JP2003156829A - マスクおよびその製造方法 - Google Patents
マスクおよびその製造方法Info
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 所望のマスクパターンを有するマスクを効率
良く製造する。 【解決手段】 マスクの製造方法は、第１の所望マスク
パターンを第１のマスクパターン部１と第２のマスクパ
ターン部２とに分け、それぞれ別個に描画、現像および
エッチングを行ない、第１のマスクパターン部１を有す
る第１のマスクと第２のマスクパターン部２を有する第
２のマスクとを別個に作成するマスク作成工程と、上記
第１のマスクと上記第２のマスクとを、第１のマスクパ
ターン部１と第２のマスクパターン部２とが上面同士お
よび下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶように組み合
わさって上記第１の所望マスクパターンをなすように重
ね合わせる第１重ね合わせ工程とを含む。
良く製造する。 【解決手段】 マスクの製造方法は、第１の所望マスク
パターンを第１のマスクパターン部１と第２のマスクパ
ターン部２とに分け、それぞれ別個に描画、現像および
エッチングを行ない、第１のマスクパターン部１を有す
る第１のマスクと第２のマスクパターン部２を有する第
２のマスクとを別個に作成するマスク作成工程と、上記
第１のマスクと上記第２のマスクとを、第１のマスクパ
ターン部１と第２のマスクパターン部２とが上面同士お
よび下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶように組み合
わさって上記第１の所望マスクパターンをなすように重
ね合わせる第１重ね合わせ工程とを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置などの
製造工程において使用されるマスクに関するものであ
る。
製造工程において使用されるマスクに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体装置などの製造工程におい
て基板上に一定のパターンを付与したい場合、マスクが
用いられる。マスクを製造するには、マスク作成システ
ムにおいて、マスク作成ジョブを実行する。このマスク
作成ジョブの内容としては、従来は、図８に示すような
方法によっていた。すなわち、マスクパターンの情報の
入力を受け付け、この情報に基づき描画Ｓ１を行なう。
次に現像Ｓ２を行なう。次にエッチングＳ３を行なう。
次に検査Ｓ４を行なう。こうして検査Ｓ４に合格したも
のが、完成したマスクとなる。
て基板上に一定のパターンを付与したい場合、マスクが
用いられる。マスクを製造するには、マスク作成システ
ムにおいて、マスク作成ジョブを実行する。このマスク
作成ジョブの内容としては、従来は、図８に示すような
方法によっていた。すなわち、マスクパターンの情報の
入力を受け付け、この情報に基づき描画Ｓ１を行なう。
次に現像Ｓ２を行なう。次にエッチングＳ３を行なう。
次に検査Ｓ４を行なう。こうして検査Ｓ４に合格したも
のが、完成したマスクとなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体装置の構
造の微細化、高密度化に伴って、必要とされるマスクも
高精度化、微細化の傾向にある。さらに、マスクパター
ンの製造時に、一定区画内のパターンを一定倍率で縮小
してはめ込むシュリンクといった手法や、実際に到達す
る光量の差を考慮して太さなどを補正する光近接補正
（optical proximity correction：ＯＰＣ）などの手法
も行なわれるようになり、マスクパターンの製造は複雑
化している。１つのマスクパターン内で汎用の部分と特
有の部分とが混在したり、あるいは、高精度を要する部
分とさほどの高精度を要しない部分とが混在したりする
場合もあるが、従来のマスク作成ジョブによって一括し
て行なっていては、描画に時間がかかりすぎるといった
問題が生じていた。
造の微細化、高密度化に伴って、必要とされるマスクも
高精度化、微細化の傾向にある。さらに、マスクパター
ンの製造時に、一定区画内のパターンを一定倍率で縮小
してはめ込むシュリンクといった手法や、実際に到達す
る光量の差を考慮して太さなどを補正する光近接補正
（optical proximity correction：ＯＰＣ）などの手法
も行なわれるようになり、マスクパターンの製造は複雑
化している。１つのマスクパターン内で汎用の部分と特
有の部分とが混在したり、あるいは、高精度を要する部
分とさほどの高精度を要しない部分とが混在したりする
場合もあるが、従来のマスク作成ジョブによって一括し
て行なっていては、描画に時間がかかりすぎるといった
問題が生じていた。
【０００４】そこで、本発明では、所望のマスクパター
ンを有するマスクを製造するのに、効率良く行なえる、
マスクの製造方法を提供することを目的とする。
ンを有するマスクを製造するのに、効率良く行なえる、
マスクの製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に基づくマスクの製造方法は、第１の所望マ
スクパターンを第１のマスクパターン部と第２のマスク
パターン部とに分け、それぞれ別個に描画、現像および
エッチングを行ない、上記第１のマスクパターン部を有
する第１のマスクと上記第２のマスクパターン部を有す
る第２のマスクとを別個に作成するマスク作成工程と、
上記第１のマスクと上記第２のマスクとを、上記第１の
マスクパターン部と上記第２のマスクパターン部とが上
面同士および下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶよう
に組み合わさって上記第１の所望マスクパターンをなす
ように重ね合わせる第１重ね合わせ工程とを含む。この
方法を採用することにより、所望マスクパターンの中の
各マスクパターン部の抱える事情の相違に応じて分割し
て別個にマスクを作成して、後でこれらのマスクを組み
合わせることで所望のマスクパターンを得ることができ
るので、各マスクパターン部に応じた無駄のない処理を
適切に行なうことができ、効率良く作業を行なうことが
できる。
め、本発明に基づくマスクの製造方法は、第１の所望マ
スクパターンを第１のマスクパターン部と第２のマスク
パターン部とに分け、それぞれ別個に描画、現像および
エッチングを行ない、上記第１のマスクパターン部を有
する第１のマスクと上記第２のマスクパターン部を有す
る第２のマスクとを別個に作成するマスク作成工程と、
上記第１のマスクと上記第２のマスクとを、上記第１の
マスクパターン部と上記第２のマスクパターン部とが上
面同士および下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶよう
に組み合わさって上記第１の所望マスクパターンをなす
ように重ね合わせる第１重ね合わせ工程とを含む。この
方法を採用することにより、所望マスクパターンの中の
各マスクパターン部の抱える事情の相違に応じて分割し
て別個にマスクを作成して、後でこれらのマスクを組み
合わせることで所望のマスクパターンを得ることができ
るので、各マスクパターン部に応じた無駄のない処理を
適切に行なうことができ、効率良く作業を行なうことが
できる。
【０００６】上記発明において好ましくは、上記第１の
マスクパターン部は、第１の精度水準を要し、上記第２
のマスクパターン部は、上記第１の精度水準より低い第
２の精度水準を要する。この方法を採用することによ
り、要求される精度の高低によって分割することとなる
ので、それぞれに応じた精度で描画などの処理を行なう
ことができる。したがって、高精度を要しない部分には
無駄に時間かけることなく、必要に応じたレベルの精度
で迅速に処理することができ、逆に高精度を要する部分
には必要に応じたレベルで高精度な処理を施すことがで
きる。
マスクパターン部は、第１の精度水準を要し、上記第２
のマスクパターン部は、上記第１の精度水準より低い第
２の精度水準を要する。この方法を採用することによ
り、要求される精度の高低によって分割することとなる
ので、それぞれに応じた精度で描画などの処理を行なう
ことができる。したがって、高精度を要しない部分には
無駄に時間かけることなく、必要に応じたレベルの精度
で迅速に処理することができ、逆に高精度を要する部分
には必要に応じたレベルで高精度な処理を施すことがで
きる。
【０００７】上記発明において好ましくは、上記第１の
マスクパターン部は、このマスクに特有のものであり、
上記第２のマスクパターン部は、汎用的なものである。
この方法を採用することにより、汎用的な部分のマスク
についてはジョブを固定したまま作り続けるか、あるい
は作りおきしておくことができる。したがって、複数種
類のマスクパターンを目的とする場合にも生産効率を向
上させることができる。
マスクパターン部は、このマスクに特有のものであり、
上記第２のマスクパターン部は、汎用的なものである。
この方法を採用することにより、汎用的な部分のマスク
についてはジョブを固定したまま作り続けるか、あるい
は作りおきしておくことができる。したがって、複数種
類のマスクパターンを目的とする場合にも生産効率を向
上させることができる。
【０００８】上記発明において好ましくは、さらに上記
第２のマスクパターン部と同一のマスクパターンを含む
第２の所望マスクパターンを得るために、さらに別個に
描画、現像およびエッチングを行なって第３のマスクパ
ターン部を有する第３のマスクを作成する第３マスクパ
ターン作成工程と、上記第２のマスクと上記第３のマス
クとを、上記第２のマスクパターン部と上記第３のマス
クパターン部とが上面同士および下面同士がそれぞれ同
一平面上に並ぶように組み合わさって上記第２の所望の
マスクパターンをなすように重ね合わせる第２重ね合わ
せ工程とを含む。この方法を採用することにより、共通
の第２のマスクは作りおきをすることができ、第２のマ
スクを第１のマスクと組み合わせるか第３のマスクと組
み合わせるかを切り換えるだけで２通りの所望のマスク
パターンを必要に応じて得ることができる。したがっ
て、生産効率を向上させることができる。
第２のマスクパターン部と同一のマスクパターンを含む
第２の所望マスクパターンを得るために、さらに別個に
描画、現像およびエッチングを行なって第３のマスクパ
ターン部を有する第３のマスクを作成する第３マスクパ
ターン作成工程と、上記第２のマスクと上記第３のマス
クとを、上記第２のマスクパターン部と上記第３のマス
クパターン部とが上面同士および下面同士がそれぞれ同
一平面上に並ぶように組み合わさって上記第２の所望の
マスクパターンをなすように重ね合わせる第２重ね合わ
せ工程とを含む。この方法を採用することにより、共通
の第２のマスクは作りおきをすることができ、第２のマ
スクを第１のマスクと組み合わせるか第３のマスクと組
み合わせるかを切り換えるだけで２通りの所望のマスク
パターンを必要に応じて得ることができる。したがっ
て、生産効率を向上させることができる。
【０００９】上記発明において好ましくは、上記第１の
重ね合わせ工程において、上記第１のマスクと上記第２
のマスクとの間に隙間が生じないように充填材を充填す
る。この方法を採用することにより、不所望な間隙の発
生や光の屈折率の問題を回避できる。
重ね合わせ工程において、上記第１のマスクと上記第２
のマスクとの間に隙間が生じないように充填材を充填す
る。この方法を採用することにより、不所望な間隙の発
生や光の屈折率の問題を回避できる。
【００１０】上記目的を達成するため、本発明に基づく
マスクは、互いに別個に作成された第１のマスクパター
ンを有する第１のマスクと第２のマスクパターンを有す
る第２のマスクとを備え、上記第１のマスクパターンと
上記第２のマスクパターンとが上面同士および下面同士
がそれぞれ同一平面上に並ぶように組み合わさるように
上記第１のマスクと上記第２のマスクとが重ね合わせら
れている。この構成を採用することにより、第１，第２
のマスクパターンを別個に作成して組み合わせることで
得ることのできる構造となるため、効率良く製造するこ
とができる。
マスクは、互いに別個に作成された第１のマスクパター
ンを有する第１のマスクと第２のマスクパターンを有す
る第２のマスクとを備え、上記第１のマスクパターンと
上記第２のマスクパターンとが上面同士および下面同士
がそれぞれ同一平面上に並ぶように組み合わさるように
上記第１のマスクと上記第２のマスクとが重ね合わせら
れている。この構成を採用することにより、第１，第２
のマスクパターンを別個に作成して組み合わせることで
得ることのできる構造となるため、効率良く製造するこ
とができる。
【００１１】上記発明において好ましくは、上記第１の
マスクと上記第２のマスクとの間に充填材が充填されて
いる。この構成を採用することにより、不所望な間隙の
発生や光の屈折率の問題を回避できる。
マスクと上記第２のマスクとの間に充填材が充填されて
いる。この構成を採用することにより、不所望な間隙の
発生や光の屈折率の問題を回避できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）
（製造方法）図１〜図７を参照して、本発明に基づく実
施の形態１におけるマスクおよびその製造方法について
説明する。
施の形態１におけるマスクおよびその製造方法について
説明する。
【００１３】本実施の形態では、マスク作成ジョブのフ
ローチャートは、図１に示すようなものになる。すなわ
ち、所望のマスクパターンは、最初に第１のマスクパタ
ーン部と第２のマスクパターン部とに分割される。この
分割は、所望のマスクパターンの領域の中から、互いに
重複する箇所がなく、かつ、当初の所望のマスクパター
ンに比べて漏れのないように完全に２つに切り分けるこ
とによって行なわれる。したがって、分割した各マスク
パターン部を組み合わせれば、再び当初の所望のマスク
パターンを得ることができる。
ローチャートは、図１に示すようなものになる。すなわ
ち、所望のマスクパターンは、最初に第１のマスクパタ
ーン部と第２のマスクパターン部とに分割される。この
分割は、所望のマスクパターンの領域の中から、互いに
重複する箇所がなく、かつ、当初の所望のマスクパター
ンに比べて漏れのないように完全に２つに切り分けるこ
とによって行なわれる。したがって、分割した各マスク
パターン部を組み合わせれば、再び当初の所望のマスク
パターンを得ることができる。
【００１４】たとえば、図２に示すマスクを製作したい
場合、このマスクパターンは、図２中に符号で示すよう
に第１のマスクパターン部１と第２のマスクパターン部
２とに分割される。なお、図２においては、各マスクパ
ターン部の内側の領域は単純にハッチングで塗りつぶし
てあるが、これは図示の便宜上簡略化したものであっ
て、実際にはハッチングで塗りつぶされた各領域にはよ
り詳しく微細な各種パターンが配置されていることを意
味する。
場合、このマスクパターンは、図２中に符号で示すよう
に第１のマスクパターン部１と第２のマスクパターン部
２とに分割される。なお、図２においては、各マスクパ
ターン部の内側の領域は単純にハッチングで塗りつぶし
てあるが、これは図示の便宜上簡略化したものであっ
て、実際にはハッチングで塗りつぶされた各領域にはよ
り詳しく微細な各種パターンが配置されていることを意
味する。
【００１５】このマスクパターン部への分割は、たとえ
ば、所望のマスクパターンの中の各部分による、汎用部
分か特有部分かといった次元で分類して行なうことが好
ましい。ほかに、必要とする精度の高低、あるいは、微
細なパターンを含むか否かといった次元で分類して分割
してもよい。
ば、所望のマスクパターンの中の各部分による、汎用部
分か特有部分かといった次元で分類して行なうことが好
ましい。ほかに、必要とする精度の高低、あるいは、微
細なパターンを含むか否かといった次元で分類して分割
してもよい。
【００１６】本実施の形態におけるマスクの製造方法に
従うマスク作成ジョブにおいては、所望のマスクパター
ンを分割した結果、所望のマスクパターンの情報は、第
１のマスクパターン部１の情報と、第２のマスクパター
ン部２の情報とに分かれてそれぞれ別のジョブとして処
理される。第１のマスクパターン部１の情報を受け取っ
て行なう第１のマスク作成ジョブＳ１０は、第１のマス
クパターン部１だけについて描画Ｓ１１を行ない、現像
Ｓ１２、エッチングＳ１３、そして検査Ｓ１４を順に行
なう。その結果、図３に示すように、第１のマスクパタ
ーン部１を有する第１のマスク１１が得られる。
従うマスク作成ジョブにおいては、所望のマスクパター
ンを分割した結果、所望のマスクパターンの情報は、第
１のマスクパターン部１の情報と、第２のマスクパター
ン部２の情報とに分かれてそれぞれ別のジョブとして処
理される。第１のマスクパターン部１の情報を受け取っ
て行なう第１のマスク作成ジョブＳ１０は、第１のマス
クパターン部１だけについて描画Ｓ１１を行ない、現像
Ｓ１２、エッチングＳ１３、そして検査Ｓ１４を順に行
なう。その結果、図３に示すように、第１のマスクパタ
ーン部１を有する第１のマスク１１が得られる。
【００１７】一方、第２のマスクパターン部２の情報を
受け取って行なう第２のマスク作成ジョブＳ２０は、第
２のマスクパターン部２だけについて描画Ｓ２１を行な
い、現像Ｓ２２、エッチングＳ２３、そして検査Ｓ２４
を順に行なう。その結果、図４に示すように、第２のマ
スクパターン部２を有する第２のマスク１２が得られ
る。第１のマスク１１および第２のマスク１２は、いず
れも透明な基板の片側の面にマスクパターンを形成した
ものである。
受け取って行なう第２のマスク作成ジョブＳ２０は、第
２のマスクパターン部２だけについて描画Ｓ２１を行な
い、現像Ｓ２２、エッチングＳ２３、そして検査Ｓ２４
を順に行なう。その結果、図４に示すように、第２のマ
スクパターン部２を有する第２のマスク１２が得られ
る。第１のマスク１１および第２のマスク１２は、いず
れも透明な基板の片側の面にマスクパターンを形成した
ものである。
【００１８】次に、第１のマスク１１と第２のマスク１
２とを、図５に示すように、マスクパターンが形成され
た面を内側にして、貼り合わせる。その結果、図６に示
すように、マスク１１とマスク１２とを張り合わせた構
造体であるマスク１０においては、第１のマスクパター
ン部１と第２のマスクパターン部２とが互いに組み合わ
されて、第１のマスクパターン部１と第２のマスクパタ
ーン部２とは、上面同士および下面同士がそれぞれ同一
平面上に並ぶ関係となる。その結果、異なるマスクパタ
ーン部同士が互いに重複することなく、互いの抜けてい
る部分を補完し合って組み合わさっている。
２とを、図５に示すように、マスクパターンが形成され
た面を内側にして、貼り合わせる。その結果、図６に示
すように、マスク１１とマスク１２とを張り合わせた構
造体であるマスク１０においては、第１のマスクパター
ン部１と第２のマスクパターン部２とが互いに組み合わ
されて、第１のマスクパターン部１と第２のマスクパタ
ーン部２とは、上面同士および下面同士がそれぞれ同一
平面上に並ぶ関係となる。その結果、異なるマスクパタ
ーン部同士が互いに重複することなく、互いの抜けてい
る部分を補完し合って組み合わさっている。
【００１９】さらに、図７に示すように、マスク１１と
マスク１２との間隙に透明な充填材１５を充填すること
としてもよい。
マスク１２との間隙に透明な充填材１５を充填すること
としてもよい。
【００２０】（作用・効果）本実施の形態におけるマス
クの製造方法では、所望のマスクパターンを２つに分割
して描画などの処理をそれぞれ別個に行なうので、要求
される精度の高低によって分割すれば、それぞれに応じ
た精度で描画などの処理を行なうことができる。したが
って、高精度を要しない部分には無駄に時間かけること
なく、必要に応じたレベルの精度で迅速に処理すること
ができ、逆に高精度を要する部分には必要に応じたレベ
ルで高精度な処理を施すことができる。
クの製造方法では、所望のマスクパターンを２つに分割
して描画などの処理をそれぞれ別個に行なうので、要求
される精度の高低によって分割すれば、それぞれに応じ
た精度で描画などの処理を行なうことができる。したが
って、高精度を要しない部分には無駄に時間かけること
なく、必要に応じたレベルの精度で迅速に処理すること
ができ、逆に高精度を要する部分には必要に応じたレベ
ルで高精度な処理を施すことができる。
【００２１】また、微細なパターンを含むかどうかとい
う観点で分割を行なった場合、微細なマスクパターン部
は、微細でないマスクパターン部と別個独立して描画な
どされることとなるので、要求に応じて、シュリンクや
ＯＰＣといった手法を施すことができ、これらの手法は
当初の所望マスクパターンの全体ではなく、必要なマス
クパターン部にのみ施されることとなるので、効率良く
作業を行なうことができる。
う観点で分割を行なった場合、微細なマスクパターン部
は、微細でないマスクパターン部と別個独立して描画な
どされることとなるので、要求に応じて、シュリンクや
ＯＰＣといった手法を施すことができ、これらの手法は
当初の所望マスクパターンの全体ではなく、必要なマス
クパターン部にのみ施されることとなるので、効率良く
作業を行なうことができる。
【００２２】なお、図７に示すように、２枚のマスクの
貼り合わせ時に、第１のマスクと第２のマスクとの間に
隙間が生じないように充填材１５を充填すれば、不所望
な間隙の発生や光の屈折率の問題を回避できる。充填材
１５としては透明なものが望ましく、たとえば、シリコ
ンゴムなどの液体を用いることができる。
貼り合わせ時に、第１のマスクと第２のマスクとの間に
隙間が生じないように充填材１５を充填すれば、不所望
な間隙の発生や光の屈折率の問題を回避できる。充填材
１５としては透明なものが望ましく、たとえば、シリコ
ンゴムなどの液体を用いることができる。
【００２３】（実施の形態２）
（製造方法）本発明に基づく実施の形態２におけるマス
クの製造方法について説明する。この製造方法において
は、所望のマスクパターンは、２通りあり、これを第１
の所望マスクパターンと第２の所望マスクパターンと呼
ぶ。第１の所望マスクパターンを、第１の所望マスクパ
ターンに特有の部分である第１のマスクパターン部と、
第２の所望マスクパターンと共通化できる部分である第
２のマスクパターン部とに分割し、実施の形態１で説明
した製造方法に従って、製作する。こうして、第１の所
望マスクパターンを備えたマスクを得る。このとき第２
のマスクパターン部を備えるマスク、すなわち第２のマ
スクを余分に製作しておく。
クの製造方法について説明する。この製造方法において
は、所望のマスクパターンは、２通りあり、これを第１
の所望マスクパターンと第２の所望マスクパターンと呼
ぶ。第１の所望マスクパターンを、第１の所望マスクパ
ターンに特有の部分である第１のマスクパターン部と、
第２の所望マスクパターンと共通化できる部分である第
２のマスクパターン部とに分割し、実施の形態１で説明
した製造方法に従って、製作する。こうして、第１の所
望マスクパターンを備えたマスクを得る。このとき第２
のマスクパターン部を備えるマスク、すなわち第２のマ
スクを余分に製作しておく。
【００２４】第２の所望マスクパターンのうち、先ほど
の第２のマスクパターン部で網羅しきれない部分を第３
のマスクパターン部とし、マスク作成ジョブを実行し
て、第３のマスクパターン部を備えるマスク、すなわち
第３のマスクを製作する。先ほど余分に製作しておいた
第２のマスクと、新たに製作した第３のマスクとを組み
合わせて、第２の所望マスクパターンを備えるマスクを
得ることができる。
の第２のマスクパターン部で網羅しきれない部分を第３
のマスクパターン部とし、マスク作成ジョブを実行し
て、第３のマスクパターン部を備えるマスク、すなわち
第３のマスクを製作する。先ほど余分に製作しておいた
第２のマスクと、新たに製作した第３のマスクとを組み
合わせて、第２の所望マスクパターンを備えるマスクを
得ることができる。
【００２５】（作用・効果）デバイスの種類に応じて所
望のマスクパターンが複数ある場合、本実施の形態のよ
うに、各デバイスに共通の汎用部分か、各デバイスごと
に詳細が決められる特有部分かという次元で分割を行な
うことによって、汎用部分のマスクについてはジョブを
固定したまま作り続けるか、あるいは作りおきしておく
ことができる。本実施の形態における第２のマスクのよ
うに汎用部分として製作されたマスクを、本実施の形態
における第３のマスクのように必要に応じて製造される
特有部分のマスクと組み合わせれば、所望のマスクが得
られるので、複数種類のマスクパターンを目的とする場
合にも生産効率を向上させることができる。
望のマスクパターンが複数ある場合、本実施の形態のよ
うに、各デバイスに共通の汎用部分か、各デバイスごと
に詳細が決められる特有部分かという次元で分割を行な
うことによって、汎用部分のマスクについてはジョブを
固定したまま作り続けるか、あるいは作りおきしておく
ことができる。本実施の形態における第２のマスクのよ
うに汎用部分として製作されたマスクを、本実施の形態
における第３のマスクのように必要に応じて製造される
特有部分のマスクと組み合わせれば、所望のマスクが得
られるので、複数種類のマスクパターンを目的とする場
合にも生産効率を向上させることができる。
【００２６】ここでは、２通りの所望のマスクパターン
を得ようとする場合を例に挙げて説明したが、より多く
の種類のマスクパターンを得ようとする場合にも、それ
らのマスクパターンの中から共通の部分を抽出するなど
して、上述の例の方法を適用することができる。より多
くの種類のマスクパターンに対して、適宜共通の部分を
汎用部分として別個にマスクを製作することで、本発明
は生産効率向上により大きく貢献することができる。
を得ようとする場合を例に挙げて説明したが、より多く
の種類のマスクパターンを得ようとする場合にも、それ
らのマスクパターンの中から共通の部分を抽出するなど
して、上述の例の方法を適用することができる。より多
くの種類のマスクパターンに対して、適宜共通の部分を
汎用部分として別個にマスクを製作することで、本発明
は生産効率向上により大きく貢献することができる。
【００２７】なお、今回開示した上記実施の形態はすべ
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の
範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって
示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での
すべての変更を含むものである。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、所望マスクパターンの
中の各マスクパターン部の抱える精度や汎用性といった
事情の相違に応じて分割して別個にマスクを作成して、
後でこれらのマスクを組み合わせることで所望のマスク
パターンを得ることができるので、各マスクパターン部
に応じた無駄のない処理を適切に行なうことができ、効
率良く作業を行なうことができる。
中の各マスクパターン部の抱える精度や汎用性といった
事情の相違に応じて分割して別個にマスクを作成して、
後でこれらのマスクを組み合わせることで所望のマスク
パターンを得ることができるので、各マスクパターン部
に応じた無駄のない処理を適切に行なうことができ、効
率良く作業を行なうことができる。
【図１】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の製造方法のフローチャートである。
の製造方法のフローチャートである。
【図２】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の製造方法で行なうマスクパターンの分割の例を示す説
明図である。
の製造方法で行なうマスクパターンの分割の例を示す説
明図である。
【図３】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の製造方法で製作される第１のマスクの平面図である。
の製造方法で製作される第１のマスクの平面図である。
【図４】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の製造方法で製作される第２のマスクの平面図である。
の製造方法で製作される第２のマスクの平面図である。
【図５】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の製造方法で行なわれる貼り合わせ工程の説明図であ
る。
の製造方法で行なわれる貼り合わせ工程の説明図であ
る。
【図６】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の一つの例の断面図である。
の一つの例の断面図である。
【図７】 本発明に基づく実施の形態１におけるマスク
の他の例の断面図である。
の他の例の断面図である。
【図８】 従来技術に基づくマスクの製造方法のフロー
チャートである。
チャートである。
１ 第１のマスクパターン部、２ 第２のマスクパター
ン部、１０ マスク、１１ 第１のマスク、１２ 第２
のマスク、１５ 充填材。
ン部、１０ マスク、１１ 第１のマスク、１２ 第２
のマスク、１５ 充填材。
Claims (7)
- 【請求項１】 第１の所望マスクパターンを第１のマス
クパターン部と第２のマスクパターン部とに分け、それ
ぞれ別個に描画、現像およびエッチングを行ない、前記
第１のマスクパターン部を有する第１のマスクと前記第
２のマスクパターン部を有する第２のマスクとを別個に
作成するマスク作成工程と、 前記第１のマスクと前記第２のマスクとを、前記第１の
マスクパターン部と前記第２のマスクパターン部とが上
面同士および下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶよう
に組み合わさって前記第１の所望マスクパターンをなす
ように重ね合わせる第１重ね合わせ工程とを含む、マス
クの製造方法。 - 【請求項２】 前記第１のマスクパターン部は、第１の
精度水準を要し、前記第２のマスクパターン部は、前記
第１の精度水準より低い第２の精度水準を要する、請求
項１に記載のマスクの製造方法。 - 【請求項３】 前記第１のマスクパターン部は、このマ
スクに特有のものであり、前記第２のマスクパターン部
は、汎用的なものである、請求項１または２に記載のマ
スクの製造方法。 - 【請求項４】 さらに前記第２のマスクパターン部と同
一のマスクパターンを含む第２の所望マスクパターンを
得るために、 さらに別個に描画、現像およびエッチングを行なって第
３のマスクパターン部を有する第３のマスクを作成する
第３マスクパターン作成工程と、 前記第２のマスクと前記第３のマスクとを、前記第２の
マスクパターン部と前記第３のマスクパターン部とが上
面同士および下面同士がそれぞれ同一平面上に並ぶよう
に組み合わさって前記第２の所望のマスクパターンをな
すように重ね合わせる第２重ね合わせ工程とを含む、請
求項１から３のいずれかに記載のマスクの製造方法。 - 【請求項５】 前記第１の重ね合わせ工程において、前
記第１のマスクと前記第２のマスクとの間に隙間が生じ
ないように充填材を充填する、請求項１から４のいずれ
かに記載のマスクの製造方法。 - 【請求項６】 互いに別個に作成された第１のマスクパ
ターンを有する第１のマスクと第２のマスクパターンを
有する第２のマスクとを備え、前記第１のマスクパター
ンと前記第２のマスクパターンとが上面同士および下面
同士がそれぞれ同一平面上に並ぶように組み合わさるよ
うに前記第１のマスクと前記第２のマスクとが重ね合わ
せられているマスク。 - 【請求項７】 前記第１のマスクと前記第２のマスクと
の間に充填材が充填されている、請求項６に記載のマス
ク。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001353222A JP2003156829A (ja) | 2001-11-19 | 2001-11-19 | マスクおよびその製造方法 |
| US10/145,153 US6767675B2 (en) | 2001-11-19 | 2002-05-15 | Mask and method of manufacturing the same |
| DE10224774A DE10224774A1 (de) | 2001-11-19 | 2002-06-04 | Maske und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| TW091111948A TW579455B (en) | 2001-11-19 | 2002-06-04 | Mask and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001353222A JP2003156829A (ja) | 2001-11-19 | 2001-11-19 | マスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003156829A true JP2003156829A (ja) | 2003-05-30 |
Family
ID=19165278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001353222A Withdrawn JP2003156829A (ja) | 2001-11-19 | 2001-11-19 | マスクおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP2003156829A (ja) |
| DE (1) | DE10224774A1 (ja) |
| TW (1) | TW579455B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7527900B2 (en) * | 2005-11-10 | 2009-05-05 | United Microelectronics Corp. | Reticle and optical proximity correction method |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5858580A (en) * | 1997-09-17 | 1999-01-12 | Numerical Technologies, Inc. | Phase shifting circuit manufacture method and apparatus |
| TW426817B (en) | 1999-07-01 | 2001-03-21 | United Microelectronics Corp | The optical proximity correction used in mixed mask |
| TW428122B (en) | 1999-10-08 | 2001-04-01 | United Microelectronics Corp | The integrated phase-shift and binary photomask and the manufacturing method of the same |
| JP2001066757A (ja) | 2000-08-07 | 2001-03-16 | Seiko Epson Corp | 露光方法 |
-
2001
- 2001-11-19 JP JP2001353222A patent/JP2003156829A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-05-15 US US10/145,153 patent/US6767675B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-04 DE DE10224774A patent/DE10224774A1/de not_active Withdrawn
- 2002-06-04 TW TW091111948A patent/TW579455B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW579455B (en) | 2004-03-11 |
| DE10224774A1 (de) | 2003-06-05 |
| US6767675B2 (en) | 2004-07-27 |
| US20030096174A1 (en) | 2003-05-22 |
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