JP2003174137A - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体素子とリード部とを同一面上に形成
し、全体の薄型化を図ると共に、半導体素子の放熱効果
を高めるようにした半導体装置を提供することである。
【解決手段】 半導体素子22と、この半導体素子22
に向けて延びる複数のリード部23を有するリードフレ
ームと、前記半導体素子22及びリード部23を封止す
る樹脂材25とを備えた半導体チップ21において、前
記半導体素子22とリード部23とが同一平面上で配設
され、該半導体素子22の素子電極部27とリード部2
3とが同一面上でボンディングワイヤ24を介して電気
的に接続させると共に、前記半導体素子22及びリード
部23の裏面を樹脂材25の裏面側に露出させた。
(57) [Problem] To provide a semiconductor device in which a semiconductor element and a lead portion are formed on the same surface to reduce the overall thickness and enhance the heat dissipation effect of the semiconductor element. SOLUTION: The semiconductor element 22 and the semiconductor element 22
In a semiconductor chip 21 including a lead frame having a plurality of lead portions 23 extending toward the semiconductor device 22 and a resin material 25 for sealing the semiconductor device 22 and the lead portions 23, the semiconductor device 22 and the lead portions 23 are the same. The device electrode portion 27 and the lead portion 2 of the semiconductor device 22 are disposed on a plane.
3 was electrically connected on the same surface via a bonding wire 24, and the back surfaces of the semiconductor element 22 and the lead portion 23 were exposed to the back surface of the resin material 25.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームを
用いて形成される半導体装置及びその製造方法に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device formed by using a lead frame and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、複数の電極部を備えたチップ型の
半導体装置(以下、半導体チップという)は、リード部
及びアイランド部を備えた金属製のリードフレーム上に
半導体素子を搭載し、その上を樹脂材で封止することに
よって形成されている。前記アイランド部は半導体素子
を支持するためのもので、リードフレームの中央部に設
けられる。また、リード部は、前記支持された半導体素
子の素子電極部とボンディングワイヤ等を介して接続さ
れ、その一端が外部基板と接続される外部電極部となっ
ている。図10はこのような従来の半導体チップ1の構
造を示したものであり、図11は前記半導体チップ1を
形成するためのリードフレーム2を示したものである。
このリードフレーム2は、42アロイ(Ni42%のN
i−Fe合金)やアルミニウム、銅などの薄い金属帯板
を用い、アイランド部4及びリード部7が打ち抜き形成
されたチップ形成領域Aが複数設けられている。アイラ
ンド部4は、一つのチップ形成領域Aの略中央部に設け
られ、フレーム本体6から腕部10を介して連結されて
いる。また、リード部7は半導体チップ1の外部電極を
形成するもので、載置される半導体素子3の素子電極数
に応じて前記アイランド部4の端部に向けて延設されて
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, a chip type semiconductor device having a plurality of electrode portions (hereinafter referred to as a semiconductor chip) has a semiconductor element mounted on a metal lead frame having a lead portion and an island portion. It is formed by sealing the top with a resin material. The island portion is for supporting the semiconductor element, and is provided in the central portion of the lead frame. The lead portion is connected to the element electrode portion of the supported semiconductor element via a bonding wire or the like, and one end thereof is an external electrode portion connected to an external substrate. FIG. 10 shows a structure of such a conventional semiconductor chip 1, and FIG. 11 shows a lead frame 2 for forming the semiconductor chip 1.
This lead frame 2 is made of 42 alloy (Ni 42% N
A plurality of chip forming regions A in which the island portions 4 and the lead portions 7 are punched and formed are provided using a thin metal strip such as an i-Fe alloy), aluminum, or copper. The island portion 4 is provided at a substantially central portion of one chip forming area A, and is connected to the frame body 6 via the arm portion 10. Further, the lead portion 7 forms an external electrode of the semiconductor chip 1, and is extended toward the end portion of the island portion 4 according to the number of element electrodes of the mounted semiconductor element 3.
【0003】図10に示したような個々の半導体チップ
1を形成するには、先ず、半導体素子3をリードフレー
ム2のアイランド部4上に載置し、前記半導体素子3の
素子電極部5と前記リード部7とをボンディングワイヤ
8で接続する。そして、半導体素子3を中心にしてリー
ド部7及び腕部10にかけて樹脂材9を充填して封入し
た後、樹脂材9の外側のリード部7及び腕部10をフレ
ーム本体6から切り離して個々の半導体チップ1を取り
出す。In order to form the individual semiconductor chips 1 as shown in FIG. 10, first, the semiconductor element 3 is placed on the island portion 4 of the lead frame 2 and the element electrode portion 5 of the semiconductor element 3 is formed. The lead portion 7 is connected with a bonding wire 8. Then, after the resin material 9 is filled and sealed around the lead portion 7 and the arm portion 10 with the semiconductor element 3 as the center, the lead portion 7 and the arm portion 10 outside the resin material 9 are separated from the frame main body 6 and separated from each other. The semiconductor chip 1 is taken out.
【0004】また、専用のアイランド部を持たずにリー
ド部の先端部に直接半導体素子を載置し、半田バンプ等
で電気的に接続する構造の半導体チップも提案されてい
る。このような構造の半導体チップにあっては、リード
フレームの加工形状が簡易で、安価に製造できるといっ
た利点がある。There is also proposed a semiconductor chip having a structure in which a semiconductor element is directly mounted on the tip of a lead portion without having a dedicated island portion and electrically connected by a solder bump or the like. The semiconductor chip having such a structure has the advantages that the lead frame can be processed in a simple shape and can be manufactured at low cost.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図10
及び図11に示したような、リードフレーム2を用いて
製造される半導体チップ1は、アイランド部4の上に半
導体素子3を載置しているので、このアイランド部4の
厚みによって半導体チップ1の薄型化が制限されてい
た。また、搭載する半導体素子3の形状に合わせてアイ
ランド部4を形成しなければならないため、リードフレ
ーム2の加工に要する工数及びコストの低減化が図られ
ないといった問題があった。However, as shown in FIG.
The semiconductor chip 1 manufactured by using the lead frame 2 as shown in FIG. 11 has the semiconductor element 3 mounted on the island portion 4, and therefore the semiconductor chip 1 depends on the thickness of the island portion 4. There was a limit to the thinning. Further, since the island portion 4 has to be formed according to the shape of the semiconductor element 3 to be mounted, there is a problem that the man-hour and the cost required for processing the lead frame 2 cannot be reduced.
【0006】また、専用のアイランド部を設けず、リー
ド部の先端部に直接半導体素子を載置する構造の半導体
チップにあっては、半導体素子と直接接する放熱部材が
なくなるので、放熱効果が十分でない。このため、リー
ド部の先端部を浅くエッチングして半導体素子を載置す
る部分を薄型化しているものもあるが、エッチングの加
工精度を厳密に制限しないと、半導体素子を支持する部
分の厚みが不均一となって、安定性が悪くなると共に、
接触不良等の電気的トラブルも発生しやすくなる。Further, in a semiconductor chip having a structure in which the semiconductor element is directly mounted on the tip of the lead portion without providing a dedicated island portion, there is no heat dissipation member in direct contact with the semiconductor element, so that the heat dissipation effect is sufficient. Not. For this reason, some of the lead portions are shallowly etched to thin the portion on which the semiconductor element is mounted. However, unless the processing accuracy of etching is strictly limited, the thickness of the portion supporting the semiconductor element is reduced. It becomes non-uniform and the stability deteriorates,
Electrical troubles such as poor contact are likely to occur.
【0007】そこで、本発明の第1の目的は、半導体素
子とリード部とを同一面上に形成し、全体の薄型化を図
ると共に、半導体素子の放熱効果を高めるようにした半
導体装置を提供することである。Therefore, a first object of the present invention is to provide a semiconductor device in which a semiconductor element and a lead portion are formed on the same surface to reduce the overall thickness and to enhance the heat dissipation effect of the semiconductor element. It is to be.
【0008】また、本発明の第2の目的は、リードフレ
ームの構成を簡略化すると共に、リードフレームを構成
する部材の節減効果を図ることで、製造容易な半導体装
置の製造方法を提供することである。A second object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device which is easy to manufacture by simplifying the structure of the lead frame and achieving a saving effect of the members forming the lead frame. Is.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の請求項1に係る半導体装置は、半導体素子
と、この半導体素子に向けて延びる複数のリード部を有
するリードフレームと、前記半導体素子及びリード部を
封止する樹脂材とを備えた半導体装置において、前記半
導体素子とリード部とが同一平面上で配設され、該半導
体素子の素子電極部とリード部とが同一面上で電気的に
接続されていると共に前記半導体素子及びリード部の裏
面が樹脂材の裏面側に露出していることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor device according to claim 1 of the present invention includes a semiconductor element and a lead frame having a plurality of lead portions extending toward the semiconductor element. In a semiconductor device including the semiconductor element and a resin material that seals the lead section, the semiconductor element and the lead section are arranged on the same plane, and the element electrode section and the lead section of the semiconductor element are on the same plane. In addition to being electrically connected, the back surfaces of the semiconductor element and the lead portion are exposed to the back surface side of the resin material.
【0010】この発明によれば、従来のリードフレーム
を用いた半導体装置のように、半導体素子を載置するた
めの専用のアイランド部を設ける必要がないので、半導
体装置の薄型化と共に、リードフレームの加工の簡略化
が図られる。また、半導体素子とリード部とが同一面上
に形成され、樹脂封止した際に半導体素子及びリード部
の裏面が樹脂材の裏面に露出されるので、半導体素子が
発する熱を効果的に放出させることができる。このよう
な半導体素子とリード部が離間した状態で、同一平面上
に形成するためには、剥離可能な粘着シート材の上にリ
ードフレームと半導体素子とを載置し、ワイヤボンディ
ング及び樹脂材の充填を経て半導体装置を形成した後、
前記粘着シート材を剥離することによって得られる。According to the present invention, unlike the conventional semiconductor device using a lead frame, it is not necessary to provide a dedicated island portion for mounting a semiconductor element. Therefore, the semiconductor device can be made thinner and the lead frame can be made thinner. Simplification of processing. Further, since the semiconductor element and the lead portion are formed on the same surface and the back surfaces of the semiconductor element and the lead portion are exposed on the back surface of the resin material when resin-sealed, the heat generated by the semiconductor element is effectively released. Can be made. In order to form such a semiconductor element and the lead portion on the same plane in a state of being separated from each other, the lead frame and the semiconductor element are placed on a peelable adhesive sheet material, and the wire bonding and the resin material are used. After forming a semiconductor device through filling,
It is obtained by peeling the adhesive sheet material.
【0011】本発明に係る半導体装置の製造方法は、フ
レーム本体及びこのフレーム本体の内方に向けて延びる
複数のリード部からなるリードフレームを形成する工程
と、このリードフレームを粘着シート材に貼り付ける工
程と、半導体素子を前記リード部で囲われた平面スペー
ス内に貼り付ける工程と、前記リード部と半導体素子と
をワイヤボンディングする工程と、前記リードフレーム
及び半導体素子の上方に樹脂材を充填して所定形状の樹
脂成形体を形成する工程と、粘着シート材を前記樹脂成
形体から剥離する工程とを備えたことを特徴とする。A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention comprises a step of forming a lead frame composed of a frame main body and a plurality of lead portions extending inward of the frame main body, and attaching the lead frame to an adhesive sheet material. Attaching step, attaching the semiconductor element in a plane space surrounded by the lead portion, wire bonding the lead portion and the semiconductor element, and filling a resin material above the lead frame and the semiconductor element And a step of forming a resin molded body having a predetermined shape, and a step of peeling the adhesive sheet material from the resin molded body.
【0012】この発明によれば、剥離可能な粘着シート
材を土台として、この上にリードフレームや半導体素子
を貼り付けた後、ワイヤボンディング工程、樹脂材の充
填及び成形工程を経て製造されるので、従来のような半
導体素子の支持部材であるアイランド部を形成する必要
ない。このため、リードフレームの加工が容易で、工数
及びコストの低減化が図られる。According to the present invention, the peelable adhesive sheet material is used as a base, and after the lead frame and the semiconductor element are attached to the base, the wire bonding step, the resin material filling step and the molding step are carried out. It is not necessary to form an island portion which is a supporting member for a semiconductor element as in the conventional case. Therefore, the lead frame can be easily processed, and the man-hour and cost can be reduced.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
に係る半導体装置及びその製造方法の実施形態を詳細に
説明する。図1は本発明の半導体装置の斜視図、図2は
前記半導体装置の断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the semiconductor device.
【0014】図1及び図2に示されるように、本実施形
態に係る半導体装置(以下、半導体チップ21という)
は、半導体素子22と、該半導体素子22の周囲に配置
される4個のリード部23と、該リード部23と半導体
素子22とを封止する樹脂材25とで構成されている。
前記半導体素子22は、正方形をしたシリコン結晶体の
薄板であり、四隅に素子電極部27を備えている。リー
ド部23は前記半導体素子22と同一面上にあって、各
素子電極部27の周囲に平面形成されている。そして、
前記リード部23と半導体素子22の素子電極部27と
はボンディングワイヤ24で電気的に接続され、上方を
樹脂材25で封止することで半導体チップ21のパッケ
ージに形成されている。また、前記リード部23の裏面
23aは露出され、図2に示したようなマザーボード等
の外部基板26に接続するための電極部を形成し、同じ
く露出された半導体素子22の裏面22aは前記外部基
板26に接する放熱面となっている。As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor device according to this embodiment (hereinafter referred to as the semiconductor chip 21).
Is composed of a semiconductor element 22, four lead portions 23 arranged around the semiconductor element 22, and a resin material 25 that seals the lead portion 23 and the semiconductor element 22.
The semiconductor element 22 is a square silicon crystal thin plate, and has element electrode portions 27 at four corners. The lead portion 23 is on the same surface as the semiconductor element 22 and is formed in a plane around each element electrode portion 27. And
The lead portion 23 and the element electrode portion 27 of the semiconductor element 22 are electrically connected by a bonding wire 24, and the upper portion is sealed with a resin material 25 to form a package of the semiconductor chip 21. Further, the back surface 23a of the lead portion 23 is exposed to form an electrode portion for connecting to an external substrate 26 such as a mother board as shown in FIG. 2, and the exposed back surface 22a of the semiconductor element 22 is the outside. It is a heat dissipation surface that contacts the substrate 26.
【0015】図3は前記半導体チップ21を形成するた
めの土台となるリードフレーム31を示したものであ
る。このリードフレーム31は、従来と同様に42アロ
イ(Ni42%のNi−Fe合金)やアルミニウム、銅
などの材質で長尺状に形成され、半導体チップ21を形
成するためのチップ形成領域Bがマトリックス状に多数
配列形成されている。前記各チップ形成領域Bには、フ
レーム本体32から腕部33を介してリード部23が形
成されている。なお、前記4つのリード部23の中央部
は半導体素子22を載置するためのスペースとなってい
る。FIG. 3 shows a lead frame 31 which is a base for forming the semiconductor chip 21. The lead frame 31 is formed in a long shape with a material such as 42 alloy (Ni 42% Ni—Fe alloy), aluminum, copper, or the like as in the conventional case, and the chip forming region B for forming the semiconductor chip 21 is a matrix. A large number of arrays are formed. In each of the chip forming regions B, the lead portion 23 is formed from the frame body 32 via the arm portion 33. The central portion of the four lead portions 23 is a space for mounting the semiconductor element 22.
【0016】次に、前記リードフレーム31を用いた半
導体チップ21の製造方法を図3乃至図9に基づいて説
明する。
先ず、前記図3に示したようなリードフレーム31
を形成する。このリードフレーム31は、42アロイ等
の薄い金属板に対して、フレーム本体32と、このフレ
ーム本体32から延びる腕部33及びリード部23を残
してエッチングやプレス加工等によって抜き形成する。
次に、図4に示すように、前記形成したリードフレ
ーム31を剥離可能な粘着シート材34の上に貼り付け
る。この粘着シート材34は、厚さ125μm程度のポ
リエステルフィルムで形成されており、表面にアクリル
系の粘着剤を塗布形成したものである。
そして、図5に示すように、半導体素子22を粘着
シート材34上の各チップ形成領域Bの略中央部に貼り
付ける。なお、前記粘着シート材34に接合する半導体
素子22の接合面は、素子電極部27が形成されていな
い面で行う。
前記半導体素子22を粘着シート材34上に載置し
た後、図6に示すように、ボンディングワイヤ24によ
って、半導体素子22の各素子電極部27と対応する各
リード部23とを接続する。
次に、図7に示すように、リードフレーム31の上
方に金型を配設して半導体素子22、リード部23及び
ボンディングワイヤ24が完全に隠れる深さまでエポキ
シ系の樹脂材25を充填する。
前記充填した樹脂材25を硬化させて金型を外した
後、図8に示すように、リードフレーム31の裏面から
粘着シート材34をUV照射により粘着力を低下させ手
で剥離するか、または、溶液に浸して溶解させるなどし
て取り除く。
最後に図9に示すように、ダイシング装置によっ
て、リードフレーム31のX方向(X1,X2,・・・
Xn)及びY方向(Y1,Y2,・・・Y4)に想定さ
れたカットラインに沿ってチップ形成領域Bごとに分割
する。Next, a method of manufacturing the semiconductor chip 21 using the lead frame 31 will be described with reference to FIGS. First, the lead frame 31 as shown in FIG.
To form. The lead frame 31 is formed by punching a thin metal plate of 42 alloy or the like by etching, pressing, or the like, leaving the frame body 32 and the arm portions 33 and the lead portions 23 extending from the frame body 32. Next, as shown in FIG. 4, the formed lead frame 31 is attached onto a peelable adhesive sheet material 34. The adhesive sheet material 34 is formed of a polyester film having a thickness of about 125 μm, and has an acrylic adhesive applied on the surface. Then, as shown in FIG. 5, the semiconductor element 22 is attached to a substantially central portion of each chip forming region B on the adhesive sheet material 34. The bonding surface of the semiconductor element 22 bonded to the adhesive sheet material 34 is a surface on which the element electrode portion 27 is not formed. After mounting the semiconductor element 22 on the adhesive sheet material 34, as shown in FIG. 6, each element electrode portion 27 of the semiconductor element 22 and each corresponding lead portion 23 are connected by a bonding wire 24. Next, as shown in FIG. 7, a mold is arranged above the lead frame 31 and the epoxy resin material 25 is filled to a depth where the semiconductor element 22, the lead portion 23 and the bonding wire 24 are completely hidden. After the filled resin material 25 is cured and the mold is removed, as shown in FIG. 8, the adhesive sheet material 34 is removed from the back surface of the lead frame 31 by UV irradiation to reduce the adhesive force, or is peeled by hand. , Soak it in a solution to dissolve it, and remove it. Finally, as shown in FIG. 9, a dicing device is used to move the lead frame 31 in the X direction (X1, X2, ...
Xn) and the chip forming region B is divided along the cut lines assumed in the Y direction (Y1, Y2, ... Y4).
【0017】上記構造の半導体チップ21によれば、リ
ードフレーム31を形成する際に、フレーム本体32に
実装する半導体素子22の素子電極部27の数に対応し
たリード部23のみとなるので、加工が容易で工数も掛
からない。また、リード部23で囲われた平面スペース
内であれば半導体素子22を自由に配置することができ
るので、大きさや形状等が異なる半導体素子22を一つ
のリードフレーム31内に一括して組み込むことができ
る。According to the semiconductor chip 21 having the above structure, when the lead frame 31 is formed, only the lead portions 23 corresponding to the number of the element electrode portions 27 of the semiconductor element 22 mounted on the frame body 32 are formed. Is easy and does not require man-hours. In addition, since the semiconductor elements 22 can be freely arranged within the plane space surrounded by the lead portions 23, the semiconductor elements 22 having different sizes, shapes, etc. are collectively incorporated in one lead frame 31. You can
【0018】なお、上記実施形態の半導体チップ21で
は、半導体素子22の素子電極部27が4極の場合の例
を示したが、このような半導体チップの構成に限られ
ず、リードフレーム31のリード部23の構成を変更す
ることで、2極等の少極あるいは4極以上の多極の半導
体素子にも応用可能である。また、上記実施形態では一
個のリードフレーム31から複数の半導体チップ21を
同時に多数形成するものであるが、単一の半導体チップ
を1個単位で形成する場合にも本発明の製造方法が適用
可能である。In the semiconductor chip 21 of the above embodiment, the example in which the element electrode portion 27 of the semiconductor element 22 has four poles is shown, but the invention is not limited to such a semiconductor chip structure, and the lead of the lead frame 31 is not limited. By changing the configuration of the part 23, it can be applied to a semiconductor device having a small number of poles such as 2 poles or a multipole such as 4 poles or more. Further, in the above-described embodiment, a plurality of semiconductor chips 21 are simultaneously formed from one lead frame 31, but the manufacturing method of the present invention can be applied to the case where a single semiconductor chip is formed in a unit. Is.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導
体装置によれば、従来のリードフレームを用いた半導体
装置のように、半導体素子を載置するための専用のアイ
ランド部を設ける必要がないので、半導体装置の薄型化
と共に、リードフレームの加工の簡略化が図られる。ま
た、半導体素子とリード部とが同一面上に形成され、樹
脂封止した際に半導体素子及びリード部の裏面が樹脂材
の裏面に露出されるので、半導体素子が発する熱を効果
的に放出させることができる。As described above, according to the semiconductor device of the present invention, it is necessary to provide a dedicated island portion for mounting a semiconductor element like a conventional semiconductor device using a lead frame. Since the semiconductor device is thin, it is possible to reduce the thickness of the semiconductor device and simplify the processing of the lead frame. Further, since the semiconductor element and the lead portion are formed on the same surface and the back surfaces of the semiconductor element and the lead portion are exposed on the back surface of the resin material when resin-sealed, the heat generated by the semiconductor element is effectively released. Can be made.
【0020】また、本発明に係る半導体装置の製造方法
によれば、剥離可能な粘着シート材を土台として、この
上にリードフレームや半導体素子を貼り付けた後、ワイ
ヤボンディング工程、樹脂材の充填及び成形工程を経て
製造されるので、従来のような半導体素子の支持部材で
あるアイランド部を形成する必要がない。このため、リ
ードフレームの構成が簡略化されると共に、材料費及び
加工費の節減が図られる。Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, a peelable adhesive sheet material is used as a base, a lead frame or a semiconductor element is adhered on the base, and then a wire bonding step and a resin material filling process are performed. Also, since it is manufactured through the molding process, it is not necessary to form an island portion which is a supporting member for a semiconductor element as in the conventional case. Therefore, the structure of the lead frame is simplified and the material cost and the processing cost are reduced.
【図1】本発明に係る半導体装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device according to the present invention.
【図2】上記図1の半導体装置を外部基板上に実装した
ときの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view when the semiconductor device of FIG. 1 is mounted on an external substrate.
【図3】上記半導体装置のリードフレームの斜視図であ
る。FIG. 3 is a perspective view of a lead frame of the semiconductor device.
【図4】粘着シート材にリードフレームを貼付した状態
を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which a lead frame is attached to an adhesive sheet material.
【図5】粘着シート材に半導体素子を貼付した状態を示
す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a state in which a semiconductor element is attached to an adhesive sheet material.
【図6】リード部と半導体素子とをボンディングワイヤ
で接続した状態を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state in which a lead portion and a semiconductor element are connected by a bonding wire.
【図7】リードフレーム上に樹脂材を充填した状態を示
す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a state where a lead frame is filled with a resin material.
【図8】上記リードフレームから粘着シート材を剥離す
る状態を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state in which an adhesive sheet material is peeled off from the lead frame.
【図9】上記リードフレーム上に形成された複数の半導
体装置を個々の半導体装置にカットする状態を示す説明
図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state in which a plurality of semiconductor devices formed on the lead frame are cut into individual semiconductor devices.
【図10】従来の半導体装置の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a conventional semiconductor device.
【図11】上記従来の半導体装置のリードフレームの斜
視図である。FIG. 11 is a perspective view of a lead frame of the conventional semiconductor device.
21 半導体チップ(半導体装置) 22 半導体素子 23 リード部 24 ボンディングワイヤ 25 樹脂材 27 素子電極部 31 リードフレーム 34 粘着シート材 21 Semiconductor chip (semiconductor device) 22 Semiconductor element 23 Lead 24 Bonding wire 25 resin material 27 Element electrode part 31 lead frame 34 Adhesive sheet material
Claims (3)
延びる複数のリード部を有するリードフレームと、前記
半導体素子及びリード部を封止する樹脂材とを備えた半
導体装置において、 前記半導体素子とリード部とが同一平面上で配設され、
該半導体素子の素子電極部とリード部とが同一面上で電
気的に接続されていると共に前記半導体素子及びリード
部の裏面が樹脂材の裏面側に露出していることを特徴と
する半導体装置。1. A semiconductor device comprising a semiconductor element, a lead frame having a plurality of lead portions extending toward the semiconductor element, and a resin material for sealing the semiconductor element and the lead portion, wherein the semiconductor element The lead part is arranged on the same plane,
A semiconductor device in which the element electrode portion and the lead portion of the semiconductor element are electrically connected on the same surface and the back surfaces of the semiconductor element and the lead portion are exposed to the back surface side of the resin material. .
剥離可能な粘着シート材と接していることを特徴とする
請求項1記載の半導体装置。2. The semiconductor element and the back surface of the lead portion are
The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is in contact with a peelable adhesive sheet material.
方に向けて延びる複数のリード部からなるリードフレー
ムを形成する工程と、このリードフレームを粘着シート
材に貼り付ける工程と、半導体素子を前記リード部で囲
われた平面スペース内に貼り付ける工程と、前記リード
部と半導体素子とをワイヤボンディングする工程と、前
記リードフレーム及び半導体素子の上方に樹脂材を充填
して所定形状の樹脂成形体を形成する工程と、粘着シー
ト材を前記樹脂成形体から剥離する工程とを備えたこと
を特徴とする半導体装置の製造方法。3. A step of forming a lead frame comprising a frame main body and a plurality of lead portions extending inward of the frame main body, a step of attaching the lead frame to an adhesive sheet material, and a semiconductor element for the lead. A step of attaching in a plane space surrounded by a part, a step of wire-bonding the lead part and the semiconductor element, and a resin molding having a predetermined shape by filling a resin material above the lead frame and the semiconductor element. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a forming step; and a step of peeling an adhesive sheet material from the resin molded body.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001372816A JP2003174137A (en) | 2001-12-06 | 2001-12-06 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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|---|---|
| JP2003174137A true JP2003174137A (en) | 2003-06-20 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2003174137A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3319122A1 (en) * | 2016-11-06 | 2018-05-09 | Nexperia B.V. | Semiconductor device with wettable corner leads |
-
2001
- 2001-12-06 JP JP2001372816A patent/JP2003174137A/en active Pending
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