JP2003142265A - Light emitting element - Google Patents

Light emitting element

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JP2003142265A
JP2003142265A JP2001339425A JP2001339425A JP2003142265A JP 2003142265 A JP2003142265 A JP 2003142265A JP 2001339425 A JP2001339425 A JP 2001339425A JP 2001339425 A JP2001339425 A JP 2001339425A JP 2003142265 A JP2003142265 A JP 2003142265A
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JP
Japan
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light emitting
compound
emitting device
group
ring
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Application number
JP2001339425A
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Japanese (ja)
Inventor
Keizo Kimura
桂三 木村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting element with high brightness and excellent durability which can emit light with high light emitting efficiency. SOLUTION: For the light emitting element having organic compound layers including a light emitting layer between a pair of electrodes formed on a substrate, at least one of the organic compound layers contains a compound shown by formula (1) and a phosphorescent compound. In formula (1), Z<1> and Z<2> represent nonmetallic atom group necessary for forming a five-membered ring together with nitrogen atom and the ring may have a substituent or may form a fused ring together with an another ring. L<1> , L<2> , L<3> , and L<4> represent hydrogen atom, alkyl group, aryl group, or nitrogen containing aromatic ring group, and M represents metallic atom.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光素子材料およ
び発光素子に関するものであり、特に高輝度で発光効率
が高く、耐久性に優れる発光素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device material and a light emitting device, and more particularly to a light emitting device having high brightness, high luminous efficiency and excellent durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、種々の発光素子に関する研究開発
が活発であり、中でも有機電界発光(EL)素子は、低
電圧で高輝度の発光を得ることができるため、有望な発
光素子として注目されている。例えば、有機化合物の蒸
着により有機薄膜を形成する発光素子が知られている
(アプライド フィジックス レターズ,51巻,91
3頁,1987年)。この文献に記載された発光素子は
トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体
(Alq)を電子輸送材料として用い、正孔輸送材料
(アミン化合物)と積層させることにより、従来の単層
型素子に比べて発光特性を大幅に向上させている。
2. Description of the Related Art Today, research and development relating to various light-emitting devices are active, and among them, organic electroluminescence (EL) devices are promising as light-emitting devices because they can emit light with high brightness at low voltage. ing. For example, a light emitting device in which an organic thin film is formed by vapor deposition of an organic compound is known (Applied Physics Letters, Vol. 51, 91).
3 pages, 1987). The light-emitting device described in this document uses tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum complex (Alq) as an electron-transporting material and is laminated with a hole-transporting material (amine compound) to obtain a conventional single-layer device. Compared with this, the light emission characteristics are greatly improved.

【0003】近年、有機EL素子をカラーディスプレイ
へと適用することが活発に検討されているが、高性能カ
ラーディスプレイを開発する為には、青・緑・赤、それ
ぞれの発光素子の特性を向上する必要がある。発光素子
特性向上の手段として、アプライド フィジックス レ
ターズ,75巻,4頁(1999年)に記載のイリジウ
ム錯体からの発光を利用した緑色発光素子が報告されて
いる。本素子は外部量子効率8%を達しており、従来素
子の限界といわれていた外部量子効率5%を凌駕してい
るが、耐久性に問題があり、その改良が望まれていた。
また、特開2000−226573にピラザボール構造
を有する化合物を含有する素子の記載があるが、輝度、
耐久性とも低く、その向上が望まれた。
In recent years, application of organic EL elements to color displays has been actively studied, but in order to develop high-performance color displays, characteristics of blue, green, and red light emitting elements have been improved. There is a need to. As a means for improving the characteristics of a light emitting device, a green light emitting device utilizing light emission from an iridium complex described in Applied Physics Letters, Vol. 75, p. 4 (1999) has been reported. This device has reached an external quantum efficiency of 8%, which exceeds the external quantum efficiency of 5%, which was said to be the limit of conventional devices, but there is a problem with durability, and improvement thereof has been desired.
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-226573 describes an element containing a compound having a pyrazaball structure.
Its durability is low, and its improvement is desired.

【0004】一方、有機発光素子において高輝度発光を
実現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層し
ている素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面
積化等の観点から塗布方式による素子作製が望ましい。
しかしながら、従来の塗布方式で作製した素子では発光
輝度、発光効率の点で蒸着方式で作製した素子に劣って
おり、高輝度、高効率発光化が大きな課題となってい
た。
On the other hand, an organic light emitting device that realizes high-luminance light emission is a device in which organic substances are laminated by vacuum vapor deposition, but from the viewpoint of simplification of the manufacturing process, workability, increase in area, etc. It is desirable to manufacture the device by a coating method.
However, the element manufactured by the conventional coating method is inferior to the element manufactured by the vapor deposition method in terms of light emission brightness and light emission efficiency, and high brightness and high efficiency light emission are major problems.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
実情に鑑みてなされたものであり、高輝度、高効率発光
可能で耐久性に優れた発光素子を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a light emitting device which can emit light with high brightness and high efficiency and is excellent in durability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この課題は下記の手段に
よって達成された。 (1)基板上に設けた一対の電極間に発光層を含む有機
化合物層を形成した発光素子において、該有機化合物層
の少なくとも1層に下記一般式(I)で表される化合物
とりん光発光性化合物を含有することを特徴とする発光
素子。
This object was achieved by the following means. (1) In a light-emitting device in which an organic compound layer including a light-emitting layer is formed between a pair of electrodes provided on a substrate, at least one of the organic compound layers contains a compound represented by the following general formula (I) and phosphorescence. A light emitting device comprising a light emitting compound.

【0007】[0007]

【化2】 [Chemical 2]

【0008】一般式(I)中、Z1およびZ2は窒素原子
とともに5員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
し、この環は置換基を有していてもよく、また更に別の
環と縮合環を形成してもよい。L1、L2、L3およびL4
はそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基または含
窒素芳香環基を表し、Mは金属原子を表す。 (2)前記一般式(I)で表される化合物がピラザボー
ル構造を有することを特徴とする(1)記載の発光素
子。(3)前記ピラザボール構造を有する化合物が4,
4,8,8−テトラキス(1H−ピラゾールー1−イ
ル)ピラザボールであることを特徴とする(2)記載の
発光素子。 (4)前記りん光発光性化合物が有機金属錯体であるこ
とを特徴とする(1)〜(3)記載の発光素子。 (5)前記りん光発光性化合物がオルトメタル化錯体で
あることを特徴とする(1)〜(4)記載の発光素子。 (6)前記りん光発光性化合物がオルトメタル化イリジ
ウム錯体であることを特徴とする(1)〜(5)に記載
の発光素子。 (7)有機発光層が高分子化合物を含有することを特徴
とする(1)〜(6)のいずれかに記載の発光素子。
In the general formula (I), Z 1 and Z 2 represent a group of non-metal atoms necessary for forming a 5-membered ring with a nitrogen atom, and this ring may have a substituent. It may form a condensed ring with another ring. L 1 , L 2 , L 3 and L 4
Each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a nitrogen-containing aromatic ring group, and M represents a metal atom. (2) The light emitting device according to (1), wherein the compound represented by the general formula (I) has a pyrazabole structure. (3) The compound having the pyrazaball structure is 4,
The light emitting device according to (2), which is 4,8,8-tetrakis (1H-pyrazol-1-yl) pyrazaball. (4) The light emitting device according to any one of (1) to (3), wherein the phosphorescent compound is an organometallic complex. (5) The light emitting device according to any one of (1) to (4), wherein the phosphorescent compound is an orthometallated complex. (6) The light emitting device according to any one of (1) to (5), wherein the phosphorescent compound is an orthometalated iridium complex. (7) The light emitting device according to any one of (1) to (6), wherein the organic light emitting layer contains a polymer compound.

【0009】なお、本発明の一般式(I)の化合物は特
開2001−3044、特開2001−43973およ
び特開2000−226573に記載の化合物に含まれ
るが、該明細書中にはりん光発光性化合物に関する記載
は一切なく、従って該明細書から本発明の発光素子およ
びその性能を予想することは不可能である。
The compound of formula (I) of the present invention is included in the compounds described in JP 2001-3044 A, JP 2001-43973 A and JP 2000-226573 A. There is no description regarding the light emitting compound, and therefore, it is impossible to predict the light emitting device of the present invention and its performance from the specification.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。一般式(I)において、Z1およびZ2は同一でも
異なっていてもよく、それぞれ窒素原子とともに5員環
を形成するのに必要な非金属原子群を表し、この環は置
換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を形
成してもよい。置換基の例としてはハロゲン原子、脂肪
族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、ニトロ、−O
101、―SR102、−CO2103、−OCOR104、−
NR105106、−CONR107108、―SO2109
−SO2NR110111、−NR112CONR 113114、−
NR115CO2116、−COR117、−NR118COR119
またはーNR120SO2121が挙げられる。ここで
101、R102、R103、R104、R 105、R 106、R
107、R 108、R 109、R 110、R 111、R 112、R
113、R 114、R 115、R 116、R 117、R 118、R
119、R 120およびR 121はそれぞれ独立に、水素原
子、脂肪族基またはアリール基である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below.
To do. In the general formula (I), Z1And Z2Are the same
May be different, each with 5-membered ring with nitrogen atom
Represents the group of non-metal atoms required to form
It may have a substituent, and may form a condensed ring with another ring.
May be done. Examples of the substituent include a halogen atom and fat
Group, aryl, heterocyclic group, cyano, nitro, -O
R101, -SR102, -CO2R103, -OCOR104,-
NR105 R106, -CONR107R108, -SO2R109,
-SO2NR110R111, -NR112CONR 113R114,-
NR115CO2R116, -COR117, -NR118COR119
Or-NR120SO2R121Is mentioned. here
R101, R102, R103, R104, R105, R106, R
 107, R108, R109, R110, R111, R112, R
113, R114, R115, R116, R117, R118, R
119, R120And R121Are independent hydrogen
A child, an aliphatic group or an aryl group.

【0011】置換基としては上記のうちハロゲン原子、
脂肪族基、アリール基、−OR101、―SR102 、−N
105106、―SO2109、−NR112CONR113
114、−NR115CO2116 、−NR118COR119また
はーNR120SO2121であることが好ましく、ハロゲ
ン原子、脂肪族基、アリール基、−OR101、―S
102、−NR105106または―SO2109であること
がより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、フェノキシ基、ジアルキルアミノ基
であることがより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜10のアリール
基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基であることが更
に好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキ
ル基であることが最も好ましい。
As the substituent, a halogen atom among the above,
Aliphatic group, aryl group, -OR 101 , -SR 102 , -N
R 105 R 106 , -SO 2 R 109 , -NR 112 CONR 113 R
114 , -NR 115 CO 2 R 116 , -NR 118 COR 119 or -NR 120 SO 2 R 121 is preferred, and a halogen atom, an aliphatic group, an aryl group, -OR 101 , -S.
R 102 , —NR 105 R 106 or —SO 2 R 109 is more preferable, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a phenoxy group and a dialkylamino group are more preferable, a halogen atom and a carbon atom. More preferably, it is an alkyl group having 1 to 10 atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Is most preferred.

【0012】ここで、脂肪族基はアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基およびアラルキル基を意味する。
Here, the aliphatic group means an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group and an aralkyl group.

【0013】Z1およびZ2が形成する5員環としては含
窒素芳香族環が好ましく、例えばピラゾール環、1,
2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール
環、オキサジアゾール環およびチアジアゾール環があ
る。Z1およびZ2として好ましくはピラゾール環、1,
2,4−トリアゾール環、オキサジアゾール環およびチ
アジアゾール環であり、更に好ましくはピラゾール環、
1,2,4−トリアゾール環およびオキサジアゾール環
であり、最も好ましくはピラゾール環である。
The 5-membered ring formed by Z 1 and Z 2 is preferably a nitrogen-containing aromatic ring, for example, a pyrazole ring, 1,
There are 2,3-triazole rings, 1,2,4-triazole rings, oxadiazole rings and thiadiazole rings. Z 1 and Z 2 are preferably pyrazole rings, 1,
2,4-triazole ring, oxadiazole ring and thiadiazole ring, more preferably pyrazole ring,
1,2,4-triazole ring and oxadiazole ring, most preferably pyrazole ring.

【0014】好ましいZ1およびZ2の炭素原子数は各々
3〜20であり、更に好ましくは3〜8であり、更に好
ましくは3〜5である。
The number of carbon atoms of Z 1 and Z 2 is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 8, and further preferably 3 to 5.

【0015】一般式(I)においてL1、L2、L3およ
びL4は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原
子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ま
しくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜4で
あり、例えばメチル、エチル、iso―プロピル、te
rt−ブチル、n―オクチル、n―デシル、n−ヘキサ
デシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、トリフルオロメチルおよびペンタフルオロメチル
などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6
〜20、より好ましくは炭素数6〜10であり、例えば
フェニル、p−メチルフェニル、ナフチル、アントラニ
ルなどが挙げられる)または含窒素芳香環基(好ましく
は炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10、よ
り好ましくは炭素数1〜5であり、窒素以外のヘテロ原
子としては例えば酸素原子、硫黄原子を有し、具体的に
は例えばイミダゾリル、トリアゾリル、ピラゾリル、ベ
ンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾ
リルなどが挙げられる)を表し、好ましくは水素原子、
炭素数1〜4のアルキル基、および炭素数1〜5の含窒
素芳香族環基であり、より好ましくは水素原子、メチ
ル、エチル、iso−プロピル、n−プロピル、iso
―ブチル、iso−ペンチル、1−ピラゾリル、1,
2,4−トリアゾール−1−イル、オキサジアゾール−
1−イルおよびチアジアゾール−1−イルであり、更に
好ましくは水素原子、メチル、エチル、iso−プロピ
ル、1−ピラゾリルである。
In the general formula (I), L 1 , L 2 , L 3 and L 4 may be the same or different and each is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom). -10, more preferably 1 to 4 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, te
rt-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, trifluoromethyl, pentafluoromethyl and the like), an aryl group (preferably having 6 carbon atoms)
To 20, more preferably 6 to 10 carbon atoms, and examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, anthranyl, etc.) or a nitrogen-containing aromatic ring group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon number). 1 to 10, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and the hetero atom other than nitrogen has, for example, an oxygen atom or a sulfur atom, and specifically includes, for example, imidazolyl, triazolyl, pyrazolyl, benzoxazolyl, benzimidazolyl. , Benzthiazolyl and the like), preferably a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a nitrogen-containing aromatic ring group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, methyl, ethyl, iso-propyl, n-propyl, iso.
-Butyl, iso-pentyl, 1-pyrazolyl, 1,
2,4-triazol-1-yl, oxadiazole-
1-yl and thiadiazol-1-yl are more preferable, and hydrogen atom, methyl, ethyl, iso-propyl and 1-pyrazolyl are more preferable.

【0016】Mは金属原子を表し、好ましくは第3属金
属原子であり、最も好ましくはホウ素原子を表す。
M represents a metal atom, preferably a Group 3 metal atom, and most preferably a boron atom.

【0017】一般式(I)で表される化合物のうち好ま
しくは下記一般式(II)で表されるピラザボール構造を
有する化合物である。
Of the compounds represented by the general formula (I), compounds having a pyrazabole structure represented by the following general formula (II) are preferable.

【0018】[0018]

【化3】 [Chemical 3]

【0019】一般式(II)においてR1、R2、R3
4、R5およびR6は水素原子または置換基を表し、置
換基の例および好ましい範囲としてはZ1およびZ2で挙
げたものと同一である。
In the general formula (II), R 1 , R 2 , R 3 ,
R 4 , R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples and preferable ranges of the substituent are the same as those mentioned for Z 1 and Z 2 .

【0020】一般式(II)においてL1、L2、L3およ
びL4は一般式(I)におけるそれと同義であり、好ま
しい範囲も同一である。
In the general formula (II), L 1 , L 2 , L 3 and L 4 have the same meanings as those in the general formula (I), and their preferable ranges are also the same.

【0021】一般式(II)で表されるピラザボール化合
物のうち、さらに好ましくは下記式で表される4,4,
8,8−テトラキス(1H−ピラゾールー1−イル)ピ
ラザボールである。
Of the pyrazabole compounds represented by the general formula (II), 4,4,4 represented by the following formula are more preferable.
It is 8,8-tetrakis (1H-pyrazol-1-yl) pyrazabol.

【0022】[0022]

【化4】 [Chemical 4]

【0023】以下に、本発明で用いる一般式(I)で表
される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (I) used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【化5】 [Chemical 5]

【0025】[0025]

【化6】 [Chemical 6]

【0026】[0026]

【化7】 [Chemical 7]

【0027】[0027]

【化8】 [Chemical 8]

【0028】[0028]

【化9】 [Chemical 9]

【0029】本発明におけるりん光発光性化合物は、多
重度の異なる項間の遷移に基づく発光(例えば三重項→
一重項)が他の物質よりも強いものと定義する。好まし
くは常温におけるりん光量子収率が25%以上のもので
あり、より好ましくは40%以上のものであり、さらに
好ましくは60%のものであり、特に好ましくは80%
以上のものであり、例えば金属を含まない有機化合物や
金属−ヘテロ原子結合を有する金属錯体、金属−炭素結
合を有する有機金属錯体などが挙げられ、下記に記載の
オルトメタル化金属錯体などが挙げられる。次に有機金
属錯体について説明する。有機金属錯体は、例えば「有
機金属化学−基礎と応用−」p150,232裳華房社
山本明夫著(1982年発行)の6ページで定義されて
いるように、金属と有機基が金属―炭素の直接結合によ
り結びついた化合物のことを指す。次に、本発明で用い
るオルトメタル化金属錯体について説明する。オルトメ
タル化金属錯体とは、例えば「有機金属化学−基礎と応
用−」p150,232裳華房社山本明夫著1982年
発行、「Photochemistry and Photophysics of Coordin
ation Compounds」 p71-p77,p135-p146 Springer-Verla
g社 H.Yersin著1987年発行等に記載されている化合
物群の総称である。金属錯体の中心金属としては、遷移
金属であればいずれのものも使用可能であるが、本発明
では、中でも特にロジウム、白金、金、イリジウム、ル
テニウム、パラジウム等を好ましく用いることができ
る。この中で特に好ましいものはイリジウムである。
The phosphorescent compound according to the present invention emits light based on a transition between terms having different multiplicities (eg triplet →
Singlet) is stronger than other substances. The phosphorescence quantum yield at room temperature is preferably 25% or more, more preferably 40% or more, further preferably 60%, particularly preferably 80%.
The above is mentioned, for example, an organic compound containing no metal, a metal complex having a metal-heteroatom bond, an organometallic complex having a metal-carbon bond, and the like, and an orthometallated metal complex described below and the like. To be Next, the organometallic complex will be described. The organometallic complex is defined by, for example, “Organometallic Chemistry—Basics and Applications—” p150, 232, Shokabo Publishing, Akio Yamamoto (published in 1982), page 6, in which the metal and the organic group are metal-carbon. Refers to a compound bound by a direct bond. Next, the orthometallated metal complex used in the present invention will be described. The orthometallated metal complex is, for example, "Organometallic Chemistry-Basics and Applications-", p150, 232 by Sobobo Akio Yamamoto, published in 1982, "Photochemistry and Photophysics of Coordin".
ation Compounds "p71-p77, p135-p146 Springer-Verla
It is a generic term for a group of compounds described in H. Yersin, Company g, published in 1987. Any metal can be used as the central metal of the metal complex as long as it is a transition metal. In the present invention, rhodium, platinum, gold, iridium, ruthenium, palladium and the like can be particularly preferably used. Of these, iridium is particularly preferable.

【0030】オルトメタル化金属錯体の金属の価数は特
に限定しないが、イリジウムを用いる場合には3価が好
ましい。オルトメタル化金属錯体の配位子は、オルトメ
タル化金属錯体を形成し得る物であれば特に問わない
が、例えば、アリール基置換含窒素ヘテロ環(アリール
基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素原子の隣接炭素上で
あり、アリール基としては例えばフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、ピレニル基などが挙げられ、含窒素
ヘテロ環としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピ
ラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、キノキ
サリン、フタラジン、キナゾリン、ナフチリジン、シン
ノリン、フェナントロリン、ピロール、イミダゾール、
ピラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリア
ゾール、チアジアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾ
オキサゾール、ベンゾチアゾール、フェナントリジンな
どが挙げられる)、ヘテロアリール基置換含窒素ヘテロ
環(ヘテロアリール基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素
原子の隣接炭素上であり、ヘテロアリール基としては例
えば前記の含窒素ヘテロ環誘導体を含有する基、チエニ
ル基、フリル基などが挙げられる)、7,8−ベンゾキ
ノリン、ホスフィノアリール、ホスフィノヘテロアリー
ル、ホスフィノキシアリール、ホスフィノキシヘテロア
リール、アミノメチルアリール、アミノメチルヘテロア
リール等およびこれらの誘導体が挙げられる。アリール
基置換含窒素芳香族ヘテロ環、ヘテロアリール基置換含
窒素芳香族ヘテロ環、7,8−ベンゾキノリンおよびこ
れらの誘導体が好ましく、フェニルピリジン、チエニル
ピリジン、7,8−ベンゾキノリンおよびこれらの誘導
体がさらに好ましく、チエニルピリジンおよびその誘導
体、7,8−ベンゾキノリンおよびその誘導体が特に好
ましい。
The valence of the metal of the orthometallated metal complex is not particularly limited, but when iridium is used, it is preferably trivalent. The ligand of the orthometallated metal complex is not particularly limited as long as it can form an orthometalated metal complex. For example, a nitrogen-containing heterocyclic ring substituted with an aryl group (the substitution position of the aryl group is a nitrogen-containing heterocyclic nitrogen). It is on the carbon adjacent to the atom, examples of the aryl group include a phenyl group, naphthyl group, anthryl group, and pyrenyl group, and examples of the nitrogen-containing heterocycle include, for example, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, quinoline, isoquinoline, Quinoxaline, phthalazine, quinazoline, naphthyridine, cinnoline, phenanthroline, pyrrole, imidazole,
Pyrazole, oxazole, oxadiazole, triazole, thiadiazole, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, phenanthridine, etc.), heteroaryl group-substituted nitrogen-containing heterocycle (heteroaryl group is substituted with nitrogen-containing heterocycle) It is on the carbon adjacent to the nitrogen atom, and the heteroaryl group includes, for example, a group containing the above nitrogen-containing heterocyclic derivative, a thienyl group, a furyl group and the like), 7,8-benzoquinoline, phosphinoaryl, phosphinoaryl, Examples include phenoheteroaryl, phosphinoxyaryl, phosphinoxyheteroaryl, aminomethylaryl, aminomethylheteroaryl and the like and derivatives thereof. Aryl group-substituted nitrogen-containing aromatic heterocycle, heteroaryl group-substituted nitrogen-containing aromatic heterocycle, 7,8-benzoquinoline and derivatives thereof are preferable, and phenylpyridine, thienylpyridine, 7,8-benzoquinoline and derivatives thereof are preferable. Are more preferable, and thienylpyridine and its derivatives, and 7,8-benzoquinoline and its derivatives are particularly preferable.

【0031】本発明の化合物は、オルトメタル化金属錯
体を形成するに必要な配位子以外に、他の配位子を有し
ていても良い。他の配位子としては種々の公知の配位子
が有るが、例えば、「Photochemistry and Photophysic
s of Coordination Compounds」 Springer-Verlag社 H.
Yersin著1987年発行、「有機金属化学−基礎と応用
−」裳華房社山本明夫著1982年発行等に記載の配位
子が挙げられ、好ましくは、ハロゲン配位子(好ましく
は塩素配位子)、含窒素ヘテロ環配位子(例えばビピリ
ジル、フェナントロリンなど)、ジケトン配位子であ
り、より好ましくは塩素配位子、ビピリジル配位子であ
る。
The compound of the present invention may have other ligands in addition to the ligand necessary for forming the orthometallated metal complex. There are various known ligands as other ligands, for example, “Photochemistry and Photophysic
s of Coordination Compounds '' Springer-Verlag H.
Examples include ligands described in Yersin, published in 1987, “Organometallic Chemistry: Basics and Applications,” published by Shokabosha Akio Yamamoto, published in 1982, and preferably halogen ligands (preferably chlorine coordination). Child), a nitrogen-containing heterocyclic ligand (for example, bipyridyl, phenanthroline, etc.) and a diketone ligand, more preferably a chlorine ligand and a bipyridyl ligand.

【0032】本発明のオルトメタル化金属錯体が有する
配位子の種類は1種類でも良いし、複数の種類があって
も良い。錯体中の配位子の数は、好ましくは1〜3種類
であり、特に好ましくは1,2種類であり、さらに好ま
しくは1種類である。
The ligand of the ortho-metallated metal complex of the present invention may be of one kind or plural kinds. The number of ligands in the complex is preferably 1 to 3 types, particularly preferably 1 to 2 types, and further preferably 1 type.

【0033】本発明のオルトメタル化金属錯体の炭素数
は、好ましくは5〜100、より好ましくは10〜8
0、さらに好ましくは14〜50である。
The carbon number of the orthometallated metal complex of the present invention is preferably 5 to 100, more preferably 10 to 8.
It is 0, more preferably 14 to 50.

【0034】本発明のオルトメタル化金属錯体の好まし
い形態は、下記一般式(K−I)で表される部分構造を
有する化合物またはその互変異性体である。
A preferred form of the ortho-metallated metal complex of the present invention is a compound having a partial structure represented by the following general formula (KI) or a tautomer thereof.

【0035】[0035]

【化10】 [Chemical 10]

【0036】式中、Mは遷移金属を表す。Qk1は5員ま
たは6員の芳香族環を形成するに必要な原子群を表す。
k2は5員または6員の含窒素芳香環を形成するに必要
な原子群を表す。Mで表される遷移金属として好ましく
は、ロジウム、白金、金、イリジウム、ルテニウム、パ
ラジウムであり、より好ましくはロジウム、白金、イリ
ジウムであり、更に好ましくは白金、イリジウムであ
り、特に好ましくはイリジウムである。Qk1で形成され
る5員または6員の芳香族環は、芳香族炭化水素環、芳
香族ヘテロ環のいずれでもよく、例えばベンゼン、ナフ
タレン、アントラセン、ピレン、ピリジン、キノリン、
イソキノリン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、チ
オフェン、フラン、ピロール、ピラゾール、イミダゾー
ル、チアゾール、オキサゾール、チアジアゾール、オキ
サジアゾール、トリアゾール、キノキサリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、シンノリン、フェナントロリン、ベ
ンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾ
ール、フェナントリジンなどが挙げられ、好ましくはベ
ンゼン、ナフタレン、ピリジン、キノリン、イソキノリ
ン、チオフェン、フランであり、より好ましくはベンゼ
ン、ナフタレン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、
チオフェンであり、更に好ましくはベンゼン、ナフタレ
ン、チオフェンである。
In the formula, M represents a transition metal. Q k1 represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered aromatic ring.
Q k2 represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing aromatic ring. The transition metal represented by M is preferably rhodium, platinum, gold, iridium, ruthenium or palladium, more preferably rhodium, platinum or iridium, further preferably platinum or iridium, and particularly preferably iridium. is there. The 5- or 6-membered aromatic ring formed by Q k1 may be either an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, and examples thereof include benzene, naphthalene, anthracene, pyrene, pyridine, quinoline,
Isoquinoline, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, thiophene, furan, pyrrole, pyrazole, imidazole, thiazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole, triazole, quinoxaline, phthalazine, naphthyridine, cinnoline, phenanthroline, benzothiazole, benzoxazole, benzimidazole, fe Nantrizine and the like are preferable, benzene, naphthalene, pyridine, quinoline, isoquinoline, thiophene and furan are preferable, and more preferably benzene, naphthalene, pyridine, quinoline, isoquinoline,
Thiophene, more preferably benzene, naphthalene, or thiophene.

【0037】Qk2で形成される5員または6員の含窒素
芳香環としては、例えばピリジン、キノリン、イソキノ
リン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピラゾー
ル、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、チアジ
アゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、キノキサ
リン、フタラジン、ナフチリジン、シンノリン、フェナ
ントロリン、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、
ベンゾイミダゾール、フェナントリジンなどが挙げら
れ、好ましくはピリジン、キノリン、イソキノリン、ピ
ラゾール、ピリダジンであり、より好ましくはピリジ
ン、キノリン、イソキノリン、ピラゾールであり、更に
好ましくはピリジン、イソキノリン、ピラゾールであ
る。Qk1、Qk2で形成される環は置換基を有してもよ
く、置換基としては一般式(I)のZ1およびZ2の置換
基として挙げたものが適用でき、また好ましい範囲も同
様である。また置換基同士が連結して環を形成しても良
い。また、一般式(K−I)で表される部分構造を有す
る化合物またはその互変異性体は、化合物中に遷移金属
を一つ有しても良いし、また、2つ以上有するいわゆる
複核錯体であっても良い。他の金属原子を同時に含有し
ていても良い。
Examples of the 5- or 6-membered nitrogen-containing aromatic ring formed by Q k2 include pyridine, quinoline, isoquinoline, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, pyrazole, imidazole, thiazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole and triazole. , Quinoxaline, phthalazine, naphthyridine, cinnoline, phenanthroline, benzothiazole, benzoxazole,
Examples thereof include benzimidazole and phenanthridine. Pyridine, quinoline, isoquinoline, pyrazole and pyridazine are preferable, pyridine, quinoline, isoquinoline and pyrazole are more preferable, and pyridine, isoquinoline and pyrazole are more preferable. The ring formed by Q k1 and Q k2 may have a substituent, and as the substituent, those mentioned as the substituents of Z 1 and Z 2 in the general formula (I) can be applied, and the preferable range is also It is the same. Further, the substituents may be connected to each other to form a ring. Further, the compound having a partial structure represented by the general formula (K-I) or a tautomer thereof may have one transition metal in the compound, or a so-called multinuclear complex having two or more transition metals. May be Other metal atoms may be contained at the same time.

【0038】一般式(K−I)で表される部分構造を有
する化合物のうち、より好ましくは下記一般式(K−I
I)または(K−III)で表される化合物またはその互変
異性体である。
Of the compounds having a partial structure represented by the general formula (K-I), more preferably the following general formula (K-I)
A compound represented by I) or (K-III) or a tautomer thereof.

【0039】[0039]

【化11】 [Chemical 11]

【0040】式中、Rk21、Rk22、Rk31およびRk32
それぞれ置換基を表す。q21、q22およびq32はそれぞ
れ0〜4の整数を表し、q31は0〜2の整数を表す。q
21、q22、q31、q32が2以上の場合、複数個の
k21、Rk22、Rk31、Rk32はそれぞれ同一または互い
に異なっても良い。
[0040] In the formula, it represents a R k21, R k22, R k31 and R k32 are each substituents. q 21 , q 22 and q 32 each represent an integer of 0 to 4, and q 31 represents an integer of 0 to 2. q
21, q 22, q 31, when q 32 is 2 or more, plural R k21, R k22, R k31 , R k32 may differ same or another.

【0041】Rk21、Rk22、Rk31、Rk32で表される置
換基としては、例えば一般式(I)におけるZ1および
2の置換基として挙げたものが適用できる。Rk21、R
k22、Rk31、Rk32は更に置換されてもよい。また、置
換基同士が結合して縮環構造を形成しても良い。
[0041] The substituent represented by R k21, R k22, R k31 , R k32, for example can be applied, those exemplified as the substituent of Z 1 and Z 2 in the general formula (I). R k21 , R
k22 , R k31 and R k32 may be further substituted. Further, the substituents may be bonded to each other to form a condensed ring structure.

【0042】Rk21、Rk22、Rk31、Rk32としては好ま
しくはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、結合して縮環
構造を形成する基が好ましく、より好ましくはアルキル
基、アリール基、フッ素原子、結合して芳香族縮環構造
を形成する基である。q21、q22、q31、q32としては
0、1、2が好ましく、より好ましくはq21+q22
0、1、2、q31+q32=0、1、2である。
[0042] R k21, R k22, R k31 , as R k32 is preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a group forming a condensed ring structure bonded to preferably More preferably, it is an alkyl group, an aryl group, a fluorine atom, or a group which is bonded to form an aromatic condensed ring structure. q 21 , q 22 , q 31 , and q 32 are preferably 0, 1, and 2, and more preferably q 21 + q 22 =
0, 1, 2, q 31 + q 32 = 0, 1, 2.

【0043】Lk2およびLk3はそれぞれ配位子を表す。
配位子としては前記オルトメタル化金属錯体を形成する
に必要な配位子、およびその他の配位子で説明した配位
子が挙げられる。Lk2、Lk3はオルトメタル化イリジウ
ム錯体を形成するに必要な配位子、含窒素ヘテロ環配位
子、ジケトン配位子、ハロゲン配位子が好ましく、より
好ましくはオルトメタル化イリジウム錯体を形成するに
必要な配位子、ジケトン配位子、ビピリジル配位子であ
る。
L k2 and L k3 each represent a ligand.
Examples of the ligand include the ligand necessary for forming the orthometallated metal complex, and the ligands described for other ligands. L k2 and L k3 are preferably a ligand necessary for forming an orthometalated iridium complex, a nitrogen-containing heterocyclic ligand, a diketone ligand or a halogen ligand, more preferably an orthometalated iridium complex. It is a ligand necessary for formation, a diketone ligand, and a bipyridyl ligand.

【0044】m21およびはm31はそれぞれ1、2、3を
表し、好ましくは2、3であり、より好ましくは3であ
る。m22およびm32は、それぞれ0〜5の整数を表し、
好ましくは0、1、2であり、より好ましくは0、1で
ある。m21とm22、m31とm 32の数の組み合わせは、一
般式(K−II)、(K−III)で表される金属錯体が中
性錯体となる数の組み合わせが好ましい。
Mtwenty oneAnd are m31Respectively 1, 2, 3
Represented, preferably 2, 3 and more preferably 3.
It mtwenty twoAnd m32Each represents an integer of 0 to 5,
Preferably 0, 1, 2 and more preferably 0, 1
is there. mtwenty oneAnd mtwenty two, M31And m 32The number combination of
The metal complex represented by the general formula (K-II) or (K-III) is
The combination of the numbers that give a functional complex is preferable.

【0045】本発明のオルトメタル化金属錯体は一般式
(K−1)の繰り返し単位をひとつ有する、いわゆる低
分子化合物であっても良く、また、一般式(K−1)の
繰り返し単位を複数個有するいわゆる、オリゴマー化合
物、ポリマー化合物(平均分子量(Mw:ポリスチレン換
算)は好ましくは1000〜5000000、より好ましくは2000
〜1000000、さらに好ましくは3000〜100000である。)
であっても良い。本発明で用いるオルトメタル化金属錯
体は低分子化合物が好ましい。
The ortho-metallated metal complex of the present invention may be a so-called low molecular weight compound having one repeating unit of the general formula (K-1), and a plurality of repeating units of the general formula (K-1). So-called oligomeric compounds and polymer compounds having an average molecular weight (Mw: polystyrene equivalent) of preferably 1000 to 5000000, more preferably 2000
˜1,000,000, more preferably 3000 to 100,000. )
May be The orthometallated metal complex used in the present invention is preferably a low molecular weight compound.

【0046】次に本発明に用いるりん光発光性有機金属
錯体化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
Next, examples of the phosphorescent organic metal complex compound used in the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0047】[0047]

【化12】 [Chemical 12]

【0048】[0048]

【化13】 [Chemical 13]

【0049】[0049]

【化14】 [Chemical 14]

【0050】[0050]

【化15】 [Chemical 15]

【0051】[0051]

【化16】 [Chemical 16]

【0052】[0052]

【化17】 [Chemical 17]

【0053】[0053]

【化18】 [Chemical 18]

【0054】[0054]

【化19】 [Chemical 19]

【0055】[0055]

【化20】 [Chemical 20]

【0056】[0056]

【化21】 [Chemical 21]

【0057】[0057]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0058】本発明で用いるオルトメタル化金属錯体は
Inorg.Chem.,1991年, 30号, 1685頁. ,同 1988年, 27
号, 3464頁. ,同 1994年, 33号, 545頁. Inorg.Chim.Ac
ta,1991年,181号, 245頁. J.Organomet.Chem.,1987
年, 335号, 293頁.J.Am.Chem.Soc., 1985年, 107号,
1431頁. 等、種々の公知の手法で合成することができ
る。
The orthometallated metal complex used in the present invention is
Inorg. Chem., 1991, Issue 30, page 1685., ibid., 1988, 27.
No., 3464., 1994, No. 33, 545. Inorg.Chim.Ac.
ta, 1991, 181, 245. J. Organomet. Chem., 1987.
335, 293, J. Am. Chem. Soc., 1985, 107,
P. 1431. and the like can be synthesized by various known methods.

【0059】本発明で、一般式(I)で表される化合物
を含有する有機化合物層とりん光発光性化合物を含有す
る有機化合物層とは同一であっても、また異なっていて
もよく、好ましくは一般式(I)で表される化合物を含
有する有機化合物層とりん光発光性化合物を含有する有
機化合物層とが異なる場合である。また更に好ましくは
一般式(I)で表される化合物が発光層と陰極の間の少
なくとも一層に含有され、りん光発光性化合物が発光層
に含有される場合である。
In the present invention, the organic compound layer containing the compound represented by formula (I) and the organic compound layer containing the phosphorescent compound may be the same or different, Preferably, the organic compound layer containing the compound represented by formula (I) and the organic compound layer containing the phosphorescent compound are different. Still more preferably, the compound represented by formula (I) is contained in at least one layer between the light emitting layer and the cathode, and the phosphorescent compound is contained in the light emitting layer.

【0060】次に、本発明の化合物を含有する発光素子
に関して説明する。本発明の化合物を含有する発光素子
の有機層の形成方法は、特に限定されるものではない
が、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子
積層法、コーティング法、インクジェット法、印刷法、
転写法、電子写真法などの方法が用いられ、特性面、製
造面で抵抗加熱蒸着、コーティング法が好ましい。
Next, a light emitting device containing the compound of the present invention will be described. The method for forming the organic layer of the light emitting device containing the compound of the present invention is not particularly limited, but resistance heating vapor deposition, electron beam, sputtering, molecular lamination method, coating method, inkjet method, printing method,
A transfer method, an electrophotographic method, or the like is used, and resistance heating vapor deposition and a coating method are preferable in terms of characteristics and manufacturing.

【0061】本発明の発光素子は陽極、陰極の一対の電
極間に発光層を含む複数の有機化合物層を形成した素子
であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注
入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこ
れらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであっても
よい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いること
ができる。
The light emitting element of the present invention is an element in which a plurality of organic compound layers including a light emitting layer are formed between a pair of electrodes of an anode and a cathode, and in addition to the light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron injection layer. It may have a layer, an electron transport layer, a protective layer, and the like, and each of these layers may have another function. Various materials can be used for forming each layer.

【0062】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層な
どに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用
いることができ、好ましくは仕事関数が4eV以上の材
料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化イ
ンジウム、酸化インジウムスズ(ITO)等の導電性金
属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金
属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物
または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物
質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなど
の有機導電性材料、およびこれらとITOとの積層物な
どが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、
特に、生産性、高導電性、透明性等の点からITOが好
ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能である
が、通常10nm〜5μmの範囲のものが好ましく、よ
り好ましくは50nm〜1μmであり、更に好ましくは
100nm〜500nmである。
The anode supplies holes to the hole injecting layer, the hole transporting layer, the light emitting layer and the like, and may be a metal, an alloy, a metal oxide, an electrically conductive compound, or a mixture thereof. A material having a work function of 4 eV or more is preferable. Specific examples thereof include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide and indium tin oxide (ITO), metals such as gold, silver, chromium and nickel, and these metals and conductive metal oxides. A mixture or laminate of the above, an inorganic conductive material such as copper iodide and copper sulfide, an organic conductive material such as polyaniline, polythiophene, polypyrrole, and a laminate of these and ITO, and preferably a conductive metal. Is an oxide,
In particular, ITO is preferable in terms of productivity, high conductivity, transparency and the like. The film thickness of the anode can be appropriately selected depending on the material, but it is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, and further preferably 100 nm to 500 nm.

【0063】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アル
カリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが
用いられる。ガラスを用いる場合、その材質について
は、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アル
カリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライ
ムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施
したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機
械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガ
ラスを用いる場合には、通常0.2mm以上、好ましく
は0.7mm以上のものを用いる。陽極の作製には材料
によって種々の方法が用いられるが、例えばITOの場
合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着
法、化学反応法(ゾル−ゲル法など)、酸化インジウム
スズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は
洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、
発光効率を高めることも可能である。例えばITOの場
合、UV−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的であ
る。
As the anode, a layer formed on soda lime glass, non-alkali glass, a transparent resin substrate or the like is usually used. When glass is used, it is preferable to use non-alkali glass as the material in order to reduce the amount of ions eluted from the glass. Further, when soda lime glass is used, it is preferable to use a glass coated with a barrier such as silica. The thickness of the substrate is not particularly limited as long as it is sufficient to maintain the mechanical strength, but when glass is used, it is usually 0.2 mm or more, preferably 0.7 mm or more. Although various methods are used for producing the anode depending on the material, for example, in the case of ITO, electron beam method, sputtering method, resistance heating vapor deposition method, chemical reaction method (sol-gel method, etc.), dispersion of indium tin oxide is used. A film is formed by a method such as coating. The anode may be washed or otherwise treated to reduce the drive voltage of the element,
It is also possible to increase the luminous efficiency. For example, in the case of ITO, UV-ozone treatment and plasma treatment are effective.

【0064】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層な
どに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送
層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン
化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の
材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いる
ことができ、具体例としてはアルカリ金属(例えばL
i、Na、K、Cs等)及びそのフッ化物、酸化物、ア
ルカリ土類金属(例えばMg、Ca等)及びそのフッ化
物、酸化物、金、銀、鉛、アルニウム、ナトリウム−カ
リウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミ
ニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀
合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテルビ
ウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数
が4eV以下の材料であり、より好ましくはアルミニウ
ム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金
属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等で
ある。陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造だけで
なく、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取ること
もできる。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能である
が、通常10nm〜5μmの範囲のものが好ましく、よ
り好ましくは50nm〜1μmであり、更に好ましくは
100nm〜1μmである。陰極の作製には電子ビーム
法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング
法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着すること
も、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さら
に、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成するこ
とも可能であり、またあらかじめ調製した合金を蒸着さ
せてもよい。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ま
しく、数百Ω/□以下が好ましい。
The cathode supplies electrons to the electron injecting layer, the electron transporting layer, the light emitting layer, etc., and the adhesion between the negative electrode and the adjacent layer such as the electron injecting layer, the electron transporting layer, the light emitting layer and the ionization potential, It is selected in consideration of stability and the like. As a material for the cathode, a metal, an alloy, a metal halide, a metal oxide, an electrically conductive compound, or a mixture thereof can be used. Specific examples thereof include an alkali metal (for example, L
i, Na, K, Cs, etc.) and their fluorides, oxides, alkaline earth metals (eg Mg, Ca, etc.) and their fluorides, oxides, gold, silver, lead, arnium, sodium-potassium alloys or them. Mixed metal, a lithium-aluminum alloy or a mixed metal thereof, a magnesium-silver alloy or a mixed metal thereof, a rare earth metal such as indium or ytterbium, and the like, preferably a work function of 4 eV or less, more preferably Is aluminum, lithium-aluminum alloy or mixed metal thereof, magnesium-silver alloy or mixed metal thereof, and the like. The cathode may have not only a single layer structure of the above compound and mixture but also a laminated structure including the above compound and mixture. The film thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material, but it is usually preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably 50 nm to 1 μm, and further preferably 100 nm to 1 μm. A method such as an electron beam method, a sputtering method, a resistance heating vapor deposition method, or a coating method is used for producing the cathode, and the metal can be vapor-deposited alone or two or more components can be vapor-deposited simultaneously. Further, it is possible to vapor-deposit a plurality of metals at the same time to form an alloy electrode, or a previously prepared alloy may be vapor-deposited. The sheet resistance of the anode and the cathode is preferably low, and is preferably several hundred Ω / □ or less.

【0065】発光層の材料は、電界印加時に陽極または
正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができ
ると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を
注入することができる機能や、注入された電荷を移動さ
せる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させ
る機能を有する層を形成することができるものであれば
何でもよい。好ましくは発光層に本発明のオルトメタル
化金属錯体を含有するものであるが、他の発光材料を併
用して用いることもできる。例えばベンゾオキサゾー
ル、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリル
ベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエン、テト
ラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマリン、ペ
リレン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピ
ラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリルアントラ
セン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピ
リジン、シクロペンタジエン、スチリルアミンおよびこ
れらの誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、8−キノ
リノールおよびその誘導体の金属錯体や希土類錯体に代
表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニ
レン、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレ
ン等のポリマー化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は
特に限定されるものではないが、通常1nm〜5μmの
範囲のものが好ましく、より好ましくは5nm〜1μm
であり、更に好ましくは10nm〜500nmである。
発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、
抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層
法、コーティング法(スピンコート法、キャスト法、デ
ィップコート法など)、LB法、インクジェット法、印
刷法、転写法、電子写真法などの方法が用いられ、好ま
しくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
As a material for the light emitting layer, holes can be injected from the anode or the hole injection layer or the hole transport layer when an electric field is applied, and electrons can be injected from the cathode or the electron injection layer or the electron transport layer. Any material may be used as long as it can form a layer having a function, a function of moving injected charges, and a function of providing a field for recombination of holes and electrons to emit light. The light emitting layer preferably contains the orthometallated metal complex of the present invention, but other light emitting materials can be used in combination. For example, benzoxazole, benzimidazole, benzothiazole, styrylbenzene, polyphenyl, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, naphthalimide, coumarin, perylene, perinone, oxadiazole, aldazine, pyraridine, cyclopentadiene, bisstyrylanthracene, quinacridone, pyrrolo. Pyridine, thiadiazolopyridine, cyclopentadiene, styrylamine and their derivatives, aromatic dimethylidin compounds, various metal complexes such as 8-quinolinol and its derivatives such as metal complexes and rare earth complexes, polythiophene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, Examples thereof include polymer compounds such as polythienylene vinylene. The thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but is preferably in the range of usually 1 nm to 5 μm, more preferably 5 nm to 1 μm.
And more preferably 10 nm to 500 nm.
The method for forming the light emitting layer is not particularly limited,
Methods such as resistance heating vapor deposition, electron beam, sputtering, molecular lamination method, coating method (spin coating method, casting method, dip coating method, etc.), LB method, inkjet method, printing method, transfer method, electrophotographic method, etc. are used. Of these, resistance heating vapor deposition and coating methods are preferable.

【0066】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極か
ら正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から
注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、カルバゾール、
トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イミ
ダゾール、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾ
ロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置
換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒ
ドラゾン、スチルベン、シラザンおよびこれらの誘導
体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合
物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化
合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾ
ール)およびその誘導体、アニリン系共重合体、チオフ
ェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリ
ゴマー、カーボン膜等が挙げられる。正孔注入層、正孔
輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1
nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは
5nm〜1μmであり、更に好ましくは10nm〜50
0nmである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料
の1種または2種以上からなる単層構造であってもよい
し、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造
であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層の形成方法と
しては、真空蒸着法、LB法、インクジェット法、印刷
法、転写法、電子写真法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に
溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコ
ート法、キャスト法、ディップコート法など)などが用
いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解
または分散することができ、樹脂成分としては例えば、
ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、
ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾー
ル)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹
脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂など
が挙げられる。
The material of the hole injecting layer and the hole transporting layer has any of the function of injecting holes from the anode, the function of transporting holes, and the function of blocking the electrons injected from the cathode. If Specific examples thereof include carbazole,
Triazole, oxazole, oxadiazole, imidazole, polyarylalkane, pyrazoline, pyrazolone, phenylenediamine, arylamine, amino-substituted chalcone, styrylanthracene, fluorenone, hydrazone, stilbene, silazane and their derivatives, aromatic tertiary amine compounds , Styrylamine compounds, aromatic dimethylidyne compounds, porphyrin compounds, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole) and its derivatives, aniline copolymers, thiophene oligomers, conductive polymer oligomers such as polythiophene, carbon films Etc. The thickness of the hole injection layer and the hole transport layer is not particularly limited, but is usually 1
The range of nm to 5 μm is preferable, the range of 5 nm to 1 μm is more preferable, and the range of 10 nm to 50 is more preferable.
It is 0 nm. The hole injection layer and the hole transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the above-mentioned materials, or may have a multi-layer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. As a method for forming the hole injection layer and the hole transport layer, a vacuum deposition method, an LB method, an inkjet method, a printing method, a transfer method, an electrophotographic method, and a method in which the hole injection transport agent is dissolved or dispersed in a solvent and coated. Method (spin coating method, casting method, dip coating method, etc.) is used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component, and as the resin component, for example,
Polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethylmethacrylate, polybutylmethacrylate,
Polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, vinyl acetate, ABS resin, polyurethane, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, Examples thereof include epoxy resin and silicone resin.

【0067】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極か
ら電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から
注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、トリアゾール、
オキサゾール、オキサジアゾール、フルオレノン、アン
トラキノジメタン、アントロン、ジフェニルキノン、チ
オピランジオキシド、カルボジイミド、フルオレニリデ
ンメタン、ジスチリルピラジン、ナフタレンやペリレン
等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニンお
よびこれらの誘導体、8−キノリノールおよびその誘導
体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾ
ールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表
される各種金属錯体等が挙げられる。電子注入層、電子
輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常1
nm〜5μmの範囲のものが好ましく、より好ましくは
5nm〜1μmであり、更に好ましくは10nm〜50
0nmである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料
の1種または2種以上からなる単層構造であってもよい
し、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造
であってもよい。電子注入層、電子輸送層の形成方法と
しては、真空蒸着法、LB法、インクジェット法、印刷
法、転写法、電子写真法、前記電子注入輸送剤を溶媒に
溶解または分散させてコーティングする方法(スピンコ
ート法、キャスト法、ディップコート法など)などが用
いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解
または分散することができ、樹脂成分としては例えば、
正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
The material for the electron injecting layer and the electron transporting layer is one having any of the function of injecting electrons from the cathode, the function of transporting electrons, and the function of blocking the holes injected from the anode. Good. Specific examples thereof include triazole,
Aromatic ring tetracarboxylic acid anhydrides such as oxazole, oxadiazole, fluorenone, anthraquinodimethane, anthrone, diphenylquinone, thiopyran dioxide, carbodiimide, fluorenylidene methane, distyrylpyrazine, naphthalene and perylene, phthalocyanine and these. Of the above, metal complexes of 8-quinolinol and its derivatives, metal phthalocyanines, various metal complexes represented by metal complexes having benzoxazole or benzothiazole as a ligand, and the like. The thickness of the electron injection layer and the electron transport layer is not particularly limited, but is usually 1
The range of 5 nm to 5 μm is preferable, the range of 5 nm to 1 μm is more preferable, and the range of 10 nm to 50 is more preferable.
It is 0 nm. The electron injection layer and the electron transport layer may have a single-layer structure composed of one or more of the above-mentioned materials, or may have a multi-layer structure composed of a plurality of layers having the same composition or different compositions. Examples of the method for forming the electron injection layer and the electron transport layer include a vacuum deposition method, an LB method, an inkjet method, a printing method, a transfer method, an electrophotographic method, and a method of coating the solvent by dissolving or dispersing the electron injecting and transporting agent ( Spin coating method, casting method, dip coating method, etc.) are used. In the case of the coating method, it can be dissolved or dispersed together with the resin component, and as the resin component, for example,
What was illustrated in the case of a positive hole injection transport layer can be applied.

【0068】保護層の材料としては水分や酸素等の素子
劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能
を有しているものであればよい。その具体例としては、
In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、N
i等の金属、MgO、SiO、SiO2 、Al23、G
eO、NiO、CaO、BaO、Fe23、Y23
TiO2等の金属酸化物、SiNx、SiNxOy等の
窒化物、MgF2 、LiF、AlF3、CaF2等の金属
フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチル
メタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、
ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、
テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマー
とを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合
体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、
吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防
湿性物質等が挙げられる。保護層の形成方法についても
特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング
法、反応性スパッタリング法、MBE(分子線エピタキ
シ)法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティ
ング法、プラズマ重合法(高周波励起イオンプレーティ
ング法)、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱C
VD法、ガスソースCVD法、コーティング法、インク
ジェット法、印刷法、転写法を適用できる。
As the material of the protective layer, any material may be used as long as it has a function of preventing a substance such as moisture or oxygen that promotes element deterioration from entering the element. As a concrete example,
In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, N
Metals such as i, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , G
eO, NiO, CaO, BaO, Fe 2 O 3 , Y 2 O 3 ,
Metal oxides such as TiO 2 ; nitrides such as SiNx and SiNxOy; metal fluorides such as MgF 2 , LiF, AlF 3 and CaF 2 ; polyethylene, polypropylene, polymethylmethacrylate, polyimide, polyurea, polytetrafluoroethylene, poly Chlorotrifluoroethylene,
Polydichlorodifluoroethylene, a copolymer of chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene,
A copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture containing tetrafluoroethylene and at least one comonomer, a fluorine-containing copolymer having a cyclic structure in the copolymer main chain,
Examples thereof include a water-absorbing substance having a water absorption rate of 1% or more and a moisture-proof substance having a water absorption rate of 0.1% or less. The method for forming the protective layer is not particularly limited, and examples thereof include vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, MBE (molecular beam epitaxy) method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method (high-frequency excited ions). Plating method), plasma CVD method, laser CVD method, thermal C
A VD method, a gas source CVD method, a coating method, an inkjet method, a printing method, or a transfer method can be applied.

【0069】[0069]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。 実施例1 洗浄した25mm×25mm×0.7mmのガラス基板
上にITOを150nmの厚さで製膜したもの(東京三
容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支持
基板をエッチング、洗浄後、テトラキス(4−ジフェニ
ルアミノフェニル)シラン約50nm、表1記載の発光
層(ホスト材料と発光材料の質量比は、およそ94:
6)を約36nm、下記化合物A約36nmをこの順に
10-3〜10-4Paの真空中で、基板温度室温の条件下
蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク(発光
面積が5mm×4mmとなるマスク)を設置し、蒸着装
置内でマグネシウム:銀=10:1を250nm共蒸着
した後、更に銀300nmを蒸着し、EL素子No.1
01〜116を作製した。東陽テクニカ製ソースメジャ
ーユニット2400型を用いて、直流定電圧をEL素子
に印加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計BM
−8、また発光波長については浜松ホトニクス社製スペ
クトルアナライザーPMA−11を用いて測定した。そ
の結果を表1に示す。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 A transparent support substrate was prepared by depositing ITO in a thickness of 150 nm (manufactured by Tokyo Sanyo Vacuum Co., Ltd.) on a washed 25 mm × 25 mm × 0.7 mm glass substrate. After etching and washing this transparent support substrate, tetrakis (4-diphenylaminophenyl) silane about 50 nm, the light emitting layer shown in Table 1 (the mass ratio of the host material and the light emitting material is about 94:
6) of about 36 nm and the following compound A of about 36 nm were deposited in this order in a vacuum of 10 −3 to 10 −4 Pa at a substrate temperature of room temperature. A patterned mask (a mask having a light emitting area of 5 mm × 4 mm) is placed on the organic thin film, and magnesium: silver = 10: 1 is co-deposited with 250 nm in the vapor deposition apparatus, and then 300 nm of silver is further vapor deposited to obtain an EL element No. . 1
01-116 were produced. Toyo Technica Source Measure Unit Model 2400 is used to apply a constant DC voltage to the EL element to cause it to emit light, and the brightness is measured by the Topcon brightness meter BM.
-8, and the emission wavelength was measured using a spectrum analyzer PMA-11 manufactured by Hamamatsu Photonics. The results are shown in Table 1.

【0070】[0070]

【表1】 [Table 1]

【0071】[0071]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0072】また、これらの素子をアルゴンガスで置換
したオートクレーブ中に封入し、85℃の加熱条件下3
日間保存した後に、同様の輝度測定・および発光面状観
察を行った結果も表1に示す。表1の結果から、文献化
合物であるCBPをホスト材料に用いた比較用の素子
(素子No.101〜104)では作成直後の輝度およ
び外部量子効率が低く、高温保存した後に大幅な輝度低
下およびダークスポットの発生が見られるのに対し、本
発明のホスト材料を用いた素子(素子No.105〜1
16)では作成直後の輝度および外部量子効率が良好で
あり、また高温保存した後の輝度低下は少なく、発光面
状も良好であり、作成直後の発光特性と保存耐久性とも
に優れていることが分かる。また、本発明の素子No.
116からりん光発光性化合物を除いた素子No.11
7では十分な輝度が得られず外部量子効率も低かった。
Further, these elements were enclosed in an autoclave substituted with argon gas, and heated under conditions of 85 ° C. for 3 hours.
Table 1 also shows the results of the same luminance measurement and light emitting surface observation after storage for a day. From the results in Table 1, in the comparative devices (device Nos. 101 to 104) using the reference compound CBP as the host material, the brightness immediately after preparation and the external quantum efficiency were low, and the brightness was significantly decreased after storage at high temperature. In contrast to the occurrence of dark spots, an element using the host material of the present invention (element No. 105 to 1)
In 16), the brightness immediately after preparation and the external quantum efficiency are good, the decrease in brightness after storage at high temperature is small, and the luminescent surface state is also good, indicating that both the emission characteristics and storage durability immediately after preparation are excellent. I understand. In addition, the device No.
Element No. 116 from which the phosphorescent compound was removed. 11
In No. 7, sufficient brightness was not obtained and external quantum efficiency was low.

【0073】実施例2.洗浄した25mm×25mm×
0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さ
で製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持基
板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄後、テ
トラキス(4−ジフェニルアミノフェニル)シラン約5
0nm、下記化合物Bと発光材料からなる表2記載の発
光層(化合物Bと発光材料の質量比は、およそ94:
6)を約36nm、表2記載の電子輸送材料約18n
m、化合物C18nmをこの順に10-3〜10-4Paの
真空中で、基板温度室温の条件下蒸着した。有機薄膜上
にパターニングしたマスク(発光面積が5mm×4mm
となるマスク)を設置し、蒸着装置内でマグネシウム:
銀=10:1を250nm共蒸着した後、更に銀300
nmを蒸着し、EL素子No.201〜216を作製し
た。
Example 2. 25 mm x 25 mm washed
The transparent support substrate was a 0.7 mm glass substrate on which ITO was formed to a thickness of 150 nm (manufactured by Tokyo Sanyo Vacuum Co., Ltd.). After etching and washing this transparent supporting substrate, tetrakis (4-diphenylaminophenyl) silane about 5
0 nm, the light emitting layer shown in Table 2 consisting of the following compound B and the light emitting material (the mass ratio of the compound B and the light emitting material is about 94:
6) is about 36 nm, and the electron transport material shown in Table 2 is about 18 n
m and compound C 18 nm were vapor-deposited in this order at a substrate temperature of room temperature in a vacuum of 10 −3 to 10 −4 Pa. Mask patterned on organic thin film (light emitting area is 5mm x 4mm
A mask will be installed and magnesium in the vapor deposition device:
After co-evaporating 250 nm of silver = 10: 1, silver 300 is further added.
nm of the EL element No. 201-216 were produced.

【0074】得られた各発光素子に実施例1と同様の測
定および評価を行なった。結果を表2に示す。
The same measurement and evaluation as in Example 1 were performed on each of the obtained light emitting devices. The results are shown in Table 2.

【0075】[0075]

【表2】 [Table 2]

【0076】[0076]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0077】表2の結果から、比較化合物である化合物
Cを電子輸送材料に用いた比較用の素子(素子No.2
01〜204)では作成直後の輝度および外部量子効率
が低く、高温保存した後に大幅な輝度低下およびダーク
スポットの発生が見られるのに対し、本発明の電子輸送
材料を用いた素子(素子No.205〜216)では作
成直後の輝度および外部量子効率が良好であり、また最
低駆動電圧も低く、更に高温保存した後の輝度低下は少
なく、発光面状も良好であり、作成直後の発光特性と保
存耐久性ともに優れていることが分かる。
From the results of Table 2, a comparative device (device No. 2) in which the compound C, which is a comparative compound, was used as an electron transport material.
Nos. 01 to 204) have low luminance immediately after formation and external quantum efficiency, and a large reduction in luminance and generation of dark spots are observed after storage at high temperature, whereas an element using the electron transport material of the present invention (Element No. 205 to 216), the brightness and external quantum efficiency immediately after preparation were good, the minimum driving voltage was low, the brightness after storage at high temperature was small, and the emission surface condition was good. It can be seen that the storage durability is excellent.

【0078】実施例3.実施例1と同様にエッチング、
洗浄したITOガラス基板上に、40mgのポリ(N−
ビニルカルバゾール(PVK))、12mgの2−(4−
tert−ブチルフェニル)−5−(4−ビフェニルイル)−
1,3,4−オキサジアゾール(PBD)、1mgのK−
1を1,2−ジクロロエタン3mlに溶解した溶液をス
ピンコートした。このときの有機層の膜厚は約120n
mであった。次いで実施例1と同様に陰極を蒸着し、E
L素子301を作製した。素子301に対して、K−1
およびPBDの代わりに表3に示した化合物を各々等質
量添加した以外は、301と全く同じ組成のEL素子3
02〜312を作製した。東陽テクニカ製ソースメジャ
ーユニット2400型を用いて、直流定電圧をEL素子に
印加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計BM−
8、また発光波長については浜松ホトニクス社製スペク
トルアナライザーPMA−11を用いて測定した。その
結果を表3に示す。
Example 3. Etching as in Example 1,
On a washed ITO glass substrate, 40 mg of poly (N-
Vinylcarbazole (PVK)), 12 mg of 2- (4-
tert-Butylphenyl) -5- (4-biphenylyl)-
1,3,4-oxadiazole (PBD), 1 mg K-
A solution of 1 in 3 ml of 1,2-dichloroethane was spin-coated. The thickness of the organic layer at this time is about 120 n
It was m. Then, a cathode is vapor-deposited in the same manner as in Example 1, and E
L element 301 was produced. K-1 for element 301
And an EL device 3 having exactly the same composition as 301 except that the compounds shown in Table 3 were added in equal amounts instead of PBD.
02-312 were produced. Toyo Technica Source Measure Unit Model 2400 was used to apply a constant DC voltage to the EL element to cause it to emit light, and the brightness was measured by the Topcon brightness meter BM-
8, and the emission wavelength was measured using a spectrum analyzer PMA-11 manufactured by Hamamatsu Photonics. The results are shown in Table 3.

【0079】[0079]

【表3】 [Table 3]

【0080】[0080]

【化25】 [Chemical 25]

【0081】表3の結果から明らかなように、本発明の
素子では通常発光効率が低い塗布型素子においても高い
発光輝度、発光効率を示し、また、保存耐久性に関して
も優れていることがわかる。
As is clear from the results shown in Table 3, the device of the present invention exhibits high emission brightness and emission efficiency even in the case of a coating type device having a low emission efficiency, and is also excellent in storage durability. .

【0082】実施例4.洗浄した25mm×25mm×
0.7mmのガラス基板上にITOを150nmの厚さ
で製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持基
板とした。この透明支持基板をエッチング、洗浄後、
N,N’−ビス(4’−ジフェニルアミノ−4−ビフェ
ニリル)N,N’−ジフェニルベンジジン約50nm、
P−16と4−N,N’−ビス(p−メチルフェニル)
アミノーα−フェニルスチルベン(質量比5:1)約5
0nmをこの順に10-3〜10-4Paの真空中で、基板
温度室温の条件下蒸着した。有機薄膜上にパターニング
したマスク(発光面積が5mm×4mmとなるマスク)
を設置し、AlLi合金からなる陰極を蒸着し、EL素
子No.401を作製した。つぎに素子No.401の
4−N,N’−ビス(p−メチルフェニル)アミノーα
−フェニルスチルベンを等質量の表4に示したりん光発
光性化合物に置きかえる以外はまったく同様にして素子
No.402〜405を作製した。さらに、N,N’−
ビス(4’−ジフェニルアミノ−4−ビフェニリル)
N,N’−ジフェニルベンジジン約50nm蒸着した上
にAlqを約20nm蒸着し、続けてP−16を約40
nm、AlLi合金からなる陰極を蒸着し、素子No.
406を作製した。次に、N,N’−ビス(4’−ジフ
ェニルアミノ−4−ビフェニリル)N,N’−ジフェニ
ルベンジジン約50nm蒸着した上にAlqを約50n
m蒸着し、AlLi合金からなる陰極を蒸着し、素子N
o.407を作製した。最後に素子No.402のP−
16を等質量のCBPに置きかえる以外は全く同様にし
て素子No.408を作製した。各発光素子に実施例1
と同様の測定を行なった。結果を表4に示す。
Example 4. 25 mm x 25 mm washed
The transparent support substrate was a 0.7 mm glass substrate on which ITO was formed to a thickness of 150 nm (manufactured by Tokyo Sanyo Vacuum Co., Ltd.). After etching and cleaning this transparent support substrate,
N, N'-bis (4'-diphenylamino-4-biphenylyl) N, N'-diphenylbenzidine about 50 nm,
P-16 and 4-N, N'-bis (p-methylphenyl)
Amino-α-phenyl stilbene (mass ratio 5: 1) about 5
0 nm was vapor-deposited in this order at a substrate temperature of room temperature in a vacuum of 10 −3 to 10 −4 Pa. Mask patterned on organic thin film (mask with light emitting area of 5 mm x 4 mm)
Is installed, a cathode made of AlLi alloy is vapor-deposited, and EL element No. 401 was produced. Next, the element No. 401 4-N, N'-bis (p-methylphenyl) amino-α
-Phenylstilbene was replaced with an equal mass of the phosphorescent compound shown in Table 4 in exactly the same manner as in Device No. 402-405 were produced. Furthermore, N, N'-
Bis (4'-diphenylamino-4-biphenylyl)
After depositing about 50 nm of N, N′-diphenylbenzidine, deposit about 20 nm of Alq and then deposit about 40 nm of P-16.
nm, an anode made of AlLi alloy is vapor-deposited, and the device No.
406 was produced. Next, N, N′-bis (4′-diphenylamino-4-biphenylyl) N, N′-diphenylbenzidine was vapor-deposited with a thickness of about 50 nm, and Alq was added with a concentration of about 50 n.
m vapor deposition, vapor deposition of a cathode made of AlLi alloy, element N
o. 407 was produced. Finally, the element No. 402 P-
No. 16 was replaced with CBP having an equal mass, and the element No. 408 was produced. Example 1 for each light emitting element
The same measurement was performed. The results are shown in Table 4.

【0083】[0083]

【表4】 [Table 4]

【0084】表4の結果から明らかなように、本発明の
素子では高い発光効率が得られ、これは一般式(I)で
表される化合物とりん光発光性化合物を併用してはじめ
て得られる効果である。
As is clear from the results shown in Table 4, the device of the present invention has high luminous efficiency, which can be obtained only by using the compound represented by the general formula (I) and the phosphorescent compound in combination. It is an effect.

【0085】[0085]

【発明の効果】本発明の素子は高い発光輝度、発光効率
を示し、保存耐久性に関しては、高温保存した後に輝度
低下も少なく、かつ、発光面状も良好で、素子の保存耐
久性が大幅に改善される。また通常発光効率が低い塗布
型素子においても同様な効果が得られている。
EFFECT OF THE INVENTION The device of the present invention exhibits high luminous brightness and luminous efficiency. Regarding storage durability, there is little decrease in brightness after storage at high temperature, and the light emitting surface is in good condition. To be improved. Further, the same effect can be obtained even in the case of a coating type element which usually has low luminous efficiency.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に設けた一対の電極間に発光層を含
む有機化合物層を形成した発光素子において、該有機化
合物層の少なくとも1層に下記一般式(I)で表される
化合物とりん光発光性化合物を含有することを特徴とす
る発光素子。 【化1】 一般式(I)中、Z1およびZ2は窒素原子とともに5員
環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、この環は
置換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を
形成してもよい。L1、L2、L3およびL4はそれぞれ水
素原子、アルキル基、アリール基または含窒素芳香環基
を表し、Mは金属原子を表す。
1. A light emitting device having an organic compound layer including a light emitting layer formed between a pair of electrodes provided on a substrate, wherein at least one of the organic compound layers comprises a compound represented by the following general formula (I): A light-emitting device comprising a phosphorescent compound. [Chemical 1] In the general formula (I), Z 1 and Z 2 represent a group of non-metal atoms necessary to form a 5-membered ring with a nitrogen atom, and this ring may have a substituent, and A condensed ring may be formed with the ring. L 1 , L 2 , L 3 and L 4 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a nitrogen-containing aromatic ring group, and M represents a metal atom.
【請求項2】前記一般式(I)で表される化合物がピラ
ザボール構造を有することを特徴とする請求項1記載の
発光素子。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (I) has a pyrazaball structure.
【請求項3】前記ピラザボール構造を有する化合物が
4,4,8,8−テトラキス(1H−ピラゾールー1−
イル)ピラザボールであることを特徴とする請求項2記
載の発光素子。
3. The compound having a pyrazabol structure is 4,4,8,8-tetrakis (1H-pyrazole-1-
3. The light emitting device according to claim 2, wherein the light emitting device is a pyraza ball.
【請求項4】前記りん光発光性化合物が有機金属錯体で
あることを特徴とする請求項1〜3記載の発光素子。
4. The light emitting device according to claim 1, wherein the phosphorescent compound is an organometallic complex.
【請求項5】前記りん光発光性化合物がオルトメタル化
錯体であることを特徴とする請求項1〜4記載の発光素
子。
5. The light emitting device according to claim 1, wherein the phosphorescent compound is an orthometallated complex.
【請求項6】前記りん光発光性化合物がオルトメタル化
イリジウム錯体であることを特徴とする請求項1〜5に
記載の発光素子。
6. The light emitting device according to claim 1, wherein the phosphorescent compound is an orthometalated iridium complex.
【請求項7】前記有機発光層が高分子化合物を含有する
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の発光
素子。
7. The light emitting device according to claim 1, wherein the organic light emitting layer contains a polymer compound.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133074A (en) * 2001-02-01 2003-05-09 Fuji Photo Film Co Ltd Transition metal complex and luminescent element
JP2003234192A (en) * 2001-12-06 2003-08-22 Konica Corp Organic electroluminescent element and display device
WO2006098209A1 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent device material, organic electroluminescent device, illuminating device and display
US7147937B2 (en) 2003-12-05 2006-12-12 Eastman Kodak Company Organic element for electroluminescent devices
JP2011155282A (en) * 2011-03-17 2011-08-11 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent element and display device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133074A (en) * 2001-02-01 2003-05-09 Fuji Photo Film Co Ltd Transition metal complex and luminescent element
JP2003234192A (en) * 2001-12-06 2003-08-22 Konica Corp Organic electroluminescent element and display device
US7147937B2 (en) 2003-12-05 2006-12-12 Eastman Kodak Company Organic element for electroluminescent devices
WO2006098209A1 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent device material, organic electroluminescent device, illuminating device and display
JP4941291B2 (en) * 2005-03-17 2012-05-30 コニカミノルタホールディングス株式会社 Organic electroluminescence device
JP2011155282A (en) * 2011-03-17 2011-08-11 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent element and display device

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