JP2003162957A - Manufacturing method of plasma display panel - Google Patents

Manufacturing method of plasma display panel

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JP2003162957A JP2001360568A JP2001360568A JP2003162957A JP 2003162957 A JP2003162957 A JP 2003162957A JP 2001360568 A JP2001360568 A JP 2001360568A JP 2001360568 A JP2001360568 A JP 2001360568A JP 2003162957 A JP2003162957 A JP 2003162957A
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大輔 足立
Shinya Fujiwara
伸也 藤原
Keisuke Sumita
圭介 住田
Hideki Ashida
英樹 芦田
Hitoshi Nakagawa
整 仲川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a plasma display panel which is capable of realizing superior display quality and suppressing coloring of a glass substrate and a dielectric layer at a low cost. <P>SOLUTION: In this manufacturing method of a plasma display panel, at first an electrode consisting of a transparent electrode 5 and a bus electrode 6 is formed on a front substrate 1 with a prescribed pattern, then a metal tin layer 15 with a prescribed pattern is formed by plating method so as to cover the electrode, and after that, an oxidation second tin layer 16 of an electrode- coating layer is formed by oxidizing the metal tin layer 15. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、薄型の表示装置として注目されて
いるプラズマディスプレイパネルは、例えば図3に示す
ように、互いに対向して配置されたガラス製の前面基板
1と背面基板2とを備えている。前面基板1上には表示
電極3、4からなる表示電極対を複数形成しており、表
示電極3、4はそれぞれ透明電極5およびバス電極6に
より構成している。そして、表示電極3、4を覆うよう
に前面基板1上に誘電体層7を形成し、誘電体層7上に
保護層8を形成している。
2. Description of the Related Art In recent years, a plasma display panel, which has been attracting attention as a thin display device, includes a front substrate 1 and a rear substrate 2 made of glass and arranged to face each other, as shown in FIG. There is. A plurality of display electrode pairs including display electrodes 3 and 4 are formed on the front substrate 1, and the display electrodes 3 and 4 are composed of a transparent electrode 5 and a bus electrode 6, respectively. Then, the dielectric layer 7 is formed on the front substrate 1 so as to cover the display electrodes 3 and 4, and the protective layer 8 is formed on the dielectric layer 7.

【0003】また背面基板2上には、複数のアドレス電
極9を設け、アドレス電極9を覆うように誘電体層10
を形成している。この誘電体層10上のアドレス電極9
間に隔壁11を配置し、隔壁11の側面および誘電体層
10表面に蛍光体層12を形成している。
A plurality of address electrodes 9 are provided on the rear substrate 2, and the dielectric layer 10 covers the address electrodes 9.
Is formed. Address electrode 9 on this dielectric layer 10
A partition wall 11 is arranged between them, and a phosphor layer 12 is formed on the side surface of the partition wall 11 and the surface of the dielectric layer 10.

【0004】なお、実際のパネルでは、アドレス電極9
の長手方向と表示電極3、4の長手方向とが直交するよ
うに前面基板1と背面基板2とを対向配置させており、
図1においては便宜的に前面側の部材(前面基板1、表
示電極3、4、誘電体層7および保護層8)を背面側の
部材(背面基板2、アドレス電極9、誘電体層10、隔
壁11および蛍光体層12)を背面基板2に平行な面内
で90°回転させた状態で示している。
In the actual panel, the address electrode 9
The front substrate 1 and the rear substrate 2 are arranged so as to face each other so that the longitudinal direction of the display electrodes 3 and 4 is orthogonal to each other.
In FIG. 1, for convenience, front side members (front substrate 1, display electrodes 3, 4, dielectric layer 7 and protective layer 8) are replaced with back side members (back substrate 2, address electrodes 9, dielectric layer 10, The partition wall 11 and the phosphor layer 12) are shown rotated by 90 ° in a plane parallel to the back substrate 2.

【0005】前面基板1と背面基板2との間には放電空
間が形成され、放電空間には、例えばネオン(Ne)と
キセノン(Xe)の混合ガスからなる放電ガスが封入さ
れている。表示電極対を構成する表示電極3と表示電極
4との間で放電を起こしたときに発生する紫外線によっ
て蛍光体層12を励起発光させ、これによりカラー画像
を表示している。
A discharge space is formed between the front substrate 1 and the rear substrate 2, and the discharge space is filled with a discharge gas composed of a mixed gas of neon (Ne) and xenon (Xe), for example. The phosphor layer 12 is excited to emit light by ultraviolet rays generated when a discharge is generated between the display electrode 3 and the display electrode 4 forming the display electrode pair, thereby displaying a color image.

【0006】プラズマディスプレイパネルに使用するガ
ラス基板は、大面積化が容易であり平坦性の高いガラス
の製造に適したフロート法によって製造されている。フ
ロート法は、還元性雰囲気中で溶融スズの上に溶融ガラ
スを浮上させ、搬送することによりガラスを板状に成形
する方法である。また、前面基板1上に形成されたバス
電極6としては、簡便で低コストな印刷法を用いて形成
することができる銀電極が使用されている。
The glass substrate used for the plasma display panel is manufactured by the float method, which is suitable for manufacturing glass with a large area and a high flatness. The float method is a method in which a molten glass is floated on molten tin in a reducing atmosphere and conveyed to form the glass into a plate shape. Further, as the bus electrode 6 formed on the front substrate 1, a silver electrode that can be formed by a simple and low-cost printing method is used.

【0007】バス電極6としての銀電極は、ガラス基板
(前面基板1)上に形成された所定のパターン形状の透
明電極5上に、銀粒子、有機溶剤および樹脂等からなる
銀ペーストを塗布して所定の形状にパターニングした
後、500〜600℃で焼成することにより形成され
る。
The silver electrode as the bus electrode 6 is obtained by applying a silver paste composed of silver particles, an organic solvent, a resin and the like on a transparent electrode 5 having a predetermined pattern formed on a glass substrate (front substrate 1). And patterned into a predetermined shape, and then baked at 500 to 600 ° C.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このバス電
極は、次の工程である誘電体層7を形成する際にも焼成
が行われ、この焼成時にも銀電極は熱を受けることとな
る。そして、これらの焼成時に加えられる熱エネルギー
によって銀電極から銀イオンがガラス基板や誘電体層7
に拡散し、拡散した銀イオンがSn2+やFe2+等の還元
種によって還元され、凝集することにより粒径が数〜数
十nmの銀コロイドが発生する。この銀コロイドは波長
380〜480nmの領域の光を吸収するため、ガラス
基板や誘電体層7が黄色に着色するという問題があっ
た。このような場合、カラー画像を表示したとき青色の
輝度が低下し、例えば白色を表示したときには色温度が
低下するという課題があった。
By the way, the bus electrode is fired also when the dielectric layer 7 is formed in the next step, and the silver electrode receives heat during the firing. Then, due to the heat energy applied at the time of firing, silver ions are generated from the silver electrode by the glass substrate or the dielectric layer 7
And the diffused silver ions are reduced by reducing species such as Sn 2+ and Fe 2+ and aggregate to generate a silver colloid having a particle size of several to several tens nm. Since this silver colloid absorbs light in the wavelength range of 380 to 480 nm, there is a problem that the glass substrate and the dielectric layer 7 are colored yellow. In such a case, there is a problem that the brightness of blue decreases when displaying a color image, and the color temperature decreases when displaying white, for example.

【0009】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、ガラス基板や誘電体層の着色を
低コストで抑制することができ、優れた表示品質のプラ
ズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and provides a plasma display panel which can suppress coloring of a glass substrate or a dielectric layer at low cost and has excellent display quality. The purpose is to do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、基板上に所定のパターン形状の電極を形成した後、
前記電極を被覆するように所定のパターン形状の金属層
をめっき法により形成し、その後前記金属層を酸化する
ことにより金属酸化物からなる電極被覆層を形成するも
のである。この方法により、電極の材料である金属のイ
オンが拡散することを防止できる。
In order to achieve this object, a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention comprises the steps of forming electrodes of a predetermined pattern on a substrate,
A metal layer having a predetermined pattern is formed by plating so as to cover the electrode, and then the metal layer is oxidized to form an electrode coating layer made of a metal oxide. By this method, it is possible to prevent diffusion of metal ions, which are the material of the electrodes.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図1および図2を用いて説明する。なお、図3に示
す部分と同一部分については同一番号を付している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. The same parts as those shown in FIG. 3 are designated by the same reference numerals.

【0012】図1は本発明の一実施の形態によるプラズ
マディスプレイパネルの製造方法を説明するための要部
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an essential part for explaining a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

【0013】まず図1(a)に示すように、ガラス基板
である前面基板1上にインジウムスズ酸化物(ITO)
からなる透明電極膜13をスパッタ法や電子ビーム蒸着
法により成膜する。透明電極膜13としては、アンチモ
ンやフッ素を添加した酸化第二錫、アルミニウムを添加
した酸化亜鉛等を用いてもよい。
First, as shown in FIG. 1A, indium tin oxide (ITO) is formed on a front substrate 1 which is a glass substrate.
The transparent electrode film 13 made of is formed by a sputtering method or an electron beam evaporation method. As the transparent electrode film 13, stannic oxide containing antimony or fluorine, zinc oxide containing aluminum, or the like may be used.

【0014】次に、透明電極膜13上にフォトリソグラ
フィー法を用いて所定のパターン形状のレジスト層を形
成した後、透明電極膜13をエッチングすることによ
り、図1(b)に示すように前面基板1上に所定のパタ
ーン形状の透明電極5を形成する。
Next, a resist layer having a predetermined pattern is formed on the transparent electrode film 13 by a photolithography method, and the transparent electrode film 13 is etched to form a front surface as shown in FIG. 1 (b). A transparent electrode 5 having a predetermined pattern is formed on the substrate 1.

【0015】次に図1(c)に示すように、透明電極5
上に銀粒子を含む感光性ペーストをスクリーン印刷法に
より塗布し、電極材料膜14を形成する。その後、電極
材料膜14をフォトリソグラフィー法を用いてパターニ
ングし600℃程度で焼成することにより、図1(d)
に示すように透明電極5上に所定のパターン形状のバス
電極6を形成する。このように、前面基板1上に透明電
極5とバス電極6とからなる所定のパターン形状の電極
を形成する。ここで、バス電極6の材料である銀は白色
をしているため、コントラストを上げるように透明電極
5とバス電極6との間に酸化ルテニウム等からなる黒色
層を形成してもよい。
Next, as shown in FIG. 1C, the transparent electrode 5
A photosensitive paste containing silver particles is applied thereon by a screen printing method to form an electrode material film 14. After that, the electrode material film 14 is patterned by a photolithography method and baked at about 600 ° C., so that FIG.
A bus electrode 6 having a predetermined pattern is formed on the transparent electrode 5 as shown in FIG. In this way, an electrode having a predetermined pattern including the transparent electrode 5 and the bus electrode 6 is formed on the front substrate 1. Since silver, which is a material of the bus electrode 6, has a white color, a black layer made of ruthenium oxide or the like may be formed between the transparent electrode 5 and the bus electrode 6 so as to increase the contrast.

【0016】次に、透明電極5およびバス電極6をめっ
き電極とし、硫酸第一錫、硫酸およびクレゾールスルホ
ン酸等を含む酸性錫めっき浴を用いた電解めっき法によ
り、図1(e)に示すように透明電極5およびバス電極
6を被覆するように所定のパターン形状の金属錫層(金
属層)15を形成する。電解めっき法を用いているの
で、金属錫層15を透明電極5およびバス電極6の上に
のみ選択的に形成することができ、金属錫層15をパタ
ーニングする必要がなく工程が簡単となる。なお、例え
ば錫酸カリウム、金属錫、水酸化カリウム、酢酸および
過酸化水素等を含むアルカリ錫めっき浴を用いた電解め
っき法により金属錫層15を形成してもよい。
Next, the transparent electrode 5 and the bus electrode 6 are used as plating electrodes, and an electrolytic plating method using an acidic tin plating bath containing stannous sulfate, sulfuric acid, cresol sulfonic acid and the like is shown in FIG. 1 (e). Thus, a metal tin layer (metal layer) 15 having a predetermined pattern is formed so as to cover the transparent electrode 5 and the bus electrode 6. Since the electroplating method is used, the metal tin layer 15 can be selectively formed only on the transparent electrodes 5 and the bus electrodes 6, and the process is simplified without the need to pattern the metal tin layer 15. The metal tin layer 15 may be formed by an electrolytic plating method using an alkali tin plating bath containing potassium stannate, metal tin, potassium hydroxide, acetic acid, hydrogen peroxide and the like.

【0017】その後、酸素を含む雰囲気中で金属錫層1
5を熱酸化することにより、図1(f)に示すように電
極被覆層である酸化第二錫層16を形成する。酸化第二
錫は透明であるため光の透過率の低下を招くことはほと
んどない。また、電解めっき法を用いて形成した酸化第
二錫層16は、透明電極として用いられ導電性がある酸
化第二錫とは異なるものである。すなわち、本実施の形
態のように電解めっき法を用いる場合にはアンチモンや
フッ素を添加した導電性がある酸化第二錫層を得ること
は困難であり、本実施の形態の酸化第二錫層16は、導
電性がある酸化第二錫の比抵抗値に比べて極めて高い比
抵抗値を有する金属酸化物からなる。
After that, the metal tin layer 1 is formed in an atmosphere containing oxygen.
By thermally oxidizing 5, the stannic oxide layer 16 which is an electrode coating layer is formed as shown in FIG. Since stannic oxide is transparent, it hardly causes a decrease in light transmittance. Further, the stannic oxide layer 16 formed by the electrolytic plating method is different from stannic oxide which is used as a transparent electrode and has conductivity. That is, when the electrolytic plating method is used as in the present embodiment, it is difficult to obtain a conductive stannic oxide layer to which antimony or fluorine is added. 16 is made of a metal oxide having an extremely high specific resistance value as compared with the specific resistance value of conductive stannic oxide.

【0018】酸化第二錫層16を形成した後、通常用い
られている方法によって図1(g)に示すように誘電体
層7および保護層8を形成する。すなわち、前面基板1
上に誘電体ガラス粉末を含むペーストをスクリーン印刷
法やダイコート法を用いて塗布し、600℃程度で焼成
して誘電体層7を形成する。次に、誘電体層7上に酸化
マグネシウム(MgO)からなる保護層8を形成する。
こうして前面基板1上に表示電極等の形成が完了する。
このようにして所定の構成部材が形成された前面基板1
を、図3に示した従来のプラズマディスプレイパネルの
前面側の部材(前面基板1、表示電極3、4、誘電体層
7および保護層8)に代えて用いることによりプラズマ
ディスプレイパネルが得られる。
After the stannic oxide layer 16 is formed, the dielectric layer 7 and the protective layer 8 are formed as shown in FIG. 1 (g) by a commonly used method. That is, the front substrate 1
A paste containing a dielectric glass powder is applied on the top by a screen printing method or a die coating method, and baked at about 600 ° C. to form the dielectric layer 7. Next, the protective layer 8 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the dielectric layer 7.
Thus, the formation of the display electrodes and the like on the front substrate 1 is completed.
The front substrate 1 on which the predetermined constituent members are formed in this manner
Is used in place of the members (front substrate 1, display electrodes 3, 4, dielectric layer 7 and protective layer 8) on the front side of the conventional plasma display panel shown in FIG. 3 to obtain a plasma display panel.

【0019】以上のように電解めっき法を用いて酸化第
二錫層16を形成することにより、その酸化第二錫層1
6は誘電体層7に比べて銀イオンが極めて浸透しにくい
緻密な層とすることができる。同様に、ITO等からな
る透明電極5も緻密な層であるため、透明電極5と酸化
第二錫層16とによって囲まれた領域内に銀イオンをと
どまらせることができる。したがって、銀イオンが前面
基板1や誘電体層7へ拡散するのを抑制することがで
き、前面基板1や誘電体層7が黄色に着色することを防
止できるので、優れた表示品質のプラズマディスプレイ
パネルが得られる。
By forming the stannic oxide layer 16 using the electrolytic plating method as described above, the stannic oxide layer 1 is formed.
The layer 6 can be a dense layer in which silver ions hardly penetrate as compared with the dielectric layer 7. Similarly, since the transparent electrode 5 made of ITO or the like is also a dense layer, silver ions can be retained in the region surrounded by the transparent electrode 5 and the stannic oxide layer 16. Therefore, it is possible to prevent silver ions from diffusing into the front substrate 1 and the dielectric layer 7, and to prevent the front substrate 1 and the dielectric layer 7 from being colored yellow, so that a plasma display with excellent display quality can be obtained. You get a panel.

【0020】上記実施の形態では電解めっき法を用いる
ことにより酸化第二錫層16を形成する場合について説
明したが、無電解めっき法を用いてもよい。このとき
は、図2に示すように、バス電極6の周囲のみを被覆す
るように所定のパターン形状の酸化第二錫層(電極被覆
層)17を形成することが可能である。この場合におい
ても酸化第二錫層17は緻密な層となり銀イオンが拡散
するのを抑制することができるので、前面基板1や誘電
体層7が黄色に着色することを防止できる。そして、無
電解めっき法により形成した酸化第二錫層17は、電解
めっき法により形成した場合と同様に、導電性がある酸
化第二錫の比抵抗値に比べて極めて高い比抵抗値を有す
る金属酸化物からなる。なお、無電解めっき法を用い
て、不透明なバス電極6の周囲のみを被覆するように形
成した電極被覆層は、蛍光体層12の発光をあまり遮る
ことはない。したがって、この場合の電極被覆層は不透
明であってもかまわない。
In the above embodiment, the case where the stannic oxide layer 16 is formed by using the electrolytic plating method has been described, but the electroless plating method may be used. At this time, as shown in FIG. 2, it is possible to form a stannic oxide layer (electrode coating layer) 17 having a predetermined pattern so as to cover only the periphery of the bus electrode 6. Even in this case, the stannic oxide layer 17 becomes a dense layer and can prevent silver ions from diffusing, so that the front substrate 1 and the dielectric layer 7 can be prevented from being colored yellow. Then, the stannic oxide layer 17 formed by the electroless plating method has an extremely high specific resistance value as compared with the specific resistance value of conductive stannic oxide, as in the case of forming by the electrolytic plating method. It consists of a metal oxide. The electrode coating layer formed by using the electroless plating method so as to cover only the periphery of the opaque bus electrode 6 does not block the light emission of the phosphor layer 12 so much. Therefore, the electrode coating layer in this case may be opaque.

【0021】本発明の製造方法では、電極被覆層である
酸化第二錫層16、17を形成する際に低コストな製膜
方法であるめっき法を用いているので、安価に電極被覆
層の形成を行うことができる。さらに電解めっき法を用
いれば、電極被覆層のパターニング工程が不要であり製
造工程の増加を抑制することが可能となる。
In the manufacturing method of the present invention, the plating method, which is a low-cost film forming method, is used when the stannic oxide layers 16 and 17 that are the electrode coating layers are formed. Forming can take place. Furthermore, if the electroplating method is used, the patterning step of the electrode coating layer is unnecessary, and it is possible to suppress an increase in manufacturing steps.

【0022】また、透明電極5が形成されておらず銀か
らなる金属電極が前面基板1上に直接形成されている場
合には、透明電極5が形成されている場合に比べて銀イ
オンの拡散を抑制する効果は低くなるものと考えられる
が、前面基板1上に直接形成された金属電極を覆うよう
に酸化第二錫層を形成することにより、銀イオンが拡散
するのを抑制することができる。
Further, when the transparent electrode 5 is not formed and the metal electrode made of silver is directly formed on the front substrate 1, the diffusion of silver ions is greater than that when the transparent electrode 5 is formed. It is considered that the effect of suppressing silver ions is reduced, but by forming the stannic oxide layer so as to cover the metal electrode formed directly on the front substrate 1, it is possible to suppress the diffusion of silver ions. it can.

【0023】なお、本実施の形態では、電極被覆層の材
料として錫を用いる場合について説明したが、マグネシ
ウム、アルミニウム、ニッケル等のようにめっき法によ
って形成できる金属を電極被覆層の材料として用いるこ
とができる。
Although the case where tin is used as the material of the electrode coating layer has been described in the present embodiment, a metal such as magnesium, aluminum, or nickel which can be formed by a plating method is used as the material of the electrode coating layer. You can

【0024】また、上記実施の形態ではフロート法で製
造されたガラス基板を使用した場合について説明した
が、フロート法以外の方法で製造されたガラス基板であ
っても、銀イオンと酸化還元反応を起こすような還元性
の物質が含まれているガラス基板を用いる場合に、本発
明を適用することによりガラス基板が黄色に着色するこ
とを防止できる。また、電極被覆層で覆う電極として銀
電極のかわりにクロム−銅−クロムの積層体等を用いた
場合でも本発明を適用することができる。
In the above embodiment, the case where the glass substrate manufactured by the float method is used has been described. However, even if the glass substrate manufactured by a method other than the float method is used, the redox reaction with the silver ion is prevented. When a glass substrate containing a reducing substance that causes such a phenomenon is used, applying the present invention can prevent the glass substrate from being colored yellow. Further, the present invention can be applied even when a chromium-copper-chromium laminate or the like is used as the electrode covered with the electrode coating layer instead of the silver electrode.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラス基
板等の着色を防止する電極被覆層を低コストで形成する
ことができ、優れた表示品質のプラズマディスプレイパ
ネルを実現することができる。
As described above, according to the present invention, an electrode coating layer for preventing coloring of a glass substrate or the like can be formed at low cost, and a plasma display panel with excellent display quality can be realized. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)〜(g)は本発明の一実施の形態による
プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するため
の要部を示す断面図
1A to 1G are cross-sectional views showing a main part for explaining a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の製造方法によって形成される電極被覆
層の一例を示す断面図
FIG. 2 is a sectional view showing an example of an electrode coating layer formed by the manufacturing method of the present invention.

【図3】従来のプラズマディスプレイパネルの要部を示
す断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of a conventional plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 前面基板 2 背面基板 3、4 表示電極 5 透明電極 6 バス電極 7、10 誘電体層 8 保護層 9 アドレス電極 11 隔壁 12 蛍光体層 13 透明電極膜 14 電極材料膜 15 金属錫層 16、17 酸化第二錫層 1 Front substrate 2 Back substrate 3, 4 display electrodes 5 Transparent electrode 6 bus electrodes 7, 10 Dielectric layer 8 protective layer 9 address electrodes 11 partitions 12 Phosphor layer 13 Transparent electrode film 14 Electrode material film 15 Metal tin layer 16,17 Stannous oxide layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住田 圭介 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 仲川 整 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA01 5C040 FA01 GC03 GC05 GC06 GC19 JA08 JA15 JA21 KA04 LA11 LA17 MA10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Keisuke Sumita             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Hideki Ashida             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Sei Nakagawa             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 5C027 AA01                 5C040 FA01 GC03 GC05 GC06 GC19                       JA08 JA15 JA21 KA04 LA11                       LA17 MA10

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に所定のパターン形状の電極を形
成した後、前記電極を被覆するように所定のパターン形
状の金属層をめっき法により形成し、その後前記金属層
を酸化することにより金属酸化物からなる電極被覆層を
形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
1. A metal is formed by forming an electrode having a predetermined pattern on a substrate, forming a metal layer having a predetermined pattern by a plating method so as to cover the electrode, and then oxidizing the metal layer. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising forming an electrode coating layer made of an oxide.
【請求項2】 基板上に所定のパターン形状の透明電極
とバス電極とを積層して形成した後、前記バス電極を被
覆するように所定のパターン形状の金属層をめっき法に
より形成し、その後前記金属層を酸化することにより金
属酸化物からなる電極被覆層を形成することを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. A transparent electrode having a predetermined pattern and a bus electrode are laminated and formed on a substrate, a metal layer having a predetermined pattern is formed by a plating method so as to cover the bus electrode, and thereafter, A method of manufacturing a plasma display panel, comprising forming an electrode coating layer made of a metal oxide by oxidizing the metal layer.
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