JP2003233935A - Method and device for fixing substrate - Google Patents

Method and device for fixing substrate

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JP2003233935A
JP2003233935A JP2002029898A JP2002029898A JP2003233935A JP 2003233935 A JP2003233935 A JP 2003233935A JP 2002029898 A JP2002029898 A JP 2002029898A JP 2002029898 A JP2002029898 A JP 2002029898A JP 2003233935 A JP2003233935 A JP 2003233935A
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JP
Japan
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substrate
substrate fixing
transparent substrate
pedestal
transparent
Prior art date
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Application number
JP2002029898A
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Japanese (ja)
Inventor
Shingo Imanishi
慎悟 今西
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce nonuniform exposure by suppressing light reflected from the backside direction of a master optical disk during the exposing work of the master optical disk. <P>SOLUTION: A turntable 20 for fixing a quartz master optical disk 10 has a pedestal portion 30 and a quartz table portion 40, and the master optical disk 10 is adsorbed and held coaxially to the turntable 20. The quartz master optical disk 10 and the quartz table portion 40 have equal refractive indexes because they are made of identical materials, and they are arranged in a state in which the backside of the signal recording area 12 of the master optical disk 10 and the close contact area 44 of the quartz table portion 40 are in close contact with each other. Thus, even when the master optical disk 10 is thin, almost no reflective light is generated on the backside of the master optical disk 10, and reflective light generated on the backside of the quarts table portion 40 becomes scattered light, and hence excessive exposure by re- exposure is prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤等
の透明基板の露光作業において透明基板を固定用テーブ
ルに固定する場合に過露光を防止するのに有効な基板固
定方法及び基板固定装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate fixing method and a substrate fixing device which are effective for preventing overexposure when fixing a transparent substrate to a fixing table during an exposure operation of a transparent substrate such as an optical disc master.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、光ディスク原盤の作製工程
で、フォトレジストの露光作業を行う場合、通常は光デ
ィスク原盤を円形のターンテーブル上に固定し、このタ
ーンテーブルを回転させて露光ビームを照射するような
方法が用いられている。そして、このような露光作業に
おいて、光ディスク原盤をターンテーブル上に固定する
方法としては、真空吸着を用いてターンテーブル上に吸
着保持する方法や、固定用のリング部材を用いて光ディ
スク原盤の外周部をターンテーブルに固定する方法が採
用されている。また、ターンテーブルは上面にリング状
の溝が形成され、真空吸着時の吸着口あるいはテーブル
支持のための台となっている。また、光ディスク原盤
は、円形のガラス板よりなり、その厚みは6〜10mm
となっている。この光ディスク原盤の表面にフォトレジ
ストを塗布し、この原盤表面に高NAの対物レンズでレ
ーザビームを集光させて露光を行う。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a photoresist exposure operation is performed in a process of manufacturing an optical disk master, the optical disk master is usually fixed on a circular turntable and the turntable is rotated to irradiate an exposure beam. Such a method is used. Then, in such an exposure operation, as a method of fixing the optical disc master onto the turntable, a method of adsorbing and holding onto the turntable by using vacuum adsorption, or a peripheral portion of the optical disc master using a fixing ring member is used. The method of fixing to the turntable is adopted. A ring-shaped groove is formed on the upper surface of the turntable, which serves as a suction port during vacuum suction or a table for supporting the table. The optical disc master is made of a circular glass plate and has a thickness of 6 to 10 mm.
Has become. A photoresist is applied to the surface of the optical disk master, and a laser beam is focused on the surface of the master with a high NA objective lens to perform exposure.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な原盤露光時にフォトレジストを透過したビームはガラ
ス原盤の裏面またはターンテーブルの表面で反射する。
ここで、ターンテーブルの表面が露光ビームを吸収する
ように表面処理され、かつ、ガラス原盤の厚みが6〜1
0mmであれば反射率は低く、反射したビームも広く拡
散するため、この反射ビームによって再度露光されるこ
とによる露光不良はほとんど発生しない。しかし、厚み
が1mm程度のガラス原盤になると、原盤の裏面やテー
ブル表面での反射光が拡散されず、フォトレジストが再
度露光され、部分的に過露光となってしまう。また、原
盤が薄くなることで、テーブルへの固定時に、原盤表面
にうねりが生じ、露光不良を招いてしまう。
The beam transmitted through the photoresist during the exposure of the master as described above is reflected by the back surface of the glass master disk or the surface of the turntable.
Here, the surface of the turntable is surface-treated so as to absorb the exposure beam, and the glass master has a thickness of 6 to 1
If it is 0 mm, the reflectance is low and the reflected beam is also widely diffused, so that the exposure failure due to the re-exposure by the reflected beam hardly occurs. However, in the case of a glass master having a thickness of about 1 mm, the light reflected on the back surface of the master or the table surface is not diffused, and the photoresist is exposed again, resulting in partial overexposure. Further, the thinning of the master causes waviness on the surface of the master when the master is fixed to the table, resulting in poor exposure.

【0004】そこで、これらを解決する方法としては、
原盤とテーブルの接触面が均一で裏面反射にムラができ
ないこと、あるいは、裏面反射が極力発生しないように
することが望まれる。なお、このような問題は、光ディ
スク原盤の露光作業時に限らず、他の透明基板を露光す
る際にも同様に生じるものである。
Therefore, as a method for solving these problems,
It is desired that the contact surface between the master and the table be uniform and the back surface reflection be uniform, or that the back surface reflection be prevented as much as possible. Incidentally, such a problem occurs not only during the exposure work of the optical disc master, but also during the exposure of another transparent substrate.

【0005】本発明は以上のような実情に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、透明基板の裏面方向からの
反射光を抑制し、露光時のムラを低減することが可能な
基板固定方法及び基板固定装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to fix a substrate capable of suppressing reflected light from the rear surface of the transparent substrate and reducing unevenness during exposure. A method and a substrate fixing device are provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、透明基板を基板固定用テーブルに載置固定し
て露光作業を行う場合の基板固定方法において、前記基
板固定用テーブルの少なくとも基板載置部を前記透明基
板と同一材料によって形成し、かつ、前記透明基板を基
板固定用テーブルに固定した状態において前記透明基板
と基板載置部との接触面で光反射が生じない状態で固定
するようにしたことを特徴とする。また本発明は、透明
基板を基板固定用テーブルに固定して露光作業を行う場
合の基板固定方法において、前記透明基板を基板固定用
テーブルに固定した状態で、透明基板を透過した光が基
板固定用テーブルの基板載置部の表面または透明基板の
裏面で散乱されるように前記基板載置部または透明基板
に表面処理を施すようにしたことを特徴とする。また本
発明は、透明基板を基板固定用テーブルに固定して露光
作業を行う場合の基板固定方法において、前記透明基板
を基板固定用テーブルに固定した状態で、透明基板を透
過した光が基板固定用テーブルの基板載置部の表面また
は透明基板の裏面で吸収されるように前記基板載置部ま
たは透明基板に表面処理を施すようにしたことを特徴と
する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate fixing method in which a transparent substrate is placed and fixed on a substrate fixing table to perform an exposure operation, and at least the substrate fixing table is provided. In a state where the substrate mounting portion is formed of the same material as the transparent substrate, and the transparent substrate and the substrate mounting portion are fixed to the substrate fixing table, light is not reflected at the contact surface between the transparent substrate and the substrate mounting portion. The feature is that it is fixed. The present invention also provides a substrate fixing method for fixing a transparent substrate to a substrate fixing table to perform an exposure operation, wherein light transmitted through the transparent substrate is fixed to the substrate while the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. It is characterized in that the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so as to be scattered on the surface of the substrate mounting portion of the operating table or the back surface of the transparent substrate. The present invention also provides a substrate fixing method for fixing a transparent substrate to a substrate fixing table to perform an exposure operation, wherein light transmitted through the transparent substrate is fixed to the substrate while the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. It is characterized in that the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so that the surface of the substrate mounting portion of the operating table or the back surface of the transparent substrate is absorbed.

【0007】また本発明は、透明基板を基板固定用テー
ブルに載置固定して露光作業を行う場合の基板固定装置
において、前記基板固定用テーブルの少なくとも基板載
置部を前記透明基板と同一材料によって形成し、かつ、
前記透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態にお
いて前記透明基板と基板載置部との接触面で光反射が生
じない状態で固定したことを特徴とする。また本発明
は、透明基板を基板固定用テーブルに固定して露光作業
を行う場合の基板固定装置において、前記透明基板を基
板固定用テーブルに固定した状態で、透明基板を透過し
た光が基板固定用テーブルの基板載置部の表面または透
明基板の裏面で散乱されるように前記基板載置部または
透明基板に表面処理を施したことを特徴とする。また本
発明は、透明基板を基板固定用テーブルに固定して露光
作業を行う場合の基板固定装置において、前記透明基板
を基板固定用テーブルに固定した状態で、透明基板を透
過した光が基板固定用テーブルの基板載置部の表面また
は透明基板の裏面で吸収されるように前記基板載置部ま
たは透明基板に表面処理を施したことを特徴とする。
Further, according to the present invention, in a substrate fixing apparatus for mounting and fixing a transparent substrate on a substrate fixing table for performing an exposure operation, at least the substrate mounting portion of the substrate fixing table is made of the same material as the transparent substrate. Formed by and
It is characterized in that the transparent substrate is fixed on the substrate fixing table in a state where light reflection does not occur on the contact surface between the transparent substrate and the substrate mounting portion. Further, according to the present invention, in a substrate fixing device for fixing a transparent substrate to a substrate fixing table to perform an exposure operation, light transmitted through the transparent substrate is fixed to the substrate while the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. The substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so as to be scattered on the surface of the substrate mounting portion of the operating table or the back surface of the transparent substrate. Further, according to the present invention, in a substrate fixing device for fixing a transparent substrate to a substrate fixing table to perform an exposure operation, light transmitted through the transparent substrate is fixed to the substrate while the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. The substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so that the surface of the substrate mounting portion of the operating table or the back surface of the transparent substrate is absorbed.

【0008】本発明の基板固定方法では、基板固定用テ
ーブルの基板載置部を透明基板と同一材料によって形成
し、かつ、透明基板を基板固定用テーブルに固定した状
態において透明基板と基板載置部との接触面で光反射が
生じない状態で固定するようにしたことから、透明基板
が薄い場合でも、露光ビームを基板載置部側に透過させ
ることにより、透明基板の裏面方向からの反射光を抑制
し、露光時のムラを低減することが可能となる。また本
発明の基板固定方法では、透明基板を基板固定用テーブ
ルに固定した状態で、透明基板を透過した光が基板固定
用テーブルの基板載置部の表面または透明基板の裏面で
散乱または吸収されるように基板載置部または透明基板
に表面処理を施すようにしたことから、透明基板の裏面
方向からの反射光を散乱または吸収によって抑制し、露
光時のムラを低減することが可能となる。
In the substrate fixing method of the present invention, the substrate mounting portion of the substrate fixing table is formed of the same material as the transparent substrate, and the transparent substrate and the substrate mounting portion are fixed in the state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. Even if the transparent substrate is thin, the exposure beam is transmitted to the substrate mounting part side to prevent reflection from the rear surface direction of the transparent substrate, because it is fixed in a state where light reflection does not occur at the contact surface with the substrate. It is possible to suppress light and reduce unevenness during exposure. Further, in the substrate fixing method of the present invention, in a state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table, the light transmitted through the transparent substrate is scattered or absorbed by the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the rear surface of the transparent substrate. As described above, since the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to the surface treatment, it is possible to suppress the reflected light from the rear surface direction of the transparent substrate by scattering or absorption and reduce the unevenness at the time of exposure. .

【0009】また本発明の基板固定装置では、基板固定
用テーブルの基板載置部を透明基板と同一材料によって
形成し、かつ、透明基板を基板固定用テーブルに固定し
た状態において透明基板と基板載置部との接触面で光反
射が生じない状態で固定したことから、透明基板が薄い
場合でも、露光ビームを基板載置部側に透過させること
により、透明基板の裏面方向からの反射光を抑制し、露
光時のムラを低減することが可能となる。また本発明の
基板固定装置では、透明基板を基板固定用テーブルに固
定した状態で、透明基板を透過した光が基板固定用テー
ブルの基板載置部の表面または透明基板の裏面で散乱ま
たは吸収されるように基板載置部または透明基板に表面
処理を施したことから、透明基板の裏面方向からの反射
光を散乱または吸収によって抑制し、露光時のムラを低
減することが可能となる。
Further, in the substrate fixing device of the present invention, the substrate mounting portion of the substrate fixing table is formed of the same material as the transparent substrate, and the transparent substrate and the substrate mounting portion are fixed in the state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. Since it was fixed in a state where light reflection does not occur on the contact surface with the mounting part, even if the transparent substrate is thin, the exposure beam is transmitted to the substrate mounting part side, so that the reflected light from the back surface direction of the transparent substrate is reflected. It is possible to suppress and reduce unevenness during exposure. Further, in the substrate fixing device of the present invention, in a state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table, the light transmitted through the transparent substrate is scattered or absorbed by the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the rear surface of the transparent substrate. As described above, since the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to the surface treatment, it is possible to suppress the reflected light from the back surface direction of the transparent substrate by scattering or absorption, and reduce the unevenness at the time of exposure.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明による基板固定方法
及び基板固定装置の実施の形態例について説明する。な
お、以下に説明する実施の形態は、本発明の好適な具体
例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されている
が、本発明の範囲は、以下の説明において、特に本発明
を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限定さ
れないものとする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a substrate fixing method and a substrate fixing device according to the present invention will be described below. The embodiments described below are preferred specific examples of the present invention, and various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is not limited to the present invention in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these embodiments.

【0011】図1は、本発明の実施の形態による基板固
定装置の構成例を示す断面図であり、図2は、図1に示
す基板固定装置のターンテーブルを示す上面図である。
本発明の実施の形態は、光ディスク原盤を作製する場合
のフォトレジスト露光を行う場合に本発明を適用したも
のである。光ディスク原盤10を固定するターンテーブ
ル20は、回転駆動される台座部30と、この台座部3
0上に設置される石英製テーブル部40とを有し、この
石英製テーブル部40を光ディスク原盤10を載置固定
するための基板載置部としたものである。
FIG. 1 is a sectional view showing a structural example of a substrate fixing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a top view showing a turntable of the substrate fixing device shown in FIG.
The embodiment of the present invention is one in which the present invention is applied to the case of performing photoresist exposure in the case of manufacturing an optical disc master. The turntable 20 that fixes the optical disk master 10 includes a pedestal portion 30 that is rotationally driven, and the pedestal portion 3.
And a quartz table 40 installed on the optical disc master 40. The quartz table 40 serves as a substrate mounting portion for mounting and fixing the optical disk master 10.

【0012】また、本例では、光ディスク原盤10を真
空吸着方式によって石英製テーブル部40の上面に固定
するものであり、石英製テーブル部40には真空吸着用
の多数の貫通穴42が形成されている。ここで各貫通穴
42は、図2に示すように、光ディスク原盤10の信号
記録領域12に対応する密着領域44を避ける領域に分
散して配置されており、光ディスク原盤10が石英製テ
ーブル部40上に吸着固定された状態で、光ディスク原
盤10の信号記録領域12の裏面と石英製テーブル部4
0の密着領域44とが互いに密着することにより、この
密着面での反射光を極力抑制する構造となっている。
Further, in this embodiment, the optical disc master 10 is fixed to the upper surface of the quartz table portion 40 by a vacuum suction method, and the quartz table portion 40 is provided with a large number of through holes 42 for vacuum suction. ing. Here, as shown in FIG. 2, the through holes 42 are dispersed and arranged in an area avoiding the contact area 44 corresponding to the signal recording area 12 of the optical disc master 10, and the optical disc master 10 is made of the quartz table portion 40. The quartz table part 4 and the back surface of the signal recording area 12 of the optical disc master 10 in a state of being sucked and fixed on the top.
When the contact area 44 of 0 is in close contact with each other, the light reflected on the contact surface is suppressed as much as possible.

【0013】光ディスク原盤10は、このようなターン
テーブル20に対して同軸状に固定され、ターンテーブ
ル20を回転させながら露光作業が行われる。光ディス
ク原盤10は石英製のガラス板よりなり、上面にフォト
レジスト工程によってレジスト膜14が形成されてい
る。このような石英製の光ディスク原盤10と石英製テ
ーブル部40は、同一材料を用いたことで同一の屈折率
を有し、光ディスク原盤10の信号記録領域12の裏面
と石英製テーブル部40の密着領域44とが互いに密着
した状態で配置されているため、光ディスク原盤10の
上方から入射した露光ビームは、両者の密着面では反射
せず、石英製テーブル部40側に透過し、石英製テーブ
ル部40の裏面に到達するようになっている。したがっ
て、光ディスク原盤10の厚みが薄い場合でも、光ディ
スク原盤10の裏面ではほとんど反射光が発生せず、ま
た、石英製テーブル部40の裏面で発生した反射光も散
乱光となるため、レジスト膜14への入射量は小さいも
のとなり、このような反射光による過露光を防止でき
る。
The optical disk master 10 is coaxially fixed to such a turntable 20, and an exposure operation is performed while rotating the turntable 20. The optical disc master 10 is made of a quartz glass plate, and a resist film 14 is formed on the upper surface by a photoresist process. The quartz optical disc master 10 and the quartz table part 40 made of such quartz have the same refractive index by using the same material, and the back surface of the signal recording area 12 of the optical disc master 10 and the quartz table part 40 are in close contact with each other. Since the region 44 and the region 44 are arranged in close contact with each other, the exposure beam incident from above the optical disk master 10 is not reflected by the contact surface between the two, but is transmitted to the quartz table 40 side, and the quartz table 40 is formed. It reaches the back surface of 40. Therefore, even when the thickness of the optical disc master 10 is thin, almost no reflected light is generated on the back surface of the optical disc master 10, and the reflected light generated on the back surface of the quartz table portion 40 is also scattered light. The amount of light incident on is small, and overexposure due to such reflected light can be prevented.

【0014】以下、本実施の形態における基板固定方法
及び基板固定装置のさらに具体的な実施例について図1
及び図2を用いて説明する。まず、光ディスク原盤10
を外径200mm、厚さ1mmの石英製ウェーハとし、
裏面は研磨面とする。また、ターンテーブル20の石英
製テーブル部40は外径190mm、厚さ10mmと
し、その表面を研磨面とする。光ディスク原盤10の信
号記録領域12は、半径約10mm〜60mmの領域で
あり、これに対応して石英製テーブル部40の密着領域
44が形成され、この密着領域44を避けて半径8mm
と半径75mmの円周に沿って各貫通孔42が等間隔で
設けられている。なお、貫通孔42の径は大きすぎると
光ディスク原盤10に歪みが生じるため、光ディスク原
盤10の厚みによって十分小さくすることが好ましい。
ここでは、直径0.5mmとする。
Hereinafter, a more specific example of the substrate fixing method and the substrate fixing device according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
2 and FIG. First, the optical disc master 10
Is a quartz wafer having an outer diameter of 200 mm and a thickness of 1 mm,
The back surface is a polished surface. The quartz table portion 40 of the turntable 20 has an outer diameter of 190 mm and a thickness of 10 mm, and its surface is a polishing surface. The signal recording area 12 of the optical disk master 10 is an area having a radius of about 10 mm to 60 mm, and a contact area 44 of the quartz table portion 40 is formed corresponding to this, and a radius of 8 mm is avoided while avoiding the contact area 44.
Through holes 42 are provided at equal intervals along a circumference having a radius of 75 mm. If the diameter of the through hole 42 is too large, the optical disc master 10 will be distorted, so it is preferable to make it sufficiently small depending on the thickness of the optical disc master 10.
Here, the diameter is 0.5 mm.

【0015】また、ターンテーブル20の台座部30
は、例えば金属製のものであり、上面にリング状に真空
吸着溝32を設け、石英製テーブル部40の貫通孔42
と連通させるようになっている。また、台座部30の上
面は、光が吸収されるように黒色に表面処理されてい
る。このような台座部30の上面に石英製テーブル部4
0及び光ディスク原盤10を順次積み重ね、真空吸着溝
32を透して吸引することで、石英製テーブル部40及
び光ディスク原盤10を一体に吸着保持するようになっ
ている。この吸着により、薄いガラス原盤10でありな
がら、剛性をもたせることも可能となる。
Further, the pedestal portion 30 of the turntable 20
Is made of metal, for example, and is provided with a ring-shaped vacuum suction groove 32 on the upper surface, and the through hole 42 of the quartz table portion 40 is provided.
It is designed to communicate with. Further, the upper surface of the pedestal portion 30 is surface-treated in black so that light is absorbed. On the upper surface of the pedestal portion 30, the quartz table portion 4 is attached.
0 and the optical disk master 10 are sequentially stacked and sucked through the vacuum suction groove 32, whereby the quartz table portion 40 and the optical disk master 10 are integrally suction-held. Due to this adsorption, it is possible to give the thin glass master 10 rigidity.

【0016】そして、このように石英製テーブル部40
及び光ディスク原盤10が台座部30に吸着保持された
状態では、石英製テーブル部40と光ディスク原盤10
は光学的に一体化しているとみなすことができる。つま
り、石英製テーブル部40と光ディスク原盤10は密着
面では光が吸収、散乱、反射を起さず、全て進行方向を
保持したまま透過するものとして扱うことができる。こ
のことから、露光のために光ディスク原盤10の表面に
照射され、フォトレジスト膜14で吸収されずに透過し
た光は、光ディスク原盤10の裏面で反射されることな
く、石英製テーブル部40の底面まで到達する。そし
て、石英製テーブル部40の底面では、一部の光が反射
し、また、一部は台座部30の上面で吸収または反射す
る。
The quartz table portion 40 is thus formed.
In the state where the optical disk master 10 is sucked and held by the pedestal portion 30, the quartz table 40 and the optical disk master 10 are held.
Can be considered to be optically integrated. In other words, the quartz table 40 and the optical disc master 10 can be treated as light that does not absorb, scatter, or reflect on the contact surface and that transmits while maintaining the traveling direction. Therefore, the light that has been irradiated onto the surface of the optical disc master 10 for exposure and transmitted without being absorbed by the photoresist film 14 is not reflected on the back surface of the optical disc master 10 and is reflected on the bottom surface of the quartz table 40. Reach up to. Then, part of the light is reflected on the bottom surface of the quartz table portion 40, and part of the light is absorbed or reflected on the upper surface of the pedestal portion 30.

【0017】ここで反射した光は、光ディスク原盤10
の表面に戻るが、高NAの対物レンズから出射された光
は距離が進むにつれて照射エリアを急激に広げ、合計の
厚さが11mmの石英内を往復し、吸収や反射を繰り返
した後にレジスト膜14に再照射される光の面密度は1
mmの厚みの石英内を往復した場合の121分の1とな
る。これにより、レジスト膜14に対する露光ムラを大
幅に低減することが可能となる。
The light reflected here is the optical disc master 10.
However, the light emitted from the objective lens with a high NA rapidly expands the irradiation area as the distance increases, reciprocates in quartz with a total thickness of 11 mm, and repeats absorption and reflection, and then the resist film. The area density of the light re-irradiated on 14 is 1
This is 1/121 of the case of reciprocating in quartz having a thickness of mm. As a result, it is possible to significantly reduce the exposure unevenness on the resist film 14.

【0018】また、以上の実施例では、光ディスク原盤
10を同一材料よりなる石英製テーブル部40によって
密着状態で支持することから、光ディスク原盤10が薄
い場合でも厚い基板と同様の十分な剛性を得ることが可
能となり、作業中の歪み等を抑制することが可能であ
る。
Further, in the above embodiment, since the optical disk master 10 is closely supported by the quartz table portion 40 made of the same material, even when the optical disk master 10 is thin, sufficient rigidity similar to a thick substrate is obtained. It is possible to suppress the distortion during the work.

【0019】なお、本発明は、以上のような実施例に加
えて、さらに以下のような変形及び応用が可能である。
例えば、上述した実施例において、石英製テーブル部4
0の上面やガラス原盤10の裏面に砂目処理等の表面処
理を施し、あらゆる角度に反射光成分を散乱ことによ
り、平坦面で反射した場合よりもガラス原盤10の表面
に戻ってレジスト膜14に再照射される光の面密度を下
げることもできる。また、ターンテーブル20の台座部
30の上面に、黒色の表面処理を施す代わりに、砂目処
理を施し、反射光を散乱させるようにしてもよい。
The present invention can be modified and applied in the following manners in addition to the above embodiments.
For example, in the above-described embodiment, the quartz table portion 4
0 surface or the back surface of the glass master 10 is subjected to surface treatment such as graining, and the reflected light component is scattered at every angle, so that the resist film 14 is returned to the surface of the glass master 10 more than when reflected on a flat surface. It is also possible to reduce the areal density of the light that is re-irradiated with. Further, the upper surface of the pedestal portion 30 of the turntable 20 may be subjected to a grain treatment to scatter the reflected light instead of the black surface treatment.

【0020】また、上述した実施例では、ターンテーブ
ル20を石英製テーブル部40と台座部30で構成し、
台座部30の上面に光が吸収されるように黒色の表面処
理を施したが、石英製テーブル部40の裏面に同様の表
面処理を施してもよいし、原盤10の裏面に黒色の表面
処理を行うことで、反射光成分の絶対量を減少させるよ
うにしてもよい。この場合にも、表面処理をしない平坦
面で反射した場合よりも原盤表面に戻ってレジスト膜に
再照射される光の面密度を下げることができる。なお、
原盤10の裏面やターンテーブル20側に光を吸収する
ための表面処理や光を散乱させる表面処理を行う構成と
した場合、表面処理の効果が十分な場合には、ターンテ
ーブル20側の石英製テーブル部40を省略し、他の部
材で基板載置部を構成することも可能である。
In the above-described embodiment, the turntable 20 is composed of the quartz table portion 40 and the pedestal portion 30,
Although a black surface treatment is applied to the upper surface of the pedestal portion 30 so that light is absorbed, the same surface treatment may be applied to the back surface of the quartz table portion 40, or the back surface of the master 10 may be subjected to a black surface treatment. By performing the above, the absolute amount of the reflected light component may be reduced. Also in this case, the surface density of the light returning to the master surface and re-irradiating the resist film again can be lowered as compared with the case where the light is reflected by the flat surface not subjected to the surface treatment. In addition,
When the surface treatment for absorbing light or the surface treatment for scattering light is performed on the back surface of the master 10 or the turntable 20 side, if the surface treatment is sufficiently effective, the turntable 20 side is made of quartz. It is also possible to omit the table section 40 and configure the substrate mounting section with other members.

【0021】また、上述した実施例では、光ディスク原
盤10の信号記録領域の直下領域全体を原盤10と同一
材質の石英製テーブル部40に密着させることで、戻り
光強度の面密度のばらつきを抑制するようにしたが、こ
の代わりに信号記録領域の直下領域全体を中空とし、デ
ィスク原盤10の中心部と外周部をリング状に密着させ
るような吸着支持構造としてもよい。この場合にも、信
号記録領域における戻り光強度の面密度のばらつきを抑
制することが可能である。また、上述した実施例では、
光ディスク原盤10を真空吸着によって保持する構成と
したが、例えば静電吸着によって保持するような構成と
してもよい。これら真空吸着や静電吸着によって保持し
た場合に、原盤10の裏面に黒色の表面処理を行うこと
で、反射光成分の絶対量を減少させるようにしてもよ
い。この場合にも、表面処理をしない平坦面で反射した
場合よりも原盤表面に戻ってレジスト膜に再照射される
光の面密度を下げることができる。また、上述した実施
例は、光ディスク原盤10の露光処理を行う構成につい
て説明したが、本発明は他の透明基板に対して露光を行
うような構成に広く適用し得るものである。
Further, in the above-described embodiment, the entire area immediately below the signal recording area of the optical disc master 10 is brought into close contact with the quartz table portion 40 made of the same material as the master disc 10 to suppress the variation in the areal density of the returning light intensity. However, instead of this, the entire area directly below the signal recording area may be hollow, and a suction support structure may be adopted in which the central portion and the outer peripheral portion of the disk master 10 are closely attached in a ring shape. Also in this case, it is possible to suppress variations in the areal density of the returning light intensity in the signal recording area. Further, in the above-mentioned embodiment,
Although the optical disk master 10 is held by vacuum suction, it may be held by electrostatic attraction, for example. When held by vacuum suction or electrostatic suction, the absolute amount of the reflected light component may be reduced by performing a black surface treatment on the back surface of the master 10. In this case as well, the surface density of the light returning to the master disk surface and re-irradiating the resist film again can be lowered as compared with the case where the light is reflected by the flat surface which is not surface-treated. Further, although the above-described embodiment has described the configuration for performing the exposure processing of the optical disc master 10, the present invention can be widely applied to the configuration for performing exposure on another transparent substrate.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明の基板固定方
法によれば、基板固定用テーブルの基板載置部を透明基
板と同一材料によって形成し、かつ、透明基板を基板固
定用テーブルに固定した状態において透明基板と基板載
置部との接触面で光反射が生じない状態で固定するよう
にしたことから、透明基板が薄い場合でも、露光ビーム
を基板載置部側に透過させることにより、透明基板の裏
面方向からの反射光を抑制し、露光時のムラを低減する
ことができる効果がある。また本発明の基板固定方法に
よれば、透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態
で、透明基板を透過した光が基板固定用テーブルの基板
載置部の表面または透明基板の裏面で散乱または吸収さ
れるように基板載置部または透明基板に表面処理を施す
ようにしたことから、透明基板の裏面方向からの反射光
を散乱または吸収によって抑制し、露光時のムラを低減
することができる効果がある。
As described above, according to the substrate fixing method of the present invention, the substrate mounting portion of the substrate fixing table is made of the same material as the transparent substrate, and the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. In this state, the transparent substrate and the substrate mounting portion are fixed in a state in which light reflection does not occur at the contact surface, so that even if the transparent substrate is thin, the exposure beam can be transmitted to the substrate mounting portion side. The effect of suppressing reflected light from the back surface of the transparent substrate and reducing unevenness during exposure is obtained. Further, according to the substrate fixing method of the present invention, in a state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table, the light transmitted through the transparent substrate is scattered on the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the back surface of the transparent substrate. Since the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to the surface treatment so as to be absorbed, the reflected light from the back surface direction of the transparent substrate can be suppressed by scattering or absorption, and unevenness during exposure can be reduced. effective.

【0023】また本発明の基板固定装置によれば、基板
固定用テーブルの基板載置部を透明基板と同一材料によ
って形成し、かつ、透明基板を基板固定用テーブルに固
定した状態において透明基板と基板載置部との接触面で
光反射が生じない状態で固定したことから、透明基板が
薄い場合でも、露光ビームを基板載置部側に透過させる
ことにより、透明基板の裏面方向からの反射光を抑制
し、露光時のムラを低減することができる効果がある。
また本発明の基板固定装置によれば、透明基板を基板固
定用テーブルに固定した状態で、透明基板を透過した光
が基板固定用テーブルの基板載置部の表面または透明基
板の裏面で散乱または吸収されるように基板載置部また
は透明基板に表面処理を施したことから、透明基板の裏
面方向からの反射光を散乱または吸収によって抑制し、
露光時のムラを低減することができる効果がある。
Further, according to the substrate fixing device of the present invention, the substrate mounting portion of the substrate fixing table is formed of the same material as the transparent substrate, and the transparent substrate and the transparent substrate are fixed to the substrate fixing table. Since it was fixed in a state where light reflection does not occur on the contact surface with the substrate mounting part, even if the transparent substrate is thin, the exposure beam is transmitted to the substrate mounting part side, so that it is reflected from the back surface direction of the transparent substrate. There is an effect that light can be suppressed and unevenness at the time of exposure can be reduced.
Further, according to the substrate fixing device of the present invention, in a state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table, the light transmitted through the transparent substrate is scattered or scattered on the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the rear surface of the transparent substrate. Since the substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to the surface treatment so as to be absorbed, the reflected light from the back surface direction of the transparent substrate is suppressed by scattering or absorption,
There is an effect that unevenness during exposure can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態による基板固定装置の構成
例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a substrate fixing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す基板固定装置のターンテーブルを示
す上面図である。
FIG. 2 is a top view showing a turntable of the substrate fixing device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……光ディスク原盤、12……信号記録領域、14
……レジスト膜、20……ターンテーブル、30……台
座部、40……石英製テーブル部、42……貫通穴。
10 ... Optical disc master, 12 ... Signal recording area, 14
... resist film, 20 ... turntable, 30 ... pedestal part, 40 ... quartz table part, 42 ... through hole.

Claims (48)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板を基板固定用テーブルに載置固
定して露光作業を行う場合の基板固定方法において、 前記基板固定用テーブルの少なくとも基板載置部を前記
透明基板と同一材料によって形成し、かつ、前記透明基
板を基板固定用テーブルに固定した状態において前記透
明基板と基板載置部との接触面で光反射が生じない状態
で固定するようにした、 ことを特徴とする基板固定方法。
1. A substrate fixing method in which a transparent substrate is placed and fixed on a substrate fixing table to perform an exposure operation, wherein at least the substrate placing portion of the substrate fixing table is formed of the same material as the transparent substrate. And a method for fixing a substrate, wherein the transparent substrate is fixed on a substrate fixing table in a state in which light reflection does not occur at a contact surface between the transparent substrate and the substrate mounting portion. .
【請求項2】 透明基板を基板固定用テーブルに固定し
て露光作業を行う場合の基板固定方法において、 前記透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態で、
透明基板を透過した光が基板固定用テーブルの基板載置
部の表面または透明基板の裏面で散乱されるように前記
基板載置部または透明基板に表面処理を施すようにし
た、 ことを特徴とする基板固定方法。
2. A substrate fixing method for exposing a transparent substrate fixed to a substrate fixing table, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table,
The substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so that the light transmitted through the transparent substrate is scattered on the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the back surface of the transparent substrate. Board fixing method.
【請求項3】 透明基板を基板固定用テーブルに固定し
て露光作業を行う場合の基板固定方法において、 前記透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態で、
透明基板を透過した光が基板固定用テーブルの基板載置
部の表面または透明基板の裏面で吸収されるように前記
基板載置部または透明基板に表面処理を施すようにし
た、 ことを特徴とする基板固定方法。
3. A substrate fixing method in which a transparent substrate is fixed to a substrate fixing table and an exposure operation is performed, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table,
The surface treatment is performed on the substrate mounting portion or the transparent substrate so that the light transmitted through the transparent substrate is absorbed by the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the back surface of the transparent substrate. Board fixing method.
【請求項4】 前記透明基板が光ディスク用原盤である
ことを特徴とする請求項1記載の基板固定方法。
4. The substrate fixing method according to claim 1, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項5】 前記透明基板が光ディスク用原盤である
ことを特徴とする請求項2記載の基板固定方法。
5. The substrate fixing method according to claim 2, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項6】 前記透明基板が光ディスク用原盤である
ことを特徴とする請求項3記載の基板固定方法。
6. The substrate fixing method according to claim 3, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項7】 前記光ディスク用原盤の裏面において信
号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに接
触することを特徴とする請求項4記載の基板固定方法。
7. The substrate fixing method according to claim 4, wherein the entire area directly below the signal recording area is in contact with the substrate fixing table on the back surface of the optical disk master.
【請求項8】 前記光ディスク用原盤の裏面において信
号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに接
触することを特徴とする請求項5記載の基板固定方法。
8. The method for fixing a substrate according to claim 5, wherein the entire lower portion of the signal recording area is in contact with the substrate fixing table on the back surface of the master for optical disks.
【請求項9】 前記光ディスク用原盤の裏面において信
号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに接
触することを特徴とする請求項6記載の基板固定方法。
9. The substrate fixing method according to claim 6, wherein the entire portion directly below the signal recording area on the rear surface of the optical disc master is in contact with the substrate fixing table.
【請求項10】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項4記載の基
板固定方法。
10. The substrate fixing method according to claim 4, wherein the substrate fixing table is contacted only at a position other than directly below the signal recording area on the back surface of the optical disc master.
【請求項11】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項5記載の基
板固定方法。
11. The substrate fixing method according to claim 5, wherein the substrate fixing table is contacted only at a position on the back surface of the optical disk master other than immediately below the signal recording area.
【請求項12】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項6記載の基
板固定方法。
12. The substrate fixing method according to claim 6, wherein the substrate fixing table is contacted only at a position other than directly below the signal recording area on the back surface of the optical disk master.
【請求項13】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
1記載の基板固定方法。
13. The substrate fixing method according to claim 1, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項14】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
2記載の基板固定方法。
14. The substrate fixing method according to claim 2, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項15】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
3記載の基板固定方法。
15. The substrate fixing method according to claim 3, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項16】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
1記載の基板固定方法。
16. The substrate fixing method according to claim 1, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項17】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
2記載の基板固定方法。
17. The substrate fixing method according to claim 2, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項18】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
3記載の基板固定方法。
18. The substrate fixing method according to claim 3, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項19】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項1記載の基
板固定方法。
19. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. 2. The substrate fixing method according to claim 1, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically scatters.
【請求項20】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項2記載の基
板固定方法。
20. The substrate fixing table has a pedestal part that is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. The substrate fixing method according to claim 2, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically scatters.
【請求項21】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項3記載の基
板固定方法。
21. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate mounting part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. The substrate fixing method according to claim 3, wherein the pedestal portion is subjected to a surface treatment so that the contact surface optically scatters.
【請求項22】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項1記載の基
板固定方法。
22. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed with the table part installed on the pedestal part. The substrate fixing method according to claim 1, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically absorbs the light.
【請求項23】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項2記載の基
板固定方法。
23. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate mounting part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. The substrate fixing method according to claim 2, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically absorbs the light.
【請求項24】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項3記載の基
板固定方法。
24. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. The substrate fixing method according to claim 3, wherein the pedestal portion is subjected to a surface treatment so that the contact surface optically absorbs.
【請求項25】 透明基板を基板固定用テーブルに載置
固定して露光作業を行う場合の基板固定装置において、
前記基板固定用テーブルの少なくとも基板載置部を前記
透明基板と同一材料によって形成し、かつ、前記透明基
板を基板固定用テーブルに固定した状態において前記透
明基板と基板載置部との接触面で光反射が生じない状態
で固定した、ことを特徴とする基板固定装置。
25. A substrate fixing device for carrying out an exposure operation by mounting and fixing a transparent substrate on a substrate fixing table,
At least the substrate mounting portion of the substrate fixing table is formed of the same material as the transparent substrate, and at the contact surface between the transparent substrate and the substrate mounting portion in a state where the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table. A substrate fixing device, which is fixed in a state where light reflection does not occur.
【請求項26】 透明基板を基板固定用テーブルに固定
して露光作業を行う場合の基板固定装置において、 前記透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態で、
透明基板を透過した光が基板固定用テーブルの基板載置
部の表面または透明基板の裏面で散乱されるように前記
基板載置部または透明基板に表面処理を施した、ことを
特徴とする基板固定装置。
26. A substrate fixing device for performing an exposure operation by fixing a transparent substrate on a substrate fixing table, wherein the transparent substrate is fixed on the substrate fixing table,
The substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so that the light transmitted through the transparent substrate is scattered on the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the back surface of the transparent substrate. Fixing device.
【請求項27】 透明基板を基板固定用テーブルに固定
して露光作業を行う場合の基板固定装置において、 前記透明基板を基板固定用テーブルに固定した状態で、
透明基板を透過した光が基板固定用テーブルの基板載置
部の表面または透明基板の裏面で吸収されるように前記
基板載置部または透明基板に表面処理を施した、 ことを特徴とする基板固定装置。
27. In a substrate fixing device for fixing a transparent substrate to a substrate fixing table and performing an exposure operation, the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table,
The substrate mounting portion or the transparent substrate is subjected to a surface treatment so that the light transmitted through the transparent substrate is absorbed by the surface of the substrate mounting portion of the substrate fixing table or the back surface of the transparent substrate. Fixing device.
【請求項28】 前記透明基板が光ディスク用原盤であ
ることを特徴とする請求項25記載の基板固定装置。
28. The substrate fixing device according to claim 25, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項29】 前記透明基板が光ディスク用原盤であ
ることを特徴とする請求項26記載の基板固定装置。
29. The substrate fixing device according to claim 26, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項30】 前記透明基板が光ディスク用原盤であ
ることを特徴とする請求項27記載の基板固定装置。
30. The substrate fixing device according to claim 27, wherein the transparent substrate is an optical disc master.
【請求項31】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに
接触することを特徴とする請求項28記載の基板固定装
置。
31. The substrate fixing device according to claim 28, wherein an entire portion immediately below a signal recording area is in contact with the substrate fixing table on the back surface of the optical disk master.
【請求項32】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに
接触することを特徴とする請求項29記載の基板固定装
置。
32. The substrate fixing device according to claim 29, wherein an entire portion immediately below a signal recording area is in contact with the substrate fixing table on the back surface of the optical disc master.
【請求項33】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部全体が前記基板固定用テーブルに
接触することを特徴とする請求項30記載の基板固定装
置。
33. The substrate fixing device according to claim 30, wherein an entire portion immediately below a signal recording area on the back surface of the optical disk master comes into contact with the substrate fixing table.
【請求項34】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項28記載の
基板固定装置。
34. The substrate fixing device according to claim 28, wherein the substrate fixing table comes into contact with the substrate fixing table only at a position other than a portion directly below the signal recording area on the back surface of the optical disk master.
【請求項35】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項29記載の
基板固定装置。
35. The substrate fixing device according to claim 29, wherein the substrate fixing table is in contact with the substrate fixing table only at a position other than a position directly below the signal recording area on the back surface of the optical disk master.
【請求項36】 前記光ディスク用原盤の裏面において
信号記録領域の直下部以外の位置でのみ前記基板固定用
テーブルに接触することを特徴とする請求項30記載の
基板固定装置。
36. The substrate fixing device according to claim 30, wherein the substrate fixing table is in contact with the substrate fixing table only at a position other than directly below the signal recording area on the back surface of the optical disk master.
【請求項37】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
25記載の基板固定装置。
37. The substrate fixing device according to claim 25, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項38】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
26記載の基板固定装置。
38. The substrate fixing device according to claim 26, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項39】 前記透明基板を真空吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
27記載の基板固定装置。
39. The substrate fixing device according to claim 27, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by vacuum suction.
【請求項40】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
25記載の基板固定装置。
40. The substrate fixing device according to claim 25, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項41】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
26記載の基板固定装置。
41. The substrate fixing device according to claim 26, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項42】 前記透明基板を静電吸着によって前記
基板固定用テーブルに固定することを特徴とする請求項
27記載の基板固定装置。
42. The substrate fixing device according to claim 27, wherein the transparent substrate is fixed to the substrate fixing table by electrostatic attraction.
【請求項43】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項25記載の
基板固定装置。
43. The substrate fixing table has a pedestal part which is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. 26. The substrate fixing device according to claim 25, wherein the pedestal part is surface-treated so that the contact surface optically scatters.
【請求項44】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項26記載の
基板固定装置。
44. The substrate fixing table has a pedestal part that is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. 27. The substrate fixing device according to claim 26, wherein the pedestal part is surface-treated so that the contact surface is optically scattered.
【請求項45】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的散乱がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項27記載の
基板固定装置。
45. The substrate fixing table has a pedestal part which is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are mounted in a state where the table part is installed on the pedestal part. 28. The substrate fixing device according to claim 27, wherein the pedestal part is surface-treated so that the contact surface optically scatters.
【請求項46】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項25記載の
基板固定装置。
46. The substrate fixing table has a pedestal part which is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. 26. The substrate fixing device according to claim 25, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically absorbs the light.
【請求項47】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項26記載の
基板固定装置。
47. The substrate fixing table has a pedestal part which is rotationally driven and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed with the table part installed on the pedestal part. 27. The substrate fixing device according to claim 26, wherein the pedestal portion is surface-treated so that the contact surface optically absorbs the light.
【請求項48】 前記基板固定用テーブルは、回転駆動
される台座部と基板載置部を設けたテーブル部とを有
し、前記テーブル部を台座部に設置した状態でテーブル
部と台座部の接触面で光学的吸収がなされるように台座
部に表面処理を施すことを特徴とする請求項27記載の
基板固定装置。
48. The substrate fixing table has a pedestal part that is driven to rotate and a table part provided with a substrate placing part, and the table part and the pedestal part are installed in a state where the table part is installed on the pedestal part. 28. The substrate fixing device according to claim 27, wherein the pedestal part is surface-treated so that the contact surface optically absorbs the surface.
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