JP2005108665A - Light-emitting device - Google Patents

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JP2005108665A JP2003341248A JP2003341248A JP2005108665A JP 2005108665 A JP2005108665 A JP 2005108665A JP 2003341248 A JP2003341248 A JP 2003341248A JP 2003341248 A JP2003341248 A JP 2003341248A JP 2005108665 A JP2005108665 A JP 2005108665A
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JP2003341248A
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Masayuki Mishima
雅之 三島
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device having good light-emitting efficiency and durability. <P>SOLUTION: The light-emitting device includes a hole transport layer, at least two layers of light-emitting layers with, and an electron transport layer between a pair of electrodes. All the light-emitting layers contain phosphorescence luminescent compounds and host compounds, respectively, and also, the density of the phosphorescence luminescent compound of the light-emitting layer at a cathode side is higher than that at an anode side in the light-emitting device. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、発光効率及び耐久性が良好な発光素子に関する。   The present invention relates to a light emitting device having good luminous efficiency and durability.

一般に、発光素子は、発光層及び該層を挟んだ一対の対向電極から構成されている。発光は、両電極間に電界が印加されると、陰極から電子が注入され、陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出する現象である。   In general, a light-emitting element includes a light-emitting layer and a pair of counter electrodes sandwiching the layer. In light emission, when an electric field is applied between both electrodes, electrons are injected from the cathode and holes are injected from the anode. This is a phenomenon in which energy is released as light when the electrons and holes recombine in the light emitting layer and the energy level returns from the conduction band to the valence band.

このような発光素子としては、例えば、発光層に有機化合物を用いた有機発光素子があるが、蛍光管に比べ発光効率が非常に低い。現状の有機発光素子の多くは一重項励起子から得られる蛍光を利用しており、発光効率の向上のため三重項励起子から得られる燐光を利用することが検討されている。例えば、イリジウムのフェニルピリジン錯体を用いた燐光利用の有機発光素子が報告されている(例えば、非特許文献1参照、特許文献1参照)。これらによると、従来の蛍光利用の有機発光素子に対して、2〜3倍の発光効率を示す旨が報告されている。
しかしながら、燐光利用の有機発光素子は実用化するには駆動時の耐久性が悪く、発光効率及び耐久性がともに優れた発光素子が強く望まれている。
米国特許番号第6303238号明細書 アプライド フィジクスレター、1999年、75巻、4頁
As such a light-emitting element, for example, there is an organic light-emitting element using an organic compound in a light-emitting layer, but its luminous efficiency is very low as compared with a fluorescent tube. Many of the current organic light-emitting devices use fluorescence obtained from singlet excitons, and the use of phosphorescence obtained from triplet excitons has been studied to improve luminous efficiency. For example, phosphorescent organic light-emitting devices using iridium phenylpyridine complexes have been reported (see, for example, Non-Patent Document 1 and Patent Document 1). According to these reports, it has been reported that the conventional organic light-emitting element using fluorescence has a luminous efficiency of 2 to 3 times.
However, the phosphorescent organic light-emitting element has poor durability during driving for practical use, and a light-emitting element having both excellent luminous efficiency and durability is strongly desired.
US Pat. No. 6,303,238 Applied Physics Letter, 1999, 75, 4

本発明の目的は、発光効率及び耐久性に優れた発光素子を提供することにある。   The objective of this invention is providing the light emitting element excellent in luminous efficiency and durability.

本発明によれば、下記構成の発光素子が提供され、本発明の上記目的が提供される。
<1>一対の電極間に、正孔輸送層、少なくとも2層の発光層、電子輸送層を有する発光素子であって、
全ての発光層がそれぞれ燐光発光性化合物及びホスト化合物を含み、かつ燐光発光性化合物の濃度が陰極側にある発光層より陽極側にある発光層の方が高いことを特徴とする発光素子。
<2>発光層の燐光発光性化合物の濃度が、各発光層で0.01質量%以上20質量%以下であることを特徴とする上記<1>に記載の発光素子。
<3>電子輸送層に含まれる電子輸送材料が、分子内にヘテロ原子を1個以上有する芳香族ヘテロ環化合物であることを特徴とする上記<1>または<2>に記載の発光素子。
According to the present invention, a light-emitting element having the following configuration is provided, and the above object of the present invention is provided.
<1> A light emitting device having a hole transport layer, at least two light emitting layers, and an electron transport layer between a pair of electrodes,
A light-emitting element, wherein all the light-emitting layers each contain a phosphorescent compound and a host compound, and the concentration of the phosphorescent compound is higher in the light-emitting layer on the anode side than in the light-emitting layer on the cathode side.
<2> The light emitting device according to <1>, wherein the concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is 0.01% by mass or more and 20% by mass or less in each light emitting layer.
<3> The light-emitting device according to <1> or <2>, wherein the electron transport material contained in the electron transport layer is an aromatic heterocyclic compound having one or more hetero atoms in the molecule.

本発明によれば、少なくとも2層の発光層のそれぞれに同一又は相異なる燐光発光性化合物及びホスト化合物を含み、発光層の燐光発光性化合物の濃度を、陰極側の発光層から陽極側の発光層に向けて、順次高くすることにより、発光効率と耐久性を両立させた発光素子が得られ、特に耐久性が大幅に向上した高輝度の発光素子を提供することができる。本発明の発光素子は、フルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源や、プリンター等の光源アレイなどに有効に利用できる。   According to the present invention, each of at least two light emitting layers contains the same or different phosphorescent compound and host compound, and the concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is changed from the light emitting layer on the cathode side to the light emission on the anode side. By sequentially increasing the thickness toward the layer, a light-emitting element having both light emission efficiency and durability can be obtained, and in particular, a high-luminance light-emitting element with greatly improved durability can be provided. The light emitting device of the present invention can be effectively used for a surface light source such as a full color display, a backlight and an illumination light source, a light source array such as a printer, and the like.

本発明の発光素子は、一対の電極間に、正孔輸送層、少なくとも2層の発光層、電子輸送層を含む有機層を有する発光素子であって、全てのそれぞれの発光層が、同一又は相異なる燐光発光性化合物及びホスト化合物を含む。そして、発光層の燐光発光性化合物の濃度が陰極側にある発光層より陽極側にある発光層の方が高い、すなわち、発光層の燐光発光性化合物の濃度が、陰極側の発光層から陽極側の発光層に向けて、順次高まっている発光素子である。
ここで、「発光層の燐光発光性化合物の濃度が、陰極側の発光層から陽極側の発光層に向けて、順次高まっている」とは、具体的には、例えば発光層が3層ある場合、最も陰極側に近い発光層の燐光発光性化合物の濃度が最も低く、最も陽極側に近い発光層の燐光発光性化合物の濃度が最も高く、中間に位置する発光層の燐光発光性化合物の濃度が両者の濃度の中間にあるような状態を意味する。
The light-emitting element of the present invention is a light-emitting element having an organic layer including a hole transport layer, at least two light-emitting layers, and an electron transport layer between a pair of electrodes, and all the light-emitting layers are the same or Including different phosphorescent compounds and host compounds. The concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is higher in the light emitting layer on the anode side than the light emitting layer on the cathode side, that is, the concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is higher than that in the anode side. It is a light emitting element that is gradually increasing toward the light emitting layer on the side.
Here, “the concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is increasing sequentially from the light emitting layer on the cathode side to the light emitting layer on the anode side” specifically means that there are, for example, three light emitting layers. The phosphorescent compound in the light emitting layer closest to the cathode side has the lowest concentration, the phosphorescent compound in the light emitting layer closest to the anode side has the highest concentration, and the phosphorescent compound in the light emitting layer located in the middle It means a state in which the density is in the middle of both.

燐光発光性化合物とは、三重項励起子から発光することのできる化合物のことであり、特に限定されることはないが、オルトメタル化金属錯体、又はポルフィリン金属錯体が好ましい。   The phosphorescent compound is a compound that can emit light from triplet excitons, and is not particularly limited, but is preferably an orthometalated metal complex or a porphyrin metal complex.

オルトメタル化金属錯体とは、例えば山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」150頁、232頁、裳華房社(1982年発行)やH.Yersin著「Photochemistry and Photophisics of Coodination Compounds」71〜77頁、135〜146頁、Springer-Verlag社(1987年発行)等に記載されている化合物群の総称である。オルトメタル化金属錯体を含む前記有機層は、高輝度で発光効率に優れる点で有利である。   Orthometalated metal complexes include, for example, Akio Yamamoto, “Organic Metal Chemistry: Fundamentals and Applications”, pages 150 and 232; It is a general term for a group of compounds described in pages 71 to 77, pages 135 to 146, and Springer-Verlag (published in 1987). The organic layer containing an orthometalated metal complex is advantageous in that it has high luminance and excellent luminous efficiency.

オルトメタル化金属錯体を形成する配位子としては、種々のものがあり、上記文献にも記載されているが、その中でも好ましい配位子としては、2−フェニルピリジン誘導体、7,8−ベンゾキノリン誘導体、2−(2−チエニル)ピリジン誘導体、2−(1−ナフチル)ピリジン誘導体、2−フェニルキノリン誘
導体等が挙げられる。これらの誘導体は必要に応じて置換基を有しても良い。
オルトメタル化金属錯体は、上記配位子のほかに、他の配位子を有していてもよい。
There are various ligands that form ortho-metalated metal complexes, which are also described in the above-mentioned documents. Among them, preferred ligands include 2-phenylpyridine derivatives, 7,8-benzo Examples include quinoline derivatives, 2- (2-thienyl) pyridine derivatives, 2- (1-naphthyl) pyridine derivatives, and 2-phenylquinoline derivatives. These derivatives may have a substituent as necessary.
The orthometalated metal complex may have other ligands in addition to the above ligands.

本発明で用いるオルトメタル化金属錯体は、Inorg.Chem., 1991年, 30号, 1685頁、同1988年, 27号, 3464頁、同1994年, 33号, 545頁、Inorg.Chim.Acta, 1991年, 181号, 245頁、J.Organomet.Chem., 1987年, 335号, 293頁、J.Am.Chem.Soc., 1985年, 107号, 1431頁 等、種々の公知の手法で合成することができる。
オルトメタル化金属錯体の中で三重項励起子から発光する化合物を本発明においては燐光発光性化合物として使用することができる。
The orthometalated metal complexes used in the present invention are described in Inorg.Chem., 1991, 30, 1685, 1988, 27, 3464, 1994, 33, 545, Inorg.Chim.Acta. 1991, 181, 245, J. Organomet. Chem., 1987, 335, 293, J. Am. Chem. Soc., 1985, 107, 1431, etc. Can be synthesized.
A compound that emits light from triplet excitons among ortho-metalated metal complexes can be used as a phosphorescent compound in the present invention.

また、ポルフィリン金属錯体の中ではポルフィリン白金錯体が好ましい。
燐光発光性化合物は1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Of the porphyrin metal complexes, a porphyrin platinum complex is preferred.
A phosphorescent compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

ホスト化合物としては励起子エネルギーを発光材料にエネルギー移動できる化合物ならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、具体的にはカルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。これらのホスト化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The host compound is not particularly limited as long as it is a compound capable of transferring exciton energy to the light emitting material, and can be appropriately selected according to the purpose. Specifically, the carbazole derivative, triazole derivative, oxazole derivative, oxadiazole derivative. , Imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds , Styrylamine compounds, aromatic dimethylidene compounds, porphyrin compounds, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide Hetero derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, phthalocyanine derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, benzoxazoles and benzothiazoles Various metal complexes represented by metal complexes as ligands, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole) derivatives, aniline copolymers, thiophene oligomers, conductive polymer oligomers such as polythiophene, polythiophene derivatives, polyphenylene derivatives, And high molecular compounds such as polyphenylene vinylene derivatives and polyfluorene derivatives. These host compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

発光層の層数は特に限定されないが、素子作成上、2層以上20層以下が好ましく、2層以上10層以下がより好ましく、さらに好ましくは、2層以上5層以下であり、特に好ましくは3層以上5層以下である。   Although the number of light emitting layers is not particularly limited, it is preferably 2 or more and 20 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, still more preferably 2 or more and 5 or less, and particularly preferably, for device preparation. 3 or more and 5 or less layers.

本発明の発光素子は、既述したように、発光層の燐光発光性化合物の濃度は、陰極側の発光層から陽極側の発光層に向けて、順次高まっている。
発光層が5層の場合を例に挙げて説明する。この場合の素子構成として、例えば、陽極/正孔輸送層/第1発光層/第2発光層/第3発光層/第4発光層/第5発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極が挙げられる。この素子構成において、例えば、最も陽極側の発光層である第1発光層の燐光発光性化合物濃度を20質量%、その後順次、第2発光層では15質量%、第3発光層では10質量%、第4発光層では5質量%、第5発光層では0.01質量%とすることにより、発光層での燐光発光性化合物の濃度を、陰極側の発光層から陽極側の発光層に向けて、順次高くすることができる。すなわち、発光層の燐光発光性化合物の濃度が陰極側にある発光層より陽極側にある発光層の方が高い本発明の発光素子を作成することができる。
As described above, in the light-emitting element of the present invention, the concentration of the phosphorescent compound in the light-emitting layer is gradually increased from the light-emitting layer on the cathode side toward the light-emitting layer on the anode side.
The case where there are five light emitting layers will be described as an example. The element configuration in this case is, for example, anode / hole transport layer / first light emitting layer / second light emitting layer / third light emitting layer / fourth light emitting layer / fifth light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode. Is mentioned. In this element configuration, for example, the phosphorescent compound concentration of the first light-emitting layer that is the light-emitting layer closest to the anode is 20% by mass, and then sequentially, the second light-emitting layer is 15% by mass and the third light-emitting layer is 10% by mass. The concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is changed from the light emitting layer on the cathode side to the light emitting layer on the anode side by adjusting the content to 5% by mass in the fourth light emitting layer and 0.01% by mass in the fifth light emitting layer. Can be increased sequentially. That is, the light-emitting element of the present invention can be manufactured in which the phosphorescent compound concentration in the light-emitting layer is higher in the light-emitting layer on the anode side than in the light-emitting layer on the cathode side.

発光層の燐光発光性化合物の濃度は、いずれの発光層でも0.01質量%以上20質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。これよりも燐光発光性化合物の濃度が大きくなると、濃度消光により、発光効率が低下する。これよりも燐光性化合物の濃度が小さくなると、ホスト材料から燐光発光性材料へのエネルギー移動確率が低下し、発光効率が低下する。
また、隣接する発光層の燐光発光性化合物の濃度差は、1質量%以上20質量%以下が好ましく、1質量%以上10質量%がより好ましく、1質量%以上5質量%以下がさらに好ましく、2質量%以上5質量%以下が特に好ましい。
The concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer is preferably 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less in any light emitting layer. If the concentration of the phosphorescent compound becomes higher than this, the light emission efficiency decreases due to concentration quenching. When the concentration of the phosphorescent compound is lower than this, the probability of energy transfer from the host material to the phosphorescent material is lowered, and the light emission efficiency is lowered.
Further, the concentration difference between the phosphorescent compounds in adjacent light emitting layers is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 10% by mass, and further preferably 1% by mass or more and 5% by mass or less. 2 mass% or more and 5 mass% or less are especially preferable.

発光層の各々の膜厚は1〜50nmが好ましく、2〜40nmがより好ましい。各発光層の厚みが、50nmを越えると駆動電圧が上昇することがあり、1nm未満であると該発光素子が短絡することがある。   The thickness of each light emitting layer is preferably 1 to 50 nm, more preferably 2 to 40 nm. When the thickness of each light emitting layer exceeds 50 nm, the driving voltage may increase, and when it is less than 1 nm, the light emitting element may be short-circuited.

本発明の素子構成とすることにより、発光効率の向上と耐久性の向上を達成することができる。その理由は明らかではないが、上記構成にすることにより正孔が発光層内を突き抜ける割合が減少し、有効にキャリアーを励起し生成に利用できるためと考えられる。
さらに、各発光層内での燐光発光性化合物の濃度を、陰極側から陽極側に向けて順次高くすることにより、正孔輸送層側で濃度を高くすることにより正孔の注入を助け、電子輸送層側で濃度を低くすることにより正孔の電子輸送層への突き抜けを防止することができるものと考えられる。
With the element configuration of the present invention, it is possible to achieve an improvement in luminous efficiency and an improvement in durability. The reason for this is not clear, but it is considered that the above structure reduces the rate of holes penetrating through the light emitting layer and can effectively excite carriers and use them for generation.
Furthermore, by increasing the concentration of the phosphorescent compound in each light-emitting layer sequentially from the cathode side to the anode side, the concentration is increased on the hole transport layer side to assist hole injection, and the electron It is considered that the penetration of holes into the electron transport layer can be prevented by lowering the concentration on the transport layer side.

本発明の発光層には、必要に応じて正孔輸送材料や電子輸送材料を添加してもよい。   You may add a hole transport material and an electron transport material to the light emitting layer of this invention as needed.

必要に応じて発光層に添加される正孔輸送材料は、低分子正孔輸送材、高分子正孔輸送材いずれも用いることができ、例えば以下の材料を挙げることができる。
カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
As the hole transport material added to the light emitting layer as necessary, either a low molecular hole transport material or a high molecular hole transport material can be used, and examples thereof include the following materials.
Carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives , Stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidene compounds, porphyrin compounds, polysilane compounds, poly (N-vinylcarbazole) derivatives, aniline copolymers, thiophene oligomers, Conductive polymer oligomer such as polythiophene, polythiophene derivative, polyphenylene derivative, polyphenylene vinylene derivative, polyfluorene Polymeric compounds such as derivatives. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

必要に応じて発光層に添加される電子輸送材料としては特に制限されることはなく例えば以下の材料を挙げることができる。
トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物を挙げることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The electron transport material added to the light emitting layer as necessary is not particularly limited, and examples thereof include the following materials.
Triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, naphthaleneperylene, etc. Various metal complexes represented by metal tetracyclic anhydrides, metal complexes of phthalocyanine derivatives, 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, metal complexes having benzoxazole and benzothiazole as ligands, aniline copolymers, Polymer compounds such as thiophene oligomers, conductive polymer oligomers such as polythiophene, polythiophene derivatives, polyphenylene derivatives, polyphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, etc. It can be mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

各発光層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、ディッピング、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の湿式製膜法いずれによっても好適に製膜することができる。   Each light emitting layer is formed by a dry film formation method such as a vapor deposition method or a sputtering method, a dipping method, a spin coating method, a dip coating method, a casting method, a die coating method, a roll coating method, a bar coating method or a gravure coating method. In any case, the film can be suitably formed.

以下に本発明の発光素子について、詳細に説明する。
−有機層−
−−有機層の構成−−
有機層の発光素子における形成位置としては、特に制限はなく、該発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができるが、陽極上にまたは陰極上に形成されるのが好ましい。この場合、該有機層は、陽極または陰極上の前面または一面に形成される。
有機層の形状、大きさ、厚み等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
The light emitting device of the present invention will be described in detail below.
-Organic layer-
-Composition of organic layer-
There is no restriction | limiting in particular as a formation position in the light emitting element of an organic layer, Although it can select suitably according to the use and objective of this light emitting element, It is preferable to form on an anode or a cathode. In this case, the organic layer is formed on the front surface or one surface on the anode or the cathode.
There is no restriction | limiting in particular about the shape of a organic layer, a magnitude | size, thickness, etc., According to the objective, it can select suitably.

有機層を含め本発明の発光素子の具体的な層構成としては、陽極/正孔輸送層/複数発光層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔輸送層/複数発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複数発光層/電子輸送層/陰極、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/複数発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極等が挙げられる。
いずれにおいても、発光層に燐光発光性化合物が含有され、通常、透明電極ある陽極から発光が取り出される。
The specific layer structure of the light-emitting device of the present invention including the organic layer is as follows: anode / hole transport layer / multiple light-emitting layers / electron transport layer / cathode, anode / hole transport layer / multiple light-emitting layers / electron transport layer / Electron injection layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / multiple emission layer / electron transport layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / multiple emission layer / electron transport layer / electron injection Layer / cathode and the like.
In any case, a phosphorescent compound is contained in the light emitting layer, and light emission is usually extracted from the anode which is a transparent electrode.

−−電子輸送層−−
本発明においては、電子輸送材料を含む電子輸送層を設けられる。
電子輸送材料としては電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれかを有しているもので有れば制限されることはなく電子輸送材を好適に用いることができる。
本発明においてなかでも分子内にヘテロ元素を1個以上有する芳香族ヘテロ環化合物が好ましい。
--Electron transport layer--
In the present invention, an electron transport layer containing an electron transport material is provided.
The electron transport material is not limited as long as it has either a function of transporting electrons or a function of blocking holes injected from the anode, and an electron transport material can be preferably used. it can.
In the present invention, an aromatic heterocyclic compound having one or more hetero elements in the molecule is preferable.

本発明で用いる電子輸送材料は、分子内にヘテロ元素を1個以上有する芳香族ヘテロ環化合物の中でも、アゾール骨格を有することが好ましい。アゾール骨格を有する化合物とは、炭素原子、水素原子以外の原子を基本骨格内に2つ以上有する化合物であり、単環または縮環であっても良い。ヘテロ環骨格としては、好ましくはN、O、S原子から選ばれる原子を2つ以上有するものであり、更に好ましくは少なくとも一つN原子を骨格内に有する芳香族ヘテロ環であり、特に好ましくはN原子を骨格内に2つ以上有する芳香族ヘテロ環である。また、ヘテロ原子は縮合位置にあっても、非縮合位置にあってもよい。   The electron transport material used in the present invention preferably has an azole skeleton among aromatic heterocyclic compounds having one or more hetero elements in the molecule. The compound having an azole skeleton is a compound having two or more atoms other than carbon atoms and hydrogen atoms in the basic skeleton, and may be monocyclic or condensed. The heterocyclic skeleton is preferably an aromatic heterocyclic ring having at least two atoms selected from N, O, and S atoms, more preferably an aromatic heterocyclic ring having at least one N atom in the skeleton. An aromatic heterocycle having two or more N atoms in the skeleton. In addition, the heteroatom may be in a condensed position or a non-condensed position.

ヘテロ原子を2つ以上含むヘテロ環骨格を有する化合物としては、例えばピラゾール、イミダゾール、ピラジン、ピリミジン、インダゾール、プリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、ペリミジン、フェナントロリン、ピロロイミダゾール、ピロロトリアゾール、ピラゾロイミダゾール、ピラゾロトリアゾール、ピラゾロピリミジン、ピラゾロトリアジン、イミダゾイミダゾール、イミダゾピリダジン、イミダゾピリジン、イミダゾピラジン、トリアゾロピリジン、ベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、トリアジンなどが挙げられ、好ましくはイミダゾピリダジン、イミダゾピリジン、イミダゾピラジン、ベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール等の縮合アゾール骨格を有する化合物またはトリアジン骨格を有する化合物であり、特に好ましくはイミダゾピリジンである。   Examples of the compound having a heterocyclic skeleton containing two or more heteroatoms include pyrazole, imidazole, pyrazine, pyrimidine, indazole, purine, phthalazine, naphthyridine, quinoxaline, quinazoline, cinnoline, pteridine, perimidine, phenanthroline, pyrroloimidazole, pyrrolotriazole , Pyrazoloimidazole, pyrazolotriazole, pyrazolopyrimidine, pyrazolotriazine, imidazoimidazole, imidazopyridazine, imidazopyridine, imidazopyrazine, triazolopyridine, benzimidazole, naphthimidazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzothiazole, naphthothiazole Benzotriazole, tetrazaindene, triazine, etc., preferably imidazopyri Jin, imidazopyridine, imidazopyrazine, a compound having benzimidazole, naphthoimidazole imidazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzothiazole, a compound or a triazine skeleton having a condensed azole skeleton such naphthothiazole, particularly preferably imidazopyridine.

アゾール骨格を有する化合物として好ましくは下記一般式(1)で表される化合物である。   The compound having an azole skeleton is preferably a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2005108665
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上記一般式(1)中、Rは水素原子又は置換基を表す。置換基としては、メチル基,エチル基,i−プロピル基,n−プロピル基等のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基,ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
XはO、S又はN−Ra(Raは水素原子、脂肪族炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、i−プロピル基、n−プロピル基)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基)又はヘテロ環基(例えば、チエニル基、ピリジル基)を表す。)を表す。
Qは、N及びXと結合してヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。
また、RとX、RとQは可能な場合には結合して環を形成しても良い。
In the general formula (1), R represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, i-propyl group, and n-propyl group, and aryl groups such as phenyl group and naphthyl group which may have a substituent.
X is O, S or N—R a (R a is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group (eg, methyl group, ethyl group, i-propyl group, n-propyl group), aryl group (eg, phenyl group, A naphthyl group, an anthranyl group) or a heterocyclic group (for example, a thienyl group or a pyridyl group).
Q represents an atomic group necessary for binding to N and X to form a heterocycle.
R and X, and R and Q may be combined to form a ring, if possible.

以下に、本発明で用いる電子輸送材料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the electron transport material used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005108665
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本発明で用いる一般式(1)で表される化合物は、特公昭44−23025号公報、同48−8842号公報、特開昭53−6331号公報、特開平10−92578号公報、米国特許3,449,255号明細書、同5,766,779号明細書、J.Am.Chem.Soc.,94,2414(1972)、Helv.Chim.Acta,63,413(1980)、Liebigs Ann.Chem.,1423(1982)などに記載の方法を参考にして合成できる。   The compounds represented by the general formula (1) used in the present invention are disclosed in JP-B Nos. 44-23025, 48-8842, JP-A-53-6331, JP-A-10-92578, US Patent 3,449,255, 5,766,779, J. Pat. Am. Chem. Soc. 94, 2414 (1972), Helv. Chim. Acta, 63, 413 (1980), Liebigs Ann. Chem. , 1423 (1982) and the like.

これら一般式(1)で表される化合物を電子輸送材料として本発明の電子輸送層に用いることにより、さらに一層発光効率、及び耐久性を良化させることができる。   By using these compounds represented by the general formula (1) as an electron transport material in the electron transport layer of the present invention, the light emission efficiency and durability can be further improved.

電子輸送層の厚みとしては、駆動電圧の上昇および発光素子の短絡を避けるために、10〜200nmが好ましく、20〜80nmがより好ましい。   The thickness of the electron transport layer is preferably 10 to 200 nm and more preferably 20 to 80 nm in order to avoid an increase in driving voltage and a short circuit of the light emitting element.

本発明においては、発光層と電子輸送層の間に正孔ブロック層を設けることができる。正孔ブロック層とは発光層から陰極側に正孔が突き抜けることを抑制する層であり、電子輸送性でありかつイオン化ポテンシャルの大きな材料を用いることができる。これらは電子輸送材より好適に選択することができる。   In the present invention, a hole blocking layer can be provided between the light emitting layer and the electron transport layer. The hole blocking layer is a layer that suppresses the penetration of holes from the light emitting layer to the cathode side, and a material that has an electron transporting property and a large ionization potential can be used. These can be suitably selected from electron transport materials.

本発明おいては、電子輸送層と陰極の間に電子注入層を設けることができる。
電子注入層とは、陰極から電子輸送層に電子を注入しやすくする層であり、具体的にはフッ化リチウム、塩化リチウム、臭化リチウム等のリチウム塩、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属塩、酸化リチウム、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム等の絶縁性金属酸化物等を好適に用いることができる。電子注入層の膜厚は0.1〜5nmである。
In the present invention, an electron injection layer can be provided between the electron transport layer and the cathode.
The electron injection layer is a layer that facilitates injection of electrons from the cathode into the electron transport layer. Specifically, lithium salts such as lithium fluoride, lithium chloride, and lithium bromide, sodium fluoride, sodium chloride, fluoride An alkali metal salt such as cesium, an insulating metal oxide such as lithium oxide, aluminum oxide, indium oxide, and magnesium oxide can be preferably used. The thickness of the electron injection layer is 0.1 to 5 nm.

−−正孔輸送層−−
本発明においては必要に応じて、正孔輸送材を含む正孔輸送層を設けることができる。
正孔輸送材としては正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているもので有れば制限されることはなく正孔輸送材を好適に用いることができる。
正孔輸送層の厚みとしては、駆動電圧の上昇および発光素子の短絡を避けるために、10〜200nmが好ましく、20〜80nmがより好ましい。
--- Hole transport layer--
In the present invention, a hole transport layer containing a hole transport material can be provided as necessary.
The hole transport material is not limited as long as it has either a function of transporting holes or a function of blocking electrons injected from the cathode, and the hole transport material is preferably used. be able to.
The thickness of the hole transport layer is preferably 10 to 200 nm and more preferably 20 to 80 nm in order to avoid an increase in driving voltage and a short circuit of the light emitting element.

本発明おいては、正孔輸送層と陽極の間に正孔注入層を設けることができる。
正孔注入層とは、陽極から正孔輸送層に正孔を注入しやすくする層であり、具体的には正孔輸送材の中でイオン化ポテンシャルの小さな材料が好適用いられる。例えばフタロシアニン化合物、ポルフィリン化合物、スターバースト型トリアリールアミン化合物等を挙げることができ、好適に用いることができる。
正孔注入層の膜厚は1〜30nmである。
In the present invention, a hole injection layer can be provided between the hole transport layer and the anode.
The hole injection layer is a layer that facilitates injection of holes from the anode into the hole transport layer, and specifically, a material having a small ionization potential is preferably used among the hole transport materials. For example, a phthalocyanine compound, a porphyrin compound, a starburst type triarylamine compound, etc. can be mentioned, It can use suitably.
The thickness of the hole injection layer is 1 to 30 nm.

−−有機層の形成−−
上記電子輸送層や正孔輸送層などの有機層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、ディッピング、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、ダイコート法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の湿式製膜法いずれによっても好適に製膜することができる。
なお、これらの製膜法の種類の選択は、該有機層の材料に応じて適宜おこなうことができる。
--Formation of organic layer--
Organic layers such as the electron transport layer and the hole transport layer are formed by dry film formation methods such as vapor deposition and sputtering, dipping, spin coating, dip coating, casting, die coating, roll coating, and bar coating. The film can be suitably formed by any of wet film forming methods such as gravure coating.
In addition, selection of the kind of these film forming methods can be suitably performed according to the material of this organic layer.

湿式製膜法により製膜した場合は、製膜した後、適宜乾燥を行うことができ、該乾燥の条件としては特に制限はないが、塗布形成した層が損傷しない範囲の温度等を採用することができる。   When the film is formed by a wet film forming method, the film can be appropriately dried after film formation. The drying conditions are not particularly limited, but a temperature in a range that does not damage the coated layer is adopted. be able to.

−基材−
基材の材料としては、水分を透過させない材料または水分透過率の極めて低い材料が好ましく、また、有機層から発せられる光を散乱乃至減衰等のさせることのない材料が好ましく、例えばYSZ(ジルコニア安定化イットリウム)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の合成樹脂等の有機材料、などが挙げられる。有機材料の場合、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、加工性、低通気性、低吸湿性等に優れていることが好ましい。これらの中でも、透明電極の材料が該透明電極の材料として好適に使用される酸化錫インジウム(ITO)である場合には、該酸化錫インジウム(ITO)との格子定数の差が小さい材料が好ましい。これらの材料は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
-Base material-
The material of the base material is preferably a material that does not transmit moisture or a material that has a very low moisture transmission rate, and is preferably a material that does not scatter or attenuate light emitted from the organic layer, for example, YSZ (zirconia stable) Yttrium), inorganic materials such as glass, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, allyl diglycol carbonate, polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, poly And organic materials such as synthetic resins such as (chlorotrifluoroethylene). In the case of an organic material, it is preferable to be excellent in heat resistance, dimensional stability, solvent resistance, electrical insulation, workability, low air permeability, low moisture absorption, and the like. Among these, when the material of the transparent electrode is indium tin oxide (ITO) that is suitably used as the material of the transparent electrode, a material having a small difference in lattice constant from the indium tin oxide (ITO) is preferable. . These materials may be used alone or in combination of two or more.

基材の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、形状としては、板状である。構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular about the shape of a base material, a structure, a magnitude | size, It can select suitably according to the use, the objective, etc. of a light emitting element. In general, the shape is a plate. The structure may be a single layer structure, a laminated structure, may be formed of a single member, or may be formed of two or more members.

基材は、無色透明であってもよいし、有色透明であってもよいが、発光層から発せられる光を散乱あるいは減衰等させることがない点で、無色透明であるのが好ましい。   The substrate may be colorless and transparent or colored and transparent, but is preferably colorless and transparent in that it does not scatter or attenuate the light emitted from the light emitting layer.

基材には、その表面または裏面(透明電極側)に透湿防止層(ガスバリア層)を設けるのが好ましい。
透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。該透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
基材には、さらに必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
The substrate is preferably provided with a moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) on the front surface or back surface (transparent electrode side).
As a material for the moisture permeation preventive layer (gas barrier layer), inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide are preferably used. The moisture permeation preventing layer (gas barrier layer) can be formed by, for example, a high frequency sputtering method.
The base material may be further provided with a hard coat layer, an undercoat layer or the like, if necessary.

−陽極−
陽極としては、通常、有機層に正孔を供給する陽極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極の中から適宜選択することができる。
-Anode-
As the anode, it is usually only necessary to have a function as an anode for supplying holes to the organic layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light emitting device. , Can be appropriately selected from known electrodes.

陽極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、有機導電性化合物、またはこれらの混合物が好適に挙げられ、仕事関数が4.0eV以上の材料が好ましい。具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の半導性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、及びこれらとITOとの積層物などが挙げられる。   As a material of the anode, for example, a metal, an alloy, a metal oxide, an organic conductive compound, or a mixture thereof can be suitably cited, and a material having a work function of 4.0 eV or more is preferable. Specific examples include semiconductive metal oxides such as tin oxide (ATO, FTO) doped with antimony or fluorine, tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), etc. Metals such as gold, silver, chromium and nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, organics such as polyaniline, polythiophene and polypyrrole Examples thereof include conductive materials and laminates of these with ITO.

陽極は例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式、などの中から上記材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って基板上に形成することができる。例えば、陽極の材料として、ITOを選択する場合には、該陽極の形成は、直流あるいは高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に従って行うことができる。また陽極の材料として有機導電性化合物を選択する場合には湿式製膜法に従って行うことができる。   The anode may be, for example, a printing method, a wet method such as a coating method, a physical method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, a chemical method such as a CVD method or a plasma CVD method, or the like. It can be formed on the substrate according to a method appropriately selected in consideration of suitability. For example, when ITO is selected as the anode material, the anode can be formed according to a direct current or high frequency sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like. Moreover, when selecting an organic electroconductive compound as a material of an anode, it can carry out according to the wet film forming method.

本発明の発光素子における陽極の形成位置としては、特に制限はなく、該発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができるが、基板上に形成されるのが好ましい。この場合、該陽極は、基板における一方の表面の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。   There is no restriction | limiting in particular as a formation position of the anode in the light emitting element of this invention, Although it can select suitably according to the use and objective of this light emitting element, It is preferable to form on a board | substrate. In this case, the anode may be formed on the entire one surface of the substrate or may be formed on a part thereof.

なお、陽極のパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングにより行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングにより行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法により行ってもよい。   The patterning of the anode may be performed by chemical etching such as photolithography, or may be performed by physical etching using a laser or the like, or may be performed by vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

陽極の厚みとしては、上記材料に応じて適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常10nm〜50μmであり、50nm〜20μmが好ましい。
陽極の抵抗値としては、103Ω/□以下が好ましく、102Ω/□以下がより好ましい。
陽極は、該陽極側から発光を取り出すためには透明であることが好ましく、その透過率としては、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。この透過率は、分光光度計を用いた公知の方法に従って測定することができる。また、この場合、陽極は無色透明であっても、有色透明であってもよく、
The thickness of the anode can be appropriately selected according to the above materials and cannot be generally defined, but is usually 10 nm to 50 μm, and preferably 50 nm to 20 μm.
The resistance value of the anode is preferably 10 3 Ω / □ or less, and more preferably 10 2 Ω / □ or less.
The anode is preferably transparent in order to extract light emitted from the anode side, and the transmittance is preferably 60% or more, and more preferably 70% or more. This transmittance can be measured according to a known method using a spectrophotometer. In this case, the anode may be colorless and transparent or colored and transparent.

なお、陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊(1999)に詳述があり、これらを本発明に適用することができる。耐熱性の低いプラスティック基材を用いる場合は、ITOまたはIZOを使用し、150℃以下の低温で製膜した陽極が好ましい。   The anode is described in detail in “New Development of Transparent Electrode Film”, published by CMC (1999), supervised by Yutaka Sawada, and these can be applied to the present invention. When using a plastic substrate having low heat resistance, an anode formed using ITO or IZO at a low temperature of 150 ° C. or lower is preferable.

−陰極−
陰極としては、通常、有機層に電子を注入する陰極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極の中から適宜選択することができる。
-Cathode-
As the cathode, it is usually only necessary to have a function as a cathode for injecting electrons into the organic layer, and there are no particular restrictions on the shape, structure, size, etc., depending on the use and purpose of the light-emitting element, It can select suitably from well-known electrodes.

陰極の材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられ、仕事関数が4.5eV以下のものが好ましい。具体例としてはアルカリ金属(たとえば、Li、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(たとえばMg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を好適に併用することができる。   Examples of the material for the cathode include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof, and those having a work function of 4.5 eV or less are preferable. Specific examples include alkali metals (eg, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys, lithium-aluminum alloys, magnesium. -Rare earth metals such as silver alloys, indium, ytterbium, and the like. These may be used alone, but two or more can be suitably used in combination from the viewpoint of achieving both stability and electron injection.

これらの中でも、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ度類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、またはアルミニウムと0.01〜10重量%のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属との合金若しくは混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。
Among these, alkali metals and alkalinity metals are preferable from the viewpoint of electron injection properties, and materials mainly composed of aluminum are preferable from the viewpoint of excellent storage stability.
The material mainly composed of aluminum is aluminum alone, or an alloy or mixture of aluminum and 0.01 to 10% by weight of alkali metal or alkaline earth metal (for example, lithium-aluminum alloy, magnesium-aluminum alloy, etc.). Say.

なお、陰極の材料については、特開平2−15595号公報、特開平5−121172号公報に詳述されている。   The cathode material is described in detail in JP-A-2-15595 and JP-A-5-121172.

陰極の形成法は、特に制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。例えば、印刷方式、コーティング方式等の湿式方式、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的方式、CVD、プラズマCVD法等の化学的方式、などの中から前記材料との適性を考慮して適宜選択した方法に従って形成することができる。例えば、陰極の材料として、金属等を選択する場合には、その1種または2種以上を同時または順次にスパッタ法等に従って行うことができる。   There is no restriction | limiting in particular in the formation method of a cathode, It can carry out according to a well-known method. For example, suitability with the above materials from among wet methods such as printing methods, coating methods, physical methods such as vacuum deposition methods, sputtering methods and ion plating methods, chemical methods such as CVD and plasma CVD methods, etc. It can be formed according to a method appropriately selected in consideration. For example, when a metal or the like is selected as the cathode material, one or more of them can be simultaneously or sequentially performed according to a sputtering method or the like.

なお、陰極のパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングにより行ってもよいし、レーザーなどによる物理的エッチングにより行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法により行ってもよい。   The cathode patterning may be performed by chemical etching such as photolithography, physical etching by a laser, or the like, or by vacuum deposition or sputtering with a mask overlapped. It may be performed by a lift-off method or a printing method.

陰極の発光発光素子における形成位置としては、特に制限はなく、該発光素子の用途、目的に応じて適宜選択することができるが、有機層上に形成されるのが好ましい。この場合、該陰極は、有機層上の全部に形成されていてもよく、その一部に形成されていてもよい。
また、陰極と有機層との間にアルカリ金属またはアルカリ土類金属のフッ化物等による誘電体層を0.1〜5nmの厚みで挿入してもよい。
なお、該誘電体層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成することができる。
There is no restriction | limiting in particular as a formation position in the light emitting light emitting element of a cathode, Although it can select suitably according to the use and purpose of this light emitting element, forming in an organic layer is preferable. In this case, the cathode may be formed on the entire organic layer or a part thereof.
Further, a dielectric layer made of an alkali metal or alkaline earth metal fluoride or the like may be inserted between the cathode and the organic layer with a thickness of 0.1 to 5 nm.
The dielectric layer can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

陰極の厚みとしては、材料に応じて適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常10nm〜5μmであり、50nm〜1μmが好ましい。
陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1〜10nmの厚みに薄く製膜し、更に前記ITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
The thickness of the cathode can be appropriately selected depending on the material and cannot be generally defined, but is usually 10 nm to 5 μm, and preferably 50 nm to 1 μm.
The cathode may be transparent or opaque. The transparent cathode can be formed by thinly forming the cathode material to a thickness of 1 to 10 nm and further laminating the transparent conductive material such as ITO or IZO.

−その他の層−
その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護層などが挙げられる。
保護層としては、例えば、特開平7−85974号公報、同7−192866号公報、同8−22891号公報、同10−275682号公報、同10−106746号公報等に記載のものが好適に挙げられる。
保護層は、基材、陽極、有機層および陰極からなる発光積層体において、その最表面に、例えば、基材、陽極、有機層、及び陰極がこの順に積層される場合には、該陰極上に形成され、基材、陰極、有機層、及び陽極がこの順に積層される場合には、該陽極上に形成される。
保護層の形状、大きさ、厚み等については、適宜選択することができ、その材料としては、水分や酸素等の発光素子を劣化させ得るものを該発光素子内に侵入乃至透過させるのを抑制する機能を有していれば特に制限はなく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、酸化ゲルマニウム、二酸化ゲルマニウム、等が挙げられる。
-Other layers-
There is no restriction | limiting in particular as another layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a protective layer etc. are mentioned.
As the protective layer, for example, those described in JP-A-7-85974, JP-A-7-192866, JP-A-8-22891, JP-A-10-275682, JP-A-10-106746 are suitable. Can be mentioned.
In the light emitting laminate comprising a substrate, an anode, an organic layer, and a cathode, the protective layer is formed on the outermost surface, for example, when the substrate, the anode, the organic layer, and the cathode are laminated in this order on the cathode. When the substrate, the cathode, the organic layer, and the anode are laminated in this order, they are formed on the anode.
The shape, size, thickness, and the like of the protective layer can be selected as appropriate, and as the material, it is possible to suppress the penetration or transmission of substances that can deteriorate the light emitting element such as moisture and oxygen into the light emitting element. If it has the function to perform, there will be no restriction | limiting in particular, For example, silicon oxide, silicon dioxide, germanium oxide, germanium dioxide, etc. are mentioned.

保護層の形成方法としては、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子センエピタキシ法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法、などが挙げられる。   The method for forming the protective layer is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, the sputtering method, the reactive sputtering method, the molecular send epitaxy method, the cluster ion beam method, the ion plating method, the plasma polymerization method, the plasma CVD method, Examples include laser CVD, thermal CVD, and coating.

更に、本発明においては、発光積層体における各層への水分や酸素の侵入を防止する目的で、封止層を設けるのも好ましい。
封止層の材料としては、例えば、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含む共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリユリア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン及びジクロロジフルオロエチレンから選択される2種以上の共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Tl、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al23、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe23、Y23、TiO2等の金属酸化物、MgF2、LiF、AlF3、CaF2等の金属フッ化物、パーフルオロアルカン、パーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等の液状フッ素化炭素、液状フッ素化炭素に水分や酸素を吸着する吸着剤を分散させたもの、などが挙げられる。
Furthermore, in the present invention, it is also preferable to provide a sealing layer for the purpose of preventing moisture and oxygen from entering each layer in the light emitting laminate.
Examples of the material for the sealing layer include a copolymer containing tetrafluoroethylene and at least one comonomer, a fluorine-containing copolymer having a cyclic structure in the copolymer main chain, polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate, and polyimide. , Polyurea, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polydichlorodifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene and dichlorodifluoroethylene, two or more copolymers, a water-absorbing substance having a water absorption of 1% or more, water absorption Moisture-proof material with a rate of 0.1% or less, metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Tl, Ni, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, NiO, CaO, BaO, Fe 2 O 3, Y 2 O 3, TiO metal oxides such as 2, MgF 2, LiF, Al 3, CaF 2, perfluoroalkanes, perfluoro amines, liquid fluorinated carbon perfluoro ether, which moisture and oxygen in the liquid fluorinated carbon was dispersed adsorbent for adsorbing, like It is done.

本発明の発光素子は、陽極と陰極との間に直流(必要に応じて交流成分を含んでもよい)電圧(通常2ボルト〜40ボルト)、または直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。
本発明の発光素子の駆動については、特開平2−148687号公報、同6−301355号公報、同5−29080号公報、同7−134558号公報、同8−234685号公報、同241047号公報、米国特許5828429号明細書、同6023308号明細書、日本特許第2784615号明細書、等に記載の方法を利用することができる。
The light-emitting element of the present invention obtains light emission by applying a direct current (which may include an alternating current component as necessary) voltage (usually 2 to 40 volts) or a direct current between the anode and the cathode. Can do.
Regarding the driving of the light emitting element of the present invention, JP-A-2-148687, JP-A-6-301355, JP-A-5-29080, JP-A-7-134558, JP-A-8-234485, JP-A-241047. , U.S. Pat. Nos. 5,828,429, 6,023,308, Japanese Patent 2,784,615, and the like can be used.

本発明の発光素子は、用途は限定されないが、フルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源や、プリンター等の光源アレイなどに有効に利用できる。   The use of the light-emitting element of the present invention is not limited, but it can be effectively used for a surface light source such as a full-color display, a backlight, and an illumination light source, and a light source array such as a printer.

以下に、本発明の発光素子の実施例について説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。   Examples of the light emitting device of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
基材として厚みが0.5mmで2.5cm角のガラス板を用い、この基材を真空チャンバー内に導入し、SnO2含有率が10質量%であるITOターゲット(インジウム:錫=95:5(モル比))を用いて、DCマグネトロンスパッタ(条件:基材温度250℃、酸素圧1×10-3Pa)により、透明電極(陽極)としてのITO薄膜(厚み0.2μm)を形成した。ITO薄膜の表面抵抗は10Ω/□であった。
次に、透明電極を形成した基板を洗浄容器に入れ、IPA洗浄した後、これにUV−オゾン処理を30分おこなった。
(Example 1)
An ITO target (indium: tin = 95: 5) having a SnO 2 content of 10% by mass was introduced into a vacuum chamber using a glass plate of 0.5 mm thickness and 2.5 cm square as the substrate. (Molar ratio)) was used to form an ITO thin film (thickness 0.2 μm) as a transparent electrode (anode) by DC magnetron sputtering (conditions: substrate temperature 250 ° C., oxygen pressure 1 × 10 −3 Pa). . The surface resistance of the ITO thin film was 10Ω / □.
Next, the substrate on which the transparent electrode was formed was placed in a cleaning container and subjected to IPA cleaning, and then UV-ozone treatment was performed for 30 minutes.

この陽極上に正孔輸送層として、N,N’−ジナフチル−N,N’−ジフェニルベンジジジンを真空蒸着法にて1nm/秒の速度で0.03μm設けた。
この上に燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを蒸着速度1/5となるように共蒸着し、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が20質量%の第1発光層を0.006μm製膜した。
さらにその上に、燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを用いて、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が、第2〜第5発光層でそれぞれ15質量%、10質量%、5質量%、0.01質量%となるように第2発光層を0.006μm、第3発光層を0.006μm、第4発光層を0.006μm、第5発光層を0.006μm設けた。
On this anode, 0.03 μm of N, N′-dinaphthyl-N, N′-diphenylbenzidine was provided at a rate of 1 nm / second by vacuum deposition as a hole transport layer.
On top of this, tris (2-phenylpyridyl) iridium as a phosphorescent compound and 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl as a host compound were co-deposited at a deposition rate of 1/5. A first light-emitting layer having a (2-phenylpyridyl) iridium concentration of 20% by mass was formed to a thickness of 0.006 μm.
Furthermore, tris (2-phenylpyridyl) iridium concentration is obtained by using tris (2-phenylpyridyl) iridium which is a phosphorescent compound and 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl as a host compound. However, the second light-emitting layer is 0.006 μm, the third light-emitting layer is 0.006 μm, and the second to fifth light-emitting layers are 15% by mass, 10% by mass, 5% by mass, and 0.01% by mass, respectively. The fourth light emitting layer was provided at 0.006 μm, and the fifth light emitting layer was provided at 0.006 μm.

さらにその上に、電子輸送材料として2,2’,2’’−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス[3−(2−メチルフェニル)−3H−イミダゾ[4,5−b]ピリジン](化合物27)を1nm/秒の速度で蒸着して0.050μmの電子輸送層を設けた。
さらにこの上に電子注入層としてLiFを1nm/秒の速度で蒸着して0.002μmの電子注入層を設けた。
Furthermore, 2,2 ′, 2 ″-(1,3,5-benzenetriyl) tris [3- (2-methylphenyl) -3H-imidazo [4,5-b] is used as an electron transport material. Pyridine] (Compound 27) was deposited at a rate of 1 nm / sec to provide an electron transport layer of 0.050 μm.
Furthermore, LiF was vapor-deposited as an electron injection layer at a rate of 1 nm / second to provide a 0.002 μm electron injection layer.

さらにこの電子注入層上にパターニングしたマスク(発光面積が5mm×5mmとなるマスク)を設置し、蒸着装置内でアルミニウムを0.25μm蒸着し、背面電極(陰極)を形成した。   Further, a patterned mask (a mask having a light emission area of 5 mm × 5 mm) was placed on the electron injection layer, and aluminum was deposited by 0.25 μm in a vapor deposition apparatus to form a back electrode (cathode).

透明電極(陽極として機能する)及び背面電極より、それぞれアルミニウムのリード線を結線し、発光積層体を形成した。
ここで得られた発光積層体を、窒素ガスで置換したグローブボックス内に入れた。内側に凹部を設けたステンレス製の封止カバーに、グローブボックス中で水分吸着剤としての酸化カルシウム粉末を10mg入れ、粘着テープで固着した。 この封止カバーと、接着剤として紫外線硬化型接着剤(長瀬チバ製、XNR5516HV)を用いて封止した。以上により、実施例1の発光素子を作成した。
Aluminum lead wires were respectively connected from the transparent electrode (functioning as an anode) and the back electrode to form a light emitting laminate.
The light emitting laminate obtained here was placed in a glove box substituted with nitrogen gas. In a glove box, 10 mg of calcium oxide powder as a moisture adsorbent was placed in a stainless steel sealing cover provided with a recess on the inside, and fixed with an adhesive tape. Sealing was performed using this sealing cover and an ultraviolet curable adhesive (XNR5516HV, manufactured by Chiba Nagase) as an adhesive. Thus, the light emitting element of Example 1 was produced.

該発光素子を用いて、以下の方法で評価した。
東洋テクニカ製ソースメジャーユニット2400型を用いて、直流電圧を発光素子に印加し発光させて、初期の発光性能を測定した。その時の最高輝度をLmax、Lmaxが得られた時の電圧をVmaxとした。さらに2000Cd/m2時の発光効率を外部量子効率(η2000)として表1に示した。
また、初期輝度2000Cd/m2で駆動耐久性試験を実施し、輝度が半分になった時間を半減時間(T1/2)として、試験結果を表1に示した。
Using the light emitting device, evaluation was performed by the following method.
Using a source measure unit type 2400 manufactured by Toyo Technica, direct voltage was applied to the light emitting element to emit light, and the initial light emitting performance was measured. The maximum luminance at that time was L max , and the voltage when L max was obtained was V max . Further, the luminous efficiency at 2000 Cd / m 2 is shown in Table 1 as the external quantum efficiency (η 2000 ).
In addition, a driving durability test was performed at an initial luminance of 2000 Cd / m 2 , and the test results are shown in Table 1 with the time when the luminance was halved as half time (T 1/2 ).

(実施例2)
実施例1において、発光層の蒸着条件を以下の条件にする以外は実施例1と同じ方法で素子を作成し、実施例1と同じ方法で評価した。試験結果を表1に示した。
(Example 2)
In Example 1, an element was prepared by the same method as in Example 1 except that the light emitting layer was deposited under the following conditions, and evaluated in the same manner as in Example 1. The test results are shown in Table 1.

<発光層の蒸着条件>
燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを蒸着速度1/10となるように共蒸着し、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が10質量%の第1発光層を0.006μm製膜した。
さらにその上に、燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを用いて、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が、第2〜第5発光層でそれぞれ8質量%、6質量%、4質量%、1質量%となるように第2発光層を0.006μm、第3発光層を0.006μm、第4発光層を0.006μm、第5発光層を0.006μm設けた。
<Evaporation conditions for light emitting layer>
As a phosphorescent compound, tris (2-phenylpyridyl) iridium and a host compound, 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl was co-deposited at a deposition rate of 1/10, and tris (2- A first light-emitting layer having a phenylpyridyl) iridium concentration of 10% by mass was formed into a film of 0.006 μm.
Furthermore, tris (2-phenylpyridyl) iridium concentration is obtained by using tris (2-phenylpyridyl) iridium which is a phosphorescent compound and 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl as a host compound. However, the second light emitting layer is 0.006 μm, the third light emitting layer is 0.006 μm, and the fourth light emitting layer is 8 mass%, 6 mass%, 4 mass%, and 1 mass%, respectively. The light emitting layer was provided with 0.006 μm, and the fifth light emitting layer was provided with 0.006 μm.

(実施例3)
実施例1において、発光層の蒸着条件を以下の条件にする以外は実施例1と同じ方法で素子を作成し、実施例1と同じ方法で評価した。試験結果を表1に示した。
(Example 3)
In Example 1, an element was prepared by the same method as in Example 1 except that the light emitting layer was deposited under the following conditions, and evaluated in the same manner as in Example 1. The test results are shown in Table 1.

<発光層の蒸着条件>
燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを蒸着速度1/10となるように共蒸着し、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が10質量%の第1発光層を0.01μm製膜した。
さらにその上に、燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを用いて、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が、第2〜3発光層でそれぞれ5質量%、0.01質量%となるように第2発光層を0.01μm、第3発光層を0.01μm設けた。
<Evaporation conditions for light emitting layer>
As a phosphorescent compound, tris (2-phenylpyridyl) iridium and a host compound, 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl was co-deposited at a deposition rate of 1/10, and tris (2- A first light-emitting layer having a phenylpyridyl) iridium concentration of 10% by mass was formed to a thickness of 0.01 μm.
Furthermore, tris (2-phenylpyridyl) iridium concentration is obtained by using tris (2-phenylpyridyl) iridium which is a phosphorescent compound and 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl as a host compound. However, the second and third light-emitting layers were respectively provided with a second light-emitting layer of 0.01 μm and a third light-emitting layer of 0.01 μm so as to be 5% by mass and 0.01% by mass, respectively.

(実施例4)
実施例1において、発光層までは実施例1と同じ方法で作成した。その後、正孔ブロック材料として((1,1’−ビフェニル)−4−オルアト)ビス(2−メチル−8−キノリノラト N1,O8)アルミニウム(Balq)を1nm/秒の速度で蒸着して0.010μmの正孔ブロック輸送層を設けた。
さらにその上に電子輸送材料としてトリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウムを1nm/秒の速度で蒸着して0.040μmの電子輸送層を設けた。
さらにこの上に電子注入層としてLiFを1nm/秒の速度で蒸着して0.002μmの電子注入層を設けた。
Example 4
In Example 1, the layers up to the light emitting layer were formed by the same method as in Example 1. Thereafter, ((1,1′-biphenyl) -4-orato) bis (2-methyl-8-quinolinolato N1, O8) aluminum (Balq) was vapor-deposited at a rate of 1 nm / second as a hole blocking material. A hole block transport layer of 010 μm was provided.
Further, tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum was deposited thereon as an electron transporting material at a rate of 1 nm / second to provide a 0.040 μm electron transporting layer.
Furthermore, LiF was vapor-deposited as an electron injection layer at a rate of 1 nm / second to provide a 0.002 μm electron injection layer.

さらにこの電子注入層上にパターニングしたマスク(発光面積が5mm×5mmとなるマスク)を設置し、蒸着装置内でアルミニウムを0.25μm蒸着し、背面電極を形成した。   Further, a patterned mask (a mask having a light emission area of 5 mm × 5 mm) was placed on the electron injection layer, and aluminum was deposited by 0.25 μm in a deposition apparatus to form a back electrode.

陽極及び陰極より、それぞれアルミニウムのリード線を結線し、発光積層体を形成した。
ここで得られた発光積層体を、窒素ガスで置換したグローブボックス内に入れた。内側に凹部を設けたステンレス製の封止カバーに、前記グローブボックス中で水分吸着剤としての酸化カルシウム粉末を10mg入れ、粘着テープで固着した。この封止カバーと、接着剤として紫外線硬化型接着剤(長瀬チバ製、XNR5516HV)を用いて封止した。以上により、実施例4の発光素子を作成した。
その後、実施例1と同じ方法で評価した。その結果を表1に示した。
Aluminum lead wires were respectively connected from the anode and the cathode to form a light emitting laminate.
The light emitting laminate obtained here was placed in a glove box substituted with nitrogen gas. In a glove box, 10 mg of calcium oxide powder as a moisture adsorbent was placed in a stainless steel sealing cover provided with a recess on the inside, and fixed with an adhesive tape. Sealing was performed using this sealing cover and an ultraviolet curable adhesive (XNR5516HV, manufactured by Chiba Nagase) as an adhesive. Thus, the light-emitting element of Example 4 was created.
Then, it evaluated by the same method as Example 1. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1において、発光層の蒸着条件を以下の条件にする以外は実施例1と同じ方法で素子を作成し、実施例1と同じ方法で評価した。試験結果を表1に示した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an element was prepared by the same method as in Example 1 except that the light emitting layer was deposited under the following conditions, and evaluated in the same manner as in Example 1. The test results are shown in Table 1.

<発光層の蒸着条件>
燐光発光性化合物であるトリス(2−フェニルピリジル)イリジウム及びホスト化合物として、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルを蒸着速度1/20となるように共蒸着し、トリス(2−フェニルピリジル)イリジウム濃度が5質量%の単一発光層を0.03μm製膜した。
<Evaporation conditions for light emitting layer>
As a phosphorescent compound tris (2-phenylpyridyl) iridium and a host compound, 4,4′-N, N′-dicarbazolebiphenyl was co-evaporated at a deposition rate of 1/20, and tris (2- A single light-emitting layer having a phenylpyridyl) iridium concentration of 5% by mass was formed into 0.03 μm.

Figure 2005108665
Figure 2005108665

表1に示される結果から、発光層の燐光発光性化合物の濃度が、陰極側の発光層から陽極側に発光層に向けて、順次高くなる本発明の発光素子は、燐光発光性化合物の濃度が均一な単一発光層からなる比較例1の比較発光素子よりも発光効率、耐久性において著しく優れていることが分かる。   From the results shown in Table 1, the concentration of the phosphorescent compound in the light emitting layer increases in order from the light emitting layer on the cathode side to the light emitting layer on the anode side. It can be seen that the light emitting efficiency and durability are remarkably superior to those of the comparative light emitting device of Comparative Example 1 composed of a uniform single light emitting layer.

Claims (3)

一対の電極間に、正孔輸送層、少なくとも2層の発光層、電子輸送層を有する発光素子であって、
全ての発光層がそれぞれ燐光発光性化合物及びホスト化合物を含み、かつ燐光発光性化合物の濃度が陰極側にある発光層より陽極側にある発光層の方が高いことを特徴とする発光素子。
A light emitting device having a hole transport layer, at least two light emitting layers, and an electron transport layer between a pair of electrodes,
A light-emitting element, wherein all the light-emitting layers each contain a phosphorescent compound and a host compound, and the concentration of the phosphorescent compound is higher in the light-emitting layer on the anode side than in the light-emitting layer on the cathode side.
発光層の燐光発光性化合物の濃度が、各発光層で0.01質量%以上20質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の発光素子。   2. The light-emitting element according to claim 1, wherein the concentration of the phosphorescent compound in the light-emitting layer is 0.01% by mass or more and 20% by mass or less in each light-emitting layer. 電子輸送層に含まれる電子輸送材料が、分子内にヘテロ原子を1個以上有する芳香族ヘテロ環化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子。   3. The light emitting device according to claim 1, wherein the electron transport material contained in the electron transport layer is an aromatic heterocyclic compound having one or more hetero atoms in the molecule.
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