JP2003176332A - Heterocycle-containing compound and composition containing the same - Google Patents

Heterocycle-containing compound and composition containing the same

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JP2003176332A
JP2003176332A JP2001378878A JP2001378878A JP2003176332A JP 2003176332 A JP2003176332 A JP 2003176332A JP 2001378878 A JP2001378878 A JP 2001378878A JP 2001378878 A JP2001378878 A JP 2001378878A JP 2003176332 A JP2003176332 A JP 2003176332A
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound and a composition suitably used for adhesives, coatings and resin molded products and a cured product of the composition suitably used for optical members. <P>SOLUTION: This heterocycle-containing compound is represented by general formula (I). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、分子内にヘテロ環
を含む化合物およびこれを含む組成物ならびに該組成物
を硬化して得られる硬化物に関する。詳しくは、接着
剤、コーティング剤、樹脂成形体などに好適に用いられ
る化合物、組成物、および、光学部材に好適に用いられ
る硬化物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound containing a heterocycle in the molecule, a composition containing the compound, and a cured product obtained by curing the composition. Specifically, it relates to a compound, a composition, and a cured product that are preferably used for an adhesive, a coating agent, a resin molded product, and the like, and an optical member.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、レンズなどの光学素子は、素子形
状、素子表面の形状などの複雑な成形が求められてい
る。樹脂材料は、種々の成型法で成形することができる
ので、比較的複雑な形状の素子なども容易に成形できる
という利点がある。さらに、樹脂材料は、ガラスに比べ
軽量であり、靱性を有し、割れにくいなどの特長があ
る。一方、例えば、光学素子、具体的にはレンズを作成
した場合、同じ焦点距離のレンズでも、屈折率の高い材
料を用いて製造すると、レンズを薄肉化することが可能
となり、軽量化、光学経路の設計の自由度が向上すると
いう利点がある。
2. Description of the Related Art In recent years, optical elements such as lenses are required to have complicated shapes such as element shapes and element surface shapes. Since the resin material can be molded by various molding methods, there is an advantage that an element having a relatively complicated shape can be easily molded. Further, the resin material is lighter in weight than glass, has toughness, and is hard to break. On the other hand, for example, when an optical element, specifically, a lens is created, even if the lens has the same focal length, if it is manufactured by using a material having a high refractive index, the lens can be made thin, and the weight and the optical path can be reduced. There is an advantage that the degree of freedom of design is improved.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、樹脂材
料は化学構造が制約されるため、通常は、屈折率がそれ
ほど高くないという問題がある。そこで、構造中に芳香
環、ハロゲン原子、硫黄原子を導入することにより屈折
率の高い樹脂材料を得ることが提案されている(特公平
4-30947号公報、特公平6-76370号公報参照)。しかし、
さらに屈折率の高い樹脂材料が求められている。
However, since the chemical structure of the resin material is restricted, there is usually a problem that the refractive index is not so high. Therefore, it has been proposed to obtain a resin material having a high refractive index by introducing an aromatic ring, a halogen atom, or a sulfur atom into the structure.
(See Japanese Patent Publication No. 4-30947 and Japanese Patent Publication No. 6-76370). But,
Further, a resin material having a high refractive index is required.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、高屈折率
でありまた光、熱硬化性を有する樹脂材料を得るために
鋭意検討した結果、特定の新規なヘテロ環含有化合物
は、高い屈折率を有することを見出し本発明に到達し
た。すなわち、本発明の要旨は、下記一般式(I)で表
されるヘテロ環含有化合物に存する。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors in order to obtain a resin material having a high refractive index and having light and thermosetting properties, the specific novel heterocycle-containing compound has a high They have found that they have a refractive index, and have reached the present invention. That is, the gist of the present invention lies in the heterocycle-containing compound represented by the following general formula (I).

【0005】[0005]

【化2】 [Chemical 2]

【0006】(式中、R1〜R4はそれぞれ独立して炭素数
1〜10の炭化水素基を表す。X1〜X8はそれぞれ独立してO
またはSを表す。Y1およびY2はそれぞれ独立してOまたは
Sを表す。Z1およびZ2はそれぞれ独立してS、−SO2−、
−S−S−または−CO−を表す。m、n、p、qはそれぞれ独
立して0〜10の整数を表す。rは0〜10の整数を表す。式
中のベンゼン環は置換基を有していてもよい。但し、Z1
=Z2=S、p=q=r=0、かつX5=X8=Sの場合およびZ1=Z2=−SO2
−かつY1=Y2=Oの場合を除く。)
(In the formula, R 1 to R 4 are independently carbon numbers.
Represents 1 to 10 hydrocarbon groups. X 1 to X 8 are independently O
Or represents S. Y 1 and Y 2 are each independently O or
Represents S. Z 1 and Z 2 are each independently S, --SO 2- ,
Represents -S-S- or -CO-. m, n, p, and q each independently represent an integer of 0 to 10. r represents an integer of 0 to 10. The benzene ring in the formula may have a substituent. However, Z 1
= Z 2 = S, p = q = r = 0, and X 5 = X 8 = S and Z 1 = Z 2 = −SO 2
-And except for Y 1 = Y 2 = O. )

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のヘテロ環含有化合物は、前記一般式(I)にて
表されるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The heterocycle-containing compound of the present invention is represented by the above general formula (I).

【0008】R1〜R4は、炭素数1〜10、好ましくは
炭素数1〜6、特に好ましくは1〜4の炭化水素基であ
る。炭化水素基は、炭素原子および水素原子より構成さ
れ、構成炭素原子の数が1〜10の2価のものであれば
特に制限はされない。具体的には、メチレン基、エチレ
ン基、1,3−プロピレン基、1,1−プロピレン基、
1,2−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,1−
ブチレン基、1,2−ブチレン基、1,3−ブチレン
基、1,5−ペンチレン基、1,1−ペンチレン基、
1,2−ペンチレン基、1,3−ペンチレン基、1,4
−ペンチレン基、1,6−へキシレン基、1,1−へキ
シレン基、1,2−へキシレン基、1,3−へキシレン
基、1,4−へキシレン基、1,5−へキシレン基、
1,7−へプチレン基、1,8−オクチレン基、1,6
−(2−エチル)へキシレン基、1,9−ノニレン基、
1,10−デシレン基等の鎖状脂肪族炭化水素基;1,
4−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン
基、1,2−シクロヘキシレン基等の環状脂肪族炭化水
素基;1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、
1,4−フェニレン基、1,4−キシリレン基、1,3
−キシリレン基、1,2−キシリレン基等の芳香族炭化
水素基等が挙げられる。好ましくは脂肪族炭化水素基、
特に好ましくは直鎖状脂肪族炭化水素、更に好ましくは
メチレン基、エチレン基、1,3−プロピレン基、1,
4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基、1,6−へキ
シレン基等の炭素数1〜6の直鎖鎖状脂肪族炭化水素基
が用いられる。
R 1 to R 4 are hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms. The hydrocarbon group is composed of carbon atoms and hydrogen atoms, and is not particularly limited as long as it is a divalent group having 1 to 10 constituent carbon atoms. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a 1,3-propylene group, a 1,1-propylene group,
1,2-propylene group, 1,4-butylene group, 1,1-
Butylene group, 1,2-butylene group, 1,3-butylene group, 1,5-pentylene group, 1,1-pentylene group,
1,2-pentylene group, 1,3-pentylene group, 1,4
-Pentylene group, 1,6-hexylene group, 1,1-hexylene group, 1,2-hexylene group, 1,3-hexylene group, 1,4-hexylene group, 1,5-hexylene group Base,
1,7-heptylene group, 1,8-octylene group, 1,6
-(2-ethyl) hexylene group, 1,9-nonylene group,
A chain aliphatic hydrocarbon group such as a 1,10-decylene group;
4-cyclohexylene group, 1,3-cyclohexylene group, cycloaliphatic hydrocarbon group such as 1,2-cyclohexylene group; 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group,
1,4-phenylene group, 1,4-xylylene group, 1,3
-Aromatic hydrocarbon groups such as a xylylene group and a 1,2-xylylene group. Preferably an aliphatic hydrocarbon group,
Particularly preferably linear aliphatic hydrocarbon, more preferably methylene group, ethylene group, 1,3-propylene group, 1,
A linear chain aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms such as 4-butylene group, 1,5-pentylene group, 1,6-hexylene group is used.

【0009】X1〜X8はそれぞれ独立してOまたはSを表
す。X2、X3、X6およびX7は、好ましくはSを表す。Y1
およびY2はそれぞれ独立してOまたはS、好ましくはS
を表す。
X 1 to X 8 each independently represent O or S. X 2 , X 3 , X 6 and X 7 preferably represent S. Y 1
And Y 2 are each independently O or S, preferably S
Represents

【0010】Z1およびZ2はそれぞれ独立してS、−SO
2−、−S−S−または−CO−、好ましくはSまたは−SO2
−を表す。m、n、p、qはそれぞれ独立して0〜10、好ま
しくは0〜5の整数を表す。rは0〜10、好ましくは0〜
5の整数を表す。
Z 1 and Z 2 are each independently S, --SO
2- , -S-S- or -CO-, preferably S or -SO 2
Represents-. m, n, p, and q each independently represent an integer of 0 to 10, preferably 0 to 5. r is 0 to 10, preferably 0
Represents an integer of 5.

【0011】また、上記式中のベンゼン環は、置換基を
有していてもよい。かかる置換基としては特に制限はさ
れないが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−
プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基、n−ノニル基、n−デシル基等の炭素数1〜10の
鎖状脂肪族炭化水素基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素
数5〜10の環状脂肪族炭化水素基、フェニル基、キシ
リル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基等の炭
素数6〜10の芳香族炭化水素基、メトキシ基、エトキ
シ基、n-プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n-ヘキ
シルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオ
キシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基等の
炭素数1〜10のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等が好まし
く、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基、炭素数
1〜3のアルコキシ基、ハロゲン原子である。
The benzene ring in the above formula may have a substituent. The substituent is not particularly limited, but may be methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-
Propyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like having 1 to 10 carbon atoms. C5-C10 cycloaliphatic hydrocarbon groups such as chain aliphatic hydrocarbon groups, cyclopentyl groups, cyclohexyl groups, cycloheptyl groups, and cyclooctyl groups, phenyl groups, xylyl groups, naphthyl groups, benzyl groups, phenethyl groups Aromatic hydrocarbon groups having 6 to 10 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group Group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, and other alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine A halogen atom such as an atom is preferable, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and a halogen atom are more preferable.

【0012】ただし、一般式(I)において、Z1=Z2=
S、p=q=r=0、かつX5=X8=Sの化合物およびZ1=Z2=−SO2
かつY1=Y2=Oの化合物は除く。本発明のヘテロ環含有化
合物は、特に、Y1、Y2のヘテロ原子としてイオウなど
を含むことにより、エポキシ化合物に比べ、硬化温度を
低下させることもでき、硬化速度も増大させることがで
きる。
However, in the general formula (I), Z 1 = Z 2 =
Compound with S, p = q = r = 0, and X 5 = X 8 = S and Z 1 = Z 2 = −SO 2
And compounds with Y 1 = Y 2 = O are excluded. The heterocycle-containing compound of the present invention can lower the curing temperature and increase the curing rate as compared with the epoxy compound by containing sulfur or the like as a hetero atom of Y 1 and Y 2 .

【0013】本発明のヘテロ環含有化合物の製造方法
は、目的化合物が合成できる方法であれば、特に限定さ
れない。Y1およびY2がOである化合物は、例えば、次の
ように合成される。 (1)ジヒドロキシジフェニルスルホンとエピクロルヒ
ドリンを塩基存在下で反応させて、(II)などのような
化合物を得る方法が挙げられる。エピクロルヒドリン
は、ジヒドロキシフェニルスルホンに対して、通常2〜2
0モル倍、好ましくは4〜10モル倍の割合で使用される。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
が好適に用いられる。反応時、溶媒は必要に応じて用い
られるが、溶媒を用いる場合はトルエン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、イソプロピルアルコ
ールなどのアルコール系溶媒などが好適に用いられる。
溶媒は単独で用いても、2種以上混合して用いてもよ
い。反応温度は、通常−20〜200℃、好ましくは0〜150
℃の範囲である。反応が終了した後は、水で洗浄した
後、溶媒と残存しているエピクロルヒドリンなどを留去
して目的物を得る。
The method for producing the heterocycle-containing compound of the present invention is not particularly limited as long as it is a method by which the desired compound can be synthesized. The compound in which Y 1 and Y 2 are O is synthesized, for example, as follows. (1) A method of obtaining a compound such as (II) by reacting dihydroxydiphenyl sulfone with epichlorohydrin in the presence of a base. Epichlorohydrin is usually 2 to 2 relative to dihydroxyphenyl sulfone.
It is used in an amount of 0 mol times, preferably 4 to 10 mol times.
As the base, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are preferably used. During the reaction, a solvent is optionally used, but when a solvent is used, an alcohol solvent such as toluene, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, and isopropyl alcohol is preferably used.
The solvent may be used alone or in combination of two or more kinds. The reaction temperature is generally -20 to 200 ° C, preferably 0 to 150.
It is in the range of ° C. After the reaction is completed, the reaction product is washed with water, and then the solvent and residual epichlorohydrin are distilled off to obtain the desired product.

【0014】[0014]

【化3】 [Chemical 3]

【化4】 [Chemical 4]

【0015】(2)ジクロロジフェニルスルホンに塩基
存在下でメルカプトエタノールを反応させてジヒドロキ
シ化合物を合成し、これとエピクロルヒドリンとの反応
により、(III)などの化合物が得られる。塩基として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、水素化ナトリウムな
どを用いることができる。溶媒は必要に応じて用いられ
るが、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどが用いられる。
(2) Dichlorodiphenyl sulfone is reacted with mercaptoethanol in the presence of a base to synthesize a dihydroxy compound, which is reacted with epichlorohydrin to obtain a compound such as (III). As the base, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, sodium hydride or the like can be used. The solvent is used as necessary, but toluene, xylene, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and the like are used.

【0016】Y1および/またはY2がSである化合物は、
例えば、ヘテロ環含有化合物において、三員環のヘテロ
原子が酸素原子である化合物(以下「対応エポキシ化合
物」と略記する)を原料として、硫化剤を用いる公知の
オキシラン環をチイラン環に変換する方法により合成さ
れる。硫化剤としては、チオ尿素類、チオシアン酸塩類
等が挙げられ、好ましくは、チオ尿素、及びチオシアン
酸カリウムが用いられる。例えば、J. M. Charleswort
h, J. Polym. Sci. Polym. Phys., 17, 329 (1979)に記
載のチオシアン酸塩を用いる方法が、また、R. D. Schu
etz et al, J. Org. Chem., 26, 3467 (1961) に記載の
チオ尿素を用いる方法が記載されている。対応エポキシ
化合物は、上記(1)および(2)の方法で得ることが
できる。
A compound in which Y 1 and / or Y 2 is S is
For example, a method for converting a known oxirane ring using a sulfurizing agent into a thiirane ring by using a compound in which a heteroatom of a three-membered ring is an oxygen atom (hereinafter abbreviated as “corresponding epoxy compound”) as a raw material in a heterocycle-containing compound Is synthesized by. Examples of the sulfurizing agent include thioureas and thiocyanates, and preferably thiourea and potassium thiocyanate are used. For example, JM Charleswort
h, J. Polym. Sci. Polym. Phys., 17, 329 (1979).
A method using thiourea described in etz et al, J. Org. Chem., 26, 3467 (1961) is described. The corresponding epoxy compound can be obtained by the above methods (1) and (2).

【0017】本発明の一般式(I)で表されるヘテロ環
含有化合物を含む組成物は、光、熱などにより重合・硬
化することができる硬化性組成物であり、一般式(I)
で表されるヘテロ環含有化合物の他に、通常、上記一般
式(I)で表される化合物と反応しうる官能基を有する
化合物およびラジカル重合性化合物から選ばれる化合物
を含有する。さらに、本発明の組成物は、これに加えて
硬化助剤を含有することが好ましい。硬化助剤として
は、通常、光開始剤、硬化剤等が挙げられる。本発明の
組成物中の一般式(I)で表される化合物の含有量は、
硬化性組成物に対して、通常1〜100重量%、好まし
くは20〜100重量%である。
The composition containing the heterocycle-containing compound represented by the general formula (I) of the present invention is a curable composition which can be polymerized and cured by light, heat or the like, and has the general formula (I).
In addition to the heterocycle-containing compound represented by the formula (1), a compound selected from a compound having a functional group capable of reacting with the compound represented by the general formula (I) and a radically polymerizable compound is usually contained. Further, the composition of the present invention preferably contains a curing aid in addition to this. Examples of the curing aid include photoinitiators and curing agents. The content of the compound represented by the general formula (I) in the composition of the present invention is
It is usually 1 to 100% by weight, preferably 20 to 100% by weight, based on the curable composition.

【0018】一般式(I)で表されるヘテロ環含有化合
物と反応しうる官能基を有する化合物としては、(i)
カチオン重合可能な化合物、(ii)アニオン重合可能な
化合物などが好ましく用いられる。その他に、水酸基、
メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネ
ート基およびチオイソシアネート基などの官能基を有す
る化合物、環状カーボネート、環状チオカーボネート、
環状エーテル、環状チオエーテルなどが挙げられる。一
般式(I)で表されるヘテロ環含有化合物と反応しうる
官能基を有する化合物の添加量は、硬化性組成物に対し
て、通常0〜95重量%、好ましくは0〜80重量%で
ある。一般式(I)で表されるヘテロ環含有化合物と反
応しうる官能基を有する化合物と混合することにより、
粘度調整、屈折率調整等が可能となる利点がある。
The compound having a functional group capable of reacting with the heterocycle-containing compound represented by the general formula (I) includes (i)
A cationically polymerizable compound, (ii) anionically polymerizable compound and the like are preferably used. In addition, hydroxyl group,
Compounds having functional groups such as mercapto group, carboxyl group, amino group, isocyanate group and thioisocyanate group, cyclic carbonate, cyclic thiocarbonate,
Examples thereof include cyclic ethers and cyclic thioethers. The amount of the compound having a functional group capable of reacting with the heterocycle-containing compound represented by the general formula (I) is usually 0 to 95% by weight, preferably 0 to 80% by weight, based on the curable composition. is there. By mixing with a compound having a functional group capable of reacting with the heterocycle-containing compound represented by the general formula (I),
There is an advantage that the viscosity and the refractive index can be adjusted.

【0019】(i)カチオン重合可能な化合物とは、カ
チオン重合可能な官能基を有する化合物を指し、例えば
ビニルエーテル、アリル化合物、エポキシ化合物、オキ
セタン類などの環状エーテル類、チイラン環含有化合
物、チエタン類などの環状チオエーテル類、カーボネー
ト類、チオカーボネート類などが挙げられる。
The term (i) cationically polymerizable compound means a compound having a cationically polymerizable functional group, and examples thereof include vinyl ethers, allyl compounds, epoxy compounds, cyclic ethers such as oxetanes, thiirane ring-containing compounds, and thietanes. And cyclic thioethers, carbonates, thiocarbonates and the like.

【0020】(ii)アニオン重合可能な化合物とは、ア
ニオン重合可能な官能基を有する化合物を指し、例えば
ビニルエーテル、アリル化合物、エポキシ化合物、オキ
セタン類などの環状エーテル類、チイラン環含有化合
物、チエタン類などの環状チオエーテル類、カーボネー
ト類、チオカーボネート類などが挙げられる。
(Ii) Anionically polymerizable compound means a compound having anionically polymerizable functional group, for example, vinyl ether, allyl compound, epoxy compound, cyclic ethers such as oxetanes, thiirane ring-containing compounds, and thietanes. And cyclic thioethers, carbonates, thiocarbonates and the like.

【0021】ラジカル重合性化合物とは、分子内に少な
くとも一つのラジカル重合性エチレン性不飽和結合を有
する化合物であり、ラジカル反応により重合可能な化合
物をさす。ラジカル重合性不飽和結合含有化合物中のエ
チレン性不飽和結合の数に特に制限はないが、通常1〜2
0個、好ましくは2〜20個、より好ましくは2〜10の範囲
である。具体的には、スチレンまたはその誘導体;ビニ
ルエステル類、ビニルエーテル類などのビニル化合物;
(メタ)アクリレート類、などが挙げられる。ラジカル
重合性化合物の添加量は、硬化性組成物に対して、通常
0〜95重量%、好ましくは0〜80重量%である。ラ
ジカル重合性化合物を混合することにより粘度調整、屈
折率調整、段階的硬化等をさせることが可能となる。
The radical-polymerizable compound is a compound having at least one radical-polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule, and refers to a compound which can be polymerized by a radical reaction. The number of ethylenically unsaturated bonds in the radical-polymerizable unsaturated bond-containing compound is not particularly limited, but usually 1 to 2
The number is 0, preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10. Specifically, styrene or its derivatives; vinyl compounds such as vinyl esters and vinyl ethers;
(Meth) acrylates, etc. are mentioned. The addition amount of the radically polymerizable compound is usually 0 to 95% by weight, preferably 0 to 80% by weight, based on the curable composition. By mixing the radically polymerizable compound, it becomes possible to adjust the viscosity, the refractive index, and the stepwise curing.

【0022】スチレンまたはその誘導体としては、例え
ば、スチレン、インデン、p−メチルスチレン、α−メ
チルスチレン、p−メトキシスチレン、p−tert−
ブトキシスチレン、p−クロロメチルスチレン、p−ア
セトキシスチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられ
る。ビニルエステル類としては、例えば、酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、
珪皮酸ビニルなどが挙げられる。
Examples of styrene and its derivatives include styrene, indene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxystyrene and p-tert-styrene.
Examples include butoxystyrene, p-chloromethylstyrene, p-acetoxystyrene, divinylbenzene and the like. Examples of vinyl esters include vinyl acetate,
Vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl caproate,
Examples thereof include vinyl cinnamate.

【0023】ビニルエーテル類としては、エチルビニル
エーテル、n-プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエ
ーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ブタ
ンジオールジビニルエーテル、エチレングリコールジビ
ニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテ
ル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4,
4-ビス(ビニロキシエチルオキシ)ビフェニル、1,4-ビ
ス(ビニロキシエチルオキシ)ベンゼン、4,4-ビス(ビ
ニロキシエチルオキシ)ジフェニルスルフィド、4,4-ビ
ス(ビニロキシエチルオキシ)ジフェニルスルホン、エ
チルビニルスルフィド、n-プロピルビニルスルフィド、
シクロヘキシルビニルスルフィド、エチレングリコール
モノビニルスルフィド、エチレングリコールジビニルス
ルフィド、ジエチレングリコールジビニルスルフィド、
フェニルビニルスルフィドなどが挙げられる。
The vinyl ethers include ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, butanediol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, 4,
4-bis (vinyloxyethyloxy) biphenyl, 1,4-bis (vinyloxyethyloxy) benzene, 4,4-bis (vinyloxyethyloxy) diphenyl sulfide, 4,4-bis (vinyloxyethyloxy) diphenyl Sulfone, ethyl vinyl sulfide, n-propyl vinyl sulfide,
Cyclohexyl vinyl sulfide, ethylene glycol monovinyl sulfide, ethylene glycol divinyl sulfide, diethylene glycol divinyl sulfide,
Examples include phenyl vinyl sulfide.

【0024】ビニル化合物としては、これらの他に、N
−ビニルピロリドン、N−アクリロイルモルフォリン、
N−ビニルカプロラクトン、N−ビニルピペリジン、N-
ビニルホルムアミド、ビニルノルボルネン、ビニルメタ
クリレートなどの化合物も挙げられる。
As the vinyl compound, in addition to these, N
-Vinylpyrrolidone, N-acryloylmorpholine,
N-vinylcaprolactone, N-vinylpiperidine, N-
Also included are compounds such as vinylformamide, vinylnorbornene, vinylmethacrylate and the like.

【0025】(メタ)アクリレート類としては、単官能
(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート
類、硫黄含有(メタ)アクリレート類、ハロゲンを含む
メタアクリレート類などが挙げられる。
Examples of the (meth) acrylates include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, sulfur-containing (meth) acrylates, and halogen-containing methacrylates.

【0026】単官能(メタ)アクリレートとしては、例
えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)ア
クリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチ
ル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)ア
クリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル
(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレ
ート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチ
ル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ベンジル
(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレン
グリコール(メタ)アクリレート、n-ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)ア
クリレート、2,2,3,3-テトラフロロプロピル(メタ)ア
クリレート、2,2,3,4,4,4-ヘキサフロロブチル(メタ)
アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アク
リレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、5−ヒドロキシペン
チル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル
(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−3−メチルブ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2-
(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2-(メタ)
アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メ
タ)アクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフ
タレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルアシッド
ホスフェートなどが挙げられる。
As the monofunctional (meth) acrylate, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( (Meth) acrylate, 2
-Ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl (meth) Acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) Acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,4,4,4 -Hexa Rorobuchiru (meth)
Acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 5-hydroxypentyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-3-methylbutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy -3-phenoxypropyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2-
(Meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth)
Examples thereof include acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, and 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate.

【0027】多官能(メタ)アクリレート類としては、
1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブ
タンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオ
ール(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)
アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)ア
クリレート、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロイロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、ビス(オキシメチ
ル)トリシクロ[5.2.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレ
ート、ビス(オキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.
02, 7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレートなど
が挙げられる。
As the polyfunctional (meth) acrylates,
1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,3-butane
Tandiol di (meth) acrylate, 1,4-butanedio
(Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di
(Meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth)
Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate
, Polyethylene glycol di (meth) acrylate
G, propylene glycol di (meth) acrylate,
Lipropylene glycol di (meth) acrylate, neo
Pentyl glycol di (meth) acrylate, trimethyl
Roll propane tri (meth) acrylate, pentaery
Thritol di (meth) acrylate, pentaerythritol
Tri (meth) acrylate, pentaerythritol
Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol
Hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) a
Acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxy
Cypropyl (meth) acrylate, bis (oxymethyi)
Le) tricyclo [5.2.02,6] Decan = di (meth) acryl
Bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.13,6.
02, 7.09,13] Pentadecane = di (meth) acrylate, etc.
Is mentioned.

【0028】硫黄含有メタアクリレート化合物として
は、(ビス2-(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ)
エタン、1,1,1-トリス((メタ)アクリロイルチオメチ
ル)エタン、4,4-ジメルカプトジフェニルジ(メタ)ア
クリレート、4,4'-ビス(β-(メタ)アクリロイルオキ
シエチルチオ)ジフェニルスルホン、p-ビス(β-(メ
タ)アクリロイルオキシエチルチオ)キシリレン、m-ビ
ス(β-(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ)キシ
リレン、p-ビス-(β-(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルオキシエチルチオ)キシリレン、m-ビス-(β-(メ
タ)アクリロイルオキシエチルオキシエチルチオ)キシ
リレンα,α-ビス(β-(メタ)アクリロイルオキシエ
チルチオ)-2,3,5,6-テトラクロロ-p-キシリレンなどが
挙げられる。
Examples of the sulfur-containing methacrylate compound include (bis2- (meth) acryloyloxyethylthio)
Ethane, 1,1,1-tris ((meth) acryloylthiomethyl) ethane, 4,4-dimercaptodiphenyldi (meth) acrylate, 4,4'-bis (β- (meth) acryloyloxyethylthio) diphenyl Sulfone, p-bis (β- (meth) acryloyloxyethylthio) xylylene, m-bis (β- (meth) acryloyloxyethylthio) xylylene, p-bis- (β- (meth) acryloyloxyethyloxyethylthio ) Xylylene, m-bis- (β- (meth) acryloyloxyethyloxyethylthio) xylylene α, α-bis (β- (meth) acryloyloxyethylthio) -2,3,5,6-tetrachloro-p -Examples include xylylene.

【0029】アリル化合物としては、例えば、コハク酸
ジアリル、フタル酸ジアリル、マロン酸ジエチルアリ
ル、p-ビス(β-アリルオキシエチルチオ)キシリレ
ン、p-ビス(β-アリルチオエチルチオ)キシリレンな
どが挙げられる。
Examples of the allyl compound include diallyl succinate, diallyl phthalate, diethyl allyl malonate, p-bis (β-allyloxyethylthio) xylylene and p-bis (β-allylthioethylthio) xylylene. Can be mentioned.

【0030】本発明で用いられる光開始剤としては、光
塩基発生剤、光酸発生剤、光ラジカル発生剤などが挙げ
られる。光塩基発生剤は、可視光、紫外線、電子線など
の活性エネルギー線の照射によって、塩基を生成する化
合物である。光塩基発生剤として、たとえば、非イオン
性光塩基発生剤、イオン性光塩基発生剤などが挙げられ
る。非イオン性光塩基発生剤としては、オキシム類、カ
ルバミン酸エステル類などが挙げられ、イオン性光塩基
発生剤としてはアンモニウム塩類などが挙げられる。光
塩基発生剤は単独で使用しても、2種以上を混合して使
用してもよい。以下に合成法を挙げるが、これらに制限
されるものではない。
Examples of the photoinitiator used in the present invention include photobase generators, photoacid generators and photoradical generators. The photobase generator is a compound that produces a base upon irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and electron beams. Examples of the photobase generator include a nonionic photobase generator and an ionic photobase generator. Examples of the nonionic photobase generator include oximes and carbamic acid esters, and examples of the ionic photobase generator include ammonium salts. The photobase generator may be used alone or in combination of two or more kinds. The synthesis methods are shown below, but the synthesis methods are not limited thereto.

【0031】オキシム類としては、O−フェニルアセチ
ルアセトフェノンオキシム、O−ベンゾイルアセトフェ
ノンオキシム、O,O'−スクシニルジアセトフェノン
オキシム、O,O'−グルタニルジアセトフェノンオキ
シム、O,O'−ピバロイルアセトフェノンオキシム、
ジメチルグリオキシムジエチルカーボネート、ビアセチ
ルモノキシムエチルカーボネート、アセトンオキシムエ
チルカーボネート、ベンゾフェノンオキシムエチルカー
ボネート、ビアセチルモノオキシムフェニルウレタン、
ビアセチルモノオキシムフェニルエステル、ビアセチル
モノオキシムアセチルエステル、アセトンオキシムフェ
ニルエステル、ベンゾフェノンオキシムフェニルエステ
ル、ベンゾフェノンエステルアセチルエステル、2,3
−ブタンジオン−O−メタクリロイルオキシム、2,3
−ブタンジオン−O−ビニルベンゾイルオキシム、2−
プロパノン−O−メタクリロイルオキシム等が挙げられ
る。これらには、ラジカル開始剤にもなり得るものも含
まれる。
The oximes include O-phenylacetylacetophenone oxime, O-benzoylacetophenone oxime, O, O'-succinyl diacetophenone oxime, O, O'-glutanyl diacetophenone oxime, O, O'-pivaloyl. Acetophenone oxime,
Dimethyl glyoxime diethyl carbonate, biacetyl monoxime ethyl carbonate, acetone oxime ethyl carbonate, benzophenone oxime ethyl carbonate, biacetyl monooxime phenyl urethane,
Biacetyl monooxime phenyl ester, biacetyl monooxime acetyl ester, acetone oxime phenyl ester, benzophenone oxime phenyl ester, benzophenone ester acetyl ester, 2,3
-Butanedione-O-methacryloyl oxime, 2,3
-Butanedione-O-vinylbenzoyl oxime, 2-
Propanone-O-methacryloyl oxime and the like can be mentioned. These include those that can also be radical initiators.

【0032】これらのオキシム類光塩基発生剤の製造法
としては、公知の手法が使用可能で、例えば、酸塩化物
を原料としてオキシムと反応させることにより合成が可
能である。具体的には、例えば、Sung Il Hong. et al,
J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed.,12, 2553(1974)に
記載の方法に準じて製造することができる。
As a method for producing these photobase generators of oximes, known methods can be used, for example, the reaction can be carried out by reacting an acid chloride with an oxime as a raw material. Specifically, for example, Sung Il Hong. Et al,
It can be produced according to the method described in J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 12, 2553 (1974).

【0033】カルバミン酸エステル類は、ニトロベンジ
ルアルコール類とカルボニルジイミダゾール類、ニトロ
ベンジルアルコール類とイソシアネート、ベンゾイン類
とイソシアネートなどから合成される。ニトロベンジル
アルコール類とカルボニルジイミダゾール類から合成さ
れるものとしては、例えば、N−(2−ニトロベンジル
オキシカルボニル)イミダゾール、N−(3−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−(4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール、N−
(4−クロロ−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)
イミダゾール、N−(5−メチル−2−ニトロベンジル
オキシカルボニル)イミダゾール、N−(4,5−ジメ
チル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)イミダゾ
ール、N−(2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
2−メチルイミダゾール、N−(3−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−メチルイミダゾール、N−(4
−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−メチルイミ
ダゾール、N−(4−クロロ−2−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−2−メチルイミダゾール、N−(5−
メチル−2−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチルイミダゾール、N−(4,5−ジメチル−2−ニ
トロベンジルオキシカルボニル)−2−メチルイミダゾ
ール、N−(2−メチル−2−フェニルプロピル)−N
−シクロヘキシルアミンなどが挙げられる。ニトロベン
ジルアルコール類とイソシアネートから合成されるもの
としては、たとえば、シクロヘキシルカルバミン酸−2
−ニトロベンジルエステル、シクロヘキシルカルバミン
酸−3−ニトロベンジルエステル、シクロヘキシルカル
バミン酸−4−ニトロベンジルエステル、シクロヘキシ
ルカルバミン酸−4−クロロ−2−ニトロベンジルエス
テル、シクロヘキシルカルバミン酸−5−メチル−2−
ニトロベンジルエステル、シクロヘキシルカルバミン酸
−4,5―ジメトキシ―2−ニトロベンジルエステルな
どが挙げられる。ベンジルアルコール類とイソシアネー
トから合成されるシクロヘキシルカルバミン酸−1−メ
チル−1−フェニルエチルエーテル、シクロヘキシルカ
ルバミン酸ベンゾヒドリルエステル等が挙げられる。ベ
ンゾイン類とイソシアネートから合成されるものとして
は、たとえば、シクロヘキシルカルバミン酸−2−オキ
ソ−1,2―ジフェニルエチルエステル、シクロヘキシ
ルカルバミン酸−2−(3,5−ジメトキシフェニル)
−2−オキソ−1−フェニルエチルエステル、シクロヘ
キシルカルバミン酸−1,2−ビス(3,5−ジメトキ
シフェニル)−2−オキソ−エチルエステルなどが挙げ
られる。
Carbamate esters are synthesized from nitrobenzyl alcohols and carbonyldiimidazoles, nitrobenzyl alcohols and isocyanates, benzoins and isocyanates, and the like. Examples of compounds synthesized from nitrobenzyl alcohols and carbonyldiimidazoles include N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4-nitrobenzyl). Oxycarbonyl) imidazole, N-
(4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl)
Imidazole, N- (5-methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl)-
2-Methylimidazole, N- (3-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-methylimidazole, N- (4
-Nitrobenzyloxycarbonyl) -2-methylimidazole, N- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-methylimidazole, N- (5-
Methyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-
Methylimidazole, N- (4,5-dimethyl-2-nitrobenzyloxycarbonyl) -2-methylimidazole, N- (2-methyl-2-phenylpropyl) -N
-Cyclohexylamine and the like. Examples of compounds synthesized from nitrobenzyl alcohols and isocyanate include cyclohexylcarbamic acid-2.
-Nitrobenzyl ester, cyclohexylcarbamic acid-3-nitrobenzyl ester, cyclohexylcarbamic acid-4-nitrobenzyl ester, cyclohexylcarbamic acid-4-chloro-2-nitrobenzyl ester, cyclohexylcarbamic acid-5-methyl-2-
Examples thereof include nitrobenzyl ester and cyclohexylcarbamic acid-4,5-dimethoxy-2-nitrobenzyl ester. Examples thereof include cyclohexylcarbamic acid-1-methyl-1-phenylethyl ether, cyclohexylcarbamic acid benzohydryl ester, and the like synthesized from benzyl alcohols and isocyanate. Examples of compounds synthesized from benzoins and isocyanates include cyclohexylcarbamic acid-2-oxo-1,2-diphenylethyl ester and cyclohexylcarbamic acid-2- (3,5-dimethoxyphenyl).
2-oxo-1-phenylethyl ester, cyclohexylcarbamic acid-1,2-bis (3,5-dimethoxyphenyl) -2-oxo-ethyl ester and the like can be mentioned.

【0034】イソシアネートとしては、脂肪族イソシア
ネート、芳香族イソシアネートが挙げられる。脂肪族イ
ソシアネートとしては、例えば、メチルイソシアネー
ト、クロロメチルイソシアネート、エチルイソシアネー
ト、2−ブロモエチルイソシアネート、n−プロピルイ
ソシアネート、n−ブチルイソシアネート、t−ブチル
イソシアネート、ペンチルイソシアネート、ヘプチルイ
ソシアネート、エチルイソシアネートアセテート、オク
タデシルイソシアネート、アリルイソシアネート、シク
ロヘキシシルイソシアネート、トリクロロメチルイソシ
アネート、クロロスルフォニルイソシアネート、3−イ
ソシアネートプロピルジメチルクロロシラン、オクチル
イソシアネート、3−ヨードプロピルイソシアネート、
ヘキシルイソシアネート、メチルイソシアネートクロロ
フォルメート、テトラヒドロ−2−ピラニルイソシアネ
ート、ウンデシルイソシアネート、エチル−3−イソシ
アネートプロピオナート、エチル−2−イソシアネート
−3−メチルブチラート、シクロプロピルイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキサ
メタン−4,4―ジイソシアネート、1,12−ジシク
ロシアネートドデカン、トリメチルヘキサメチレンジア
ミンジソシアネート、テトライソシアネートシラン、ブ
トキシシラントリイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、
1,5−ジイソシアネート−2−メチルペンタン、1,
4−ジイソシアネートブタン、1,3−ビス(イソシア
ネートメチル)シクロヘキサン、メタンジイソシアネー
ト、トリメチル−1,6−ジイソシアネートヘキサン、
1,8−ジイソシアネートオクタン、ジメリルジイソシ
アネートなどが挙げられる。
Examples of the isocyanate include aliphatic isocyanate and aromatic isocyanate. Examples of the aliphatic isocyanate include methyl isocyanate, chloromethyl isocyanate, ethyl isocyanate, 2-bromoethyl isocyanate, n-propyl isocyanate, n-butyl isocyanate, t-butyl isocyanate, pentyl isocyanate, heptyl isocyanate, ethyl isocyanate acetate, octadecyl. Isocyanate, allyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate, trichloromethyl isocyanate, chlorosulfonyl isocyanate, 3-isocyanate propyldimethylchlorosilane, octyl isocyanate, 3-iodopropyl isocyanate,
Hexyl isocyanate, methyl isocyanate chloroformate, tetrahydro-2-pyranyl isocyanate, undecyl isocyanate, ethyl-3-isocyanate propionate, ethyl-2-isocyanate-3-methylbutyrate, cyclopropyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, Dicyclohexamethane-4,4-diisocyanate, 1,12-dicyclocyanate dodecane, trimethylhexamethylenediamine disocyanate, tetraisocyanate silane, butoxysilane triisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate,
1,5-diisocyanate-2-methylpentane, 1,
4-diisocyanate butane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, methane diisocyanate, trimethyl-1,6-diisocyanate hexane,
Examples include 1,8-diisocyanate octane and dimeryl diisocyanate.

【0035】芳香族イソシアネートとしては、例えば、
フェニルイソシアネート、2−フルオロフェニルイソシ
アネート、2,5−ジフルオロフェニルイソシアネー
ト、2−クロロイソシアネート、2,3−ジクロロフェ
ニルイソシアネート、2,5−ジクロロフェニルイソシ
アネート、2−メトキシフェニルイソシアネート、2,
4−ジメトキシフェニルイソシアネート、2,5−ジメ
トキシフェニルイソシアネート、2−トリフルオロフェ
ニルイソシアネート、2,5−ジメチルフェニルイソシ
アネート、3−ブロモイソシアネート、3−クロロフェ
ニルイソシアネート、3,4−ジクロロフェニルイソシ
アネート、3−トリフルオロフェニルイソシアネート、
4−ブロモフェニルイソシアネート、4−フルオロフェ
ニルイソシアネート、4−メトキシフェニルイソシアネ
ート、p−トリルイソシアネート、p−トルエンスルフ
ォニルイソシアネート、ベンゾイルイソシアネート、1
−フェニルエチルイソシアネート、1−ナフチルイソシ
アネート、1−(1−ナフチル)エチルイソシアネー
ト、2−ニトロフェニルイソシアネート、ベンゼンスル
フォニルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、4
−クロロベンジルスルフォニルイソシアネート、3,5
−ビス(トリフルオロメチル)フェニルイソシアネー
ト、2,4,6−トリブロモフェニルイソシアネート、
2,5−ジフルオロフェニルイソシアネート、メチルー
2−イソシアネートベンゾエート、2,3−ジメチルフ
ェニルイソシアネート、2−エチル−5−エチルフェニ
ルイソシアネート、5−クロロ−2,4−ジメトキシフ
ェニルイソシアネート、3−(メチルチオ)フェニルイ
ソシアネート、エチル−3−イソシアネートベンゾエー
ト、3−アセチルフェニルイソシアネート、4−ヨード
フェニルイソシアネート、4−メチル−3−ニトロフェ
ニルイソシアネート、トリフェニルメチルイソシアネー
ト、4−シアノフェニルイソシアネート、フェネチルイ
ソシアネート、ジメチル−5−イソシアネートイソフタ
レート、フェニルイソシアネートフォルメート、2−ビ
フェニリルイソシアネート、3−イソプロペンチル−
α、α―ジメチルベンジルイソシアネート、トリフェニ
ルシリルイソシアネート、3,5−ジメチルイソキサゾ
ール−4−イソシアネート、1−アダマンチルイソシア
ネート、PMPI、4−(6−メチル−2−ベンゾチア
ゾイル)フェニルイソシアネート、3−メチルベンジル
イソシアネート、9H−フルオレン−9−イル−イソシ
アネート、トリレン−2,6−ジイソシアネート、トリ
レン−2,4−ジイソシアネート、1,3−フェニレン
ジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネー
ト、4−クロロ−6−メチル−1,3−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3’−ジメトキシ− 4,4’−ビ
フェニレンジイソシアネート、3,3’−ビトリレン−
4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、4,4’
−ジイソシアネート −3,3’−ジメチルジフェニル
メタン、α,α−ジメチル−α,4−フェネチルジイソ
シアネート、4−ブロモ−6−メチル−1,3−フェニ
レンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、トリレン−2,5−ジイソシアネー
ト、4,4’−メチレンビス(2−クロロフェニルイソ
シアネート)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、
メチルイジントリ−p−フェニレントリイソシアネー
ト、3,3’−ジクロロジフェニル− 4,4’−ジイ
ソシアネート、2−フルオロ−1,3−ジイソシアネー
トベンゼン、1−クロロメチルー2,4―ジイソシアネ
ートベンゼン、4,4’−メチレンビス(2,6−ジエ
チルフェニル)イソシアネート、2,2−ビス(4−イ
ソシアネートフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,
4’−オキシビス(フェニルイソシアネート)、2,
4,6−トリメチル−1,3−フェニレンジイソシアネ
ート、トリス(p−イソシアネートフェニル)アミン、
α,4−トリレンジイソシアネート、m−キシリレンジ
イソシアネート、1,3−ビス(2−イソシアネート−
2−プロピル)ベンゼンなどが挙げられる。
As the aromatic isocyanate, for example,
Phenyl isocyanate, 2-fluorophenyl isocyanate, 2,5-difluorophenyl isocyanate, 2-chloroisocyanate, 2,3-dichlorophenyl isocyanate, 2,5-dichlorophenyl isocyanate, 2-methoxyphenyl isocyanate, 2,
4-dimethoxyphenyl isocyanate, 2,5-dimethoxyphenyl isocyanate, 2-trifluorophenyl isocyanate, 2,5-dimethylphenyl isocyanate, 3-bromoisocyanate, 3-chlorophenyl isocyanate, 3,4-dichlorophenyl isocyanate, 3-trifluoro Phenyl isocyanate,
4-bromophenyl isocyanate, 4-fluorophenyl isocyanate, 4-methoxyphenyl isocyanate, p-tolyl isocyanate, p-toluenesulfonyl isocyanate, benzoyl isocyanate, 1
-Phenylethyl isocyanate, 1-naphthyl isocyanate, 1- (1-naphthyl) ethyl isocyanate, 2-nitrophenyl isocyanate, benzenesulfonyl isocyanate, benzyl isocyanate, 4
-Chlorobenzylsulfonyl isocyanate, 3,5
-Bis (trifluoromethyl) phenyl isocyanate, 2,4,6-tribromophenyl isocyanate,
2,5-difluorophenyl isocyanate, methyl-2-isocyanate benzoate, 2,3-dimethylphenyl isocyanate, 2-ethyl-5-ethylphenyl isocyanate, 5-chloro-2,4-dimethoxyphenyl isocyanate, 3- (methylthio) phenyl Isocyanate, ethyl-3-isocyanate benzoate, 3-acetylphenyl isocyanate, 4-iodophenyl isocyanate, 4-methyl-3-nitrophenyl isocyanate, triphenylmethyl isocyanate, 4-cyanophenyl isocyanate, phenethyl isocyanate, dimethyl-5-isocyanate Isophthalate, phenyl isocyanate formate, 2-biphenylyl isocyanate, 3-isopropenyl-
α, α-dimethylbenzyl isocyanate, triphenylsilyl isocyanate, 3,5-dimethylisoxazole-4-isocyanate, 1-adamantyl isocyanate, PMPI, 4- (6-methyl-2-benzothiazoyl) phenyl isocyanate, 3 -Methylbenzyl isocyanate, 9H-fluoren-9-yl-isocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 4-chloro-6 -Methyl-1,3-phenylene diisocyanate, 3,3'-dimethoxy-4,4'-biphenylene diisocyanate, 3,3'-bitrylene-
4,4'-biphenylene diisocyanate, 4,4 '
-Diisocyanate-3,3'-dimethyldiphenylmethane, α, α-dimethyl-α, 4-phenethyldiisocyanate, 4-bromo-6-methyl-1,3-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, tolylene-2 , 5-diisocyanate, 4,4′-methylenebis (2-chlorophenylisocyanate), 1,5-naphthalene diisocyanate,
Methylidine tri-p-phenylene triisocyanate, 3,3'-dichlorodiphenyl-4,4'-diisocyanate, 2-fluoro-1,3-diisocyanatebenzene, 1-chloromethyl-2,4-diisocyanatebenzene, 4,4 ' -Methylenebis (2,6-diethylphenyl) isocyanate, 2,2-bis (4-isocyanatephenyl) hexafluoropropane, 4,
4'-oxybis (phenylisocyanate), 2,
4,6-trimethyl-1,3-phenylene diisocyanate, tris (p-isocyanatophenyl) amine,
α, 4-tolylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 1,3-bis (2-isocyanate-
2-propyl) benzene and the like can be mentioned.

【0036】これらのカルバミン酸エステル類光塩基発
生剤の製造法としては、公知の手法が使用可能である。
具体的には、例えば、Nishikubo,T. et al, Polym. J.,
26(7), 864 (1994)、Nishikubo,T. et al, Polym. J.,
29(5), 450 (1997) J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1,
2429(1997)に記載の方法に準じて製造することができ
る。
As a method for producing these carbamic acid ester photobase generators, known methods can be used.
Specifically, for example, Nishikubo, T. et al, Polym. J.,
26 (7), 864 (1994), Nishikubo, T. et al, Polym. J.,
29 (5), 450 (1997) J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1,
It can be produced according to the method described in 2429 (1997).

【0037】アンモニウム塩類としては、ヨードジフェ
ニルエタンとトリエチルアミンからなる塩、α−ブロモ
フェナシル類とトリエチレンジアミンからなる塩、α−
ブロモナフチル類とトリエチレンジアミンからなる塩、
ヘキサアミンコバルトテトラフェニルホウ素塩などが挙
げられる。
As ammonium salts, salts of iododiphenylethane and triethylamine, salts of α-bromophenacyls and triethylenediamine, α-
A salt consisting of bromonaphthyls and triethylenediamine,
Hexaamine cobalt tetraphenyl boron salt and the like can be mentioned.

【0038】これらのアンモニウム塩類光塩基発生剤の
製造法としては、公知の手法が使用可能で、例えば、α
−ブロモフェナシル類やα−ブロモナフチル類を原料と
してトリエチレンジアミンを反応させることにより合成
が可能である。具体的には、例えば、Tachi, H. et al,
J. Photopolym. Sci. Technol.,12,313(1999)に記載の
方法に準じて製造することができる。
As a method for producing these ammonium salt photobase generators, known methods can be used, for example, α
It can be synthesized by reacting triethylenediamine with -bromophenacyls or α-bromonaphthyls as a raw material. Specifically, for example, Tachi, H. et al,
It can be manufactured according to the method described in J. Photopolym. Sci. Technol., 12, 313 (1999).

【0039】光酸発生剤は、可視光、紫外線、電子線な
どの活性エネルギー線の照射によって、酸を生成する化
合物である。光酸発生剤としては、例えば、一般式(I
V)などの鉄−アレーン錯体化合物、芳香族ジアゾニウ
ム塩、一般式(V)〜(VIII)などの芳香族ヨードニウ
ム塩、一般式(IX)〜(XIII)などの芳香族スルホニウ
ム塩、ピリジニウム塩、アンモニウム塩、芳香族シラノ
ール・アルミニウム錯体などが挙げられる。光酸発生剤
は単独で使用しても、2種以上を混合して使用してもよ
い。
The photo-acid generator is a compound which produces an acid upon irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet rays and electron rays. Examples of the photoacid generator include those represented by the general formula (I
V) and other iron-arene complex compounds, aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts such as general formulas (V) to (VIII), aromatic sulfonium salts such as general formulas (IX) to (XIII), pyridinium salts, Examples thereof include ammonium salts and aromatic silanol / aluminum complexes. The photoacid generator may be used alone or in combination of two or more.

【0040】[0040]

【化5】 [Chemical 5]

【化6】 [Chemical 6]

【化7】 [Chemical 7]

【化8】 [Chemical 8]

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 [Chemical 10]

【化11】 [Chemical 11]

【化12】 [Chemical 12]

【化13】 [Chemical 13]

【化14】 [Chemical 14]

【0041】光ラジカル発生剤は、可視光、紫外線、電
子線などの活性エネルギー線の照射によって、ラジカル
を発生する化合物であればよく、一般にラジカル重合性
モノマーの光開始剤として公知とされているものが用い
られる。光ラジカル発生剤としては、例えば、(ビス)
アシルホスフィンオキシドおよびそのエステル類、アセ
トフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾ
インエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキ
サントン化合物、2−メチル−1−〔4−(メチルチ
オ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オ
ン、2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−
(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、芳香族
ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨード
ニウム塩、メタロセン化合物等が挙げられる。好ましく
は、ベンゾフェノン誘導体、ホスフィンオキシド誘導
体、チオキサントン類が用いられる。
The photoradical generator may be any compound that generates a radical upon irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and electron beams, and is generally known as a photoinitiator for radically polymerizable monomers. Things are used. Examples of the photo radical generator include (bis)
Acylphosphine oxide and its esters, acetophenone compounds, benzophenone compounds, benzoin ether compounds, ketal derivative compounds, thioxanthone compounds, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-N, N-dimethylamino-1-
(4-morpholinophenyl) -1-butanone, aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds and the like. Preferably, a benzophenone derivative, a phosphine oxide derivative, and thioxanthones are used.

【0042】(ビス)アシルホスフィンオキシドとして
は、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィン
オキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾ
イルフェニルホスフィン酸メチルエステル、2,6−ジ
クロルベンゾイルフェニルホスフィンオキシド、2,6
−ジメチトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,
4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス
(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホス
フィンオキサイド等が挙げられる。
As the (bis) acylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphinic acid methyl ester, 2, 6-dichlorobenzoylphenylphosphine oxide, 2,6
-Dimethytoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4
4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and the like can be mentioned.

【0043】アセトフェノン系化合物としては、アセト
フェノン、メトキシアセトフェノン、1−フェニル−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−ジフェノ
キシジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノ
ン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロパン−1−オン等が挙げられる。
Examples of acetophenone compounds include acetophenone, methoxyacetophenone and 1-phenyl-2.
-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1- On and the like.

【0044】ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾ
フェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ベンゾイル安
息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキ
シベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシ
ベンゾフェノン、ジフェノキシベンゾフェノン等が挙げ
られる。
Examples of the benzophenone compound include benzophenone, 4-phenylbenzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone and diphenoxybenzophenone.

【0045】ベンゾインエーテル系化合物としては、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル
等が挙げられる。ケタール誘導体化合物としては、ベン
ジルジメチルケタール等が挙げられる。チオキサントン
化合物としては、2−クロロチオキサントン、2,4−
ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサン
トン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプ
ロピルチオキサントン等が挙げられる。光ラジカル発生
剤は単独で使用しても、2種以上を混合して使用しても
よい。
Examples of the benzoin ether compounds include benzoin ethyl ether and benzoin propyl ether. Examples of the ketal derivative compound include benzyl dimethyl ketal. Examples of the thioxanthone compound include 2-chlorothioxanthone and 2,4-
Examples thereof include dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and isopropylthioxanthone. The photo radical generators may be used alone or in combination of two or more.

【0046】これら光酸発生剤、光塩基発生剤、光ラジ
カル発生剤などの開始剤は、用途によって単独で使用し
ても、複数の種類を組み合わせて使用してもよい。好ま
しくは、それぞれ単独、光塩基発生剤と光ラジカル発生
剤の組合せ、光酸発生剤と光ラジカル発生剤の組み合わ
せなどで用いられる。組成物の安定性、作業性を考慮す
ると、可視光による分解が穏やかで、紫外線や赤外線に
よる分解が速やかに起こる、N−(2−ニトロベンジル
オキシ)カルボニルイミダゾール、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、1−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オンなどを使用するこ
とが好ましい。
These photo-acid generators, photo-base generators, photo-radical generators and other initiators may be used alone or in combination of a plurality of types depending on the intended use. Preferably, each is used alone, a combination of a photobase generator and a photoradical generator, a combination of a photoacid generator and a photoradical generator, and the like. Considering the stability and workability of the composition, N- (2-nitrobenzyloxy) carbonylimidazole, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, which is mildly decomposed by visible light and rapidly decomposed by ultraviolet rays or infrared rays, 1 It is preferable to use -hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one or the like.

【0047】光開始剤は、活性エネルギー線を用いて硬
化性樹脂組成物を硬化させる場合には、添加することが
好ましい。光開始剤を用いる場合の光開始剤の添加量
は、硬化性組成物が良好に硬化して、硬化物が得られる
範囲であればよい。具体的には、一般式(I)で表され
る化合物並びにそれと反応しうる官能基を有する化合物
およびラジカル重合性化合物から選ばれる1以上の化合
物の総量100重量部に対して、光開始剤の総量が、通常
0.001重量部以上、好ましくは0.05重量部以上であり、
通常10重量部以下、好ましくは5重量部以下である。開
始剤の添加量が少なすぎる場合は、組成物の硬化が十分
に行えず、一方、添加量が多すぎる場合は、硬化物の機
械的強度が低下するなどその物性に悪い影響を与える可
能性がある。
The photoinitiator is preferably added when the curable resin composition is cured using active energy rays. When the photoinitiator is used, the amount of the photoinitiator added may be in a range such that the curable composition is well cured and a cured product is obtained. Specifically, the photoinitiator is added to 100 parts by weight of the total amount of one or more compounds selected from the compound represented by the general formula (I), the compound having a functional group capable of reacting with the compound and the radical polymerizable compound. Total amount is normal
0.001 parts by weight or more, preferably 0.05 parts by weight or more,
It is usually 10 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less. If the amount of the initiator added is too small, the composition cannot be sufficiently cured.On the other hand, if the amount added is too large, the physical properties of the cured product may be adversely affected, such as reduced mechanical strength. There is.

【0048】本発明で用いられる硬化剤としては、アミ
ン類、4級アンモニウム塩類、ホスフィン類、有機酸
類、ルイス酸類、過酸化物、アゾ化合物などのいわゆる
硬化剤が挙げられる。アミン類としては、1級アミン、
1級ポリアミン、2級アミン、2級ポリアミン、3級ア
ミン、3級ポリアミン、アミジン類、イミダゾール類な
どが挙げられる。
Examples of the curing agent used in the present invention include so-called curing agents such as amines, quaternary ammonium salts, phosphines, organic acids, Lewis acids, peroxides and azo compounds. As amines, primary amines,
Examples thereof include primary polyamine, secondary amine, secondary polyamine, tertiary amine, tertiary polyamine, amidines and imidazoles.

【0049】1級アミンとしては、エチルアミン、n−
プロピルアミン、sec−プロピルアミン、n−ブチル
アミン、sec−ブチルアミン、i−ブチルアミン、t
ert−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミ
ン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、
ラウリルアミン、ミスチリルアミン、1,2−ジメチル
ヘキシルアミン、3−ペンチルアミン、2−エチルヘキ
シルアミン、アリルアミン、アミノエタノール、1−ア
ミノプロパノール、2−アミノプロパノール、アミノブ
タノール、アミノペンタノール、アミノヘキサノール、
3−エトキシプロピルアミン、3−プロポキシプロピル
アミン、3−イソプロポキシプロピルアミン、3−ブト
キシプロピルアミン、3−イソブトキシプロピルアミ
ン、3−(2−エチルヘキシロキシ)プロピルアミン、
アミノシクロペンタン、アミノシクロヘキサン、アミノ
ノルボルネン、アミノメチルシクロヘキサン、ベンジル
アミン、フェネチルアミン、α−フェニルエチルアミ
ン、ナフチルアミン、フルフリルアミン等が挙げられ
る。
As the primary amine, ethylamine, n-
Propylamine, sec-propylamine, n-butylamine, sec-butylamine, i-butylamine, t
ert-butylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, decylamine,
Laurylamine, mistyrylamine, 1,2-dimethylhexylamine, 3-pentylamine, 2-ethylhexylamine, allylamine, aminoethanol, 1-aminopropanol, 2-aminopropanol, aminobutanol, aminopentanol, aminohexanol,
3-ethoxypropylamine, 3-propoxypropylamine, 3-isopropoxypropylamine, 3-butoxypropylamine, 3-isobutoxypropylamine, 3- (2-ethylhexyloxy) propylamine,
Examples thereof include aminocyclopentane, aminocyclohexane, aminonorbornene, aminomethylcyclohexane, benzylamine, phenethylamine, α-phenylethylamine, naphthylamine and furfurylamine.

【0050】1級ポリアミンとしては、エチレンジアミ
ン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロ
パン、1,2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタ
ン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタ
ン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプ
タン、1,8−ジアミノオクタン、ジメチルアミノプロ
ピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス(3
−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス(3−アミ
ノプロポキシ)エタン、1,3−ビス(3−アミノプロ
ポキシ)−2,2’−ジメチルプロパン、アミノエチル
エタノールアミン、1,2−、1,3−あるいは1,4
−ビスアミノシクロヘキサン、1,3−ビスアミノメチ
ルシクロヘ、1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサ
ン、1,3−ビスアミノエチルシクロヘキサン、1,4
−ビスアミノエチルシクロヘキサン、水添4,4’−ジ
アミノジフェニルメタン、2−アミノピペリジン、4−
アミノピペリジン、2−アミノメチルピペリジン、4−
アミノメチルピペリジン、2−アミノエチルピペリジ
ン、4−アミノエチルピペリジン、N−アミノエチルピ
ペリジン、N−アミノプロピルピペリジン、N−アミノ
エチルモルホリン、N−アミノプロピルモルホリン、イ
ソホロンジアミン、メンタンジアミン、1,4−ビスア
ミノプロピルピペラジン、o−、m−、あるいはp−フ
ェニレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、2,6
−トリレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−
アミノベンジルアミン、4−クロロ−o−フェニレンジ
アミン、テトラクロロ−p−キシリレンジアミン、4−
メトキシ−6−メチル−m−フェニレンジアミン、m
−、あるいはp−キシリレンジアミン、2,6−ナフタ
レンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
2,2−(4,4’−ジアミノジフェニル)プロパン、
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジ
アミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジトリ
ルスルホン、メチレンビス(o−クロロアニリン)、
3,9−ビス(3−アミノプロピル)2,4,8,10
−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、ジエチレ
ントリアミン、イミノビスプロピルアミン、メチルイミ
ノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリア
ミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタ
ミン、ペンタエチレンヘキサミン、N−アミノエチルピ
ペラジン、N−アミノプロピルピペラジン、1,4−ビ
ス(アミノエチルピペラジン)、1,4−ビス(アミノ
プロピルピペラジン)、2,6−ジアミノピリジン、ビ
ス(3,4−ジアミノフェニル)スルホン等が挙げられ
る。
As the primary polyamine, ethylenediamine, 1,2-diaminopropane, 1,3-diaminopropane, 1,2-diaminobutane, 1,3-diaminobutane, 1,4-diaminobutane, 1,5- Diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, bis (3
-Aminopropyl) ether, 1,2-bis (3-aminopropoxy) ethane, 1,3-bis (3-aminopropoxy) -2,2'-dimethylpropane, aminoethylethanolamine, 1,2-, 1 , 3- or 1, 4
-Bisaminocyclohexane, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, 1,4-bisaminomethylcyclohexane, 1,3-bisaminoethylcyclohexane, 1,4
-Bisaminoethylcyclohexane, hydrogenated 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2-aminopiperidine, 4-
Aminopiperidine, 2-aminomethylpiperidine, 4-
Aminomethylpiperidine, 2-aminoethylpiperidine, 4-aminoethylpiperidine, N-aminoethylpiperidine, N-aminopropylpiperidine, N-aminoethylmorpholine, N-aminopropylmorpholine, isophoronediamine, menthanediamine, 1,4- Bisaminopropylpiperazine, o-, m-, or p-phenylenediamine, 2,4-tolylenediamine, 2,6
-Tolylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-
Aminobenzylamine, 4-chloro-o-phenylenediamine, tetrachloro-p-xylylenediamine, 4-
Methoxy-6-methyl-m-phenylenediamine, m
-Or p-xylylenediamine, 2,6-naphthalenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane,
2,2- (4,4'-diaminodiphenyl) propane,
4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminoditolyl sulfone, methylenebis (o-chloroaniline),
3,9-bis (3-aminopropyl) 2,4,8,10
-Tetraoxaspiro [5,5] undecane, diethylenetriamine, iminobispropylamine, methyliminobispropylamine, bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-aminoethylpiperazine, Examples thereof include N-aminopropylpiperazine, 1,4-bis (aminoethylpiperazine), 1,4-bis (aminopropylpiperazine), 2,6-diaminopyridine and bis (3,4-diaminophenyl) sulfone.

【0051】2級アミンとしては、ジエチルアミン、ジ
プロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−sec−
ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−n−ペンチル
アミン、ジ−3−ペンチルアミン、ジヘキシルアミン、
オクチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)アミン、メ
チルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロリジン、ピ
ペリジン、2−、3−、4−ピコリン、2,4−、2,
6−、3,5−ルペチジン、ジフェニルアミン、N−メ
チルアニリン、N−エチルアニリン、ジベンジルアミ
ン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミン、ピロー
ル、インドリン、インドール、モルホリン等が挙げられ
る。
As the secondary amine, diethylamine, dipropylamine, di-n-butylamine, di-sec-
Butylamine, diisobutylamine, di-n-pentylamine, di-3-pentylamine, dihexylamine,
Octylamine, di (2-ethylhexyl) amine, methylhexylamine, diallylamine, pyrrolidine, piperidine, 2-, 3-, 4-picoline, 2,4-, 2,
Examples thereof include 6-, 3,5-lupetidine, diphenylamine, N-methylaniline, N-ethylaniline, dibenzylamine, methylbenzylamine, dinaphthylamine, pyrrole, indoline, indole and morpholine.

【0052】2級ポリアミンとしては、N,N’−ジメ
チルエチレンジアミン、N,N’−ジメチル−1,2−
ジアミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,3−ジア
ミノプロパン、N,N’−ジメチル−1,2−ジアミノ
ブタン、N,N’−ジメチル−1,3−ジアミノブタ
ン、N,N’−ジメチル−1,4−ジアミノブタン、
N,N’−ジメチル−1,5−ジアミノペンタン、N,
N’−ジメチル−1,6−ジアミノヘキサン、N,N’
−ジメチル−1,7−ジアミノヘプタン、N,N’−ジ
エチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチル−1,2
−ジアミノプロパン、N,N’−ジエチル−1,3−ジ
アミノプロパン、N,N’−ジエチル−1,2−ジアミ
ノブタン、N,N’−ジエチル−1,3−ジアミノブタ
ン、N,N’−ジエチル−1,4−ジアミノブタン、
N,N’−ジエチル−1,6−ジアミノヘキサン、ピペ
ラジン、2−メチルピペラジン、2,5−あるいは2,
6−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、1,1−ジ
−(4−ピペリジル)メタン、1,2−ジ−(4−ピペ
リジル)エタン、1,3−ジ−(4−ピペリジル)プロ
パン、1,4−ジ−(4−ピペリジル)ブタン、テトラ
メチルグアニジン等が挙げられる。
As the secondary polyamine, N, N'-dimethylethylenediamine, N, N'-dimethyl-1,2-
Diaminopropane, N, N'-dimethyl-1,3-diaminopropane, N, N'-dimethyl-1,2-diaminobutane, N, N'-dimethyl-1,3-diaminobutane, N, N'- Dimethyl-1,4-diaminobutane,
N, N'-dimethyl-1,5-diaminopentane, N,
N'-dimethyl-1,6-diaminohexane, N, N '
-Dimethyl-1,7-diaminoheptane, N, N'-diethylethylenediamine, N, N'-diethyl-1,2
-Diaminopropane, N, N'-diethyl-1,3-diaminopropane, N, N'-diethyl-1,2-diaminobutane, N, N'-diethyl-1,3-diaminobutane, N, N ' -Diethyl-1,4-diaminobutane,
N, N'-diethyl-1,6-diaminohexane, piperazine, 2-methylpiperazine, 2,5- or 2,
6-dimethylpiperazine, homopiperazine, 1,1-di- (4-piperidyl) methane, 1,2-di- (4-piperidyl) ethane, 1,3-di- (4-piperidyl) propane, 1,4 -Di- (4-piperidyl) butane, tetramethylguanidine and the like can be mentioned.

【0053】3級アミンとしては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−
iso−プロピルアミン、トリ−1,2−ジメチルプロ
ピルアミン、トリ−3−メトキシプロピルアミン、トリ
−n−ブチルアミン、トリ−iso−ブチルアミン、ト
リ−sec−ブチルアミン、トリ−ペンチルアミン、ト
リ−3−ペンチルアミン、トリ−n−ヘキシルアミン、
トリ−n−オクチルアミン、トリ−2−エチルヘキシル
アミン、トリ−ドデシルアミン、トリ−ラウリルアミ
ン、ジシクロヘキシルエチルアミン、シクロヘキシルジ
エチルアミン、トリ−シクロヘキシルアミン、N,N−
ジメチルヘキシルアミン、N−メチルジヘキシルアミ
ン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N−メチ
ルジシクロヘキシルアミン、N、N−ジエチルエタノー
ルアミン、N、N−ジメチルエタノールアミン、N−エ
チルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリ
ベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ジ
エチルベンジルアミン、トリフェニルアミン、N,N−
ジメチルアミノ−p−クレゾール、N,N−ジメチルア
ミノメチルフェノール、2−(N,N−ジメチルアミノ
メチル)フェノール、N,N−ジメチルアニリン、N,
N−ジエチルアニリン、ピリジン、キノリン、N−メチ
ルモルホリン、N−メチルピペリジン、2−(2−ジメ
チルアミノエトキシ)−4−メチル−1,3,2−ジオ
キサボルナン等が挙げられる。
As the tertiary amine, trimethylamine,
Triethylamine, tri-n-propylamine, tri-
iso-propylamine, tri-1,2-dimethylpropylamine, tri-3-methoxypropylamine, tri-n-butylamine, tri-iso-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-pentylamine, tri-3-. Pentylamine, tri-n-hexylamine,
Tri-n-octylamine, tri-2-ethylhexylamine, tri-dodecylamine, tri-laurylamine, dicyclohexylethylamine, cyclohexyldiethylamine, tri-cyclohexylamine, N, N-
Dimethylhexylamine, N-methyldihexylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N-methyldicyclohexylamine, N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-ethyldiethanolamine, triethanolamine, Ribenzylamine, N, N-dimethylbenzylamine, diethylbenzylamine, triphenylamine, N, N-
Dimethylamino-p-cresol, N, N-dimethylaminomethylphenol, 2- (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylaniline, N,
Examples thereof include N-diethylaniline, pyridine, quinoline, N-methylmorpholine, N-methylpiperidine, 2- (2-dimethylaminoethoxy) -4-methyl-1,3,2-dioxabornane.

【0054】3級ポリアミンとしては、テトラメチルエ
チレンジアミン、ピラジン、N,N’−ジメチルピペラ
ジン、N,N’−ビス((2−ヒドロキシ)プロピル)
ピペラジン、ヘキサメチレンテトラミン、N,N,
N’,N’−テトラメチル−1,3−ブタンアミン、2
−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロパン、ジエチル
アミノエタノール、N,N,N−トリス(3−ジメチル
アミノプロピル)アミン、2,4,6−トリス(N,N
−ジメチルアミノメチル)フェノール、ヘプタメチルイ
ソビグアニド等が挙げられる。
As the tertiary polyamine, tetramethylethylenediamine, pyrazine, N, N'-dimethylpiperazine, N, N'-bis ((2-hydroxy) propyl)
Piperazine, hexamethylenetetramine, N, N,
N ', N'-tetramethyl-1,3-butanamine, 2
-Dimethylamino-2-hydroxypropane, diethylaminoethanol, N, N, N-tris (3-dimethylaminopropyl) amine, 2,4,6-tris (N, N)
-Dimethylaminomethyl) phenol, heptamethylisobiguanide and the like.

【0055】アミジン類としては、1,8−ジアザビシ
クロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,5−ジアザビ
シクロ(4,3,0)ノネン−5、6−ジブチルアミノ
−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7、1,4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン等
が挙げられる。
Amidines include 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7,1,5-diazabicyclo (4,3,0) nonene-5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo. (5,4,0) Undecen-
7,1,4-diazabicyclo (2,2,2) octane and the like can be mentioned.

【0056】イミダゾール類としては、イミダゾール、
N−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、4
−メチルイミダゾール、N−エチルイミダゾール、2−
エチルイミダゾール、4−エチルイミダゾール、N−ブ
チルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、N−ウン
デシルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、N
−フェニルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、
N−ベンジルイミダゾール、2−ベンジルイミダゾー
ル、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、N−
(2’−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、N
−(2’−シアノエチル)−2−ウンデシルイミダゾー
ル、N−(2’−シアノエチル)−2−フェニルイミダ
ゾール、3,3−ビス−(2−エチル−4−メチルイミ
ダゾリル)メタン、アルキルイミダゾールとイソシアヌ
ール酸の付加物、アルキルイミダゾールとホルムアルデ
ヒドの縮合物等が挙げられる。
Examples of the imidazoles include imidazole,
N-methylimidazole, 2-methylimidazole, 4
-Methylimidazole, N-ethylimidazole, 2-
Ethylimidazole, 4-ethylimidazole, N-butylimidazole, 2-butylimidazole, N-undecylimidazole, 2-undecylimidazole, N
-Phenyl imidazole, 2-phenyl imidazole,
N-benzyl imidazole, 2-benzyl imidazole, 1-benzyl-2-methyl imidazole, N-
(2'-Cyanoethyl) -2-methylimidazole, N
-(2'-cyanoethyl) -2-undecylimidazole, N- (2'-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 3,3-bis- (2-ethyl-4-methylimidazolyl) methane, alkylimidazole and isocyanate Examples thereof include an addition product of nouric acid and a condensation product of alkylimidazole and formaldehyde.

【0057】4級アンモニウム塩類としては、テトラメ
チルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアン
モニウムヘキサフルオロホスファイト、トリメチルベン
ジルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
Examples of the quaternary ammonium salts include tetramethylammonium chloride, tetra-n-butylammonium hexafluorophosphite and trimethylbenzylammonium chloride.

【0058】ホスフィン類としては、トリメチルフォス
フィン、トリエチルフォスフィン、トリ−iso−プロ
ピルフォスフィン、トリ−n−ブチルフォスフィン、ト
リ−n−ヘキシルフォスフィン、トリ−n−オクチルフ
ォスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェ
ニルフォスフィン、トリベンジルホスフィン、トリス
(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(3−メチ
ルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メチルフェニ
ル)ホスフィン、トリス(ジエチルアミノ)ホスフィ
ン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジメチ
ルフェニルフォスフィン、ジエチルフェニルフォスフィ
ン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、エチルジフ
ェニルフォスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフ
ィン、クロロジフェニルフォスフィン等が挙げられる。
Examples of the phosphines are trimethylphosphine, triethylphosphine, tri-iso-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, tri-n-hexylphosphine, tri-n-octylphosphine and tricyclohexyl. Phosphine, triphenylphosphine, tribenzylphosphine, tris (2-methylphenyl) phosphine, tris (3-methylphenyl) phosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris (diethylamino) phosphine, tris (4-methylphenyl) ) Phosphine, dimethylphenylphosphine, diethylphenylphosphine, dicyclohexylphenylphosphine, ethyldiphenylphosphine, diphenylcyclohexylphosphine, chlorodiphenyl Osufin, and the like.

【0059】硬化剤としては、好ましくは、アミン類、
4級アンモニウム塩類またはフォスフィン類が、特に好
ましくは、2級モノアミン、3級モノアミン、3級ポリ
アミン、イミダゾール類、アミジン類、4級アンモニウ
ム塩類またはフォスフィン類が用いられる。これらの硬
化剤は単独で使用しても、2種以上を混合して使用して
もよい。
As the curing agent, amines,
Quaternary ammonium salts or phosphines, particularly preferably, secondary monoamines, tertiary monoamines, tertiary polyamines, imidazoles, amidines, quaternary ammonium salts or phosphines are used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

【0060】硬化剤を添加する場合、硬化剤の添加量
は、本発明の組成物が良好に硬化して、硬化物が得られ
る範囲であればよい。具体的には、一般式(I)で表さ
れる化合物、並びにそれと反応しうる官能基を有する化
合物およびラジカル重合性化合物から選ばれる1以上の
化合物の総量100重量部に対して、硬化剤の総量が、通
常0.001重量部以上、好ましくは0.05重量部以上であ
り、通常10重量部以下、好ましくは5重量部以下であ
る。開始剤の添加量が少なすぎる場合は、組成物の硬化
が十分に行えず、一方、添加量が多すぎる場合は、硬化
物の機械的強度が低下するなどその物性に悪い影響を与
える可能性がある。
When the curing agent is added, the amount of the curing agent added may be in the range such that the composition of the present invention is well cured and a cured product is obtained. Specifically, the curing agent is added to 100 parts by weight of the compound represented by the general formula (I), and one or more compounds selected from the compound having a functional group capable of reacting with the compound and the radical-polymerizable compound. The total amount is usually 0.001 parts by weight or more, preferably 0.05 parts by weight or more, and usually 10 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight or less. If the amount of the initiator added is too small, the composition cannot be sufficiently cured.On the other hand, if the amount added is too large, the physical properties of the cured product may be adversely affected, such as reduced mechanical strength. There is.

【0061】開始剤、硬化剤が、光および/または熱な
どの刺激により発生した酸、塩基が触媒作用をし、さら
に酸、塩基を生成し、酸、塩基の発生効率が上がる化合
物がある。この化合物には、光塩基発生剤、光酸発生剤
自体が、そのような現象を示すものを含む。このような
化合物としては、p−トルエンスルホン酸エステル類や
カルバミン酸エステル類などが挙げられる。2,4,6
−トリス[2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)エ
チル]−1,3,5−トリオキシラン、3−フェニル−
3,3’−エチレンジオキシ−1−プロピルp−トルエ
ンスルホネート、3−フェニル−3,3’−エチレンジ
オキシ−1−プロピルメシチレンスルホネート、2−フ
ェニル−2−プロピル−2−メチル−2(ヒドロキシメ
チル)−3−ケトブタノエート、t−ブチル−2−メチ
ル−2((p−トルエンスルホニルオキシ)メチル)−
3−ケトブタノエート、1−(9−フルオレニルメトキ
シカルボニル)ピペリジン、1,3−ビス[(2−ニト
ロベンジル)−オキシカルボニル−4−ピペリジル]プ
ロパノン、シクロヘキシルカルバミン酸−2−オキソ−
1,2―ジフェニルエチルエステル、シクロヘキシルカ
ルバミン酸−2−(3,5−ジメトキシフェニル)−2
−オキソ−1−フェニルエチルエステル、シクロヘキシ
ルカルバミン酸−1,2−ビス(3,5−ジメトキシフ
ェニル)−2−オキソ−エチルエステルなどが挙げられ
る。このような化合物を酸、塩基の拮抗作用によって触
媒を失活させない範囲で、必要に応じて添加することが
できる。
There is a compound in which an initiator or a curing agent has a catalytic action of an acid or a base generated by a stimulus such as light and / or heat and further produces an acid or a base to increase the generation efficiency of the acid or the base. This compound includes a photobase generator and a photoacid generator which exhibit such a phenomenon. Examples of such a compound include p-toluenesulfonic acid esters and carbamic acid esters. 2, 4, 6
-Tris [2- (p-toluenesulfonyloxy) ethyl] -1,3,5-trioxirane, 3-phenyl-
3,3′-ethylenedioxy-1-propyl p-toluenesulfonate, 3-phenyl-3,3′-ethylenedioxy-1-propylmesitylenesulfonate, 2-phenyl-2-propyl-2-methyl-2 ( Hydroxymethyl) -3-ketobutanoate, t-butyl-2-methyl-2 ((p-toluenesulfonyloxy) methyl)-
3-ketobutanoate, 1- (9-fluorenylmethoxycarbonyl) piperidine, 1,3-bis [(2-nitrobenzyl) -oxycarbonyl-4-piperidyl] propanone, cyclohexylcarbamic acid-2-oxo-
1,2-diphenylethyl ester, cyclohexylcarbamic acid-2- (3,5-dimethoxyphenyl) -2
-Oxo-1-phenylethyl ester, cyclohexylcarbamic acid-1,2-bis (3,5-dimethoxyphenyl) -2-oxo-ethyl ester and the like can be mentioned. Such a compound can be added, if necessary, within a range in which the catalyst is not deactivated by the antagonism of an acid or a base.

【0062】本発明の組成物には、本発明の効果を損ね
ない範囲で、上記の他に公知の重合禁止剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光増感剤、連鎖移動剤、溶剤、離型
剤、可塑剤、処理剤、柔軟性および保形性付与剤、充填
剤等の各種添加剤を添加しても良い。重合禁止剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤を添加することにより、組成物の
安定性を向上させることができる。また、光増感剤、連
鎖移動剤を添加することにより硬化を効率的に行うこと
ができる。
In the composition of the present invention, in addition to the above, known polymerization inhibitors, antioxidants, ultraviolet absorbers, photosensitizers, chain transfer agents, solvents, etc. You may add various additives, such as a mold release agent, a plasticizer, a processing agent, a softness and shape retention imparting agent, and a filler. The stability of the composition can be improved by adding a polymerization inhibitor, an antioxidant and an ultraviolet absorber. Further, the curing can be efficiently performed by adding the photosensitizer and the chain transfer agent.

【0063】溶剤としては、溶剤は必須成分が溶けるよ
うな種類であれば特に制限はない。具体的にはトルエン
などの芳香族炭化水素類、ヘキサンなどのような脂肪族
炭化水素類、エーテルやテトラヒドロフランのようなエ
ーテル類、アセトンやメチルエチルケトンのようなケト
ン類、酢酸エチルのようなエステル類、イソプロピルア
ルコールのようなアルコール類などを挙げることができ
る。溶剤を添加することにより、本発明の組成物の粘度
を調整することができる。可塑剤としては、例えば、フ
タル酸ジブチル、d4シリコーン等が挙げられる。
The solvent is not particularly limited as long as it is a type in which the essential components can be dissolved. Specifically, aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, ethers such as ether and tetrahydrofuran, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate, Examples thereof include alcohols such as isopropyl alcohol. By adding a solvent, the viscosity of the composition of the present invention can be adjusted. Examples of the plasticizer include dibutyl phthalate and d4 silicone.

【0064】柔軟性および保形性付与剤としては、例え
ば、ポリビニルブチラール、アクリルポリマー、ポリフ
ェニレンエーテル、ポリエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、トリアセチルセルロース(TAC)等を使用すること
ができる。離型剤、可塑剤、処理剤、柔軟性および保形
性付与剤など過剰に添加すると、硬化物のガラス転移点
温度が下がったり、比誘電率が上がる傾向にあるので、
これらの添加量は、本発明の一般式(I)で表される化
合物を含む組成物100グラムに対して通常0〜20グラムの
範囲から選ばれる。充填剤としては、例えば、シリカ、
アルミナ、炭酸カルシウム等のフィラー、銅、銀、金等
の金属粒子、繊維状物質等が挙げられる。
As the flexibility and shape-retaining agent, for example, polyvinyl butyral, acrylic polymer, polyphenylene ether, polyether sulfone, polysulfone, triacetyl cellulose (TAC) and the like can be used. If a release agent, a plasticizer, a treating agent, a flexibility and a shape-retaining agent are added in excess, the glass transition temperature of the cured product tends to decrease and the relative dielectric constant tends to increase.
The addition amount of these is usually selected from the range of 0 to 20 g per 100 g of the composition containing the compound represented by the general formula (I) of the present invention. As the filler, for example, silica,
Examples thereof include fillers such as alumina and calcium carbonate, metal particles such as copper, silver and gold, and fibrous substances.

【0065】本発明の組成物は、一般式(I)の化合
物、これと反応し得る官能基を有する化合物、ラジカル
重合性化合物、硬化助剤および必要に応じて添加剤を混
合することにより得ることができる。本発明の組成物
は、適宜な形状に賦形した後、硬化することにより、硬
化物を得ることができる。本発明の組成物を硬化させる
方法としては、硬化剤を添加して硬化させる方法、加熱
により硬化させる方法、光を照射することにより硬化さ
せる方法が挙げられる。硬化剤を添加して硬化させる方
法の場合、硬化は、通常50℃以上、200℃以下で行
うことができる。
The composition of the present invention is obtained by mixing the compound of the general formula (I), the compound having a functional group capable of reacting with the compound, the radically polymerizable compound, the curing aid and, if necessary, an additive. be able to. The composition of the present invention can be shaped into an appropriate shape and then cured to obtain a cured product. Examples of the method of curing the composition of the present invention include a method of curing by adding a curing agent, a method of curing by heating, and a method of curing by irradiating light. In the case of the method of adding a hardening agent and hardening, hardening can be normally performed above 50 ° C and below 200 ° C.

【0066】加熱により硬化させる方法の場合、通常5
0℃以上、好ましくは100℃以上、通常200℃以
下、好ましくは180℃以下の温度に通常0.5〜36
時間保持される。光を照射することにより硬化させる方
法の場合、光の波長としては単一波長である必要はな
く、使用する光開始剤の特性に依存し、該光開始剤の分
解が効率的に起こる波長を含む活性エネルギー線が選ば
れる。具体的には、可視光、紫外線、近赤外線、遠赤外
線、電子線等が使用可能であり、高圧水銀灯、低圧水銀
灯、メタルハロゲンランプ等から発せられる紫外線が好
ましい。これらの硬化方法は単独で行っても、併用して
もよい。併用する場合としては、例えば、光照射を行っ
た後に加熱処理をする方法、硬化剤による硬化と光照射
による方法を併用する方法などが挙げられる。
In the case of curing by heating, it is usually 5
It is usually 0.5 to 36 at a temperature of 0 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, usually 200 ° C. or lower, preferably 180 ° C. or lower.
Hold for hours. In the case of a method of curing by irradiating with light, the wavelength of light does not have to be a single wavelength, but depends on the characteristics of the photoinitiator used, and the wavelength at which the decomposition of the photoinitiator efficiently occurs. The active energy ray containing is selected. Specifically, visible light, ultraviolet light, near infrared light, far infrared light, electron beam, and the like can be used, and ultraviolet light emitted from a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halogen lamp, or the like is preferable. These curing methods may be used alone or in combination. Examples of the combined use include a method of performing a heat treatment after performing light irradiation, a method of combining a method of curing with a curing agent and a method of light irradiation, and the like.

【0067】本発明の組成物を賦形する方法としては、
型を用いて成形する方法、基材上に塗布する方法などが
挙げられる。型を用いて成形する方法としては、成形型
内に本発明の組成物を注入した後、上述の方法により硬
化し、脱型することにより、本発明の組成物からなる成
形体を得ることができる。型を用いて成形し、かつ、硬
化を光硬化により行う場合は、エネルギー線に対して透
明な部分を有する成形型に本発明の組成物を注入し、成
形型の透明な側からエネルギー線を照射して硬化させ、
成型体を得ることができる。型を用いて成形すると、型
の表面形状を転写させた成形体を得ることもできる。こ
の際、成型時に液状である本発明の組成物を用いれば、
精密成形を行うことができる。このようにして得られた
成形体は、屈折率が通常1.5以上、好ましくは1.6
以上であり、レンズ、プリズム、導波路、基板などの光
学部品として用いることができる。
The method of shaping the composition of the present invention includes:
Examples thereof include a method of molding using a mold and a method of coating on a substrate. As a method of molding using a mold, after injecting the composition of the present invention into the molding die, curing by the method described above, and removing the mold, a molded article made of the composition of the present invention can be obtained. it can. When molding is performed using a mold and curing is performed by photo-curing, the composition of the present invention is injected into a mold having a portion transparent to energy rays, and the energy rays are irradiated from the transparent side of the molding die. Irradiate and cure,
A molded body can be obtained. By molding using a mold, it is possible to obtain a molded product in which the surface shape of the mold is transferred. At this time, if the composition of the present invention that is liquid at the time of molding is used,
Precision molding can be performed. The molded product thus obtained has a refractive index of usually 1.5 or more, preferably 1.6.
As described above, it can be used as an optical component such as a lens, a prism, a waveguide, and a substrate.

【0068】また、基材上に塗布する方法としては、基
材上に本発明の組成物を塗布した後に、乾燥、および硬
化することにより、本発明の組成物が硬化した硬化物か
らなる層と基材層とを有する積層体を得ることができ
る。基材上に塗布して成形する方法において、基材とし
ては、ガラス、銅箔などの無機材料でも、ポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルム、ポリカーボネートシ
ート、TACフィルムなどの有機材料でもよい。本発明の
組成物は、基材上に通常1μm〜2mmの厚さとなるよ
うに塗布される。本発明の組成物は、基材へ塗布された
後、通常、組成物中の溶剤を揮発させるために、通風乾
燥、加熱乾燥等が行われ、その後、上述の方法により硬
化される。この方法により基材上に本発明の組成物が硬
化した層を有する積層体が得られる。
As a method of coating the composition on the substrate, a layer formed of a cured product obtained by curing the composition of the invention by coating the composition of the invention on the substrate, followed by drying and curing. It is possible to obtain a laminated body including the base material layer. In the method of coating and molding on a substrate, the substrate may be an inorganic material such as glass or copper foil, or an organic material such as a polyethylene terephthalate (PET) film, a polycarbonate sheet or a TAC film. The composition of the present invention is usually applied to a substrate so as to have a thickness of 1 μm to 2 mm. After the composition of the present invention is applied to a substrate, it is usually dried by ventilation to evaporate the solvent in the composition, heated and dried, and then cured by the method described above. By this method, a laminate having a layer obtained by curing the composition of the present invention on the substrate is obtained.

【0069】また、基材上に本発明の組成物を塗布した
後に、部分的に活性エネルギー線を照射することによっ
て、本発明の組成物からなる層の任意の部分を位置選択
的に硬化させることができる。硬化させる位置を選ぶ方
法としては、硬化させたくない部分にのみ活性エネルギ
ー線が届かないようにマスクをかける方法、レーザーの
ようにエネルギー密度が高く幅の狭い活性エネルギー線
を硬化させたい部分にのみ照射する方法などが挙げられ
る。活性エネルギー線が照射されず未硬化の部分は、溶
剤によって、除去することができるので、フォトレジス
トとして使用することも可能である。溶剤としては、未
硬化の組成物層を構成する成分が溶けるような種類であ
れば特に制限はない。具体的にはトルエンなどの芳香族
炭化水素類、ヘキサンなどのような脂肪族炭化水素類、
エーテルやテトラヒドロフランのようなエーテル類、ア
セトンやメチルエチルケトンのようなケトン類、酢酸エ
チルのようなエステル類、イソプロピルアルコールのよ
うなアルコール類などを挙げることができる。
After coating the composition of the present invention on a substrate, it is partially irradiated with active energy rays to regioselectively cure any part of the layer comprising the composition of the present invention. be able to. As a method of selecting the position to be hardened, a mask is applied so that the active energy rays do not reach only the portion that is not desired to be hardened, or only the portion where the active energy ray having a high energy density and a narrow width, such as a laser, is desired to be hardened. The method of irradiation may be mentioned. The uncured portion which is not irradiated with the active energy ray can be removed by a solvent, and thus can be used as a photoresist. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the components that form the uncured composition layer. Specifically, aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane,
Examples thereof include ethers such as ether and tetrahydrofuran, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate, and alcohols such as isopropyl alcohol.

【0070】本発明の組成物の用途としては、反射防止
や保護を目的としたコーティング剤、接着剤、封止材
料、あるいは、部品、シート、積層板、複合材等の成形
体の原料などが挙げられる。また、本発明の組成物が硬
化することにより得られる硬化物の用途としては、レン
ズ、プリズム、導波路、基板などの光学部品、積層材、
複合材、電子部品の材料としての使用が例示される。特
に、得られた硬化物の透明性、高屈折性などの特性を生
かし、レンズ、導波路などの光学部品、およびそれらの
接着剤、封止剤などに用いることもできる。また、活性
エネルギー線を照射した部分を選択的に硬化させ、未硬
化の部分を溶剤で除去する方法を用いて、フォトレジス
ト等の用途も挙げられる。
Applications of the composition of the present invention include coating agents, adhesives, sealing materials for the purpose of antireflection and protection, or raw materials for moldings such as parts, sheets, laminates and composite materials. Can be mentioned. Further, the use of the cured product obtained by curing the composition of the present invention, optical components such as lenses, prisms, waveguides, substrates, laminated materials,
The use as a material for composite materials and electronic parts is exemplified. In particular, the obtained cured product can be used for optical components such as lenses and waveguides, and their adhesives, sealants, etc., by utilizing the properties such as transparency and high refractivity. In addition, the method of selectively curing the portion irradiated with the active energy ray and removing the uncured portion with a solvent may be used as a photoresist or the like.

【0071】[0071]

【発明の効果】本発明の化合物を含む組成物からなる硬
化体は、レンズ、プリズム、導波路、基板などの光学部
品、積層材、複合材、電子部品の材料として好適に用い
ることができる。
The cured product of the composition containing the compound of the present invention can be suitably used as a material for optical parts such as lenses, prisms, waveguides, substrates, laminated materials, composite materials and electronic parts.

【0072】[0072]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 実施例1 撹拌機を取り付けた四つ口フラスコに、4,4'−ジフェニ
ルジヒドロキシスルホン(和光純薬工業製)80 gを入
れ、ここに、エピクロロヒドリン(東京化成工業製)41
5 g、イソプロピルアルコール(和光純薬工業製)162 g
を加え、40℃ に加熱し、溶解させた。ここに、20%
水酸化ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウム(和光純薬
工業製)28 g、蒸留水115 g)を滴下し、65 ℃に加熱し
ながら、90分間攪拌した。得られた反応溶液に蒸留水を
加え、有機相を分取した。有機相を蒸留水で二回洗浄し
た後、メタノール700 gを加え一時間攪拌し、白色粉末7
8 gを得た。得られた白色粉末の構造は次の通りであっ
た。
The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited to these examples. Example 1 A four-necked flask equipped with a stirrer was charged with 80 g of 4,4′-diphenyldihydroxysulfone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and epichlorohydrin (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 41
5 g, isopropyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 162 g
Was added and heated to 40 ° C. to dissolve. 20% here
An aqueous sodium hydroxide solution (sodium hydroxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 28 g, distilled water 115 g) was added dropwise, and the mixture was stirred for 90 minutes while heating at 65 ° C. Distilled water was added to the obtained reaction solution to separate the organic phase. After the organic phase was washed twice with distilled water, 700 g of methanol was added and stirred for 1 hour to give a white powder 7
I got 8 g. The structure of the obtained white powder was as follows.

【0073】[0073]

【化15】 [Chemical 15]

【0074】 プロトンNMRのケミカルシフト(ppm):2.7-3.0(オキシラン環のメチレン水 素) 3.2-3.4(オキシラン環のメチン水素 ) 3.8-4.4(−C 2CH(O)CH2) 6.9-7.9(芳香環の水素)[0074] The chemical shifts of the proton NMR (ppm): 2.7-3.0 (methylene hydrogens of the oxirane ring) 3.2-3.4 (oxirane ring methine hydrogen) 3.8-4.4 (-C H 2 CH ( O) CH 2) 6.9-7.9 (Hydrogen of aromatic ring)

【0075】実施例2 撹拌機を取り付けた300ml四つ口フラスコに、実施例1
で得られた4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホンのエ
ポキシ化合物15g、メチルエチルケトン165gを入れ、加
熱還流し溶解させた。そこへ、チオ尿素(和光純薬工業
製)7.57g、メタノール66gを加え、5.5時間還流し
た。その後、反応溶液に蒸留水を加え有機相を分取し
た。有機相を蒸留水で三回洗浄した後、溶媒を減圧留去
し白色固体13.1gを得た。得られた白色粉末の構造は次
の通りであった。
Example 2 In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, Example 1
15 g of the epoxy compound of 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone obtained in step 5 and 165 g of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated to reflux and dissolved. To this, 7.57 g of thiourea (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 66 g of methanol were added, and the mixture was refluxed for 5.5 hours. Then, distilled water was added to the reaction solution to separate the organic phase. The organic phase was washed with distilled water three times, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 13.1 g of a white solid. The structure of the obtained white powder was as follows.

【0076】[0076]

【化16】 プロトンNMRのケミカルシフト(ppm):2.2-2.7(チイラン環のメチレン水素 ) 3.2-3.3(チイラン環のメチン水素) 3.9-4.3(−C 2CH(S)CH2) 6.9-8.0(芳香環の水素)[Chemical 16] Chemical shifts of the proton NMR (ppm): 2.2-2.7 (thiirane methylene hydrogens of the ring) 3.2-3.3 (thiirane ring methine hydrogen) 3.9-4.3 (-C H 2 CH ( S) CH 2) 6.9-8.0 ( aromatic ring Hydrogen)

【0077】実施例3 攪拌子を入れたナスフラスコ内に4,4'−ビス(2−ヒド
ロキシエチルチオ)ジフェニルスルホン(和光純薬工業
製)50 gを入れ、ここに、これにエピクロロヒドリン
(東京化成工業製製)250 g、ジメチルスルホキシド
(和光純薬工業製)250 gを加え、室温で溶解させた。
氷浴下で、40%水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム
(和光純薬工業製)53.5 g、蒸留水36 g)を滴下し、徐
々に室温に戻しながら60分攪拌した。得られた反応溶液
に蒸留水とトルエンを加え、有機相を分取した。有機相
を温水(60℃)で三回洗浄した後、溶媒とエピクロロヒ
ドリンを減圧留去し、淡黄色粘ちょう液体67 gを得た。
得られた粘ちょう液体の構造は次の通りであった。
Example 3 50 g of 4,4'-bis (2-hydroxyethylthio) diphenylsulfone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was placed in an eggplant flask containing a stir bar, and epichlorohydr was added thereto. Phosphorus (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 250 g and dimethyl sulfoxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 250 g were added and dissolved at room temperature.
A 40% aqueous potassium hydroxide solution (53.5 g of potassium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 36 g of distilled water) was added dropwise in an ice bath, and the mixture was stirred for 60 minutes while gradually returning to room temperature. Distilled water and toluene were added to the obtained reaction solution to separate the organic phase. The organic phase was washed with warm water (60 ° C.) three times, and then the solvent and epichlorohydrin were distilled off under reduced pressure to obtain 67 g of a pale yellow viscous liquid.
The structure of the obtained viscous liquid was as follows.

【0078】[0078]

【化17】 プロトンNMRのケミカルシフト(ppm):2.5-2.8(オキシラン環のメチレン水 素) 3.0-3.2(オキシラン環のメチン水素 ) (−SC 2CH2O−) 3.3-3.4(−C 2CH(O)CH2) 3.6-3.9(−C 2CH(O)CH2) (−SCH2 2O−) 7.2-7.8(芳香環の水素)[Chemical 17] Chemical shifts of the proton NMR (ppm): 2.5-2.8 (oxirane ring methylene hydrogen) 3.0-3.2 (oxirane ring methine hydrogen) (-SC H 2 CH 2 O- ) 3.3-3.4 (-C H 2 CH (O ) CH 2) 3.6-3.9 (-C H 2 CH (O) CH 2) (-SCH 2 C H 2 O-) 7.2-7.8 ( hydrogen of an aromatic ring)

【0079】実施例4 撹拌機を取り付けた300ml四つ口フラスコに、実施例3
で得られた4,4'−ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)ジ
フェニルスルホンのエポキシ化合物67g、トルエン100g
を入れ溶解させた。そこへ、チオ尿素(和光純薬工業
製)24.6gとメタノール100mlを加え、5時間環流し
た。得られた反応溶液に蒸留水を加え有機相を分取し
た。有機相を蒸留水で五回洗浄後、溶媒を減圧留去し淡
黄色粘ちょう液体62.5gを得た。得られた粘ちょう液体
の構造は次の通りであった。
Example 4 Example 3 was placed in a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer.
67 g of the epoxy compound of 4,4'-bis (2-hydroxyethylthio) diphenylsulfone obtained in 1. and 100 g of toluene
Was added and dissolved. 24.6 g of thiourea (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 100 ml of methanol were added thereto and refluxed for 5 hours. Distilled water was added to the obtained reaction solution to separate the organic phase. The organic phase was washed 5 times with distilled water and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 62.5 g of a pale yellow viscous liquid. The structure of the obtained viscous liquid was as follows.

【0080】[0080]

【化18】 プロトンNMRのケミカルシフト(ppm):2.1-2.6(チイラン環のメチレン水素 ) 2.9-3.1(チイラン環のメチン水素) 3.1-3.3(−C 2CH(S)CH2) (−SC 2CH2O−) 3.5-3.8(グリシジル基のメチレン水 素) (−SCH2 2O) 7.3-7.9(芳香環の水素)[Chemical 18] Chemical shifts of the proton NMR (ppm): 2.1-2.6 (thiirane methylene hydrogens of the ring) 2.9-3.1 (thiirane ring methine hydrogen) 3.1-3.3 (-C H 2 CH ( S) CH 2) (-SC H 2 CH 2 O-) 3.5-3.8 (methylene hydrogens of glycidyl group) (-SCH 2 C H 2 O ) 7.3-7.9 ( hydrogen of an aromatic ring)

【0081】実施例5 実施例4で得られた化合物20 gとアデカオプトマーSP-1
70(旭電化工業製、光酸発生剤) 0.4 gを混合し、2m
m厚スペーサーを備えたガラス板の間に注型し、20 mW/
cm2の高圧水銀灯で両面から計25 J/cm2のUV光(紫外
線)を照射した。型をはずさずに、50℃、80℃、100℃
で一時間ずつ加熱した後、型をはずして硬化物を得た。
得られた硬化物の屈折率は1.67、TG/DTA による熱分解
開始温度は、265.5 ℃(N2中)であった。
Example 5 20 g of the compound obtained in Example 4 and ADEKA Optomer SP-1
70 m (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., photo-acid generator) is mixed with 0.4 g, and 2 m
20 mW / m, cast between glass plates with m-thick spacers
A total of 25 J / cm 2 of UV light was irradiated from both sides with a cm 2 high-pressure mercury lamp. 50 ℃, 80 ℃, 100 ℃ without removing the mold
After heating for 1 hour each, the mold was removed to obtain a cured product.
The obtained cured product had a refractive index of 1.67 and a thermal decomposition initiation temperature by TG / DTA of 265.5 ° C. (in N 2 ).

【0082】実施例6 実施例4で得られた化合物20 gとアデカオプトマーSP-1
50(旭電化工業製、光酸発生剤)0.8 gを混合し、1mm
厚スペーサーを備えたガラス板の間に注型し、20 mW/cm
2の高圧水銀灯で25 J/cm2のUV光を照射した。型をはず
さずに、80℃、140℃で一時間ずつ加熱した後、型をは
ずして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率はいずれ
も1.66であった。
Example 6 20 g of the compound obtained in Example 4 and ADEKA Optomer SP-1
50 mm (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., photo-acid generator) was mixed with 0.8 g, and 1 mm
Cast between glass plates with thick spacers, 20 mW / cm
It was irradiated with UV light of 25 J / cm 2 in 2 high pressure mercury lamp. After heating at 80 ° C. and 140 ° C. for 1 hour without removing the mold, the mold was removed to obtain a cured product. The refractive index of each of the obtained cured products was 1.66.

【0083】実施例7 実施例6において、アデカオプトマーSP-150(旭電化工
業製、光酸発生剤)0.8 gを、アデカオプトマーSP-170
(旭電化工業製、光酸発生剤)0.8 g に変えた他は実施
例6と同様に行った。得られた硬化物の屈折率は1.66で
あった。
Example 7 In Example 6, 0.8 g of ADEKA OPTOMER SP-150 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., photo-acid generator) was added to ADEKA OPTOMER SP-170.
(Photoacid generator manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) The same procedure as in Example 6 was repeated except that the amount was changed to 0.8 g. The refractive index of the obtained cured product was 1.66.

【0084】実施例8 実施例6において、アデカオプトマーSP-150(旭電化工
業製、光酸発生剤)0.8 gを、N-(2-ニトロベンジルオ
キシカルボニル)イミダゾール(光塩基発生剤)0.2 g
に変えた他は、実施例6と同様に行った。なお、光塩基
発生剤であるN-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)
イミダゾールは、 Polymer Journal, Vol.26, No.7, p
p. 864-867 (1994) に記載の方法に従って製造した。得
られた硬化物の屈折率は1.67であった。
Example 8 In Example 6, 0.8 g of Adekaoptomer SP-150 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., a photoacid generator) and 0.2 g of N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole (photobase generator) were used. g
The same procedure as in Example 6 was carried out except that N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl), which is a photobase generator
Imidazole is available from Polymer Journal, Vol.26, No.7, p.
It was prepared according to the method described in p. 864-867 (1994). The refractive index of the obtained cured product was 1.67.

【0085】実施例9 実施例6において、アデカオプトマーSP-150(旭電化工
業製、光酸発生剤)0.8 gを、N-(4−クロロ−2−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)イミダゾール(光塩基発
生剤)0.2 gに変えた他は、実施例6と同様に行った。
なお、光塩基発生剤であるN-(4−クロロ−2−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル)イミダゾールは、 Polymer
Journal, Vol.29, No.5, pp. 450-456 (1997)に記載の
方法に従って製造した。得られた硬化物の屈折率は1.67
であった。
Example 9 In Example 6, 0.8 g of Adeka optomer SP-150 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., a photoacid generator) was added to N- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole (photobase). (Generator) The procedure of Example 6 was repeated except that the amount was changed to 0.2 g.
N- (4-chloro-2-nitrobenzyloxycarbonyl) imidazole, which is a photobase generator, is
It was produced according to the method described in Journal, Vol.29, No.5, pp. 450-456 (1997). The refractive index of the obtained cured product is 1.67.
Met.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/04 G02B 1/04 (72)発明者 三木 康彰 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱化学株式会社内 Fターム(参考) 4J030 BA05 BA09 BA41 BA42 BA43 BA48 BA49 BB03 BB07 BC36 BD01 BD22 BG02 BG03 BG25 4J036 AB18 AD21 CA28 CA30 CC01 CD10 DC04 DC05 DC16 DC26 DC40 DD07 EA01 EA02 EA03 EA04 FA10 FA12 GA01 GA02 GA03 JA06 JA07 JA08 JA15 4J040 DB031 DB032 DD051 DD052 DE021 DE022 DE041 DE042 DF041 DF042 DF051 DF052 DJ011 DJ012 EC001 EC002 EC261 EC262 EE021 EE022 EJ011 EJ012 EJ021 EJ022 EJ031 EJ032 GA05 GA07 GA08 GA14 GA15 GA24 KA13 KA16 LA10 NA17 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 1/04 G02B 1/04 (72) Inventor Yasuaki Miki 8-3-1, Ami-cho, Inashiki-gun, Ibaraki No. Mitsubishi Chemical Co., Ltd. F-term (reference) 4J030 BA05 BA09 BA41 BA42 BA43 BA48 BA49 BB03 BB07 BC36 BD01 BD22 BG02 BG03 BG25 4J036 AB18 AD21 CA28 CA30 CC01 CD10 DC04 DC05 DC16 DC26 DC40 DD07 EA01 GA02 EA03 EA04 FA10 FA12 GA01 GA02 GA02 GA06 GA02 GA02 JA07 JA08 JA15 4J040 DB031 DB032 DD051 DD052 DE021 DE022 DE041 DE042 DF041 DF042 DF051 DF052 DJ011 DJ012 EC001 EC002 EC261 EC262 EE021 EE022 EJ011 EJ012 EJ021 EJ022 EJ031 EJ16 GA13 GA13 GA15 GA07 GA14 GA05 GA07 GA07 GA14

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるヘテロ環含
有化合物。 【化1】 (式中、R1〜R4はそれぞれ独立して炭素数1〜10の炭化
水素基を表す。X1〜X8はそれぞれ独立してOまたはSを表
す。Y1およびY2はそれぞれ独立してOまたはSを表す。Z1
およびZ2はそれぞれ独立してS、−SO2−、−S−S−また
は−CO−を表す。m、n、p、qはそれぞれ独立して0〜10
の整数を表す。rは0〜10の整数を表す。式中のベンゼン
環は置換基を有していてもよい。但し、Z1=Z2=S、p=q=r
=0、かつX5=X8=Sの場合およびZ1=Z2=−SO2−かつY1=Y2=
Oの場合を除く。)
1. A heterocycle-containing compound represented by the following general formula (I): [Chemical 1] (In the formula, R 1 to R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. X 1 to X 8 each independently represent O or S. Y 1 and Y 2 are each independently Represents O or S. Z 1
And Z 2 each independently represent S, —SO 2 —, —S—S— or —CO—. m, n, p, and q are 0 to 10 independently.
Represents the integer. r represents an integer of 0 to 10. The benzene ring in the formula may have a substituent. However, Z 1 = Z 2 = S, p = q = r
= 0 and X 5 = X 8 = S and Z 1 = Z 2 = −SO 2 − and Y 1 = Y 2 =
Except for O. )
【請求項2】 一般式(I)で表されるヘテロ環含有化
合物を含むことを特徴とする組成物。
2. A composition comprising a heterocycle-containing compound represented by the general formula (I).
【請求項3】 請求項2に記載の組成物において、一般
式(I)で表わされる化合物と反応しうる官能基を有す
る化合物およびラジカル重合性化合物から選ばれる1以
上の化合物を含むことを特徴とする組成物。
3. The composition according to claim 2, comprising one or more compounds selected from a compound having a functional group capable of reacting with the compound represented by the general formula (I) and a radically polymerizable compound. And the composition.
【請求項4】請求項3に記載の組成物において、硬化助
剤を含むことを特徴とする重合可能な組成物。
4. A polymerizable composition according to claim 3, which further comprises a curing aid.
【請求項5】硬化助剤が、光開始剤および硬化剤から選
ばれる化合物であることを特徴とする請求項4記載の組
成物。
5. The composition according to claim 4, wherein the curing aid is a compound selected from a photoinitiator and a curing agent.
【請求項6】 請求項2〜5のいずれか1項に記載の組
成物を重合硬化させて得られる硬化物。
6. A cured product obtained by polymerizing and curing the composition according to any one of claims 2 to 5.
【請求項7】 請求項2〜5のいずれか1項に記載の組
成物からなる封止用材料。
7. A sealing material comprising the composition according to claim 2.
【請求項8】 請求項2〜5のいずれか1項に記載の組
成物からなる接着剤。
8. An adhesive comprising the composition according to claim 2.
【請求項9】 請求項6に記載の硬化物からなる光学用
部材。
9. An optical member comprising the cured product according to claim 6.
【請求項10】 請求項6に記載の硬化物からなる層お
よび基材層を有する積層体。
10. A laminate having a layer made of the cured product according to claim 6 and a base material layer.
【請求項11】 請求項2〜5のいずれか1項に記載の
硬化性組成物を型内で硬化させることを特徴とする硬化
物の製造方法。
11. A method for producing a cured product, which comprises curing the curable composition according to any one of claims 2 to 5 in a mold.
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