JP2003222840A - Plastics substrate for display element and liquid crystal display device - Google Patents

Plastics substrate for display element and liquid crystal display device

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JP2003222840A
JP2003222840A JP2002020592A JP2002020592A JP2003222840A JP 2003222840 A JP2003222840 A JP 2003222840A JP 2002020592 A JP2002020592 A JP 2002020592A JP 2002020592 A JP2002020592 A JP 2002020592A JP 2003222840 A JP2003222840 A JP 2003222840A
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JP
Japan
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resin composition
display device
plastic substrate
display element
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002020592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Goto
英樹 後藤
Masahiro Ikeda
昌弘 池田
Hiroshi Tazawa
洋志 田澤
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plastics substrate for a display element, which is excellent in surface smoothness, has excellent characteristics as a plastics substrate for a display element such as a substrate for a liquid crystal display element and which is efficiently and continuously produced and to provide a liquid crystal display device using the same. <P>SOLUTION: The plastics substrate for the display element is characterized by being manufactured by laminating an ultraviolet curing resin composition predominantly composed of an acrylate monomer and a high molecular weight acrylate on a base film, closely bringing a smooth surface with the maximum value of the surface roughness (Rmax) satisfying an inequality Rmax≤0.1 μinto contact with the resin composition side of the laminate in a state in which the ultraviolet curing resin composition is softened, making ultraviolet rays irradiate the resultant composite, transferring the smooth surface thereto and molding the substrate and by having 80% or higher total light transmittance. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子用プラス
チック基板およびこれを用いた液晶表示装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plastic substrate for a display element and a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示素子用透明電極基板には
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、光学用高分子シートを用いて液晶表示素子
を作製することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討
されている。例えば、特開昭53−68099号公報及
び特開昭54−126559号公報には、ガラス基板の
代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエス
テルフィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造する
ことが示されているが、研磨により極めて良好な平滑性
が得られるガラス基板と異なり、高分子シートの場合に
は表面の平滑性に優れているとは言い難いものであっ
た。特に、高精細な表示を得るためにSTN(Super Tw
isted Nematic)型液晶表示素子とした場合には、間隔
を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利
用して表示を行うために前記の高分子シートの表面平滑
性が極めて重大になっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a glass substrate has been used as a transparent electrode substrate for a liquid crystal display element. However, in a liquid crystal display element using a glass substrate, the glass substrate itself is thick, so that the liquid crystal display element itself cannot be thinned. In addition to being difficult, it is difficult to reduce the weight, and there is a problem in impact resistance. As a method for improving the drawbacks of the glass substrate liquid crystal display element, reduction in weight and improvement in impact resistance have been studied by producing a liquid crystal display element using an optical polymer sheet. For example, in JP-A-53-68099 and JP-A-54-126559, liquid crystal display elements are continuously formed by using a long polyester film deposited with a conductive metal oxide substance instead of a glass substrate. Although it has been shown to be produced, unlike a glass substrate which can obtain extremely good smoothness by polishing, it is hard to say that the polymer sheet has excellent surface smoothness. In particular, STN (Super Tw
In the case of an isted Nematic) type liquid crystal display element, the surface smoothness of the polymer sheet is extremely high because the display is performed by utilizing the birefringence of the liquid crystal between the substrates, which is controlled in the unit of 0.1 μm. It's getting serious.

【0003】表面平滑性を解決する方法として、液状の
紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研
磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得
る方法が提案されている。しかし、本方法では、得られ
るシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問題
が起こっており、ガラス基板に対して高分子シートを用
いる優位性が十分発揮されていない。さらに、該方法は
生産性が低く、結果として基板が高価になってしまう。
また、表面を研磨した金属ロールやエンドレスベルトの
表面を連続的に転写する方法が提案されているが、金属
と紫外線硬化樹脂層の離型性が充分でなかったり、金属
との離型性が良好な紫外線硬化樹脂では、硬化後の耐熱
性が不足して液晶表示素子として使用すると、異方導電
フィルムによる接続信頼性が低下したり、表示品位が低
下する問題があった。
As a method for solving the surface smoothness, a method has been proposed in which a liquid ultraviolet-curable resin composition or thermosetting resin composition is poured onto a surface of a polished glass or the like and cured to obtain a sheet. . However, this method has a problem that the obtained sheet is fragile and is cracked or chipped during handling, and the superiority of using a polymer sheet for a glass substrate has not been sufficiently exerted. Moreover, the method has low productivity, resulting in expensive substrates.
Further, a method of continuously transferring the surface of a metal roll or an endless belt whose surface has been polished has been proposed, but the releasability between the metal and the ultraviolet curable resin layer is not sufficient, or the releasability between the metal and A good ultraviolet curable resin has insufficient heat resistance after curing, and when used as a liquid crystal display element, there is a problem that the connection reliability due to the anisotropic conductive film is lowered or the display quality is lowered.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、表面平滑性が優れ、液晶表示素子用基板等の表
示素子用プラスチック基板として優れた特性を持ち、効
率よく連続生産可能な表示素子用プラスチック基板およ
びこれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
The object of the present invention is to provide a display having excellent surface smoothness and excellent characteristics as a plastic substrate for display devices such as substrates for liquid crystal display devices and capable of efficient continuous production. An object is to provide a plastic substrate for devices and a liquid crystal display device using the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は (1)アクリレートモノマーおよび高分子量アクリレー
トを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベースフィ
ルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成物が軟化
した状態で表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦
0.1μの平滑面を密着させて紫外線を照射して平滑面
を転写、成形し、かつ全光線透過率が80%以上である
ことを特徴とする表示素子用プラスチック基板。 (2)前記高分子量アクリレートの分子量が2000以
上である(1)の表示素子用プラスチック基板。 (3)前記アクリレートモノマーがイソシアヌール酸E
O変性トリアクリレートである(1)、(2)の表示素
子用プラスチック基板。 (4)前記紫外線硬化性樹脂組成物中の高分子量アクリ
レートの配合比が5%〜50%である(1)〜(3)の
表示素子用プラスチック基板。 (5)前記紫外線硬化性樹脂組成物が、効果後、金属と
の優れた離型性を有することを特徴とする(1)〜
(4)の表示素子用プラスチック基板。 (6)200℃以下の温度における前記紫外線硬化性樹
脂組成物の動的貯蔵弾性率が103MPa以上であるこ
とを特徴とする(1)〜(5)の表示素子用プラスチッ
ク基板。 (7)前記の平滑面を有する表面が液晶表示装置のセル
内面側に付与されることを特徴とする(1)〜(6)の
表示素子用プラスチック基板。 (8)前記ベースフィルムのガラス転移温度が160℃
以上である(1)〜(7)の表示素子用プラスチック基
板。 (9)(1)〜(8)記載の表示素子用プラスチック基
板を用いた液晶表示装置。 である。
Means for Solving the Problems That is, according to the present invention, (1) an ultraviolet curable resin composition containing an acrylate monomer and a high molecular weight acrylate as a main component is laminated on a base film to soften the ultraviolet curable resin composition. The maximum surface roughness (Rmax) is Rmax ≦
A plastic substrate for a display device, wherein a 0.1 μm smooth surface is brought into close contact, ultraviolet rays are irradiated to transfer and mold the smoothed surface, and the total light transmittance is 80% or more. (2) The plastic substrate for a display device according to (1), wherein the high molecular weight acrylate has a molecular weight of 2000 or more. (3) The acrylate monomer is isocyanuric acid E
The plastic substrate for a display device according to (1) or (2), which is an O-modified triacrylate. (4) The plastic substrate for a display device according to (1) to (3), wherein the compounding ratio of the high molecular weight acrylate in the ultraviolet curable resin composition is 5% to 50%. (5) The ultraviolet-curable resin composition has excellent releasability from a metal after the effect (1) to
(4) A plastic substrate for a display device. (6) The plastic substrate for a display element according to (1) to (5), wherein the ultraviolet curable resin composition has a dynamic storage elastic modulus of 10 3 MPa or more at a temperature of 200 ° C. or less. (7) The plastic substrate for a display element according to any one of (1) to (6), wherein the surface having the smooth surface is provided on the cell inner surface side of the liquid crystal display device. (8) The glass transition temperature of the base film is 160 ° C.
The above is the plastic substrate for a display device according to (1) to (7). (9) A liquid crystal display device using the plastic substrate for a display device according to (1) to (8). Is.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明は、従来問題となっていた
平滑面の転写後に金属ロールが容易に剥離しなかった
り、樹脂組成物がロール側に移行したりすることを防ぐ
ために、アクリレートモノマーに高分子量アクリレート
を配合して、ロール離型性を上げた表示素子用プラスチ
ック基板であり、これを用いた液晶表示装置である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention provides an acrylate monomer in order to prevent the metal roll from being easily peeled off after transfer of a smooth surface and the resin composition to be transferred to the roll side, which has been a problem in the past. It is a plastic substrate for a display device in which a high molecular weight acrylate is blended with to improve roll releasability, and is a liquid crystal display device using the same.

【0007】本発明の表示素子用プラスチック基板に用
いるベースフィルムは、表示素子の製造環境温度に耐え
うる必要があり、そのガラス転移温度は160℃以上で
あることが望ましい。例として、ポリエステル、ポリカ
ーボネイト、ノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリ
アリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケ
トン、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチック
ポリスチレン、環状ポリオレフィン及びそのコポリマ
ー、イミド変性ポリメチルメタクリレート等のイミド変
性した高分子等によるフィルムシート等があげられる
が、特に限定はしない。また、本発明のベースフィルム
は各層の形成に先立ち、積層する各層との密着力を高め
るために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表
面処理が施されていてもよい。上記ベースフィルムは、
押出成形およびキャスティング等の方法でシート化する
ことができ、本発明の表示素子用プラスチック基板は、
成形したベースフィルムの上にキャスティング、コーテ
ィングあるいは各種印刷手法、積層手法等により、紫外
線硬化性樹脂組成物を積層した構造である。
The base film used for the plastic substrate for a display device of the present invention is required to withstand the manufacturing environment temperature of the display device, and its glass transition temperature is preferably 160 ° C. or higher. Examples include polyesters, polycarbonates, norbornenes, polyetherimides, polyarylates, polyethersulfones, polyetherketones, polyphenylene sulfides, syndiotactic polystyrenes, cyclic polyolefins and their copolymers, imide-modified polymethylmethacrylate, and other imide-modified high polymers. Examples thereof include a film sheet made of molecules and the like, but are not particularly limited. Further, the base film of the present invention may be subjected to surface treatment such as degassing treatment, corona discharge treatment and flame treatment in order to enhance the adhesion with each layer to be laminated, prior to the formation of each layer. The base film is
It can be formed into a sheet by a method such as extrusion molding and casting, and the plastic substrate for a display element of the present invention is
It has a structure in which an ultraviolet curable resin composition is laminated on a molded base film by casting, coating or various printing methods, laminating methods and the like.

【0008】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物はアクリレートモノマーと高分子量アクリレートの混
合物を主成分とする。アクリレートモノマーのみを積層
させ、軟化状態の樹脂にロールを密着させ、紫外線によ
り硬化させた後にフィルムをロールから剥離すると、樹
脂成分が一部ロールに移行して積層させた樹脂に平滑面
の形状が転写されない部分が出てくる。そこで、本発明
者らは、アクリレートモノマーに高分子量のアクリレー
トを混ぜた混合樹脂を積層させることで、フィルムは樹
脂組成物が移行せずにロールから簡単に剥離し、積層さ
せた樹脂表面に平滑面の形状が転写されることを見出し
た。ここで、高分子量アクリレートの配合比率は特に限
定はしないが、5〜50%、より好ましくは5%〜30
%の範囲が望ましい。上限値より多い場合には、シール
材密着時温度の動的貯蔵弾性率が103MPaを下回り
要求特性を満たすことができない事がある。逆に少ない
場合は、樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なくな
る。すなわち、本発明は熱時弾性率の観点から、アクリ
レートモノマーが、また金属表面との離型性の観点から
高分子量アクリレートが樹脂成分として必要であること
を見出したものであるまた、用いる高分子量アクリレー
トの分子量は2000以上であることが望ましい。これ
より低いと樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なく
なる。好ましい高分子量アクリレートの例としては、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、カルドポリエステルアクリレート、
アクリレート変性環状シクロオレフィン等を挙げる事が
できるがこれらに限定されるものではない。本発明のア
クリレートモノマーは特に限定はしないが、イソシアヌ
ール酸EO変性トリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等を挙げる事ができる。これらの中では、イ
ソシアヌール酸EO変性トリアクリレートが好ましい。
また、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物には、シリカ、
アルミナ、ポリスチレン、アクリル等のフィラー、シリ
コン系、フッ素系のレベリング材、シリコン系、チタネ
ート系のシランカップリング材等を添加しても良い。
The ultraviolet curable resin composition used in the present invention contains a mixture of an acrylate monomer and a high molecular weight acrylate as a main component. When only the acrylate monomer is laminated, the roll is brought into close contact with the resin in the softened state, and the film is peeled from the roll after being cured by ultraviolet rays, the resin component partially moves to the roll and the laminated surface has a smooth surface shape. Some parts are not transferred. Therefore, the present inventors laminated a mixed resin in which a high-molecular-weight acrylate was mixed with an acrylate monomer, so that the film was easily peeled from the roll without the resin composition being transferred, and the film was smooth on the laminated resin surface. It was found that the surface shape was transferred. Here, the compounding ratio of the high molecular weight acrylate is not particularly limited, but is 5 to 50%, more preferably 5% to 30.
The range of% is desirable. If the amount is more than the upper limit, the dynamic storage elastic modulus at the time of sealing material adhesion may be less than 10 3 MPa and the required characteristics may not be satisfied. On the contrary, when the amount is small, the effect of preventing the transfer of the resin component to the roll becomes small. That is, the present invention has found that an acrylate monomer is necessary as a resin component from the viewpoint of elastic modulus at the time of heating, and a high molecular weight acrylate as a resin component from the viewpoint of releasability from a metal surface. The molecular weight of the acrylate is preferably 2000 or more. If it is lower than this, the effect of preventing the transfer of the resin component to the roll is reduced. Examples of preferred high molecular weight acrylates include urethane acrylates, epoxy acrylates, polyester acrylates, cardo polyester acrylates,
Examples thereof include, but are not limited to, acrylate-modified cyclic cycloolefin. The acrylate monomer of the present invention is not particularly limited, but examples thereof include isocyanuric acid EO-modified triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. Among these, isocyanuric acid EO-modified triacrylate is preferable.
Further, the ultraviolet curable resin composition of the present invention, silica,
A filler such as alumina, polystyrene, or acrylic, a silicon-based or fluorine-based leveling material, a silicon-based or titanate-based silane coupling material, or the like may be added.

【0009】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物は塗布装置によりベースフィルム上に塗布し、溶剤を
含む場合には乾燥装置により溶剤を揮発させるが、この
紫外線硬化性樹脂組成物に平滑な面を有するロールを密
着させて平滑面の形状を転写させる際には、平滑面が十
分に紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよう、紫
外線硬化性樹脂組成物は軟化または液化していなければ
ならない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まな
くても室温で軟化しているものや液状のものも有るが、
そうでない場合は密着する前にヒーター等により加熱を
行うか、ロールの温度を上げて密着と同時に軟化させる
ことが必要である。本発明における紫外線硬化性樹脂組
成物の弾性率は硬化後、液晶表示素子形成工程での温度
領域で充分高いことが望ましく、工程中で最も高い加工
温度(TFTのようなアクティブ素子の場合は200
℃、STNの場合は150℃)以下の温度範囲で動的貯
蔵弾性率は103MPa以上であることが好ましい。工
程中最も高い加工温度以下での動的貯蔵弾性率が103
MPa以下であると、シール材貼り合わせ後に、シール
材近傍で表示ムラが発生したり、異方導電フィルムによ
る外部端子との接続で接続信頼性が低下したりする恐れ
がある。
The UV-curable resin composition used in the present invention is coated on a base film by a coating device, and when a solvent is contained, the solvent is volatilized by a drying device. When a roll having a surface is brought into close contact with the surface of a smooth surface to be transferred, the ultraviolet curable resin composition must be softened or liquefied so that the smooth surface is sufficiently transferred to the surface of the ultraviolet curable resin composition. I have to. The ultraviolet curable resin composition may include a liquid or one that is softened at room temperature without containing a solvent.
If not, it is necessary to heat with a heater or the like before adhering, or to raise the temperature of the roll to soften at the same time as adhering. The elastic modulus of the ultraviolet curable resin composition of the present invention is preferably sufficiently high in the temperature range in the liquid crystal display element forming step after curing, and is the highest processing temperature in the step (200 in the case of an active element such as TFT).
° C., the dynamic storage modulus in a temperature range of 0.99 ° C.) or less in the case of STN is preferably at 10 3 MPa or more. The dynamic storage elastic modulus below the highest processing temperature in the process is 10 3
If the pressure is less than or equal to MPa, display unevenness may occur in the vicinity of the sealing material after the sealing material is bonded, or the connection reliability may decrease due to the connection with the external terminal by the anisotropic conductive film.

【0010】転写に使用する金属ロールやエンドレスベ
ルトの表面は、表面粗さの最大(Rmax)がRmax
≦0.1μmの平滑面である必要がある。表面粗さが
0.1μmよりも大きいと、液晶表示素子を形成した時
に、セルギャップが不均一であることに起因して表示ム
ラが発生してしまうためである。金属ロールやエンドレ
スベルトの表面は、研磨などの方法でRmax≦0.1
μmに加工することが可能である。
The maximum surface roughness (Rmax) of the surface of a metal roll or endless belt used for transfer is Rmax.
It must be a smooth surface of ≦ 0.1 μm. This is because when the surface roughness is larger than 0.1 μm, display unevenness occurs due to the nonuniform cell gap when a liquid crystal display element is formed. The surface of the metal roll or the endless belt is Rmax ≦ 0.1 by a method such as polishing.
It can be processed to μm.

【0011】本発明の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せるための紫外線照射に関しては、必要な波長の光を選
択的に照射してもよい。具体的には、照射部に選択透過
フィルターをもうけるか、フィルムの塗膜が形成される
側とは反対面から照射する方法などが挙げられる。また
大気中の酸素によって紫外線効果樹脂の硬化反応が阻害
させる場合には、窒素など不活性ガス雰囲気化で照射を
行っても良い。紫外線照射量は、365nmまたは25
4nmの波長か、ある波長を選択的に照射する場合は、
紫外線領域で最大照射量となる波長域での照射量を、紫
外線照度計によって測定する。
Regarding the ultraviolet irradiation for curing the ultraviolet curable resin composition of the present invention, light having a necessary wavelength may be selectively irradiated. Specifically, a method such as providing a selective transmission filter in the irradiation part or irradiating from the surface opposite to the side where the coating film of the film is formed can be mentioned. When oxygen in the atmosphere interferes with the curing reaction of the UV-effect resin, irradiation may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen. UV dose is 365nm or 25
When selectively irradiating a wavelength of 4 nm or a certain wavelength,
The irradiation amount in the wavelength region where the maximum irradiation amount is obtained in the ultraviolet region is measured with an ultraviolet illuminometer.

【0012】[0012]

【実施例】以下本発明を実施例によって説明するが、本
発明は実施例により何ら限定されるものではない。ま
た、各種光学的物性は次の方法により測定した。 (1)シート厚み 接触式ダイヤルゲージでシートの幅方向に20mm間隔
で測定した平均値。 (2)表面粗さの最大(Rmax) 接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200)により、シートの幅方向に2mmのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 (3)表面粗さの最大(Rmax) 接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200)により、シートの幅方向に1mmのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 <実施例1>厚さ200μm、表面粗さの最大(Rma
x)が0.3μmポリエーテルサルフォンをベースフィ
ルムとして用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾー
ン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する
製造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化
性樹脂組成物として分子量:400のイソシアヌール酸
EO変性トリアクリレート(東亞合成製 M−315)
80重量部、分子量:13000のウレタンアクリレー
ト(日本化薬製 UX3204)20重量部、酢酸ブチ
ル300重量部,セロソルブアセテート100重量部,
ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥前膜厚5μm塗布し、加熱乾燥ゾ
ーン中100℃で5分間加熱して溶媒を除去した。溶媒
除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状
態であった。続いて表面にRmax=0.07μmの金
属ロールを密着させて80w/cmの紫外線を10秒間
照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させた
ところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートからロ
ールに移行することなく、平滑面を転写することができ
た。また、全光線透過率を測定したところ、87%であ
った。さらに、シール材圧着温度での弾性率については
シール材貼り合せ前の液晶表示素子加工プロセスを想定
して160℃で2時間の加熱処理を行った試料を用い
て、動的粘弾性測定装置 DMS210(セイコーイン
スルメンツ製)を使用して動的貯蔵弾性率E'の値を測
定した結果、動的貯蔵弾性率は温度が高くなるほど減少
して、150℃では1100MPaであった。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples. Moreover, various optical properties were measured by the following methods. (1) Sheet thickness An average value measured at intervals of 20 mm in the width direction of the sheet with a contact type dial gauge. (2) Maximum surface roughness (Rmax) Contact type precision step gauge (TENCOR INSTRUMENTS, AlPHA-ST
Maximum value of unevenness measured by EP200) with a scan width of 2 mm in the width direction of the sheet. (3) Maximum surface roughness (Rmax) Contact-type precision step gauge (TENCOR INSTRUMENTS, ALPHA-ST
The maximum value of unevenness measured by EP200) in the width direction of the sheet with a scan width of 1 mm. Example 1 Thickness of 200 μm, maximum surface roughness (Rma
x) 0.3 μm polyether sulfone was used as a base film, and the following processing was carried out using a manufacturing apparatus having a unwinding device, a coater section, a heating and drying zone, a laminating roll, a high pressure mercury lamp, and a winding device. First, as an ultraviolet curable resin composition, isocyanuric acid EO-modified triacrylate having a molecular weight of 400 (M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
80 parts by weight, 20 parts by weight of urethane acrylate (UX3204 manufactured by Nippon Kayaku) having a molecular weight of 13000, 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of cellosolve acetate,
Stir 2 parts by weight of benzoin ethyl ether at 50 ° C.,
What was dissolved and made into a uniform solution was coated with a gravure roll coater in the coater part to a film thickness of 5 μm before drying, and heated at 100 ° C. for 5 minutes in a heat drying zone to remove the solvent. After removing the solvent, the ultraviolet curable resin composition was in a paste-like softened state. Subsequently, when a metal roll having Rmax = 0.07 μm was closely adhered to the surface and irradiated with 80 w / cm of ultraviolet rays for 10 seconds to cure and peel off the ultraviolet curable resin composition, the ultraviolet curable resin composition was a polymer. It was possible to transfer the smooth surface without shifting from the sheet to the roll. The total light transmittance was measured and found to be 87%. Further, regarding the elastic modulus at the sealing material pressure bonding temperature, a dynamic viscoelasticity measuring device DMS210 was used by using a sample which was subjected to a heat treatment at 160 ° C. for 2 hours assuming the liquid crystal display element processing process before bonding the sealing material. As a result of measuring the value of the dynamic storage elastic modulus E ′ using (manufactured by Seiko Instruments Inc.), the dynamic storage elastic modulus decreased as the temperature increased, and was 1100 MPa at 150 ° C.

【0013】次に、この高分子シート上に、DCマグネ
トロン法により、初期真空度3×10−4Paの状態か
ら酸素/アルゴンガス9%の混合ガスを導入して3×1
0−1Paの条件下においてスパッタリングを行い50
0Å厚のSiO2を得た。続いて、透明導電膜として、
同じくDCマグネトロン法により初期真空度3×10−
4Paの状態から酸素/アルゴンガス4%の混合ガスを
導入して1×10−1Paの条件下においてスパッタリ
ングを行いIn/In+Snの原子比が0.98である
酸化インジウム錫(ITO)からなる透明導電膜を得
た。測定の結果、膜厚は1600Å、比抵抗は4×10
-4Ω−cmであった。ITOを成膜後、レジストを塗布
して現像し、エッチング液として10vol%HCl、
液温40℃中でパターンエッチングし、対角長さ3イン
チ、L/S=150/50μmの表示パターンを形成し
た。パターン形成後、STN用配向膜を塗布し、150
℃2hrの焼成処理を行った後、240度ツイストの配
向となるようラビング処理を行った。ラビング処理後、
スペーサを散布し、シール剤を塗布し、130℃でシー
ル硬化させてセル化し、STN用液晶組成物を注入し
た。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わ
せて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動
電圧0Vから±5Vで点灯試験を行ったところ、液晶の
セルギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示
を示した。
Next, a mixed gas of oxygen / argon gas of 9% was introduced onto the polymer sheet by the DC magnetron method from the state of the initial vacuum degree of 3 × 10 −4 Pa to 3 × 1.
Sputtering is performed under the condition of 0-1 Pa and 50
SiO 2 having a thickness of 0Å was obtained. Then, as a transparent conductive film,
Similarly, by DC magnetron method, the initial vacuum degree is 3 × 10−
A mixture gas of 4% oxygen / argon gas was introduced from the state of 4 Pa, sputtering was performed under the condition of 1 × 10 −1 Pa, and a transparent indium tin oxide (ITO) having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was obtained. A conductive film was obtained. As a result of the measurement, the film thickness is 1600Å and the specific resistance is 4 × 10.
It was -4 Ω-cm. After the ITO film is formed, a resist is applied and developed, and 10 vol% HCl as an etching solution,
Pattern etching was performed at a liquid temperature of 40 ° C. to form a display pattern having a diagonal length of 3 inches and L / S = 150/50 μm. After patterning, apply STN alignment film and
After firing at 2 ° C. for 2 hours, rubbing was performed so that the twist orientation was 240 degrees. After the rubbing process,
Spacers were scattered, a sealant was applied, the seal was cured at 130 ° C. to form a cell, and the liquid crystal composition for STN was injected. A liquid crystal display device was produced by bonding a polarizing plate to a position where the contrast was maximum. When a lighting test was conducted on this liquid crystal display device at a drive voltage of 0 V to ± 5 V, no uneven display due to an abnormal cell gap of the liquid crystal was observed and a good display was shown.

【0014】<実施例2>厚さ200μm、表面粗さの
最大(Rmax)が0.05μmのポリエーテルサルフ
ォンを高分子シート原反として用い、巻出装置、コータ
ー部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀
灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行っ
た。まず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量:40
0のイソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亞
合成製 M−315)80重量部、分子量:4000の
ウレタンアクリレート(根上工業製 UN9000H)
20重量部、酢酸ブチル300重量部,セロソルブアセ
テート100重量部,ベンゾインエチルエーテル2重量
部、一次粒径0.08・高フシリカ15重量部を50℃
にて撹拌して均一な分散液としたものをコーター部のグ
ラビヤロールコーターで乾燥前膜厚5μmに塗布し、加
熱乾燥ゾーン中100℃で5分間加熱して溶媒を除去し
た。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状
の軟化状態であった。続いて表面にRmax=0.07
μmの金属ロールを密着させて、80w/cmの紫外線
を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させ
たところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートから
ロールに移行することなく、平滑面を転写することがで
き、巻取装置で巻き取って高分子シートを連続的に得
た。紫外線の照射時間は10秒間であった。また、全光
線透過率は85%であった。さらに、実施例1と同様に
測定した150℃での動的貯蔵弾性率は1260MPa
であり、動的貯蔵弾性率の温度依存性も実施例1と同様
であった。次に、この高分子シート上に、DCマグネト
ロン法により、初期真空度3×10−4Paの状態から
酸素/アルゴンガス9%の混合ガスを導入して3×10
−1Paの条件下においてスパッタリングを行い500
Å厚のSiO2を得た。続いて、透明導電膜として、同
じくDCマグネトロン法により初期真空度3×10−4
Paの状態から酸素/アルゴンガス4%の混合ガスを導
入して1×10−1Paの条件下においてスパッタリン
グを行いIn/In+Snの原子比が0.98である酸
化インジウム錫(ITO)からなる透明導電膜を得た。
測定の結果、膜厚は1600Å、比抵抗は4×10-4Ω
−cmであった。ITOを成膜後、レジストを塗布して
現像し、エッチング液として10vol%HCl、液温
40℃中でパターンエッチングし、対角長さ3インチ、
L/S=150/50μmの表示パターンを形成した。
パターン形成後、STN用配向膜を塗布し、150℃2
hrの焼成処理を行った後、240度ツイストの配向と
なるようラビング処理を行った。ラビング処理後、スペ
ーサを散布し、シール剤を塗布し、130℃でシール硬
化させてセル化し、STN用液晶組成物を注入した。偏
光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わせて液
晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動電圧0
Vから±5Vで点灯試験を行ったところ、液晶のセルギ
ャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示を示し
た。
Example 2 Polyethersulfone having a thickness of 200 μm and a maximum surface roughness (Rmax) of 0.05 μm is used as a polymer sheet raw material, and a unwinding device, a coater section, a heat drying zone, and a laminate are used. The following processing was performed using the manufacturing apparatus which has a roll, a high pressure mercury lamp, and a winding device. First, the molecular weight of the ultraviolet curable resin composition: 40
80 parts by weight of EO-modified isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), urethane acrylate having a molecular weight of 4000 (UN9000H manufactured by Negami Kogyo)
20 parts by weight, butyl acetate 300 parts by weight, cellosolve acetate 100 parts by weight, benzoin ethyl ether 2 parts by weight, primary particle size 0.08, high silica 15 parts by weight at 50 ° C.
The mixture was stirred to form a uniform dispersion, which was applied to a film thickness of 5 μm before drying with a gravure roll coater in the coater section, and heated in a heating and drying zone at 100 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. After removing the solvent, the ultraviolet curable resin composition was in a paste-like softened state. Then Rmax = 0.07 on the surface
When a metal roll having a thickness of μm was brought into close contact, and the ultraviolet curable resin composition was cured by being irradiated with ultraviolet rays of 80 w / cm and peeled off, the ultraviolet curable resin composition did not move from the polymer sheet to the roll, A smooth surface can be transferred, and a polymer sheet was continuously obtained by winding with a winding device. The irradiation time of ultraviolet rays was 10 seconds. The total light transmittance was 85%. Furthermore, the dynamic storage elastic modulus at 150 ° C. measured in the same manner as in Example 1 was 1260 MPa.
The temperature dependence of the dynamic storage elastic modulus was also the same as in Example 1. Next, a mixed gas of oxygen / argon gas 9% was introduced onto this polymer sheet by a DC magnetron method from the state of an initial vacuum degree of 3 × 10 −4 Pa to 3 × 10 3.
Sputtering is performed under the condition of -1 Pa and 500
Å thick SiO 2 was obtained. Then, as a transparent conductive film, an initial vacuum degree of 3 × 10 −4 was similarly obtained by the DC magnetron method.
A mixture gas of 4% oxygen / argon gas was introduced from the state of Pa, sputtering was performed under the condition of 1 × 10 −1 Pa, and a transparent indium tin oxide (ITO) having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98. A conductive film was obtained.
As a result of the measurement, the film thickness is 1600Å and the specific resistance is 4 × 10 -4 Ω.
-Cm. After forming ITO, a resist is applied and developed, and pattern etching is performed in an etching solution of 10 vol% HCl at a solution temperature of 40 ° C., and a diagonal length of 3 inches,
A display pattern of L / S = 150/50 μm was formed.
After forming the pattern, apply an alignment film for STN, and 150 ℃ 2
After the firing treatment for hr, the rubbing treatment was performed so that the twist orientation was 240 degrees. After the rubbing treatment, spacers were scattered, a sealant was applied, the seal was cured at 130 ° C. to form a cell, and the liquid crystal composition for STN was injected. A liquid crystal display device was produced by bonding a polarizing plate to a position where the contrast was maximum. This liquid crystal display device is driven by 0
When a lighting test was performed from V to ± 5 V, display unevenness due to an abnormal cell gap of the liquid crystal was not observed and good display was shown.

【0015】<比較例1>厚さ200μm表面粗さの最
大(Rmax)が0.05μmポリエーテルサルホンを
高分子シート原反として用い、巻出装置、コーター部、
加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取
装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。ま
ず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量:400のイ
ソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亞合成製
M−315)100重量部、酢酸ブチル300重量
部,セロソルブアセテート100重量部,ベンゾインエ
チルエーテル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一
な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコータ
ーで乾燥前膜厚5μm塗布し、加熱乾燥ゾーン中100
℃で5分間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外
線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。
続いて表面にRmax=0.07μmの金属ロールを密
着させて、80w/cmの紫外線を照射して紫外線硬化
性樹脂組成物を硬化させ剥離させたところ、紫外線硬化
性樹脂組成物の一部が高分子シートからロールに移行し
て平滑面を正確に転写することができなかった。
<Comparative Example 1> Thickness 200 μm Polyethersulfone having a maximum surface roughness (Rmax) of 0.05 μm was used as a polymer sheet stock, and the unwinding device, coater section,
The following processing was performed using the manufacturing apparatus which has a heat drying zone, a laminating roll, a high pressure mercury lamp, and a winding device. First, 100 parts by weight of an isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toagosei) having a molecular weight of 400 as an ultraviolet curable resin composition, 300 parts by weight of butyl acetate, 100 parts by weight of cellosolve acetate, 2 parts by weight of benzoin ethyl ether. Was stirred and dissolved at 50 ° C. to form a uniform solution, which was applied with a gravure roll coater in the coater section to a film thickness of 5 μm before drying, and 100
The solvent was removed by heating at 0 ° C for 5 minutes. After removing the solvent, the ultraviolet curable resin composition was in a paste-like softened state.
Subsequently, when a metal roll having Rmax = 0.07 μm was adhered to the surface and the ultraviolet curable resin composition was cured by being irradiated with ultraviolet rays of 80 w / cm to be peeled off, a part of the ultraviolet curable resin composition was detected. The transfer from the polymer sheet to the roll failed to transfer the smooth surface accurately.

【0016】<比較例2>紫外線硬化性樹脂組成物とし
て分子量:約4000のウレタンアクリレート(根上工
業製 UN9000H)100重量部、酢酸ブチル30
0重量部,セロソルブアセテート100重量部、ベンゾ
インエチルエーテル2重量部を用いた他は比較例1と同
様に平滑面が設けられたロールを密着させて80w/c
mの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せ剥離させた。平滑面の転写には問題がなかったが、実
施例1と同様に液晶表示装置を作製したところ、セルギ
ャップ異常による表示ムラが発生した。
Comparative Example 2 100 parts by weight of urethane acrylate having a molecular weight of about 4000 (UN9000H manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) as an ultraviolet curable resin composition, and 30 parts of butyl acetate.
As in Comparative Example 1, except that 0 part by weight, 100 parts by weight of cellosolve acetate, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether were used, a roll provided with a smooth surface was brought into close contact with 80 w / c.
The ultraviolet curable resin composition was cured by irradiating ultraviolet rays of m to be peeled off. Although there was no problem in the transfer of the smooth surface, when a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1, display unevenness due to an abnormal cell gap occurred.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法によれ
ば従来多数の工程が必要であった液晶表示装置等の表示
素子用基板を容易に作成することができる。しかも、従
来の金属ロールに樹脂が移行したり、基板の剛性が不足
してスペーサが基板に潜り込むといった問題を解決する
ことができ、電子産業上極めて有用である。
As described above, according to the method of the present invention, it is possible to easily prepare a display element substrate for a liquid crystal display device or the like, which has conventionally required many steps. In addition, it is possible to solve the problems that the resin is transferred to the conventional metal roll and the rigidity of the substrate is insufficient to cause the spacer to sneak into the substrate, which is extremely useful in the electronics industry.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 310 G09F 9/30 310 9/35 9/35 // C08L 101:00 C08L 101:00 Fターム(参考) 2H090 JB03 JD14 KA08 MB01 4F073 AA10 AA14 BA06 BA19 BA23 BA26 BA31 BA32 BA34 BB01 CA01 CA45 FA03 GA03 GA11 4J027 AA08 AB01 AC06 AC09 AE01 AG01 AG25 AJ01 BA24 BA26 BA28 CA02 CA03 CA13 CA14 CA21 CA36 CB10 CC05 CD00 CD04 5C094 AA43 AA46 AA55 BA43 EB10─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09F 9/30 310 G09F 9/30 310 9/35 9/35 // C08L 101: 00 C08L 101: 00 F Term (reference) 2H090 JB03 JD14 KA08 MB01 4F073 AA10 AA14 BA06 BA19 BA23 BA26 BA31 BA32 BA34 BB01 CA01 CA45 FA03 GA03 GA11 4J027 AA08 AB01 AC06 AC09 AE01 AG01 AG25 AJ01 BA24 CA26 CA04 A05 CA4 CA04 CA05 CA13 CA14 CA21 CA36 CA14 CA21 CA36 CA14 CA21 CA21 CA36 CA10 AA55 BA43 EB10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アクリレートモノマーおよび高分子量ア
クリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベ
ースフィルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成
物が軟化した状態で表面粗さの最大(Rmax)がRm
ax≦0.1μの平滑面を密着させて紫外線を照射し、
平滑面を転写、成形し、かつ全光線透過率が80%以上
であることを特徴とする表示素子用プラスチック基板。
1. A UV curable resin composition comprising an acrylate monomer and a high molecular weight acrylate as a main component is laminated on a base film, and the UV curable resin composition has a maximum surface roughness (Rmax) in a softened state. Is Rm
A smooth surface of ax ≦ 0.1μ is brought into close contact and irradiated with ultraviolet rays,
A plastic substrate for a display element, which is obtained by transferring and molding a smooth surface and having a total light transmittance of 80% or more.
【請求項2】 前記高分子量アクリレートの分子量が2
000以上である請求項1記載の表示素子用プラスチッ
ク基板。
2. The high molecular weight acrylate has a molecular weight of 2
The plastic substrate for a display device according to claim 1, wherein the plastic substrate is 000 or more.
【請求項3】 前記アクリレートモノマーがイソシアヌ
ール酸EO変性トリアクリレートである請求項1または
2記載の表示素子用プラスチック基板。
3. The plastic substrate for a display device according to claim 1, wherein the acrylate monomer is isocyanuric acid EO-modified triacrylate.
【請求項4】 前記紫外線硬化性樹脂組成物中の高分子
量アクリレートの配合比が5%〜50%である請求項1
〜3何れか一項記載の表示素子用プラスチック基板。
4. The compounding ratio of the high molecular weight acrylate in the ultraviolet curable resin composition is 5% to 50%.
3. The plastic substrate for a display device according to any one of 3 to 3.
【請求項5】 前記紫外線硬化性樹脂組成物が、効果
後、金属との優れた離型性を有することを特徴とする請
求項1〜4何れか一項記載の表示素子用プラスチック基
板。
5. The plastic substrate for a display device according to claim 1, wherein the ultraviolet curable resin composition has excellent releasability from a metal after the effect.
【請求項6】 200℃以下の温度における前記紫外線
硬化性樹脂組成物の動的貯蔵弾性率が103MPa以上
であることを特徴とする請求項1〜5何れか一項記載の
表示素子用プラスチック基板。
6. The display element according to claim 1, wherein the ultraviolet curable resin composition has a dynamic storage elastic modulus of 10 3 MPa or more at a temperature of 200 ° C. or less. Plastic substrate.
【請求項7】 前記の平滑面を有する表面が液晶表示装
置のセル内面側に付与されることを特徴とする請求項1
〜6何れか一項記載の表示素子用プラスチック基板。
7. The surface having the smooth surface is provided on the cell inner surface side of the liquid crystal display device.
7. A plastic substrate for a display element according to any one of 6 to 6.
【請求項8】 前記ベースフィルムのガラス転移温度が
160℃以上である請求項1〜7何れか一項記載の表示
素子用プラスチック基板。
8. The plastic substrate for a display device according to claim 1, wherein the glass transition temperature of the base film is 160 ° C. or higher.
【請求項9】 請求項1〜8何れか一項記載の表示素子
用プラスチック基板を用いた液晶表示装置。
9. A liquid crystal display device using the plastic substrate for a display element according to claim 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006065102A (en) * 2004-08-27 2006-03-09 Yokohama National Univ Waveguide type polarization converter
CN102344704A (en) * 2010-07-28 2012-02-08 中钞特种防伪科技有限公司 Light-cured composition
JP2015082015A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device

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