JP2003243164A - Manufacturing method of organic electroluminescent exposure device - Google Patents

Manufacturing method of organic electroluminescent exposure device

Info

Publication number
JP2003243164A
JP2003243164A JP2002038764A JP2002038764A JP2003243164A JP 2003243164 A JP2003243164 A JP 2003243164A JP 2002038764 A JP2002038764 A JP 2002038764A JP 2002038764 A JP2002038764 A JP 2002038764A JP 2003243164 A JP2003243164 A JP 2003243164A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
segment
water
organic
repellent
applying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002038764A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4054850B2 (en
Inventor
Koichi Kajiyama
康一 梶山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
V Technology Co Ltd
Original Assignee
V Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V Technology Co Ltd filed Critical V Technology Co Ltd
Priority to JP2002038764A priority Critical patent/JP4054850B2/en
Publication of JP2003243164A publication Critical patent/JP2003243164A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4054850B2 publication Critical patent/JP4054850B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent exposure device, with which each segment of R, G, and B can surely be formed without risk of peeling off. <P>SOLUTION: The method comprises a step of coating an R-segment luminous layer 21 with a mask plate on a glass substrate 2 with a transparent conductive film 3 and a positive electrode 4 formed, a step of applying a water-repellent fluorine coating 31 on the whole surface of the glass substrate 2, a step of removing the water-repellent fluorine coating 31 at a part other than the R- segment on the glass substrate 2, a step of coating a G-segment luminous layer 22 by masking the R-segment, a step of removing the water-repellent fluorine coating 31 at a part other than the R and G segments, a step of applying a water-repellent fluorine coating 31 on the whole surface of the glass substrate, a step of coating a B-segment luminous layer 23 by masking the R and G segments and a step of removing the water-repellent fluorine coating 31 at a part other than the R, G and B segments. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス露光装置の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence exposure device.

【従来の技術】従来、フラットパネルディスプレイとし
ては通常液晶ディスプレイが使われているが、最近、密
閉された環境下でモノマーを蒸着したり、或いは高分子
を塗ることによって作られる自発光性の有機乱露光装置
が使用されるようになってきている。モノマーを利用し
たものは、ガラスを適切な形状のマスクで覆い、単分子
膜を蒸著して作製される。このとき、モノマーは容易に
剥がれる欠点がある。また、最近、高分子を利用する高
分子有機EL露光装置が創作されている。この場合は、
高分子であるため、パターニングは不可能であるので、
ガラスに高分子を塗ってから機械的に切断して作製す
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display has been usually used as a flat panel display, but recently, a self-luminous organic substance produced by vapor-depositing a monomer or coating a polymer in an enclosed environment. An irregular exposure device has been used. Those using a monomer are produced by covering glass with a mask having an appropriate shape and vapor-depositing a monomolecular film. At this time, there is a drawback that the monomer is easily peeled off. Further, recently, a polymer organic EL exposure apparatus utilizing a polymer has been created. in this case,
Since it is a polymer, patterning is impossible, so
It is made by coating glass with a polymer and then mechanically cutting it.

【発明が解決しようとする課題】通常、液晶ディスプレ
イでは、R,G,B各セグメントを順次蒸着していく
が、低分子蒸着膜、高分子塗布の場合は、蒸着に使用さ
れる物質がいずれも水に弱く(化学反応して、膜が破壊
されたり、不透明になる)、空気中の水蒸気によって、
反応が起こるので通常行われるR,G,Bを蒸着又は塗
布しそれに現像液をかけ露光し現像する操作は不可能で
ある。そこで、超高真空下、若しくは密封条件下の乾燥
した環境下で蒸着又は塗布することになる。このとき、
通常のように、マスクを替えて、R,G,B各セグメン
トを順次蒸着又は塗布することは困難である。また、有
機EL露光装置を動画、静止画の表示装置とするために
は、塗布したR、G、B(赤、緑、青)の各EL層をパ
ターニングする必要があるが、パターニングする最も一
般的で生産性の高い方法は、半導体や液晶の分野で使用
されている露光プロセスである。しかし、現状の露光プ
ロセスはウェット方式がほとんどである。従って、空気
中の水蒸気すら嫌う有機EL材料にウェットの露光を適
用することはできない。この事が有機EL表示装置の量
産に関して大きな障害になっている。一方、ウェット露
光方式の代わりに、ドライ露光のプロセスを使用するこ
とも考えられが、ドライ露光ブロセスは基本的にポジ型
であるためにR、G、B各層をパターン化できないとい
う問題がある。図14乃至図18に従来の有機エレクト
ロルミネッセンス露光装置の製造方法の一例を示す。ま
ず、ガラス基板101上にITO電極膜102を蒸着し
(図14)、次にITO電極膜102上にRセグメント
部を形成するための有機EL材111を塗布する(図1
5)。次に、マスク103を使用し紫外線(UV)照射
による露光を行いRセグメント部のパターン化を実施す
る(図16)。これにより、マスクに遮光されない有機
EL材は光分解して消失する。次に、ガラス基板101
上にGセグメント部を形成するための有機EL材112
を塗布する(図17)。この状態で、紫外線(UV)照
射をして、Gセグメント部を形成する有機EL材112
をパターン化しようとしても、Rセグメント部を形成す
る有機EL材111を残そうとすると、有機EL材11
1上に有機EL材112が残ってしまう(図18)。又
は、有機EL材111の上の有機EL材112に紫外線
を照射すると、有機EL材111も消失し又はダメージ
を受けてしまう。このように、単純なドライプロセスは
有機EL材のパターン化には適用できない。また、前記
有機EL材111の上に前記有機EL材112が塗布さ
れ重なると、有機EL材111の発光が成立しなくな
り、有機エレクトロルミネッセンス露光装置としての意
味をなさないので、上述したような重なりを防ぐ工夫が
必要となる。本発明は、上記従来の事情に鑑みて開発さ
れたものであり、R,G,B各セグメントを剥離のおそ
れなく確実に形成することができ、また、ドライプロセ
スでR、G、B各層のパターン化も確実に実現できる有
機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法を提供
することを目的とするものである。
Generally, in a liquid crystal display, R, G, and B segments are sequentially vapor deposited. In the case of a low molecular vapor deposition film or polymer coating, the material used for vapor deposition is Is also vulnerable to water (chemical reaction that destroys the membrane or makes it opaque), due to water vapor in the air,
Since the reaction occurs, it is impossible to carry out the usual operations of vapor-depositing or coating R, G, and B, applying a developing solution thereto, exposing and developing. Therefore, vapor deposition or coating is performed under ultrahigh vacuum or in a dry environment under sealed conditions. At this time,
As usual, it is difficult to sequentially vapor-deposit or apply the R, G, and B segments by changing the mask. Further, in order to use the organic EL exposure device as a display device for moving images and still images, it is necessary to pattern the applied R, G, B (red, green, blue) EL layers, but the most common patterning is An efficient and highly productive method is an exposure process used in the fields of semiconductors and liquid crystals. However, most of the current exposure processes are wet methods. Therefore, wet exposure cannot be applied to an organic EL material that dislikes even water vapor in air. This is a major obstacle to mass production of organic EL display devices. On the other hand, it is conceivable to use a dry exposure process instead of the wet exposure method, but there is a problem that the R, G, and B layers cannot be patterned because the dry exposure process is basically a positive type. 14 to 18 show an example of a conventional method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus. First, the ITO electrode film 102 is vapor-deposited on the glass substrate 101 (FIG. 14), and then the organic EL material 111 for forming the R segment portion is applied on the ITO electrode film 102 (FIG. 1).
5). Next, the mask 103 is used to perform exposure by ultraviolet (UV) irradiation to pattern the R segment portion (FIG. 16). As a result, the organic EL material not shielded by the mask is photodecomposed and disappears. Next, the glass substrate 101
Organic EL material 112 for forming G segment part on top
Is applied (FIG. 17). In this state, the organic EL material 112 that irradiates ultraviolet rays (UV) to form the G segment portion
Even if the organic EL material 111 that forms the R segment portion is left, the organic EL material 11
The organic EL material 112 remains on the surface 1 (FIG. 18). Alternatively, when the organic EL material 112 on the organic EL material 111 is irradiated with ultraviolet rays, the organic EL material 111 also disappears or is damaged. As described above, the simple dry process cannot be applied to the patterning of the organic EL material. Further, when the organic EL material 112 is applied and overlapped on the organic EL material 111, the organic EL material 111 does not emit light, which does not make sense as an organic electroluminescence exposure apparatus. It is necessary to devise to prevent this. The present invention was developed in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is possible to reliably form R, G, and B segments without fear of peeling, and to dry the R, G, and B layers by a dry process. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus which can surely realize patterning.

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
る有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造方法
は、導電膜、電極が形成された基板に対してマスク板に
よるマスクをしてRセグメント部を形成する発光層を塗
布する工程と、基板の全面に撥水性の剥離防止層を施す
工程と、基板上のRセグメント部分をマスクしてそれ以
外の部分の撥水性の剥離防止層を除去する工程と、Rセ
グメント部分をマスクしてGセグメントを形成する発光
層を塗布する工程と、R,G各セグメント部分をマスク
してそれ以外の部分の撥水性の剥離防止層を除去する工
程と、基板の全面に撥水性の剥離防止層を施す工程と、
R,G各セグメント部分をマスクしてBセグメントを形
成する発光層を塗布する工程と、R,G,B各セグメン
ト部分をマスクしてそれ以外の部分の撥水性の剥離防止
層を除去する工程と有することを特徴とするものであ
る。請求項2記載の発明に係る有機エレクトロルミネッ
センス露光装置の製造方法は、導電膜、電極が形成され
た基板に対してマスク板によるマスクをしてRセグメン
ト部を形成する発光層を塗布する工程と、基板の全面に
撥水性フッ素コーティングを施す工程と、基板上のRセ
グメント部分をマスクして紫外線でそれ以外の部分の撥
水性フッ素コーティングを劣化して除去する工程と、R
セグメント部分をマスクしてGセグメントを形成する発
光層を塗布する工程と、R,G各セグメント部分をマス
クして紫外線でそれ以外の部分の撥水性フッ素コーティ
ングを劣化して除去する工程と、基板の全面に撥水性フ
ッ素コーティングを施す工程と、R,G各セグメント部
分をマスクしてBセグメントを形成する発光層を塗布す
る工程と、R,G,B各セグメント部分をマスクして紫
外線でそれ以外の部分の撥水性フッ素コーティングを劣
化して除去する工程とを有することを特徴とするもので
ある。このような請求項1、2記載の発明によれば、
R,G,B各セグメント部分を構成する発光層の順次の
塗布と、剥離防止層である撥水性フッ素コーティングの
形成及び不要部分の除去とを組み合わせることにより、
導電膜、電極が形成された基板上にR,G,B各セグメ
ントを剥離のおそれなく確実に形成することができる。
請求項3記載の発明に係る有機エレクトロルミネッセン
ス露光装置の製造方法は、基板上に陽極電極膜を形成す
る工程と、陽極電極膜上にRセグメント部を形成する有
機EL材を塗布する工程と、基板上のRセグメント部分
を形成する有機EL材をマスクしてそれ以外の部分の有
機EL材を除去する工程と、基板の全面に撥水膜を塗布
する工程と、基板上のRセグメント部分を形成する有機
EL材上の撥水膜をマスクしてそれ以外の部分の撥水膜
を除去する工程と、撥水膜が除去され陽極電極膜が露出
した領域にGセグメント部を形成する有機EL材及び撥
水膜を塗布する工程と、必要なGセグメント部上の撥水
膜をマスクしてそれ以外の部分のGセグメント部及び撥
水膜を除去する工程と、撥水膜が除去され陽極電極膜が
露出した領域にBセグメント部を形成する有機EL材及
び撥水膜を塗布する工程と、必要なGセグメント部上の
撥水膜をマスクしてそれ以外の部分のGセグメント部及
び撥水膜を除去する工程と、R,G,B各セグメント部
分の上部に陰極電極膜を形成する工程とを有することを
特徴とするものである。請求項4記載の発明は、請求項
3記載の有機エレクトロルミネッセンス露光装置の製造
方法において、前記R,G,Bセグメント部分を形成す
る有機EL材を塗布する各工程には、有機EL材上への
アクティベーション膜の塗布工程も含まれることを特徴
とするものである。このような請求項3、4記載の発明
によれば、ドライプロセスで、有機EL材、撥水膜の塗
布、マスクを使用した紫外線照射の組み合わせによっ
て、R,G,B各セグメント部を形成する有機EL材が
重なり合うことのないパターン化を確実に実現すること
ができる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescence exposure apparatus manufacturing method, wherein a substrate having a conductive film and electrodes is masked with a mask plate to form an R segment portion. A step of applying a light emitting layer to be formed, a step of applying a water-repellent peeling prevention layer to the entire surface of the substrate, and a step of masking the R segment portion on the substrate to remove the water-repellent peeling prevention layer of the other portion. A step of applying a light emitting layer for masking the R segment portion to form a G segment; a step of masking the R and G segment portions to remove the water-repellent peeling prevention layer on the other portions; A step of applying a water-repellent peeling prevention layer to the entire surface of
A step of applying a light-emitting layer for forming the B segment by masking the R and G segment portions, and a step of masking the R, G, B segment portions and removing the water-repellent peeling prevention layer in the other portions. It is characterized by having. A method of manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus according to a second aspect of the present invention comprises a step of applying a light emitting layer for forming an R segment portion by masking a substrate on which a conductive film and electrodes are formed with a mask plate. , A step of applying a water-repellent fluorine coating on the entire surface of the substrate, a step of masking the R segment portion on the substrate to remove the water-repellent fluorine coating on the other portion by ultraviolet rays, and R
A step of masking the segment portions to apply a light-emitting layer for forming a G segment; a step of masking the R and G segment portions to deteriorate and remove the water-repellent fluorine coating on the other portions by ultraviolet rays; Of water-repellent fluorine coating on the entire surface of the above, a step of masking each R and G segment part to apply a light emitting layer for forming a B segment, and a step of masking each R, G and B segment part with ultraviolet rays And a step of deteriorating and removing the water-repellent fluorine coating on the portion other than the above. According to the inventions of claims 1 and 2 as described above,
By combining the sequential application of the light emitting layer forming each of the R, G, and B segment portions with the formation of the water-repellent fluorine coating as the peeling prevention layer and the removal of the unnecessary portion,
It is possible to surely form the R, G, and B segments on the substrate on which the conductive film and the electrode are formed without fear of peeling.
A method of manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus according to the invention of claim 3 comprises: a step of forming an anode electrode film on the substrate; and a step of applying an organic EL material forming an R segment portion on the anode electrode film, The step of masking the organic EL material forming the R segment portion on the substrate to remove the other portion of the organic EL material, the step of applying a water-repellent film on the entire surface of the substrate, and the R segment portion on the substrate A step of masking the water-repellent film on the organic EL material to be formed to remove the water-repellent film in other portions, and an organic EL element in which the G segment part is formed in the region where the water-repellent film is removed and the anode electrode film is exposed. A material and a water-repellent film, a step of masking the necessary water-repellent film on the G segment part to remove the other G segment part and the water-repellent film, and an anode after the water-repellent film is removed. B in the area where the electrode film is exposed A step of applying an organic EL material and a water-repellent film for forming a segment, and a step of masking the necessary water-repellent film on the G segment and removing the other G segment and the water-repellent film. And a step of forming a cathode electrode film on each of the R, G, and B segment portions. According to a fourth aspect of the present invention, in the method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus according to the third aspect, each step of applying the organic EL material forming the R, G, B segment portions is performed on the organic EL material. It is characterized in that it also includes the step of applying the activation film. According to the third and fourth aspects of the invention, the R, G, and B segment portions are formed by a combination of the organic EL material, the coating of the water-repellent film, and the ultraviolet irradiation using the mask in the dry process. It is possible to reliably realize patterning in which the organic EL materials do not overlap each other.

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る有機エレクト
ロルミネッセンス露光装置の製造方法の実施の形態を図
面を参照して詳述する。 (実施の形態1)図1は、本発明の実施の形態1の有機
エレクトロルミネッセンス露光装置を示す概略断面図で
あるこの有機エレクトロルミネッセンス露光装置1は、
ガラス基板2、透明導電膜(ITO)3、陽極4、発光
層5、陰極6、保護層7、保護基板8により概略構成さ
れる。次に、本発明の実施の形態1の有機エレクトロル
ミネッセンス露光装置1の製造方法について図2を参照
して説明する。まず、図2(1)に示すように、透明導
電膜3、陽極4が形成されたガラス基板2を用意し、ガ
ラス基板2に対して図2(2)に示すように、マスク板
11によるマスクをしてRセグメント部を形成する発光
層21を塗布する。発光層21が塗布された状態を図2
(3)に示す。次に、図2(4)に示すように、ガラス
基板2の全面に剥離防止層である撥水性フッ素コーティ
ング31を施す。次に、図2(5)に示すように、ガラ
ス基板2上のRセグメント部分をマスク板12によりマ
スクして、紫外線を照射して、それ以外の部分の撥水性
フッ素コーティング31を劣化して除去する。紫外線を
照射して、それ以外の部分の撥水性フッ素コーティング
31を除去した状態を図2(6)に示す。次に、図2
(7)に示すように、Rセグメント部分をマスク板13
によりマスクしてGセグメント部分を形成する発光層2
2を塗布する。発光層22を塗布したときの状態を図2
(8)に示す。次に、図2(9)示すように、R,Gセ
グメント部分をマスク板14によりマスクしてガラス基
板2の全面に撥水性フッ素コーティング31を施す。撥
水性フッ素コーティング31を施した状態を図2(1
0)に示す。次に、図2(11)に示すように、ガラス
基板2上のRセグメント部分、Gセグメント部分をマス
ク板15によりマスクして、紫外線を照射して、それ以
外の部分の撥水性フッ素コーティング31を劣化して除
去する。撥水性フッ素コーティング31を除去した状態
を図2(12)に示す。次に、図2(13)に示すよう
に、Rセグント,Gセグメント部分をマスク板16によ
りマスクしてBセグメントを形成する発光層23を塗布
する。発光層23を塗布したときの状態を図2(14)
に示す。本実施の形態1に係る有機エレクトロルミネッ
センス露光装置の製造方法によれば、ガラス基板2上
に、発光層5を構成することになるR,G,Bセグメン
ト部分を形成する発光層21,22,23を互いに重な
り合うことなく、且つ、剥離の惧れなく確実に形成する
ことができる。この後、陰極6、保護層7、保護基板8
を順次積層して有機エレクトロルミネッセンス露光装置
1とするものである。 (実施の形態2)次に、本発明の実施の形態2の有機エ
レクトロルミネッセンス露光装置50の製造方法につい
て図3乃至図13を参照して説明する。本実施の形態2
の製造方法は、まず、基板(ガラス基板)60上に陽極
電極膜(ITO膜)61を蒸着する(図3)。次に、陽
極電極膜61上にRセグメント部を形成する有機EL材
51を塗布する(図4)。次に、必要なRセグメント部
を形成する有機EL材51の部分をマスク(フォトマス
ク)71によりマスクし、紫外線(UV)照射による露
光を行い、遮光されない有機EL材51を光分解して消
失させ、Rセグメント部のパターン化を行う(図5)。
更に、パターン化されたRセグメント部へアクティベー
ション膜を塗布する。次に、パターン化されたRセグメ
ント部を形成する有機EL材51上及び陽極電極膜61
上に撥水膜(撥水、撥油等濡れ性の微小な膜)54を塗
布した後、マスク71によりマスクし、紫外線(UV)
照射による露光を行い(図6)、遮光されない撥水膜5
4を光分解して消失させて必要なRセグメント部を形成
する有機EL材51及びその上の撥水膜54を残存さ
せ、他の部分は陽極電極膜61が露出した状態とする
(図7)。次に、陽極電極膜61が露出した部分にGセ
グメント部を形成する有機EL材52を塗布し、更に図
示しないアクティベーション膜を塗布し、更にその上に
撥水膜54を塗布する(図8)。次に、必要なGセグメ
ント部を形成する有機EL材52の部分をマスク(フォ
トマスク)72によりマスクし、紫外線(UV)照射に
よる露光を行い、遮光されない有機EL材52を光分解
して消失させ、その部分に陽極電極膜61が露出した状
態としてGセグメント部のパターン化を行う(図9)。
次に、陽極電極膜61が露出した部分にBセグメント部
を形成する有機EL材53を塗布し、更に図示しないア
クティベーション膜を塗布し、更にその上に撥水膜54
を塗布する(図10)。次に、必要なBセグメント部を
形成する有機EL材53の部分をマスク(フォトマス
ク)73によりマスクし、紫外線(UV)照射による露
光を行い、遮光されない有機EL材53を光分解して消
失させ、その部分に陽極電極膜61が露出した状態とし
てGセグメント部のパターン化を行う(図11)。この
ようにして、図12に示すように、基板60上に、R、
G、B各セグメント部を形成する有機EL材51、5
2、53をパターン化した状態で形成する(図12)。
この後、図13に示すように、有機EL材51、52、
53上に陰極電極膜62を形成し、更に、陽極電極膜6
1、陰極電極膜62に電源部80を接続することで、本
実施の形態2に係る有機エレクトロルミネッセンス露光
装置50を得る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic sectional view showing an organic electroluminescence exposure apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.
The glass substrate 2, the transparent conductive film (ITO) 3, the anode 4, the light emitting layer 5, the cathode 6, the protective layer 7, and the protective substrate 8 are roughly configured. Next, a method of manufacturing the organic electroluminescence exposure apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 2 (1), a glass substrate 2 on which a transparent conductive film 3 and an anode 4 are formed is prepared, and a mask plate 11 is formed on the glass substrate 2 as shown in FIG. 2 (2). A light emitting layer 21 forming a R segment portion is applied using a mask. The state where the light emitting layer 21 is applied is shown in FIG.
It shows in (3). Next, as shown in FIG. 2 (4), a water-repellent fluorine coating 31 as a peeling prevention layer is applied to the entire surface of the glass substrate 2. Next, as shown in FIG. 2 (5), the R segment portion on the glass substrate 2 is masked by the mask plate 12 and irradiated with ultraviolet rays to deteriorate the water-repellent fluorine coating 31 on the other portions. Remove. FIG. 2 (6) shows a state in which the water-repellent fluorine coating 31 on the other portions is removed by irradiation with ultraviolet rays. Next, FIG.
As shown in (7), the R segment portion is covered with the mask plate 13
Light-emitting layer 2 masked by to form G segment portion
Apply 2. The state when the light emitting layer 22 is applied is shown in FIG.
It shows in (8). Next, as shown in FIG. 2 (9), the R and G segment portions are masked by the mask plate 14 and the water-repellent fluorine coating 31 is applied to the entire surface of the glass substrate 2. The state where the water-repellent fluorine coating 31 is applied is shown in FIG.
0). Next, as shown in FIG. 2 (11), the R segment portion and the G segment portion on the glass substrate 2 are masked by the mask plate 15, irradiated with ultraviolet rays, and the water-repellent fluorine coating 31 on the other portions is irradiated. Is deteriorated and removed. The state where the water-repellent fluorine coating 31 is removed is shown in FIG. Next, as shown in FIG. 2 (13), the R segment and G segment portions are masked by the mask plate 16 to apply a light emitting layer 23 that forms B segments. FIG. 2 (14) shows the state when the light emitting layer 23 is applied.
Shown in. According to the method for manufacturing the organic electroluminescence exposure apparatus according to the first embodiment, the light emitting layers 21, 22, 22 forming the R, G, B segment portions that will constitute the light emitting layer 5 on the glass substrate 2. 23 can be reliably formed without overlapping each other and without fear of peeling. After this, the cathode 6, the protective layer 7, the protective substrate 8
Are sequentially laminated to form the organic electroluminescence exposure apparatus 1. (Second Embodiment) Next, a method of manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus 50 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Second Embodiment
In the manufacturing method (1), first, an anode electrode film (ITO film) 61 is deposited on a substrate (glass substrate) 60 (FIG. 3). Next, the organic EL material 51 forming the R segment portion is applied on the anode electrode film 61 (FIG. 4). Next, the portion of the organic EL material 51 that forms the necessary R segment portion is masked by a mask (photomask) 71 and exposed by ultraviolet (UV) irradiation, and the organic EL material 51 that is not shielded is photodecomposed and disappears. Then, the R segment portion is patterned (FIG. 5).
Further, an activation film is applied to the patterned R segment portion. Next, on the organic EL material 51 and the anode electrode film 61 that form the patterned R segment portion.
After applying a water-repellent film (a minute film having water-repellent property, oil-repellent property, and wettability) 54 on it, it is masked by a mask 71, and ultraviolet rays (UV) are applied.
Water-repellent film 5 that is not shielded from light by exposure (Fig. 6)
The organic EL material 51 and the water-repellent film 54 on the organic EL material 51, which forms the required R segment by photolysis of 4 and disappears, are left, and the anode electrode film 61 is exposed in other parts (FIG. 7). ). Next, an organic EL material 52 for forming a G segment is applied to the exposed portion of the anode electrode film 61, an activation film (not shown) is applied, and a water repellent film 54 is applied thereon (FIG. 8). ). Next, the portion of the organic EL material 52 that forms the necessary G segment portion is masked with a mask (photomask) 72, and exposed by ultraviolet (UV) irradiation, and the organic EL material 52 that is not shielded is photodecomposed and disappears. Then, the G segment portion is patterned so that the anode electrode film 61 is exposed at that portion (FIG. 9).
Next, an organic EL material 53 forming a B segment portion is applied to the exposed portion of the anode electrode film 61, an activation film (not shown) is further applied, and a water repellent film 54 is further applied thereon.
Is applied (FIG. 10). Next, the portion of the organic EL material 53 that forms the necessary B segment portion is masked by a mask (photomask) 73, and exposed by ultraviolet (UV) irradiation, and the organic EL material 53 that is not shielded is photodecomposed and disappears. Then, the G segment portion is patterned so that the anode electrode film 61 is exposed at that portion (FIG. 11). In this way, as shown in FIG. 12, R,
Organic EL materials 51, 5 forming the G and B segment portions
2 and 53 are formed in a patterned state (FIG. 12).
Thereafter, as shown in FIG. 13, the organic EL materials 51, 52,
Cathode electrode film 62 is formed on 53, and further anode electrode film 6
1. By connecting the power supply unit 80 to the cathode electrode film 62, the organic electroluminescence exposure apparatus 50 according to the second embodiment is obtained.

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、R,G,
B各セグメント部分を構成する発光層の順次の塗布と、
剥離防止層である撥水性フッ素コーティングの形成、及
び不要部分の除去とを組み合わせることにより、導電
膜、電極が形成された基板上にR,G,B各セグメント
を剥離のおそれなく確実に形成することができる有機エ
レクトロルミネッセンス露光装置の製造方法を提供する
ことができる。また、本発明によれば、ドライプロセス
で、且つ、有機EL材、撥水膜の塗布、マスクを使用し
た紫外線照射の組み合わせによって、R,G,B各セグ
メント部を形成する有機EL材が重なり合うことのない
パターン化を確実に実現することができる有機エレクト
ロルミネッセンス露光装置の製造方法を提供することが
できる。
According to the present invention described above, R, G,
B: Sequential application of the light-emitting layer forming each segment portion,
By combining the formation of a water-repellent fluorine coating which is a peeling prevention layer and the removal of unnecessary portions, R, G and B segments are surely formed on a substrate having a conductive film and electrodes formed thereon without fear of peeling. It is possible to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus capable of performing the above. Further, according to the present invention, the organic EL materials forming the R, G, and B segment portions are overlapped with each other by the dry process and by the combination of the application of the organic EL material, the water-repellent film, and the ultraviolet irradiation using the mask. It is possible to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus, which can surely realize patterning without any trouble.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an organic electroluminescence exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程を示す工程図である。
FIG. 2 is a process diagram showing a manufacturing process of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(陽極電極膜塗布)を示す
工程図である。
FIG. 3 is a process diagram showing a manufacturing process (coating with an anode electrode film) of an organic electroluminescence exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(有機EL材)を示す工程
図である。
FIG. 4 is a process diagram showing a manufacturing process (organic EL material) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(露光によるパターン化)
を示す工程図である。
FIG. 5: Manufacturing process of organic electroluminescence exposure apparatus according to Embodiment 2 of the present invention (patterning by exposure)
FIG.

【図6】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(撥水膜露光)を示す工程
図である。
FIG. 6 is a process diagram showing a manufacturing process (water-repellent film exposure) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(Rセグメント用EL材パ
ターン終了)を示す工程図である。
FIG. 7 is a process diagram showing a manufacturing process (end of R segment EL material pattern) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(Gセグメント用EL材塗
布)を示す工程図である。
FIG. 8 is a process diagram showing a manufacturing process (application of an EL material for G segment) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミネ
ッセンス露光装置の製造工程(Gセグメント用EL材露
光)を示す工程図である。
FIG. 9 is a process diagram showing a manufacturing process (G segment EL material exposure) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミ
ネッセンス露光装置の製造工程(Bセグメント用EL材
塗布)を示す工程図である。
FIG. 10 is a process diagram showing a manufacturing process (application of an EL material for a B segment) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミ
ネッセンス露光装置の製造工程(Bセグメント用EL材
露光)を示す工程図である。
FIG. 11 is a process diagram showing a manufacturing process (B segment EL material exposure) of the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミ
ネッセンス露光装置のEL材のパタニング終了状態を示
す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a completed state of patterning of an EL material in the organic electroluminescence exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施の形態2の有機エレクトロルミ
ネッセンス露光装置を示す概略断面図である。
FIG. 13 is a schematic sectional view showing an organic electroluminescence exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図14】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造工程(陽極電極膜塗布)を示す工程図である。
FIG. 14 is a process drawing showing a manufacturing process (coating of an anode electrode film) of a conventional organic electroluminescence exposure apparatus.

【図15】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造工程(有機EL材塗布)を示す工程図である。
FIG. 15 is a process diagram showing a manufacturing process (organic EL material coating) of a conventional organic electroluminescence exposure apparatus.

【図16】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造工程(露光によるパターン化)を示す工程図で
ある。
FIG. 16 is a process drawing showing a manufacturing process (patterning by exposure) of a conventional organic electroluminescence exposure apparatus.

【図17】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造工程(2色目の有機EL材塗布)を示す工程図
である。
FIG. 17 is a process diagram showing a manufacturing process (application of an organic EL material of a second color) of a conventional organic electroluminescence exposure apparatus.

【図18】従来の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造工程における有機EL材の重なりを示す断面図
である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing an overlap of organic EL materials in a manufacturing process of a conventional organic electroluminescence exposure apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 有機エレクトロルミネッセンス露光装置 2 ガラス基板 3 透明導電膜 4 陽極 5 発光層 6 陰極 7 保護層 8 保護基板 11 マスク板 12 マスク板 13 マスク板 14 マスク板 15 マスク板 16 マスク板 17 マスク板 21 発光層 22 発光層 23 発光層 31 撥水性フッ素コーティング 50 有機エレクトロルミネッセンス露光装置 51 有機EL材 52 有機EL材 53 有機EL材 54 撥水膜 60 基板 61 陽極電極膜 62 陰極電極膜 80 電源部 1 Organic electroluminescence exposure equipment 2 glass substrates 3 Transparent conductive film 4 anode 5 Light emitting layer 6 cathode 7 protective layer 8 protective substrate 11 mask plate 12 Mask plate 13 Mask plate 14 Mask plate 15 Mask plate 16 mask plate 17 Mask plate 21 Light-emitting layer 22 Light-emitting layer 23 Light-emitting layer 31 Water repellent fluorine coating 50 Organic electroluminescence exposure apparatus 51 Organic EL material 52 Organic EL material 53 Organic EL material 54 Water repellent film 60 substrates 61 Anode electrode film 62 Cathode electrode film 80 power supply

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導電膜、電極が形成された基板に対してマ
スク板によるマスクをしてRセグメント部を形成する発
光層を塗布する工程と、 基板の全面に撥水性の剥離防止層を施す工程と、 基板上のRセグメント部分をマスクしてそれ以外の部分
の撥水性の剥離防止層を除去する工程と、 Rセグメント部分をマスクしてGセグメントを形成する
発光層を塗布する工程と、 R,G各セグメント部分をマスクしてそれ以外の部分の
撥水性の剥離防止層を除去する工程と、 基板の全面に撥水性の剥離防止層を施す工程と、 R,G各セグメント部分をマスクしてBセグメントを形
成する発光層を塗布する工程と、 R,G,B各セグメント部分をマスクしてそれ以外の部
分の撥水性の剥離防止層を除去する工程と、 を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセン
ス露光装置の製造方法。
1. A step of applying a light emitting layer for forming an R segment portion by masking a substrate having a conductive film and electrodes with a mask plate, and applying a water-repellent peeling prevention layer on the entire surface of the substrate. A step of masking the R segment portion on the substrate to remove the water-repellent peeling prevention layer on the other portion, and a step of masking the R segment portion to apply a light emitting layer for forming a G segment, A step of masking the R and G segment portions to remove the water-repellent peeling prevention layer on the other portions, a step of applying a water-repellent peeling prevention layer on the entire surface of the substrate, and a masking of the R and G segment portions And applying a light-emitting layer to form the B segment, and masking the R, G, and B segment portions to remove the water-repellent peeling prevention layer at the other portions. Organic EL Manufacturing method of Toro luminescence exposure apparatus.
【請求項2】導電膜、電極が形成された基板に対してマ
スク板によるマスクをしてRセグメント部を形成する発
光層を塗布する工程と、 基板の全面に撥水性フッ素コーティングを施す工程と、 基板上のRセグメント部分をマスクして紫外線でそれ以
外の部分の撥水性フッ素コーティングを劣化して除去す
る工程と、 Rセグメント部分をマスクしてGセグメントを形成する
発光層を塗布する工程と、 R,G各セグメント部分をマスクして紫外線でそれ以外
の部分の撥水性フッ素コーティングを劣化して除去する
工程と、 基板の全面に撥水性フッ素コーティングを施す工程と、 R,G各セグメント部分をマスクしてBセグメントを形
成する発光層を塗布する工程と、 R,G,B各セグメント部分をマスクして紫外線でそれ
以外の部分の撥水性フッ素コーティングを劣化して除去
する工程と、 を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセン
ス露光装置の製造方法。
2. A step of applying a light emitting layer for forming an R segment portion by masking a substrate having a conductive film and electrodes with a mask plate, and a step of applying a water-repellent fluorine coating on the entire surface of the substrate. A step of masking the R segment portion on the substrate to deteriorate and removing the water-repellent fluorine coating of the other portion by ultraviolet rays, and a step of masking the R segment portion and applying a light emitting layer for forming the G segment. , R and G segment parts are masked to remove the water-repellent fluorine coating on the other parts by ultraviolet rays, and the step of applying water-repellent fluorine coating to the entire surface of the substrate, R and G segment parts And a light emitting layer for forming B segment is masked, and R, G, B segment portions are masked and UV repellency is applied to the other portions. A method of manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus comprising: a step of deteriorating and removing a fluorine coating.
【請求項3】基板上に陽極電極膜を形成する工程と、 陽極電極膜上にRセグメント部を形成する有機EL材を
塗布する工程と、 基板上のRセグメント部分を形成する有機EL材をマス
クしてそれ以外の部分の有機EL材を除去する工程と、 基板の全面に撥水膜を塗布する工程と、 基板上のRセグメント部分を形成する有機EL材上の撥
水膜をマスクしてそれ以外の部分の撥水膜を除去する工
程と、 撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にGセグメ
ント部を形成する有機EL材及び撥水膜を塗布する工程
と、 必要なGセグメント部上の撥水膜をマスクしてそれ以外
の部分のGセグメント部及び撥水膜を除去する工程と、 撥水膜が除去され陽極電極膜が露出した領域にBセグメ
ント部を形成する有機EL材及び撥水膜を塗布する工程
と、 必要なGセグメント部上の撥水膜をマスクしてそれ以外
の部分のGセグメント部及び撥水膜を除去する工程と、 R,G,B各セグメント部分の上部に陰極電極膜を形成
する工程と、 を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセン
ス露光装置の製造方法。
3. A step of forming an anode electrode film on a substrate, a step of applying an organic EL material forming an R segment portion on the anode electrode film, and an organic EL material forming an R segment portion on the substrate. A step of masking to remove the other part of the organic EL material, a step of applying a water-repellent film on the entire surface of the substrate, and a step of masking the water-repellent film on the organic EL material forming the R segment part on the substrate. And a step of removing the water repellent film on the other part, and a step of applying an organic EL material and a water repellent film for forming a G segment on the region where the water repellent film is removed and the anode electrode film is exposed. A step of masking the water repellent film on the G segment part to remove the G segment part and the water repellent film in the other parts, and forming a B segment part in the region where the water repellent film is removed and the anode electrode film is exposed. A step of applying an organic EL material and a water repellent film , A step of masking the required water repellent film on the G segment part to remove the other G segment part and the water repellent film, and forming a cathode electrode film on the R, G, B segment parts A method of manufacturing an organic electroluminescence exposure apparatus, comprising:
【請求項4】前記R,G,Bセグメント部分を形成する
有機EL材を塗布する工程には、有機EL材上へのアク
ティベーション膜の塗布工程も含まれることを特徴とす
る請求項3記載の有機エレクトロルミネッセンス露光装
置の製造方法。
4. The step of applying the organic EL material for forming the R, G, B segment portions also includes the step of applying an activation film on the organic EL material. Manufacturing method of organic electroluminescence exposure apparatus of.
JP2002038764A 2002-02-15 2002-02-15 Method for manufacturing organic electroluminescence exposure apparatus Expired - Fee Related JP4054850B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002038764A JP4054850B2 (en) 2002-02-15 2002-02-15 Method for manufacturing organic electroluminescence exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002038764A JP4054850B2 (en) 2002-02-15 2002-02-15 Method for manufacturing organic electroluminescence exposure apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003243164A true JP2003243164A (en) 2003-08-29
JP4054850B2 JP4054850B2 (en) 2008-03-05

Family

ID=27779993

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002038764A Expired - Fee Related JP4054850B2 (en) 2002-02-15 2002-02-15 Method for manufacturing organic electroluminescence exposure apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4054850B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004032573A1 (en) * 2002-10-07 2004-04-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method for manufacturing a light emitting display
JP2006237402A (en) * 2005-02-25 2006-09-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device and method for fabricating the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004032573A1 (en) * 2002-10-07 2004-04-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method for manufacturing a light emitting display
JP2006237402A (en) * 2005-02-25 2006-09-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device and method for fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP4054850B2 (en) 2008-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3948082B2 (en) Method for manufacturing organic electroluminescence element
JP4374765B2 (en) Manufacturing method of organic EL element
TWI816536B (en) Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same
US8076844B2 (en) Organic EL display device and manufacturing method of the same
KR101456023B1 (en) Method of fabricating organic electro luminescent device
JP2000012220A (en) Manufacture of organic el display panel
JP2007080569A (en) Method for manufacturing organic electroluminescence element
JP2009164107A (en) Organic el display
JP2005032576A (en) Restoration method and restoration device of polychromatic organic light emission display element
JP2013168242A (en) Method for manufacturing organic light-emitting device
TW201314884A (en) Method for manufacturing organic light-emitting device
JP2007026951A (en) Manufacturing method of self-light emitting panel, and self-light emitting panel
JP2007073353A (en) Method for manufacturing organic electroluminescence element
TWI602335B (en) Method for forming thin film pattern
TW200405950A (en) Manufacturing method of fine structure object, optical device, integrated circuit and electronic machine
JP2003243164A (en) Manufacturing method of organic electroluminescent exposure device
JP2008010243A (en) Organic el element and manufacturing method therefor
JP2000353593A (en) Manufacturing device for and manufacture of organic electroluminescence display panel
KR20080003079A (en) Organic light emitting display device and and method for fabricating the same
JP2007294413A (en) Organic el panel and manufacturing method for the same
JP3823482B2 (en) Method for manufacturing organic electroluminescent device
TW200901818A (en) Method of producing organic light emitting apparatus
JP2003297549A (en) Organic el display and its manufacturing method
JP2002373780A (en) Method for manufacturing organic electroluminescent exposure device
JP2004294878A (en) Method of manufacturing microstructure, device, optical element, integrated circuit, and electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041004

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070418

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070709

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070918

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071017

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4054850

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131221

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees