JP2003203397A - 情報媒体用スタンパーの製造方法および情報媒体用スタンパーの製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造コストの高騰を招くことなく狭いピッチ
の案内溝を確実かつ容易に形成し得る情報媒体用スタン
パーの製造方法を提供する。 【解決手段】 レーザービームＬを吸収するビーム吸収
素材を含む光吸収層２２をガラス基材２１上に形成し、
光吸収層２２上にフォトレジスト層２３を形成し、この
フォトレジスト層２３にレーザービームＬを照射して潜
像を形成した後に現像して凹凸パターンが形成されたフ
ォトレジスト原盤２を作製し、フォトレジスト原盤２に
おける凹凸パターンの形成面上にスタンパー形成材を形
成し、フォトレジスト原盤２のガラス基材２１を剥離
し、強アルカリ液を用いてフォトレジスト層２３と共に
光吸収層２２を剥離する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト原
盤に形成した凹凸パターンをスタンパー形成材に転写し
て情報媒体用スタンパーを製造する情報媒体用スタンパ
ーの製造方法および情報媒体用スタンパーの製造装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の製造方法に従って製造された情
報媒体用スタンパーの一例として、図１２に示すスタン
パー５１が従来から知られている。このスタンパー５１
は、光記録媒体用のディスク基材Ｄ１１（図１８参照）
を製造する際に、ディスク基材Ｄ１１の上面にトラッキ
ング制御用の案内溝Ｄ１１ａなどの凹凸パターンを形成
するための光記録媒体用スタンパーであって、無電解ニ
ッケル層１１などの導電層に電解ニッケル層１２を積層
して構成されている。このスタンパー５１は、全体とし
て平板状に形成され、その下面には、ディスク基材Ｄ１
１の上面に凹凸パターンを形成するための凸部５１ａが
螺旋状に形成されている。この場合、隣り合う凸部５１
ａ，５１ａのピッチ（凸部５１ａの形成ピッチ）は、デ
ィスク基材Ｄ１１の案内溝Ｄ１１ａの形成ピッチに応じ
て例えば０．７４μｍ程度に規定されている。

【０００３】このスタンパー５１の製造に際しては、ま
ず、スタンパー５１の型となるフォトレジスト原盤（図
１４参照。以下、「原盤」ともいう）５２を作製する。
この原盤５２は、その凹凸形状がディスク基材Ｄ１１と
ほぼ同一に形成され、ディスク基材Ｄ１１において案内
溝Ｄ１１ａとなるべき位置に凹部５２ａが形成されてい
る。この原盤５２の製造に際しては、図１３に示すよう
に、まず、ガラス基材２１の上面にフォトレジスト層２
３を形成する。次に、凹部５２ａを形成すべき部位に、
例えば、開口数（ＮＡ）が０．９０のレンズを介して波
長（λ）が３５１ｎｍのパターニング用のレーザービー
ムＬ（露光用ビーム。一例として、ピーク強度（１／ｅ
^２）の状態でスライスした際のスポット径が０．３２μ
ｍのレーザービーム）を照射する。これにより、フォト
レジスト層２３に潜像が形成される。次いで、この状態
のフォトレジスト層２３を現像することにより、図１４
に示すように、レーザービームＬの照射部位が除去され
て凹部５２ａが形成される。これにより、原盤５２が作
製される。

【０００４】次に、この原盤５２を用いてスタンパー５
１を製造する際には、図１５に示すように、まず、フォ
トレジスト層２３の凹凸パターンに沿って例えば無電解
めっきによって無電解ニッケル層１１を形成する。これ
により、フォトレジスト層２３の表面が導電性を有する
ことになる。次に、図１６に示すように、無電解ニッケ
ル層１１を電極として使用して電解めっき処理を施すこ
とにより、無電解ニッケル層１１の上に電解ニッケル層
１２を形成する。次いで、この状態の積層体からガラス
基材２１を剥離した後にレジスト剥離液に浸すことによ
り、フォトレジスト層２３を溶融する。これにより、図
１２に示すように、無電解ニッケル層１１および電解ニ
ッケル層１２からなるスタンパー５１が作製される。

【０００５】一方、このスタンパー５１を用いて光記録
媒体を製造する際には、ディスク基材Ｄ１１を成形する
ための金型内にスタンパー５１をセットした後に樹脂Ｒ
を注入することにより、図１７に示すようにディスク基
材Ｄ１１を射出成形する。これにより、図１８に示すよ
うに、スタンパー５１の凸部５１ａが樹脂Ｒに転写され
て案内溝Ｄ１１ａが形成され、これにより、ディスク基
材Ｄ１１が作製される。この場合、スタンパー５１を用
いてディスク基材Ｄ１１を大量に製造したときには、ス
タンパー５１が減耗して凹凸パターンの角部が丸みを帯
びてその後の製造に使用するのが困難となる。したがっ
て、ディスク基材Ｄ１１を量産する際には、まず、スタ
ンパー５１をマスタースタンパーとして用いて、その凹
凸パターンを転写したマザー盤を作製する。次に、この
マザー盤の凹凸パターンを転写してチャイルドスタンパ
ーを作製し、そのチャイルドスタンパーを用いてディス
ク基材Ｄ１１を製造する。これにより、チャイルドスタ
ンパーを順次新たなチャイルドスタンパーに交換できる
ため、ディスク基材Ｄ１１を量産することが可能とな
る。この場合、用途によっては、前述したマザー盤をス
タンパーとして使用することもある。

【０００６】

【特許文献１】特開平９−２９２７１５号公報（第２−
７頁）

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の情報
媒体用スタンパーの製造方法には、以下の問題点があ
る。すなわち、従来の製造方法では、原盤５２の製造工
程において、開口数が０．９０程度のレンズを介して出
射された波長が３５１ｎｍのレーザービームＬを照射し
てフォトレジスト層２３に潜像を形成している。この場
合、潜像（凹部５２ａ）の形成ピッチは、レーザービー
ムＬのスポット径によって制限される。具体的には、レ
ーザービームＬのスポット径よりも狭いピッチ（この場
合、０．３２μｍ以下のピッチ）で凹部５２ａを形成し
ようとする場合、フォトレジスト層２３に凹部５２ａを
形成すべく既に照射された部位と、その凹部５２ａに隣
り合う凹部５２ａを形成すべく照射された部位との一部
同士が重なり合うことになる。このため、レーザービー
ムＬの照射範囲が重なった部位のフォトレジスト層２３
が多重露光される結果、図１９に示す原盤６２のよう
に、凹部６２ａが目標の深さよりも浅くなったり、その
溝形状が丸みを帯びたりする。したがって、このような
原盤６２を用いて製造したスタンパー６１（図２０参
照）を使用して製造したディスク基材Ｄ１２では、案内
溝Ｄ１２ａが浅くなったり、その溝形状が丸みを帯びた
りする結果、正確なトラッキングが困難となり、記録デ
ータの正常な読み書きが困難となる。その一方、今日の
情報媒体（一例として光記録媒体）には、記録容量の大
容量化が望まれており、これに伴って案内溝のピッチを
狭くして記録データの記録密度を向上させる必要があ
る。しかしながら、前述したように、凹部５２ａの形成
ピッチにレーザービームＬのスポット径による制限があ
る以上、スタンパー５１における凸部５１ａの狭ピッチ
化、すなわちディスク基材における案内溝の狭ピッチ化
が困難となる。このため、案内溝の狭ピッチ化による記
録密度の向上が依然として困難である。

【０００８】この場合、開口数０．９０程度のレンズを
使用して波長２６６ｎｍや２５７ｎｍのレーザービーム
を露光用のレーザービームＬとして出射したり、開口数
１．３０程度のレンズ（ＳＩＬ：Solid Immersion Len
s）を使用したりすることで、スポット径を比較的小さ
くして多重露光を防止して凹部５２ａを狭いピッチで形
成する製造方法を採用することも考えられる。しかし、
レーザービームの照射範囲が重ならない程度の形成ピッ
チで潜像を形成した場合、ガラス基材２１によってレー
ザービームが反射されて、この反射光に起因してフォト
レジスト層２３が多重に露光されて潜像が崩れることが
ある。かかる場合には、凹部５２ａが浅く形成された
り、その溝形状が丸みを帯びたりするため、正常に読み
書き可能な光記録媒体を製造するのが困難となる。ま
た、スポット径が小さいレーザービームを出射可能なレ
ーザ装置（露光装置またはカッティング装置ともいう）
を新規に導入した場合、原盤５２，６２の製造コスト、
ひいてはスタンパー５１や光記録媒体の製造コストが高
騰するという問題が生じる。さらに、レーザービームに
代えて、スポット径を小さくできるエレクトロンビーム
を用いた潜像の形成方法も考えられる。しかし、エレク
トロンビームを出射する出射装置を採用する場合、その
出射装置が高価であり、加えてメンテナンスが非常に煩
雑であるため、スタンパー５１および光記録媒体の製造
コストが高騰するという問題が生じる。

【０００９】一方、特開平４−２６３１４０号公報に
は、ガラス板（１）の片面あるいは両面に無反射コート
を施すことにより、ガラス板によるレーザービームの反
射を阻止してフォトレジスト（３）の多重露光を防止す
る製造方法が開示されている。しかし、この製造方法で
は、例えば０．３２μｍ以下といった極く狭いピッチで
フォトレジストに潜像を形成しようとしたときには、フ
ォトレジストが多重に露光されて潜像が崩れてしまう。
かかる場合には、凹部が浅く形成されたり、その溝形状
が丸みを帯びたりするため、正常に読み書き可能な光記
録媒体を製造するのが困難となる。

【００１０】また、同公報に開示されているガラス原盤
のうち、ガラス板上面に無反射コート層（６）を形成
し、その上にプライマー剤層（２）およびフォトレジス
ト層（３）を形成したガラス原盤（同公報図３参照）で
は、無反射コート層として用いる素材（例えばバインダ
ーとして樹脂を用いた場合）によっては、そのガラス原
盤を用いてスタンパーを製造する際に、スタンパーから
ガラス原盤（上記の原盤５２に相当する）を剥離し難い
という問題点がある。つまり、このガラス原盤に例えば
無電解ニッケル層および電解ニッケル層などを積層して
スタンパーを形成した後にガラス板を剥離する際に、無
反射コート層がガラス板から剥離してフォトレジスト層
側に残ってしまうことがある。かかる場合には、無電解
ニッケル層、電解ニッケル層、フォトレジスト層および
無反射コート層の積層体をレジスト剥離液に浸した場
合、無反射コート層によってフォトレジストの溶融が妨
げられてしまう。

【００１１】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、製造コストの高騰を招くことなく狭いピッ
チの案内溝を確実かつ容易に形成し得る情報媒体用スタ
ンパーの製造方法および情報媒体用スタンパーの製造装
置を提供することを主目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明に係る情報媒体用スタンパーの製造方法は、露光用
ビームを吸収するビーム吸収素材を含む光吸収層を基材
上に形成し、当該光吸収層上にフォトレジスト層を形成
し、前記基材上に形成された前記フォトレジスト層に前
記露光用ビームを照射して潜像を形成した後に現像する
ことによって凹凸パターンが形成されたフォトレジスト
原盤を作製し、当該フォトレジスト原盤における前記凹
凸パターンの形成面上にスタンパー形成材を形成し、当
該フォトレジスト原盤の前記基材を剥離し、強アルカリ
液を用いて前記フォトレジスト層と共に前記光吸収層を
剥離して情報媒体用スタンパーを製造する。

【００１３】この場合、前記強アルカリ液として水酸化
ナトリウム水溶液を使用するのが好ましい。

【００１４】また、メラミン樹脂と、光吸収剤としての
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンとを
含む混合物を前記ビーム吸収素材として前記光吸収層を
形成するのが好ましい。

【００１５】さらに、金属材料を前記フォトレジスト原
盤に析出させて前記スタンパー形成材を形成するのが好
ましい。

【００１６】また、本発明に係る情報媒体用スタンパー
の製造方法は、上記の情報媒体用スタンパーの製造方法
に従って製造した情報媒体用スタンパーをマスタースタ
ンパーとして用いて当該マスタースタンパーの凹凸パタ
ーンを転写することによって情報媒体に凹凸パターンを
転写するための第１のスタンパーを製造する。

【００１７】また、本発明に係る情報媒体用スタンパー
の製造装置は、露光用ビームを吸収するビーム吸収素材
を含む光吸収層を基材上に形成する光吸収層形成装置
と、前記光吸収層上にフォトレジスト層を形成するレジ
スト層形成装置と、前記フォトレジスト層に前記露光用
ビームを照射して潜像を形成する露光装置と、前記潜像
が形成された前記フォトレジスト層を現像することによ
って凹凸パターンが形成されたフォトレジスト原盤を作
製する現像装置と、前記フォトレジスト原盤における前
記凹凸パターンの形成面上に導電層を付与する導電層付
与装置と、前記導電層上にスタンパー形成材を形成する
スタンパー形成材形成装置と、強アルカリ液を用いて前
記フォトレジスト層と共に前記光吸収層を前記スタンパ
ー形成材から剥離する剥離装置とを備えて構成されてい
る。

【００１８】この場合、前記剥離装置が前記強アルカリ
液として水酸化ナトリウム水溶液を使用するのが好まし
い。

【００１９】また、前記光吸収層形成装置が、メラミン
樹脂と、光吸収剤としての４，４’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノンとを含む混合物を前記ビーム吸収
素材として使用するのが好ましい。

【００２０】さらに、前記スタンパー形成材形成装置
が、前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターン
の形成面上に金属材料を析出させて前記スタンパー形成
材を形成するのが好ましい。

【００２１】さらに、前記光吸収層が剥離された前記ス
タンパー形成材をマスタースタンパーとして使用して、
情報媒体に凹凸パターンを転写するための第１のスタン
パーを製造する転写装置を備えた構成を採用することも
できる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明に係る情報媒体用スタンパーの製造方法および製造装
置の好適な実施の形態について説明する。なお、情報媒
体の一例として、光記録媒体を用いて説明し、従来の製
造方法におけるスタンパー５１および原盤５２と同一構
造の構成要素については、同一の符号を付して重複した
説明を省略する。

【００２３】図１に示すスタンパー１は、本発明におけ
る情報媒体用スタンパーに相当し、光記録媒体用のディ
スク基材Ｄ１（図８参照）の射出成形時や、マザー盤３
２（図９参照）の製造時に使用される。このスタンパー
１は、無電解ニッケル層１１に電解ニッケル層１２が積
層されて構成され、全体として平板状に形成されてい
る。また、スタンパー１の下面には、ディスク基材Ｄ１
の上面に微細な凹凸パターンを形成するための微細な凸
部１ａが螺旋状に形成されている。この場合、隣り合う
凸部１ａ，１ａのピッチ（凸部１ａの形成ピッチ）は、
ディスク基材Ｄ１における案内溝Ｄ１ａの形成ピッチに
応じて例えば０．３０μｍに規定されている。

【００２４】次に、このスタンパー１を製造する製造装
置１００について、図１１を参照して説明する。

【００２５】この製造装置１００は、光吸収層形成装置
１０１、レジスト層形成装置１０２、露光装置１０３、
現像装置１０４、導電層付与装置１０５、スタンパー形
成材形成装置１０６および剥離装置１０７を備え、ガラ
ス基材２１を使用してスタンパー１を製造可能に構成さ
れている。

【００２６】このスタンパー１を製造する際には、製造
装置１００を用いることにより、最初に、図４に示すフ
ォトレジスト原盤（以下、「原盤」ともいう）２を作製
する。この原盤２は、ガラス基材２１、光吸収層２２お
よびフォトレジスト層２３が順に積層されて構成され、
スタンパー１の凸部１ａを形成するための微細な凹部２
ａが螺旋状に形成されている。

【００２７】光吸収層２２は、一例として厚み１５０ｎ
ｍ程度に形成されている。なお、光吸収層２２の厚みは
特に限定されるものではないが、後述するフォトレジス
ト層２３の露光時に露光用のレーザービームＬを十分に
吸収することができる程度の厚みに形成する。具体的に
は、光吸収層２２は、レーザービームＬに対する吸収係
数ｋが０．０１以上、好ましくは０．１以上の範囲内で
吸収できるのが好ましい。この場合、光吸収層２２の厚
みが十分でないときには、レーザービームＬを十分に吸
収することができずに、フォトレジスト層２３に形成し
た潜像が崩れる。一方、３００ｎｍを超える厚みに形成
したときであっても、レーザービームＬに対する光吸収
性が顕著に向上される訳ではなく、光吸収層２２を形成
するための材料を不要に消費する。また、３００ｎｍを
超える厚みに形成した場合には、レーザービームＬの照
射時に光吸収層２２が過剰に蓄熱し、これに起因してフ
ォトレジスト層２３が熱分解する結果、安定した露光が
困難となる傾向がある。したがって、光吸収層２２の厚
みは、１ｎｍ以上３００ｎｍ以下に規定するのが好まし
く、より好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚み
に形成するのがよい。この場合、上記した光吸収層２２
の蓄熱に起因するフォトレジスト層２３の熱分解の度合
いは、照射するレーザービームＬの照射パワーに応じて
変化する。このため、比較的小パワーのレーザービーム
Ｌを使用して露光するときには、光吸収層２２の厚みを
３００ｎｍ超５００ｎｍ以下とすることもできる。

【００２８】この光吸収層２２は、露光時に照射される
レーザービームＬの波長に対して光吸収性をもつ有機化
合物（本発明におけるビーム吸収素材に相当し、以下、
光吸収剤ともいう）を含有し、例えば、光開始助剤、染
料、または、光開始助剤と染料との混合物などが用いら
れている。この場合、光開始助剤は、紫外線等の光を吸
収する有機化合物で構成される。本発明の実施の形態で
は、光吸収剤の一例として、４，４′−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン（以下、「ベンゾフェノン系化
合物」ともいう）を使用する。フォトレジスト層２３
は、スタンパー１の上面に凹凸パターンを形成するため
の層であって、一例として厚み３０ｎｍ程度に形成され
ている。本発明の実施の形態では、フォトレジスト層２
３の材料として、例えば、フォトレジスト（日本ゼオン
（株）製のDVR100）を使用する。

【００２９】原盤２の作製に際しては、まず、例えばメ
ラミンおよびホルマリンなどを合成したメラミン樹脂
（熱硬化型樹脂）にベンゾフェノン系化合物を溶融し
て、光吸収層２２を形成するための塗布液を作製する。
また、作製した塗布液を、光吸収層形成装置１０１内に
貯留する。この際に、メラミン樹脂に代えて紫外線硬化
型樹脂を用いることもできる。また、後に形成されるフ
ォトレジスト層２３との接着性を向上させるために、接
着助剤、吸光剤、界面活性剤などの各種添加物を添加し
て塗布液を作製してもよい。さらに、４，４′−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンとメラミン樹脂との
合成物に代えて、各種の光吸収材を熱硬化型樹脂や光硬
化型樹脂などに混合した合成物を用いることもできる。

【００３０】製造装置１００では、まず、光吸収層形成
装置１０１が、ガラス基材２１の上に光吸収層２２を形
成する。具体的には、光吸収層形成装置１０１は、表面
を平坦に研磨したガラス基材２１の上にカップリング剤
層（図示せず）を形成した後、図２に示すように、ガラ
ス基材２１の上に光吸収剤を含有する塗布液をスピンコ
ート法によって塗布する。次いで、光吸収層形成装置１
０１は、この状態のガラス基材２１に対して加熱処理を
施すことによって塗膜を硬化させる。なお、塗布液の作
製時に紫外線硬化樹脂を用いた場合には、光吸収層形成
装置１０１は、塗布液を塗布した後に硬化用の紫外線を
照射することによって塗膜を硬化させる。これにより、
ガラス基材２１の上に光吸収層２２が形成される。続い
て、レジスト層形成装置１０２が、光吸収層２２の上に
フォトレジストをスピンコートした後に、ベーキングに
よって残留溶剤を蒸発させる。これにより、図３に示す
ように、光吸収層２２の上にフォトレジスト層２３が形
成される。

【００３１】次に、露光装置１０３（いわゆるカッティ
ングマシン）が、凹部２ａを形成すべき部位（ディスク
基材Ｄ１の案内溝Ｄ１ａが形成されるべき部位）に、例
えば開口数（ＮＡ）０．９０のレンズを介して、波長
（λ）３５１ｎｍのパターニング用のレーザービームＬ
（露光用ビーム。一例として、ピーク強度（１／ｅ^２）
の状態でスライスした際のスポット径が０．３２μｍの
レーザービーム）を照射する。これにより、フォトレジ
スト層２３に例えば形成ピッチが０．３０μｍ程度で、
幅０．１５μｍ程度の螺旋状潜像が形成される。この場
合、ガラス基材２１とフォトレジスト層２３との間に光
吸収層２２が形成されているため、露光装置１０３から
出射されてフォトレジスト層２３を透過した（潜像を形
成した）レーザービームＬの大部分は、ガラス基材２１
に到達することなく、光吸収層２２によって吸収され
る。一方、光吸収層２２によって吸収し切れずに、ガラ
ス基材２１に到達して反射された微量のレーザービーム
Ｌは、フォトレジスト層２３に到達することなく、光吸
収層２２によって吸収される。したがって、ガラス基材
２１による反射が阻止されてフォトレジスト層２３の多
重露光が防止されるため、狭い（細い）ピッチでシャー
プな潜像が形成される。次いで、現像装置１０４がこの
状態のフォトレジスト層２３を現像することにより、図
４に示すように、レーザービームＬの照射部位が除去さ
れて凹部２ａが形成され、これにより、原盤２が作製さ
れる。

【００３２】続いて、製造装置１００では、導電層付与
装置１０５が、まず、無電解めっき（析出）により、図
５に示すように、フォトレジスト層２３の凹凸パターン
に沿って金属材料であるニッケルからなる無電解ニッケ
ル層１１（導電層）を形成する。これにより、フォトレ
ジスト層２３の表面が導電性を有することになる。この
場合、フォトレジスト層２３の表面に導電性を付与する
ための層（導電層）を形成するための素材はニッケルに
限定されるものではなく、各種金属材料を用いることが
できる。また、導電層の形成方法も無電解めっき法に限
定されるものではなく、蒸着法やスパッタ法などの各種
成膜方法によって各種金属材料層（例えば、ニッケル
層）を形成してもよい。次いで、スタンパー形成材形成
装置１０６が、無電解ニッケル層１１を電極として使用
して電解めっき処理を施すことにより（析出により）、
図６に示すように、無電解ニッケル層１１の上に電解ニ
ッケル層１２を形成（積層）する。この場合、スタンパ
ー形成材形成装置１０６によって形成された電解ニッケ
ル層１２は、本発明におけるスタンパー形成材であり、
無電解ニッケル層１１と電解ニッケル層１２の積層体
（以下、「スタンパー側積層体」ともいう）が後にスタ
ンパー１を構成する。

【００３３】次に、スタンパー側積層体が積層された原
盤２からガラス基材２１を剥離した後、剥離装置１０７
が、スタンパー側積層体、光吸収層２２およびフォトレ
ジスト層２３の積層体を２０質量％の水酸化ナトリウム
水溶液に浸してフォトレジスト層２３を溶融して除去す
る。これにより、この積層体から光吸収層２２が容易に
剥離される。この際に、水酸化ナトリウム水溶液は、一
般的なフォトレジスト剥離液よりもアルカリ性が高い強
アルカリ液のため、光吸収層２２を溶融せずに、フォト
レジスト層２３のみを短時間（例えば３分程度）で溶融
する。この場合、従来の製造方法において使用されてい
た剥離液に例えば１日程度浸したとしても、フォトレジ
スト層２３の溶融が不完全であるため、光吸収層２２を
剥離するのがやや困難となる。一方、水酸化ナトリウム
水溶液を剥離液として使用した場合、短時間で確実にフ
ォトレジスト層２３の溶融が完了するため、光吸収層２
２を短時間でしかも確実に剥離することができる。これ
により、スタンパー１（図１参照）が作製される。

【００３４】一方、作製したスタンパー１を用いて光記
録媒体を製造する際には、一例として、スタンパー１を
セットした金型内に樹脂Ｒを注入することにより、図７
に示すようにディスク基材Ｄ１を射出成形する。これに
より、図８に示すように、スタンパー１の凸部１ａが樹
脂Ｒに転写されることによって案内溝Ｄ１ａが形成され
て、ディスク基材Ｄ１が作製される。また、ディスク基
材Ｄ１を量産する際には、一例として、図１１に示すよ
うに、製造装置１００に転写装置１０８を追加して、転
写装置１０８によって複数のチャイルドスタンパー（本
発明における第１のスタンパーの一例）Ｂ，Ｂ・・を作
製可能に構成するのが好ましい。この場合、転写装置１
０８は、図９に示すように、まず、スタンパー１をマス
タースタンパーとして使用し、その凹凸パターンを例え
ば金属材料に転写してマザー盤３２を作製する。次に、
転写装置１０８は、このマザー盤３２の凹凸パターンを
転写して複数のチャイルドスタンパーＢ，Ｂ・・を作製
する。ディスク基材Ｄ１を製造する際には、このチャイ
ルドスタンパーＢが使用される。これにより、チャイル
ドスタンパーＢが摩耗する以前に順次新たなチャイルド
スタンパーＢに交換できるため、ディスク基材Ｄ１を量
産することが可能となる。

【００３５】この場合、用途によっては上記したマザー
盤３２をスタンパー（本発明における第１のスタンパー
の他の一例）として使用することもできる。この際に
は、図１０に示すように、マザー盤３２をスタンパーと
して使用し、このスタンパー（マザー盤３２）をセット
した金型内に樹脂Ｒを注入する。これにより、同図に示
すように、ディスク基材Ｄ１に対して凹凸パターンが反
転したディスク基材Ｄ２が射出成形される。このよう
に、マザー盤３２をスタンパーとして用いてディスク基
材Ｄ２を製造する方法は、近年検討されている高密度光
記録媒体用のディスク基材を製造する際に有効に適用す
ることができる。この場合、この高密度光記録媒体で
は、再生用レーザービームおよび記録用レーザービーム
として青色レーザーを使用するため、記録再生時にピッ
クアップを記録層に接近させる必要がある。したがっ
て、レーザービームの入射方向を既存の光記録媒体とは
逆向きにして、ディスク基材よりも薄い光透過層側から
レーザービームを入射させるため、通常のディスク基材
に対して凹凸パターンを反転させたディスク基材を製造
する必要がある。このため、スタンパー１に対して凹凸
パターンが反転しているマザー盤３２をスタンパーとし
て使用することで高密度光記録媒体用のディスク基材を
容易に製造することができる。

【００３６】このように、この光記録媒体用スタンパー
（スタンパー１）の製造方法および製造装置１００によ
れば、原盤２の製造に際してガラス基材２１とフォトレ
ジスト層２３との間に光吸収層２２を形成することによ
り、この光吸収層２２によってレーザービームＬが吸収
されることでガラス基材２１による反射に起因するフォ
トレジスト層２３の多重露光を回避できる結果、狭いピ
ッチでシャープな潜像を形成することができる。これに
より、案内溝形成用の凸部１ａ，１ａ・・をシャープに
形成できるため、このスタンパー１を用いてディスク基
材Ｄ１を製造することで、トラッキングエラーなどを好
適に防止し得る案内溝をディスク基材Ｄ１に形成するこ
とができる。この場合、この製造方法および製造装置１
００では、レーザービームＬのスポット径よりも狭いピ
ッチで潜像を形成したとしても、光吸収層２２による吸
収によって多重露光が回避されるため、比較的シャープ
な潜像が形成される。したがって、この製造方法および
製造装置１００で形成したスタンパー１を用いてディス
ク基材Ｄ１を製造することで、記録データの記録密度を
十分に向上させることができる。また、マザー盤３２を
スタンパーとして用いてディスク基材Ｄ２を製造する場
合においても、上記したようにマザー盤３２を作製する
ためのスタンパー１における凸部１ａ，１ａ・・を狭い
ピッチでシャープに形成できるため、ディスク基材Ｄ２
の案内溝を形成するための各凹部（凸部１ａ，１ａ・・
によってマザー盤３２に形成される凹部）をシャープに
形成することができ、これにより、トラッキングエラー
などを好適に防止し得る案内溝をディスク基材Ｄ２に形
成することができる。この結果、記録データの記録密度
を十分に向上させることができる。

【００３７】さらに、この製造方法および製造装置１０
０によれば、フォトレジスト層２３を剥離するための剥
離液として水酸化ナトリウム水溶液を使用することによ
り、短時間でしかも確実にスタンパー側積層体から光吸
収層２２を剥離可能な状態とすることができる。この結
果、Ｏ_２プラズマなどを用いたフォトレジスト層２３の
除去工程や除去装置を不要にできるため、製造コストを
十分に低減することができる。また、４，４′−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンとメラミン樹脂との
合成物からなる塗布液を用いて光吸収層２２を形成する
ことにより、フォトレジスト層２３の露光時にフォトレ
ジスト層２３を透過した（潜像を形成した）レーザービ
ームＬの大部分がガラス基材２１に到達することなく光
吸収層２２によって吸収され、かつ吸収されずにガラス
基材２１に到達して反射された極く微量のレーザービー
ムＬについてもフォトレジスト層２３に到達することな
く光吸収層２２によって吸収されるため、フォトレジス
ト層２３の多重露光を有効に防止できる結果、狭いピッ
チでシャープな潜像を形成することができる。

【００３８】さらに、転写装置１０８を追加して、スタ
ンパー１をマスタースタンパーとしてマザー盤３２を作
製し、このマザー盤３２を用いて複数のスタンパー（チ
ャイルドスタンパー）を製造する工程を実施することに
より、新たなスタンパーに順次交換することができるた
め、案内溝Ｄ１ａの溝形状がシャープなディスク基材Ｄ
１を量産することができる。

【００３９】なお、本発明は、上記した発明の実施の形
態に限らず、適宜変更が可能である。例えば、本発明の
実施の形態では、原盤２の製造に際してガラス基材２１
を使用した例を説明したが、本発明における基材はこれ
に限定されず、金属基材、半金属基材およびセラミック
基材などの各種基材を使用することができる。また、本
発明における凹凸パターンは、本発明の実施の形態に例
示した螺旋状の凹凸パターンに限定されず、同心円状の
凹凸パターンや、その他各種形状の凹凸パターンであっ
てもよい。さらに、本発明は、案内溝を形成するための
スタンパーの製造に限定されず、例えば情報ピットを形
成するためのスタンパーを形成する場合にも有効に適用
することができる。また、情報媒体として光記録媒体を
例に挙げて説明したが、磁気ディスク（ディスクリート
媒体等）に対しても本発明を適用できることは勿論であ
る。

【００４０】

【発明の効果】以上のように、本発明に係る情報媒体用
スタンパーの製造方法および製造装置によれば、ビーム
吸収素材を用いて基材上に形成した光吸収層上にフォト
レジスト層を形成し、そのフォトレジスト層に露光用ビ
ームを照射して潜像を形成した後に現像して凹凸パター
ンを有するフォトレジスト原盤を作製し、そのフォトレ
ジスト原盤における凹凸パターンの形成面上にスタンパ
ー形成材を形成し、フォトレジスト原盤の基材を剥離
し、強アルカリ液を用いてフォトレジスト層を除去する
と共に光吸収層を剥離することにより、光吸収層によっ
てフォトレジスト層の多重露光を回避できるため、狭い
ピッチでシャープな潜像を形成することができる。した
がって、ディスク基材の案内溝を形成するための凹凸パ
ターンを狭いピッチで形成したとしても、その凹凸パタ
ーンの形状をシャープに形成することができる結果、こ
の情報媒体用スタンパーを用いることで、トラッキング
エラーなどを好適に防止し得る案内溝を有するディスク
基材を製造することができる。この場合、特殊な開口数
のレンズを介して特殊な波長のレーザービームやエレク
トロンビームなどを照射せずに、フォトレジスト層に狭
いピッチで潜像を形成することができるため、情報媒体
用スタンパーの製造コスト、ひいては情報媒体の製造コ
ストを低減することができる。また、剥離液として強ア
ルカリ液を使用することにより、フォトレジスト層を短
時間でしかも確実に溶融させることができる結果、情報
媒体用スタンパーから光吸収層を確実かつ容易に剥離す
ることができる。したがって、この情報媒体用スタンパ
ーを用いることで、トラッキングエラーなどを好適に防
止し得る案内溝を有するディスク基材を製造することが
できる。

【００４１】また、本発明に係る情報媒体用スタンパー
の製造方法および製造装置によれば、強アルカリ液とし
て水酸化ナトリウム水溶液を使用することにより、情報
媒体用スタンパーから光吸収層を短時間でしかも確実か
つ容易に剥離することができる。

【００４２】さらに、本発明に係る情報媒体用スタンパ
ーの製造方法および製造装置によれば、メラミン樹脂
と、光吸収剤としての４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンとを含む混合物をビーム吸収素材と
して光吸収層を形成することにより、フォトレジスト層
の露光時に照射されたレーザービームなどが４，４’−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンによって吸収さ
れるため、狭いピッチでシャープな潜像を確実かつ容易
に形成することができる。

【００４３】また、本発明に係る情報媒体用スタンパー
の製造方法および製造装置によれば、スタンパー形成材
としての金属材料をフォトレジスト原盤に析出させて情
報媒体用スタンパーを製造することにより、スタンパー
形成材として樹脂などを使用する製造方法と比較して、
フォトレジスト原盤の凹凸パターンを正確に転写するこ
とができる。

【００４４】さらに、本発明に係る情報媒体用スタンパ
ーの製造方法および製造装置によれば、上記した本発明
に係る製造方法および製造装置で製造した情報媒体用ス
タンパーをマスタースタンパーとして用いてマスタース
タンパーの凹凸パターンを転写して情報媒体に凹凸パタ
ーンを転写するための第１のスタンパーを製造すること
により、情報媒体用のディスク基材を量産する際に、使
用した情報媒体用スタンパーを順次新たな情報媒体用ス
タンパーに交換することができるため、案内溝の溝形状
がよりシャープなディスク基材を量産することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るスタンパー１の断面
図である。

【図２】原盤２の製造工程においてガラス基材２１の上
に光吸収層２２を形成した状態の断面図である。

【図３】原盤２の製造工程において光吸収層２２の上に
形成したフォトレジスト層２３に露光用のレーザービー
ムＬを照射している状態の断面図である。

【図４】作製した原盤２の断面図である。

【図５】スタンパー１の製造工程において原盤２の上に
無電解ニッケル層１１を形成した状態の断面図である。

【図６】無電解ニッケル層１１の上に電解ニッケル層１
２を形成した状態の断面図である。

【図７】スタンパー１の凹凸パターンを樹脂Ｒ（ディス
ク基材Ｄ１）に転写した状態の断面図である。

【図８】本発明の実施の形態に係るディスク基材Ｄ１の
断面図である。

【図９】スタンパー１の凹凸パターンを転写してマザー
盤３２を作製した状態の断面図である。

【図１０】マザー盤３２の凹凸パターンを転写してディ
スク基材Ｄ２を作製した状態の断面図である。

【図１１】本発明の実施の形態に係るスタンパーの製造
装置１００のブロック図である。

【図１２】従来のスタンパー５１の断面図である。

【図１３】原盤５２の製造工程においてガラス基材２１
の上に形成したフォトレジスト層２３に露光用のレーザ
ービームＬを照射している状態の断面図である。

【図１４】作製した原盤５２の断面図である。

【図１５】スタンパー５１の製造工程において原盤５２
の上に無電解ニッケル層１１を形成した状態の断面図で
ある。

【図１６】無電解ニッケル層１１の上に電解ニッケル層
１２を形成した状態の断面図である。

【図１７】スタンパー５１の凹凸パターンを樹脂Ｒ（デ
ィスク基材Ｄ１１）に転写した状態の断面図である。

【図１８】従来のディスク基材Ｄ１１の断面図である。

【図１９】従来の製造方法に従って製造した原盤６２の
断面図である。

【図２０】原盤６２を用いて製造したスタンパー６１、
およびスタンパー６１を用いて製造したディスク基材Ｄ
１２の断面図である。

【符号の説明】

１，３１ スタンパー １ａ 凸部 ２ 原盤 ２ａ 凹部 １１ 無電解ニッケル層（導電層） １２ 電解ニッケル層 ２１ ガラス基材 ２２ 光吸収層 ２３ フォトレジスト層 ３２ マザー盤 １００ 製造装置 １０１ 光吸収層形成装置 １０２ レジスト層形成装置 １０３ 露光装置 １０４ 現像装置 １０５ 導電層付与装置 １０６ スタンパー形成材形成装置 １０７ 剥離装置 １０８ 転写装置 Ｄ１ ディスク基材 Ｄ１ａ 案内溝 Ｌ レーザービーム Ｒ 樹脂

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇都宮 肇 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D121 BA05 BB04 BB21 BB28 BB31 BB38 CB06 CB07 CB08 CB09 GG16

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光用ビームを吸収するビーム吸収素材
   を含む光吸収層を基材上に形成し、当該光吸収層上にフ
   ォトレジスト層を形成し、前記基材上に形成された前記
   フォトレジスト層に前記露光用ビームを照射して潜像を
   形成した後に現像することによって凹凸パターンが形成
   されたフォトレジスト原盤を作製し、当該フォトレジス
   ト原盤における前記凹凸パターンの形成面上にスタンパ
   ー形成材を形成し、当該フォトレジスト原盤の前記基材
   を剥離し、強アルカリ液を用いて前記フォトレジスト層
   と共に前記光吸収層を剥離して情報媒体用スタンパーを
   製造する情報媒体用スタンパーの製造方法。
2. 【請求項２】 前記強アルカリ液として水酸化ナトリウ
   ム水溶液を使用する請求項１記載の情報媒体用スタンパ
   ーの製造方法。
3. 【請求項３】 メラミン樹脂と、光吸収剤としての４，
   ４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンとを含む
   混合物を前記ビーム吸収素材として前記光吸収層を形成
   する請求項１または２記載の情報媒体用スタンパーの製
   造方法。
4. 【請求項４】 金属材料を前記フォトレジスト原盤に析
   出させて前記スタンパー形成材を形成する請求項１から
   ３のいずれかに記載の情報媒体用スタンパーの製造方
   法。
5. 【請求項５】 請求項１から４のいずれかに記載の情報
   媒体用スタンパーの製造方法に従って製造した情報媒体
   用スタンパーをマスタースタンパーとして用いて当該マ
   スタースタンパーの凹凸パターンを転写することによっ
   て情報媒体に凹凸パターンを転写するための第１のスタ
   ンパーを製造する情報媒体用スタンパーの製造方法。
6. 【請求項６】 露光用ビームを吸収するビーム吸収素材
   を含む光吸収層を基材上に形成する光吸収層形成装置
   と、 前記光吸収層上にフォトレジスト層を形成するレジスト
   層形成装置と、 前記フォトレジスト層に前記露光用ビームを照射して潜
   像を形成する露光装置と、 前記潜像が形成された前記フォトレジスト層を現像する
   ことによって凹凸パターンが形成されたフォトレジスト
   原盤を作製する現像装置と、 前記フォトレジスト原盤における前記凹凸パターンの形
   成面上に導電層を付与する導電層付与装置と、 前記導電層上にスタンパー形成材を形成するスタンパー
   形成材形成装置と、 強アルカリ液を用いて前記フォトレジスト層と共に前記
   光吸収層を前記スタンパー形成材から剥離する剥離装置
   とを備えた情報媒体用スタンパーの製造装置。
7. 【請求項７】 前記剥離装置は、前記強アルカリ液とし
   て水酸化ナトリウム水溶液を使用する請求項６記載の情
   報媒体用スタンパーの製造装置。
8. 【請求項８】 前記光吸収層形成装置は、メラミン樹脂
   と、光吸収剤としての４，４’−ビス（ジエチルアミ
   ノ）ベンゾフェノンとを含む混合物を前記ビーム吸収素
   材として使用する請求項６または７記載の情報媒体用ス
   タンパーの製造装置。
9. 【請求項９】 前記スタンパー形成材形成装置は、前記
   フォトレジスト原盤における前記凹凸パターンの形成面
   上に金属材料を析出させて前記スタンパー形成材を形成
   する請求項６から８のいずれかに記載の情報媒体用スタ
   ンパーの製造装置。
10. 【請求項１０】 前記光吸収層が剥離された前記スタン
    パー形成材をマスタースタンパーとして使用して、情報
    媒体に凹凸パターンを転写するための第１のスタンパー
    を製造する転写装置を備えた請求項６から９のいずれか
    に記載の情報媒体用スタンパーの製造装置。