JP2003221422A - Polymerizable compound, method for producing the compound, polymerizable composition containing the compound, cured product obtained by curing the composition and method for producing the cured product - Google Patents

Polymerizable compound, method for producing the compound, polymerizable composition containing the compound, cured product obtained by curing the composition and method for producing the cured product

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JP2003221422A JP2002189063A JP2002189063A JP2003221422A JP 2003221422 A JP2003221422 A JP 2003221422A JP 2002189063 A JP2002189063 A JP 2002189063A JP 2002189063 A JP2002189063 A JP 2002189063A JP 2003221422 A JP2003221422 A JP 2003221422A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable composition excellent in adhesion to a substrate such as PET, which can subject to heat curing and/or an active energy ray-curing without polymerization inhibition by oxygen. <P>SOLUTION: A polymerizable compound represented by formula (1) äwherein R<SP>1</SP>is at least one organic residue group selected each independently from the group consisting of an alkylene, a branched alkylene, a cycloalkylene, an aralkylene and an arylene, R<SP>2</SP>is an organic residue group derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carboxylic compound, (n) is an integer of 0-20}, a method for producing the compound, the polymerizable composition using the compound, a cured product obtained by curing the composition and a method for producing the cured product are provided. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な重合性化合
物、該重合性化合物の製造方法、該重合性化合物を用い
た重合性組成物、該重合性組成物を硬化してなる硬化
物、及び該硬化物の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel polymerizable compound, a method for producing the polymerizable compound, a polymerizable composition using the polymerizable compound, and a cured product obtained by curing the polymerizable composition, And a method for producing the cured product.

【0002】さらに詳しくは、熱硬化及び/又は活性エ
ネルギー線による硬化が可能となるようにラジカル重合
性を付与し、さらにポリエチレンテレフタレート(以
下、「PET」と略す。)などの基材に対する密着性の
良好な重合性化合物、該重合性化合物の製造方法、該重
合性化合物を用いた重合性組成物、及び該重合性組成物
を硬化してなる硬化物に関する。
More specifically, it is provided with radical polymerizability so that it can be cured by heat and / or activated energy rays, and further adheres to a substrate such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as "PET"). Good polymerizable compound, a method for producing the polymerizable compound, a polymerizable composition using the polymerizable compound, and a cured product obtained by curing the polymerizable composition.

【0003】ここでいう「活性エネルギー線」とは、近
赤外線、可視光線、紫外線、真空紫外線、X線、γ線、
電子線などのエネルギーを持つ電磁波又は粒子線であ
る。
The term "active energy rays" used herein means near infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, vacuum ultraviolet rays, X rays, γ rays,
Electromagnetic waves or particle beams having energy such as electron beams.

【0004】また、ここでいう「熱硬化」とは、熱によ
るラジカル重合を行い硬化させるものである。
The term "thermosetting" as used herein means radical curing by heat to cure.

【0005】[0005]

【従来の技術】水酸基を有するラジカル硬化性樹脂の代
表的なものとして、例えば、エポキシ樹脂と、アクリル
酸及びメタクリル酸などと反応させたビニルエステル樹
脂(エポキシアクリレート)を挙げることができる。ビ
ニルエステル樹脂は、ラジカル重合性を有する(メタ)
アクリレート基を有するので、熱硬化や光硬化が可能で
あり、UVオフセット印刷インキ用樹脂や人造大理石用
樹脂として、広く使用されている。
2. Description of the Related Art A typical radical curable resin having a hydroxyl group is, for example, a vinyl ester resin (epoxy acrylate) obtained by reacting an epoxy resin with acrylic acid or methacrylic acid. Vinyl ester resin has radical polymerizability (meth)
Since it has an acrylate group, it can be cured by heat or light, and is widely used as a resin for UV offset printing ink and a resin for artificial marble.

【0006】しかし、ビニルエステル樹脂は重合の際に
酸素による重合阻害を受けるため、薄膜コーティングの
ような薄膜塗膜として使用した場合には、硬化が不充分
になる恐れがある。
However, since the vinyl ester resin undergoes polymerization inhibition by oxygen during polymerization, it may be insufficiently cured when used as a thin film coating such as a thin film coating.

【0007】ビニルエステル樹脂の酸素による重合阻害
を避けるためにアリルエーテル基を導入するなどの試み
もなされている。具体的には、例えば、特公平1−51
487号公報を挙げることができる。しかし、特公平1
−51487号公報の技術では、(メタ)アクリレート
基とアリルエーテル基の共重合性は必ずしも良いとは言
い難く、薄膜コーティングのような薄膜塗膜として使用
した場合には、重合速度の点で十分とはいえず、硬化が
不充分となる恐れがある。
Attempts have also been made to introduce an allyl ether group in order to avoid inhibition of polymerization of the vinyl ester resin by oxygen. Specifically, for example, Japanese Patent Publication No. 1-51
No. 487 can be cited. However, Tokuhei 1
In the technology of Japanese Patent No. 51487, it cannot be said that the copolymerizability of the (meth) acrylate group and the allyl ether group is necessarily good, and when used as a thin film coating such as a thin film coating, the polymerization rate is sufficient. However, the curing may be insufficient.

【0008】また、ビニルエステル樹脂以外の水酸基を
有するラジカル硬化性樹脂としては、トリメチロールプ
ロパンジ(メタ)アクリレートやペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレートなどの多価アルコールと(メ
タ)アクリル酸のエステルで一部水酸基が残った化合物
が市販されている。しかし、これらの化合物もやはり重
合の際に酸素による重合阻害を受けるため、薄膜コーテ
ィングのような薄膜塗膜として使用した場合には、硬化
が不充分となる恐れがある。
As the radical-curable resin having a hydroxyl group other than the vinyl ester resin, an ester of a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane di (meth) acrylate or pentaerythritol tri (meth) acrylate and (meth) acrylic acid is used. A compound in which some hydroxyl groups remain is commercially available. However, since these compounds are also subject to polymerization inhibition by oxygen during polymerization, curing may be insufficient when used as a thin film coating such as a thin film coating.

【0009】一方、エポキシ樹脂はコーティング材料、
電気絶縁材料、積層物構造材料、土木建築材料、接着剤
など幅広い用途を持つ優れた樹脂である。特にコーティ
ング材料として接着性がよいことが知られている。しか
し、硬化するまでに時間がかかることや硬化剤として用
いられるアミンが多量に残存して着色の原因になるなど
の問題がある。
On the other hand, epoxy resin is a coating material,
It is an excellent resin that has a wide range of applications such as electrical insulation materials, laminated structure materials, civil engineering and construction materials, and adhesives. In particular, it is known that the coating material has good adhesiveness. However, there are problems that it takes time to cure and that a large amount of amine used as a curing agent remains and causes coloring.

【0010】これらを解決するためにエポキシ樹脂を改
質している例がある。例えば、エポキシ樹脂とアクリル
酸及びメタクリル酸などと反応させたビニルエステル樹
脂(エポキシアクリレート)が存在する。この改質によ
ってラジカル重合性を付与して硬化時間を短縮すること
ができ、着色の原因となる硬化剤を添加する必要がなく
なる。しかし、ビニルエステル樹脂は重合の際に酸素に
よる重合阻害を受けるため、空気下での重合では硬化が
不充分となる。
There is an example in which an epoxy resin is modified to solve these problems. For example, there is a vinyl ester resin (epoxy acrylate) obtained by reacting an epoxy resin with acrylic acid or methacrylic acid. This modification can impart radical polymerizability to shorten the curing time, and eliminates the need to add a curing agent that causes coloring. However, the vinyl ester resin undergoes polymerization inhibition by oxygen during the polymerization, so that the curing is insufficient in the polymerization under air.

【0011】一般にエポキシ樹脂とは、「1分子中に2
個以上のエポキシ基(オキシラン環)をもつ化合物の総
称」(「エンジニアリングプラスチック事典」 技報堂
出版株式会社 1988年12月15日 1版1刷 発
行 第621頁「24 エポキシ樹脂」の項)とされて
いる。ここで示されている代表的なエポキシ樹脂として
は、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンの縮合によ
って製造されるビスフェノールA−ジグリシジルエーテ
ルであるが、他にも(ポリ)エチレングリコールの末端
水酸基にグリシジル基が付加したものや、1,6−ヘキ
サンジオールの水酸基にグリシジル基が付加したもの
等、比較的低分子なものもエポキシ樹脂の一例としてあ
げられている。
Generally, epoxy resin means "2 in 1 molecule.
A general term for compounds having one or more epoxy groups (oxirane rings) ("Encyclopedia of Engineering Plastics", Gihodo Publishing Co., Ltd., December 15, 1988, 1st edition, 1st edition, page 621, "24 Epoxy resin") There is. A typical epoxy resin shown here is bisphenol A-diglycidyl ether produced by condensation of bisphenol A and epichlorohydrin, but in addition, a glycidyl group is added to the terminal hydroxyl group of (poly) ethylene glycol. Examples of epoxy resins include those having relatively low molecular weight, such as those obtained by adding a glycidyl group to the hydroxyl group of 1,6-hexanediol.

【0012】一方、1分子中に1個のエポキシ基を有す
る化合物であるアリルグリシジルエーテル、フェニルグ
リシジルエーテル、クレゾールグリシジルエーテル(具
体的には例えば、アデカグリシドールED−529(旭
電化工業(株)製))等がエポキシ樹脂の希釈剤として
市販されている。前記「エンジニアリングプラスチック
事典」では、「24 エポキシ樹脂 1.2 硬化反
応 (2)副資材」の項(第635頁)によれば、「こ
の反応型希釈剤の中には、あらかじめエポキシ樹脂と混
合され、その混合物がエポキシ樹脂の一グレードとして
市販されているものもある。」(同第636頁)と記載
されている。
On the other hand, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cresol glycidyl ether which are compounds having one epoxy group in one molecule (specifically, for example, ADEKA GLYCIDOL ED-529 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) )) And the like are commercially available as diluents for epoxy resins. According to the section “24 Epoxy resin 1.2 Curing reaction (2) Sub-material” (page 635) in the “Engineering Plastics Encyclopedia”, “This reactive diluent is mixed with the epoxy resin in advance. And the mixture is commercially available as a grade of epoxy resin. ”(Page 636).

【0013】従って、本明細書中でのエポキシ樹脂と
は、「少なくとも一つ以上のエポキシ基を有する化合
物」であれば良く、分子量の大きさにはとらわれないも
のと定義する。
Therefore, the epoxy resin in the present specification is defined as "a compound having at least one or more epoxy groups" and is not restricted by the size of the molecular weight.

【0014】前述のように、エポキシ樹脂を改質したビ
ニルエステル樹脂の酸素による重合阻害を避けるため
に、さらにアリルエーテル基を導入するなどの試みもな
されている。例えば、特公平1−51487号公報では
エポキシ樹脂に対してメタクリル酸と無水フタル酸のト
リメチロールプロパンジアリルエーテル反応物を反応さ
せてアリル基を導入し、酸素による重合阻害を回避して
いる。しかし、アリルエーテル基はラジカル重合性に乏
しく、重合速度の点で十分とはいえず、重合性の改善さ
れた重合性化合物、及び該化合物を含有する重合性組成
物が求められている。
As described above, attempts have been made to introduce an allyl ether group in order to prevent the polymerization inhibition of oxygen in the vinyl ester resin modified with the epoxy resin. For example, in Japanese Examined Patent Publication No. 1-51487, an allylic group is introduced by reacting an epoxy resin with a trimethylolpropane diallyl ether reaction product of methacrylic acid and phthalic anhydride to avoid polymerization inhibition by oxygen. However, the allyl ether group is poor in radical polymerizability and cannot be said to be sufficient in terms of polymerization rate, and there is a demand for a polymerizable compound having improved polymerizability and a polymerizable composition containing the compound.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決し、酸素による重合阻害を受けることなく熱硬化及
び/又は活性エネルギー線による硬化が可能で、PET
などの基材との密着性の良好な新規な重合性化合物の提
供、該化合物を含有することを特徴とする重合性化合物
の提供、該エポキシ樹脂の製造方法、該エポキシ樹脂を
用いた重合性組成物、該重合性組成物を硬化してなる硬
化物、該硬化物の製造方法を提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has solved the above-mentioned problems, and enables thermal curing and / or curing with active energy rays without being hindered by polymerization inhibition by oxygen.
Provide a novel polymerizable compound having good adhesion to a substrate, a polymerizable compound characterized by containing the compound, a method for producing the epoxy resin, a polymerizable using the epoxy resin It is to provide a composition, a cured product obtained by curing the polymerizable composition, and a method for producing the cured product.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決するにために鋭意研究を重ねた。その結果、エポ
キシ化合物、特にエポキシ樹脂と、アリル基を持つフマ
ル酸モノエステル、場合によってはさらに(メタ)アク
リル酸を原料に使用し、それらを反応させて得られる新
規な重合性化合物によって、酸素による重合阻害を受け
ることなく熱硬化及び/又は活性エネルギー線による硬
化が可能で、PETなどの基材との密着性のよい硬化物
を提供できることを見いだし、本発明を完成させるに至
った。
[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the above problems. As a result, an epoxy compound, particularly an epoxy resin, and a fumaric acid monoester having an allyl group, and in some cases, (meth) acrylic acid is used as a raw material, and a novel polymerizable compound obtained by reacting them is used to generate oxygen. It has been found that a cured product which can be cured by heat and / or activated energy rays without being hindered by polymerization due to the above and can provide a cured product having good adhesion to a substrate such as PET, has completed the present invention.

【0017】即ち、本発明(I)は、一般式(1)で表
されることを特徴とする重合性化合物である。 一般式(1)
That is, the present invention (I) is a polymerizable compound represented by the general formula (1). General formula (1)

【0018】[0018]

【化30】 [Chemical 30]

【0019】(式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、R2はアルコール化合
物、フェノール化合物又はカルボン酸化合物から誘導さ
れる有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。ま
た、R2はさらに下記一般式(2)及び/又は下記一般
式(3)で表される基を含むことができる。)
(In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and R 2 is an alcohol compound. Represents an organic residue derived from a phenol compound or a carboxylic acid compound, and n represents an integer of 0 to 20. Further, R 2 is further represented by the following general formula (2) and / or the following general formula (3). Can be included groups.)

【0020】一般式(2)General formula (2)

【化31】 [Chemical 31]

【0021】(式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、nは0〜20の整数を
表す。)
(In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n is 0 to 20. Represents the integer of.)

【0022】一般式(3)General formula (3)

【化32】 [Chemical 32]

【0023】(式中、R3はH又はCH3のいずれかを表
す。) ここでいう「重合性化合物」とは、その製造原料の一部
あるいは全部にすでに定義した「エポキシ樹脂」に含ま
れる化合物を用いる場合には、いわゆる「改質エポキシ
樹脂」とも呼ばれることがある。例えば、エポキシ樹脂
にアクリル酸を付加反応させ、ラジカル重合性を付与し
たビニルエステル樹脂(エポキシアクリレート)等も
「改質エポキシ樹脂」に含まれる。
(In the formula, R 3 represents either H or CH 3. ) The “polymerizable compound” referred to herein is included in the “epoxy resin” already defined as a part or all of the production raw material. When the compound described above is used, it may be called a "modified epoxy resin". For example, a vinyl ester resin (epoxy acrylate) that is radically polymerized by addition reaction of acrylic acid with an epoxy resin is also included in the “modified epoxy resin”.

【0024】本発明(I)の重合性化合物も、エポキシ
樹脂にアリル基を持つフマル酸モノエステル、あるいは
エポキシ樹脂にアリル基を持つフマル酸モノエステルと
(メタ)アクリル酸を付加反応させ、ラジカル重合性を
付与した場合は「改質エポキシ樹脂」の一種に含まれ
る。
The polymerizable compound of the present invention (I) is also radically reacted with a fumaric acid monoester having an allyl group in an epoxy resin or a fumaric acid monoester having an allyl group in an epoxy resin and a (meth) acrylic acid. When it is polymerized, it is included in one of the “modified epoxy resins”.

【0025】さらに、ここでいう「(メタ)アクリル
酸」とは、アクリル酸、メタクリル酸及び両者の混合物
のいずれかを意味する。
The term "(meth) acrylic acid" as used herein means any one of acrylic acid, methacrylic acid and a mixture of both.

【0026】また、本発明(II)は、以下の工程を含
むことを特徴とする、本発明(I)の重合性化合物の製
造方法に関するものである。
The present invention (II) also relates to a process for producing the polymerizable compound of the present invention (I), which comprises the following steps.

【0027】工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、及び下記一般式(5)で
表される化合物から選ばれる少なくとも一種以上の付加
反応を行い重合性化合物を得る工程 一般式(4)
In the presence of a step catalyst, at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (4) and at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (5) are carried out. Process for obtaining polymerizable compound General formula (4)

【0028】[0028]

【化33】 [Chemical 33]

【0029】(式中、R4はアルコール化合物、フェノ
ール化合物又はカルボニル化合物から誘導される有機残
基を表し、qは1以上の整数を表す。) 一般式(5)
(In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q represents an integer of 1 or more.) General formula (5)

【0030】[0030]

【化34】 [Chemical 34]

【0031】(式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、nは0〜20の整数を
表す。)
(In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n is 0 to 20. Represents the integer of.)

【0032】また、本発明(III)は、本発明(I)
の重合性化合物の少なくとも一種以上を必須成分とする
ことを特徴とする重合性組成物に関するものである。
The present invention (III) also includes the present invention (I).
The present invention relates to a polymerizable composition, which comprises at least one of the above polymerizable compounds as an essential component.

【0033】さらに、本発明(IV)は、本発明(II
I)の重合性組成物100質量部に対して、少なくとも
一種以上のラジカル重合開始剤0.1質量部〜10質量
部を含有することを特徴とする重合性組成物に関するも
のである。
Further, the present invention (IV) corresponds to the present invention (II
The present invention relates to a polymerizable composition containing 0.1 part by mass to 10 parts by mass of at least one radical polymerization initiator with respect to 100 parts by mass of the polymerizable composition of I).

【0034】さらに、本発明(V)は、本発明(II
I)又は本発明(IV)のいずれかに記載の重合性組成
物を硬化して得られる硬化物及びその硬化物の製造方法
に関するものである。
Further, the present invention (V) corresponds to the present invention (II
The present invention relates to a cured product obtained by curing the polymerizable composition according to any one of I) or the present invention (IV), and a method for producing the cured product.

【0035】さらに、本発明は例えば以下の事項からな
る。 〔1〕 下記一般式(1)で表されることを特徴とする
重合性化合物。 一般式(1)
Further, the present invention comprises the following items, for example. [1] A polymerizable compound represented by the following general formula (1). General formula (1)

【化35】 (式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、R2はアルコール化合物、フェノー
ル化合物又はカルボン酸化合物から誘導される有機残基
を表し、nは0〜20の整数を表す。また、R2はさら
に下記一般式(2)及び/又は下記一般式(3)で表さ
れる基を含むことができる。) 一般式(2)
[Chemical 35] (In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and R 2 is an alcohol compound or a phenol compound. Or represents an organic residue derived from a carboxylic acid compound, n represents an integer of 0 to 20, and R 2 further represents a group represented by the following general formula (2) and / or the following general formula (3). Can be included.) General formula (2)

【化36】 (式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。) 一般式(3)
[Chemical 36] (In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. General formula (3)

【化37】 (式中、R3はH又はCH3のいずれかを表す。)[Chemical 37] (In the formula, R 3 represents either H or CH 3. )

【0036】〔2〕 一般式(1)においてR1がそれ
ぞれ独立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表さ
れる有機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上の有
機残基であることを特徴とする〔1〕に記載の重合性化
合物。 構造式(1)
[2] At least one organic residue selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7), each R 1 in the general formula (1). The polymerizable compound according to [1], wherein Structural formula (1)

【化38】 構造式(2)[Chemical 38] Structural formula (2)

【化39】 構造式(3)[Chemical Formula 39] Structural formula (3)

【化40】 [Chemical 40]

【0037】構造式(4)Structural formula (4)

【化41】 構造式(5)[Chemical 41] Structural formula (5)

【化42】 構造式(6)[Chemical 42] Structural formula (6)

【化43】 構造式(7)[Chemical 43] Structural formula (7)

【化44】 [Chemical 44]

【0038】〔3〕 一般式(1)において、R2が、
エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−
プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリ
ン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、
1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフェノール
Aプロピレンオキシド付加物、ビスフェノールAエチレ
ンオキシド付加物、臭素化ビスフェノールA、水素化ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シ
クロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、イソ
フタル酸及びテレフタル酸からなる群から選ばれる化合
物から誘導された有機残基であることを特徴とする
〔1〕又は〔2〕のいずれかに記載の重合性化合物。
[3] In the general formula (1), R 2 is
Ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-
Propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-
Hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane,
1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac Selected from the group consisting of resins, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. The polymerizable compound according to any one of [1] and [2], which is an organic residue derived from the compound described above.

【0039】〔4〕 一般式(1)においてR1がそれ
ぞれ独立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表さ
れる有機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上であ
り、且つR2がエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、1,4−シクロヘキサンジオール、1,
4−シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、
ビスフェノールAプロピレンオキシド付加物、ビスフェ
ノールAエチレンオキシド付加物、臭素化ビスフェノー
ルA、水素化ビスフェノールA、ビスフェノールF、フ
ェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、
1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカル
ボン酸、3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、
フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸からなる群か
ら選ばれる化合物から誘導される有機残基であることを
特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の重合性化
合物。
[4] In the general formula (1), R 1 is at least one or more independently selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7), and R 2 is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,4-cyclohexanediol , 1,
4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A,
Bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin,
1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid,
The polymerizable compound according to any one of [1] to [3], which is an organic residue derived from a compound selected from the group consisting of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid.

【0040】構造式(1)Structural formula (1)

【化45】 構造式(2)[Chemical formula 45] Structural formula (2)

【化46】 構造式(3)[Chemical formula 46] Structural formula (3)

【化47】 構造式(4)[Chemical 47] Structural formula (4)

【化48】 [Chemical 48]

【0041】構造式(5)Structural formula (5)

【化49】 構造式(6)[Chemical 49] Structural formula (6)

【化50】 構造式(7)[Chemical 50] Structural formula (7)

【化51】 [Chemical 51]

【0042】〔5〕 以下の工程を含むことを特徴とす
る、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の重合性化合物の
製造方法。 工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、及び下記一般式(5)で
表される化合物から選ばれる少なくとも一種以上の付加
反応を行い〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の重合性化
合物を得る工程
[5] The method for producing a polymerizable compound according to any one of [1] to [4], which comprises the following steps. In the presence of a step catalyst, at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (4) and at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (5) are subjected to an addition reaction [1]. To a step of obtaining the polymerizable compound according to any one of [4]

【0043】一般式(4)General formula (4)

【化52】 (式中、R4はアルコール化合物、フェノール化合物又
はカルボニル化合物から誘導される有機残基を表し、q
は1以上の整数を表す。)
[Chemical 52] (In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q
Represents an integer of 1 or more. )

【0044】一般式(5)General formula (5)

【化53】 (式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。)
[Chemical 53] (In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. Represents.)

【0045】〔6〕 以下の工程を含むことを特徴とす
る、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の重合性化合物の
製造方法。 工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、下記一般式(5)で表さ
れる化合物から選ばれる少なくとも一種以上、及び一般
式(6)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種
以上の付加反応を行い〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載
の重合性化合物を得る工程
[6] The method for producing a polymerizable compound according to any one of [1] to [4], which comprises the following steps. In the presence of a step catalyst, at least one selected from compounds represented by the following general formula (4), at least one selected from compounds represented by the following general formula (5), and represented by the general formula (6) To obtain the polymerizable compound according to any one of [1] to [4] by carrying out at least one addition reaction selected from the compounds described below.

【0046】一般式(4)General formula (4)

【化54】 (式中、R4はアルコール化合物、フェノール化合物又
はカルボニル化合物から誘導される有機残基を表し、q
は1以上の整数を表す。)
[Chemical 54] (In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q
Represents an integer of 1 or more. )

【0047】一般式(5)General formula (5)

【化55】 (式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。)
[Chemical 55] (In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. Represents.)

【0048】一般式(6)General formula (6)

【化56】 (式中、R6はH又はCH3のいずれかを表す。)〔7〕
一般式(4)において、R4が、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、1,4−シクロ
ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル、ビスフェノールA、ビスフェノールAプロピレンオ
キシド付加物、ビスフェノールAエチレンオキシド付加
物、臭素化ビスフェノールA、水素化ビスフェノール
A、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂、1,2−シクロヘキサンジカ
ルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキセン
−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸から誘導される有機残基の少なくとも一種以
上であることを特徴とする〔5〕又は〔6〕のいずれか
に記載の重合性化合物の製造方法。
[Chemical 56] (In the formula, R 6 represents either H or CH 3. ) [7]
In the general formula (4), R 4 is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylol. Propane, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, Cresol novolac resin, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,
[5] or [6], which is at least one organic residue derived from 4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid. A method for producing a polymerizable compound according to any one of 1.

【0049】〔8〕 一般式(5)において、R5がそ
れぞれ独立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表
される有機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上で
あることを特徴とする〔5〕〜〔7〕のいずれかに記載
の重合性化合物の製造方法。 構造式(1)
[8] In the general formula (5), each R 5 is independently at least one selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7). The method for producing a polymerizable compound according to any one of [5] to [7], characterized in that Structural formula (1)

【化57】 構造式(2)[Chemical 57] Structural formula (2)

【化58】 構造式(3)[Chemical 58] Structural formula (3)

【化59】 構造式(4)[Chemical 59] Structural formula (4)

【化60】 [Chemical 60]

【0050】構造式(5)Structural formula (5)

【化61】 構造式(6)[Chemical formula 61] Structural formula (6)

【化62】 構造式(7)[Chemical formula 62] Structural formula (7)

【化63】 [Chemical formula 63]

【0051】[0051]

〔9〕 触媒が、金属ハロゲン化物、3級
アミン、ピリジン系化合物、ピリジニウム塩、4級アン
モニウム塩、ホスフィン系化合物、ホスフォニウム塩か
らなる群から選ばれた少なくとも一種以上含むことを特
徴とする〔5〕〜〔8〕のいずれかに記載の重合性化合
物の製造方法。
[9] The catalyst contains at least one selected from the group consisting of metal halides, tertiary amines, pyridine compounds, pyridinium salts, quaternary ammonium salts, phosphine compounds and phosphonium salts [5 ] The manufacturing method of the polymeric compound in any one of [8].

【0052】〔10〕 触媒が、塩化錫、ピリジン、イ
ソキノリン、キノリン、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエ
チルアミン、トリフェニルホスフィン、エチルトリフェ
ニルホスフォニウム塩、テトラフェニルホスフォニウム
塩、ベンジルトリフェニルホスフォニウム塩からなる群
から選ばれた少なくとも一種以上含むことを特徴とする
〔5〕〜〔8〕のいずれかに記載の重合性化合物の製造
方法。
[10] The catalyst is tin chloride, pyridine, isoquinoline, quinoline, benzyltrimethylammonium salt, benzyltriethylammonium salt, 2,4,6.
-Containing at least one selected from the group consisting of tris (dimethylaminomethyl) phenol, triethylamine, triphenylphosphine, ethyltriphenylphosphonium salt, tetraphenylphosphonium salt, and benzyltriphenylphosphonium salt. The method for producing a polymerizable compound according to any one of [5] to [8], which is characterized.

【0053】〔11〕 触媒が、ラジカル重合性官能基
を有する触媒であることを特徴とする〔5〕〜〔8〕の
いずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
[11] The method for producing a polymerizable compound according to any one of [5] to [8], wherein the catalyst is a catalyst having a radically polymerizable functional group.

【0054】〔12〕 ラジカル重合性官能基を有する
触媒が、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、トリ
メチルメタクリロイルオキシエチルアンモニウム塩、ト
リメチルアクリロイルオキシエチルアンモニウム塩、2
−ビニルピリジン、3−ビニルピリジン、4−ビニルピ
リジン、N−(3−N’,N’−ジメチルアミノプロピ
ル)アクリルアミド、N−(3−N’,N’−ジメチル
アミノプロピル)メタクリルアミド、トリメチルアクリ
ロイルアミノプロピルアンモニウム塩、トリメチルメタ
クリロイルアミノプロピルアンモニウム塩、ジメチルジ
アリルアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくと
も一種以上であるを特徴とする〔11〕に記載の重合性
化合物の製造方法。
[12] A catalyst having a radically polymerizable functional group is N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, trimethylmethacryloyloxyethylammonium salt, trimethylacryloyloxyethylammonium salt, 2
-Vinylpyridine, 3-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, N- (3-N ', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (3-N', N'-dimethylaminopropyl) methacrylamide, trimethyl The method for producing a polymerizable compound according to [11], which is at least one selected from the group consisting of acryloylaminopropylammonium salt, trimethylmethacryloylaminopropylammonium salt, and dimethyldiallylammonium salt.

【0055】〔13〕 〔1〕〜〔4〕のいずれかに記
載の重合性化合物の少なくとも一種以上を必須成分とす
ることを特徴とする重合性組成物。
[13] A polymerizable composition containing at least one of the polymerizable compounds according to any one of [1] to [4] as an essential component.

【0056】〔14〕 重合性組成物中の全硬化性成分
100質量部に対して、少なくとも一種以上のラジカル
重合開始剤0.1質量部〜10質量部を含有することを
特徴とする〔13〕に記載の重合性組成物。
[14] At least one radical polymerization initiator is contained in an amount of 0.1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all curable components in the polymerizable composition [13] ] The polymerizable composition as described in.

【0057】〔15〕 〔13〕又は〔14〕のいずれ
かに記載の重合性組成物を硬化して得られる硬化物。
[15] A cured product obtained by curing the polymerizable composition as described in [13] or [14].

【0058】〔16〕 〔15〕に記載の硬化物の硬化
方法において、該硬化方法が熱硬化及び/又は活性エネ
ルギー線による硬化であることを特徴とする硬化物の製
造方法。
[16] A method for producing a cured product according to the method for curing the cured product according to [15], characterized in that the curing method is heat curing and / or curing with active energy rays.

【0059】[0059]

【発明の実施の形態】以下、本発明についてより詳しく
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below.

【0060】まず、本発明(I)の重合性化合物につい
て説明する。本発明(I)は、一般式(1)で表される
ことを特徴とする重合性化合物である。 一般式(1)
First, the polymerizable compound of the present invention (I) will be described. The present invention (I) is a polymerizable compound represented by the general formula (1). General formula (1)

【0061】[0061]

【化64】 [Chemical 64]

【0062】(式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、R2はアルコール化合
物、フェノール化合物又はカルボン酸化合物から誘導さ
れる有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。ま
た、R2はさらに下記一般式(2)及び/又は下記一般
式(3)で表される基を含むことができる。) 一般式(2)
(In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and R 2 is an alcohol compound. Represents an organic residue derived from a phenol compound or a carboxylic acid compound, and n represents an integer of 0 to 20. Further, R 2 is further represented by the following general formula (2) and / or the following general formula (3). A group represented by the general formula (2)

【0063】[0063]

【化65】 [Chemical 65]

【0064】(式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、nは0〜20の整数を
表す。) 一般式(3)
(In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n is 0 to 20. Represents the integer.) General formula (3)

【0065】[0065]

【化66】 [Chemical formula 66]

【0066】(式中、R3はH又はCH3のいずれかを表
す。)
(In the formula, R 3 represents either H or CH 3. )

【0067】一般式(1)において、R1は、アルキレ
ン基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラル
キレン基から選ばれる少なくとも一種以上を必須とする
有機残基を表す。
In the general formula (1), R 1 represents an organic residue containing at least one selected from an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group and an aralkylene group.

【0068】一般式(1)中のR1の具体例としてはメ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペ
ンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン
基、ノニレン基、デシレン基などの直鎖状のアルキレン
基、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペ
ンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン
基、シクロオクチレン基、ジシクロペンチレン基、トリ
シクロペンチレン基などのシクロアルキレン基、メチル
エチレン基などの分岐アルキレン基、フェニルエチレン
基、1,2−ジフェニルエチレン基などのアラルキレン
基、フェニレン基、ナフチレン基、アントラニレン基な
どのアリーレン基を挙げることが出来る。ただし、言う
までもなくこれらの具体例に限定されるものではない。
Specific examples of R 1 in the general formula (1) include direct groups such as methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group and decylene group. Chain-like alkylene groups, cyclopropylene groups, cyclobutylene groups, cyclopentylene groups, cyclohexylene groups, cycloheptylene groups, cyclooctylene groups, dicyclopentylene groups, tricyclopentylene groups and other cycloalkylene groups, methylethylene Examples thereof include branched alkylene groups such as groups, phenylethylene groups, aralkylene groups such as 1,2-diphenylethylene groups, phenylene groups, naphthylene groups, and arylene groups such as anthranylene groups. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0069】このうち原料の入手と合成の容易さといっ
た観点から、以下の構造式(1)〜構造式(7)である
ことが好ましい。
Of these, the following structural formulas (1) to (7) are preferable from the viewpoints of availability of raw materials and ease of synthesis.

【0070】構造式(1)Structural formula (1)

【化67】 [Chemical formula 67]

【0071】構造式(2)Structural formula (2)

【化68】 [Chemical 68]

【0072】構造式(3)Structural formula (3)

【化69】 [Chemical 69]

【0073】構造式(4)Structural formula (4)

【化70】 [Chemical 70]

【0074】構造式(5)Structural formula (5)

【化71】 [Chemical 71]

【0075】構造式(6)Structural formula (6)

【化72】 [Chemical 72]

【0076】構造式(7)Structural formula (7)

【化73】 [Chemical formula 73]

【0077】一般式(1)及び一般式(2)において
「R1はそれぞれ独立に」とは、本発明(I)の重合性
化合物中にあるすべてのR1において、各R1がそれぞれ
異なる構造であっても同じ構造であってもよいことを意
味する。つまり、すべてのR1のうち、すべてが同じ構
造であっても、一部が同じ構造でそれ以外が異なる構造
であっても、すべて異なる構造が1つずつであってもよ
いということを意味する。
In the general formula (1) and the general formula (2), "independently of R 1 " means that in all R 1 in the polymerizable compound of the present invention (I), each R 1 is different. This means that they may have the same structure or the same structure. That is, all R 1 may have the same structure, some may have the same structure and the other may have different structures, or all R 1 may have different structures. To do.

【0078】また、一般式(1)中のR2はアルコール
化合物、フェノール化合物又はカルボニル化合物から誘
導される有機残基を表す。また、R2はさらに一般式
(2)及び/又は一般式(3)で表される基を含んでい
てもよい。
R 2 in the general formula (1) represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound. In addition, R 2 may further include a group represented by the general formula (2) and / or the general formula (3).

【0079】本明細書でいう「R2はアルコール化合
物、フェノール化合物又はカルボニル化合物から誘導さ
れる有機残基を表す」とは、単に、R2が、アルコール
化合物、フェノール化合物あるいはカルボニル化合物の
みから誘導される有機残基であることを意味するのでは
なく、アルコール化合物、フェノール化合物又はカルボ
ニル化合物から誘導された有機残基をR2中に含んでい
ればよく、スルフィド等の、アルコール化合物、フェノ
ール化合物又はカルボニル化合物以外の化合物から誘導
された有機残基を、R2内に有していてもいっこうにに
かまわないことを意味する。
In the present specification, "R 2 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound" means that R 2 is derived only from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound. It does not mean that the organic residue is derived from an alcohol compound, a phenol compound, or an organic residue derived from a carbonyl compound in R 2 . It also means that it does not matter at all if R 2 has an organic residue derived from a compound other than the carbonyl compound.

【0080】ここでいう「アルコール化合物」として、
以下の化合物を例示することが出来る。
As the "alcohol compound" referred to here,
The following compounds can be illustrated.

【0081】メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、
t−ブタノールなどのモノオール化合物、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、1,3−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジ
オール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジ
オール、1,10−デカンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シ
クロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1,1−シクロヘキサンジメタノール、1,2−シ
クロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジ
メタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、水
素化ビスフェノールA、トリシクロ[5.2.1.0
2,6]デカンジメタノール、ビスフェノールAエチレン
オキシド付加物、ビスフェノールAプロピレンオキシド
付加物などのジオール化合物、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、トリメチロールエタンなどのトリオール
化合物、ペンタエリスリトール、ジグリセリンなどのテ
トラオール化合物などを挙げることが出来る。ただし、
言うまでもなくこれらの具体例に限定されるものではな
い。
Methanol, ethanol, propanol,
Isopropanol, 1-butanol, 2-butanol,
Monol compounds such as t-butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetraethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, neopentyl glycol, 1,2. -Cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,1-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4 Cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane dimethanol, bisphenol A ethylene oxide adduct, bisphenol A propylene oxide adduct and other diol compounds, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane and other triol compounds, pentaerythritol, diglycerin and other tetraol compounds, etc. Can be mentioned. However,
Needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0082】また、ここでいう「フェノール化合物」と
しては、以下の化合物を例示出来る。
The following compounds can be exemplified as the "phenol compound" used herein.

【0083】フェノール、カテコール、レゾルシノー
ル、ハイドロキノン、ビスフェノールA、臭素化ビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック
樹脂、クレゾールノボラック樹脂などを挙げることが出
来る。ただし、言うまでもなくこれらの具体例に限定さ
れるものではない。
Phenol, catechol, resorcinol, hydroquinone, bisphenol A, brominated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin and the like can be mentioned. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0084】さらに、ここでいう「カルボニル化合物」
としては、以下の化合物を例示出来る。
Furthermore, the "carbonyl compound" referred to herein
As the above, the following compounds can be exemplified.

【0085】酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、1,2−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、無水1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸、4−メチル−4−シクロ
ヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、無水フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸、1,2,3−ベンゼントリカルボン
酸、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸、1,3,5
−ベンゼントリカルボン酸などを挙げることが出来る。
ただし、言うまでもなくこれらの具体例に限定されるも
のではない。
Acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzoic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid anhydride, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid,
1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, 2,6 -Naphthalenedicarboxylic acid, 1,2,3-benzenetricarboxylic acid, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, 1,3,5
-Benzenetricarboxylic acid and the like can be mentioned.
However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0086】これらR2中に含まれる有機残基の中で特
に好ましいものとしては、特に入手の容易さの観点か
ら、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,
3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリ
セリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロ
ヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールAプロピレンオキシド付加物、ビスフェノールAエ
チレンオキシド付加物、臭素化ビスフェノールA、水素
化ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノ
ボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2−シ
クロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸から誘導される有機残基を
挙げることができる。
Among these organic residues contained in R 2 , particularly preferable ones are ethylene glycol, propylene glycol, 1, and 1, from the viewpoint of easy availability.
3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,
6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, Brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3
-Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid,
Examples thereof include organic residues derived from isophthalic acid and terephthalic acid.

【0087】一般式(1)及び一般式(2)中のR1
一般式(1)中のR2の中に含まれる有機残基の好まし
い組み合わせとしては、R1がメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチ
レン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、ジ
シクロペンチレン基、メチルエチレン基、フェニルエチ
レン基、1,2−ジフェニルエチレン基、フェニレン
基、ナフチレン基から選ばれる少なくとも一種以上の有
機残基であり、R2がエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、トリプロピレングリコール、テトラエチレング
リコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサン
ジオール、1,8−オクタンジオール、ネオペンチルグ
リコール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−
シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、水素化ビ
スフェノールA、トリシクロ[5.2.1.02,6]デ
カンジメタノール、ビスフェノールAエチレンオキシド
付加物、ビスフェノールAプロピレンオキシド付加物、
グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロール
エタン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、カテコ
ール、ビスフェノールA、臭素化ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾー
ルノボラック樹脂、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ
ル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、無水1,
2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキ
サンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸、3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、4−
メチル−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、
フタル酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸
の中から選ばれる少なくとも一種以上から誘導される有
機残基を含むことが好ましい。
[0087] Preferred combinations of the general formula (1) and organic residues contained in R 2 of the general formula (2) R 1 and the general formula in (1), R 1 is a methylene group, an ethylene group , Propylene group, butylene group, hexylene group, octylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group, dicyclopentylene group, methylethylene group, phenylethylene group, 1,2-diphenylethylene group, phenylene group, naphthylene group At least one organic residue selected, R 2 is ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetraethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octane Njioru, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3
Cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol, bisphenol A ethylene oxide adduct, bisphenol A propylene oxide Adjunct,
Glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, diglycerin, catechol, bisphenol A, brominated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, 1,2 -Cyclohexanedicarboxylic acid, anhydrous 1,
2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 4-
Methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid,
It preferably contains an organic residue derived from at least one selected from phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid and terephthalic acid.

【0088】このうち特に、原料の入手や合成の容易さ
から、R1が下記構造式(1)〜下記構造式(7)から
選ばれる少なくとも一種以上の有機残基であり、R2
エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−
プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリ
ン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、
1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフェノール
Aプロピレンオキシド付加物、ビスフェノールAエチレ
ンオキシド付加物、臭素化ビスフェノールA、水素化ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラ
ック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シ
クロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸の中から選ばれる少なくとも一
種以上から誘導される有機残基を含むことが好ましい。 構造式(1)
Of these, R 1 is at least one organic residue selected from the following structural formulas (1) to (7), and R 2 is ethylene because of easy availability of raw materials and synthesis. Glycol, propylene glycol, 1,3-
Propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-
Hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane,
1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac Resin, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid It is preferable to contain an organic residue derived from at least one or more kinds. Structural formula (1)

【0089】[0089]

【化74】 [Chemical 74]

【0090】構造式(2)Structural formula (2)

【化75】 [Chemical 75]

【0091】構造式(3)Structural formula (3)

【化76】 [Chemical 76]

【0092】構造式(4)Structural formula (4)

【化77】 [Chemical 77]

【0093】構造式(5)Structural formula (5)

【化78】 [Chemical 78]

【0094】構造式(6)Structural formula (6)

【化79】 [Chemical 79]

【0095】構造式(7)Structural formula (7)

【化80】 [Chemical 80]

【0096】一般式(1)及び一般式(2)中のnは0
から20の整数を表す。nが21以上では分子量が大き
くなるため、質量あたりの重合部位の数が少なくなり、
重合が不完全となりやすく、硬化物にしたときに十分な
硬さを得ることが出来なくなる恐れがあり好ましくな
い。
N in the general formulas (1) and (2) is 0.
Represents an integer from 20 to 20. When n is 21 or more, the molecular weight becomes large, so the number of polymerization sites per mass decreases,
Polymerization is likely to be incomplete, and there is a risk that sufficient hardness may not be obtained when a cured product is obtained, which is not preferable.

【0097】また、n=0の場合、本発明(I)の重合
性化合物はアリルエステル基を含むことになるが、nが
1以上のアリルエーテル基を含む場合に比べて若干ラジ
カル重合性が劣るため、nは1以上であることが好まし
い。
When n = 0, the polymerizable compound of the present invention (I) contains an allyl ester group, but is slightly more radically polymerizable than the case where n contains an allyl ether group of 1 or more. Since it is inferior, n is preferably 1 or more.

【0098】また、一般式(1)のR2はさらに一般式
(2)及び/又は一般式(3)で表される基を含んでい
てもよい。
R 2 in the general formula (1) may further contain a group represented by the general formula (2) and / or the general formula (3).

【0099】一般式(2)中のR1及びnについては、
前述のとおりである。
Regarding R 1 and n in the general formula (2),
As described above.

【0100】また、一般式(3)中のR3については、
HあるいはCH3のいずれかである。R3がHの場合に
は、本発明(I)の重合性化合物は、アクリロイル基を
有することになり、R3がCH3の場合には、本発明
(I)の重合性化合物は、メタクリロイル基を有するこ
とになる。本発明(I)の重合性化合物にアクリロキル
基やメタクリロイル基を導入する目的は、硬化速度を大
きくするためであり、硬化速度を増す手段としては極め
て有効な手段である。しかし、本発明(I)のカテゴリ
ーに属する化合物であって、すでに十分に硬化速度が大
きい場合には、必ずしもアクリロイル基やメタクリロイ
ル基を導入する必要はない。
Further, with respect to R 3 in the general formula (3),
Either H or CH 3 . When R 3 is H, the polymerizable compound of the present invention (I) has an acryloyl group, and when R 3 is CH 3 , the polymerizable compound of the present invention (I) is a methacryloyl group. Will have a group. The purpose of introducing an acryloyl group or a methacryloyl group into the polymerizable compound of the present invention (I) is to increase the curing rate, and is a very effective means for increasing the curing rate. However, it is not always necessary to introduce an acryloyl group or a methacryloyl group when the compound belongs to the category of the present invention (I) and the curing rate is already sufficiently high.

【0101】また、あまりに一般式(2)の構造を一般
式(3)の構造で置換しすぎると、酸素による重合阻害
を受けてしまうので、好ましいことではない。本発明
(I)の重合性化合物に含まれる一般式(3)で表され
る基の数と一般式(2)で表される基の数との比は、0
〜10であることが好ましく、より好ましくは0〜5で
あり、特に好ましくは0〜2である。
If the structure of the general formula (2) is excessively substituted with the structure of the general formula (3), the polymerization is inhibited by oxygen, which is not preferable. The ratio of the number of groups represented by the general formula (3) and the number of groups represented by the general formula (2) contained in the polymerizable compound of the present invention (I) is 0.
It is preferably from 10 to 10, more preferably from 0 to 5, and particularly preferably from 0 to 2.

【0102】一般式(3)中のR3はH又はCH3のいず
れかを表す。ただし、本発明(I)の重合性化合物が1
分子中に複数個の一般式(3)で表される基を有する場
合には、1分子中に含まれるすべてのR3が、すべてH
であっても、1分子中に含まれるすべてのR3のうち、
いくつかがHであって、残りがCH3であっても、1分
子中に含まれるすべてのR3がすべてCH3であってもい
っこうにかまわない。
R 3 in the general formula (3) represents either H or CH 3 . However, the polymerizable compound of the present invention (I) is 1
When a molecule has a plurality of groups represented by the general formula (3), all R 3 's contained in one molecule are all H's.
Even among all R 3 contained in one molecule,
It does not matter if some are H and the rest are CH 3 or all R 3 contained in one molecule are all CH 3 .

【0103】また、本発明(I)の重合性化合物は、一
分子中に少なくとも1つ以上の一般式(1)で表される
基を含んでいればよい。従って、例えば原料であるエポ
キシ化合物に存在するすべてのエポキシ基が一般式
(1)で表される基になっている必要はなく、一部にエ
ポキシ基が残存していてもいっこうにかまわない。
Further, the polymerizable compound of the present invention (I) may contain at least one or more groups represented by the general formula (1) in one molecule. Therefore, for example, it is not necessary that all the epoxy groups present in the epoxy compound as the raw material be the groups represented by the general formula (1), and even if some epoxy groups remain, it does not matter.

【0104】例えば、エポキシ化合物としてビスフェノ
ールA−ジグリシジルエーテルを用いたときに、2つの
エポキシ環がいずれも一般式(1)で表される基になっ
ていても、一つが一般式(1)で表される基になってい
て他方がエポキシ環をそのまま残していてもよい。
For example, when bisphenol A-diglycidyl ether is used as the epoxy compound, even if two epoxy rings are both groups represented by the general formula (1), one is represented by the general formula (1). And the other may leave the epoxy ring as it is.

【0105】特にフェノールノボラック樹脂等の一分子
中に多数の水酸基を有する化合物から誘導されるエポキ
シ樹脂の場合、エポキシ環のすべてが一般式(1)で表
される基になっていても、一部が一般式(1)で表され
る基になっていて他の部分がエポキシ環をそのまま残し
ていてもよい。さらには、エポキシ樹脂全体としてこの
両者が混合している状態でもかまわない。
Particularly in the case of an epoxy resin derived from a compound having a large number of hydroxyl groups in one molecule such as a phenol novolac resin, even if all of the epoxy rings are the groups represented by the general formula (1), One part may be a group represented by the general formula (1) and the other part may leave the epoxy ring as it is. Furthermore, the epoxy resin as a whole may be a mixture of both.

【0106】次に、本発明(II)についてより詳しく
説明する。
Next, the present invention (II) will be described in more detail.

【0107】本発明(II)は、以下の工程を含むこと
を特徴とする、本発明(I)の重合性化合物の製造方法
に関するものである。
The present invention (II) relates to a process for producing the polymerizable compound of the present invention (I), which comprises the following steps.

【0108】工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、及び下記一般式(5)で
表される化合物から選ばれる少なくとも一種以上の付加
反応を行い重合性化合物を得る工程 一般式(4)
In the presence of a process catalyst, at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (4) and at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (5) are carried out. Process for obtaining polymerizable compound General formula (4)

【0109】[0109]

【化81】 [Chemical 81]

【0110】(式中、R4はアルコール化合物、フェノ
ール化合物又はカルボニル化合物から誘導される有機残
基を表し、qは1以上の整数を表す。)
(In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q represents an integer of 1 or more.)

【0111】一般式(5)General formula (5)

【化82】 [Chemical formula 82]

【0112】(式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン
基、分岐アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキ
レン基及びアリーレン基からなる群から選ばれる少なく
とも一種以上の有機残基を表し、nは0〜20の整数を
表す。)
(In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n is 0 to 20. Represents the integer of.)

【0113】さらに、本発明(II)の工程では、反応
の促進のために一般的に触媒を使用する。
Further, in the step of the present invention (II), a catalyst is generally used for promoting the reaction.

【0114】本発明(II)の工程で使用する触媒とし
ては、エポキシとカルボン酸との反応で一般的に用いら
れているものであればどれでもよいが、使用する触媒の
具体例としては、塩化アルミニウム、塩化錫、塩化亜鉛
等の金属ハロゲン化物、ピリジン、α−ピコリン、イソ
キノリン、キノリン、2−ビニルピリジン、3−ビニル
ピリジン、4−ビニルピリジン等のピリジン系化合物、
N−メチルピリジニウムクロライド、N−メチルピリジ
ニウムブロマイド、N−エチルピリジニウムクロライ
ド、N−エチルピリジニウムブロマイド、2−ビニルピ
リジニウムクロライド、2−ビニルピリジニウムブロマ
イド、3−ビニルピリジニウムクロライド、3−ビニル
ピリジニウムブロマイド、4−ビニルピリジニウムクロ
ライド、4−ビニルピリジニウムブロマイド等のピリジ
ニウム塩、N,N−ベンジルジメチルアミン、N,N−
ジメチルフェニルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキ
シルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)フェノール、トリエチルアミン、トリ−n−ブチル
アミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、N−(3−N’,N’−ジメチルアミ
ノプロピル)アクリルアミド、N−(3−N’,N’−
ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド等の3級ア
ミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルト
リエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチル
アンモニウムブロマイド、トリメチルメタクリロイルオ
キシエチルアンモニウムクロライド、トリメチルメタク
リロイルオキシエチルアンモニウムブロマイド、トリメ
チルアクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライ
ド、トリメチルアクリロイルオキシエチルアンモニウム
ブロマイド、トリメチルアクリロイルアミノプロピルア
ンモニウムクロライド、トリメチルアクリロイルアミノ
プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチルメタクリ
ロイルアミノプロピルアンモニウムクロライド、トリメ
チルメタクリロイルアミノプロピルアンモニウムブロマ
イド、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド、ジメ
チルジアリルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニ
ウム塩、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系化合
物、エチルトリフェニルホスフォニウムクロライド、エ
チルトリフェニルホスフォニウムブロマイド、テトラフ
ェニルホスフォニウムクロライド、テトラフェニルホス
フォニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスフォ
ニウムクロライド、ベンジルトリフェニルホスフォニウ
ムブロマイド等のホスフォニウム塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物、炭
酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩を挙げることが
出来る。ただし、言うまでもなくこれらの具体例に限定
されるものではない。
The catalyst used in the step of the present invention (II) may be any catalyst generally used in the reaction between epoxy and carboxylic acid, and specific examples of the catalyst used include: Metal halides such as aluminum chloride, tin chloride and zinc chloride, pyridine compounds such as pyridine, α-picoline, isoquinoline, quinoline, 2-vinylpyridine, 3-vinylpyridine and 4-vinylpyridine,
N-methylpyridinium chloride, N-methylpyridinium bromide, N-ethylpyridinium chloride, N-ethylpyridinium bromide, 2-vinylpyridinium chloride, 2-vinylpyridinium bromide, 3-vinylpyridinium chloride, 3-vinylpyridinium bromide, 4- Pyridinium salts such as vinylpyridinium chloride and 4-vinylpyridinium bromide, N, N-benzyldimethylamine, N, N-
Dimethylphenylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, triethylamine, tri-n-butylamine, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, N, N-dimethylaniline , N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N- (3-N ', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (3-N', N'-
Dimethylaminopropyl) methacrylamide and other tertiary amines, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, trimethylmethacryloyloxyethylammonium chloride, trimethylmethacryloyloxyethylammonium bromide, trimethylacryloyloxyethyl Ammonium chloride, trimethylacryloyloxyethylammonium bromide, trimethylacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylacryloylaminopropylammonium bromide, trimethylmethacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylmethacryloyl Quaternary ammonium salts such as minopropylammonium bromide, dimethyldiallylammonium chloride and dimethyldiallylammonium bromide, phosphine compounds such as triphenylphosphine, ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonate. Phosphonium salts such as aluminum chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, hydroxides such as lithium hydroxide, potassium carbonate, Carbonates such as calcium carbonate can be mentioned. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0115】このうち入手の容易さや付加反応の速度か
ら特に塩化錫、ピリジン、イソキノリン、キノリン、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、トリエチルアミン、トリフェニルホスフィンや、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルト
リメチルアンモニウムブロマイド等のベンジルトリメチ
ルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウムク
ロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド
等のベンジルトリエチルアンモニウム塩、、エチルトリ
フェニルホスフォニウムクロライド、エチルトリフェニ
ルホスフォニウムブロマイド等のエチルトリフェニルホ
スフォニウム塩、テトラフェニルホスフォニウムクロラ
イド、テトラフェニルホスフォニウムブロマイド等のテ
トラフェニルホスフォニウム塩、ベンジルトリフェニル
ホスフォニウムクロライド、ベンジルトリフェニルホス
フォニウムブロマイド等のベンジルトリフェニルホスフ
ォニウム塩が好ましい。
[0115] Of these, tin chloride, pyridine, isoquinoline, quinoline,
2,4,6-Tris (dimethylaminomethyl) phenol, triethylamine, triphenylphosphine, benzyltrimethylammonium salt such as benzyltrimethylammonium chloride and benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium such as benzyltriethylammonium chloride and benzyltriethylammonium bromide Ammonium salts, ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide and other ethyltriphenylphosphonium salts, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide and other tetraphenylphosphonium salts , Benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide Benzyl triphenyl phosphonium salts such as de are preferred.

【0116】また、本発明の重合性化合物を硬化した後
の触媒の溶出を防ぐという観点では、触媒にラジカル重
合性官能基を有する触媒を用いることが好ましい。
From the viewpoint of preventing the elution of the catalyst after curing the polymerizable compound of the present invention, it is preferable to use a catalyst having a radically polymerizable functional group as the catalyst.

【0117】ラジカル重合性官能基を有する触媒の具体
例としては、2−ビニルピリジン、3−ビニルピリジ
ン、4−ビニルピリジン、N,N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リレート、N−(3−N’,N’−ジメチルアミノプロ
ピル)アクリルアミド、N−(3−N’,N’−ジメチ
ルアミノプロピル)メタクリルアミドや、トリメチルメ
タクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド、ト
リメチルメタクリロイルオキシエチルアンモニウムブロ
マイド等のトリメチルメタクリロイルオキシエチルアン
モニウム塩、トリメチルアクリロイルオキシエチルアン
モニウムクロライド、トリメチルアクリロイルオキシエ
チルアンモニウムブロマイド等のトリメチルアクリロイ
ルオキシエチルアンモニウム塩、トリメチルアクリロイ
ルアミノプロピルアンモニウムクロライド、トリメチル
アクリロイルアミノプロピルアンモニウムブロマイド等
のトリメチルアクリロイルアミノプロピルアンモニウム
塩、トリメチルメタクリロイルアミノプロピルアンモニ
ウムクロライド、トリメチルメタクリロイルアミノプロ
ピルアンモニウムブロマイド等のトリメチルメタクリロ
イルアミノプロピルアンモニウム塩、ジメチルジアリル
アンモニウムクロライド、ジメチルジアリルアンモニウ
ムブロマイド等のジメチルジアリルアンモニウム塩、2
−ビニルピリジニウムクロライド、2−ビニルピリジニ
ウムブロマイド、3−ビニルピリジニウムクロライド、
3−ビニルピリジニウムブロマイド、4−ビニルピリジ
ニウムブロマイド、4−ビニルピリジニウムブロマイド
等のビニルピリジニウム塩を挙げることができる。ただ
し、言うまでもなくこれらの具体例に限定されるもので
はない。
Specific examples of the catalyst having a radically polymerizable functional group include 2-vinylpyridine, 3-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N- (3-N ', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (3-N', N'-dimethylaminopropyl) methacrylamide, trimethylmethacryloyloxyethylammonium chloride, trimethylmethacryloyloxyethylammonium bromide, etc. Trimethylmethacryloyloxyethylammonium salt, trimethylacryloyloxyethylammonium chloride, trimethylacryloyloxyethylammonium bromide, etc. Salts, trimethylacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylacryloylaminopropylammonium bromide and other trimethylacryloylaminopropylammonium salts, trimethylmethacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylmethacryloylaminopropylammonium bromide and other trimethylmethacryloylaminopropylammonium salts, dimethyldiallylammonium Dimethyldiallylammonium salts such as chloride and dimethyldiallylammonium bromide, 2
-Vinylpyridinium chloride, 2-vinylpyridinium bromide, 3-vinylpyridinium chloride,
Examples thereof include vinylpyridinium salts such as 3-vinylpyridinium bromide, 4-vinylpyridinium bromide and 4-vinylpyridinium bromide. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0118】また、本発明の重合性化合物を硬化した後
の触媒の溶出の抑制及び入手の容易さや付加反応の速度
を考慮すると、2−ビニルピリジン、3−ビニルピリジ
ン、4−ビニルピリジン、N,N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リレート、N−(3−N’,N’−ジメチルアミノプロ
ピル)アクリルアミド、N−(3−N’,N’−ジメチ
ルアミノプロピル)メタクリルアミドや、トリメチルメ
タクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド、ト
リメチルメタクリロイルオキシエチルアンモニウムブロ
マイド等のトリメチルメタクリロイルオキシエチルアン
モニウム塩、トリメチルアクリロイルオキシエチルアン
モニウムクロライド、トリメチルアクリロイルオキシエ
チルアンモニウムブロマイド等のトリメチルアクリロイ
ルオキシエチルアンモニウム塩、トリメチルアクリロイ
ルアミノプロピルアンモニウムクロライド、トリメチル
アクリロイルアミノプロピルアンモニウムブロマイド等
のトリメチルアクリロイルアミノプロピルアンモニウム
塩、トリメチルメタクリロイルアミノプロピルアンモニ
ウムクロライド、トリメチルメタクリロイルアミノプロ
ピルアンモニウムブロマイド等のトリメチルメタクリロ
イルアミノプロピルアンモニウム塩、ジメチルジアリル
アンモニウムクロライド、ジメチルジアリルアンモニウ
ムブロマイド等のジメチルジアリルアンモニウム塩が特
に好ましい。
Further, considering the suppression of elution of the catalyst after curing the polymerizable compound of the present invention, the availability and the rate of addition reaction, 2-vinylpyridine, 3-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, N , N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N- (3-N ', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (3-N', N'-dimethylaminopropyl) methacryl Amides, trimethylmethacryloyloxyethylammonium chloride, trimethylmethacryloyloxyethylammonium bromide and other trimethylmethacryloyloxyethylammonium salts, trimethylacryloyloxyethylammonium chloride, trimethylacryloyloxyethylammonium bromide Trimethylacryloyloxyethylammonium salt such as idide, trimethylacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylacryloylaminopropylammonium bromide and other trimethylacryloylaminopropylammonium salt, trimethylmethacryloylaminopropylammonium chloride, trimethylmethacryloylaminopropylammonium bromide and other trimethylmethacryloylamino Dimethyldiallylammonium salts such as propylammonium salt, dimethyldiallylammonium chloride and dimethyldiallylammonium bromide are particularly preferred.

【0119】また、一般式(4)中のR4はアルコール
化合物、フェノール化合物又はカルボニル化合物から誘
導される有機残基を表す。
R 4 in the general formula (4) represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound.

【0120】ここでいう「アルコール化合物」として、
以下に記す化合物を例示することが出来る。
As the "alcohol compound" referred to here,
The compounds described below can be exemplified.

【0121】メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、
t−ブタノールなどのモノオール化合物、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、1,3−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジ
オール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジ
オール、1,10−デカンジオール、ネオペンチルグリ
コール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シ
クロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1,1−シクロヘキサンジメタノール、1,2−シ
クロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジ
メタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、水
素化ビスフェノールA、トリシクロ[5.2.1.0
2,6]デカンジメタノール、ビスフェノールAエチレン
オキシド付加物、ビスフェノールAプロピレンオキシド
付加物などのジオール化合物、グリセリン、トリメチロ
ールプロパン、トリメチロールエタンなどのトリオール
化合物、ペンタエリスリトール、ジグリセリンなどのテ
トラオール化合物などを挙げることが出来る。ただし、
言うまでもなくこれらの具体例に限定されるものではな
い。
Methanol, ethanol, propanol,
Isopropanol, 1-butanol, 2-butanol,
Monol compounds such as t-butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetraethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, neopentyl glycol, 1,2. -Cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,1-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4 Cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane dimethanol, bisphenol A ethylene oxide adduct, bisphenol A propylene oxide adduct and other diol compounds, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane and other triol compounds, pentaerythritol, diglycerin and other tetraol compounds, etc. Can be mentioned. However,
Needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0122】また、ここでいう「フェノール化合物」と
しては、以下の化合物を例示出来る。
The following compounds can be exemplified as the "phenol compound".

【0123】フェノール、カテコール、レゾルシノー
ル、ハイドロキノン、ビスフェノールA、臭素化ビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック
樹脂、クレゾールノボラック樹脂などを挙げることが出
来る。ただし、言うまでもなくこれらの具体例に限定さ
れるものではない。
Examples thereof include phenol, catechol, resorcinol, hydroquinone, bisphenol A, brominated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin and cresol novolac resin. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0124】さらに、ここでいう「カルボニル化合物」
としては、以下の化合物を例示出来る。
Furthermore, the "carbonyl compound" referred to herein
As the above, the following compounds can be exemplified.

【0125】酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、1,2−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、無水1,2−シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸、4−メチル−4−シクロ
ヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、無水フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸、1,2,3−ベンゼントリカルボン
酸、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸、1,3,5
−ベンゼントリカルボン酸などを挙げることが出来る。
ただし、言うまでもなくこれらの具体例に限定されるも
のではない。
Acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzoic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid,
1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, 2,6 -Naphthalenedicarboxylic acid, 1,2,3-benzenetricarboxylic acid, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, 1,3,5
-Benzenetricarboxylic acid and the like can be mentioned.
However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0126】特に入手の容易さといった観点から、一般
式(4)中のR4としては、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4
−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−シクロヘキサン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ビス
フェノールA、ビスフェノールAプロピレンオキシド付
加物、ビスフェノールAエチレンオキシド付加物、臭素
化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノ
ボラック樹脂、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル
酸からなる群から選ばれる化合物から誘導される有機残
基であることが特に好ましい。
From the viewpoint of easy availability, R 4 in the general formula (4) is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4
-Butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, Bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid,
1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-
Particularly preferred is an organic residue derived from a compound selected from the group consisting of dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid.

【0127】また、一般式(4)で表される化合物に
は、エポキシ樹脂も含まれる。エポキシ樹脂に関しては
前記「エンジニアリングプラスチック事典」に詳細な記
述がある。もちろん、これに記載の化合物に限定される
わけではない。前述のように一般式(4)で表される化
合物としてエポキシ樹脂を用いた場合、本発明の重合性
化合物はその原料から「改質エポキシ樹脂」と呼ばれる
こともある。
The compound represented by the general formula (4) also includes an epoxy resin. The epoxy resin is described in detail in the above "Encyclopedia of Engineering Plastics". Of course, it is not limited to the compounds described therein. When an epoxy resin is used as the compound represented by the general formula (4) as described above, the polymerizable compound of the present invention may be referred to as a “modified epoxy resin” from its raw material.

【0128】一般式(4)で表される化合物におけるq
は1以上の整数であれば特に制限はない。好ましくは2
〜20の範囲である。
Q in the compound represented by the general formula (4)
Is not particularly limited as long as it is an integer of 1 or more. Preferably 2
The range is from -20.

【0129】一般式(5)において、R5はそれぞれ独
立にアルキレン基、分岐アルキレン基、シクロアルキレ
ン基、アラルキレン基及びアリーレン基から選ばれる少
なくとも一種以上から誘導される有機残基を表す。
In formula (5), each R 5 independently represents an organic residue derived from at least one selected from an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group.

【0130】一般式(5)中のR5の具体例としてはメ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペ
ンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン
基、ノニレン基、デシレン基などの直鎖状のアルキレン
基、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペ
ンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン
基、シクロオクチレン基、ジシクロペンチレン基、トリ
シクロペンチレン基などのシクロアルキレン基、メチル
エチレン基などの分岐アルキレン基、フェニルエチレン
基、1,2−ジフェニルエチレン基などのアラルキレン
基、フェニレン基、ナフチレン基、アントラニレン基な
どのアリーレン基を挙げることが出来る。ただし、言う
までもなくこれらの具体例に限定されるものではない。
Specific examples of R 5 in the general formula (5) include direct groups such as methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, nonylene group and decylene group. Chain-like alkylene groups, cyclopropylene groups, cyclobutylene groups, cyclopentylene groups, cyclohexylene groups, cycloheptylene groups, cyclooctylene groups, dicyclopentylene groups, tricyclopentylene groups and other cycloalkylene groups, methylethylene Examples thereof include branched alkylene groups such as groups, phenylethylene groups, aralkylene groups such as 1,2-diphenylethylene groups, phenylene groups, naphthylene groups, and arylene groups such as anthranylene groups. However, needless to say, it is not limited to these specific examples.

【0131】このうち、原料の入手と一般式(5)で示
される化合物の合成の容易さといった観点から、以下の
構造式(1)〜構造式(7)で表される有機残基の中か
ら選ばれる少なくとも一種以上であることが好ましい。
Of these, from the viewpoint of availability of raw materials and easiness of synthesis of the compound represented by the general formula (5), among the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7), It is preferably at least one selected from

【0132】構造式(1)Structural formula (1)

【化83】 [Chemical 83]

【0133】構造式(2)Structural formula (2)

【化84】 [Chemical 84]

【0134】構造式(3)Structural formula (3)

【化85】 [Chemical 85]

【0135】構造式(4)Structural formula (4)

【化86】 [Chemical 86]

【0136】構造式(5)Structural formula (5)

【化87】 [Chemical 87]

【0137】構造式(6)Structural formula (6)

【化88】 [Chemical 88]

【0138】構造式(7)Structural formula (7)

【化89】 [Chemical 89]

【0139】一般式(5)において「R5はそれぞれ独
立に」とはn個のR5がそれぞれ異なってもよいことを
意味する。つまり、n個のR5のうち、同じ構造がn個
であっても、一部が同じ構造でそれ以外が異なる構造で
あっても、n種類の構造が1つずつであってもよいとい
うことを意味する。
In the general formula (5), "R 5 is independently of each other" means that n R 5 s may be different from each other. In other words, among n R 5 , the same structure may be n, some may be the same structure and the others may be different, or n kinds of structures may be provided one by one. Means that.

【0140】本発明(II)において一般式(4)のR
4と一般式(5)のR5での好ましい組み合わせとして
は、一般式(4)中のR4がエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、テトラエチ
レングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,8−オクタンジオール、ネオペン
チルグリコール、1,2−シクロヘキサンジオール、
1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、
水素化ビスフェノールA、トリシクロ[5.2.1.0
2,6]デカンジメタノール、ビスフェノールAエチレン
オキシド付加物、ビスフェノールAプロピレンオキシド
付加物、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールエタン、ペンタエリスリトール、ジグリセリ
ン、カテコール、ビスフェノールA、臭素化ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、安息香酸、マレイン
酸、無水マレイン酸、フマル酸、1,2−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、無水1,2−シクロヘキサンジカルボ
ン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−
シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、4−メチル−4−シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、無水フタル酸、
イソフタル酸、テレフタル酸からなる群から選ばれる化
合物から誘導される少なくとも一種以上の有機残基であ
り、且つ一般式(5)中のR5がメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチ
レン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、ジ
シクロペンチレン基、メチルエチレン基、フェニルエチ
レン基、1,2−ジフェニルエチレン基、フェニレン
基、ナフチレン基から選ばれる少なくとも一種以上の有
機残基であることが望ましい。
In the present invention (II), R of the general formula (4)
4 and Preferred combinations in R 5 in the general formula (5), R 4 is ethylene glycol of the general formula (4), diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol , Tetraethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanediol,
1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol,
Hydrogenated bisphenol A, tricyclo [5.2.1.0]
2,6 ] Decanedimethanol, bisphenol A ethylene oxide adduct, bisphenol A propylene oxide adduct, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, diglycerin, catechol, bisphenol A, brominated bisphenol A, bisphenol F, Phenol novolac resin, cresol novolac resin, benzoic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid anhydride, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-
Cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-
1,2-dicarboxylic acid, 4-methyl-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, phthalic anhydride,
At least one organic residue derived from a compound selected from the group consisting of isophthalic acid and terephthalic acid, and R 5 in the general formula (5) is a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or hexylene. Group, octylene group, cyclopentylene group, cyclohexylene group, dicyclopentylene group, methylethylene group, phenylethylene group, 1,2-diphenylethylene group, phenylene group, at least one organic residue selected from naphthylene group It is desirable that it is a group.

【0141】このうち特に、原料の入手や合成の容易さ
から、一般式(4)中のR4がエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,
4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−シクロヘキサン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ビス
フェノールA、ビスフェノールAプロピレンオキシド付
加物、ビスフェノールAエチレンオキシド付加物、臭素
化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノ
ボラック樹脂、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸
からなる群から選ばれる化合物から誘導される少なくと
も一種以上の有機残基であり、一般式(5)中のR
5が、下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表される
有機残基から選ばれる少なくとも一種以上の有機残基で
あることが好ましい。
Of these, R 4 in the general formula (4) is particularly ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1, or 3 because of easy availability of raw materials and easy synthesis.
4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct , Bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid,
1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-
At least one organic residue derived from a compound selected from the group consisting of dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid, and R in the general formula (5)
5 is preferably at least one or more organic residue selected from an organic residue represented by the following structural formula (1) to the following structural formula (7).

【0142】構造式(1)Structural formula (1)

【化90】 [Chemical 90]

【0143】構造式(2)Structural formula (2)

【化91】 [Chemical Formula 91]

【0144】構造式(3)Structural formula (3)

【化92】 [Chemical Formula 92]

【0145】構造式(4)Structural formula (4)

【化93】 [Chemical formula 93]

【0146】構造式(5)Structural formula (5)

【化94】 [Chemical 94]

【0147】構造式(6)Structural formula (6)

【化95】 [Chemical 95]

【0148】構造式(7)Structural formula (7)

【化96】 [Chemical 96]

【0149】また、本発明(II)の製造方法において
は、一般式(5)で表される化合物の少なくとも一種以
上のカルボン酸と併用して、下記一般式(6)で表され
る化合物を併用することができ、本発明(I)の重合性
化合物の硬化速度を大きくする目的においては好ましい
ことである。一般式(6)
In the production method of the present invention (II), the compound represented by the following general formula (6) is used in combination with at least one carboxylic acid of the compound represented by the general formula (5). It can be used in combination and is preferable for the purpose of increasing the curing rate of the polymerizable compound of the present invention (I). General formula (6)

【0150】[0150]

【化97】 [Chemical 97]

【0151】この一般式(6)中のR6はH又はCH3
いずれかを表す。
R 6 in this general formula (6) represents either H or CH 3 .

【0152】即ち、R6がHの場合には、一般式(6)
で表される化合物はアクリル酸を意味し、R6がCH3
場合には、一般式(6)で表される化合物はメタクリル
酸を意味する。
That is, when R 6 is H, the general formula (6)
The compound represented by means acrylic acid, and when R 6 is CH 3 , the compound represented by the general formula (6) means methacrylic acid.

【0153】本発明(II)の製造方法において、一般
式(6)で表される化合物を使用する場合、一般式
(6)で表される化合物としてアクリル酸のみを使用し
ても、メタクリル酸のみを使用しても、あるいは、アク
リル酸とメタクリル酸を併用してもいっこうにかまわな
い。
In the production method of the present invention (II), when the compound represented by the general formula (6) is used, even if only acrylic acid is used as the compound represented by the general formula (6), methacrylic acid is used. It does not matter whether only acrylic acid and methacrylic acid are used together.

【0154】さらに、本発明(I)の重合性化合物の硬
化性を損なわない範囲において、一般式(5)で表され
る化合物の少なくとも一種以上のカルボン酸と併用し
て、一般式(6)で表される化合物以外のカルボン酸を
併用してもよい。一般式(5)で表される化合物の少な
くとも一種以上のカルボン酸と併用される、一般式
(6)で表される化合物以外のカルボン酸としては、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、1−フェニル安息
香酸、2−フェニル安息香酸、4−フェニル安息香酸、
ジフェニル酢酸等を挙げることができる。ただし、言う
までもなく、これらの具体例に限定されるものではな
い。
Further, as long as the curability of the polymerizable compound of the present invention (I) is not impaired, the compound of the general formula (6) is used in combination with at least one carboxylic acid of the compound of the general formula (5). You may use together carboxylic acid other than the compound represented by. Examples of the carboxylic acid other than the compound represented by the general formula (6), which is used in combination with at least one carboxylic acid of the compound represented by the general formula (5), include acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzoic acid, 1 -Phenylbenzoic acid, 2-phenylbenzoic acid, 4-phenylbenzoic acid,
Examples thereof include diphenylacetic acid. However, needless to say, the present invention is not limited to these specific examples.

【0155】本発明(II)の製造方法で用いられる工
程の付加反応の反応温度には特に制限はないが、一般に
は0℃〜200℃であり、好ましくは20℃〜150
℃、より好ましくは50℃〜120℃である。0℃以下
では反応が非常に遅くなり、また200℃以上では重合
や分解を引き起こすため好ましくない。
The reaction temperature of the addition reaction in the step used in the production method of the present invention (II) is not particularly limited, but is generally 0 ° C to 200 ° C, preferably 20 ° C to 150 ° C.
C., more preferably 50 to 120.degree. If the temperature is lower than 0 ° C, the reaction becomes very slow, and if the temperature is higher than 200 ° C, polymerization or decomposition is caused, which is not preferable.

【0156】この工程の付加反応には溶媒を用いること
が出来る。特に固体や高粘度の原料を用いる場合は、攪
拌が困難となるため溶媒を用いることが好ましい。用い
ることが可能な溶媒としては、付加反応を阻害するもの
でなければ特に制限はないが、例えば、トルエン、キシ
レン、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなど
を挙げることが出来る。これらの溶媒は一種又は二種以
上を組み合わせて用いることが出来る。この中でトルエ
ン、キシレンが特に好ましい。
A solvent can be used for the addition reaction in this step. Particularly when a solid or highly viscous raw material is used, it is difficult to stir, and thus it is preferable to use a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the addition reaction, for example, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate,
Examples thereof include n-propyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Of these, toluene and xylene are particularly preferable.

【0157】この工程の付加反応の原料仕込比として
は、一般式(4)で表される化合物中のエポキシ基1モ
ルに対して、一般式(5)で表される化合物と一般式
(6)で表される化合物の合計のモル数が0.5モル〜
1.5モル、好ましくは0.8モル〜1.2モル、より
好ましくは0.9モル〜1.1モルである。一般式
(5)で表される化合物と一般式(6)で表される化合
物の合計のモル数が一般式(4)で表される化合物中の
エポキシ基1モルに対して0.5モルより少なければ、
目的の重合性化合物が少なくなり十分に硬化させること
が出来ないし、1.5モルより多ければ、一般式(5)
で表される化合物が過剰になり硬化が不充分になる可能
性があり好ましくない。
As a raw material charging ratio for the addition reaction in this step, the compound represented by the general formula (5) and the general formula (6) are used with respect to 1 mol of the epoxy group in the compound represented by the general formula (4). ) The total number of moles of the compound represented by
The amount is 1.5 mol, preferably 0.8 mol to 1.2 mol, and more preferably 0.9 mol to 1.1 mol. The total number of moles of the compound represented by the general formula (5) and the compound represented by the general formula (6) is 0.5 mol with respect to 1 mol of the epoxy group in the compound represented by the general formula (4). Less than,
If the amount of the polymerizable compound of interest is too small to cure sufficiently, and if it exceeds 1.5 moles, the compound of the general formula (5)
There is a possibility that the compound represented by is excessive and the curing becomes insufficient, which is not preferable.

【0158】また、一般式(5)で表される化合物に対
する一般式(6)で表される化合物の原料仕込比は任意
であるが、好ましくは0〜10の範囲であり、さらに、
好ましくは0〜5の範囲である。
The raw material charging ratio of the compound represented by the general formula (6) to the compound represented by the general formula (5) is arbitrary, but is preferably in the range of 0 to 10, and further,
It is preferably in the range of 0-5.

【0159】また、この工程で用いる触媒の量は、一般
式(4)で表される化合物、一般式(5)で表される化
合物及び一般式(6)で表される化合物の総量に対し
て、0.01質量%〜10質量%、好ましくは0.1質
量%〜5質量%であり、さらに好ましくは0.1質量%
〜3質量%である。0.01質量%よりも少ない量では
反応速度が遅くなるため加熱時間が長くなり、生成した
重合性化合物が熱重合する恐れがあり好ましくない。ま
た、10質量%より多い量では、また着色が顕著になる
恐れがあり経済的な面からも好ましいことではない。
The amount of the catalyst used in this step is based on the total amount of the compound represented by the general formula (4), the compound represented by the general formula (5) and the compound represented by the general formula (6). 0.01% by mass to 10% by mass, preferably 0.1% by mass to 5% by mass, more preferably 0.1% by mass.
~ 3% by mass. If the amount is less than 0.01% by mass, the reaction rate becomes slow and the heating time becomes long, so that the generated polymerizable compound may be thermally polymerized, which is not preferable. Further, if the amount is more than 10% by mass, coloring may become remarkable, which is not preferable from the economical viewpoint.

【0160】さらに、この工程では生成した重合性化合
物の熱重合を抑制するために重合禁止剤を用いることが
出来る。用いる重合禁止剤については特に制限はない
が、例えば、p−ベンゾキノン、2,5−ジフェニル−
p−ベンゾキノンなどのキノン類、ハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、p−t−ブチルカテ
コール、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、モノ
−t−ブチルハイドロキノン及び下記構造式(8)〜下
記構造式(17)などのフェノール系化合物を挙げるこ
とが出来る。
Further, in this step, a polymerization inhibitor can be used in order to suppress thermal polymerization of the produced polymerizable compound. The polymerization inhibitor used is not particularly limited, but examples thereof include p-benzoquinone and 2,5-diphenyl-
Quinones such as p-benzoquinone, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pt-butylcatechol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, mono-t-butylhydroquinone and the following structural formula (8) to the following structural formula ( Phenol compounds such as 17) can be mentioned.

【0161】構造式(8)Structural formula (8)

【化98】 [Chemical 98]

【0162】構造式(9)Structural formula (9)

【化99】 [Chemical 99]

【0163】構造式(10)Structural formula (10)

【化100】 [Chemical 100]

【0164】構造式(11)Structural formula (11)

【化101】 [Chemical 101]

【0165】構造式(12)Structural formula (12)

【化102】 [Chemical 102]

【0166】構造式(13)Structural formula (13)

【化103】 [Chemical 103]

【0167】構造式(14)Structural formula (14)

【化104】 [Chemical 104]

【0168】構造式(15)Structural formula (15)

【化105】 [Chemical 105]

【0169】構造式(16)Structural formula (16)

【化106】 [Chemical formula 106]

【0170】構造式(17)Structural formula (17)

【化107】 [Chemical formula 107]

【0171】次に、本発明(III)についてより詳し
く説明する。本発明(III)は、本発明(I)の重合
性化合物の少なくとも一種以上を必須とすることを特徴
とする重合性組成物に関するものである。
Next, the present invention (III) will be described in more detail. The present invention (III) relates to a polymerizable composition which comprises at least one or more of the polymerizable compounds of the present invention (I).

【0172】本発明(III)の重合性組成物は、必要
に応じて本発明(I)の重合性化合物に種々の重合性モ
ノマー、溶剤、光重合増感剤などを混合することにより
得ることが出来る。
The polymerizable composition of the present invention (III) is obtained by mixing the polymerizable compound of the present invention (I) with various polymerizable monomers, solvents, photopolymerization sensitizers, etc., if necessary. Can be done.

【0173】本発明(III)の重合性組成物には、重
合性モノマーを含有してもよい。用いることが可能な重
合性モノマーとしては、重合性を有するものであれば特
に制限はないが、例えば、アクリル酸、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、スチレン、マレイン酸モノ
アリル、フマル酸モノアリル、マレイン酸ジアリル、フ
マル酸ジアリル、マレイン酸モノ(アリルオキシエチ
ル)、フマル酸モノ(アリルオキシエチル)、マレイン
酸ビス(アリルオキシエチル)、フマル酸ビス(アリル
オキシエチル)などを挙げることが出来る。これらの重
合性モノマーは一種又は二種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
The polymerizable composition of the present invention (III) may contain a polymerizable monomer. The polymerizable monomer that can be used is not particularly limited as long as it has a polymerizable property, and examples thereof include acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and styrene. , Monoallyl maleate, monoallyl fumarate, diallyl maleate, diallyl fumarate, mono (allyloxyethyl) maleate, mono (allyloxyethyl) fumarate, bis (allyloxyethyl) maleate, bis (allyloxy) fumarate Ethyl) and the like. These polymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0174】本発明(III)の重合性組成物には、粘
度を調節する目的で、溶剤を含有してもよい。用いるこ
とが可能な溶剤は一般的に用いられているものなら特に
制限はないが、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、トルエ
ン、キシレンなどを挙げることが出来る。これらの溶剤
は一種又は二種以上を組み合わせて用いることができ
る。
The polymerizable composition of the present invention (III) may contain a solvent for the purpose of adjusting the viscosity. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it is generally used, and examples thereof include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, toluene, and xylene. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0175】さらに、本発明(III)の重合性組成物
には、光重合増感剤を含有してもよい。用いることが可
能な光重合増感剤としては一般的に用いられているもの
であれば特に制限はないが、例えば、チオピリリウム
塩、メロシアニン、キノリン、スチルキノリン、アリー
ルケトン類、芳香族ケトン類、ケトクマリン類などを挙
げることが出来る。
Further, the polymerizable composition of the present invention (III) may contain a photopolymerization sensitizer. The photopolymerization sensitizer that can be used is not particularly limited as long as it is generally used, for example, thiopyrylium salt, merocyanine, quinoline, stilquinoline, aryl ketones, aromatic ketones, Examples include ketocoumarins.

【0176】本発明(III)の重合性組成物は無触媒
で熱硬化、電子線硬化、γ線硬化することが可能であ
る。時に、熱硬化の場合は硬化温度を下げるため、又は
硬化速度を速めるために熱重合開始剤を用いることがで
き、かつ好ましい。
The polymerizable composition of the present invention (III) can be heat-cured, electron beam-cured and γ-ray-cured without a catalyst. At times, in the case of thermal curing, a thermal polymerization initiator can be used in order to lower the curing temperature or to accelerate the curing rate, and it is preferable.

【0177】次に、本発明(IV)についてより詳しく
説明する。
Next, the present invention (IV) will be described in more detail.

【0178】本発明(IV)は、本発明(III)の重
合性組成物100質量部に対して、少なくとも一種以上
のラジカル重合開始剤0.1質量部〜10質量部を含有
することを特徴とする重合性組成物に関するものであ
る。
The present invention (IV) is characterized by containing 0.1 part by mass to 10 parts by mass of at least one radical polymerization initiator with respect to 100 parts by mass of the polymerizable composition of the present invention (III). And a polymerizable composition.

【0179】本発明(IV)のラジカル重合開始剤とし
ては、一般的に用いられているものであれば特に制限は
ない。
The radical polymerization initiator of the present invention (IV) is not particularly limited as long as it is a commonly used one.

【0180】例えば、熱重合開始剤であれば、2,2’
−アゾビスイソブチロにトリル、2,2’−アゾビスイ
ソバレロニトリルなどのアゾ系開始剤、メチルエチルケ
トンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシ
ド、シクロヘキサノンパーオキシド、などのケトンパー
オキシド類、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパー
オキシド、デカノイルパーオキシドなどのジアシルパー
オキシド類、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロ
ヘキサン、2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ンなどのパーオキシケタール類、t−ブチルパーオキシ
ピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−
t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ
−t−ブチルパーオキシアゼレート、t−ブチルパーオ
キシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブ
チルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベン
ゾエート、ジ−t−ブチルパーオキシトリメチルアジペ
ートなどのアルキルパーオキシエステル類、ジイソプロ
ピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネートなどのパーオキシカーボネートなど
が挙げられる。これらの熱重合開始剤は一種又は二種以
上を組み合わせて用いることが出来る。
For example, in the case of a thermal polymerization initiator, 2,2 '
-Azobisisobutyro, tolyl, azo initiators such as 2,2'-azobisisovaleronitrile, ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, benzoyl peroxide , Diacyl peroxides such as lauroyl peroxide and decanoyl peroxide, peroxyketals such as 1,1-di-t-butylperoxycyclohexane and 2,2-di- (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, di-
t-butylperoxyhexahydroterephthalate, di-t-butylperoxyazelate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, Examples thereof include alkyl peroxy esters such as di-t-butyl peroxytrimethyl adipate, peroxy carbonates such as diisopropyl peroxy dicarbonate, di-sec-butyl peroxy dicarbonate and t-butyl peroxy isopropyl carbonate. These thermal polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

【0181】レドックス重合開始剤を用いれば常温付近
での重合が可能である。例えば、メチルエチルケトンパ
ーオキシドとナフテン酸コバルトの組み合わせ、キュメ
ンパーオキシドとナフテン酸マンガンの組み合わせ、ベ
ンゾイルパーオキシドとナフテン酸コバルトの組み合わ
せ、アセト酢酸エステルパーオキシドとナフテン酸コバ
ルトの組み合わせなどのケトンパーオキシドと金属の有
機酸塩との組み合わせ、ベンゾイルパーオキシドとN,
N−ジメチルアニリンの組み合わせ、t−ブチルヒドロ
パーオキシドとN,N−ジメチル−p−トルイジンの組
み合わせ、ジベンゾイルパーオキシドとN,N−ジメチ
ルアニリンとの組み合わせなどのパーオキシドと芳香族
3級アミンとの組み合わせなどをレドックス重合開始剤
として用いることが出来る。
If a redox polymerization initiator is used, polymerization can be carried out at around room temperature. For example, a combination of methyl ethyl ketone peroxide and cobalt naphthenate, a combination of cumene peroxide and manganese naphthenate, a combination of benzoyl peroxide and cobalt naphthenate, a combination of acetoacetic ester peroxide and cobalt naphthenate, and a metal such as ketone peroxide and a metal. Combination with an organic acid salt of benzoyl peroxide and N,
A peroxide and an aromatic tertiary amine such as a combination of N-dimethylaniline, a combination of t-butyl hydroperoxide and N, N-dimethyl-p-toluidine, a combination of dibenzoyl peroxide and N, N-dimethylaniline, and the like. Can be used as a redox polymerization initiator.

【0182】また、活性エネルギー線としては、近赤外
線、可視光線、紫外線、真空赤外線、X線、γ線、電子
線等を挙げることができる。
Examples of active energy rays include near infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, vacuum infrared rays, X rays, γ rays, and electron rays.

【0183】このうち可視光線又は紫外線照射による重
合で用いるラジカル重合開始剤の具体例としては、例え
ば、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−
1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ
プロパン、1,2−ベンジル−2−メチルアミノ−1−
(4−モルホリノフェニル)ブタノン、1,2−ヒドロ
オキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン
などのアセトフェノン又はその誘導体、ベンゾフェノ
ン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
4−トリメチルシリルベンゾフェノン、4−ベンゾイル
−4’−メチルジフェニルスルフィドなどのベンゾフェ
ノン又はその誘導体、ベンゾイン、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなど
のベンゾイン又はその誘導体、メチルフェニルグリオキ
シレート、ベンゾインジメチルケタール、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−フェニルホ
スフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイ
ル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−エトキ
シフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジク
ロルベンゾイル)−4−ビフェニリルホスフィンオキサ
イド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−プロ
ピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジ
クロルベンゾイル)−2−ナフチルホスフィンオキサイ
ド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−1−ナフチ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベン
ゾイル)−4−クロルフェニルホスフィンオキサイド、
ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−2,4−ジメト
キシフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジ
クロルベンゾイル)−デシルホスフィンオキサイド、ビ
ス(2,6−ジクロルベンゾイル)−4−オクチルフェ
ニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベ
ンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキ
サイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−フェニ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチ
ルベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィン
オキサイド、ビス(2,6−ジクロル−3,4,5−ト
リメトキシベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホ
スフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロル−3,
4,5−トリメトキシベンゾイル)−4−エトキシフェ
ニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メチル−1−ナ
フトイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキ
サイド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−2,5
−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メチル−
1−ナフトイル)−4−ビフェニリルホスフィンオキサ
イド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−4−エト
キシビフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メチ
ル−1−ナフトイル)−2−ナフチルホスフィンオキサ
イド、ビス(2−メチル−1−ナフトイル)−4−プロ
ピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2−メトキ
ル−1−ナフトイル)−2,5−ジメチルフェニルホス
フィンオキサイド、ビス(2−メトキル−1−ナフトイ
ル)−4−メトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビ
ス(2−メトキル−1−ナフトイル)−4−ビフェニリ
ルホスフィンオキサイド、ビス(2−クロル−1−ナフ
トイル)−2,5−ジメチルフェニリルホスフィンオキ
サイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,
4,6−トリメチルペンチルホスフィンオキサイドなど
が挙げられる。
Of these, specific examples of the radical polymerization initiator used in the polymerization by visible light or ultraviolet irradiation include, for example, acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-
1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane, 1,2-benzyl-2-methylamino-1-
(4-morpholinophenyl) butanone, acetophenone such as 1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one or its derivative, benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone 4-trimethylsilylbenzophenone , Benzophenone such as 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide or a derivative thereof, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin such as benzoin isopropyl ether or a derivative thereof, methylphenylglyoxylate, benzoin dimethyl Ketal, 2,4,6-
Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) ) -4-Ethoxyphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -4-biphenylylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -4-propylphenylphosphine oxide, bis (2,6) -Dichlorobenzoyl) -2-naphthylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -1-naphthylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -4-chlorophenylphosphine oxide,
Bis (2,6-dichlorobenzoyl) -2,4-dimethoxyphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -decylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -4-octylphenyl Phosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl)- 2,5-Dimethylphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichloro-3,4,5-trimethoxybenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichloro-3,
4,5-trimethoxybenzoyl) -4-ethoxyphenylphosphine oxide, bis (2-methyl-1-naphthoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2-methyl-1-naphthoyl) -2,5
-Phenylphosphine oxide, bis (2-methyl-
1-naphthoyl) -4-biphenylylphosphine oxide, bis (2-methyl-1-naphthoyl) -4-ethoxybiphenylphosphine oxide, bis (2-methyl-1-naphthoyl) -2-naphthylphosphine oxide, bis (2 -Methyl-1-naphthoyl) -4-propylphenylphosphine oxide, bis (2-methoxyl-1-naphthoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2-methoyl-1-naphthoyl) -4-methoxyphenyl Phosphine oxide, bis (2-methoxyl-1-naphthoyl) -4-biphenylylphosphine oxide, bis (2-chloro-1-naphthoyl) -2,5-dimethylphenylylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) ) -2,
4,6-trimethylpentylphosphine oxide and the like can be mentioned.

【0184】また、可視光線に感光する重合開始剤の具
体例としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエ
ン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1
H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム(商
品名:IRGACURE784 チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ株式会社製)等を挙げることができる。
Specific examples of the polymerization initiator which is sensitive to visible light include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1).
H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium (trade name: IRGACURE784 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

【0185】また、可視光線及び/又は近赤外線に感光
する重合開始剤の具体例としては、可視光あるいは近赤
外光領域に感光性を有する下記一般式(7)で表される
可視光及び/又は近赤外光吸収性陽イオン色素と、下記
一般式(8)のホウ素系化合物との組み合わせが挙げら
れる。 一般式(7) D+ ・ A- (式中、D+は近赤外光領域に吸収をもつ、陽イオン色
素、A-は、各種陰イオンを示す)
Further, specific examples of the polymerization initiator which is sensitive to visible light and / or near infrared rays include visible light represented by the following general formula (7) which has a photosensitivity in the visible light or near infrared light region. / Or a combination of a near infrared absorptive cation dye and a boron-based compound represented by the following general formula (8). General formula (7) D + · A (In the formula, D + is a cationic dye having absorption in the near-infrared light region, and A is various anions.)

【0186】一般式(8)General formula (8)

【化108】 [Chemical 108]

【0187】(式中、Z+は任意の陽イオンを示し、R7
〜R10はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、ア
リル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シリル基、複素環基、ハロゲン原子、置換アルキル基、
置換アリール基、置換アリル基、置換アラルキル基、置
換アルケニル基、置換アルキニル基又は置換シリル基を
示す)
(In the formula, Z + represents an arbitrary cation, and R 7
To R 10 are each independently an alkyl group, an aryl group, an allyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group,
Silyl group, heterocyclic group, halogen atom, substituted alkyl group,
Substituted aryl group, substituted allyl group, substituted aralkyl group, substituted alkenyl group, substituted alkynyl group or substituted silyl group)

【0188】本発明の一般式(7)の陽イオン色素は、
具体的には通常400nmから2000nmの範囲で任
意の波長領域に吸収を持つ色素であり、好ましくは50
0nmから1500nmの範囲である。
The cationic dye of the general formula (7) of the present invention is
Specifically, it is usually a dye having absorption in an arbitrary wavelength region in the range of 400 nm to 2000 nm, and preferably 50.
It is in the range of 0 nm to 1500 nm.

【0189】本発明の陽イオン(D+)の好ましいもの
としては例えばメチン、ポリメチン、インドリン、シア
ニン、キサンテン、オキサジン、チアジン、ジアリール
メタン、トリアリールメタン、ピリリウム系陽イオン色
素の陽イオンなどが挙げられる。かかる陽イオン色素の
代表例としては、構造式(18)〜構造式(31)で表
されるような陽イオンが挙げることができる。
Preferred examples of the cation (D + ) of the present invention include methine, polymethine, indoline, cyanine, xanthene, oxazine, thiazine, diarylmethane, triarylmethane, and cations of pyrylium cation dyes. To be Representative examples of such cation dyes include cations represented by structural formulas (18) to (31).

【0190】構造式(18)Structural formula (18)

【化109】 [Chemical 109]

【0191】構造式(19)Structural formula (19)

【化110】 [Chemical 110]

【0192】構造式(20)Structural formula (20)

【化111】 [Chemical 111]

【0193】構造式(21)Structural formula (21)

【化112】 [Chemical 112]

【0194】構造式(22)Structural formula (22)

【化113】 [Chemical 113]

【0195】構造式(23)Structural formula (23)

【化114】 [Chemical 114]

【0196】構造式(24)Structural formula (24)

【化115】 [Chemical 115]

【0197】構造式(25)Structural formula (25)

【化116】 [Chemical formula 116]

【0198】構造式(26)Structural formula (26)

【化117】 [Chemical 117]

【0199】構造式(27)Structural formula (27)

【化118】 [Chemical 118]

【0200】構造式(28)Structural formula (28)

【化119】 [Chemical formula 119]

【0201】構造式(29)Structural formula (29)

【化120】 [Chemical 120]

【0202】構造式(30)Structural formula (30)

【化121】 [Chemical 121]

【0203】構造式(31)Structural formula (31)

【化122】 カウンターアニオンであるA-は任意の陰イオンである
が、下記一般式(9)に示す4配位ホウ素アニオンが特
に好ましい。
[Chemical formula 122] The counter anion A is an arbitrary anion, but the tetracoordinated boron anion represented by the following general formula (9) is particularly preferable.

【0204】一般式(9)General formula (9)

【化123】 [Chemical 123]

【0205】(式中、R11〜R14はそれぞれ独立してア
ルキル基、アリール基、アリル基、アラルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、シリル基、複素環基、ハロゲ
ン原子、置換アルキル基、置換アリール基、置換アリル
基、置換アラルキル基、置換アルケニル基、置換アルキ
ニル基又は置換シリル基を示す)
(In the formula, R 11 to R 14 are each independently an alkyl group, an aryl group, an allyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a substituted alkyl group or a substituted alkyl group. Aryl group, substituted allyl group, substituted aralkyl group, substituted alkenyl group, substituted alkynyl group or substituted silyl group)

【0206】具体例としては、n−ブチルトリフェニル
ホウ素イオン、n−オクチルトリフェニルホウ素イオ
ン、トリフェニルシリルトリフェニルホウ素イオン、ジ
−n−ドデシルジフェニルホウ素イオン、テトラフェニ
ルホウ素イオン、トリ−n−ブチル(ジメチルフェニル
シリル)ホウ素イオンなどが挙げられ、更に詳細には特
開平6−75374号公報の明細書に記載された陰イオ
ン等が挙げられる。
As specific examples, n-butyltriphenylboron ion, n-octyltriphenylboron ion, triphenylsilyltriphenylboron ion, di-n-dodecyldiphenylboron ion, tetraphenylboron ion, tri-n- Examples thereof include butyl (dimethylphenylsilyl) boron ion, and more specifically, the anion described in the specification of JP-A-6-75374.

【0207】また、一般式(8)で表されるホウ素系触
媒において、陰イオンである4配位ホウ素イオンの具体
例な例としては、n−ブチルトリフェニルホウ素イオ
ン、n−オクチルトリフェニルホウ素イオン、トリフェ
ニルシリルトリフェニルホウ素イオン、n−ブチルトリ
アニシルホウ素イオン、n−ブチルトリ(p−フルオロ
フェニル)ホウ素イオン、n−ブチルトリ(p−トリフ
ルオロメチルフェニル)ホウ素イオン、ジ−n−ドデシ
ルジフェニルホウ素イオン、テトラフェニルホウ素イオ
ン、トリフェニルナフチルホウ素イオン、テトラブチル
ホウ素イオン、トリ−n−ブチル(ジメチルフェニルシ
リル)ホウ素イオンなどが挙げられる。また式中に記載
の陽イオン(Z+)は下記一般式(10)で表わされる
4級アンモニウム陽イオン又は4級ピリジニウム陽イオ
ン、4級キノリニウム陽イオン、ジアゾニウム陽イオ
ン、テトラゾリウム陽イオン、ホスホニウム陽イオン、
(オキソ)スルホニウム陽イオン、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の金属陽イ
オン、フラビリウム、ピラニウム塩などの有機酸素陽イ
オン、トロピリウム、シクロプロピリウム等の炭素陽イ
オン、ヨードニウム等のハロゲニウム陽イオン、砒素、
コバルト、クロム、パラジウム、チタン、スズ、アンチ
モンなどの金属化合物の陽イオン等が挙げられ、特開昭
6−75374号特許明細書中に詳細な記載がある。こ
れら陽イオン色素及びホウ素系触媒は単独又は二種以上
を混合して用いることもできる。
In the boron-based catalyst represented by the general formula (8), specific examples of the 4-coordinate boron ion which is an anion include n-butyltriphenylboron ion and n-octyltriphenylboron. Ion, triphenylsilyltriphenylboron ion, n-butyltrianisylboron ion, n-butyltri (p-fluorophenyl) boron ion, n-butyltri (p-trifluoromethylphenyl) boron ion, di-n-dodecyldiphenyl Examples thereof include boron ion, tetraphenylboron ion, triphenylnaphthylboron ion, tetrabutylboron ion, and tri-n-butyl (dimethylphenylsilyl) boron ion. The cation (Z + ) described in the formula is a quaternary ammonium cation or a quaternary pyridinium cation represented by the following general formula (10), a quaternary quinolinium cation, a diazonium cation, a tetrazolium cation, a phosphonium cation. ion,
(Oxo) sulfonium cation, metal cation such as sodium, potassium, lithium, magnesium, calcium, organic oxygen cation such as flavylium and pyranium salt, carbon cation such as tropylium and cyclopropylium, halogenium cation such as iodonium ,arsenic,
Examples thereof include cations of metal compounds such as cobalt, chromium, palladium, titanium, tin and antimony, which are described in detail in the specification of JP-A-6-75374. These cationic dyes and boron-based catalysts may be used alone or in admixture of two or more.

【0208】一般式(10)General formula (10)

【化124】 [Chemical formula 124]

【0209】(式中、R15 〜R18はそれぞれ独立して
水素原子、アルキル基、アリール基、アリル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、置換
アルキル基、置換アリール基、置換アリル基、置換アラ
ルキル基、置換アルケニル基又は置換アルキニル基を示
す)
(In the formula, R 15 to R 18 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an allyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a heterocyclic group, a substituted alkyl group, a substituted aryl group, Indicates a substituted allyl group, a substituted aralkyl group, a substituted alkenyl group or a substituted alkynyl group)

【0210】これらの近赤外線、可視光線又は紫外線に
よる重合で用いるラジカル重合開始剤は一種又は二種以
上を組み合わせて用いることが出来る。
These radical polymerization initiators used in the polymerization with near infrared rays, visible rays or ultraviolet rays can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0211】また、熱重合開始剤、レドックス重合開始
剤、紫外線、可視光線あるいは近赤外線で感光するラジ
カル重合開始剤を混合して用いることも出来る。
Further, a thermal polymerization initiator, a redox polymerization initiator and a radical polymerization initiator which is sensitive to ultraviolet rays, visible rays or near infrared rays can be mixed and used.

【0212】これらのラジカル重合開始剤は、重合性組
成物中の全硬化性成分100質量部に対して0.1質量
部〜10質量部の範囲で配合されることが好ましく、さ
らに好ましくは、0.3質量部〜7質量部であり、特に
好ましくは、0.5質量部〜5質量部である。0.1質
量部未満では、該組成物の硬化が不十分になる恐れがあ
る。また、10質量部を越えて添加することは、経済上
好ましくない。
These radical polymerization initiators are preferably blended in the range of 0.1 parts by mass to 10 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of all the curable components in the polymerizable composition. It is 0.3 parts by mass to 7 parts by mass, and particularly preferably 0.5 parts by mass to 5 parts by mass. If the amount is less than 0.1 part by mass, the composition may be insufficiently cured. Further, it is economically unfavorable to add more than 10 parts by mass.

【0213】さらに、本発明(V)は、本発明(II
I)又は本発明(IV)のいずれかに記載の重合性組成
物を硬化して得られる硬化物及びその硬化物の製造方法
に関するものである。
Further, the present invention (V) corresponds to the present invention (II
The present invention relates to a cured product obtained by curing the polymerizable composition according to any one of I) or the present invention (IV), and a method for producing the cured product.

【0214】つまり、本発明(III)又は本発明(I
V)のいずれかに記載の重合性組成物をラジカル重合な
どをさせることにより、本発明(V)の硬化物を得るこ
とが出来る。
That is, the present invention (III) or the present invention (I
The cured product of the present invention (V) can be obtained by radically polymerizing the polymerizable composition according to any one of V).

【0215】本発明(V)の硬化方法としては、熱硬化
及び/又は活性エネルギー線による硬化を挙げることが
でき、熱硬化及び/又は近赤外線、可視光線、紫外線、
電子線による硬化が好ましく、熱硬化及び/又は可視光
線、紫外線による硬化が特に好ましい。また、異なる硬
化方法を二種以上組み合わせて硬化物を得ることも出来
る。
Examples of the curing method of the present invention (V) include thermal curing and / or curing with active energy rays. Thermal curing and / or near infrared ray, visible light ray, ultraviolet ray,
Curing with an electron beam is preferable, and curing with heat and / or visible light or ultraviolet rays is particularly preferable. Further, a cured product can be obtained by combining two or more different curing methods.

【0216】ラジカル重合開始剤を含有しない重合性組
成物の熱硬化の反応温度は、通常、50℃〜300℃、
好ましくは100℃〜250℃である。50℃以下では
硬化が進行しづらく、300℃以上では重合性組成物及
び硬化物が変質する恐れがあり好ましくない。
The reaction temperature for heat curing of the polymerizable composition containing no radical polymerization initiator is usually 50 ° C. to 300 ° C.,
It is preferably 100 ° C to 250 ° C. If the temperature is 50 ° C. or lower, curing is difficult to proceed, and if the temperature is 300 ° C. or higher, the polymerizable composition and the cured product may deteriorate, which is not preferable.

【0217】また、熱重合開始剤、レドックス重合開始
剤による硬化では、硬化に最適な温度はラジカルが発生
する温度に支配される。
In curing with a thermal polymerization initiator or a redox polymerization initiator, the optimum temperature for curing depends on the temperature at which radicals are generated.

【0218】活性エネルギー線の内、可視光線又は紫外
線による硬化の光源としては、例えば、低圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、重水素ランプ、メタルハライ
ドランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、タングス
テンランプ、ガリウムランプ、カーボンアーク灯、白熱
電球、蛍光灯、エキシマランプ、レーザーなどを用いる
ことが出来る。これらの光源の内、高圧水銀灯、メタル
ハライドランプが特に好ましい。
Of the active energy rays, the light source for curing by visible light or ultraviolet rays is, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, a gallium lamp. , A carbon arc lamp, an incandescent lamp, a fluorescent lamp, an excimer lamp, a laser, etc. can be used. Among these light sources, a high pressure mercury lamp and a metal halide lamp are particularly preferable.

【0219】可視光線又は紫外線硬化の光源の波長とし
ては通常200nm〜750nm、好ましくは200n
m〜450nmであり、照射量としては通常10mJ/
cm 2〜1000mJ/cm2、好ましくは100mJ/
cm2〜700mJ/cm2である。
As a wavelength of a visible light or ultraviolet curing light source
Usually 200 nm to 750 nm, preferably 200 n
m-450 nm, and the irradiation dose is usually 10 mJ /
cm 2~ 1000mJ / cm2, Preferably 100 mJ /
cm2~ 700 mJ / cm2Is.

【0220】電子線を用いた硬化では、その照射方式と
して、スキャニング方式、ブロードビーム方式、カーテ
ンビーム方式、イオンプラズマ方式等を挙げることがで
き、その照射量としては通常0.1Gy〜200kGy
であり、1Gy〜100kGyが好ましい。
In the curing using an electron beam, the irradiation method can be a scanning method, a broad beam method, a curtain beam method, an ion plasma method or the like, and the irradiation amount is usually 0.1 Gy to 200 kGy.
And 1 Gy to 100 kGy is preferable.

【0221】[0221]

【実施例】以下本発明を実施例により、詳細な説明を行
うが、本発明はこれらに限定するものではない。諸物性
の測定については以下のとおりに実施した。 1.屈折率(nD) (株)アタゴ製「アッベ屈折計1T」を用いて、室温に
おける屈折率(nD)を測定した。
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these. The measurement of various physical properties was performed as follows. 1. Using a refractive index (n D) (Co.) Atago Ltd. "Abbe refractometer 1T", a refractive index was measured at room temperature (n D).

【0222】2.酸価 JIS K 0070に記載の酸価の試験方法により測
定した。また、反応の転化率、収率、純度は、あらかじ
め作成しておいた検量線を用い、各成分を高速液体クロ
マトグラム装置で絶対検量線法により定量を行い決定し
た。用いたカラムはショウデックス(登録商標)F−4
11A(昭和電工(株)製)、溶媒は1重量%りん酸水
溶液/メタノール=7/3で流速1.0ml/分、検出
装置はSPD−10AVvp((株)島津製作所製)を
用い210nmで各成分のピークを検出した。
2. Acid value Measured by the acid value test method described in JIS K 0070. The conversion rate, yield, and purity of the reaction were determined by quantifying each component by an absolute calibration curve method using a high performance liquid chromatogram device using a calibration curve prepared in advance. The column used was Showdex (registered trademark) F-4.
11A (manufactured by Showa Denko KK), solvent is 1% by weight phosphoric acid aqueous solution / methanol = 7/3, flow rate is 1.0 ml / min, and detection device is SPD-10AVvp (manufactured by Shimadzu Corporation) at 210 nm. The peak of each component was detected.

【0223】(製造例−1)フマル酸モノアリル(以
下、「H−DAF」と略す。)の合成 2リットルのフラスコに無水マレイン酸474.25g
(4.837mol)、アリルアルコール260.69
g(4.833mol)、トルエン500mlを仕込ん
で窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オ
イルバスで60℃に加熱した。14時間後、加熱を止
め、フラスコを冷却した。この反応物に500mlのト
ルエンと1リットルの水を加えて分液し、トルエン層を
エバポレーターで濃縮して目的のマレイン酸モノアリル
(以下、「H−DAM」と略す。)279.01gを得
た。収率は37.0%であった。
(Production Example-1) Monoallyl fumarate (hereinafter
Below, it is abbreviated as "H-DAF". ) Synthesis of maleic anhydride 474.25 g in a 2 liter flask
(4.837 mol), allyl alcohol 260.69
g (4.833 mol) and 500 ml of toluene were charged, and the reaction solution was heated to 60 ° C. in an oil bath under a nitrogen stream while stirring with a magnetic stirrer. After 14 hours, heating was stopped and the flask was cooled. To this reaction product, 500 ml of toluene and 1 liter of water were added for liquid separation, and the toluene layer was concentrated with an evaporator to obtain 279.01 g of a desired monoallyl maleate (hereinafter, abbreviated as "H-DAM"). . The yield was 37.0%.

【0224】還流装置を備え付けた300ミリリットル
のフラスコに上記で合成したH−DAM100.04g
(0.64mol)、トルエン50.00g、濃塩酸
1.01g(H−DAMに対して1質量%)、ハイドロ
キノンモノメチルエーテル0.01gを仕込んで窒素気
流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバス
で140℃で加熱してトルエンを還流させた。4時間
後、加熱を止め、フラスコを冷却した。この反応物に2
00mlのトルエンを加えて結晶をろ過し、100ml
のトルエンで2回、結晶を洗った。結晶を150mlの
酢酸エチルで溶解して、不溶物をろ過して除いた。エバ
ポレーターでろ液を濃縮して目的のH−DAFを38.
39g得た。収率は38.4%であった。
In a 300 ml flask equipped with a reflux device, 100.04 g of H-DAM synthesized above
(0.64 mol), 50.00 g of toluene, 1.01 g of concentrated hydrochloric acid (1 mass% with respect to H-DAM), and 0.01 g of hydroquinone monomethyl ether were charged, and the reaction solution was stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. While heating at 140 ° C. in an oil bath, the toluene was refluxed. After 4 hours, heating was stopped and the flask was cooled. 2 for this reaction
00 ml of toluene was added and the crystals were filtered to obtain 100 ml.
The crystals were washed twice with toluene. The crystals were dissolved in 150 ml of ethyl acetate, and insoluble materials were removed by filtration. The filtrate was concentrated with an evaporator to give the desired H-DAF at 38.
39 g were obtained. The yield was 38.4%.

【0225】(製造例−2)フマル酸モノアリルオキシ
エチル(以下、「H−BAF」と略す。)の合成 2リットルのフラスコに無水マレイン酸500g(5.
10mol)、エチレングリコールモノアリルエーテル
573g(5.61mol)、ハイドロキノンモノメチ
ルエーテル0.05gを仕込んで窒素気流下、反応液を
磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで50℃に加熱
した。24時間後、加熱を止め、フラスコを冷却した。
この反応液を高速液体クロマトグラムで分析したとこ
ろ、無水マレイン酸の転化率は95%であった。
(Production Example-2) Monoallyloxy fumarate
Synthesis of ethyl (hereinafter abbreviated as "H-BAF") 500 g of maleic anhydride (5.
10 mol), 573 g (5.61 mol) of ethylene glycol monoallyl ether, and 0.05 g of hydroquinone monomethyl ether were charged, and the reaction solution was heated to 50 ° C. in an oil bath under a nitrogen stream while stirring with a magnetic stirrer. After 24 hours, heating was stopped and the flask was cooled.
When this reaction liquid was analyzed by a high performance liquid chromatogram, the conversion rate of maleic anhydride was 95%.

【0226】さらに還流装置を備え付けた2リットルの
フラスコに上記の反応液499.54gを仕込み、トル
エン215.07g、濃塩酸4.99g(原料に対して
1質量%)、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.2
5gを仕込んで窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌
しながら、オイルバスで140℃で加熱してトルエンを
還流させた。3時間後、加熱を止め、フラスコを冷却し
た。この反応液に500mlのトルエンを加えて、ろ過
し、不溶物を除いた。塩酸を除くためにこのろ液に50
0mlの水を加えて分液ロートで分液した。トルエン層
をエバポレーターで濃縮して目的のH−BAFを428
g得た。無水マレイン酸を基準とした収率は90%であ
った。
Further, in a 2 liter flask equipped with a reflux device, 499.54 g of the above reaction solution was charged, and 215.07 g of toluene, 4.99 g of concentrated hydrochloric acid (1% by mass relative to the raw material), and hydroquinone monomethyl ether 0.2
5 g was charged and the reaction solution was stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream and heated at 140 ° C. in an oil bath to reflux toluene. After 3 hours, heating was stopped and the flask was cooled. To this reaction solution, 500 ml of toluene was added and filtered to remove insoluble materials. Add 50 to this filtrate to remove hydrochloric acid.
0 ml of water was added and the mixture was separated with a separating funnel. The toluene layer was concentrated with an evaporator to obtain the desired H-BAF 428.
g was obtained. The yield based on maleic anhydride was 90%.

【0227】実施例1 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4100G(ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、エポキシ当量1
85、旭電化工業(株)製)374.0g、TPP−Z
c(ベンジルトリフェニルホスホスホニウムクロライ
ド、北興化学工業(株)製)5.73g、IRGANO
X1010(ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート〕、チバスペシャルティーケミカルス
(株)製)0.4gを仕込んで窒素気流下、反応液を磁
気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで100℃に加熱
した。9時間後、加熱を止め、フラスコを冷却した。こ
の化合物を「サンプルA」とする。サンプルAの屈折率
は1.544であり、酸価は1.7であった。サンプル
Aの1H−NMRスペクトル及びIRスペクトルを、そ
れぞれ図1及び図2に示す。
Example 1 40 g of H-BAF (2.0 mo) was added to a 1 l flask.
l), Adeka Resin (registered trademark) EP-4100G (bisphenol A diglycidyl ether, epoxy equivalent 1
85, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 374.0 g, TPP-Z
c (benzyltriphenylphosphosphonium chloride, manufactured by Hokuko Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 5.73 g, IRGANO
X1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate] and Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. 0.4 g were charged, and the reaction solution was heated to 100 ° C. in an oil bath under a nitrogen stream while stirring with a magnetic stir bar. After 9 hours, heating was stopped and the flask was cooled. This compound is designated as "Sample A". Sample A had a refractive index of 1.544 and an acid value of 1.7. The 1 H-NMR spectrum and IR spectrum of Sample A are shown in FIGS. 1 and 2, respectively.

【0228】実施例2 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカグリシロール(登録商標)ED−505
(トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、エ
ポキシ当量153、旭電化工業(株)製)307.6
g、TPP−Zc(ベンジルトリフェニルホスホニウム
クロライド、北興化学工業(株)製)4.25g、IR
GANOX(登録商標)1010(ペンタエリスリチル
−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート〕、チバスペシャル
ティーケミカルス(株)製)0.42gを仕込んで窒素
気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバ
スで100℃に加熱した。この化合物を「サンプルB」
とする。このサンプルBの屈折率は1.500であり、
酸価は17.4であった。サンプルBの1H−NMRス
ペクトル及びIRスペクトルを、それぞれ図3及び図4
に示す。
Example 2 H-BAF 400.4 g (2.0 mo) was added to a 1-liter flask.
l), ADEKA GLYSILOL (registered trademark) ED-505
(Trimethylolpropane triglycidyl ether, epoxy equivalent 153, Asahi Denka Kogyo KK) 307.6
g, TPP-Zc (benzyltriphenylphosphonium chloride, manufactured by Hokuko Chemical Industry Co., Ltd.) 4.25 g, IR
GANOX (registered trademark) 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.42 g was charged and nitrogen was added. The reaction solution was heated to 100 ° C. in an oil bath while stirring with a magnetic stirrer under an air stream. This compound is "Sample B"
And The refractive index of this sample B is 1.500,
The acid value was 17.4. The 1 H-NMR spectrum and IR spectrum of sample B are shown in FIGS. 3 and 4, respectively.
Shown in.

【0229】実施例3 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4080E(水
素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、エポキシ
当量214、旭電化工業(株)製)446.0g、TP
P−Zc(ベンジルトリフェニルホスホスホニウムクロ
ライド、北興化学工業(株)製)6.26g、IRGA
NOX(登録商標)1010(ペンタエリスリチル−テ
トラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート〕、チバスペシャルティ
ーケミカルス(株)製)0.4gを仕込んで窒素気流
下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで
100℃に加熱した。この化合物を「サンプルC」とす
る。このサンプルCの屈折率は1.507であり、酸価
は0.7であった。
Example 3 40 g of H-BAF (2.0 mo) was added to a 1 l flask.
1), Adeka Resin (registered trademark) EP-4080E (hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, epoxy equivalent 214, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) 446.0 g, TP
6.26 g of P-Zc (benzyltriphenylphosphosphonium chloride, manufactured by Kitako Chemical Co., Ltd.), IRGA
NOX (registered trademark) 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 g was charged and nitrogen was added. The reaction solution was heated to 100 ° C. in an oil bath while stirring with a magnetic stirrer under an air stream. This compound is designated as "Sample C". The refractive index of this sample C was 1.507 and the acid value was 0.7.

【0230】実施例4 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4088S(ト
リシクロ〔5.2.1.02,6〕デカンジメタノールジ
グリシジルエーテル、エポキシ当量178、旭電化工業
(株)製)446.0g、TPP−Zc(ベンジルトリ
フェニルホスホスホニウムクロライド、北興化学工業
(株)製)6.26g、IRGANOX1010(ペン
タエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、
チバスペシャルティーケミカルス(株)製)0.4gを
仕込んで窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しなが
ら、オイルバスで100℃に加熱した。この化合物を
「サンプルD」とする。このサンプルDの屈折率は1.
511であり、酸価は12.3であった。サンプルDの
1H−NMRスペクトル及びIRスペクトルを、それぞ
れ図5及び図6に示す。
Example 4 In a 1-liter flask, 400.4 g of H-BAF (2.0 mo)
l), Adekaresin (registered trademark) EP-4088S (tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane dimethanol diglycidyl ether, epoxy equivalent 178, Asahi Denka Kogyo KK) 446.0 g, TPP- Zc (benzyltriphenylphosphosphonium chloride, manufactured by Hokuko Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 6.26 g, IRGANOX 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate],
0.4 g of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was charged and the reaction solution was heated to 100 ° C. in an oil bath under a nitrogen stream while stirring with a magnetic stirrer. This compound is designated as "Sample D". The refractive index of this sample D is 1.
It was 511 and the acid value was 12.3. Of sample D
The 1 H-NMR spectrum and IR spectrum are shown in FIGS. 5 and 6, respectively.

【0231】実施例5 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4085S
(1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエ
ーテル、エポキシ当量146、旭電化工業(株)製)2
92g、TPP−Zc(ベンジルトリフェニルホスホス
ホニウムクロライド、北興化学工業(株)製)5.12
g、IRGANOX(登録商標)1010(ペンタエリ
スリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、チバス
ペシャルティーケミカルス(株)製)0.4gを仕込ん
で窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オ
イルバスで100℃に加熱した。この化合物を「サンプ
ルE」とする。このサンプルEの屈折率は1.511で
あり、酸価は12.3であった。サンプルEの1H−N
MRスペクトル及びIRスペクトルを、それぞれ図7及
び図8に示す。
Example 5 40 g of H-BAF (2.0 mo) was added to a 1 l flask.
l), Adeka Resin (registered trademark) EP-4085S
(1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, epoxy equivalent 146, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 2
92 g, TPP-Zc (benzyltriphenylphosphosphonium chloride, manufactured by Hokko Chemical Industry Co., Ltd.) 5.12
g, IRGANOX (registered trademark) 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 g The mixture was heated to 100 ° C. in an oil bath while being stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. This compound is designated as "Sample E". The refractive index of this sample E was 1.511, and the acid value was 12.3. Sample E 1 H-N
The MR spectrum and IR spectrum are shown in FIGS. 7 and 8, respectively.

【0232】実施例6 300mlのフラスコにH−BAF48.39g(0.
242mol)、アラルダイトECN(登録商標)12
73(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ
当量214、旭チバ(株)製)51.70g、トルエン
43.42g、DMP−30(2,4,6−トリス(ジ
メチルアミノメチル)フェノール、和光純薬工業(株)
製)0.50g、ハイドロキノンモノメチルエーテル
0.02gを仕込んで窒素気流下、反応液を磁気攪拌子
で攪拌しながら、オイルバスで100℃に加熱した。2
2時間後、加熱を止め、フラスコを冷却した。この反応
液を高速液体クロマトグラフ法で分析したところ、原料
のH−BAFは0.92g残存しており、H−BAFの
転化率は98.1%であることが分かった。この化合物
を「サンプルF」とする。
Example 6 H-BAF 48.39 g (0.
242 mol), Araldite ECN (registered trademark) 12
73 (cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 214, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) 51.70 g, toluene 43.42 g, DMP-30 (2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (stock)
0.50 g of hydroquinone monomethyl ether and 0.02 g of hydroquinone monomethyl ether were charged, and the reaction solution was heated to 100 ° C. in an oil bath under a nitrogen stream while stirring with a magnetic stirrer. Two
After 2 hours, heating was stopped and the flask was cooled. When this reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography, it was found that 0.92 g of H-BAF as a raw material remained and the conversion rate of H-BAF was 98.1%. This compound is designated as "Sample F".

【0233】実施例7 300mlのフラスコにH−BAF12.90g(0.
064mol)、アクリル酸4.62g(0.064m
ol)、アラルダイトEPN(登録商標)1180(フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量17
9、旭チバ(株)製)22.91g、トルエン48.2
4g、DMP−30(2,4,6−トリス(ジメチルア
ミノメチル)フェノール、和光純薬工業(株)製)0.
49g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.02g
を仕込んで窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しな
がら、オイルバスで100℃に加熱した。13時間後、
加熱を止め、フラスコを冷却した。この反応液を高速液
体クロマトグラフ法で分析したところ、原料のH−BA
Fは0.06g、アクリル酸が1.21g残存している
ことが分かった。H−BAFの転化率は99.5%、ア
クリル酸の転化率は76.0%であった。この化合物を
「サンプルG」とする。
Example 7 12.90 g of H-BAF (0.
064 mol), acrylic acid 4.62 g (0.064 m)
ol), Araldite EPN (registered trademark) 1180 (phenol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 17)
9, Asahi Ciba Co., Ltd.) 22.91 g, toluene 48.2
4 g, DMP-30 (2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
49 g, hydroquinone monomethyl ether 0.02 g
Was heated in an oil bath at 100 ° C. while stirring the reaction solution with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. 13 hours later
The heat was turned off and the flask was cooled. When this reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography, it was found that the starting material, H-BA
It was found that 0.06 g of F and 1.21 g of acrylic acid remained. The conversion rate of H-BAF was 99.5%, and the conversion rate of acrylic acid was 76.0%. This compound is designated as "Sample G".

【0234】実施例8 300mlのフラスコにH−BAF12.90g(0.
064mol)、アクリル酸4.63g(0.064m
ol)、アラルダイトECN(登録商標)1273(ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量21
4、旭チバ(株)製)30.75g、トルエン48.2
4g、DMP−30(2,4,6−トリス(ジメチルア
ミノメチル)フェノール、和光純薬工業(株)製)0.
49g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.02g
を仕込んで窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しな
がら、オイルバスで100℃に加熱した。13時間後、
加熱を止め、フラスコを冷却した。この反応液を高速液
体クロマトグラフ法で分析したところ、原料のH−BA
Fは0.06g、アクリル酸が1.21g残存している
ことが分かった。H−BAFの転化率は99.5%、ア
クリル酸の転化率は76.0%であった。この化合物を
「サンプルH」とする。
Example 8 12.90 g of H-BAF (0.
064 mol), acrylic acid 4.63 g (0.064 m)
ol), Araldite ECN (registered trademark) 1273 (cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 21
4, Asahi Chiba Co., Ltd.) 30.75 g, toluene 48.2
4 g, DMP-30 (2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
49 g, hydroquinone monomethyl ether 0.02 g
Was heated in an oil bath at 100 ° C. while stirring the reaction solution with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. 13 hours later
The heat was turned off and the flask was cooled. When this reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography, it was found that the starting material, H-BA
It was found that 0.06 g of F and 1.21 g of acrylic acid remained. The conversion rate of H-BAF was 99.5%, and the conversion rate of acrylic acid was 76.0%. This compound is designated as "Sample H".

【0235】実施例9 300mlのフラスコにH−BAF58.10g(0.
290mol)、アデカグリシロールED−507(グ
リセリントリグリシジルエーテル、エポキシ当量14
5、旭電化工業(株)製)42.02g、DMP−30
(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、和光純薬工業(株)製)0.50g、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル0.02gを仕込んで窒素気流
下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで
100℃に加熱した。20時間後、加熱を止め、フラス
コを冷却した。この化合物を「サンプルI」とする。こ
のサンプルIの屈折率は1.497であり、酸価は2.
14であった。
Example 9 58.10 g of H-BAF (0.
290 mol), ADECA GLYSILOL ED-507 (glycerin triglycidyl ether, epoxy equivalent 14
5, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 42.02 g, DMP-30
(2,4,6-Tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.50 g and hydroquinone monomethyl ether 0.02 g were charged and the reaction solution was stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. While heating to 100 ° C. in an oil bath. After 20 hours, heating was stopped and the flask was cooled. This compound is referred to as "Sample I". This sample I has a refractive index of 1.497 and an acid value of 2.
It was 14.

【0236】実施例10 300mlのフラスコにH−BAF31.28g(0.
156mol)、アクリル酸11.28g(0.156
mol)、アラルダイトAER(登録商標)2502
(ジグリシジルビスフェノールA、エポキシ当量18
5、旭チバ(株)製)57.68g、DMP−30
(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、和光純薬工業(株)製)0.50g、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル0.02gを仕込んで窒素気流
下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで
80℃に加熱した。11時間後、加熱を止め、フラスコ
を冷却した。この反応液を高速液体クロマトグラフ法で
分析したところ、原料のH−BAFは消失しており、ア
クリル酸が1.21g残存していることが分かった。H
−BAFの転化率は100%、アクリル酸の転化率は8
9.3%であった。この化合物を「サンプルJ」とす
る。
Example 10 31.28 g of H-BAF (0.
156 mol), acrylic acid 11.28 g (0.156
mol), Araldite AER (registered trademark) 2502
(Diglycidyl bisphenol A, epoxy equivalent 18
5, Asahi Ciba Co., Ltd.) 57.68 g, DMP-30
(2,4,6-Tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.50 g and hydroquinone monomethyl ether 0.02 g were charged and the reaction solution was stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. While heating to 80 ° C. in an oil bath. After 11 hours, heating was stopped and the flask was cooled. When this reaction liquid was analyzed by high performance liquid chromatography, it was found that H-BAF as a raw material had disappeared and that 1.21 g of acrylic acid remained. H
-BAF conversion is 100%, acrylic acid conversion is 8
It was 9.3%. This compound is designated as "Sample J".

【0237】実施例11 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4100G(ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、エポキシ当量1
85、旭電化工業(株)製)374.0g、N,N−ジ
メチルアミノエチルメタクリレート(共栄社化学(株)
製)8.00g、IRGANOX1010(ペンタエリ
スリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、チバス
ペシャルティーケミカルス(株)製)0.4gを仕込ん
で窒素気流下、反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オ
イルバスで110℃に加熱した。6時間後、加熱を止
め、フラスコを冷却した。この化合物を「サンプルK」
とする。サンプルKの屈折率は1.544であり、酸価
は6.5であった。
Example 11 40 g of H-BAF (2.0 mo) in a 1 l flask.
l), Adeka Resin (registered trademark) EP-4100G (bisphenol A diglycidyl ether, epoxy equivalent 1
85, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. 374.0 g, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
8.0 g, IRGANOX 1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 g were charged. Under a nitrogen stream, the reaction solution was heated to 110 ° C. in an oil bath while being stirred by a magnetic stirrer. After 6 hours, heating was stopped and the flask was cooled. This compound is "Sample K"
And Sample K had a refractive index of 1.544 and an acid value of 6.5.

【0238】実施例12 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4100G(ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、エポキシ当量1
85、旭電化工業(株)製)374.0g、トリメチル
メタクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド
(共栄社化学株式会社製)8.00g、IRGANOX
1010(ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート〕、チバスペシャルティーケミカルス
(株)製)0.4gを仕込んで窒素気流下、反応液を磁
気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで110℃に加熱
した。7時間後、加熱を止め、フラスコを冷却した。こ
の化合物を「サンプルL」とする。サンプルLの屈折率
は1.544であり、酸価は6.5であった。
Example 12 40 g of H-BAF (2.0 mo) was added to a 1 l flask.
l), Adeka Resin (registered trademark) EP-4100G (bisphenol A diglycidyl ether, epoxy equivalent 1
85, Asahi Denka Kogyo KK, 374.0 g, trimethylmethacryloyloxyethyl ammonium chloride (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 8.00 g, IRGANOX
1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate] and Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. 0.4 g were charged and the reaction solution was heated to 110 ° C. in an oil bath while stirring the reaction solution with a magnetic stir bar under a nitrogen stream. After 7 hours, heating was stopped and the flask was cooled. This compound is designated as "Sample L". Sample L had a refractive index of 1.544 and an acid value of 6.5.

【0239】実施例13 1lのフラスコにH−BAF400.4g(2.0mo
l)、アデカレジン(登録商標)EP−4100G(ビ
スフェノールAジグリシジルエーテル、エポキシ当量1
85、旭電化工業(株)製)374.0g、DMP−3
0(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、和光純薬工業(株)製)5.00g、IRGA
NOX1010(ペンタエリスリチル−テトラキス〔3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート〕、チバスペシャルティーケミカル
ス(株)製)0.4gを仕込んで窒素気流下、反応液を
磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで110℃に加
熱した。6時間後、加熱を止め、フラスコを冷却した。
この化合物を「サンプルM」とする。サンプルMの屈折
率は1.544であり、酸価は1.7であった。
Example 13 H-BAF 400.4 g (2.0 mo)
l), Adeka Resin (registered trademark) EP-4100G (bisphenol A diglycidyl ether, epoxy equivalent 1
85, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 374.0 g, DMP-3
0 (2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 5.00 g, IRGA
NOX1010 (pentaerythrityl-tetrakis [3
-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 g was charged and the reaction solution was stirred with a magnetic stirrer under a nitrogen stream. It heated at 110 degreeC with the oil bath. After 6 hours, heating was stopped and the flask was cooled.
This compound is designated as "Sample M". Sample M had a refractive index of 1.544 and an acid value of 1.7.

【0240】比較例1 200mlのフラスコにアクリル酸7.24g(0.1
00mol)、アラルダイトAER(登録商標)250
2(ジグリシジルビスフェノールA、エポキシ当量18
5、旭チバ(株)製)18.53g、DMP−30
(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、和光純薬工業(株)製)0.14g、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル5mgを仕込んで窒素気流下、
反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで10
0℃に加熱した。6時間後、加熱を止め、フラスコを冷
却した。この反応液を高速液体クロマトグラフ法で分析
したところ、原料のアクリル酸は0.15g残存してお
り、アクリル酸の転化率は98.0%であることが分か
った。この化合物を「サンプルP」とする。
Comparative Example 1 In a 200 ml flask, 7.24 g (0.1%) of acrylic acid was added.
00 mol), Araldite AER (registered trademark) 250
2 (diglycidyl bisphenol A, epoxy equivalent 18
5, Asahi Ciba Co., Ltd.) 18.53 g, DMP-30
(2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.14 g and hydroquinone monomethyl ether 5 mg were charged, and under a nitrogen stream,
While stirring the reaction solution with a magnetic stirrer, use an oil bath to
Heated to 0 ° C. After 6 hours, heating was stopped and the flask was cooled. When this reaction liquid was analyzed by high performance liquid chromatography, it was found that 0.15 g of acrylic acid as a raw material remained and the conversion rate of acrylic acid was 98.0%. This compound is designated as "Sample P".

【0241】比較例2 200mlのフラスコにメタクリル酸8.60g(0.
100mol)、アラルダイトAER(登録商標)25
02(ジグリシジルビスフェノールA、エポキシ当量1
85、旭チバ(株)製)18.54g、DMP−30
(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール、和光純薬工業(株)製)0.14g、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル5mgを仕込んで窒素気流下、
反応液を磁気攪拌子で攪拌しながら、オイルバスで10
0℃に加熱した。10時間後、加熱を止め、フラスコを
冷却した。この反応液を高速液体クロマトグラフ法で分
析したところ、原料のメタクリル酸は0.43g残存し
ており、メタクリル酸の転化率は95.0%であること
が分かった。この化合物を「サンプルQ」とする。
Comparative Example 2 8.60 g of methacrylic acid (0.
100 mol), Araldite AER (registered trademark) 25
02 (diglycidyl bisphenol A, epoxy equivalent 1
85, Asahi Ciba Co., Ltd.) 18.54 g, DMP-30
(2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.14 g and hydroquinone monomethyl ether 5 mg were charged, and under a nitrogen stream,
Stir the reaction solution with a magnetic stirrer while stirring in an oil bath.
Heated to 0 ° C. After 10 hours, heating was stopped and the flask was cooled. When this reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography, 0.43 g of methacrylic acid as a raw material remained, and it was found that the conversion rate of methacrylic acid was 95.0%. This compound is designated as "Sample Q".

【0242】硬化実験1(無触媒熱硬化) サンプルA,サンプルB,サンプルC,サンプルD,サ
ンプルE,サンプルF,サンプルG,サンプルH,サン
プルI,サンプルJ,サンプルK,サンプルL,サンプ
ルM,サンプルP,サンプルQを、それぞれガラス板に
スポイトで2、3滴落とし、150℃のギヤオーブン
(パーフェクトオーブンPV−110、タバイエスペッ
ク(株)製)で1時間加熱し、無触媒熱硬化を試みた。
結果を表1に示す。
Curing Experiment 1 (non-catalytic heat curing) Sample A, Sample B, Sample C, Sample D, Sample E, Sample F, Sample G, Sample H, Sample I, Sample J, Sample K, Sample L, Sample M , Sample P and Sample Q were dropped on a glass plate with a drop of a few drops, respectively, and heated in a gear oven (Perfect Oven PV-110, manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.) at 150 ° C for 1 hour to perform non-catalytic thermosetting. I tried.
The results are shown in Table 1.

【0243】[0243]

【表1】 [Table 1]

【0244】PETへのコーティング膜を用いた試験 サンプルA,サンプルB,サンプルE,サンプルF,サ
ンプルG,サンプルH,ペンタエリスリトールトリアク
リレート(以下、「PETA」と略す。)及びペンタエ
リスリトールテトラアクリレート(以下、「PETE
A」と略す。)をそれぞれ1gを取り、トルエン含有量
が50質量%となるようにトルエンで希釈し、これに光
重合開始剤であるIRGACURE(登録商標)184
(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ
スペシャルティーケミカルズ(株)製)をそれぞれのサ
ンプルに対して5質量%になるように加えて溶解した。
これら11種類のトルエン溶液を、それぞれポリエチレ
ンテレフタレートフィルム(以下、「PETフィルム」
と略す。)にバーコート法(メイヤーバー#12)で塗
布し、これを紫外線照射装置トスキュア401((株)
東芝製)を用いて、硬化を行った。それぞれのサンプル
が指で削って剥がれなくなるまでUV光を照射すること
によって、硬化サンプルを作成した。これら8種類の硬
化物のサンプルについて、後述の表2に記載の試験を行
った。その結果も表2に示す。
Test samples A, B, E, F, G, H, pentaerythritol triacrylate (hereinafter abbreviated as “PETA”) and pentaerythritol tetraacrylate ( using a coating film on PET ). Below, "PET
Abbreviated as "A". 1 g of each of the above) was diluted with toluene so that the content of toluene was 50% by mass, and IRGACURE (registered trademark) 184 as a photopolymerization initiator was added thereto.
(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added to each sample so as to be 5% by mass and dissolved.
Polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as "PET film")
Abbreviated. ) By the bar coating method (Meyer bar # 12), and this is applied to an ultraviolet irradiation device Toscure 401 (Co., Ltd.)
Curing was carried out using (Toshiba). Cured samples were prepared by irradiating with UV light until each sample was scraped with a finger and prevented from peeling. The test described in Table 2 below was performed on the samples of these eight types of cured products. The results are also shown in Table 2.

【0245】[0245]

【表2】 [Table 2]

【0246】表2の結果からわかるように、本発明の化
合物は、PETフィルムに良好な付着性を有し、かつ、
被膜の引張強度及び伸び性に良好な被膜を形成すること
がわかる。
As can be seen from the results in Table 2, the compounds of the present invention have good adhesion to PET films, and
It can be seen that a film having good tensile strength and extensibility is formed.

【0247】注型重合品の試験 サンプルA,サンプルB,サンプルC,サンプルD及び
ビニルエステル(VE)樹脂(商品名;リポキシVR−
77 昭和高分子(株)製):スチレン=70:30
(質量比)混合液に、ジクミルパーオキサイドをそれぞ
れの樹脂に対して2質量%溶解し、これらの液を厚さ4
mmのPET製の型に注ぎ込んだ。サンプルA〜サンプ
ルDについては、100℃で0.5時間+130℃で1
時間+160℃で1時間の条件で硬化させた。また、V
E樹脂(商品名;リポキシVR−77 昭和高分子
(株)製):スチレン=70:30(質量比)混合液に
ついては、130℃で1時間+160℃で1時間の条件
で硬化させた。
Test of cast polymer product Sample A, sample B, sample C, sample D and vinyl ester (VE) resin (trade name; Lipoxy VR-
77 Showa Highpolymer Co., Ltd.): Styrene = 70:30
(Mass ratio) Dicumyl peroxide was dissolved in the mixed solution in an amount of 2% by mass with respect to each resin, and these solutions were mixed to a thickness of 4
Pour into a mm PET mold. For sample A to sample D, 0.5 hours at 100 ° C + 1 hour at 130 ° C
It was cured under conditions of time + 160 ° C. for 1 hour. Also, V
The E resin (trade name; Lipoxy VR-77 Showa Highpolymer Co., Ltd.): Styrene = 70: 30 (mass ratio) mixture was cured under conditions of 130 ° C. for 1 hour and 160 ° C. for 1 hour.

【0248】また、UP樹脂(商品名;ユピカ6424
日本ユピカ(株)製)にパーキュアHOをUP樹脂に
対して2質量%溶解し、これらの液を厚さ4mmのガラ
ス製の型に注ぎ込んだ。この液を60℃で1時間+16
0℃で1時間の条件で硬化させた。これらの硬化物につ
き、機械特性、熱的特性、電気特性、光学特性等につい
て測定した。その結果、表3に示す。
UP resin (trade name; Yupika 6424)
2% by mass of Percure HO was dissolved in UP resin in Niupika Japan Co., Ltd., and these solutions were poured into a glass mold having a thickness of 4 mm. This liquid at 60 ° C for 1 hour +16
It was cured at 0 ° C. for 1 hour. The mechanical properties, thermal properties, electrical properties, optical properties, etc. of these cured products were measured. The results are shown in Table 3.

【0249】[0249]

【表3】 [Table 3]

【0250】表3の結果からわかるように、本発明の硬
化物は、機械物性、特に、耐衝撃性の優れた硬化物であ
ることがわかる。
As can be seen from the results in Table 3, the cured product of the present invention is a cured product having excellent mechanical properties, particularly impact resistance.

【0251】注型重合品の試験 サンプルK,サンプルL及びサンプルMに、それぞれジ
クミルパーオキサイドをそれぞれの樹脂に対して2質量
%溶解し、これらの液を厚さ4mmのガラス製の型に注
ぎ込んだ。サンプルA〜サンプルDについては、120
℃で5時間+130℃で5時間+140℃で5時間+1
50℃で5時間+160℃で2時間の条件で硬化させ
た。
2 mass% of dicumyl peroxide was dissolved in each of the test polymer K, sample L and sample M of the cast polymer product with respect to each resin, and these solutions were put into a glass mold having a thickness of 4 mm. Poured. For samples A to D, 120
5 hours at ℃ + 5 hours at 130 ℃ + 5 hours at 140 ℃ +1
It was cured under the conditions of 50 ° C. for 5 hours and 160 ° C. for 2 hours.

【0252】上記の条件で硬化したサンプルK,サンプ
ルL及びサンプルMの硬化物を10mm×10mm×4
mmの大きさの試験片に切り、それらの試験片を各5枚
をそぞれ300mlナス型フラスコに投入し、その後、
クロロホルム150mlを投入し、還流冷却器を取り付
け、加温することによって3時間クロロホルムを還流さ
せた。その後、室温まで冷却し、クロロホルム中に触媒
が抽出されているか否かを、ゲルパーミネーションクロ
マトグラフィー(カラム:F−801(昭和電工(株)
製、溶離液:クロロホルム、検出器:RI検出器)を用
いて分析した。その結果、サンプルKの硬化物から作成
された試験片の抽出に使用したクロロホルム及びサンプ
ルLの硬化物から作成された試験片の抽出に使用したク
ロロホルムからは使用した触媒は検出されなかった。し
かし、サンプルMの硬化物から作成された試験片の抽出
に使用したクロロホルムからは、触媒である2,4,6
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールが検出さ
れた。
The cured products of Sample K, Sample L and Sample M cured under the above conditions were 10 mm × 10 mm × 4.
Cut into 5 mm-sized test pieces, and put each of these 5 test pieces into a 300 ml eggplant-shaped flask, and then,
Chloroform (150 ml) was added, a reflux condenser was attached, and the mixture was heated to reflux chloroform for 3 hours. Then, the mixture was cooled to room temperature, and gel permeation chromatography (column: F-801 (Showa Denko KK) was used to determine whether the catalyst was extracted into chloroform.
(Manufactured by, eluent: chloroform, detector: RI detector). As a result, no catalyst was detected in the chloroform used to extract the test piece prepared from the cured product of sample K and the chloroform used to extract the test piece prepared from the cured product of sample L. However, from the chloroform used to extract the test pieces prepared from the cured product of sample M, the catalyst 2,4,6
-Tris (dimethylaminomethyl) phenol was detected.

【0253】上記の結果から、ラジカル重合性官能基を
有する触媒を使用して重合性組成物を製造すると、その
重合性組成物を硬化して得られた硬化物から触媒の溶出
をしていないことがわかる。
From the above results, when a polymerizable composition was produced using a catalyst having a radically polymerizable functional group, the catalyst was not eluted from the cured product obtained by curing the polymerizable composition. I understand.

【0254】[0254]

【発明の効果】本発明によれば、熱硬化及び/又は活性
エネルギー線硬化が可能となるようにラジカル重合性を
付与し、さらにPET等への基材に対する付着性、引張
強度及び伸び性に良好な被膜を形成することの可能でか
つ耐衝撃性の良好な成型物を製造することの可能な新規
な重合性化合物、該化合物の製造方法、該化合物を用い
た重合性組成物、該重合性組成物を硬化してなる硬化物
及び該硬化物の製造方法を提供できることは明らかであ
る。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a radical polymerizable property is imparted to enable heat curing and / or active energy ray curing, and further, adhesion to a substrate such as PET, tensile strength and elongation are improved. Novel polymerizable compound capable of forming a good film and capable of producing a molded article having good impact resistance, method for producing the compound, polymerizable composition using the compound, and polymerization It is obvious that a cured product obtained by curing the resin composition and a method for producing the cured product can be provided.

【0255】[0255]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1はサンプルAの1H−NMRスペクトルで
ある。
FIG. 1 is a 1 H-NMR spectrum of Sample A.

【図2】図2はサンプルAのIRスペクトルである。FIG. 2 is an IR spectrum of sample A.

【図3】図3はサンプルBの1H−NMRスペクトルで
ある。
FIG. 3 is a 1 H-NMR spectrum of Sample B.

【図4】図4はサンプルBのIRスペクトルである。FIG. 4 is an IR spectrum of Sample B.

【図5】図5はサンプルCの1H−NMRスペクトルで
ある。
FIG. 5 is a 1 H-NMR spectrum of Sample C.

【図6】図6はサンプルCのIRスペクトルである。FIG. 6 is an IR spectrum of Sample C.

【図7】図7はサンプルDの1H−NMRスペクトルで
ある。
FIG. 7 is a 1 H-NMR spectrum of Sample D.

【図8】図8はサンプルDのIRスペクトルである。FIG. 8 is an IR spectrum of Sample D.

フロントページの続き (72)発明者 大賀 一彦 大分県大分市大字中の洲2 昭和電工株式 会社大分生産・技術統括部内 (72)発明者 甲斐 和史 大分県大分市大字中の洲2 昭和電工株式 会社大分生産・技術統括部内 (72)発明者 内田 博 大分県大分市大字中の洲2 昭和電工株式 会社大分生産・技術統括部内 Fターム(参考) 4J005 AA12 BB02 BD02 4J027 AC02 AC03 AC04 AC06 AC07 AJ02 CB04 CB10 CC02 CC05 CC06 CC07 CC08 4J036 AB01 AB02 AB07 AD05 AD08 AF06 AF08 AG06 AG07 CA20 CD12 HA02 HA03 4J100 AB02Q AL92P CA01 CA04 JA07 Continued front page    (72) Inventor Kazuhiko Oga             Showa Denko Co., Ltd.             Company Oita Production and Technology Division (72) Inventor Kazumi Kai             Showa Denko Co., Ltd.             Company Oita Production and Technology Division (72) Inventor Hiroshi Uchida             Showa Denko Co., Ltd.             Company Oita Production and Technology Division F-term (reference) 4J005 AA12 BB02 BD02                 4J027 AC02 AC03 AC04 AC06 AC07                       AJ02 CB04 CB10 CC02 CC05                       CC06 CC07 CC08                 4J036 AB01 AB02 AB07 AD05 AD08                       AF06 AF08 AG06 AG07 CA20                       CD12 HA02 HA03                 4J100 AB02Q AL92P CA01 CA04                       JA07

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表されることを特徴
とする重合性化合物。 一般式(1) 【化1】 (式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、R2はアルコール化合物、フェノー
ル化合物又はカルボン酸化合物から誘導される有機残基
を表し、nは0〜20の整数を表す。また、R2はさら
に下記一般式(2)及び/又は下記一般式(3)で表さ
れる基を含むことができる。) 一般式(2) 【化2】 (式中、R1はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。) 一般式(3) 【化3】 (式中、R3はH又はCH3のいずれかを表す。)
1. A polymerizable compound represented by the following general formula (1): General formula (1) (In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and R 2 is an alcohol compound or a phenol compound. Or represents an organic residue derived from a carboxylic acid compound, n represents an integer of 0 to 20, and R 2 further represents a group represented by the following general formula (2) and / or the following general formula (3). Can be included.) General formula (2) (In the formula, each R 1 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. General formula (3) (In the formula, R 3 represents either H or CH 3. )
【請求項2】 一般式(1)においてR1がそれぞれ独
立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表される有
機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上の有機残基
であることを特徴とする請求項1に記載の重合性化合
物。 構造式(1) 【化4】 構造式(2) 【化5】 構造式(3) 【化6】 構造式(4) 【化7】 構造式(5) 【化8】 構造式(6) 【化9】 構造式(7) 【化10】
2. In the general formula (1), each R 1 is independently at least one organic residue selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7). The polymerizable compound according to claim 1, wherein the polymerizable compound is present. Structural formula (1) Structural formula (2) Structural formula (3): Structural formula (4) Structural formula (5) Structural formula (6) Structural formula (7):
【請求項3】 一般式(1)において、R2が、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジ
メタノール、ビスフェノールA、ビスフェノールAプロ
ピレンオキシド付加物、ビスフェノールAエチレンオキ
シド付加物、臭素化ビスフェノールA、水素化ビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロ
ヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸及びテレフタル酸からなる群から選ばれる化合物か
ら誘導された有機残基であることを特徴とする請求項1
又は請求項2のいずれかに記載の重合性化合物。
3. In the general formula (1), R 2 is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin or triglyceride. Methylol ethane, trimethylol propane, 1,4
-Cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1 , 2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, and a compound selected from the group consisting of terephthalic acid. 2. A derived organic residue.
Alternatively, the polymerizable compound according to claim 2.
【請求項4】 一般式(1)においてR1がそれぞれ独
立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表される有
機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上であり、且
つR2がエチレングリコール、プロピレングリコール、
1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプ
ロパン、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シ
クロヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフ
ェノールAプロピレンオキシド付加物、ビスフェノール
Aエチレンオキシド付加物、臭素化ビスフェノールA、
水素化ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノー
ルノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸、3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタ
ル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸からなる群から選
ばれる化合物から誘導される有機残基であることを特徴
とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の重合性化
合物。構造式(1) 【化11】 構造式(2) 【化12】 構造式(3) 【化13】 構造式(4) 【化14】 構造式(5) 【化15】 構造式(6) 【化16】 構造式(7) 【化17】
4. In the general formula (1), R 1 is at least one or more independently selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7), and R 1 2 is ethylene glycol, propylene glycol,
1,3-propanediol, 1,4-butanediol,
1,6-hexanediol, neopentyl glycol,
Glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A,
Hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1,2
Derived from a compound selected from the group consisting of cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid. The polymerizable compound according to any one of claims 1 to 3, which is an organic residue. Structural formula (1) Structural formula (2) Structural formula (3): Structural formula (4): Structural formula (5) Structural formula (6) Structural formula (7):
【請求項5】 以下の工程を含むことを特徴とする、請
求項1〜請求項4のいずれかに記載の重合性化合物の製
造方法。 工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、及び下記一般式(5)で
表される化合物から選ばれる少なくとも一種以上の付加
反応を行い請求項1〜請求項4のいずれかに記載の重合
性化合物を得る工程 一般式(4) 【化18】 (式中、R4はアルコール化合物、フェノール化合物又
はカルボニル化合物から誘導される有機残基を表し、q
は1以上の整数を表す。) 一般式(5) 【化19】 (式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。)
5. The method for producing a polymerizable compound according to any one of claims 1 to 4, which comprises the following steps. In the presence of a process catalyst, at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (4) and at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (5) are subjected to an addition reaction. To the step of obtaining the polymerizable compound according to any one of claims 4 to 4, general formula (4): (In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q
Represents an integer of 1 or more. ) General formula (5): (In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. Represents.)
【請求項6】 以下の工程を含むことを特徴とする、請
求項1〜請求項4のいずれかに記載の重合性化合物の製
造方法。 工程 触媒の存在下、下記一般式(4)で表される化合物から
選ばれる少なくとも一種以上、下記一般式(5)で表さ
れる化合物から選ばれる少なくとも一種以上、及び下記
一般式(6)で表される化合物から選ばれる少なくとも
一種以上の付加反応を行い請求項1〜請求項4のいずれ
かに記載の重合性化合物を得る工程 一般式(4) 【化20】 (式中、R4はアルコール化合物、フェノール化合物又
はカルボニル化合物から誘導される有機残基を表し、q
は1以上の整数を表す。) 一般式(5) 【化21】 (式中、R5はそれぞれ独立にアルキレン基、分岐アル
キレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基及びア
リーレン基からなる群から選ばれる少なくとも一種以上
の有機残基を表し、nは0〜20の整数を表す。) 一般式(6) 【化22】 (式中、R6はH又はCH3のいずれかを表す。)
6. The method for producing a polymerizable compound according to any one of claims 1 to 4, which comprises the following steps. In the presence of a process catalyst, at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (4), at least one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (5), and the following general formula (6): A step of performing at least one addition reaction selected from the compounds represented to obtain the polymerizable compound according to any one of claims 1 to 4, general formula (4): (In the formula, R 4 represents an organic residue derived from an alcohol compound, a phenol compound or a carbonyl compound, and q
Represents an integer of 1 or more. ) General formula (5): (In the formula, each R 5 independently represents at least one organic residue selected from the group consisting of an alkylene group, a branched alkylene group, a cycloalkylene group, an aralkylene group and an arylene group, and n represents an integer of 0 to 20. General formula (6) (In the formula, R 6 represents either H or CH 3. )
【請求項7】 一般式(4)において、R4が、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、1,4
−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジ
メタノール、ビスフェノールA、ビスフェノールAプロ
ピレンオキシド付加物、ビスフェノールAエチレンオキ
シド付加物、臭素化ビスフェノールA、水素化ビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、1,2−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−シクロ
ヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸から誘導される有機残基の少なくと
も一種以上であることを特徴とする請求項5又は請求項
6のいずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
7. In the general formula (4), R 4 is ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, glycerin or triglyceride. Methylol ethane, trimethylol propane, 1,4
-Cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol A ethylene oxide adduct, brominated bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol F, phenol novolac resin, cresol novolac resin, 1 , 2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, organic residues derived from terephthalic acid At least 1 type or more, The manufacturing method of the polymeric compound in any one of Claim 5 or Claim 6 characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 一般式(5)において、R5がそれぞれ
独立に下記構造式(1)〜下記構造式(7)で表される
有機残基の中から選ばれる少なくとも一種以上であるこ
とを特徴とする請求項5〜請求項7のいずれかに記載の
重合性化合物の製造方法。 構造式(1) 【化23】 構造式(2) 【化24】 構造式(3) 【化25】 構造式(4) 【化26】 構造式(5) 【化27】 構造式(6) 【化28】 構造式(7) 【化29】
8. In the general formula (5), each R 5 is independently at least one selected from the organic residues represented by the following structural formulas (1) to (7). The method for producing a polymerizable compound according to any one of claims 5 to 7, which is characterized. Structural formula (1) Structural formula (2) Structural formula (3) Structural formula (4): Structural formula (5): Structural formula (6) Structural formula (7):
【請求項9】 触媒が、金属ハロゲン化物、3級アミ
ン、ピリジン系化合物、ピリジニウム塩、4級アンモニ
ウム塩、ホスフィン系化合物、ホスフォニウム塩からな
る群から選ばれた少なくとも一種以上含むことを特徴と
する請求項5〜請求項8のいずれかに記載の重合性化合
物の製造方法。
9. The catalyst contains at least one selected from the group consisting of metal halides, tertiary amines, pyridine compounds, pyridinium salts, quaternary ammonium salts, phosphine compounds and phosphonium salts. A method for producing the polymerizable compound according to any one of claims 5 to 8.
【請求項10】 触媒が、塩化錫、ピリジン、イソキノ
リン、キノリン、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、
ベンジルトリエチルアンモニウム塩、2,4,6−トリ
ス(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエチルア
ミン、トリフェニルホスフィン、エチルトリフェニルホ
スフォニウム塩、テトラフェニルホスフォニウム塩、ベ
ンジルトリフェニルホスフォニウム塩からなる群から選
ばれた少なくとも一種以上含むことを特徴とする請求項
5〜請求項8のいずれかに記載の重合性化合物の製造方
法。
10. The catalyst is tin chloride, pyridine, isoquinoline, quinoline, benzyltrimethylammonium salt,
Group consisting of benzyltriethylammonium salt, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, triethylamine, triphenylphosphine, ethyltriphenylphosphonium salt, tetraphenylphosphonium salt, benzyltriphenylphosphonium salt 9. The method for producing a polymerizable compound according to claim 5, further comprising at least one selected from the group consisting of:
【請求項11】 触媒が、ラジカル重合性官能基を有す
る触媒であることを特徴とする請求項5〜請求項8のい
ずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
11. The method for producing a polymerizable compound according to claim 5, wherein the catalyst is a catalyst having a radically polymerizable functional group.
【請求項12】 ラジカル重合性官能基を有する触媒
が、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、トリメチ
ルメタクリロイルオキシエチルアンモニウム塩、トリメ
チルアクリロイルオキシエチルアンモニウム塩、2−ビ
ニルピリジン、3−ビニルピリジン、4−ビニルピリジ
ン、N−(3−N’,N’−ジメチルアミノプロピル)
アクリルアミド、N−(3−N’,N’−ジメチルアミ
ノプロピル)メタクリルアミド、トリメチルアクリロイ
ルアミノプロピルアンモニウム塩、トリメチルメタクリ
ロイルアミノプロピルアンモニウム塩、ジメチルジアリ
ルアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも一
種以上であることを特徴とする請求項11に記載の重合
性化合物の製造方法。
12. A catalyst having a radically polymerizable functional group is N, N-dimethylaminoethyl methacrylate,
N, N-dimethylaminoethyl acrylate, trimethylmethacryloyloxyethylammonium salt, trimethylacryloyloxyethylammonium salt, 2-vinylpyridine, 3-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, N- (3-N ', N'-dimethyl Aminopropyl)
At least one selected from the group consisting of acrylamide, N- (3-N ', N'-dimethylaminopropyl) methacrylamide, trimethylacryloylaminopropylammonium salt, trimethylmethacryloylaminopropylammonium salt, and dimethyldiallylammonium salt. The method for producing a polymerizable compound according to claim 11, wherein:
【請求項13】 請求項1〜請求項4のいずれかに記載
の重合性化合物の少なくとも一種以上を必須成分とする
ことを特徴とする重合性組成物。
13. A polymerizable composition comprising at least one or more of the polymerizable compounds according to claim 1 as an essential component.
【請求項14】 重合性組成物中の全硬化性成分100
質量部に対して、少なくとも一種以上のラジカル重合開
始剤0.1質量部〜10質量部を含有することを特徴と
する請求項13に記載の重合性組成物。
14. A total curable component 100 in a polymerizable composition.
The polymerizable composition according to claim 13, which contains 0.1 to 10 parts by mass of at least one radical polymerization initiator with respect to parts by mass.
【請求項15】 請求項13又は請求項14のいずれか
に記載の重合性組成物を硬化して得られる硬化物。
15. A cured product obtained by curing the polymerizable composition according to claim 13 or 14.
【請求項16】 請求項15に記載の硬化物の硬化方法
において、該硬化方法が熱硬化及び/又は活性エネルギ
ー線による硬化であることを特徴とする硬化物の製造方
法。
16. The method for curing a cured product according to claim 15, wherein the curing method is heat curing and / or curing with an active energy ray.
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