JP2003239086A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 基板及び該基板の表面のセラミックコーティングを含有する製品であって、該コーティングは前記表面を横断して延在し、それぞれの円柱軸に関して主要な円柱状粒子から横に延在する二次の円柱状粒子を有する、前記主要な円柱状粒子を含有する少なくとも一部分を有することを特徴とする製品。
【請求項２】 前記二次の円柱状粒子は前記円柱軸に関して鋭角で横に延在することを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項３】 前記セラミックの遮熱コーティングはジルコニアを含むことを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項４】 前記二次の円柱状粒子は、前記セラミックの主要な結晶成長方向に沿って延在することを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項５】 前記二次の円柱状粒子は、前記セラミックの二次の結晶成長方向に沿って延在することを特徴とする請求項４に記載の製品。
【請求項６】 前記基板は前記基板上の金属のボンディングコート及び該ボンディングコート上の酸化アルミニウム層を有する超合金を含み、前記コーティングは前記酸化アルミニウム層上に位置していることを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項７】 前記金属のボンディングコートはアルミニウム化物拡散層及びＭＣｒＡｌＹ層からなるグループから選択され、ここでＭはＮｉ及びＣｏからなるグループから選択されることを特徴とする請求項６に記載の製品。
【請求項８】 ジルコニア及び基板表面上のジルコニアを安定化するための第二酸化物を含む遮熱コーティングを含有する製品であって、該コーティングは前記表面を横断して延在し、主要な円柱状粒子の長さに沿ったそれぞれの円柱軸に関して前記主要な円柱状粒子から横に延在する二次の円柱状粒子を有する、前記主要な円柱状粒子を含有している少なくとも一部分を有することを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項９】 前記第二酸化物はイットリアを含むことを特徴とする請求項８に記載の製品。
【請求項１０】 基板、該基板上の金属のボンディングコート、及び該ボンディングコート上の遮熱コーティングを含有する製品であって、前記コーティングは多重層を含有し、ここで前記多重層の一つは前記ボンディングコートを横断して延在し、それぞれの円柱軸に関して主要な円柱状粒子から横に延在する二次の円柱状粒子を有する前記主要な円柱状粒子を含むことを特徴とする請求項１に記載の製品。
【請求項１１】 基板表面にセラミックコーティングを形成する方法であって、
コーティングチャンバーでセラミック物質の少なくとも一つの供給源から該セラミック物質の蒸発と、及び前記基板の表面から横断して延在し、それぞれの円柱軸に関して主要な円柱状粒子から横に延在する二次の円柱状粒子を有する前記主要な円柱状粒子を形成するために前記表面に対するセラミック物質の沈着の制御を含有することを特徴とする方法。
【請求項１２】 前記主要な円柱状粒子から横に延在する前記二次の円柱状粒子を有する前記主要な円柱状粒子を形成するために十分な高圧レベルで前記チャンバー内のガス圧の制御を含有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】 前記ガスは酸素、並びに酸素及び他のガスとの混合物から構成されるグループから選択されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】 前記主要な円柱状粒子は、前記セラミック物質の主要な結晶成長の方向に沿って成長することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】 前記二次の円柱状粒子は、前記セラミック物質の二次的な結晶成長の方向に沿って成長することを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】 構成部分の表面にセラミックの遮熱コーティングを形成する方法であって、
前記構成部分にボンディングコートの形成と、並びにコーティングチャンバーで電子ビームを供給源に衝突することによってセラミック物質の少なくとも一つの前記供給源から該セラミック物質の蒸発と、及び前記ボンディングコートの表面から横断して延在し、主要な円柱状粒子の長さに沿ったそれぞれの円柱軸に関して前記主要な円柱状粒子から横に延在する二次の円柱状粒子を有する前記主要な円柱状粒子を形成するために前記表面に対する前記セラミック物質の沈着の制御を含有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。