JP2003141985A - 真空管 - Google Patents
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/20—Selection of substances for gas fillings; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the tube, e.g. by gettering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/105—Cooling of rotating anodes, e.g. heat emitting layers or structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J7/18—Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
- H01J7/183—Composition or manufacture of getters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、真空管の操作の特性、信頼
度及び耐用期間に関する欠点を有しない、実質的に、よ
り経済的に製造できる種類の真空管を提供することであ
る。 【解決手段】 本発明は、電力の処理又は転換のための
真空管（１）に関し、例えば、望ましくない圧力増加を
回避するために役立つゲッターと同様に、操作中に熱の
放射によって冷却される、少なくとも一つの表面を含む
Ｘ線管又は移動する波の管に関する。特に、管は、ゲッ
ターが冷却される管（１）の表面で部分的又は完全にコ
ーティングする形態で提供され、かかるコーティングは
冷却に適する温度放射力を有するような厚さであること
を特徴とする。
度及び耐用期間に関する欠点を有しない、実質的に、よ
り経済的に製造できる種類の真空管を提供することであ
る。 【解決手段】 本発明は、電力の処理又は転換のための
真空管（１）に関し、例えば、望ましくない圧力増加を
回避するために役立つゲッターと同様に、操作中に熱の
放射によって冷却される、少なくとも一つの表面を含む
Ｘ線管又は移動する波の管に関する。特に、管は、ゲッ
ターが冷却される管（１）の表面で部分的又は完全にコ
ーティングする形態で提供され、かかるコーティングは
冷却に適する温度放射力を有するような厚さであること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電力処理又は電力
転換のための真空管に関しており、例えば、望ましくな
い圧力増加を回避するために役立つゲッターと同様に、
操作中に熱の放射によって冷却される、少なくとも一つ
の表面を含むＸ線管又は移動する波の管に関する。
転換のための真空管に関しており、例えば、望ましくな
い圧力増加を回避するために役立つゲッターと同様に、
操作中に熱の放射によって冷却される、少なくとも一つ
の表面を含むＸ線管又は移動する波の管に関する。
【０００２】
【従来の技術】下記の二つの要因は、操作の特性及び可
能な耐用期間に関する限りかかる真空管の信頼度の保存
において特別に重要である。
能な耐用期間に関する限りかかる真空管の信頼度の保存
において特別に重要である。
【０００３】物理的に避けられない損失のために、電磁
放射への電力の転換は、管内部の異なる部分又は表面
で、大量の熱量の発生によって伴われる。熱を除去する
手段によって、おそらく高い熱容量を有する物質の一時
的な保存の後に、熱のそれらの量は排除される。多くの
場合、例えば、陽極Ｘ線管では、かかる手段は、表面放
射熱によって主に又は実質的に形成される。
放射への電力の転換は、管内部の異なる部分又は表面
で、大量の熱量の発生によって伴われる。熱を除去する
手段によって、おそらく高い熱容量を有する物質の一時
的な保存の後に、熱のそれらの量は排除される。多くの
場合、例えば、陽極Ｘ線管では、かかる手段は、表面放
射熱によって主に又は実質的に形成される。
【０００４】できるだけ低温度で放射される熱量を与え
られることを可能にするために、できるだけ高い特定の
放射係数が表面の熱放射又は熱吸収において必要とされ
る。
られることを可能にするために、できるだけ高い特定の
放射係数が表面の熱放射又は熱吸収において必要とされ
る。
【０００５】管に損傷を与えるか、又は、物質及び管に
伴う圧力増加によって温度の影響下で、或いはガスの放
射によって許容可能なオペレーティング・パラメーター
を直接限定するかもしれないために、高温は望ましくな
い。適切な放射力を有する表面の形成は、重要な表面の
電気めっきか反応的なスパッタリングのような複雑で高
価な操作を必要とする（例えば、特開平７−１３４９５
８号公報参照。）。
伴う圧力増加によって温度の影響下で、或いはガスの放
射によって許容可能なオペレーティング・パラメーター
を直接限定するかもしれないために、高温は望ましくな
い。適切な放射力を有する表面の形成は、重要な表面の
電気めっきか反応的なスパッタリングのような複雑で高
価な操作を必要とする（例えば、特開平７−１３４９５
８号公報参照。）。
【０００６】一般的に、管の信頼できる操作には十分に
低い圧力を備えた真空をさらに保存するために、ガス吸
収物質（ゲッター）を管へ導入しなければならない。例
えば、患者の体内に導入するための、ゲッター物質から
なる冷陰極を含む小型Ｘ線源などがある（例えば、国際
公開番号９９／０５６９７号参照。）。ゲッターは、一
定の時間の間に陽極物質から、及び他の源から漏れて、
真空を汚染する結合ガス分子のためのガス抜き物質とし
て役立つ。ゲッター物質はジルコニウム、アルミニウ
ム、バナジウム、鉄及び／又はチタンを含み、例えば、
バナジウム、鉄、及びジルコニウムの合金として形成さ
れるかもしれない。
低い圧力を備えた真空をさらに保存するために、ガス吸
収物質（ゲッター）を管へ導入しなければならない。例
えば、患者の体内に導入するための、ゲッター物質から
なる冷陰極を含む小型Ｘ線源などがある（例えば、国際
公開番号９９／０５６９７号参照。）。ゲッターは、一
定の時間の間に陽極物質から、及び他の源から漏れて、
真空を汚染する結合ガス分子のためのガス抜き物質とし
て役立つ。ゲッター物質はジルコニウム、アルミニウ
ム、バナジウム、鉄及び／又はチタンを含み、例えば、
バナジウム、鉄、及びジルコニウムの合金として形成さ
れるかもしれない。
【０００７】ゲッターの使用と共に遭遇した問題は、ゲ
ッターが不活性な形態の管に最初に導入されるべきこと
である。なぜならば、さもないとゲッターが周囲の大気
と反応し、その結果として使用不可能となり、適切な真
空が形成された後でのみ加熱によってゲッターは活性化
されるためである。
ッターが不活性な形態の管に最初に導入されるべきこと
である。なぜならば、さもないとゲッターが周囲の大気
と反応し、その結果として使用不可能となり、適切な真
空が形成された後でのみ加熱によってゲッターは活性化
されるためである。
【０００８】活性化のために、典型的には、かかるゲッ
ターは８００℃乃至９００℃の温度まで数分間加熱され
るべきである。活性化中、ゲッター表面に結合している
原子（主に炭素、酸素及び窒素）は物質の内部に拡散さ
れ、金属表面をガスが吸収できるようにする。活性化の
度合いは時間と温度の関数であり、適切な活性化は、著
しい低温度と対応して延長された時間によって活性化で
きる。
ターは８００℃乃至９００℃の温度まで数分間加熱され
るべきである。活性化中、ゲッター表面に結合している
原子（主に炭素、酸素及び窒素）は物質の内部に拡散さ
れ、金属表面をガスが吸収できるようにする。活性化の
度合いは時間と温度の関数であり、適切な活性化は、著
しい低温度と対応して延長された時間によって活性化で
きる。
【０００９】高性能真空管のゲッターは、一般的に、管
の空になった内部に接続されるゲッターポットに位置し
ており、かかるゲッターは抵抗加熱ワイヤーの手段によ
る加熱によって活性化できる。
の空になった内部に接続されるゲッターポットに位置し
ており、かかるゲッターは抵抗加熱ワイヤーの手段によ
る加熱によって活性化できる。
【００１０】これは、追加の構成部分、及び真空への管
壁を通過する少なくとも１つの径路がゲッターポットの
ために必要になるという欠点を有する。さらに、加熱ワ
イヤーに電流を適用するための電気的な導きは、外側か
らゲッターポットの壁を通過するべきである。
壁を通過する少なくとも１つの径路がゲッターポットの
ために必要になるという欠点を有する。さらに、加熱ワ
イヤーに電流を適用するための電気的な導きは、外側か
らゲッターポットの壁を通過するべきである。
【００１１】一方、既に記載のことは、追加費用に結び
つく比較的複雑な製造段階を必要とする。さらに、この
種類のすべての径路は、管全体の不良を引き起こすかも
しれない、漏出の危険性を含む。最終的に、ゲッターの
少ない容量のために、ゲッターの吸収容量は比較的小さ
く、結局、管の最大耐用期間は再び制限される。
つく比較的複雑な製造段階を必要とする。さらに、この
種類のすべての径路は、管全体の不良を引き起こすかも
しれない、漏出の危険性を含む。最終的に、ゲッターの
少ない容量のために、ゲッターの吸収容量は比較的小さ
く、結局、管の最大耐用期間は再び制限される。
【００１２】全体として、真空の圧力増加を回避する一
方で熱の適切な排除の実現は、重要なコスト効果があ
り、同時に、真空管の操作の特性、信頼度及び耐用期間
に対する決定的な影響を有する。
方で熱の適切な排除の実現は、重要なコスト効果があ
り、同時に、真空管の操作の特性、信頼度及び耐用期間
に対する決定的な影響を有する。
【００１３】
【特許文献１】特開平７−１３４９５８号公報
【特許文献２】国際公開番号９９／０５６９７号
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、真空
管の操作の特性、信頼度及び耐用期間に関する欠点を受
けることなく、実質的に、より経済的に製造できる種類
の真空管を提供することである。
管の操作の特性、信頼度及び耐用期間に関する欠点を受
けることなく、実質的に、より経済的に製造できる種類
の真空管を提供することである。
【００１４】本発明のさらなる目的は、ゲッターの活性
化が、特に追加的な付属品の使用を必要とせずに比較的
簡素で実行できる種類の真空管を提供することである。
化が、特に追加的な付属品の使用を必要とせずに比較的
簡素で実行できる種類の真空管を提供することである。
【００１５】また、本発明のさらなる目的は、ゲッター
の活性化が、管の製造中又は後の実際に任意の瞬間にお
いて実行できる種類の真空管を提供することである。
の活性化が、管の製造中又は後の実際に任意の瞬間にお
いて実行できる種類の真空管を提供することである。
【００１６】本発明の別の目的は、ゲッターの効率及び
性能が著しく増強される種類の真空管を提供することで
ある。
性能が著しく増強される種類の真空管を提供することで
ある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本目的は、冷却される真
空管の表面に完全に又は部分的にコーティングする形態
のゲッターによって提供される、請求項１で開示されて
いる種類の真空管の手段によって達成され、かかるコー
ティングは、冷却のための適切な温度放射力を有するよ
うな厚さを有する。
空管の表面に完全に又は部分的にコーティングする形態
のゲッターによって提供される、請求項１で開示されて
いる種類の真空管の手段によって達成され、かかるコー
ティングは、冷却のための適切な温度放射力を有するよ
うな厚さを有する。
【００１８】かかるコーティングが熱の除去と同様にゲ
ッターとしてもこのように役立つので、簡素化された構
造及び節約以上のものが管の製造において達成される。
大きな表面エリア及び対応する高い吸収率を有し、有効
期限又は耐用期間の著しい拡張に帰着するゲッター構造
を認識することが特に可能である。
ッターとしてもこのように役立つので、簡素化された構
造及び節約以上のものが管の製造において達成される。
大きな表面エリア及び対応する高い吸収率を有し、有効
期限又は耐用期間の著しい拡張に帰着するゲッター構造
を認識することが特に可能である。
【００１９】従属項は有利な本発明のさらなる実施態様
に関連する。
に関連する。
【００２０】請求項２に従う実施態様は、ゲッターの活
性化が、個別の加熱装置及び電気的な加熱電流を供給す
るための管壁を通過するべき電気的な導きの使用を必要
としないという、利点を提供する。
性化が、個別の加熱装置及び電気的な加熱電流を供給す
るための管壁を通過するべき電気的な導きの使用を必要
としないという、利点を提供する。
【００２１】必要であれば、この解決のさらなる利点
は、ゲッターが、後の操作である、例えばメンテナンス
において活性化できることを含む。かかる活性化は遠隔
位置から制御できる。システム構成を修正することは必
要でなく、最適の効果的な状態で永久に維持されるゲッ
ターの手段によって管の耐用期間を延長することができ
る。
は、ゲッターが、後の操作である、例えばメンテナンス
において活性化できることを含む。かかる活性化は遠隔
位置から制御できる。システム構成を修正することは必
要でなく、最適の効果的な状態で永久に維持されるゲッ
ターの手段によって管の耐用期間を延長することができ
る。
【００２２】請求項３に従う実施態様は、活性化が管の
製造中の所望の瞬間で発生可能な利点を提供する。これ
は、時間とコストに関する最適な製造工程を可能にす
る。
製造中の所望の瞬間で発生可能な利点を提供する。これ
は、時間とコストに関する最適な製造工程を可能にす
る。
【００２３】請求項４に開示されている実施態様は、さ
らにより高活性化温度及びより長い活性化時間が与えら
れた表面上で必要とされる場合に、これらの利点を達成
することができる。
らにより高活性化温度及びより長い活性化時間が与えら
れた表面上で必要とされる場合に、これらの利点を達成
することができる。
【００２４】請求項５乃至１０はコーティングのために
特に有利な物質の組成を開示している。
特に有利な物質の組成を開示している。
【００２５】本発明のさらなる詳細、特徴、及び利点
は、例えば、図を参照して、実施例の手段によって、与
えられた好ましい実施態様の下記の詳細な記載から明か
になるであろう。
は、例えば、図を参照して、実施例の手段によって、与
えられた好ましい実施態様の下記の詳細な記載から明か
になるであろう。
【００２６】
【発明の実施の形態】図１は回転式陽極Ｘ線管の本質的
な部分の縦軸方向の断面図である。真空空間５は、隣接
する金属ハウジング１２と同様に、一方の端で広がって
いる本質的な円筒状のグラス包１１によって囲まれる。
真空空間５は、陽極軸２２によって支持される陽極ディ
スク２１を収容する。陽極軸２２は、螺旋状の溝軸受２
５１を備えて提供されている、軸受要素２５で回転でき
るように、軸受スリーブ２４によってジャーナルされる
ローター２３に付加される。軸受要素２５はＸ線管１を
保持するために役立ち、一方で、軸受スリーブ２４はＸ
線管の外側、すなわちガラス包１１のエリアに配置され
たモーターのローターを表し、陽極ディスク２１を回転
する。ローター２３を軸方向にジャーナルするために、
その（図における）下部の末端は、軸受要素２５に接続
される、二つの第二の輪磁石２５３間に維持される第一
の輪磁石２５２を備えて提供される。
な部分の縦軸方向の断面図である。真空空間５は、隣接
する金属ハウジング１２と同様に、一方の端で広がって
いる本質的な円筒状のグラス包１１によって囲まれる。
真空空間５は、陽極軸２２によって支持される陽極ディ
スク２１を収容する。陽極軸２２は、螺旋状の溝軸受２
５１を備えて提供されている、軸受要素２５で回転でき
るように、軸受スリーブ２４によってジャーナルされる
ローター２３に付加される。軸受要素２５はＸ線管１を
保持するために役立ち、一方で、軸受スリーブ２４はＸ
線管の外側、すなわちガラス包１１のエリアに配置され
たモーターのローターを表し、陽極ディスク２１を回転
する。ローター２３を軸方向にジャーナルするために、
その（図における）下部の末端は、軸受要素２５に接続
される、二つの第二の輪磁石２５３間に維持される第一
の輪磁石２５２を備えて提供される。
【００２７】金属ハウジング１２の前面において、電子
ビームが傾斜している陽極ディスク２１の放射状の外側
帯域に直接導かれる、フィラメントを備える陰極３が提
供され、したがって、金属ハウジング１２に提供される
出口窓１３を介してＸ線管から発散するＸ線は励起す
る。
ビームが傾斜している陽極ディスク２１の放射状の外側
帯域に直接導かれる、フィラメントを備える陰極３が提
供され、したがって、金属ハウジング１２に提供される
出口窓１３を介してＸ線管から発散するＸ線は励起す
る。
【００２８】Ｘ線管の操作中、大量の失った熱は陽極デ
ィスク２１上、特に、Ｘ線が励起される放射状の外側帯
域で生成される。一方で、この熱は陽極ディスク２１に
よって熱により放射されるが、しかし一方で、陽極軸２
２を介して、さらに放射されるローター２３に対して重
要な範囲でさらに伝播する。たとえ、ローター２３が軸
受ベアリング２４にその上部前面側（図で見られるよう
に）によってのみ接続している場合、軸受スリーブ２４
と軸受要素２５は、この接続を介してさらに加熱される
だろう。しかしながら、増加した軸受摩耗及び恐らく軸
受損傷を生じさせるかもしれないので、顕著なこれらの
部分の過度な温度増加は不適当である。
ィスク２１上、特に、Ｘ線が励起される放射状の外側帯
域で生成される。一方で、この熱は陽極ディスク２１に
よって熱により放射されるが、しかし一方で、陽極軸２
２を介して、さらに放射されるローター２３に対して重
要な範囲でさらに伝播する。たとえ、ローター２３が軸
受ベアリング２４にその上部前面側（図で見られるよう
に）によってのみ接続している場合、軸受スリーブ２４
と軸受要素２５は、この接続を介してさらに加熱される
だろう。しかしながら、増加した軸受摩耗及び恐らく軸
受損傷を生じさせるかもしれないので、顕著なこれらの
部分の過度な温度増加は不適当である。
【００２９】図２は第一の輪磁石２５２と陽極軸２２の
一部分を備えるローター２３の拡大された規模での概略
図である。陽極軸２２を介する熱の伝播は、点線Ａにほ
ぼ関して延在するローター２３の上部分２３１１（図で
見られるように）に対する特に強度の熱作用を有し、一
方では、熱がローターの前面２３１によって放射される
ために一般的に下部分２３１２は明らかに低温度を既に
有する。例えば、上部分２３１１は通常操作において数
分間で５００℃までの温度に達するが、一方で、下部分
２３１２はおよそ３００℃の温度まで低下する。
一部分を備えるローター２３の拡大された規模での概略
図である。陽極軸２２を介する熱の伝播は、点線Ａにほ
ぼ関して延在するローター２３の上部分２３１１（図で
見られるように）に対する特に強度の熱作用を有し、一
方では、熱がローターの前面２３１によって放射される
ために一般的に下部分２３１２は明らかに低温度を既に
有する。例えば、上部分２３１１は通常操作において数
分間で５００℃までの温度に達するが、一方で、下部分
２３１２はおよそ３００℃の温度まで低下する。
【００３０】既に記載のように、真空管の信頼できて永
続する操作については、一方で、顕著に可動部品を含む
管の場合には必要であり、また一方では、真空が物質か
らのガスによる汚染をせずに適切な低圧力で維持される
場合には熱の適切な除去が保証される。
続する操作については、一方で、顕著に可動部品を含む
管の場合には必要であり、また一方では、真空が物質か
らのガスによる汚染をせずに適切な低圧力で維持される
場合には熱の適切な除去が保証される。
【００３１】この問題は、管の内部空間５にコーティン
グ３０を提供することによって解決され、かかるコーテ
ィングはゲッターの機能を有し、さらに増大した熱の放
射力を有する。
グ３０を提供することによって解決され、かかるコーテ
ィングはゲッターの機能を有し、さらに増大した熱の放
射力を有する。
【００３２】例えば、既知の管でブラッキングされた管
の表面か、又は熱の放射によって冷却される管の表面
は、コーティングを備えて提供される。図１に示される
Ｘ線管の事例の場合、特に、ロータージャケット２３１
の外側及び内側、並びに金属ハウジング１２の内壁はコ
ーティング３０を備えて提供される。さらに、コーティ
ングはまた、陰極３の少なくとも一部分に提供される。
の表面か、又は熱の放射によって冷却される管の表面
は、コーティングを備えて提供される。図１に示される
Ｘ線管の事例の場合、特に、ロータージャケット２３１
の外側及び内側、並びに金属ハウジング１２の内壁はコ
ーティング３０を備えて提供される。さらに、コーティ
ングはまた、陰極３の少なくとも一部分に提供される。
【００３３】特定の熱放射及びゲッター作用のさらなる
改良の実現のために、コーティングされる表面は、第一
のミリング若しくは回転するリッジ或いは表面の陥凹に
よって拡大できるか、又はコーティングの適用前のブラ
スチングによる表面のあら削りによって拡大できる。
改良の実現のために、コーティングされる表面は、第一
のミリング若しくは回転するリッジ或いは表面の陥凹に
よって拡大できるか、又はコーティングの適用前のブラ
スチングによる表面のあら削りによって拡大できる。
【００３４】コーティング３０はチタン、ジルコニウ
ム、及びバナジウムによって形成されるグループの少な
くとも二つの物質を含む。構成物質の選択と比率は、既
に記載の温度範囲を備える管として選択され、ほぼ４０
０℃のゲッター活性化温度とおよそ０．２時間と１時間
の間のゲッター活性化時間が得られる。
ム、及びバナジウムによって形成されるグループの少な
くとも二つの物質を含む。構成物質の選択と比率は、既
に記載の温度範囲を備える管として選択され、ほぼ４０
０℃のゲッター活性化温度とおよそ０．２時間と１時間
の間のゲッター活性化時間が得られる。
【００３５】次いで、活性化のために必要な温度は、管
の製造中（例えば、段階）か、又は外部熱の適用によっ
て一以上の最適であるか或いは適切な瞬間の何れかにお
いて、必要な時間で生成される。一方で、操作に、又は
単一の正常な操作過程或いは管の多くの正常な操作過程
に適切にセットすることによって活性化を実行（完全に
又は部分的に）することはさらに可能である。これは管
の製造後に起こることができ、すなわち、消費者におい
て、操作に適切に第一にセットする手法によって起こる
ことができる。通常操作中にコーティングされた部分が
必要な活性化温度に達しないか、又は十分に長い時間で
ない場合、コーティングは管の１つ以上の抑制されて簡
潔な過負荷操作過程又は熱の付加的な外部からの適用に
よって活性化することができる。しかしながら、いずれ
の場合においても、必要とされる管の壁を通過する径路
を分離し、その結果、漏出の危険性が回避される。
の製造中（例えば、段階）か、又は外部熱の適用によっ
て一以上の最適であるか或いは適切な瞬間の何れかにお
いて、必要な時間で生成される。一方で、操作に、又は
単一の正常な操作過程或いは管の多くの正常な操作過程
に適切にセットすることによって活性化を実行（完全に
又は部分的に）することはさらに可能である。これは管
の製造後に起こることができ、すなわち、消費者におい
て、操作に適切に第一にセットする手法によって起こる
ことができる。通常操作中にコーティングされた部分が
必要な活性化温度に達しないか、又は十分に長い時間で
ない場合、コーティングは管の１つ以上の抑制されて簡
潔な過負荷操作過程又は熱の付加的な外部からの適用に
よって活性化することができる。しかしながら、いずれ
の場合においても、必要とされる管の壁を通過する径路
を分離し、その結果、漏出の危険性が回避される。
【００３６】およそ４００℃の活性化温度とほぼ０．２
時間と１時間の間の活性化時間を備えるコーティングの
ために適切な物質の組み合わせは、例えば、およそ２０
乃至５０％バナジウムと８０乃至５０％チタンであり；
さらに実現可能なのは、およそ１０乃至３０％バナジウ
ムと９０乃至７０％ジルコニウムの組成であり、さらに
およそ２０乃至８０％ジルコニウムと８０乃至２０％チ
タンの組み合わせである。さらに、３０乃至１０％チタ
ンと同様に、およそ７０乃至９０％ジルコニウムとバナ
ジウムの組み合わせはまた、適切であると証明され、チ
タン構成物はバナジウム構成物に比較しておよそ５乃至
９５％に達する。
時間と１時間の間の活性化時間を備えるコーティングの
ために適切な物質の組み合わせは、例えば、およそ２０
乃至５０％バナジウムと８０乃至５０％チタンであり；
さらに実現可能なのは、およそ１０乃至３０％バナジウ
ムと９０乃至７０％ジルコニウムの組成であり、さらに
およそ２０乃至８０％ジルコニウムと８０乃至２０％チ
タンの組み合わせである。さらに、３０乃至１０％チタ
ンと同様に、およそ７０乃至９０％ジルコニウムとバナ
ジウムの組み合わせはまた、適切であると証明され、チ
タン構成物はバナジウム構成物に比較しておよそ５乃至
９５％に達する。
【００３７】最後に、４０乃至１０％ジルコニウムと同
様に、およそ６０乃至９０％チタンとバナジウムの組み
合わせは適しており、ジルコニウム構成物はバナジウム
構成物に比較しておよそ５乃至９５％に達する。
様に、およそ６０乃至９０％チタンとバナジウムの組み
合わせは適しており、ジルコニウム構成物はバナジウム
構成物に比較しておよそ５乃至９５％に達する。
【００３８】コーティングはスパッタリングによって沈
着でき、この事例のスパッタリングは、基本物質の対応
する混合物か、又は重要な基本物質を備える３つの単一
のスパッター標的の対応する混合物の何れかからなり使
用する。しかしながら、他の一般的に周知のコーティン
グ方法が使用でき、例えば、プラズマ溶射又は蒸気沈着
が使用できる。
着でき、この事例のスパッタリングは、基本物質の対応
する混合物か、又は重要な基本物質を備える３つの単一
のスパッター標的の対応する混合物の何れかからなり使
用する。しかしながら、他の一般的に周知のコーティン
グ方法が使用でき、例えば、プラズマ溶射又は蒸気沈着
が使用できる。
【００３９】ゲッター容量に加えて、コーティングの厚
さはまた、達成できる特定の熱の放射（ブラッキング度
合い）を決定する。したがって、少なくともおよそ１０
０平方ｃｍのコーティングされた表面エリアの事例にお
いて、コーティングの厚さは少なくとも１μｍ達するべ
きであるが、しかしながら、コーティングの厚さはコー
ティングされた部分の所望の操作温度（５５０℃でおよ
そ３．５μｍと２００℃でおよそ６μｍ）での最大波長
よりも明らかに大きいことが好ましい。操作温度に依存
して、このようにコーティングの厚さはおよそ１乃至２
０μｍに達するが、しかし、好ましくはおよそ５乃至お
よそ２０μｍである。
さはまた、達成できる特定の熱の放射（ブラッキング度
合い）を決定する。したがって、少なくともおよそ１０
０平方ｃｍのコーティングされた表面エリアの事例にお
いて、コーティングの厚さは少なくとも１μｍ達するべ
きであるが、しかしながら、コーティングの厚さはコー
ティングされた部分の所望の操作温度（５５０℃でおよ
そ３．５μｍと２００℃でおよそ６μｍ）での最大波長
よりも明らかに大きいことが好ましい。操作温度に依存
して、このようにコーティングの厚さはおよそ１乃至２
０μｍに達するが、しかし、好ましくはおよそ５乃至お
よそ２０μｍである。
【００４０】次いで、かかるコーティングは進み具合に
依存して段階ごとに活性化され、製造工程、すなわち自
動化工程において、適切な（低い）管圧は高電圧状態に
おいて、常に保証される。異なる活性化温度を備える異
なる物質組成を有するコーティングはこの目的のために
使用されるかもしれない。
依存して段階ごとに活性化され、製造工程、すなわち自
動化工程において、適切な（低い）管圧は高電圧状態に
おいて、常に保証される。異なる活性化温度を備える異
なる物質組成を有するコーティングはこの目的のために
使用されるかもしれない。
【００４１】本発明のさらなる実施態様において、ロー
タージャケット２３１は、チタン、ジルコニウム及びバ
ナジウムの組み合わせから構成され、６００℃を越える
温度で０．２乃至１時間の活性化時間を有するコーティ
ングを備えて提供される。かかるコーティングは、例え
ば、外部からの正確な加熱によって、バルブに対するロ
ーター２３の通常の操作温度よりも高い温度上昇による
制御された手法で活性化できる。さらに、適すること
は、例えば、渦電流による損失を利用している一方で複
数の開始／減速操作のチェーンニングと同様に誘導加熱
（特に、ガラス管の事例において）による加熱、又はそ
れらの方法の組み合わせ及び管の操作中若しくは短時間
の過負荷操作中の通常の加熱などの容易く実行できる、
様々な他の手法である。同時に他の部分で、例えば、ハ
ウジングは制御された手法で冷却できる。
タージャケット２３１は、チタン、ジルコニウム及びバ
ナジウムの組み合わせから構成され、６００℃を越える
温度で０．２乃至１時間の活性化時間を有するコーティ
ングを備えて提供される。かかるコーティングは、例え
ば、外部からの正確な加熱によって、バルブに対するロ
ーター２３の通常の操作温度よりも高い温度上昇による
制御された手法で活性化できる。さらに、適すること
は、例えば、渦電流による損失を利用している一方で複
数の開始／減速操作のチェーンニングと同様に誘導加熱
（特に、ガラス管の事例において）による加熱、又はそ
れらの方法の組み合わせ及び管の操作中若しくは短時間
の過負荷操作中の通常の加熱などの容易く実行できる、
様々な他の手法である。同時に他の部分で、例えば、ハ
ウジングは制御された手法で冷却できる。
【００４２】この実施態様において、消費者においてゲ
ッター層の活性化又は再活性化を実行することが可能で
あり、すなわち、例えば、管の特別なモードの操作を選
択することによって、又は管の長時間操作後の管の品質
を修復するための自動化若しくは遠隔制御維持工程の手
法によって実行が可能である。
ッター層の活性化又は再活性化を実行することが可能で
あり、すなわち、例えば、管の特別なモードの操作を選
択することによって、又は管の長時間操作後の管の品質
を修復するための自動化若しくは遠隔制御維持工程の手
法によって実行が可能である。
【００４３】最適な操作温度とコーティングの構造は、
重要な構成部分及び製造工程の許容可能な操作温度に適
応されるべきである。
重要な構成部分及び製造工程の許容可能な操作温度に適
応されるべきである。
【図１】本発明と一致するＸ線管を概略する縦軸方向の
断面図である。
断面図である。
【図２】図１に示される管の一部分を概略する縦軸方向
の断面図である。
の断面図である。
１ 回転式陽極Ｘ線管
３ フィラメントを備える陰極
５ 真空空間
１１ 円筒状のグラス包
１２ 金属ハウジング
１３ 出口窓
２１ 陽極ディスク
２２ 陽極軸
２３ ローター
２４ 軸受スリーブ
２５ 軸受要素
３０ コーティング
２３１ ローターの前面
２５１ 螺旋状の溝軸受
２５２ 第一の輪磁石
２５３ 第二の輪磁石
２３１１ 上部分
２３１２ 下部分
フロントページの続き
(72)発明者 ローター コホ
ドイツ連邦共和国，22081 ハンブルク,
ヴォールドルファーシュトラーセ 25
Claims (10)
- 【請求項１】 電力処理又は電力転換のための真空管で
あって、該管は望ましくない圧力増加を回避するために
役立つゲッターと同様に、操作中に熱の放射によって冷
却される、少なくとも一つの表面を含み、該ゲッターは
冷却される該管の前記表面で部分的又は完全にコーティ
ングする形態で提供され、該コーティングは冷却に適す
る温度放射力を有するような厚さを有することを特徴と
する真空管。 - 【請求項２】 前記コーティングのための物質は、前記
ゲッターの活性化温度及び活性化時間が前記真空管の通
常操作の一つ以上の過程か、又は前記真空管の過負荷操
作の一つ以上の短時間の過程によって達成できるように
選択されることを特徴とする請求項１に記載の真空管。 - 【請求項３】 前記コーティングのための前記物質は、
前記ゲッターの活性化温度及び活性化時間が前記真空管
の製造中に発生する温度の手法によって達成できること
を特徴とする請求項１に記載の真空管。 - 【請求項４】 前記ゲッターの活性化温度及び活性化時
間は、熱の付加的で、外部の適用の手法によって実現で
きることを特徴とする請求項２又は３に記載の真空管。 - 【請求項５】 前記コーティングは、バナジウム、ジル
コニウム、チタンである３つの物質のうち少なくとも２
つから構成されることを特徴とする請求項１に記載の真
空管。 - 【請求項６】 前記コーティングは、およそ２０乃至５
０％バナジウム及び８０乃至５０％チタンを含むことを
特徴とする請求項５に記載の真空管。 - 【請求項７】 前記コーティングは、およそ１０乃至３
０％バナジウム及び９０乃至７０％ジルコニウムを含む
ことを特徴とする請求項５に記載の真空管。 - 【請求項８】 前記コーティングは、およそ２０乃至８
０％ジルコニウムと８０乃至２０％チタンを含むことを
特徴とする請求項５に記載の真空管。 - 【請求項９】 前記コーティングは、３０乃至１０％チ
タンと同様に、およそ７０乃至９０％ジルコニウム及び
前記バナジウムを含み、前記チタン構成物は前記バナジ
ウム構成物に比較しておよそ５乃至９５％に達すること
を特徴とする請求項５に記載の真空管。 - 【請求項１０】 前記コーティングは、４０乃至１０％
ジルコニウムと同様に、およそ６０乃至９０％チタン及
びバナジウムを含み、前記ジルコニウム構成物は前記バ
ナジウム構成物に比較しておよそ５乃至９５％に達する
ことを特徴とする請求項５に記載の真空管。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10153779.4 | 2001-10-31 | ||
| DE10153779A DE10153779A1 (de) | 2001-10-31 | 2001-10-31 | Vakuumröhre |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003141985A true JP2003141985A (ja) | 2003-05-16 |
Family
ID=7704353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002312282A Pending JP2003141985A (ja) | 2001-10-31 | 2002-10-28 | 真空管 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030081726A1 (ja) |
| EP (1) | EP1308984A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003141985A (ja) |
| DE (1) | DE10153779A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101434821B1 (ko) * | 2013-04-10 | 2014-08-26 | 주식회사엑스엘 | 비확산게터를 갖는 회전 양극형 엑스선관 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1983548A1 (en) * | 2007-04-20 | 2008-10-22 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Emitter chamber, charged particle apparatus and method for operating same |
| DE102012212409A1 (de) | 2012-07-16 | 2013-12-05 | Siemens Ag | Vakuumgehäuse |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2368060A (en) * | 1942-01-01 | 1945-01-23 | Bell Telephone Labor Inc | Coating of electron discharge device parts |
| GB613779A (en) * | 1946-07-02 | 1948-12-02 | Eitel Mccullough Inc | Improvements in electrodes for use in electron tubes |
| US2690982A (en) * | 1952-02-05 | 1954-10-05 | Lewis And Kaufman Inc | Coated electrode |
| US2934392A (en) * | 1956-12-28 | 1960-04-26 | Gen Electric | Methods of manufacturing evacuated and gas-filled devices |
| US3308329A (en) * | 1962-11-23 | 1967-03-07 | Litton Industries Inc | Thermionic emissive cathode with end structure for emissive suppression |
| RU2118231C1 (ru) * | 1997-03-28 | 1998-08-27 | Товарищество с ограниченной ответственностью "ТЕХНОВАК+" | Способ получения неиспаряемого геттера и геттер, полученный этим способом |
| US6289079B1 (en) * | 1999-03-23 | 2001-09-11 | Medtronic Ave, Inc. | X-ray device and deposition process for manufacture |
| US6319188B1 (en) * | 1999-04-26 | 2001-11-20 | Xoft Microtube, Inc. | Vascular X-ray probe |
| US6464625B2 (en) * | 1999-06-23 | 2002-10-15 | Robert A. Ganz | Therapeutic method and apparatus for debilitating or killing microorganisms within the body |
| AU2001241582A1 (en) * | 2000-02-16 | 2001-08-27 | X-Technologies, Ltd. | Miniature energy transducer for emitting x-ray radiation |
-
2001
- 2001-10-31 DE DE10153779A patent/DE10153779A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-10-24 US US10/279,418 patent/US20030081726A1/en not_active Abandoned
- 2002-10-28 JP JP2002312282A patent/JP2003141985A/ja active Pending
- 2002-10-30 EP EP02102511A patent/EP1308984A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101434821B1 (ko) * | 2013-04-10 | 2014-08-26 | 주식회사엑스엘 | 비확산게터를 갖는 회전 양극형 엑스선관 |
| WO2015152490A1 (ko) * | 2013-04-10 | 2015-10-08 | 주식회사엑스엘 | 비확산게터를 갖는 회전 양극형 엑스선관 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030081726A1 (en) | 2003-05-01 |
| EP1308984A1 (de) | 2003-05-07 |
| DE10153779A1 (de) | 2003-05-15 |
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