JP2003161737A - ほう素自動分析装置及び方法 - Google Patents
ほう素自動分析装置及び方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 脱硫排水のようにＳＯ4 2-を多量に含有する
排水の、ほう素の分析を可能とするほう素自動分析装置
及びほう素自動分析方法を提供する。 【解決手段】 試料を採取して該試料を適切な倍率に希
釈するためのサンプリング装置１００と、イオンクロマ
トグラフ分析によりほう素及びＳＯ4 2-イオンを分析す
るイオンクロマトグラフ装置２００と、サンプリング時
間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処理ソフトウエ
アにより装置の自動校正及びデータ処理をするデータ処
理装置３００とを含むこととした。
排水の、ほう素の分析を可能とするほう素自動分析装置
及びほう素自動分析方法を提供する。 【解決手段】 試料を採取して該試料を適切な倍率に希
釈するためのサンプリング装置１００と、イオンクロマ
トグラフ分析によりほう素及びＳＯ4 2-イオンを分析す
るイオンクロマトグラフ装置２００と、サンプリング時
間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処理ソフトウエ
アにより装置の自動校正及びデータ処理をするデータ処
理装置３００とを含むこととした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ほう素自動分析装
置及び方法に関する。
置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】イオンクロマトグラフ分析でほう素
（Ｂ）を分析する場合、例えば、図４に示すようにＣｌ
-、ＳＯ4 2-等のアニオン成分も同時に分析が可能であ
る。 しかし、脱硫排水のようにＳＯ4 2-を多量に含有
する排水では、図６に示すように各ピークの分離が悪く
なり、ＢＯ3-のピークがＳＯ4 2-のピークに重なり、Ｂ
Ｏ3-の分析ができなくなる。この対策としてサンプル
（試料）の注入量を減らし、各ピークの分離を良くすれ
ば、ＳＯ4 2-の妨害をなくすことができる。 しかし、
一般にサンプルの注入量は、約１０μｌが限界で、これ
以下とするには問題がある。 また、サンプルの注入量
は、６方バルブに取りつけたサンプルループ（計量管）
の容量で決まり、この容量を自動で変えることは難し
い。
（Ｂ）を分析する場合、例えば、図４に示すようにＣｌ
-、ＳＯ4 2-等のアニオン成分も同時に分析が可能であ
る。 しかし、脱硫排水のようにＳＯ4 2-を多量に含有
する排水では、図６に示すように各ピークの分離が悪く
なり、ＢＯ3-のピークがＳＯ4 2-のピークに重なり、Ｂ
Ｏ3-の分析ができなくなる。この対策としてサンプル
（試料）の注入量を減らし、各ピークの分離を良くすれ
ば、ＳＯ4 2-の妨害をなくすことができる。 しかし、
一般にサンプルの注入量は、約１０μｌが限界で、これ
以下とするには問題がある。 また、サンプルの注入量
は、６方バルブに取りつけたサンプルループ（計量管）
の容量で決まり、この容量を自動で変えることは難し
い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたもので、脱硫排水のようにＳＯ4 2-を多
量に含有する排水の、ほう素の分析を可能とするほう素
自動分析装置及びほう素自動分析方法を提供することを
目的とする。
鑑みてなされたもので、脱硫排水のようにＳＯ4 2-を多
量に含有する排水の、ほう素の分析を可能とするほう素
自動分析装置及びほう素自動分析方法を提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るほう素自動分析装置は、試料を採取し
て該試料を適切な倍率に希釈するためのサンプリング装
置と、イオンクロマトグラフ分析によりほう素及びＳＯ
4 2-イオンを分析するイオンクロマトグラフ装置と、サ
ンプリング時間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処
理ソフトウエアにより装置の自動校正及びデータ処理を
するデータ処理装置とを含む。本発明に係るほう素自動
分析装置は、試料の自動ろ過装置をさらに含むことが好
適である。
に、本発明に係るほう素自動分析装置は、試料を採取し
て該試料を適切な倍率に希釈するためのサンプリング装
置と、イオンクロマトグラフ分析によりほう素及びＳＯ
4 2-イオンを分析するイオンクロマトグラフ装置と、サ
ンプリング時間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処
理ソフトウエアにより装置の自動校正及びデータ処理を
するデータ処理装置とを含む。本発明に係るほう素自動
分析装置は、試料の自動ろ過装置をさらに含むことが好
適である。
【０００５】本発明は、別の側面において、ほう素自動
分析方法であり、該方法は、試料を採取する工程と、該
試料を純水で希釈する工程と、イオンクロマトグラフ分
析によりほう素及びＳＯ4 2-イオンを分析する工程と、
データ処理装置によりサンプリング時間及び希釈率を制
御する工程と、上記データ処理装置が内蔵するデータ処
理ソフトウエアにより、装置の自動校正及びデータ処理
をする工程とを含む。この方法では、測定されたＳＯ4
2-イオン濃度に応じて、試料の希釈倍率を上記データ処
理装置により設定し、かかる設定信号に応じて試料を希
釈するようにすることが好適である。また、ほう素及び
ＳＯ4 2-イオンの標準試料に基づいて、上記サンプリン
グ時間を設定することが好適である。
分析方法であり、該方法は、試料を採取する工程と、該
試料を純水で希釈する工程と、イオンクロマトグラフ分
析によりほう素及びＳＯ4 2-イオンを分析する工程と、
データ処理装置によりサンプリング時間及び希釈率を制
御する工程と、上記データ処理装置が内蔵するデータ処
理ソフトウエアにより、装置の自動校正及びデータ処理
をする工程とを含む。この方法では、測定されたＳＯ4
2-イオン濃度に応じて、試料の希釈倍率を上記データ処
理装置により設定し、かかる設定信号に応じて試料を希
釈するようにすることが好適である。また、ほう素及び
ＳＯ4 2-イオンの標準試料に基づいて、上記サンプリン
グ時間を設定することが好適である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に添付図面に示した実施の形
態を参照しながら、本発明に係るほう素自動分析装置を
さらに詳細に説明する。
態を参照しながら、本発明に係るほう素自動分析装置を
さらに詳細に説明する。
【０００７】図１は、本発明に係るほう素自動分析装置
の一実施の形態についてその概要を示す概念図である。
本実施の形態に係るほう素自動分析装置は、サンプリン
グ装置１００、イオンクロマトグラフ装置２００、デー
タ処理装置３００を含む。
の一実施の形態についてその概要を示す概念図である。
本実施の形態に係るほう素自動分析装置は、サンプリン
グ装置１００、イオンクロマトグラフ装置２００、デー
タ処理装置３００を含む。
【０００８】図１の実施の形態で、上記サンプリング装
置１００は、試料を採取して該試料を適切な倍率に希釈
するための装置である。また、イオンクロマトグラフ装
置２００は、イオンクロマトグラフ分析によりほう素及
びＳＯ4 2-イオンを分析するための装置である。データ
処理装置又はシステムコントローラ３００は、サンプリ
ング時間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処理ソフ
トウエアにより装置の自動校正及びデータ処理をするた
めの装置である。大きな流れとして、サンプリング装置
１００でサンプリングした試料を、イオンクロマトグラ
フ装置２００で分析し、データ処理装置３００でデータ
処理を行うと共に行い、得られたデータに基づいて、サ
ンプリング方法を逐次適正化して行く。
置１００は、試料を採取して該試料を適切な倍率に希釈
するための装置である。また、イオンクロマトグラフ装
置２００は、イオンクロマトグラフ分析によりほう素及
びＳＯ4 2-イオンを分析するための装置である。データ
処理装置又はシステムコントローラ３００は、サンプリ
ング時間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ処理ソフ
トウエアにより装置の自動校正及びデータ処理をするた
めの装置である。大きな流れとして、サンプリング装置
１００でサンプリングした試料を、イオンクロマトグラ
フ装置２００で分析し、データ処理装置３００でデータ
処理を行うと共に行い、得られたデータに基づいて、サ
ンプリング方法を逐次適正化して行く。
【０００９】図２は、上記サンプリング装置１００の形
態をさらに詳細に示している。サンプリング装置１００
は、排水タンク１０２からの排水をフィルタ１０４を介
して採り入れている。フィルタ１０４は、排水中の懸濁
物質を除去するための自動ろ過装置である。フィルタ１
０４を経由した排水（以下試料）は、ポンプ１０６によ
ってイオンクロマトグラフ装置２００側へ送られる。一
方、サンプリング装置１００は、純水タンク１０８を備
え、ここからの純水が、純水ポンプ１１０によって、ポ
ンプ１０６からの試料に合流する。該純水ポンプ１１０
は、後述するように、データ処理装置３００からの制御
信号によって制御される。サンプリング装置１００から
の純水によって希釈された試料（以下試料溶液）は、イ
オンクロマトグラフ装置２００によって分析される。
態をさらに詳細に示している。サンプリング装置１００
は、排水タンク１０２からの排水をフィルタ１０４を介
して採り入れている。フィルタ１０４は、排水中の懸濁
物質を除去するための自動ろ過装置である。フィルタ１
０４を経由した排水（以下試料）は、ポンプ１０６によ
ってイオンクロマトグラフ装置２００側へ送られる。一
方、サンプリング装置１００は、純水タンク１０８を備
え、ここからの純水が、純水ポンプ１１０によって、ポ
ンプ１０６からの試料に合流する。該純水ポンプ１１０
は、後述するように、データ処理装置３００からの制御
信号によって制御される。サンプリング装置１００から
の純水によって希釈された試料（以下試料溶液）は、イ
オンクロマトグラフ装置２００によって分析される。
【００１０】図３に、イオンクロマトグラフ装置２００
の実施の形態を示す。なお、図３には、便宜上、データ
処理装置３００も含めている。サンプリング装置１００
からの試料溶液は、６方バルブ２０２に取りつけたサン
プル計量管２０４に導入される。６方バルブ２０２は、
電磁式または空気駆動式である。まず、サンプリング開
始前は、試料溶液は、６方バルブ内のポイントAからポ
イントBに至り、サンプル計量管２０４を経由して、ポ
イントEからポイントFを経て排出されている。これによ
って、サンプル計量管２０４が絶えずパージされる。次
に、6方バルブが反時計回りに一段回転（１／６回転）
する。そうすると、サンプリング装置１００からの試料
は、ポイントAからポイントFに向けて流れ、そのまま排
出される。一方、溶離液槽２０８からの溶離液は、ポン
プ２０９によって、ポイントDからポイントEに流れ、サ
ンプル計量管２０４に流れる。サンプル計量管２０４中
の試料溶液と溶離液とが、ポイントBからポイントCを経
て分離カラム２０６に送られる。試料溶液及び溶離液が
分離カラム２０６に注入された後、6方バルブが時計回
りに一段回転（１／６回転）する。これによって、サン
プル計量管２０４を絶えずパージする状態に戻る。この
ようにして、順次分離カラム２０６に順次、試料溶液を
送り込む。溶離液は、分離カラム２０６に保持される試
料中のイオン種成分を展開、溶出させるための移動相と
して働く溶液である。溶離液は、分離カラム２０６の充
填剤に対して不活性で、イオン種成分の分離及び使用す
る検出器２１０にも適しているものを採用する。
の実施の形態を示す。なお、図３には、便宜上、データ
処理装置３００も含めている。サンプリング装置１００
からの試料溶液は、６方バルブ２０２に取りつけたサン
プル計量管２０４に導入される。６方バルブ２０２は、
電磁式または空気駆動式である。まず、サンプリング開
始前は、試料溶液は、６方バルブ内のポイントAからポ
イントBに至り、サンプル計量管２０４を経由して、ポ
イントEからポイントFを経て排出されている。これによ
って、サンプル計量管２０４が絶えずパージされる。次
に、6方バルブが反時計回りに一段回転（１／６回転）
する。そうすると、サンプリング装置１００からの試料
は、ポイントAからポイントFに向けて流れ、そのまま排
出される。一方、溶離液槽２０８からの溶離液は、ポン
プ２０９によって、ポイントDからポイントEに流れ、サ
ンプル計量管２０４に流れる。サンプル計量管２０４中
の試料溶液と溶離液とが、ポイントBからポイントCを経
て分離カラム２０６に送られる。試料溶液及び溶離液が
分離カラム２０６に注入された後、6方バルブが時計回
りに一段回転（１／６回転）する。これによって、サン
プル計量管２０４を絶えずパージする状態に戻る。この
ようにして、順次分離カラム２０６に順次、試料溶液を
送り込む。溶離液は、分離カラム２０６に保持される試
料中のイオン種成分を展開、溶出させるための移動相と
して働く溶液である。溶離液は、分離カラム２０６の充
填剤に対して不活性で、イオン種成分の分離及び使用す
る検出器２１０にも適しているものを採用する。
【００１１】溶離液が添加された試料溶液は、分離カラ
ム２０６に送られる。分離カラム２０６は、イオン交換
体等を固定相としている。分離カラム２０６内で試料溶
液中のイオン種成分が展開溶離する。分離カラム２０６
は、検出するほう素に適した構成とする。分離カラム２
０６の材質は、不活性な合成樹脂製、ガラス製の管で構
成する。分離カラム２０６からの溶出液は、サプレッサ
２１２に送られる。サプレッサ２１２は、除去カラムと
もいわれる。このサプレッサ２１２では、被検出イオン
の検出を損なうことなく、バックグラウンドとなる電気
伝導率を低減する装置である。サプレッサ２１２からの
溶出液は、検出器２１０に送られる。検出器２１０は、
一般的には、電気伝導度検出器である。なお、電気化学
検出器又は吸光光度検出器等を採用することもできる。
検出器２１０では、溶出液の電気伝導度を測定し、イオ
ン種の濃度を測定する。そのデータをデータ処理装置３
００に送る。
ム２０６に送られる。分離カラム２０６は、イオン交換
体等を固定相としている。分離カラム２０６内で試料溶
液中のイオン種成分が展開溶離する。分離カラム２０６
は、検出するほう素に適した構成とする。分離カラム２
０６の材質は、不活性な合成樹脂製、ガラス製の管で構
成する。分離カラム２０６からの溶出液は、サプレッサ
２１２に送られる。サプレッサ２１２は、除去カラムと
もいわれる。このサプレッサ２１２では、被検出イオン
の検出を損なうことなく、バックグラウンドとなる電気
伝導率を低減する装置である。サプレッサ２１２からの
溶出液は、検出器２１０に送られる。検出器２１０は、
一般的には、電気伝導度検出器である。なお、電気化学
検出器又は吸光光度検出器等を採用することもできる。
検出器２１０では、溶出液の電気伝導度を測定し、イオ
ン種の濃度を測定する。そのデータをデータ処理装置３
００に送る。
【００１２】次に、上記図１から図３について説明した
実施の形態について、サンプルの導入量制御、サンプリ
ング時間、自動校正、データ処理について説明を加え
る。 [サンプルの導入量制御]イオンクロマトグラフ装置２０
０の分離カラムへの試料の注入量は、一定量（５０μｌ
程度）とし、図２に示したサンプリング装置１００に関
して説明したように、試料を純水で希釈したものを注入
し、試料の導入量（試料原液相当量）を制御することと
している。イオンクロマト分析法ではアニオンの分析が
同時に可能である。そこで、本発明では、ＳＯ4 2-を同
時に分析し、その濃度がＢＯ3-分析に妨害のない範囲ま
で純水と混合して希釈することとしている。
実施の形態について、サンプルの導入量制御、サンプリ
ング時間、自動校正、データ処理について説明を加え
る。 [サンプルの導入量制御]イオンクロマトグラフ装置２０
０の分離カラムへの試料の注入量は、一定量（５０μｌ
程度）とし、図２に示したサンプリング装置１００に関
して説明したように、試料を純水で希釈したものを注入
し、試料の導入量（試料原液相当量）を制御することと
している。イオンクロマト分析法ではアニオンの分析が
同時に可能である。そこで、本発明では、ＳＯ4 2-を同
時に分析し、その濃度がＢＯ3-分析に妨害のない範囲ま
で純水と混合して希釈することとしている。
【００１３】具体的には、脱硫排水を例にすると排水中
は、一般に、ＳＯ4 2-を１５００〜４０００ｍｇ／ｌ含
有しており、試料注入量５０μｌの場合、ＢＯ3-分析に
支障のないＳＯ4 2-濃度は５０〜１５０ｍｇ／ｌであ
る。したがって、試料を水で約１／１０〜１／３０に希
釈すれば良い。図１〜３の実施の形態では、検出器２１
０で、Ｃｌ-、ＳＯ4 2-、ＢＯ3-の濃度を検出する。検出
されたデータ処理装置（シスムコントローラ）３００か
らのデータにより、ＢＯ3-分析に支障のないＳＯ4 2-濃
度となるように、純水ポンプ１１０の流量を可変させ
る。すなわち、ＳＯ4 2-濃度に応じ、例えば、１／１
０、１／２０、１／３０のように３段階の純水ポンプ１
１０の流量可変のための制御信号を、純水ポンプ１１０
に送り、その制御を行う。これによってＳＯ4 2-濃度に
影響されることなく、ＢＯ3-の濃度を測定することが可
能となる。
は、一般に、ＳＯ4 2-を１５００〜４０００ｍｇ／ｌ含
有しており、試料注入量５０μｌの場合、ＢＯ3-分析に
支障のないＳＯ4 2-濃度は５０〜１５０ｍｇ／ｌであ
る。したがって、試料を水で約１／１０〜１／３０に希
釈すれば良い。図１〜３の実施の形態では、検出器２１
０で、Ｃｌ-、ＳＯ4 2-、ＢＯ3-の濃度を検出する。検出
されたデータ処理装置（シスムコントローラ）３００か
らのデータにより、ＢＯ3-分析に支障のないＳＯ4 2-濃
度となるように、純水ポンプ１１０の流量を可変させ
る。すなわち、ＳＯ4 2-濃度に応じ、例えば、１／１
０、１／２０、１／３０のように３段階の純水ポンプ１
１０の流量可変のための制御信号を、純水ポンプ１１０
に送り、その制御を行う。これによってＳＯ4 2-濃度に
影響されることなく、ＢＯ3-の濃度を測定することが可
能となる。
【００１４】[サンプリング時間]Ｃｌ-、ＳＯ4 -、ＢＯ
3-標準液の分析クロマトグラムを図４に示す。ＢＯ3-は
６．３分にピークが出現し、約７分でピークの留出が完
了する。 従ってサンプリング時間は安全を考慮して、
９〜１０分ピッチが適当である。サンプリング時間の制
御は、データ処理装置３００により、サンプリング時間
毎に制御信号を出し、６方バルブ２０２を前記したよう
に作動させて行う。
3-標準液の分析クロマトグラムを図４に示す。ＢＯ3-は
６．３分にピークが出現し、約７分でピークの留出が完
了する。 従ってサンプリング時間は安全を考慮して、
９〜１０分ピッチが適当である。サンプリング時間の制
御は、データ処理装置３００により、サンプリング時間
毎に制御信号を出し、６方バルブ２０２を前記したよう
に作動させて行う。
【００１５】[自動校正、データ処理]装置の校正は、一
般に、イオンクロマトグラフ装置自体、安定性が良く、
通常、１回／日程度で十分である。上記した自動校正及
びデータ処理等は、データ処理装置３００により、その
内蔵したプログラムにより行う。上記の標準試料による
校正値から濃度を算出し、希釈による補正も同様に行
う。このような手順は、当業者にとって公知の手順に従
って行う。図５に本発明によって脱硫排水を1/１０希釈
液として測定した結果を示す。図示のようにピークが分
かれており、測定を確実に行うことができている。
般に、イオンクロマトグラフ装置自体、安定性が良く、
通常、１回／日程度で十分である。上記した自動校正及
びデータ処理等は、データ処理装置３００により、その
内蔵したプログラムにより行う。上記の標準試料による
校正値から濃度を算出し、希釈による補正も同様に行
う。このような手順は、当業者にとって公知の手順に従
って行う。図５に本発明によって脱硫排水を1/１０希釈
液として測定した結果を示す。図示のようにピークが分
かれており、測定を確実に行うことができている。
【００１６】上記したように、図１〜３に基づいて説明
した本発明に係るほう素自動分析装置及びほう素自動分
析方法によれば、試料を希釈して注入し、試料の絶対量
を減少させる制御法を採用して、脱硫排水のようにＳＯ
4 2-を多量に含有する排水の、ほう素の分析を可能とす
ることができる。
した本発明に係るほう素自動分析装置及びほう素自動分
析方法によれば、試料を希釈して注入し、試料の絶対量
を減少させる制御法を採用して、脱硫排水のようにＳＯ
4 2-を多量に含有する排水の、ほう素の分析を可能とす
ることができる。
【００１７】他の実施の形態本発明に係る装置は、上記
の実施の形態について説明したが、本発明は、このよう
な実施の形態に限定されるものではなく、当業者にとっ
て自明な修飾・変更・付加は、全て本発明の技術的範囲
に含まれる。
の実施の形態について説明したが、本発明は、このよう
な実施の形態に限定されるものではなく、当業者にとっ
て自明な修飾・変更・付加は、全て本発明の技術的範囲
に含まれる。
【００１８】
【発明の効果】上記したところから明らかなように、本
発明によれば、脱硫排水のようにＳＯ4 2 -を多量に含有
する排水の、ほう素の分析を可能とするほう素自動分析
装置及びほう素自動分析方法が提供される。すなわち、
本発明では、イオンクロマトグラフ装置を，サンプリン
グ装置，データ処理装置（システムコントローラ）と組
み合わせ、排水中のほう素の分析を自動化することで、
分析操作を簡易化し、かつ連続分析を可能とした。この
ような構成とするために、分析を妨害するSO4 2-イオン
を同時に測定し、希釈率を制御するシステムによりSO4
2-の妨害をなくすことを可能とした。そして、本発明に
よれば、分析システムにデータ処理ソフトウエアを組込
むことができ、試料のサンプリング、SO4 2-の妨害をな
くすための希釈及び分析からデータ処理まで一貫した排
水中のほう素自動測定が可能となる。
発明によれば、脱硫排水のようにＳＯ4 2 -を多量に含有
する排水の、ほう素の分析を可能とするほう素自動分析
装置及びほう素自動分析方法が提供される。すなわち、
本発明では、イオンクロマトグラフ装置を，サンプリン
グ装置，データ処理装置（システムコントローラ）と組
み合わせ、排水中のほう素の分析を自動化することで、
分析操作を簡易化し、かつ連続分析を可能とした。この
ような構成とするために、分析を妨害するSO4 2-イオン
を同時に測定し、希釈率を制御するシステムによりSO4
2-の妨害をなくすことを可能とした。そして、本発明に
よれば、分析システムにデータ処理ソフトウエアを組込
むことができ、試料のサンプリング、SO4 2-の妨害をな
くすための希釈及び分析からデータ処理まで一貫した排
水中のほう素自動測定が可能となる。
【図１】本発明に係るほう素自動分析装置の一実施の形
態についてその概要を説明する概念図である。
態についてその概要を説明する概念図である。
【図２】本発明に係るほう素自動分析装置で採用するこ
とのできるサンプリング装置の一実施の形態についてそ
の概要を説明する概念図である。
とのできるサンプリング装置の一実施の形態についてそ
の概要を説明する概念図である。
【図３】本発明に係るほう素自動分析装置で採用するこ
とのできるデータ処理装置の一実施の形態についてその
概要を説明する概念図である。
とのできるデータ処理装置の一実施の形態についてその
概要を説明する概念図である。
【図４】１０ｍｇ／ｌの標準液により行ったほう素イオ
ンを含むクロマトグラムの一例を示すグラフである。
ンを含むクロマトグラムの一例を示すグラフである。
【図５】本発明による脱硫排水の１／１０希釈液のクロ
マトグラムの一例を示すグラフである。
マトグラムの一例を示すグラフである。
【図６】従来の方法による脱硫排水原液のクロマトグラ
ムの一例を示すグラフである。
ムの一例を示すグラフである。
１００ サンプリング装置
１０２ 排水タンク
１０４ フィルタ
１０６ ポンプ
１０８ 純水タンク
１１０ 純水ポンプ
２００ イオンクロマトグラフ装置
２０２ 6方バルブ
２０４ サンプル計量管
２０６ 分離カラム
２０８ 溶離液槽
２１０ 検出器
２１２ サプレッサ
３００ データ処理装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０１Ｎ 30/04 Ｇ０１Ｎ 30/04 Ｐ
30/06 30/06 Ｃ
30/86 30/86 Ｇ
30/88 30/88 Ｈ
35/00 35/00 Ａ
(72)発明者 岩下 浩一郎
東京都千代田区丸の内二丁目５番１号 三
菱重工業株式会社内
(72)発明者 沖野 進
東京都千代田区丸の内二丁目５番１号 三
菱重工業株式会社内
(72)発明者 吉岡 篤
東京都千代田区丸の内二丁目５番１号 三
菱重工業株式会社内
Ｆターム(参考） 2G052 AA06 AB01 AB22 AC23 AD09
AD29 AD46 BA14 CA02 CA03
CA04 CA12 CA36 EA03 ED07
FD01 GA27
2G058 AA01 BA01 BA07 DA09 EB13
EC08 GA14 GD00 GD02
Claims (5)
- 【請求項１】 試料を採取して該試料を適切な倍率に希
釈するためのサンプリング装置と、 イオンクロマトグラフ分析によりほう素及びＳＯ4 2-イ
オンを分析するイオンクロマトグラフ装置と、 サンプリング時間及び希釈率を制御し、内蔵するデータ
処理ソフトウエアにより装置の自動校正及びデータ処理
をするデータ処理装置とを含み、 ほう素を連続的かつ自動的に分析するほう素自動分析装
置。 - 【請求項２】 試料の自動ろ過装置をさらに含むことを
特徴とする請求項１記載のほう素自動分析装置。 - 【請求項３】 試料を採取する工程と、該試料を純水で
希釈する工程と、 イオンクロマトグラフ分析によりほう素及びＳＯ4 2-イ
オンを分析する工程と、 データ処理装置によりサンプリング時間及び希釈率を制
御する工程と、 上記データ処理装置が内蔵するデータ処理ソフトウエア
により、装置の自動校正及びデータ処理をする工程とを
含み、 ほう素を連続的かつ自動的に分析するほう素自動分析方
法。 - 【請求項４】 測定されたＳＯ4 2-イオン濃度に応じ
て、試料の希釈倍率を上記データ処理装置により制御
し、かかる制御信号に応じて試料を希釈するようにした
請求項３のほう素自動分析方法。 - 【請求項５】 ほう素及びＳＯ4 2-イオンの標準試料に
基づいて、上記サンプリング時間を設定するようにした
ことを特徴とする請求項３又は４のほう素自動分析方
法。
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| JP2001360186A JP3806343B2 (ja) | 2001-11-27 | 2001-11-27 | ほう素自動分析装置及び方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011163819A (ja) * | 2010-02-05 | 2011-08-25 | Sharp Corp | ガス分析装置 |
| CN103969388A (zh) * | 2014-05-13 | 2014-08-06 | 力合科技（湖南）股份有限公司 | 高氯酸根在线监测系统 |
| CN107610790A (zh) * | 2017-08-17 | 2018-01-19 | 广西防城港核电有限公司 | 一种用于核电站硼表标定的中子计数率采集装置及方法 |
| CN113390675A (zh) * | 2021-06-05 | 2021-09-14 | 安徽科力德能源环境科技有限公司 | 一种湿法烟气脱硫浆液氧化分析仪专用取样装置 |
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-
2001
- 2001-11-27 JP JP2001360186A patent/JP3806343B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN103969388B (zh) * | 2014-05-13 | 2015-12-16 | 力合科技（湖南）股份有限公司 | 高氯酸根在线监测系统 |
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