JP2003224225A - Semiconductor device and semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor device and semiconductor memory

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JP2003224225A
JP2003224225A JP2002023535A JP2002023535A JP2003224225A JP 2003224225 A JP2003224225 A JP 2003224225A JP 2002023535 A JP2002023535 A JP 2002023535A JP 2002023535 A JP2002023535 A JP 2002023535A JP 2003224225 A JP2003224225 A JP 2003224225A
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JP
Japan
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chip
wiring
sub
package
semiconductor device
Prior art date
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Application number
JP2002023535A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Okuma
禎幸 大熊
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Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a high speed semiconductor device including an SDRAM. <P>SOLUTION: A chip 10 of a SDRAM is divided into a plurality of subchip regions 11 and a package wiring 22 formed in a package substrate is employed for interconnecting respective subchip regions 11 and for interconnecting each subchip region 11 with an external electrode 21. The package wiring 22 is thicker than the ordinary wiring 15 in the chip and has a smaller signal delay. Since the speed is increased in the subchip region 11, high speed of the SDRAM is realized as a whole even if the delay is increased at the package wiring 22 part. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及び半
導体記憶装置に関し、特に、DRAM等に適用して好適
な半導体装置、及び、半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor device and a semiconductor memory device suitable for application to a DRAM or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAM等の半導体記憶装置は、その記
憶容量の拡大が絶え間なく続いており、近年では256
Mbit容量のDRAMが出現している。256MbitのD
RAMでは、例えば入出力ビット幅としてx32構成の
ものがある。本明細書では、このような、256Mbit
容量で且つ入出力ビット幅がx32のDRAMを256
M、x32のDRAMと略称する。また、メモリセルの
記憶内容が入出力されるデータ入出力線、データ入出力
ピン及びデータ入出力端子を夫々、I/O線、I/Oピ
ン及びI/O端子と呼ぶ。
2. Description of the Related Art In semiconductor memory devices such as DRAMs, their storage capacities are continuously expanding, and in recent years, 256
DRAM with Mbit capacity has appeared. 256Mbit D
Some RAMs have, for example, an input / output bit width of x32. In this specification, such 256 Mbit
256 DRAM with capacity and input / output bit width of x32
It is abbreviated as M or x32 DRAM. The data input / output line, the data input / output pin, and the data input / output terminal for inputting / outputting the stored contents of the memory cell are referred to as an I / O line, an I / O pin, and an I / O terminal, respectively.

【0003】図16は、従来の256M、x32のDR
AMチップにおける入出力端子の配置を模式的に示す平
面図である。DRAMチップ10には、32個のI/O
ピン、及び、所定数のアドレスピン(ADD)、クロックピ
ン(CLK)、及び、複数の制御ピン(CTL)を含む信号ピン1
6が配置される。32個のI/Oピンは、I/O0〜I
/O7,I/O8〜I/O15,I/O16〜I/O2
3,及び、I/O24〜31と4カ所に分けて配置され
ている。なお、図面上でピン数は減らして示してある。
FIG. 16 shows a conventional 256M, x32 DR.
FIG. 6 is a plan view schematically showing the arrangement of input / output terminals in the AM chip. The DRAM chip 10 has 32 I / O
Pin and signal pin 1 including a certain number of address pins (ADD), clock pins (CLK), and multiple control pins (CTL)
6 is arranged. 32 I / O pins are I / O0-I
/ O7, I / O8 to I / O15, I / O16 to I / O2
3 and I / Os 24 to 31 are arranged in four places. The number of pins is reduced in the drawing.

【0004】図17は、上記DRAMチップ10をパッ
ケージ基板上に搭載したパッケージ20の状態で示す模
式的平面図である。DRAMチップ10のI/Oピンを
含む各信号ピン16はパッケージ基板の対応する内部電
極にボンディングされている。これら内部電極は、BG
Aとして配置される外部電極(バンプ)21と1対1に
対応しており、各内部電極と対応する外部電極21とは
パッケージ基板内部の配線パターン22によって接続さ
れている。
FIG. 17 is a schematic plan view showing a package 20 in which the DRAM chip 10 is mounted on a package substrate. Each signal pin 16 including the I / O pin of the DRAM chip 10 is bonded to the corresponding internal electrode of the package substrate. These internal electrodes are BG
There is a one-to-one correspondence with the external electrodes (bumps) 21 arranged as A, and each internal electrode and the corresponding external electrode 21 are connected by a wiring pattern 22 inside the package substrate.

【0005】一般に、メモリセルへのアクセスでは、ア
ドレスピンADDからアドレス信号が入力され、アドレス
バスによって伝達されるアドレス信号によって、特定の
メモリセルが指定される。指定されたメモリセルのデー
タが、I/Oバス及びI/Oピンを経由して外部に伝達
され、又は、外部から伝達されることで、読出し又は書
込みが行われる。
Generally, in accessing a memory cell, an address signal is input from an address pin ADD, and a specific memory cell is designated by the address signal transmitted by an address bus. The data of the designated memory cell is transmitted to the outside via the I / O bus and the I / O pin, or is transmitted from the outside to perform reading or writing.

【0006】DRAMにおける信号伝達経路の長さ、及
び、それに伴う信号伝達時間は、DRAMチップ10の
内部におけるメモリセルの配置に依存している。この場
合、DRAM全体としての動作速度は、アドレスピンや
I/Oピンから離れた位置に存在するために信号伝達時
間が最も大きい遠端メモリセルの信号伝達時間によって
制限される。この信号伝達時間は、DRAMの記憶容量
の増大に伴って大きくなり、DRAMの高速化に制約を
与える。
The length of the signal transmission path in the DRAM and the accompanying signal transmission time depend on the arrangement of the memory cells inside the DRAM chip 10. In this case, the operation speed of the DRAM as a whole is limited by the signal transfer time of the far-end memory cell, which has the longest signal transfer time because it exists at a position distant from the address pins and I / O pins. This signal transmission time increases as the storage capacity of the DRAM increases, which imposes restrictions on the speedup of the DRAM.

【0007】DRAMの記憶容量の大容量化に伴い、D
RAMチップ内部の信号伝達時間が長くなるにも拘わら
ず、CPUの高速化に伴ってDRAMの更なる高速化が
求められる。このため、DRAMの高速化について種々
の提案が成されている。
With the increase in storage capacity of DRAM, D
Although the signal transmission time inside the RAM chip becomes long, the further speeding up of the DRAM is required along with the speeding up of the CPU. Therefore, various proposals have been made for speeding up the DRAM.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】特開平7−45795
号公報には、大容量DRAM内部のメモリセルアレイを
長辺方向及び短辺方向に夫々2分割し、合計4つのマッ
ト(サブアレイ)に分割したDRAMが記載されてい
る。1書込みサイクル又は1読出しサイクルで、4つの
サブアレイ内で夫々アクセスされる各4つのメモリセル
のデータを合わせることで、入出力ビット幅であるx1
6に対応するデータが入出力される。
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-45795
The publication describes a DRAM in which a memory cell array inside a large-capacity DRAM is divided into two parts in the long side direction and the short side direction, respectively, and a total of four mats (sub-arrays) are divided. In one write cycle or one read cycle, the data of each of the four memory cells accessed in each of the four sub-arrays is combined to obtain the input / output bit width x1.
Data corresponding to 6 is input / output.

【0009】上記公報に記載のDRAMでは、メモリセ
ルアレイを4つのサブアレイに分割し、メモリセルアレ
イにおけるビット線及びデータ線の長さを短縮して配線
の負荷容量を低減することで、DRAMの高速化を図る
と共に、各サブアレイに対応する4つのI/Oピンをそ
のサブアレイに隣接して配置することで、書込み及び読
出しデータの信号伝達時間を短縮し、高速化を図ってい
る。
In the DRAM described in the above publication, the memory cell array is divided into four sub-arrays, and the bit lines and data lines in the memory cell array are shortened to reduce the load capacitance of the wiring, thereby increasing the speed of the DRAM. In addition, by arranging four I / O pins corresponding to each sub-array adjacent to the sub-array, the signal transmission time of write and read data is shortened and the speed is increased.

【0010】しかし、上記公報記載のDRAMでは、各
サブアレイ領域からチップのデータ入出力ピンに至るま
での配線の遅延の縮小が不十分であるという問題があ
る。また、サブアレイ領域に共通な配線の配置について
制約が大きいという問題がある。
However, the DRAM described in the above publication has a problem that the delay of the wiring from each sub-array area to the data input / output pin of the chip is not sufficiently reduced. In addition, there is a problem in that there are large restrictions on the layout of wirings common to the sub-array regions.

【0011】本発明は、上記に鑑み、DRAM等の半導
体装置に好適であり、高速作動が可能な半導体装置であ
って、分割で得られたサブチップ領域とデータ入出力ピ
ンとの間の配線の遅延を小さくでき、また、サブチップ
領域に共通な配線の配置の制約が小さくチップ領域の分
割が可能な半導体装置を提供することを目的とする。
In view of the above, the present invention is a semiconductor device suitable for a semiconductor device such as a DRAM and capable of high-speed operation, and delays the wiring between the sub chip area obtained by division and the data input / output pin. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which the chip area can be divided and the restriction on the layout of the wiring common to the sub-chip area is small.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体装置は、夫々が複数のデータ(信
号)入出力ピンを有する複数のサブチップ領域を有する
半導体チップと、前記半導体チップを搭載するパッケー
ジ基板であって、複数の外部電極と、該外部電極と前記
データ入出力ピンとを接続する配線と、前記データ入出
力ピンを共通に接続する配線とを有するパッケージ基板
とを備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention includes a semiconductor chip having a plurality of sub-chip regions each having a plurality of data (signal) input / output pins, and the semiconductor chip. And a package substrate having a plurality of external electrodes, a wiring connecting the external electrodes and the data input / output pins, and a wiring connecting the data input / output pins in common. Is characterized by.

【0013】本発明の半導体装置では、チップ領域を複
数のサブチップ領域に分割し、それらのサブチップ領域
のデータ入出力ピンを相互に接続する配線、及び、サブ
チップ領域のデータ入出力ピンと外部電極とを接続する
配線をパッケージ基板に備える構成を採用する。チップ
内を各サブチップ領域に分割し、そのサブチップ領域内
にデータ入出力ピンを配置することで、各サブチップ領
域内の信号伝達時間、及び、各サブチップ領域とデータ
入出力ピンとの間の信号伝達時間が短縮される。サブチ
ップ領域に共通な配線はパッケージ基板の配線で行うこ
とにより、配線の配置の制約が小さくなる。ここで、各
サブチップ領域間等を配線するパッケージ基板の配線は
長くなるが、これらパッケージ配線はチップ内配線パタ
ーンに比してその太さが大きくでき、信号伝達時間の増
大を抑えることが出来る。
In the semiconductor device of the present invention, the chip area is divided into a plurality of sub-chip areas, and the wiring for connecting the data input / output pins of these sub-chip areas to each other and the data input / output pins of the sub-chip area and the external electrodes are formed. A structure is used in which the wiring to be connected is provided on the package substrate. By dividing the chip into each sub-chip area and arranging the data input / output pins in that sub-chip area, the signal transmission time in each sub-chip area and the signal transmission time between each sub-chip area and the data input / output pin Is shortened. The wiring common to the sub-chip area is the wiring of the package substrate, which reduces the restrictions on the wiring arrangement. Here, the wiring of the package substrate for wiring between the sub-chip regions and the like becomes long, but the thickness of these package wirings can be made larger than the wiring pattern in the chip, and the increase in signal transmission time can be suppressed.

【0014】本発明の半導体装置では、上記のように、
パッケージ配線における信号伝達時間の増大を抑え、サ
ブチップ領域内及びサブチップ領域とデータ入出力ピン
との間における信号伝達時間の短縮によって、全体とし
て半導体装置の高速化を可能とする。パッケージ基板
は、典型的には多層配線基板として構成され、例えば2
層構造の絶縁層の層間に配線パターンが形成される。な
お、本発明のパッケージ基板の配線は、これに限定はさ
れず、チップ外部に配置されるものであればよく、例え
ばボンディングワイヤでもよい。
In the semiconductor device of the present invention, as described above,
By suppressing an increase in signal transmission time in the package wiring and shortening a signal transmission time in the sub chip area and between the sub chip area and the data input / output pin, it is possible to speed up the semiconductor device as a whole. The package board is typically configured as a multilayer wiring board, for example, 2
A wiring pattern is formed between layers of the insulating layer having a layered structure. The wiring of the package substrate of the present invention is not limited to this and may be any wiring arranged outside the chip, and may be a bonding wire, for example.

【0015】本発明の好ましい態様の半導体装置では、
前記複数のサブチップ領域が実質的に同じ回路構成を有
する。半導体チップが、そのような繰返し回路構造を有
することにより、サブチップ領域への分割が容易に行わ
れる。
According to a preferred embodiment of the semiconductor device of the present invention,
The plurality of sub-chip areas have substantially the same circuit configuration. Since the semiconductor chip has such a repetitive circuit structure, division into sub chip regions can be easily performed.

【0016】また、半導体チップは、前記複数のサブチ
ップ領域に共通に使用される回路を有する共通領域を更
に有することが好ましい。共通領域と外部電極との間の
配線、共通領域と各サブチップ領域との間の配線を、出
来る限りチップ内配線とすることで、半導体装置の高速
化が可能となる。共通回路領域に形成される回路として
は、例えばクロック回路が挙げられる。
It is preferable that the semiconductor chip further has a common region having a circuit commonly used for the plurality of sub-chip regions. By making the wiring between the common region and the external electrode and the wiring between the common region and each sub-chip region as in-chip wiring as possible, the speed of the semiconductor device can be increased. As a circuit formed in the common circuit area, for example, a clock circuit can be given.

【0017】本発明の半導体装置は、DRAM、SDR
AM等の半導体メモリに適用することによって、その効
果が最も大きく発揮される。しかし、本発明の半導体装
置は、必ずしも半導体メモリのみに限定されず、半導体
メモリ部分を含んだシステムLSI、更には、一般のゲ
ートアレイ等の各種の半導体装置に適用できる。
The semiconductor device of the present invention is a DRAM or SDR.
By applying it to a semiconductor memory such as AM, the effect is maximized. However, the semiconductor device of the present invention is not necessarily limited to a semiconductor memory, and can be applied to a system LSI including a semiconductor memory portion, and various semiconductor devices such as a general gate array.

【0018】本発明の半導体装置を半導体メモリに適用
する場合には、チップ内のサブチップ領域には、制御
系、アドレス系回路、パッド、及び、I/Oの一部(例
えば、32本のI/O線のうち、8本のI/O線など)
を配置し、チップ内の共通領域には、クロック系回路等
を配置することが好ましい。
When the semiconductor device of the present invention is applied to a semiconductor memory, a control system, an address system circuit, a pad, and a part of I / O (for example, 32 I's) are provided in a sub-chip area in a chip. Of the / O lines, 8 I / O lines, etc.)
Is preferably provided, and a clock circuit or the like is preferably provided in a common area in the chip.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態例の
半導体装置を構成するSDRAMのチップ構成を示す。
チップ10の全体は、4つのサブチップ領域11と、1
つの共通領域12とに区分される。各サブチップ領域1
1には、その両側部分に多数のメモリセルをアレイ状に
配置したメモリ領域13が配置され、また、それらに挟
まれた中央部分に、I/OピンI/O0〜I/O31や、アドレ
スピンADD、制御ピンCTLを含む信号ピン16を配置した
間接領域14が配設される。共通領域12には、クロッ
クピンCLK及びこれに接続されるクロック回路が配置さ
れる。各サブチップ領域11及び共通領域12は、1つ
のチップを構成しており、回路上は夫々独立し、且つ、
構造上及び外観上は1つにまとまっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a chip structure of an SDRAM constituting a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
The entire chip 10 has four sub-chip areas 11 and 1
It is divided into two common areas 12. Each sub-chip area 1
1, a memory area 13 in which a large number of memory cells are arranged in an array on both sides thereof is arranged, and I / O pins I / O0 to I / O31 and addresses are arranged in the central portion sandwiched between them. An indirect region 14 in which a signal pin 16 including a pin ADD and a control pin CTL is arranged is arranged. In the common area 12, the clock pin CLK and the clock circuit connected thereto are arranged. Each sub-chip area 11 and the common area 12 constitute one chip, are independent on the circuit, and
It is integrated in structure and appearance.

【0020】図2は、上記SDRAMチップ10をパッ
ケージ基板上に搭載したパッケージ20における回路構
成を示している。このSDRAMは、256M、x32
の構成を有し、パッケージ20の内部端子である32個
のI/O端子I/O0〜I/O31を、夫々が8つのI/O端子
21から成る4つのグループにグループ化し、このグル
ープ化に対応して、チップ10のメモリセルアレイを、
4つのサブチップ領域11に分割している。各サブチッ
プ領域11は、64M、x8構成のSDRAMアレイか
ら成る。
FIG. 2 shows a circuit configuration of a package 20 in which the SDRAM chip 10 is mounted on a package substrate. This SDRAM is 256M, x32
32 I / O terminals I / O0 to I / O31, which are internal terminals of the package 20, are grouped into four groups each of which has eight I / O terminals 21, and this grouping is performed. Corresponding to, the memory cell array of the chip 10,
It is divided into four sub-chip regions 11. Each sub-chip area 11 is composed of an SDRAM array of 64M × 8 structure.

【0021】パッケージ20の外部端子21を成す各I
/O端子は、サブチップ領域11毎に独立であり、パッ
ケージ20のグループ化された内部端子を経由し、パッ
ケージ内配線22によって対応するサブチップ領域11
のI/Oピンに接続される。また、アドレス及び制御信
号は、パッケージ20の外部端子21から、パッケージ
内配線22で4つに分割されて、それぞれのサブチップ
領域11に供給されている。各サブアレイ領域11に供
給される内部クロックは、チップ内部を通るチップ内ク
ロック配線15によって伝達される。
Each I forming the external terminal 21 of the package 20
The / O terminal is independent for each sub-chip area 11 and passes through the grouped internal terminals of the package 20 and the corresponding sub-chip area 11 by the in-package wiring 22.
I / O pin of Further, the address and control signals are divided from the external terminal 21 of the package 20 by the in-package wiring 22 into four and supplied to the respective sub-chip regions 11. The internal clock supplied to each sub-array region 11 is transmitted by the in-chip clock wiring 15 passing inside the chip.

【0022】図3は図2のパッケージ20を模式的に示
す平面図である。パッケージ20の外部電極21は、例
えばBGA(Ball Grid Array)として構成される。外部
電極21は、半田又はそれに類した金属ボールで構成さ
れるバンプであり、図面上ではその数を省略して示し
た。なお、電源端子なども省略して示した。図3に示す
ように、I/O端子I/O0〜I/O31は、対応する各サブチ
ップ領域11に接続され、アドレス端子ADD及び制御端
子CTLは、4つのサブチップ領域11に共通に接続され
ている。クロック端子CLKは、共通領域12に配置さ
れ、共通領域内12に配設されたチップに共通なクロッ
ク同期回路に接続される。
FIG. 3 is a plan view schematically showing the package 20 of FIG. The external electrode 21 of the package 20 is configured as, for example, a BGA (Ball Grid Array). The external electrodes 21 are bumps composed of solder or a metal ball similar thereto, and the number thereof is omitted in the drawing. The power supply terminal and the like are omitted. As shown in FIG. 3, the I / O terminals I / O0 to I / O31 are connected to the corresponding sub-chip areas 11, and the address terminals ADD and the control terminals CTL are commonly connected to the four sub-chip areas 11. There is. The clock terminal CLK is arranged in the common area 12 and is connected to a clock synchronization circuit common to the chips arranged in the common area 12.

【0023】本実施形態例のSDRAMは、パッケージ
のピン配置等の外観は、図16に示した従来のDRAM
(SDRAM)と同様であり、また、パッケージに組み
込んだ後は、従来のDRAMと同等に使用することが可
能である。
The SDRAM of this embodiment is the same as the conventional DRAM shown in FIG.
It is similar to (SDRAM), and can be used in the same way as a conventional DRAM after being incorporated in a package.

【0024】上記実施形態例のSDRAMでは、チップ
10では、アドレス信号の入力からデータの入出力まで
の信号伝達経路が短くなるため、チップ内の配線遅延が
小さくなる。図4は、このアクセスにおける信号伝達経
路を示している。同図の例では、サブチップ領域11の
間接領域14の中心位置に配置されたアドレスピンか
ら、サブチップ領域11の遠端のメモリセルにアクセス
する場合を示している。
In the SDRAM of the above-described embodiment, the chip 10 has a short signal transmission path from the input of the address signal to the input / output of the data, so that the wiring delay in the chip is reduced. FIG. 4 shows a signal transmission path in this access. In the example of the figure, a case is shown where a memory cell at the far end of the sub-chip area 11 is accessed from an address pin arranged at the central position of the indirect area 14 of the sub-chip area 11.

【0025】ここで、従来のSDRAMのチップサイズ
が10 x 6mm2であったとし、上記実施形態例のSDRA
Mでは、間接領域14等の配置に幾らかの無駄が発生
し、その長くなった幅が夫々1mmと考え、11 x 8mm2
になったと仮定する。この場合、本実施形態例のSDR
AMでは、サブチップ領域11のサイズは5 x 4mm2であ
るから、サブチップ領域11の中央から遠端まで信号が
往復した場合の配線長は(5/2 + 4/2) x 2 = 9mmとな
る。この長さの信号配線を信号伝搬方向に例えば10の
配線に等分して駆動すると、1段あたりの遅延は、配線の
抵抗が200Ω/mm、容量が0.2pF/mmとして、τ1=RC=200x0.
9 x 0.2E-12x0.9=0.03nsであり、全体でτall=0.03ns x
10=0.3nsとなる。
Here, assuming that the conventional SDRAM has a chip size of 10 × 6 mm 2 , the SDRA of the above-described embodiment is used.
In M, some waste was generated in the placement of the indirect region 14 and the like, and the extended width was considered to be 1 mm each, and 11 x 8 mm 2
Suppose that In this case, the SDR of the present embodiment example
In AM, since the size of the sub-chip area 11 is 5 x 4 mm 2 , the wiring length when the signal makes a round trip from the center to the far end of the sub-chip area 11 is (5/2 + 4/2) x 2 = 9 mm. . When the signal wiring of this length is driven equally in the signal propagation direction into, for example, 10 wirings, the delay per stage is τ1 = RC = when the wiring resistance is 200Ω / mm and the capacitance is 0.2pF / mm. 200x0.
9 x 0.2E-12x0.9 = 0.03ns, τall = 0.03ns x
10 = 0.3ns.

【0026】一方、従来のSDRAMチップで同様な配
線遅延を求める際には、その信号経路は図5に示すよう
になり、配線長は16mmとなる。上記実施形態例の場
合と同様に、この配線長を信号伝搬方向に10等分する
と、1段あたりの遅延はτ1=0.09ns、τall=0.9nsとな
り、本発明のほうが約0.6ns高速化する。実際に
は、配線遅延は時定数よりも幾らか小さくなる傾向にあ
り、0.6nsの高速化は困難で、0.6τ(0.36
ns)程度の高速化であると考えられる。本実施形態例
では、更に以下に述べるような高速化も得られる。
On the other hand, when the similar wiring delay is obtained in the conventional SDRAM chip, the signal path is as shown in FIG. 5, and the wiring length is 16 mm. Similar to the case of the above embodiment, if this wiring length is divided into 10 equal parts in the signal propagation direction, the delay per stage becomes τ1 = 0.09 ns, τall = 0.9 ns, and the present invention speeds up by about 0.6 ns. To do. In reality, the wiring delay tends to be slightly smaller than the time constant, and it is difficult to increase the speed by 0.6 ns.
It is considered that the speed is about ns). In the present embodiment example, further speedup as described below can be obtained.

【0027】一般に、信号配線を駆動するには、その負
荷容量に応じた大きさのドライバで信号配線を駆動する
ことから、SDRAM内部の信号配線の負荷容量が大き
い場合には、ドライバの段数を増やす必要がある。図6
(a)は、信号配線35の負荷容量が大きい場合のドラ
イバ回路30の構成を模式的に例示する。ドライバ回路
30は、信号発生回路34の出力側から順に、小駆動容
量ドライバ31、中駆動容量ドライバ32及び大駆動容
量ドライバ33の3段構成となる。段数低減のために中
駆動容量ドライバ32を除き、小駆動容量ドライバ31
で大駆動容量ドライバ33を駆動しようとしても(図6
(b))、その部分で信号遅延が大きくなり、結果とし
て信号伝播に要する時間が却って増大する。本実施形態
例では、I/O線を含む信号配線35の負荷容量を小さ
くしたために、小駆動容量ドライバ31及び中駆動容量
ドライバ32の2段構成のドライバ回路30で駆動可能
となる(図6(c))。このため、ドライバ1段分の遅
延に対応する信号高速化が可能である。
Generally, in order to drive the signal wiring, the signal wiring is driven by a driver having a size corresponding to the load capacitance. Therefore, when the signal wiring inside the SDRAM has a large load capacitance, the number of stages of the driver is changed. Need to increase. Figure 6
9A schematically illustrates the configuration of the driver circuit 30 when the load capacitance of the signal wiring 35 is large. The driver circuit 30 has a three-stage configuration including a small drive capacity driver 31, a medium drive capacity driver 32, and a large drive capacity driver 33 in order from the output side of the signal generation circuit 34. In order to reduce the number of stages, the medium driving capacity driver 32 is excluded, and the small driving capacity driver 31
Even if an attempt is made to drive the large drive capacity driver 33 with (
(B)), the signal delay becomes large at that portion, and as a result, the time required for signal propagation rather increases. In the present embodiment, since the load capacitance of the signal wiring 35 including the I / O line is reduced, it can be driven by the driver circuit 30 having a two-stage configuration of the small driving capacitance driver 31 and the medium driving capacitance driver 32 (FIG. 6). (C)). Therefore, it is possible to speed up the signal corresponding to the delay of one driver.

【0028】また、回路の構成によってドライバ回路の
数量は異なるが、例えば、信号入力から信号出力までの
間にドライバ回路相当の駆動回路が10ヶ所あり、且
つ、ドライバ1段あたりに0.2nsの遅延を要すると
仮定すると、上記実施形態例によると、0.2ns x 10段=2
nsの高速化が実現できる。実際には、信号発生回路の内
部で或る程度の駆動能力を確保するように設計するた
め、単純に段数の増加にはならないことが多く、また段
数増により駆動能力が増加して逆に高速化する場合もあ
るため、2nsまでの高速化は期待できないが、一定の高
速化は期待できる。
Although the number of driver circuits varies depending on the circuit configuration, for example, there are 10 drive circuits corresponding to the driver circuits between the signal input and the signal output, and 0.2 ns per driver stage. Assuming that a delay is required, according to the above embodiment example, 0.2 ns x 10 stages = 2
ns can be speeded up. In practice, the signal generation circuit is designed to secure a certain level of driving capability, so the number of stages does not often simply increase. In addition, increasing the number of stages increases the driving capability and, conversely, increases the speed. In some cases, the speed up to 2ns cannot be expected, but a certain speed can be expected.

【0029】更に、上記実施形態例のSDRAMでは、
各サブチップ領域11の回路規模が小さくなるため、デ
コーダ回路の回路規模が少なくなるという効果も得られ
る。図7(a)及び(b)は夫々、従来及び上記実施形
態例におけるデコーダ回路の構成を例示する。従来は、
ワードドライバ回路40で8本のワード線41を駆動す
る構成であったと仮定すると、この場合、デコーダ回路
42の入力線44を駆動するドライバ43は、4つのデ
コーダ回路42を駆動する必要がある。これに対し、本
実施形態例では、サブチップ領域11の回路規模が小さ
いため、ワードドライバ回路40が駆動すべきワード線
41が4本に減少し、これに伴い、ドライバ43が駆動
すべきデコーダ回路42が2つに半減する。実際にはワ
ード線41はもっと数が多く、例えば512本もあるの
で、駆動すべきデコーダ回路42の数が大幅に減少する
ため、大幅な高速化が図られる。
Further, in the SDRAM of the above embodiment,
Since the circuit scale of each sub-chip area 11 is reduced, the circuit scale of the decoder circuit is also reduced. 7 (a) and 7 (b) respectively illustrate configurations of a decoder circuit in the related art and the above-described embodiment. conventionally,
Assuming that the word driver circuit 40 drives eight word lines 41, in this case, the driver 43 driving the input line 44 of the decoder circuit 42 needs to drive four decoder circuits 42. On the other hand, in the present embodiment, since the circuit scale of the sub chip area 11 is small, the number of word lines 41 to be driven by the word driver circuit 40 is reduced to four, and along with this, the decoder circuit to be driven by the driver 43. 42 is halved to two. In reality, since the number of word lines 41 is larger, for example, 512 lines are provided, the number of decoder circuits 42 to be driven is greatly reduced, and thus a large speedup is achieved.

【0030】ところで、従来はチップ内部で行った信号
配線の一部を、パッケージ20のパッケージ配線22で
行う結果として、その信号配線が長くなる。ここで、I
/OピンI/O0〜I/O31はサブチップ領域11毎に存在す
るため、パッケージの外部I/O端子21を各サブチッ
プ領域11の直近に配置することで、I/O配線の長さ
の増加は或る程度抑制できる。しかし、アドレス線や制
御信号線などの信号配線は、その信号を4箇所に分配す
る必要があるために、必然的に配線長が増加する。この
増加する配線長は、パッケージ配線22のパターンに依
存して決まることから、単純に計算で求めることは出来
ないが、図8に例示したモデルによって比較する。同図
(a)は従来のSDRAMの配線を、同図(b)は本実
施形態例のSDRAMの配線を夫々模擬したシミュレー
ション回路50である。比較結果の信号遅延を図9に示
した。
By the way, as a result of performing part of the signal wiring conventionally performed inside the chip by the package wiring 22 of the package 20, the signal wiring becomes long. Where I
Since the / O pins I / O0 to I / O31 exist in each sub-chip area 11, the external I / O terminal 21 of the package is arranged in the immediate vicinity of each sub-chip area 11 to increase the length of the I / O wiring. Can be suppressed to some extent. However, in the signal lines such as the address lines and the control signal lines, the signals have to be distributed to four places, so that the line length inevitably increases. The increasing wiring length is determined depending on the pattern of the package wiring 22, and therefore cannot be simply calculated, but the model illustrated in FIG. 8 is used for comparison. FIG. 1A is a simulation circuit 50 simulating the wiring of a conventional SDRAM, and FIG. 1B is a simulation circuit 50 simulating the wiring of the SDRAM of the present embodiment. The signal delay resulting from the comparison is shown in FIG.

【0031】図8のシミュレーション回路50のモデル
は、CPU51に1:1で接続する外付けキャシュメモ
リとしてDRAM53を想定したものである。CPU5
1は、従来及び本実施形態例のSDRAMに対して全く
同じの、7nH,60mΩ,1.1pFのパッケージモデルを用い
た。CPU51のドライバは、理想電源で代用した。C
PU51からの基板52内の配線は、特性インピーダン
スが50Ωで3cm程度の配線(遅延量が0.2ns)を想定し
た。この配線端には、SDRAM53と終端抵抗とが接
続するとものと想定し、終端抵抗は50Ω、終端電圧は
1.4Vを仮定した。SDRAM53は、従来のSDR
AMでは、1.7nH, 20mΩ, 0.4pFのモデルを使用し、本
実施形態例では、各定数が夫々2.5倍となったモデル
を仮定した。また、DRAMチップの入力容量は1pF
とした。ピン容量は、従来のSDRAMでは、パッケー
ジの0.4pFと足して1.4pFであり、本実施形態例では、1x4+
0.4x2.5=5pFである。
The model of the simulation circuit 50 in FIG. 8 assumes a DRAM 53 as an external cache memory connected to the CPU 51 at a ratio of 1: 1. CPU5
In No. 1, the same package model of 7 nH, 60 mΩ, and 1.1 pF was used for the SDRAMs of the conventional and the present embodiment. The driver of the CPU 51 was replaced with an ideal power supply. C
The wiring in the substrate 52 from the PU 51 is assumed to be a wiring having a characteristic impedance of 50Ω and a length of about 3 cm (a delay amount of 0.2 ns). It is assumed that the SDRAM 53 and the terminating resistor are connected to this wiring end, and the terminating resistor is 50Ω and the terminating voltage is 1.4V. The SDRAM 53 is a conventional SDR.
In AM, a model of 1.7 nH, 20 mΩ, and 0.4 pF was used, and in this embodiment, a model in which each constant is 2.5 times is assumed. The input capacitance of the DRAM chip is 1 pF
And In the conventional SDRAM, the pin capacitance is 1.4 pF, which is 0.4 pF of the package, and in the present embodiment, it is 1x4 +.
0.4x2.5 = 5pF.

【0032】DRAMチップ53の内部のモデルは、各
配線毎に接続する負荷容量が異なり、また回路型式を同
じにしても、チップサイズが異なるとゲートサイズが異
なるため、実際のチップに即したモデルを作成すること
が困難である。このため、インバータを複数個並べたド
ライバ(インバータ回路)間を配線でつなぐモデルとし
た。実施形態例では、各ドライバのインバータの段数を
2とし、従来では各ドライバのインバータの段数を3と
した。これは、従来構成では、2段では有効に駆動でき
なかったことを考慮したものである。その他に仮定した
配線長は図8に示した。なお、このモデルでは、デコー
ダ数の減少による効果は模擬していないので、実際はこ
の結果よりも改善効果が大きいと予想される。
The internal model of the DRAM chip 53 has a different load capacity to be connected to each wiring, and even if the circuit type is the same, the gate size is different when the chip size is different. Is difficult to create. For this reason, a model is used in which drivers (inverter circuits) in which a plurality of inverters are arranged are connected by wiring. In the embodiment, the number of inverter stages of each driver is two, and in the past, the number of inverter stages of each driver is three. This is because the conventional configuration cannot effectively drive the two stages. Other assumed wiring lengths are shown in FIG. In this model, the effect due to the reduction in the number of decoders is not simulated, so it is expected that the improvement effect is actually larger than this result.

【0033】シミュレーション結果によると、本実施形
態例のモデルでは、パッケージ部で従来に比して0.2
nsの遅延が認められる。しかし、チップ内部で0.6
nsの高速化が得られ、全体として0.4nsの高速化
が実現できている。
According to the simulation result, in the model of the present embodiment, the package portion is 0.2 compared with the conventional one.
A delay of ns is observed. But inside the chip 0.6
A high speed of ns is obtained, and a high speed of 0.4 ns is realized as a whole.

【0034】図10及び図11に、SDRAMの形式に
よって異なる本発明の効果についての考察を示す。SD
RAMでは、読出しデータをクロック信号によってラッ
チする形式とラッチしない形式とがある。現在主として
用いられているSDRAMは、読出しデータをラッチす
る型式である。ラッチしない型式であれば、上述のモデ
ルに従って、パッケージ遅延は大きいが、内部遅延の減
少によって出力の高速化が可能である。この高速化を、
従来の遅延を図10(a)に示し、本実施形態例の遅延
を図10(b)に示すことで表した。
FIG. 10 and FIG. 11 show the consideration of the effect of the present invention which differs depending on the type of SDRAM. SD
In the RAM, there are a form in which read data is latched by a clock signal and a form in which it is not latched. The SDRAM mainly used at present is a type that latches read data. In the non-latching type, the package delay is large according to the above model, but the output can be speeded up by reducing the internal delay. This speedup
The conventional delay is shown in FIG. 10 (a), and the delay of this embodiment example is shown in FIG. 10 (b).

【0035】出力をラッチする型式のSDRAMの場合
には、チップをサブチップ領域に分割する構成を採用す
ることにより、出力クロックにパッケージ遅延がある
と、データが出力クロックを待たなくてはならないた
め、クロックから出力までの遅延はかえって従来装置よ
り遅くなることがある。この様子を、図11(a)に従
来装置の遅延を、同図(b)に出力クロックが遅れた場
合の遅延を示すことで表した。本実施形態例では、共通
領域に配置したクロック同期回路を使用して、適切なタ
イミングで出力を制御するクロックを生成し、クロック
の遅延に起因するこのような遅延を除いている。こうす
ることで、出力をラッチする型式の場合にも出力クロッ
クに遅延が生じず、全体としての高速化が可能である
(同図(c))。
In the case of the SDRAM of the type that latches the output, by adopting the structure in which the chip is divided into the sub-chip areas, if the output clock has a package delay, the data must wait for the output clock. The delay from the clock to the output may be slower than the conventional device. This situation is shown in FIG. 11A showing the delay of the conventional device, and FIG. 11B showing the delay when the output clock is delayed. In this embodiment, a clock synchronizing circuit arranged in the common area is used to generate a clock for controlling the output at an appropriate timing, and such a delay due to the clock delay is removed. By doing so, even in the case of the type in which the output is latched, the output clock is not delayed, and the speedup as a whole is possible ((c) in the figure).

【0036】本実施形態例では、上記構成に加えて、図
12に示すように、クロック用の入力バッファをサブチ
ップ領域毎に設けている。クロック回路60は、クロッ
クピン61から入力したクロック信号を、サブチップ領
域11に対応する4つのクロックバッファ62に入力
し、これらの出力を内部クロック信号線63(図2の1
59)によって各サブチップ領域11に供給している。
In the present embodiment, in addition to the above configuration, as shown in FIG. 12, a clock input buffer is provided for each sub-chip area. The clock circuit 60 inputs the clock signal input from the clock pin 61 to the four clock buffers 62 corresponding to the sub-chip area 11, and outputs these outputs to the internal clock signal line 63 (1 in FIG. 2).
59) supply to each sub-chip area 11.

【0037】本実施形態例では、共通領域12にクロッ
ク系回路を配置した例を示したが、クロック系回路のみ
でなく、電源関係の回路などチップ全体で共用する回路
は、共通領域12にレイアウトし、これらを接続する配
線はチップ内配線とすることが好ましい。また、サブチ
ップ領域への分割は、本実施形態例では4分割である
が、8分割でも2分割でもよく、パッケージの外部電極
の配置に制約されないで分割できる。また、分割形状も
特に問わない。例えば、図13に示すように、18本の
I/O線を有するDRAMでは、サブチップ領域のサイ
ズが相互に異なるように分割しても良い。
In this embodiment, a clock system circuit is arranged in the common area 12. However, not only the clock system circuit but also circuits related to the entire chip, such as circuits related to power supply, are laid out in the common area 12. However, it is preferable that the wiring connecting these be in-chip wiring. Further, the division into the sub-chip regions is four in the present embodiment, but may be divided into eight or two and can be performed without being restricted by the arrangement of the external electrodes of the package. Further, the divided shape is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 13, in a DRAM having 18 I / O lines, the sub chip areas may be divided so that the sizes thereof are different from each other.

【0038】図3に示した例では、パッケージ内部の配
線22が、単層でレイアウトされている。しかし、実際
に全ての信号ピン16を接続する場合に、単層でのレイ
アウトが困難なことが予想される。この場合には、図1
4に示すように、パッケージ配線22を複数層でレイア
ウトする。このように、複数層のパッケージ配線22を
利用することで、パッケージ20の外部電極21からチ
ップ10の信号ピン16迄の配線距離をある程度等距離
にし、サブチップ領域11毎に遅延を揃えることが出来
る。
In the example shown in FIG. 3, the wiring 22 inside the package is laid out in a single layer. However, when all the signal pins 16 are actually connected, it is expected that a single layer layout will be difficult. In this case,
As shown in FIG. 4, the package wiring 22 is laid out in a plurality of layers. In this way, by using the package wirings 22 of a plurality of layers, the wiring distances from the external electrodes 21 of the package 20 to the signal pins 16 of the chip 10 can be made equal to some extent, and the delays can be made uniform for each sub-chip area 11. .

【0039】図15に示すように、サブチップ領域11
の配置はクロック系回路を有する共通領域12を中心
に、図中に直線又は点線で示すように対称的に配置す
る。また、特にクロックからの要求が厳しい回路、例え
ばアドレス回路や制御系回路については、クロック回路
の側にレイアウトすることが好ましい。この場合、クロ
ックの分配を効率的に行うことができ、更なるチップの
高速化が可能となる。
As shown in FIG. 15, the sub-chip area 11
The arrangement is symmetrical with respect to the common area 12 having the clock system circuit as shown by a straight line or a dotted line in the figure. In addition, it is preferable to lay out a circuit that is particularly required by a clock, such as an address circuit or a control system circuit, on the clock circuit side. In this case, the clock can be distributed efficiently, and the speed of the chip can be further increased.

【0040】以上、本発明をその好適な実施形態例に基
づいて説明したが、本発明の半導体装置は、上記実施形
態例の構成にのみ限定されるものではなく、上記実施形
態例の構成から種々の修正及び変更を施したものも、本
発明の範囲に含まれる。
Although the present invention has been described based on its preferred embodiments, the semiconductor device of the present invention is not limited to the configurations of the above-described embodiments, but has the configurations of the above-described embodiments. Various modifications and changes are also included in the scope of the present invention.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の半導体
装置によると、チップ内部の領域を複数のサブチップ領
域に分割し、各サブチップ領域間の配線及び各サブチッ
プ領域と外部電極との間の配線をパッケージ配線によっ
て行う構成を採用したことにより、半導体装置高速化の
ためのチップ領域の分割に際して、サブチップ領域内、
及び、サブチップ領域と各データ入出力ピンとを接続す
る配線の遅延が縮小し、全体として半導体装置の高速化
が可能になるという効果を奏する。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, the area inside the chip is divided into a plurality of sub-chip areas, and the wiring between each sub-chip area and between each sub-chip area and the external electrode is divided. By adopting a configuration in which wiring is performed by package wiring, when dividing the chip area for speeding up the semiconductor device, in the sub-chip area,
Further, there is an effect that the delay of the wiring connecting the sub chip area and each data input / output pin is reduced, and the speed of the semiconductor device can be increased as a whole.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態例の半導体装置に係るSD
RAMのチップ構成を示すブロック図。
FIG. 1 is an SD according to a semiconductor device of an embodiment of the present invention.
The block diagram which shows the chip structure of RAM.

【図2】図1のSDRAMチップを搭載した、本発明の
実施形態例の半導体装置のパッケージ内の回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram in a package of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention in which the SDRAM chip of FIG. 1 is mounted.

【図3】図2のパッケージの配置を模式的に示す平面
図。
FIG. 3 is a plan view schematically showing the arrangement of the packages shown in FIG.

【図4】図1のSDRAMチップのアクセス時における
信号伝達を示す平面図。
FIG. 4 is a plan view showing signal transmission during access of the SDRAM chip of FIG.

【図5】従来のSDRAMチップのアクセス時における
信号伝達を示す平面図。
FIG. 5 is a plan view showing signal transmission when a conventional SDRAM chip is accessed.

【図6】配線を駆動するドライバ部の構成を比較して示
す回路図。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a comparison of configurations of driver units for driving wirings.

【図7】実施形態例と従来のSDRAMにおけるデコー
ダ回路の構成を比較して示す回路図。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a decoder circuit in the embodiment and a conventional SDRAM in comparison.

【図8】パッケージ内部の信号遅延をシミュレーション
する際に用いた回路図。
FIG. 8 is a circuit diagram used when simulating a signal delay inside a package.

【図9】実施形態例と従来のSDRAMにおける遅延を
シミュレーションした結果を示すグラフ。
FIG. 9 is a graph showing a result of simulating delay in the example embodiment and the conventional SDRAM.

【図10】クロックでラッチしない型式のSDRAMに
本発明を適用した際における信号遅延の従来との比較を
示すタイミングチャート。
FIG. 10 is a timing chart showing a comparison of signal delay with a conventional one when the present invention is applied to an SDRAM of a type that is not latched by a clock.

【図11】クロックでラッチする型式のSDRAMに本
発明を適用した際における信号遅延の従来との比較を示
すタイミングチャート。
FIG. 11 is a timing chart showing a comparison of signal delay with that of the prior art when the present invention is applied to an SDRAM of a clock latch type.

【図12】クロック回路の構成を示す回路図。FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a clock circuit.

【図13】本発明の別の実施形態例におけるサブチップ
領域の分割を示すチップの平面図。
FIG. 13 is a plan view of a chip showing division of a sub-chip area according to another embodiment of the present invention.

【図14】本発明の更に別の実施形態例の半導体装置に
おけるパッケージ配線を示す平面図。
FIG. 14 is a plan view showing package wiring in a semiconductor device according to still another embodiment of the present invention.

【図15】チップ領域の分割の好ましい例を示すチップ
の平面図。
FIG. 15 is a plan view of a chip showing a preferred example of division of the chip area.

【図16】従来の半導体装置におけるSDRAMのチッ
プを模式的に示す平面図。
FIG. 16 is a plan view schematically showing an SDRAM chip in a conventional semiconductor device.

【図17】従来の半導体装置のパッケージ内の配置を模
式的に示す平面図。
FIG. 17 is a plan view schematically showing the arrangement of a conventional semiconductor device in a package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:チップ 11:サブチップ領域 12:共通領域 13:メモリ領域 14:間接領域 15:クロック配線 16:信号ピン 20:パッケージ 21:パッケージの外部電極 22:パッケージ配線 30:ドライバ回路 31〜33:ドライバ 34:信号発生回路 35:配線負荷 40:ワードドライバ回路 41:ワード線 42:デコーダ回路 43:ドライバ 50:シミュレーション回路 51:CPU 52:パッケージ配線 53:DRAM 60:クロック回路 61:クロックピン 62:クロックバッファ 63:クロック信号線 70:sRAMチップ 71,72:サブチップ領域 10: Chip 11: Sub-chip area 12: Common area 13: Memory area 14: Indirect area 15: Clock wiring 16: Signal pin 20: Package 21: Package external electrode 22: Package wiring 30: Driver circuit 31-33: Driver 34: Signal generation circuit 35: Wiring load 40: Word driver circuit 41: Word line 42: Decoder circuit 43: Driver 50: Simulation circuit 51: CPU 52: Package wiring 53: DRAM 60: Clock circuit 61: Clock pin 62: Clock buffer 63: clock signal line 70: sRAM chip 71, 72: Sub-chip area

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 夫々が複数のデータ入出力ピンを有する
複数のサブチップ領域を有する半導体チップと、 前記半導体チップを搭載するパッケージ基板であって、
複数の外部電極と、該外部電極と前記データ入出力ピン
とを接続する配線と、前記データ入出力ピンを共通に接
続する配線とを有するパッケージ基板とを備えることを
特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor chip having a plurality of sub-chip regions each having a plurality of data input / output pins, and a package substrate on which the semiconductor chip is mounted,
A semiconductor device comprising: a package substrate having a plurality of external electrodes, a wiring connecting the external electrodes to the data input / output pins, and a wiring connecting the data input / output pins in common.
【請求項2】 前記複数のサブチップ領域が実質的に同
じ回路構成を有する、請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of sub-chip regions have substantially the same circuit configuration.
【請求項3】 前記半導体チップは、前記サブチップ領
域に共通に使用される回路が形成された共通領域を更に
有する、請求項1又は2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor chip further has a common region in which a circuit commonly used in the sub chip region is formed.
【請求項4】 前記共通領域にクロック回路が形成さ
れ、該クロック回路と前記各サブチップ領域とはチップ
内配線で接続される、請求項4に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 4, wherein a clock circuit is formed in the common area, and the clock circuit and each of the sub-chip areas are connected by an in-chip wiring.
【請求項5】 半導体メモリとして構成される、請求項
1〜4の何れかに記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, which is configured as a semiconductor memory.
【請求項6】 複数のデータ入出力ピンを含む信号ピ
ン、及び、複数のメモリセルがアレイ状に配列されたメ
モリセルアレイを有するメモリチップと、前記メモリチ
ップを搭載するパッケージ基板とを備える半導体記憶装
置において、 前記データ入出力ピンをグループ化し、該グループ化に
対応して前記メモリセルアレイを複数のサブアレイ領域
に区分し、 前記サブアレイ領域間の配線、及び、パッケージ基板の
外部電極と各サブアレイ領域との間の配線をパッケージ
基板に備えたパッケージ配線によって接続したことを特
徴とする半導体記憶装置。
6. A semiconductor memory including a memory chip having a signal pin including a plurality of data input / output pins, a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in an array, and a package substrate on which the memory chip is mounted. In the device, the data input / output pins are grouped, the memory cell array is divided into a plurality of sub-array regions corresponding to the grouping, wiring between the sub-array regions, and external electrodes of the package substrate and each sub-array region. A semiconductor memory device characterized in that the wiring between the two is connected by a package wiring provided on a package substrate.
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