JP2003211847A - Azaporphyrin compound and use of the same - Google Patents

Azaporphyrin compound and use of the same

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JP2003211847A
JP2003211847A JP2002015448A JP2002015448A JP2003211847A JP 2003211847 A JP2003211847 A JP 2003211847A JP 2002015448 A JP2002015448 A JP 2002015448A JP 2002015448 A JP2002015448 A JP 2002015448A JP 2003211847 A JP2003211847 A JP 2003211847A
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JP
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group
substituted
compound
recording medium
optical recording
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JP2002015448A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Tsukahara
宇 塚原
Yasunori Saito
靖典 斉藤
Akira Ogiso
章 小木曽
Masashi Koike
正士 小池
Tsutayoshi Misawa
伝美 三沢
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Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a write-once optical recording medium and a coloring matter for the same recording which are able to ensure an excellent recording by a laser beam with the wave length of 300 to 500 nm and/or 500 to 700 nm and/or 700 to 900 nm as well as reproducing. <P>SOLUTION: The recording layer of the optical recording medium contains at least one kind of compound selected from the compound having formed a condensation aromatic ring allowable for having a hetero atom at all pyrolle rings of the compound which is an azaporphyrin compound with two of the azaporphyrin ring coordinating to one of the central metal. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、染料、顔料、光電
機能材料、及び記録・記憶材料として、殊に青色および
/または赤色レーザー光および/または近赤外レーザー
光により情報の記録・再生が可能な大容量追記型光記録
媒体の記録用色素として有用なアザポルフィリン系化合
物に関するものである。また、本発明は、該アザポルフ
ィリン系化合物を含有してなる光記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dye, a pigment, a photoelectric functional material, and a recording / storing material, and more particularly to recording / reproducing information by blue and / or red laser light and / or near infrared laser light. The present invention relates to an azaporphyrin-based compound useful as a recording dye for a possible large-capacity write-once type optical recording medium. The present invention also relates to an optical recording medium containing the azaporphyrin compound.

【0002】加えて、本発明は、特に波長400〜41
0nmの青紫色レーザーで記録を施す高密度記録可能な
記録層を有する光情報記録媒体に関する。
In addition, the present invention is particularly applicable to wavelengths 400-41.
The present invention relates to an optical information recording medium having a recording layer capable of high density recording for recording with a 0 nm blue-violet laser.

【0003】[0003]

【従来の技術】コンパクトディスク(以下、CDと略
す)規格に対応した追記型光記録媒体としてCD−R
(CD−Recordable)が提案・開発されてい
ることは公知であり、音楽再生用や情報端末用として広
く普及している。
2. Description of the Related Art CD-R is a write-once type optical recording medium compatible with the compact disc (hereinafter abbreviated as CD) standard.
It is known that (CD-Recordable) has been proposed and developed, and is widely used for music reproduction and information terminals.

【0004】この光記録媒体の記録・再生には一般に波
長770nm〜840nmの近赤外半導体レーザーを用
いており、基板上の有機色素等からなる記録層に、ヒー
トモードで信号記録が行われる。すなわち、記録層にレ
ーザー光が照射されると、有機色素は光吸収により熱を
発生し、この発生した熱により記録層にピットが形成さ
れる。そして、記録信号は、レーザー光を照射したとき
の、当該ピットが形成された部分とされていない部分と
の反射率の違いによって検知される。
A near infrared semiconductor laser having a wavelength of 770 nm to 840 nm is generally used for recording / reproducing of this optical recording medium, and signal recording is performed in a heat mode on a recording layer made of an organic dye or the like on a substrate. That is, when the recording layer is irradiated with laser light, the organic dye generates heat due to light absorption, and the generated heat forms pits in the recording layer. Then, the recording signal is detected by the difference in reflectance between the portion where the pit is formed and the portion where the pit is not formed when the laser beam is irradiated.

【0005】そして、レッドブックやオレンジブック等
のCDの規格に準拠しているため、CDプレーヤーやC
D−ROMプレーヤーと互換性を有するという特徴を有
し、かつ近年急速に安価に提供されていることから、パ
ソコンの画像保存やバックアップ用、及び音楽用として
爆発的に広く普及してきた。現在、CD−Rプレーヤー
のレーザーパワーの向上と共に、12倍速、16倍速記
録が可能となり、当初ディスク1枚に70分以上必要と
されていた記録時間が5分以下に短縮されてきている。
高速記録では、短時間にピットを形成させることから、
高パワーのレーザーを照射する必要があるが、高パワー
のレーザー照射には、プレーヤーの負担も大きく、より
高速での記録を可能とするためには、低パワーでも良好
に分解する色素、つまり高感度な色素が望まれている。
Since it conforms to the CD standard of Red Book, Orange Book, etc.
Since it has a feature of being compatible with a D-ROM player and has been rapidly and inexpensively provided in recent years, it has become widely used explosively for image storage and backup of personal computers and for music. At present, as the laser power of a CD-R player is improved, 12 × speed and 16 × speed recording are possible, and the recording time required for 70 minutes or more per disc at first is shortened to 5 minutes or less.
In high-speed recording, pits are formed in a short time,
It is necessary to irradiate a high-power laser, but the high-power laser irradiation imposes a heavy burden on the player, and in order to enable recording at higher speeds, a dye that decomposes well at low power A sensitive dye is desired.

【0006】色素を記録層とし、かつ反射率を大きくす
るために、記録層の上に反射層を設けた追記可能な光記
録媒体は、例えば、Optical Data Storage 1989 Techni
calDigest Series Vol. 1, 45(1989)に開示されて以
来、記録層にシアニン系色素やフタロシアニン系色素を
用いた追記型コンパクトディスク(Compact Disc Record
able: CD-R)媒体として広く市場に供されている。これ
らの媒体は波長780nmの半導体レーザーで記録する
ことができ、かつ、波長780nmの半導体レーザーを
搭載し、市場に広く普及している市販のCDプレーヤー
やCD−ROMプレーヤーで再生できるという特徴を有
している。
A write-once recordable optical recording medium in which a dye is used as a recording layer and a reflective layer is provided on the recording layer in order to increase the reflectance is, for example, Optical Data Storage 1989 Techni
Since it was disclosed in calDigest Series Vol. 1, 45 (1989), a write-once compact disc (Compact Disc Record) using a cyanine dye or a phthalocyanine dye in the recording layer was used.
able: CD-R) is widely used in the market. These media can be recorded with a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm, and can be recorded with a semiconductor laser with a wavelength of 780 nm and can be reproduced by a commercially available CD player or CD-ROM player which is widely used in the market. is doing.

【0007】光ディスクや光カード等の記録媒体の記録
層にフタロシアニン化合物を利用する技術は、特開昭6
1−154888号公報、同61−197280号公
報、同61−246091号公報、同62−39286
号公報、同63−37991号公報、同63−3938
8号公報等により広く知られているが、これらのフタロ
シアニン類は感度、屈折率、記録特性等の面から光記録
媒体用としては不十分であった。それを改良した化合物
が特開平3−62878号公報に記載されているが、レ
ーザー光による書き込み時の記録特性に問題があり、未
だ実用上十分ではなかった。また、特開平4−2143
88号公報、同5−238150号公報には、フッ素原
子が導入されたフタロシアニン化合物が開示されている
が、フッ素基の導入では基板樹脂との密着性が改良され
るものの感度が低く、同5−247363号公報に記載
された、フタロシアニン環に臭素原子を導入した化合物
では、高速、高密度記録においては、充分な性能を有す
るとは言えず、同7−90186号公報に開示された、
アルキル基に臭素、ヨウ素基を導入した場合、溶解性が
低下し、記録媒体作成時のスピンコート溶剤への溶解性
が低下する問題があった。
A technique for using a phthalocyanine compound in a recording layer of a recording medium such as an optical disk or an optical card is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
1-154888, 61-197280, 61-246091, 62-39286.
No. 63-39991, No. 63-3938.
Although widely known from JP-A No. 8 and the like, these phthalocyanines have been insufficient for optical recording media in terms of sensitivity, refractive index, recording characteristics and the like. A compound obtained by improving it is described in JP-A-3-62878, but it has not been practically sufficient because of a problem in recording characteristics when writing with a laser beam. In addition, JP-A-4-2143
Nos. 88 and 5-238150 disclose a phthalocyanine compound having a fluorine atom introduced therein. However, the introduction of a fluorine group improves the adhesion to the substrate resin, but the sensitivity is low. The compound having a bromine atom introduced into the phthalocyanine ring described in JP-A-247363 cannot be said to have sufficient performance at high speed and high density recording, and is disclosed in JP-A-7-90186.
When bromine or iodine group is introduced into the alkyl group, there is a problem that the solubility is lowered and the solubility in the spin coat solvent at the time of producing the recording medium is lowered.

【0008】また、WO 98/14520には、フタ
ロシアニン化合物にホルミル基等の置換基を修飾した化
合物が記載されているが、金属系化合物の記載はなく、
有機基の結合では感度の向上は十分ではなかった。
Further, WO 98/14520 describes a compound obtained by modifying a phthalocyanine compound with a substituent such as a formyl group, but does not describe a metal compound.
The improvement in sensitivity was not sufficient with the bonding of organic groups.

【0009】さらに加えて、上記の既存媒体の記録容量
は680MB程度であり、動画の記録を考慮すると容量
が十分ではない。ここ近年では、情報量の飛躍的増加に
伴い、情報記録媒体に対する高密度化・大容量化の要求
が高まっているのが現状である。
In addition, the recording capacity of the above-mentioned existing medium is about 680 MB, and the capacity is not sufficient when recording moving pictures. In recent years, along with the dramatic increase in the amount of information, there is an increasing demand for higher density and larger capacity of information recording media.

【0010】記録媒体の高密度化を行う手段としては、
記録・再生に用いるレーザー波長の短波長化及び対物レ
ンズの開口数(N.A.:Numerical Aperture)を大き
くすることにより、ビームスポットを小さくすることが
挙げられる。そして、光ディスクシステムに利用される
短波長レーザーとして、500nm〜700nm、さら
には630nm〜690nm前後、具体的には、680
nm、670nm、660nm、650nm、635n
m等の赤色レーザーが実用化されてきた。こうして半導
体レーザーの短波長化、対物レンズの開口数大化、デー
タ圧縮技術等により、動画記録及び大容量の情報の記録
を可能にした光記録媒体の作製が可能となってきた。今
日までに提案されている光記録媒体としては、光磁気記
録媒体、相変化記録媒体、カルコゲン酸化物系光記録媒
体、有機色素系光記録媒体等があるが、これらの中で、
安価かつプロセス上容易であるという点から、有機色素
系光記録媒体は優位性を有すると考えられる。こうした
状況を踏まえ、CDよりも高密度でTV品質並の動画の
記録・再生が可能な光記録媒体として、普及しつつある
市販のDVDビデオプレーヤーやDVD−ROMプレー
ヤーで再生できる、発振波長630〜690nmの赤色
半導体レーザーで記録を施すことが可能な追記型光記録
媒体として開発されたのが、追記型のデジタル多目的デ
ィスク(以下、DVD−Rと略す)である。DVD−R
は、3.9GBあるいは4.7GBの記録容量を有する
一度書き込み可能な光記録媒体であり、特にここ最近と
なって、片面4.7GB容量のDVD−R媒体が市場に
供給され始めている。該DVD−R媒体も、シアニン系
色素、アゾ系色素などを記録層に用い、反射層を設けた
積層構造を採用しており、0.6mm厚の基板を2枚貼
り合わせたディスク構造を特徴としている。この容量に
合った記録特性良好な光ディスクについて、現在では高
速記録対応の媒体開発が活発に進められている。
As a means for increasing the density of the recording medium,
The beam spot can be reduced by shortening the laser wavelength used for recording / reproducing and increasing the numerical aperture (NA: Numerical Aperture) of the objective lens. Then, as a short wavelength laser used in an optical disc system, 500 nm to 700 nm, further 630 nm to 690 nm, specifically 680
nm, 670 nm, 660 nm, 650 nm, 635n
Red lasers such as m have been put to practical use. Thus, it has become possible to manufacture an optical recording medium capable of recording a moving image and recording a large amount of information by shortening the wavelength of a semiconductor laser, increasing the numerical aperture of an objective lens, and data compression technology. The optical recording media proposed to date include magneto-optical recording media, phase change recording media, chalcogen oxide optical recording media, organic dye optical recording media, and the like.
The organic dye-based optical recording medium is considered to be superior in that it is inexpensive and easy in the process. In consideration of such a situation, as an optical recording medium capable of recording and reproducing a moving image with a density higher than that of a CD and a quality comparable to that of a TV, it can be reproduced by a commercially available DVD video player or DVD-ROM player, which has an oscillation wavelength of 630 to 630. A write-once type digital multipurpose disc (hereinafter abbreviated as DVD-R) was developed as a write-once type optical recording medium capable of recording with a red semiconductor laser of 690 nm. DVD-R
Is a once-writable optical recording medium having a recording capacity of 3.9 GB or 4.7 GB, and particularly recently, a DVD-R medium having a single-sided 4.7 GB capacity has begun to be supplied to the market. The DVD-R medium also has a laminated structure in which a cyanine-based dye, an azo-based dye, etc. are used as a recording layer and a reflective layer is provided, and is characterized by a disc structure in which two 0.6 mm-thick substrates are bonded together. I am trying. For optical discs having good recording characteristics suitable for this capacity, media for high-speed recording are being actively developed at present.

【0011】さらに、将来的にはより高密度な記録が求
められることが予想され、その情報量はディスク1枚あ
たり15〜30GBにも達すると予想される。その記録
密度を実現する為の手段として、より波長の短いレーザ
ーを使用することは避けられない。従って、将来の有機
色素系光記録媒体に用いる記録用色素としては、300
nm〜500nmの波長範囲において良好な記録特性を
有する色素が望まれる。
Further, it is expected that higher density recording will be required in the future, and the amount of information is expected to reach 15 to 30 GB per disk. It is unavoidable to use a laser having a shorter wavelength as a means for realizing the recording density. Therefore, as a recording dye to be used in a future organic dye-based optical recording medium, 300
A dye having good recording characteristics in the wavelength range of nm to 500 nm is desired.

【0012】ところで、有機色素を記録層としたDVD
−Rよりも高密度記録可能な媒体に関して、特開平10
−302310号公報には、発振波長680nm以下の
レーザーを用い、記録容量8GB以上の密度を達成した
との開示がある。該公報の提案では、10〜177μm
厚さの光透過層越しに0.7以上の高開口数を有する対
物レンズで680nm以下のレーザー光を収束すること
で、8GB以上の大容量記録を達成している。
By the way, a DVD having an organic dye as a recording layer
Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 10-104, regarding a medium capable of recording at a higher density than -R.
-302310 discloses that a laser having an oscillation wavelength of 680 nm or less is used to achieve a recording capacity of 8 GB or more. According to the proposal of the publication, it is 10 to 177 μm.
Large-capacity recording of 8 GB or more is achieved by converging laser light of 680 nm or less with an objective lens having a high numerical aperture of 0.7 or more through a thick light transmission layer.

【0013】その一方で、ここ近年、発振波長390〜
430nmの青色レーザーとしてGaN系材料を用いた
410nmのレーザーや、半導体レーザーと光導波路素
子の組み合わせによる波長425nmのSHGレーザー
が開発されてきており〔例えば、日経エレクトロニク
ス、No.708、p.117、1998年1月26日
号〕、このようなレーザーに合わせた青色半導体レーザ
ー対応色素の開発が現在展開されている。
On the other hand, in recent years, the oscillation wavelengths 390 to 390
A 410 nm laser using a GaN-based material as a 430 nm blue laser and an SHG laser having a wavelength of 425 nm by combining a semiconductor laser and an optical waveguide element have been developed [eg, Nikkei Electronics, No. 708, p. 117, January 26, 1998], the development of a dye for a blue semiconductor laser adapted to such a laser is currently being developed.

【0014】更に、1999年初頭から発振波長400
〜410nmの青紫色発光のGaN系半導体レーザーが
試供(日亜化学工業)されるに当たり、片面15GB以
上の更なる高密度容量を有するHDTV(high definiti
on television)放送並の画質で、2時間程度の動画の記
録が可能となる媒体(以下、HD−DVD−R媒体と称
す)の検討が始められている。この様な高密度容量を有
するHD−DVD−R媒体では、現行放送並の画質であ
れば6時間程度の録画も可能であるため、家庭用VTR
に代わる新しい記録メディアとしても注目されている。
すでに、相変化系の無機記録膜を用いた提案として、日
経エレクトロニクス1999年9月6日号(No.75
1)の117頁に技術概要が紹介されている。
Furthermore, since the beginning of 1999, an oscillation wavelength of 400
As a GaN-based semiconductor laser with blue-violet emission of ~ 410nm is being tested (Nichia Corporation), HDTV (high definiti) with higher density capacity of 15GB or more per side.
Studies have begun on a medium (hereinafter referred to as an HD-DVD-R medium) capable of recording a moving image for about two hours with an image quality comparable to that of broadcasting. With HD-DVD-R media having such a high-density capacity, it is possible to record for about 6 hours if the image quality is similar to that of current broadcasts, so it is possible to use a VTR for home use.
It is also attracting attention as a new recording medium to replace.
As a proposal using a phase change type inorganic recording film, Nikkei Electronics September 6, 1999 issue (No. 75) has already been proposed.
The technical outline is introduced on page 117 of 1).

【0015】現在まで、波長400nm〜500nmの
青色レーザーで記録できる色素として、例えば、特開平
4−74690号公報、特開平6−40161号公報、
特開2001−260536号公報、特開2001−3
01333号公報記載のシアニン系色素化合物や、特開
平7−304256号公報、特開平7−304257号
公報、特開平8−127174号公報、特開平11−3
34207号公報、特開2001−39032号公報、
特開2001−138633号公報、特開2001−1
38634号公報、特開2001−143317号公
報、特開2001−181524号公報、特開2001
−287462号公報記載のポルフィリン系色素化合物
の他、特開平4−78576号公報および特開平4−8
9279号公報記載のポリエン系色素化合物、特開平1
1−334204号公報、特開平11−334205号
公報、特開2001−158862号公報、特開200
1−214084号公報、特開2001−271001
号公報記載のアゾ系色素化合物、特開平11−3042
06号公報記載のジシアノビニルフェニル色素化合物、
特開2000−43423号公報および特開2001−
96918号公報のクマリン化合物、特開2000−1
63799号公報のピリミジン化合物、特開2000−
228028号公報のナフタロシアニン化合物、特開2
000−335110号公報のヘテロ5員環化合物、特
開2000−343824号公報のビスアゾール化合
物、特開2000−343825号公報のアミノピリジ
ン化合物、特開2001−63211号公報のビスピリ
ジニウム化合物、特開2001−71638号公報のオ
キソノール化合物、特開2001−71639号公報の
スチリル化合物、特開2001−146074号公報の
アミノブタジエン化合物、特開2001−232944
号公報のキノン類、キノジメタン類化合物、特開200
1−232945号公報のモノメチン、トリメチン化合
物、特開2001−234154号公報のヒドラゾン化
合物、特開2001−246851号公報のストレプト
シアニン化合物、特開2001−277720号公報の
トリアジン化合物、特開2001−287466号公報
のカルボスチリル化合物、特開2001−301329
号公報のベンゼン環と複素環が縮合した化合物が提案さ
れている。
To date, dyes that can be recorded by a blue laser having a wavelength of 400 nm to 500 nm are disclosed in, for example, JP-A-4-74690 and JP-A-6-40161.
JP 2001-260536 A, JP 2001-3
Cyanine dye compounds described in JP-A-01333, JP-A-7-304256, JP-A-7-304257, JP-A-8-127174, and JP-A-11-3.
34207, JP 2001-39032 A,
JP 2001-138633 A, JP 2001-1
38634, JP 2001-143317 A, JP 2001-181524 A, JP 2001 A
In addition to the porphyrin dye compounds described in JP-A-287462, JP-A-4-78576 and JP-A-4-8
Polyene dye compounds described in JP-A-9279, JP-A-1
No. 1-334204, No. 11-334205, No. 2001-158862, No. 200
JP 1-214084 A, JP 2001-271001 A
Azo dye compounds described in JP-A-11-3042
Dicyanovinylphenyl dye compound described in JP-A-06-
JP-A-2000-43423 and JP-A-2001-
Coumarin compound of JP96918, JP 2000-1
No. 63799, Pyrimidine Compound, JP 2000-
Naphthalocyanine compound disclosed in JP-A-228028, JP 2
Hetero 5-membered ring compound of JP-A-2000-335110, Bisazole compound of JP-A-2000-343824, Aminopyridine compound of JP-A-2000-343825, Bispyridinium compound of JP-A-2001-63211, JP-A-2001 -71638 gazette, oxonol compound, JP 2001-71639 A, styryl compound, JP 2001-146074 A, aminobutadiene compound, JP 2001-232944 A
Of quinones and quinodimethane compounds disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No.
Monomethine and trimethine compounds disclosed in JP-A 1-2232945, hydrazone compounds disclosed in JP 2001-234154 A, streptocyanine compounds disclosed in JP 2001-246851 A, triazine compounds disclosed in JP 2001-277720 A, JP 2001-287466 A. Carbostyryl compound disclosed in JP-A-2001-301329
A compound in which a benzene ring and a heterocycle are condensed has been proposed.

【0016】また、記録層形成用の有機色素としてポル
フィリン系色素やシアニン系色素等を主とする記録層お
よび銀を主体とする金属反射層の2層が構成された特開
平11−53758号公報に記載の光記録媒体や、媒体
構成を工夫したものとして、青色レーザーに感応するシ
アニン系色素を含有した青色レーザー感応色素層ならび
に赤色レーザー感応色素層を有することで、2波長領域
の記録を可能とする特開平11−203729号公報記
載の光記録媒体や、青色レーザー用色素および赤色レー
ザー用色素の2種の色素を混合することで2波長領域の
記録を可能とするインジゴイド系色素化合物を用いた特
開平11−78239号公報記載の光記録媒体、シアノ
エテン系色素を用いた特開平11−105423号公報
記載の光記録媒体、スクアリリウム系色素化合物を用い
た特開平11−110815号公報記載の光記録媒体な
どが提案されている。
Further, as an organic dye for forming a recording layer, there are formed two layers of a recording layer mainly containing a porphyrin type dye or a cyanine type dye and a metal reflection layer mainly containing silver, and JP-A-11-53758. It is possible to record in the two wavelength region by having the optical recording medium described in 1) and the blue laser-sensitive dye layer containing a cyanine dye sensitive to blue laser and the red laser-sensitive dye layer as a device having a devised medium structure. The optical recording medium described in JP-A No. 11-203729 and an indigoid dye compound capable of recording in two wavelength regions by mixing two kinds of dyes, a blue laser dye and a red laser dye, are used. The optical recording medium described in JP-A-11-78239, and the optical recording medium described in JP-A-11-105423 using a cyanoethene dye. And optical recording medium of JP-A-11-110815 JP using squarylium dye compound has been proposed.

【0017】一方、波長400〜500nmの青色領域
で有機色素膜を記録に行う例として、特開平7−304
256号公報、特開平7−304257号公報では、ポ
ルフィリン系化合物の中心金属に配位する分子化合物お
よび高分子、あるいは中心金属を配位する分子構造を側
鎖に有する高分子と混合することで、該ポルフィリン系
化合物のソーレー(Soret)帯を長波長側にシフトさせ
て、波長488nmのArレーザーに対応させると共
に、スピンコーティングによる成膜を可能ならしめて製
造コストの低減を図る提案がなされている。又、特開平
4−78576号公報、特開平4−89279号公報な
どに開示のポリエン系色素化合物は、本発明者らの検討
によれば、光安定性が悪く、実用化にはクエンチャーの
ブレンド等の工夫が必要である。
On the other hand, as an example of recording an organic dye film in the blue region having a wavelength of 400 to 500 nm, JP-A-7-304 is used.
In Japanese Patent Laid-Open No. 256-256257 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-304257, by mixing with a molecular compound and a polymer coordinating to a central metal of a porphyrin compound, or a polymer having a molecular structure coordinating a central metal in a side chain. It has been proposed that the Soret band of the porphyrin-based compound is shifted to the long wavelength side so as to be compatible with an Ar laser having a wavelength of 488 nm, and that film formation by spin coating is possible to reduce the manufacturing cost. . Further, the polyene dye compounds disclosed in JP-A-4-78576, JP-A-4-89279 and the like have poor photostability according to the studies by the present inventors and are suitable for practical use as a quencher. It is necessary to devise such as blending.

【0018】更には、両方の波長領域レーザーに対して
記録可能な光記録媒体として、特開平10−10195
3号公報に記載のポルフィリン系化合物、特開平11−
144312号公報に記載のテトラアザポルフィリン系
色素化合物、特開2000−242968号公報の金属
キレート化合物、特開2000−343823号公報の
コロール系化合物、特開2001−80217号公報の
アザポルフィリン系化合物、特開2001−84594
号公報の(アザ)ポルフィリン化合物、を用いた光記録
媒体等がある。すなわち、ポルフィリン系化合物ならび
に類似構造を有するアザポルフィリン系色素について
は,可視領域の長波長側にQバンドと称する吸収、なら
びにソーレー帯と称する可視領域の短波長側領域にも強
い吸収を有する特徴があり、用途として染料、顔料、光
電機能材料等、幅広く利用されているポルフィリン等の
環状有機化合物について、該公報では、DVD−R用色
素として、かつ、15〜30GB対応の高密度の記録が
可能な光記録媒体用色素としての特性を有する化合物と
して提案されている。
Further, as an optical recording medium capable of recording on both wavelength region lasers, Japanese Patent Laid-Open No. 10-10195 is known.
Porphyrin-based compounds described in JP-A-3,
Tetraazaporphyrin dye compounds described in JP 144312 A, metal chelate compounds of JP 2000-242968 A, corrole compounds of JP 2000-343823 AA, porphyrin compounds of JP 2001-80217 A, JP 2001-84594 A
There is an optical recording medium using the (aza) porphyrin compound disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication. That is, the porphyrin-based compound and the azaporphyrin-based dye having a similar structure are characterized by having absorption called Q band in the long wavelength side of the visible region and strong absorption in the short wavelength side region of the visible region called Soret band. With respect to cyclic organic compounds such as porphyrin, which are widely used as dyes, pigments, photoelectric functional materials, and the like as applications, in this publication, it is possible to perform high-density recording as a dye for DVD-R and corresponding to 15 to 30 GB. It has been proposed as a compound having properties as a dye for various optical recording media.

【0019】また、フタロシアニン2量体を記録層に用
いた光記録媒体として、特開平1−171987号公
報、特開平1−264895号公報等が提案されてい
る。
Further, as an optical recording medium using a phthalocyanine dimer as a recording layer, JP-A-1-171987 and JP-A-1-264895 have been proposed.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】最近の状況として、波
長400nm〜410nmの青紫色半導体レーザーの実
用化に目処がついたことで、該レーザーを用いた大容量
追記型光記録媒体が盛んに開発され、特に高耐光性やヒ
ートモードでの良好な高速記録特性を有する色素の開発
が望まれている。
As a recent situation, it is possible to put a blue-violet semiconductor laser having a wavelength of 400 nm to 410 nm into practical use, and a large-capacity write-once type optical recording medium using the laser is actively developed. In particular, there is a demand for the development of a dye having high light resistance and good high-speed recording characteristics in heat mode.

【0021】しかしながら、前述の光記録媒体では波長
400nm〜410nmのレーザー光に対して十分に適
応していないのが実情である。すなわち、前述の有機色
素を使用した媒体では、記録した信号の再生について、
搬送波と雑音の比(C/N)が必ずしも良好な値でない
ために、信号の読み出しが必ずしも満足に行えないなど
の問題を我々は見出した。この問題を克服し、波長40
0nm〜410nmのレーザー光で高密度記録・再生可
能な光記録媒体の開発が急務となっていた。
However, the above-mentioned optical recording medium is not sufficiently adapted to laser light having a wavelength of 400 nm to 410 nm. That is, in the medium using the organic dye described above, regarding reproduction of the recorded signal,
We have found a problem that the signal cannot be read out satisfactorily because the carrier-to-noise ratio (C / N) is not always a good value. Overcoming this problem, wavelength 40
There has been an urgent need to develop an optical recording medium capable of high density recording / reproduction with a laser beam of 0 nm to 410 nm.

【0022】さらに、デジタル動画像の記録再生用媒体
として要望の強い4.7GB容量DVD−Rに対応する
場合には、該媒体の記録層中に、レーザー波長630n
m〜690nmに感応する有機色素を有することが必須
である。そのためには上述の青色レーザー波長専用の記
録用色素のみでは目的を達しえない。
Further, in the case of supporting a 4.7 GB capacity DVD-R, which is strongly demanded as a recording / reproducing medium for digital moving images, a laser wavelength of 630 n is included in the recording layer of the medium.
It is essential to have an organic dye that is sensitive to m-690 nm. For that purpose, the purpose cannot be achieved only by the above-mentioned recording dye dedicated to the blue laser wavelength.

【0023】さらには、青色レーザー波長領域ならびに
赤色レーザー波長領域の2波長領域での記録・再生が可
能な特開平11−203729号公報記載の光記録媒体
は記録層を多層とすること、特開平11−78239号
公報、特開平11−105423号公報、特開平11−
110815号公報記載の光記録媒体は、記録用色素を
必ず2種以上用いなければならないなど媒体作製が煩雑
であり、記録特性も未だ改善の余地がある。上述する青
色・赤色レーザー2波長記録対応の光記録媒体は、40
0nm〜410nmおよび630nm〜690nmの双
方の波長範囲から選択される各々のレーザー光での記録
再生や、記録部位の保存安定性については更なる最適化
の余地が残されているのが現状である。
Furthermore, the optical recording medium described in JP-A No. 11-203729 capable of recording / reproducing in two wavelength regions of a blue laser wavelength region and a red laser wavelength region has a multilayer recording layer. 11-78239, JP-A-11-105423, JP-A-11-
The optical recording medium described in Japanese Patent No. 110815 is complicated in medium preparation such that two or more kinds of recording dyes must be used without fail, and there is still room for improvement in recording characteristics. The above-mentioned optical recording medium compatible with blue / red laser dual wavelength recording is 40
At present, there is still room for further optimization regarding recording / reproduction with each laser beam selected from both wavelength ranges of 0 nm to 410 nm and 630 nm to 690 nm, and storage stability of a recording portion. .

【0024】本発明者らは、追記型光記録媒体に適した
記録材料について検討したところ、次の2点の知見を得
た。
The present inventors have studied the recording material suitable for the write-once type optical recording medium, and have obtained the following two findings.

【0025】(1)大容量追記型光記録媒体は、記録の
書き込み及び読み出しに300〜500nm及び/また
は500〜700nmのレーザー光を利用するので記録
材料としてはレーザー波長近傍における吸光係数、屈折
率、反射率の制御が重要である。特に片面15GB超の
高密度光記録媒体については、記録の書き込み及び読み
出しに390〜430nm、さらには400〜410n
mのレーザー光を利用するので、記録材料としては上記
した条件制御がさらに重要である。
(1) Since the large capacity write-once type optical recording medium uses laser light of 300 to 500 nm and / or 500 to 700 nm for writing and reading of recording, as a recording material, an absorption coefficient and a refractive index in the vicinity of the laser wavelength are used. , Control of reflectance is important. Especially for a high-density optical recording medium with more than 15 GB on one side, 390 to 430 nm for recording and reading, and 400 to 410 n for recording.
Since the m laser beam is used, the above condition control is more important as a recording material.

【0026】(2)上記のように、該レーザーを用いた
大容量追記型光記録媒体が盛んに開発され、特に高耐光
性や良好な高速記録特性を有する色素の開発が望まれて
いるにもかかわらず、両波長領域のレーザー光に対して
記録・再生が可能な記録材料として前述の色素化合物
は、未だ十分な特性が得られておらず、改善の余地があ
るのが現状である。また、記録膜形成が簡便なスピンコ
ート法等の塗布法による媒体製造の際には、有利な特性
の1つとして、塗布溶媒への高溶解性を有することが挙
げられ、この点についても配慮することが必要である。
(2) As described above, a large-capacity write-once type optical recording medium using the laser has been actively developed, and in particular, development of a dye having high light resistance and good high-speed recording characteristics has been desired. Nevertheless, the above-mentioned dye compound has not yet been obtained with sufficient characteristics as a recording material capable of recording / reproducing with respect to laser light in both wavelength regions, and there is room for improvement at present. In addition, when a medium is manufactured by a coating method such as a spin coating method, which facilitates the formation of a recording film, one of the advantageous properties is that it has high solubility in a coating solvent. It is necessary to.

【0027】また一般に、記録容量の増大を図るには、
より高密度に記録を行う必要があり、そのため、記録に
使用する光学ビームを絞るための対物レンズの開口数を
高め、光学系のレーザー波長をより短波長化することが
必須となる。ところが、絞り込んだ光学ビームは回折限
界でその最小のビーム径が定められる。
Generally, in order to increase the recording capacity,
Since it is necessary to perform recording with higher density, it is essential to increase the numerical aperture of the objective lens for narrowing the optical beam used for recording and to shorten the laser wavelength of the optical system. However, the narrowed optical beam is diffraction limited and its minimum beam diameter is determined.

【0028】ところで、記録はビーム強度がある閾値を
超えたところで成されるので、図6(a)に示すよう
に、絞り込んだビームスポットよりも小さな記録ピット
が得られる。この記録ピットの周囲はビームの強度ピー
クのすそ野にあたるが、より短波長化が進む現況では、
記録ピットの周囲でも記録層の光化学反応を助長し、殊
に、前述の青紫色レーザーの波長領域では、有機化合物
の光化学反応が容易に生じる波長領域となるため、記録
時にはピットエッジが劣化し、信号特性が悪化するとい
う問題がある。すなわち、図6(b)に示すように、本
来矩形波に対応して形成せねばならない記録情報(図6
(b)の実線)が、ピットエッジの劣化によりブロード
な波形(図6(b)の破線部)となってしまう。又、記
録時と同一の青紫色レーザー波長で再生を行うと、再生
光のような微弱な光照射でも光反応が促進され、再生の
度に劣化が進むという問題もあり、前記特開平7−30
4256号公報、特開平7−304257号公報でも、
記録光と再生光とを異なる波長、実質的には、再生光を
記録光よりも長波長とする対策を講じねばならなくな
り、結果として、十分な高密度化の要求に応えられない
のが現状である。又、記録波長と再生光波長を異ならし
めることは、記録装置と再生装置を個別に用意するか、
1つの装置に2つの光学系及びその制御系を設けなけれ
ばならず、光記録媒体としての用途が限定されたり、装
置の大型化、コストの増大を招き、汎用性の乏しいもの
となってしまう。また、従来、CD−Rなどの光記録媒
体においては、有機色素膜の融点、昇華点、相転移点或
いは熱分解点などの物性上の明確な熱的閾値を境に記録
のオン・オフが成されてきたものに対し、青紫色レーザ
ー励起による光劣化モードの介在は、このコントラスト
を曖昧にし、とりわけ光学ビームよりも小さい細密記録
ピットを形成せねばならない高密度記録系においては、
著しく記録信号品位を損なう懸念があった。
By the way, since the recording is performed when the beam intensity exceeds a certain threshold value, as shown in FIG. 6A, a recording pit smaller than the narrowed beam spot can be obtained. The area around this recording pit corresponds to the base of the beam intensity peak, but in the current situation of shorter wavelengths,
The photochemical reaction of the recording layer is also promoted around the recording pits, and in particular, in the wavelength range of the above-mentioned blue-violet laser, since the photochemical reaction of the organic compound easily occurs, the pit edge deteriorates during recording, There is a problem that the signal characteristics deteriorate. That is, as shown in FIG. 6B, the recording information that should originally be formed corresponding to the rectangular wave (see FIG.
The solid line in (b) becomes a broad waveform (broken line portion in FIG. 6B) due to deterioration of the pit edge. Further, when the reproduction is performed with the same blue-violet laser wavelength as that at the time of recording, there is a problem that the photoreaction is promoted even by irradiation with a weak light such as reproduction light, and the deterioration progresses with each reproduction. Thirty
In Japanese Patent No. 4256 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-304257,
It is necessary to take measures to make the recording light and the reproducing light have different wavelengths, in effect, to make the reproducing light a longer wavelength than the recording light, and as a result, it is not possible to meet the demand for sufficient high density. Is. Also, to make the recording wavelength and the reproducing light wavelength different, it is necessary to prepare a recording device and a reproducing device separately,
Two optical systems and their control systems must be provided in one device, which limits the use as an optical recording medium, increases the size of the device, and increases the cost, resulting in poor versatility. . Further, conventionally, in an optical recording medium such as a CD-R, recording is turned on / off at a definite thermal threshold such as a melting point, a sublimation point, a phase transition point or a thermal decomposition point of the organic dye film. In contrast to what has been produced, the interposition of a photodegradation mode by blue-violet laser excitation makes this contrast ambiguous, and especially in high-density recording systems where fine recording pits smaller than the optical beam must be formed.
There was a concern that recording signal quality would be significantly impaired.

【0029】本発明の目的は、光による情報の記録・再
生に最適で、保存安定性、さらには再生光安定な色素化
合物を創出し、該化合物を用いることで、広範な範囲の
レーザー波長領域で、優れた光記録および再生が可能な
光記録媒体を提供することにある。
The object of the present invention is to create a dye compound which is optimum for recording / reproducing information by light and has storage stability and further reproduction light stability. In order to provide an optical recording medium capable of excellent optical recording and reproduction.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、
The present inventors have completed the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention is

【0031】(1)1個の中心金属に2つのアザポルフ
ィリン環が配位するアザポルフィリン系化合物であっ
て、かつ、該化合物のすべてのピロール環に、ヘテロ原
子を有しても良い縮合芳香族環が形成された化合物よ
り、少なくとも1種の化合物を選択して記録層に含有す
る光記録媒体、
(1) A condensed fragrance which is an azaporphyrin compound in which two azaporphyrin rings are coordinated to one central metal and which may have a hetero atom in all the pyrrole rings of the compound. An optical recording medium in which at least one compound is selected from the compounds having a group ring and contained in the recording layer,

【0032】(2)基板上に記録層として有機色素層を
有する光記録媒体において、該有機色素層中に、1個の
中心金属に2つのアザポルフィリン環が配位するアザポ
ルフィリン系化合物であって、かつ、該化合物のすべて
のピロール環に、ヘテロ原子を有しても良い縮合芳香族
環が形成された化合物より少なくとも1種の化合物を選
択して含有する(1)に記載の光記録媒体、
(2) An optical recording medium having an organic dye layer as a recording layer on a substrate, which is an azaporphyrin compound in which two azaporphyrin rings are coordinated to one central metal in the organic dye layer. The optical recording according to (1), further containing at least one compound selected from compounds in which a condensed aromatic ring which may have a hetero atom is formed in all pyrrole rings of the compound. Medium,

【0033】(3)アザポルフィリン系化合物が一般式
(0)で表される(1)または(2)に記載の光記録媒
体、
(3) The optical recording medium according to (1) or (2), wherein the azaporphyrin compound is represented by the general formula (0).

【0034】[0034]

【化4】 [Chemical 4]

【0035】〔式中、環A、B、C、D、A'、B'、
C'、D'はそれぞれ独立してピロール環の2つのβ位に
形成された縮合芳香族環を表し、置換基を有していても
よい。Mは3価の金属原子と1個の水素原子、あるいは
4価の金属原子を表す。環A、B、C、Dの各環の各置
換基は連結基を介して環A、B、C、Dの各環の各置換
基および/または環A'、B'、C'、D'の各環の各置換
基とそれぞれ結合していてもよい。〕 (4)アザポルフィリン系化合物が一般式(1)で表さ
れる(1)または(2)に記載の光記録媒体、
[In the formula, rings A, B, C, D, A ′, B ′,
C ′ and D ′ each independently represent a condensed aromatic ring formed at the two β-positions of the pyrrole ring, and may have a substituent. M represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. Each substituent of each ring of rings A, B, C, D is a substituent of each ring of rings A, B, C, D and / or rings A ′, B ′, C ′, D via a linking group. It may be bonded to each substituent of each ring of '. (4) The optical recording medium according to (1) or (2), wherein the azaporphyrin compound is represented by the general formula (1).

【0036】[0036]

【化5】 [Chemical 5]

【0037】〔式中、E1〜E32はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、置
換または無置換の炭化水素基、置換または無置換のオキ
シ残基、置換アミノ基、置換または無置換のチオ残基、
置換又は無置換のカルボニル残基または置換または無置
換の複素環基を表し、E1〜E32は同一アザポルフィリ
ン環または対面のアザポルフィリン環の各置換基と連結
基を介して、それぞれ併せて結合していてもよく、M1
は3価の金属原子と1個の水素原子、あるいは4価の金
属原子を表す。〕
[Wherein, E 1 to E 32 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, A substituted or unsubstituted oxy residue, a substituted amino group, a substituted or unsubstituted thio residue,
A substituted or unsubstituted carbonyl residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein E 1 to E 32 are each a substituent of the same azaporphyrin ring or a facing azaporphyrin ring and a linking group; May be combined, M 1
Represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. ]

【0038】(5)波長300nm〜500nmおよび
/または500nm〜700nmおよび/または700
nm〜900nmの範囲から選択されるレーザー光に対
して記録および再生が可能である(1)乃至(4)のい
ずれかに記載の光記録媒体、 (6)波長390nm〜500nmおよび/または60
0nm〜700nmおよび/または750nm〜850
nmの範囲から選択されるレーザー光に対して記録およ
び再生が可能である(5)に記載の光記録媒体、 (7)波長400nm〜410nmおよび/または63
0nm〜690nmおよび/または770nm〜840
nmの範囲から選択されるレーザー光に対して記録およ
び再生が可能である(6)に記載の光記録媒体、 (8)下記一般式(1)で表されるアザポルフィリン系
化合物、
(5) Wavelength 300 nm to 500 nm and / or 500 nm to 700 nm and / or 700
The optical recording medium according to any one of (1) to (4), which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of nm to 900 nm, and (6) a wavelength of 390 nm to 500 nm and / or 60.
0 nm to 700 nm and / or 750 nm to 850
The optical recording medium according to (5), which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of nm, (7) wavelengths of 400 nm to 410 nm and / or 63
0 nm to 690 nm and / or 770 nm to 840
The optical recording medium according to (6), which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of nm, (8) an azaporphyrin compound represented by the following general formula (1),

【0039】[0039]

【化6】 [Chemical 6]

【0040】〔式中、E1〜E32はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、置
換または無置換の炭化水素基、置換または無置換のオキ
シ残基、置換アミノ基、置換または無置換のチオ残基、
置換又は無置換のカルボニル残基または置換または無置
換の複素環基を表し、E1〜E32は同一アザポルフィリ
ン環または対面のアザポルフィリン環の各置換基と連結
基を介して、それぞれ併せて結合していてもよく、M1
は3価の金属原子と1個の水素原子、あるいは4価の金
属原子を表す。〕に関する。
[Wherein, E 1 to E 32 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, A substituted or unsubstituted oxy residue, a substituted amino group, a substituted or unsubstituted thio residue,
A substituted or unsubstituted carbonyl residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein E 1 to E 32 are each a substituent of the same azaporphyrin ring or a facing azaporphyrin ring and a linking group; May be combined, M 1
Represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. ] Regarding

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】本発明は、光記録媒体の記録層中
に、中心金属に2つのアザポルフィリン環が配位するア
ザポルフィリン系化合物であって、かつ、該化合物のす
べてのピロール環に、ヘテロ原子を有しても良い縮合芳
香族環が形成された化合物を少なくとも1種含有するこ
とを特徴とする光記録媒体に関し、特に波長300nm
〜500nmおよび/または500nm〜700nmお
よび/または700nm〜900nm、更には波長39
0nm〜500nmおよび/または600nm〜700
nmおよび/または750nm〜850nm、殊に波長
400nm〜410nmおよび/または630nm〜6
90nmおよび/または770nm〜840nmの範囲
から選択されるレーザー光により記録および再生が可能
である新規な光記録媒体に関するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention relates to an azaporphyrin compound in which two azaporphyrin rings are coordinated to a central metal in a recording layer of an optical recording medium, and to all pyrrole rings of the compound. And an optical recording medium containing at least one compound having a condensed aromatic ring which may have a hetero atom, particularly at a wavelength of 300 nm.
˜500 nm and / or 500 nm to 700 nm and / or 700 nm to 900 nm, or even wavelength 39
0 nm to 500 nm and / or 600 nm to 700
nm and / or 750 nm to 850 nm, especially wavelengths 400 nm to 410 nm and / or 630 nm to 6
The present invention relates to a novel optical recording medium capable of recording and reproducing with a laser beam selected from the range of 90 nm and / or 770 nm to 840 nm.

【0042】本発明に係る光記録媒体とは、情報を記録
・保存して再生することのできる光記録媒体を示すもの
である。但し、ここでは適例として基板上に記録層、反
射層を有する本発明の光記録媒体に関して説明する。
尚、以下の説明では、光記録媒体として、光ディスクで
あって、支持基板上に例えば案内溝と、この案内溝上に
反射膜と有機色素を主成分とする記録層を有し、波長3
00〜500nmの紫外・青色レーザー光を照射して信
号の記録再生を行う媒体に関して説明するが、本発明の
光記録媒体は、この様な形状や構成に限定されるもので
はなく、カード状、シート状等その他各種の形状のも
の、又、反射層を有さないもの、更に将来開発されるで
あろう、より短波長のレーザーでの記録再生にも適用し
得るものである。
The optical recording medium according to the present invention is an optical recording medium capable of recording / storing and reproducing information. However, an optical recording medium of the present invention having a recording layer and a reflective layer on a substrate will be described here as a suitable example.
In the following description, the optical recording medium is an optical disk, and has, for example, a guide groove on a supporting substrate, a reflection film and a recording layer containing an organic dye as a main component on the guide groove, and a wavelength of 3
The medium for recording / reproducing a signal by irradiating an ultraviolet / blue laser beam having a wavelength of 0 to 500 nm will be described, but the optical recording medium of the present invention is not limited to such a shape and configuration, and a card shape, The present invention can be applied to various other shapes such as a sheet, those having no reflective layer, and recording / reproducing with a shorter wavelength laser which will be developed in the future.

【0043】本発明の光記録媒体は、例えば、図1に示
すような基板1、記録層2、反射層3、及び保護層4が
順次積層している4層構造を有しているか、図2に示す
ような貼り合わせ構造を有している。即ち、基板1上に
記録層2が形成されており、その上に密着して反射層3
が設けられており、さらにその上に接着層5を介して保
護層4が貼り合わされている。但し、記録層2の下また
は上に別の層があっても良く、反射層3の上に別の層が
あっても構わない。また、図3に示すように基板1、反
射層3、記録層2、保護層4の順に積層し、保護層側か
ら記録再生する構造であっても良い。さらに、片面が記
録可能な同一あるいは異なる2つの光記録媒体を接着層
を介して貼り合わせて、両面を記録可能な本発明の光記
録媒体とすることができる。その際、片面に公知の光記
録媒体を用いても良い。また、本発明の光記録媒体の記
録層は、記録面の全面あるいは一部の面部分であっても
良い。また、特開平10−326435号公報記載のよ
うに光透過層の厚みが、光学系のN.A.及びレーザー
波長λにより規定された媒体構造であっても構わない。
また、本発明の光記録媒体は、必要に応じて特開平11
−203729号公報記載のように記録層を2種以上有
する構造であっても構わない。
The optical recording medium of the present invention has, for example, a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3 and a protective layer 4 are sequentially laminated as shown in FIG. It has a bonding structure as shown in FIG. That is, the recording layer 2 is formed on the substrate 1, and the recording layer 2 is closely adhered on the recording layer 2 to form the reflective layer 3.
Is provided, and the protective layer 4 is further bonded thereto via the adhesive layer 5. However, another layer may be provided below or above the recording layer 2, and another layer may be provided above the reflective layer 3. Further, as shown in FIG. 3, a structure may be adopted in which the substrate 1, the reflective layer 3, the recording layer 2, and the protective layer 4 are laminated in this order, and recording / reproducing is performed from the protective layer side. Further, two identical or different optical recording media, one side of which is recordable, may be bonded together via an adhesive layer to form an optical recording medium of the present invention which is recordable on both sides. At that time, a known optical recording medium may be used on one side. The recording layer of the optical recording medium of the present invention may be the entire recording surface or a partial surface portion. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-326435, the thickness of the light transmissive layer depends on the N.V. A. And a medium structure defined by the laser wavelength λ.
In addition, the optical recording medium of the present invention is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
It may have a structure having two or more kinds of recording layers as described in JP-A-203729.

【0044】また、本発明を光ディスクに適用した例と
して、図4に示すような、基板11、記録層12、反射
層13及び保護層14がこの順で積層され、更に接着層
を兼ねる保護層14上にダミー基板15を貼り合わせた
ものが挙げられる。もちろん、基板15の無い構成であ
っても良く、基板11と記録層12の間、記録層12と
反射層13の間、反射層13と保護層14との間、保護
層14とダミー基板15との間に、他の層が存在してい
ても良い。図4の光ディスクにおいては、基板11側か
ら記録再生が行われる。
As an example in which the present invention is applied to an optical disk, a substrate 11, a recording layer 12, a reflective layer 13 and a protective layer 14 are laminated in this order as shown in FIG. An example in which a dummy substrate 15 is bonded onto 14 is given. Of course, the structure without the substrate 15 may be used, and between the substrate 11 and the recording layer 12, between the recording layer 12 and the reflective layer 13, between the reflective layer 13 and the protective layer 14, between the protective layer 14 and the dummy substrate 15. Other layers may be present between and. In the optical disc of FIG. 4, recording / reproduction is performed from the substrate 11 side.

【0045】又、別の実施形態として、特開平10−3
02310号公報に開示の構成、例えば、図5に示すよ
うに、案内溝の形成された支持基板11’上に、反射層
13’、有機色素を主成分とする記録層12’がこの順
で成膜され、この記録層12’上に任意に形成される透
明保護層14’を介して光透過層15’が形成され、情
報の記録及び再生は、光透過層15’側から実施され
る。尚、逆に光透過層15’側に案内溝を形成し、その
上に透明保護層14’、記録層12’、反射層13’を
積層し、支持基板11’と貼り合わせる構成としても良
い。
As another embodiment, Japanese Patent Laid-Open No. 10-3
As disclosed in Japanese Patent No. 02310, for example, as shown in FIG. 5, a reflective layer 13 ′ and a recording layer 12 ′ containing an organic dye as a main component are provided in this order on a support substrate 11 ′ having guide grooves. A light transmission layer 15 'is formed on the recording layer 12' via a transparent protective layer 14 'that is arbitrarily formed, and recording and reproduction of information is performed from the light transmission layer 15' side. . On the contrary, a guide groove may be formed on the side of the light transmitting layer 15 ', the transparent protective layer 14', the recording layer 12 ', and the reflective layer 13' may be laminated on the guide groove and bonded to the supporting substrate 11 '. .

【0046】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、中心金属がアザポルフィリン
環2つに配位してなるアザポルフィリン系化合物を少な
くとも1種以上選択して含有してなるものである。中心
金属がアザポルフィリン環2つに配位してなる本発明の
アザポルフィリン系化合物は、言い換えれば、2つ以上
の互いに同一または異なってもよいアザポルフィリン環
が、互いに共有する中心金属原子を介して平行に対面す
るサンドイッチ型の構造を有する化合物であり、特に一
般式(0)で示される化合物を少なくとも1種含有する
ものである。そして波長300nm〜500nmおよび
/または500nm〜700nmおよび/または700
nm〜900nmから選択される記録レーザー波長およ
び再生レーザー波長に対して記録・再生が可能である。
中でも、波長390nm〜500nmおよび/または6
00nm〜700nmおよび/または750nm〜85
0nm、更には波長400nm〜410nmおよび/ま
たは630nm〜690nmおよび/または770nm
〜840nmの範囲から選択される記録レーザー波長お
よび再生レーザー波長に対して良好なC/N比を得るこ
とができ、また、再生光安定性も良く、高品位な信号特
性が得られる光記録媒体である。
In the present invention, the recording layer is provided on the substrate. In the recording layer of the present invention, at least one azaporphyrin compound having a central metal coordinated to two azaporphyrin rings is selected. It is contained. The azaporphyrin-based compound of the present invention in which the central metal is coordinated to two azaporphyrin rings, in other words, two or more azaporphyrin rings, which may be the same or different from each other, are bonded to each other via central metal atoms shared by each other. And a compound having a sandwich-type structure of facing in parallel with each other, and particularly containing at least one compound represented by the general formula (0). And a wavelength of 300 nm to 500 nm and / or 500 nm to 700 nm and / or 700
It is possible to record / reproduce at a recording laser wavelength and a reproducing laser wavelength selected from nm to 900 nm.
Among them, the wavelength is 390 nm to 500 nm and / or 6
00 nm to 700 nm and / or 750 nm to 85
0 nm, further 400 nm to 410 nm and / or 630 nm to 690 nm and / or 770 nm
Optical recording medium capable of obtaining a good C / N ratio with respect to a recording laser wavelength and a reproducing laser wavelength selected from the range of ˜840 nm, good reproducing light stability, and high-quality signal characteristics Is.

【0047】本発明記載の一般式(0)で表される化合
物は、3価金属あるいは4価金属に2つのアザポルフィ
リン環が結合する2量体構造を有するもので、置換基の
選択により吸光係数を保持した状態で吸収波長を任意に
選択できるため、前記レーザー光の波長において、記録
層に必要な光学定数を満足することのできるなど、有機
色素として極めて有用な化合物である。
The compound represented by the general formula (0) according to the present invention has a dimer structure in which two azaporphyrin rings are bonded to a trivalent metal or a tetravalent metal and absorbs light depending on the selection of substituents. Since the absorption wavelength can be arbitrarily selected while maintaining the coefficient, it is a compound which is extremely useful as an organic dye because it can satisfy the optical constant required for the recording layer at the wavelength of the laser beam.

【0048】以下、本発明について、さらに詳細を述べ
る。本発明記載の一般式(0)で表される化合物につい
て、環A、B、C、D、A'、B'、C'、D'で示される
縮合芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、ピラジン環、キノリン環、チ
アゾール環、オキサゾール環などが挙げられる。これら
の縮合芳香族環はさらに置換基を有していてもよく、具
体的な置換基の例としては、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、
カルボキシル基、置換または無置換の炭化水素基、置換
または無置換のオキシ残基、置換または無置換のモノ又
はジ置換アミノ基、置換または無置換のチオ残基、置換
又は無置換のカルボニル残基または置換または無置換の
複素環基等が挙げられる。
The present invention will be described in more detail below. Regarding the compound represented by the general formula (0) described in the present invention, the condensed aromatic ring represented by rings A, B, C, D, A ′, B ′, C ′ and D ′ is a benzene ring or naphthalene. Examples thereof include a ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a quinoline ring, a thiazole ring and an oxazole ring. These fused aromatic rings may further have a substituent, and specific examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group,
Cyano group, hydroxyl group, amino group, mercapto group,
Carboxyl group, substituted or unsubstituted hydrocarbon group, substituted or unsubstituted oxy residue, substituted or unsubstituted mono- or di-substituted amino group, substituted or unsubstituted thio residue, substituted or unsubstituted carbonyl residue Alternatively, a substituted or unsubstituted heterocyclic group and the like can be mentioned.

【0049】また、縮合芳香族環上に置換する上記の置
換基は、連結基を介して環上の各置換基同士が連結して
もよく、具体的には脂肪族縮合、あるいは芳香族縮合に
よる環の形成、または連結基がヘテロ原子、あるいは金
属錯体残基等のヘテロ原子を含む複素環の形成等が挙げ
られる。
The above-mentioned substituents for substituting on the condensed aromatic ring may be linked to each other on the ring via a linking group, and specifically, they may be aliphatic condensed or aromatic condensed. And the formation of a heterocycle in which the linking group contains a heteroatom or a heteroatom such as a metal complex residue.

【0050】また、式(0)においてMは、3価の金属
原子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子を表
す。
In the formula (0), M represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom.

【0051】また、縮合芳香族環A、B、C、D上に置
換する上記の置換基が、連結基を介して縮合芳香族環
A'、B'、C'、D'上に置換する各置換基と連結しても
よく、具体的には脂肪族、芳香族、ヘテロ原子、あるい
は金属錯体残基等で構成される原子鎖による連結、ある
いは環の形成等が挙げられる。
Further, the above-mentioned substituents substituting on the condensed aromatic rings A, B, C, D substitute on the condensed aromatic rings A ', B', C ', D'through a linking group. It may be linked to each substituent, and specific examples thereof include linkage by an atom chain composed of an aliphatic, aromatic, hetero atom, or metal complex residue, or formation of a ring.

【0052】本発明においては、一般式(0)で示され
る化合物としては、さらに一般式(1)で例示される化
合物が好ましい例として挙げられる。
In the present invention, as the compound represented by the general formula (0), the compound represented by the general formula (1) is further preferred.

【0053】[0053]

【化7】 [Chemical 7]

【0054】〔式中、E1〜E32はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、置
換または無置換の炭化水素基、置換または無置換のオキ
シ残基、置換アミノ基、置換または無置換のチオ残基、
置換又は無置換のカルボニル残基または置換または無置
換の複素環基を表し、E1〜E32は同一アザポルフィリ
ン環または対面のアザポルフィリン環の各置換基と連結
基を介して、それぞれ併せて結合していてもよく、M1
は3価の金属原子と1個の水素原子、あるいは4価の金
属原子を表す。〕
[Wherein, E 1 to E 32 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, A substituted or unsubstituted oxy residue, a substituted amino group, a substituted or unsubstituted thio residue,
A substituted or unsubstituted carbonyl residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein E 1 to E 32 are each a substituent of the same azaporphyrin ring or a facing azaporphyrin ring and a linking group; May be combined, M 1
Represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. ]

【0055】一般式(1)に示される置換基の具体的な
例としては、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カル
ボキシル基;アルキル基、アラルキル基、アリール基、
アルケニル基等の置換または無置換の炭化水素基;アル
コキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ア
ルケニルオキシ基、アシルオキシ基、ヘテロアリールオ
キシ基等の置換または無置換のオキシ残基;モノ置換ア
ミノ基、ジ置換アミノ基等の置換アミノ基;アルキルチ
オ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル
チオ基、ヘテロアリールチオ基等の置換または無置換の
チオ残基;アシル基、アルコキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルケニルオキシカルボニル基、モノ置換アミノカ
ルボニル基、ジ置換アミノカルボニル基等の置換または
無置換のカルボニル残基;ヘテロアリール基、あるいは
非芳香族系の置換または無置換の複素環基等が挙げられ
る。
Specific examples of the substituent represented by the general formula (1) include hydrogen atom, halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxyl group, amino group, mercapto group, carboxyl group; alkyl group and aralkyl group. , An aryl group,
Substituted or unsubstituted hydrocarbon group such as alkenyl group; substituted or unsubstituted oxy residue such as alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, alkenyloxy group, acyloxy group, heteroaryloxy group; mono-substituted amino group A substituted amino group such as a disubstituted amino group; a substituted or unsubstituted thio residue such as an alkylthio group, an aralkylthio group, an arylthio group, an alkenylthio group, and a heteroarylthio group; an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group Group, aryloxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, monosubstituted aminocarbonyl group, disubstituted aminocarbonyl group, etc., substituted or unsubstituted carbonyl residue; heteroaryl group, or non-aromatic substituted or unsubstituted heterocyclic group A ring group etc. are mentioned.

【0056】また、E1〜E16で表される置換基は、好
ましくは連結基を介して個々のイソインドール環上の各
置換基同士が連結してもよく、具体的には脂肪族縮合、
あるいは芳香族縮合による環の形成、または連結基がヘ
テロ原子、あるいは金属錯体残基等のヘテロ原子を含む
複素環の形成等が挙げられる。
Further, the substituents represented by E 1 to E 16 may preferably be linked to each other on each individual isoindole ring via a linking group. ,
Alternatively, the formation of a ring by aromatic condensation, or the formation of a heterocycle in which the linking group contains a hetero atom or a hetero atom such as a metal complex residue, and the like can be mentioned.

【0057】さらに式(1)中のM1は、3価の金属原
子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子を表す。
Further, M 1 in the formula (1) represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom.

【0058】また、E1〜E16で表される置換基が、連
結基を介してE17〜E32で表される置換基と連結しても
よく、具体的には脂肪族、芳香族、ヘテロ原子、あるい
は金属錯体残基等で構成される原子鎖による連結、ある
いは環の形成等が挙げられる。
Further, the substituents represented by E 1 to E 16 may be linked to the substituents represented by E 17 to E 32 via a linking group, specifically, aliphatic or aromatic groups. , A hetero atom or a chain of atoms composed of a metal complex residue or the like, or a ring is formed.

【0059】一般式(1)で示される化合物としては、
さらに一般式(2)で例示される化合物が好ましい例と
して挙げられる。
As the compound represented by the general formula (1),
Further, the compound exemplified by the general formula (2) is mentioned as a preferable example.

【0060】[0060]

【化8】 [Chemical 8]

【0061】〔式中、R1〜R32はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ
シル基、アミノ基、カルボキシル基、メルカプト基、置
換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ
基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキル
チオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニ
ルチオ基、モノ置換アミノ基、ジ置換アミノ基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキ
シカルボニル基、モノ置換アミノカルボニル基、ジ置換
アミノカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロアリール
基、ヘテロアリールオキシ基またはヘテロアリールチオ
基を表し、R 1〜R32の各置換基は隣接する置換基と連
結基を介して、それぞれ併せて環を形成してもよく、R
1〜R16の各置換基は、R17〜R32の各置換基と連結基
を介してそれぞれ結合していてもよく、M2は3価の金
属原子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子を表
す。〕
[In the formula, R1~ R32Each independently, water
Elementary atom, halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxy
Syl group, amino group, carboxyl group, mercapto group,
A substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, aryl
Group, alkenyl group, alkoxy group, aralkyloxy
Group, aryloxy group, alkenyloxy group, alkyl
Thio group, aralkylthio group, arylthio group, alkene
Ruthio group, mono-substituted amino group, di-substituted amino group, acyl
Group, alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbo
Nyl group, aryloxycarbonyl group, alkenyloxy
Sicarbonyl group, mono-substituted aminocarbonyl group, di-substituted
Aminocarbonyl group, acyloxy group, heteroaryl
Group, heteroaryloxy group or heteroarylthio
Represents a group, R 1~ R32Each substituent of
R may be combined with each other via a bonding group to form a ring.
1~ R16Each substituent of R is17~ R32Each substituent and linking group of
M may be bonded to each other via2Is trivalent gold
Represents a group atom and one hydrogen atom or a tetravalent metal atom
You ]

【0062】本発明の一般式(2)で表される化合物に
おいて、R1〜R32の具体例としては、水素原子;フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲ
ン原子;ニトロ基;シアノ基;ヒドロキシル基;アミノ
基;カルボキシル基;メルカプト基等が挙げられる。
In the compound represented by the general formula (2) of the present invention, specific examples of R 1 to R 32 include hydrogen atom; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; nitro group A cyano group; a hydroxyl group; an amino group; a carboxyl group; a mercapto group and the like.

【0063】R1〜R32の置換または無置換のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
so−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、
sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i
so−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブ
チル基、ネオペンチル基、1,2−ジメチルプロピル
基、1,1−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、
n−ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペ
ンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル
基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチ
ル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブ
チル基、1,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチル
ブチル基、3−エチルブチル基、2−エチルブチル基、
1−エチルブチル基、1,2,2−トリメチルブチル
基、1,1,2−トリメチルブチル基、1−エチル−2
−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル
基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4
−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−
ジメチルペンチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキ
シル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,5,5−ト
リメチルペンチル基、2,4−ジメチルヘキシル基、
2,2,4−トリメチルペンチル基、3,5,5−トリ
メチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、4−
エチルオクチル基、4−エチル−4,5−メチルヘキシ
ル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、1,3,
5,7−テトラエチルオクチル基、4−ブチルオクチル
基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデシル基、
6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テトラデシル
基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメチルヘプチル
基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4−ジメチルヘ
プチル基、2,2,5,5−テトラメチルヘキシル基、
1−シクロペンチル−2,2−ジメチルプロピル基、1
−シクロヘキシル−2,2−ジメチルプロピル基などの
炭素数1〜15の無置換の直鎖、分岐または環状のアル
キル基;
Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group of R 1 to R 32 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group and i
so-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group,
sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, i
so-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group,
n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethyl Butyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group,
1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2
-Methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4
-Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-
Dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group,
2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-
Ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,3
5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group,
6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5, 5-tetramethylhexyl group,
1-cyclopentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1
An unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 15 carbon atoms such as cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group;

【0064】クロロメチル基、クロロエチル基、ブロモ
エチル基、ヨードエチル基、ジクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2−プロピル基、ノナフルオロブチル
基、パーフルオロデシル基等のハロゲン原子で置換した
炭素数1〜10のアルキル基;
Chloromethyl group, chloroethyl group, bromoethyl group, iodoethyl group, dichloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2.
2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, nonafluorobutyl group, perfluorodecyl group, or other alkyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted with a halogen atom ;

【0065】ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチ
ル基、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル基、2−
ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−
3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−ヒドロキ
シプロピル基、2−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルオ
キシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒド
ロキシブチル基、4−ヒドロキシデカリル基などのヒド
ロキシル基で置換した炭素数1〜10のアルキル基;
Hydroxymethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-
Hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-
With a hydroxyl group such as 3-ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-cyclohexyloxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group, 4-hydroxydecalyl group. A substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms;

【0066】ヒドロキシメトキシメチル基、ヒドロキシ
エトキシエチル基、2−(2’−ヒドロキシ−1’−メ
チルエトキシ)−1−メチルエチル基、2−(3’−フ
ルオロ−2’−ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2−
(3’−クロロ−2’−ヒドロキシプロポキシ)エチル
基、ヒドロキシブトキシシクロヘキシル基などのヒドロ
キシアルコキシ基で置換した炭素数2〜10のアルキル
基;
Hydroxymethoxymethyl group, hydroxyethoxyethyl group, 2- (2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3'-fluoro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group , 2-
(3'-chloro-2'-hydroxypropoxy) ethyl group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with a hydroxyalkoxy group such as hydroxybutoxycyclohexyl group;

【0067】ヒドロキシメトキシメトキシメチル基、ヒ
ドロキシエトキシエトキシエチル基、[2’−(2’−
ヒドロキ−1’−メチルエトキシ)−1’−メチルエト
キシ]エトキシエチル基、[2’−(2’−フルオロ−
1’−ヒドロキシエトキシ)−1’−メチルエトキシ]
エトキシエチル基、[2’−(2’−クロロ−1’−ヒ
ドロキシエトキシ)−1’−メチルエトキシ]エトキシ
エチル基などのヒドロキシアルコキシアルコキシ基で置
換した炭素数3〜10のアルキル基;
Hydroxymethoxymethoxymethyl group, hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 '-(2'-
Hydroxy-1′-methylethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2 ′-(2′-fluoro-
1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy]
An alkyl group having 3 to 10 carbon atoms substituted with a hydroxyalkoxyalkoxy group such as an ethoxyethyl group or a [2 '-(2'-chloro-1'-hydroxyethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group;

【0068】シアノメチル基、2−シアノエチル基、3
−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、2−シアノ
−3−メトキシプロピル基、2−シアノ−3−クロロプ
ロピル基、2−シアノ−3−エトキシプロピル基、3−
ブトキシ−2−シアノプロピル基、2−シアノ−3−シ
クロヘキシルプロピル基、2−シアノプロピル基、2−
シアノブチル基などのシアノ基で置換した炭素数2〜1
0のアルキル基;
Cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 3
-Cyanopropyl group, 4-cyanobutyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-3-ethoxypropyl group, 3-
Butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-cyclohexylpropyl group, 2-cyanopropyl group, 2-
2 to 1 carbon atoms substituted with a cyano group such as a cyanobutyl group
An alkyl group of 0;

【0069】メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシ
エチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、(4−メチル
ペントキシ)エチル基、(1,3−ジメチルブトキシ)
エチル基、(2−エチルヘキシルオキシ)エチル基、n
−オクチルオキシエチル基、(3,5,5−トリメチル
ヘキシルオキシ)エチル基、(2−メチル−1−iso
−プロピルプロポキシ)エチル基、(3−メチル−1−
iso−プロピルブチルオキシ)エチル基、2−エトキ
シ−1−メチルエチル基、3−メトキシブチル基、
(3,3,3−トリフルオロプロポキシ)エチル基、
(3,3,3−トリクロロプロポキシ)エチル基などの
アルコキシ基で置換した炭素数2〜15のアルキル基;
Methoxymethyl group, ethoxymethyl group, propoxymethyl group, butoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group, butoxyethyl group, n-hexyloxyethyl group, (4-methylpentoxy) ethyl Group, (1,3-dimethylbutoxy)
Ethyl group, (2-ethylhexyloxy) ethyl group, n
-Octyloxyethyl group, (3,5,5-trimethylhexyloxy) ethyl group, (2-methyl-1-iso
-Propylpropoxy) ethyl group, (3-methyl-1-
iso-propylbutyloxy) ethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group,
(3,3,3-trifluoropropoxy) ethyl group,
An alkyl group having 2 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxy group such as (3,3,3-trichloropropoxy) ethyl group;

【0070】メトキシメトキシメチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシ
エトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、シクロ
ヘキシルオキシエトキシエチル基、デカリルオキシプロ
ポキシエトキシ基、(1,2−ジメチルプロポキシ)エ
トキシエチル基、(3−メチル−1−iso−ブチルブ
トキシ)エトキシエチル基、(2−メトキシ−1−メチ
ルエトキシ)エチル基、(2−ブトキシ−1−メチルエ
トキシ)エチル基、2−(2’−エトキシ−1’−メチ
ルエトキシ)−1−メチルエチル基、(3,3,3−ト
リフルオロプロポキシ)エトキシエチル基、(3,3,
3−トリクロロプロポキシ)エトキシエチル基などのア
ルコキシアルコキシ基で置換した炭素数3〜15のアル
キル基;
Methoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxyethoxyethyl group, decalyloxypropoxyethoxy group, (1,2-dimethylpropoxy) ethoxy Ethyl group, (3-methyl-1-iso-butylbutoxy) ethoxyethyl group, (2-methoxy-1-methylethoxy) ethyl group, (2-butoxy-1-methylethoxy) ethyl group, 2- (2 ′) -Ethoxy-1'-methylethoxy) -1-methylethyl group, (3,3,3-trifluoropropoxy) ethoxyethyl group, (3,3,3
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxy group such as 3-trichloropropoxy) ethoxyethyl group;

【0071】メトキシメトキシメトキシメチル基、メト
キシエトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエト
キシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、シ
クロヘキシルオキシエトキシエトキシエチル基、プロポ
キシプロポキシプロポキシエチル基、(2,2,2−ト
リフルオロエトキシ)エトキシエトキシエチル基、
(2,2,2−トリクロロエトキシ)エトキシエトキシ
エチル基などのアルコキシアルコキシアルコキシ基で置
換した炭素数4〜15のアルキル基;
Methoxymethoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxyethoxyethoxyethyl group, propoxypropoxypropoxyethyl group, (2,2,2-trifluoroethoxy ) Ethoxyethoxyethyl group,
An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxyalkoxy group such as (2,2,2-trichloroethoxy) ethoxyethoxyethyl group;

【0072】ホルミルメチル基、2−オキソブチル基、
3−オキソブチル基、4−オキソブチル基、2,6−ジ
オキソシクロヘキサン−1−イル基、2−オキソ−5−
t−ブチルシクロヘキサン−1−イル基等のアシル基で
置換した炭素数2〜10のアルキル基;
Formylmethyl group, 2-oxobutyl group,
3-oxobutyl group, 4-oxobutyl group, 2,6-dioxocyclohexan-1-yl group, 2-oxo-5-
an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an acyl group such as t-butylcyclohexane-1-yl group;

【0073】ホルミルオキシメチル基、アセトキシエチ
ル基、プロピオニルオキシエチル基、ブタノイルオキシ
エチル基、バレリルオキシエチル基、(2−エチルヘキ
サノイルオキシ)エチル基、(3,5,5−トリメチル
ヘキサノイルオキシ)エチル基、(3,5,5−トリメ
チルヘキサノイルオキシ)ヘキシル基、(3−フルオロ
ブチリルオキシ)エチル基、(3−クロロブチリルオキ
シ)エチル基などのアシルオキシ基で置換した炭素数2
〜15のアルキル基;
Formyloxymethyl group, acetoxyethyl group, propionyloxyethyl group, butanoyloxyethyl group, valeryloxyethyl group, (2-ethylhexanoyloxy) ethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyl) Number of carbon atoms substituted with an acyloxy group such as (oxy) ethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) hexyl group, (3-fluorobutyryloxy) ethyl group, (3-chlorobutyryloxy) ethyl group Two
~ 15 alkyl groups;

【0074】ホルミルオキシメトキシメチル基、アセト
キシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエ
チル基、バレリルオキシエトキシエチル基、(2−エチ
ルヘキサノイルオキシ)エトキシエチル基、(3,5,
5−トリメチルヘキサノイル)オキシブトキシエチル
基、(3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシ)エ
トキシエチル基、(2−フルオロプロピオニルオキシ)
エトキシエチル基、(2−クロロプロピオニルオキシ)
エトキシエチル基などのアシルオキシアルコキシ基で置
換した炭素数3〜15のアルキル基;
Formyloxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, (2-ethylhexanoyloxy) ethoxyethyl group, (3,5,5
5-trimethylhexanoyl) oxybutoxyethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) ethoxyethyl group, (2-fluoropropionyloxy)
Ethoxyethyl group, (2-chloropropionyloxy)
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an acyloxyalkoxy group such as an ethoxyethyl group;

【0075】アセトキシメトキシメトキシメチル基、ア
セトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキ
シエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシ
エトキシエチル基、(2−エチルヘキサノイルオキシ)
エトキシエトキシエチル基、(3,5,5−トリメチル
ヘキサノイルオキシ)エトキシエトキシエチル基、(2
−フルオロプロピオニルオキシ)エトキシエトキシエチ
ル基、(2−クロロプロピオニルオキシ)エトキシエト
キシエチル基などのアシルオキシアルコキシアルコキシ
基で置換した炭素数5〜15のアルキル基;
Acetoxymethoxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, (2-ethylhexanoyloxy)
Ethoxyethoxyethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) ethoxyethoxyethyl group, (2
An alkyl group having 5 to 15 carbon atoms, which is substituted with an acyloxyalkoxyalkoxyalkoxy group such as -fluoropropionyloxy) ethoxyethoxyethyl group and (2-chloropropionyloxy) ethoxyethoxyethyl group;

【0076】メトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メト
キシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル
基、ブトキシカルボニルエチル基、(p−エチルシクロ
ヘキシルオキシカルボニル)シクロヘキシル基、(2,
2,3,3−テトラフルオロプロポキシカルボニル)メ
チル基、(2,2,3,3−テトラクロロプロポキシカ
ルボニル)メチル基などのアルコキシカルボニル基で置
換した炭素数3〜15のアルキル基;
Methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylethyl group, butoxycarbonylethyl group, (p-ethylcyclohexyloxycarbonyl) cyclohexyl group, (2,
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyl group such as a 2,3,3-tetrafluoropropoxycarbonyl) methyl group or a (2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonyl) methyl group;

【0077】フェノキシカルボニルメチル基、フェノキ
シカルボニルエチル基、(4−t−ブチルフェノキシカ
ルボニル)エチル基、ナフチルオキシカルボニルメチル
基、ビフェニルオキシカルボニルエチル基などのアリー
ルオキシカルボニル基で置換した炭素数8〜15のアル
キル基;
8 to 15 carbon atoms substituted with an aryloxycarbonyl group such as a phenoxycarbonylmethyl group, a phenoxycarbonylethyl group, a (4-t-butylphenoxycarbonyl) ethyl group, a naphthyloxycarbonylmethyl group and a biphenyloxycarbonylethyl group. An alkyl group of

【0078】ベンジルオキシカルボニルメチル基、ベン
ジルオキシカルボニルエチル基、フェネチルオキシカル
ボニルメチル基、(4−シクロヘキシルオキシベンジル
オキシカルボニル)メチル基などのアラルキルオキシカ
ルボニル基で置換した炭素数9〜15のアルキル基;
An alkyl group having 9 to 15 carbon atoms substituted with an aralkyloxycarbonyl group such as a benzyloxycarbonylmethyl group, a benzyloxycarbonylethyl group, a phenethyloxycarbonylmethyl group and a (4-cyclohexyloxybenzyloxycarbonyl) methyl group;

【0079】ビニルオキシカルボニルメチル基、ビニル
オキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルメ
チル基、シクロペンタジエニルオキシカルボニルメチル
基、オクテノキシカルボニルメチル基などのアルケニル
オキシカルボニル基で置換した炭素数4〜10のアルキ
ル基;
4 to 10 carbon atoms substituted with an alkenyloxycarbonyl group such as a vinyloxycarbonylmethyl group, a vinyloxycarbonylethyl group, an allyloxycarbonylmethyl group, a cyclopentadienyloxycarbonylmethyl group and an octenoxycarbonylmethyl group. An alkyl group of

【0080】メトキシカルボニルオキシメチル基、メト
キシカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオ
キシエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、
(2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキ
シ)エチル基、(2,2,2−トリクロロエトキシカル
ボニルオキシ)エチル基などのアルコキシカルボニルオ
キシ基で置換した炭素数3〜15のアルキル基;
Methoxycarbonyloxymethyl group, methoxycarbonyloxyethyl group, ethoxycarbonyloxyethyl group, butoxycarbonyloxyethyl group,
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyloxy group such as a (2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy) ethyl group and a (2,2,2-trichloroethoxycarbonyloxy) ethyl group;

【0081】メトキシメトキシカルボニルオキシメチル
基、メトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、エト
キシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキシエト
キシカルボニルオキシエチル基、(2,2,2−トリフ
ルオロエトキシ)エトキシカルボニルオキシエチル基、
(2,2,2−トリクロロエトキシ)エトキシカルボニ
ルオキシエチル基などのアルコキシアルコキシカルボニ
ルオキシ基で置換した炭素数4〜15のアルキル基;
Methoxymethoxycarbonyloxymethyl group, methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, (2,2,2-trifluoroethoxy) ethoxycarbonyloxyethyl group,
An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxycarbonyloxy group such as (2,2,2-trichloroethoxy) ethoxycarbonyloxyethyl group;

【0082】ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノ
メチル基、ジ−n−ブチルアミノメチル基、ジ−n−ヘ
キシルアミノメチル基、ジ−n−オクチルアミノメチル
基、ジ−n−デシルアミノメチル基、N−イソアミル−
N−メチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、ジ
(メトキシメチル)アミノメチル基、ジ(メトキシエチ
ル)アミノメチル基、ジ(エトキシメチル)アミノメチ
ル基、ジ(エトキシエチル)アミノメチル基、ジ(プロ
ポキシエチル)アミノメチル基、ジ(ブトキシエチル)
アミノメチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチ
ル)アミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチ
ルアミノエチル基、ジ−n−ブチルアミノエチル基、ジ
−n−ヘキシルアミノエチル基、ジ−n−オクチルアミ
ノエチル基、ジ−n−デシルアミノエチル基、N−イソ
アミル−N−メチルアミノエチル基、ピペリジノエチル
基、ジ(メトキシメチル)アミノエチル基、ジ(メトキ
シエチル)アミノエチル基、ジ(エトキシメチル)アミ
ノエチル基、ジ(エトキシエチル)アミノエチル基、ジ
(プロポキシエチル)アミノエチル基、ジ(ブトキシエ
チル)アミノエチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキ
シエチル)アミノエチル基、ジメチルアミノプロピル
基、ジエチルアミノプロピル基、ジ−n−ブチルアミノ
プロピル基、ジ−n−ヘキシルアミノプロピル基、ジ−
n−オクチルアミノプロピル基、ジ−n−デシルアミノ
プロピル基、N−イソアミル−N−メチルアミノプロピ
ル基、ピペリジノプロピル基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノプロピル基、ジ(メトキシエチル)アミノプロピル
基、ジ(エトキシメチル)アミノプロピル基、ジ(エト
キシエチル)アミノプロピル基、ジ(プロポキシエチ
ル)アミノプロピル基、ジ(ブトキシエチル)アミノプ
ロピル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチル)ア
ミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ジエチルア
ミノブチル基、ジ−n−ブチルアミノブチル基、ジ−n
−ヘキシルアミノブチル基、ジ−n−オクチルアミノブ
チル基、ジ−n−デシルアミノブチル基、N−イソアミ
ル−N−メチルアミノブチル基、ピペリジノブチル基、
ジ(メトキシメチル)アミノブチル基、ジ(メトキシエ
チル)アミノブチル基、ジ(エトキシメチル)アミノブ
チル基、ジ(エトキシエチル)アミノブチル基、ジ(プ
ロポキシエチル)アミノブチル基、ジ(ブトキシエチ
ル)アミノブチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシ
エチル)アミノブチル基等のジアルキルアミノ基が置換
した炭素数3〜20のアルキル基;
Dimethylaminomethyl group, diethylaminomethyl group, di-n-butylaminomethyl group, di-n-hexylaminomethyl group, di-n-octylaminomethyl group, di-n-decylaminomethyl group, N- Isoamyl-
N-methylaminomethyl group, piperidinomethyl group, di (methoxymethyl) aminomethyl group, di (methoxyethyl) aminomethyl group, di (ethoxymethyl) aminomethyl group, di (ethoxyethyl) aminomethyl group, di (propoxyethyl) ) Aminomethyl group, di (butoxyethyl)
Aminomethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminomethyl group, dimethylaminoethyl group, diethylaminoethyl group, di-n-butylaminoethyl group, di-n-hexylaminoethyl group, di-n-octylaminoethyl Group, di-n-decylaminoethyl group, N-isoamyl-N-methylaminoethyl group, piperidinoethyl group, di (methoxymethyl) aminoethyl group, di (methoxyethyl) aminoethyl group, di (ethoxymethyl) aminoethyl Group, di (ethoxyethyl) aminoethyl group, di (propoxyethyl) aminoethyl group, di (butoxyethyl) aminoethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminoethyl group, dimethylaminopropyl group, diethylaminopropyl group, Di-n-butylaminopropyl group, di-n Hexyl aminopropyl group, di -
n-octylaminopropyl group, di-n-decylaminopropyl group, N-isoamyl-N-methylaminopropyl group, piperidinopropyl group, di (methoxymethyl) aminopropyl group, di (methoxyethyl) aminopropyl group , Di (ethoxymethyl) aminopropyl group, di (ethoxyethyl) aminopropyl group, di (propoxyethyl) aminopropyl group, di (butoxyethyl) aminopropyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminopropyl group, dimethyl Aminobutyl group, diethylaminobutyl group, di-n-butylaminobutyl group, di-n
-Hexylaminobutyl group, di-n-octylaminobutyl group, di-n-decylaminobutyl group, N-isoamyl-N-methylaminobutyl group, piperidinobutyl group,
Di (methoxymethyl) aminobutyl group, di (methoxyethyl) aminobutyl group, di (ethoxymethyl) aminobutyl group, di (ethoxyethyl) aminobutyl group, di (propoxyethyl) aminobutyl group, di (butoxyethyl) An alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, which is substituted with a dialkylamino group such as an aminobutyl group and a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminobutyl group;

【0083】アセチルアミノメチル基、アセチルアミノ
エチル基、プロピオニルアミノエチル基、ブタノイルア
ミノエチル基、シクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、p−メチルシクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、スクシンイミノエチル基などのアシルアミノ基で置
換した炭素数3〜10のアルキル基;
Substituted with an acylamino group such as acetylaminomethyl group, acetylaminoethyl group, propionylaminoethyl group, butanoylaminoethyl group, cyclohexanecarbonylaminoethyl group, p-methylcyclohexanecarbonylaminoethyl group and succiniminoethyl group. An alkyl group having 3 to 10 carbon atoms;

【0084】メチルスルホンアミノメチル基、メチルス
ルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル
基、プロピルスルホンアミノエチル基、オクチルスルホ
ンアミノエチル基などのアルキルスルホンアミノ基で置
換した炭素数2〜10のアルキル基;
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, which is substituted with an alkylsulfonamino group such as a methylsulfonaminomethyl group, a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, an octylsulfonaminoethyl group;

【0085】メチルスルホニルメチル基、エチルスルホ
ニルメチル基、ブチルスルホニルメチル基、メチルスル
ホニルエチル基、エチルスルホニルエチル基、ブチルス
ルホニルエチル基、2−エチルヘキシルスルホニルエチ
ル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルスルホ
ニルメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプロピル
スルホニルメチル基などのアルキルスルホニル基で置換
した炭素数2〜10のアルキル基;
Methylsulfonylmethyl group, ethylsulfonylmethyl group, butylsulfonylmethyl group, methylsulfonylethyl group, ethylsulfonylethyl group, butylsulfonylethyl group, 2-ethylhexylsulfonylethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoro An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an alkylsulfonyl group such as a propylsulfonylmethyl group or a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonylmethyl group;

【0086】ベンゼンスルホニルメチル基、ベンゼンス
ルホニルエチル基、ベンゼンスルホニルプロピル基、ベ
ンゼンスルホニルブチル基、トルエンスルホニルメチル
基、トルエンスルホニルエチル基、トルエンスルホニル
プロピル基、トルエンスルホニルブチル基、キシレンス
ルホニルメチル基、キシレンスルホニルエチル基、キシ
レンスルホニルプロピル基、キシレンスルホニルブチル
基などのアリールスルホニル基で置換した炭素数7〜1
2のアルキル基;
Benzenesulfonylmethyl group, benzenesulfonylethyl group, benzenesulfonylpropyl group, benzenesulfonylbutyl group, toluenesulfonylmethyl group, toluenesulfonylethyl group, toluenesulfonylpropyl group, toluenesulfonylbutyl group, xylenesulfonylmethyl group, xylenesulfonyl group 7 to 1 carbon atoms substituted with an arylsulfonyl group such as ethyl group, xylenesulfonylpropyl group, xylenesulfonylbutyl group
An alkyl group of 2;

【0087】チアジアゾリノメチル基、ピロリノメチル
基、ピロリジノメチル基、ピラゾリジノメチル基、イミ
ダゾリジノメチル基、オキサゾリル基、トリアゾリノメ
チル基、モルホリノメチル基、インドーリノメチル基、
ベンズイミダゾリノメチル基、カルバゾリノメチル基な
どの複素環基で置換した炭素数2〜13のアルキル基;
Thiadiazolinomethyl group, pyrrolinomethyl group, pyrrolidinomethyl group, pyrazolidinomethyl group, imidazolidinomethyl group, oxazolyl group, triazolinomethyl group, morpholinomethyl group, indolinomethyl group,
An alkyl group having 2 to 13 carbon atoms substituted with a heterocyclic group such as a benzimidazolinomethyl group or a carbazolinomethyl group;

【0088】フェロセニルメチル基、フェロセニルエチ
ル基、フェロセニル−n−プロピル基、フェロセニル−
iso−プロピル基、フェロセニル−n−ブチル基、フ
ェロセニル−iso−ブチル基、フェロセニル−sec
−ブチル基、フェロセニル−t−ブチル基、フェロセニ
ル−n−ペンチル基、フェロセニル−iso−ペンチル
基、フェロセニル−2−メチルブチル基、フェロセニル
−1−メチルブチル基、フェロセニルネオペンチル基、
フェロセニル−1,2−ジメチルプロピル基、フェロセ
ニル−1,1−ジメチルプロピル基、フェロセニルシク
ロペンチル基、フェロセニル−n−ヘキシル基、フェロ
セニル−4−メチルペンチル基、フェロセニル−3−メ
チルペンチル基、フェロセニル−2−メチルペンチル
基、フェロセニル−1−メチルペンチル基、フェロセニ
ル−3,3−ジメチルブチル基、フェロセニル−2,3
−ジメチルブチル基、フェロセニル−1,3−ジメチル
ブチル基、フェロセニル−2,2−ジメチルブチル基、
フェロセニル−1,2−ジメチルブチル基、フェロセニ
ル−1,1−ジメチルブチル基、フェロセニル−3−エ
チルブチル基、フェロセニル−2−エチルブチル基、フ
ェロセニル−1−エチルブチル基、フェロセニル−1,
2,2−トリメチルブチル基、フェロセニル−1,1,
2−トリメチルブチル基、フェロセニル−1−エチル−
2−メチルプロピル基、フェロセニルシクロヘキシル
基、フェロセニル−n−ヘプチル基、フェロセニル−2
−メチルヘキシル基、フェロセニル−3−メチルヘキシ
ル基、フェロセニル−4−メチルヘキシル基、フェロセ
ニル−5−メチルヘキシル基、フェロセニル−2,4−
ジメチルペンチル基、フェロセニル−n−オクチル基、
フェロセニル−2−エチルヘキシル基、フェロセニル−
2,5−ジメチルヘキシル基、フェロセニル−2,5,
5−トリメチルペンチル基、フェロセニル−2,4−ジ
メチルヘキシル基、フェロセニル−2,2,4−トリメ
チルペンチル基、フェロセニル−3,5,5−トリメチ
ルヘキシル基、フェロセニル−n−ノニル基、フェロセ
ニル−n−デシル基、
Ferrocenylmethyl group, ferrocenylethyl group, ferrocenyl-n-propyl group, ferrocenyl-
iso-propyl group, ferrocenyl-n-butyl group, ferrocenyl-iso-butyl group, ferrocenyl-sec
-Butyl group, ferrocenyl-t-butyl group, ferrocenyl-n-pentyl group, ferrocenyl-iso-pentyl group, ferrocenyl-2-methylbutyl group, ferrocenyl-1-methylbutyl group, ferrocenyl neopentyl group,
Ferrocenyl-1,2-dimethylpropyl group, ferrocenyl-1,1-dimethylpropyl group, ferrocenylcyclopentyl group, ferrocenyl-n-hexyl group, ferrocenyl-4-methylpentyl group, ferrocenyl-3-methylpentyl group, ferrocenyl -2-methylpentyl group, ferrocenyl-1-methylpentyl group, ferrocenyl-3,3-dimethylbutyl group, ferrocenyl-2,3
-Dimethylbutyl group, ferrocenyl-1,3-dimethylbutyl group, ferrocenyl-2,2-dimethylbutyl group,
Ferrocenyl-1,2-dimethylbutyl group, ferrocenyl-1,1-dimethylbutyl group, ferrocenyl-3-ethylbutyl group, ferrocenyl-2-ethylbutyl group, ferrocenyl-1-ethylbutyl group, ferrocenyl-1,
2,2-trimethylbutyl group, ferrocenyl-1,1,
2-trimethylbutyl group, ferrocenyl-1-ethyl-
2-methylpropyl group, ferrocenylcyclohexyl group, ferrocenyl-n-heptyl group, ferrocenyl-2
-Methylhexyl group, ferrocenyl-3-methylhexyl group, ferrocenyl-4-methylhexyl group, ferrocenyl-5-methylhexyl group, ferrocenyl-2,4-
Dimethylpentyl group, ferrocenyl-n-octyl group,
Ferrocenyl-2-ethylhexyl group, ferrocenyl-
2,5-dimethylhexyl group, ferrocenyl-2,5
5-trimethylpentyl group, ferrocenyl-2,4-dimethylhexyl group, ferrocenyl-2,2,4-trimethylpentyl group, ferrocenyl-3,5,5-trimethylhexyl group, ferrocenyl-n-nonyl group, ferrocenyl-n -Decyl group,

【0089】コバルトセニルメチル基、コバルトセニル
エチル基、コバルトセニル−n−プロピル基、コバルト
セニル−iso−プロピル基、コバルトセニル−n−ブ
チル基、コバルトセニル−iso−ブチル基、コバルト
セニル−sec−ブチル基、コバルトセニル−t−ブチ
ル基、コバルトセニル−n−ペンチル基、コバルトセニ
ル−iso−ペンチル基、コバルトセニル−2−メチル
ブチル基、コバルトセニル−1−メチルブチル基、コバ
ルトセニルネオペンチル基、コバルトセニル−1,2−
ジメチルプロピル基、コバルトセニル−1,1−ジメチ
ルプロピル基、コバルトセニルシクロペンチル基、コバ
ルトセニル−n−ヘキシル基、コバルトセニル−4−メ
チルペンチル基、コバルトセニル−3−メチルペンチル
基、コバルトセニル−2−メチルペンチル基、コバルト
セニル−1−メチルペンチル基、コバルトセニル−3,
3−ジメチルブチル基、コバルトセニル−2,3−ジメ
チルブチル基、コバルトセニル−1,3−ジメチルブチ
ル基、コバルトセニル−2,2−ジメチルブチル基、コ
バルトセニル−1,2−ジメチルブチル基、コバルトセ
ニル−1,1−ジメチルブチル基、コバルトセニル−3
−エチルブチル基、コバルトセニル−2−エチルブチル
基、コバルトセニル−1−エチルブチル基、コバルトセ
ニル−1,2,2−トリメチルブチル基、コバルトセニ
ル−1,1,2−トリメチルブチル基、コバルトセニル
−1−エチル−2−メチルプロピル基、コバルトセニル
シクロヘキシル基、コバルトセニル−n−ヘプチル基、
コバルトセニル−2−メチルヘキシル基、コバルトセニ
ル−3−メチルヘキシル基、コバルトセニル−4−メチ
ルヘキシル基、コバルトセニル−5−メチルヘキシル
基、コバルトセニル−2,4−ジメチルペンチル基、コ
バルトセニル−n−オクチル基、コバルトセニル−2−
エチルヘキシル基、コバルトセニル−2,5−ジメチル
ヘキシル基、コバルトセニル−2,5,5−トリメチル
ペンチル基、コバルトセニル−2,4−ジメチルヘキシ
ル基、コバルトセニル−2,2,4−トリメチルペンチ
ル基、コバルトセニル−3,5,5−トリメチルヘキシ
ル基、コバルトセニル−n−ノニル基、コバルトセニル
−n−デシル基、
Cobaltcenylmethyl group, cobaltcenylethyl group, cobaltcenyl-n-propyl group, cobaltcenyl-iso-propyl group, cobaltcenyl-n-butyl group, cobaltcenyl-iso-butyl group, cobaltcenyl-sec-butyl group, Cobalt cenyl-t-butyl group, cobalt cenyl-n-pentyl group, cobalt cenyl-iso-pentyl group, cobalt cenyl-2-methylbutyl group, cobalt cenyl-1-methylbutyl group, cobalt cenyl neopentyl group, cobalt cenyl-1,2-
Dimethylpropyl group, cobaltcenyl-1,1-dimethylpropyl group, cobaltcenylcyclopentyl group, cobaltcenyl-n-hexyl group, cobaltcenyl-4-methylpentyl group, cobaltcenyl-3-methylpentyl group, cobaltcenyl-2-methylpentyl group , Cobaltcenyl-1-methylpentyl group, cobaltcenyl-3,
3-dimethylbutyl group, cobaltcenyl-2,3-dimethylbutyl group, cobaltcenyl-1,3-dimethylbutyl group, cobaltcenyl-2,2-dimethylbutyl group, cobaltcenyl-1,2-dimethylbutyl group, cobaltcenyl-1, 1-dimethylbutyl group, cobalt cenyl-3
-Ethylbutyl group, cobaltcenyl-2-ethylbutyl group, cobaltcenyl-1-ethylbutyl group, cobaltcenyl-1,2,2-trimethylbutyl group, cobaltcenyl-1,1,2-trimethylbutyl group, cobaltcenyl-1-ethyl-2- Methylpropyl group, cobaltcenylcyclohexyl group, cobaltcenyl-n-heptyl group,
Cobalt cenyl-2-methylhexyl group, cobalt cenyl-3-methylhexyl group, cobalt cenyl-4-methylhexyl group, cobalt cenyl-5-methylhexyl group, cobalt cenyl-2,4-dimethylpentyl group, cobalt cenyl-n-octyl group, cobalt cenyl -2-
Ethylhexyl group, cobaltcenyl-2,5-dimethylhexyl group, cobaltcenyl-2,5,5-trimethylpentyl group, cobaltcenyl-2,4-dimethylhexyl group, cobaltcenyl-2,2,4-trimethylpentyl group, cobaltcenyl-3 , 5,5-trimethylhexyl group, cobaltcenyl-n-nonyl group, cobaltcenyl-n-decyl group,

【0090】ニッケロセニルメチル基、ニッケロセニル
エチル基、ニッケロセニル−n−プロピル基、ニッケロ
セニル−iso−プロピル基、ニッケロセニル−n−ブ
チル基、ニッケロセニル−iso−ブチル基、ニッケロ
セニル−sec−ブチル基、ニッケロセニル−t−ブチ
ル基、ニッケロセニル−n−ペンチル基、ニッケロセニ
ル−iso−ペンチル基、ニッケロセニル−2−メチル
ブチル基、ニッケロセニル−1−メチルブチル基、ニッ
ケロセニルネオペンチル基、ニッケロセニル−1,2−
ジメチルプロピル基、ニッケロセニル−1,1−ジメチ
ルプロピル基、ニッケロセニルシクロペンチル基、ニッ
ケロセニル−n−ヘキシル基、ニッケロセニル−4−メ
チルペンチル基、ニッケロセニル−3−メチルペンチル
基、ニッケロセニル−2−メチルペンチル基、ニッケロ
セニル−1−メチルペンチル基、ニッケロセニル−3,
3−ジメチルブチル基、ニッケロセニル−2,3−ジメ
チルブチル基、ニッケロセニル−1,3−ジメチルブチ
ル基、ニッケロセニル−2,2−ジメチルブチル基、ニ
ッケロセニル−1,2−ジメチルブチル基、ニッケロセ
ニル−1,1−ジメチルブチル基、ニッケロセニル−3
−エチルブチル基、ニッケロセニル−2−エチルブチル
基、ニッケロセニル−1−エチルブチル基、ニッケロセ
ニル−1,2,2−トリメチルブチル基、ニッケロセニ
ル−1,1,2−トリメチルブチル基、ニッケロセニル
−1−エチル−2−メチルプロピル基、ニッケロセニル
シクロヘキシル基、ニッケロセニル−n−ヘプチル基、
ニッケロセニル−2−メチルヘキシル基、ニッケロセニ
ル−3−メチルヘキシル基、ニッケロセニル−4−メチ
ルヘキシル基、ニッケロセニル−5−メチルヘキシル
基、ニッケロセニル−2,4−ジメチルペンチル基、ニ
ッケロセニル−n−オクチル基、ニッケロセニル−2−
エチルヘキシル基、ニッケロセニル−2,5−ジメチル
ヘキシル基、ニッケロセニル−2,5,5−トリメチル
ペンチル基、ニッケロセニル−2,4−ジメチルヘキシ
ル基、ニッケロセニル−2,2,4−トリメチルペンチ
ル基、ニッケロセニル−3,5,5−トリメチルヘキシ
ル基、ニッケロセニル−n−ノニル基、ニッケロセニル
−n−デシル基;
Nickelocenylmethyl group, nickelocenylethyl group, nickelocenyl-n-propyl group, nickelocenyl-iso-propyl group, nickelocenyl-n-butyl group, nickelocenyl-iso-butyl group, nickelocenyl-sec-butyl group, Nickelocenyl-t-butyl group, nickelocenyl-n-pentyl group, nickelocenyl-iso-pentyl group, nickelocenyl-2-methylbutyl group, nickelocenyl-1-methylbutyl group, nickelocenyl neopentyl group, nickelocenyl-1,2-
Dimethylpropyl group, nickelocenyl-1,1-dimethylpropyl group, nickelocenylcyclopentyl group, nickelocenyl-n-hexyl group, nickelocenyl-4-methylpentyl group, nickelocenyl-3-methylpentyl group, nickelocenyl-2-methylpentyl group , Nickelocenyl-1-methylpentyl group, nickelocenyl-3,
3-dimethylbutyl group, nickelocenyl-2,3-dimethylbutyl group, nickelocenyl-1,3-dimethylbutyl group, nickelocenyl-2,2-dimethylbutyl group, nickelocenyl-1,2-dimethylbutyl group, nickelocenyl-1, 1-dimethylbutyl group, nickelocenyl-3
-Ethylbutyl group, nickelocenyl-2-ethylbutyl group, nickelocenyl-1-ethylbutyl group, nickelocenyl-1,2,2-trimethylbutyl group, nickelocenyl-1,1,2-trimethylbutyl group, nickelocenyl-1-ethyl-2- Methylpropyl group, nickelocenylcyclohexyl group, nickelocenyl-n-heptyl group,
Nickelocenyl-2-methylhexyl group, nickelocenyl-3-methylhexyl group, nickelocenyl-4-methylhexyl group, nickelocenyl-5-methylhexyl group, nickelocenyl-2,4-dimethylpentyl group, nickelocenyl-n-octyl group, nickelocenyl -2-
Ethylhexyl group, nickelocenyl-2,5-dimethylhexyl group, nickelocenyl-2,5,5-trimethylpentyl group, nickelocenyl-2,4-dimethylhexyl group, nickelocenyl-2,2,4-trimethylpentyl group, nickelocenyl-3 , 5,5-trimethylhexyl group, nickelocenyl-n-nonyl group, nickelocenyl-n-decyl group;

【0091】ジクロロチタノセニルメチル基、トリクロ
ロチタンシクロペンタジエニルメチル基、ビス(トリフ
ルオメタンスルホナト)チタノセンメチル基、ジクロロ
ジルコノセニルメチル基、ジメチルジルコノセニルメチ
ル基、ジエトキシジルコノセニルメチル基、ビス(シク
ロペンタジエニル)クロムメチル基、ビス(シクロペン
タジエニル)ジクロロモリブデンメチル基、ビス(シク
ロペンタジエニル)ジクロロハフニウムメチル基、ビス
(シクロペンタジエニル)ジクロロニオブメチル基、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ルテニウムメチル基、ビス
(シクロペンタジエニル)バナジウムメチル基、ビス
(シクロペンタジエニル)ジクロロバナジウムメチル基
などのメタロセニル基で置換した炭素数11〜20のア
ルキル基;
Dichlorotitanocenylmethyl group, trichlorotitanium cyclopentadienylmethyl group, bis (trifluoromethanesulfonato) titanocenemethyl group, dichlorozirconocenylmethyl group, dimethylzirconocenylmethyl group, diethoxyzirconocenylmethyl group. Group, bis (cyclopentadienyl) chromium methyl group, bis (cyclopentadienyl) dichloromolybdenum methyl group, bis (cyclopentadienyl) dichlorohafnium methyl group, bis (cyclopentadienyl) dichloroniobium methyl group, bis An alkyl group having 11 to 20 carbon atoms substituted with a metallocenyl group such as a (cyclopentadienyl) rutheniummethyl group, a bis (cyclopentadienyl) vanadium methyl group, a bis (cyclopentadienyl) dichlorovanadiummethyl group;

【0092】フェロセニルメトキシメチル基、フェロセ
ニルメトキシエチル基、フェロセニルメトキシプロピル
基、フェロセニルメトキシブチル基、フェロセニルメト
キシペンチル基、フェロセニルメトキシヘキシル基、フ
ェロセニルメトキシヘプチル基、フェロセニルメトキシ
オクチル基、フェロセニルメトキシノニル基、フェロセ
ニルメトキシデシル基、フェロセニルエトキシメチル
基、フェロセニルエトキシエチル基、フェロセニルエト
キシプロピル基、フェロセニルエトキシブチル基、フェ
ロセニルエトキシペンチル基、フェロセニルエトキシヘ
キシル基、フェロセニルエトキシヘプチル基、フェロセ
ニルエトキシオクチル基、フェロセニルエトキシノニル
基、フェロセニルエトキシデシル基、フェロセニルプロ
ポキシメチル基、フェロセニルプロポキシエチル基、フ
ェロセニルプロポキシプロピル基、フェロセニルプロポ
キシブチル基、フェロセニルプロポキシペンチル基、フ
ェロセニルプロポキシヘキシル基、フェロセニルプロポ
キシヘプチル基、フェロセニルプロポキシオクチル基、
フェロセニルプロポキシノニル基、フェロセニルプロポ
キシデシル基、フェロセニルブトキシメチル基、フェロ
セニルブトキシエチル基、フェロセニルブトキシプロピ
ル基、フェロセニルブトキシブチル基、フェロセニルブ
トキシペンチル基、フェロセニルブトキシヘキシル基、
フェロセニルブトキシヘプチル基、フェロセニルブトキ
シオクチル基、フェロセニルブトキシノニル基、フェロ
セニルブトキシデシル基、フェロセニルデシルオキシメ
チル基、フェロセニルデシルオキシエチル基、フェロセ
ニルデシルオキシプロピル基、フェロセニルデシルオキ
シブチル基、フェロセニルデシルオキシペンチル基、フ
ェロセニルデシルオキシヘキシル基、フェロセニルデシ
ルオキシヘプチル基、フェロセニルデシルオキシオクチ
ル基、フェロセニルデシルオキシノニル基、フェロセニ
ルデシルオキシデシル基;
Ferrocenyl methoxymethyl group, ferrocenyl methoxyethyl group, ferrocenyl methoxypropyl group, ferrocenyl methoxybutyl group, ferrocenyl methoxypentyl group, ferrocenyl methoxyhexyl group, ferrocenyl methoxyheptyl group Group, ferrocenyl methoxyoctyl group, ferrocenyl methoxynonyl group, ferrocenyl methoxydecyl group, ferrocenyl ethoxymethyl group, ferrocenyl ethoxyethyl group, ferrocenyl ethoxypropyl group, ferrocenyl ethoxybutyl group , Ferrocenylethoxypentyl group, ferrocenylethoxyhexyl group, ferrocenylethoxyheptyl group, ferrocenylethoxyoctyl group, ferrocenylethoxynonyl group, ferrocenylethoxydecyl group, ferrocenylpropoxymethyl group, F Rose cycloalkenyl propoxyethyl group, ferrocenyl propoxypropyl group, ferrocenyl-propoxybutyl group, ferrocenyl propoxy pentyl group, ferrocenyl propoxy hexyl, ferrocenyl propoxy heptyl group, ferrocenyl propoxy octyl group,
Ferrocenylpropoxynonyl group, ferrocenylpropoxydecyl group, ferrocenylbutoxymethyl group, ferrocenylbutoxyethyl group, ferrocenylbutoxypropyl group, ferrocenylbutoxybutyl group, ferrocenylbutoxypentyl group, ferroc Cenylbutoxyhexyl group,
Ferrocenylbutoxyheptyl group, ferrocenylbutoxyoctyl group, ferrocenylbutoxynonyl group, ferrocenylbutoxydecyl group, ferrocenyldecyloxymethyl group, ferrocenyldecyloxyethyl group, ferrocenyldecyloxypropyl group Group, ferrocenyldecyloxybutyl group, ferrocenyldecyloxypentyl group, ferrocenyldecyloxyhexyl group, ferrocenyldecyloxyheptyl group, ferrocenyldecyloxyoctyl group, ferrocenyldecyloxynonyl group, Ferrocenyldecyloxydecyl group;

【0093】コバルトセニルメトキシメチル基、コバル
トセニルメトキシエチル基、コバルトセニルメトキシプ
ロピル基、コバルトセニルメトキシブチル基、コバルト
セニルメトキシペンチル基、コバルトセニルメトキシヘ
キシル基、コバルトセニルメトキシヘプチル基、コバル
トセニルメトキシオクチル基、コバルトセニルメトキシ
ノニル基、コバルトセニルメトキシデシル基、コバルト
セニルエトキシメチル基、コバルトセニルエトキシエチ
ル基、コバルトセニルエトキシプロピル基、コバルトセ
ニルエトキシブチル基、コバルトセニルエトキシペンチ
ル基、コバルトセニルエトキシヘキシル基、コバルトセ
ニルエトキシヘプチル基、コバルトセニルエトキシオク
チル基、コバルトセニルエトキシノニル基、コバルトセ
ニルエトキシデシル基、コバルトセニルプロポキシメチ
ル基、コバルトセニルプロポキシエチル基、コバルトセ
ニルプロポキシプロピル基、コバルトセニルプロポキシ
ブチル基、コバルトセニルプロポキシペンチル基、コバ
ルトセニルプロポキシヘキシル基、コバルトセニルプロ
ポキシヘプチル基、コバルトセニルプロポキシオクチル
基、コバルトセニルプロポキシノニル基、コバルトセニ
ルプロポキシデシル基、コバルトセニルブトキシメチル
基、コバルトセニルブトキシエチル基、コバルトセニル
ブトキシプロピル基、コバルトセニルブトキシブチル
基、コバルトセニルブトキシペンチル基、コバルトセニ
ルブトキシヘキシル基、コバルトセニルブトキシヘプチ
ル基、コバルトセニルブトキシオクチル基、コバルトセ
ニルブトキシノニル基、コバルトセニルブトキシデシル
基、コバルトセニルデシルオキシメチル基、コバルトセ
ニルデシルオキシエチル基、コバルトセニルデシルオキ
シプロピル基、コバルトセニルデシルオキシブチル基、
コバルトセニルデシルオキシペンチル基、コバルトセニ
ルデシルオキシヘキシル基、コバルトセニルデシルオキ
シヘプチル基、コバルトセニルデシルオキシオクチル
基、コバルトセニルデシルオキシノニル基、コバルトセ
ニルデシルオキシデシル基;
Cobalt cenyl methoxymethyl group, cobalt cenyl methoxyethyl group, cobalt cenyl methoxypropyl group, cobalt cenyl methoxybutyl group, cobalt cenyl methoxypentyl group, cobalt cenyl methoxyhexyl group, cobalt cenyl methoxyheptyl group. Group, cobalt cenyl methoxyoctyl group, cobalt cenyl methoxy nonyl group, cobalt cenyl methoxydecyl group, cobalt cenyl ethoxymethyl group, cobalt cenyl ethoxyethyl group, cobalt cenyl ethoxypropyl group, cobalt cenyl ethoxybutyl group , Cobaltcenylethoxypentyl group, cobaltcenylethoxyhexyl group, cobaltcenylethoxyheptyl group, cobaltcenylethoxyoctyl group, cobaltcenylethoxynonyl group, cobaltcenylethoxydecyl group Group, cobaltcenylpropoxymethyl group, cobaltcenylpropoxyethyl group, cobaltcenylpropoxypropyl group, cobaltcenylpropoxybutyl group, cobaltcenylpropoxypentyl group, cobaltcenylpropoxyhexyl group, cobaltcenylpropoxyheptyl group , A cobalt cenyl propoxyoctyl group, a cobalt cenyl propoxy nonyl group, a cobalt cenyl propoxydecyl group, a cobalt cenyl butoxymethyl group, a cobalt cenyl butoxyethyl group, a cobalt cenyl butoxypropyl group, a cobalt cenyl butoxybutyl group, Cobalt cenyl butoxypentyl group, cobalt cenyl butoxy hexyl group, cobalt cenyl butoxy heptyl group, cobalt cenyl butoxy octyl group, cobalt cenyl butoxy nonyl group, cobalt ceni Butokishideshiru group, cobalt Se sulfonyl decyl oxymethyl group, cobalt Se sulfonyl decyl oxyethyl groups, cobalt Se sulfonyl decyloxy propyl, cobalt Se sulfonyl decyloxy-butyl group,
Cobalt cenyldecyloxypentyl group, cobaltcenyldecyloxyhexyl group, cobaltcenyldecyloxyheptyl group, cobaltcenyldecyloxyoctyl group, cobaltcenyldecyloxynonyl group, cobaltcenyldecyloxydecyl group;

【0094】ニッケロセニルメトキシメチル基、ニッケ
ロセニルメトキシエチル基、ニッケロセニルメトキシプ
ロピル基、ニッケロセニルメトキシブチル基、ニッケロ
セニルメトキシペンチル基、ニッケロセニルメトキシヘ
キシル基、ニッケロセニルメトキシヘプチル基、ニッケ
ロセニルメトキシオクチル基、ニッケロセニルメトキシ
ノニル基、ニッケロセニルメトキシデシル基、ニッケロ
セニルエトキシメチル基、ニッケロセニルエトキシエチ
ル基、ニッケロセニルエトキシプロピル基、ニッケロセ
ニルエトキシブチル基、ニッケロセニルエトキシペンチ
ル基、ニッケロセニルエトキシヘキシル基、ニッケロセ
ニルエトキシヘプチル基、ニッケロセニルエトキシオク
チル基、ニッケロセニルエトキシノニル基、ニッケロセ
ニルエトキシデシル基、ニッケロセニルプロポキシメチ
ル基、ニッケロセニルプロポキシエチル基、ニッケロセ
ニルプロポキシプロピル基、ニッケロセニルプロポキシ
ブチル基、ニッケロセニルプロポキシペンチル基、ニッ
ケロセニルプロポキシヘキシル基、ニッケロセニルプロ
ポキシヘプチル基、ニッケロセニルプロポキシオクチル
基、ニッケロセニルプロポキシノニル基、ニッケロセニ
ルプロポキシデシル基、ニッケロセニルブトキシメチル
基、ニッケロセニルブトキシエチル基、ニッケロセニル
ブトキシプロピル基、ニッケロセニルブトキシブチル
基、ニッケロセニルブトキシペンチル基、ニッケロセニ
ルブトキシヘキシル基、ニッケロセニルブトキシヘプチ
ル基、ニッケロセニルブトキシオクチル基、ニッケロセ
ニルブトキシノニル基、ニッケロセニルブトキシデシル
基、ニッケロセニルデシルオキシメチル基、ニッケロセ
ニルデシルオキシエチル基、ニッケロセニルデシルオキ
シプロピル基、ニッケロセニルデシルオキシブチル基、
ニッケロセニルデシルオキシペンチル基、ニッケロセニ
ルデシルオキシヘキシル基、ニッケロセニルデシルオキ
シヘプチル基、ニッケロセニルデシルオキシオクチル
基、ニッケロセニルデシルオキシノニル基、ニッケロセ
ニルデシルオキシデシル基;
Nickelocenyl methoxymethyl group, nickelocenyl methoxyethyl group, nickelocenyl methoxypropyl group, nickelocenyl methoxybutyl group, nickelocenyl methoxypentyl group, nickelocenyl methoxyhexyl group, nickelocenyl methoxyheptyl group Group, nickelocenylmethoxyoctyl group, nickelocenylmethoxynonyl group, nickelocenylmethoxydecyl group, nickelocenylethoxymethyl group, nickelocenylethoxyethyl group, nickelocenylethoxypropyl group, nickelocenylethoxybutyl group , Nickelocenylethoxypentyl group, nickelocenylethoxyhexyl group, nickelocenylethoxyheptyl group, nickelocenylethoxyoctyl group, nickelocenylethoxynonyl group, nickelocenylethoxydecyl group Group, nickelocenylpropoxymethyl group, nickelocenylpropoxyethyl group, nickelocenylpropoxypropyl group, nickelocenylpropoxybutyl group, nickelocenylpropoxypentyl group, nickelocenylpropoxyhexyl group, nickelocenylpropoxyheptyl group , Nickelocenylpropoxyoctyl group, nickelocenylpropoxynonyl group, nickelocenylpropoxydecyl group, nickelocenylbutoxymethyl group, nickelocenylbutoxyethyl group, nickelocenylbutoxypropyl group, nickelocenylbutoxybutyl group, Nickelocenyl butoxypentyl group, nickelocenyl butoxyhexyl group, nickelocenyl butoxyheptyl group, nickelocenyl butoxyoctyl group, nickelocenyl butoxynonyl group, nickelocenyl Butokishideshiru group, nickel Rose sulfonyl decyl oxymethyl group, nickel Rose sulfonyl decyl oxyethyl group, nickel Rose sulfonyl decyloxy propyl, nickel Rose sulfonyl decyloxy-butyl group,
Nickelocenyldecyloxypentyl group, nickelocenyldecyloxyhexyl group, nickelocenyldecyloxyheptyl group, nickelocenyldecyloxyoctyl group, nickelocenyldecyloxynonyl group, nickelocenyldecyloxydecyl group;

【0095】ジクロロチタノセニルメトキシメチル基、
トリクロロチタンシクロペンタジエニルメトキシエチル
基、ビス(トリフルオロメタンスルホナト)チタノセン
メトキシプロピル基、ジクロロジルコノセニルメトキシ
ブチル基、ジメチルジルコノセニルメトキシペンチル
基、ジエトキシジルコノセニルメトキシメチル基、ビス
(シクロペンタジエニル)クロムメトキシヘキシル基、
ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロハフニウムメト
キシメチル基、ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロ
ニオブメトキシオクチル基、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ルテニウムメトキシメチル基、ビス(シクロペンタ
ジエニル)バナジウムメトキシメチル基、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジクロロバナジウムメトキシエチル
基、オスモセニルメトキシエチル基などのメタロセニル
アルキルオキシ基で置換した炭素数12〜30のアルキ
ル基;
A dichlorotitanocenyl methoxymethyl group,
Trichlorotitanium cyclopentadienyl methoxyethyl group, bis (trifluoromethanesulfonato) titanocene methoxypropyl group, dichlorozirconocenyl methoxybutyl group, dimethylzirconocenyl methoxypentyl group, diethoxyzirconocenyl methoxymethyl group, bis (cyclo Pentadienyl) chromium methoxyhexyl group,
Bis (cyclopentadienyl) dichlorohafnium methoxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) dichloroniobium methoxyoctyl group, bis (cyclopentadienyl) ruthenium methoxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) vanadium methoxymethyl group, An alkyl group having 12 to 30 carbon atoms substituted with a metallocenylalkyloxy group such as a bis (cyclopentadienyl) dichlorovanadium methoxyethyl group or an osmocenylmethoxyethyl group;

【0096】フェロセンカルボニルオキシメチル基、フ
ェロセンカルボニルオキシエチル基、フェロセンカルボ
ニルオキシプロピル基、フェロセンカルボニルオキシブ
チル基、フェロセンカルボニルオキシペンチル基、フェ
ロセンカルボニルオキシヘキシル基、フェロセンカルボ
ニルオキシヘプチル基、フェロセンカルボニルオキシオ
クチル基、フェロセンカルボニルオキシノニル基、フェ
ロセンカルボニルオキシデシル基;
Ferrocenecarbonyloxymethyl group, ferrocenecarbonyloxyethyl group, ferrocenecarbonyloxypropyl group, ferrocenecarbonyloxybutyl group, ferrocenecarbonyloxypentyl group, ferrocenecarbonyloxyhexyl group, ferrocenecarbonyloxyheptyl group, ferrocenecarbonyloxyoctyl group , Ferrocenecarbonyloxynonyl group, ferrocenecarbonyloxydecyl group;

【0097】コバルトセンカルボニルオキシメチル基、
コバルトセンカルボニルオキシエチル基、コバルトセン
カルボニルオキシプロピル基、コバルトセンカルボニル
オキシブチル基、コバルトセンカルボニルオキシペンチ
ル基、コバルトセンカルボニルオキシヘキシル基、コバ
ルトセンカルボニルオキシヘプチル基、コバルトセンカ
ルボニルオキシオクチル基、コバルトセンカルボニルオ
キシノニル基、コバルトセンカルボニルオキシデシル
基、
Cobaltcenecarbonyloxymethyl group,
Cobaltcene carbonyloxyethyl group, Cobaltcene carbonyloxypropyl group, Cobaltcene carbonyloxybutyl group, Cobaltcene carbonyloxypentyl group, Cobaltcene carbonyloxyhexyl group, Cobaltcene carbonyloxyheptyl group, Cobaltcene carbonyloxyoctyl group, Cobalt Sencarbonyloxynonyl group, cobalt sencarbonyloxydecyl group,

【0098】ニッケロセンカルボニルオキシメチル基、
ニッケロセンカルボニルオキシエチル基、ニッケロセン
カルボニルオキシプロピル基、ニッケロセンカルボニル
オキシブチル基、ニッケロセンカルボニルオキシペンチ
ル基、ニッケロセンカルボニルオキシヘキシル基、ニッ
ケロセンカルボニルオキシヘプチル基、ニッケロセンカ
ルボニルオキシオクチル基、ニッケロセンカルボニルオ
キシノニル基、ニッケロセンカルボニルオキシデシル
基、
A nickelocenecarbonyloxymethyl group,
Nickelocene carbonyloxyethyl group, nickelocene carbonyloxypropyl group, nickelocene carbonyloxybutyl group, nickelocene carbonyloxypentyl group, nickelocene carbonyloxyhexyl group, nickelocene carbonyloxyheptyl group, nickelocene carbonyloxyoctyl group, nickel Rosenecarbonyloxynonyl group, nickelocenecarbonyloxydecyl group,

【0099】ジクロロチタノセニルカルボニルオキシメ
チル基、トリクロロチタンシクロペンタジエニルカルボ
ニルオキシエチル基、ビス(トリフルオロメタンスルホ
ナト)チタノセンカルボニルオキシメトキシプロピル
基、ジクロロジルコノセンカルボニルオキシブチル基、
ジメチルジルコノセンカルボニルオキシペンチル基、ジ
エトキシジルコノセンカルボニルオキシメチル基、ビス
(シクロペンタジエニル)クロムカルボニルオキシヘキ
シル基、ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロハフニ
ウムカルボニルオキシメチル基、ビス(シクロペンタジ
エニル)ジクロロニオブカルボニルオキシオクチル基、
ビス(シクロペンタジエニル)ルテニウムカルボニルオ
キシメチル基、ビス(シクロペンタジエニル)バナジウ
ムカルボニルオキシメチル基、ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジクロロバナジウムカルボニルオキシエチル基、
ビス(シクロペンタジエニル)オスミウムカルボニルオ
キシエチル基などのメタロセニルカルボニルオキシ基で
置換した炭素数12〜30のアルキル基等が挙げられ
る。
Dichlorotitanocenylcarbonyloxymethyl group, trichlorotitanium cyclopentadienylcarbonyloxyethyl group, bis (trifluoromethanesulfonato) titanocenecarbonyloxymethoxypropyl group, dichlorozirconocenecarbonyloxybutyl group,
Dimethylzirconocene carbonyloxypentyl group, diethoxyzirconocene carbonyloxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) chromium carbonyloxyhexyl group, bis (cyclopentadienyl) dichlorohafnium carbonyloxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) dichloro Niobium carbonyloxyoctyl group,
Bis (cyclopentadienyl) ruthenium carbonyloxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) vanadium carbonyloxymethyl group, bis (cyclopentadienyl) dichlorovanadium carbonyloxyethyl group,
Examples thereof include an alkyl group having 12 to 30 carbon atoms which is substituted with a metallocenylcarbonyloxy group such as a bis (cyclopentadienyl) osmium carbonyloxyethyl group.

【0100】R1〜R32の置換または無置換のアラルキ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有してもよいアラルキル基であり、好ましくは、
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒ
ドロキシベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロ
メチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチル
メチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチ
ルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメ
チルナフチルメチル基、フルオレン−9−イルエチル基
などの炭素数7〜15のアラルキル基等が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group of R 1 to R 32 are aralkyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably,
Benzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, triphenyl group Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms such as a fluoromethylnaphthylmethyl group and a fluoren-9-ylethyl group.

【0101】R1〜R32の置換または無置換のアリール
基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有してもよいアリール基であり、好ましくは、フェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロ
キシフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノ
ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル
基、トリフルオロメチルナフチル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、4−(5’−メチルベンゾキサゾール−
2’−イル)フェニル基、ジブチルアミノカルボニルフ
ェニル基などの炭素数6〜15のアリール基等が挙げら
れる。
Examples of the substituted or unsubstituted aryl group of R 1 to R 32 are aryl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a phenyl group and a nitro group. Phenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group, methoxycarbonylphenyl group , 4- (5'-methylbenzoxazole-
Examples include aryl groups having 6 to 15 carbon atoms such as 2′-yl) phenyl group and dibutylaminocarbonylphenyl group.

【0102】R1〜R32の置換または無置換のアルケニ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有してもよいアルケニル基であり、好ましくは、
ビニル基、プロペニル基、1−ブテニル基、iso−ブ
テニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、2−
メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル
基、2−メチル−2−ブテニル基、2,2−ジシアノビ
ニル基、2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニル
基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニル基、スチリ
ル基、4−フェニル−2−ブテニル基などの炭素数2〜
10のアルケニル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group represented by R 1 to R 32 are alkenyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably,
Vinyl group, propenyl group, 1-butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-
Methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyl group, 2-cyano-2- 2 to 2 carbon atoms such as methylsulfone vinyl group, styryl group, 4-phenyl-2-butenyl group
There may be mentioned 10 alkenyl groups.

【0103】R1〜R32の置換または無置換のアルコキ
シ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブ
トキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ブトキシ
基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、t
ert−ペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ
基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
1−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキ
シ基、3−メチルペンチルオキシ基、4−メチルペンチ
ルオキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジ
メチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,
3−ジメチルブトキシ基、1,1,2−トリメチルプロ
ポキシ基、1,2,2−トリメチルプロポキシ基、1−
エチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基、1−エチル
−2−メチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
メチルシクロペンチルオキシ基、n−へプチルオキシ
基、1−メチルヘキシルオキシ基、2−メチルヘキシル
オキシ基、3−メチルヘキシルオキシ基、4−メチルヘ
キシルオキシ基、5−メチルヘキシルオキシ基、1,1
−ジメチルペンチルオキシ基、1,2−ジメチルペンチ
ルオキシ基、1,3−ジメチルペンチルオキシ基、1,
4−ジメチルペンチルオキシ基、2,2−ジメチルペン
チルオキシ基、2,3−ジメチルペンチルオキシ基、
2,4−ジメチルペンチルオキシ基、3,3−ジメチル
ペンチルオキシ基、3,4−ジメチルペンチルオキシ
基、1−エチルペンチルオキシ基、2−エチルペンチル
オキシ基、3−エチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルブトキシ基、1,1,3−トリメチルブトキ
シ基、1,2,3−トリメチルブトキシ基、1,2,2
−トリメチルブトキシ基、1,3,3−トリメチルブト
キシ基、2,3,3−トリメチルブトキシ基、1−エチ
ル−1−メチルブトキシ基、1−エチル−2−メチルブ
トキシ基、1−エチル−3−メチルブトキシ基、2−エ
チル−1−メチルブトキシ基、2−エチル−3−メチル
ブトキシ基、1−n−プロピルブトキシ基、1−イソプ
ロピルブトキシ基、1−イソプロピル−2−メチルプロ
ポキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、n−オクチ
ルオキシ基、1−メチルヘプチルオキシ基、2−メチル
ヘプチルオキシ基、3−メチルヘプチルオキシ基、4−
メチルヘプチルオキシ基、5−メチルヘプチルオキシ
基、6−メチルヘプチルオキシ基、1,1−ジメチルヘ
キシルオキシ基、1,2−ジメチルヘキシルオキシ基、
1,3−ジメチルヘキシルオキシ基、1,4−ジメチル
ヘキシルオキシ基、1,5−ジメチルヘキシルオキシ
基、2,2−ジメチルヘキシルオキシ基、2,3−ジメ
チルヘキシルオキシ基、2,4−ジメチルヘキシルオキ
シ基、2,5−ジメチルヘキシルオキシ基、3,3−ジ
メチルヘキシルオキシ基、3,4−ジメチルヘキシルオ
キシ基、3,5−ジメチルヘキシルオキシ基、4,4−
ジメチルヘキシルオキシ基、4,5−ジメチルヘキシル
オキシ基、1−エチルヘキシルオキシ基、2−エチルヘ
キシルオキシ基、3−エチルヘキシルオキシ基、4−エ
チルヘキシルオキシ基、1−n−プロピルペンチルオキ
シ基、2−n−プロピルペンチルオキシ基、1−イソプ
ロピルペンチルオキシ基、2−イソプロピルペンチルオ
キシ基、1−エチル−1−メチルペンチルオキシ基、1
−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−
3−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−4−メチル
ペンチルオキシ基、2−エチル−1−メチルペンチルオ
キシ基、2−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、2
−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、2−エチル−
4−メチルペンチルオキシ基、3−エチル−1−メチル
ペンチルオキシ基、3−エチル−2−メチルペンチルオ
キシ基、3−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、3
−エチル−4−メチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルペンチルオキシ基、1,1,3−トリメチル
ペンチルオキシ基、1,1,4−トリメチルペンチルオ
キシ基、1,2,2−トリメチルペンチルオキシ基、
1,2,3−トリメチルペンチルオキシ基、1,2,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,4−トリメチ
ルペンチルオキシ基、2,2,3−トリメチルペンチル
オキシ基、2,2,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,3,4−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,3
−トリメチルペンチルオキシ基、2,3,3−トリメチ
ルペンチルオキシ基、3,3,4−トリメチルペンチル
オキシ基、1,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、3,4,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1−n−ブチルブトキ
シ基、1−イソブチルブトキシ基、1−sec−ブチル
ブトキシ基、1−tert−ブチルブトキシ基、2−t
ert−ブチルブトキシ基、1−n−プロピル−1−メ
チルブトキシ基、1−n−プロピル−2−メチルブトキ
シ基、1−n−プロピル−3−メチルブトキシ基、1−
イソプロピル−1−メチルブトキシ基、1−イソプロピ
ル−2−メチルブトキシ基、1−イソプロピル−3−メ
チルブトキシ基、1,1−ジエチルブトキシ基、1,2
−ジエチルブトキシ基、1−エチル−1,2−ジメチル
ブトキシ基、1−エチル−1,3−ジメチルブトキシ
基、1−エチル−2,3−ジメチルブトキシ基、2−エ
チル−1,1−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,
2−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,3−ジメチ
ルブトキシ基、2−エチル−2,3−ジメチルブトキシ
基、1,1,3,3−テトラメチルブトキシ基、1,2
−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチル
シクロヘキシルオキシ基、1,4−ジメチルシクロヘキ
シルオキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ基、n−ノ
ニルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ
基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n
−ドデシルオキシ基、1−アダマンチルオキシ基、n−
ペンタデシルオキシ基等の炭素数1〜15の直鎖、分岐
又は環状の無置換アルコキシ基;
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy group of R 1 to R 32 include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, sec. -Butoxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, t
ert-pentyloxy group, sec-pentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group,
1-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy group Base 2,
3-dimethylbutoxy group, 1,1,2-trimethylpropoxy group, 1,2,2-trimethylpropoxy group, 1-
Ethylbutoxy group, 2-ethylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylpropoxy group, cyclohexyloxy group,
Methylcyclopentyloxy group, n-heptyloxy group, 1-methylhexyloxy group, 2-methylhexyloxy group, 3-methylhexyloxy group, 4-methylhexyloxy group, 5-methylhexyloxy group, 1,1
-Dimethylpentyloxy group, 1,2-dimethylpentyloxy group, 1,3-dimethylpentyloxy group, 1,
4-dimethylpentyloxy group, 2,2-dimethylpentyloxy group, 2,3-dimethylpentyloxy group,
2,4-dimethylpentyloxy group, 3,3-dimethylpentyloxy group, 3,4-dimethylpentyloxy group, 1-ethylpentyloxy group, 2-ethylpentyloxy group, 3-ethylpentyloxy group, 1, 1,2-
Trimethylbutoxy group, 1,1,3-trimethylbutoxy group, 1,2,3-trimethylbutoxy group, 1,2,2
-Trimethylbutoxy group, 1,3,3-trimethylbutoxy group, 2,3,3-trimethylbutoxy group, 1-ethyl-1-methylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylbutoxy group, 1-ethyl-3 -Methylbutoxy group, 2-ethyl-1-methylbutoxy group, 2-ethyl-3-methylbutoxy group, 1-n-propylbutoxy group, 1-isopropylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylpropoxy group, methyl Cyclohexyloxy group, n-octyloxy group, 1-methylheptyloxy group, 2-methylheptyloxy group, 3-methylheptyloxy group, 4-
Methylheptyloxy group, 5-methylheptyloxy group, 6-methylheptyloxy group, 1,1-dimethylhexyloxy group, 1,2-dimethylhexyloxy group,
1,3-dimethylhexyloxy group, 1,4-dimethylhexyloxy group, 1,5-dimethylhexyloxy group, 2,2-dimethylhexyloxy group, 2,3-dimethylhexyloxy group, 2,4-dimethyl Hexyloxy group, 2,5-dimethylhexyloxy group, 3,3-dimethylhexyloxy group, 3,4-dimethylhexyloxy group, 3,5-dimethylhexyloxy group, 4,4-
Dimethylhexyloxy group, 4,5-dimethylhexyloxy group, 1-ethylhexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3-ethylhexyloxy group, 4-ethylhexyloxy group, 1-n-propylpentyloxy group, 2-n -Propylpentyloxy group, 1-isopropylpentyloxy group, 2-isopropylpentyloxy group, 1-ethyl-1-methylpentyloxy group, 1
-Ethyl-2-methylpentyloxy group, 1-ethyl-
3-methylpentyloxy group, 1-ethyl-4-methylpentyloxy group, 2-ethyl-1-methylpentyloxy group, 2-ethyl-2-methylpentyloxy group, 2
-Ethyl-3-methylpentyloxy group, 2-ethyl-
4-methylpentyloxy group, 3-ethyl-1-methylpentyloxy group, 3-ethyl-2-methylpentyloxy group, 3-ethyl-3-methylpentyloxy group, 3
-Ethyl-4-methylpentyloxy group, 1,1,2-
Trimethylpentyloxy group, 1,1,3-trimethylpentyloxy group, 1,1,4-trimethylpentyloxy group, 1,2,2-trimethylpentyloxy group,
1,2,3-trimethylpentyloxy group, 1,2,4
-Trimethylpentyloxy group, 1,3,4-trimethylpentyloxy group, 2,2,3-trimethylpentyloxy group, 2,2,4-trimethylpentyloxy group,
2,3,4-trimethylpentyloxy group, 1,3,3
-Trimethylpentyloxy group, 2,3,3-trimethylpentyloxy group, 3,3,4-trimethylpentyloxy group, 1,4,4-trimethylpentyloxy group,
2,4,4-trimethylpentyloxy group, 3,4,4
-Trimethylpentyloxy group, 1-n-butylbutoxy group, 1-isobutylbutoxy group, 1-sec-butylbutoxy group, 1-tert-butylbutoxy group, 2-t
ert-butylbutoxy group, 1-n-propyl-1-methylbutoxy group, 1-n-propyl-2-methylbutoxy group, 1-n-propyl-3-methylbutoxy group, 1-
Isopropyl-1-methylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylbutoxy group, 1-isopropyl-3-methylbutoxy group, 1,1-diethylbutoxy group, 1,2
-Diethylbutoxy group, 1-ethyl-1,2-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,1-dimethyl Butoxy group, 2-ethyl-1,
2-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 1,1,3,3-tetramethylbutoxy group, 1,2
-Dimethylcyclohexyloxy group, 1,3-dimethylcyclohexyloxy group, 1,4-dimethylcyclohexyloxy group, ethylcyclohexyloxy group, n-nonyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n
-Dodecyloxy group, 1-adamantyloxy group, n-
A linear, branched or cyclic unsubstituted alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms such as a pentadecyloxy group;

【0104】メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
基、エトキシエトキシ基、n−プロポキシエトキシ基、
イソプロポキシエトキシ基、nーブトキシエトキシ基、
イソブトキシエトキシ基、tert−ブトキシエトキシ
基、sec−ブトキシエトキシ基、nーペンチルオキシ
エトキシ基、イソペンチルオキシエトキシ基、tert
−ペンチルオキシエトキシ基、secーペンチルオキシ
エトキシ基、シクロペンチルオキシエトキシ基、n−ヘ
キシルオキシエトキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
エトキシ基、n−ノニルオキシエトキシ基、(3,5,
5−トリメチルヘキシルオキシ)エトキシ基、(3,
5,5−トリメチルヘキシルオキシ)ブトキシ基、n−
デシルオキシエトキシ基、n−ウンデシルオキシエトキ
シ基、n−ドデシルオキシエトキシ基、3−メトキシプ
ロポキシ基、3−エトキシプロポキシ基、3−(n−プ
ロポキシ)プロポキシ基、2−イソプロポキシプロポキ
シ基、2−メトキシブトキシ基、2−エトキシブトキシ
基、2−(n−プロポキシ)ブトキシ基、4−イソプロ
ポキシブトキシ基、デカリルオキシエトキシ基、アダマ
ンチルオキシエトキシ基等の、アルコキシ基で置換され
た炭素数2〜15のアルコキシ基;
Methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, n-propoxyethoxy group,
Isopropoxyethoxy group, n-butoxyethoxy group,
Isobutoxyethoxy group, tert-butoxyethoxy group, sec-butoxyethoxy group, n-pentyloxyethoxy group, isopentyloxyethoxy group, tert
-Pentyloxyethoxy group, sec-pentyloxyethoxy group, cyclopentyloxyethoxy group, n-hexyloxyethoxy group, ethylcyclohexyloxyethoxy group, n-nonyloxyethoxy group, (3,5,5
5-trimethylhexyloxy) ethoxy group, (3,
5,5-trimethylhexyloxy) butoxy group, n-
Decyloxyethoxy group, n-undecyloxyethoxy group, n-dodecyloxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3- (n-propoxy) propoxy group, 2-isopropoxypropoxy group, 2 -Methoxybutoxy group, 2-ethoxybutoxy group, 2- (n-propoxy) butoxy group, 4-isopropoxybutoxy group, decalyloxyethoxy group, adamantyloxyethoxy group and the like, having 2 carbon atoms substituted with an alkoxy group. ~ 15 alkoxy groups;

【0105】メトキシメトキシメトキシ基、エトキシメ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシメトキシ基、ブ
トキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシメトキシ基、プロポキシエトキシ
メトキシ基、ブトキシエトキシメトキシ基、メトキシプ
ロポキシメトキシ基、エトキシプロポキシメトキシ基、
プロポキシプロポキシメトキシ基、ブトキシプロポキシ
メトキシ基、メトキシブトキシメトキシ基、エトキシブ
トキシメトキシ基、プロポキシブトキシメトキシ基、ブ
トキシブトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ
基、エトキシメトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ
エトキシ基、ブトキシメトキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロ
ポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシエトキシ基、エトキシプロポキ
シエトキシ基、プロポキシプロポキシエトキシ基、ブト
キシプロポキシエトキシ基、メトキシブトキシエトキシ
基、エトキシブトキシエトキシ基、プロポキシブトキシ
エトキシ基、ブトキシブトキシエトキシ基、メトキシメ
トキシプロポキシ基、エトキシメトキシプロポキシ基、
プロポキシメトキシプロポキシ基、ブトキシメトキシプ
ロポキシ基、メトキシエトキシプロポキシ基、エトキシ
エトキシプロポキシ基、プロポキシエトキシプロポキシ
基、ブトキシエトキシプロポキシ基、メトキシプロポキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシプロポキシ基、プ
ロポキシプロポキシプロポキシ基、ブトキシプロポキシ
プロポキシ基、メトキシブトキシプロポキシ基、エトキ
シブトキシプロポキシ基、プロポキシブトキシプロポキ
シ基、ブトキシブトキシプロポキシ基、メトキシメトキ
シブトキシ基、エトキシメトキシブトキシ基、プロポキ
シメトキシブトキシ基、ブトキシメトキシブトキシ基、
メトキシエトキシブトキシ基、エトキシエトキシブトキ
シ基、プロポキシシエトキシブトキシ基、ブトキシエト
キシブトキシ碁、メトキシプロポキシブトキシ基、エト
キシプロポキシブトキシ基、プロポキシプロポキシブト
キシ基、ブトキシプロポキシブトキシ基、メトキシブト
キシブトキシ基、エトキシブトキシブトキシ基、プロポ
キシブトキシブトキシ基、ブトキシブトキシブトキシ
基、(4−エチルシクロへキシルオキシ)エトキシエト
キシ基、(2−エチル−1−へキシルオキシ)エトキシ
プロポキシ基、〔4−(3,5,5−トリメチルヘキシ
ルオキシ)ブトキシ〕エトキシ基等の、アルコキシアル
コキシ基で置換された直鎖、分岐または環状の炭素数3
〜15のアルコキシ基;
Methoxymethoxymethoxy group, ethoxymethoxymethoxy group, propoxymethoxymethoxy group, butoxymethoxymethoxy group, methoxyethoxymethoxy group, ethoxyethoxymethoxy group, propoxyethoxymethoxy group, butoxyethoxymethoxy group, methoxypropoxymethoxy group, ethoxypropoxy. Methoxy group,
Propoxypropoxymethoxy group, butoxypropoxymethoxy group, methoxybutoxymethoxy group, ethoxybutoxymethoxy group, propoxybutoxymethoxy group, butoxybutoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, ethoxymethoxyethoxy group, propoxymethoxyethoxy group, butoxymethoxyethoxy group, Methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propoxyethoxyethoxy group, butoxyethoxyethoxy group, methoxypropoxyethoxy group, ethoxypropoxyethoxy group, propoxypropoxyethoxy group, butoxypropoxyethoxy group, methoxybutoxyethoxy group, ethoxybutoxyethoxy group, Propoxy butoxy ethoxy group, butoxy butoxy ethoxy group, methoxy methoxy propoxy , Ethoxy methoxypropoxy group,
Propoxymethoxypropoxy group, butoxymethoxypropoxy group, methoxyethoxypropoxy group, ethoxyethoxypropoxy group, propoxyethoxypropoxy group, butoxyethoxypropoxy group, methoxypropoxypropoxy group, ethoxypropoxypropoxy group, propoxypropoxypropoxy group, butoxypropoxypropoxy group, Methoxybutoxypropoxy group, ethoxybutoxypropoxy group, propoxybutoxypropoxy group, butoxybutoxypropoxy group, methoxymethoxybutoxy group, ethoxymethoxybutoxy group, propoxymethoxybutoxy group, butoxymethoxybutoxy group,
Methoxyethoxy butoxy group, ethoxy ethoxy butoxy group, propoxy ethoxy butoxy group, butoxy ethoxy butoxy go, methoxy propoxy butoxy group, ethoxy propoxy butoxy group, propoxy propoxy butoxy group, butoxy propoxy butoxy group, methoxy butoxy butoxy group, ethoxy butoxy butoxy group , Propoxybutoxybutoxy group, butoxybutoxybutoxy group, (4-ethylcyclohexyloxy) ethoxyethoxy group, (2-ethyl-1-hexyloxy) ethoxypropoxy group, [4- (3,5,5-trimethylhexyloxy) Butoxy] ethoxy group or the like, which is substituted with an alkoxyalkoxy group, and has a linear, branched, or cyclic carbon number 3
~ 15 alkoxy groups;

【0106】メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、n−プロポキシカルボニルメト
キシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、(4’
−エチルシクロヘキシルオキシ)カルボニルメトキシ基
等のアルコキシカルボニル基で置換された炭素数3〜1
0のアルコキシ基;
Methoxycarbonylmethoxy group, ethoxycarbonylmethoxy group, n-propoxycarbonylmethoxy group, isopropoxycarbonylmethoxy group, (4 '
3 to 1 carbon atoms substituted with an alkoxycarbonyl group such as -ethylcyclohexyloxy) carbonylmethoxy group
An alkoxy group of 0;

【0107】アセチルメトキシ基、エチルカルボニルメ
トキシ基、オクチルカルボニルメトキシ基、フェナシル
オキシ基等のアシル基で置換された炭素数3〜10のア
ルコキシ基;
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, which is substituted with an acyl group such as an acetylmethoxy group, an ethylcarbonylmethoxy group, an octylcarbonylmethoxy group and a phenacyloxy group;

【0108】アセチルオキシメトキシ基、アセチルオキ
シエトキシ基、アセチルオキシヘキシルオキシ基、ブタ
ノイルオキシシクロヘキシルオキシ基などのアシルオキ
シ基で置換された炭素数3〜10のアルコキシ基;
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted with an acyloxy group such as acetyloxymethoxy group, acetyloxyethoxy group, acetyloxyhexyloxy group, butanoyloxycyclohexyloxy group;

【0109】メチルアミノメトキシ基、2−メチルアミ
ノエトキシ基、2−(2−メチルアミノエトキシ)エトキ
シ基、4−メチルアミノブトキシ基、1−メチルアミノ
プロパン−2−イルオキシ基、3−メチルアミノプロポ
キシ基、2−メチルアミノ−2−メチルプロポキシ基、
2−エチルアミノエトキシ基、2−(2−エチルアミノ
エトキシ)エトキシ基、3−エチルアミノプロポキシ
基、1−エチルアミノプロポキシ基、2−イソプロピル
アミノエトキシ基、2−(n−ブチルアミノ)エトキシ
基、3−(n−ヘキシルアミノ)プロポキシ基、4−
(シクロヘキシルアミノ)ブチルオキシ基等のアルキル
アミノ基で置換された炭素数2〜10のアルコキシ基;
Methylaminomethoxy group, 2-methylaminoethoxy group, 2- (2-methylaminoethoxy) ethoxy group, 4-methylaminobutoxy group, 1-methylaminopropan-2-yloxy group, 3-methylaminopropoxy group. Group, 2-methylamino-2-methylpropoxy group,
2-ethylaminoethoxy group, 2- (2-ethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-ethylaminopropoxy group, 1-ethylaminopropoxy group, 2-isopropylaminoethoxy group, 2- (n-butylamino) ethoxy group , 3- (n-hexylamino) propoxy group, 4-
An alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an alkylamino group such as (cyclohexylamino) butyloxy group;

【0110】メチルアミノメトキシメトキシ基、メチル
アミノエトキシエトキシ基、メチルアミノエトキシプロ
ポキシ基、エチルアミノエトキシプロポキシ基、4−
(2’−イソブチルアミノプロポキシ)ブトキシ基等の
アルキルアミノアルコキシ基で置換された炭素数3〜1
0のアルコキシ基;
Methylaminomethoxymethoxy group, methylaminoethoxyethoxy group, methylaminoethoxypropoxy group, ethylaminoethoxypropoxy group, 4-
3 to 1 carbon atoms substituted with an alkylaminoalkoxy group such as (2′-isobutylaminopropoxy) butoxy group
An alkoxy group of 0;

【0111】ジメチルアミノメトキシ基、2−ジメチル
アミノエトキシ基、2−(2−ジメチルアミノエトキシ)
エトキシ基、4−ジメチルアミノブトキシ基、1−ジメ
チルアミノプロパン−2−イルオキシ基、3−ジメチル
アミノプロポキシ基、2−ジメチルアミノ−2−メチル
プロポキシ基、2−ジエチルアミノエトキシ基、2−
(2−ジエチルアミノエトキシ)エトキシ基、3−ジエチ
ルアミノプロポキシ基、1−ジエチルアミノプロポキシ
基、2−ジイソプロピルアミノエトキシ基、2−(ジ−
n−ブチルアミノ)エトキシ基、2−ピペリジルエトキ
シ基、3−(ジ−n−ヘキシルアミノ)プロポキシ基等
のジアルキルアミノ基で置換された炭素数3〜15のア
ルコキシ基;
Dimethylaminomethoxy group, 2-dimethylaminoethoxy group, 2- (2-dimethylaminoethoxy)
Ethoxy group, 4-dimethylaminobutoxy group, 1-dimethylaminopropan-2-yloxy group, 3-dimethylaminopropoxy group, 2-dimethylamino-2-methylpropoxy group, 2-diethylaminoethoxy group, 2-
(2-diethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-diethylaminopropoxy group, 1-diethylaminopropoxy group, 2-diisopropylaminoethoxy group, 2- (di-
an alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms, which is substituted with a dialkylamino group such as (n-butylamino) ethoxy group, 2-piperidylethoxy group, and 3- (di-n-hexylamino) propoxy group;

【0112】ジメチルアミノメトキシメトキシ基、ジメ
チルアミノエトキシエトキシ基、ジメチルアミノエトキ
シプロポキシ基、ジエチルアミノエトキシプロポキシ
基、4−(2’−ジイソブチルアミノプロポキシ)ブト
キシ基等のジアルキルアミノアルコキシ基で置換された
炭素数4〜15のアルコキシ基;
Number of carbon atoms substituted with a dialkylaminoalkoxy group such as dimethylaminomethoxymethoxy group, dimethylaminoethoxyethoxy group, dimethylaminoethoxypropoxy group, diethylaminoethoxypropoxy group and 4- (2'-diisobutylaminopropoxy) butoxy group. 4 to 15 alkoxy groups;

【0113】メチルチオメトキシ基、2−メチルチオエ
トキシ基、2−エチルチオエトキシ基、2−n−プロピ
ルチオエトキシ基、2−イソプロピルチオエトキシ基、
2−n−ブチルチオエトキシ基、2−イソブチルチオエ
トキシ基、(3,5,5−トリメチルヘキシルチオ)ヘ
キシルオキシ基等のアルキルチオ基で置換された炭素数
2〜15のアルコキシ基;等が挙げられ、好ましくは、
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−
プロポキシ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、
sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ
基、iso−ペントキシ基、ネオペントキシ基、2−メ
チルブトキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,
5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、デカリルオキシ
基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキ
シエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基な
どの炭素数1〜10のアルコキシ基が挙げられる。
Methylthiomethoxy group, 2-methylthioethoxy group, 2-ethylthioethoxy group, 2-n-propylthioethoxy group, 2-isopropylthioethoxy group,
A 2-n-butylthioethoxy group, a 2-isobutylthioethoxy group, a (3,5,5-trimethylhexylthio) hexyloxy group, or another alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms, which is substituted with an alkylthio group; Preferably,
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-
Propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group,
sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neopentoxy group, 2-methylbutoxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,
Examples thereof include alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms such as 5,5-trimethylhexyloxy group, decalyloxy group, methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, and ethoxyethoxyethoxy group.

【0114】R1〜R32の置換または無置換のアラルキ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有してもよいアラルキルオキシ基であり、
好ましくは、ベンジルオキシ基、ニトロベンジルオキシ
基、シアノベンジルオキシ基、ヒドロキシベンジルオキ
シ基、メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメチルベ
ンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、ニトロナフチル
メトキシ基、シアノナフチルメトキシ基、ヒドロキシナ
フチルメトキシ基、メチルナフチルメトキシ基、トリフ
ルオロメチルナフチルメトキシ基、フルオレン−9−イ
ルエトキシ基などの炭素数7〜15のアラルキルオキシ
基等が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxy group for R 1 to R 32 are aralkyloxy groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups,
Preferably, benzyloxy group, nitrobenzyloxy group, cyanobenzyloxy group, hydroxybenzyloxy group, methylbenzyloxy group, trifluoromethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy group, nitronaphthylmethoxy group, cyanonaphthylmethoxy group, hydroxynaphthyl Examples thereof include an aralkyloxy group having 7 to 15 carbon atoms such as a methoxy group, a methylnaphthylmethoxy group, a trifluoromethylnaphthylmethoxy group, and a fluoren-9-ylethoxy group.

【0115】R1〜R32の置換または無置換のアリール
オキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有してもよいアリールオキシ基であり、好ま
しくは、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−
メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、2
−メトキシフェノキシ基、4−iso−プロピルフェノ
キシ基、ナフトキシ基、フェロセニルオキシ基、コバル
トセニルオキシ基、ニッケロセニルオキシ基、オクタメ
チルフェロセニルオキシ基、オクタメチルコバルトセニ
ルオキシ基、オクタメチルニッケロセニルオキシ基など
の炭素数6〜18のアリールオキシ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group represented by R 1 to R 32 include aryloxy groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably a phenoxy group. , 2-methylphenoxy group, 4-
Methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2
-Methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group, naphthoxy group, ferrocenyloxy group, cobaltcenyloxy group, nickelocenyloxy group, octamethylferrocenyloxy group, octamethylcobaltcenyloxy group, Examples thereof include an aryloxy group having 6 to 18 carbon atoms such as an octamethyl nickelocenyloxy group.

【0116】R1〜R32の置換または無置換のアルケニ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有してもよいアルケニルオキシ基であり、
好ましくは、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、1
−ブテニルオキシ基、iso−ブテニルオキシ基、1−
ペンテニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、2−メ
チル−1−ブテニルオキシ基、3−メチル−1−ブテニ
ルオキシ基、2−メチル−2−ブテニルオキシ基、シク
ロペンタジエニルオキシ基、2,2−ジシアノビニルオ
キシ基、2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニルオ
キシ基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニルオキシ
基、スチリルオキシ基、4−フェニル−2−ブテニルオ
キシ基、シンナミルオキシ基などの炭素数2〜10のア
ルケニルオキシ基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxy group for R 1 to R 32 are alkenyloxy groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups,
Preferably, a vinyloxy group, a propenyloxy group, 1
-Butenyloxy group, iso-butenyloxy group, 1-
Pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 2-methyl-1-butenyloxy group, 3-methyl-1-butenyloxy group, 2-methyl-2-butenyloxy group, cyclopentadienyloxy group, 2,2-dicyanovinyl group An oxy group, a 2-cyano-2-methylcarboxyl vinyloxy group, a 2-cyano-2-methylsulfone vinyloxy group, a styryloxy group, a 4-phenyl-2-butenyloxy group, a cinnamyloxy group and the like having 2 to 2 carbon atoms. There may be mentioned 10 alkenyloxy groups.

【0117】R1〜R32の置換または無置換のアルキル
チオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有してもよいアルキルチオ基であり、好ましく
は、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ
基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、is
o−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチル
チオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ
基、ネオペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、メ
チルカルボキシルエチルチオ基、2−エチルヘキシルチ
オ基、3,5,5−トリメチルヘキシルチオ基、デカリ
ルチオ基などの炭素数1〜10のアルキルチオ基が挙げ
られる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group represented by R 1 to R 32 include alkylthio groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylthio group and ethylthio group. Group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, is
o-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neopentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxyethylthio group, 2-ethylhexylthio group, 3 And an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms such as a 5,5,5-trimethylhexylthio group and a decalylthio group.

【0118】R1〜R32の置換または無置換のアラルキ
ルチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有してもよいアラルキルチオ基であり、好ま
しくは、ベンジルチオ基、ニトロベンジルチオ基、シア
ノベンジルチオ基、ヒドロキシベンジルチオ基、メチル
ベンジルチオ基、トリフルオロメチルベンジルチオ基、
ナフチルメチルチオ基、ニトロナフチルメチルチオ基、
シアノナフチルメチルチオ基、ヒドロキシナフチルメチ
ルチオ基、メチルナフチルメチルチオ基、トリフルオロ
メチルナフチルメチルチオ基、フルオレン−9−イルエ
チルチオ基などの炭素数7〜12のアラルキルチオ基等
が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylthio group represented by R 1 to R 32 include an aralkylthio group which may have a substituent similar to the above-mentioned alkyl group, and preferably a benzylthio group. , Nitrobenzylthio group, cyanobenzylthio group, hydroxybenzylthio group, methylbenzylthio group, trifluoromethylbenzylthio group,
Naphthylmethylthio group, nitronaphthylmethylthio group,
Examples thereof include an aralkylthio group having 7 to 12 carbon atoms such as a cyanonaphthylmethylthio group, a hydroxynaphthylmethylthio group, a methylnaphthylmethylthio group, a trifluoromethylnaphthylmethylthio group and a fluoren-9-ylethylthio group.

【0119】R1〜R32の置換または無置換のアリール
チオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有してもよいアリールチオ基であり、好ましく
は、フェニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、2−
メトキシフェニルチオ基、4−t−ブチルフェニルチオ
基、ナフチルチオ基、フェロセニルチオ基、コバルトセ
ニルチオ基、ニッケロセニルチオ基、オクタメチルフェ
ロセニルチオ基、オクタメチルコバルトセニルチオ基、
オクタメチルニッケロセニルチオ基等の炭素数6〜10
のアリールチオ基などが挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted arylthio group represented by R 1 to R 32 include arylthio groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a phenylthio group and 4- Methylphenylthio group, 2-
Methoxyphenylthio group, 4-t-butylphenylthio group, naphthylthio group, ferrocenylthio group, cobaltcenylthio group, nickelocenylthio group, octamethylferrocenylthio group, octamethylcobaltcenylthio group,
C6-10 carbon atoms such as octamethyl nickelocenylthio group
And the arylthio group.

【0120】R1〜R32の置換または無置換のアルケニ
ルチオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有してもよいアルケニルチオ基であり、好まし
くは、ビニルチオ基、アリルチオ基、ブテニルチオ基、
ヘキサンジエニルチオ基、シクロペンタジエニルチオ
基、スチリルチオ基、シクロヘキセニルチオ基、デセニ
ルチオ基等の炭素数2〜10のアルケニルチオ基などが
挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenylthio group of R 1 to R 32 are alkenylthio groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a vinylthio group, Allylthio group, butenylthio group,
Examples thereof include alkenylthio groups having 2 to 10 carbon atoms such as hexanedienylthio group, cyclopentadienylthio group, styrylthio group, cyclohexenylthio group and decenylthio group.

【0121】R1〜R32のモノ置換アミノ基の例として
は、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有しても
よいモノ置換アミノ基であり、好ましくは、メチルアミ
ノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミ
ノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチル
アミノ基、オクチルアミノ基、(2−エチルヘキシル)
アミノ基、シクロヘキシルアミノ基、(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)アミノ基、ノニルアミノ基、デシル
アミノ基などの炭素数1〜10のモノアルキルアミノ
基;
Examples of the mono-substituted amino group represented by R 1 to R 32 include mono-substituted amino groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a methylamino group and an ethyl group. Amino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, (2-ethylhexyl)
A monoalkylamino group having 1 to 10 carbon atoms such as an amino group, a cyclohexylamino group, a (3,5,5-trimethylhexyl) amino group, a nonylamino group and a decylamino group;

【0122】ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、
(3−フェニルプロピル)アミノ基、(4−エチルベン
ジル)アミノ基、(4−イソプロピルベンジル)アミノ
基、(4−メチルベンジル)アミノ基、(4−エチルベ
ンジル)アミノ基、(4−アリルベンジル)アミノ基、
〔4−(2−シアノエチル)ベンジル〕アミノ基、〔4
−(2−アセトキシエチル)ベンジル〕アミノ基などの
炭素数7〜10のモノアラルキルアミノ基;
Benzylamino group, phenethylamino group,
(3-Phenylpropyl) amino group, (4-ethylbenzyl) amino group, (4-isopropylbenzyl) amino group, (4-methylbenzyl) amino group, (4-ethylbenzyl) amino group, (4-allylbenzyl) ) An amino group,
[4- (2-cyanoethyl) benzyl] amino group, [4
A monoaralkylamino group having 7 to 10 carbon atoms such as-(2-acetoxyethyl) benzyl] amino group;

【0123】アニリノ基、ナフチルアミノ基、トルイジ
ノ基、キシリジノ基、エチルアニリノ基、イソプロピル
アニリノ基、メトキシアニリノ基、エトキシアニリノ
基、クロロアニリノ基、アセチルアニリノ基、メトキシ
カルボニルアニリノ基、エトキシカルボニルアニリノ
基、プロポキシカルボニルアニリノ基、4−メチルアニ
リノ基、4−エチルアニリノ基、フェロセニルアミノ
基、コバルトセニルアミノ基、ニッケロセニルアミノ
基、ジルコノセニルアミノ基、オクタメチルフェロセニ
ルアミノ基、オクタメチルコバルトセニルアミノ基、オ
クタメチルニッケロセニルアミノ基、オクタメチルジル
コノセニルアミノ基など、炭素数6〜10のモノアリー
ルアミノ基;
Anilino group, naphthylamino group, toluidino group, xylidino group, ethylanilino group, isopropylanilino group, methoxyanilino group, ethoxyanilino group, chloroanilino group, acetylanilino group, methoxycarbonylanilino group, ethoxycarbonyl. Anilino group, propoxycarbonylanilino group, 4-methylanilino group, 4-ethylanilino group, ferrocenylamino group, cobaltcenylamino group, nickelocenylamino group, zirconocenylamino group, octamethylferrocenylamino group Groups, octamethylcobaltcenylamino group, octamethylnickerocenylamino group, octamethylzirconocenylamino group and the like, monoarylamino groups having 6 to 10 carbon atoms;

【0124】ビニルアミノ基、アリルアミノ基、ブテニ
ルアミノ基、ペンテニルアミノ基、ヘキセニルアミノ
基、シクロヘキセニルアミノ基、シクロペンタジエニル
アミノ基、オクタジエニルアミノ基、アダマンテニルア
ミノ基などの炭素数2〜10のモノアルケニルアミノ
基;
A carbon number of 2 to 10 such as vinylamino group, allylamino group, butenylamino group, pentenylamino group, hexenylamino group, cyclohexenylamino group, cyclopentadienylamino group, octadienylamino group and adamantenylamino group. A monoalkenylamino group of:

【0125】ホルミルアミノ基、メチルカルボニルアミ
ノ基、エチルカルボニルアミノ基、n−プロピルカルボ
ニルアミノ基、iso−プロピルカルボニルアミノ基、
n−ブチルカルボニルアミノ基、iso−ブチルカルボ
ニルアミノ基、sec−ブチルカルボニルアミノ基、t
−ブチルカルボニルアミノ基、n−ペンチルカルボニル
アミノ基、iso−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオ
ペンチルカルボニルアミノ基、2−メチルブチルカルボ
ニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メチルベンゾイル
アミノ基、エチルベンゾイルアミノ基、トリルカルボニ
ルアミノ基、プロピルベンゾイルアミノ基、4−t−ブ
チルベンゾイルアミノ基、ニトロベンジルカルボニルア
ミノ基、3−ブトキシ−2−ナフトイルアミノ基、シン
ナモイルアミノ基、フェロセンカルボニルアミノ基、1
−メチルフェロセン−1’−カルボニルアミノ基、コバ
ルトセンカルボニルアミノ基、ニッケロセンカルボニル
アミノ基などの炭素数1〜16のアシルアミノ基等のア
ミノ基が挙げられる。
Formylamino group, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, n-propylcarbonylamino group, iso-propylcarbonylamino group,
n-butylcarbonylamino group, iso-butylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, t
-Butylcarbonylamino group, n-pentylcarbonylamino group, iso-pentylcarbonylamino group, neopentylcarbonylamino group, 2-methylbutylcarbonylamino group, benzoylamino group, methylbenzoylamino group, ethylbenzoylamino group, tolylcarbonyl Amino group, propylbenzoylamino group, 4-t-butylbenzoylamino group, nitrobenzylcarbonylamino group, 3-butoxy-2-naphthoylamino group, cinnamoylamino group, ferrocenecarbonylamino group, 1
Examples of the amino group include an acylamino group having 1 to 16 carbon atoms such as a -methylferrocene-1'-carbonylamino group, a cobaltocenecarbonylamino group and a nickelocenecarbonylamino group.

【0126】R1〜R32のジ置換アミノ基の例として
は、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有しても
よいジ置換アミノ基であり、好ましくは、ジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジプ
ロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジ−n−ヘキシル
アミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジオクチルアミ
ノ基、ビス(メトキシエチル)アミノ基、ビス(エトキ
シエチル)アミノ基、ビス(プロポキシエチル)アミノ
基、ビス(ブトキシエチル)アミノ基、ジ(アセチルオ
キシエチル)アミノ基、ジ(ヒドロキシエチル)アミノ
基、N−エチル−N−(2−シアノエチル)アミノ基、
ジ(プロピオニルオキシエチル)アミノ基などの炭素数
2〜16のジアルキルアミノ基;
Examples of the di-substituted amino group of R 1 to R 32 are di-substituted amino groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably dimethylamino group and diethylamino group. Group, methylethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group, di-n-hexylamino group, dicyclohexylamino group, dioctylamino group, bis (methoxyethyl) amino group, bis (ethoxyethyl) amino group, bis ( Propoxyethyl) amino group, bis (butoxyethyl) amino group, di (acetyloxyethyl) amino group, di (hydroxyethyl) amino group, N-ethyl-N- (2-cyanoethyl) amino group,
A dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms such as a di (propionyloxyethyl) amino group;

【0127】ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ
基、ビス(4−エチルベンジル)アミノ基、ビス(4−
イソプロピルベンジル)アミノ基などの炭素数14〜2
0のジアラルキルアミノ基;
Dibenzylamino group, diphenethylamino group, bis (4-ethylbenzyl) amino group, bis (4-
14 to 2 carbon atoms such as isopropylbenzyl) amino group
A diaralkylamino group of 0;

【0128】ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、
N−フェニル−N−トリルアミノ基などの炭素数12〜
14のジアリールアミノ基;
Diphenylamino group, ditolylamino group,
12 to 12 carbon atoms such as N-phenyl-N-tolylamino group
14 diarylamino groups;

【0129】ジビニルアミノ基、ジアリルアミノ基、ジ
ブテニルアミノ基、ジペンテニルアミノ基、ジヘキセニ
ルアミノ基、ビス(シクロペンタジエニル)アミノ基、
N−ビニル−N−アリルアミノ基などの炭素数4〜12
のジアルケニルアミノ基;
Divinylamino group, diallylamino group, dibutenylamino group, dipentenylamino group, dihexenylamino group, bis (cyclopentadienyl) amino group,
4 to 12 carbon atoms such as N-vinyl-N-allylamino group
A dialkenylamino group of

【0130】ジホルミルアミノ基、ジ(メチルカルボニ
ル)アミノ基、ジ(エチルカルボニル)アミノ基、ジ
(n−プロピルカルボニル)アミノ基、ジ(iso−プ
ロピルカルボニル)アミノ基、ジ(n−ブチルカルボニ
ル)アミノ基、ジ(iso−ブチルカルボニル)アミノ
基、ジ(sec−ブチルカルボニル)アミノ基、ジ(t
−ブチルカルボニル)アミノ基、ジ(n−ペンチルカル
ボニル)アミノ基、ジ(iso−ペンチルカルボニル)
アミノ基、ジ(ネオペンチルカルボニル)アミノ基、ジ
(2−メチルブチルカルボニル)アミノ基、ジ(ベンゾ
イル)アミノ基、ジ(メチルベンゾイル)アミノ基、ジ
(エチルベンゾイル)アミノ基、ジ(トリルカルボニ
ル)アミノ基、ジ(プロピルベンゾイル)アミノ基、ジ
(4−t−ブチルベンゾイル)アミノ基、ジ(ニトロベ
ンジルカルボニル)アミノ基、ジ(3−ブトキシ−2−
ナフトイル)アミノ基、ジ(シンナモイル)アミノ基、
コハク酸イミノ基などの炭素数2〜30のジアシルアミ
ノ基;
Diformylamino group, di (methylcarbonyl) amino group, di (ethylcarbonyl) amino group, di (n-propylcarbonyl) amino group, di (iso-propylcarbonyl) amino group, di (n-butylcarbonyl) ) Amino group, di (iso-butylcarbonyl) amino group, di (sec-butylcarbonyl) amino group, di (t
-Butylcarbonyl) amino group, di (n-pentylcarbonyl) amino group, di (iso-pentylcarbonyl)
Amino group, di (neopentylcarbonyl) amino group, di (2-methylbutylcarbonyl) amino group, di (benzoyl) amino group, di (methylbenzoyl) amino group, di (ethylbenzoyl) amino group, di (tolylcarbonyl) ) Amino group, di (propylbenzoyl) amino group, di (4-t-butylbenzoyl) amino group, di (nitrobenzylcarbonyl) amino group, di (3-butoxy-2-)
Naphthoyl) amino group, di (cinnamoyl) amino group,
A diacylamino group having 2 to 30 carbon atoms such as succinic acid imino group;

【0131】N−フェニル−N−アリルアミノ基、N−
(2−アセチルオキシエチル)−N−エチルアミノ基、
N−トリル−N−メチルアミノ基、N−ビニル−N−メ
チルアミノ基、N−ベンジル−N−アリルアミノ基、N
−メチル−フェロセニルアミノ基、N−エチル−コバル
トセニルアミノ基、N−ブチル−ニッケロセニルアミノ
基、N−ヘキシル−オクタメチルフェロセニルアミノ
基、N−メチル−オクタメチルコバルトセニルアミノ
基、N−メチル−オクタメチルニッケロセニルアミノ基
など等の置換または無置換のアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルケニル基より選択した置換基を有
する炭素数3〜24のジ置換アミノ基が挙げられる。
N-phenyl-N-allylamino group, N-
(2-acetyloxyethyl) -N-ethylamino group,
N-tolyl-N-methylamino group, N-vinyl-N-methylamino group, N-benzyl-N-allylamino group, N
-Methyl-ferrocenylamino group, N-ethyl-cobaltcenylamino group, N-butyl-nickelocenylamino group, N-hexyl-octamethylferrocenylamino group, N-methyl-octamethylcobaltcenyl group C3-C24 di-substituted amino group having a substituent selected from a substituted or unsubstituted alkyl group such as amino group and N-methyl-octamethyl nickelocenylamino group, aralkyl group, aryl group and alkenyl group. Is mentioned.

【0132】R1〜R32の置換または無置換のアシル基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有してもよいアシル基であり、好ましくは、ホルミル
基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プ
ロピルカルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、
n−ブチルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル
基、sec−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニ
ル基、n−ペンチルカルボニル基、iso−ペンチルカ
ルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、2−メチルブ
チルカルボニル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル
基、エチルベンゾイル基、トリルカルボニル基、プロピ
ルベンゾイル基、4−t−ブチルベンゾイル基、ニトロ
ベンジルカルボニル基、3−ブトキシ−2−ナフトイル
基、シンナモイル基、フェロセンカルボニル基、1−メ
チルフェロセン−1’−カルボニル基などの炭素数1〜
15のアシル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted acyl groups represented by R 1 to R 32 include acyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a formyl group and a methyl group. Carbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group,
n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neopentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, benzoyl group , Methylbenzoyl group, ethylbenzoyl group, tolylcarbonyl group, propylbenzoyl group, 4-t-butylbenzoyl group, nitrobenzylcarbonyl group, 3-butoxy-2-naphthoyl group, cinnamoyl group, ferrocenecarbonyl group, 1-methylferrocene 1 to 1 carbon atoms such as carbonyl group
There may be mentioned 15 acyl groups.

【0133】R1〜R32の置換または無置換のアルコキ
シカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基
であり、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、iso−プ
ロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、i
so−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボ
ニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペントキシカ
ルボニル基、iso−ペントキシカルボニル基、ネオペ
ントキシカルボニル基、2−ペントキシカルボニル基、
2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、3,5,5−
トリメチルヘキシルオキシカルボニル基、デカリルオキ
シカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、
クロロエトキシカルボニル基、ヒドロキシメトキシカル
ボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基などの炭素
数2〜11のアルコキシカルボニル基;
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group represented by R 1 to R 32 include alkoxycarbonyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a methoxycarbonyl group. , Ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, iso-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, i
so-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentoxycarbonyl group, iso-pentoxycarbonyl group, neopentoxycarbonyl group, 2-pentoxycarbonyl group,
2-ethylhexyloxycarbonyl group, 3,5,5-
Trimethylhexyloxycarbonyl group, decalyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group,
A C2-C11 alkoxycarbonyl group such as a chloroethoxycarbonyl group, a hydroxymethoxycarbonyl group, and a hydroxyethoxycarbonyl group;

【0134】メトキシメトキシカルボニル基、メトキシ
エトキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル
基、プロポキシエトキシカルボニル基、ブトキシエトキ
シカルボニル基、ペントキシエトキシカルボニル基、ヘ
キシルオキシエトキシカルボニル基、ブトキシブトキシ
カルボニル基、ヘキシルオキシブトキシカルボニル基、
ヒドロキシメトキシメトキシカルボニル基、ヒドロキシ
エトキシエトキシカルボニル基などのアルコキシ基が置
換した炭素数3〜11のアルコキシカルボニル基;
Methoxymethoxycarbonyl group, methoxyethoxycarbonyl group, ethoxyethoxycarbonyl group, propoxyethoxycarbonyl group, butoxyethoxycarbonyl group, pentoxyethoxycarbonyl group, hexyloxyethoxycarbonyl group, butoxybutoxycarbonyl group, hexyloxybutoxycarbonyl group. ,
An alkoxycarbonyl group having 3 to 11 carbon atoms, which is substituted with an alkoxy group such as a hydroxymethoxymethoxycarbonyl group or a hydroxyethoxyethoxycarbonyl group;

【0135】メトキシメトキシメトキシカルボニル基、
メトキシエトキシエトキシカルボニル基、エトキシエト
キシエトキシカルボニル基、プロポキシエトキシエトキ
シカルボニル基、ブトキシエトキシエトキシカルボニル
基、ペントキシエトキシエトキシカルボニル基、ヘキシ
ルオキシエトキシエトキシカルボニル基などのアルコキ
シアルコキシ基が置換した炭素数4〜11のアルコキシ
カルボニル基;
A methoxymethoxymethoxycarbonyl group,
4-11 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxy group such as methoxyethoxyethoxycarbonyl group, ethoxyethoxyethoxycarbonyl group, propoxyethoxyethoxycarbonyl group, butoxyethoxyethoxycarbonyl group, pentoxyethoxyethoxycarbonyl group, hexyloxyethoxyethoxycarbonyl group An alkoxycarbonyl group of

【0136】フェロセニルメトキシカルボニル基、フェ
ロセニルエトキシカルボニル基、フェロセニルプロポキ
シカルボニル基、フェロセニルブトキシカルボニル基、
フェロセニルペンチルオキシカルボニル基、フェロセニ
ルヘキシルオキシカルボニル基、フェロセニルヘプチル
オキシカルボニル基、フェロセニルオクチルオキシカル
ボニル基、フェロセニルノニルオキシカルボニル基、フ
ェロセニルデシルオキシカルボニル基、
Ferrocenylmethoxycarbonyl group, ferrocenylethoxycarbonyl group, ferrocenylpropoxycarbonyl group, ferrocenylbutoxycarbonyl group,
Ferrocenyl pentyloxycarbonyl group, ferrocenylhexyloxycarbonyl group, ferrocenylheptyloxycarbonyl group, ferrocenyloctyloxycarbonyl group, ferrocenylnonyloxycarbonyl group, ferrocenyldecyloxycarbonyl group,

【0137】コバルトセニルメトキシカルボニル基、コ
バルトセニルエトキシカルボニル基、コバルトセニルプ
ロポキシカルボニル基、コバルトセニルブトキシカルボ
ニル基、コバルトセニルペンチルオキシカルボニル基、
コバルトセニルヘキシルオキシカルボニル基、コバルト
セニルヘプチルオキシカルボニル基、コバルトセニルオ
クチルオキシカルボニル基、コバルトセニルノニルオキ
シカルボニル基、コバルトセニルデシルオキシカルボニ
ル基、
Cobalt cenyl methoxycarbonyl group, cobalt cenyl ethoxycarbonyl group, cobalt cenyl propoxycarbonyl group, cobalt cenyl butoxycarbonyl group, cobalt cenyl pentyloxycarbonyl group,
Cobalt cenylhexyloxycarbonyl group, cobalt cenylheptyloxycarbonyl group, cobalt cenyloctyloxycarbonyl group, cobalt cenyl nonyloxycarbonyl group, cobalt cenyldecyloxycarbonyl group,

【0138】ニッケロセニルメトキシカルボニル基、ニ
ッケロセニルエトキシカルボニル基、ニッケロセニルプ
ロポキシカルボニル基、ニッケロセニルブトキシカルボ
ニル基、ニッケロセニルペンチルオキシカルボニル基、
ニッケロセニルヘキシルオキシカルボニル基、ニッケロ
セニルヘプチルオキシカルボニル基、ニッケロセニルオ
クチルオキシカルボニル基、ニッケロセニルノニルオキ
シカルボニル基、ニッケロセニルデシルオキシカルボニ
ル基、
A nickelocenylmethoxycarbonyl group, a nickelocenylethoxycarbonyl group, a nickelocenylpropoxycarbonyl group, a nickelocenylbutoxycarbonyl group, a nickelocenylpentyloxycarbonyl group,
Nickelocenylhexyloxycarbonyl group, nickelocenylheptyloxycarbonyl group, nickelocenyloctyloxycarbonyl group, nickelocenylnonyloxycarbonyl group, nickelocenyldecyloxycarbonyl group,

【0139】ジクロロチタノセニルメトキシカルボニル
基、トリクロロチタンシクロペンタジエニルメトキシカ
ルボニル基、ビス(トリフルオロメタンスルホナト)チ
タノセンメトキシカルボニル基、ジクロロジルコノセニ
ルメトキシカルボニル基、ジメチルジルコノセニルメト
キシカルボニル基、ジエトキシジルコノセニルメトキシ
カルボニル基、ビス(シクロペンタジエニル)クロムメ
トキシカルボニル基、ビス(シクロペンタジエニル)ジ
クロロハフニウムメトキシカルボニル基、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジクロロニオブメトキシカルボニル
基、ビス(シクロペンタジエニル)ルテニウムメトキシ
カルボニル基、ビス(シクロペンタジエニル)バナジウ
ムメトキシカルボニル基、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジクロロバナジウムメトキシカルボニル基、ビス
(シクロペンタジエニル)オスミウムメトキシカルボニ
ル基などのメタロセニル基で置換した炭素数11〜20
のアルコキシカルボニル基;等が挙げられる。
Dichlorotitanocenyl methoxycarbonyl group, trichlorotitanium cyclopentadienyl methoxycarbonyl group, bis (trifluoromethanesulfonato) titanocene methoxycarbonyl group, dichlorozirconocenyl methoxycarbonyl group, dimethylzirconocenyl methoxycarbonyl group, dichlorozirconocenylmethoxycarbonyl group, Ethoxyzirconocenyl methoxycarbonyl group, bis (cyclopentadienyl) chromium methoxycarbonyl group, bis (cyclopentadienyl) dichlorohafnium methoxycarbonyl group, bis (cyclopentadienyl) dichloroniobium methoxycarbonyl group, bis (cyclopenta Dienyl) ruthenium methoxycarbonyl group, bis (cyclopentadienyl) vanadium methoxycarbonyl group, bis (cyclopentadienyl) dichlorovanadiu Methoxycarbonyl group, bis carbon atoms substituted with metallocenyl group such as (cyclopentadienyl) osmium-methoxycarbonyl group 11-20
Alkoxycarbonyl group;

【0140】R1〜R32の置換または無置換のアラルキ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有してもよいアラルキルオキシ
カルボニル基であり、好ましくは、ベンジルオキシカル
ボニル基、ニトロベンジルオキシカルボニル基、シアノ
ベンジルオキシカルボニル基、ヒドロキシベンジルオキ
シカルボニル基、メチルベンジルオキシカルボニル基、
トリフルオロメチルベンジルオキシカルボニル基、ナフ
チルメトキシカルボニル基、ニトロナフチルメトキシカ
ルボニル基、シアノナフチルメトキシカルボニル基、ヒ
ドロキシナフチルメトキシカルボニル基、メチルナフチ
ルメトキシカルボニル基、トリフルオロメチルナフチル
メトキシカルボニル基、フルオレン−9−イルエトキシ
カルボニル基などの炭素数8〜16のアラルキルオキシ
カルボニル基等が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxycarbonyl group of R 1 to R 32 are aralkyloxycarbonyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably, Benzyloxycarbonyl group, nitrobenzyloxycarbonyl group, cyanobenzyloxycarbonyl group, hydroxybenzyloxycarbonyl group, methylbenzyloxycarbonyl group,
Trifluoromethylbenzyloxycarbonyl group, naphthylmethoxycarbonyl group, nitronaphthylmethoxycarbonyl group, cyanonaphthylmethoxycarbonyl group, hydroxynaphthylmethoxycarbonyl group, methylnaphthylmethoxycarbonyl group, trifluoromethylnaphthylmethoxycarbonyl group, fluoren-9-yl Examples thereof include an aralkyloxycarbonyl group having 8 to 16 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group.

【0141】R1〜R32の置換または無置換のアリール
オキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアリー
ル基と同様な置換基を有してもよいアリールオキシカル
ボニル基であり、好ましくは、フェノキシカルボニル
基、2−メチルフェノキシカルボニル基、4−メチルフ
ェノキシカルボニル基、4−t−ブチルフェノキシカル
ボニル基、2−メトキシフェノキシカルボニル基、4−
iso−プロピルフェノキシカルボニル基、ナフトキシ
カルボニル基、フェロセニルオキシカルボニル基、コバ
ルトセニルオキシカルボニル基、ニッケロセニルオキシ
カルボニル基、ジルコノセニルオキシカルボニル基、オ
クタメチルフェロセニルオキシカルボニル基、オクタメ
チルコバルトセニルオキシカルボニル基、オクタメチル
ニッケロセニルオキシカルボニル基、オクタメチルジル
コノセニルオキシカルボニル基などの炭素数7〜11の
アリールオキシカルボニル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group represented by R 1 to R 32 include aryloxycarbonyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned aryl groups, and preferably, Phenoxycarbonyl group, 2-methylphenoxycarbonyl group, 4-methylphenoxycarbonyl group, 4-t-butylphenoxycarbonyl group, 2-methoxyphenoxycarbonyl group, 4-
iso-propylphenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, ferrocenyloxycarbonyl group, cobaltcenyloxycarbonyl group, nickelocenyloxycarbonyl group, zirconocenyloxycarbonyl group, octamethylferrocenyloxycarbonyl group, octa Examples thereof include an aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms such as a methylcobaltcenyloxycarbonyl group, an octamethylnickerocenyloxycarbonyl group and an octamethylzirconocenyloxycarbonyl group.

【0142】R1〜R32の置換または無置換のアルケニ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有してもよいアルケニルオキシ
カルボニル基であり、好ましくは、ビニルオキシカルボ
ニル基、プロペニルオキシカルボニル基、1−ブテニル
オキシカルボニル基、iso−ブテニルオキシカルボニ
ル基、1−ペンテニルオキシカルボニル基、2−ペンテ
ニルオキシカルボニル基、シクロペンタジエニルオキシ
カルボニル基、2−メチル−1−ブテニルオキシカルボ
ニル基、3−メチル−1−ブテニルオキシカルボニル
基、2−メチル−2−ブテニルオキシカルボニル基、
2,2−ジシアノビニルオキシカルボニル基、2−シア
ノ−2−メチルカルボキシルビニルオキシカルボニル
基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニルオキシカル
ボニル基、スチリルオキシカルボニル基、4−フェニル
−2−ブテニルオキシカルボニル基などの炭素数3〜1
1のアルケニルオキシカルボニル基が挙げられる。
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxycarbonyl group of R 1 to R 32 are alkenyloxycarbonyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably, Vinyloxycarbonyl group, propenyloxycarbonyl group, 1-butenyloxycarbonyl group, iso-butenyloxycarbonyl group, 1-pentenyloxycarbonyl group, 2-pentenyloxycarbonyl group, cyclopentadienyloxycarbonyl group, 2- Methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 3-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 2-methyl-2-butenyloxycarbonyl group,
2,2-dicyanovinyloxycarbonyl group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyloxycarbonyl group, 2-cyano-2-methylsulfone vinyloxycarbonyl group, styryloxycarbonyl group, 4-phenyl-2-butenyloxy 3 to 1 carbon atoms such as carbonyl group
1 alkenyloxycarbonyl group.

【0143】R1〜R32のモノ置換アミノカルボニル基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有してもよいモノ置換アミノカルボニル基であり、好
ましくは、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカ
ルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミ
ノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシ
ルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、
オクチルアミノカルボニル基、(2−エチルヘキシル)
アミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル
基、(3,5,5−トリメチルヘキシル)アミノカルボ
ニル基、ノニルアミノカルボニル基、デシルアミノカル
ボニル基などの炭素数2〜11のモノアルキルアミノカ
ルボニル基;
Examples of the mono-substituted aminocarbonyl group represented by R 1 to R 32 include mono-substituted aminocarbonyl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylaminocarbonyl. Group, ethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group,
Octylaminocarbonyl group, (2-ethylhexyl)
A monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 11 carbon atoms such as an aminocarbonyl group, a cyclohexylaminocarbonyl group, a (3,5,5-trimethylhexyl) aminocarbonyl group, a nonylaminocarbonyl group and a decylaminocarbonyl group;

【0144】ベンジルアミノカルボニル基、フェネチル
アミノカルボニル基、(3−フェニルプロピルアミノカ
ルボニル基、(4−エチルベンジル)アミノカルボニル
基、(4−イソプロピルベンジル)アミノカルボニル
基、(4−メチルベンジル)アミノカルボニル基、(4
−エチルベンジル)アミノカルボニル基、(4−アリル
ベンジル)アミノカルボニル基、〔4−(2−シアノエ
チル)ベンジル〕アミノカルボニル基、〔4−(2−ア
セトキシエチル)ベンジル〕アミノカルボニル基などの
炭素数8〜11のモノアラルキルアミノカルボニル基;
Benzylaminocarbonyl group, phenethylaminocarbonyl group, (3-phenylpropylaminocarbonyl group, (4-ethylbenzyl) aminocarbonyl group, (4-isopropylbenzyl) aminocarbonyl group, (4-methylbenzyl) aminocarbonyl group Group, (4
-Ethylbenzyl) aminocarbonyl group, (4-allylbenzyl) aminocarbonyl group, [4- (2-cyanoethyl) benzyl] aminocarbonyl group, [4- (2-acetoxyethyl) benzyl] aminocarbonyl group, and the like. 8-11 monoaralkylaminocarbonyl groups;

【0145】アニリノカルボニル基、ナフチルアミノカ
ルボニル基、トルイジノカルボニル基、キシリジノカル
ボニル基、エチルアニリノカルボニル基、イソプロピル
アニリノカルボニル基、メトキシアニリノカルボニル
基、エトキシアニリノカルボニル基、クロロアニリノカ
ルボニル基、アセチルアニリノカルボニル基、メトキシ
カルボニルアニリノカルボニル基、エトキシカルボニル
アニリノカルボニル基、プロポキシカルボニルアニリノ
カルボニル基、4−メチルアニリノカルボニル基、4−
エチルアニリノカルボニル基など、炭素数7〜11のモ
ノアリールアミノカルボニル基;
Anilinocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, toluidinocarbonyl group, xylidinocarbonyl group, ethylanilinocarbonyl group, isopropylanilinocarbonyl group, methoxyanilinocarbonyl group, ethoxyanilinocarbonyl group, chloroani Rinocarbonyl group, acetylanilinocarbonyl group, methoxycarbonylanilinocarbonyl group, ethoxycarbonylanilinocarbonyl group, propoxycarbonylanilinocarbonyl group, 4-methylanilinocarbonyl group, 4-
A monoarylaminocarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms such as an ethylanilinocarbonyl group;

【0146】ビニルアミノカルボニル基、アリルアミノ
カルボニル基、ブテニルアミノカルボニル基、ペンテニ
ルアミノカルボニル基、ヘキセニルアミノカルボニル
基、シクロヘキセニルアミノカルボニル基、オクタジエ
ニルアミノカルボニル基、アダマンテニルアミノカルボ
ニル基、などの炭素数3〜11のモノアルケニルアミノ
カルボニル基等が挙げられる。
A vinylaminocarbonyl group, an allylaminocarbonyl group, a butenylaminocarbonyl group, a pentenylaminocarbonyl group, a hexenylaminocarbonyl group, a cyclohexenylaminocarbonyl group, an octadienylaminocarbonyl group, an adamantenylaminocarbonyl group, etc. Examples thereof include monoalkenylaminocarbonyl groups having 3 to 11 carbon atoms.

【0147】R1〜R32のジ置換アミノカルボニル基の
例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有してもよいジ置換アミノカルボニル基であり、好まし
くは、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカ
ルボニル基、メチルエチルアミノカルボニル基、ジプロ
ピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル
基、ジ−n−ヘキシルアミノカルボニル基、ジシクロヘ
キシルアミノカルボニル基、ジオクチルアミノカルボニ
ル基、ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル
基、モルホリノカルボニル基、ビス(メトキシエチル)
アミノカルボニル基、ビス(エトキシエチル)アミノカ
ルボニル基、ビス(プロポキシエチル)アミノカルボニ
ル基、ビス(ブトキシエチル)アミノカルボニル基、ジ
(アセチルオキシエチル)アミノカルボニル基、ジ(ヒ
ドロキシエチル)アミノカルボニル基、N−エチル−N
−(2−シアノエチル)アミノカルボニル基、ジ(プロ
ピオニルオキシエチル)アミノカルボニル基などの炭素
数3〜17のジアルキルアミノカルボニル基;
Examples of the di-substituted aminocarbonyl group of R 1 to R 32 include a di-substituted aminocarbonyl group which may have a substituent similar to the above-mentioned alkyl group, preferably dimethylaminocarbonyl. Group, diethylaminocarbonyl group, methylethylaminocarbonyl group, dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, di-n-hexylaminocarbonyl group, dicyclohexylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, pyrrolidinocarbonyl group, piperidino Carbonyl group, morpholino carbonyl group, bis (methoxyethyl)
Aminocarbonyl group, bis (ethoxyethyl) aminocarbonyl group, bis (propoxyethyl) aminocarbonyl group, bis (butoxyethyl) aminocarbonyl group, di (acetyloxyethyl) aminocarbonyl group, di (hydroxyethyl) aminocarbonyl group, N-ethyl-N
A dialkylaminocarbonyl group having 3 to 17 carbon atoms such as a-(2-cyanoethyl) aminocarbonyl group and a di (propionyloxyethyl) aminocarbonyl group;

【0148】ジベンジルアミノカルボニル基、ジフェネ
チルアミノカルボニル基、ビス(4−エチルベンジル)
アミノカルボニル基、ビス(4−イソプロピルベンジ
ル)アミノカルボニル基などの炭素数15〜21のジア
ラルキルアミノカルボニル基;
Dibenzylaminocarbonyl group, diphenethylaminocarbonyl group, bis (4-ethylbenzyl)
A diaralkylaminocarbonyl group having 15 to 21 carbon atoms such as aminocarbonyl group and bis (4-isopropylbenzyl) aminocarbonyl group;

【0149】ジフェニルアミノカルボニル基、ジトリル
アミノカルボニル基、N−フェニル−N−トリルアミノ
カルボニル基などの炭素数13〜15のジアリールアミ
ノカルボニル基;
A diarylaminocarbonyl group having 13 to 15 carbon atoms such as a diphenylaminocarbonyl group, a ditolylaminocarbonyl group and an N-phenyl-N-tolylaminocarbonyl group;

【0150】ジビニルアミノカルボニル基、ジアリルア
ミノカルボニル基、ジブテニルアミノカルボニル基、ジ
ペンテニルアミノカルボニル基、ジヘキセニルアミノカ
ルボニル基、N−ビニル−N−アリルアミノカルボニル
基などの炭素数5〜13のジアルケニルアミノカルボニ
ル基;
A divinylaminocarbonyl group, a diallylaminocarbonyl group, a dibutenylaminocarbonyl group, a dipentenylaminocarbonyl group, a dihexenylaminocarbonyl group, an N-vinyl-N-allylaminocarbonyl group or the like having 5 to 13 carbon atoms. Alkenylaminocarbonyl group;

【0151】N−フェニル−N−アリルアミノカルボニ
ル基、N−(2−アセチルオキシエチル)−N−エチル
アミノカルボニル基、N−トリル−N−メチルアミノカ
ルボニル基、N−ビニル−N−メチルアミノカルボニル
基、N−ベンジル−N−アリルアミノカルボニル基等の
置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、アルケニル基より選択した置換基を有する炭素数
4〜11のジ置換アミノカルボニル基が挙げられる。
N-phenyl-N-allylaminocarbonyl group, N- (2-acetyloxyethyl) -N-ethylaminocarbonyl group, N-tolyl-N-methylaminocarbonyl group, N-vinyl-N-methylamino A di-substituted aminocarbonyl group having 4 to 11 carbon atoms, which has a substituent selected from a substituted or unsubstituted alkyl group such as carbonyl group, N-benzyl-N-allylaminocarbonyl group, aralkyl group, aryl group and alkenyl group; Can be mentioned.

【0152】R1〜R32の置換または無置換のアシルオ
キシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有してもよいアシルオキシ基であり、好ましく
は、ホルミルオキシ基、メチルカルボニルオキシ基、エ
チルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキ
シ基、iso−プロピルカルボニルオキシ基、n−ブチ
ルカルボニルオキシ基、iso−ブチルカルボニルオキ
シ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、t−ブチル
カルボニルオキシ基、n−ペンチルカルボニルオキシ
基、iso−ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチ
ルカルボニルオキシ基、2−メチルブチルカルボニルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、メチルベンゾイルオキシ
基、エチルベンゾイルオキシ基、トリルカルボニルオキ
シ基、プロピルベンゾイルオキシ基、4−t−ブチルベ
ンゾイルオキシ基、ニトロベンジルカルボニルオキシ
基、3−ブトキシ−2−ナフトイルオキシ基、シンナモ
イルオキシ基、フェロセンカルボニルオキシ基、1−メ
チルフェロセン−1’−カルボニルオキシ基、コバルト
センカルボニルオキシ基、ニッケロセンカルボニルオキ
シ基などの炭素数2〜16のアシルオキシ基が挙げられ
る。
Examples of the substituted or unsubstituted acyloxy group for R 1 to R 32 include an acyloxy group which may have a substituent similar to the above-mentioned alkyl group, preferably a formyloxy group, Methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, iso-propylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, iso-butylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, t-butylcarbonyloxy group Group, n-pentylcarbonyloxy group, iso-pentylcarbonyloxy group, neopentylcarbonyloxy group, 2-methylbutylcarbonyloxy group, benzoyloxy group, methylbenzoyloxy group, ethylbenzoyloxy group, tolylcarbonyloxy group, propyl Ben Yloxy group, 4-t-butylbenzoyloxy group, nitrobenzylcarbonyloxy group, 3-butoxy-2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, ferrocenecarbonyloxy group, 1-methylferrocene-1′-carbonyloxy group , An acyloxy group having 2 to 16 carbon atoms such as a cobaltocenecarbonyloxy group and a nickelocenecarbonyloxy group.

【0153】R1〜R32の置換または無置換のヘテロア
リール基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有してもよいヘテロアリール基であり、好ま
しくは、フラニル基、ピロリル基、3−ピロリノ基、ピ
ラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾ
リル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,2,3
−トリアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、1,
3,4−チアジアゾリル基、ピリジニル基、ピリダジニ
ル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル
基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、インドーリル
基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾ
チアゾリル基、ベンゾトリアゾ−ル−2−イル基、ベン
ゾトリアゾール−1−イル基、プリニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基、フタルイミジル基、ナフチルイミジル基
などの無置換ヘテロアリール基;
Examples of the substituted or unsubstituted heteroaryl group of R 1 to R 32 are heteroaryl groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably a furanyl group. , Pyrrolyl group, 3-pyrrolino group, pyrazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3
-Triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,
3,4-thiadiazolyl group, pyridinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, benzotriazol-2-yl group, Benzotriazol-1-yl group, purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group,
An unsubstituted heteroaryl group such as a flavonyl group, a phthalimidyl group, a naphthylimidyl group;

【0154】あるいは以下の置換基、即ち、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシエチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル
基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;フ
ェニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基等のアリー
ル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキ
シ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキ
シ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリ
メチルヘキシルオキシ基、フェロセンメトキシ基、コバ
ルトセンメトキシ基、ニッケロセンメトキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ
基、ナフトキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、クロロフェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のア
リールオキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブ
タジエニル基、ペンテニル基、シクロペンタジエニル
基、オクテニル基等のアルケニル基;ビニルオキシ基、
アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブタジエニルオキ
シ基、ペンテニルオキシ基、シクロペンタジエニルオキ
シ基、オクテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;メ
チルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチ
オ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ
基、オクチルチオ基、デシルチオ基、メトキシメチルチ
オ基、エトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、
トリフルオロメチルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジ
ルチオ基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;
フェニルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシ
リルチオ基、メシルチオ基、クロロフェニルチオ基、メ
トキシフェニルチオ基等のアリールチオ基;ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基;アセチル基、プ
ロピオニル基、ブタノイル基、フェロセンカルボニル
基、コバルトセンカルボニル基、ニッケロセンカルボニ
ル基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェロセンメトキシカルボニル基、1−メ
チルフェロセン−1’−イルメトキシカルボニル基、コ
バルトセニルメトキシカルボニル基、ニッケロセニルメ
トキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベン
ジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル
基等のアラルキルオキシカルボニル基;フェノキシカル
ボニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカル
ボニル基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシ
カルボニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキ
シフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニ
ル基;ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボ
ニル基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオ
キシカルボニル基、シクロペンタジエニルオキシ基、ペ
ンテニルオキシカルボニル基、オクテニルオキシカルボ
ニル基等のアルケニルオキシカルボニル基;メチルアミ
ノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピル
アミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペン
チルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル
基、ヘプチルアミノカルボニル基、オクチルアミノカル
ボニル基、ノニルアミノカルボニル基、3,5,5−ト
リメチルヘキシルアミノカルボニル基、2−エチルヘキ
シルアミノカルボニル基等の炭素数2〜10のモノアル
キルアミノカルボニル基や、ジメチルアミノカルボニル
基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカ
ルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基、ジペンチル
アミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカルボニル基、
ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオクチルアミノカル
ボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボ
ニル基、4−メチルピペラジノカルボニル基、4−エチ
ルピペラジノカルボニル基等の炭素数3〜20のジアル
キルアミノカルボニル基等のアルキルアミノカルボニル
基;フラニル基、ピロリル基、3−ピロリノ基、ピロリ
ジノ基、1,3−オキソラニル基、ピラゾリル基、2−
ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾリル基、
オキサゾリル基、チアゾリル基、1,2,3−オキサジ
アゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、1,2,4
−トリアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、4
H−ピラニル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオ
キサニル基、モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミ
ジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニ
ル基、ベンゾフラニル基、インドーリル基、チオナフセ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、
プリニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、クマリ
ニル基、シンノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基、フェナントロニリル基、
フェノチアジニル基、フラボニル基等の複素環基;フェ
ロセニル基、コバルトセニル基、ニッケロセニル基、ル
テノセニル基、オスモセニル基、チタノセニル基などの
メタロセニル基;などの置換基により置換したヘテロア
リール基が挙げられる。
Alternatively, the following substituents, ie, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; cyano group; methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group and heptyl group. , Octyl group, decyl group, methoxymethyl group, ethoxyethyl group,
Alkyl groups such as ethoxyethyl group and trifluoromethyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, xylyl group, mesyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group; methoxy Group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, ferrocene Alkoxy groups such as methoxy group, cobaltene methoxy group and nickelocene methoxy group; aralkyloxy groups such as benzyloxy group, phenethyloxy group; phenoxy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, chlorophenoxy group Group, an aryloxy group such as a methoxyphenoxy group; vinyloxy group; a vinyl group, an allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group, cyclopentadienyl group, an alkenyl group such as octenyl
Alkenyloxy groups such as allyloxy group, butenyloxy group, butadienyloxy group, pentenyloxy group, cyclopentadienyloxy group, octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group , Heptylthio group, octylthio group, decylthio group, methoxymethylthio group, ethoxyethylthio group, ethoxyethylthio group,
Alkylthio group such as trifluoromethylthio group; Aralkylthio group such as benzylthio group and phenethylthio group;
Arylthio groups such as phenylthio group, tolylthio group, naphthylthio group, xylylthio group, mesylthio group, chlorophenylthio group, methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group; acetyl Groups, propionyl groups, butanoyl groups, ferrocenecarbonyl groups, cobaltocenecarbonyl groups, nickelocenecarbonyl groups, and other acyl groups; methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, ferrocenemethoxycarbonyl groups, 1-methylferrocene-1′-ylmethoxycarbonyl Group, an alkoxycarbonyl group such as a cobaltcenylmethoxycarbonyl group and a nickelocenylmethoxycarbonyl group; an aralkyloxy group such as a benzyloxycarbonyl group and a phenethyloxycarbonyl group Sicarbonyl group; phenoxycarbonyl group, tolyloxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, xylyloxycarbonyl group, mesyloxycarbonyl group, chlorophenoxycarbonyl group, methoxyphenoxycarbonyl group and other aryloxycarbonyl groups; vinyloxycarbonyl group, Alkenyloxycarbonyl groups such as allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, cyclopentadienyloxy group, pentenyloxycarbonyl group, octenyloxycarbonyl group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group Group, propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octyl Aminoalkyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group or other monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group , Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group,
Dialkylaminocarbonyl group having 3 to 20 carbon atoms such as diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group, 4-ethylpiperazinocarbonyl group An alkylaminocarbonyl group such as furanyl group, pyrrolyl group, 3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-
A pyrazolinyl group, a pyrazolidinyl group, an imidazolyl group,
Oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3-triazolyl group, 1,2,4
-Triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4
H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group,
Purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group,
Heteroaryl groups substituted with a substituent such as a heterocyclic group such as a phenothiazinyl group and a flavonyl group; a metallocenyl group such as a ferrocenyl group, a cobaltcenyl group, a nickelocenyl group, a ruthenocenyl group, an osmocenyl group and a titanocenyl group;

【0155】R1〜R32の置換または無置換のヘテロア
リールオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基
であり、好ましくは、フラニルオキシ基、ピロリルオキ
シ基、3−ピロリノオキシ基、ピラゾリルオキシ基、イ
ミダゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、チアゾリ
ルオキシ基、1,2,3−オキサジアゾリルオキシ基、
1,2,3−トリアゾリルオキシ基、1,2,4−トリ
アゾリルオキシ基、1,3,4−チアジアゾリルオキシ
基、ピリジニルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリ
ミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、ピペラジニル
オキシ基、トリアジニルオキシ基、ベンゾフラニルオキ
シ基、インドーリルオキシ基、チオナフセニルオキシ
基、ベンズイミダゾリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオ
キシ基、ベンゾトリアゾ−ル−2−イルオキシ基、ベン
ゾトリアゾール−1−イルオキシ基、プリニルオキシ
基、キノリニルオキシ基、イソキノリニルオキシ基、ク
マリニルオキシ基、シンノリニルオキシ基、キノキサリ
ニルオキシ基、ジベンゾフラニルオキシ基、カルバゾリ
ルオキシ基、フェナントロニリルオキシ基、フェノチア
ジニルオキシ基、フラボニルオキシ基、フタルイミジル
オキシ基、ナフチルイミジルオキシ基などの無置換ヘテ
ロアリールオキシ基;
Examples of the substituted or unsubstituted heteroaryloxy group for R 1 to R 32 include a heteroaryloxy group which may have a substituent similar to the above-mentioned alkyl group, and preferably, Furanyloxy group, pyrrolyloxy group, 3-pyrrolinooxy group, pyrazolyloxy group, imidazolyloxy group, oxazolyloxy group, thiazolyloxy group, 1,2,3-oxadiazolyloxy group,
1,2,3-triazolyloxy group, 1,2,4-triazolyloxy group, 1,3,4-thiadiazolyloxy group, pyridinyloxy group, pyridazinyloxy group, pyrimidinyloxy group, Pyrazinyloxy group, piperazinyloxy group, triazinyloxy group, benzofuranyloxy group, indolyloxy group, thionaphthenyloxy group, benzimidazolyloxy group, benzothiazolyloxy group, benzotriazol-2- Yloxy group, benzotriazol-1-yloxy group, purinyloxy group, quinolinyloxy group, isoquinolinyloxy group, coumarinyloxy group, cinnolinyloxy group, quinoxalinyloxy group, dibenzofuranyloxy group, carbazolyl Group, phenanthronylyloxy group, phenothiazinyloxy group, Niruokishi group, phthalic succinimidyl group, unsubstituted heteroaryloxy groups, such as naphthyl succinimidyl group;

【0156】あるいは以下の置換基、即ち、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシエチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル
基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;フ
ェニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基等のアリー
ル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキ
シ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキ
シ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリ
メチルヘキシルオキシ基、フェロセンメトキシ基、コバ
ルトセンメトキシ基、ニッケロセンメトキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ
基、ナフトキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、クロロフェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のア
リールオキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブ
タジエニル基、ペンテニル基、シクロペンタジエニル
基、オクテニル基等のアルケニル基;ビニルオキシ基、
アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブタジエニルオキ
シ基、ペンテニルオキシ基、シクロペンタジエニルオキ
シ基、オクテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;メ
チルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチ
オ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ
基、オクチルチオ基、デシルチオ基、メトキシメチルチ
オ基、エトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、
トリフルオロメチルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジ
ルチオ基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;
フェニルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシ
リルチオ基、メシルチオ基、クロロフェニルチオ基、メ
トキシフェニルチオ基等のアリールチオ基;ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基;アセチル基、プ
ロピオニル基、ブタノイル基、フェロセンカルボニル
基、コバルトセンカルボニル基、ニッケロセンカルボニ
ル基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェロセンメトキシカルボニル基、1−メ
チルフェロセン−1’−イルメトキシカルボニル基、コ
バルトセニルメトキシカルボニル基、ニッケロセニルメ
トキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベン
ジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル
基等のアラルキルオキシカルボニル基;フェノキシカル
ボニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカル
ボニル基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシ
カルボニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキ
シフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニ
ル基;ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボ
ニル基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオ
キシカルボニル基、シクロペンタジエニルオキシ基、ペ
ンテニルオキシカルボニル基、オクテニルオキシカルボ
ニル基等のアルケニルオキシカルボニル基;メチルアミ
ノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピル
アミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペン
チルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル
基、ヘプチルアミノカルボニル基、オクチルアミノカル
ボニル基、ノニルアミノカルボニル基、3,5,5−ト
リメチルヘキシルアミノカルボニル基、2−エチルヘキ
シルアミノカルボニル基等の炭素数2〜10のモノアル
キルアミノカルボニル基や、ジメチルアミノカルボニル
基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカ
ルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基、ジペンチル
アミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカルボニル基、
ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオクチルアミノカル
ボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボ
ニル基、4−メチルピペラジノカルボニル基、4−エチ
ルピペラジノカルボニル基等の炭素数3〜20のジアル
キルアミノカルボニル基等のアルキルアミノカルボニル
基;フラニル基、ピロリル基、3−ピロリノ基、ピロリ
ジノ基、1,3−オキソラニル基、ピラゾリル基、2−
ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾリル基、
オキサゾリル基、チアゾリル基、1,2,3−オキサジ
アゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、1,2,4
−トリアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、4
H−ピラニル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオ
キサニル基、モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミ
ジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニ
ル基、ベンゾフラニル基、インドーリル基、チオナフセ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、
プリニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、クマリ
ニル基、シンノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基、フェナントロニリル基、
フェノチアジニル基、フラボニル基等の複素環基;フェ
ロセニル基、コバルトセニル基、ニッケロセニル基、ル
テノセニル基、オスモセニル基、チタノセニル基などの
メタロセニル基;などの置換基により置換したヘテロア
リールオキシ基が挙げられる。
Alternatively, the following substituents, ie, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; cyano group; methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group. , Octyl group, decyl group, methoxymethyl group, ethoxyethyl group,
Alkyl groups such as ethoxyethyl group and trifluoromethyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, xylyl group, mesyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group; methoxy Group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, ferrocene Alkoxy groups such as methoxy group, cobaltene methoxy group and nickelocene methoxy group; aralkyloxy groups such as benzyloxy group, phenethyloxy group; phenoxy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, chlorophenoxy group Group, an aryloxy group such as a methoxyphenoxy group; vinyloxy group; a vinyl group, an allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group, cyclopentadienyl group, an alkenyl group such as octenyl
Alkenyloxy groups such as allyloxy group, butenyloxy group, butadienyloxy group, pentenyloxy group, cyclopentadienyloxy group, octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group , Heptylthio group, octylthio group, decylthio group, methoxymethylthio group, ethoxyethylthio group, ethoxyethylthio group,
Alkylthio group such as trifluoromethylthio group; Aralkylthio group such as benzylthio group and phenethylthio group;
Arylthio groups such as phenylthio group, tolylthio group, naphthylthio group, xylylthio group, mesylthio group, chlorophenylthio group, methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group; acetyl Groups, propionyl groups, butanoyl groups, ferrocenecarbonyl groups, cobaltocenecarbonyl groups, nickelocenecarbonyl groups, and other acyl groups; methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, ferrocenemethoxycarbonyl groups, 1-methylferrocene-1′-ylmethoxycarbonyl Group, an alkoxycarbonyl group such as a cobaltcenylmethoxycarbonyl group and a nickelocenylmethoxycarbonyl group; an aralkyloxy group such as a benzyloxycarbonyl group and a phenethyloxycarbonyl group Sicarbonyl group; phenoxycarbonyl group, tolyloxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, xylyloxycarbonyl group, mesyloxycarbonyl group, chlorophenoxycarbonyl group, methoxyphenoxycarbonyl group and other aryloxycarbonyl groups; vinyloxycarbonyl group, Alkenyloxycarbonyl groups such as allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, cyclopentadienyloxy group, pentenyloxycarbonyl group, octenyloxycarbonyl group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group Group, propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octyl Aminoalkyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group or other monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group , Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group,
Dialkylaminocarbonyl group having 3 to 20 carbon atoms such as diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group, 4-ethylpiperazinocarbonyl group An alkylaminocarbonyl group such as furanyl group, pyrrolyl group, 3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-
A pyrazolinyl group, a pyrazolidinyl group, an imidazolyl group,
Oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3-triazolyl group, 1,2,4
-Triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4
H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group,
Purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group,
Examples of the heteroaryloxy group include a heterocyclic group such as a phenothiazinyl group and a flavonyl group;

【0157】R1〜R32の置換または無置換のヘテロア
リールチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有してもよいヘテロアリールチオ基であ
り、好ましくは、フラニルチオ基、ピロリルチオ基、3
−ピロリノチオ基、ピラゾリルチオ基、イミダゾリルチ
オ基、オキサゾリルチオ基、チアゾリルチオ基、1,
2,3−オキサジアゾリルチオ基、1,2,3−トリア
ゾリルチオ基、1,2,4−トリアゾリルチオ基、1,
3,4−チアジアゾリルチオ基、ピリジニルチオ基、ピ
リダジニルチオ基、ピリミジニルチオ基、ピラジニルチ
オ基、ピペラジニルチオ基、トリアジニルチオ基、ベン
ゾフラニルチオ基、インドーリルチオ基、チオナフセニ
ルチオ基、ベンズイミダゾリルチオ基、ベンゾチアゾリ
ルチオ基、ベンゾトリアゾ−ル−2−イルチオ基、ベン
ゾトリアゾール−1−イルチオ基、プリニルチオ基、キ
ノリニルチオ基、イソキノリニルチオ基、クマリニルチ
オ基、シンノリニルチオ基、キノキサリニルチオ基、ジ
ベンゾフラニルチオ基、カルバゾリルチオ基、フェナン
トロニリルチオ基、フェノチアジニルチオ基、フラボニ
ルチオ基、フタルイミジルチオ基、ナフチルイミジルチ
オ基などの無置換ヘテロアリールチオ基;
Examples of the substituted or unsubstituted heteroarylthio group for R 1 to R 32 are heteroarylthio groups which may have the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably, Furanylthio group, pyrrolylthio group, 3
-Pyrrolinothio group, pyrazolylthio group, imidazolylthio group, oxazolylthio group, thiazolylthio group, 1,
2,3-oxadiazolylthio group, 1,2,3-triazolylthio group, 1,2,4-triazolylthio group, 1,
3,4-thiadiazolylthio group, pyridinylthio group, pyridazinylthio group, pyrimidinylthio group, pyrazinylthio group, piperazinylthio group, triazinylthio group, benzofuranylthio group, indolylthio group, thionaphthenylthio group, benzimidazolylthio group, benzo Thiazolylthio group, benzotriazol-2-ylthio group, benzotriazol-1-ylthio group, purinylthio group, quinolinylthio group, isoquinolinylthio group, coumarinylthio group, cinnolinylthio group, quinoxalinylthio group, dibenzofuranylthio group An unsubstituted heteroarylthio group such as a carbazolylthio group, a phenanthronylylthio group, a phenothiazinylthio group, a flavonylthio group, a phthalimidylthio group and a naphthylimidylthio group;

【0158】あるいは以下の置換基、即ち、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、
エトキシエチル基、トリフルオロメチル基等のアルキル
基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;フ
ェニル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基、メシル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基等のアリー
ル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキ
シ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキ
シ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリ
メチルヘキシルオキシ基、フェロセンメトキシ基、コバ
ルトセンメトキシ基、ニッケロセンメトキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ
基、ナフトキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、クロロフェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のア
リールオキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブ
タジエニル基、ペンテニル基、シクロペンタジエニル
基、オクテニル基等のアルケニル基;ビニルオキシ基、
アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブタジエニルオキ
シ基、ペンテニルオキシ基、シクロペンタジエニルオキ
シ基、オクテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;メ
チルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチ
オ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ
基、オクチルチオ基、デシルチオ基、メトキシメチルチ
オ基、エトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、
トリフルオロメチルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジ
ルチオ基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;
フェニルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシ
リルチオ基、メシルチオ基、クロロフェニルチオ基、メ
トキシフェニルチオ基等のアリールチオ基;ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基;アセチル基、プ
ロピオニル基、ブタノイル基、フェロセンカルボニル
基、コバルトセンカルボニル基、ニッケロセンカルボニ
ル基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェロセンメトキシカルボニル基、1−メ
チルフェロセン−1’−イルメトキシカルボニル基、コ
バルトセニルメトキシカルボニル基、ニッケロセニルメ
トキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベン
ジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル
基等のアラルキルオキシカルボニル基;フェノキシカル
ボニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカル
ボニル基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシ
カルボニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキ
シフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニ
ル基;ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボ
ニル基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオ
キシカルボニル基、シクロペンタジエニルオキシ基、ペ
ンテニルオキシカルボニル基、オクテニルオキシカルボ
ニル基等のアルケニルオキシカルボニル基;メチルアミ
ノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピル
アミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペン
チルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル
基、ヘプチルアミノカルボニル基、オクチルアミノカル
ボニル基、ノニルアミノカルボニル基、3,5,5−ト
リメチルヘキシルアミノカルボニル基、2−エチルヘキ
シルアミノカルボニル基等の炭素数2〜10のモノアル
キルアミノカルボニル基や、ジメチルアミノカルボニル
基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカ
ルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基、ジペンチル
アミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカルボニル基、
ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオクチルアミノカル
ボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボ
ニル基、4−メチルピペラジノカルボニル基、4−エチ
ルピペラジノカルボニル基等の炭素数3〜20のジアル
キルアミノカルボニル基等のアルキルアミノカルボニル
基;フラニル基、ピロリル基、3−ピロリノ基、ピロリ
ジノ基、1,3−オキソラニル基、ピラゾリル基、2−
ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾリル基、
オキサゾリル基、チアゾリル基、1,2,3−オキサジ
アゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、1,2,4
−トリアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、4
H−ピラニル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオ
キサニル基、モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミ
ジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニ
ル基、ベンゾフラニル基、インドーリル基、チオナフセ
ニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、
プリニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、クマリ
ニル基、シンノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾ
フラニル基、カルバゾリル基、フェナントロニリル基、
フェノチアジニル基、フラボニル基等の複素環基;フェ
ロセニル基、コバルトセニル基、ニッケロセニル基、ル
テノセニル基、オスモセニル基、チタノセニル基などの
メタロセニル基;などの置換基により置換したヘテロア
リールチオ基が挙げられる。
Alternatively, the following substituents, that is, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; cyano group; methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group and heptyl group. , Octyl group, decyl group, methoxymethyl group, ethoxyethyl group,
Alkyl groups such as ethoxyethyl group and trifluoromethyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, xylyl group, mesyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group; methoxy Group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, ferrocene Alkoxy groups such as methoxy group, cobaltene methoxy group and nickelocene methoxy group; aralkyloxy groups such as benzyloxy group, phenethyloxy group; phenoxy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, chlorophenoxy group Group, an aryloxy group such as a methoxyphenoxy group; vinyloxy group; a vinyl group, an allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group, cyclopentadienyl group, an alkenyl group such as octenyl
Alkenyloxy groups such as allyloxy group, butenyloxy group, butadienyloxy group, pentenyloxy group, cyclopentadienyloxy group, octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group , Heptylthio group, octylthio group, decylthio group, methoxymethylthio group, ethoxyethylthio group, ethoxyethylthio group,
Alkylthio group such as trifluoromethylthio group; Aralkylthio group such as benzylthio group and phenethylthio group;
Arylthio groups such as phenylthio group, tolylthio group, naphthylthio group, xylylthio group, mesylthio group, chlorophenylthio group, methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group; acetyl Groups, propionyl groups, butanoyl groups, ferrocenecarbonyl groups, cobaltocenecarbonyl groups, nickelocenecarbonyl groups, and other acyl groups; methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, ferrocenemethoxycarbonyl groups, 1-methylferrocene-1′-ylmethoxycarbonyl Group, an alkoxycarbonyl group such as a cobaltcenylmethoxycarbonyl group and a nickelocenylmethoxycarbonyl group; an aralkyloxy group such as a benzyloxycarbonyl group and a phenethyloxycarbonyl group Sicarbonyl group; phenoxycarbonyl group, tolyloxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, xylyloxycarbonyl group, mesyloxycarbonyl group, chlorophenoxycarbonyl group, methoxyphenoxycarbonyl group and other aryloxycarbonyl groups; vinyloxycarbonyl group, Alkenyloxycarbonyl groups such as allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, cyclopentadienyloxy group, pentenyloxycarbonyl group, octenyloxycarbonyl group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group Group, propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octyl Aminoalkyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group or other monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group , Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group,
Dialkylaminocarbonyl group having 3 to 20 carbon atoms such as diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group, 4-ethylpiperazinocarbonyl group An alkylaminocarbonyl group such as furanyl group, pyrrolyl group, 3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-
A pyrazolinyl group, a pyrazolidinyl group, an imidazolyl group,
Oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3-triazolyl group, 1,2,4
-Triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4
H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group,
Purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group,
Examples of the heteroarylthio group include a heterocyclic group such as a phenothiazinyl group and a flavonyl group;

【0159】R1〜R32が隣接する置換基と連結基を介
して、それぞれ併せて環を形成する際の連結基として
は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子、金属原
子、半金属原子などのヘテロ原子および炭素原子を適宜
選択して組み合わせてなる基であり、好ましい連結基の
例として、−O−、−S−、−C(=O)−、または置
換されていてもよいメチレン基、メチン基、エチニレン
基、フェニレン基、アミノ基、イミノ基、金属原子など
が挙げられ、適宜組み合わせて所望する環を得ることが
できる。連結基により形成する環としては、連結基によ
り連結して鎖状、面状、もしくは立体状の環が挙げられ
る。連結した骨格の好適な例としては、−CH2−CH2
−CH2−CH2−、−CH(NO2)−CH2−CH2
CH2−、−CH(CH3)−CH2−CH2−CH2−、
−CH(Cl)−CH2−CH2−、等の脂肪族縮合環;
The linking group for R 1 to R 32 to form a ring together with the adjacent substituent via a linking group includes a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a metal atom, and a half atom. A group formed by appropriately selecting and combining a hetero atom such as a metal atom and a carbon atom, and examples of a preferable linking group include -O-, -S-, -C (= O)-, or even a substituted group. Examples thereof include a methylene group, a methine group, an ethynylene group, a phenylene group, an amino group, an imino group, and a metal atom, which can be appropriately combined to obtain a desired ring. Examples of the ring formed by the linking group include a chain-shaped, planar, or three-dimensional ring linked by the linking group. As a preferable example of the linked skeleton, —CH 2 —CH 2
-CH 2 -CH 2 -, - CH (NO 2) -CH 2 -CH 2 -
CH 2 -, - CH (CH 3) -CH 2 -CH 2 -CH 2 -,
An aliphatic condensed ring such as —CH (Cl) —CH 2 —CH 2 —;

【0160】−CH=CH−CH=CH−、−C(NO
2)=CH−CH=CH−、−C(CH3)=CH−CH
=CH−、−C(CH3)=CH−CH=CH−、−C
(CH3)=CH−CH=C(CH3)−、−C(OCH
3)=CH−CH=C(OCH3)−、−C(OCH2
2CH(CH3)−(OCH3))=C(Cl)−C
(Cl)=C(OCH2CH2CH(CH3)−(OC
3))−、−C(OCH2CH2CH(CH32)=C
(Cl)−C(Cl)=C(OCH2CH2CH(C
32)−、−CH=C(CH3)−C(CH3)=CH
−、−C(Cl)=CH−CH=CH−、−C{OCH
〔CH(CH322}=CH−CH=CH−、−C
{OCH〔CH(CH322}=C(Br)−CH=
CH−、−C{OCH〔CH(CH322}=CH−
C(Br)=CH−、−C{OCH〔CH(CH32
2}=CH−CH=C(Br)−、−C(C25)=C
H−CH=CH−、−C(C25)=CH−CH=C
(C25)−、−CH=C(C25)−C(C25)=
CH−、−C(Cl)=CH−CH=CH−等の芳香族
縮合環;
-CH = CH-CH = CH-, -C (NO
2) = CH-CH = CH -, - C (CH 3) = CH-CH
= CH -, - C (CH 3) = CH-CH = CH -, - C
(CH 3) = CH-CH = C (CH 3) -, - C (OCH
3) = CH-CH = C (OCH 3) -, - C (OCH 2 C
H 2 CH (CH 3) - (OCH 3)) = C (Cl) -C
(Cl) = C (OCH 2 CH 2 CH (CH 3 )-(OC
H 3)) -, - C (OCH 2 CH 2 CH (CH 3) 2) = C
(Cl) -C (Cl) = C (OCH 2 CH 2 CH (C
H 3) 2) -, - CH = C (CH 3) -C (CH 3) = CH
-, -C (Cl) = CH-CH = CH-, -C {OCH
[CH (CH 3) 2] 2} = CH-CH = CH -, - C
{OCH [CH (CH 3) 2] 2} = C (Br) -CH =
CH -, - C {OCH [CH (CH 3) 2] 2} = CH-
C (Br) = CH -, - C {OCH [CH (CH 3) 2]
2} = CH-CH = C (Br) -, - C (C 2 H 5) = C
H-CH = CH -, - C (C 2 H 5) = CH-CH = C
(C 2 H 5) -, - CH = C (C 2 H 5) -C (C 2 H 5) =
An aromatic condensed ring such as CH-, -C (Cl) = CH-CH = CH-;

【0161】−O−CH2−CH2−O−、−O−CH
(CH3)−CH(CH3)−O−、−COO−CH2
CH2−、−COO−CH2−、−CONH−CH2−C
2−、−CONH−CH2−、−CON(CH3)−C
2−CH2−、−CON(CH3)−CH2−等の鎖状連
結した複素環、あるいは
--O--CH 2 --CH 2 --O--, --O--CH
(CH 3) -CH (CH 3 ) -O -, - COO-CH 2 -
CH 2 -, - COO-CH 2 -, - CONH-CH 2 -C
H 2 -, - CONH-CH 2 -, - CON (CH 3) -C
H 2 —CH 2 —, —CON (CH 3 ) —CH 2 — and other chain-linked heterocycles, or

【0162】[0162]

【化9】 [Chemical 9]

【0163】(M’は、Fe、Ru、Co、Ni、Os
またはM”R’2(M”はTi、Zr、Hf、Nb、M
o、Vを表し、R’は、CO、F、Cl、Br、I、上
述のR 1〜R16と同様の置換基を有してもよい炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基を示
す。)を表す。)等の金属錯体残基;等の複素環等が挙
げられる。
(M 'is Fe, Ru, Co, Ni, Os
Or M "R '2(M "is Ti, Zr, Hf, Nb, M
o, V, R'is CO, F, Cl, Br, I, above
R of the above 1~ R16C1 which may have the same substituent as
-10 alkyl group, alkoxy group, aryl group, ari
Group, aralkyl group, aralkyloxy group
You ) Represents. ) Etc. metal complex residues; etc.
You can

【0164】R1〜R32が各々隣接する置換基と連結基
を介して連結する際に好適な連結の組み合わせは、R1
とR2、R2とR3、R3とR4、R5とR6、R6とR7、R7
とR8、R9とR10、R10とR11、R11とR12、R13とR
14、R14とR15、R15とR16、R17とR18、R18
19、R19とR20、R21とR22、R22とR23、R23とR
24、R25とR26、R26とR27、R27とR28等が挙げられ
る。
When R 1 to R 32 are each connected to the adjacent substituent through a linking group, a suitable combination of links is R 1
And R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7
And R 8 , R 9 and R 10 , R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 13 and R
14 , R 14 and R 15 , R 15 and R 16 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , R 19 and R 20 , R 21 and R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R
24 , R 25 and R 26 , R 26 and R 27 , R 27 and R 28 and the like can be mentioned.

【0165】R1〜R16が連結基を介して、R17〜R32
とそれぞれ結合する際の連結基としては、窒素原子、酸
素原子、硫黄原子、リン原子、金属原子、半金属原子な
どのヘテロ原子および炭素原子を適宜選択して組み合わ
せてなる基であり、鎖状でも環を形成していてもよい。
好ましい連結基の例として、−O−、−S−、−C(=
O)−、または置換されていてもよいメチレン基、メチ
ン基、エチニレン基、フェニレン基、アミノ基、イミノ
基、金属原子などが挙げられる。連結した骨格の好適な
例としては、−CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH
(NO2)−CH2−CH2−CH2−、−CH(CH3
−CH2−CH2−CH2−、−CH(Cl)−CH2−C
2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−CH2−、−C
2−CH2−CH2−CH2−CH2−CH2−等の飽和脂
肪族連結基;
R 1 to R 16 are bonded via R 17 to R 32 via a linking group.
The linking group at the time of bonding with each is a group formed by appropriately selecting and combining a hetero atom and a carbon atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a metal atom and a metalloid atom, and a chain-like group. However, it may form a ring.
Examples of preferred linking groups include -O-, -S-, -C (=
O)-, or an optionally substituted methylene group, methine group, ethynylene group, phenylene group, amino group, imino group, metal atom and the like. Suitable examples of linked backbone, -CH 2 -CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - CH
(NO 2) -CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3)
-CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - CH (Cl) -CH 2 -C
H 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - C
Saturated aliphatic linking groups such as H 2 —CH 2 —CH 2 —CH 2 —CH 2 —CH 2 —;

【0166】−CH=CH−CH=CH−、−C(NO
2)=CH−CH=CH−、−C(CH3)=CH−CH
=CH−、−C(CH3)=CH−CH=CH−、−C
(CH3)=CH−CH=C(CH3)−、−C(OCH
3)=CH−CH=C(OCH3)−、−C(OCH2
2CH(CH3)−(OCH3))=C(Cl)−C
(Cl)=C(OCH2CH2CH(CH3)−(OC
3))−、−C(OCH2CH2CH(CH32)=C
(Cl)−C(Cl)=C(OCH2CH2CH(C
32)−、−CH=C(CH3)−C(CH3)=CH
−、−C(Cl)=CH−CH=CH−、−C{OCH
〔CH(CH322}=CH−CH=CH−、−C
{OCH〔CH(CH322}=C(Br)−CH=
CH−、−C{OCH〔CH(CH322}=CH−
C(Br)=CH−、−C{OCH〔CH(CH32
2}=CH−CH=C(Br)−、−C(C25)=C
H−CH=CH−、−C(C25)=CH−CH=C
(C25)−、−CH=C(C25)−C(C25)=
CH−、−C(Cl)=CH−CH=CH−、−C≡C
−C≡C−、−C≡C−CH2−CH2−C≡C−、−C
2−C≡C−CH2−CH2−C≡C−等の不飽和脂肪
族連結基;
-CH = CH-CH = CH-, -C (NO
2) = CH-CH = CH -, - C (CH 3) = CH-CH
= CH -, - C (CH 3) = CH-CH = CH -, - C
(CH 3) = CH-CH = C (CH 3) -, - C (OCH
3) = CH-CH = C (OCH 3) -, - C (OCH 2 C
H 2 CH (CH 3) - (OCH 3)) = C (Cl) -C
(Cl) = C (OCH 2 CH 2 CH (CH 3 )-(OC
H 3)) -, - C (OCH 2 CH 2 CH (CH 3) 2) = C
(Cl) -C (Cl) = C (OCH 2 CH 2 CH (C
H 3) 2) -, - CH = C (CH 3) -C (CH 3) = CH
-, -C (Cl) = CH-CH = CH-, -C {OCH
[CH (CH 3) 2] 2} = CH-CH = CH -, - C
{OCH [CH (CH 3) 2] 2} = C (Br) -CH =
CH -, - C {OCH [CH (CH 3) 2] 2} = CH-
C (Br) = CH -, - C {OCH [CH (CH 3) 2]
2} = CH-CH = C (Br) -, - C (C 2 H 5) = C
H-CH = CH -, - C (C 2 H 5) = CH-CH = C
(C 2 H 5) -, - CH = C (C 2 H 5) -C (C 2 H 5) =
CH-, -C (Cl) = CH-CH = CH-, -C≡C
-C≡C -, - C≡C-CH 2 -CH 2 -C≡C -, - C
An unsaturated aliphatic linking group such as H 2 —C≡C—CH 2 —CH 2 —C≡C—;

【0167】−CH2−(p−C64)−CH2−、−C
2−(m−C64)−CH2−、−CH2−CH2−(p
−C64)−CH2−CH2−、−CH2−CH2−(m−
64)−CH2−CH2−、−CH=CH2−(m−C6
4)−CH2=CH2−等の芳香族含有の連結基;
[0167] -CH 2 - (p-C 6 H 4) -CH 2 -, - C
H 2 - (m-C 6 H 4) -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - (p
-C 6 H 4) -CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 - (m-
C 6 H 4) -CH 2 -CH 2 -, - CH = CH 2 - (m-C 6
H 4 ) —CH 2 ═CH 2 — and other aromatic-containing linking groups;

【0168】−O−CH2−CH2−O−、−O−CH
(CH3)−CH(CH3)−O−、−COO−CH2
CH2−、−COO−CH2−、−CONH−CH2−C
2−、−CONH−CH2−、−CON(CH3)−C
2−CH2−、−CON(CH3)−CH2−等のヘテロ
原子含有連結基、あるいは
--O--CH 2 --CH 2 --O--, --O--CH
(CH 3) -CH (CH 3 ) -O -, - COO-CH 2 -
CH 2 -, - COO-CH 2 -, - CONH-CH 2 -C
H 2 -, - CONH-CH 2 -, - CON (CH 3) -C
A heteroatom-containing linking group such as H 2 —CH 2 —, —CON (CH 3 ) —CH 2 —, or

【0169】[0169]

【化10】 [Chemical 10]

【0170】(M’は、Fe、Ru、Co、Ni、Os
またはM”R’2(M”はTi、Zr、Hf、Nb、M
o、Vを表し、R’は、CO、F、Cl、Br、I、上
述のR 1〜R16と同様の置換基を有してもよい炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基を示
す。)を表す。)等の金属錯体残基;等の連結基等が挙
げられる。
(M 'is Fe, Ru, Co, Ni, Os
Or M "R '2(M "is Ti, Zr, Hf, Nb, M
o, V, R'is CO, F, Cl, Br, I, above
R of the above 1~ R16C1 which may have the same substituent as
-10 alkyl group, alkoxy group, aryl group, ari
Group, aralkyl group, aralkyloxy group
You ) Represents. ) And other metal complex residues;
You can

【0171】M、M1、M2で、1個の水素原子とともに
用いられる3価の金属原子としては、周期表IIIA〜VII
A族、VIII族、IB〜VIIB族の金属原子が挙げられる。
好適な例としては、Sc、Ti、V、Cr、Mn、M
o、Ag、U、Fe、Co、Ni、Cu、Y、Nb、R
u、Rh、La、Ta、Ir、Au、In、Tl、P
b、Bi、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等の3
価の無置換金属原子が挙げられる。さらに好適には、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、T
b、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等が挙げられ
る。
As the trivalent metal atom used in M, M 1 and M 2 together with one hydrogen atom, there can be mentioned IIIA to VII of the periodic table.
Examples thereof include metal atoms of Group A, Group VIII, and Group IB to VIIB.
Suitable examples are Sc, Ti, V, Cr, Mn and M.
o, Ag, U, Fe, Co, Ni, Cu, Y, Nb, R
u, Rh, La, Ta, Ir, Au, In, Tl, P
b, Bi, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, G
3 such as d, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu
Examples include valent unsubstituted metal atoms. More preferably,
Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, T
b, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu and the like.

【0172】M、M1、M2で表される4価の金属原子と
しては、周期表IIIA〜VIIA族、VIII族、IB〜VIIB族
の金属原子が挙げられる。好適な例としては、Ti、
V、Cr、Mn、Mo、Zr、Nb、Ru、Rh、T
a、Ir、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、E
u、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu
等の前記3価の無置換金属原子として例示した金属原子
が4価状態をとっているものやSn等の4価の無置換金
属原子が挙げられる。さらに好適には、Ti、Sn、L
u、Ce、Tb等が挙げられる。
Examples of the tetravalent metal atom represented by M, M 1 and M 2 include metal atoms of Group IIIA to VIIA, Group VIII and Group IB to VIIB of the periodic table. As a suitable example, Ti,
V, Cr, Mn, Mo, Zr, Nb, Ru, Rh, T
a, Ir, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, E
u, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu
Examples of the above-mentioned trivalent unsubstituted metal atom such as ## STR4 ## are those having a tetravalent state, and tetravalent unsubstituted metal atoms such as Sn. More preferably, Ti, Sn, L
u, Ce, Tb and the like can be mentioned.

【0173】本発明に用いられる一般式(1)で示され
る化合物は、限定されないが、例えば、Aust. J. Che
m., vol. 53, pp. 131-135 (2000)、Inorg. Chem. vol.
3, pp.251-254 (1964)、Chem. Lett., pp. 759-762 (19
92)、Inorg. Chem. vol.33, pp. 4787-4793 (1994)等に
記載の方法に準じて製造される。代表的には、以下のよ
うな反応にて製造することができる。
The compound represented by the general formula (1) used in the present invention is not limited, but is, for example, Aust. J. Che.
m., vol. 53, pp. 131-135 (2000), Inorg. Chem. vol.
3, pp.251-254 (1964), Chem. Lett., Pp. 759-762 (19
92), Inorg. Chem. Vol.33, pp. 4787-4793 (1994) and the like. Typically, it can be produced by the following reaction.

【0174】本発明の一般式(2)で示されるアザポル
フィリン系化合物は、下式(3)で示される化合物をペ
ンタノール、ヘキサノール等のアルコール類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、1−クロロナフタレン、1,
2−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼ
ン等の芳香族溶媒中、3価あるいは4価金属原子のアセ
チルアセトナート塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩等の
有機金属塩またはその水和物、金属原子のハロゲン化
物、硫酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、塩素酸塩、次亜塩素
酸塩等の無機金属塩またはその水和物とともに、場合に
より加熱反応することで得ることができる。
The azaporphyrinic compound represented by the general formula (2) of the present invention is obtained by converting the compound represented by the following formula (3) into alcohols such as pentanol and hexanol, benzene, toluene, xylene, 1-chloronaphthalene, 1,
Organic metal salts such as acetylacetonate salts of trivalent or tetravalent metal atoms, acetic acid salts, trifluoroacetic acid salts or the like in aromatic solvents such as 2-dichlorobenzene and 1,2,4-trichlorobenzene, or hydrates thereof. It can be obtained by heating with an inorganic metal salt such as a halide of metal atom, sulfate, nitrate, perchlorate, chlorate, hypochlorite or its hydrate, as the case may be.

【0175】[0175]

【化11】 [式中、R33〜R36は、式(2)のR1〜R32に対応す
る基を表す。]
[Chemical 11] Wherein, R 33 to R 36 represents a group corresponding to R 1 to R 32 of formula (2). ]

【0176】あるいは、式(4)および(5)の化合
物、あるいは式(4)で表される化合物のみをペンタノ
ール、ヘキサノール等のアルコール類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、1−クロロナフタレン、1,2−ジク
ロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン等の芳
香族溶媒中、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7
−ウンデセン(DBU)等の塩基の存在下、3価あるい
は4価金属原子のアセチルアセトナート塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢酸塩等の有機金属塩またはその水和物、金
属原子のハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、
塩素酸塩、次亜塩素酸塩等の無機金属塩またはその水和
物とともに、場合により加熱反応することで得ることが
できる。
Alternatively, the compounds of the formulas (4) and (5) or only the compounds represented by the formula (4) are used as alcohols such as pentanol and hexanol, benzene, toluene, xylene, 1-chloronaphthalene, 1, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7 in an aromatic solvent such as 2-dichlorobenzene or 1,2,4-trichlorobenzene
-In the presence of a base such as undecene (DBU), an organic metal salt such as an acetylacetonate salt of trivalent or tetravalent metal atom, acetate, trifluoroacetate salt or the hydrate thereof, a halide of metal atom, sulfuric acid Salt, nitrate, perchlorate,
It can be obtained by reacting with an inorganic metal salt such as chlorate or hypochlorite, or a hydrate thereof, as the case may be.

【0177】[0177]

【化12】 [式中、R37〜R68は、式(2)のR1〜R32とそれぞ
れ同一の基を表す。]
[Chemical 12] Wherein, R 37 to R 68 represent each identical groups and R 1 to R 32 of formula (2). ]

【0178】あるいは、式(4)のかわりに、そのリチ
ウム塩である下式(6)で表される化合物、式(5)の
かわりにそのリチウム塩である下式(7)の化合物を使
用して、同様に反応することで得ることができる。
Alternatively, instead of the formula (4), a compound represented by the following formula (6) which is a lithium salt thereof and a compound of the following formula (7) which is a lithium salt thereof instead of the formula (5) are used. Then, it can be obtained by reacting in the same manner.

【0179】[0179]

【化13】 [式中、R69〜R100は、式(2)のR1〜R32とそれぞ
れ同一の基を表す。]
[Chemical 13] Wherein, R 69 to R 100 represent respectively the same groups as R 1 to R 32 of formula (2). ]

【0180】さらに、下式(8)で表される化合物と下
式(9)で表される化合物を、1−クロロナフタレン、
1,2−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベ
ンゼン等の芳香族溶媒中、加熱反応することで得ること
ができる。
Further, a compound represented by the following formula (8) and a compound represented by the following formula (9) are converted into 1-chloronaphthalene,
It can be obtained by heating in an aromatic solvent such as 1,2-dichlorobenzene or 1,2,4-trichlorobenzene.

【0181】[0181]

【化14】 [式中、R101〜R132は、式(2)のR1〜R32とそれ
ぞれ同一の基を表し、M3は4価の金属原子を表す。]
[Chemical 14] [In the formula, R 101 to R 132 represent the same groups as R 1 to R 32 in the formula (2), respectively, and M 3 represents a tetravalent metal atom. ]

【0182】また、式(2)のR1〜R32のうち、任意
の置換基が水素原子のものに関して、たとえば、ニトロ
化、ハロゲン化、ホルミル化、アミノ化、カルボキシル
化、ヒドロキシル化、アシル化、脱離反応、等の定法の
合成法により、選択された水素原子が任意の置換基に置
換され、さらに必要に応じて還元、酸化、異性化、転移
などの定法の合成法を用い、式(2)の化合物を得るこ
ともできる。
Further, among R 1 to R 32 in the formula (2), in which any substituent is a hydrogen atom, for example, nitration, halogenation, formylation, amination, carboxylation, hydroxylation, acylation By a conventional synthetic method such as cationization, elimination reaction, etc., a selected hydrogen atom is substituted with an arbitrary substituent, and further, if necessary, a conventional synthetic method such as reduction, oxidation, isomerization, transfer is used. It is also possible to obtain compounds of formula (2).

【0183】一般式(2)で示されるアザポルフィリン
系化合物の具体例については、例えば以下に記載する化
合物(1−1)〜(1−66)等が挙げられる。なお、
一般式(2)で示される化合物を、例えば式(3)で表
される化合物の環化等によって得る場合には、アザポル
フィリン環上の置換基の位置が異なる異性体の混合物が
生成するのが通常であるが、本明細書では便宜上、その
混合物の主たる1成分のみを明記することとする。
Specific examples of the azaporphyrin compound represented by the general formula (2) include compounds (1-1) to (1-66) described below. In addition,
When the compound represented by the general formula (2) is obtained by, for example, cyclization of the compound represented by the formula (3), a mixture of isomers having different positions of the substituents on the azaporphyrin ring is produced. However, for convenience, only one major component of the mixture will be specified herein.

【0184】[0184]

【表1】 [Table 1]

【0185】[0185]

【化15】 [Chemical 15]

【0186】[0186]

【表2】 [Table 2]

【0187】[0187]

【化16】 [Chemical 16]

【0188】[0188]

【表3】 [Table 3]

【0189】[0189]

【表4】 [Table 4]

【0190】[0190]

【化17】 [Chemical 17]

【0191】[0191]

【化18】 [Chemical 18]

【0192】[0192]

【化19】 [Chemical 19]

【0193】[0193]

【化20】 [Chemical 20]

【0194】[0194]

【化21】 [Chemical 21]

【0195】[0195]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0196】[0196]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0197】[0197]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0198】[0198]

【化25】 [Chemical 25]

【0199】[0199]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0200】[0200]

【化27】 [Chemical 27]

【0201】[0201]

【化28】 [Chemical 28]

【0202】本発明の光記録媒体を構成している記録層
の色素は、実質的に1種またはそれ以上のアザポルフィ
リン系化合物、特に式(1)の化合物からなるものであ
り、さらに、所望に応じて波長290nm〜690nm
に吸収極大を持ち、300nm〜900nmでの屈折率
が大きい前記以外の化合物と混合しても良い。具体的に
は、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、ナフ
トキノン系化合物、アントラキノン系化合物、テトラピ
ラポルフィラジン系化合物、インドフェノール系化合
物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、ア
ズレニウム系化合物、トリフェニルメタン系化合物、キ
サンテン系化合物、インダスレン系化合物、インジゴ系
化合物、チオインジゴ系化合物、メロシアニン系化合
物、チアジン系化合物、アクリジン系化合物、オキサジ
ン系化合物、ジピロメテン系化合物、オキサゾール系化
合物、アザポルフィリン系化合物、ポルフィリン系化合
物、ポルフィセン系化合物などがあり、複数の化合物の
混合であっても良い。これらの化合物の混合割合は、
0.1質量%〜30質量%程度である。
The dye of the recording layer constituting the optical recording medium of the present invention is substantially composed of one or more azaporphyrin compounds, especially the compound of the formula (1), and further desired. Depending on the wavelength 290nm ~ 690nm
It may be mixed with a compound other than the above which has an absorption maximum at and a large refractive index at 300 nm to 900 nm. Specifically, cyanine compounds, squarylium compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, tetrapyrporphyrazine compounds, indophenol compounds, pyrylium compounds, thiopyrylium compounds, azulenium compounds, triphenylmethane compounds , Xanthene compounds, indasulen compounds, indigo compounds, thioindigo compounds, merocyanine compounds, thiazine compounds, acridine compounds, oxazine compounds, dipyrromethene compounds, oxazole compounds, azaporphyrin compounds, porphyrin compounds , Porphycene-based compounds, and the like, and may be a mixture of a plurality of compounds. The mixing ratio of these compounds is
It is about 0.1 to 30% by mass.

【0203】記録層を成膜する際に、必要に応じて式
(1)で表される化合物に、クエンチャー、化合物熱分
解促進剤、紫外線吸収剤、接着剤、吸熱性又は吸熱分解
性化合物、あるいは溶解性を向上させる高分子等の添加
剤を混合するか、あるいは、そのような効果を有する化
合物を式(1)で表される化合物に置換基として導入す
ることも可能である。
When the recording layer is formed, a quencher, a compound thermal decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, an endothermic or endothermic decomposable compound may be added to the compound represented by the formula (1) if necessary. Alternatively, it is possible to mix an additive such as a polymer for improving the solubility, or to introduce a compound having such an effect into the compound represented by the formula (1) as a substituent.

【0204】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミ
ン系も好適である。
Specific examples of the quencher include acetylacetonate type, bisdithiol type such as bisdithio-α-diketone type and bisphenyldithiol type, thiocateconal type, salicylaldehyde oxime type and thiobisphenolate type. Metal complexes are preferred. Further, amine type is also suitable.

【0205】化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析
(TG分析)などにより、化合物の熱分解の促進が確認
できるのもであれば特に限定されず、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。金属
系アンチノッキング剤の例としては、四エチル鉛、その
他の鉛系化合物、シマントレン[Mn(C55)(C
O)3]などのMn系化合物、また、メタロセン化合物
の例としては、鉄ビスシクロペンタジエニル錯体(フェ
ロセン)をはじめ、Ti、V、Mn、Cr、Co、N
i、Mo、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、Os、
Ir、Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル錯体が
ある。なかでもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、
ニッケロセン、チタノセンおよびそれらの誘導体は良好
な熱分解促進効果がある。
The compound thermal decomposition accelerator is not particularly limited as long as the thermal decomposition of the compound can be confirmed by thermal loss analysis (TG analysis) and the like, and examples thereof include metal anti-knocking agents and metallocene compounds. , And metal compounds such as acetylacetonate-based metal complexes. Examples of the metal anti-knocking agent include tetraethyl lead, other lead compounds, simantrene [Mn (C 5 H 5 ) (C
O) 3 ] and the like, and examples of the metallocene compound include iron biscyclopentadienyl complex (ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co, N.
i, Mo, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, Os,
There are biscyclopentadienyl complexes such as Ir, Sc and Y. Among them, ferrocene, ruthenocene, osmosen,
Nickelocene, titanocene and their derivatives have a good effect of promoting thermal decomposition.

【0206】その他、鉄系金属化合物として、メタロセ
ンの他に、ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテ
ン酸鉄、ステアリン酸鉄、酢酸鉄などの有機酸鉄化合
物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄
錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、
エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン
鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯
体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄
錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ
鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一鉄、塩
化第二鉄、臭化第一鉄、臭化第二鉄などのハロゲン化
鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さら
には、酸化鉄などが挙げられる。ここで用いる熱分解促
進剤は有機溶剤に可溶で、かつ、耐湿熱性及び耐光性の
良好なものが望ましい。
In addition to metallocene, other iron-based metal compounds such as iron formate, iron oxalate, iron laurate, iron naphthenate, iron stearate, iron acetate and other organic acid iron compounds, acetylacetonate iron complexes, Phenanthroline iron complex, bispyridine iron complex, ethylenediamine iron complex,
Chelating iron complexes such as ethylenediaminetetraacetic acid iron complex, diethylenetriamine iron complex, diethylene glycol dimethyl ether iron complex, diphosphino iron complex, and dimethylglyoximate iron complex, carbonyl iron complex, cyano iron complex, ammine iron complex, and other iron complexes, first chloride Examples thereof include iron halides such as iron, ferric chloride, ferrous bromide and ferric bromide, inorganic iron salts such as iron nitrate and iron sulfate, and iron oxide. The thermal decomposition accelerator used here is preferably one which is soluble in an organic solvent and has good wet heat resistance and light resistance.

【0207】吸熱性又は吸熱分解性化合物としては、特
開平10−291366号公報記載の化合物、又は、該
公報に記載される置換基を有する化合物等が挙げられ
る。
Examples of the endothermic or endothermic decomposable compounds include compounds described in JP-A No. 10-291366, compounds having a substituent described in the publication, and the like.

【0208】上述した各種のクエンチャー、化合物熱分
解促進剤及び吸熱性又は吸熱分解性化合物は、必要に応
じて、1種類で用いても、2種類以上を混合して用いて
も良い。
The above-mentioned various quenchers, compound thermal decomposition accelerators and endothermic or endothermic compounds may be used alone or in admixture of two or more.

【0209】あるいは、クエンチャー能、化合物熱分解
促進能、紫外線吸収能、接着能を有する化合物を式
(1)で表される化合物の置換基として導入することも
可能である。
Alternatively, a compound having a quencher ability, a compound thermal decomposition promoting ability, an ultraviolet absorbing ability, and an adhesive ability can be introduced as a substituent of the compound represented by the formula (1).

【0210】すなわち、本発明の式(1)のアザポルフ
ィリン系化合物残基に対して、クエンチャー能、化合物
熱分解促進能、紫外線吸収能、接着能、吸熱能又は吸熱
分解能を有する化合物残基が少なくとも一つの単結合、
二重結合、三重結合により、化学結合して一つの分子を
形成してもよい。好ましくは、式(2)のアザポルフィ
リン系化合物の各置換基R1〜R32が式(10)
That is, a compound residue having a quencher ability, a compound thermal decomposition promoting ability, an ultraviolet absorbing ability, an adhesive ability, an endothermic ability or an endothermic resolution with respect to the azaporphyrin compound residue of the formula (1) of the present invention. Is at least one single bond,
A double bond or a triple bond may be chemically bonded to form one molecule. Preferably, each of the substituents R 1 to R 32 of the azaporphyrin compound of formula (2) is represented by formula (10)

【0211】−(Ln)−(Jn) (10) 〔式中、Lnは式(2)のアザポルフィリン系化合物へ
の結合部、すなわち単結合、または置換していてもよい
メチレン基、メチン基、アミノ基、イミノ基、酸素原子
または硫黄原子より少なくとも1種を選択して連結した
原子数1〜20の原子鎖を表し、Jnはクエンチャー、
化合物熱分解促進剤、紫外線吸収剤、接着能、吸熱能又
は吸熱分解能を有するR1〜R32に対応する化合物残基
を表す。〕で表される置換基、または、式(2)の隣接
する置換基の組み合わせであるR1とR2、R2とR3、R
3とR4、R5とR6、R6とR7、R7とR8、R9とR10
10とR11、R11とR12、R13とR14、R14とR15、R
15とR16、R17とR18、R18とR19、R19とR20、R21
とR22、R22とR23、R23とR24、R25とR26、R26
27、R27とR28について、式(11)
-(Ln)-(Jn) (10) [wherein, Ln is a bond to the azaporphyrin compound of the formula (2), that is, a single bond, or an optionally substituted methylene group or methine group. , An amino group, an imino group, an oxygen atom, or a sulfur atom, and at least one kind of atom is selected and represents an atom chain having 1 to 20 atoms, and Jn is a quencher,
A compound residue corresponding to R 1 to R 32 having a compound thermal decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive ability, an endothermic ability or an endothermic resolution. ] Or a combination of R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R which is a combination of the substituents represented by formula (2) or adjacent substituents of the formula (2).
3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 6 and R 7 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 ,
R 10 and R 11 , R 11 and R 12 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R
15 and R 16 , R 17 and R 18 , R 18 and R 19 , R 19 and R 20 , R 21
And R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 25 and R 26 , R 26 and R 27 , and R 27 and R 28 are represented by the formula (11).

【0212】 −(Lm1)−(Jm)−(Lm2)− (11) 〔式中、Lm1およびLm2は隣り合い、且つ式(2)のア
ザポルフィリン系化合物への結合部、すなわち単結合、
または置換していてもよいメチレン基、メチン基、アミ
ノ基、イミノ基、酸素原子または硫黄原子より少なくと
も1種を選択して連結した原子数1〜20の原子鎖を表
し、Jmはクエンチャー、化合物熱分解促進剤、紫外線
吸収剤、接着能、吸熱能又は吸熱分解能を有するR1
32に対応する化合物残基を表す。〕で表される置換基
が挙げられる。
-(Lm1)-(Jm)-(Lm2)-(11) [wherein, Lm1 and Lm2 are adjacent to each other, and a binding site to the azaporphyrin compound of the formula (2), that is, a single bond,
Or an optionally substituted methylene group, a methine group, an amino group, an imino group, an oxygen atom or a sulfur atom, which is an atom chain having 1 to 20 atoms selected and linked, and Jm is a quencher, Compound thermal decomposition accelerator, ultraviolet absorber, adhesive ability, endothermic ability or endothermic resolution R 1 ~
Represents a compound residue corresponding to R 32 . ] The substituent represented by this is mentioned.

【0213】Ln、Lm1、Lm2の好ましい原子鎖の例と
しては、単結合、−C(=O)−OCH2−、−C(=
O)−OCH(CH3)−、−OCH2−、−OCH(C
3)−、−CH2OCH2−、−CH2OCH(CH3
−、−CH(CH3)OCH(CH3)−、−O−C(=
O)−、−CH=CH−、−CH=N−、−C(=O)
−、−CH=CH−C(=O)O−、−C(C=O)C
2CH2C(=O)−O−等が挙げられる。
[0213] Ln, Lm1, preferred examples of the chain of atoms Lm2, single bond, -C (= O) -OCH 2 -, - C (=
O) -OCH (CH 3) - , - OCH 2 -, - OCH (C
H 3) -, - CH 2 OCH 2 -, - CH 2 OCH (CH 3)
-, - CH (CH 3) OCH (CH 3) -, - O-C (=
O)-, -CH = CH-, -CH = N-, -C (= O)
-, -CH = CH-C (= O) O-, -C (C = O) C
H 2 CH 2 C (= O ) -O- , and the like.

【0214】Jn、Jmの好ましい例としては、フェロセ
ン残基、コバルトセン残基、ニッケロセン残基、ルテノ
セン残基、オスモセン残基、チタノセン残基等のメタロ
セン残基が挙げられる。
Preferred examples of Jn and Jm include metallocene residues such as ferrocene residue, cobaltcene residue, nickelocene residue, ruthenocene residue, osmocene residue and titanocene residue.

【0215】式(10)の好適な骨格例としては、以下
の金属錯体残基が挙げられる。
Examples of suitable skeletons of the formula (10) include the following metal complex residues.

【0216】[0216]

【化29】 [Chemical 29]

【0217】(M’は、Fe、Ru、Co、Ni、Os
またはM”Z’2(M”はTi、Zr、Hf、Nb、M
o、Vを表し、Z’は、CO、F、Cl、Br、I、上
述のR 1〜R32と同様の置換基を有してもよい炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基を示
す)を表す。)
(M 'is Fe, Ru, Co, Ni, Os
Or M "Z '2(M "is Ti, Zr, Hf, Nb, M
o, V, Z'is CO, F, Cl, Br, I, above
R of the above 1~ R32C1 which may have the same substituent as
-10 alkyl group, alkoxy group, aryl group, ari
Group, aralkyl group, aralkyloxy group
Represents). )

【0218】また、式(11)の好適な骨格例として
は、以下の金属錯体残基が挙げられる。
Further, examples of preferable skeleton of the formula (11) include the following metal complex residues.

【0219】[0219]

【化30】 [Chemical 30]

【0220】(M’は、Fe、Ru、Co、Ni、Os
またはM”Z’2(M”はTi、Zr、Hf、Nb、M
o、Vを表し、Z’は、CO、F、Cl、Br、I、上
述のR 1〜R32と同様の置換基を有してもよい炭素数1
〜10のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基を示
す)を表す。)
(M 'is Fe, Ru, Co, Ni, Os
Or M "Z '2(M "is Ti, Zr, Hf, Nb, M
o, V, Z'is CO, F, Cl, Br, I, above
R of the above 1~ R32C1 which may have the same substituent as
-10 alkyl group, alkoxy group, aryl group, ari
Group, aralkyl group, aralkyloxy group
Represents). )

【0221】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などの添加物質を加えても良い。好ま
しいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。
Further, if necessary, additional substances such as a binder, a leveling agent and an antifoaming agent may be added. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resins, acrylic resins, polystyrene resins, urethane resins, polyvinyl butyral, polycarbonates, polyolefins and the like.

【0222】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。
In order to improve the solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the substrate when the recording layer is formed on the substrate,
A layer made of an inorganic material or a polymer may be provided on the substrate.

【0223】ここで、記録層における一般式(1)で示
される化合物の含有量は、記録・再生が可能な任意の量
を選択することができるが、通常、30%以上、好まし
くは60%以上である。尚、実質的に100%であるこ
とも好ましい。
Here, the content of the compound represented by the general formula (1) in the recording layer can be selected so that it can be recorded / reproduced, but it is usually 30% or more, preferably 60%. That is all. It is also preferable that it is substantially 100%.

【0224】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、スライド法、カーテ
ン法、エクストルージョン法、ワイヤー法、グラビア
法、スプレッド法、ローラーコート法、ナイフ法、浸漬
法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法
などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好まし
い。
The method for providing the recording layer is, for example, spin coating method, spraying method, casting method, slide method, curtain method, extrusion method, wire method, gravure method, spread method, roller coating method, knife method, dipping method. Examples of the coating method include a coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, and the like, but the spin coating method is simple and preferable.

【0225】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式(1)で示される化合物を1〜40質量
%、好ましくは3〜30質量%となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフル
オロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシク
ロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、
トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノンなどの
ケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル
系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても
良く、あるいは、複数混合しても良い。
When a coating method such as a spin coating method is used, the compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent in an amount of 1 to 40% by mass, preferably 3 to 30% by mass. Although a coating solution is used, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate.
For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrafluoropropanol, hexane,
Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane,
Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane and dibromoethane,
Examples include ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane, ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone, ester solvents such as ethyl acetate and methyl lactate, and water. To be These may be used alone or in combination of two or more.

【0226】なお、必要に応じて、記録層の化合物を高
分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
If necessary, the compound of the recording layer may be dispersed in a polymer thin film or the like and used.

【0227】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。
If a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, sputtering, chemical vapor deposition, vacuum vapor deposition, etc. are effective.

【0228】記録層の膜厚は、10nm〜1000nm
であるが、好ましくは20nm〜300nmである。記
録層の膜厚を10nmより薄くすると、熱拡散が大きい
ため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号
振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が1000n
mより厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化
する場合がある。
The film thickness of the recording layer is 10 nm to 1000 nm.
However, it is preferably 20 nm to 300 nm. When the film thickness of the recording layer is smaller than 10 nm, recording may not be possible due to large thermal diffusion, distortion may occur in the recording signal, and the signal amplitude may become small. In addition, the film thickness is 1000n
If it is thicker than m, the reflectance may be lowered and the reproduction signal characteristics may be deteriorated.

【0229】次に記録層の上に、好ましくは50nm〜
300nmの厚さの反射層を形成する。反射率を高める
ためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に
反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材
料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例
えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、P
t、TaおよびPdの金属を単独あるいは合金にして用
いることが可能である。この中でもAu、Ag、Alは
反射率が高く反射層の材料として適している。青色レー
ザーでの記録・再生を行う場合には、AlまたはAgが
好適である。これ以外でも下記のものを含んでいても良
い。例えば、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、
Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、G
a、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi
などの金属および半金属を挙げることができる。また、
AgまたはAlを主成分とするものは反射率の高い反射
層が容易に得られるため好適である。金属以外の材料で
低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜
を形成し、反射層として用いることも可能である。
Next, on the recording layer, preferably 50 nm-
A reflective layer having a thickness of 300 nm is formed. A reflection amplification layer or an adhesive layer can be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance or improve the adhesion. The material of the reflective layer has a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, P.
The metals of t, Ta and Pd can be used alone or as an alloy. Among these, Au, Ag, and Al have high reflectance and are suitable as materials for the reflective layer. When recording / reproducing with a blue laser, Al or Ag is preferable. Other than the above, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W,
Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, G
a, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi
Mention may be made of metals and semi-metals such as Also,
A material containing Ag or Al as a main component is preferable because a reflective layer having a high reflectance can be easily obtained. It is also possible to stack a low refractive index thin film and a high refractive index thin film alternately with a material other than metal to form a multilayer film and use it as a reflective layer.

【0230】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、再生光安定性の改
善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機
系の中間層、接着層を設けることもできる。
As a method of forming the reflective layer, for example,
Examples of the method include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method and the like. A known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer to improve reflectance, improve recording characteristics, improve reproduction light stability, improve adhesion, and the like. It can also be provided.

【0231】さらに、反射層の上に形成する保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。無機物質としては、SiO2、Si34
MgF2、AlN、SnO2、TiO2などが挙げられ
る。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙げ
ることができる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適
当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に、この塗布液
を塗布し、乾燥することによって形成することができ
る。紫外線硬化性樹脂はそのままもしくは適当な溶媒に
溶解して塗布液を調製した後に、この塗布液を塗布し、
紫外線を照射して硬化させることによって形成すること
ができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタ
ンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステル
アクリレートなどのアクリレート樹脂を用いることがで
きる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても
良く、1層だけでなく多層膜にして用いても良い。
Further, the material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Inorganic substances include SiO 2 , Si 3 N 4 ,
MgF 2, AlN, SnO 2, etc. TiO 2 and the like. Examples of the organic substance include thermoplastic resin, thermosetting resin, electron beam curable resin, and ultraviolet curable resin. It can be formed by dissolving a thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. in a suitable solvent to prepare a coating solution, coating the coating solution, and drying. The UV curable resin is prepared as it is or by dissolving it in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution,
It can be formed by irradiating ultraviolet rays to cure. As the ultraviolet curable resin, for example, an acrylate resin such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as one layer but also as a multilayer film.

【0232】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。
As the method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method or a method such as a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used as in the recording layer, and the spin coating method is preferable among them.

【0233】保護層の膜厚は、一般には0.1μm〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、3μm〜
30μmであり、より好ましくは、5μm〜20μmで
ある。
The film thickness of the protective layer is generally 0.1 μm to 1
Although it is in the range of 00 μm, in the present invention, 3 μm
It is 30 μm, and more preferably 5 μm to 20 μm.

【0234】保護層の上にさらにレーベル、バーコード
などの印刷を行うこともできる。また、反射層外面に保
護シートまたは基板を貼り合わせることができる。さら
に、反射層外面側が相互に内側となるように光記録媒体
2枚を貼り合わせるなどの手段を用いて、両面が記録可
能な本発明の光記録媒体とすることができる。
A label, a bar code or the like can be further printed on the protective layer. Further, a protective sheet or substrate can be attached to the outer surface of the reflective layer. Furthermore, the optical recording medium of the present invention capable of recording on both sides can be obtained by using a means such as bonding two optical recording media so that the outer surfaces of the reflective layers are inside each other.

【0235】基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。
On the mirror surface side of the substrate, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film or the like may be formed to protect the surface and prevent dust from adhering.

【0236】また、図3のような光記録媒体を作製する
場合、基板の上に、好ましくは1nm〜300nmの厚
さの反射層を形成する。反射率を高めるためや密着性を
よくするために、記録層と反射層の間に反射増幅層や接
着層を設けることができる。反射層の材料としては、再
生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Al、A
g、NiおよびPtの金属を単独あるいは合金にして用
いることが可能である。この中でもAg、Alは反射率
が高く反射層の材料として適している。これ以外でも必
要に応じて下記のものを含んでいても良い。例えば、M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F
e、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Au、C
u、Ti、Cr、Pd、Taなどの金属および半金属を
挙げることができる。AgまたはAlを主成分とするも
ので反射率の高い反射層が容易に得られるものが好適で
ある。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を
交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いる
ことも可能である。
Further, when the optical recording medium as shown in FIG. 3 is manufactured, a reflective layer having a thickness of preferably 1 nm to 300 nm is formed on the substrate. A reflection amplification layer or an adhesive layer can be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance or improve the adhesion. As the material of the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Al or A
It is possible to use the metals of g, Ni and Pt alone or as an alloy. Among these, Ag and Al have high reflectance and are suitable as materials for the reflective layer. Other than the above, the following may be included as necessary. For example, M
g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, S
i, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, Au, C
Mention may be made of metals and semi-metals such as u, Ti, Cr, Pd, Ta. A material containing Ag or Al as a main component and capable of easily obtaining a reflective layer having a high reflectance is suitable. It is also possible to stack a low refractive index thin film and a high refractive index thin film alternately with a material other than metal to form a multilayer film and use it as a reflective layer.

【0237】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。
As a method for forming the reflective layer, for example,
Examples of the method include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method and the like. Further, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer in order to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.

【0238】次に、記録層を反射層の上に成膜する際
に、反射層の耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上さ
せるために、反射層の上に無機物やポリマーからなる層
を設けても良い。
Next, in forming the recording layer on the reflective layer, in order to improve solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the reflective layer, a layer made of an inorganic material or a polymer is formed on the reflective layer. May be provided.

【0239】ここで、記録層における一般式(1)で示
される化合物の含有量は、記録・再生が可能な任意の量
を選択することができるが、通常、30質量%以上、好
ましくは60質量%以上である。尚、実質的に100質
量%であることも好ましい。
Here, the content of the compound represented by the general formula (1) in the recording layer can be selected so that it can be recorded / reproduced, but it is usually 30% by mass or more, preferably 60% by mass. It is at least mass%. It is also preferable that the content is substantially 100% by mass.

【0240】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、スライド法、カーテ
ン法、エクストルージョン法、ワイヤー法、グラビア
法、スプレッド法、ローラーコート法、ナイフ法、浸漬
法などの塗布法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法
などが挙げられるが、スピンコート法が簡便で好まし
い。
The recording layer is provided by, for example, spin coating method, spraying method, casting method, slide method, curtain method, extrusion method, wire method, gravure method, spread method, roller coating method, knife method, dipping method. Examples of the coating method include a coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, and the like, but the spin coating method is simple and preferable.

【0241】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式(1)で示される化合物を1〜40質量
%、好ましくは3〜30質量%となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
反射層にダメージを与えないものを選ぶことが好まし
い。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコ
ール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフ
ルオロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチル
シクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶
媒、トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水
素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエ
タン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶
媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセ
トン、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノンなどのケトン
系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル系溶
媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても良
く、あるいは、複数混合しても良い。
When a coating method such as a spin coating method is used, the compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent in an amount of 1 to 40% by mass, preferably 3 to 30% by mass. Although a coating liquid is used, it is preferable to select a solvent that does not damage the reflective layer. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrafluoropropanol, hexane, heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane. Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as, toluene, xylene, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane, dibromoethane, diethyl ether, Ether-based solvents such as dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane, ketone-based solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone, ethyl acetate and lactic acid Ester solvents such as Le, and water. These may be used alone or in combination of two or more.

【0242】なお、必要に応じて、記録層の化合物を高
分子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。
If necessary, the compound of the recording layer may be dispersed in a polymer thin film or the like and used.

【0243】また、反射層にダメージを与えない溶媒を
選択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸
着法などが有効である。
When a solvent that does not damage the reflective layer cannot be selected, sputtering, chemical vapor deposition, vacuum vapor deposition, etc. are effective.

【0244】記録層の膜厚は、通常1nm〜1000n
mであるが、好ましくは5nm〜300nmである。記
録層の膜厚を1nmより薄くすると、記録できないか、
記録信号に歪が発生する上、信号振幅が小さくなる場合
がある。また、膜厚が1000nmより厚い場合は反射
率が低下し、再生信号特性が悪化する場合がある。
The film thickness of the recording layer is usually 1 nm to 1000 n.
m, but preferably 5 nm to 300 nm. If the thickness of the recording layer is less than 1 nm
Distortion may occur in the recording signal and the signal amplitude may decrease. Further, when the film thickness is thicker than 1000 nm, the reflectance may be lowered and the reproduction signal characteristics may be deteriorated.

【0245】さらに、記録層の上に形成する保護層の材
料としては記録層を外力や雰囲気など、外部からの悪影
響保護するものであれば特に限定しない。無機物質とし
ては、SiO2、Si34、MgF2、AlN、Sn
2、TiO2などが挙げられる。また、有機物質として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、
紫外線硬化性樹脂などを挙げることができる。熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液
を調製した後に、この塗布液を塗布し、乾燥することに
よって形成することができる。紫外線硬化性樹脂はその
ままもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後
にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させるこ
とによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂と
しては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアク
リレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレー
ト樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であ
るいは混合して用いても良く、1層だけでなく多層膜に
して用いても良い。
Further, the material of the protective layer formed on the recording layer is not particularly limited as long as it protects the recording layer from external influences such as external force and atmosphere. Inorganic substances include SiO 2 , Si 3 N 4 , MgF 2 , AlN and Sn.
Examples thereof include O 2 and TiO 2 . Further, as the organic substance, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin,
Examples thereof include ultraviolet curable resins. It can be formed by dissolving a thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. in a suitable solvent to prepare a coating solution, coating the coating solution, and drying. The UV-curable resin can be formed as it is or by dissolving it in a suitable solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and then irradiating it with ultraviolet rays to cure it. As the ultraviolet curable resin, for example, an acrylate resin such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as one layer but also as a multilayer film.

【0246】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。
As the method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method or a method such as a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used as in the recording layer, and the spin coating method is preferable among them.

【0247】保護層の膜厚は、一般には0.01μm〜
1000μmの範囲であるが、場合により0.1μm〜
100μm、さらには、1μm〜20μmとすることが
できる。
The thickness of the protective layer is generally from 0.01 μm to
The range is 1000 μm, but depending on the case, 0.1 μm to
It can be 100 μm, and further, 1 μm to 20 μm.

【0248】また、基板層外面に保護シートを貼り合わ
せることができる。さらに、反射層面相互を内側とし対
向させ、光記録媒体2枚を貼り合わせるなどの手段を用
いて、両面が記録可能な本発明の光記録媒体とすること
ができる。
A protective sheet can be attached to the outer surface of the substrate layer. Furthermore, the optical recording medium of the present invention capable of recording on both sides can be obtained by using a means such as bonding two optical recording media with the surfaces of the reflective layers facing each other inside.

【0249】保護層面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。
On the side of the protective layer, an ultraviolet-curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed to protect the surface and prevent dust from adhering.

【0250】本発明の光記録媒体において、媒体全体を
保護する目的で、例えば、フロッピー(登録商標)ディ
スクや光磁気ディスクなどに見られるようにディスクを
保護するケース型の保護ユニットを設置しても構わな
い。材質はプラスチックや、アルミニウムなどの金属を
使用することができる。
In the optical recording medium of the present invention, for the purpose of protecting the entire medium, for example, a case-type protection unit for protecting the disk as installed in a floppy (registered trademark) disk or a magneto-optical disk is installed. I don't mind. The material can be plastic or metal such as aluminum.

【0251】基材の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。支持基板の材質
としては、図4に示すように基板11を通じて青紫色レ
ーザーの照射が行われる場合も加味すると、例えば、ア
クリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子材料
やガラス等の無機材料などの透明な材料が利用される。
一方、図5に示す構成のように、基板11’とは逆の光
透過層15’側からレーザー照射が行われる場合、基板
の材質としては光学的諸要件を満たす必要はなく、より
広範な材料から選択することができる。基板に要求され
る機械的特性、また基板生産性の観点からは、アクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の
射出成型或いはキャスト成型可能な材料が好ましい。こ
れらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に成
形してもよい。
Basically, the material of the substrate should be transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. As a material of the supporting substrate, when a case where irradiation with a blue-violet laser is performed through the substrate 11 as shown in FIG. 4 is taken into consideration, for example, a polymer material such as acrylic resin, polyethylene resin, polycarbonate resin, polyolefin resin, or epoxy resin is used. Transparent materials such as inorganic materials such as glass and glass are used.
On the other hand, when the laser irradiation is performed from the side of the light transmission layer 15 'opposite to the substrate 11' as in the configuration shown in FIG. It can be selected from the materials. From the viewpoint of mechanical properties required for substrates and substrate productivity, materials that can be injection-molded or cast-molded such as acrylic resins, polycarbonate resins, and polyolefin resins are preferable. These substrate materials may be molded into a disc-shaped substrate by an injection molding method or the like.

【0252】また、必要に応じて、これらの基板の表層
には、サブミクロンオーダーの案内溝及び/又はプレピ
ットが螺旋状又は同心円上に形成されていても良い。こ
れら案内溝及びプレピットは、基板形成時に付与されて
いるのが好ましく、スタンパー原盤を用いての射出成型
や、フォトポリマーを用いた熱転写法により付与するこ
とができる。尚、図5における光透過層15’に案内溝
及び/又はプレピットを形成しても良く、付与する場合
も同様の方法を適用できる。案内溝のピッチ及び深さ
は、DVDよりも高密度記録を行うHD−DVD−Rの
場合、ピッチとして0.25〜0.80μm、深さとし
て20〜150nmの範囲から選択するのが好ましい。
If necessary, guide grooves and / or prepits of submicron order may be formed spirally or concentrically on the surface layer of these substrates. These guide grooves and prepits are preferably provided at the time of forming the substrate, and can be provided by injection molding using a stamper master or thermal transfer method using a photopolymer. A guide groove and / or a prepit may be formed in the light transmitting layer 15 ′ in FIG. 5, and the same method can be applied to the case where the guide groove and / or the prepit are formed. The pitch and the depth of the guide groove are preferably selected in the range of 0.25 to 0.80 μm as the pitch and 20 to 150 nm as the depth in the case of HD-DVD-R which performs higher density recording than DVD.

【0253】通常、光ディスクとして用いる場合は、厚
さ1.2mm程度、直径80ないし120mm程度の円
盤状であってもよく、中央に直径15mm程度の穴が開
いていても構わない。
Generally, when it is used as an optical disk, it may have a disk shape with a thickness of about 1.2 mm and a diameter of about 80 to 120 mm, and may have a hole with a diameter of about 15 mm at the center.

【0254】ここで、本発明で言う波長300nm〜5
00nm,500〜700nmおよび700〜900n
mのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可視光領
域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや、He−
Neレーザー(633nm)、窒素レーザー(337n
m)等のガスレーザー、波長445nmのヘリウムカド
ミウムレーザー、波長457nmあるいは488nmの
アルゴンレーザー等のイオンレーザー、波長400〜4
10nmのGaN系レーザー、CrドープしたLiSn
AlF6を用いた波長860nmの赤外線レーザーおよ
びその第2高調波430nmを発振するレーザー、波長
820nmの赤外線レーザーおよびその第2高調波41
0nmを発振するレーザー他、波長415、425、6
02、612、635、647、650、660、67
0、680nm等の可視半導体レーザー、780nm、
830nm等の近赤外線半導体レーザー等の半導体レー
ザー、およびそれら第2高調波390nm、415nm
を発振するレーザー他等があげられる。本発明では、上
述の半導体レーザー等を記録または再生を行う記録層の
感応する波長に応じて適宜選択することができる。高密
度記録および再生は各々、上述の該半導体レーザーから
選択される1波長または複数波長において可能となる。
Here, the wavelength of 300 nm to 5 referred to in the present invention.
00 nm, 500-700 nm and 700-900 n
The laser of m is not particularly limited, but for example, a dye laser capable of wavelength selection in a wide range of visible light region or He-
Ne laser (633nm), nitrogen laser (337n)
m) or other gas laser, 445 nm wavelength helium-cadmium laser, 457 nm or 488 nm argon laser or other ion laser, wavelength 400 to 4
10 nm GaN laser, Cr-doped LiSn
Infrared laser with a wavelength of 860 nm and a laser oscillating its second harmonic 430 nm using AlF 6 , infrared laser with a wavelength of 820 nm and its second harmonic 41
Lasers oscillating 0 nm, wavelengths 415, 425, 6
02, 612, 635, 647, 650, 660, 67
0, 680nm visible laser diode, 780nm,
Semiconductor lasers such as near infrared semiconductor lasers such as 830 nm, and their second harmonics 390 nm and 415 nm
Examples include lasers that oscillate. In the present invention, the above-mentioned semiconductor laser or the like can be appropriately selected according to the wavelength to which the recording layer for recording or reproducing is sensitive. High-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from the above semiconductor lasers.

【0255】[0255]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0256】なお、質量分析(FD−MS)は、日本電
子製SX−102Aを使用して測定した。
The mass spectrometry (FD-MS) was measured using SX-102A manufactured by JEOL Ltd.

【0257】合成例1 化合物(1−1)の合成 式(a)の化合物2.23g、式(b)の化合物2.1
3gを1−クロロナフタレンを溶媒として90分間加熱
還流した。不溶な成分を熱濾過して除いた後、濾液を冷
却して析出した固体を濾過し、化合物(1−1)を0.
13g得た。クロロホルム溶媒中での吸収ピーク波長λ
max(およびグラム吸光係数εg)は339.5nm
(96700)、625.5nm(78900)、69
0nm(36600)、712.5nm(3840
0)、781nm(23200)であった。また、質量
分析としてFD−MSを測定した結果、m/z=114
4を得た。
Synthesis Example 1 Synthesis of compound (1-1) 2.23 g of compound of formula (a), compound 2.1 of formula (b)
3 g was heated and refluxed for 90 minutes using 1-chloronaphthalene as a solvent. The insoluble component was removed by hot filtration, the filtrate was cooled, and the precipitated solid was filtered to give compound (1-1) of 0.
13 g was obtained. Absorption peak wavelength λ in chloroform solvent
max (and Gram extinction coefficient εg) is 339.5 nm
(96700), 625.5 nm (78900), 69
0 nm (36600), 712.5 nm (3840)
0) and 781 nm (23200). Moreover, as a result of measuring FD-MS as mass spectrometry, m / z = 114
Got 4.

【0258】[0258]

【化31】 [Chemical 31]

【0259】合成例2 化合物(1−15)の合成 式(c)の化合物3.0g、ユウロピウム(III)アセチ
ルアセトナート二水和物0.95g、1−ペンタノール
80mL、DBU1.55gを窒素気流下、12時間加
熱還流した。溶媒を除去した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分取、乾燥して化合物(1−1
5)を0.74g得た。トルエン溶媒中での吸収ピーク
波長λmax(およびグラム吸光係数εg)は330nm
(54800)、360nm(51400)、470n
m(13900)、613.5nm(23100)、6
78nm(58800)であった。また、質量分析とし
てFD−MSを測定した結果、m/z=2202を得
た。
Synthetic Example 2 3.0 g of the compound of the formula (c) of compound (1-15), 0.95 g of europium (III) acetylacetonate dihydrate, 80 mL of 1-pentanol and 1.55 g of DBU were added to nitrogen. The mixture was heated under reflux for 12 hours under an air stream. After removing the solvent, the compound (1-1) was collected by silica gel column chromatography and dried.
0.74 g of 5) was obtained. Absorption peak wavelength λmax (and Gram extinction coefficient εg) in toluene solvent is 330nm
(54800), 360 nm (51400), 470n
m (13900), 613.5 nm (23100), 6
It was 78 nm (58800). Moreover, as a result of measuring FD-MS as mass spectrometry, m / z = 2202 was obtained.

【0260】[0260]

【化32】 [Chemical 32]

【0261】実施例1 一般式(1)で表される化合物のうち、化合物(1−2
9)0.2gをジメチルシクロヘキサン10mlに溶解
し、色素溶液を調製した。基板は、ポリカーボネート樹
脂製で連続した案内溝(トラックピッチ:0.74μ
m)を有する外径120mmφ、厚さ0.6mmの円盤
状のものを用いた。この基板上に色素溶液を回転速度1
500min-1でスピンコートし、70℃で3時間乾燥
して、記録層を形成した。この記録層上にバルザース社
製スパッタ装置(CDI−900)を用いて銀をスパッ
タし、厚さ100nmの反射層を形成した。スパッタガ
スにはアルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッ
タパワー2.5kW、スパッタガス圧1.33Pa
(1.0×10-2Torr)で行った。
Example 1 Of the compounds represented by the general formula (1), the compound (1-2
9) 0.2 g was dissolved in 10 ml of dimethylcyclohexane to prepare a dye solution. The substrate is made of polycarbonate resin and has continuous guide grooves (track pitch: 0.74μ
A disk-shaped disc having an outer diameter of 120 mmφ and a thickness of 0.6 mm having a thickness of m) was used. The dye solution is spun on this substrate at a rotation speed of 1
The recording layer was formed by spin coating at 500 min −1 and drying at 70 ° C. for 3 hours. Silver was sputtered on the recording layer using a Balzers sputtering device (CDI-900) to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as the sputtering gas. Sputtering conditions are sputtering power 2.5 kW and sputtering gas pressure 1.33 Pa.
(1.0 × 10 -2 Torr).

【0262】さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂「SD
−1700」(大日本インキ化学工業製)をスピンコー
トした後、紫外線照射して厚さ5μmの保護層を形成し
た。更に、保護層の上に紫外線硬化樹脂「SD−30
1」(大日本インキ化学工業製)をスピンコートした
後、前記基板と同様なポリカーボネート樹脂基板をの
せ、紫外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作
製した。
[0262] Furthermore, an ultraviolet curable resin "SD
-1700 "(manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated and then irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 5 μm. Furthermore, an ultraviolet curable resin "SD-30" is provided on the protective layer.
1 "(manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated, a polycarbonate resin substrate similar to the above-mentioned substrate was placed thereon, and the substrate was bonded by irradiating with ultraviolet rays to prepare an optical recording medium.

【0263】以上のようにして記録層が形成された光記
録媒体について、以下のように評価試験を行った。
The optical recording medium having the recording layer formed as described above was evaluated as follows.

【0264】波長403nm、開口数0.65の青色レ
ーザーヘッドを搭載した評価機により記録周波数9.7
MHz、記録レーザーパワー8.5mW、線速9.0m
/s、最短ピット長0.46μmとして記録を行った。
良好にピットが形成され、記録できた。記録後、同評価
装置により、再生レーザーパワー0.6mWにて線速
9.0m/sで再生を行ったところ、ピットを読み取る
ことができた。また、C/N比が高く、優れていた。再
生を繰り返し1000回以上行ったが、ピットを読み取
ることができ、再生光安定性に優れていた。
Recording frequency was 9.7 by an evaluation machine equipped with a blue laser head having a wavelength of 403 nm and a numerical aperture of 0.65.
MHz, recording laser power 8.5 mW, linear velocity 9.0 m
The recording was performed with the / s and the shortest pit length of 0.46 μm.
Pits were well formed and recording was possible. After recording, when the reproduction was performed with the reproduction laser power of 0.6 mW at a linear velocity of 9.0 m / s, the pits could be read. Moreover, the C / N ratio was high, which was excellent. When the reproduction was repeated 1000 times or more, the pits could be read and the reproduction light stability was excellent.

【0265】また、4万ルクスのXe光を当てる耐光性
試験を行った。試験後も、ピットを読み取ることができ
た。
Further, a light resistance test was conducted by applying 40,000 lux of Xe light. The pits could be read even after the test.

【0266】更に湿度85%RH、80℃の雰囲気下で
放置する耐湿熱性試験を行った。試験後もピットを読み
取ることができた。
Further, a moist-heat resistance test was conducted by leaving it in an atmosphere of humidity 85% RH and 80 ° C. The pit could be read after the test.

【0267】実施例2 実施例1に従い作製した光記録媒体に、レーザーパワー
を6.5mWとした以外は実施例1と同様に記録と再生
を行った。良好にピットを形成し、ピットを読み取るこ
とができた。
Example 2 Recording and reproduction were carried out in the same manner as in Example 1 except that the laser power was 6.5 mW on the optical recording medium prepared according to Example 1. The pits were formed well and the pits could be read.

【0268】実施例3 実施例1に従い作製した光記録媒体に、レーザーパワー
を7.5mWとした以外は実施例1と同様に記録と再生
を行った。良好にピットを形成し、ピットを読み取るこ
とができた。
Example 3 Recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 1 except that the laser power was 7.5 mW on the optical recording medium manufactured according to Example 1. The pits were formed well and the pits could be read.

【0269】実施例4 実施例1に従い作製、記録した光記録媒体を評価するに
あたり、0.6mm厚に対応した波長660nm半導体
レーザーヘッドを搭載した評価機を用いて、線速3.5
m/s、レーザーパワー8mWで最短ピット長0.40
mmになるように記録を行った。記録後、同評価装置を用
いて再生を行ったところ、ピットを読み取ることができ
た。また、再生光安定性に優れていた。
Example 4 In evaluating the optical recording medium produced and recorded according to Example 1, a linear velocity of 3.5 was obtained by using an evaluation machine equipped with a semiconductor laser head having a wavelength of 660 nm corresponding to a thickness of 0.6 mm.
Shortest pit length 0.40 at m / s and laser power 8mW
The recording was performed so that it became mm. After recording, when the reproduction was performed using the same evaluation device, the pits could be read. In addition, the reproduction light stability was excellent.

【0270】実施例5 一般式(1)で表される化合物のうち、化合物(1−
1)をポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝(トラ
ックピッチ:0.74μm)を有する外径120mm
φ、厚さ0.6mmの円盤状の基板上に、真空蒸着法に
て厚さ70nmとなるように成膜した。
Example 5 Of the compounds represented by the general formula (1), the compound (1-
1) is made of polycarbonate resin and has an outer diameter of 120 mm with continuous guide grooves (track pitch: 0.74 μm)
A film having a thickness of 70 nm was formed by a vacuum vapor deposition method on a disk-shaped substrate having a diameter of φ and a thickness of 0.6 mm.

【0271】この記録層の上にバルザース社製スパッタ
装置(CDI−900)を用いて銀をスパッタし、厚さ
100nmの反射層を形成した。スパッタガスにはアル
ゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー
2.5kW、スパッタガス圧1.33Pa(1.0×1
-2Torr)で行った。
On this recording layer, silver was sputtered using a sputtering apparatus (CDI-900) manufactured by Balzers Co., Ltd. to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as the sputtering gas. The sputtering conditions are as follows: sputter power 2.5 kW, sputter gas pressure 1.33 Pa (1.0 × 1)
0 -2 Torr).

【0272】さらに、反射層の上に紫外線硬化樹脂「S
D−1700」(大日本インキ化学工業製)をスピンコ
ートした後、紫外線照射して厚さ5μmの保護層を形成
した。更に、保護層の上に紫外線硬化樹脂「SD−30
1」(大日本インキ化学工業製)をスピンコートした
後、前記基板と同様な案内溝のないポリカーボネート樹
脂基板をのせ、紫外線照射して基板を貼り合わせ、光記
録媒体を作製した。
Further, the ultraviolet curable resin "S" is formed on the reflective layer.
D-1700 "(manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated and then irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 5 μm. Furthermore, an ultraviolet curable resin "SD-30" is provided on the protective layer.
1 "(manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was spin-coated, a polycarbonate resin substrate having no guide groove similar to the above-mentioned substrate was placed thereon, and the substrate was bonded by irradiating with ultraviolet rays to prepare an optical recording medium.

【0273】次に、実施例1と同様に記録と再生を行っ
た。良好にピットを形成し、ピットを読み取ることがで
きた。
Then, recording and reproduction were carried out in the same manner as in Example 1. The pits were formed well and the pits could be read.

【0274】実施例6〜71 記録層に化合物(1−2)〜(1−67)を用いること
以外は実施例5と同様にして光記録媒体を作製し、実施
例1と同様に記録と再生を行った。良好にピットを形成
し、ピットを読み取ることができた。また、再生光安定
性に優れていた。
Examples 6 to 71 An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 5 except that the compounds (1-2) to (1-67) were used in the recording layer, and recording was performed in the same manner as in Example 1. Played back. The pits were formed well and the pits could be read. In addition, the reproduction light stability was excellent.

【0275】実施例72〜137 記録層に化合物(1−2)〜(1−67)を用いること
以外は実施例5と同様にして光記録媒体を作製し、実施
例4と同様に記録と再生を行った。良好にピットを形成
し、また、ピットを読み取ることができた。また、再生
光安定性に優れていた。
Examples 72 to 137 Optical recording media were prepared in the same manner as in Example 5 except that the compounds (1-2) to (1-67) were used in the recording layer, and recorded as in Example 4. Played back. The pits were formed well and the pits could be read. In addition, the reproduction light stability was excellent.

【0276】実施例138 ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝(トラックピ
ッチ:1.6μm)を有する外径120mmφ、厚さ
1.2mmの円盤状の基板を作成し、この基板上に、化
合物(1−29)を真空蒸着法にて厚さ70nmとなる
ように成膜した。この記録層上にバルザース社製スパッ
タ装置(CDI−900)を用いて金をスパッタし、厚
さ100nmの反射層を形成した。スパッタガスにはア
ルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワー
2.5kW、スパッタガス圧1.33Pa(1.0×1
-2Torr)で行った。
Example 138 A disc-shaped substrate made of polycarbonate resin having an outer diameter of 120 mmφ and a thickness of 1.2 mm having continuous guide grooves (track pitch: 1.6 μm) was prepared, and the compound (1 -29) was formed into a film having a thickness of 70 nm by a vacuum evaporation method. Gold was sputtered on this recording layer using a Balzers sputtering device (CDI-900) to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as the sputtering gas. The sputtering conditions are as follows: sputter power 2.5 kW, sputter gas pressure 1.33 Pa (1.0 × 1)
0 -2 Torr).

【0277】さらに反射層の上に紫外線硬化樹脂SD−
1700(大日本インキ化学工業製)をスピンコートし
た後、紫外線照射して厚さ6μmの保護層を形成した。
更に、保護層の上に紫外線硬化樹脂SD−301(大日
本インキ化学工業製)をスピンコートした後、前記基板
と同様なポリカーボネート樹脂基板をのせ、紫外線照射
して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製した。
Further, on the reflective layer, an ultraviolet curable resin SD-
After spin-coating 1700 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), it was irradiated with ultraviolet rays to form a protective layer having a thickness of 6 μm.
Further, after UV-curing resin SD-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Incorporated) is spin-coated on the protective layer, a polycarbonate resin substrate similar to the above-mentioned substrate is placed thereon, and the substrate is irradiated with ultraviolet rays to bond the substrates to each other. Was produced.

【0278】この光記録媒体に実施例1と同様に記録と
再生を行った。良好にピットを形成し、また、ピットを
読み取ることができた。また、再生光安定性に優れてい
た。
Recording and reproduction were performed on this optical recording medium in the same manner as in Example 1. The pits were formed well and the pits could be read. In addition, the reproduction light stability was excellent.

【0279】実施例139 実施例138で作製、記録した光記録媒体を評価するに
あたり、1.2mm厚に対応した波長780nmでレン
ズの開口数が0.5の半導体レーザーヘッドを搭載した
評価機を用いて再生したところ、再生できた。また、再
生光安定性に優れていた。
Example 139 In evaluating the optical recording medium manufactured and recorded in Example 138, an evaluation machine equipped with a semiconductor laser head having a wavelength of 780 nm and a lens numerical aperture of 0.5 corresponding to a thickness of 1.2 mm was used. When it was regenerated by using it, it could be regenerated. In addition, the reproduction light stability was excellent.

【0280】実施例140 実施例1および実施例138で得られた光記録媒体につ
き、それぞれ記録面が外側、反射層が内側となるよう、
双方を接着剤で貼り合わせ、両面が記録可能な光記録媒
体を得た。
Example 140 For the optical recording media obtained in Examples 1 and 138, the recording surface was on the outside and the reflective layer was on the inside.
Both were bonded with an adhesive to obtain an optical recording medium capable of recording on both sides.

【0281】実施例1で得た光記録媒体を貼り付けた側
について、実施例1と同様に記録できた。
Recording was performed in the same manner as in Example 1 on the side to which the optical recording medium obtained in Example 1 was attached.

【0282】また、実施例138で得た光記録媒体を貼
り付けた側について、実施例138と同様に記録でき
た。
Recording was performed in the same manner as in Example 138 on the side to which the optical recording medium obtained in Example 138 was attached.

【0283】実施例141 実施例1および実施例138で得られた光記録媒体につ
き、それぞれ記録面が外側、反射層が内側となるよう、
双方を接着剤で貼り合わせ、両面が記録可能な光記録媒
体を得た。
Example 141 For the optical recording media obtained in Examples 1 and 138, the recording surface was on the outside and the reflective layer was on the inside.
Both were bonded with an adhesive to obtain an optical recording medium capable of recording on both sides.

【0284】実施例1で得た光記録媒体を貼り付けた側
について、実施例1と同様に記録できた。また、未記録
部位の記録を実施例4と同様に行い、記録できた。
Recording was performed in the same manner as in Example 1 on the side to which the optical recording medium obtained in Example 1 was attached. In addition, the unrecorded portion was recorded in the same manner as in Example 4 and could be recorded.

【0285】さらに、実施例138で得た光記録媒体を
貼り付けた側について、実施例138と同様に記録でき
た。
Further, on the side to which the optical recording medium obtained in Example 138 was attached, recording could be performed in the same manner as in Example 138.

【0286】比較例1 化合物(1−29)の代わりに、式(d)Comparative Example 1 Instead of the compound (1-29), the compound represented by the formula (d)

【0287】[0287]

【化33】 の化合物を用いた以外は、実施例1と同様にして、光記
録媒体を作製し、実施例1と同様に記録と再生を行っ
た。C/N比が20dB以下と低く再生が困難であっ
た。
[Chemical 33] An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Example 1 was used, and recording and reproduction were performed in the same manner as in Example 1. The C / N ratio was as low as 20 dB or less, and reproduction was difficult.

【0288】実施例1〜141に記載されるように、本
発明の光記録媒体は、青色レーザー波長領域、赤色レー
ザー波長領域ならびに近赤外線レーザー波長領域のいず
れにおいても、記録再生が可能であり、また、再生光安
定性、耐光性および耐湿熱性に優れている。
As described in Examples 1-141, the optical recording medium of the present invention is capable of recording / reproducing in any of the blue laser wavelength region, the red laser wavelength region and the near infrared laser wavelength region, Further, it is excellent in reproduction light stability, light resistance and wet heat resistance.

【0289】このことから、本発明で規定する構造の化
合物を含有する記録層は、波長300〜500nmおよ
び/または500〜700nmおよび/または700〜
900nmから選択されるレーザー光による信号記録が
可能であり、本発明の光記録媒体は波長300〜500
nmおよび/または500〜700nmおよび/または
700〜900nmから選択されるレーザー光を記録再
生に用いる光記録媒体に用いることができる。
From this, the recording layer containing the compound having the structure defined in the present invention has a wavelength of 300 to 500 nm and / or 500 to 700 nm and / or 700 to
Signal recording is possible with a laser beam selected from 900 nm, and the optical recording medium of the present invention has a wavelength of 300 to 500.
nm and / or laser light selected from 500 to 700 nm and / or 700 to 900 nm can be used for an optical recording medium used for recording and reproduction.

【0290】[0290]

【発明の効果】本発明によれば、本発明のアザポルフィ
リン系化合物を記録層として用いることにより、高密度
光記録媒体として非常に注目されている波長300〜5
00nmレーザー、特に波長400〜410nm青紫色
レーザーでの記録および再生、ならびに映画等2時間以
上の動画の録画用に用いられる波長500〜700nm
での記録および再生、ならびにCDプレーヤー、CD−
ROMプレーヤーと互換性を有する波長700〜900
nmでの記録および再生が可能な追記型光記録媒体を提
供することが可能となる。
According to the present invention, by using the azaporphyrin compound of the present invention as a recording layer, wavelengths of 300 to 5 which are very noticeable as a high density optical recording medium.
A wavelength of 500 to 700 nm used for recording and reproduction with a 00 nm laser, particularly a blue-violet laser having a wavelength of 400 to 410 nm, and recording a moving image such as a movie for 2 hours or more.
Recording and playback with CD player, CD-
Wavelength 700-900 compatible with ROM player
It is possible to provide a write-once type optical recording medium capable of recording and reproducing at nm.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光記録媒体の一構成例を示す模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of an optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体の他の一構成例を示す模式
図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing another configuration example of the optical recording medium of the present invention.

【図3】本発明の光記録媒体の更に他の一構成例を示す
模式図である。
FIG. 3 is a schematic view showing still another configuration example of the optical recording medium of the present invention.

【図4】本発明の光記録媒体の他の一構成例を示す模式
図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing another configuration example of the optical recording medium of the present invention.

【図5】本発明の光記録媒体の更に他の一構成例を示す
模式図である。
FIG. 5 is a schematic view showing still another configuration example of the optical recording medium of the present invention.

【図6】本発明の課題を説明する概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating a problem of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 :基板 2 :記録層 3 :反射層 4 :保護層 5 :接着層 11 :基板 12 :記録層 13 :反射層 14 :保護層 15 :ダミー基板層 11’:支持基板 12’:記録層 13’:反射層 14’:透明保護層 15’:光透過層 1: Substrate 2: Recording layer 3: Reflective layer 4: Protective layer 5: Adhesive layer 11: substrate 12: recording layer 13: reflective layer 14: protective layer 15: Dummy substrate layer 11 ': support substrate 12 ': recording layer 13 ': reflective layer 14 ': transparent protective layer 15 ': light transmitting layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09B 47/24 C09B 47/26 47/26 G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 522A 522 B41M 5/26 Y (72)発明者 斉藤 靖典 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 小木曽 章 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 小池 正士 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 EA48 FB45 5D029 JA04 JB47 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C09B 47/24 C09B 47/26 47/26 G11B 7/24 516 G11B 7/24 516 522A 522 B41M 5/26 Y (72) Inventor Yasunori Saito, Mitsui Chemicals Co., Ltd. 580-32, Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture (72) Inventor Akira Ogiso Akira 580-32, Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture (72) Inventor, Masashi Koike Mitsui Chemicals Co., Ltd. 580-32, Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture (72) Inventor Denmi Misawa 580-32, Nagaura, Sodegaura, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals Co., Ltd. F-term (reference) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 EA48 FB45 5D029 JA04 JB47

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1個の中心金属に2つのアザポルフィリ
ン環が配位するアザポルフィリン系化合物であって、か
つ、該化合物のすべてのピロール環に、ヘテロ原子を有
しても良い縮合芳香族環が形成された化合物より、少な
くとも1種の化合物を選択して記録層に含有する光記録
媒体。
1. An azaporphyrin-based compound in which two azaporphyrin rings are coordinated to one central metal, and a condensed aromatic group which may have a hetero atom in all pyrrole rings of the compound. An optical recording medium in which at least one compound is selected from the ring-formed compounds and contained in the recording layer.
【請求項2】 基板上に記録層として有機色素層を有す
る光記録媒体において、該有機色素層中に、1個の中心
金属に2つのアザポルフィリン環が配位するアザポルフ
ィリン系化合物であって、かつ、該化合物のすべてのピ
ロール環に、ヘテロ原子を有しても良い縮合芳香族環が
形成された化合物より少なくとも1種の化合物を選択し
て含有する請求項1に記載の光記録媒体。
2. An optical recording medium having an organic dye layer as a recording layer on a substrate, which is an azaporphyrin compound in which two azaporphyrin rings are coordinated to one central metal in the organic dye layer. The optical recording medium according to claim 1, further comprising at least one compound selected from compounds in which a condensed aromatic ring which may have a hetero atom is formed in all pyrrole rings of the compound. .
【請求項3】 アザポルフィリン系化合物が一般式
(0)で表される請求項1または2に記載の光記録媒
体。 【化1】 〔式中、環A、B、C、D、A'、B'、C'、D'はそれ
ぞれ独立してピロール環の2つのβ位に形成された縮合
芳香族環を表し、置換基を有していてもよい。Mは3価
の金属原子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子
を表す。環A、B、C、Dの各環の各置換基は連結基を
介して環A、B、C、Dの各環の各置換基および/また
は環A'、B'、C'、D'の各環の各置換基とそれぞれ結
合していてもよい。〕
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the azaporphyrin compound is represented by the general formula (0). [Chemical 1] [In the formula, rings A, B, C, D, A ′, B ′, C ′ and D ′ each independently represent a condensed aromatic ring formed at two β-positions of a pyrrole ring, and a substituent is You may have. M represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. Each substituent of each ring of rings A, B, C, D is a substituent of each ring of rings A, B, C, D and / or rings A ′, B ′, C ′, D via a linking group. It may be bonded to each substituent of each ring of '. ]
【請求項4】 アザポルフィリン系化合物が一般式
(1)で表される請求項1または2に記載の光記録媒
体。 【化2】 〔式中、E1〜E32はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミ
ノ基、メルカプト基、カルボキシル基、置換または無置
換の炭化水素基、置換または無置換のオキシ残基、置換
アミノ基、置換または無置換のチオ残基、置換又は無置
換のカルボニル残基または置換または無置換の複素環基
を表し、E1〜E32は同一アザポルフィリン環または対
面のアザポルフィリン環の各置換基と連結基を介して、
それぞれ併せて結合していてもよく、M1は3価の金属
原子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子を表
す。〕
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the azaporphyrin compound is represented by the general formula (1). [Chemical 2] [Wherein, E 1 to E 32 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. A substituted oxy residue, a substituted amino group, a substituted or unsubstituted thio residue, a substituted or unsubstituted carbonyl residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and E 1 to E 32 are the same azaporphyrin ring or Via each substituent and connecting group of the facing azaporphyrin ring,
They may be combined together, and M 1 represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. ]
【請求項5】 波長300nm〜500nmおよび/ま
たは500nm〜700nmおよび/または700nm
〜900nmの範囲から選択されるレーザー光に対して
記録および再生が可能である請求項1乃至4のいずれか
1項に記載の光記録媒体。
5. Wavelengths of 300 nm to 500 nm and / or 500 nm to 700 nm and / or 700 nm
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4, which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from a range of to 900 nm.
【請求項6】 波長390nm〜500nmおよび/ま
たは600nm〜700nmおよび/または750nm
〜850nmの範囲から選択されるレーザー光に対して
記録および再生が可能である請求項5に記載の光記録媒
体。
6. A wavelength of 390 nm to 500 nm and / or 600 nm to 700 nm and / or 750 nm.
The optical recording medium according to claim 5, which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of 850 nm.
【請求項7】 波長400nm〜410nmおよび/ま
たは630nm〜690nmおよび/または770nm
〜840nmの範囲から選択されるレーザー光に対して
記録および再生が可能である請求項6に記載の光記録媒
体。
7. A wavelength of 400 nm to 410 nm and / or 630 nm to 690 nm and / or 770 nm.
The optical recording medium according to claim 6, which is capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from the range of ˜840 nm.
【請求項8】 下記一般式(1)で表されるアザポルフ
ィリン系化合物。 【化3】 〔式中、E1〜E32はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アミ
ノ基、メルカプト基、カルボキシル基、置換または無置
換の炭化水素基、置換または無置換のオキシ残基、置換
アミノ基、置換または無置換のチオ残基、置換又は無置
換のカルボニル残基または置換または無置換の複素環基
を表し、E1〜E32は同一アザポルフィリン環または対
面のアザポルフィリン環の各置換基と連結基を介して、
それぞれ併せて結合していてもよく、M1は3価の金属
原子と1個の水素原子、あるいは4価の金属原子を表
す。〕
8. An azaporphyrin compound represented by the following general formula (1). [Chemical 3] [Wherein, E 1 to E 32 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group. A substituted oxy residue, a substituted amino group, a substituted or unsubstituted thio residue, a substituted or unsubstituted carbonyl residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and E 1 to E 32 are the same azaporphyrin ring or Via each substituent and connecting group of the facing azaporphyrin ring,
They may be combined together, and M 1 represents a trivalent metal atom and one hydrogen atom, or a tetravalent metal atom. ]
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