JP2003242698A - Magneto-optical disk - Google Patents

Magneto-optical disk

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JP2003242698A
JP2003242698A JP2002041491A JP2002041491A JP2003242698A JP 2003242698 A JP2003242698 A JP 2003242698A JP 2002041491 A JP2002041491 A JP 2002041491A JP 2002041491 A JP2002041491 A JP 2002041491A JP 2003242698 A JP2003242698 A JP 2003242698A
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JP
Japan
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layer
magneto
optical disk
antistatic
recording
Prior art date
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JP2002041491A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshikazu Suzuki
芳和 鈴木
Osamu Ishizaki
修 石崎
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Maxell Holdings Ltd
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Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film surface incidence type magneto-optical disk which is provided with a surface protective layer having an excellent sliding resistance characteristic and an antistatic function. <P>SOLUTION: The surface protective layer of a magneto-optical disk 100 consists of three layers: a transparent resin layer; a hard coat layer; and an antistatic coat layer. The electrical resistivity of the surface protective layer is ≥1.5×10<SP>11</SP>Ω/cm<SP>2</SP>, pencil hardness is ≥F, and the film thickness of the surface protective layer is 2.5 to 25 μm. As a result, it is possible to suppress a dust collection effect by providing a disk surface with an antistatic effect and to improve the durability of the disk surface with respect to the sliding of a floating head at recording or reproduction. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、浮上型ヘッドを用
いて、基板上に反射層、記録層、透明誘電体層、表面保
護層をこの順に積層し表面保護層側からレーザー光を照
射して記録再生を行う光磁気ディスクに関し、さらに詳
細には、耐擦傷性が優れ、かつ帯電防止能力を有する光
磁気ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a flying head to stack a reflective layer, a recording layer, a transparent dielectric layer, and a surface protective layer on a substrate in this order, and irradiates a laser beam from the surface protective layer side. The present invention relates to a magneto-optical disk for recording / reproducing, and more specifically to a magneto-optical disk having excellent scratch resistance and antistatic ability.

【0002】[0002]

【従来の技術】マルチメディア時代の到来により、大量
の情報を高密度で記録し、かつ迅速に記録再生すること
が可能な光ディスクが注目されている。光ディスクは、
CDやレーザーディスク(登録商標)のように情報再生の
みを可能とした再生専用光ディスク、CD-Rのように一度
だけ記録を可能とした追記型光ディスク、光磁気記録方
式や相変化記録方式を用いて何度でも情報の書き換え消
去を可能とした書換型光ディスク等に分類される。これ
ら光ディスクの中でも、高転送レートを要求される分野
では、主に光磁気ディスクが用いられているが、ここ数
年、取り扱う情報量の増加に伴い、光記録においては記
録容量を一層増大することが求められている。
2. Description of the Related Art With the advent of the multimedia age, an optical disk capable of recording a large amount of information at a high density and rapidly recording and reproducing is attracting attention. The optical disc is
Uses a read-only optical disc such as a CD or a laser disc (registered trademark) that can only reproduce information, a write-once optical disc that allows recording only once such as a CD-R, a magneto-optical recording system or a phase change recording system. It is classified into a rewritable optical disc or the like that can rewrite and erase information as many times as necessary. Among these optical discs, magneto-optical discs are mainly used in fields requiring a high transfer rate, but with the increase in the amount of information handled in the past few years, the recording capacity should be further increased in optical recording. Is required.

【0003】この要望に応えるために開口数(NA)が高
い対物レンズと磁界発生コイルを搭載した浮上型ヘッド
が光磁気ディスク面上をシークしながらレーザー光を照
射し記録再生を行う方法が提案されている。この記録再
生方式に対応した光磁気ディスクは、ランド記録もしく
はグルーブ記録が行えるように、ランドもしくはグルー
ブを設けた基板上に、少なくとも反射膜、記録層、透明
誘電体層および表面保護層の順で積層された構造を有す
る。
In order to meet this demand, a method is proposed in which a flying head equipped with an objective lens having a high numerical aperture (NA) and a magnetic field generating coil irradiates a laser beam while seeking on the surface of a magneto-optical disk for recording / reproducing. Has been done. A magneto-optical disk compatible with this recording / reproducing system is provided with at least a reflective film, a recording layer, a transparent dielectric layer, and a surface protective layer in this order on a substrate provided with lands or grooves so that land recording or groove recording can be performed. It has a laminated structure.

【0004】上記の記録再生方式では浮上型ヘッドで記
録再生を行うので、浮上型ヘッドがシーク動作あるいは
ロードアンロード動作などを行う際、ディスク表面にヘ
ッドが接触する恐れがある。このヘッド接触により発生
するディスク表面もしくは浮上型ヘッドの損傷を防止ま
たは極力抑制する必要がある。また、光磁気ディスク表
面の帯電により塵埃等がディスク表面に付着する場合、
塵埃がレーザー光照射の行路を妨げ、データ読み書き時
のエラーの原因となる。最悪の場合、付着した塵埃が引
き金となり浮上型ヘッドがクラッシュする可能性も考え
られる。
In the above recording / reproducing system, since recording / reproducing is performed by the flying head, there is a possibility that the head may come into contact with the disk surface when the flying head performs seek operation or load / unload operation. It is necessary to prevent or suppress damage to the disk surface or the flying type head that occurs due to this head contact. Also, when dust or the like adheres to the disk surface due to the charging of the magneto-optical disk surface,
Dust obstructs the path of laser light irradiation and causes an error when reading and writing data. In the worst case, the dust that adheres may trigger the floating head to crash.

【0005】上記の問題を解決するために、例えば、特
許第3078006では、光ディスクの表面保護層として、高
硬度で低抵抗な紫外線硬化型樹脂層を設ける案が提案さ
れている。
In order to solve the above problems, for example, Japanese Patent No. 3078006 proposes to provide an ultraviolet-curable resin layer having high hardness and low resistance as a surface protective layer of an optical disk.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、紫外線
硬化型樹脂層の帯電防止能力を向上させようとすると、
通常、硬度の低下は避けられず、また、紫外線硬化型樹
脂層の光線透過率も減少する。実際、樹脂層1層のみで
帯電防止や高硬度などの所望の機能を全て満足させるに
は限界がある。
However, when it is attempted to improve the antistatic ability of the ultraviolet curable resin layer,
Usually, a decrease in hardness is unavoidable, and the light transmittance of the ultraviolet curable resin layer also decreases. In fact, there is a limit in satisfying all desired functions such as antistatic property and high hardness with only one resin layer.

【0007】本発明はかかる問題を解決するためになさ
れたものであり、その目的は、優れた帯電電防止能力及
び耐摺動性を有する光磁気ディスクを提供することにあ
る。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a magneto-optical disk having excellent antistatic ability and sliding resistance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、表面保
護層を透明樹脂層、ハードコート層及び帯電防止コート
層の3層から構成し、ハードコート層の厚みを透明樹脂
層の厚みと同じかそれ以上、帯電防止コート層の厚みを
0.5μm以上、透明樹脂層とハードコート層との膜厚の合
計を2μm〜20μmとし、且つ、光磁気ディスク表面の電
気抵抗率が1.5×1011Ω/cm2以下、鉛筆硬度がF以上の、
表面保護層全体の膜厚が2.5μm〜25μmの光磁気記録媒
体とすることで、優れた帯電電防止能力及び耐摺動性を
有する。
An object of the present invention is to form a surface protective layer from three layers of a transparent resin layer, a hard coat layer and an antistatic coat layer, the thickness of the hard coat layer being the thickness of the transparent resin layer. The same or more, the thickness of the antistatic coating layer
0.5 μm or more, the total thickness of the transparent resin layer and the hard coat layer is 2 μm to 20 μm, and the electric resistivity of the magneto-optical disk surface is 1.5 × 10 11 Ω / cm 2 or less, and the pencil hardness is F or more. ,
By using a magneto-optical recording medium having a total thickness of the surface protective layer of 2.5 μm to 25 μm, it has excellent antistatic ability and sliding resistance.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】上記目的を達成するために発明し
た光磁気ディスクの一例を図1に示す。図1は光磁気ディ
スク100の構造断面図である。光磁気ディスク100は基板
(1)上に、反射層(2)、記録層(3)、透明誘電体層
(4)、及び表面保護層(5)がこの順で積層されてい
る。表面保護層(5)は、透明樹脂層(6)、ハードコー
ト層(7)、帯電防止コート層(8)で構成される。透明
樹脂層(6)は光磁気ディスク積層膜の腐食防止、及び
外的衝撃からディスク表面を保護するために積層されて
いる。本記録再生システムでは表面保護層(5)上に浮
上型ヘッドが存在するので、従来使用されている基盤側
から光を入射するタイプの光ディスクの表面保護層より
も耐摺動性に優れた透明樹脂層を積層する必要がある。
そこで、透明樹脂層(6)の上層にハードコート層(7)
を積層した。ハードコート層の硬度は鉛筆硬度でF以
上、特に2H以上が好ましい。また、保護層の表面電気抵
抗値が高いと、塵埃がその表面に付着しやすくなり、ヘ
ッド/ディスククラッシュの原因となるので、ハードコ
ート層(7)の上層に帯電防止コート層を形成した。量
産を考慮すると、透明樹脂層(5)を構成する層数をよ
り少数で、ディスク保護、耐摺動特性及び帯電防止効果
を併せ持つことが好ましいが、上述にあるよう、実際は
透明誘電体層と透明樹脂層との接着性、硬度、帯電防止
効果及び光透過特性の兼ね合いを取りつつ、所望の特性
値を実現することは非常に難しい。このため、本発明の
光磁気ディスクの表面保護層は、透明樹脂層、ハードコ
ート層、帯電防止コート層からなる3層構造とした。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of a magneto-optical disk invented to achieve the above object is shown in FIG. FIG. 1 is a structural sectional view of a magneto-optical disk 100. The magneto-optical disk 100 has a reflective layer (2), a recording layer (3), a transparent dielectric layer (4), and a surface protective layer (5) laminated in this order on a substrate (1). The surface protective layer (5) is composed of a transparent resin layer (6), a hard coat layer (7) and an antistatic coat layer (8). The transparent resin layer (6) is laminated in order to prevent corrosion of the magneto-optical disc laminated film and to protect the disc surface from external impact. Since the flying head is present on the surface protection layer (5) in this recording / reproduction system, it is more transparent and has better sliding resistance than the surface protection layer of the type of optical disk in which light is incident from the base side that has been used conventionally. It is necessary to stack resin layers.
Therefore, the hard coat layer (7) is formed on the transparent resin layer (6).
Were laminated. The pencil hardness of the hard coat layer is preferably F or higher, and particularly preferably 2H or higher. Further, when the surface electric resistance value of the protective layer is high, dust easily adheres to the surface thereof, which causes a head / disk crash. Therefore, an antistatic coat layer was formed on the hard coat layer (7). Considering mass production, it is preferable that the number of layers constituting the transparent resin layer (5) be smaller and have the disk protection, the sliding resistance and the antistatic effect at the same time. It is very difficult to achieve a desired characteristic value while taking into consideration the adhesiveness with the transparent resin layer, the hardness, the antistatic effect, and the light transmission characteristic. Therefore, the surface protective layer of the magneto-optical disk of the present invention has a three-layer structure including a transparent resin layer, a hard coat layer, and an antistatic coat layer.

【0010】光磁気ディスク100は、記録層(3)が存在
する基板面とは反対側の基板面に、帯電防止コート層
(8)を形成する。必要に応じて、帯電防止コート層
(8)と基板(1)の間に透明樹脂層(6)/ハードコー
ト層(7)のどちらか一方の層、もしくは両方の層を形
成しても良い。
In the magneto-optical disk 100, an antistatic coating layer (8) is formed on the substrate surface opposite to the substrate surface on which the recording layer (3) is present. If necessary, one or both of the transparent resin layer (6) and the hard coat layer (7) may be formed between the antistatic coating layer (8) and the substrate (1). .

【0011】本発明の光磁気ディスクで用いられる基板
(1)は、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリメ
チルアクリレート、ポリスチレン、ナイロン等の樹脂の
他に、ガラス、シリコン、熱酸化シリコン、アルミニウ
ム、チタンなどの金属製ディスク基板を用いることがで
きる。
The substrate (1) used in the magneto-optical disk of the present invention is made of resin such as polycarbonate, polyolefin, polymethyl acrylate, polystyrene and nylon, as well as metal such as glass, silicon, thermally oxidized silicon, aluminum and titanium. A disc substrate made of a metal can be used.

【0012】本光磁気ディスクの反射層(2)として
は、Au、Ag、Cuなどの貴金属単体もしくは合金、これら
の貴金属と他の遷移族金属、Si、Ge、Sn、Pb、Al、Ga、
In等との合金、Al単体もしくは他金属との合金等が使用
可能である。また、反射層(2)は、異なる組成を有す
る2層以上の積層構造としても良い。また、反射層(2)
と基板(1)の間に、耐食性、接着性等を上げるため、S
iNx、AlNx、SiCx、SiOx、SiNxOy、GexN、GeNxOy等のセ
ラミック層、Ti、Cr、Zr、Nb、Ta等の非磁性遷移金属層
を形成しても良い。
As the reflective layer (2) of the present magneto-optical disk, simple metals or alloys of noble metals such as Au, Ag and Cu, these noble metals and other transition group metals, Si, Ge, Sn, Pb, Al, Ga,
An alloy with In or the like, a simple substance of Al or an alloy with another metal can be used. The reflective layer (2) may have a laminated structure of two or more layers having different compositions. Also a reflective layer (2)
Between the substrate and the substrate (1) to improve corrosion resistance, adhesion, etc.
A ceramic layer such as iNx, AlNx, SiCx, SiOx, SiNxOy, GexN, and GeNxOy, and a nonmagnetic transition metal layer such as Ti, Cr, Zr, Nb, and Ta may be formed.

【0013】本光磁気ディスクの記録層(3)として
は、TbFeCo、DyFeCo、DyTbFeCo、GdFeCo等の希土類-遷
移金属アモルファス合金、CoとPt等の貴金属と遷移強磁
性金属の積層膜等が使用可能である。これらの合金中
に、Cr、Nb、Pt、Ni、Ta等が含まれていても良い。ま
た、組成の異なるアモルファスを2層以上に積層したも
のでも、アモルファス膜と積層膜を組み合わせたものを
使用しても良い。
As the recording layer (3) of the present magneto-optical disk, a rare earth-transition metal amorphous alloy such as TbFeCo, DyFeCo, DyTbFeCo and GdFeCo, a laminated film of a noble metal such as Co and Pt and a transition ferromagnetic metal can be used. Is. Cr, Nb, Pt, Ni, Ta, etc. may be contained in these alloys. Further, it is possible to use a laminate of two or more layers of amorphous materials having different compositions or a combination of an amorphous film and a laminated film.

【0014】記録層(3)にはTbFeCoなどの単層の光磁
気記録膜や、磁気超解像タイプの複数の磁性膜からなる
膜を用いることができる。この磁気超解像タイプの場合
の記録再生層の構造は、上記の記録膜(3)の部分が、
光入射側から見て、GdFeCoの再生層、GdFeのマスク層、
非磁性層、TbFeCoを主体とする記録層からなる静磁結合
タイプのCAD型磁気超解像構造となる。非磁性層として
は、SiNx、AlNx等のセラミック層のほかにAl、Ti、Zr等
の非磁性金属も用いることができる。この記録再生層
は、非磁性層の無い交換結合型のCAD型磁気超解像タイ
プであってもよい。
As the recording layer (3), a single layer magneto-optical recording film such as TbFeCo or a film composed of a plurality of magnetic super-resolution type magnetic films can be used. The structure of the recording / reproducing layer in the case of this magnetic super-resolution type is such that the recording film (3) is
When viewed from the light incident side, the reproduction layer of GdFeCo, the mask layer of GdFe,
It is a magnetostatically coupled CAD-type magnetic super-resolution structure composed of a non-magnetic layer and a recording layer mainly composed of TbFeCo. As the non-magnetic layer, a non-magnetic metal such as Al, Ti or Zr can be used in addition to a ceramic layer such as SiNx or AlNx. The recording / reproducing layer may be an exchange coupling type CAD type magnetic super-resolution type without a non-magnetic layer.

【0015】反射層(2)と記録層(3)の間には、熱制
御のためSiNx、AlNx、SiCx、SiOx、SiNxOy、GexN、GeNx
Oy等のセラミック層、Ti、Cr、Zr、Nb、Ta等の非磁性遷
移金属層、Si、Ge、ZeS、ZeSe等の半導体層を形成して
も良い。
SiNx, AlNx, SiCx, SiOx, SiNxOy, GexN, GeNx are provided between the reflective layer (2) and the recording layer (3) for thermal control.
A ceramic layer such as Oy, a nonmagnetic transition metal layer such as Ti, Cr, Zr, Nb, and Ta, and a semiconductor layer such as Si, Ge, ZeS, and ZeSe may be formed.

【0016】本光磁気ディスクの透明誘電体層(4)と
しては、SiNx、SiOx、SiCx、SiNxOy、SiCxOy、SiNxCyO
z、AlNx、AlOx、AlNxOy、ZrOx、ZnS、ZnS-(SiO2)x、Z
rOx、TiOx、DLCカーボン等の透明なセラミックス層を用
いることができる。
As the transparent dielectric layer (4) of the present magneto-optical disk, SiNx, SiOx, SiCx, SiNxOy, SiCxOy, SiNxCyO are used.
z, AlNx, AlOx, AlNxOy, ZrOx, ZnS, ZnS- (SiO2) x, Z
A transparent ceramic layer such as rOx, TiOx, DLC carbon can be used.

【0017】本光磁気ディスクの透明樹脂層(6)の材
料としては、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、
ポリエーテルアクリレート等の光重合性オリゴマー、単
官能及び多官能アクリレート、単官能及び多官能メタク
リレート等の光重合性モノマー、光開始剤(ベンゾイン
系、アセトフェノン系、パーオキシド系等)が主成分で
ある紫外線硬化型樹脂を用いることができる。上記紫外
線硬化型樹脂には必要に応じて、増感剤、レベリング
剤、可塑剤、無機/有機充填剤、熱重合禁止剤、チキソ
トロープ性付与剤、非反応性モノマー、有機溶剤を選択
して添加しても良い。
The material of the transparent resin layer (6) of the present magneto-optical disk is polyester, epoxy, polyurethane,
Photopolymerizable oligomers such as polyether acrylate, monofunctional and polyfunctional acrylates, photopolymerizable monomers such as monofunctional and polyfunctional methacrylates, and ultraviolet rays containing photoinitiators (benzoin-based, acetophenone-based, peroxide-based, etc.) as main components A curable resin can be used. If necessary, a sensitizer, a leveling agent, a plasticizer, an inorganic / organic filler, a thermal polymerization inhibitor, a thixotropic agent, a non-reactive monomer, an organic solvent may be selectively added to the above ultraviolet curable resin. You may.

【0018】本光磁気ディスクのハードコート層(7)
の材料としては、上記の紫外線硬化型樹脂を含む光硬化
性樹脂や、この光硬化性樹脂にSiO2やTiO2などの各種金
属酸化物や無機質の微粒子(フィラ−)を添加したたも
のを用いることができる。このときの材料全体での固形
分重量は10−85%、特に40−60%、また、固形分中に占
める無機成分重量は10−50%、特に35−50%が望まし
い。
Hard coat layer (7) of the present magneto-optical disk
As the material of the above, use a photocurable resin containing the above-mentioned ultraviolet curable resin, or this photocurable resin to which various metal oxides such as SiO2 and TiO2 and inorganic fine particles (filler) are added. You can At this time, the solid content weight of the entire material is preferably 10-85%, particularly 40-60%, and the inorganic component weight in the solid content is preferably 10-50%, particularly 35-50%.

【0019】本光磁気ディスクの帯電防止コート層
(8)の材料として、上記の紫外線硬化型樹脂を含む光
硬化性樹脂に、各種金属酸化物や無機質の微粒子(フィ
ラ−)を分散させた光硬化型帯電防止剤を用いることが
できる。上記の微粒子として、In 2O3、SnO2、インジウ
ム‐スズ複合酸化物(ITO)、MoO2、Sb2O3、IrO3、Si
O2、Al2O3などを有用な材料として用いることができ
る。このときの材料全体での固形分重量、固形分中に占
める無機成分重量は上記範囲内が望ましい。
Antistatic coating layer of the present magneto-optical disk
As the material of (8), the light containing the above-mentioned UV curable resin is used.
Add various metal oxides and inorganic fine particles (file
It is possible to use a photocurable antistatic agent in which
it can. As the above fine particles, In 2O3, SnO2, Injiu
Mu-tin composite oxide (ITO), MoO2, Sb2O3, IrO3, Si
O2, Al2O3 can be used as a useful material
It At this time, the solid content weight of the entire material and the solid content
The weight of the inorganic component to be contained is preferably within the above range.

【0020】透明樹脂層(6)、ハードコート層(7)及
び帯電防止コート層(8)はスピンコート法により各層
の樹脂材料がディスク上に塗布され、硬化に至る適切な
処理(例えば紫外線照射)を行うことで形成される。塗
布時のディスク回転数、回転時間、コート時の樹脂塗布
量などを制御することで透明樹脂層(6)、ハードコー
ト層(7)及び帯電防止コート層(8)の膜厚を決めるこ
とができる。ディスクの耐食性、耐摺動性などを考慮
し、ハードコート層(7)の厚みは透明樹脂層(6)の厚
みと同じかそれ以上で、かつ、透明樹脂層(6)とハー
ドコート層の合計の厚さは2μm〜20μm、特に5μm〜20
μmであることが望ましい。ハードコート層(7)の厚み
が透明樹脂層(6)より薄いと表面保護層の硬度が不十
分となり、ディスクの耐久性が劣化する。透明樹脂層
(6)とハードコート層の合計の厚さが2μm以下では、
耐食性や耐摺動性が十分でなくディスク保護としての効
果が弱い。また、20μm以上では、保護の効果がそれほ
ど大きく向上しないため、経済性および生産性なども考
慮し2μm〜20mであれば十分なディスク保護効果が得ら
れると判断した。このため、透明樹脂層(6)とハード
コート層の合計の厚さは2μm〜20μmとすることが望ま
しい。また、透明樹脂層の鉛筆硬度は2B以上、ハードコ
ート層の硬度は鉛筆硬度でH以上、特に2H以上であるこ
とが望ましい。
The transparent resin layer (6), the hard coat layer (7) and the antistatic coat layer (8) are coated with the resin material of each layer on the disk by a spin coating method and subjected to an appropriate treatment (for example, irradiation with ultraviolet rays) for curing. ) Is performed. It is possible to determine the film thickness of the transparent resin layer (6), hard coat layer (7) and antistatic coat layer (8) by controlling the number of revolutions of the disc during coating, the rotation time, and the amount of resin applied during coating. it can. Considering the corrosion resistance and sliding resistance of the disc, the thickness of the hard coat layer (7) is equal to or greater than the thickness of the transparent resin layer (6), and the thickness of the transparent resin layer (6) and the hard coat layer are Total thickness is 2 μm to 20 μm, especially 5 μm to 20 μm
It is preferably μm. If the hard coat layer (7) is thinner than the transparent resin layer (6), the hardness of the surface protective layer will be insufficient and the durability of the disk will be deteriorated. When the total thickness of the transparent resin layer (6) and the hard coat layer is 2 μm or less,
Corrosion resistance and sliding resistance are not sufficient, and the effect as disk protection is weak. Further, when the thickness is 20 μm or more, the protection effect does not improve so much, so it was determined that sufficient disk protection effect can be obtained if the thickness is 2 μm to 20 m in consideration of economical efficiency and productivity. Therefore, the total thickness of the transparent resin layer (6) and the hard coat layer is preferably 2 μm to 20 μm. Further, it is desirable that the transparent resin layer has a pencil hardness of 2B or more, and the hard coat layer has a pencil hardness of H or more, particularly 2H or more.

【0021】帯電防止保護コート層(8)の膜厚は0.5μ
m以上、特に1μm以上であることが望ましい。0.5μm以
下では帯電防止効果が十分に機能しない。帯電防止コー
ト層表面の電気抵抗率が5×1010Ω/cm2以下であること
が望ましい。
The thickness of the antistatic protective coat layer (8) is 0.5 μm.
It is preferably m or more, particularly 1 μm or more. If it is 0.5 μm or less, the antistatic effect does not function sufficiently. It is desirable that the surface of the antistatic coating layer has an electric resistivity of 5 × 10 10 Ω / cm 2 or less.

【0022】ハードコート層(7)の厚みは透明樹脂層
(6)の厚みと同じかそれ以上で、かつ、透明樹脂層
(6)とハードコート層(7)の合計膜厚が2μm〜20μm
かつ帯電防止保護コート層の膜厚が0.5μm以上であると
きに、透明樹脂層(6)、ハードコート層(7)及び帯
電防止コート層(8)で構成される表面保護層(5)の膜
厚が2.5μm〜25μmであることが望ましい。ハードコー
ト層(7)の厚みが透明樹脂層(6)より薄いと表面保護
層の硬度が不十分となり、ディスクの耐久性が劣化す
る。表面保護層(5)の膜厚が2μm以下では、ディスク
を十分に保護することができず、帯電防止効果も期待で
きない。また、25μm以上では耐摺動性及び帯電防止効
果の目立った改善は見られなかった。
The thickness of the hard coat layer (7) is equal to or greater than the thickness of the transparent resin layer (6), and the total thickness of the transparent resin layer (6) and the hard coat layer (7) is 2 μm to 20 μm.
When the thickness of the antistatic protective coat layer is 0.5 μm or more, the surface protective layer (5) composed of the transparent resin layer (6), the hard coat layer (7) and the antistatic coat layer (8) is formed. The film thickness is preferably 2.5 μm to 25 μm. If the hard coat layer (7) is thinner than the transparent resin layer (6), the hardness of the surface protective layer will be insufficient and the durability of the disk will be deteriorated. When the film thickness of the surface protective layer (5) is 2 μm or less, the disk cannot be sufficiently protected and the antistatic effect cannot be expected. Further, when the thickness is 25 μm or more, no noticeable improvement in sliding resistance and antistatic effect was observed.

【0023】本発明では図1に挙げた光磁気ディスクの
みならず、図2に示すようなディスク両面から記録再生
可能な光磁気ディスク(光磁気ディスク200)において
も適用可能である。
The present invention is applicable not only to the magneto-optical disk shown in FIG. 1 but also to a magneto-optical disk (magneto-optical disk 200) capable of recording and reproducing from both sides of the disk as shown in FIG.

【0024】上記の検討結果を踏まえることにより、光
磁気ディスクの表面電気抵抗値が1×1011Ω/cm2以下か
つ鉛筆硬度がF以上となり、帯電防止効果を持ち耐摺動
性に優れた光磁気ディスクを提供することができる。
Based on the above-mentioned examination results, the surface electric resistance value of the magneto-optical disk was 1 × 10 11 Ω / cm 2 or less and the pencil hardness was F or more, which had an antistatic effect and excellent sliding resistance. A magneto-optical disk can be provided.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。 (実施例1)第1図に示した構造の光磁気ディスク100を
以下に示す方法で作製した。基板(1)を予め溝とピッ
トを形成したスタンパおよびポリカーボネート樹脂を用
いて、射出圧縮成形により作製した。基板サイズは、直
径130mmである。その上にインライン式DCマグネトロン
スパッタ装置を用いて、反射層(2)としてAu層を50n
m、記録再生層(3)としてCAD膜(TbFeCo膜を50nm、窒
化シリコン層を10nm、GdFe層を30nm、GdFeCo層を30nmの
4層をこの順で積層)を成膜した。その上に、透明誘電
体層(4)として窒化シリコン層60nmを成膜した。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1 A magneto-optical disk 100 having the structure shown in FIG. 1 was manufactured by the method described below. A substrate (1) was produced by injection compression molding using a stamper and polycarbonate resin in which grooves and pits were formed in advance. The substrate size is 130 mm in diameter. Using an in-line type DC magnetron sputtering device, an Au layer of 50n was formed as a reflective layer (2).
m, a CAD film (TbFeCo film of 50 nm, a silicon nitride layer of 10 nm, a GdFe layer of 30 nm, a GdFeCo layer of 30 nm as a recording / reproducing layer (3).
4 layers were laminated in this order). A 60 nm silicon nitride layer was formed thereon as a transparent dielectric layer (4).

【0026】透明誘電体層(4)上にアクリル系紫外線
硬化型樹脂(25℃での粘度 140mPa・s)をスピンコート
法で塗布し、紫外線照射処理(積算照度840mJ/cm2)を
行うことで、膜厚が4.5μmの透明樹脂層(6)を形成し
た。次に、主成分が紫外線硬化型樹脂とSiO2で、硬化後
の薄膜の鉛筆硬度が2Hとなるよう予め材料全体での固形
分重量を53%、固形分中に占めるSiO2成分重量を40%に
調合した光硬化型コート剤A(25℃での粘度 45mPa・s)
を透明樹脂層(6)上にスピンコート法で塗布し、70℃
加熱処理及び紫外線照射処理(積算照度1000mJ/cm2)を
行うことで膜厚が8.5μmのハードコート層(7)を形成
した。最後に、主成分が紫外線硬化型樹脂とITOフィラ
ーで、表面抵抗率が1.4×1010Ω/cm2となるよう予め材
料全体での固形分重量を50%、固形分中に占めるITO成
分重量を30%に調合した光硬化型コート剤B(25℃での
粘度 29mPa・s)をハードコート層(7)上にスピンコー
ト法で塗布し、50℃加熱処理及び紫外線照射処理(積算
照度700mJ/cm2)を行うことで膜厚が2.0μmの帯電防止
コート層(8)を形成した。
Acrylic UV curable resin (viscosity 140 mPa · s at 25 ° C.) is applied on the transparent dielectric layer (4) by spin coating, and UV irradiation treatment (total illuminance 840 mJ / cm 2 ) is performed. Then, a transparent resin layer (6) having a thickness of 4.5 μm was formed. Next, the main components are UV curable resin and SiO 2 , and the solid content weight of the entire material is 53% in advance so that the pencil hardness of the cured thin film is 2H, and the SiO 2 component weight in the solid content is 40%. Photocurable coating agent A (viscosity at 25 ° C: 45mPa ・ s)
Is applied onto the transparent resin layer (6) by spin coating and the temperature is 70 ° C.
A hard coat layer (7) having a thickness of 8.5 μm was formed by performing heat treatment and ultraviolet irradiation treatment (total illuminance: 1000 mJ / cm 2 ). Finally, the main components are UV curable resin and ITO filler, the solid content weight of the entire material is 50% in advance so that the surface resistivity is 1.4 × 1010 Ω / cm 2, and the ITO component weight in the solid content is 30%. % Of the photo-curable coating agent B (viscosity 29 mPa · s at 25 ° C) was applied on the hard coat layer (7) by spin coating, and heat treatment at 50 ° C and UV irradiation treatment (total illuminance 700 mJ / cm2 By carrying out (), an antistatic coat layer (8) having a film thickness of 2.0 μm was formed.

【0027】さらにもう一方の基板面にも光硬化型コー
ト剤Bを同様の条件で塗布及び硬化を行い、膜厚が2.0μ
mの帯電防止コート層(10)を形成し、光磁気ディスク1
00を作製した。
Further, the photocurable coating agent B is applied and cured on the other substrate surface under the same conditions to give a film thickness of 2.0 μm.
Forming an antistatic coating layer (10) of m, magneto-optical disk 1
00 was produced.

【0028】上記光磁気ディスクの表面の電気抵抗値と
鉛筆硬度を計測し、その結果を表1に示す。これらの測
定は記録層がある基板面(ヘッド浮上面側)で行った。
表面電気抵抗率はJIS−K6911、鉛筆硬度はJIS-K5400に
従って測定した。
The electric resistance value and the pencil hardness of the surface of the magneto-optical disk were measured, and the results are shown in Table 1. These measurements were performed on the substrate surface having the recording layer (on the air bearing surface side of the head).
The surface electrical resistivity was measured according to JIS-K6911 and the pencil hardness was measured according to JIS-K5400.

【0029】(実施例2)図2の構成で、基板両面に実施
例1と同様の構成、膜厚の反射層、記録層、透明誘電体
層、透明樹脂層、ハードコート層、帯電防止コート層を
有する光磁気ディスク200を作製した。光磁気ディスク2
00の表面電気抵抗値と鉛筆硬度を実施例1と同様の条件
で計測し、結果を表1に示す。
(Embodiment 2) With the structure shown in FIG. 2, a reflective layer, a recording layer, a transparent dielectric layer, a transparent resin layer, a hard coat layer, and an antistatic coat having the same structure and thickness as those of Embodiment 1 on both sides of the substrate. A magneto-optical disk 200 having layers was produced. Magneto-optical disk 2
The surface electric resistance value and pencil hardness of 00 were measured under the same conditions as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0030】(比較例1)(実施例1)と同様の構成、膜
厚で、但し透明樹脂層(6)の膜厚が7μm、ハードコー
ト層(7)の膜厚が4μmの光磁気ディスクを作製した。
作製した光磁気ディスクの表面電気抵抗値と鉛筆硬度を
実施例1と同様の条件で計測し、結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) A magneto-optical disk having the same structure and thickness as in (Example 1) except that the transparent resin layer (6) has a thickness of 7 μm and the hard coat layer (7) has a thickness of 4 μm. Was produced.
The surface electric resistance value and the pencil hardness of the manufactured magneto-optical disk were measured under the same conditions as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0031】(比較例2)(実施例2)と同様の構成、膜
厚で、但し帯電防止コート層(7)の膜厚が0.3μmのデ
ィスクを作製した。作製した光磁気ディスクの表面の電
気抵抗値と鉛筆硬度を実施例1と同様の条件で計測し、
結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) A disk having the same structure and film thickness as in Example 2 except that the film thickness of the antistatic coating layer (7) was 0.3 μm was prepared. The electric resistance value and the pencil hardness of the surface of the manufactured magneto-optical disk were measured under the same conditions as in Example 1,
The results are shown in Table 1.

【0032】(ランダムシーク試験)実施例1〜2、比較
例1〜2で作製した光磁気ディスクを特願平11−293684で
記載したドライブに組み込んで、浮上ヘッドを半径28mm
から60mmの範囲でランダムシークさせながら、ディスク
表面(表面保護層)の傷つき度合いを調べた。試験に用い
た光磁気ディスク表面にはフッ素系の潤滑剤を塗布し
た。この試験では、ディスクの回転数を毎分2400回転と
して、浮上ヘッドの浮上量を約1.0μmとした。試験条件
は60℃、80%R.H.環境で連続200時間のランダムシーク
試験を行った。ランダムシーク後の表面状態は、目視お
よび光学顕微鏡(倍率:150倍)で調べた。表面状態は5段
階で評価し、試験結果を表1にまとめて示す。なお、100
時間シーク後の表面状態は次の5段階評価とし、3以上
がリードライト特性に問題ないレベルに対応する。
(Random Seek Test) The magneto-optical disks produced in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were incorporated into the drive described in Japanese Patent Application No. 11-293684, and the flying head had a radius of 28 mm.
From 60 to 60 mm, the degree of scratches on the disk surface (surface protection layer) was examined while randomly seeking. A fluorine-based lubricant was applied to the surface of the magneto-optical disk used in the test. In this test, the number of revolutions of the disk was 2400 revolutions per minute, and the flying height of the flying head was about 1.0 μm. The test conditions were 60 ° C and 80% RH, and a random seek test was conducted for 200 hours continuously. The surface state after random seek was examined visually and with an optical microscope (magnification: 150 times). The surface condition was evaluated on a scale of 5 and the test results are summarized in Table 1. In addition, 100
The surface condition after the time seek is evaluated in the following 5 grades, and 3 or more corresponds to a level where there is no problem in read / write characteristics.

【0033】5:目視、顕微鏡でも傷は観察されない。 4:目視では傷は観察されないが、顕微鏡で観察するとデ
ィスク全面で数個傷が観察される。 3:目視で傷が観察されるが部分的である(概ねディスク
全周の1/5程度の円弧状の傷)、顕微鏡で観察すると小さ
な傷が無数観察される。 2:概ね半周から全周におよぶ傷が数本、そのほか小さな
傷が10本以上観察され、顕微鏡で観察すると小さな傷が
無数観察される。 1:概ね半周から全周におよぶ傷が10本以上、そのほか小
さな傷が無数に観察され、顕微鏡で観察すると小さな傷
が無数観察される。
5: No scratches are observed visually or under a microscope. 4: No scratches are visually observed, but when observed with a microscope, several scratches are observed on the entire surface of the disc. 3: Although scratches are visually observed, it is partial (generally about 1/5 of the entire circumference of the disk in an arcuate shape), and numerous small scratches are observed under a microscope. 2: Several scratches extending from about half to the entire circumference and 10 or more small scratches are observed, and countless small scratches are observed under a microscope. 1: Ten or more scratches extending from about half to the entire circumference, and numerous other small scratches are observed. When observed under a microscope, countless small scratches are observed.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】*1:試験後の光磁気ディスク表面観察で
は、カウントされた微小塵埃数が他の光磁気ディスク表
面と比較して2倍以上であった。
* 1: In the observation of the surface of the magneto-optical disk after the test, the number of minute dusts counted was more than twice that of the surface of other magneto-optical disks.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の光磁気ディスクの表面保護層
(5)は透明樹脂層(6)、ハードコート層(7)及び帯
電防止コート層(8)の3層で構成され、ハードコート層
(7)の厚みは透明樹脂層(6)の厚みと同じかそれ以上
で、かつ、透明樹脂層とハードコート層の合計膜厚が2
μm〜20μmであり、ハードコート層の上層に膜厚0.5μm
以上の帯電防止保護コート層を形成することで、光磁気
ディスク表面の電気抵抗率が1.5×1011Ω/cm2以下かつ
鉛筆硬度がF以上であり、表面保護層の膜厚が2.5μm〜2
5μmとした。これにより、光磁気ディスク表面に優れた
帯電防止能力を付与し、且つ、記録再生時、浮上ヘッド
の摺動などに対するディスク表面の耐久性を向上するこ
とができた。
The surface protective layer (5) of the magneto-optical disk of the present invention comprises three layers of a transparent resin layer (6), a hard coat layer (7) and an antistatic coat layer (8). The thickness of (7) is equal to or greater than the thickness of the transparent resin layer (6), and the total thickness of the transparent resin layer and the hard coat layer is 2
μm to 20 μm, 0.5 μm thick on top of hard coat layer
By forming the above antistatic protective coat layer, the electrical resistivity of the magneto-optical disk surface is 1.5 × 10 11 Ω / cm 2 or less and the pencil hardness is F or more, the film thickness of the surface protective layer 2.5μm ~ 2
It was 5 μm. As a result, it was possible to impart an excellent antistatic ability to the surface of the magneto-optical disk and improve the durability of the disk surface against sliding of the flying head during recording / reproduction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光磁気ディスクの構造を説明する断面
模式図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating a structure of a magneto-optical disk of the present invention.

【図2】本発明の光磁気ディスクの構造を説明する断面
模式図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating the structure of the magneto-optical disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 反射層 3 記録層 4 透明誘電体層 5 表面保護層 6 透明樹脂層 7 ハードコート層 8、9 帯電防止コート層 1 substrate 2 reflective layer 3 recording layers 4 Transparent dielectric layer 5 Surface protection layer 6 Transparent resin layer 7 Hard coat layer 8, 9 Antistatic coating layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、少なくとも反射層、記録層、
透明誘電体層、表面保護層をこの順に積層し、浮上型ヘ
ッドからのレーザー光を前記表面保護層側から照射して
記録再生を行う光磁気ディスクにおいて、前記表面保護
層は透明樹脂層、ハードコート層及び帯電防止コート層
の3層から構成され、前記ハードコート層の厚みは前記
透明樹脂層の厚みと同じかそれ以上、帯電防止コート層
の厚みが0.5μm以上、前記透明樹脂層とハードコート層
との膜厚の合計が2μm〜20μmであり、且つ、前記光磁
気ディスク表面の電気抵抗率が1.5×1011Ω/cm2以下、
鉛筆硬度がF以上であり、表面保護層の膜厚が2.5μm〜2
5μmであることを特徴とする光磁気ディスク。
1. A substrate, at least a reflective layer, a recording layer, and
In a magneto-optical disk in which a transparent dielectric layer and a surface protective layer are laminated in this order, and laser light from a flying head is irradiated from the surface protective layer side for recording and reproduction, the surface protective layer is a transparent resin layer and a hard disk. It is composed of three layers of a coat layer and an antistatic coat layer, the thickness of the hard coat layer is equal to or more than the thickness of the transparent resin layer, the thickness of the antistatic coat layer is 0.5 μm or more, the transparent resin layer and the hard layer. The total film thickness of the coating layer is 2 μm to 20 μm, and the electrical resistivity of the magneto-optical disk surface is 1.5 × 10 11 Ω / cm 2 or less,
The pencil hardness is F or more, and the film thickness of the surface protective layer is 2.5 μm to 2
A magneto-optical disk characterized by being 5 μm.
【請求項2】 前記浮上型ヘッドの浮上量が5μm以下で
あることを特徴とする請求項1に記載の光磁気ディス
ク。
2. The magneto-optical disk according to claim 1, wherein the flying height of the flying head is 5 μm or less.
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