JP2003193017A - Adhesive material, adhesive sheet, and display device - Google Patents

Adhesive material, adhesive sheet, and display device

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JP2003193017A
JP2003193017A JP2001394913A JP2001394913A JP2003193017A JP 2003193017 A JP2003193017 A JP 2003193017A JP 2001394913 A JP2001394913 A JP 2001394913A JP 2001394913 A JP2001394913 A JP 2001394913A JP 2003193017 A JP2003193017 A JP 2003193017A
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JP
Japan
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adhesive
epoxy resin
display element
mass
radiation
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Pending
Application number
JP2001394913A
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Japanese (ja)
Inventor
Seiji Tai
誠司 田井
Yoshii Morishita
芳伊 森下
Michiyuki Nomura
理行 野村
Hiroyuki Kawakami
広幸 川上
Shigeki Katogi
茂樹 加藤木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a thermally-polymerizing and radioactively-polymerizing adhesive material capable of together joining a substrate of a display device and a protective substrate for the display device at a relatively low temperature and, moreover, having excellent high oxygen and water-vapor impermeabilities, to provide an adhesive sheet having excellent workability, and to provide the display device having a high quality level and high reliability. <P>SOLUTION: The thermally-polymerizing and radioactively-polymerizing adhesive material contains (A) an epoxy resin and a hardener for the epoxy resin, (B) a polymer having functional groups and a weight-average molecular weight of ≥100,000, (C) a compound generating a base when irradiated with radioactive rays, and (D) a hyperfine filler. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着材、接着シー
トおよびそれを使用した表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive material, an adhesive sheet and a display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ、有機ELディ
スプレイ等の表示素子において、表示素子基板と表示素
子保護基板の接合には、ペースト状のシール材が使用さ
れていた。特に、有機EL素子においては、電極材料の
酸素、水分からの保護のために、乾燥剤とシール材を併
用してきた。しかしながら、近年、発光強度・輝度の向
上を目的に、これまでのボトムエミッションからトップ
エミッション方式に変更されつつある。しかし、トップ
エミッション方式では、従来使用してきた乾燥剤をこれ
まで通りに使用することができなくなることから、従来
のシール材に替わる高い酸素、水分不透過性の接着材が
必要となってきた。一方、有機ELディスプレイ等の表
示素子は、高温での過熱による素子の破壊が引き起こさ
れるため、比較的低温で表示素子基板と表示素子保護基
板を接合できる接着材が必要とされている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display, a paste-like sealing material has been used for joining a display device substrate and a display device protective substrate. Particularly, in the organic EL element, a desiccant and a sealant have been used together in order to protect the electrode material from oxygen and moisture. However, in recent years, the bottom emission method has been changed from the conventional bottom emission method to the top emission method for the purpose of improving emission intensity and luminance. However, in the top emission method, since the desiccant that has been used conventionally cannot be used as before, a highly oxygen and moisture impermeable adhesive material that replaces the conventional sealing material has been required. On the other hand, in a display element such as an organic EL display, the element is destroyed due to overheating at a high temperature, and therefore an adhesive that can bond the display element substrate and the display element protection substrate at a relatively low temperature is required.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】請求項1〜5記載の発
明は、比較的低温で表示素子基板と表示素子保護基板を
接合できるだけでなく、高い酸素、水分不透過性に優れ
る接着材を提供するものである。請求項6記載の発明
は、請求項1〜5記載の発明の効果に加え、作業性に優
れる接着シートを提供するものである。請求項7記載の
発明は、高品位で、高信頼性を有する表示装置を提供す
るものである。
The inventions according to claims 1 to 5 provide an adhesive not only for bonding the display element substrate and the display element protection substrate at a relatively low temperature but also having high oxygen and water impermeability. To do. The invention described in claim 6 provides an adhesive sheet having excellent workability in addition to the effects of the invention described in claims 1 to 5. The invention according to claim 7 provides a display device having high quality and high reliability.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、次のものに関
する。 1.(A)エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤、
(B)官能基を有する重量平均分子量が10万以上であ
る高分子、(C)放射線照射によって塩基を発生する化
合物および(D)超微細フィラを含有する熱重合性およ
び放射線重合性接着材。 2.(B)官能基を有する重量平均分子量が10万以上
である高分子が、エポキシ基含有反復単位を0.5〜6
質量%含有するエポキシ基含有(メタ)アクリル共重合
体である前記の接着材。 3.(A)エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤を1
00質量部、(B)官能基を有する重量平均分子量が1
0万以上である高分子を10〜400質量部および
(C)放射線照射によって塩基を発生する化合物放射線
重合性化合物を0.01〜200質量部含有する前記の
接着材。 4.(C)放射線照射によって塩基を発生する化合物
が、水溶液中におけるpKaが7以上の塩基を放射線照
射によって発生する化合物である前記の接着材。 5.25℃で10〜2000MPaおよび260℃で3
〜50MPaの加熱硬化後の貯蔵弾性率を有する前記の
接着材。 6.前記の熱重合性および放射線重合性接着材をシート
状に形成してなる接着シート。 7.前記の接着材又は接着シートを用いて、表示素子基
板と表示素子保護基板とを接合した表示装置。
The present invention relates to the following. 1. (A) Epoxy resin and epoxy resin curing agent,
A thermopolymerizable and radiation-polymerizable adhesive containing (B) a polymer having a functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more, (C) a compound that generates a base upon irradiation with radiation, and (D) an ultrafine filler. 2. (B) The polymer having a functional group and a weight average molecular weight of 100,000 or more has an epoxy group-containing repeating unit of 0.5 to 6
The above-mentioned adhesive, which is an epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer contained in mass%. 3. (A) Epoxy resin and epoxy resin curing agent 1
00 parts by weight, (B) functional group-containing weight average molecular weight is 1
The above adhesive containing 10 to 400 parts by mass of a polymer having a molecular weight of 0,000 or more and 0.01 to 200 parts by mass of (C) a compound capable of generating a base upon irradiation with radiation. 4. (C) The adhesive as described above, wherein the compound that generates a base upon irradiation with radiation is a compound that generates a base having a pKa of 7 or more in an aqueous solution upon irradiation with radiation. 10-2000 MPa at 5.25 ° C and 3 at 260 ° C
The above adhesive having a storage elastic modulus after heat curing of ˜50 MPa. 6. An adhesive sheet obtained by forming the above-mentioned heat-polymerizable and radiation-polymerizable adhesive into a sheet shape. 7. A display device in which a display element substrate and a display element protection substrate are bonded using the above adhesive material or adhesive sheet.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の接着材は、(A)エポキ
シ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤、(B)官能基を有す
る重量平均分子量が10万以上である高分子、(C)放
射線照射によって塩基を発生する化合物および(D)超
微細フィラ含有してなり熱重合性および放射線重合性を
有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The adhesive of the present invention comprises (A) an epoxy resin and an epoxy resin curing agent, (B) a functional group-containing polymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, and (C) radiation irradiation. It contains a compound that generates a base and (D) an ultrafine filler, and has heat-polymerizability and radiation-polymerizability.

【0006】この接着材は、表示素子基板と表示素子保
護基板の接着時には十分な粘着力を有し、その後放射線
を照射して、前記粘接着剤と基板とを強固に接着させる
ことができる。
This adhesive has a sufficient adhesive force when the display element substrate and the display element protection substrate are bonded together, and then can be irradiated with radiation to firmly bond the viscous adhesive and the substrate. .

【0007】本発明に使用する(A)成分中のエポキシ
樹脂は、硬化して接着作用を有するものであれば特に限
定されない。ビスフェノールA型エポキシなどの二官能
エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂や
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂などのノボラック
型エポキシ樹脂などを使用することができる。また、多
官能エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、
複素環含有エポキシ樹脂または脂環式エポキシ樹脂な
ど、一般に知られているものを適用することができる。
The epoxy resin in the component (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it cures and has an adhesive action. A bifunctional epoxy resin such as bisphenol A type epoxy, a novolac type epoxy resin such as a phenol novolac type epoxy resin or a cresol novolac type epoxy resin can be used. In addition, polyfunctional epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin,
A generally known one such as a heterocycle-containing epoxy resin or an alicyclic epoxy resin can be applied.

【0008】このようなエポキシ樹脂として、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂としては、油化シェルエポキシ
(株)製 エピコート807,815,825,82
7,828,834,1001,1004,1007,
1009、ダウケミカル社製DER−330,301,
361、東都化成(株)製 YD8125,YDF81
70などが挙げられる。フェノールノボラック型エポキ
シ樹脂としては、油化シェルエポキシ(株)製 エピコ
ート152,154、日本化薬(株)製 EPPN−2
01、ダウケミカル社製 DEN−438などが、ま
た、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として
は、日本化薬(株)製 EOCN−102S,103
S,104S,1012,1025,1027、東都化
成(株)製 YDCN701,702,703,704
などが挙げられる。多官能エポキシ樹脂としては、油化
シェルエポキシ(株)製 Epon 1031S、チバ
スペシャリティーケミカルズ社製 アラルダイト016
3、ナガセ化成(株)製 デナコールEX−611,6
14,614B,622,512,521,421,4
11,321などが挙げられる。アミン型エポキシ樹脂
としては、油化シェルエポキシ(株)製 エピコート6
04、東都化成(株)製 YH−434、三菱ガス化学
(株)製 TETRAD−X,TETRAD−C、住友
化学(株)製 ELM−120などが挙げられる。複素
環含有エポキシ樹脂としては、チバスペシャリティーケ
ミカルズ社製 アラルダイトPT810等の、UCC社
製 ERL4234,4299,4221,4206な
どが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独でまた
は2種類以上を組み合わせても、使用することができ
る。
As such an epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin may be Epicoat 807, 815, 825, 82 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
7,828,834,1001,1004,1007,
1009, DER-330, 301 manufactured by Dow Chemical Company,
361, Toto Kasei Co., Ltd. YD8125, YDF81
70 and the like. Examples of the phenol novolac type epoxy resin include Epicoat 152 and 154 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. and EPPN-2 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
01, DEN-438 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., and as o-cresol novolac type epoxy resin, EOCN-102S, 103 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
S, 104S, 1012, 1025, 1027, YDCN701, 702, 703, 704 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.
And so on. Examples of the polyfunctional epoxy resin include Epon 1031S manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. and Araldite 016 manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
3, Denacol EX-611,6 manufactured by Nagase Kasei Co., Ltd.
14,614B, 622,512,521,421,4
11, 321 and the like. As the amine type epoxy resin, Epicoat 6 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
04, Tohto Kasei Co., Ltd. YH-434, Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. TETRAD-X, TETRAD-C, Sumitomo Chemical Co., Ltd. ELM-120, etc. are mentioned. Examples of the heterocycle-containing epoxy resin include ERL4234, 4299, 4221, 4206 manufactured by UCC, such as Araldite PT810 manufactured by Ciba Specialty Chemicals. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

【0009】本発明に使用する(A)成分中のエポキシ
樹脂硬化剤としては、通常用いられている公知の硬化剤
を使用することができる。たとえば、アミン類、ポリア
ミド、酸無水物、ポリスルフィド、三フッ化ホウ素、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF,ビスフェノールS
のようなフェノール性水酸基を1分子中に2個以上有す
るビスフェノール類、フェノールノボラック樹脂、ビス
フェノールAノボラック樹脂またはクレゾールノボラッ
ク樹脂などのフェノール樹脂などが挙げられる。特に吸
湿時の耐電食性に優れる点で、フェノールノボラック樹
脂、ビスフェノールAノボラック樹脂またはクレゾール
ノボラック樹脂などのフェノール樹脂が好ましい。
As the epoxy resin curing agent in the component (A) used in the present invention, known curing agents which are usually used can be used. For example, amines, polyamides, acid anhydrides, polysulfides, boron trifluoride, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S
Examples thereof include bisphenols having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, phenol novolac resins, bisphenol A novolac resins, and cresol novolac resins. Particularly, a phenol resin such as a phenol novolac resin, a bisphenol A novolac resin, or a cresol novolac resin is preferable because it has excellent electrolytic corrosion resistance when absorbing moisture.

【0010】好ましいフェノール樹脂硬化剤としては、
たとえば、大日本インキ化学工業(株)製、商品名:フ
ェノライトLF2882、フェノライトLF2822、
フェノライトTD−2090、フェノライトTD−21
49、フェノライトVH−4150、フェノライトVH
4170などが挙げられる。
The preferred phenol resin curing agent is
For example, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., trade names: Phenolite LF2882, Phenolite LF2822,
Phenolite TD-2090, Phenolite TD-21
49, Phenolite VH-4150, Phenolite VH
4170 and the like.

【0011】本発明に使用する(B)官能基を有する重
量平均分子量が10万以上である高分子としては、グリ
シジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートな
どの官能性モノマーを含有し、かつ重量平均分子量が1
0万以上であるエポキシ基含有(メタ)アクリル共重合
体などが好ましく、さらにエポキシ樹脂と非相溶である
ことが好ましい。
The polymer (B) having a functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more used in the present invention contains a functional monomer such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate and has a weight average molecular weight of 1 or less.
An epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer having a molecular weight of at least 10,000 is preferable, and it is preferable that it is incompatible with the epoxy resin.

【0012】エポキシ基含有(メタ)アクリル共重合体
は、たとえば、(メタ)アクリルエステル共重合体、ア
クリルゴムなどを使用することができ、アクリルゴムが
より好ましい。アクリルゴムは、アクリル酸エステルを
主成分とし、主として、ブチルアクリレートとアクリロ
ニトリルなどの共重合体や、エチルアクリレートとアク
リロニトリルなどの共重合体などからなるゴムである。
As the epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer, for example, (meth) acrylic ester copolymer, acrylic rubber and the like can be used, and acrylic rubber is more preferable. Acrylic rubber is a rubber containing acrylic acid ester as a main component and mainly composed of a copolymer such as butyl acrylate and acrylonitrile, or a copolymer such as ethyl acrylate and acrylonitrile.

【0013】官能性モノマーとしては、グリシジルアク
リレートまたはグリシジルメタクリレートなどを使用す
ることが好ましい。このような重量平均分子量が10万
以上であるエポキシ基含有(メタ)アクリル共重合体と
しては、たとえば、帝国化学産業(株)製HTR−86
0P−3などが挙げられる。
It is preferable to use glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate as the functional monomer. As such an epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, for example, HTR-86 manufactured by Teikoku Kagaku Sangyo Co., Ltd.
0P-3 and the like.

【0014】グリシジルアクリレートまたはグリシジル
メタクリレートなどのエポキシ樹脂含有反復単位の量
は、0.5〜6.0質量%が好ましく、0.5〜5.0
質量%がより好ましく、0.8〜5.0質量%が特に好
ましい。エポキシ基含有反復単位の量がこの範囲にある
と、接着力が確保できるとともに、ゲル化を防止するこ
とができる。
The amount of the repeating unit containing an epoxy resin such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate is preferably 0.5 to 6.0% by mass, and 0.5 to 5.0% by mass.
Mass% is more preferable, and 0.8-5.0 mass% is especially preferable. When the amount of the epoxy group-containing repeating unit is within this range, the adhesive force can be secured and gelation can be prevented.

【0015】官能性モノマーとしては、グリシジルアク
リレート、グリシジルメタクリレートのほかに、たとえ
ば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アク
リレートなどが挙げられ、これらは、単独でまたは2種
類以上を組み合わせて使用することもできる。なお、本
発明において、エチル(メタ)アクリレートとは、エチ
ルアクリレートとエチルメタクリレートの両方を示す。
官能性モノマーを組み合わせて使用する場合の混合比率
は、エポキシ基含有(メタ)アクリル共重合体のガラス
転移温度(以下「Tg」という)を考慮して決定し、T
gは−10℃以上であることが好ましい。Tgが−10
℃以上であると、シート状としたときの接着材層のタッ
ク性が適当であり、取り扱い性に問題を生じないからで
ある。
Examples of the functional monomer include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate as well as ethyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate. These are used alone or in combination of two or more kinds. You can also In addition, in this invention, ethyl (meth) acrylate shows both ethyl acrylate and ethyl methacrylate.
The mixing ratio when the functional monomers are used in combination is determined in consideration of the glass transition temperature (hereinafter referred to as “Tg”) of the epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer,
It is preferable that g is -10 ° C or higher. Tg is -10
This is because when the temperature is not lower than 0 ° C, the tackiness of the adhesive layer when formed into a sheet is appropriate, and there is no problem in handleability.

【0016】上記モノマーを重合させて、(B)官能基
を有する重量平均分子量が10万以上である高分子量成
分を製造する場合、その重合方法としては特に制限はな
く、たとえば、パール重合、溶液重合などの方法を使用
することができる。
When the high molecular weight component having a functional group and a weight average molecular weight of 100,000 or more is produced by polymerizing the above-mentioned monomers, the polymerization method is not particularly limited, and for example, pearl polymerization or solution. A method such as polymerization can be used.

【0017】本発明において、(B)官能基を有する高
分子の重量平均分子量は、10万以上であるが、30万
〜300万であることが好ましく、50万〜200万で
あることがより好ましい。重量平均分子量がこの範囲に
あると、シート状またはフィルム状としたときの強度、
可とう性、およびタック性が適当である。なお、本発明
において、重量平均分子量とは、ゲルパーミュエーショ
ンクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン検量
線を用いて換算した値を示す。
In the present invention, the polymer having a functional group (B) has a weight average molecular weight of 100,000 or more, preferably 300,000 to 3,000,000, and more preferably 500,000 to 2,000,000. preferable. When the weight average molecular weight is within this range, the strength when formed into a sheet or film,
Flexibility and tackiness are appropriate. In addition, in this invention, a weight average molecular weight shows the value measured by gel permeation chromatography and converted using the standard polystyrene calibration curve.

【0018】また、(B)官能基を有する重量平均分子
量が10万以上である高分子の使用量は、(A)エポキ
シ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤100質量部に対し
て、10〜400質量部が好ましい。この範囲にある
と、弾性率および成型時のフロー性抑制が確保でき、ま
た高温での取り扱い性も十分に得られる。高分子の使用
量は、15〜350質量部がより好ましく、20〜30
0質量部が特に好ましい。
The amount of the polymer (B) having a functional group and having a weight average molecular weight of 100,000 or more is 10 to 400 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin (A) and the epoxy resin curing agent. Is preferred. Within this range, it is possible to secure the elastic modulus and the suppression of the flowability during molding, and it is possible to obtain sufficient handleability at high temperatures. The amount of the polymer used is more preferably 15 to 350 parts by mass, and 20 to 30
0 part by mass is particularly preferred.

【0019】本発明に使用する(C)放射線照射によっ
て塩基を発生する化合物は、放射線照射時に塩基を発生
する化合物であれば特に制限は受けない。発生する塩基
としては、反応性、硬化速度の点から強塩基性化合物が
好ましい。一般的には、塩基性の指標として酸解離定数
の対数であるpKa値が使用され、水溶液中でのpKa
値が7以上の塩基が好ましく、さらに9以上の塩基がよ
り好ましい。
The compound (C) which generates a base upon irradiation with radiation used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound which generates a base upon irradiation with radiation. As the base to be generated, a strongly basic compound is preferable in terms of reactivity and curing rate. Generally, the pKa value, which is the logarithm of the acid dissociation constant, is used as an index of basicity, and the pKa value in an aqueous solution is used.
A base having a value of 7 or more is preferable, and a base having a value of 9 or more is more preferable.

【0020】このような塩基性を示す例としては、イミ
ダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、1−メチル
イミダゾール等のイミダゾール誘導体、ピペラジン、
2,5−ジメチルピペラジン等のピペラジン誘導体、ピ
ペリジン、1,2−ジメチルピペリジン等のピペリジン
誘導体、プロリン誘導体、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリエタノールアミン等のトリアルキルアミ
ン誘導体、4−メチルアミノピリジン、4−ジメチルア
ミノピリジン等の4位にアミノ基またはアルキルアミノ
基が置換したピリジン誘導体、ピロリジン、n−メチル
ピロリジン等のピロリジン誘導体、トリエチレンジアミ
ン、1,8−ジアザビスシクロ(5,4,0)ウンデセ
ン−1(DBU)等の脂環式アミン誘導体、ベンジルメ
チルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチ
ルアミン等のベンジルアミン誘導体等が挙げられる。
Examples of such basicity include imidazole derivatives such as imidazole, 2,4-dimethylimidazole and 1-methylimidazole, piperazine,
2,5-Dimethylpiperazine and other piperazine derivatives, piperidine, 1,2-dimethylpiperidine and other piperidine derivatives, proline derivatives, trimethylamine, triethylamine, triethanolamine and other trialkylamine derivatives, 4-methylaminopyridine, 4-dimethyl A pyridine derivative in which an amino group or an alkylamino group is substituted at the 4-position such as aminopyridine, pyrrolidine, a pyrrolidine derivative such as n-methylpyrrolidine, triethylenediamine, 1,8-diazabiscyclo (5,4,0) undecene-1 (DBU A) and other alicyclic amine derivatives, and benzylamine derivatives such as benzylmethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine.

【0021】前記塩基性化合物を放射線照射によって発
生するものとしては、例えば、Journal of
Photopolymer Science and
Technology 12巻、313〜314項(1
999年)やChemistry of Materi
als 11巻、170〜176項(1999年)等に
記載されている4級アンモニウム塩誘導体を用いること
ができる。これらは、活性光線の照射により高塩基性の
トリアルキルアミンを生成するため、エポキシ樹脂の硬
化には最適である。
The basic compound produced by irradiation with radiation is, for example, Journal of of
Photopolymer Science and
Technology, Volume 12, Sections 313-314 (1
(1999) and Chemistry of Material
The quaternary ammonium salt derivative described in, for example, als 11, volume 170 to 176 (1999) can be used. These are most suitable for curing an epoxy resin because they generate highly basic trialkylamine upon irradiation with actinic rays.

【0022】また、Journal of Ameri
can ChemicalSociety 118巻
12925頁(1996年)やPolymer Jou
rnal 28巻 795頁(1996年)等に記載さ
れているカルバミン酸誘導体を用いることができる。
In addition, Journal of Ameri
Can Chemical Society Volume 118
12925 (1996) and Polymer Jou
The carbamic acid derivative described in rnal 28, page 795 (1996) and the like can be used.

【0023】また、活性光線の照射により1級のアミノ
基を発生するオキシム誘導体、光ラジカル発生剤として
市販されている2−メチル−1(4−(メチルチオ)フ
ェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(Ci
ba SpecialityChemicals社製イ
ルガキュア907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1
−オン(CibaSpeciality Chemic
als社製イルガキュア369)、ヘキサアリールビス
イミダゾール誘導体(ハロゲン、アルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基等の置換基がフェニル基に置換されていて
もよい)、ベンゾイソオキサゾロン誘導体等を用いるこ
とができる。
In addition, oxime derivatives which generate primary amino groups upon irradiation with actinic rays, and 2-methyl-1 (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane- which is commercially available as a photoradical generator. 1-on (Ci
ba Specialty Chemicals Irgacure 907), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1.
-On (Ciba Specialty Chemical
Irgacure 369 manufactured by Als Co., a hexaarylbisimidazole derivative (a substituent such as a halogen, an alkoxy group, a nitro group or a cyano group may be substituted with a phenyl group), a benzisoxazolone derivative or the like can be used.

【0024】前記活性光線による塩基発生剤の他に、光
フリース転位、光クライゼン転位(光Cleisen転
位)やクルチウス転位(Curtius転位)、スチー
ブンス転位(Stevens転位)によって塩基性化合
物を発生させ、エポキシ樹脂の硬化を行うことができ
る。
In addition to the base generator by the above-mentioned actinic rays, a basic compound is generated by photo-Fries rearrangement, photo-Claisen rearrangement (optical Cleisen rearrangement), Curtius rearrangement (Curtius rearrangement), and Stevens rearrangement (Stevens rearrangement) to generate an epoxy resin. Can be cured.

【0025】前記塩基発生剤は、分子量500以下の低
分子化合物として用いる他、高分子の主鎖及び側鎖に導
入した化合物を用いても良い。この場合の分子量として
は、粘接着剤としての粘接着性、流動性の観点から重量
平均分子量1,000〜100,000が好ましく、よ
り好ましくは5,000〜30,000である。これら
の化合物は、室温で放射線を照射しない状態ではエポキ
シ樹脂と反応性を示さないため、室温での貯蔵安定性は
非常に優れている。本発明に使用する(D)超微細フィ
ラは、いわゆるシーアイ化成製ナノテックなどのナノフ
ィラと呼ばれるものであり、乾燥剤特性あるいは防湿特
性に優れるものならば、全て使用することができる。本
発明に使用する(D)超微細フィラの材質としては、特
に制限はなく、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシ
ウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カ
ルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化
チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イット
リウム、酸化ケイ素、酸化バリウム、酸化ジルコニウ
ム、窒化アルミニウム、ほう酸アルミウイスカ、窒化ほ
う素、結晶性シリカ、非晶性シリカ等が挙げられ、
(D)超微細フィラの形状は特に制限されるものではな
い。これらの(D)超微細フィラは単独で又は二種類以
上を組み合わせて使用することができる。本発明に使用
する(D)超微細フィラの粒子径としては、平均粒子径
が1μm未満であることが好ましく、500nm未満で
あることがより好ましく、200nm未満であることが
さらに好ましく、100nm未満であることがよりいっ
そう好ましい。また、(D)超微細フィラの使用量は、
接着材100質量部に対して1〜99質量部が好まし
い。1質量部未満では添加効果が得られない傾向にあ
り、99質量部を超えると接着特性に劣る傾向がある。
The base generator may be used as a low molecular weight compound having a molecular weight of 500 or less, or a compound introduced into the main chain and side chain of a polymer. In this case, the molecular weight is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 30,000, as the weight average molecular weight from the viewpoints of tackiness and adhesiveness as a tackiness adhesive and fluidity. Since these compounds do not show reactivity with the epoxy resin in the state where they are not irradiated with radiation at room temperature, they are very excellent in storage stability at room temperature. The ultrafine filler (D) used in the present invention is a so-called nanofiller such as Nanotech manufactured by CI Kasei Co., Ltd., and any of them having excellent desiccant property or moistureproof property can be used. The material of the (D) ultrafine filler used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, titanium oxide, and oxide. Iron, zinc oxide, cerium oxide, yttrium oxide, silicon oxide, barium oxide, zirconium oxide, aluminum nitride, aluminum borate whiskers, boron nitride, crystalline silica, amorphous silica, and the like,
(D) The shape of the ultrafine filler is not particularly limited. These (D) ultrafine fillers can be used alone or in combination of two or more kinds. The (D) ultrafine filler used in the present invention has an average particle size of preferably less than 1 μm, more preferably less than 500 nm, further preferably less than 200 nm, and less than 100 nm. It is even more preferred to be present. The amount of (D) ultrafine filler used is
1 to 99 parts by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the adhesive. If it is less than 1 part by mass, the effect of addition tends not to be obtained, and if it exceeds 99 parts by mass, the adhesive property tends to be poor.

【0026】また、本発明の接着材には、硬化促進剤を
添加することもできる。硬化促進剤には、特に制限が無
く、イミダゾール類、ジシアンジアミド誘導体、ジカル
ボン酸ジヒドラジド、トリフェニルホスフィン、テトラ
フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、2−エ
チル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレー
ト、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン
−7−テトラフェニルボレート等を用いることができ
る。これらは単独でまたは2種類以上を組み合わせて使
用することができる。
A curing accelerator can also be added to the adhesive of the present invention. The curing accelerator is not particularly limited and includes imidazoles, dicyandiamide derivative, dicarboxylic acid dihydrazide, triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, 1,8-diazabicyclo ( 5,4,0) undecene-7-tetraphenylborate and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0027】硬化促進剤の添加量は、(A)エポキシ樹
脂およびエポキシ樹脂硬化剤100質量部に対して、
0.1〜5質量部が好ましく、0.2〜3質量部がより
好ましい。添加量がこの範囲にあると、硬化性と保存安
定性を両立することができる。
The amount of the curing accelerator added is (A) epoxy resin and 100 parts by weight of the epoxy resin curing agent.
0.1-5 parts by mass is preferable, and 0.2-3 parts by mass is more preferable. When the amount added is in this range, both curability and storage stability can be achieved.

【0028】本発明の接着材は、加熱硬化した段階で、
貯蔵弾性率が25℃で10〜2000MPaであり、2
60℃で3〜50MPaであることが好ましい。25℃
での弾性率は、20〜1900MPaがより好ましく、
50〜1800MPaが特に好ましい。また、260℃
での弾性率は、5〜50MPaがより好ましく、7〜5
0MPaが特に好ましい。貯蔵弾性率がこの範囲にある
と、表示素子基板と表示素子保護基板との熱膨張係数の
差によって発生する熱応力を緩和させる効果が保たれ、
剥離やクラックの発生を抑制できるとともに、接着材の
取り扱い性、接着材層の厚み精度を向上できる。この貯
蔵弾性率は、たとえば、動的粘弾性測定装置(レオロジ
社製、DVE−V4)を使用し、接着剤硬化物に引張荷
重をかけて、周波数10Hz、昇温速度5〜10℃/m
inの条件で−50℃から300℃まで測定する、温度
依存性測定モードによって行うことができる。
The adhesive of the present invention, when cured by heating,
Storage modulus is 10 to 2000 MPa at 25 ° C., 2
It is preferably 3 to 50 MPa at 60 ° C. 25 ° C
More preferably, the elastic modulus at 20 to 1900 MPa,
50 to 1800 MPa is particularly preferable. Also, 260 ℃
The elastic modulus at 5 to 50 MPa is more preferable, and the elastic modulus at 7 to 5 is
0 MPa is particularly preferred. When the storage elastic modulus is in this range, the effect of relaxing the thermal stress generated by the difference in thermal expansion coefficient between the display element substrate and the display element protective substrate is maintained,
It is possible to suppress the occurrence of peeling and cracks, and improve the handleability of the adhesive and the accuracy of the thickness of the adhesive layer. The storage elastic modulus is, for example, using a dynamic viscoelasticity measuring device (DVE-V4 manufactured by Rheology Co., Ltd.), a tensile load is applied to the cured adhesive, and the frequency is 10 Hz and the temperature rising rate is 5 to 10 ° C./m.
It can be performed in a temperature-dependent measurement mode in which the temperature is measured from −50 ° C. to 300 ° C. under the condition of in.

【0029】本発明の接着材は、可とう性や耐リフロー
クラック性を向上させる目的で、エポキシ樹脂と相溶性
がある高分子量樹脂を添加することができる。このよう
な高分子量樹脂としては、特に限定されず、たとえばフ
ェノキシ樹脂、高分子量エポキシ樹脂、超高分子量エポ
キシ樹脂などが挙げられる。これらは、単独でまたは2
種類以上を組み合わせて使用することもできる。エポキ
シ樹脂と相溶性がある高分子量樹脂の使用量は、エポキ
シ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤100質量部に対し
て、40質量部以下とすることが好ましい。この範囲で
あると、エポキシ樹脂層のTgを確保できる。
The adhesive material of the present invention may contain a high molecular weight resin compatible with an epoxy resin for the purpose of improving flexibility and reflow crack resistance. The high molecular weight resin is not particularly limited, and examples thereof include a phenoxy resin, a high molecular weight epoxy resin, and an ultrahigh molecular weight epoxy resin. These can be either alone or 2
Combinations of more than one type can also be used. The amount of the high molecular weight resin compatible with the epoxy resin is preferably 40 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin and the epoxy resin curing agent. Within this range, the Tg of the epoxy resin layer can be secured.

【0030】また、本発明の接着材には、表示素子基板
/表示素子保護基板接合部のスペーサー機能付与などを
目的として、平均粒径1μmを超えるの無機フィラーを
添加することもできる。平均粒径1μmを超える無機フ
ィラーとしては、特に制限はなく、例えば、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウ
ム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニ
ウム、窒化アルミニウム、ほう酸アルミウイスカ、窒化
ほう素、結晶性シリカ、非晶性シリカ等が挙げられ、フ
ィラーの形状は特に制限されるものではない。これらの
平均粒径1μm以上のフィラーは単独で又は二種類以上
を組み合わせて使用することができる。
In addition, an inorganic filler having an average particle size of more than 1 μm can be added to the adhesive of the present invention for the purpose of imparting a spacer function to the joint between the display element substrate and the display element protective substrate. The inorganic filler having an average particle size of more than 1 μm is not particularly limited, and examples thereof include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, and nitriding. Examples of the filler include aluminum, aluminum borate whiskers, boron nitride, crystalline silica, and amorphous silica, and the shape of the filler is not particularly limited. These fillers having an average particle size of 1 μm or more can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0031】平均粒径1μmを超える無機フィラーの使
用量は、接着材100質量部に対して0.01〜20質
量部が好ましい。0.01質量部未満だと添加効果が得
られない傾向があり、20質量部を超えると、貯蔵弾性
率の上昇、接着性の低下、ボイド残存による電気特性の
低下等の問題を起こす傾向がある。
The amount of the inorganic filler having an average particle size of more than 1 μm is preferably 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the adhesive. If it is less than 0.01 parts by mass, the effect of addition tends not to be obtained, and if it exceeds 20 parts by mass, problems such as an increase in storage elastic modulus, a decrease in adhesiveness, and a decrease in electrical properties due to residual voids tend to occur. is there.

【0032】また、本発明の接着材は、異種材料間の界
面結合を良くするために、各種カップリング剤を添加す
ることもできる。カップリング剤としては、例えば、シ
ラン系、チタン系、アルミニウム系等が挙げられ、中で
も効果が高い点でシラン系カップリング剤が好ましい。
Further, the adhesive material of the present invention may contain various coupling agents in order to improve interfacial bonding between different materials. Examples of the coupling agent include silane-based, titanium-based, and aluminum-based coupling agents, and among them, the silane-based coupling agent is preferable because of its high effect.

【0033】上記シラン系カップリング剤としては、特
に制限はなく、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニ
ルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N−β
(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−アミ
ノプロピルメチルジエトキシシラン、3−ウレイドプロ
ピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメ
トキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−アミノプロピル−トリス(2−メトキシ−エト
キシ−エトキシ)シラン、N−メチル−3−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、トリアミノプロピルトリメト
キシシラン、3−4,5−ジヒドロイミダゾール−1−
イル−プロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキ
シプロピル−トリメトキシシラン、3−メルカプトプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチ
ルジメトキシシラン、3−クロロプロピルジメトキシシ
ラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン、ヘキサ
メチルジシラザン、N,O−ビス(トリメチルシリル)
アセトアミド、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリクロロシラン、n−プロピ
ルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラ
ン、アミルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、メチルトリ(メタクリロイルオキエトキ
シ)シラン、メチルトリ(グリシジルオキシ)シラン、
N−β(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシルジメチル
〔3−(トリメトキシシリル)プロピル〕アンモニウム
クロライド、γ−クロロプロピルメチルジクロロシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジエトキシシラン、トリメチルシ
リルイソシアネート、ジメチルシリルイソシアネート、
メチルシリルトリイソシアネート、ビニルシリルトリイ
ソシアネート、フェニルシリルトリイソシアネート、テ
トライソシアネートシラン、エトキシシランイソシアネ
ートなどを使用することができ、単独で又は二種類以上
を組み合わせて使用することができる。
The silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. , Γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4
-Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-
Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-β
(Aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercapto Propyltrimethoxysilane,
γ-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl-tris (2- (Methoxy-ethoxy-ethoxy) silane, N-methyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, triaminopropyltrimethoxysilane, 3-4,5-dihydroimidazole-1-
Ile-propyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-trimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyldimethoxysilane, 3-cyanopropyltriethoxysilane, hexamethyl Disilazane, N, O-bis (trimethylsilyl)
Acetamide, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, n-propyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, amyltrichlorosilane, octyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltri (methacryloyl) Oxyethoxy) silane, methyltri (glycidyloxy) silane,
N-β (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldichlorosilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane , Γ−
Chloropropylmethyldiethoxysilane, trimethylsilyl isocyanate, dimethylsilyl isocyanate,
Methyl silyl triisocyanate, vinyl silyl triisocyanate, phenyl silyl triisocyanate, tetraisocyanate silane, ethoxy silane isocyanate, etc. can be used, and they can be used individually or in combination of 2 or more types.

【0034】また、チタン系カップリング剤としては、
例えば、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イ
ソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、
イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネー
ト、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタ
ネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、イソプロピルトリス(n−アミノエチル)
チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホス
ファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジア
リルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)
ホスファイトチタネート、ジクミルフェニルオキシアセ
テートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェー
ト)オキシアセテートチタネート、テトライソプロピル
チタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチル
チタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チ
タネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンア
エチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、
チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、
チタンラクテートエチルエステル、チタンチリエタノー
ルアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート、テ
トラメチルオルソチタネート、テトラエチルオルソチタ
ネート、テタラプロピルオルソチタネート、テトライソ
ブチルオルソチタネート、ステアリルチタネート、クレ
シルチタネートモノマー、クレシルチタネートポリマ
ー、ジイソプロポキシ−ビス(2,4−ペンタジオネー
ト)チタニウム(IV)、ジイソプロピル−ビス−トリ
エタノールアミノチタネート、オクチレングリコールチ
タネート、テトラ−n−ブトキシチタンポリマー、トリ
−n−ブトキシチタンモノステアレートポリマー、トリ
−n−ブトキシチタンモノステアレートなどを使用する
ことができ、単独で又は二種類以上を組み合わせて使用
することができる。
As the titanium-based coupling agent,
For example, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate,
Isopropyl tridodecyl benzene sulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacrylic titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumyl phenyl titanate,
Isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate)
Titanate, isopropyl tris (n-aminoethyl)
Titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl)
Phosphite titanate, dicumylphenyl oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium Ethyl acetonate, titanium octylene glycolate,
Titanium lactate ammonium salt, titanium lactate,
Titanium lactate ethyl ester, titanium chilliethanol aminate, polyhydroxytitanium stearate, tetramethyl orthotitanate, tetraethyl orthotitanate, tetarapropyl orthotitanate, tetraisobutyl orthotitanate, stearyl titanate, cresyl titanate monomer, cresyl titanate polymer, di Isopropoxy-bis (2,4-pentadionate) titanium (IV), diisopropyl-bis-triethanolaminotitanate, octyleneglycol titanate, tetra-n-butoxytitanium polymer, tri-n-butoxytitanium monostearate polymer , Tri-n-butoxytitanium monostearate and the like can be used, and can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0035】アルミニウム系カップリング剤としては、
例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトイス(エチルアセトアセテ
ート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソ
プロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビ
ス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス
(アセチルアセトネート)、アルミニウム=モノイソプ
ロポキシモノオレオキシエチルアセトアセテート、アル
ミニウム−ジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテ
ート、アルミニウム−ジ−iso−プロポキシド−モノ
エチルアセトアセテート等のアルミニウムキレート化合
物、アルミニウムイソプロピレート、モノ−sec−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
−sec−ブチレート、アルミニウムエチレート等のア
ルミニウムアルコレートなどを使用することができ、単
独で又は二種類以上を組み合わせて使用することができ
る。
As the aluminum-based coupling agent,
For example, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tooth (ethyl acetoacetate), alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetate bis (ethylacetoacetate), aluminum tris (acetylacetonate), aluminum = monoisopropoxy. Aluminum chelate compounds such as monooleoxyethyl acetoacetate, aluminum-di-n-butoxide monoethyl acetoacetate, aluminum-di-iso-propoxide-monoethyl acetoacetate, aluminum isopropylate, mono-sec-butoxyaluminum diisopropylate. Rate, aluminum-sec-butyrate, aluminum ethylate and other aluminum alcohol Can be used bets like, alone or in combination of two or more kinds may be used.

【0036】上記カップリング剤の使用量は、その効果
や耐熱性及びコストの面から、(A)エポキシ樹脂およ
びエポキシ樹脂硬化剤100質量部に対して、0.01
〜10質量部とするのが好ましい。
From the viewpoints of its effect, heat resistance and cost, the amount of the above-mentioned coupling agent to be used is 0.01 with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A) and the epoxy resin curing agent.
It is preferably 10 to 10 parts by mass.

【0037】本発明の接着材は、イオン性不純物を吸着
して、吸湿時の絶縁信頼性をよくするために、さらにイ
オン捕捉剤を添加することもできる。このようなイオン
捕捉剤としては、特に制限はなく、例えば、トリアジン
チオール化合物、ビスフェノール系還元剤等の、銅がイ
オン化して溶け出すのを防止するため銅害防止剤として
知られる化合物、ジルコニウム系、アンチモンビスマス
系マグネシウムアルミニウム化合物等の無機イオン吸着
剤などが挙げられる。上記イオン捕捉剤の使用量は、添
加による効果や耐熱性、コスト等の点から、(A)エポ
キシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤100質量部に対し
て、0.1〜10質量部が好ましい。
The adhesive of the present invention may further contain an ion scavenger in order to adsorb ionic impurities and improve insulation reliability when absorbing moisture. Such an ion scavenger is not particularly limited, and examples thereof include triazine thiol compounds, bisphenol-based reducing agents, and the like, compounds known as copper damage inhibitors for preventing copper from being ionized and dissolved, and zirconium-based compounds. Inorganic ion adsorbents such as antimony bismuth magnesium aluminum compounds. The amount of the ion scavenger used is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A) and the epoxy resin curing agent, from the viewpoints of the effect of addition, heat resistance, cost, and the like.

【0038】本発明の接着シートは、本発明の接着材
を、基材フィルム上に塗布、加熱し溶剤を除去すること
などによって得ることができる。本発明の接着シートに
用いる基材としては、特に制限は無く、例えば、ポリテ
トラフルオロエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポイエチレンフィルム、ポリプロピレ
ンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリイミド
フィルムなどのプラスチックフィルム等が挙げられる。
The adhesive sheet of the present invention can be obtained by applying the adhesive material of the present invention onto a base film and heating it to remove the solvent. The substrate used for the adhesive sheet of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include plastic films such as polytetrafluoroethylene film, polyethylene terephthalate film, polyethylene film, polypropylene film, polymethylpentene film, and polyimide film. To be

【0039】また、上記接着材を基材フィルム上に塗布
するための溶剤としては、特に限定されないが、フィル
ム作製時の揮発性などを考慮すると、たとえば、メタノ
ール、エタノール、2−メトキシエタノール、2−エト
キシエタノール、2−ブトキシエタノール、メチルエチ
ルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエ
ン、キシレンなどの比較的低沸点の溶媒を使用するのが
好ましい。また、塗膜性を向上させるなどの目的で、た
とえば、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン、シクロヘキサノンなどの比
較的高沸点の溶媒を使用することもできる。これらの溶
媒は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。
The solvent for applying the adhesive on the substrate film is not particularly limited, but considering the volatility at the time of film production, for example, methanol, ethanol, 2-methoxyethanol, 2 -It is preferable to use a solvent having a relatively low boiling point, such as ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene. Further, for the purpose of improving the coating property, for example, a solvent having a relatively high boiling point such as dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone or cyclohexanone may be used. These solvents can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0040】無機フィラを添加した際の接着材の製造に
は、無機フィラの分散性を考慮して、らいかい機、3本
ロール、ボールミル及びビーズミルなどを使用するのが
好ましく、また、これらを組み合わせて使用することも
できる。また、無機フィラと低分子量の原料をあらかじ
め混合した後、高分子量の原料を配合することによっ
て、混合する時間を短縮することもできる。また、真空
脱気等によって接着材中の気泡を除去することもでき
る。基材フィルムへの接着材の塗布方法としては、公知
の方法を用いることができ、例えば、ナイフコート法、
ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート
法、バーコート法、カーテンコート法等が挙げられる。
In the production of the adhesive when the inorganic filler is added, it is preferable to use a raider, a three-roll mill, a ball mill, a bead mill, etc. in consideration of the dispersibility of the inorganic filler. It can also be used in combination. It is also possible to shorten the mixing time by mixing the inorganic filler and the low molecular weight raw material in advance and then mixing the high molecular weight raw material. Further, air bubbles in the adhesive can be removed by vacuum deaeration or the like. As a method for applying the adhesive to the base film, a known method can be used, for example, a knife coating method,
A roll coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a curtain coating method and the like can be mentioned.

【0041】接着シートの厚みは、特に制限はないが、
接着材、基材ともに5〜250μmが好ましい。5μm
より薄いと応力緩和効果が乏しくなる傾向があり、25
0μmより厚いと経済的でなくなる上に、表示装置の小
型化の要求に応えられない。また、本発明の接着シート
は、所望の厚さを得るために、接着シートの接着材層側
に、別途作成した接着材層を2枚以上貼り合わせること
もできる。この場合には、接着材層同士の剥離が発生し
ないような貼り合わせ条件が必要である。
The thickness of the adhesive sheet is not particularly limited,
Both the adhesive material and the base material are preferably 5 to 250 μm. 5 μm
If the thickness is thinner, the stress relaxation effect tends to be poor.
If it is thicker than 0 μm, it is not economical and it is not possible to meet the demand for miniaturization of the display device. Further, in the adhesive sheet of the present invention, in order to obtain a desired thickness, two or more separately prepared adhesive material layers can be attached to the adhesive material layer side of the adhesive sheet. In this case, the bonding conditions are required so that the adhesive material layers are not separated from each other.

【0042】本発明の接着材は、放射線照射のみだけで
なく放射線照射と同時あるいは放射線照射後に加熱を併
用しても良い。加熱を併用することにより、より低温短
時間での接着力低下が可能となる。加熱は、接着材の分
解点以下であれば特に制限は受けないが、30〜170
℃の温度で1〜300分間の時間が好ましい。
The adhesive of the present invention may be used not only for irradiation with radiation but also for heating simultaneously with or after irradiation with radiation. The combined use of heating makes it possible to lower the adhesive strength at a lower temperature and in a shorter time. The heating is not particularly limited as long as it is equal to or lower than the decomposition point of the adhesive, but 30 to 170
A time of 1 to 300 minutes at a temperature of ° C is preferred.

【0043】以下本発明に係る接着材の使用方法につい
て一例を説明する。接着材がペースト状の場合、表示素
子基板上の表示素子の周囲に幅約2mmとなるように、
ディスペンサなどの印刷・塗布装置を用いて、接着材を
塗布し、乾燥した後、表示素子保護基板を積層する。表
示素子基板と表示素子保護基板を接着材により接合する
ために、積層された状態で、少なくとも接着材付着箇所
に、放射線を照射し、接着材を硬化させる。接着材を塗
布し、乾燥する際の温度は、常圧で行う場合には、室温
以上の温度で行うのが好ましいが、表示素子を破壊しな
い温度であることが望ましく、30〜200℃の範囲で
行う必要がある。表示素子基板を積層する場合の積層方
法としては、ラミネータ等の圧着装置を使用することが
好ましい。接合する際の放射線としては、紫外線(U
V)、赤外線(IR)、電子線(EB)、超音波などが
あるが、これらを併用して使用しても良い。接着材層へ
の放射線照射は、表示素子基板又は表示素子保護基板の
いずれの側からも行うことができるが、前記基板が放射
線を透過しない性質を有する場合、透過する基板側から
放射線を透過する必要がある。また、いずれの基板も放
射線を透過するのもである場合には、双方から同時に照
射することもできる。
An example of the method of using the adhesive according to the present invention will be described below. When the adhesive material is a paste, the width is about 2 mm around the display element on the display element substrate.
An adhesive is applied using a printing / applying device such as a dispenser and dried, and then a display element protection substrate is laminated. In order to bond the display element substrate and the display element protection substrate with the adhesive material, in the laminated state, at least the adhesive material adhesion portion is irradiated with radiation to cure the adhesive material. The temperature at which the adhesive is applied and dried is preferably room temperature or higher in the case of performing at normal pressure, but it is preferably a temperature at which the display element is not destroyed, and is in the range of 30 to 200 ° C. Should be done in. As a laminating method for laminating the display element substrates, it is preferable to use a pressure bonding device such as a laminator. The radiation used for joining is UV (U
V), infrared rays (IR), electron beams (EB), ultrasonic waves, etc., but these may be used in combination. Radiation irradiation to the adhesive layer can be performed from either side of the display element substrate or the display element protection substrate, but when the substrate has a property of not transmitting radiation, radiation is transmitted from the side of the transmitting substrate. There is a need. Further, when both substrates are transparent to radiation, both substrates can be simultaneously irradiated.

【0044】[0044]

【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより詳細に報
告する。本発明は、これらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. The present invention is not limited to these.

【0045】(製造例1)2−ニトロベンジルアルコー
ル30gをテトラヒドロフラン300g中に室温でマグ
ネチックスターラーを用いてかくはんして溶解させた。
この溶液に、予め混合しておいた4,4’−ジフェニル
メタンジイソシアネート24.5g、テトラヒドロフラ
ン100gからなる溶液を30分かけて滴下し、室温で
1時間かくはんした。この後、リービッヒ冷却管をセッ
トし、オイルバスにて60℃に加熱しながら2時間反応
させた。反応後、室温まで冷却し、ロータリーエバポレ
ーターを用いて反応液が半分になるまで濃縮した。得ら
れた濃縮液を1000質量部のn−へキサン中に添加す
ると、白色沈殿物を得た。この沈殿物を吸引ろ過し、真
空下60℃で一晩乾燥して目的の2−ニトロベンジルカ
ルバミン酸誘導体を得た。収量49.5g(収率91
%)であった。
(Production Example 1) 30 g of 2-nitrobenzyl alcohol was dissolved in 300 g of tetrahydrofuran by stirring at room temperature using a magnetic stirrer.
A solution of 24.5 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate and 100 g of tetrahydrofuran, which had been mixed in advance, was added dropwise to this solution over 30 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, a Liebig cooling tube was set, and the reaction was carried out for 2 hours while heating to 60 ° C. in an oil bath. After the reaction, the mixture was cooled to room temperature and concentrated using a rotary evaporator until the reaction liquid became half. When the obtained concentrate was added to 1000 parts by mass of n-hexane, a white precipitate was obtained. The precipitate was suction filtered and dried under vacuum at 60 ° C. overnight to obtain the desired 2-nitrobenzylcarbamic acid derivative. Yield 49.5 g (yield 91
%)Met.

【0046】(製造例2)予め60℃の真空乾燥機にて
十分に乾燥したYDCN−703(東都化成(株)製商
品名、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポ
キシ当量210)42.3質量部、予め60℃の真空乾
燥機にて十分に乾燥したプライオーフェンLF2882
(大日本インキ化学工業(株)製商品名、ビスフェノー
ルAノボラック樹脂)23.9質量部、予め60℃の真
空乾燥機にて十分に乾燥したHTR−860P−3(帝
国化学産業(株)製商品名、エポキシ基含有アクリルゴ
ム、分子量100万、Tg−7℃)44.1質量部、予
め60℃の真空乾燥機にて十分に乾燥したキュアゾール
2PZ−CN(四国化成工業(株)製商品名、1−シア
ノエチル−2−フェニルイミダゾール)0.4質量部、
NUC A−189(日本ユニカー(株)製商品名、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)0.7質
量部、2−ニトロベンジルカルバミン酸誘導体0.5質
量部からなる組成物に、予め炭酸カリウムにより十分に
乾燥したメチルエチルケトンを加えて攪拌混合し、真空
脱気することにより粘接着剤ワニス(A)を得た。 (製造例3)製造例2において、2−ニトロベンジルカ
ルバミン酸誘導体を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ
−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1−
オン(Ciba Speciality Chemic
als社製、商品名:イルガキュア369)にした以外
は製造例2と全く同様の操作を行い粘接着剤ワニス
(B)を得た。
(Production Example 2) 42.3 mass of YDCN-703 (trade name of Toto Kasei Co., Ltd., o-cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 210) which has been sufficiently dried in a vacuum dryer at 60 ° C. Part, plyofen LF2882 that has been thoroughly dried in advance with a vacuum dryer at 60 ° C.
(Trade name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc., bisphenol A novolac resin) 23.9 parts by mass, HTR-860P-3 (manufactured by Teikoku Kagaku Sangyo Co., Ltd.) fully dried in a vacuum dryer at 60 ° C. in advance. Trade name, epoxy group-containing acrylic rubber, molecular weight 1,000,000, Tg-7 ° C) 44.1 parts by mass, CureZol 2PZ-CN (product of Shikoku Chemicals Co., Ltd.) sufficiently dried in advance with a vacuum dryer at 60 ° C. Name, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole) 0.4 parts by mass,
NUC A-189 (trade name, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., γ
-Glycidoxypropyltrimethoxysilane) 0.7 parts by mass and 2-nitrobenzylcarbamic acid derivative 0.5 parts by mass, to which methyl ethyl ketone that has been sufficiently dried with potassium carbonate in advance is added, and the mixture is stirred and mixed under vacuum. By degassing, an adhesive varnish (A) was obtained. (Production Example 3) In Production Example 2, the 2-nitrobenzylcarbamic acid derivative was replaced with 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1-.
On (Ciba Specialty Chemical
A pressure-sensitive adhesive varnish (B) was obtained by completely the same operation as in Production Example 2 except that the product name was manufactured by ALS Co., Ltd. and the product name was Irgacure 369).

【0047】(実施例1)製造例2で得た粘接着剤ワニ
ス(A)100質量部に対して、200℃の真空乾燥機
にて1時間処理したシリカ超微粒フィラ(シーアイ化成
製NanoTekSiO2)10質量部を加え、泡取り
錬太郎(シンキー社製AR−250)にて混錬し、攪拌
・脱泡を行い、接着材(A)を得た。 (実施例2)製造例3で得た粘接着剤ワニス(B)10
0質量部に対して、200℃の真空乾燥機にて1時間処
理したシリカ超微粒フィラ(シーアイ化成製NanoT
ekSiO2)11質量部を加え、泡取り錬太郎(シン
キー社製AR−250)にて混錬し、攪拌・脱泡を行
い、接着材(B)を得た。 (実施例3)接着材(A)を、厚さ50μmのポリエチ
レンテレフタレート(帝人(株)製、テイジンテトロン
フィルム:G2−50)上に塗布し、110℃で5分間
加熱乾燥して、基材(ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム)を備えた膜厚が20μmの接着シート(基材を除
いた接着シートの厚みが20μm)(接着シートA)を
作製した。
Example 1 100 parts by mass of the adhesive varnish (A) obtained in Production Example 2 was treated with a vacuum dryer at 200 ° C. for 1 hour to obtain silica ultrafine particle filler (NanoTekSiO 2 manufactured by CI Kasei Co., Ltd.). ) 10 parts by mass were added, and the mixture was kneaded with a foam-removing taro (AR-250 manufactured by Shinky Co.), stirred and defoamed to obtain an adhesive (A). (Example 2) Adhesive varnish (B) 10 obtained in Production Example 3
0 parts by mass of silica ultrafine filler (NanoT manufactured by SI Kasei Co., Ltd.) treated with a vacuum dryer at 200 ° C. for 1 hour.
ekSiO2) (11 parts by mass) was added, and the mixture was kneaded with a defoaming Rentaro (AR-250 manufactured by Shinky Co.), stirred and defoamed to obtain an adhesive (B). (Example 3) Adhesive (A) was applied on polyethylene terephthalate (Teijin Tetron film: G2-50, manufactured by Teijin Ltd.) having a thickness of 50 μm, and dried by heating at 110 ° C. for 5 minutes to obtain a substrate. An adhesive sheet (thickness of the adhesive sheet excluding the substrate was 20 μm) having a film thickness of 20 μm provided with (polyethylene terephthalate film) (Adhesive sheet A) was produced.

【0048】(実施例4)接着材(B)を、厚さ50μ
mのポリエチレンテレフタレート(帝人(株)製、テイ
ジンテトロンフィルム:G2−50)上に塗布し、11
0℃で5分間加熱乾燥して、基材(ポリエチレンテレフ
タレートフィルム)を備えた膜厚が20μmの接着シー
ト(基材を除いた接着シートの厚みが20μm)(接着
シートB)を作製した。 (実施例5)表示素子保護基板上の周囲に、幅2mmで
接着材(A)をディスペンサを用いて塗布し、70℃で
10分間乾燥した後、接着材(A)に、(株)オーク製
作所製UV−330 HQP−2型露光機を使用して5
00mJ/cm2の露光量で光照射した。乾燥窒素雰囲
気下で、光照射を受けた接着材(A)層が表示素子基板
の表示素子形成領域周囲と向き合うように配置し、表示
素子基板と表示素子保護基板を圧着した後、90℃で1
時間加熱し、表示素子基板と表示素子保護基板を接合し
た。 (実施例6)表示素子保護基板上の周囲に、幅2mmで
接着シートAをラミネートして貼り付けた後、接着シー
トAに、(株)オーク製作所製UV−330 HQP−
2型露光機を使用して500mJ/cm2の露光量で光
照射した。乾燥窒素雰囲気下で、光照射を受けた接着シ
ートA層が表示素子基板の表示素子形成領域周囲と向き
合うように配置し、表示素子基板と表示素子保護基板を
圧着した後、90℃で1時間加熱し、表示素子基板と表
示素子保護基板を接合した。
(Example 4) Adhesive (B) was applied to a thickness of 50 μm.
m polyethylene terephthalate (manufactured by Teijin Ltd., Teijin Tetoron film: G2-50), 11
By heating and drying at 0 ° C. for 5 minutes, an adhesive sheet having a base material (polyethylene terephthalate film) and having a film thickness of 20 μm (adhesive sheet thickness excluding the base material was 20 μm) (adhesive sheet B) was produced. (Example 5) The adhesive (A) having a width of 2 mm was applied to the periphery of the display element protection substrate using a dispenser and dried at 70 ° C for 10 minutes, and then the adhesive (A) was coated with Oak Co., Ltd. 5 using the UV-330 HQP-2 type exposure machine manufactured by Seisakusho
Light irradiation was performed with an exposure dose of 00 mJ / cm 2. In a dry nitrogen atmosphere, the adhesive (A) layer irradiated with light is arranged so as to face the periphery of the display element forming region of the display element substrate, and the display element substrate and the display element protection substrate are pressure-bonded, and then at 90 ° C. 1
After heating for a period of time, the display element substrate and the display element protection substrate were bonded. (Example 6) After the adhesive sheet A having a width of 2 mm was laminated and attached to the periphery of the display element protection substrate, the adhesive sheet A was UV-330 HQP- manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.
Light irradiation was performed using a type 2 exposure machine at an exposure dose of 500 mJ / cm 2. In a dry nitrogen atmosphere, the adhesive sheet A layer is arranged so as to face the periphery of the display element forming region of the display element substrate, and the display element substrate and the display element protection substrate are pressure-bonded, and then at 90 ° C. for 1 hour. After heating, the display element substrate and the display element protection substrate were bonded.

【0049】(実施例7)表示素子保護基板上の周囲
に、幅2mmで接着材(B)をディスペンサを用いて塗
布し、70℃で10分間乾燥した後、接着材(B)に、
(株)オーク製作所製UV−330 HQP−2型露光
機を使用して500mJ/cm2の露光量で光照射し
た。乾燥窒素雰囲気下で、光照射を受けた接着材(B)
層が表示素子基板の表示素子形成領域周囲と向き合うよ
うに配置し、表示素子基板と表示素子保護基板を圧着し
た後、90℃で1時間加熱し、表示素子基板と表示素子
保護基板を接合した。 (実施例8)表示素子保護基板上の周囲に、幅2mmで
接着シートBをラミネートして貼り付けた後、接着シー
トBに、(株)オーク製作所製UV−330 HQP−
2型露光機を使用して500mJ/cm2の露光量で光
照射した。乾燥窒素雰囲気下で、光照射を受けた接着シ
ートB層が表示素子基板の表示素子形成領域周囲と向き
合うように配置し、表示素子基板と表示素子保護基板を
圧着した後、90℃で1時間加熱し、表示素子基板と表
示素子保護基板を接合した。 (試験例1)実施例5〜8で得られた表示装置を85℃
85%RH条件下に50時間保存する前後での、表示装
置としての表示品位を評価した。結果を表1に示す。
Example 7 The adhesive (B) having a width of 2 mm was applied to the periphery of the display element protective substrate using a dispenser and dried at 70 ° C. for 10 minutes, and then the adhesive (B) was applied.
It was irradiated with light at an exposure dose of 500 mJ / cm 2 using a UV-330 HQP-2 type exposure machine manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. Adhesive (B) exposed to light under dry nitrogen atmosphere
The layers are arranged so as to face the periphery of the display element forming region of the display element substrate, the display element substrate and the display element protective substrate are pressure bonded, and then heated at 90 ° C. for 1 hour to bond the display element substrate and the display element protective substrate. . (Example 8) After the adhesive sheet B having a width of 2 mm was laminated and attached to the periphery of the display element protection substrate, UV-330 HQP- manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. was attached to the adhesive sheet B.
Light irradiation was performed using a type 2 exposure machine at an exposure dose of 500 mJ / cm 2. In a dry nitrogen atmosphere, the adhesive sheet B layer that has been irradiated with light is arranged so as to face the periphery of the display element forming region of the display element substrate, and the display element substrate and the display element protection substrate are pressure-bonded, and then at 90 ° C. for 1 hour. After heating, the display element substrate and the display element protection substrate were bonded. (Test Example 1) The display devices obtained in Examples 5 to 8 were heated to 85 ° C.
The display quality as a display device was evaluated before and after storage under 85% RH conditions for 50 hours. The results are shown in Table 1.

【0050】(比較例1)実施例5において、接着材
(A)の替わりに、スリーボンド社製30Y−296G
を用い、塗布後の乾燥工程を省いて、実施例5と同様の
操作を行い、表示素子基板と表示素子保護基板を接合し
た。得られた表示装置を試験例1と同様の条件で評価し
た結果を表1に合わせて示す。
(Comparative Example 1) In Example 5, instead of the adhesive material (A), 30Y-296G manufactured by ThreeBond Co., Ltd.
The same operation as in Example 5 was carried out by omitting the drying step after coating to bond the display element substrate and the display element protection substrate. The results of evaluation of the obtained display device under the same conditions as in Test Example 1 are also shown in Table 1.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】[0052]

【発明の効果】請求項1〜5記載の接着材は、比較的低
温で表示素子基板と表示素子保護基板を接合できるだけ
でなく、高い酸素、水分不透過性に優れるものである。
請求項6記載の接着シートは、請求項1〜5記載の発明
の効果に加え、作業性に優れるものである。請求項7記
載の表示装置は、高品位で、高信頼性を有するものであ
る。
The adhesives according to the first to fifth aspects are not only capable of bonding the display element substrate and the display element protection substrate at a relatively low temperature, but also excellent in high oxygen and water impermeability.
The adhesive sheet according to claim 6 is excellent in workability in addition to the effects of the inventions according to claims 1 to 5. The display device according to claim 7 is of high quality and has high reliability.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 63/00 C08L 63/00 C 4J040 C09J 7/02 C09J 7/02 Z 133/00 133/00 (72)発明者 川上 広幸 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 加藤木 茂樹 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J002 BG04X BG10X CC03Y CD02W CD04W CD05W CD06W CD13W DE077 DE087 DE147 DE237 DF017 DJ007 DJ017 DK007 EJ036 EL136 EN006 EN008 EN058 EU048 EU078 EU118 EU138 EV046 EY016 FD017 FD14Y FD146 FD150 FD200 FD208 GJ00 4J004 AA10 AA13 AB05 AB07 4J011 PA13 PA14 PA16 PA69 PA86 UA04 4J026 AA45 AA56 AB04 BA27 BA30 4J036 AD01 AD08 AF01 AF06 AH00 AJ08 DA01 DB05 DB15 DC02 DD02 FB07 4J040 DF042 DF052 EB052 EC061 EC071 EC161 EC261 EG002 GA11 HA116 HA196 HA206 HA296 HA306 HB10 HB22 HC01 HD38 KA03 KA16 Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 63/00 C08L 63/00 C 4J040 C09J 7/02 C09J 7/02 Z 133/00 133/00 (72) Inventor Hiroyuki Kawakami 48 Wadai, Tsukuba-shi, Ibaraki 48, Research Institute, Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Shigeki Kato 48 48, Wadai, Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki F-Term (Reference) 4J002 BG04X BG10X CC03Y CD02W CD04W CD05W CD06W CD13W DE077 DE087 DE147 DE237 DF017 DJ007 DJ017 DK007 EJ036 EL136 EN006 EN008 EN058 EU048 EU078 EU118 EU138 EV046 EY016 FD017 FD14Y FD146 FD150 FD200 FD208 AD56A6JA46 AB06 PA56A6 AB06 PA56A6 AB06 PA56A6 AB06 PA56A6 AB13 AB05 PA0714J046 AF01 AF06 AH00 AJ08 DA01 DB05 DB15 DC02 DD02 FB07 4J040 DF042 DF052 EB052 EC061 EC071 EC161 EC261 EG002 GA11 HA116 HA196 HA206 HA296 HA306 HB10 HB22 HC01 HD38 KA03 KA16

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂
硬化剤、(B)官能基を有する重量平均分子量が10万
以上である高分子、(C)放射線照射によって塩基を発
生する化合物および(D)超微細フィラを含有する熱重
合性および放射線重合性接着材。
1. An epoxy resin and an epoxy resin curing agent, (B) a functional group-containing polymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, (C) a compound which generates a base upon irradiation with radiation, and (D). A heat-polymerizable and radiation-polymerizable adhesive containing an ultrafine filler.
【請求項2】 (B)官能基を有する重量平均分子量が
10万以上である高分子が、エポキシ基含有反復単位を
0.5〜6質量%含有するエポキシ基含有(メタ)アク
リル共重合体である請求項1記載の接着材。
2. An epoxy group-containing (meth) acrylic copolymer in which the polymer (B) having a functional group and a weight average molecular weight of 100,000 or more contains an epoxy group-containing repeating unit in an amount of 0.5 to 6% by mass. The adhesive material according to claim 1, which is
【請求項3】 (A)エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂
硬化剤を100質量部、(B)官能基を有する重量平均
分子量が10万以上である高分子を10〜400質量部
および(C)放射線照射によって塩基を発生する化合物
放射線重合性化合物を0.01〜200質量部含有する
請求項1〜2記載の接着材。
3. An epoxy resin (A) and an epoxy resin curing agent (100 parts by mass), (B) a functional group-containing polymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, 10 to 400 parts by mass, and (C) radiation irradiation. 3. The adhesive material according to claim 1, which contains 0.01 to 200 parts by mass of a compound capable of generating a base and a radiation-polymerizable compound.
【請求項4】 (C)放射線照射によって塩基を発生す
る化合物が、水溶液中におけるpKaが7以上の塩基を
放射線照射によって発生する化合物である請求項1〜3
記載の接着材。
4. The compound (C) which generates a base upon irradiation with radiation is a compound which generates upon irradiation, a base having a pKa of 7 or more in an aqueous solution.
Adhesive described.
【請求項5】 25℃で10〜2000MPaおよび2
60℃で3〜50MPaの加熱硬化後の貯蔵弾性率を有
する請求項1〜4記載の接着材。
5. 10 to 2000 MPa and 2 at 25 ° C.
The adhesive material according to claim 1, which has a storage elastic modulus after heat curing of 3 to 50 MPa at 60 ° C.
【請求項6】 請求項1〜5記載の熱重合性および放射
線重合性接着材をシート状に形成してなる接着シート。
6. An adhesive sheet obtained by forming the heat-polymerizable and radiation-polymerizable adhesive according to claim 1 into a sheet shape.
【請求項7】 請求項1〜6記載の接着材又は接着シー
トを用いて、表示素子基板と表示素子保護基板とを接合
した表示装置。
7. A display device in which a display element substrate and a display element protection substrate are bonded using the adhesive material or the adhesive sheet according to claim 1.
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