JP2003210934A - Equipment for exhaust-gas treatment - Google Patents

Equipment for exhaust-gas treatment

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JP2003210934A
JP2003210934A JP2002014584A JP2002014584A JP2003210934A JP 2003210934 A JP2003210934 A JP 2003210934A JP 2002014584 A JP2002014584 A JP 2002014584A JP 2002014584 A JP2002014584 A JP 2002014584A JP 2003210934 A JP2003210934 A JP 2003210934A
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JP
Japan
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concentration
exhaust gas
hcl
chemical
gas treatment
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Application number
JP2002014584A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Ono
高 小野
Masutoshi Numata
益利 沼田
Koji Namesawa
幸司 滑澤
Akizo Miura
秋三 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide equipment which can restrain discharge of SO<SB>2</SB>. <P>SOLUTION: Concentrations of SO<SB>2</SB>and HCl are measured respectively by an SO<SB>2</SB>-measuring instrument (11) and an HCl-measuring instrument (12) in the downstream of a bag filter (10). If the measured value is found to be higher than a predetermined value in either side of the instruments, the amount of chemical-supply is increased by controlling powder-supply equipment (8) of a chemical-storage tank (7). If the concentrations of both of SO<SB>2</SB>and HCl are found to be lower than the predetermined value, the amount of chemical-supply is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス処理装置に
関し、特には薬品を投入して排ガスの特定成分の濃度を
低減せしめる排ガス処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas treatment device, and more particularly to an exhaust gas treatment device for introducing chemicals to reduce the concentration of specific components of exhaust gas.

【0002】[0002]

【従来の技術】ゴミ焼却炉等から発生する排ガスを処理
する排ガス処理装置として排ガス流路の途中にバグフィ
ルタを配設しその上流側において薬品、特に消石灰、を
投入して特定成分のガス、HClとSOの排出を抑制
するものがある。ここで、従来は、SOよりもHCl
の方が多く排出されていたので、バグフィルタ下流のH
Clの濃度を検出して、このHClの濃度にもとづいて
薬品の供給量を制御していた。
2. Description of the Related Art As an exhaust gas treating apparatus for treating exhaust gas generated from a refuse incinerator or the like, a bag filter is disposed in the middle of an exhaust gas flow path, and a chemical, particularly slaked lime, is charged on the upstream side of the bag filter to supply a gas of a specific component, Some suppress the emission of HCl and SO 2 . Here, conventionally, HCl is used rather than SO 2.
More was discharged, so H in the downstream of the bag filter
The Cl concentration was detected, and the chemical supply amount was controlled based on the HCl concentration.

【0003】しかしながら、昨今では排出されるゴミの
質が変わり、例えば、廃タイヤの増加等によって、むし
ろHClよりもSOの方が多く排出されることが多く
なってきている。この状況において、従来のようにHC
lの濃度にもとづいて薬品の供給量を制御するとSO
の排出濃度が低下しない。SOの排出濃度が高いと集
塵機の後流側にある脱硝設備の触媒が損傷する可能性が
あった。
However, in recent years, the quality of the discharged dust has changed, and due to an increase in the number of waste tires, for example, SO 2 is more often discharged than HCl. In this situation, HC
By controlling the supply amount of the drug based on the concentration of l SO 2
The emission concentration of does not decrease. If the emission concentration of SO 2 is high, the catalyst of the denitration equipment on the downstream side of the dust collector may be damaged.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題に
鑑み、SOが高い濃度で排出しない排ガス処理装置を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an exhaust gas treatment device which does not emit SO 2 at a high concentration.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明によれ
ば、排ガスを通過せしめるバグフィルタを有し、該バグ
フィルタ上流側に一つの薬品を供給し、該一つの薬品に
より排ガス中のSOおよびHClの濃度を減少せしめ
る排ガス処理装置であって、バグフィルタ下流側で排ガ
ス中のSO濃度を計測し、計測されたSO濃度に基
づき薬品の供給量を増減することを特徴とする排ガス処
理装置が提供される。このように構成された排ガス処理
装置では、排ガス中のSO濃度を計測し、計測された
SO濃度に応じて薬品の供給量を増減するのでSO
濃度が高い濃度で排出されることはない。
According to the invention of claim 1, there is provided a bag filter for allowing the exhaust gas to pass therethrough, one chemical is supplied to the upstream side of the bag filter, and the SO in the exhaust gas is supplied by the one chemical. An exhaust gas treatment device for reducing the concentrations of 2 and HCl, characterized in that the SO 2 concentration in the exhaust gas is measured on the downstream side of the bag filter, and the chemical supply amount is increased or decreased based on the measured SO 2 concentration. An exhaust gas treatment device is provided. In the thus constructed exhaust gas treatment apparatus to measure the SO 2 concentration in the exhaust gas, since increasing or decreasing the supply amount of chemicals in accordance with the SO 2 concentration measured SO 2
High concentrations will not be emitted.

【0006】請求項2の発明によれば、請求項1の発明
において、さらに、バグフィルタ下流側で排ガス中のH
Cl濃度を計測し、計測されたSO濃度とHCl濃度
の、いずれか一方でも、所定値を上回った時には、薬品
の供給量を増大するようにした排ガス処理装置が提供さ
れる。このように構成された排ガス処理装置では、SO
濃度のみならずHCl濃度も計測され、いずれか一方
でも所定値を上回ると薬品の供給量が増大されるので、
SOが所定値を上回った時、HClが所定値を上回っ
た時、SOとHClの両方共に所定値を上回った時に
薬品の供給量が増大され、SOとHClは、いずれ
も、高い濃度で排出されることがない。
According to the invention of claim 2, in the invention of claim 1, the H in the exhaust gas is further provided downstream of the bag filter.
Provided is an exhaust gas treatment device which measures a Cl concentration and increases the supply amount of a chemical when either one of the measured SO 2 concentration and the measured HCl concentration exceeds a predetermined value. In the exhaust gas treatment device configured as described above, the SO
Not only the concentration of 2 but also the concentration of HCl is measured, and if either of them exceeds the predetermined value, the supply amount of the chemical is increased.
When SO 2 exceeds a predetermined value, when HCl exceeds a predetermined value, and when both SO 2 and HCl both exceed a predetermined value, the chemical supply amount is increased, and SO 2 and HCl are both high. It is not emitted in concentration.

【0007】請求項3の発明によれば、請求項2の発明
において、計測されたSO濃度とHCl濃度の、両方
が共に、前記所定値を下回った時に薬品の供給量を減少
するようにした排ガス処理装置が提供される。このよう
に構成された排ガス処理装置では、SO濃度とHCl
濃度のいずれか一方でも所定値を上回っている間は薬品
の供給量は減少されず、両方ともに所定値を下回ったと
きに薬品の供給量が減少され、薬品の減少が過度におこ
なわれることが防止される。
According to the invention of claim 3, in the invention of claim 2, the supply amount of the chemical is reduced when both of the measured SO 2 concentration and HCl concentration fall below the predetermined value. An exhaust gas treatment device is provided. In the exhaust gas treating apparatus configured as above, the SO 2 concentration and the HCl
If either one of the concentrations exceeds the prescribed value, the supply amount of the drug is not reduced, and if both of them fall below the prescribed value, the supply amount of the drug is reduced, resulting in excessive reduction of the drug. To be prevented.

【0008】請求項4の発明によれば、請求項2または
3の発明において、薬品の供給量の増減は、計測したS
濃度とHCl濃度と前記所定値との偏差に比例して
おこなうようにされ、計測した濃度が大きく所定値を上
回った、あるいは、下回った場合には薬品は大きく増
量、あるいは、減量され、少ししか所定値を上回って、
あるいは、下回っていない場合には薬品は少しだけ増
量、あるいは、減量される。
According to the invention of claim 4, in the invention of claim 2 or 3, the increase / decrease in the amount of supply of the medicine is measured S
O 2 is the concentration and HCl concentration as performed in proportion to the deviation between the predetermined value, the measured concentration exceeds a large predetermined value, or when it falls below the chemicals large increase, or is reduced, A little over the specified value,
Alternatively, if it is not lower, the amount of the drug is slightly increased or decreased.

【0009】請求項5の発明によれば、請求項4の発明
において、薬品を増量させる時にはSO濃度とHCl
濃度の前記所定値との偏差の内の大きい方に比例してお
こない、薬品を減少させる時にはSO濃度とHCl濃
度の前記所定値との偏差の内の小さい方に比例しておこ
なうようにされ、SO濃度とHCl濃度のいずれも高
い濃度で排出されることが防止され、また、薬品の急な
減量によるハンチングも防止される。
According to the invention of claim 5, in the invention of claim 4, when the amount of the chemical is increased, the concentration of SO 2 and HCl are increased.
It is performed in proportion to the larger of the deviations of the concentration from the predetermined value, and when reducing the chemicals, it is performed in proportion to the smaller of the deviations of the SO 2 concentration and the HCl concentration from the predetermined value. , SO 2 concentration and HCl concentration are prevented from being discharged at a high concentration, and hunting due to a sudden decrease in the amount of chemicals is also prevented.

【0010】請求項6の発明によれば、請求項1から5
に記載の排ガス処理装置薬品の増減に利用するSO
度とHCl濃度は瞬時値とされ、変化に敏速に対応でき
る。
According to the invention of claim 6, claims 1 to 5
The concentration of SO 2 and the concentration of HCl used for increasing or decreasing the amount of chemicals in the exhaust gas treatment device described in (3) are instantaneous values, and changes can be promptly dealt with.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して本発
明の実施の形態を説明するが、初めに各実施の形態に共
通のハード構成について説明をする。図1が本発明によ
る排ガス処理装置の構成を概略的に示す図であって、図
示しない焼却炉から排出された排ガスは先ず減温塔1に
導かれ、減温塔1で温度降下される。減温塔1で温度降
下された排ガスは第1ダクト21を介してバグフィルタ
室2に導かれ、バグフィルタ室2内に配設されたバグフ
ィルタ10を通過せしめられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, a hardware configuration common to each embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an exhaust gas treating apparatus according to the present invention. Exhaust gas discharged from an incinerator (not shown) is first introduced into a temperature reducing tower 1 and its temperature is lowered. The exhaust gas whose temperature has been lowered in the temperature reducing tower 1 is guided to the bag filter chamber 2 via the first duct 21 and passed through the bag filter 10 arranged in the bag filter chamber 2.

【0012】バグフィルタ室2内のバグフィルタ10を
通過した排ガスは第2ダクト22によりガス再加熱器3
に送られ、ガス再加熱器3で再加熱されてから脱硝反応
塔4に導かれ、脱硝反応塔4で脱硝されてから、誘引フ
ァン5により煙突6に導かれ、煙突6の上端から排出さ
れる。そして、第1ダクト21の途中には薬品貯留槽7
からアルカリ剤、具体的には消石灰が粉体供給装置9に
て供給量を調整され薬品送給ブロワ8により薬品送給パ
イプ24を介して送給されるようになっている。
The exhaust gas passing through the bag filter 10 in the bag filter chamber 2 is introduced into the gas reheater 3 by the second duct 22.
To the denitration reaction tower 4 after being reheated by the gas reheater 3 and denitration in the denitration reaction tower 4, and then guided to the chimney 6 by the induction fan 5 and discharged from the upper end of the chimney 6. It Then, in the middle of the first duct 21, the chemical storage tank 7
The alkaline agent, specifically slaked lime, is supplied by the powder supply device 9 with its supply amount adjusted, and is supplied by the chemical supply blower 8 through the chemical supply pipe 24.

【0013】一方、第2ダクト22の途中には排ガス採
取管23が取り付けられこの排ガス採取管23で採取し
た排ガスの一部が、SO計測装置11とHCl計測装
置12とに導かれそれぞれにおいて排ガス中のSO
度とHCl濃度が計測される。SO計測装置11とH
Cl計測装置12との計測結果は制御回路13に送られ
る。制御回路13はSO計測装置11とHCl計測装
置12の計測したSO 濃度とHCl濃度にもとづき、
薬品貯留槽7に付設された薬品送給パイプ24によって
搬送される薬品(消石灰など)の供給量を粉体供給装置
9にて制御する。
On the other hand, exhaust gas is collected in the middle of the second duct 22.
The exhaust pipe 23 is attached and the exhaust gas sampling pipe 23 collects
Part of the exhaust gas is SOTwoMeasuring device 11 and HCl measuring device
And the SO in the exhaust gasTwoDark
And the HCl concentration is measured. SOTwoMeasuring device 11 and H
The measurement result with the Cl measuring device 12 is sent to the control circuit 13.
It The control circuit 13 is SOTwoMeasuring device 11 and HCl measuring device
SO measured by device 12 TwoBased on the concentration and HCl concentration,
By the chemical supply pipe 24 attached to the chemical storage tank 7.
The powder supply device determines the supply amount of chemicals (slaked lime, etc.) to be conveyed.
Controlled by 9.

【0014】以下、上記のようなハード構成でおこなわ
れる各実施の形態について説明するが、初めに従来のや
り方を説明する。図2に示すのが従来の方法であって、
HClについて濃度計測をおこない、計測値Hの瞬間値
Hiから或時間の間の平均値Hmを計算し、その値が設
定値Htを超えなければ消石灰供給量Mは増量しないと
いうものである。したがって、実際には計測されない
が、仮にSOの同様な平均値Smが設定値Stを超え
ていても消石灰供給量Mは増量されず一定にされ、SO
の増大を抑制できないということになる。
Each of the embodiments having the above-described hardware configuration will be described below. First, the conventional method will be described. The conventional method is shown in FIG.
The concentration of HCl is measured, the average value Hm of the measured value H for a certain period of time is calculated, and if the value does not exceed the set value Ht, the supply amount M of slaked lime is not increased. Therefore, although it is not actually measured, even if the similar average value Sm of SO 2 exceeds the set value St, the slaked lime supply amount M is not increased and is made constant.
This means that the increase of 2 cannot be suppressed.

【0015】そこで、図3に示す本発明の第1の実施の
形態においては、HClの濃度計測に加えて、SO
濃度計測をおこない、HClについては計測値Hの平均
値Hmが設定値Htを超えていなくても、SOの計測
値Sの平均値Smが設定値Stよりも大きくなったら消
石灰供給量Mを所定量ΔMづつ増量していく、このよう
にすることにより、SOの増大を抑制することができ
る。なお、設定値Stよりも小さくなったらΔMづつ減
量していく。なお、消石灰供給量Mの増量、減量は図1
における薬品貯留槽7に付設された薬品送給パイプ24
によって搬送される薬品(消石灰など)の供給量を粉体
供給装置9にて制御しておこなう。
Therefore, in the first embodiment of the present invention shown in FIG. 3, the concentration of SO 2 is measured in addition to the concentration of HCl, and the average value Hm of the measured values H is set to the set value for HCl. Even if it does not exceed Ht, when the average value Sm of the measured values S of SO 2 becomes larger than the set value St, the slaked lime supply amount M is increased by a predetermined amount ΔM. By doing so, SO 2 Can be suppressed. When the value becomes smaller than the set value St, the amount is decreased by ΔM. The increase and decrease of the slaked lime supply amount M is shown in FIG.
Chemical supply pipe 24 attached to the chemical storage tank 7 in
The amount of chemicals (slaked lime, etc.) to be conveyed is controlled by the powder supply device 9.

【0016】なお、図示はしないが、逆に、HClの計
測値Hの平均値Hmが設定値Htを超え、SOの計測
値Sの平均値Smが設定値Stを超えていない場合も消
石灰供給量Mは増大される。
Although not shown, conversely, slaked lime is also used when the average value Hm of the measured values H of HCl exceeds the set value Ht and the average value Sm of the measured values S of SO 2 does not exceed the set value St. The supply M is increased.

【0017】図4に示すのが、この第1の実施の形態の
制御のフローチャートであって、ステップ41でSO
またはHClの濃度の平均値が設定値を超えたか否かを
判定し、肯定判定された場合は、ステップ42に進んで
消石灰供給量MをΔMだけ増大してからステップ45に
進みリターンする。
[0017] that 4, a flowchart of a control of the first embodiment, SO 2 at Step 41
Alternatively, it is determined whether or not the average value of the concentration of HCl exceeds the set value, and when the determination is affirmative, the routine proceeds to step 42, where the slaked lime supply amount M is increased by ΔM, and then the routine proceeds to step 45 and returns.

【0018】一方、否定判定された場合は、ステップ4
3でSOおよびHClの濃度の平均値が設定値を下回
ったか否かを判定し、肯定判定された場合はステップ4
4に進んで消石灰供給量MをΔMだけ減少してからステ
ップ45に進みリターンし、否定判定された場合は濃度
の平均値が設定値に一致している場合であるので何もせ
ずにステップ45に進んでリターンする。
On the other hand, if the determination is negative, step 4
In 3, it is determined whether or not the average value of the concentrations of SO 2 and HCl is below the set value, and if a positive determination is made, step 4
4, the slaked lime supply amount M is reduced by ΔM, and then the routine proceeds to step 45 and returns. If a negative determination is made, it means that the average value of the concentrations is equal to the set value. Proceed to and return.

【0019】次に、第2の実施の形態について説明す
る。上記の第1の実施の形態では、従来技術と同様に計
測したSOまたはHClの濃度の平均値を求めて、そ
の平均値が設定値を超えた場合に消石灰の増量をおこな
っている。したがって、瞬間的に設定値を超えた場合は
対応できず、また、対応が遅いという問題もある。そこ
で、この第2の実施の形態では、平均値ではなく瞬間値
を設定値と比較する。
Next, a second embodiment will be described. In the above-described first embodiment, the average value of the concentration of SO 2 or HCl measured as in the prior art is obtained, and when the average value exceeds the set value, the amount of slaked lime is increased. Therefore, there is a problem that if the set value is momentarily exceeded, it cannot be dealt with, and that the response is slow. Therefore, in the second embodiment, not the average value but the instantaneous value is compared with the set value.

【0020】図5がこの第2の実施の形態の制御を説明
する図である。図5を参照するとSOとHClの濃度
の瞬間値Si、Hiがいずれもある時間の間、それぞ
れ、設定値St、Htを超えるが、SOの濃度の瞬間
値Siが設定値Stを超える時期の方がHClの濃度の
瞬間値Hiが設定値Htを超える時期よりも早いので、
SOの濃度の瞬間値Siが設定値Stを超えた時から
消石灰の増量を始める。
FIG. 5 is a diagram for explaining the control of the second embodiment. Referring to FIG. 5, the instantaneous values Si and Hi of the concentrations of SO 2 and HCl exceed the set values St and Ht, respectively, for a certain time, but the instantaneous values Si of the concentration of SO 2 exceed the set value St. Since the time is earlier than the time when the instantaneous value Hi of the HCl concentration exceeds the set value Ht,
When the instantaneous value Si of the concentration of SO 2 exceeds the set value St, the amount of slaked lime is increased.

【0021】一方、HClの濃度の瞬間値Hiが設定値
Htを下回る時期の方がSOの濃度の瞬間値Siが設
定値Stを下回る時期よりも遅いので、HClの濃度の
瞬間値Hiが設定値Htを下回った時から消石灰の減量
を始める。
On the other hand, since the moment when the instantaneous value Hi of the concentration of HCl falls below the set value Ht is later than the moment when the instantaneous value Si of the concentration of SO 2 falls below the set value St, the instantaneous value Hi of the concentration of HCl becomes high. When the value falls below the set value Ht, the amount of slaked lime is reduced.

【0022】図6がこの第2の実施の形態の制御のフロ
ーチャートであるが、図4に示した第1の実施の形態の
フローチャートに対して、SmがSiに、HmがHi
に、変わり、ステップ61でSOまたはHClの濃度
の瞬間値SiまたはHiが設定値StまたはHtを超え
たか否かを判定し、肯定判定された場合は、ステップ6
2に進んで消石灰供給量MをΔMだけ増大してからステ
ップ65に進みリターンする。
FIG. 6 is a flowchart of the control of the second embodiment. In contrast to the flowchart of the first embodiment shown in FIG. 4, Sm is Si and Hm is Hi.
In step 61, it is determined whether or not the instantaneous value Si or Hi of the concentration of SO 2 or HCl exceeds the set value St or Ht, and if the determination is affirmative, step 6
The routine proceeds to step 2, where the slaked lime supply amount M is increased by ΔM, and then the routine proceeds to step 65 and returns.

【0023】一方、否定判定された場合は、ステップ6
3でSOおよびHClの濃度の瞬間値SiおよびHi
が設定値StおよびHtを下回ったか否かを判定し、肯
定判定された場合はステップ64に進んで消石灰供給量
MをΔMだけ減少してからステップ65に進みリターン
し、否定判定された場合は濃度の平均値が設定値に一致
している場合であるので何もせずにステップ65に進ん
でリターンする。
On the other hand, if a negative decision is made, step 6
Instantaneous values of SO 2 and HCl concentrations at 3 and Si
Is below the set values St and Ht, and when a positive determination is made, the routine proceeds to step 64, where the slaked lime supply amount M is reduced by ΔM, and then the routine proceeds to step 65 and returns, and when a negative determination is made. Since this is the case where the average value of the densities matches the set value, the process proceeds to step 65 without doing anything and returns.

【0024】次に、第3の実施の形態について説明す
る。これは、第1、第2の実施の形態では、消石灰供給
量Mの増減が、従来技術と同様に一定量のΔMづつおこ
なわれているのでSOあるいはHClが急に変化した
場合に対応が遅れてしまうので、設定値に対する偏差に
応じて消石灰供給量を変化させるものである。
Next, a third embodiment will be described. This is because in the first and second embodiments, the slaked lime supply amount M is increased / decreased by a constant amount ΔM as in the conventional technique, and therefore, it is possible to cope with a sudden change in SO 2 or HCl. Since it is delayed, the slaked lime supply amount is changed according to the deviation from the set value.

【0025】図7が、第3の実施の形態の制御を説明す
る図であって、SOが設定値を超えた場合にその偏差
Si−Stを計算し、この偏差に予め定めた係数k1を
乗じたものをMの増量分とする。すなわち、M=M+k
1×(Si−St)とする。もし、HClが設定値を超
え、その偏差Hi−HtがDVSよりも大きければM=
M+k1×(Hi−Ht)とする。このように、増量分
を決定するに際しては偏差の大きい方を使用する。
FIG. 7 is a diagram for explaining the control of the third embodiment, in which the deviation Si-St is calculated when SO 2 exceeds a set value, and a coefficient k1 predetermined for this deviation is calculated. Multiply by and increase the amount of M. That is, M = M + k
1 × (Si-St). If HCl exceeds the set value and the deviation Hi-Ht is larger than DVS, M =
Let M + k1 × (Hi−Ht). Thus, when determining the amount of increase, the one with the larger deviation is used.

【0026】一方、消石灰を減らしていく時には、この
場合は、HClの設定値Htを下回った時の偏差Hi−
Ht(負の値)に予め定めた係数k2を乗じたもの、す
なわちk2×(Hi−Ht)をMの減量分とし、M=M
+k2×(Hi−Ht)とする。もし、SO2が設定値
を下回ったときの偏差Si−St(負の値)が上記のD
VHよりも大きければ(絶対値が小さければ)M=M+
k2×(Si−St)とする。このように、減量分を決
定するに際しては偏差の小さい方を使用する。
On the other hand, when reducing the amount of slaked lime, in this case, the deviation Hi- when the value is below the set value Ht of HCl.
Ht (negative value) multiplied by a predetermined coefficient k2, that is, k2 × (Hi-Ht) is used as the decrement of M, and M = M
+ K2 × (Hi-Ht). If SO2 is below the set value, the deviation Si-St (negative value) is the above D
If larger than VH (small absolute value), M = M +
Let k2 × (Si-St). Thus, when determining the amount of weight reduction, the one with the smaller deviation is used.

【0027】図8が上記の第3の実施の形態の制御のフ
ローチャートであって、ステップ81では第2の実施の
形態に関して説明した図6のフローチャートのステップ
61と同様に、SOまたはHClの濃度の瞬間値Si
またはHiが設定値StまたはHtを超えたか否かを判
定し、肯定判定された場合は、ステップ82に進む。
FIG. 8 is a control flowchart of the third embodiment. In step 81, as in step 61 of the flow chart of FIG. 6 described with reference to the second embodiment, SO 2 or HCl Instantaneous concentration Si
Alternatively, it is determined whether or not Hi exceeds the set value St or Ht, and if a positive determination is made, the process proceeds to step 82.

【0028】ステップ82では、SOの設定値に対す
る偏差Si−StがHClの設定値に対する偏差Hi−
Htより大きいか否かを判定する。ステップ82で肯定
判定された場合には、ステップ83に進み、k1×(S
i−St)だけ消石灰供給量Mを増大してからステップ
89に進みリターンする。ステップ82で否定判定され
た場合には、ステップ84に進み、k1×(Hi−H
t)だけ消石灰供給量Mを増大してからステップ89に
進みリターンする。なお、偏差Si−Stと偏差Hi−
Htが等しい場合は予め肯定判定か否定判定にするかを
決めておきそのフローにしたがうようにする。この場合
は肯定判定するようにしてある。
In step 82, the deviation Si-St with respect to the set value of SO 2 is the deviation Hi- with respect to the set value of HCl.
It is determined whether or not it is larger than Ht. If an affirmative decision is made in step 82, the routine proceeds to step 83, where k1 × (S
After increasing the slaked lime supply amount M by i-St), the routine proceeds to step 89 and returns. When a negative determination is made in step 82, the process proceeds to step 84 and k1 × (Hi-H
After the slaked lime supply amount M is increased by t), the process proceeds to step 89 and returns. The deviation Si-St and the deviation Hi-
When the Ht is the same, whether to make an affirmative judgment or a negative judgment is determined in advance and the flow is followed. In this case, an affirmative decision is made.

【0029】一方、ステップ81で否定判定された場合
は、ステップ85に進み、SOおよびHClの濃度の
瞬間値SiおよびHiが設定値StおよびHtを下回っ
たか否かを判定する。ステップ85で肯定判定された場
合には、ステップ86に進み、SOの設定値に対する
偏差Si−St(負の値)がHClの設定値に対する偏
差Hi−Ht(負の値)より大きいか否かを判定する。
On the other hand, if a negative decision is made at step 81, then the processing advances to step 85, at which it is decided whether or not the instantaneous values Si and Hi of the concentrations of SO 2 and HCl have fallen below the set values St and Ht. When an affirmative decision is made in step 85, the routine proceeds to step 86, where it is determined whether the deviation Si-St (negative value) with respect to the set value of SO 2 is larger than the deviation Hi-Ht (negative value) with respect to the set value of HCl. To determine.

【0030】ステップ86で肯定判定された場合は、H
CLの方が設定値から偏差が小さく排出量の減少が遅い
こと意味しているので、k2×(Si−St)だけ消石
灰供給量Mを増大してからステップ89に進みリターン
する。ステップ86で否定判定された場合は、SO
方が設定値から偏差が小さく排出量の減少が遅いこと意
味しているので、k2×(Hi−Ht)だけ消石灰供給
量Mを増大してからステップ89に進みリターンする。
なお、偏差Si−Stと偏差Hi−Htが等しい場合
は、前述と同様に、予め肯定判定か否定判定にするかを
決めておきそのフローにしたがうようにする。この場合
は肯定判定するようにしてある。
If an affirmative decision is made in step 86, H
CL means that the deviation from the set value is small and the discharge amount decreases slowly. Therefore, after increasing the slaked lime supply amount M by k2 × (Si-St), the routine proceeds to step 89 and returns. If a negative determination is made in step 86, it means that SO 2 has a smaller deviation from the set value and the decrease in the discharge amount is slower. Therefore, the slaked lime supply amount M is increased by k2 × (Hi-Ht). To step 89, the process returns.
When the deviation Si-St is equal to the deviation Hi-Ht, whether to make an affirmative judgment or a negative judgment is determined in advance and the flow is followed in the same manner as described above. In this case, an affirmative decision is made.

【0031】[0031]

【発明の効果】各請求項に記載の排ガス処理装置によれ
ば、SOの濃度に基づき薬品が供給されるのでSO
の出やすい現在のゴミ焼却炉等の排ガス処理をおこなっ
ても、SOが高濃度で排出されることはなく、脱硝装
置の損傷が防止できる。特に、請求項2のようにすれ
ば、HClの濃度が高い場合にも薬品が供給されるので
HClが高濃度で排出されることもない。また、請求項
6のようにガス濃度の瞬時値にもとづいて薬品を供給す
れば、SO,HClの濃度変化に素速く対応でき、よ
りよい浄化性能を得ることができる。
According to the exhaust gas treatment apparatus described in each claim, since the chemical is supplied based on the concentration of SO 2 , SO 2
Even if exhaust gas treatment is performed in a current garbage incinerator, which is prone to generate SO 2 , SO 2 is not emitted in high concentration, and damage to the denitration device can be prevented. In particular, according to the second aspect, since the chemical is supplied even when the concentration of HCl is high, HCl is not discharged at a high concentration. Further, by supplying the chemicals based on the instantaneous value of the gas concentration as in the sixth aspect, it is possible to quickly respond to the change in the concentrations of SO 2 and HCl, and it is possible to obtain better purification performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のハード構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a hardware configuration of the present invention.

【図2】従来技術の制御を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating control of a conventional technique.

【図3】第1の実施の形態の制御を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating control according to the first embodiment.

【図4】第1の実施の形態の制御のフローチャートであ
る。
FIG. 4 is a flowchart of control according to the first embodiment.

【図5】第2の実施の形態の制御を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating control according to the second embodiment.

【図6】第2の実施の形態の制御のフローチャートであ
る。
FIG. 6 is a flowchart of control according to the second embodiment.

【図7】第3の実施の形態の制御を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating control according to the third embodiment.

【図8】第3の実施の形態の制御のフローチャートであ
る。
FIG. 8 is a flowchart of control according to the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…減温塔 2…バグフィルタ室 3…ガス再加熱器 4…脱硝反応塔 5…誘引ファン 6…煙突 7…薬品貯留槽 8…薬品送給ブロワ 9…粉体供給装置 10…バグフィルタ 11…SO計測装置 12…HCl計測装置 13…制御回路DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Dehumidification tower 2 ... Bag filter chamber 3 ... Gas reheater 4 ... Denitration reaction tower 5 ... Induction fan 6 ... Chimney 7 ... Chemical storage tank 8 ... Chemical supply blower 9 ... Powder supply device 10 ... Bag filter 11 ... SO 2 measuring device 12 ... HCl measuring device 13 ... control circuit

フロントページの続き (72)発明者 滑澤 幸司 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 三浦 秋三 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 4D002 AA02 AA19 AC04 BA03 BA14 CA11 DA05 DA12 GA02 GA03 GB02 GB06 HA01 Continued front page    (72) Inventor Koji Namezawa             12 Nishiki-cho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsubishi Heavy Industries             Yokohama Co., Ltd. (72) Inventor Shuzo Miura             12 Nishiki-cho, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsubishi Heavy Industries             Yokohama Co., Ltd. F-term (reference) 4D002 AA02 AA19 AC04 BA03 BA14                       CA11 DA05 DA12 GA02 GA03                       GB02 GB06 HA01

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 排ガスを通過せしめるバグフィルタを有
し、該バグフィルタ上流側に一つの薬品を供給し、該一
つの薬品により排ガス中のSOおよびHClの濃度を
減少せしめる排ガス処理装置であって、 バグフィルタ下流側で排ガス中のSO濃度を計測し、
計測されたSO濃度に基づき薬品の供給量を増減する
ことを特徴とする排ガス処理装置。
1. An exhaust gas treating apparatus having a bag filter for passing exhaust gas, supplying one chemical to the upstream side of the bag filter, and reducing the concentration of SO 2 and HCl in the exhaust gas by the one chemical. Then, measure the SO 2 concentration in the exhaust gas on the downstream side of the bag filter,
An exhaust gas treatment device, wherein the supply amount of a chemical is increased or decreased based on the measured SO 2 concentration.
【請求項2】 さらに、バグフィルタ下流側で排ガス中
のHCl濃度を計測し、計測されたSO濃度とHCl
濃度の、いずれか一方でも、所定値を上回った時には、
薬品の供給量を増大することを特徴とする請求項1に記
載の排ガス処理装置。
2. Further, the HCl concentration in the exhaust gas is measured downstream of the bag filter, and the measured SO 2 concentration and HCl are measured.
If either of the concentrations exceeds the specified value,
The exhaust gas treatment device according to claim 1, wherein the supply amount of the chemical is increased.
【請求項3】 計測されたSO濃度とHCl濃度の、
両方が共に、前記所定値を下回った時に薬品の供給量を
減少することを特徴とする請求項2に記載の排ガス処理
装置。
3. The measured SO 2 concentration and HCl concentration,
The exhaust gas treatment device according to claim 2, wherein both of them reduce the supply amount of the chemical when the amount of chemicals falls below the predetermined value.
【請求項4】 薬品の供給量の増減は、計測したSO
濃度とHCl濃度と前記所定値との偏差に比例しておこ
なう、ことを特徴とする請求項2または3に記載の排ガ
ス処理装置。
4. The increase / decrease in the amount of supplied chemicals is measured by measuring SO 2
The exhaust gas treatment apparatus according to claim 2 or 3, wherein the exhaust gas treatment apparatus is performed in proportion to a deviation between the concentration and the HCl concentration and the predetermined value.
【請求項5】 増加させる時にはSO濃度とHCl濃
度の前記所定値との偏差の内の大きい方に比例しておこ
ない、減少させる時にはSO濃度とHCl濃度の前記
所定値との偏差の内の小さい方に比例しておこなう、こ
とを特徴とする請求項4に記載の排ガス処理装置。
5. The increase is performed in proportion to the larger one of the deviations of the SO 2 concentration and the HCl concentration from the predetermined value, and the decrease is performed within the deviation of the SO 2 concentration and the HCl concentration from the predetermined value. The exhaust gas treatment device according to claim 4, wherein the exhaust gas treatment device is performed in proportion to the smaller one.
【請求項6】 薬品の増減に利用するSO濃度とHC
l濃度は瞬時値であることを特徴とする請求項1から5
のいずか一項に記載の排ガス処理装置。
6. SO 2 concentration and HC used for increasing and decreasing chemicals
6. The l-concentration is an instantaneous value.
The exhaust gas treatment device according to item 1.
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