JP2003225287A - Method and system for sterilization - Google Patents

Method and system for sterilization

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JP2003225287A
JP2003225287A JP2002024928A JP2002024928A JP2003225287A JP 2003225287 A JP2003225287 A JP 2003225287A JP 2002024928 A JP2002024928 A JP 2002024928A JP 2002024928 A JP2002024928 A JP 2002024928A JP 2003225287 A JP2003225287 A JP 2003225287A
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JP
Japan
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electron beam
sterilization
less
kgy
beam irradiation
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Application number
JP2002024928A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Sato
馨一 佐藤
Hiroshi Tominaga
浩史 冨永
Akihiko Kizaki
昭彦 木崎
Takeshi Hirose
健 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a system for sterilization which enable effective sterilization of an object by using an electron beam, without deteriorating the object and without using a large-scale installation. <P>SOLUTION: The system for sterilization is equipped with a conveyance line 1 which conveys a plurality of objects A consecutively and an electron beam irradiation device 2 which shines the electron beam onto the objects A conveyed on the conveyance line 1, and it sterilizes the surface of the object by the irradiation of the electron beam. The accelerating voltage of the electron beam of the electron beam irradiation device 2 is lower than 150 kV and the electron beam is emitted from the device 2 so that the absorbed dose of the electron beam measured by using a dose measuring film is 5-200 kGy. The conveying speed of the conveyance line 1 to 300 m/min or below, and when the value of the product of the absorbed dose of the electron beam and the conveying speed is made to be Z, the value of Z is in the range of 50-20,000 kGy m/min. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、物体の表面を殺菌
処理または滅菌処理する殺菌処理方法および殺菌処理シ
ステムに関し、特に郵便物の表面の殺菌処理に好適な殺
菌処理方法および殺菌処理システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sterilizing method and a sterilizing system for sterilizing or sterilizing a surface of an object, and particularly to a sterilizing method and a sterilizing system suitable for sterilizing a surface of a mail.

【0002】[0002]

【従来の技術】近時、郵便物等の一度に大量に取り扱わ
れる物体を細菌犯罪等から保護する目的で、これらの表
面を殺菌処理することが検討されている。
2. Description of the Related Art Recently, it has been studied to sterilize the surfaces of postal items and the like, which are handled in large quantities at one time, in order to protect them from bacterial crime.

【0003】一般に殺菌処理にはエネルギー線が用いら
れており、その中でも紫外線が多用されているから、上
記のような郵便物等の殺菌処理にも紫外線を用いること
が考えられる。しかしながら、従来の紫外線照射の場合
には、電気エネルギーのかなりの部分が紫外線ではな
く、熱等になってしまい、エネルギー効率が劣るだけで
なく、照射される郵便物等が熱の影響を受けて劣化して
しまう。
In general, energy rays are used for sterilization, and among them, ultraviolet rays are often used. Therefore, it is conceivable to use ultraviolet rays for sterilization of the above-mentioned mail items. However, in the case of conventional UV irradiation, a large part of electric energy is not UV, but heat, etc., and not only is energy efficiency poor, but also irradiated mail items are affected by heat. It will deteriorate.

【0004】一方、このような殺菌処理のためのエネル
ギー線としては電子線も考えられる。電子線の場合には
紫外線と異なり、熱等として失われるエネルギーは少な
い。しかしながら、従来の電子線照射装置は電子線を取
り出すための加速電圧が高く、高エネルギーの電子線を
照射するものであり、このような高加速電圧・高エネル
ギーの電子線は物体の内部に浸透する割合が多くなり必
ずしも表面で有効に作用せず、やはりエネルギー効率が
悪い。また、高エネルギーの電子線を郵便物等に照射す
ると郵便物等が劣化するおそれがある。さらに、従来の
電子線照射装置は、装置が大型で初期投資が高いという
問題や、2次X線のシールディングが必要であるため遮
蔽装置が大がかりにならざるを得ないという問題もあ
る。
On the other hand, an electron beam can be considered as an energy beam for such sterilization. In the case of an electron beam, unlike ultraviolet rays, less energy is lost as heat or the like. However, the conventional electron beam irradiation apparatus has a high accelerating voltage for extracting an electron beam and irradiates a high-energy electron beam. However, the energy efficiency is still poor. Further, if the postal matter or the like is irradiated with a high-energy electron beam, the postal matter or the like may be deteriorated. Further, the conventional electron beam irradiation apparatus has a problem that the apparatus is large and the initial investment is high, and a shielding apparatus is inevitably large because the shielding of the secondary X-ray is necessary.

【0005】また、電子線照射を用いて殺菌を行う場
合、どの程度の照射条件で有効に殺菌が行われるかにつ
いての知見が十分に得られていないのが現状である。例
えば、特開平7−20294号公報には、電子線照射装
置を用いて表面殺菌を行うことが記載されているが、ど
の程度の照射条件が有効かは記載されていない。
In addition, when sterilization is carried out by using electron beam irradiation, it is the current situation that no knowledge has been obtained as to what irradiation conditions are effective for sterilization. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-20294 describes that surface sterilization is performed using an electron beam irradiation device, but it does not describe how much irradiation conditions are effective.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる事情に
鑑みてなされたものであって、電子線を用いて物体を劣
化させることなく、かつ大がかりな設備を用いることな
く、物体を有効に殺菌処理することができる殺菌処理方
法および殺菌処理システムを提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and effectively sterilizes an object without degrading the object with an electron beam and without using large-scale equipment. An object is to provide a sterilization method and a sterilization system that can be treated.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第1は、物体に電子線照射装置により電子
線を照射して物体の表面を殺菌処理する殺菌処理方法で
あって、電子線の加速電圧が150kV未満、線量測定
フィルムを用いて測定した電子線の吸収線量が5〜20
0kGyであることを特徴とする殺菌処理方法を提供す
る。
In order to solve the above problems, the first aspect of the present invention is a sterilization method for sterilizing the surface of an object by irradiating the object with an electron beam by an electron beam irradiation device. , The acceleration voltage of the electron beam is less than 150 kV, and the absorbed dose of the electron beam measured using a dosimetry film is 5 to 20.
Provided is a sterilization method characterized by being 0 kGy.

【0008】本発明の第2は、複数の物体を連続的に搬
送し、搬送されている物体に電子線照射装置により電子
線を照射して物体の表面を殺菌処理する殺菌処理方法で
あって、電子線の加速電圧が150kV未満、線量測定
フィルムを用いて測定した電子線の吸収線量が5〜20
0kGy、搬送速度が300m/min以下であり、前
記電子線の吸収線量と搬送速度との積の値をZとした場
合にZの値が50〜20000kGy・m/minの範
囲であることを特徴とする殺菌処理方法を提供する。
A second aspect of the present invention is a sterilization method in which a plurality of objects are continuously conveyed, and the conveyed objects are irradiated with an electron beam by an electron beam irradiation device to sterilize the surface of the object. , The acceleration voltage of the electron beam is less than 150 kV, and the absorbed dose of the electron beam measured using a dosimetry film is 5 to 20.
The value of Z is in the range of 50 to 20000 kGy · m / min, where 0 kGy, the transportation speed is 300 m / min or less, and Z is the product of the absorbed dose of the electron beam and the transportation speed. A method of sterilization treatment is provided.

【0009】本発明の第3は、物体に電子線照射装置に
より電子線を照射して物体の表面を殺菌処理する殺菌処
理システムであって、電子線の加速電圧が150kV未
満、線量測定フィルムを用いて測定した電子線の吸収線
量が5〜200kGyであることを特徴とする殺菌処理
システムを提供する。
A third aspect of the present invention is a sterilization system for sterilizing the surface of an object by irradiating the object with an electron beam by an electron beam irradiating device, wherein an accelerating voltage of the electron beam is less than 150 kV and a dose measuring film is used. Provided is a sterilization treatment system characterized in that an absorbed dose of an electron beam measured by using it is 5 to 200 kGy.

【0010】本発明の第4は、複数の物体を連続的に搬
送する搬送ラインと、その搬送ラインを搬送されている
物体に電子線を照射する電子線照射装置とを具備し、電
子線照射により物体の表面を殺菌処理する殺菌処理シス
テムであって、前記電子線照射装置の電子線の加速電圧
が150kV未満であり、かつ電子線照射装置から線量
測定フィルムを用いて測定した電子線の吸収線量が5〜
200kGyになるように電子線が照射され、搬送ライ
ンの搬送速度が300m/min以下であり、前記電子
線の吸収線量と搬送速度との積の値をZとした場合にZ
の値が50〜20000kGy・m/minの範囲であ
ることを特徴とする殺菌処理システムを提供する。
A fourth aspect of the present invention comprises a carrier line for continuously carrying a plurality of objects, and an electron beam irradiation device for irradiating an object being carried on the carrier line with an electron beam. A sterilization system for sterilizing the surface of an object by means of which the accelerating voltage of the electron beam of the electron beam irradiation device is less than 150 kV and absorption of the electron beam measured from the electron beam irradiation device using a dosimetry film. Dose is 5
When the electron beam is irradiated to 200 kGy, the transport speed of the transport line is 300 m / min or less, and Z is the product of the absorbed dose of the electron beam and the transport speed, Z
The sterilization treatment system is characterized in that the value of is in the range of 50 to 20000 kGy · m / min.

【0011】本発明によれば、エネルギー効率の高い電
子線を照射して物体表面の殺菌処理を行うので、高速の
殺菌処理が可能であり、また紫外線照射の場合のように
物体に熱がかからないので熱による物体の劣化が生じな
い。
According to the present invention, since the surface of an object is sterilized by irradiating it with an electron beam having high energy efficiency, a high-speed sterilization process is possible, and the object is not heated as in the case of ultraviolet irradiation. Therefore, deterioration of the object due to heat does not occur.

【0012】しかし、従来の電子線照射装置では電子線
を取り出す際の加速電圧が高く、物体の内部の比較的深
い位置に到達して物体を劣化させる可能性があり、ま
た、設備も大がかりなものであって設置スペース等の制
約がある。また、殺菌に適した照射条件が必ずしも明ら
かになっていない。
However, in the conventional electron beam irradiation apparatus, the acceleration voltage at the time of extracting the electron beam is high, and there is a possibility that it may reach a relatively deep position inside the object and deteriorate the object, and the equipment is also large. However, there are restrictions such as installation space. Moreover, the irradiation conditions suitable for sterilization have not always been clarified.

【0013】そこで、本発明の第1および第3では、電
子線を取り出す際の加速電圧を150kV未満と低く
し、線量測定フィルムを用いて測定した電子線の吸収線
量を5〜200kGyの範囲に規定することにより、電
子線を主に表面で作用させることができるので物体が劣
化するおそれが小さく、また大がかりな設備が不要であ
り、物体を有効に殺菌処理することができる。
Therefore, in the first and third aspects of the present invention, the accelerating voltage for taking out the electron beam is set as low as less than 150 kV, and the absorbed dose of the electron beam measured using the dosimetry film is set in the range of 5 to 200 kGy. By prescribing, the electron beam can act mainly on the surface, so that there is little risk of deterioration of the object, large equipment is not required, and the object can be effectively sterilized.

【0014】また、本発明の第2および第4では、複数
の物体を連続的に搬送されている物体に電子線を照射し
て殺菌する際に、上記条件の他に搬送ラインの搬送速度
を300m/min以下、および電子線の吸収線量と搬
送速度との積の値Zを50〜20000kGy・m/m
inの範囲に規定したので、搬送している物体を効率良
く有効に殺菌処理することができる。
In addition, in the second and fourth aspects of the present invention, when a plurality of objects are sterilized by continuously irradiating them with an electron beam, the transfer speed of the transfer line is changed in addition to the above conditions. 300 m / min or less, and the value Z of the product of absorbed dose of electron beam and transport speed is 50 to 20000 kGy · m / m
Since it is defined within the range of in, the conveyed object can be sterilized efficiently and effectively.

【0015】上記本発明の第2および第4において、前
記Zの値が100〜10000kGy・m/minの範
囲であることが好ましく、搬送速度は10〜300m/
min、さらには50〜200m/minが好ましい。
In the second and fourth aspects of the present invention, the value of Z is preferably in the range of 100 to 10,000 kGy · m / min, and the conveying speed is 10 to 300 m / min.
min, more preferably 50 to 200 m / min.

【0016】上記いずれの発明においても、電子線の加
速電圧が20kV以上であることが好ましく、30〜1
30kVがより好ましい。また、加速電圧を100kV
以下とすることが特に好ましい。また、電子線照射装置
としては、電子線発生部を真空状態に保つため、照射時
に真空装置を必要としない、真空管型のものが好まし
い。さらに、電子線照射装置の電子線射出部と物体との
間の距離が10mm以下であることが好ましい。
In any of the above inventions, the acceleration voltage of the electron beam is preferably 20 kV or more, and 30 to 1
30 kV is more preferable. Also, the acceleration voltage is 100 kV
The following is particularly preferable. Further, the electron beam irradiation device is preferably a vacuum tube type device which does not require a vacuum device at the time of irradiation in order to keep the electron beam generation part in a vacuum state. Furthermore, it is preferable that the distance between the electron beam emitting unit of the electron beam irradiation apparatus and the object is 10 mm or less.

【0017】なお、本発明において殺菌処理とは、滅菌
処理をも含む概念である。
In the present invention, the sterilization treatment is a concept including sterilization treatment.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て具体的に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係
る殺菌処理システムを示す概略平面である。この殺菌処
理システムは、扁平状の物体に対し、搬送している途中
で殺菌処理を行うものであり、例えば、手紙やはがき等
の扁平状郵便物の宛名読取装置等に適用可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be specifically described below. FIG. 1 is a schematic plane view showing a sterilization processing system according to an embodiment of the present invention. This sterilization system is for sterilizing a flat object while it is being conveyed, and is applicable to, for example, an address reading device for flat mail such as letters and postcards.

【0019】図1の殺菌処理システムにおいては、複数
の扁平状の物体Aが垂直状態で連続的に搬送ライン1を
搬送され、搬送ライン1の所定の領域が殺菌処理領域1
aとなっている。搬送ライン1の殺菌処理領域1aに対
応する部分には、電子線照射装置2が固定的に配置され
ている。なお、ここで「連続的に搬送」とは、実質的に
連続状態であればよく、間欠的搬送をも含むものであ
る。
In the sterilization treatment system of FIG. 1, a plurality of flat objects A are continuously conveyed in a vertical state on the conveyance line 1, and a predetermined area of the conveyance line 1 is a sterilization treatment area 1
It is a. An electron beam irradiation device 2 is fixedly arranged in a portion of the transfer line 1 corresponding to the sterilization treatment area 1a. The term "continuously transported" as used herein only needs to be a substantially continuous state and includes intermittent transportation.

【0020】電子線照射装置2は、搬送ライン1の殺菌
処理領域1aに対応する部分の両側にそれぞれ複数配列
された照射管3と、これら照射管3を支持する支持部材
4とを有しており、殺菌処理領域1aにおいて扁平状の
物体Aの両面に電子線が照射され、物体Aの殺菌が行わ
れる。なお、物体Aの片面のみに電子線を照射するよう
にしてもよい。
The electron beam irradiation device 2 has a plurality of irradiation tubes 3 arranged on both sides of a portion corresponding to the sterilization processing area 1a of the transfer line 1, and a support member 4 for supporting these irradiation tubes 3. In the sterilization processing area 1a, both sides of the flat object A are irradiated with electron beams, and the object A is sterilized. The electron beam may be applied to only one surface of the object A.

【0021】電子線照射装置2においては、その電子線
発生部としての照射管3が図2のように構成されてい
る。すなわち、図2の(a)に示すように、円筒状をな
すガラスまたはセラミック製の真空管(チューブ)6
と、その真空管(チューブ)6内に設けられ、陰極から
放出された電子を電子線として取り出してこれを加速す
る電子線発生部7と、真空管6の端部に設けられ、電子
線を射出する電子線射出部8と、図示しない給電部より
給電するためのピン部9とを有する。電子線射出部8に
は薄膜状の照射窓10が設けられている。電子線射出部
8の照射窓10は、ガスは透過せずに電子線を透過する
機能を有しており、図2の(b)に示すように、スリッ
ト状をなしている。そして、照射室内に配置された被照
射物に照射窓10から射出された電子線が照射される。
In the electron beam irradiation device 2, the irradiation tube 3 as the electron beam generation unit is constructed as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 2A, a vacuum tube (tube) 6 made of glass or ceramic and having a cylindrical shape.
And an electron beam generator 7 provided in the vacuum tube 6 for taking out the electron emitted from the cathode as an electron beam and accelerating the electron beam, and provided at the end of the vacuum tube 6 to emit an electron beam. It has an electron beam emitting unit 8 and a pin unit 9 for supplying power from a power supply unit (not shown). The electron beam emitting unit 8 is provided with a thin film irradiation window 10. The irradiation window 10 of the electron beam emission unit 8 has a function of transmitting an electron beam without transmitting a gas, and has a slit shape as shown in FIG. 2B. Then, the irradiation target placed in the irradiation chamber is irradiated with the electron beam emitted from the irradiation window 10.

【0022】すなわち、この電子線照射装置2は真空管
型であり、従来のドラム型の電子線照射装置とは根本的
に異なっている。従来のドラム型電子線照射装置は、ド
ラム内を常に真空引きしながら電子線を照射するタイプ
のものである。
That is, the electron beam irradiation apparatus 2 is of a vacuum tube type, which is fundamentally different from the conventional drum type electron beam irradiation apparatus. The conventional drum-type electron beam irradiation apparatus is a type that irradiates an electron beam while constantly drawing a vacuum in the drum.

【0023】このような構成の照射管を有する装置は、
米国特許第5,414,267号に開示されており、Am
erican International Technologies(AIT)社によ
りMin−EB装置として検討されている。この装置に
おいては、低加速電圧でも有効に電子線を取り出すこと
ができる。これによって、被照射物に対し低深度で電子
線を作用させることが可能となり、被照射物への悪影響
が小さい。また、電子線のエネルギーが小さいためX線
等の放射線の発生量が小さく、放射線を遮蔽するための
シールド装置を小型化または低減することができるよう
になる。
An apparatus having an irradiation tube having such a structure is
It is disclosed in US Pat. No. 5,414,267, Am
It is being considered as a Min-EB device by erican International Technologies (AIT). In this device, the electron beam can be effectively extracted even at a low acceleration voltage. As a result, the electron beam can be made to act on the irradiation target at a low depth, and the adverse effect on the irradiation target is small. Further, since the energy of the electron beam is small, the amount of radiation such as X-rays generated is small, and the shield device for shielding the radiation can be miniaturized or reduced.

【0024】このように、シールドの小型化・低減化が
可能となり、また低加速電圧であるため電子線発生部分
の小型化が可能となることから、電子線照射装置の飛躍
的な小型化が可能となる。
As described above, the shield can be downsized and reduced, and since the electron beam generation portion can be downsized due to the low acceleration voltage, the electron beam irradiation apparatus can be drastically downsized. It will be possible.

【0025】このような殺菌処理システムにおいて、電
子線照射装置2における電子線を取り出す加速電圧は1
50kV未満とする。加速電圧が150kV以上である
と電子線のエネルギーが高くなりすぎ、電子線の物体A
への到達深度が大きくなって電子線が表面で有効に作用
せず、エネルギー効率が悪くなるばかりか物体Aにダメ
ージを与えてしまう。エネルギー効率をより高くし、か
つ物体Aに与えるダメージをより小さくする観点から
は、130kV以下が好ましく、100kV以下が一層
好ましい。図3は加速電圧50〜80kVにおける電子
線到達深度と吸収線量(任意スケール)との関係を示す
図である。この図から、加速電圧が低くなるほど表面に
近い位置で電子線を有効に作用させることができること
がわかる。ただし、加速電圧が20kV未満では、殺菌
処理に必要なエネルギーを取り出し難くなるため、20
kV以上が好ましく、さらには30kV以上が好まし
い。具体的には、20〜150kVが好ましく、30〜
150kV、20〜130kV、さらには30〜130
kV、20〜100kV、30〜100kVが好まし
い。
In such a sterilization processing system, the acceleration voltage for extracting the electron beam in the electron beam irradiation device 2 is 1
It is less than 50 kV. If the accelerating voltage is 150 kV or higher, the energy of the electron beam becomes too high, and the electron beam object A
The electron beam does not act effectively on the surface due to the increase in the reaching depth to the object, which not only lowers energy efficiency but also damages the object A. From the viewpoint of further increasing the energy efficiency and further reducing the damage given to the object A, 130 kV or less is preferable, and 100 kV or less is more preferable. FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the electron beam arrival depth and the absorbed dose (arbitrary scale) at an acceleration voltage of 50 to 80 kV. From this figure, it can be seen that the electron beam can more effectively act at a position closer to the surface as the acceleration voltage becomes lower. However, if the accelerating voltage is less than 20 kV, it is difficult to take out the energy required for the sterilization process.
It is preferably at least kV, more preferably at least 30 kV. Specifically, 20 to 150 kV is preferable, and 30 to
150 kV, 20-130 kV, and further 30-130
kV, 20 to 100 kV, and 30 to 100 kV are preferable.

【0026】十分な殺菌能力を得るためには、線量測定
フィルムを用いて測定した電子線の吸収線量が5〜20
0kGy(キログレイ)となるように電子線を照射す
る。5kGy未満の場合には十分な殺菌能力を得ること
ができず、200kGyを超えると物体Aにダメージを
与えるおそれが大きくなる。好ましくは10〜100k
Gy、より好ましくは10〜50kGyである。なお、
吸収線量は、FAR WEST TECHNOLOGY社の厚さ44μmの
線量測定用フィルム(FAR WESTフィルム)を用いて測定
することができる。
In order to obtain a sufficient sterilizing ability, the absorbed dose of electron beam measured with a dosimetry film is 5 to 20.
The electron beam is irradiated so as to be 0 kGy (kilo gray). If it is less than 5 kGy, sufficient sterilizing ability cannot be obtained, and if it exceeds 200 kGy, the object A is likely to be damaged. Preferably 10-100k
Gy, more preferably 10 to 50 kGy. In addition,
The absorbed dose can be measured using a dose measuring film (FAR WEST film) having a thickness of 44 μm manufactured by FAR WEST TECHNOLOGY.

【0027】図4に示す照射管3の電子線射出部である
照射窓10と物体Aとの間の距離dは10mm以下であ
ることが好ましい。距離dが10mmを超えると電子線
の散乱等で電子線が減衰して物体Aに有効に作用させる
ことができにくくなる。
The distance d between the irradiation window 10 which is the electron beam emitting portion of the irradiation tube 3 shown in FIG. 4 and the object A is preferably 10 mm or less. If the distance d exceeds 10 mm, the electron beam is attenuated due to scattering of the electron beam and the like, and it becomes difficult to effectively act on the object A.

【0028】このような電子線照射装置2において、物
体Aの高さ(幅方向の長さ)が照射管3の照射窓10の
長さよりも長い場合には、図5の(a)、(b)に示す
ように、複数の照射管3を物体Aの高さ方向(幅方向)
に沿って2列にかつ千鳥状に配置することが好ましい。
これは、単に一列に並べただけでは、隙間が空いてしま
うためである。また、2列の照射管3は、物体A上の同
じライン上(照射ライン)に電子線が照射されるように
傾いて配置されている。しかし、必ずしも同じライン上
に照射されなくてもよい。
In such an electron beam irradiating device 2, when the height (width-direction length) of the object A is longer than the length of the irradiation window 10 of the irradiation tube 3, (a), (a) of FIG. As shown in b), the plurality of irradiation tubes 3 are arranged in the height direction (width direction) of the object A.
It is preferable to arrange them in two rows and in a staggered pattern.
This is because if they are arranged in a line, there will be a gap. The two rows of irradiation tubes 3 are arranged so as to be inclined so that the electron beam is irradiated on the same line (irradiation line) on the object A. However, it is not always necessary to irradiate on the same line.

【0029】搬送ライン1の搬送速度は、搬送しようと
する物体Aの種類に応じて適宜決定されるが、その搬送
速度は300m/min以下とする。300m/min
を超えると物体Aに殺菌処理に十分な電子線を照射し難
くなる。好ましくは10〜300m/minであり、よ
り好ましくは50〜200m/minである。搬送速度
が10m/minより小さいと搬送効率が低い。手紙や
はがき等の扁平状郵便物の搬送は、通常180m/mi
n程度である。
The carrying speed of the carrying line 1 is appropriately determined according to the type of the object A to be carried, but the carrying speed is 300 m / min or less. 300 m / min
When it exceeds the value, it becomes difficult to irradiate the object A with an electron beam sufficient for sterilization. It is preferably 10 to 300 m / min, more preferably 50 to 200 m / min. If the transport speed is less than 10 m / min, the transport efficiency is low. Flat mail such as letters and postcards is usually transported by 180 m / mi
It is about n.

【0030】このように搬送しつつある物体Aに電子線
を照射して物体Aを有効に殺菌処理するためには、電子
線の吸収線量と搬送速度との積の値Zを50〜2000
0kGy・m/minの範囲とする。Zの値が50kG
y・m/min未満の場合には、吸収線量か搬送速度が
低すぎ、効率的な殺菌処理を行うことができない。ま
た、Zの値が20000kGy・m/minを超えた場
合には、吸収線量が大きすぎるかまたは搬送速度が大き
すぎ、物体Aのダメージの問題が生じるかまたは十分な
殺菌処理を達成することができない。Zの値の好ましい
範囲は、100〜10000kGy・m/minであ
る。
In order to effectively sterilize the object A by irradiating the object A, which is being conveyed, with an electron beam, the value Z of the product of the absorbed dose of the electron beam and the conveying speed is 50 to 2000.
The range is 0 kGy · m / min. The value of Z is 50 kG
If it is less than y · m / min, the absorbed dose or the conveying speed is too low, and efficient sterilization cannot be performed. Further, when the value of Z exceeds 20000 kGy · m / min, the absorbed dose is too large or the conveying speed is too large, which may cause a problem of damage of the object A or achieve sufficient sterilization treatment. Can not. The preferable range of the value of Z is 100 to 10,000 kGy · m / min.

【0031】以上のように構成される殺菌処理システム
では、エネルギー効率の高い電子線を照射して物体A表
面の殺菌処理を行うので、高速の殺菌処理が可能であ
り、また紫外線照射の場合のように物体に熱がかからな
いので熱による物体の劣化が生じない。また、電子線照
射装置2の電子線を取り出す際の加速電圧を150kV
未満と低くし、線量測定フィルムを用いて測定した電子
線の吸収線量を5〜200kGyの範囲に規定すること
により、電子線を主に表面で作用させることができるの
で物体が劣化するおそれが小さく、また大がかりな設備
を用いることなく、物体Aを有効に殺菌処理することが
できる。さらに、複数の連続的に搬送されている物体A
に電子線を照射して殺菌する際に、搬送ライン1の搬送
速度を300m/min以下、および電子線の吸収量と
搬送速度との積の値Zを50〜20000kGy・m/
minの範囲に規定したので、搬送している物体を効率
良く有効に殺菌処理することができる。
In the sterilization system configured as described above, since the surface of the object A is sterilized by irradiating the electron beam having high energy efficiency, high-speed sterilization is possible, and in the case of ultraviolet irradiation. Since the object is not heated as described above, the object is not deteriorated by the heat. Further, the acceleration voltage when extracting the electron beam of the electron beam irradiation device 2 is 150 kV.
By setting the absorbed dose of the electron beam measured with the dosimetry film to be in the range of 5 to 200 kGy, the electron beam can act mainly on the surface, and the possibility of deterioration of the object is small. Moreover, the object A can be effectively sterilized without using large-scale equipment. Furthermore, a plurality of continuously conveyed objects A
At the time of sterilizing by irradiating with electron beam, the conveying speed of the conveying line 1 is 300 m / min or less, and the product value Z of the absorption amount of the electron beam and the conveying speed is 50 to 20000 kGy · m /
Since it is defined in the range of min, the object being conveyed can be efficiently and effectively sterilized.

【0032】なお、上記実施形態において、電子線照射
装置2の照射管3の数は照射時間と照射速度によって決
定される。また、最大処理量によって殺菌処理領域1
a、すなわち電子線照射領域の長さが決定される。
In the above embodiment, the number of irradiation tubes 3 of the electron beam irradiation device 2 is determined by the irradiation time and the irradiation speed. In addition, the sterilization treatment area 1 depends on the maximum treatment amount
a, that is, the length of the electron beam irradiation region is determined.

【0033】次に、本発明の殺菌処理システムを用いて
実際に殺菌処理を行った実験結果について説明する。
Next, the experimental results of actual sterilization treatment using the sterilization treatment system of the present invention will be described.

【0034】指標菌としてBacillus pumilusを使用し、
ニュートリエント寒天平板培地に菌株を塗床し、30℃
にて3日間、室温にて5日間培養を行った。芽胞形成を
確認し菌液の濃度として10個/ml程度の濃度を確
認後、スライドガラスに菌液0.1mlを塗布して薄く
展開し、30℃で30分間乾燥させた。
Bacillus pumilus was used as an indicator bacterium,
Strains were applied to nutrient agar plate medium at 30 ℃
Were cultured for 3 days and at room temperature for 5 days. After confirming the formation of spores and confirming the concentration of the bacterial solution of about 10 7 cells / ml, 0.1 ml of the bacterial solution was applied on a slide glass to spread thinly and dried at 30 ° C. for 30 minutes.

【0035】この菌液を薄く展開したスライドガラスを
搬送ライン上に載せて搬送させ、搬送ラインの所定位置
に設置された電子線照射装置により搬送されているスラ
イドガラスに電子線を照射し、殺菌処理を行った。この
際に、電子線照射装置の加速電圧を50kV、60k
V、70kVの3水準とし、50kVの際には電流:
1.5mAとしてダイナミックDoseをほぼ118.
3kGy・m/minとし、60kVの際には電流:
1.0mAとしてダイナミックDoseをほぼ151.
2kGy・m/minとし、70kVの際には電流を
0.9mAとしてダイナミックDoseをほぼ170.
7kGy・m/minとした。また、搬送速度は3.7
〜17.1m/minの間で変化させた。なお、吸収線
量(Dose量)は、FAR WEST TECHNOLOGY社の厚さ4
4μmの線量測定用フィルム(FAR WESTフィルム)を用
いて測定した。
A slide glass in which this bacterial solution is spread thinly is placed on a carrying line and carried, and the slide glass carried by an electron beam irradiating device installed at a predetermined position of the carrying line is irradiated with an electron beam for sterilization. Processed. At this time, the acceleration voltage of the electron beam irradiation device is set to 50 kV and 60 kV.
There are 3 levels of V and 70kV, and current at 50kV:
Dynamic Dose was set to about 118.
At 3 kGy · m / min, current at 60 kV:
A dynamic Dose of about 151.
2 kGy · m / min, and at 70 kV, the current was 0.9 mA and the dynamic Dose was about 170.
It was set to 7 kGy · m / min. The transport speed is 3.7.
It was changed between ˜17.1 m / min. The absorbed dose (Dose amount) is the thickness of FAR WEST TECHNOLOGY 4
The measurement was performed using a 4 μm dosimetry film (FAR WEST film).

【0036】この際の条件を表1に示すとともに、殺菌
処理結果を表1に併記し、さらに図6に示す。表1中N
o.1は電子線照射を行わずに12.2m/minの速
度で空通ししたものであり、No.11は搬送も電子線
照射も行わなかったものであり、No.2〜10が上述
の条件で搬送しながら電子線を照射したものであり、吸
収線量(Dose量)は10〜47kGyであった。
The conditions at this time are shown in Table 1, and the sterilization treatment results are also shown in Table 1 and further shown in FIG. N in Table 1
o. No. 1 was air-passed without electron beam irradiation at a speed of 12.2 m / min. No. 11 did not carry or electron beam irradiation. 2 to 10 were those irradiated with an electron beam while being transported under the above conditions, and the absorbed dose (Dose amount) was 10 to 47 kGy.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】表1および図6に示すように、加速電圧5
0kV、60kV、70kVで、10kGy以上の電子
線照射により生菌が減少し、殺菌効果があることが確認
された。特に、加速電圧50kVでは40kGyで、6
0kVおよび70kVでは最も低い10kGyで、生菌
が処理前より1/10以下となる実用的な殺菌能力で
あるD5を達成することができた。
As shown in Table 1 and FIG.
It was confirmed that at 0 kV, 60 kV, and 70 kV, viable bacteria were reduced by electron beam irradiation of 10 kGy or more, and there was a bactericidal effect. In particular, at an acceleration voltage of 50 kV, 40 kGy, 6
At 0 kV and 70 kV, the lowest value was 10 kGy, and it was possible to achieve the practical bactericidal ability D5 in which the viable bacteria were 1/10 5 or less compared to before treatment.

【0039】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ることなく、種々変形可である。例えば、上記実施の形
態では、扁平状の物体を立てた状態で搬送し、電子線を
水平方向に照射した場合について示したが、扁平状の物
体を水平にした状態で搬送し、電子線を垂直方向に照射
するようにしてもよい。また、上記実施の形態では手紙
やはがき等の扁平状郵便物を想定したが、郵便物に限ら
ず食品、包装容器、あるいは(レトルト)パウチのよう
な他の扁平状物であってもよく、また扁平状の物体に限
らず立体状の物体に対する殺菌処理の場合にも適用可能
である。ただし、扁平状の物体のほうが表面全面に電子
線を照射しやすいので好ましい。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified. For example, in the above embodiment, the flat object is conveyed in an upright state, and the electron beam is irradiated in the horizontal direction.However, the flat object is conveyed in a horizontal state and the electron beam is emitted. Irradiation may be performed in the vertical direction. Further, in the above-described embodiment, a flat postal matter such as a letter or postcard is assumed, but not limited to the postal matter, it may be a food, a packaging container, or another flat article such as a (retort) pouch, Further, the present invention can be applied not only to a flat object but also to a sterilization process on a three-dimensional object. However, a flat object is preferable because it is easy to irradiate the entire surface with an electron beam.

【0040】また、上記実施形態では搬送している物体
に電子線を照射してその表面を殺菌処理する場合につい
て示したが、静止している物体に対して電子線を照射し
て殺菌処理する場合であってもよい。
In the above embodiment, the case where the object being conveyed is irradiated with an electron beam to sterilize its surface has been described, but a stationary object is irradiated with an electron beam to sterilize the object. This may be the case.

【0041】さらに、搬送ラインについても上記単純な
直線ラインに限らず、分岐したラインを有するものや、
物体をストックする部分を有し、バッチ式に電子線を照
射可能なもの等、種々の形態を採用することが可能であ
る。
Further, the transfer line is not limited to the above-mentioned simple straight line, but may have a branched line,
It is possible to employ various forms such as one having a part for stocking an object and capable of irradiating an electron beam in a batch system.

【0042】電子線照射装置も上述した真空管型のもの
に限らず、通常のドラムタイプのものを用いることがで
きる。ただし、真空管型のものが制御性の観点から好ま
しい。すなわち、Min−EBに代表される真空管型電
子線照射装置は、上述したように、シールドの小型化お
よびイナーティングの低減化を図ることができ、また低
加速電圧で電子線を取り出せることから電子線発生部分
の小型化が可能となることから、電子線照射装置の飛躍
的な小型化が可能となるため極めて好ましい。
The electron beam irradiation device is not limited to the above-mentioned vacuum tube type, but an ordinary drum type can be used. However, a vacuum tube type is preferable from the viewpoint of controllability. That is, the vacuum tube type electron beam irradiation apparatus typified by Min-EB can reduce the size of the shield and the inerting as described above, and the electron beam can be taken out at a low acceleration voltage. Since it is possible to reduce the size of the line generation portion, it is possible to dramatically reduce the size of the electron beam irradiation apparatus, which is extremely preferable.

【0043】さらに、上記実施の形態では、殺菌処理の
みを行う場合について示したが、殺菌処理とともに塗料
や印刷インキ等を硬化させる場合、またはこれらを架橋
させる場合や、殺菌処理する場合、表面改質させる場合
等の他の処理と併用する場合でも本発明は適用可能であ
る。また、補助的に紫外線照射または加熱処理を併用し
てもよい。
Further, in the above-described embodiment, the case where only the sterilization treatment is performed is shown. However, when the paint, printing ink, etc. are cured together with the sterilization treatment, or when these are cross-linked or sterilized, the surface modification is performed. The present invention is applicable even when used in combination with other treatments such as quality improvement. Further, ultraviolet irradiation or heat treatment may be supplementarily used.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エネルギー効率の高い電子線を照射して物体表面の殺菌
処理を行うので、高速の殺菌処理が可能であり、また紫
外線照射の場合のように物体に熱がかからないので熱に
よる物体の劣化が生じない。従来の電子線照射装置では
電子線を取り出す際の加速電圧が高く、物体の内部の比
較的深い位置に到達して物体を劣化させる可能性があ
り、また、設備も大がかりなものであって設置スペース
等の制約があり、さらに、殺菌に適した照射条件が不明
であったが、本発明では、電子線を取り出す際の加速電
圧を150kV未満と低くし、線量測定フィルムを用い
て測定した電子線の吸収線量を5〜200kGyの範囲
に規定することにより、電子線を主に表面で作用させる
ことができるので物体が劣化するおそれが小さく、また
大がかりな設備が不要であり、物体を有効に殺菌処理す
ることができる。また、複数の物体を連続的に搬送され
ている物体に電子線を照射して殺菌する際に、上記条件
の他に搬送ラインの搬送速度を300m/min以下、
および電子線の吸収線量と搬送速度との積の値Zを50
〜20000kGy・m/minの範囲に規定したの
で、搬送している物体を効率良く有効に殺菌処理するこ
とができる。
As described above, according to the present invention,
Since the surface of the object is sterilized by irradiating it with an electron beam with high energy efficiency, high-speed sterilization is possible, and because the object is not heated as in the case of UV irradiation, the object does not deteriorate due to heat. . In the conventional electron beam irradiation device, the acceleration voltage when extracting the electron beam is high, it may reach a relatively deep position inside the object and deteriorate the object, and the equipment is also large and installed. Although there were restrictions such as space, and the irradiation conditions suitable for sterilization were unknown, in the present invention, the acceleration voltage at the time of extracting the electron beam was reduced to less than 150 kV, and the electron measurement was performed using a dosimetry film. By prescribing the absorbed dose of rays in the range of 5 to 200 kGy, the electron beam can act mainly on the surface, so there is little risk of deterioration of the object, and no large-scale equipment is required. It can be sterilized. In addition, when sterilizing a plurality of objects that are continuously transported by irradiating them with an electron beam, in addition to the above conditions, the transport speed of the transport line is 300 m / min or less,
And the value Z of the product of absorbed dose of electron beam and transport velocity is 50
Since it is defined in the range of up to 20000 kGy · m / min, the conveyed object can be efficiently and effectively sterilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る殺菌処理システムを
示す概略平面図。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a sterilization processing system according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の殺菌処理システムに用いられる電子線照
射装置の照射管の構造を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a structure of an irradiation tube of an electron beam irradiation device used in the sterilization processing system of FIG.

【図3】加速電圧50〜80kVにおける電子線到達深
度と照射線量との関係を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an electron beam arrival depth and an irradiation dose at an acceleration voltage of 50 to 80 kV.

【図4】電子線射出部である照射窓と物体との間の距離
を説明するための図。
FIG. 4 is a diagram for explaining a distance between an irradiation window, which is an electron beam emission unit, and an object.

【図5】図1の殺菌処理システムに用いられる電子線照
射装置の照射管の配列の例を示す図。
5 is a diagram showing an example of an arrangement of irradiation tubes of an electron beam irradiation device used in the sterilization processing system of FIG.

【図6】電子線の加速電圧が50kV、60kV、70
kVの場合における電子線照射のDose量と生菌量と
の関係を示す図。
FIG. 6 shows electron beam acceleration voltages of 50 kV, 60 kV, and 70.
The figure which shows the relationship between the dose amount of electron beam irradiation in the case of kV, and the viable cell amount.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……搬送ライン 1a……殺菌処理領域 2……電子線照射装置 3……照射管 4……支持部材 6……真空管(チューブ) 7……電子線発生部 8……電子線射出部 9……ピン部 10……照射窓 A……物体 1 ... Transfer line 1a ... Sterilization area 2 ... Electron beam irradiation device 3 ... Irradiation tube 4 ... Support member 6 ... Vacuum tube 7 ... Electron beam generator 8 ... Electron beam injection unit 9: Pin part 10 ... Irradiation window A ... object

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木崎 昭彦 東京都中央区京橋二丁目3番13号 東洋イ ンキ製造株式会社内 (72)発明者 広瀬 健 東京都中央区京橋二丁目3番13号 東洋イ ンキ製造株式会社内 Fターム(参考) 4C058 AA02 AA25 AA26 BB06 CC02 CC04 DD03 DD07 EE23 KK03 KK22 KK32 KK44    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Akihiko Kizaki             2-3-13, Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo Toyo             Nki Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Ken Hirose             2-3-13, Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo Toyo             Nki Manufacturing Co., Ltd. F term (reference) 4C058 AA02 AA25 AA26 BB06 CC02                       CC04 DD03 DD07 EE23 KK03                       KK22 KK32 KK44

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 物体に電子線照射装置により電子線を照
射して物体の表面を殺菌処理する殺菌処理方法であっ
て、 電子線の加速電圧が150kV未満、線量測定フィルム
を用いて測定した電子線の吸収線量が5〜200kGy
であることを特徴とする殺菌処理方法。
1. A sterilization method in which an object is irradiated with an electron beam by an electron beam irradiation device to sterilize the surface of the object, wherein an accelerating voltage of the electron beam is less than 150 kV and an electron measured using a dosimetry film. Line absorbed dose is 5 to 200 kGy
A sterilization method comprising:
【請求項2】 複数の物体を連続的に搬送し、搬送され
ている物体に電子線照射装置により電子線を照射して物
体の表面を殺菌処理する殺菌処理方法であって、 電子線の加速電圧が150kV未満、線量測定フィルム
を用いて測定した電子線の吸収線量が5〜200kG
y、搬送速度が300m/min以下であり、前記電子
線の吸収線量と搬送速度との積の値をZとした場合にZ
の値が50〜20000kGy・m/minの範囲であ
ることを特徴とする殺菌処理方法。
2. A sterilization method in which a plurality of objects are continuously transported, and the transported objects are irradiated with an electron beam by an electron beam irradiating device to sterilize the surface of the object. Voltage is less than 150 kV, absorbed dose of electron beam measured with dosimetry film is 5-200 kG
y, when the transport speed is 300 m / min or less, and Z is the product of the absorbed dose of the electron beam and the transport speed, Z
Value is in the range of 50 to 20000 kGy · m / min.
【請求項3】 前記Zの値が100〜10000kGy
・m/minの範囲であることを特徴とする請求項2に
記載の殺菌処理方法。
3. The value of Z is 100 to 10,000 kGy.
The range of m / min is the sterilization method according to claim 2.
【請求項4】 前記搬送速度が10〜300m/min
であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載
の殺菌処理方法。
4. The conveying speed is 10 to 300 m / min.
The sterilization method according to claim 2 or 3, wherein
【請求項5】 前記搬送速度が50〜200m/min
であることを特徴とする請求項4に記載の殺菌処理方
法。
5. The transport speed is 50 to 200 m / min.
The sterilization method according to claim 4, wherein
【請求項6】 電子線の加速電圧が20kV以上である
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項
に記載の殺菌処理方法。
6. The sterilization method according to claim 1, wherein the acceleration voltage of the electron beam is 20 kV or more.
【請求項7】 電子線の加速電圧が30〜130kVで
あることを特徴とする請求項6に記載の殺菌処理方法。
7. The sterilization method according to claim 6, wherein the acceleration voltage of the electron beam is 30 to 130 kV.
【請求項8】 電子線の加速電圧が100kV以下であ
ることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1
項に記載の殺菌処理方法。
8. The accelerating voltage of the electron beam is 100 kV or less, according to any one of claims 1 to 7.
The sterilization method according to item.
【請求項9】 前記電子線照射装置が真空管型であるこ
とを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に
記載の殺菌処理方法。
9. The sterilization method according to claim 1, wherein the electron beam irradiation device is a vacuum tube type.
【請求項10】 前記電子線照射装置の電子線射出部と
物体との間の距離が10mm以下であることを特徴とす
る請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の殺菌処
理方法。
10. The sterilization method according to claim 1, wherein the distance between the electron beam emitting unit of the electron beam irradiation apparatus and the object is 10 mm or less. .
【請求項11】 物体に電子線照射装置により電子線を
照射して物体の表面を殺菌処理する殺菌処理システムで
あって、 電子線の加速電圧が150kV未満、線量測定フィルム
を用いて測定した電子線の吸収線量が5〜200kGy
であることを特徴とする殺菌処理システム。
11. A sterilization system for sterilizing the surface of an object by irradiating the object with an electron beam by an electron beam irradiating device, wherein an accelerating voltage of the electron beam is less than 150 kV, and an electron measured using a dosimetry film. Line absorbed dose is 5 to 200 kGy
A sterilization treatment system characterized in that
【請求項12】 複数の物体を連続的に搬送する搬送ラ
インと、その搬送ラインを搬送されている物体に電子線
を照射する電子線照射装置とを具備し、電子線照射によ
り物体の表面を殺菌処理する殺菌処理システムであっ
て、 前記電子線照射装置の電子線の加速電圧が150kV未
満であり、かつ電子線照射装置から線量測定フィルムを
用いて測定した電子線の吸収線量が5〜200kGyに
なるように電子線が照射され、搬送ラインの搬送速度が
300m/min以下であり、前記電子線の吸収線量と
搬送速度との積の値をZとした場合にZの値が50〜2
0000kGy・m/minの範囲であることを特徴と
する殺菌処理システム。
12. A transport line for continuously transporting a plurality of objects, and an electron beam irradiation device for irradiating an object being transported on the transport line with an electron beam, the surface of the object being irradiated with the electron beam. A sterilization system for sterilization, wherein the electron beam accelerating voltage of the electron beam irradiation device is less than 150 kV, and the absorbed dose of the electron beam measured from the electron beam irradiation device using a dose measurement film is 5 to 200 kGy. When the value of the product of the absorbed dose of the electron beam and the transfer speed is Z, the value of Z is 50 to 2 when the transfer speed of the transfer line is 300 m / min or less.
A sterilization system characterized by being in the range of 0000 kGy · m / min.
【請求項13】 前記Zの値が100〜10000kG
y・m/minの範囲であることを特徴とする請求項1
2に記載の殺菌処理システム。
13. The value of Z is 100 to 10,000 kG.
2. The range of y · m / min.
The sterilization treatment system according to 2.
【請求項14】 前記搬送ラインの搬送速度が10〜3
00m/minであることを特徴とする請求項12また
は請求項13に記載の殺菌処理システム。
14. The transportation speed of the transportation line is 10 to 3
It is 00 m / min, The sterilization processing system of Claim 12 or Claim 13 characterized by the above-mentioned.
【請求項15】 前記搬送ラインの搬送速度が50〜2
00m/minであることを特徴とする請求項14に記
載の殺菌処理システム。
15. The transfer speed of the transfer line is 50 to 2
The sterilization treatment system according to claim 14, wherein the sterilization treatment system is 00 m / min.
【請求項16】 前記電子線照射装置の電子線の加速電
圧が20kV以上であることを特徴とする請求項11か
ら請求項15のいずれか1項に記載の殺菌処理システ
ム。
16. The sterilization system according to claim 11, wherein an acceleration voltage of an electron beam of the electron beam irradiation device is 20 kV or more.
【請求項17】 前記電子線照射装置の電子線の加速電
圧が30〜130kVであることを特徴とする請求項1
6に記載の殺菌処理システム。
17. The electron beam accelerating voltage of the electron beam irradiation apparatus is 30 to 130 kV.
The sterilization treatment system according to item 6.
【請求項18】 前記電子線照射装置の電子線の加速電
圧が100kV以下であることを特徴とする請求項11
から請求項17のいずれか1項に記載の殺菌処理システ
ム。
18. The electron beam accelerating voltage of the electron beam irradiation apparatus is 100 kV or less.
18. The sterilization system according to any one of claims 17 to 18.
【請求項19】 前記電子線照射装置が真空管型である
ことを特徴とする請求項11から請求項18のいずれか
1項に記載の殺菌処理システム。
19. The sterilization processing system according to claim 11, wherein the electron beam irradiation device is a vacuum tube type.
【請求項20】 前記電子線照射装置の電子線射出部と
物体との間の距離が10mm以下であることを特徴とす
る請求項11から請求項19のいずれか1項に記載の殺
菌処理システム。
20. The sterilization system according to claim 11, wherein the distance between the electron beam emitting unit of the electron beam irradiation apparatus and the object is 10 mm or less. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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