JP2003156616A - Color filter and method for manufacturing the same, liquid crystal device and electronic appliance - Google Patents

Color filter and method for manufacturing the same, liquid crystal device and electronic appliance

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JP2003156616A
JP2003156616A JP2001354723A JP2001354723A JP2003156616A JP 2003156616 A JP2003156616 A JP 2003156616A JP 2001354723 A JP2001354723 A JP 2001354723A JP 2001354723 A JP2001354723 A JP 2001354723A JP 2003156616 A JP2003156616 A JP 2003156616A
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JP
Japan
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protective film
color filter
coating
base material
substrate
Prior art date
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Application number
JP2001354723A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuaki Sakurada
和昭 桜田
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve flatness of a protective film surface of a color filter and to provide a method for manufacturing the color filter excellent in the flatness of the protective film surface at a low cost. SOLUTION: The method for manufacturing the color filter 10, comprising coloring layers 15r, 15g, 15b formed on a substrate 11a and the protective film 16 formed on the coloring layers 15r, 15g, 15b, includes: a coloring layer forming step to form the coloring layers 15r, 15g, 15b on a substrate base material 11 for cutting out a plurality of the substrates 11a, a step to apply a coating liquid for the protective film on a full surface of the substrate base material 11 of the side whereon the coloring layers 15r, 15g, 15b are formed with an inkjet method, a hardening step to harden the coating liquid for the protective film applied on the substrate base material 11 and to form the protective film 16 and a cutting step to cut the substrate base material 11 with the protective film 16 formed thereon for the individual color filters 10.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタお
よびその製造方法ならびに液晶装置および電子機器に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter, a method for manufacturing the same, a liquid crystal device and electronic equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ノートパソコン、携帯電話機、電
子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段とし
て液晶装置が広く使用されている。最近では、液晶層を
挟んで対向する一対の基板のうち、一方の基板にカラー
フィルタを配置してフルカラー表示を可能としたカラー
液晶装置が主流になっている。カラーフィルタは、例え
ば図14に示すように、ガラスやプラスチック等により
形成された透明基板501の表面上に、R(赤)、G
(緑)、B(青)の着色層502r,502g,502
bが形成され、その上に必要に応じて保護膜503が形
成されている。3色の着色層502r,502g,50
2bはそれぞれ画素を構成するもので、これらはストラ
イプ配列、デルタ配列、またはモザイク配列などの配列
で並べられている。また、画素間には遮光層からなるブ
ラックマトリクス504が設けられている。さらに、保
護膜503上にITO膜などからなる透明電極層505
が設けられる。保護膜503は、着色層502r,50
2g,502bが形成された状態での表面段差を埋めて
平坦にする、透明電極層505を形成するプロセスにお
いて着色層502r,502g,502bの熱劣化を防
ぐなどの目的で形成される。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal devices have been widely used as means for displaying information in electronic devices such as notebook computers, mobile phones and electronic organizers. Recently, a color liquid crystal device in which a color filter is arranged on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween to enable full-color display has become mainstream. For example, as shown in FIG. 14, the color filter has R (red) and G on the surface of the transparent substrate 501 formed of glass or plastic.
(Green), B (blue) colored layers 502r, 502g, 502
b is formed, and a protective film 503 is formed thereon as needed. Three colored layers 502r, 502g, 50
Each of the pixels 2b constitutes a pixel, which are arranged in an array such as a stripe array, a delta array, or a mosaic array. Further, a black matrix 504 including a light shielding layer is provided between the pixels. Furthermore, a transparent electrode layer 505 made of an ITO film or the like is formed on the protective film 503.
Is provided. The protective film 503 is formed by the colored layers 502r, 50.
2g and 502b are formed for the purpose of filling the surface step and flattening the state, and preventing thermal deterioration of the colored layers 502r, 502g, and 502b in the process of forming the transparent electrode layer 505.

【0003】このような構成のカラーフィルタを製造す
るには、例えば透明基板501上に、フォトリソグラフ
法を用いて、まずブラックマトリクス504、次いでR
(赤)、G(緑)、B(青)の着色層502r,502
g,502bを形成した後、この3色の着色層502
r,502g,502bの上層に保護膜503を形成す
る。
In order to manufacture a color filter having such a structure, for example, a black matrix 504 and then R are formed on a transparent substrate 501 by a photolithography method.
(Red), G (green), B (blue) colored layers 502r, 502
g, 502b, and then the three colored layers 502
A protective film 503 is formed on the upper layer of r, 502g, and 502b.

【0004】保護膜503の形成方法としては、塗布液
をスピンコート法で塗布した後、加熱硬化せしめて保護
膜503を形成する方法があるが、この方法は、保護膜
503の表面を平坦にする点では優れているものの、供
給された塗布液が飛散してしまうため、塗布液の無駄が
多く、生産コストが高くなる不都合があった。また、塗
布時に基板を回転させるため、遠心力により塗布液が内
側から外側へと流動して外周領域の膜厚が厚くなる傾向
があり、その結果、保護膜503の膜厚のばらつきが大
きくなるという不都合があった。これらの対策のため、
近年、いわゆるインクジェットを利用した技術が提案さ
れている。
As a method of forming the protective film 503, there is a method of forming a protective film 503 by applying a coating liquid by a spin coating method and then heating and curing the coating solution. In this method, the surface of the protective film 503 is made flat. However, since the supplied coating liquid is scattered, the coating liquid is wasted a lot and the production cost is increased. Further, since the substrate is rotated during coating, the coating liquid tends to flow from the inner side to the outer side due to the centrifugal force, and the film thickness in the outer peripheral region tends to be thick, resulting in large variation in the film thickness of the protective film 503. There was an inconvenience. For these measures,
In recent years, a technique using a so-called inkjet has been proposed.

【0005】例えば、特開平9−329707号公報に
は、インクジェット法によりパターニングされた保護膜
503を形成する方法が記載されている。この方法は、
インクジェット法により、図14に示すように、カラー
フィルタの有効領域上にのみ保護膜形成用の塗布液を塗
布し、予備乾燥した後、加熱処理して硬化させる方法で
ある。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-329707 discloses a method of forming a protective film 503 patterned by an ink jet method. This method
As shown in FIG. 14, this is a method in which a coating liquid for forming a protective film is applied only on the effective region of a color filter by an inkjet method, pre-dried, and then heat-treated to cure.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では予備乾燥を行ったときに、図15に例示するよう
にカラーフィルタの有効領域上に塗布された塗膜513
のエッジ部513aが他の部分より厚くなって盛り上が
るため、硬化後の保護膜503の表面が平坦にならない
という問題があった。このようにカラーフィルタの保護
膜503の表面に段差が生じていると、このカラーフィ
ルタを用いて液晶装置を構成したときに、カラーフィル
タの保護膜503側に設けられる液晶層にギャップムラ
が生じ、それによって表示画面における輝度ムラが生じ
てしまうという問題があった。
However, in this method, when the preliminary drying is performed, the coating film 513 applied on the effective area of the color filter as illustrated in FIG.
Since the edge portion 513a of the above is thicker than other portions and rises, there is a problem that the surface of the protective film 503 after curing is not flat. When a step is formed on the surface of the protective film 503 of the color filter in this way, when a liquid crystal device is configured using this color filter, gap unevenness occurs in the liquid crystal layer provided on the protective film 503 side of the color filter. However, there is a problem in that luminance unevenness occurs on the display screen.

【0007】したがって本発明の課題は、保護膜表面の
平坦性に優れたカラーフィルタを提供すること、および
保護膜表面の平坦性に優れたカラーフィルタを低コスト
で製造できる方法を提供することにある。また、本発明
のカラーフィルタを用いた液晶装置および電子機器を提
供することを課題とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a color filter having excellent flatness of the protective film surface, and to provide a method of manufacturing a color filter having excellent flatness of the protective film surface at low cost. is there. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal device and electronic equipment using the color filter of the present invention.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題の少な
くとも1つを解決するものであり、本発明のカラーフィ
ルタの製造方法は、基板上に着色層が形成されており、
該着色層上に保護膜が形成されてなるカラーフィルタの
製造方法であって、基板母材上に着色層を形成する着色
層形成工程と、前記基板母材の前記着色層が形成されて
いる面の全面上にインクジェット法により保護膜用塗布
液を塗布する塗布工程と、前記基板母材上に塗布された
保護膜用塗布液を硬化させて保護膜を形成する硬化工程
と、前記保護膜が形成された前記基板母材を、個々のカ
ラーフィルタ毎に切断する切断工程を有することを特徴
とする。
The present invention is intended to solve at least one of the above problems, and a method for producing a color filter according to the present invention is such that a colored layer is formed on a substrate,
A method for manufacturing a color filter comprising a protective film formed on the colored layer, the method comprising: forming a colored layer on a substrate base material; and forming the colored layer of the substrate base material. A coating step of applying a protective film coating solution on the entire surface by an inkjet method, a curing step of curing the protective film coating solution applied on the substrate base material to form a protective film, and the protective film It is characterized in that it has a cutting step of cutting the substrate base material on which is formed into individual color filters.

【0009】このカラーフィルタの製造方法によれば、
保護膜用塗布液は、基板母材の全面上に塗布されるの
で、塗膜のエッジ部は基板母材の外周部となる。したが
って、保護膜用塗布液を硬化させる工程で塗膜のエッジ
部に盛り上がりが生じても、基板母材の外周部がその内
方の部分より厚くなるに過ぎない。よって、基板母材上
において、塗膜が厚くなる基板母材の外周部に個々のカ
ラーフィルタの有効領域が含まれないように設計すれ
ば、少なくともカラーフィルタの有効領域内においては
保護膜の表面を平坦に形成することができる。
According to this color filter manufacturing method,
Since the protective film coating liquid is applied on the entire surface of the substrate base material, the edge portion of the coating film becomes the outer peripheral portion of the substrate base material. Therefore, even if the edge portion of the coating film rises in the step of curing the coating liquid for protective film, the outer peripheral portion of the substrate base material is merely thicker than the inner portion thereof. Therefore, on the substrate base material, if the design is made so that the effective area of each color filter is not included in the outer peripheral portion of the substrate base material where the coating film becomes thick, the surface of the protective film at least in the effective area of the color filter. Can be formed flat.

【0010】また本発明のカラーフィルタの製造方法
は、前記塗布工程において、インクジェットヘッドに設
けられている複数のノズルから前記保護膜用塗布液を吐
出しつつ、前記インクジェットヘッドと前記基板母材と
の位置を相対的に移動させてスキャンするとともに、1
回のスキャンで形成される塗膜の幅方向の端縁がカラー
フィルタの有効領域外に位置するように、前記塗膜の幅
を制御することを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a color filter of the present invention, in the coating step, the inkjet head and the substrate base material are ejected while ejecting the protective film coating liquid from a plurality of nozzles provided in the inkjet head. Move the position of relative to scan and
It is characterized in that the width of the coating film is controlled so that the edge in the width direction of the coating film formed by one scan is located outside the effective region of the color filter.

【0011】通常のインクジェットを用いた塗布方式に
おいては、塗布液を吐出するノズルを複数備えたインク
ジェットヘッドから同時に吐出される塗布液によって塗
布される領域は、最終的に塗膜を形成しようとしている
全体の塗布領域より小さい。したがって、インクジェッ
トヘッドを移動(スキャン)させながら、全体の塗布領
域を塗布するので、スキャンとスキャンの境界(改行
部)において塗膜が不均一になり易い。本発明の方法に
よれば、インクジェットヘッドに設けられている複数の
ノズルから保護膜用塗布液を吐出しつつ、インクジェッ
トヘッドと基板母材との位置を相対的に移動させてスキ
ャンするとともに、1回のスキャンで形成される塗膜の
幅方向の端縁がカラーフィルタの有効領域外に位置する
ように、前記塗膜の幅を制御するので、スキャンとスキ
ャンの境界(改行部)はカラーフィルタの有効領域外に
形成され、有効領域内には均一な塗膜が形成される。こ
こで、塗膜の幅方向とは、スキャン時にインクジェット
ヘッドが相対的に進行する方向に対して垂直な方向であ
る。
In the conventional coating method using an inkjet, an area to be coated with the coating liquid simultaneously ejected from an inkjet head having a plurality of nozzles for ejecting the coating liquid is going to finally form a coating film. It is smaller than the entire application area. Therefore, since the entire application area is applied while moving (scanning) the inkjet head, the coating film is likely to be uneven at the boundary between scans (line feed portion). According to the method of the present invention, while the coating liquid for a protective film is discharged from the plurality of nozzles provided in the inkjet head, the positions of the inkjet head and the base material of the substrate are relatively moved and scanning is performed. Since the width of the coating film is controlled so that the edge in the width direction of the coating film formed by one scan is located outside the effective area of the color filter, the boundary between the scans (line feed) is the color filter. Is formed outside the effective area, and a uniform coating film is formed in the effective area. Here, the width direction of the coating film is a direction perpendicular to the direction in which the inkjet head relatively advances during scanning.

【0012】本発明において、保護膜用塗布液が塗布さ
れる幅の制御は、前記塗布工程において、前記インクジ
ェットヘッドに設けられている複数のノズルのうち同時
に保護膜用塗布液が吐出されるノズルの組み合わせを変
えることにより行うのが好ましい。かかる方法によれ
ば、インクジェット法により保護膜用塗布液を塗布する
際の塗膜の幅を容易に、かつ高精度に制御することがで
き、基板母材等の設計変更にも容易に対応することがで
きる。
In the present invention, the width of the coating liquid for the protective film applied is controlled by the nozzle of the plurality of nozzles provided in the ink jet head, in which the coating liquid for the protective film is simultaneously ejected in the coating step. It is preferable to carry out by changing the combination of. According to such a method, it is possible to easily and highly accurately control the width of the coating film when applying the coating liquid for the protective film by the inkjet method, and it is possible to easily cope with the design change of the substrate base material and the like. be able to.

【0013】また本発明は、前記塗布工程において、塗
布領域によって保護膜用塗布液の塗布量を変化させるこ
ともできる。本発明では、保護膜の形成にインクジェッ
トを用いるので、保護膜を形成しようとしている面の凹
凸に応じて塗布量を変化させることが可能であり、これ
によって保護膜表面の平坦性をより向上させることがで
きる。
Further, in the present invention, in the coating step, the coating amount of the protective film coating liquid can be changed depending on the coating region. In the present invention, since the ink jet is used for forming the protective film, it is possible to change the coating amount according to the unevenness of the surface on which the protective film is to be formed, which further improves the flatness of the protective film surface. be able to.

【0014】また本発明のカラーフィルタの製造方法
は、前記着色層形成工程が、インクジェット法により着
色層用塗布液を塗布する工程と、該着色層用塗布液を硬
化させる工程を有しており、該着色層形成工程と前記保
護膜用塗布液を塗布する塗布工程を1つの製造ライン内
で行う構成とすることができる。かかる方法は、着色層
の形成にもインクジェットを用い、これに連続して、イ
ンクジェットを用いた保護膜の形成を1つの製造ライン
内で行うので、作業効率を高め、生産性を向上させるこ
とができ、量産化を実現する上で好ましい。
Further, in the method for producing a color filter of the present invention, the colored layer forming step includes a step of applying a colored layer coating solution by an ink jet method and a step of curing the colored layer coating solution. The colored layer forming step and the coating step of applying the coating liquid for protective film can be performed in one manufacturing line. In such a method, an inkjet is also used for forming the colored layer, and subsequently, the formation of the protective film using the inkjet is performed in one manufacturing line. Therefore, it is possible to improve work efficiency and productivity. It is possible and preferable for realizing mass production.

【0015】本発明のカラーフィルタは、基板上に着色
層が形成され、該着色層上に保護膜が形成されてなるカ
ラーフィルタであって、前記保護膜がインクジェット法
により形成されたものであり、該保護膜の表面段差が1
μm以下であることを特徴とする。
The color filter of the present invention is a color filter having a colored layer formed on a substrate and a protective film formed on the colored layer, wherein the protective film is formed by an ink jet method. , The surface step of the protective film is 1
It is characterized by being less than or equal to μm.

【0016】本発明において、カラーフィルタの保護膜
をインクジェット法により形成することによって、その
表面段差を1μm以下に抑えることができる。カラーフ
ィルタの保護膜の表面段差が1μm以下であれば、保護
膜表面の平坦性が良好であり、このカラーフィルタを用
いて液晶装置を構成したときに、カラーフィルタの保護
膜側に設けられる液晶層のギャップの均一性が良好とな
る。これにより液晶層のギャップムラに起因する輝度ム
ラ等の表示不良が抑えられ、良好な表示が得られる。
In the present invention, by forming the protective film of the color filter by the ink jet method, the surface step difference can be suppressed to 1 μm or less. When the surface step of the protective film of the color filter is 1 μm or less, the flatness of the surface of the protective film is good, and when a liquid crystal device is configured using this color filter, the liquid crystal provided on the protective film side of the color filter. Good layer gap uniformity. As a result, display defects such as brightness unevenness due to gap unevenness of the liquid crystal layer are suppressed, and good display can be obtained.

【0017】本発明のカラーフィルタは、前記保護膜
が、基板を切り出すための基板母材上に着色層を形成し
た後、該基板母材の前記着色層が形成されている面の全
面上にインクジェット法により保護膜用塗布液を塗布
し、該保護膜用塗布液を硬化させた後、前記基板母材
を、個々のカラーフィルタ毎に切断することによって形
成されたものが好ましく、かかる方法を用いた製造され
たカラーフィルタは、前記保護膜が、カラーフィルタの
基板の全面上に形成されているという特徴を有する。
In the color filter of the present invention, after the protective film forms a colored layer on a substrate base material for cutting out a substrate, the protective film is formed on the entire surface of the substrate base material on which the colored layer is formed. It is preferable that the coating liquid for a protective film is applied by an inkjet method, the coating liquid for a protective film is cured, and then the substrate base material is cut into individual color filters. The manufactured color filter used is characterized in that the protective film is formed on the entire surface of the substrate of the color filter.

【0018】本発明のカラーフィルタは、基板母材の全
面上に保護膜を形成した後に、個々のカラーフィルタ毎
に切断して得られたものであるので、基板母材を切断す
る際に、保護膜形成時に塗膜のエッジ部で生じた盛り上
がりを切り落とすことができる。したがって、個々のカ
ラーフィルタの基板上の保護膜は、表面の平坦性に優れ
たものとなる。
The color filter of the present invention is obtained by forming a protective film on the entire surface of the substrate base material and then cutting the substrate into individual color filters. Therefore, when cutting the substrate base material, It is possible to cut off the swelling generated at the edge portion of the coating film when the protective film is formed. Therefore, the protective film on the substrate of each color filter has excellent surface flatness.

【0019】本発明のカラーフィルタは、前記保護膜用
塗布液の塗布が、インクジェットヘッドに設けられてい
る複数のノズルから保護膜用塗布液を吐出しつつ、前記
インクジェットヘッドと前記基板母材との位置を相対的
に移動させてスキャンすることによって行われたものが
好ましく、かかる方法を用いれば、1回のスキャンで塗
布された塗膜の幅方向の端縁がカラーフィルタの有効領
域外に存在するカラーフィルタが得られる。かかる構成
のカラーフィルタにあっては、カラーフィルタの有効領
域内に、インクジェットの改行による塗膜の不均一部分
が形成されないので、表面の平坦性に優れた均質な保護
膜を備えたものとなる。
In the color filter of the present invention, the coating liquid for the protective film is applied to the inkjet head and the substrate base material while ejecting the coating liquid for the protective film from a plurality of nozzles provided in the inkjet head. Is preferably performed by moving the position of relative to scanning, and by using such a method, the edge in the width direction of the coating film applied in one scan is outside the effective area of the color filter. The existing color filters are obtained. In the color filter having such a configuration, since a non-uniform portion of the coating film is not formed in the effective area of the color filter due to the line feed of the inkjet, it is provided with a uniform protective film having excellent surface flatness. .

【0020】本発明の液晶装置は、本発明のカラーフィ
ルタと、該カラーフィルタの保護膜が形成されている側
に対向配置された対向基板と、前記カラーフィルタと前
記対向基板との間に挟持された液晶組成物とを備えてな
ることを特徴とする。また本発明の電子機器は、本発明
の液晶装置を具備してなることを特徴とする。
In the liquid crystal device of the present invention, the color filter of the present invention, a counter substrate which is arranged to face the side where the protective film of the color filter is formed, and which is sandwiched between the color filter and the counter substrate. And a liquid crystal composition prepared as described above. An electronic device of the present invention is characterized by including the liquid crystal device of the present invention.

【0021】本発明の液晶装置によれば、保護膜の表面
平坦性に優れたカラーフィルタを用い、保護膜の上層に
液晶組成物からなる層が設けられるので、液晶層のギャ
ップの均一性に優れている。したがって、ギャップムラ
に起因する輝度ムラ等の表示不良が抑えられ、良好な表
示が得られる。また本発明の電子機器によれば、保護膜
の表面平坦性に優れたカラーフィルタを備え、液晶層の
ギャップの均一性に優れた液晶装置が用いられているの
で、輝度ムラ等の表示不良が防止されて、良好な液晶表
示が得られる。
According to the liquid crystal device of the present invention, since the color filter having excellent surface flatness of the protective film is used and the layer made of the liquid crystal composition is provided on the upper layer of the protective film, the uniformity of the gap of the liquid crystal layer is improved. Are better. Therefore, display defects such as brightness unevenness due to gap unevenness can be suppressed, and good display can be obtained. Further, according to the electronic device of the present invention, since the liquid crystal device including the color filter excellent in surface flatness of the protective film and excellent in the uniformity of the gap of the liquid crystal layer is used, display defects such as uneven brightness may occur. It is prevented and a good liquid crystal display is obtained.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る第1実施形態
を、図1から図7を参照しながら説明する。図1は本実
施形態のカラーフィルタを示す部分断面図である。この
カラーフィルタ10は、基板11a上に、マトリクス状
に配された画素を備えており、画素と画素の境目は、遮
光層からなるブラックマトリクス12と、その上に形成
されたバンク13とからなる仕切り14によって区切ら
れている。1つ1つの画素にはR(赤)、G(緑)、B
(青)のいずれかのインクからなる着色層15r、15
g、15bが形成されており、これらの全体を覆うよう
に保護膜16が形成されている。R、G、Bの配列は、
いわゆるモザイク配列でもよく、ストライプ配列、デル
タ配列など、その他の配列でも構わない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 7. FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing the color filter of this embodiment. The color filter 10 includes pixels arranged in a matrix on a substrate 11a, and a boundary between the pixels includes a black matrix 12 formed of a light shielding layer and a bank 13 formed on the black matrix 12. It is separated by a partition 14. R (red), G (green), B for each pixel
Colored layers 15r and 15 made of any of the inks of (blue)
g and 15b are formed, and the protective film 16 is formed so as to cover all of them. The sequences of R, G and B are
A so-called mosaic arrangement may be used, or another arrangement such as a stripe arrangement or a delta arrangement may be used.

【0023】図2は、本実施形態のカラーフィルタ10
を製造するのに好適に用いられる製造ラインの例を示す
概略構成図である。この例の製造ラインは、インクジェ
ット法により着色層15r、15g、15bを形成する
工程を実行するための着色層形成装置51と、インクジ
ェット法により保護膜16を形成する工程を実行するた
めの保護膜形成装置52とを備えており、これらの装置
の間には搬送手段が設けられている。着色層形成装置5
1は、第1〜第3のインクジェット装置31、32、3
3と、各インクジェット装置31、32、33の後段に
設けられた第1〜第3の乾燥装置41、42、43とを
備えており、第3の乾燥装置43の後段にはインクをポ
ストベークするためのオーブン46が設けられている。
また各装置間には搬送手段が設けられている。保護膜形
成装置52は、第4のインクジェット装置34と、第4
の乾燥装置44と、硬化装置45が順に設けられてお
り、各装置間には搬送手段が設けられている。
FIG. 2 shows the color filter 10 of this embodiment.
It is a schematic block diagram which shows the example of the manufacturing line used suitably for manufacturing. The manufacturing line of this example includes a colored layer forming device 51 for performing the step of forming the colored layers 15r, 15g, and 15b by the inkjet method, and a protective film for performing the step of forming the protective film 16 by the inkjet method. A forming device 52, and a conveying means is provided between these devices. Colored layer forming device 5
1 is the first to third inkjet devices 31, 32, 3
3 and the first to third drying devices 41, 42, 43 provided at the latter stage of the respective inkjet devices 31, 32, 33, and post-baking the ink at the latter stage of the third drying device 43. An oven 46 for performing the operation is provided.
In addition, a conveying means is provided between each device. The protective film forming device 52 includes a fourth inkjet device 34 and a fourth inkjet device 34.
The drying device 44 and the curing device 45 are sequentially provided, and a conveying unit is provided between the respective devices.

【0024】カラーフィルタ10の着色層15r、15
g、15bをインクジェット法により形成する方法は公
知であり(例えば、特開平4−123007号公報)、
着色層形成装置51は、既知のインクジェット装置およ
び乾燥装置を適宜用いて構成することができる。
Colored layers 15r, 15 of the color filter 10
A method of forming g and 15b by an inkjet method is known (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-123007),
The colored layer forming device 51 can be configured by appropriately using a known inkjet device and drying device.

【0025】図3ないし図6は、第4のインクジェット
装置34の例を示したものであり、図3はインクジェッ
ト装置34の概略構成図、図4はインクジェットヘッド
72の配列を示す平面図、図5および図6はインクジェ
ット72の説明図である。この第4のインクジェット装
置34は、基板母材11上に対して保護膜用塗布液Lを
吐出するインクジェットヘッド72を複数備えたインク
ジェットヘッド群1と、インクジェット機構2と、イン
クジェットヘッド群1と基板母材11との位置を相対的
に移動可能な移動機構3と、インクジェット機構2およ
び移動機構3を制御する制御部Cとを備えている。
3 to 6 show an example of the fourth ink jet device 34. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the ink jet device 34, and FIG. 4 is a plan view showing the arrangement of the ink jet heads 72. 5 and 6 are explanatory views of the inkjet 72. The fourth inkjet device 34 includes an inkjet head group 1, which includes a plurality of inkjet heads 72 that discharge the protective film coating liquid L onto the substrate base material 11, an inkjet mechanism 2, an inkjet head group 1, and a substrate. A moving mechanism 3 that can move the position relative to the base material 11 relatively, and a control unit C that controls the inkjet mechanism 2 and the moving mechanism 3 are provided.

【0026】上記移動機構3は、基板ステージ4上に載
置された基板母材11の上方に、インクジェットヘッド
群1をインクジェットヘッド72のノズル67が下方を
向くように支持すると共に基板母材11に対して任意の
位置に移動させるヘッド支持部5と、上方のインクジェ
ットヘッド群1に対して基板ステージ4と共に基板母材
11を移動させるステージ駆動部6とから構成されてい
る。
The moving mechanism 3 supports the inkjet head group 1 above the substrate base material 11 placed on the substrate stage 4 so that the nozzles 67 of the inkjet head 72 face downward, and at the same time, the substrate base material 11 is supported. On the other hand, it is composed of a head support section 5 for moving it to an arbitrary position, and a stage drive section 6 for moving the substrate base material 11 together with the substrate stage 4 with respect to the upper inkjet head group 1.

【0027】上記ヘッド支持部5は、インクジェットヘ
ッド群1を水平方向(X軸)および垂直方向(Z軸)に
任意の移動速度で移動可能なかつ位置決め可能なリニア
モータ等の機構と、垂直中心軸を中心にインクジェット
ヘッド群1を回転させて下方の基板母材11に対して任
意な角度に設定可能なステッピングモータ等の機構とを
備えている。
The head supporting portion 5 is a mechanism such as a linear motor capable of moving the ink jet head group 1 in the horizontal direction (X axis) and the vertical direction (Z axis) at an arbitrary moving speed and positioning, and a vertical central axis. And a mechanism such as a stepping motor capable of rotating the inkjet head group 1 around the center and setting it at an arbitrary angle with respect to the lower substrate base material 11.

【0028】上記ステージ駆動部6は、垂直中心軸を中
心に基板ステージ4を回転させて上方のインクジェット
ヘッド群1に対して任意な角度に設定可能なθ軸ステー
ジ7と、基板ステージ4をインクジェットヘッド群1の
水平移動方向に直交する水平方向(Y軸)に移動可能な
かつ位置決め可能なY軸ステージ8とを備えている。な
お、θ軸ステージ7は、ステッピングモータ等から構成
され、Y軸ステージ8は、リニアモータ等から構成され
ている。
The stage driving unit 6 rotates the substrate stage 4 about the vertical center axis and sets the θ-axis stage 7 that can set an arbitrary angle with respect to the upper inkjet head group 1, and the substrate stage 4 to the inkjet. The head group 1 is provided with a Y-axis stage 8 that is movable and positionable in a horizontal direction (Y-axis) that is orthogonal to the horizontal movement direction. The θ-axis stage 7 is composed of a stepping motor or the like, and the Y-axis stage 8 is composed of a linear motor or the like.

【0029】上記インクジェット機構2は、インクジェ
ットヘッド群1にチューブ9aを介して接続され該イン
クジェットヘッド群1のインクジェットヘッド72に保
護膜用塗布液Lを供給するために保護膜用塗布液Lを貯
留するタンク9bを備えている。すなわち、タンク9b
からチューブ9aを介してインクジェットヘッド群1の
インクジェットヘッド72に保護膜用塗布液Lを充填す
ることにより、塗布が行われる。上記インクジェットヘ
ッド72は、例えばピエゾ素子によって液室を圧縮して
その圧力波で液体を吐出させる吐出機構を備えており、
一列又は複数列に配列された複数のノズル67を有して
いる。
The inkjet mechanism 2 is connected to the inkjet head group 1 via a tube 9a and stores the protective film coating solution L for supplying the protective film coating solution L to the inkjet head 72 of the inkjet head group 1. It is equipped with a tank 9b. That is, the tank 9b
The coating is performed by filling the inkjet head 72 of the inkjet head group 1 with the coating liquid L for the protective film through the tube 9a. The inkjet head 72 includes a discharge mechanism that compresses the liquid chamber by, for example, a piezo element and discharges the liquid by the pressure wave.
It has a plurality of nozzles 67 arranged in one row or a plurality of rows.

【0030】図4は、インクジェットヘッド群1におけ
るノズル67の配列の例を示したもので、インクジェッ
トヘッド群1の下面(基板ステージ4に対向する面)を
平面視した図である。この例において、インクジェット
ヘッド群1には、所定数のノズル67と吐出機構71と
を備えたインクジェットヘッド72が12個(6個×2
列)設けられている。インクジェットヘッド群1が、基
板ステージ4上の基板母材11に対して相対的に進行す
る方向をSとし、この方向に垂直な方向を幅方向Wとす
ると、12個のインクジェットヘッド72は、ノズル6
7が進行方向Sに対して任意の角度を有する一方向に沿
って列をなすように、かつ進行方向Sに平行で各ノズル
67を通る直線が、幅方向Wにおいて等間隔となるよう
に配置されている。1個のインクジェットヘッド72に
設けられるノズル67の数や、インクジェットヘッド7
2の数は適宜変更可能であるが、インクジェットヘッド
群1に設けられている複数のノズル67から吐出される
塗液によって同時に塗布できる幅(幅方向Wにおける大
きさ)が、1個のカラーフィルタ10の有効領域の大き
さよりも大きくなるように設定される。
FIG. 4 shows an example of the arrangement of the nozzles 67 in the inkjet head group 1, and is a plan view of the lower surface of the inkjet head group 1 (the surface facing the substrate stage 4). In this example, the inkjet head group 1 includes 12 inkjet heads 72 (6 nozzles × 2 nozzles) each having a predetermined number of nozzles 67 and ejection mechanisms 71.
Rows) are provided. Assuming that the direction in which the inkjet head group 1 advances relative to the substrate base material 11 on the substrate stage 4 is S, and the direction perpendicular to this direction is the width direction W, the 12 inkjet heads 72 are nozzles. 6
7 are arranged so as to form a row along one direction having an arbitrary angle with respect to the traveling direction S, and straight lines parallel to the traveling direction S and passing through each nozzle 67 are arranged at equal intervals in the width direction W. Has been done. The number of nozzles 67 provided in one inkjet head 72 and the inkjet head 7
The number of 2 can be appropriately changed, but the width (size in the width direction W) that can be simultaneously applied by the coating liquid discharged from the plurality of nozzles 67 provided in the inkjet head group 1 is one color filter. It is set to be larger than the size of the 10 effective areas.

【0031】各インクジェットヘッド72の構造は、例
えば図5および図6に示すように、ステンレス製のノズ
ルプレート61と振動板62とを備え、両者は仕切部材
(リザーバプレート)63を介して接合されている。ノ
ズルプレート61と振動板62との間には、仕切部材6
3によって複数の空間64と液溜まり65とが形成され
ている。各空間64と液溜まり65の内部は保護膜用塗
布液Lで満たされており、各空間64と液溜まり65と
は供給口66を介して連通している。さらに、ノズルプ
レート61には、空間64から保護膜用塗布液Lを噴射
するための孔となるノズル67が設けられている。一
方、振動板62には液溜まり65に保護膜用塗布液Lを
供給するための孔68が形成されている。
As shown in FIGS. 5 and 6, for example, the structure of each ink jet head 72 includes a stainless nozzle plate 61 and a vibrating plate 62, both of which are joined via a partition member (reservoir plate) 63. ing. The partition member 6 is provided between the nozzle plate 61 and the vibration plate 62.
3, a plurality of spaces 64 and a liquid pool 65 are formed. The interiors of the spaces 64 and the liquid pool 65 are filled with the coating liquid L for the protective film, and the spaces 64 and the liquid pool 65 communicate with each other through the supply port 66. Further, the nozzle plate 61 is provided with a nozzle 67 that serves as a hole for ejecting the coating liquid L for the protective film from the space 64. On the other hand, the vibrating plate 62 has holes 68 for supplying the coating liquid L for the protective film to the liquid pool 65.

【0032】また、振動板62の空間64に対向する面
と反対側の面上には圧電素子(ピエゾ素子)69が接合
されている。この圧電素子69は一対の電極70の間に
位置し、通電すると圧電素子69が外側に突出するよう
に撓曲し、同時に圧電素子69が接合されている振動板
62も一体となって外側に撓曲する。これによって空間
64の容積が増大する。したがって、空間64内に増大
した容積分に相当する保護膜用塗布液Lが液溜まり65
から供給口66を介して流入する。次に、圧電素子69
への通電を解除すると、圧電素子69と振動板62はと
もに元の形状に戻る。これにより、空間64も元の容積
に戻るため、空間64内部の保護膜用塗布液Lの圧力が
上昇し、ノズル67から基板母材11に向けて保護膜用
塗布液Lの液滴60が吐出される。なお、インクジェッ
トヘッド72のインクジェット方式としては、上記の圧
電素子を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよ
く、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を
用いたインク発泡圧力噴出方式(例えばバブルジェット
(登録商標)方式)等の方式を採用しても構わない。
A piezoelectric element (piezo element) 69 is bonded to the surface of the diaphragm 62 opposite to the surface facing the space 64. The piezoelectric element 69 is located between the pair of electrodes 70, and when energized, the piezoelectric element 69 bends so as to project to the outside, and at the same time, the vibration plate 62 to which the piezoelectric element 69 is joined is also integrated to the outside. To bend. This increases the volume of the space 64. Therefore, the protective film coating liquid L corresponding to the increased volume in the space 64 is accumulated in the liquid pool 65.
Flows in through the supply port 66. Next, the piezoelectric element 69
When the energization is released, both the piezoelectric element 69 and the diaphragm 62 return to their original shapes. As a result, the space 64 also returns to the original volume, so that the pressure of the protective film coating liquid L inside the space 64 rises, and the droplets 60 of the protective film coating liquid L are ejected from the nozzle 67 toward the substrate base material 11. Is ejected. The ink jet system of the ink jet head 72 may be a system other than the piezo jet type using the above-mentioned piezoelectric element. For example, an ink bubbling pressure jetting system using an electrothermal converter as an energy generating element (for example, bubble jet ( A registered trademark) method) or the like may be adopted.

【0033】上記制御部Cは、装置全体の制御を行うマ
イクロプロセッサ等のCPUや各種信号の入出力機能を
有するコンピュータなどであり、インクジェット機構2
および移動機構3にそれぞれ電気的に接続され、インク
ジェット機構2による吐出動作および移動機構3による
移動動作の少なくとも一方を制御して保護膜用塗布液L
の塗布条件を変える機能を有している。
The control section C is a CPU such as a microprocessor for controlling the entire apparatus or a computer having an input / output function of various signals, and the ink jet mechanism 2
And the moving mechanism 3 are electrically connected to each other, and at least one of the discharging operation by the inkjet mechanism 2 and the moving operation by the moving mechanism 3 is controlled to control the protective film coating liquid L.
It has the function of changing the coating conditions.

【0034】本実施形態において制御部Cは、それぞれ
のインクジェットヘッド72において、複数のノズル6
7のうち同時に保護膜用塗布液Lが吐出されるノズル6
7の組み合わせを変える機能を備えている。これによ
り、インクジェットヘッド72における塗布液Lの吐出
位置を変更することができ、インクジェットヘッド群1
を進行方向Sに1回移動させたときに(1スキャン)、
基板母材11上に保護膜用塗布液Lが塗布される幅を制
御することができる。また、インクジェットヘッド群1
の進行方向Sに平行でノズル67を通る直線の全部につ
いて、その直線上において同時に保護膜用塗布液Lが吐
出されるノズル67の数が等しくなるように制御すれ
ば、塗布量を均一にする上で好ましい。
In the present embodiment, the control section C controls the plurality of nozzles 6 in each ink jet head 72.
Nozzle 6 from which the protective film coating liquid L is discharged at the same time
It has the function to change the combination of 7. Thereby, the ejection position of the coating liquid L in the inkjet head 72 can be changed, and the inkjet head group 1
When moving in the traveling direction S once (1 scan),
The width over which the coating liquid L for the protective film is applied onto the substrate base material 11 can be controlled. Inkjet head group 1
If all the straight lines that are parallel to the traveling direction S and that pass through the nozzles 67 are controlled so that the number of nozzles 67 from which the coating liquid L for the protective film is discharged at the same time is equalized, the coating amount is made uniform. It is preferable above.

【0035】さらに、制御部Cが、保護膜用塗布液Lが
塗布される領域によって塗布量を制御できる機能を備え
ることが好ましい。例えば、各ノズル67からの吐出量
を個別に変える制御機能および/または基板母材11上
の同一位置に繰り返し塗布を行う際に繰り返す塗布ごと
に塗布条件を設定する制御機能等を設けて、1スキャン
で塗布された塗膜の中でも、膜厚が異なる部位が存在す
るように制御可能とすることが好ましい。かかる構成と
すれば、保護膜用塗布液Lを塗布する直前の、基板母材
11の表面の凹凸形状に応じて塗布量を変化させ、保護
膜16の表面段差Dをさらに小さくすることが可能とな
る。
Further, it is preferable that the control section C has a function of controlling the coating amount depending on the region where the protective film coating liquid L is coated. For example, a control function of individually changing the discharge amount from each nozzle 67 and / or a control function of setting a coating condition for each repeated coating when repeatedly coating the same position on the substrate base material 11 are provided. It is preferable to be controllable so that there are portions having different film thicknesses in the coating film applied by scanning. With such a configuration, it is possible to further reduce the surface level difference D of the protective film 16 by changing the application amount according to the uneven shape of the surface of the substrate base material 11 immediately before the application of the protective film coating liquid L. Becomes

【0036】図7(a)〜(e)は、本実施形態のカラ
ーフィルタ10を製造する方法を工程順に示した模式断
面図である。まず、1個のカラーフィルタ10の基板1
1aを複数個切り出すことができる大きさの基板母材1
1を用意し、図7(a)に示すように、基板母材11上
にブラックマトリクス12を形成する。基板母材11と
しては、一般にガラス基板が用いられるが、カラーフィ
ルタとしての用途において必要とされる透明性、機械的
強度等の特性を有するものであれば、ガラス以外の材料
を用いることもできる。
FIGS. 7A to 7E are schematic cross-sectional views showing a method of manufacturing the color filter 10 of this embodiment in the order of steps. First, the substrate 1 of one color filter 10
Substrate base material 1 large enough to cut out a plurality of 1a
1 is prepared, and the black matrix 12 is formed on the substrate base material 11 as shown in FIG. A glass substrate is generally used as the substrate base material 11, but a material other than glass may be used as long as it has characteristics such as transparency and mechanical strength required for use as a color filter. .

【0037】ブラックマトリクス12は、金属クロム、
金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック
等で形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス
12を形成するには、スパッタ法や蒸着法を用いること
ができる。また樹脂薄膜からなるブラックマトリクス1
2を形成するには、グラビア印刷法、フォトレジスト
法、熱転写法等を用いることができる。
The black matrix 12 is made of metallic chrome,
It is formed of a laminate of metallic chromium and chromium oxide, or resin black or the like. To form the black matrix 12 made of a metal thin film, a sputtering method or a vapor deposition method can be used. Also, a black matrix 1 made of a resin thin film
For forming 2, the gravure printing method, the photoresist method, the thermal transfer method and the like can be used.

【0038】続いて、ブラックマトリクス12上にバン
ク13を形成する。すなわち、図7(b)に示すよう
に、基板母材11およびブラックマトリクス12を覆う
ように、ネガ型の透明な感光性樹脂組成物からなるレジ
スト層17を形成し、その上面に、マトリクスパターン
形状に形成されたマスクフィルム18を密着させた状態
で露光処理を行う。そして、図7(c)に示すように、
レジスト層17の未露光部分をエッチング処理すること
によりレジスト層17をパターニングして、バンク13
を形成する。このバンク13とその下のブラックマトリ
クス12は、この後の工程において、インクジェット法
により着色層15r、15g、15bを形成する際にイ
ンクの広がりを規制する土手の役割を果たす仕切り14
となる。
Subsequently, the bank 13 is formed on the black matrix 12. That is, as shown in FIG. 7B, a resist layer 17 made of a negative type transparent photosensitive resin composition is formed so as to cover the substrate base material 11 and the black matrix 12, and a matrix pattern is formed on the upper surface thereof. The exposure process is performed in a state where the mask film 18 formed in a shape is in close contact with the mask film 18. Then, as shown in FIG.
The resist layer 17 is patterned by etching the unexposed portion of the resist layer 17, and the bank 13
To form. The bank 13 and the black matrix 12 therebelow serve as a partition 14 that serves as a bank that controls the spread of the ink when the colored layers 15r, 15g, and 15b are formed by the inkjet method in the subsequent process.
Becomes

【0039】バンク13を形成する材料として、塗膜表
面が疎インク性となる樹脂材料を用いると、ガラス基板
(基板母材11)表面が親インク性であるので、この後
の工程で、インクジェット法によりバンク13で囲まれ
た基板母材11上に着色層15r、15g、15bを形
成する際の、インクの着弾位置精度が向上するので好ま
しい。なおこの場合には着色層15r、15g、15b
形成後、保護膜16を形成する前にバンク13の上面を
親インク化することが好ましく、そのための装置を着色
層形成装置51と保護膜形成装置52との間に設けるこ
とが好ましい。
When a resin material having a coating film surface that is ink-phobic is used as a material for forming the bank 13, the surface of the glass substrate (substrate base material 11) is ink-philic, and therefore, in the subsequent step, ink jet is used. It is preferable because the accuracy of ink landing position is improved when the colored layers 15r, 15g, and 15b are formed on the substrate base material 11 surrounded by the bank 13 by the method. In this case, the colored layers 15r, 15g, 15b
After the formation, the upper surface of the bank 13 is preferably made to be ink-philic before forming the protective film 16, and a device therefor is preferably provided between the colored layer forming device 51 and the protective film forming device 52.

【0040】次に、図7(d)に示すように、仕切り1
4で囲まれた領域内、すなわち画素に着色層用塗布液
(インク)を塗布し、これを乾燥させて着色層15r、
15g、15bを形成する。本実施形態では、第1〜第
3のインクジェット装置31、32、33を備えた着色
層形成装置51を用いて、3色の着色層15r、15
g、15bを順に形成する。3色の着色層15r、15
g、15bの形成順序は限定されない。
Next, as shown in FIG. 7D, the partition 1
In a region surrounded by 4, that is, a pixel, a coating liquid (ink) for a coloring layer is applied and dried to obtain a coloring layer 15r,
15g, 15b are formed. In the present embodiment, the colored layer forming device 51 including the first to third inkjet devices 31, 32, and 33 is used, and the colored layers 15 r and 15 of three colors are used.
g and 15b are sequentially formed. Three colored layers 15r, 15
The order of forming g and 15b is not limited.

【0041】例えば、まず、仕切り14が形成された基
板母材11を第1のインクジェット装置31に導入し、
多数の画素のうちR(赤)の着色層15rからなる画素
が形成される領域のみに対して、インクジェットヘッド
(図示略)から赤色のインクを吐出する。この後、第1
の乾燥装置41に搬送し、ここでインクを乾燥させてR
(赤)の着色層15rを形成する。続いて、R(赤)の
着色層15rが形成された基板母材11を第2のインク
ジェット装置32に搬送し、多数の画素のうちG(緑)
の着色層15gからなる画素が形成される領域のみに対
して、インクジェットヘッド(図示略)から緑色のイン
クを吐出する。そして、第2の乾燥装置42に搬送し、
ここでインクを乾燥させてG(緑)の着色層15gを形
成する。続いて、R(赤)の着色層15rおよびG
(緑)の着色層15gが形成された基板母材11を第3
のインクジェット装置33に搬送し、多数の画素のうち
B(青)の着色層15bからなる画素が形成される領域
のみに対して、インクジェットヘッド(図示略)から青
色のインクを吐出する。この後、第3の乾燥装置43に
搬送し、ここでインクを乾燥させてB(青)の着色層1
5bを形成する。なお、第1〜第3のインクジェット装
置31、32、33内において、基板母材11を精密に
位置決めできるように、例えばブラックマトリクス12
を形成する際に、位置合わせ用のマークを形成しておく
ことが好ましい。
For example, first, the substrate base material 11 on which the partition 14 is formed is introduced into the first ink jet device 31,
The red ink is ejected from an inkjet head (not shown) only to a region in which a pixel including the R (red) colored layer 15r is formed among a large number of pixels. After this, the first
Of the ink, and the ink is dried there.
The (red) colored layer 15r is formed. Subsequently, the substrate base material 11 on which the R (red) colored layer 15r is formed is conveyed to the second inkjet device 32, and G (green) out of a large number of pixels.
The green ink is ejected from an inkjet head (not shown) only to a region where the pixel formed of the colored layer 15g is formed. Then, it is conveyed to the second drying device 42,
Here, the ink is dried to form a G (green) colored layer 15g. Then, the R (red) colored layer 15r and G
The substrate base material 11 on which the (green) colored layer 15g is formed is formed into a third layer.
The inkjet head (not shown) discharges the blue ink to only the area in which the pixel formed of the B (blue) colored layer 15b is formed among the large number of pixels. After that, the B (blue) colored layer 1 is conveyed to the third drying device 43 where the ink is dried.
5b is formed. In the first to third inkjet devices 31, 32, 33, for example, the black matrix 12 is used so that the substrate base material 11 can be precisely positioned.
It is preferable to form a positioning mark when forming the.

【0042】着色層15r、15g、15bを形成する
インクは、粘度が2〜20mPa・sで、ノズルプレー
トに対する接触角が50゜より大きく、表面張力が20
〜40mN/mであるものが好ましい。インクの粘度が
高すぎると、インクが吐出した後の次のインクの供給が
間に合わなくて吐出不良を起こすおそれがあり、粘度が
低すぎると流動性がよすぎてインクの過供給となるおそ
れがある。またインクのノズルプレートに対する接触角
が低すぎるとノズルプレートがインクで濡れてしまい、
インク滴が吐出される際に、ノズルプレートに付着した
インクに、インク滴が引き寄せられて、正確な位置へ吐
出されないおそれがある。またインクの表面張力が大き
すぎても、小さすぎても、圧電素子の振動による安定し
たメニスカスコントロールができなくなる。例えばアク
リル樹脂カラーペースト、水性メラミンカラーペースト
等が使用できる。
The ink forming the colored layers 15r, 15g and 15b has a viscosity of 2 to 20 mPa · s, a contact angle with the nozzle plate of more than 50 ° and a surface tension of 20.
It is preferably about 40 mN / m. If the viscosity of the ink is too high, the next ink may not be supplied in time after the ink is ejected, which may cause ejection failure.If the viscosity is too low, the fluidity may be too good and the ink may be over-supplied. is there. If the contact angle of the ink to the nozzle plate is too low, the nozzle plate will get wet with the ink,
When the ink droplet is ejected, the ink droplet may be attracted to the ink adhering to the nozzle plate, and may not be ejected to an accurate position. Further, if the surface tension of the ink is too large or too small, stable meniscus control due to vibration of the piezoelectric element cannot be performed. For example, acrylic resin color paste, water-based melamine color paste and the like can be used.

【0043】着色層15r、15g、15bの厚さは、
RGBの各層によって差があるが、概ね0.8〜1.2
μmの範囲内とされる。インクを乾燥させる工程は30
〜80℃の温度範囲で、3〜5分間の条件で行うのが好
ましく、これらの条件に適合するように、第1〜第3の
乾燥装置41、42、43の構成および搬送条件等を設
定するのが好ましい。また、3色の着色層15r、15
g、15bを形成した後、オーブン46でポストベーク
(本焼き)を行ってインクを硬化させる。このときの加
熱条件は、例えば220℃、30分間程度に好ましく設
定される。
The thickness of the colored layers 15r, 15g, 15b is
Although there is a difference for each layer of RGB, it is generally 0.8 to 1.2.
It is set within the range of μm. 30 steps to dry the ink
It is preferable to perform the treatment in a temperature range of -80 ° C. for 3 to 5 minutes, and set the configurations of the first to third drying devices 41, 42 and 43 and the conveyance conditions so as to conform to these conditions. Preferably. The three colored layers 15r, 15
After forming g and 15b, post baking (main baking) is performed in the oven 46 to cure the ink. The heating conditions at this time are preferably set to, for example, 220 ° C. and about 30 minutes.

【0044】この後、図7(e)に示すように、基板母
材11、仕切り14、および着色層15r、15g、1
5bの上面を覆うように保護膜16を形成する。すなわ
ち、着色層15r、15g、15bが形成された基板母
材11は、保護膜形成装置52へ搬送され、第4のイン
クジェット装置34で基板母材11の着色層15r、1
5g、15bが形成されている面全体に保護膜用塗布液
Lが塗布され、第4の乾燥装置44で予備乾燥された
後、硬化装置45で該塗布液Lが硬化されて保護膜16
が形成される。
After this, as shown in FIG. 7E, the substrate base material 11, the partition 14, and the colored layers 15r, 15g, 1
A protective film 16 is formed so as to cover the upper surface of 5b. That is, the substrate base material 11 on which the colored layers 15r, 15g, 15b are formed is conveyed to the protective film forming device 52, and the fourth inkjet device 34 causes the colored layers 15r, 1r of the substrate base material 11 to be formed.
The coating liquid L for the protective film is applied to the entire surface on which 5 g and 15 b are formed, and is preliminarily dried by the fourth drying device 44, and then the coating liquid L is cured by the curing device 45 and the protective film 16 is formed.
Is formed.

【0045】保護膜用塗布液Lとしては、保護膜として
の用途に要求される特性を満たし、インクジェットによ
り塗布可能なものであれば使用可能であるが、着色層1
5r、15g、15bを形成するインクと同様に、粘度
が2〜20mPaで、ノズルプレートに対する接触角が
35°以上、より好ましくは50゜より大きく、表面張
力が20〜40mN/mであるものが好ましい。また材
料を選定する際には、塗布後の表面が速やかに平坦にな
るレベリング性が良いもの、塗布面に対する濡れ性が良
いものが好ましく、特に溶剤は後の乾燥工程における乾
燥法と適合性が良いものが好ましい。また添加剤は保護
膜の性質を劣化させないものを用いる。保護膜用塗布液
Lの硬化速度は、溶剤の配合を変更することによって変
化させることができるが、硬化速度が速すぎると、塗布
された塗膜が平坦化される前に硬化してしまって、保護
膜16表面の平坦性が悪くなるおそれがある。逆に、硬
化速度が遅すぎると、乾燥時間が長くかかるので生産性
が悪くなる。
As the coating liquid L for the protective film, any one can be used as long as it satisfies the characteristics required for the purpose as a protective film and can be applied by an inkjet method.
Similar to the inks forming 5r, 15g, and 15b, those having a viscosity of 2 to 20 mPa, a contact angle with the nozzle plate of 35 ° or more, more preferably more than 50 °, and a surface tension of 20 to 40 mN / m. preferable. Further, when selecting the material, it is preferable that the leveling property that the surface after application is quickly flattened is good, and the wettability to the application surface is good, and the solvent is particularly compatible with the drying method in the subsequent drying step. Good ones are preferred. As the additive, one that does not deteriorate the properties of the protective film is used. The curing rate of the protective film coating liquid L can be changed by changing the composition of the solvent. However, if the curing rate is too fast, the applied coating film will be cured before being flattened. The flatness of the surface of the protective film 16 may deteriorate. On the other hand, if the curing speed is too slow, the drying time will be long and the productivity will be poor.

【0046】この保護膜用塗布液Lとしては、例えば、
アクリル系樹脂10〜20重量%、エポキシ樹脂0.1
〜3重量%、カップリング剤0.1〜3重量%、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル(沸点162℃の溶
剤)35〜60重量%、およびブチルカルビトールアセ
テート(沸点247℃の溶剤)20〜45重量%からな
り、粘度4〜8mPa・s、ノズルプレートに対する接
触角46〜52°、表面張力25〜29mN/mである
熱硬化性樹脂組成物を好ましく用いることができる。
The coating liquid L for the protective film is, for example,
Acrylic resin 10 to 20% by weight, epoxy resin 0.1
.About.3 wt%, coupling agent 0.1 to 3 wt%, diethylene glycol dimethyl ether (solvent having a boiling point of 162 ° C.) 35 to 60 wt%, and butyl carbitol acetate (solvent having a boiling point of 247 ° C.) 20 to 45 wt%. , A viscosity of 4 to 8 mPa · s, a contact angle to the nozzle plate of 46 to 52 °, and a surface tension of 25 to 29 mN / m can be preferably used.

【0047】乾燥後の保護膜16の厚さは、薄すぎる
と、仕切り14と着色層15r、15g、15bとの段
差を埋めて表面を平坦化する効果が十分に得られず、厚
すぎると乾燥時間が長くかかり生産性が悪くなる。本実
施形態において、保護膜16を形成する直前の、仕切り
14と着色層15r、15g、15bとの段差は一般的
に1.5〜1.8μm程度であり、これを埋める保護膜
16の膜厚は硬化後において3.0〜4.0μm程度と
することが好ましい。
If the thickness of the protective film 16 after drying is too thin, the effect of filling the step between the partition 14 and the colored layers 15r, 15g, 15b to flatten the surface cannot be sufficiently obtained, and if it is too thick. It takes a long time to dry, resulting in poor productivity. In this embodiment, the step between the partition 14 and the colored layers 15r, 15g, and 15b immediately before forming the protective film 16 is generally about 1.5 to 1.8 μm, and the film of the protective film 16 that fills the step is formed. The thickness after curing is preferably about 3.0 to 4.0 μm.

【0048】第4のインクジェット装置34で保護膜用
塗布液Lを塗布するには、まず基板ステージ4上に基板
母材11をセットし、基板母材11の塗布開始位置の上
方にインクジェットヘッド群1が位置するように、イン
クジェットヘッド群1および/または基板ステージ4を
移動させる。次いで、インクジェットヘッド群1のイン
クジェットヘッド72から保護膜用塗布液Lを所定の吐
出間隔で吐出させつつ、基板ステージ4をY方向に移動
させて1スキャン目の塗布を行う。この場合、インクジ
ェットヘッド72の相対的な進行方向SはY方向とな
る。そして、インクジェットヘッド群1をX方向に移動
させて改行を行った後、再びインクジェットヘッド72
から保護膜用塗布液Lを所定の吐出間隔で塗出させつ
つ、基板ステージ4をY方向に移動させて2スキャン目
の塗布を行う。このようにスキャンの改行とを繰り返し
ながら、基板母材11の全面に保護膜用塗布液Lを塗布
する。あるいはインクジェットヘッド群1のインクジェ
ットヘッド72から保護膜用塗布液Lを塗出させつつ、
インクジェットヘッド群1をX方向に移動させて1スキ
ャンの塗布を行い、改行時に基板ステージ4をY方向に
移動させてもよい。この場合、インクジェットヘッド7
2の相対的な進行方向SはX方向となる。
In order to apply the coating liquid L for the protective film by the fourth ink jet device 34, first, the substrate base material 11 is set on the substrate stage 4, and the inkjet head group is provided above the application start position of the substrate base material 11. The inkjet head group 1 and / or the substrate stage 4 are moved so that 1 is located. Then, the substrate stage 4 is moved in the Y direction while applying the protective film coating liquid L from the inkjet head 72 of the inkjet head group 1 at a predetermined discharge interval, and the first scan is applied. In this case, the relative traveling direction S of the inkjet head 72 is the Y direction. Then, the inkjet head group 1 is moved in the X direction to perform a line feed, and then the inkjet head 72 is again used.
While the coating liquid L for the protective film is applied at a predetermined discharge interval, the substrate stage 4 is moved in the Y direction to apply the second scan. By repeating the line feed of the scan as described above, the coating liquid L for the protective film is applied to the entire surface of the substrate base material 11. Alternatively, while applying the protective film coating liquid L from the inkjet head 72 of the inkjet head group 1,
The inkjet head group 1 may be moved in the X direction to perform coating for one scan, and the substrate stage 4 may be moved in the Y direction at the time of line feed. In this case, the inkjet head 7
The relative traveling direction S of 2 is the X direction.

【0049】1スキャンで形成される塗膜の幅を1個の
カラーフィルタ10の有効領域よりも大きくし、1回の
スキャンで形成される塗膜の幅方向の端縁がカラーフィ
ルタの有効領域外に位置するように塗布を行う。また、
所望の膜厚が得られるように塗布量を制御することが好
ましい。単位面積当たりの塗布量は、基板母材11の全
面において均一としてもよく、あるいは、保護膜用塗布
液Lを塗布する直前の基板母材11の表面の凹凸に応じ
て、部位によって塗布量を変えてもよい。例えば、仕切
り14と着色層15r、15b、15cとでは高さが異
なるので、それぞれの上面に保護膜用塗布液Lを吐出す
る際の吐出量を変えるように制御すれば、保護膜16の
表面の平坦性をより向上させることができる。
The width of the coating film formed by one scan is made larger than the effective area of one color filter 10, and the edge in the width direction of the coating film formed by one scan is the effective area of the color filter. Apply so that it is located outside. Also,
It is preferable to control the coating amount so as to obtain a desired film thickness. The coating amount per unit area may be uniform over the entire surface of the substrate base material 11, or depending on the unevenness of the surface of the substrate base material 11 immediately before the application of the protective film coating liquid L, the coating amount may vary depending on the part. You can change it. For example, since the partition 14 and the colored layers 15r, 15b, and 15c have different heights, the surface of the protective film 16 can be controlled by changing the ejection amount when ejecting the coating liquid L for the protective film onto the respective upper surfaces. The flatness can be further improved.

【0050】具体的には、制御部Cによって、各ノズル
67からの塗布液Lの吐出量を変えることにより膜厚の
制御を行うことができる。すなわち、吐出量に比例して
単位面積当たりの塗布量が変化し、吐出量を増やせば膜
厚を厚くすることができると共に、吐出量を減らせば膜
厚を薄くすることができる。あるいは、基板母材11上
の同一位置に繰り返し塗布を行う際に、繰り返す塗布ご
とに上記各ノズル67からの塗布液Lの吐出量をそれぞ
れ制御することによっても塗膜の膜厚を制御することが
できる。
Specifically, the control unit C can control the film thickness by changing the discharge amount of the coating liquid L from each nozzle 67. That is, the coating amount per unit area changes in proportion to the ejection amount, and the film thickness can be increased by increasing the ejection amount and can be decreased by decreasing the ejection amount. Alternatively, when the coating is repeatedly applied to the same position on the substrate base material 11, the film thickness of the coating film can be controlled by controlling the discharge amount of the coating liquid L from each nozzle 67 for each repeated coating. You can

【0051】第4の乾燥装置44で保護膜用塗布液の塗
膜を予備乾燥させる工程は、スピン乾燥法、ホットプレ
ート乾燥法、真空乾燥法など既知の手法を適宜用いるこ
とができる。乾燥前の塗膜の状態だけでなく、乾燥法の
違いによっても、乾燥後の保護膜16の表面平坦性は変
化し得るので、保護膜16表面の仕上がりや、生産性等
を考慮しつつ、乾燥前の塗膜の表面状態に応じて適宜の
乾燥法を採用することが好ましい。
In the step of predrying the coating film of the coating liquid for protective film with the fourth drying device 44, known methods such as spin drying method, hot plate drying method and vacuum drying method can be appropriately used. Not only the state of the coating film before drying, but also the difference in the drying method, the surface flatness of the protective film 16 after drying can change, so while considering the finish of the protective film 16 surface, productivity, etc., It is preferable to employ an appropriate drying method depending on the surface condition of the coating film before drying.

【0052】予備乾燥後の塗膜を硬化装置45で硬化さ
せる工程は、予備乾燥後の基板母材11を温風送風機構
を備えたオーブン等の加熱手段を備えた硬化装置45に
て加熱処理することによって、塗膜を硬化させて保護膜
16とする。加熱時の条件は、塗膜の材料や膜厚等に応
じて適宜設定される。
In the step of curing the coating film after the preliminary drying by the curing device 45, the substrate base material 11 after the preliminary drying is heat-treated by the curing device 45 having a heating means such as an oven having a warm air blowing mechanism. By doing so, the coating film is cured to form the protective film 16. The conditions for heating are appropriately set according to the material and film thickness of the coating film.

【0053】このようにして保護膜16を形成した後、
基板母材11を個々の有効領域毎に切断することによっ
て、カラーフィルタ10が得られる。また、このカラー
フィルタ10を液晶装置に用いる場合には、基板母材1
1を用いて液晶パネルを組み立てた後、あるいは液晶パ
ネルを組み立てる途中で、基板母材11を各カラーフィ
ルタ毎に切断することが好ましい。
After forming the protective film 16 in this way,
The color filter 10 is obtained by cutting the substrate base material 11 into individual effective regions. When the color filter 10 is used in a liquid crystal device, the substrate base material 1
After assembling the liquid crystal panel using 1, or in the middle of assembling the liquid crystal panel, it is preferable to cut the substrate base material 11 for each color filter.

【0054】本実施形態によれば、保護膜16の表面段
差Dを1μm以下に小さくすることができる。ここでの
表面段差Dの値とは、接触式段差測定装置で表面を測定
した時の上端と下端との差の値をいう。また保護膜16
の形成にインクジェット法を用いているので、スピンコ
ート法を用いる場合に比べて塗布液の使用量が少なくて
済み、表面の平坦性に優れたカラーフィルタを低コスト
で製造することができる。
According to this embodiment, the surface step D of the protective film 16 can be reduced to 1 μm or less. The value of the surface step D here means the value of the difference between the upper end and the lower end when the surface is measured by the contact type step measuring device. In addition, the protective film 16
Since the ink-jet method is used for forming, the amount of the coating liquid used is smaller than that in the case of using the spin coating method, and the color filter having excellent surface flatness can be manufactured at low cost.

【0055】なお、本実施形態では、インクジェット装
置において、塗布液Lを吐出する手段としてインクジェ
ットヘッド72を複数個備えたインクジェットヘッド群
1を用いたが、1スキャンで所望の幅の塗膜が得られれ
ば、吐出手段を1個のインクジェットヘッドだけで構成
することも可能である。本実施形態のように、複数のイ
ンクジェットヘッド72を用いて吐出手段を構成すれ
ば、既存の小型のインクジェットヘッドを使用して、1
スキャンで比較的幅が広い塗膜が得られるように構成す
ることができる。
In this embodiment, the inkjet head group 1 provided with a plurality of inkjet heads 72 is used as the means for ejecting the coating liquid L in the inkjet apparatus. However, a coating film having a desired width can be obtained by one scan. If possible, it is possible to configure the ejection means with only one inkjet head. If the ejection means is configured by using a plurality of inkjet heads 72 as in the present embodiment, the existing small inkjet heads can be used.
It can be configured so that a relatively wide coating can be obtained by scanning.

【0056】また、インクジェットヘッド群1における
インクジェットヘッド72の配列は、本実施形態の配列
に限らず、ノズル67が進行方向Sに対して任意の角度
を有する一方向に沿って列をなしており、かつ進行方向
Sに平行で各ノズル67を通る直線が、幅方向Wにおい
て等間隔となるように配置されていればよく、適宜の配
列とすることができる。例えば、図8に示すように、イ
ンクジェットヘッド72を幅方向Wに複数個、この図の
例では3個、進行方向Sに2列設けるとともに、各イン
クジェットヘッド72はノズル67が幅方向Wに沿って
列をなすように配置してもよい。1列目のインクジェッ
トヘッド72の幅方向Wの端部72aにおいて進行方向
Sに平行でノズル67を通る直線と、2列目のインクジ
ェットヘッド72の幅方向Wの端部72bにおいて進行
方向Sに平行でノズル67を通る直線は、一部重なるよ
うに構成するのが好ましい。なお、この図ではインクジ
ェットヘッドの吐出機構は図示を省略している。
The arrangement of the ink jet heads 72 in the ink jet head group 1 is not limited to the arrangement of this embodiment, but the nozzles 67 are arranged in rows along one direction having an arbitrary angle with respect to the traveling direction S. It is sufficient that the straight lines that are parallel to the traveling direction S and pass through the nozzles 67 are arranged at equal intervals in the width direction W, and an appropriate arrangement can be adopted. For example, as shown in FIG. 8, a plurality of inkjet heads 72 are provided in the width direction W, three in this example, two rows are provided in the traveling direction S, and the nozzles 67 of each inkjet head 72 are arranged in the width direction W. They may be arranged in rows. A straight line that is parallel to the traveling direction S at the end portion 72a in the width direction W of the first row inkjet head 72 and passes through the nozzle 67, and is parallel to the traveling direction S at the end portion 72b in the width direction W of the second row inkjet head 72. It is preferable that the straight lines passing through the nozzle 67 partially overlap each other. It should be noted that the ejection mechanism of the inkjet head is not shown in this figure.

【0057】図9は、本実施形態のカラーフィルタ10
を用いて液晶装置を構成した第1の例を示したもので、
パッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概略構
成を示す断面図である。この例の液晶装置100に、液
晶駆動用IC、バックライト、支持体などの付帯要素を
装着することによって、最終製品としての透過型液晶表
示装置が得られる。
FIG. 9 shows the color filter 10 of this embodiment.
A first example in which a liquid crystal device is configured by using
It is sectional drawing which shows schematic structure of a passive matrix type liquid crystal device (liquid crystal device). A transmissive liquid crystal display device as a final product is obtained by mounting auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support on the liquid crystal device 100 of this example.

【0058】この液晶装置100は、第1の実施形態で
説明したカラーフィルタ10を備えており、カラーフィ
ルタ10を上側(観測者側)に配置したものである。
尚、本実施形態においてはカラーフィルタ10について
簡略に説明することとする。この図には透過型液晶装置
100の要部を示しており、この液晶装置100は、カ
ラーフィルタ10とガラス基板等からなる対向基板10
1との間にSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成
物等からなる液晶層103が挟持されて概略構成されて
いる。カラーフィルタ10は、第1の実施形態で説明し
たカラーフィルタと同じものであり、基板11a、ブラ
ックマトリクス12とバンク13とからなる仕切り1
4、着色層15r、15g、15b、および保護膜16
を備えている。
The liquid crystal device 100 includes the color filter 10 described in the first embodiment, and the color filter 10 is arranged on the upper side (observer side).
In the present embodiment, the color filter 10 will be briefly described. This figure shows a main part of a transmissive liquid crystal device 100. The liquid crystal device 100 includes a counter substrate 10 including a color filter 10 and a glass substrate.
A liquid crystal layer 103 made of an STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition or the like is sandwiched between the first and the second liquid crystal display devices 1 and 1 to form a schematic structure. The color filter 10 is the same as the color filter described in the first embodiment, and the partition 1 including the substrate 11a, the black matrix 12 and the bank 13 is provided.
4, colored layers 15r, 15g, 15b, and protective film 16
Is equipped with.

【0059】カラーフィルタ10の保護膜16上(液晶
層側)には、複数の第1の電極106が所定の間隔でス
トライプ状に形成されており、その上面を覆うように配
向膜109が形成されている。一方、対向基板101に
おけるカラーフィルタ10と対向する面上(液晶層側)
には、カラーフィルタ10側の第1の電極106と直交
する方向に延在する複数の第2の電極105が、所定の
間隔でストライプ状に形成され、その上面を覆うように
配向膜107が形成されている。第1の電極106と第
2の電極105とが交差する部位が画素であり、この画
素となる部位に、カラーフィルタ10の着色層15r、
15g、15bが位置するように構成されている。ま
た、図示していないが、対向基板101およびカラーフ
ィルタ10の外面側には偏光板がそれぞれ設置されてい
る。また、符号104は基板間の間隔(セルギャップと
いう)を基板面内で一定に保持するためのスペーサであ
り、符号110は液晶組成物を基板間に保持するための
シール材である。尚、第1の電極106および第2の電
極105はITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電
材料を平面視ストライプ状に形成したものである。第1
の電極106の一端部はシール材の外側まで延在するよ
うに形成され、引き回し配線106aをなしている。
On the protective film 16 of the color filter 10 (on the liquid crystal layer side), a plurality of first electrodes 106 are formed in stripes at predetermined intervals, and an alignment film 109 is formed so as to cover the upper surface thereof. Has been done. On the other hand, on the surface of the counter substrate 101 facing the color filter 10 (on the liquid crystal layer side)
A plurality of second electrodes 105 extending in a direction orthogonal to the first electrode 106 on the color filter 10 side are formed in stripes at predetermined intervals, and an alignment film 107 is formed so as to cover the upper surface thereof. Has been formed. The portion where the first electrode 106 and the second electrode 105 intersect is a pixel, and the colored layer 15r of the color filter 10 is provided at the portion that becomes the pixel.
It is configured such that 15g and 15b are located. Although not shown, polarizing plates are provided on the outer surfaces of the counter substrate 101 and the color filter 10, respectively. Further, reference numeral 104 is a spacer for keeping the distance between the substrates (called a cell gap) constant within the substrate surface, and reference numeral 110 is a sealant for holding the liquid crystal composition between the substrates. The first electrode 106 and the second electrode 105 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) in a stripe shape in plan view. First
One end of the electrode 106 is formed so as to extend to the outside of the sealing material, and forms a lead wiring 106a.

【0060】かかる構成の液晶装置100によれば、カ
ラーフィルタ10の保護膜16が、インクジェットによ
り基板母材11の全面に成膜された後に切断して形成さ
れたものであるので、表面の平坦性に優れている。した
がって、液晶装置100におけるセルギャップのムラが
小さく抑えられており、表示画面における輝度ムラが改
善されて良好な表示が得られる。また、カラーフィルタ
10の保護膜16の表面平坦性が良好であるので、その
上層に形成されている第1の電極の表面平坦性および配
向膜109の表面平坦性も良好なものとなる。したがっ
て、配向膜109の表面段差に起因して生じるラビング
ムラが防止され、良好な液晶表示特性が得られる。さら
に保護膜16の形成にインクジェットを用いたので、ス
ピンコート法で保護膜を形成する場合に比べて塗布液の
使用量が少なくて済み、製造コストが削減される。
According to the liquid crystal device 100 having such a configuration, since the protective film 16 of the color filter 10 is formed by cutting the film on the entire surface of the substrate base material 11 by ink jet and then cutting it, the surface is flat. It has excellent properties. Therefore, the unevenness of the cell gap in the liquid crystal device 100 is suppressed to be small, the unevenness of the brightness on the display screen is improved, and good display can be obtained. In addition, since the surface flatness of the protective film 16 of the color filter 10 is good, the surface flatness of the first electrode and the alignment film 109 formed thereabove are also good. Therefore, rubbing unevenness caused by the surface step of the alignment film 109 is prevented, and good liquid crystal display characteristics are obtained. Furthermore, since the inkjet is used to form the protective film 16, the amount of the coating liquid used is smaller than that in the case where the protective film is formed by the spin coating method, and the manufacturing cost is reduced.

【0061】図10は、本実施形態のカラーフィルタ1
0を用いて液晶装置を構成した第2の例を示したもの
で、パッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概
略構成を示す断面図である。この実施形態の液晶装置2
00に、液晶駆動用IC、バックライト、支持体などの
付帯要素を装着することによって、最終製品としての透
過型液晶表示装置が得られる。この液晶装置200が、
前記第1の例の液晶装置100と大きく異なる点は、カ
ラーフィルタ10を下側(観測者側の反対側)に配置し
た点である。尚、本例において、カラーフィルタ10の
構成要素については、上記第1の例と同じ符号を付して
その説明を省略する。
FIG. 10 shows the color filter 1 of this embodiment.
2 is a cross-sectional view showing a second example in which a liquid crystal device is configured by using 0, and showing a schematic configuration of a passive matrix type liquid crystal device (liquid crystal device). Liquid crystal device 2 of this embodiment
By mounting auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support member on 00, a transmissive liquid crystal display device as a final product can be obtained. This liquid crystal device 200
A major difference from the liquid crystal device 100 of the first example is that the color filter 10 is arranged on the lower side (the side opposite to the observer side). In the present example, the constituent elements of the color filter 10 are designated by the same reference numerals as those in the first example, and the description thereof is omitted.

【0062】この図には透過型液晶装置200の要部を
示しており、この液晶装置200は、カラーフィルタ1
0とガラス基板等からなる対向基板201との間にST
N(Super Twisted Nematic)液晶等からなる液晶層2
03が挟持されて概略構成されている。カラーフィルタ
10の保護膜16上(液晶側)には、複数の第1の電極
206が所定の間隔でストライプ状に形成されており、
その上面を覆うように配向膜209が形成されている。
一方、対向基板201のカラーフィルタ10と対向する
面上(液晶層側)には、カラーフィルタ側の第1の電極
206と直交する方向に延在する複数の第2の電極20
5が、所定の間隔でストライプ状に形成され、その上面
を覆うように配向膜207が形成されている。そして、
第1の電極206と第2の電極205との交差する部位
が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ
10の着色層15r、15g、15bが位置するように
構成されている。
The main part of the transmissive liquid crystal device 200 is shown in FIG.
ST between 0 and the counter substrate 201 made of a glass substrate or the like.
Liquid crystal layer 2 made of N (Super Twisted Nematic) liquid crystal, etc.
03 is pinched | interposed and it is comprised roughly. On the protective film 16 (on the liquid crystal side) of the color filter 10, a plurality of first electrodes 206 are formed in stripes at predetermined intervals,
An alignment film 209 is formed so as to cover the upper surface.
On the other hand, on the surface of the counter substrate 201 facing the color filter 10 (on the liquid crystal layer side), the plurality of second electrodes 20 extending in the direction orthogonal to the first electrode 206 on the color filter side.
5 are formed in stripes at predetermined intervals, and an alignment film 207 is formed so as to cover the upper surface thereof. And
A portion where the first electrode 206 and the second electrode 205 intersect is a pixel, and the colored layers 15r, 15g, and 15b of the color filter 10 are arranged at the portion that becomes the pixel.

【0063】また、図示していないが、対向基板201
およびカラーフィルタ10の外面側には偏光板がそれぞ
れ設置されている。また、符号204は基板間の間隔
(セルギャップという)を基板面内で一定に保持するた
めのスペーサであり、符号210は液晶を基板間に保持
するためのシール材である。尚、第1の電極206およ
び第2の電極205はITO(Indium Tin Oxide)など
の透明導電材料を平面視ストライプ状に形成したもので
ある。かかる構成の液晶装置200によれば、前記第1
の例の液晶装置100と同様の効果が得られ、液晶装置
における輝度ムラおよびラビングムラの改善、低コスト
化を実現することができる。
Although not shown, the counter substrate 201 is also provided.
Polarizing plates are installed on the outer surface side of the color filter 10, respectively. Further, reference numeral 204 is a spacer for keeping the distance between the substrates (cell gap) constant within the substrate surface, and reference numeral 210 is a sealing material for holding the liquid crystal between the substrates. The first electrode 206 and the second electrode 205 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) in a stripe shape in plan view. According to the liquid crystal device 200 having such a configuration, the first
The same effects as those of the liquid crystal device 100 of the above example can be obtained, and the uneven brightness and the uneven rubbing in the liquid crystal device can be improved and the cost can be reduced.

【0064】図11は、本実施形態のカラーフィルタ1
0を用いて液晶装置を構成した第3の例を示したもの
で、透過型のTFT型(Thin Film Transistor 型)液
晶装置300の概略構成を示す分解斜視図である。この
実施形態の液晶装置300に、液晶駆動用IC、バック
ライト、支持体などの付帯要素を装着することによっ
て、最終製品としての透過型液晶表示装置が構成され
る。この液晶装置300は、前記第1の実施形態のカラ
ーフィルタ10を備えており、カラーフィルタ10を上
側(観測者側)に配置したものである。尚、本例におい
て、カラーフィルタ10の構成要素については、上記第
1の例と同じ符号を付してその説明を省略する。
FIG. 11 shows the color filter 1 of this embodiment.
3 is a third example in which a liquid crystal device is configured by using 0, and is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a transmissive TFT type (Thin Film Transistor type) liquid crystal device 300. FIG. A transmissive liquid crystal display device as a final product is configured by mounting auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support on the liquid crystal device 300 of this embodiment. The liquid crystal device 300 includes the color filter 10 of the first embodiment, and the color filter 10 is arranged on the upper side (observer side). In the present example, the constituent elements of the color filter 10 are designated by the same reference numerals as those in the first example, and the description thereof is omitted.

【0065】この実施形態の液晶装置300は、カラー
フィルタ10と、これに対向するように配置された対向
基板314と、これらの間に挟持された図示しない液晶
層と、カラーフィルタ10の上面側(観測者側)に付設
された偏光板316と、対向基板314の下面側に付設
された図示しない偏光板とを主体として構成されてい
る。カラーフィルタ10の保護膜16上には液晶駆動用
の電極318が形成されている。この電極318は、I
TO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料からな
り、後述の画素電極332が形成される領域全体をカバ
ーする全面電極とされている。また、電極318を覆っ
て液晶層側に配向膜319が設けられている。
In the liquid crystal device 300 of this embodiment, the color filter 10, the counter substrate 314 disposed so as to face the color filter 10, the liquid crystal layer (not shown) sandwiched therebetween, and the upper surface side of the color filter 10 are provided. A polarizing plate 316 attached to the (observer side) and a polarizing plate (not shown) attached to the lower surface side of the counter substrate 314 are mainly configured. An electrode 318 for driving a liquid crystal is formed on the protective film 16 of the color filter 10. This electrode 318 is
It is made of a transparent conductive material such as TO (Indium Tin Oxide) and is a full-face electrode that covers the entire region where a pixel electrode 332 to be described later is formed. Further, an alignment film 319 is provided on the liquid crystal layer side so as to cover the electrode 318.

【0066】一方、対向基板314上には絶縁層325
が形成されており、絶縁膜325の上には、TFT型の
スイッチング素子と画素電極332が形成されている。
なお、実際の液晶装置では、画素電極332上に配向膜
が設けられるが、この図では省略している。
On the other hand, the insulating layer 325 is formed on the counter substrate 314.
And a TFT type switching element and a pixel electrode 332 are formed on the insulating film 325.
Although an alignment film is provided on the pixel electrode 332 in the actual liquid crystal device, it is omitted in this figure.

【0067】スイッチング素子としての薄膜トランジス
タT(TFT)は、対向基板314上に形成された絶縁
層325上に、マトリクス状に走査線351…と信号線
352…とが形成され、これら走査線351…と信号線
352…とに囲まれた領域毎に画素電極332が設けら
れ、各画素電極332のコーナ部分と走査線351と信
号線352との間の部分に、ソース電極、ドレイン電
極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トラン
ジスタTが組み込まれて構成されている。そして、走査
線351と信号線352に対する信号の印加によって薄
膜トランジスタTをオン・オフして画素電極332への
通電制御を行うことができるように構成されている。
In the thin film transistor T (TFT) as a switching element, scanning lines 351 ... And signal lines 352 ... Are formed in a matrix on an insulating layer 325 formed on a counter substrate 314, and these scanning lines 351 ... The pixel electrode 332 is provided in each area surrounded by the signal line 352 and the signal line 352. The source electrode, the drain electrode, the semiconductor, the pixel electrode 332 are provided in the corner portion of each pixel electrode 332 and the portion between the scanning line 351 and the signal line 352. And a thin film transistor T including a gate electrode. Then, the thin film transistor T is turned on / off by applying a signal to the scanning line 351 and the signal line 352 to control the energization of the pixel electrode 332.

【0068】かかる構成の液晶装置300によれば、前
記第1の例の液晶装置100と同様の効果が得られ、液
晶装置における輝度ムラ、ラビングムラの改善、低コス
ト化を実現することができる。また上記の各例の液晶装
置は、透過型の構成としたが、適宜の位置に反射層ある
いは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは
半透過反射型の液晶装置を構成することもできる。
According to the liquid crystal device 300 having such a configuration, the same effect as that of the liquid crystal device 100 of the first example can be obtained, and the uneven brightness and the uneven rubbing in the liquid crystal device can be improved and the cost can be reduced. Although the liquid crystal device of each of the above examples has a transmissive configuration, a reflective layer or a semi-transmissive reflective layer may be provided at an appropriate position to configure a reflective liquid crystal device or a semi-transmissive reflective liquid crystal device. You can also

【0069】図12は、カラーフィルタの第2の実施形
態を示した部分断面図である。本実施形態のカラーフィ
ルタ90が前記第1の実施形態のカラーフィルタ10と
大きく異なる点は、着色層95r、95g、95bがイ
ンクジェットを用いず、フォトリソグラフ法により形成
されている点である。このカラーフィルタ90は、基板
91a上に、マトリクス状に配された画素を備えてお
り、画素と画素の境目は、遮光層からなるブラックマト
リクス92によって区切られている。1つ1つの画素に
はR(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかのインクか
らなる着色層95r、95g、95bが形成されてお
り、これらの全体を覆うように保護膜96が形成されて
いる。R、G、Bの配列は、いわゆるモザイク配列でも
よく、ストライプ配列、デルタ配列など、その他の配列
でも構わない。
FIG. 12 is a partial sectional view showing a second embodiment of the color filter. A major difference of the color filter 90 of the present embodiment from the color filter 10 of the first embodiment is that the colored layers 95r, 95g, 95b are formed by a photolithographic method without using an inkjet. The color filter 90 includes pixels arranged in a matrix on a substrate 91a, and a boundary between the pixels is separated by a black matrix 92 formed of a light shielding layer. Colored layers 95r, 95g, and 95b made of any one of R (red), G (green), and B (blue) inks are formed in each pixel, and a protective film covers all of these. 96 are formed. The arrangement of R, G, B may be a so-called mosaic arrangement, or may be another arrangement such as a stripe arrangement or a delta arrangement.

【0070】本実施形態のカラーフィルタ90を製造す
るには、基板母材91上にフォトリソグラフ法を用い
て、ブラックマトリクス92、次いでR(赤)、G
(緑)、B(青)のインクからなる着色層95r、95
g、95bを順に形成した後、インクジェット法により
保護膜96を形成し、この後に、基板母材91を個々の
カラーフィルタ毎に切断すればよい。保護膜96の形成
は、前記第1の実施形態における保護膜形成装置52、
すなわち第4のインクジェット装置34、第4の乾燥装
置44、および硬化装置45と同様の装置を用い、前記
第1の実施形態における保護膜16の形成工程と同様の
手順で行うことができる。本実施形態において、着色層
95r、95g、95bが形成された基板母材91上に
保護膜用塗布液Lを塗布するのにインクジェットを用い
るので、単位面積当たりの塗布量を、基板母材91の全
面において均一としてもよく、あるいはブラックマトリ
クス92上と着色層95r、95g、95b上とで塗布
量を変えて膜厚を制御することも可能である。
In order to manufacture the color filter 90 of this embodiment, a black matrix 92, and then R (red) and G are formed on the substrate base material 91 by the photolithography method.
Colored layers 95r and 95 composed of (green) and B (blue) inks
After forming g and 95b in order, a protective film 96 is formed by an inkjet method, and thereafter, the substrate base material 91 may be cut into individual color filters. The protective film 96 is formed by the protective film forming apparatus 52 in the first embodiment,
That is, using the same devices as the fourth inkjet device 34, the fourth drying device 44, and the curing device 45, it is possible to perform the same procedure as the step of forming the protective film 16 in the first embodiment. In the present embodiment, since the inkjet is used to apply the coating liquid L for the protective film on the substrate base material 91 on which the colored layers 95r, 95g, and 95b are formed, the application amount per unit area is set to the substrate base material 91. May be uniform over the entire surface, or the film thickness may be controlled by changing the coating amount on the black matrix 92 and the colored layers 95r, 95g, 95b.

【0071】本実施形態においても、前記第1の実施形
態と同様に、保護膜の表面段差Dを1μm以下に小さく
することができる。また保護膜の形成にインクジェット
を用いているので、スピンコート法を用いる場合に比べ
て塗布液の使用量が少なくて済み、表面の平坦性に優れ
たカラーフィルタを低コストで製造することができる。
また、本実施形態のカラーフィルタ91も、前記第1の
実施形態のカラーフィルタ10と同様にして液晶装置を
構成することができ、同様の作用効果を得ることができ
る。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the surface step D of the protective film can be reduced to 1 μm or less. Further, since the inkjet is used for forming the protective film, the amount of the coating liquid used is smaller than that in the case where the spin coating method is used, and the color filter having excellent surface flatness can be manufactured at low cost. .
Further, the color filter 91 of the present embodiment can also configure a liquid crystal device in the same manner as the color filter 10 of the first embodiment, and can obtain similar operational effects.

【0072】次に、本発明の電子機器の実施形態につい
て説明する。図13(a)は、携帯電話の一例を示した
斜視図である。符号600は携帯電話本体を示し、符号
601は液晶表示部を示している。図13(b)は、ワ
ープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示
した斜視図である。符号700は情報処理装置、符号7
01はキーボードなどの入力部、符号703は情報処理
装置本体を示し、符号702は液晶表示部を示してい
る。図13(c)は、腕時計型電子機器の一例を示した
斜視図である。符号800は時計本体を示し、符号80
1は液晶表示部を示している。これらの電子機器におい
て、液晶表示部601、702、801は、前記第1ま
たは第2のカラーフィルタ10、90のいずれかを備え
た液晶装置、例えば前記第1〜3の例の液晶装置10
0、200、300のいずれかを用いて構成されてい
る。
Next, embodiments of the electronic equipment of the present invention will be described. FIG. 13A is a perspective view showing an example of a mobile phone. Reference numeral 600 indicates a mobile phone main body, and reference numeral 601 indicates a liquid crystal display unit. FIG. 13B is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor and a personal computer. Reference numeral 700 is an information processing device, reference numeral 7
Reference numeral 01 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 703 denotes an information processing apparatus main body, and reference numeral 702 denotes a liquid crystal display unit. FIG. 13C is a perspective view showing an example of a wrist watch type electronic device. Reference numeral 800 indicates a watch body, and reference numeral 80
1 has shown the liquid crystal display part. In these electronic devices, the liquid crystal display units 601, 702, and 801 have a liquid crystal device including any one of the first and second color filters 10 and 90, for example, the liquid crystal device 10 of the first to third examples.
It is configured by using any one of 0, 200, and 300.

【0073】これらの実施形態の電子機器にあっては、
液晶表示部601、702、801が、保護膜の表面平
坦性に優れたカラーフィルタ10を備え液晶層のギャッ
プの均一性に優れた液晶装置100、200、300を
用いて構成されているので、輝度ムラ等の表示不良が防
止されて、良好な液晶表示が得られる
In the electronic equipment of these embodiments,
Since the liquid crystal display units 601, 702, and 801 are configured by using the liquid crystal devices 100, 200, and 300 that are provided with the color filter 10 having excellent surface flatness of the protective film and have excellent gap uniformity of the liquid crystal layer, A good liquid crystal display can be obtained by preventing display defects such as uneven brightness.

【0074】[0074]

【実施例】(実施例1)図7に示す方法でカラーフィル
タ10を製造した。まず、縦47cm、横37cm、厚
さ0.7mmの無アルカリガラスからなる基板母材11
を用意し、表面を熱濃硫酸に過酸化水素水を1重量%添
加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥
を行って表面を清浄化した。次に、清浄化された基板母
材11の表面に、スパッタ法により膜厚が平均0.2μ
mのクロム薄膜を成膜した後、エッチングしてブラック
マトリクス12を形成した。基板母材11上における複
数のカラーフィルタ10の配置は、周縁部に幅20mm
の額縁状の余白を残して、その内側に縦28mm、横3
6mmの有効領域が行列状に並ぶように配置した。ま
た、縦方向において隣り合う有効領域の間隔は7mmと
し、横方向において隣り合う有効領域の間隔は6mmと
した。
Example 1 A color filter 10 was manufactured by the method shown in FIG. First, the substrate base material 11 made of alkali-free glass having a length of 47 cm, a width of 37 cm, and a thickness of 0.7 mm
Was prepared, and the surface was washed with a cleaning solution in which 1% by weight of hydrogen peroxide solution was added to hot concentrated sulfuric acid, rinsed with pure water, and then air-dried to clean the surface. Next, an average film thickness of 0.2 μm was formed on the surface of the cleaned substrate base material 11 by the sputtering method.
After forming a chromium thin film of m, the black matrix 12 was formed by etching. Arrangement of the plurality of color filters 10 on the substrate base material 11 has a width of 20 mm in the peripheral portion.
28mm vertical and 3 horizontal, leaving a frame-shaped margin
The effective areas of 6 mm were arranged in a matrix. Further, the interval between the effective regions adjacent to each other in the vertical direction was 7 mm, and the interval between the effective regions adjacent to each other in the horizontal direction was 6 mm.

【0075】次いで、ブラックマトリクス12が形成さ
れた基板母材11上に、ネガ型のフッ素含有アクリル系
の透明感光性樹脂組成物からなるレジスト層17をスピ
ンコート法により形成し、これを100℃で20分間加
熱して予備乾燥させた後、所定のマトリクスパターン形
状に形成されたマスクフィルム18を密着させた状態で
紫外線を照射して露光した。そして、アルカリ性の現像
液に浸漬して、露光されていない部分のレジスト層を除
去した後、純水によるリンス、スピン乾燥、熱硬化を順
に行ってバンク13を形成した。熱硬化させる際の加熱
条件は200℃で30分間とした。バンク13は、表面
が疎インク性であり、高さは約2.5μmとした。
Next, on the substrate base material 11 on which the black matrix 12 is formed, a resist layer 17 made of a negative type fluorine-containing acrylic transparent photosensitive resin composition is formed by spin coating, and this is formed at 100 ° C. After being heated for 20 minutes to be pre-dried, the mask film 18 formed in a predetermined matrix pattern shape was exposed to ultraviolet rays while being in close contact. Then, after immersing in an alkaline developing solution to remove the resist layer in the unexposed portion, rinsing with pure water, spin drying, and heat curing were sequentially performed to form bank 13. The heating conditions for thermosetting were 200 ° C. for 30 minutes. The surface of the bank 13 is ink-phobic and has a height of about 2.5 μm.

【0076】次に、ブラックマトリクス12およびバン
ク13からなる仕切り14が形成された基板母材11を
第1のインクジェット装置31に導入し、R(赤)の着
色層15rからなる画素が形成される領域(仕切り14
で囲まれた領域)に対して、インクジェットヘッド(図
示略)から赤色のインクを吐出した。赤色のインクとし
ては、ポリウレタン樹脂オリゴマーに赤色の有機顔料を
分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよ
び酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトール
アセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤0.0
1重量%を分散剤として添加し、粘度6〜8mPa・s
としたものを用いた。この赤色インクのノズルプレート
に対する接触角は40.1゜、表面張力は30.8mN
/mであった。この後、第1の乾燥装置41に搬送し、
ここでインクを乾燥させてR(赤)の着色層15rを形
成した。乾燥は、ホットプレートを用い、50℃、3分
間の加熱条件で行った。R(赤)の着色層15rの高さ
(乾燥後の膜厚)は1.2μmとした。
Next, the substrate base material 11 on which the partition 14 composed of the black matrix 12 and the bank 13 is formed is introduced into the first ink jet device 31, and the pixel composed of the R (red) colored layer 15r is formed. Area (partition 14
A red ink was ejected from an inkjet head (not shown) to a region surrounded by. As a red ink, after dispersing a red organic pigment in a polyurethane resin oligomer, cyclohexanone and butyl acetate are added as a low-boiling solvent, butyl carbitol acetate is added as a high-boiling solvent, and a nonionic surfactant is added. 0
1% by weight was added as a dispersant, and the viscosity was 6-8 mPa · s.
Was used. The contact angle of this red ink with the nozzle plate is 40.1 °, and the surface tension is 30.8 mN.
Was / m. After that, it is conveyed to the first drying device 41,
Here, the ink was dried to form an R (red) colored layer 15r. Drying was performed using a hot plate under heating conditions of 50 ° C. for 3 minutes. The height of the R (red) colored layer 15r (the film thickness after drying) was 1.2 μm.

【0077】続いて、第2のインクジェット装置32に
導入し、G(緑)の着色層15gからなる画素が形成さ
れる領域(仕切り14で囲まれた領域)に対して、イン
クジェットヘッド(図示略)から緑色のインクを吐出し
た。緑色のインクとしては、上記で用いた赤色インクの
組成において有機顔料を緑色のものに変更した他は同一
成分とした、粘度6〜8mPa・sのものを用いた。こ
の緑色インクのノズルプレートに対する接触角は40.
5゜、表面張力は31.4mN/mであった。この後、
第2の乾燥装置42に搬送し、ここでインクを乾燥させ
てG(緑)の着色層15gを形成した。乾燥は前記R
(赤)の着色層15rと同様に行った。G(緑)の着色
層15gの高さ(乾燥後の膜厚)は1.0μmとした。
Subsequently, the ink is introduced into the second ink jet device 32, and an ink jet head (not shown) is applied to a region (a region surrounded by the partition 14) in which a pixel composed of the G (green) colored layer 15g is formed. ) Ejected a green ink. As the green ink, the same composition as the red ink used above except that the organic pigment was changed to the green one, and the viscosity was 6 to 8 mPa · s. The contact angle of this green ink with the nozzle plate is 40.
The surface tension was 5 ° and 31.4 mN / m. After this,
It was conveyed to the 2nd drying device 42, and the ink was dried here, and 15 g of G (green) colored layers were formed. Dry the above R
The same procedure was performed as for the (red) colored layer 15r. The height of the G (green) colored layer 15g (film thickness after drying) was 1.0 μm.

【0078】続いて、第3のインクジェット装置33に
導入し、B(青)の着色層15bからなる画素が形成さ
れる領域(仕切り14で囲まれた領域)に対して、イン
クジェットヘッド(図示略)から青色のインクを吐出し
た。青色のインクとしては、上記で用いた赤色インクの
組成において有機顔料を青色のものに変更した他は同一
組成とした、粘度6〜8mPa・sのものを用いた。こ
の青色インクのノズルプレートに対する接触角は39.
8゜、表面張力は30.9mN/mであった。そして、
第3の乾燥装置43に搬送し、ここでインクを乾燥させ
てB(青)の着色層15bを形成した。乾燥は前記R
(赤)の着色層15rと同様に行った。B(青)の着色
層15bの高さ(乾燥後の膜厚)は0.8μmとした。
この後、オーブン46に搬送し、220℃、30分間の
条件でポストベークを行い、着色層15r,15g,1
5bを硬化させた。
Then, the ink is introduced into the third ink jet device 33, and an ink jet head (not shown) is applied to the region (the region surrounded by the partition 14) in which the pixel composed of the B (blue) colored layer 15b is formed. ) Ejected blue ink. As the blue ink, one having the same composition as that of the red ink used above except that the organic pigment was changed to a blue one and having a viscosity of 6 to 8 mPa · s was used. The contact angle of this blue ink with the nozzle plate is 39.
The surface tension was 8 ° and 30.9 mN / m. And
It was conveyed to the third drying device 43, and the ink was dried there to form the B (blue) colored layer 15b. Dry the above R
The same procedure was performed as for the (red) colored layer 15r. The height (film thickness after drying) of the B (blue) colored layer 15b was 0.8 μm.
After that, it is conveyed to an oven 46, and post-baked under the conditions of 220 ° C. for 30 minutes to obtain colored layers 15r, 15g, 1
5b was cured.

【0079】続いて、着色層15r、15g、15bが
形成された基板母材11に対してAP処理(大気圧プラ
ズマ処理)を施してバンク13の表面を親インク化した
後、第4のインクジェット装置34に導入し、基板母材
11の着色層15r、15g、15bが形成されている
面全体に対して、保護膜用塗布液Lを塗布した。保護膜
用塗布液Lとしては、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、
カップリング剤、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル(沸点162℃の溶剤)、およびブチルカルビトール
アセテート(沸点247℃の溶剤)からなる熱硬化性樹
脂組成物を用いた。この保護膜用塗布液Lの粘度は6m
Pa・s、ノズルプレートに対する接触角は50°、表
面張力は28mN/mであった。
Subsequently, the substrate base material 11 on which the colored layers 15r, 15g and 15b are formed is subjected to AP treatment (atmospheric pressure plasma treatment) to make the surface of the bank 13 ink-philic, and then the fourth ink jet. After being introduced into the device 34, the protective film coating liquid L was applied to the entire surface of the substrate base material 11 on which the colored layers 15r, 15g, and 15b were formed. As the coating liquid L for the protective film, acrylic resin, epoxy resin,
A thermosetting resin composition comprising a coupling agent, diethylene glycol dimethyl ether (solvent having a boiling point of 162 ° C.), and butyl carbitol acetate (solvent having a boiling point of 247 ° C.) was used. The viscosity of the coating liquid L for this protective film is 6 m.
Pa · s, the contact angle with the nozzle plate was 50 °, and the surface tension was 28 mN / m.

【0080】第4のインクジェット装置34は、インク
ジェットヘッド群1を1スキャンさせることによって塗
布可能な幅の最大値が152mmとなるように構成し
た。そして、基板ステージ4上に基板母材11を、基板
母材11の縦方向が進行方向Sとなるようにセットし、
基板母材11の角部から塗布を開始した。塗布時には、
複数のノズル67のうち同時に塗布液Lを吐出させるノ
ズル67の組み合わせを適宜設定することによって、1
スキャンで形成される塗膜の端縁が、基板母材11上に
おけるカラーフィルタの有効領域外に位置するように、
塗膜の幅を制御した。具体的には、1スキャン目の塗布
幅は126mmとして基板母材11の縦方向の一端から
他端までを塗布し、次いで基板母材11の横方向に改行
して2スキャン目を行った。改行幅は、1スキャン目で
形成される塗膜のと2スキャン目で形成される塗膜との
間に重なりや隙間ができないように設定し、2スキャン
目の塗布幅は126mmとした。同様にして3スキャン
目の塗布を行って基板母材11の全面上に保護膜用塗布
液Lを塗布した。
The fourth ink jet device 34 is constructed so that the maximum value of the coatable width is 152 mm by one scan of the ink jet head group 1. Then, the substrate base material 11 is set on the substrate stage 4 so that the longitudinal direction of the substrate base material 11 is the traveling direction S,
The coating was started from the corner of the substrate base material 11. When applying,
By appropriately setting the combination of the nozzles 67 that simultaneously eject the coating liquid L among the plurality of nozzles 67,
The edge of the coating film formed by scanning is located outside the effective area of the color filter on the substrate base material 11,
The width of the coating was controlled. Specifically, the coating width of the first scan was 126 mm, and coating was applied from one end to the other end of the substrate base material 11 in the vertical direction, and then the substrate base material 11 was line-feeded in the horizontal direction to perform the second scan. The line feed width was set so that there was no overlap or gap between the coating film formed in the first scan and the coating film formed in the second scan, and the coating width in the second scan was 126 mm. Similarly, the third scan was applied to apply the protective film coating liquid L on the entire surface of the substrate base material 11.

【0081】続いて、第4の乾燥装置44に搬送し、ホ
ットプレート乾燥により、基板母材11上に塗布した保
護膜用塗布液Lを予備乾燥させた。乾燥時の加熱条件は
100℃で5分間とした。さらに、硬化装置45に導入
して、200℃30分間の条件で加熱処理して塗膜を完
全に硬化させ、保護膜16を形成し、カラーフィルタ1
0を得た。得られたカラーフィルタ10について、表面
段差を測定した。測定は、1個のカラーフィルタ上の2
0箇所について表面段差の測定を行い、その20箇所の
平均値を求めた。その結果、保護膜16の表面段差は約
0.29μmであった。また、得られたカラーフィルタ
10を用いて、図11に示す構成を有する透過型のTF
T型液晶装置を製造した。得られた液晶装置を駆動させ
たところ、表示画面のエッジ部における干渉ムラは認め
られず、良好な表示が得られた。
Then, the protective film coating liquid L applied onto the substrate base material 11 was pre-dried by being transported to the fourth drying device 44 and dried by hot plate. The heating condition during drying was 100 ° C. for 5 minutes. Furthermore, the color filter 1 is introduced into the curing device 45 and heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes to completely cure the coating film, thereby forming the protective film 16.
I got 0. The surface step of the obtained color filter 10 was measured. Measurement is 2 on one color filter
The surface level difference was measured at 0 points, and the average value of the 20 points was calculated. As a result, the surface step difference of the protective film 16 was about 0.29 μm. Further, by using the obtained color filter 10, a transmission type TF having the configuration shown in FIG.
A T-type liquid crystal device was manufactured. When the obtained liquid crystal device was driven, no interference unevenness was observed at the edge portion of the display screen, and good display was obtained.

【0082】(比較例1)上記実施例1において、保護
膜16を基板母材11の全面に設けず、カラーフィルタ
10の有効領域にのみ形成した他は同様にしてカラーフ
ィルタを製造した。すなわち、上記実施例1と同様にし
て、基板簿材11上に、ブラックマトリクス12、バン
ク13、および着色層15r、15g、15bを形成し
た。続いて、AP処理を施してバンク13の表面を親イ
ンク化した後、基板母材11上においてカラーフィルタ
10の有効領域となる領域にのみ、インクジェット法に
より保護膜用塗布液Lを塗布した。保護膜用塗布液Lは
上記実施例1と同じものを用いた。この後、上記実施例
1と同様にして、塗膜の予備乾燥および熱硬化を行った
後、基板母材11を切断してカラーフィルタを得た。
Comparative Example 1 A color filter was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the protective film 16 was not provided on the entire surface of the substrate base material 11 but was formed only in the effective region of the color filter 10. That is, the black matrix 12, the bank 13, and the colored layers 15r, 15g, and 15b were formed on the substrate material 11 in the same manner as in Example 1 above. Subsequently, after applying an AP treatment to make the surface of the bank 13 ink-philic, the protective film coating liquid L was applied by an ink jet method only to the region on the substrate base material 11 that becomes the effective region of the color filter 10. The same coating liquid L for the protective film as in Example 1 was used. Thereafter, in the same manner as in Example 1 above, the coating film was pre-dried and heat-cured, and then the substrate base material 11 was cut to obtain a color filter.

【0083】得られたカラーフィルタ10について、上
記実施例1と同様にして表面段差を測定した。その結
果、保護膜16の表面段差は約0.30μmであった
が、上記実施例1と同様にして透過型のTFT型液晶装
置に用いたところ、液晶装置を駆動させるときに表示画
面の周縁部(エッジ部)に膜厚ムラが原因と思われる干
渉縞が観察された。
The surface level difference of the obtained color filter 10 was measured in the same manner as in Example 1 above. As a result, the surface level difference of the protective film 16 was about 0.30 μm. However, when the protective film 16 was used for a transmissive TFT liquid crystal device in the same manner as in Example 1, the peripheral edge of the display screen was observed when the liquid crystal device was driven. Interference fringes, which are thought to be caused by the film thickness unevenness, were observed at the edge (edge portion).

【0084】[0084]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板母材上に、インクジェット法により塗布した保護膜
用塗布液を乾燥させる際に、塗膜のエッジ部に盛り上が
りが生じても、基板母材を個々のカラーフィルタ毎に切
断する際に、この盛り上がりが生じた部分を切り落とす
ことができるので、保護膜の表面平坦性に優れたカラー
フィルタを製造することができる。また、従来のスピン
コート法を用いて保護膜を形成する方法に比べて、使用
する保護膜用塗布液の量が少なくて済むので、原材料費
の削減、低コスト化を図ることができる。また本発明の
カラーフィルタは、保護膜の表面段差が1μm以下であ
るので、表面平坦性が良好であり、このカラーフィルタ
を用いて液晶装置を構成することにより、カラーフィル
タの上層に設けられる液晶層のギャップムラが防止さ
れ、輝度ムラ等の表示不良が抑えられて良好な液晶表示
を得ることができる。したがって、本発明によれば、表
示画面の均質性に優れた液晶装置および電子機器が得ら
れる。
As described above, according to the present invention,
When the protective film coating liquid applied by the inkjet method on the substrate base material is dried, even if swelling occurs at the edge part of the coating film, when cutting the substrate base material into individual color filters, this Since the portion where the swelling occurs can be cut off, it is possible to manufacture a color filter having excellent surface flatness of the protective film. Further, as compared with the conventional method of forming a protective film by using a spin coating method, the amount of the coating liquid for the protective film to be used can be smaller, so that the cost of raw materials and the cost can be reduced. Further, the color filter of the present invention has good surface flatness because the surface step of the protective film is 1 μm or less, and the liquid crystal provided on the upper layer of the color filter by forming a liquid crystal device using this color filter. It is possible to prevent the layer gap unevenness, suppress display defects such as brightness unevenness, and obtain a good liquid crystal display. Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal device and an electronic device having excellent display screen homogeneity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のカラーフィルタの第1の実施形態を
示す部分断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a first embodiment of a color filter of the invention.

【図2】 本発明のカラーフィルタの製造方法に好適に
用いられる製造ラインの例を示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an example of a production line suitably used in the method for producing a color filter of the present invention.

【図3】 本発明のカラーフィルタの製造方法に好適に
用いられるインクジェット装置の例を示す概略構成図で
ある。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an example of an inkjet device that is preferably used in the color filter manufacturing method of the present invention.

【図4】 図2のインクジェット装置におけるインクジ
ェットヘッドの配列の一例を示す平面図である。
4 is a plan view showing an example of an array of inkjet heads in the inkjet apparatus of FIG.

【図5】 図2のインクジェット装置におけるインクジ
ェットヘッドの要部断面斜視図である。
5 is a cross-sectional perspective view of a main part of an inkjet head in the inkjet device of FIG.

【図6】 図2のインクジェット装置におけるインクジ
ェットヘッドの断面図である。
6 is a cross-sectional view of an inkjet head in the inkjet device of FIG.

【図7】 (a)〜(e)は、第1の実施形態のカラー
フィルタを製造する方法を工程順に示した模式断面図で
ある。
7A to 7E are schematic cross-sectional views showing the method of manufacturing the color filter of the first embodiment in the order of steps.

【図8】 図2のインクジェット装置におけるインクジ
ェットヘッドの配列の他の例を示す平面図である。
8 is a plan view showing another example of an array of inkjet heads in the inkjet apparatus of FIG.

【図9】 本発明に係る液晶装置の例を示した断面図で
ある。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal device according to the present invention.

【図10】 本発明に係る液晶装置の例を示した断面図
である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal device according to the present invention.

【図11】 本発明に係る液晶装置の例を示した分解斜
視図である。
FIG. 11 is an exploded perspective view showing an example of a liquid crystal device according to the present invention.

【図12】 本発明のカラーフィルタの第2の実施形態
を示す部分断面図である。
FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a second embodiment of the color filter of the invention.

【図13】 本発明に係る電子機器の例を示したもので
(a)は携帯電話の斜視図であり、(b)は携帯型情報
処理装置の斜視図であり、(c)は腕時計型電子機器の
斜視図である。
13A and 13B show examples of electronic devices according to the present invention, where FIG. 13A is a perspective view of a mobile phone, FIG. 13B is a perspective view of a portable information processing device, and FIG. It is a perspective view of an electronic device.

【図14】 従来のカラーフィルタの例を示す模式断面
図である。
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional color filter.

【図15】 従来のカラーフィルタにおける表面段差を
説明するための概略断面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view for explaining a surface step in a conventional color filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,90…カラーフィルタ 11,91…基板母材 11a,91a,501…基板、 15r,15g,15b,95r,95g,95b,5
02r,502g,502b…着色層、16,96,5
03…保護膜 1…インクジェットヘッド群 67…ノズル 72…インクジェットヘッド L…保護膜用塗布液 100,200,300…液晶装置 101,201,314…対向基板 103,203…液晶層 D…表面段差
10, 90 ... Color filters 11, 91 ... Substrate base materials 11a, 91a, 501 ... Substrate, 15r, 15g, 15b, 95r, 95g, 95b, 5
02r, 502g, 502b ... Colored layer, 16, 96, 5
03 ... Protective film 1 ... Inkjet head group 67 ... Nozzle 72 ... Inkjet head L ... Protective film coating liquid 100, 200, 300 ... Liquid crystal device 101, 201, 314 ... Counter substrate 103, 203 ... Liquid crystal layer D ... Surface step

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C056 EA24 FA10 FB01 HA11 HA44 HA46 2H048 BA64 BB02 BB24 BB37 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB08 FC01 FC10 GA03 GA16 LA12 LA15 LA18    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2C056 EA24 FA10 FB01 HA11 HA44                       HA46                 2H048 BA64 BB02 BB24 BB37 BB44                 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB08                       FC01 FC10 GA03 GA16 LA12                       LA15 LA18

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に着色層が形成されており、該着
色層上に保護膜が形成されてなるカラーフィルタの製造
方法であって、 基板母材上に着色層を形成する着色層形成工程と、 前記基板母材の前記着色層が形成されている面の全面上
にインクジェット法により保護膜用塗布液を塗布する塗
布工程と、 前記基板母材上に塗布された保護膜用塗布液を硬化させ
て保護膜を形成する硬化工程と、 前記保護膜が形成された前記基板母材を、個々のカラー
フィルタ毎に切断する切断工程を有することを特徴とす
るカラーフィルタの製造方法。
1. A method of manufacturing a color filter comprising a colored layer formed on a substrate and a protective film formed on the colored layer, the method comprising forming a colored layer on a substrate base material. A coating step for coating a protective film coating liquid on the entire surface of the substrate base material on which the colored layer is formed by an inkjet method; and a protective film coating liquid applied on the substrate base material. A method of manufacturing a color filter, comprising: a curing step of curing the resin to form a protective film; and a cutting step of cutting the substrate base material on which the protective film is formed into individual color filters.
【請求項2】 前記塗布工程において、インクジェット
ヘッドに設けられている複数のノズルから前記保護膜用
塗布液を吐出しつつ、前記インクジェットヘッドと前記
基板母材との位置を相対的に移動させてスキャンすると
ともに、1回のスキャンで形成される塗膜の幅方向の端
縁がカラーフィルタの有効領域外に位置するように、前
記塗膜の幅を制御することを特徴とする請求項1記載の
カラーフィルタの製造方法。
2. In the coating step, the positions of the inkjet head and the substrate base material are relatively moved while discharging the protective film coating liquid from a plurality of nozzles provided in the inkjet head. The width of the coating film is controlled so that the widthwise edge of the coating film formed by one scan is located outside the effective area of the color filter while scanning. Of manufacturing color filter of.
【請求項3】 前記塗布工程において、前記インクジェ
ットヘッドに設けられている複数のノズルのうち同時に
保護膜用塗布液が吐出されるノズルの組み合わせを変え
ることにより、前記保護膜用塗布液が塗布される幅を制
御することを特徴とする請求項2記載のカラーフィルタ
の製造方法。
3. In the coating step, the protective film coating liquid is coated by changing the combination of nozzles of the plurality of nozzles provided in the ink jet head that simultaneously discharge the protective film coating liquid. The method for manufacturing a color filter according to claim 2, wherein the width of the color filter is controlled.
【請求項4】 前記塗布工程において、塗布領域によっ
て保護膜用塗布液の塗布量を変化させることを特徴とす
る請求項1ないし3のいずれかに記載のカラーフィルタ
の製造方法。
4. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein in the coating step, the coating amount of the protective film coating liquid is changed depending on the coating region.
【請求項5】 前記着色層形成工程が、インクジェット
法により着色層用塗布液を塗布する工程と、該着色層用
塗布液を硬化させる工程を有しており、該着色層形成工
程と前記保護膜用塗布液を塗布する塗布工程を1つの製
造ライン内で行うことを特徴とする請求項1ないし4の
いずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
5. The coloring layer forming step includes a step of applying a coloring layer coating solution by an ink jet method and a step of curing the coloring layer coating solution. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the coating step of coating the film coating liquid is performed in one manufacturing line.
【請求項6】 基板上に着色層が形成され、該着色層上
に保護膜が形成されてなるカラーフィルタであって、前
記保護膜がインクジェット法により形成されたものであ
り、該保護膜の表面段差が1μm以下であることを特徴
とするカラーフィルタ。
6. A color filter comprising a colored layer formed on a substrate and a protective film formed on the colored layer, wherein the protective film is formed by an inkjet method. A color filter having a surface step of 1 μm or less.
【請求項7】 前記保護膜が、基板を切り出すための基
板母材上に着色層を形成した後、該基板母材の前記着色
層が形成されている面の全面上にインクジェット法によ
り保護膜用塗布液を塗布し、該保護膜用塗布液を硬化さ
せた後、前記基板母材を、個々のカラーフィルタ毎に切
断することによって形成されたものであり、前記保護膜
が、カラーフィルタの基板の全面上に形成されているこ
とを特徴とする請求項6記載のカラーフィルタ。
7. The protective film is formed by forming a colored layer on a substrate base material for cutting out a substrate, and then forming a protective film on the entire surface of the substrate base material on which the colored layer is formed by an inkjet method. Is formed by cutting the substrate base material into individual color filters after applying the coating liquid for coating and curing the coating liquid for the protective film. The color filter according to claim 6, which is formed on the entire surface of the substrate.
【請求項8】 前記保護膜用塗布液の塗布が、インクジ
ェットヘッドに設けられている複数のノズルから保護膜
用塗布液を吐出しつつ、前記インクジェットヘッドと前
記基板母材との位置を相対的に移動させてスキャンする
ことによって行われ、1回のスキャンで塗布された塗膜
の幅方向の端縁がカラーフィルタの有効領域外に存在し
ていることを特徴とする請求項7記載のカラーフィル
タ。
8. The coating of the coating liquid for protective film is performed by ejecting the coating liquid for protective film from a plurality of nozzles provided in the inkjet head, and the relative positions of the inkjet head and the base material of the substrate. 8. The color according to claim 7, wherein an edge in the width direction of the coating film applied by one scan is present outside the effective area of the color filter. filter.
【請求項9】 請求項6ないし8のいずれかに記載のカ
ラーフィルタと、該カラーフィルタの保護膜が形成され
ている側に対向配置された対向基板と、前記カラーフィ
ルタと前記対向基板との間に挟持された液晶組成物とを
備えてなることを特徴とする液晶装置。
9. The color filter according to claim 6, a counter substrate disposed opposite to a side of the color filter on which a protective film is formed, the color filter and the counter substrate. A liquid crystal device comprising a liquid crystal composition sandwiched therebetween.
【請求項10】 請求項9記載の液晶装置を具備してな
ることを特徴とする電子機器。
10. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 9.
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