例のデューティ比可変回路は、S1
がローレベルに維持されている場合には、実質的に図2
の回路と同じになり、S1がハイレベルに維持されて
いる場合には、実質的に図6の回路と同じになる。
【0021】図12は、このデューティ比可変回路を使
用したデューティ比調整回路400のブロック図であ
る。デューティ比可変回路14bが図11に示される回
路である。本実施例においては、第1セレクタ135と
第2セレクタ136の二つが用いられている。第1セレ
クタ135には、ディレイライン11の出力する遅延ク
ロックS7〜Snの外に電源電位が入力され、第2セレ
クタ136には、ディレイライン11の出力する遅延ク
ロックS7〜Snの外に接地電位が入力されており、第
1セレクタ135と第2セレクタ136は、カウンタ1
7aの出力するセレクト信号S5によりいずれかを選択
して、第1、第2制御クロックS1、S1 として出
力する。
【0022】以上説明した本発明のデューティ比可変回
路は、構成が非常に単純なので複雑はタイミング調整を
必要としない。そのため、セレクタ(13)がいつ切り
替わっても調整済クロック(S2)に異常なパルスが発
生することはない。つまりタイミングフリーな回路であ
る。また、本発明のデューティ比調整回路は、デューテ
ィ比可変回路の出力においてはデューティ比を50%に
するのではなく、別の観測ポイントのデューティ比を5
0%にするよう機能させることができるので、クロック
トリー内の任意の点に観測点を配置してその点のデュー
ティ比を50%とすることが可能である。また、本発明
によれば、ターゲットのデューティ比は50%でなくて
もよく、検出回路を工夫すれば、デューティ比を設計者
の想定する任意の値に調整することが可能である。さら
にこれらはすべてデジタル回路として設計できるので、
アナログ回路のような複雑な設計を必要としない。ま
た、デューティ比可変回路の可変範囲とピッチは別の機
構であるディレイライン11により決めることができ
る。ディレイラインを単純なバッファ回路で構成した場
合、0.18μmプロセスでは20ps/1ピッチ程度
であるが、さらに細かい単位で調整したい場合には本発
明のデューティ比可変回路はそのままでディレイライン
11を改良すればよい。
【0023】以上、好ましい実施例について説明した
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜の変更が
可能なものである。例えば、インバータは必ずしもCM
OSによって構成する必要はなく、またトランジスタと
してバイポーラトランジスタを採用することもできる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
入力クロックのライズエッジまたはフォールエッジを任
意の幅で遅らせあるいは早めることができるので、クロ
ックのデューティ比を例えば50%に正確に調整するこ
とが可能になる。また、本発明によれば、デューティ比
の観測点のデューティ比を例えば50%に調整すること
ができるので、製造ばらつきに起因するデューティ比の
ずれを吸収してLSI全面のデューティ比を50%に近
付けることが可能になり、高速化されたLSIを安定し
て動作させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態を示すブロック図。
【図2】 本発明の第1の実施例におけるデューティ比
可変回路の回路図。
【図3】 本発明の第1の実施例のデューティ比調整回
路のブロック図。
【図4】 本発明の第1の実施例のデューティ比可変回
路の動作説明図。
【図5】 本発明の第1の実施例のデューティ比可変回
路の動作を説明するためのタイミングチャート。
【図6】 本発明の第2の実施例におけるデューティ比
可変回路の回路図。
【図7】 本発明の第2の実施例のデューティ比可変回
路の動作を説明するためのタイミングチャート。
【図8】 本発明の第3の実施例のデューティ比調整回
路のブロック図。
【図9】 本発明の第4の実施例におけるデューティ比
可変回路の回路図。
【図10】 本発明の第4の実施例のデューティ比調整
回路のブロック図。
【図11】 本発明の第5の実施例におけるデューティ
比可変回路の回路図。
【図12】 本発明の第5の実施例のデューティ比調整
回路のブロック図。
【図13】 従来のHクロックトリー方式のクロック分
配網を示す構成図。
【図14】 従来例の問題点を説明するためのクロック
波形図。
【符号の説明】
1、INV1、INV2 インバータ 2 電圧変調回路 3 電圧弁別回路 11 ディレイライン 12、12a、12b ディレイ回路 13 セレクタ 131、133、135 第1セレクタ 132、134、136 第2セレクタ 14 デューティ比可変回路 141 第1デューティ比可変回路 142 第2デューティ比可変回路 15 クロック分配網 16 デューティ比検出回路 17、17a、17b カウンタ 51 入力端子 52 PLL回路 53 クロックドライバ 100、200、300、400 デューティ比調整回
路 CLK 入力クロック S0 被制御クロック S0 第1被制御クロック S0 第2被制御クロック S1 制御クロック S1、S1 第1制御クロック S1、S1 第2制御クロック S2 調整済クロック S2 第1調整済クロック S2 第2調整済クロック S3 分配端クロック S4 デューティ比信号 S5 セレクト信号 S6〜Sn 遅延クロック SS0 電圧変調クロック U1 切替信号

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被制御クロック信号が入力されるインバ
    ータと、前記インバータの出力線と電源との間に接続さ
    れる、制御クロック信号によって制御される第1種のス
    イッチング素子と、前記出力線の電圧を識別してハイ/
    ロ−の信号を出力する電圧弁別回路と、を有するデュー
    ティ比可変回路。
  2. 【請求項2】 被制御クロック信号が入力されるインバ
    ータと、前記インバータの出力線と接地電位間に接続さ
    れる、制御クロック信号によって制御される第2種のス
    イッチング素子と、前記出力線の電圧を識別してハイ/
    ロ−の信号を出力する電圧弁別回路と、を有するデュー
    ティ比可変回路。
  3. 【請求項3】 被制御クロック信号が入力されるインバ
    ータと、前記インバータの出力線と電源との間に接続さ
    れる、第1の制御クロック信号によって制御される第1
    種のスイッチング素子と、前記インバータの出力線と接
    地電位間に接続される、第2の制御クロック信号によっ
    て制御される第2種のスイッチング素子と、前記出力線
    の電圧を識別してハイ/ロ−の信号を出力する電圧弁別
    回路と、を有するデューティ比可変回路。
  4. 【請求項4】 前記第1種のスイッチング素子と前記第
    2種のスイッチング素子とは、相補的に前記インバータ
    の出力線に対し非接続状態に制御されることを特徴とす
    る請求項3に記載のデューティ比可変回路。
  5. 【請求項5】 前記第1種のスイッチング素子が、ゲー
    トに前記制御クロック信号または前記第1の制御クロッ
    ク信号が入力されるpチャネル型MOSトランジスタに
    よって構成されていることを特徴とする請求項1、3ま
    たは4に記載のデューティ比可変回路。
  6. 【請求項6】 前記第2種のスイッチング素子が、ゲー
    トに前記制御クロック信号または前記第2の制御クロッ
    ク信号が入力されるnチャネル型MOSトランジスタに
    よって構成されていることを特徴とする請求項2から5
    のいずれかに記載のデューティ比可変回路。
  7. 【請求項7】 前記インバータがCMOS構成のインバ
    ータであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに
    記載のデューティ比可変回路。
  8. 【請求項8】 前記インバータは、直列接続された複数
    のpチャネル型MOSトランジスタと直列接続された複
    数のnチャネル型MOSトランジスタによって構成され
    ていることを特徴とする請求項7に記載のデューティ比
    可変回路。
  9. 【請求項9】 前記インバータを構成するnチャネル型
    MOSトランジスタまたは直列接続された複数のnチャ
    ネル型MOSトランジスタのオン抵抗は、前記第1のス
    イッチング素子のオン抵抗より高いことを特徴とする請
    求項7または8に記載のデューティ比可変回路。
  10. 【請求項10】 前記インバータを構成するpチャネル
    型MOSトランジスタまたは直列接続された複数のpチ
    ャネル型MOSトランジスタのオン抵抗は、前記第2の
    スイッチング素子のオン抵抗より高いことを特徴とする
    請求項7から9のいずれかに記載のデューティ比可変回
    路。
  11. 【請求項11】 クロックが入力され、被制御クロック
    信号および遅延量の異なる複数の遅延クロックをセレク
    タ回路に出力するディレイラインと、前記被制御クロッ
    ク信号と前記セレクタ回路の出力信号とが入力されバッ
    ファを介して回路にクロックを供給するデューティ比可
    変回路と、分配された回路内のクロックのデューティ比
    を検出するデューティ比検出回路と、前記デューティ比
    検出回路16が検出したデューティ比に基づいて前記セ
    レクタ回路を制御して、所望の遅延量の遅延クロックを
    出力させるセレクタ制御回路と、を備え、前記デューテ
    ィ比可変回路は、ライズエッジまたはフォールエッジを
    入力された遅延クロックのそれに揃えることを特徴とす
    るデューティ比調整回路。
  12. 【請求項12】 ライズエッジまたはフォールエッジの
    内、前記入力された遅延クロックのそれに揃えられなか
    った方は、被制御クロック信号のそれに従うことを特徴
    とする請求項11に記載のデューティ比調整回路。
  13. 【請求項13】 前記デューティ比検出回路は、分配末
    端のクロックのデューティ比を検出することを特徴とす
    る請求項11または12に記載のデューティ比調整回
    路。
  14. 【請求項14】 前記ディレイラインは、多段に縦続接
    続されたバッファによって構成されていることを特徴と
    する請求項11から13のいずれかに記載のデューティ
    比調整回路。
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