JP2003197884A - Solid-state detector - Google Patents

Solid-state detector

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Publication number
JP2003197884A
JP2003197884A JP2001393525A JP2001393525A JP2003197884A JP 2003197884 A JP2003197884 A JP 2003197884A JP 2001393525 A JP2001393525 A JP 2001393525A JP 2001393525 A JP2001393525 A JP 2001393525A JP 2003197884 A JP2003197884 A JP 2003197884A
Authority
JP
Japan
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light
reading
layer
generating electrode
recording
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2001393525A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaharu Ogawa
正春 小川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a decrease in picture quality caused by scattering of read light entering a solid-state detector equipped with a photoelectric charge couple generating electrode and a photoelectric charge couple non-generating electrode. <P>SOLUTION: The solid-state detector 20 comprising a 1st conductive layer 21, a photoconductive layer 22 for recording, a charge transfer layer 23, a photoconductive layer 24 for reading, a 2nd conductive layer 25 equipped with the photoelectric charge couple generating electrode 26 composed of many linear electrodes 26a and the photoelectric charge couple non-generating electrode 27 composed of many linear electrodes 27a, etc., is provided with low- reflection-factor layers 40a and 40b on the top and reverse surfaces of each linear electrode 27a of the photoelectric charge couple non-generating electrode 27 to reduce scattered light (read light) reflected by each linear electrode 27a. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、照射された放射線
の線量或いは該放射線の励起により発せられる光の光量
に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄積する蓄電部を有
する固体検出器に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state detector having a power storage unit for accumulating as a latent image charge an amount of charge corresponding to a dose of irradiated radiation or a light amount of light emitted by excitation of the radiation. Is.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、医療診断等を目的とする放射線撮
影において、放射線を検出して得た電荷を潜像電荷とし
て蓄電部に一旦蓄積し、該蓄積した潜像電荷を放射線画
像情報を表す電気信号に変換して出力する固体検出器を
使用する画像情報記録読取装置が各種提案されている。
この装置において使用される固体検出器としては、種々
のタイプのものが提案されているが、蓄積された電荷を
外部に読み出す電荷読出プロセスの面から、検出器に読
取光(読取用の電磁波)を照射して読み出す光読出方式
のものがある。
2. Description of the Related Art Today, in radiography for the purpose of medical diagnosis and the like, charges obtained by detecting radiation are temporarily accumulated in a power storage unit as latent image charges, and the accumulated latent image charges represent radiation image information. Various image information recording / reading devices have been proposed that use a solid-state detector that converts and outputs an electric signal.
Although various types of solid-state detectors have been proposed for use in this device, reading light (reading electromagnetic wave) is applied to the detector from the viewpoint of the charge reading process of reading the accumulated charges to the outside. There is a light reading method of irradiating and reading.

【0003】本出願人は、読出しの高速応答性と効率的
な信号電荷の取り出しの両立を図ることができる光読出
方式の固体検出器として、特開2000−105297
号、特開2000−284056号、特開2000−2
84057号において、記録用の放射線或いは該放射線
の励起により発せられる光(以下記録光という)に対し
て透過性を有する第1導電層、記録光を受けることによ
り導電性を呈する記録用光導電層、第1導電層に帯電さ
れる電荷と同極性の電荷に対しては略絶縁体として作用
し、かつ、該同極性の電荷と逆極性の電荷に対しては略
導電体として作用する電荷輸送層、読取光(読取用の電
磁波)の照射を受けることにより導電性を呈する読取用
光導電層、読取光に対して透過性を有する第2導電層
を、この順に積層して成り、記録用光導電層と電荷輸送
層との界面に形成される蓄電部に、画像情報を担持する
信号電荷(潜像電荷)を蓄積する固体検出器を提案して
いる。
The applicant of the present invention has disclosed, as a solid-state detector of an optical readout system, capable of achieving both high-speed response of readout and efficient extraction of signal charges, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-105297.
No. 2000-284056, 2000-2
No. 84057, a first conductive layer having transparency to recording radiation or light emitted by excitation of the radiation (hereinafter referred to as recording light), and a recording photoconductive layer exhibiting conductivity by receiving recording light. , A charge transport that acts as a substantially insulator for a charge having the same polarity as the charge charged in the first conductive layer and as a substantially conductor for a charge having the opposite polarity as the charge of the same polarity Layer, a reading photoconductive layer that exhibits conductivity by being irradiated with reading light (reading electromagnetic wave), and a second conductive layer that is transparent to reading light, are stacked in this order for recording. We have proposed a solid-state detector that accumulates signal charges (latent image charges) carrying image information in a storage unit formed at the interface between the photoconductive layer and the charge transport layer.

【0004】そして、上記特開2000−284056
号および特開2000−284057号においては、特
に、第2導電層の電極を読取光に対して透過性を有する
多数の線状電極からなるストライプ電極(光電荷対発生
電極)とすると共に、蓄電部に蓄積された潜像電荷の量
に応じたレベルの電気信号を出力させるための多数の線
状電極からなるサブストライプ電極(光電荷対非発生電
極)を、ストライプ電極の線状電極とサブストライプ電
極の線状電極とが交互にかつ互いに平行となるように、
第2導電層内に設けた固体検出器を提案している。
Then, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284056.
In Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284057 and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284057, in particular, the electrode of the second conductive layer is a stripe electrode (photoelectric charge pair generating electrode) formed of a large number of linear electrodes transparent to the reading light, and the storage of electricity is also performed. The sub-stripe electrode (photocharge pair non-generating electrode), which is composed of a large number of linear electrodes for outputting an electric signal of a level corresponding to the amount of latent image charge accumulated in the area, is So that the stripe electrodes and the linear electrodes are alternately and parallel to each other,
A solid-state detector provided in the second conductive layer is proposed.

【0005】このように、多数の線状電極からなるサブ
ストライプ電極を第2導電層内に設けることにより、蓄
電部とサブストライプ電極との間に新たなコンデンサが
形成され、記録光によって蓄電部に蓄積された潜像電荷
と逆極性の輸送電荷を、読取りの際の電荷再配列によっ
てこのサブストライプ電極にも帯電させることが可能と
なる。これにより、読取用光導電層を介してストライプ
電極と蓄電部との間で形成されるコンデンサに配分され
る前記輸送電荷の量を、このサブストライプ電極を設け
ない場合よりも相対的に少なくすることができ、結果と
して固体検出器から外部に取り出し得る信号電荷の量を
多くして読取効率を向上させると共に、読出しの高速応
答性と効率的な信号電荷の取り出しの両立をも図ること
ができるようになっている。
As described above, by providing the sub-stripe electrode composed of a large number of linear electrodes in the second conductive layer, a new capacitor is formed between the power storage unit and the sub-stripe electrode, and the storage light is generated by the recording light. It is possible to charge the sub-stripe electrodes with the charge reversing during the reading, which is the reverse charge of the latent image charges accumulated in the sub-stripe electrodes. As a result, the amount of the transport charge distributed to the capacitor formed between the stripe electrode and the power storage unit via the reading photoconductive layer is made relatively smaller than in the case where the sub-stripe electrode is not provided. As a result, it is possible to increase the amount of signal charges that can be taken out from the solid state detector to improve the reading efficiency, and to achieve both high-speed read response and efficient signal charge taking-out. It is like this.

【0006】さらに本出願人は、上記特開2000−1
05297号公報等において、固体検出器に蓄積された
潜像電荷を読み出す方式の1つとして、ストライプ電極
をなす各線状電極ごとに検出アンプを接続し、該線状電
極の長手方向を副走査方向、該線状電極の長手方向と直
交する方向(線状電極の配列方向)を主走査方向とし、
該主走査方向に延在したライン状の読取光(以下ライン
光ともいう)で前記ストライプ電極側を副走査方向に走
査して信号電荷を線状電極ごとに検出する方式(以下ラ
イン読出方式という)を提案している。
Further, the applicant of the present invention has been described in the above-mentioned JP 2000-1.
In Japanese Patent Application No. 05297, etc., as one of the methods of reading the latent image charge accumulated in the solid-state detector, a detection amplifier is connected to each linear electrode forming a stripe electrode, and the longitudinal direction of the linear electrode is set to the sub-scanning direction. , The direction orthogonal to the longitudinal direction of the linear electrodes (arrangement direction of the linear electrodes) is the main scanning direction,
A method of scanning the stripe electrode side in the sub-scanning direction with a linear reading light extending in the main scanning direction (hereinafter also referred to as line light) to detect signal charges for each linear electrode (hereinafter referred to as line reading method). ) Is proposed.

【0007】このライン読出方式は、主走査方向につい
ては並列(同時)読出しとなるので読取速度の高速化を
図ることができ、また電極を各線状電極に分割したこと
により各検出アンプの分布容量(負荷容量)が低減する
のでS/N向上を図ることができ、さらには潜像電荷の
蓄積位置をストライプ電極の配設位置に大凡固定するこ
とができるのでストラクチャ−ノイズ補正を行なうこと
が可能となるなど、種々の利点を有する優れた方式とな
っている。
In this line reading method, since parallel (simultaneous) reading is performed in the main scanning direction, the reading speed can be increased, and the distributed capacitance of each detection amplifier can be obtained by dividing the electrode into each linear electrode. Since the (load capacitance) is reduced, the S / N ratio can be improved, and furthermore, the latent image charge storage position can be roughly fixed at the disposition position of the stripe electrode, which enables structure-noise correction. It is an excellent method having various advantages such as.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ライン読出方式によりストライプ電極およびサブストラ
イプ電極を備えた固体検出器から潜像電荷を読み出す場
合において、読取時に照射される読取光は、固体検出器
内でストライプ電極またはサブストライプ電極等に反射
されて散乱する虞があり、このように散乱した読取光が
読取用光導電層の読取光入射面上のサブストライプ電極
を構成する線状電極に対応する領域に到達すると、そこ
で放電が生じて信号検出効率が低下する。また、散乱し
た読取光が当該の読取画素以外の隣接画素領域に到達す
ると、そこでも放電が生じ、その結果、鮮鋭度が低下す
る。
However, when the latent image charge is read from the solid-state detector having the stripe electrode and the sub-stripe electrode by the above-mentioned line reading method, the reading light emitted at the time of reading is the solid-state detector. There is a risk that it will be reflected and scattered by the stripe electrode or sub-stripe electrode, etc. inside, and the scattered reading light corresponds to the linear electrodes that compose the sub-stripe electrode on the reading light incident surface of the reading photoconductive layer. When it reaches the area to be discharged, discharge is generated there and the signal detection efficiency is reduced. Further, when the scattered reading light reaches an adjacent pixel area other than the reading pixel, discharge also occurs there, and as a result, the sharpness is lowered.

【0009】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、固体検出器内に入射した読取光が散乱すること
により生じる画質の低下を軽減することができる固体検
出器を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a solid-state detector capable of reducing deterioration in image quality caused by scattering of the reading light incident on the solid-state detector. It is intended.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の固体検出
器は、記録光に対して透過性を有する第1の導電層と、
記録光の照射を受けることにより光導電性を呈する記録
用光導電層と、記録光の光量に応じた量の電荷を潜像電
荷として蓄積する蓄電部と、読取光の照射を受けること
により光導電性を呈する読取用光導電層と、読取光に対
して透過性を有する多数の線状電極からなる光電荷対発
生電極と、多数の線状電極からなる光電荷対非発生電極
とを備え、光電荷対発生電極の線状電極と光電荷対非発
生電極の線状電極とが交互に配置された第2の導電層と
をこの順に積層してなる固体検出器において、光電荷対
非発生電極が、上面および/または下面に読取光に対し
て低い反射率特性を有する低反射率層を備えたものであ
ることを特徴とするものである。
A first solid-state detector according to the present invention comprises a first conductive layer which is transparent to recording light,
A recording photoconductive layer that exhibits photoconductivity by being irradiated with recording light, a power storage unit that accumulates an amount of electric charge as a latent image charge according to the amount of recording light, and a light by receiving reading light. It is provided with a reading photoconductive layer exhibiting conductivity, a photocharge pair generating electrode composed of a large number of linear electrodes having transparency to the reading light, and a photocharge pair non-generating electrode composed of a large number of linear electrodes. , A second conductive layer in which a linear electrode of a photocharge pair generating electrode and a linear electrode of a photocharge pair non-generating electrode are alternately laminated in this order. It is characterized in that the generating electrode is provided with a low reflectance layer having a low reflectance characteristic with respect to the reading light on the upper surface and / or the lower surface.

【0011】上記第1の固体検出器において、「読取光
に対して低い反射率特性を有する低反射率層」とは、読
取光に対する光電荷対非発生電極の反射率特性よりも低
い反射率特性を有する層を意味する。
In the first solid-state detector, the "low reflectance layer having a low reflectance characteristic with respect to the reading light" means a reflectance lower than the reflectance characteristic of the photocharge vs. non-generating electrode with respect to the reading light. It means a layer having characteristics.

【0012】また、本発明の第2の固体検出器は、記録
光に対して透過性を有する第1の導電層と、記録光の照
射を受けることにより光導電性を呈する記録用光導電層
と、記録光の光量に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄
積する蓄電部と、読取光の照射を受けることにより光導
電性を呈する読取用光導電層と、読取光に対して透過性
を有する多数の線状電極からなる光電荷対発生電極と、
多数の線状電極からなる光電荷対非発生電極とを備え、
光電荷対発生電極の線状電極と光電荷対非発生電極の線
状電極とが交互に配置された第2の導電層と、光電荷対
非発生電極に照射される読取光を遮光する遮光膜とをこ
の順に積層してなる固体検出器において、遮光膜が、上
面および/または下面に読取光に対して低い反射率特性
を有する低反射率層を備えたものであることを特徴とす
るものである。
The second solid-state detector of the present invention comprises a first conductive layer which is transparent to recording light and a recording photoconductive layer which exhibits photoconductivity when irradiated with the recording light. And a storage unit that accumulates an amount of electric charge as a latent image charge according to the amount of recording light, a reading photoconductive layer that exhibits photoconductivity by being irradiated with the reading light, and a transparency to the reading light. A photocharge pair generating electrode consisting of a large number of linear electrodes having
A photocharge pair non-generating electrode composed of a large number of linear electrodes,
A second conductive layer in which a linear electrode of a photocharge pair generating electrode and a linear electrode of a photocharge pair non-generating electrode are alternately arranged, and a light shield that shields the reading light with which the photoelectric charge pair non-generating electrode is irradiated. In a solid-state detector in which a film and a film are laminated in this order, the light-shielding film is provided with a low-reflectivity layer having a low-reflectivity characteristic with respect to read light on the upper surface and / or the lower surface. It is a thing.

【0013】上記第2の固体検出器において、「読取光
に対して低い反射率特性を有する低反射率層」とは、読
取光に対する遮光膜の反射率特性よりも低い反射率特性
を有する層を意味する。
In the second solid-state detector, the "low reflectance layer having a low reflectance characteristic with respect to the reading light" means a layer having a reflectance characteristic lower than that of the light shielding film with respect to the reading light. Means

【0014】本発明において、「固体検出器」は、第1
の導電層、記録用光導電層、読取用光導電層および第2
の導電層をこの順に有すると共に、記録用光導電層と読
取用光導電層との間に蓄電部が形成されて成るものであ
って、さらに他の層や微小導電部材(マイクロプレー
ト)等を積層して成るものであってもかまわない。
In the present invention, the "solid state detector" is the first
Conductive layer, recording photoconductive layer, reading photoconductive layer and second
And a conductive layer are formed in this order, and a power storage unit is formed between the recording photoconductive layer and the reading photoconductive layer, and further other layers and micro conductive members (microplates) are provided. It may be formed by stacking layers.

【0015】なお、上記蓄電部を形成する方法として
は、電荷輸送層を設けてこの電荷輸送層と記録用光導電
層との界面に蓄電部を形成する方法(本出願人による特
開2000−105297号公報、特開2000−28
4056号公報参照)、トラップ層を設けこのトラップ
層内若しくはトラップ層と記録用光導電層との界面に蓄
電部を形成する方法(例えば、米国特許第453546
8号参照)、或いは潜像電荷を集中させて蓄電する微小
導電部材等を設ける方法(本出願人による特開2000
−284057号公報参照)等を用いるとよい。
As a method of forming the above-mentioned power storage unit, a method of providing a charge transport layer and forming the power storage unit at the interface between this charge transport layer and the recording photoconductive layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2000- 105297, JP 2000-28
No. 4056), a method of forming a storage layer in the trap layer or at the interface between the trap layer and the recording photoconductive layer (for example, US Pat. No. 4,535,546).
No. 8), or a method of providing a minute conductive member or the like for concentrating and storing latent image charges (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-2000)
(See Japanese Patent Publication No. 284057) and the like may be used.

【0016】また、「読取光に対して透過性を有する多
数の線状電極からなる光電荷対発生電極」とは、読取光
を透過させ読取用光導電層に電荷対を発生せしめる電極
である。また、「光電荷対非発生電極」とは、蓄電部に
蓄積された潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号を出
力させるための電極であり、読取光に対して遮光性を有
することが望ましいが、光電荷対非発生電極と読取光照
射手段との間に遮光性を有する遮光膜等を設ける場合
は、光電荷対非発生電極は必ずしも遮光性を有する必要
はない。ここで、「遮光性」とは、読取光を完全に遮断
して全く電荷対を発生させないものに限らず、その読取
光に対する多少の透過性は有していてもそれにより発生
する電荷対が実質的に問題とならない程度のものも含む
ものとする。従って、読取用光導電層に発生する電荷対
は全て光電荷対発生電極を透過した読取光のみによるも
のとは限らず、光電荷対非発生電極を僅かに透過した読
取光によっても読取用光導電層において電荷対が発生し
うるものとする。
Further, the "photoelectric charge pair generating electrode composed of a large number of linear electrodes having transparency to the reading light" is an electrode which transmits the reading light and generates a charge pair in the reading photoconductive layer. . The "photoelectric charge pair non-generating electrode" is an electrode for outputting an electric signal of a level corresponding to the amount of latent image charge accumulated in the electricity storage unit, and has a light shielding property against the reading light. However, when a light shielding film or the like having a light shielding property is provided between the photocharge pair non-generating electrode and the reading light irradiation means, the photocharge pair nongenerating electrode does not necessarily have the light shielding property. Here, the “light-shielding property” is not limited to the one that completely blocks the reading light and does not generate the charge pair at all, and the charge pair generated by the reading light even if it has some transparency to the reading light. Including items that do not pose a problem. Therefore, all the charge pairs generated in the reading photoconductive layer are not limited to the reading light transmitted through the photocharge pair generating electrode, and the reading light may be read through the reading light slightly passing through the photocharge pair non-generating electrode. It is assumed that charge pairs can be generated in the conductive layer.

【0017】また、「読取光」は、静電記録体における
電荷の移動を可能として、電気的に静電潜像を読み取る
ことを可能とするものであればよく、具体的には光や放
射線等である。
The "reading light" may be any light that can move an electric charge in an electrostatic recording medium and electrically read an electrostatic latent image, and specifically, light or radiation. Etc.

【0018】なお、本発明による固体検出器を使用して
放射線画像の記録や読取りを行うに際しては、例えば、
特開2000−284056号公報に記載されたよう
な、本発明を適用しない従来の固体検出器を用いた記録
方法および読取方法並びにその装置(画像情報記録読取
装置)を変更することなく、そのまま利用することがで
きる。
When recording or reading a radiation image using the solid-state detector according to the present invention, for example,
As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-284056, a recording method and a reading method using a conventional solid-state detector to which the present invention is not applied and the apparatus (image information recording / reading apparatus) are used as they are without changing. can do.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明による固体検出器においては、光
電荷対非発生電極または遮光膜の上面および/または下
面に低反射率層を設けたので、光電荷対非発生電極や遮
光膜に入射した読取光が、該光電荷対非発生電極や遮光
膜により散乱反射するのを抑制することができ、従っ
て、そのような反射光が他の箇所でさらに反射して最終
的に読取用光導電層の読取光入射面上の光電荷対非発生
電極に対応する領域に入射することによって生じる信号
検出効率の低下や、当該画素以外の隣接する画素領域に
到達することによって生じる読取画像の鮮鋭度低下をを
軽減させることができる。
In the solid-state detector according to the present invention, since the low reflectance layer is provided on the upper surface and / or the lower surface of the photocharge pair non-generating electrode or the light shielding film, the photocharge pair non-generating electrode or the light shielding film is incident. The read light can be suppressed from being scattered and reflected by the photocharge pair non-generating electrode or the light-shielding film, so that such reflected light is further reflected at other places and finally read by the photoconductive layer. Decrease in signal detection efficiency caused by incidence on the area corresponding to the photocharge pair non-generating electrode on the reading light incident surface of the layer, and sharpness of the read image caused by reaching adjacent pixel areas other than the pixel concerned. The decrease can be reduced.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明の固体検出器
の第1の実施の形態の概略構成を示す図であり、図1
(A)は固体検出器20aの斜視図、図1(B)は固体
検出器20aのQ矢指部のXZ断面図、図1(C)は固
体検出器20aのP矢指部のXY断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of a solid-state detector of the present invention.
1A is a perspective view of the solid-state detector 20a, FIG. 1B is an XZ cross-sectional view of the Q arrow finger portion of the solid-state detector 20a, and FIG. 1C is an XY cross-sectional view of the P arrow finger portion of the solid-state detector 20a. is there.

【0021】この固体検出器20aは、記録光に対して
透過性を有する第1導電層21、この第1導電層21を
透過した記録光の照射を受けることにより電荷対を発生
し導電性を呈する記録用光導電層22、前記電荷対の内
の潜像極性電荷(例えば負電荷)に対しては略絶縁体と
して作用し、かつ該潜像極性電荷と逆極性の輸送極性電
荷(上述の例においては正電荷)に対しては略導電体と
して作用する電荷輸送層23、読取光の照射を受けるこ
とにより電荷対を発生して導電性を呈する読取用光導電
層24、光電荷対発生電極26および光電荷対非発生電
極27を備えた第2導電層25、読取光に対して透過性
を有する支持体18をこの順に配してなるものである。
記録用光導電層22と電荷輸送層23との界面に、記録
用光導電層22内で発生した画像情報を担持する潜像極
性電荷を蓄積する2次元状に分布した蓄電部29が形成
される。
This solid-state detector 20a generates a charge pair by receiving the irradiation of the first conductive layer 21 which is transparent to the recording light and the recording light which has passed through the first conductive layer 21 and becomes conductive. The recording photoconductive layer 22 which is present, acts substantially as an insulator against the latent image polar charge (for example, negative charge) in the charge pair, and has a transport polar charge (above-mentioned polarity opposite to the latent image polar charge). (For example, positive charge), the charge transport layer 23 acts substantially as a conductor, the reading photoconductive layer 24 that exhibits conductivity by generating a charge pair when irradiated with reading light, and a photocharge pair generation The second conductive layer 25 having the electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27, and the support 18 having transparency to the reading light are arranged in this order.
At the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23, a two-dimensionally distributed power storage unit 29 for accumulating the latent image polar charge carrying the image information generated in the recording photoconductive layer 22 is formed. It

【0022】支持体18としては、読取光に対して透明
なガラス基板等を用いることができる。また、読取光に
対して透明であることに加えて、その熱膨張率が読取用
光導電層24の物質の熱膨張率と比較的近い物質を使用
するとより望ましい。例えば、読取用光導電層24とし
てa−Se(アモルファスセレン)を使用する場合であ
れば、Seの熱膨張率が3.68×10−5/K@40
℃ であることを考慮して、熱膨張率が1.0〜10.
0×10−5/K@40℃、より好ましくは、4.0〜
8.0×10−5/K@40℃である物質を使用する。
熱膨張率がこの範囲の物質としては、ポリカーボネート
やポリメチルメタクリレート(PMMA)等の有機ポリ
マー材料を使用することができる。これによって、基板
としての支持体18と読取用光導電層24(Se膜)と
の熱膨張のマッチングがとれ、特別な環境下、例えば寒
冷気候条件下での船舶輸送中等において、大きな温度サ
イクルを受けても、支持体18と読取用光導電層24と
の界面で熱ストレスが生じ、両者が物理的に剥離する、
読取用光導電層24が破れる、あるいは支持体18が割
れる等、熱膨張差による破壊の問題が生じることがな
い。さらに、ガラス基板に比べて有機ポリマー材料は衝
撃に強いというメリットがある。
As the support 18, a glass substrate or the like which is transparent to the reading light can be used. Further, in addition to being transparent to the reading light, it is more desirable to use a substance whose thermal expansion coefficient is relatively close to that of the reading photoconductive layer 24. For example, when a-Se (amorphous selenium) is used as the reading photoconductive layer 24, the coefficient of thermal expansion of Se is 3.68 × 10 −5 / K @ 40.
Considering that the temperature is 1.0 ° C., the coefficient of thermal expansion is 1.0 to 10.
0 × 10 −5 / K @ 40 ° C., more preferably 4.0.
Use a substance that is 8.0 × 10 −5 / K @ 40 ° C.
As a substance having a coefficient of thermal expansion within this range, an organic polymer material such as polycarbonate or polymethylmethacrylate (PMMA) can be used. As a result, the thermal expansion of the support 18 as a substrate and the photoconductive layer for reading 24 (Se film) can be matched, and a large temperature cycle can be performed in a special environment, for example, during ship transportation under cold weather conditions. Even if received, thermal stress occurs at the interface between the support 18 and the reading photoconductive layer 24, and the two physically separate.
There is no problem of destruction due to the difference in thermal expansion, such as the reading photoconductive layer 24 breaking or the support 18 cracking. Furthermore, organic polymer materials have the advantage of being more resistant to impacts than glass substrates.

【0023】記録用光導電層22の物質としては、a−
Se(アモルファスセレン)、PbO、PbI 等の
酸化鉛(II)やヨウ化鉛(II)、Bi12(Ge,S
i)O 20、Bi/有機ポリマーナノコンポジッ
ト等のうち少なくとも1つを主成分とする光導電性物質
が適当である。
The material of the recording photoconductive layer 22 is a-
Se (amorphous selenium), PbO, PbITwo  Etc.
Lead (II) oxide, lead (II) iodide, Bi12(Ge, S
i) O 20, BiTwoIThree/ Organic polymer nanocomposite
Photoconductive material containing at least one of
Is appropriate.

【0024】電荷輸送層23の物質としては、例えば第
1導電層21に帯電される負電荷の移動度と、その逆極
性となる正電荷の移動度の差が大きい程良く(例えば1
以上、望ましくは10以上)ポリN−ビニルカル
バゾール(PVK)、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス
(3−メチルフェニル)−〔1,1'−ビフェニル〕−4,4'
−ジアミン(TPD)やディスコティック液晶等の有機
系化合物、或いはTPDのポリマー(ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、PUK)分散物、Clを10〜20
0ppmドープしたa−Se等の半導体物質が適当であ
る。特に、有機系化合物(PVK,TPD、ディスコテ
ィック液晶等)は光不感性を有するため好ましく、ま
た、誘電率が一般に小さいため電荷輸送層23と読取用
光導電層24の容量が小さくなり読取時の信号取り出し
効率を大きくすることができる。なお、「光不感性を有
する」とは、記録光や読取光の照射を受けても殆ど導電
性を呈するものでないことを意味する。
For the material of the charge transport layer 23, the larger the difference between the mobility of the negative charge charged in the first conductive layer 21 and the mobility of the positive charge having the opposite polarity, the better (for example, 1
0 2 or more, preferably 10 3 or higher) poly N- vinylcarbazole (PVK), N, N'-diphenyl -N, N'-bis (3-methylphenyl) - [1,1'-biphenyl] -4, Four'
An organic compound such as diamine (TPD) or discotic liquid crystal, or a polymer dispersion of TPD (polycarbonate, polystyrene, PUK), Cl of 10 to 20
A semiconductor material such as 0 ppm doped a-Se is suitable. In particular, organic compounds (PVK, TPD, discotic liquid crystal, etc.) are preferable because they have light insensitivity. Further, since the permittivity is generally small, the charge transport layer 23 and the reading photoconductive layer 24 have small capacities, and at the time of reading. The signal extraction efficiency of can be increased. It should be noted that "having light insensitivity" means that it exhibits almost no conductivity even when irradiated with recording light or reading light.

【0025】読取用光導電層24の物質としては、a−
Se,Se−Te,Se−As−Te,無金属フタロシ
アニン,金属フタロシアニン,MgPc(Magnesium ph
talocyanine),VoPc(phaseII of Vanadyl phthal
ocyanine),CuPc(Cupper phtalocyanine)等のう
ち少なくとも1つを主成分とする光導電性物質が好適で
ある。
The material of the reading photoconductive layer 24 is a-
Se, Se-Te, Se-As-Te, metal-free phthalocyanine, metal phthalocyanine, MgPc (Magnesium ph)
talocyanine), VoPc (phaseII of Vanadyl phthal
Cyanine), CuPc (Cupper phtalocyanine), and the like, and a photoconductive substance containing at least one as a main component is suitable.

【0026】記録用光導電層22の厚さは、記録光を十
分に吸収できるようにするには、50μm以上1000
μm以下であるのが好ましい。
The thickness of the recording photoconductive layer 22 is 50 μm or more and 1000 in order to sufficiently absorb the recording light.
It is preferably not more than μm.

【0027】また電荷輸送層23と読取用光導電層24
との厚さの合計は記録用光導電層22の厚さの1/2以
下であることが望ましく、また薄ければ薄いほど読取時
の応答性が向上するので、例えば1/10以下、さらに
は1/100以下等にするのが好ましい。
The charge transport layer 23 and the reading photoconductive layer 24 are also provided.
It is desirable that the sum of the thicknesses of and is less than or equal to 1/2 of the thickness of the recording photoconductive layer 22, and the thinner the thickness, the better the response at the time of reading. Is preferably 1/100 or less.

【0028】なお、上記各層の材料は、第1導電層21
に負電荷を、第2導電層25に正電荷を帯電させて、記
録用光導電層22と電荷輸送層23との界面に形成され
る蓄電部29に潜像極性電荷としての負電荷を蓄積せし
めるとともに、電荷輸送層23を、潜像極性電荷として
の負電荷の移動度よりも、その逆極性となる輸送極性電
荷としての正電荷の移動度の方が大きい、いわゆる正孔
輸送層として機能させるものとして好適なものの一例で
あるが、これらは、それぞれが逆極性の電荷であっても
良く、このように極性を逆転させる際には、正孔輸送層
として機能する電荷輸送層を電子輸送層として機能する
電荷輸送層に変更する等の若干の変更を行なうだけでよ
い。
The material of each of the above layers is the first conductive layer 21.
Is charged with a negative charge, and the second conductive layer 25 is charged with a positive charge, and a negative charge as a latent image polar charge is accumulated in the electricity storage unit 29 formed at the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23. At the same time, the charge transport layer 23 functions as a so-called hole transport layer in which the mobility of the positive charge as the transport polarity charge having the opposite polarity is larger than the mobility of the negative charge as the latent image polarity charge. However, they may have opposite polarities, and when reversing the polarities as described above, the charge transporting layer that functions as a hole transporting layer may be used as an electron transporting layer. Only minor changes, such as changing to a charge transport layer that functions as a layer, are required.

【0029】例えば、記録用光導電層22として上述の
アモルファスセレンa−Se、酸化鉛(II)、ヨウ化鉛
(II)等の光導電性物質が同様に使用でき、電荷輸送層
23としてN−トリニトロフルオレニリデン・アニリン
(TNFA)誘電体、トリニトロフルオレノン( TNF)/ポ
リエステル分散系、非対称ジフェノキノン誘導体が適当
であり、読取用光導電層24として上述の無金属フタロ
シアニン、金属フタロシアニンが同様に使用できる。
For example, a photoconductive substance such as the above-mentioned amorphous selenium a-Se, lead (II) oxide, or lead (II) iodide can be similarly used as the recording photoconductive layer 22, and N can be used as the charge transport layer 23. -Trinitrofluorenylidene-aniline (TNFA) dielectrics, trinitrofluorenone (TNF) / polyester dispersions, asymmetric diphenoquinone derivatives are suitable, and the above-mentioned metal-free phthalocyanine and metal phthalocyanine are the same as the reading photoconductive layer 24. Can be used for

【0030】また、上記検出器20aでは、蓄電部29
を記録用光導電層22と電荷輸送層23との界面に形成
していたが、これに限らず、例えば米国特許第 4535468
号に記載のように、潜像極性電荷をトラップとして蓄積
するトラップ層により蓄電部を形成してもよい。
In the detector 20a, the power storage unit 29
Was formed at the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23, but the invention is not limited to this. For example, US Pat. No. 4,535,468.
As described in No. 5, the electricity storage unit may be formed by a trap layer that accumulates latent image polar charges as traps.

【0031】第1導電層21としては、記録光に対して
透過性を有するものであればよく、例えば可視光に対し
て透過性を持たせる場合には、光透過性金属薄膜として
周知のネサ皮膜(SnO2 )、ITO(Indium Tin O
xide)、あるいはエッチングのし易いアモルファス状光
透過性酸化金属であるIDIXO(Idemitsu IndiumX-m
etal Oxide ;出光興産(株))等の酸化金属を50〜
200nm厚程度、好ましくは100nm以上にして用
いることができる。また、アルミニウムAl、金Au、
モリブデンMo、クロムCr等の純金属を、例えば20
nm以下(好ましくは10nm程度)の厚さにすること
によって可視光に対して透過性を持たせることもでき
る。なお、記録光としてX線を使用し、第1導電層21
側から該X線を照射して画像を記録する場合には、第1
導電層21としては可視光に対する透過性が不要である
から、該第1導電層21は、例えば100nm厚のAl
やAu等の純金属を用いることもできる。
Any material may be used as the first conductive layer 21 as long as it is transparent to recording light. For example, when it is made transparent to visible light, it is known as a light-transmitting metal thin film. Film (SnO2), ITO (Indium Tin O
xide) or IDIXO (Idemitsu IndiumX-m) which is an amorphous light-transmissive metal oxide that is easy to etch
etal Oxide; Idemitsu Kosan Co., Ltd., etc.
It can be used with a thickness of about 200 nm, preferably 100 nm or more. In addition, aluminum Al, gold Au,
A pure metal such as molybdenum Mo or chromium Cr is used, for example, 20
By setting the thickness to be less than or equal to nm (preferably about 10 nm), it is possible to impart the transparency to visible light. Note that X-rays are used as the recording light, and the first conductive layer 21
When recording the image by irradiating the X-ray from the side,
Since the conductive layer 21 does not need to transmit visible light, the first conductive layer 21 is made of, for example, Al having a thickness of 100 nm.
A pure metal such as Au or Au can also be used.

【0032】第2導電層25は、読取光透過性の多数の
線状電極26aを有する光電荷対発生電極26と、読取
光遮光性の多数の線状電極27aを有する光電荷対非発
生電極27とを備えている。光電荷対発生電極26の線
状電極26aと光電荷対非発生電極27の線状電極27
aとは交互にかつ互いに平行に配置されるように配列さ
れている。
The second conductive layer 25 includes a photocharge pair generating electrode 26 having a large number of linear electrodes 26a that are transparent to the reading light and a photocharge pair non-generating electrode having a large number of linear electrodes 27a that are shielded from the reading light. And 27. The linear electrode 26a of the photocharge pair generating electrode 26 and the linear electrode 27 of the photocharge pair non-generating electrode 27
They are arranged so that they are alternately arranged in parallel with a.

【0033】上記光電荷対発生電極26と光電荷対非発
生電極27とは、上記各層の積層方向に離間して設けら
れ、さらに、光電荷対発生電極26と光電荷対非発生電
極27との間に絶縁層28が設けられている。
The photocharge pair generating electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27 are provided separately in the stacking direction of the layers, and the photocharge pair generating electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27 are further provided. An insulating layer 28 is provided between them.

【0034】光電荷対非発生電極27は、記録用光導電
層22と電荷輸送層23との略界面に形成される蓄電部
29に蓄積された潜像電荷の量に応じたレベルの電気信
号を出力させるための導電部材である。
The photocharge pair non-generating electrode 27 is an electric signal having a level corresponding to the amount of latent image charge accumulated in the electricity storage unit 29 formed at the substantially interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23. Is a conductive member for outputting.

【0035】図2(A)に、固体検出器20aの断面図
を示す。光電荷対発生電極26の線状電極26a間は読
取用光導電層24の一部が介在しており、光電荷対発生
電極26と光電荷対非発生電極27とは絶縁層28によ
り電気的に絶縁されている。また、光電荷対非発生電極
27の下面および上面には、光電荷対非発生電極27よ
りも読取光に対する反射率特性の低い低反射率層40a
および40bが設けられている。
FIG. 2A shows a sectional view of the solid-state detector 20a. A part of the reading photoconductive layer 24 is interposed between the linear electrodes 26a of the photocharge pair generating electrode 26, and the photocharge pair generating electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27 are electrically connected by the insulating layer 28. Insulated. Further, on the lower surface and the upper surface of the photocharge pair non-generating electrode 27, the low reflectance layer 40a having a lower reflectance characteristic for the reading light than the photocharge pair non-generating electrode 27 is formed.
And 40b are provided.

【0036】光電荷対非発生電極27の下面に低反射率
層40aを設けることにより、光電荷対非発生電極27
の下方から入射する読取光や、固体検出器20a内部で
反射されて外部に出射し、固体検出器20a外部で反射
して再度固体検出器20aに入射した読取光が光電荷対
非発生電極27の下面で反射し、さらに支持体18と固
体検出器20a外部との界面で再反射して光電荷対非発
生電極27の上方の読取用光導電層24に入射すること
を防止することができる。
By providing the low reflectance layer 40a on the lower surface of the photocharge pair non-generating electrode 27, the photocharge pair non-generating electrode 27 is formed.
The reading light incident from below, or the reading light reflected inside the solid-state detector 20a, emitted to the outside, reflected outside the solid-state detector 20a, and then incident on the solid-state detector 20a again is not generated by the photocharge pair non-generating electrode 27. Can be prevented from entering the reading photoconductive layer 24 above the photocharge pair non-generating electrode 27 by being reflected by the lower surface of the substrate 18 and again by the interface between the support 18 and the outside of the solid-state detector 20a. .

【0037】また、光電荷対非発生電極27の上面に低
反射率層40bを設けることにより、光電荷対非発生電
極27の上方から入射する、光電荷対発生電極26の下
面や、読取用光導電層24と絶縁層28との界面で反射
(散乱)した反射光(読取光)が光電荷対非発生電極2
7の上面で乱反射して、光電荷対非発生電極27の上方
の読取用光導電層24に入射したり、検出器20a内で
さらに散乱することを防止することができる。
Further, by providing the low-reflectance layer 40b on the upper surface of the photocharge pair non-generating electrode 27, the lower surface of the photocharge pair generating electrode 26 which is incident from above the photocharge pair non-generating electrode 27 and for reading. The reflected light (reading light) reflected (scattered) at the interface between the photoconductive layer 24 and the insulating layer 28 is the photocharge pair non-generating electrode 2
It is possible to prevent diffused reflection on the upper surface of 7 and incident on the reading photoconductive layer 24 above the photocharge pair non-generating electrode 27 and further scattering in the detector 20a.

【0038】勿論、上記以外の散乱反射光(読取光)に
対しても、低反射率層40aおよび40bを設けること
により、散乱を防止することができる。
Of course, scattering reflection light (reading light) other than the above can be prevented by providing the low reflectance layers 40a and 40b.

【0039】この低反射率層40aおよび40bは、必
ずしも光電荷対非発生電極27の両面に設ける必要はな
く、いずれか一方のみに設けてもよい。
The low reflectance layers 40a and 40b are not necessarily provided on both surfaces of the photocharge pair non-generating electrode 27, and may be provided on only one of them.

【0040】また、図2(B)に示すように、光電荷対
発生電極26と光電荷対非発生電極27との間に絶縁層
28を設けない場合には、光電荷対非発生電極27の下
面のみに低反射率層40aを設ければよい。
Further, as shown in FIG. 2B, when the insulating layer 28 is not provided between the photocharge pair generating electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27, the photocharge pair non-generating electrode 27 is not provided. The low reflectance layer 40a may be provided only on the lower surface of the.

【0041】ここで、光電荷対発生電極26の各線状電
極26aを形成する電極材の材質としては、ITO(In
dium Tin Oxide)、IDIXO(Idemitsu Indium X-me
talOxide ;出光興産(株))、アルミニウムまたはモ
リブデン等を用いることができる。また、光電荷対非発
生電極27の各線状電極27aを形成する電極材の材質
としては、アルミニウム、モリブデンまたはクロム等を
用いることができる。
Here, as a material of the electrode material forming each linear electrode 26a of the photocharge pair generating electrode 26, ITO (In
dium Tin Oxide), IDIXO (Idemitsu Indium X-me
talOxide; Idemitsu Kosan Co., Ltd., aluminum or molybdenum can be used. Further, as a material of the electrode material forming each linear electrode 27a of the photocharge pair non-generating electrode 27, aluminum, molybdenum, chromium or the like can be used.

【0042】この検出器20aにおいては、記録用光導
電層22を挟んで第1導電層21と蓄電部29との間に
コンデンサC*aが形成され、電荷輸送層23および読
取用光導電層24を挟んで蓄電部29と光電荷対発生電
極26(エレメント26a)との間にコンデンサC*b
が形成され、読取用光導電層24および電荷輸送層23
を介して蓄電部29と光電荷対非発生電極27(エレメ
ント27a)との間にコンデンサC*cが形成される。
読取時における電荷再配列の際に、各コンデンサ
*a、C*b、C*cに配分される正電荷の量
+a、Q+b、Q+cは、総計Qが潜像極性電荷の
量Qと同じで、各コンデンサの容量C、C、C
に比例した量となる。これを式で示すと下記のように表
すことができる。
In this detector 20a, the recording light guide is used.
Between the first conductive layer 21 and the power storage unit 29 with the electric layer 22 interposed therebetween.
Capacitor C* AAre formed, the charge transport layer 23 and the read
The photoconductive layer 24 is sandwiched between the power storage unit 29 and the photocharge pair generating power.
Capacitor C between pole 26 (element 26a)* B
Are formed, and the reading photoconductive layer 24 and the charge transport layer 23 are formed.
The storage unit 29 and the photocharge pair non-generating electrode 27 (element
Capacitor 27a) and a capacitor C* CIs formed.
When recharging the charge during reading, each capacitor
C* A, C* B, C* CAmount of positive charge distributed to
Q+ A, Q+ B, Q+ CIs the total Q+Of the latent image polar charge
Quantity QThe same as, the capacitance C of each capacitora, Cb, C c
The amount is proportional to. This can be expressed as a table as shown below.
You can

【0043】 Q =Q =Q+a+Q+b+Q+c+a =Q ×C /(C +C +C
) Q+b =Q ×C /(C +C +C
) Q+c =Q ×C /(C +C +C
) そして、検出器20aから取り出し得る信号電荷量はコ
ンデンサC*a、C に配分された正電荷の量
+a、Q+cの合計(Q+a+Q+c)と同じくな
り、コンデンサC*bに配分された正電荷は信号電荷と
して取り出せない(詳細は特開2000−284056
号公報参照)。
Q = Q + = Q + a + Q + b + Q + c Q + a = Q + × C a / (C a + C b + C
c ) Q + b = Q + × C b / (C a + C b + C
c ) Q + c = Q + × C c / (C a + C b + C
c ) Then, the amount of signal charge that can be taken out from the detector 20a is the same as the sum (Q + a + Q + c ) of the amounts of positive charges Q + a and Q + c distributed to the capacitors C * a and C * c , and the capacitor C * The positive charge distributed to b cannot be taken out as a signal charge (for details, see JP-A-2000-284056).
(See the official gazette).

【0044】ここで、光電荷対発生電極26および光電
荷対非発生電極27によるコンデンサC*b、C*c
容量について考えてみると、容量比C:Cは、各エ
レメント26a、27aの幅の比Wb:Wcとなる。一
方、コンデンサC*aの容量CとコンデンサC*b
容量Cは、光電荷対非発生電極27を設けても実質的
に大きな影響は現れない。
Considering the capacities of the capacitors C * b and C * c formed by the photocharge pair generating electrode 26 and the photocharge pair non-generating electrode 27, the capacitance ratio Cb : Cc is calculated as follows : The width ratio Wb: Wc of 27a is obtained. On the other hand, the capacitance C b of the capacitor C a and the capacitor C * b in the capacitor C * a do not appear substantially greater influence provided photocharge to non generation electrode 27.

【0045】この結果、読取時における電荷再配列の際
に、コンデンサC*bに配分される正電荷の量Q+b
光電荷対非発生電極27を設けない場合よりも相対的に
少なくすることができ、その分だけ、光電荷対非発生電
極27を介して検出器20aから取り出し得る信号電荷
量を光電荷対非発生電極27を設けない場合よりも相対
的に大きくすることができる。
As a result, during charge rearrangement at the time of reading, the amount of positive charges Q + b distributed to the capacitor C * b should be made relatively smaller than in the case where the photocharge pair non-generating electrode 27 is not provided. Therefore, the amount of signal charge that can be taken out from the detector 20a via the photocharge pair non-generating electrode 27 can be made relatively larger than that in the case where the photocharge pair non-generating electrode 27 is not provided.

【0046】次に、本発明による放射線固体検出器の第
2の実施の形態について図3を参照して説明する。図3
は本発明の固体検出器の第2の実施の形態の概略構成を
示す図であり、図3(A)は固体検出器20bの斜視
図、図3(B)は固体検出器20bのQ矢指部のXZ断
面図、図3(C)は固体検出器20bのP矢指部のXY
断面図である。また、図3においては、図1に示す第1
の実施の形態による検出器20aの要素と同等の要素に
は同番号を付し、それらについての説明は特に必要のな
い限り省略する。
Next, a second embodiment of the solid-state radiation detector according to the present invention will be described with reference to FIG. Figure 3
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the solid-state detector of the present invention, FIG. 3 (A) is a perspective view of the solid-state detector 20b, and FIG. 3 (B) is a Q arrow finger of the solid-state detector 20b. 3 is a cross-sectional view taken along the line XZ of FIG. 3C, and FIG.
FIG. In addition, in FIG. 3, the first shown in FIG.
The same elements as those of the detector 20a according to the embodiment of the present invention are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted unless particularly necessary.

【0047】なお、本実施の形態の固体検出器20b
は、第1の実施の形態の固体検出器20aの第2導電層
25と支持体18との間にさらに光電荷対非発生電極2
7に入射する読取光を遮光する遮光膜31を追加したも
のである。
Incidentally, the solid-state detector 20b of the present embodiment.
Is between the second conductive layer 25 and the support 18 of the solid-state detector 20a of the first embodiment.
A light-shielding film 31 that shields the reading light incident on the beam No. 7 is added.

【0048】以下、図面を参照して本発明の実施の形態
について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0049】この固体検出器20bは、記録光に対して
透過性を有する第1導電層21、この第1導電層21を
透過した記録光の照射を受けることにより電荷対を発生
し導電性を呈する記録用光導電層22、前記電荷対の内
の潜像極性電荷(例えば負電荷)に対しては略絶縁体と
して作用し、かつ該潜像極性電荷と逆極性の輸送極性電
荷(上述の例においては正電荷)に対しては略導電体と
して作用する電荷輸送層23、読取光の照射を受けるこ
とにより電荷対を発生して導電性を呈する読取用光導電
層24、光電荷対発生電極26および光電荷対非発生電
極27を備えた第2導電層25、読取光に対して透過性
を有する絶縁層30、読取光に対して透過性を有する支
持体18をこの順に配してなるものである。記録用光導
電層22と電荷輸送層23との界面に、記録用光導電層
22内で発生した画像情報を担持する潜像極性電荷を蓄
積する2次元状に分布した蓄電部29が形成される。
This solid-state detector 20b generates a charge pair by receiving the irradiation of the first conductive layer 21 that is transparent to the recording light and the recording light that has passed through the first conductive layer 21 and becomes conductive. The recording photoconductive layer 22 which is present, acts substantially as an insulator against the latent image polar charge (for example, negative charge) in the charge pair, and has a transport polar charge (above-mentioned polarity opposite to the latent image polar charge). (For example, positive charge), the charge transport layer 23 acts substantially as a conductor, the reading photoconductive layer 24 that exhibits conductivity by generating a charge pair when irradiated with reading light, and a photocharge pair generation A second conductive layer 25 having an electrode 26 and a photocharge pair non-generating electrode 27, an insulating layer 30 having read light transparency, and a support 18 having read light transparency are arranged in this order. It will be. At the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23, a two-dimensionally distributed power storage unit 29 for accumulating the latent image polar charge carrying the image information generated in the recording photoconductive layer 22 is formed. It

【0050】図4に固体検出器20bの断面図を示す。
支持体18上の各線状電極27aおよび線状電極26a
と線状電極27aとの間に対応する部分に、読取光の線
状電極27aへの照射強度が読取光の線状電極26aへ
の照射強度よりも小さくなるように光透過性の劣る部材
からなる遮光膜31が設けられている。
FIG. 4 shows a sectional view of the solid-state detector 20b.
Each linear electrode 27a and linear electrode 26a on the support 18
And the linear electrode 27a, a portion having a low light transmission property is provided so that the irradiation intensity of the reading light on the linear electrode 27a is lower than the irradiation intensity of the reading light on the linear electrode 26a. Is provided.

【0051】この遮光膜31の部材としては、必ずしも
絶縁性を有しているものでなくてもよく、遮光膜31の
比抵抗が2×10−6以上(さらに好ましくは1×10
15Ω・cm以下)のものを使用することができる。例
えば金属材料であればAl、Mo、Cr等を用いること
ができ、有機材料であればMOS、WSi、TiN
等を用いることができる。なお、遮光膜31の比抵抗が
1Ω・cm以上のものを使用するとより好ましい。
The member of the light-shielding film 31 does not necessarily have an insulating property, and the light-shielding film 31 has a specific resistance of 2 × 10 −6 or more (more preferably 1 × 10 6).
15 Ω · cm or less) can be used. For example, metal materials such as Al, Mo, and Cr can be used, and organic materials include MOS 2 , WSi 2 , and TiN.
Etc. can be used. It is more preferable to use a light-shielding film 31 having a specific resistance of 1 Ω · cm or more.

【0052】また、少なくとも遮光膜31の部材として
金属材料等導電性の部材を使用したときには、遮光膜3
1とエレメント27aとの直接接触を避けるため両者の
間に絶縁物を配する。本実施形態の検出器20bは、こ
の絶縁物として、第2導電層25と支持体18との間に
SiO等からなる絶縁層30を設けている。この絶縁
層30の厚さは、0.01〜10μm程度、より好まし
くは0.1μ〜1μm程度、最も好ましくは0.5μm
程度がよい。
When at least a conductive member such as a metal material is used as the member of the light shielding film 31, the light shielding film 3 is used.
In order to avoid direct contact between the element 1 and the element 27a, an insulator is arranged between them. The detector 20b of the present embodiment is provided with an insulating layer 30 made of SiO 2 or the like between the second conductive layer 25 and the support 18 as this insulator. The insulating layer 30 has a thickness of about 0.01 to 10 μm, more preferably about 0.1 μ to 1 μm, and most preferably 0.5 μm.
The degree is good.

【0053】上記遮光膜31の下面には、遮光膜31よ
りも読取光に対する反射率特性の低い低反射率層41a
が設けられている。この低反射率層41aを遮光膜31
の下面に設けることにより、遮光膜31の下方から入射
する読取光や、固体検出器20b内部で反射されて外部
に出射し、固体検出器20b外部で反射して再度固体検
出器20bに入射した読取光が遮光膜31の下面で反射
し、さらに支持体18と固体検出器20b外部との界面
で再反射して光電荷対非発生電極27の上方の読取用光
導電層24に入射することを防止することができる。
On the lower surface of the light-shielding film 31, a low-reflectance layer 41a having a lower reflectance characteristic for reading light than the light-shielding film 31 is provided.
Is provided. The low-reflectance layer 41a is used as the light-shielding film 31.
By being provided on the lower surface of the light-shielding film 31, the reading light incident from below the light-shielding film 31 or reflected inside the solid-state detector 20b to be emitted to the outside, reflected outside the solid-state detector 20b, and incident to the solid-state detector 20b again. The reading light is reflected on the lower surface of the light shielding film 31, is further reflected again at the interface between the support 18 and the outside of the solid state detector 20b, and is incident on the reading photoconductive layer 24 above the photocharge pair non-generating electrode 27. Can be prevented.

【0054】勿論、上記以外の散乱反射光(読取光)に
対しても、低反射率層41aを設けることにより、散乱
を防止することができる。
Of course, scattering reflection light (reading light) other than the above can be prevented by providing the low reflectance layer 41a.

【0055】なお、低反射率層は、遮光膜31の下面の
みに設ける態様に限るものではなく、遮光膜31の両
面、もしくは上面のみに設けてもよい。
The low reflectance layer is not limited to being provided only on the lower surface of the light shielding film 31, but may be provided on both surfaces of the light shielding film 31 or only on the upper surface thereof.

【0056】また、遮光膜31を設けた場合であって
も、さらに第1の実施の形態と同様に光電荷対非発生電
極27に低反射率層を設けてもよい。
Even when the light shielding film 31 is provided, a low reflectance layer may be provided on the photocharge pair non-generating electrode 27 as in the first embodiment.

【0057】以上、本発明による固体検出器の好ましい
実施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形
態に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない
限りにおいて、種々変更することが可能である。
Although the preferred embodiment of the solid-state detector according to the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and various modifications can be made without changing the gist of the invention. It is possible.

【0058】例えば、上記実施の形態による検出器は、
何れも、記録用光導電層が、記録用の放射線の照射によ
って導電性を呈するものであるが、本発明による検出器
の記録用光導電層は必ずしもこれに限定されるものでは
なく、記録用光導電層は、記録用の放射線の励起により
発せられる光の照射によって導電性を呈するものとして
もよい(特開2000−105297号公報参照)。こ
の場合、第1導電層の表面に記録用の放射線を、例えば
青色光等、他の波長領域の光に波長変換するいわゆるX
線シンチレータといわれる波長変換層を積層したものと
するとよい。この波長変換層としては、例えばヨウ化セ
シウム(CsI)等を用いるのが好適である。また、第1
導電層は、記録用の放射線の励起により波長変換層で発
せられた光に対して透過性を有するものとする。
For example, the detector according to the above embodiment is
In either case, the recording photoconductive layer exhibits conductivity by irradiation with recording radiation, but the recording photoconductive layer of the detector according to the present invention is not necessarily limited to this. The photoconductive layer may be made conductive by irradiation with light emitted by excitation of recording radiation (see JP-A-2000-105297). In this case, the so-called X that converts the wavelength of the recording radiation on the surface of the first conductive layer into light in another wavelength range, such as blue light, is used.
It is preferable that a wavelength conversion layer called a line scintillator is laminated. As the wavelength conversion layer, it is preferable to use, for example, cesium iodide (CsI) or the like. Also, the first
The conductive layer is transparent to the light emitted from the wavelength conversion layer when excited by the recording radiation.

【0059】また、上記実施の形態による検出器は、記
録用光導電層と読取用光導電層との間に電荷輸送層を設
け、記録用光導電層と電荷輸送層との界面に蓄電部を形
成するようにしたものであるが、電荷輸送層をトラップ
層に置き換えたものとしてもよい。トラップ層とした場
合には、潜像電荷は、該トラップ層に捕捉され、該トラ
ップ層内またはトラップ層と記録用光導電層の界面に潜
像電荷が蓄積される。また、このトラップ層と記録用光
導電層の界面に、画素毎に、格別に、マイクロプレート
を設けるようにしてもよい。
Further, in the detector according to the above-mentioned embodiment, the charge transport layer is provided between the recording photoconductive layer and the reading photoconductive layer, and the electricity storage unit is provided at the interface between the recording photoconductive layer and the charge transport layer. However, the charge transport layer may be replaced with a trap layer. When the trap layer is used, the latent image charge is captured by the trap layer, and the latent image charge is accumulated in the trap layer or at the interface between the trap layer and the recording photoconductive layer. Further, a microplate may be provided at the interface between the trap layer and the recording photoconductive layer for each pixel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による固体検出器の
斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、P矢指部
のXY断面図(C)
FIG. 1 is a perspective view of a solid-state detector according to a first embodiment of the present invention (A), an XZ sectional view of a Q arrow finger portion (B), an XY sectional view of a P arrow finger portion (C).

【図2】本発明の第1の実施の形態による固体検出器の
断面図
FIG. 2 is a sectional view of the solid-state detector according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態による固体検出器の
斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、P矢指部
のXY断面図(C)
FIG. 3 is a perspective view of a solid-state detector according to a second embodiment of the present invention (A), an XZ sectional view of a Q arrow finger portion (B), an XY sectional view of a P arrow finger portion (C).

【図4】本発明の第2の実施の形態による固体検出器の
断面図
FIG. 4 is a sectional view of a solid-state detector according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20a、b 固体検出器 21 第1導電層 22 記録用光導電層 23 電荷輸送層 24 読取用光導電層 25 第2導電層 26 光電荷対発生電極 26a 線状電極 27 光電荷対非発生電極 27a 線状電極 28 絶縁層 29 蓄電部 40a、b 低反射率層 41a 低反射率層 20a, b solid state detector 21 First conductive layer 22 Photoconductive layer for recording 23 Charge transport layer 24 Photoconductive layer for reading 25 Second conductive layer 26 Photocharge pair generating electrode 26a linear electrode 27 Photoelectric charge pair non-generating electrode 27a linear electrode 28 Insulation layer 29 power storage unit 40a, b low reflectance layer 41a low reflectance layer

フロントページの続き Fターム(参考) 2G088 EE01 FF02 GG21 GG25 JJ05 JJ09 JJ31 KK32 LL09 LL11 LL12 4M118 AA05 AA10 AB01 BA05 CA15 CB05 CB14 DD01 GB18 5C024 AX12 AX17 CX03 CX37 CY47 DX04 GX07 Continued front page    F term (reference) 2G088 EE01 FF02 GG21 GG25 JJ05                       JJ09 JJ31 KK32 LL09 LL11                       LL12                 4M118 AA05 AA10 AB01 BA05 CA15                       CB05 CB14 DD01 GB18                 5C024 AX12 AX17 CX03 CX37 CY47                       DX04 GX07

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録光に対して透過性を有する第1の導
電層と、 前記記録光の照射を受けることにより光導電性を呈する
記録用光導電層と、 前記記録光の光量に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄
積する蓄電部と、 読取光の照射を受けることにより光導電性を呈する読取
用光導電層と、 前記読取光に対して透過性を有する多数の線状電極から
なる光電荷対発生電極と、多数の線状電極からなる光電
荷対非発生電極とを備え、前記光電荷対発生電極の線状
電極と前記光電荷対非発生電極の線状電極とが交互に配
置された第2の導電層とをこの順に積層してなる固体検
出器において、 前記光電荷対非発生電極が、上面および/または下面に
前記読取光に対して低い反射率特性を有する低反射率層
を備えたものであることを特徴とする固体検出器。
1. A first conductive layer having transmissivity for recording light, a recording photoconductive layer exhibiting photoconductivity by being irradiated with the recording light, and a recording conductive layer according to a light amount of the recording light. From a power storage unit that stores a certain amount of charge as latent image charge, a reading photoconductive layer that exhibits photoconductivity by being irradiated with reading light, and a large number of linear electrodes that are transparent to the reading light. And a photocharge pair non-generating electrode composed of a large number of linear electrodes, wherein the photocharge pair generating electrode linear electrodes and the photocharge pair non-generating electrode linear electrodes alternate with each other. And a second conductive layer disposed in this order, the photocharge pair non-generating electrode having a low reflectance characteristic with respect to the read light on the upper surface and / or the lower surface. Solid-state detector characterized by having a reflectance layer
【請求項2】 記録光に対して透過性を有する第1の導
電層と、 前記記録光の照射を受けることにより光導電性を呈する
記録用光導電層と、 前記記録光の光量に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄
積する蓄電部と、 読取光の照射を受けることにより光導電性を呈する読取
用光導電層と、 前記読取光に対して透過性を有する多数の線状電極から
なる光電荷対発生電極と、多数の線状電極からなる光電
荷対非発生電極とを備え、前記光電荷対発生電極の線状
電極と前記光電荷対非発生電極の線状電極とが交互に配
置された第2の導電層と、前記光電荷対非発生電極に照
射される前記読取光を遮光する遮光膜とをこの順に積層
してなる固体検出器において、 前記遮光膜が、上面および/または下面に前記読取光に
対して低い反射率特性を有する低反射率層を備えたもの
であることを特徴とする固体検出器。
2. A first conductive layer having transmissivity for recording light, a recording photoconductive layer exhibiting photoconductivity by being irradiated with the recording light, and a light-transmitting layer according to the amount of the recording light. From a power storage unit that stores a certain amount of charge as latent image charge, a reading photoconductive layer that exhibits photoconductivity by being irradiated with reading light, and a large number of linear electrodes that are transparent to the reading light. And a photocharge pair non-generating electrode composed of a large number of linear electrodes, wherein the photocharge pair generating electrode linear electrodes and the photocharge pair non-generating electrode linear electrodes alternate with each other. In the solid-state detector, the second conductive layer disposed on the light-shielding layer and a light-shielding film that shields the reading light with which the photocharge pair non-generating electrode is irradiated are stacked in this order. And / or a lower surface having a low reflectance characteristic with respect to the reading light. Solid state detector, characterized in that those having a morphism index layer.
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