JP2003140370A - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor

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JP2003140370A
JP2003140370A JP2002240498A JP2002240498A JP2003140370A JP 2003140370 A JP2003140370 A JP 2003140370A JP 2002240498 A JP2002240498 A JP 2002240498A JP 2002240498 A JP2002240498 A JP 2002240498A JP 2003140370 A JP2003140370 A JP 2003140370A
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Chiyoko Sato
ちよ子 佐藤
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章照 藤井
Mamoru Rin
護 臨
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor containing a resin for a photoreceptor, which has sufficient mechanical strength, high solubility and solution stability even for a non-halogen solvent, excellent electric properties, particularly responding property. SOLUTION: The electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive base body, is characterized in that the binder resin of the photosensitive layer has a polyarylate structure expressed by general formula (1), in which x and y are values representing the amounts of the respective units in the resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体に関
する。詳しくは、耐摩耗性、表面滑り性、塗布液調整時
の溶解性及び塗布溶液の保存安定性に優れ、且つ、電気
的応答性の良好な電子写真感光体用樹脂を含有する電子
写真感光体に関するものである。
The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member. More specifically, an electrophotographic photoreceptor containing a resin for an electrophotographic photoreceptor having excellent abrasion resistance, surface slipperiness, solubility when preparing a coating solution, storage stability of a coating solution, and good electrical responsiveness. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真技術は、即時性、高品質の画像
が得られることなどから、近年では複写機の分野にとど
まらず、各種プリンターの分野でも広く使われ応用され
てきている。電子写真技術の中核となる感光体について
は、その光導電材料として従来からのセレニウム、ヒ素
−セレニウム合金、硫化カドミウム、酸化亜鉛といった
無機系の光導電体から、最近では、無公害で成膜が容
易、製造が容易である等の利点を有する有機系の光導電
材料を使用した感光体が開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, electrophotographic technology has been widely used and applied not only in the field of copying machines but also in the field of various printers because of its immediacy and high-quality images. Photoconductors, which are the core of electrophotographic technology, have been formed from conventional inorganic photoconductors such as selenium, arsenic-selenium alloy, cadmium sulfide, and zinc oxide as photoconductive materials. A photoreceptor using an organic photoconductive material, which has advantages such as easiness and easy production, has been developed.

【0003】有機感光体としては、光導電性微粉末をバ
インダー樹脂中に分散させたいわゆる分散型感光体、電
荷発生層及び電荷移動層を積層した積層型感光体が知ら
れている。積層型感光体は、それぞれ効率の高い電荷発
生物質、及び電荷移動物質を組み合わせることにより高
感度な感光体が得られること、材料選択範囲が広く安全
性の高い感光体が得られること、また塗布の生産性が高
く比較的コスト面でも有利なことから感光体の主流にな
る可能性も高く鋭意開発され実用化されている。
As the organic photoreceptor, a so-called dispersion type photoreceptor in which a photoconductive fine powder is dispersed in a binder resin, and a laminated type photoreceptor in which a charge generation layer and a charge transfer layer are laminated are known. The laminated photoreceptor can be obtained by combining a highly efficient charge generating substance and a charge transfer substance to obtain a highly sensitive photoreceptor, a wide material selection range and a highly safe photoreceptor, and coating. Since it is highly productive and relatively advantageous in terms of cost, it is highly likely to become the mainstream of the photoreceptor and has been developed and put into practical use.

【0004】電子写真感光体は、電子写真プロセスすな
わち帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電等の
サイクルで繰り返し使用されるためその間様々なストレ
スを受け劣化する。この様な劣化としては例えば帯電器
として普通用いられるコロナ帯電器から発生する強酸化
性のオゾンやNOxが感光層に化学的なダメ−ジを与え
たり、像露光で生成したキャリア−(電流)が感光層内
を流れることや除電光、外部からの光によって感光層組
成物が分解するなどによる化学的、電気的劣化がある。
またこれとは別の劣化としてクリ−ニングブレ−ド、磁
気ブラシなどの摺擦や現像剤、紙との接触等による感光
層表面の摩耗や傷の発生、膜の剥がれといった機械的劣
化がある。特にこの様な感光層表面に生じる損傷はコピ
−画像上に現れやすく、直接画像品質を損うため感光体
の寿命を制限する大きな要因となっている。すなわち高
寿命の感光体を開発するためには電気的、化学的耐久性
を高めると同時に機械的強度を高めることも必須条件で
ある。
The electrophotographic photosensitive member is repeatedly used in an electrophotographic process, that is, in a cycle of charging, exposure, development, transfer, cleaning, charge elimination, and the like. Such deterioration includes, for example, strong oxidizing ozone and NOx generated from a corona charger commonly used as a charger, causing chemical damage to the photosensitive layer, and carrier (current) generated by image exposure. Is chemically and electrically deteriorated due to, for example, the flow of the compound in the photosensitive layer, the charge removal light, and the decomposition of the photosensitive layer composition due to external light.
Further, other deteriorations include mechanical deterioration such as abrasion or scratches on the surface of the photosensitive layer due to contact with cleaning blades, magnetic brushes or the like, contact with a developer or paper, and peeling of the film. In particular, such damages on the surface of the photosensitive layer tend to appear on the copy image and directly impair the image quality, which is a major factor limiting the life of the photosensitive member. That is, in order to develop a photoreceptor having a long life, it is essential to increase the electrical and chemical durability as well as the mechanical strength.

【0005】一般に積層型感光体の場合このような負荷
を受けるのは電荷移動層である。電荷移動層は通常バイ
ンダー樹脂と電荷移動物質からなっており、実質的に強
度を決めるのはバインダー樹脂であるが、電荷移動物質
のドープ量が相当多いため十分な機械強度を持たせるに
は至っていない。また、高速印刷の要求の高まりから、
より高速の電子写真プロセス対応の材料が求められてい
る。この場合、感光体には高感度、高寿命であることの
他に、露光されてから現像されるまでの時間が短くなる
ために応答性がよいことも必要となる。感光体の応答性
は電荷移動層、なかでも電荷移動物質により支配される
がバインダー樹脂によっても大きく変わることが知られ
ている。
In general, in the case of a laminated type photoreceptor, it is the charge transfer layer that receives such a load. The charge transfer layer is usually composed of a binder resin and a charge transfer material, and it is the binder resin that substantially determines the strength.However, the doping amount of the charge transfer material is considerably large, so that sufficient mechanical strength has been reached. Not in. Also, with the increasing demand for high-speed printing,
Materials for higher speed electrophotographic processes are required. In this case, the photoreceptor must have high sensitivity and long life, and also have high responsiveness because the time from exposure to development is short. It is known that the responsivity of the photoreceptor is governed by the charge transfer layer, especially the charge transfer material, but also greatly depends on the binder resin.

【0006】また、これらの電子写真感光体を構成する
各層は、支持体上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗
布、バーコート、ロールコート、ブレード塗布等により
塗布して形成される。特に、電荷移動層の形成方法とし
ては、層に含有させる物質を溶剤に溶解させて得られる
塗布溶液として、塗布するなどの公知の方法が適用され
ている。これら現行の工程では、予め塗布溶液を調整
し、それを保存することが行われている。そのため、バ
インダー樹脂には、塗布工程に用いられる溶剤に対し、
溶解性が優れること及び溶解後の塗布溶液の安定性も必
要となる。
[0006] Each layer constituting these electrophotographic photosensitive members is formed by dip coating, spray coating, nozzle coating, bar coating, roll coating, blade coating or the like on a support. In particular, as a method for forming the charge transfer layer, a known method such as coating as a coating solution obtained by dissolving a substance to be contained in the layer in a solvent is applied. In these current processes, a coating solution is prepared in advance and stored. Therefore, for the binder resin, the solvent used in the coating process,
Excellent solubility and stability of the coating solution after dissolution are also required.

【0007】これまでの電荷移動層のバインダー樹脂と
しては、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、ポ
リカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、フェノ
キシ、エポキシ、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂や種
々の熱硬化性樹脂が用いられてきている。数あるバイン
ダー樹脂のなかではポリカーボネート樹脂が比較的優れ
た性能を有しており、これまで種々のポリカーボネート
樹脂が開発され実用に供されている。例えば特開昭50
−98332号公報にはビスフェノールPタイプのポリ
カーボネートが、特開昭59−71057号公報にはビ
スフェノールZタイプのポリカーボネートが、特開昭5
9−184251号公報にはビスフェノールPおよびビ
スフェノールAの共重合タイプのポリカーボネートが、
特開平5−21478号公報にはビス(4ーヒドロキシ
フェニル)ケトンタイプの構造を含むポリカーボネート
共重合体がバインダー樹脂としてそれぞれ開示されてい
る。しかし従来の有機感光体はトナーによる現像、紙と
の摩擦、クリーニング部材(ブレード)による摩擦など
実用上の負荷によって表面が摩耗してしまったり表面に
傷が生じてしまうなどの欠点を有しているため実用上は
限られた印刷性能にとどまっているのが現状である。
Conventional binder resins for the charge transfer layer include vinyl polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and polyvinyl chloride, and copolymers thereof, polycarbonate, polyester, polysulfone, phenoxy, epoxy, and silicone resins. Thermoplastic resins and various thermosetting resins have been used. Among various binder resins, polycarbonate resins have relatively excellent performance, and various polycarbonate resins have been developed and put to practical use. For example, JP
JP-98-33232 discloses a bisphenol P-type polycarbonate, and JP-A-59-71057 discloses a bisphenol Z-type polycarbonate.
No. 9-184251 discloses a copolymer type polycarbonate of bisphenol P and bisphenol A,
JP-A-5-21478 discloses a polycarbonate copolymer having a bis (4-hydroxyphenyl) ketone type structure as a binder resin. However, conventional organic photoreceptors have drawbacks such as surface wear and surface damage due to practical loads such as development with toner, friction with paper, and friction with a cleaning member (blade). At present, the printing performance is limited in practical use.

【0008】一方、特開昭56−135844号公報に
は、商品名「U−ポリマー」として市販されているポリ
アリレート樹脂をバインダーとして用いた電子写真用感
光体の技術が開示され、その中でポリカーボネートに比
して特に感度が優れていることが示されている。特開平
3−6567号公報では、ビスフェノール成分にテトラ
メチルビスフェノールF及びビスフェノールAを使用し
た構造のポリアリレート共重合体を含有することを特徴
とする電子写真感光体が開示されている。
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-135844 discloses a technique of an electrophotographic photoreceptor using a polyarylate resin commercially available under the trade name "U-Polymer" as a binder. It shows that the sensitivity is particularly excellent as compared with polycarbonate. JP-A-3-6567 discloses an electrophotographic photoreceptor characterized by containing a polyarylate copolymer having a structure using tetramethylbisphenol F and bisphenol A as a bisphenol component.

【0009】また、特開平10−288845号公報で
は、特定構造のビスフェノール成分を用いたポリアリレ
ート樹脂をバインダー樹脂として用いることで、感光体
製造時の溶液安定性が向上することが開示され、特開平
10―288846号公報には特定の動粘度範囲をもつ
ポリアリレート樹脂を使用した電子写真感光体が機械的
強度、特に耐磨耗性が優れていることが示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-288845 discloses that the use of a polyarylate resin containing a bisphenol component having a specific structure as a binder resin improves the solution stability during the production of a photoreceptor. Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-288846 discloses that an electrophotographic photosensitive member using a polyarylate resin having a specific kinematic viscosity range has excellent mechanical strength, particularly excellent abrasion resistance.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現状用
いられているポリカーボネート樹脂を電子写真プロセス
に使用した場合、耐磨耗性、耐擦傷性、応答性、基盤と
の接着性等で未だ不十分な場合が多い。また、市販のポ
リアリレート樹脂「U−ポリマー」では耐磨耗性、感度
では若干の向上が見られるものの、その塗布液の安定性
が悪く、塗布製造が不能であった。特開平3−6567
号公報に開示されているビスフェノール成分にテトラメ
チルビスフェノールF及びビスフェノールAを使用した
構造のポリアリレート共重合体を使用した場合、機械物
性にやや向上は見られるが、電気特性特に、感度、応答
性の面では十分な性能は得られていない。
However, when the currently used polycarbonate resin is used in an electrophotographic process, it is still insufficient in abrasion resistance, scratch resistance, responsiveness, adhesion to a substrate, and the like. Often. Further, in the commercially available polyarylate resin “U-Polymer”, although the abrasion resistance and the sensitivity were slightly improved, the stability of the coating solution was poor, and coating production was impossible. JP-A-3-6567
In the case of using a polyarylate copolymer having a structure using tetramethylbisphenol F and bisphenol A for the bisphenol component disclosed in Japanese Patent Application Publication, although mechanical properties are slightly improved, electrical properties, particularly, sensitivity and responsiveness are improved. However, sufficient performance has not been obtained.

【0011】また、特開平10−288845号公報及
び特開平10―288846号公報に開示されている特
定構造のポリアリレート樹脂を用いることで、溶解性/
溶液安定性や機械的強度等は向上するものの、最近の高
速印刷化要求の高まりから、電気的特性、特に応答性に
関して不十分なものであった。そのため、機械的強度お
よび非ハロゲン系溶媒に易溶で溶液安定性に優れ、且つ
応答性に優れたバインダー樹脂が望まれているのが現状
である。
Further, by using a polyarylate resin having a specific structure disclosed in JP-A-10-288845 and JP-A-10-288846, the solubility /
Although the solution stability and the mechanical strength are improved, the demand for high-speed printing has recently been increased, and the electrical characteristics, particularly the responsiveness, have been insufficient. Therefore, at present, there is a demand for a binder resin which is easily soluble in a mechanical strength and a non-halogen solvent, has excellent solution stability, and has excellent responsiveness.

【0012】また、特開昭57−73021号公報に
は、耐熱性に優れた特定構造のポリアリレートが開示さ
れている。しかし、該公報にはこれら特定構造のポリア
リレートを電子写真感光体に適応する概念、要求されて
いる、機械特性、電気的特性などについては何ら開示さ
れてはいない。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-73021 discloses a polyarylate having a specific structure having excellent heat resistance. However, this publication does not disclose the concept of adapting the polyarylate having the specific structure to an electrophotographic photosensitive member, or the required mechanical properties and electrical properties.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、感
光層に使用するバインダー樹脂について詳細に検討した
結果、特定構造のポリアリレート樹脂をバインダー樹脂
として用いることにより十分な機械的特性を有し、非ハ
ロゲン系溶媒にも高い溶解性及び優れた溶液安定性を有
し、且つ電気特性、特に応答性に優れることを見いだし
本発明に至った。
The inventors of the present invention have studied the binder resin used in the photosensitive layer in detail, and have found that the use of a polyarylate resin having a specific structure as a binder resin has sufficient mechanical properties. However, they have found that they have high solubility and excellent solution stability even in non-halogen solvents, and are excellent in electrical characteristics, particularly in responsiveness.

【0014】すなわち本発明の第1の要旨は、導電性基
体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体におい
て、該感光層の結着樹脂が、下記一般式(1)で表され
るポリアリレート構造を有することを特徴とする電子写
真感光体、に存する。
That is, a first gist of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the binder resin of the photosensitive layer is a polyarylate represented by the following general formula (1). An electrophotographic photosensitive member having a structure.

【0015】[0015]

【化17】 (一般式(1)中の下記一般式(2)で表される構造
は、下記一般式(3)で表される構造から選ばれる少な
くとも一種である。)
Embedded image (The structure represented by the following general formula (2) in the general formula (1) is at least one selected from the structures represented by the following general formula (3).)

【0016】[0016]

【化18】 Embedded image

【0017】[0017]

【化19】 (一般式(3)中のaおよびbは、0≦a≦1、0≦b
≦1であり、かつa+b=1である。) (また、一般式(1)中の下記一般式(4)で表される
構造は、下記一般式(5)、(6)、(7)で表される
構造から選ばれる少なくとも1種類である。)
Embedded image (A and b in the general formula (3) are 0 ≦ a ≦ 1, 0 ≦ b
≦ 1 and a + b = 1. (The structure represented by the following general formula (4) in the general formula (1) is at least one kind selected from the structures represented by the following general formulas (5), (6) and (7). is there.)

【0018】[0018]

【化20】 Embedded image

【0019】[0019]

【化21】 Embedded image

【0020】[0020]

【化22】 Embedded image

【0021】[0021]

【化23】 (一般式(1)中、xおよびyは樹脂中の量を示す値で
ある。) (また、一般式(1)で表されるポリアリレート構造を
構成する全ビスフェノール成分中の一般式(5)で表さ
れる構造成分は45%を上まわらない。)
Embedded image (In the general formula (1), x and y are values indicating the amount in the resin.) (Also, the general formula (5) in all bisphenol components constituting the polyarylate structure represented by the general formula (1) The structural component represented by) does not exceed 45%.)

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 <電子写真感光体用樹脂>本発明の電子写真感光体は、
該感光層の結着樹脂が、上記一般式(1)で表されるポ
リアリレート構造を有することを特徴とするものであ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. <Resin for Electrophotographic Photoreceptor> The electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises:
The binder resin of the photosensitive layer has a polyarylate structure represented by the general formula (1).

【0023】次に一般式(1)で表されるポリアリレー
ト構造についてさらに具体例を示すが、本発明はこれら
具体例に限定されるものではない。上記一般式(1)中
の、一般式(2)で表される構造は、本発明で用いられ
るポリアリレート樹脂を製造する際に用いられる、芳香
族ジカルボン酸成分に由来する残基である。
Next, specific examples of the polyarylate structure represented by the general formula (1) will be shown, but the present invention is not limited to these specific examples. The structure represented by the general formula (2) in the general formula (1) is a residue derived from an aromatic dicarboxylic acid component used in producing the polyarylate resin used in the present invention.

【0024】この芳香族ジカルボン酸成分としては、一
般式(3)に表される構造の混合物が用いられる。具体
的にはテレフタル酸誘導体およびイソフタル酸誘導体、
例えばテレフタル酸クロライドおよびイソフタル酸クロ
ライドが用いられる。一般式(3)中、a、bは0≦a
/(a+b)≦1を満足する値であるが、好ましくは
0.01≦a/(a+b)≦1、更に好ましくは0.5
≦a/(a+b)≦1の範囲、特に好ましくはa/(a
+b)=1を満足する値である。a/(a+b)の値が
小さくなると、感光体としたときの電気特性が低下した
り、機械的特性が低下したりして好ましくない。
As the aromatic dicarboxylic acid component, a mixture having a structure represented by the general formula (3) is used. Specifically, terephthalic acid derivatives and isophthalic acid derivatives,
For example, terephthalic acid chloride and isophthalic acid chloride are used. In the general formula (3), a and b are 0 ≦ a
/ (A + b) ≦ 1, but preferably 0.01 ≦ a / (a + b) ≦ 1, more preferably 0.5
≦ a / (a + b) ≦ 1, particularly preferably a / (a
+ B) = 1. If the value of a / (a + b) is small, it is not preferable because the electrical characteristics and the mechanical characteristics of the photoconductor are reduced.

【0025】一般式(1)中、x、yは0.1≦x/
(x+y)≦0.9を満足する値であるが、好ましくは
0.2≦x/(x+y)≦0.8の範囲、特に好ましく
は0.3≦x/(x+y)≦0.7を満足する値であ
る。x/(x+y)の値が、この範囲より大きいと、感
光体としたときの電気特性が低下したり、機械的特性が
低下したりして好ましくない。また、この範囲より小さ
くなると、非ハロゲン系溶媒などへの溶解性/溶液安定
性が悪くなり好ましくない。
In the general formula (1), x and y are 0.1 ≦ x /
It is a value satisfying (x + y) ≦ 0.9, preferably in the range of 0.2 ≦ x / (x + y) ≦ 0.8, particularly preferably in the range of 0.3 ≦ x / (x + y) ≦ 0.7. This is a satisfactory value. If the value of x / (x + y) is larger than this range, it is not preferable because the electrical characteristics and the mechanical characteristics of the photoconductor are deteriorated. On the other hand, if it is smaller than this range, the solubility / solution stability in a non-halogen solvent or the like deteriorates, which is not preferable.

【0026】また、一般式(1)中の一般式(4)で表
される構造は、一般式(5)、(6)および(7)で表
される構造から選ばれる少なくとも2種類を含むもので
ある。また、これらの中でも好ましくは、一般式(5)
の構造を必ず有し、一般式(6)および(7)で表され
る構造から選ばれる少なくとも1種類を含むものであ
る。
The structure represented by the general formula (4) in the general formula (1) includes at least two types selected from the structures represented by the general formulas (5), (6) and (7). It is a thing. In addition, among these, the general formula (5) is preferably used.
And at least one selected from the structures represented by the general formulas (6) and (7).

【0027】これらの構造を有するビスフェノール成分
としては、具体的にビス(4−ヒドロキシフェニル)メ
タン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン[o,p'-BPF]およびビス(2−
ヒドロキシフェニル)メタン[o,o'-BPF]が挙げられる。
上記好ましい構造を言い換えると、一般式(9)で表さ
れるポリアリレート構造を有し、且つ、一般式(10)
および(11)で表される構造の少なくとも1つを有す
るものである。
Specific examples of the bisphenol component having these structures include bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF] and (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o, p '-BPF] and bis (2-
Hydroxyphenyl) methane [o, o'-BPF].
In other words, the preferred structure has a polyarylate structure represented by the general formula (9), and has a general formula (10)
And at least one of the structures represented by (11).

【0028】[0028]

【化24】 Embedded image

【0029】[0029]

【化25】 Embedded image

【0030】[0030]

【化26】 (一般式中、m、n、oおよびpは樹脂中の量を示す値
であり、0<n/(m+n+o+p)≦0.45であ
る。) この一般式(9)、(10)および (11)で表され
るポリアリレート構造の好ましい量比は、式中のm,
n,oおよびpそれぞれが 0.2≦m/(m+n+o+p)≦0.8 0.01≦n/(m+n+o+p)<0.4 0≦o/(m+n+o+p)<0.3 0≦p/(m+n+o+p)<0.3 且つ 0.7≦(m+n)/(m+n+o+p)≦
0.95 0.05≦(o+p)/(m+n+o+p)≦0.3 を満たす範囲であり、特に好ましくは、 0.3≦m/(m+n+o+p)≦0.7 0.1≦n/(m+n+o+p)<0.4 0≦o/(m+n+o+p)<0.2 0≦p/(m+n+o+p)<0.1 且つ 0.8≦(m+n)/(m+n+o+p)≦
0.9 0.1≦(o+p)/(m+n+o+p)≦0.2 である。
Embedded image (In the general formula, m, n, o and p are values indicating the amount in the resin, and 0 <n / (m + n + o + p) ≦ 0.45.) The general formulas (9), (10) and (10) A preferable ratio of the polyarylate structure represented by 11) is m,
Each of n, o and p is 0.2 ≦ m / (m + n + o + p) ≦ 0.8 0.01 ≦ n / (m + n + o + p) <0.40 ≦ o / (m + n + o + p) <0.30 ≦ p / (m + n + o + p) ) <0.3 and 0.7 ≦ (m + n) / (m + n + o + p) ≦
0.95 0.05 ≦ (o + p) / (m + n + o + p) ≦ 0.3, particularly preferably 0.3 ≦ m / (m + n + o + p) ≦ 0.7 0.1 ≦ n / (m + n + o + p) <0.40 ≦ o / (m + n + o + p) <0.20 ≦ p / (m + n + o + p) <0.1 and 0.8 ≦ (m + n) / (m + n + o + p) ≦
0.9 0.1 ≦ (o + p) / (m + n + o + p) ≦ 0.2.

【0031】m/(m+n+o+p)の値が、この範囲
より大きいと、感光体としたときの電気特性が低下した
り、機械的特性が低下したりして好ましくない。また、
この範囲より小さくなると、非ハロゲン系溶媒などへの
溶解性/溶液安定性が悪くなり好ましくない。n/(m
+n+o+p)の値が、この範囲より大きいと非ハロゲ
ン系溶媒などへの溶解性/溶液安定性が悪くなり好まし
くない。また、この範囲より小さくなると感光体とした
ときの機械的特性が低下したりして好ましくない。
If the value of m / (m + n + o + p) is larger than this range, it is not preferable because the electrical characteristics and the mechanical characteristics of the photosensitive member are deteriorated. Also,
If it is smaller than this range, the solubility / solution stability in a non-halogen solvent or the like deteriorates, which is not preferable. n / (m
If the value of (+ n + o + p) is larger than this range, the solubility / solution stability in a non-halogen solvent or the like becomes poor, which is not preferable. On the other hand, if it is smaller than this range, the mechanical properties of the photoreceptor are undesirably deteriorated.

【0032】o/(m+n+o+p)の値が、この範囲
より大きいと重合時の反応性が低下し、分子量制御が困
難であったり、高分子量体が得にくくなり好ましくな
い。p/(m+n+o+p)の値が、この範囲より大き
いと感光体としたときの機械的特性、特に耐摩耗性が低
下し好ましくない。また、(m+n)/(m+n+o+
p)および(o+p)/(m+n+o+p)が上記範囲
にあるときが各性能、特性のバランスが良好で好まし
い。この範囲をはずれると、バランスがくずれ、上記の
特性、性能低下があらわれ好ましくない。
If the value of o / (m + n + o + p) is larger than this range, the reactivity during polymerization decreases, and it is difficult to control the molecular weight or to obtain a high molecular weight compound, which is not preferable. If the value of p / (m + n + o + p) is larger than this range, the mechanical properties of the photoreceptor, particularly the abrasion resistance, are undesirably reduced. Also, (m + n) / (m + n + o +
When p) and (o + p) / (m + n + o + p) are in the above ranges, the balance between the respective performances and characteristics is good, and it is preferable. If the ratio is out of this range, the balance is lost and the above-mentioned characteristics and performance are deteriorated.

【0033】<電子写真感光体用樹脂の製造方法>本発
明の電子写真感光体用樹脂の製造方法として、公知の重
合方法を用いることができる。例えば界面重合法、溶融
重合法、溶液重合法などが挙げられる。例えば、界面重
合法による製造の場合は、ビスフェノール成分をアルカ
リ水溶液に溶解した溶液と、芳香族ジカルボン酸クロラ
イド成分を溶解したハロゲン化炭化水素の溶液とを混合
する。この際、触媒として、四級アンモニウム塩もしく
は四級ホスホニウム塩を存在させることも可能である。
重合温度は0〜40℃の範囲、重合時間は2〜12時間
の範囲であるのが生産性の点で好ましい。重合終了後、
水相と有機相を分離し、有機相中に溶解しているポリマ
ーを公知の方法で、洗浄、回収することにより、目的と
する樹脂を得られる。
<Method for Producing Resin for Electrophotographic Photoreceptor> As a method for producing the resin for an electrophotographic photoreceptor of the present invention, a known polymerization method can be used. For example, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, a solution polymerization method and the like can be mentioned. For example, in the case of production by an interfacial polymerization method, a solution in which a bisphenol component is dissolved in an aqueous alkaline solution is mixed with a solution of a halogenated hydrocarbon in which an aromatic dicarboxylic acid chloride component is dissolved. In this case, a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt can be used as a catalyst.
The polymerization temperature is preferably in the range of 0 to 40 ° C, and the polymerization time is preferably in the range of 2 to 12 hours from the viewpoint of productivity. After polymerization,
The desired resin can be obtained by separating the aqueous phase and the organic phase, and washing and collecting the polymer dissolved in the organic phase by a known method.

【0034】ここで用いられるアルカリ成分としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の
水酸化物等を挙げることができる。アルカリの使用量と
しては、反応系中に含まれるフェノール性水酸基の1.
01〜3倍当量の範囲が好ましい。また、ここで用いら
れる、ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、
クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、テトラクロロエタン、ジクロルベンゼンなどを挙
げることができる。
The alkaline component used here is:
Examples include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. The amount of the alkali used is as follows: 1. The amount of the phenolic hydroxyl group contained in the reaction system.
A range of 01 to 3 equivalents is preferred. Further, as the halogenated hydrocarbon used herein, dichloromethane,
Chloroform, 1,2-dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, dichlorobenzene and the like can be mentioned.

【0035】触媒として用いられる四級アンモニウム塩
もしくは四級ホスホニウム塩としては、トリブチルアミ
ンやトリオクチルアミン等の三級アルキルアミンの塩
酸、臭素酸、ヨウ素酸等の塩、ベンジルトリエチルアン
モニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウム
クロライド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチ
ルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウム
ブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライ
ド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリエチル
オクタデシルホスホニウムブロマイド、N−ラウリルピ
リジニウムクロライド、ラウリルピコリニウムクロライ
ドなどが挙げられる。
The quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt used as a catalyst includes salts of tertiary alkylamines such as tributylamine and trioctylamine with hydrochloric acid, bromate and iodate, benzyltriethylammonium chloride, benzyltrimethyl Ammonium chloride, benzyltributylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, trioctylmethylammonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, triethyloctadecylphosphonium bromide, N-laurylpyridinium chloride, laurylpicolinium chloride, etc. No.

【0036】また、この重合の際に分子量調節剤として
フェノール、o,m,p−クレゾール、o,m,p−エ
チルフェノール、o,m,p−プロピルフェノール、
o,m,p−tert−ブチルフェノール、ペンチルフェノ
ール、ヘキシルフェノール、オクチルフェノール、ノニ
ルフェノール、および2,6−ジメチルフェノール誘導
体等のアルキルフェノール類、o,m,p−フェニルフ
ェノール等の一官能性のフェノール、酢酸クロリド、酪
酸クロリド、オクチル酸クロリド、塩化ベンゾイル、ベ
ンゼンスルフォニルクロリド、ベンゼンスルフィニルク
ロリド、スルフィニルクロリド、ベンゼンホスホニルク
ロリドやそれらの置換体等の一官能性の酸ハロゲン化物
を存在させても良い。これら分子量調節剤の中でも2,
6ジメチルフェノール誘導体が分子量調節能が高く好ま
しい。
In the polymerization, phenol, o, m, p-cresol, o, m, p-ethylphenol, o, m, p-propylphenol,
alkylphenols such as o, m, p-tert-butylphenol, pentylphenol, hexylphenol, octylphenol, nonylphenol and 2,6-dimethylphenol derivatives; monofunctional phenols such as o, m, p-phenylphenol; Monofunctional acid halides such as chloride, butyric acid chloride, octylic acid chloride, benzoyl chloride, benzenesulfonyl chloride, benzenesulfinyl chloride, sulfinyl chloride, benzenephosphonyl chloride and substituted products thereof may be present. Of these molecular weight regulators,
A 6-dimethylphenol derivative is preferred because of its high molecular weight controllability.

【0037】2,6−ジメチルフェノール誘導体の具体
例としては、2,6−ジメチルフェノール、2,3,6
−トリメチルフェノール、2,4,6−トリメチルフェ
ノール、2,3,4,6−テトラメチルフェノール、
2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェノール、2,6
−ジメチル−4−ノニルフェノール、2,6−ジメチル
−4−アセチルフェノール、α―トコフェロールなどが
揚げられる。これらの中でも2,3,6−トリメチルフ
ェノールが、生成したポリマーの溶液安定性の点で好ま
しい。
Specific examples of the 2,6-dimethylphenol derivative include 2,6-dimethylphenol, 2,3,6
-Trimethylphenol, 2,4,6-trimethylphenol, 2,3,4,6-tetramethylphenol,
2,6-dimethyl-4-t-butylphenol, 2,6
-Dimethyl-4-nonylphenol, 2,6-dimethyl-4-acetylphenol, α-tocopherol and the like are fried. Among these, 2,3,6-trimethylphenol is preferred in view of the solution stability of the produced polymer.

【0038】また、一般式(1)に示される構造の繰り
返し単位から成るポリアリレート樹脂において、上述し
た分子量調整剤など、分子鎖末端に存在する基は繰り返
し単位に含まれるものではない。本発明の一般式(1)
の構造から成るポリアリレート樹脂は、粘度平均分子量
が10,000以上300,000以下であるが、好ま
しくは15,000以上100,000以下さらに好ま
しくは20,000以上50,000以下である。粘度
平均分子量が10,000未満であると樹脂の機械的強
度が低下し実用的でなく、300,000以上である
と、適当な膜厚に塗布する事が困難である。
In the polyarylate resin comprising a repeating unit having the structure represented by the general formula (1), groups present at the molecular chain terminals, such as the above-mentioned molecular weight modifier, are not included in the repeating unit. General formula (1) of the present invention
Has a viscosity average molecular weight of 10,000 or more and 300,000 or less, preferably 15,000 or more and 100,000 or less, more preferably 20,000 or more and 50,000 or less. If the viscosity-average molecular weight is less than 10,000, the mechanical strength of the resin is lowered, which is not practical. If the viscosity-average molecular weight is more than 300,000, it is difficult to apply an appropriate film thickness.

【0039】また、本発明のポリアリレート樹脂は、他
の樹脂と混合して、電子写真感光体に用いることも可能
である。ここで混合される他の樹脂としては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等の
ビニル重合体、及びその共重合体、ポリカーボネート、
ポリエステル、ポリスルホン、フェノキシ、エポキシ、
シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂や種々の熱硬化性樹脂
などが挙げられる。これら樹脂のなかでもポリカーボネ
ート樹脂が好ましいものとして挙げられる。
The polyarylate resin of the present invention can be mixed with other resins and used for an electrophotographic photosensitive member. Other resins mixed here include polymethyl methacrylate, polystyrene, vinyl polymers such as polyvinyl chloride, and copolymers thereof, polycarbonate,
Polyester, polysulfone, phenoxy, epoxy,
Examples include thermoplastic resins such as silicone resins and various thermosetting resins. Among these resins, polycarbonate resins are preferred.

【0040】<電子写真感光体>上述した本発明の樹脂
は電子写真感光体に用いられ、該感光体の導電性支持体
上に設けられる感光層中のバインダー樹脂として用いら
れる。導電性支持体としては、例えばアルミニウム、ア
ルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属
材料や金属、カーボン、酸化錫などの導電性粉体を添加
して導電性を付与した樹脂材料やアルミニウム、ニッケ
ル、ITO(酸化インジウム酸化錫合金)等の導電性材
料をその表面に蒸着又は塗布した樹脂、ガラス、紙など
が主として使用される。形態としては、ドラム状、シー
ト状、ベルト状などのものが用いられる。金属材料の導
電性支持体の上に、導電性・表面性などの制御のためや
欠陥被覆のため、適当な抵抗値を持つ導電性材料を塗布
したものでも良い。
<Electrophotographic Photoreceptor> The resin of the present invention described above is used for an electrophotographic photoreceptor, and is used as a binder resin in a photosensitive layer provided on a conductive support of the photoreceptor. Examples of the conductive support include a metal material such as aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper, and nickel, a metal, carbon, and a resin material to which conductivity is added by adding a conductive powder such as tin oxide, aluminum, or the like. Resins, glass, paper, and the like, in which a conductive material such as nickel or ITO (indium tin oxide alloy) is deposited or applied on the surface thereof, are mainly used. As the form, a drum shape, a sheet shape, a belt shape or the like is used. A conductive material having an appropriate resistance value may be applied on a conductive support made of a metal material for controlling conductivity and surface properties and for covering defects.

【0041】導電性支持体としてアルミニウム合金等の
金属材料を用いた場合、陽極酸化処理、化成皮膜処理等
を施してから用いても良い。陽極酸化処理を施した場
合、公知の方法により封孔処理を施すのが望ましい。支
持体表面は、平滑であっても良いし、特別な切削方法を
用いたり、研磨処理を施したりすることにより、粗面化
されていても良い。また、支持体を構成する材料に適当
な粒径の粒子を混合することによって、粗面化されたも
のでも良い。
When a metal material such as an aluminum alloy is used as the conductive support, it may be used after anodizing treatment, chemical conversion treatment and the like. When the anodic oxidation treatment is performed, it is desirable to perform the sealing treatment by a known method. The surface of the support may be smooth, or may be roughened by using a special cutting method or performing a polishing treatment. Further, the support may be roughened by mixing particles having an appropriate particle diameter with the material constituting the support.

【0042】導電性支持体と感光層との間には、接着性
・ブロッキング性等の改善のため、下引き層を設けても
良い。下引き層としては、樹脂、樹脂に金属酸化物等の
粒子を分散したものなどが用いられる。下引き層に用い
る金属酸化物粒子の例としては、酸化チタン、酸化アル
ミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸
化鉄等の1種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン
酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリ
ウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子が挙げら
れる。一種類の粒子のみを用いても良いし複数の種類の
粒子を混合して用いても良い。これらの金属酸化物粒子
の中で、酸化チタンおよび酸化アルミニウムが好まし
く、特に酸化チタンが好ましい。酸化チタン粒子は、そ
の表面に、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化アンチモ
ン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、又はステ
アリン酸、ポリオール、シリコーン等の有機物による処
理を施されていても良い。酸化チタン粒子の結晶型とし
ては、ルチル、アナターゼ、ブルックカイト、アモルフ
ァスのいずれも用いることができる。複数の結晶状態の
ものが含まれていても良い。
An undercoat layer may be provided between the conductive support and the photosensitive layer in order to improve adhesion and blocking properties. As the undercoat layer, a resin, a material in which particles of a metal oxide or the like are dispersed in the resin, or the like is used. Examples of the metal oxide particles used for the undercoat layer include metal oxide particles containing one kind of metal element such as titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, zinc oxide, iron oxide, calcium titanate, and titanium. Examples include metal oxide particles containing a plurality of metal elements such as strontium acid and barium titanate. One type of particles may be used alone, or a plurality of types of particles may be mixed and used. Among these metal oxide particles, titanium oxide and aluminum oxide are preferable, and titanium oxide is particularly preferable. The surface of the titanium oxide particles may be treated with an inorganic substance such as tin oxide, aluminum oxide, antimony oxide, zirconium oxide, or silicon oxide, or an organic substance such as stearic acid, polyol, or silicone. As the crystal form of the titanium oxide particles, any of rutile, anatase, Brookite, and amorphous can be used. A plurality of crystals may be included.

【0043】また、金属酸化物粒子の粒径としては、種
々のものが利用できるが、中でも特性および液の安定性
の面から、平均一次粒径として10nm以上100nm
以下が好ましく、特に好ましいのは、10nm以上25
nm以下である。下引き層は、金属酸化物粒子をバイン
ダー樹脂に分散した形で形成するのが望ましい。下引き
層に用いられるバインダー樹脂としては、、フェノキ
シ、エポキシ、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアル
コール、カゼイン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼ
ラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリア
ミド等が単独あるいは硬化剤とともに硬化した形で使用
できるが、中でも、アルコール可溶性の共重合ポリアミ
ド、変性ポリアミド等は良好な分散性、塗布性を示し好
ましい。
As the particle size of the metal oxide particles, various types can be used. Among them, from the viewpoint of characteristics and liquid stability, the average primary particle size is 10 nm or more and 100 nm or more.
The following is preferable, and particularly preferable is 10 nm or more and 25
nm or less. The undercoat layer is preferably formed in a form in which metal oxide particles are dispersed in a binder resin. As the binder resin used for the undercoat layer, phenoxy, epoxy, polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, casein, polyacrylic acid, celluloses, gelatin, starch, polyurethane, polyimide, polyamide, and the like alone or together with a curing agent are cured. Among them, alcohol-soluble copolymerized polyamides, modified polyamides and the like are preferable because they show good dispersibility and coatability.

【0044】バインダー樹脂に対する無機粒子の添加比
は任意に選べるが、10重量%から500重量%の範囲
で使用することが、分散液の安定性、塗布性の面で好ま
しい。下引き層の膜厚は、任意に選ぶことができるが、
感光体特性および塗布性から0.1μmから20μmが
好ましい。また下引き層には、公知の酸化防止剤等を添
加しても良い。
The addition ratio of the inorganic particles to the binder resin can be arbitrarily selected, but it is preferable to use from 10% by weight to 500% by weight in view of the stability of the dispersion and the applicability. The thickness of the undercoat layer can be arbitrarily selected,
The thickness is preferably from 0.1 μm to 20 μm from the characteristics of the photoreceptor and the applicability. A known antioxidant may be added to the undercoat layer.

【0045】本発明の感光層の具体的な構成として ・導電性支持体上に電荷発生物質を主成分とする電荷発
生層、電荷輸送物質及びバインダ−樹脂を主成分とした
電荷輸送層をこの順に積層した積層型感光体。 ・導電性支持体上に、電荷輸送物質及びバインダ−樹脂
を主成分とした電荷輸送層、電荷発生物質を主成分とす
る電荷発生層をこの順に積層した逆二層型感光体。
As the specific constitution of the photosensitive layer of the present invention, a charge generation layer containing a charge generation material as a main component, a charge transport material and a charge transport layer containing a binder resin as a main component are formed on a conductive support. Laminated photoconductors laminated in order. -An inverted two-layer type photoreceptor in which a charge transporting layer mainly composed of a charge transporting substance and a binder resin and a charge generating layer mainly containing a charge generating substance are laminated on a conductive support in this order.

【0046】・導電性支持体上に電荷輸送物質及びバイ
ンダ−樹脂を含有する層中に電荷発生物質を分散させた
分散型感光体。 の様な構成が基本的な形の例として挙げられる。積層型
感光体の場合、その電荷発生層に使用される電荷発生材
料としては例えばセレニウム及びその合金、硫化カドミ
ウム、その他無機系光導電材料、フタロシアニン顔料、
アゾ顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン
顔料、多環キノン顔料、アントアントロン顔料、ベンズ
イミダゾール顔料などの有機顔料等各種光導電材料が使
用でき、特に有機顔料、更にフタロシアニン顔料、アゾ
顔料が好ましい。これらの微粒子をたとえばポリエステ
ル樹脂、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニル
プロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノキシ樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエステ
ル、セルロースエーテルなどの各種バインダー樹脂で結
着した形で使用される。この場合の使用比率はバインダ
ー樹脂100重量部に対して30から500重量部の範
囲より使用され、その膜厚は通常0.1μmから1μ
m、好ましくは0.15μmから0.6μmが好適であ
る。
A dispersion type photoreceptor in which a charge generation substance is dispersed in a layer containing a charge transport substance and a binder resin on a conductive support. The following is an example of the basic form. In the case of a stacked photoreceptor, examples of the charge generation material used for the charge generation layer include selenium and its alloys, cadmium sulfide, other inorganic photoconductive materials, phthalocyanine pigments,
Various photoconductive materials such as organic pigments such as azo pigments, quinacridone pigments, indigo pigments, perylene pigments, polycyclic quinone pigments, anthantrone pigments, and benzimidazole pigments can be used, and organic pigments, phthalocyanine pigments, and azo pigments are particularly preferred. These fine particles may be used, for example, polyester resin, polyvinyl acetate, polyacrylate, polymethacrylate, polyester, polycarbonate, polyvinyl acetoacetal, polyvinyl propional, polyvinyl butyral, phenoxy resin, epoxy resin, urethane resin, cellulose ester, cellulose ether. It is used in a form bound with various binder resins such as. The use ratio in this case is from 30 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin, and the film thickness is usually 0.1 μm to 1 μm.
m, preferably 0.15 μm to 0.6 μm.

【0047】電荷発生物質としてフタロシアニン化合物
を用いる場合、具体的には、無金属フタロシアニン、
銅、インジウム、ガリウム、錫、チタン、亜鉛、バナジ
ウム、シリコン、ゲルマニウム等の金属、またはその酸
化物、ハロゲン化物等の配位したフタロシアニン類が使
用される。3価以上の金属原子への配位子の例として
は、上に示した酸素原子、塩素原子の他、水酸基、アル
コキシ基などがあげられる。特に感度の高いX型、τ型
無金属フタロシアニン、A型、B型、D型等のチタニル
フタロシアニン、バナジルフタロシアニン、クロロイン
ジウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニ
ン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン等が好適であ
る。なお、ここで挙げたチタニルフタロシアニンの結晶
型のうち、A型、B型についてはW.Hellerらに
よってそれぞれI相、II相として示されており(Zeit.K
ristallogr.159(1982)173)、A型は安定型として知られ
ているものである。D型は、CuKα線を用いた粉末X
線回折において、回折角2θ±0.2゜が27.3゜に
明瞭なピークを示すことを特徴とする結晶型である。フ
タロシアニン化合物は単一の化合物のもののみを用いて
も良いし、いくつかの混合状態でも良い。ここでのフタ
ロシアニン化合物ないしは結晶状態に置ける混合状態と
して、それぞれの構成要素を後から混合して用いても良
いし、合成、顔料化、結晶化等のフタロシアニン化合物
の製造・処理工程において混合状態を生じせしめたもの
でも良い。このような処理としては、酸ペースト処理・
磨砕処理・溶剤処理等が知られている。
When a phthalocyanine compound is used as the charge generating substance, specifically, a metal-free phthalocyanine,
Metals such as copper, indium, gallium, tin, titanium, zinc, vanadium, silicon, and germanium, or coordinated phthalocyanines such as oxides and halides thereof are used. Examples of the ligand to a trivalent or higher-valent metal atom include a hydroxyl group and an alkoxy group in addition to the oxygen atom and the chlorine atom shown above. Particularly preferred are highly sensitive X-type, τ-type nonmetal phthalocyanine, A-type, B-type, D-type and other titanyl phthalocyanines, vanadyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, and the like. In addition, among the crystal forms of titanyl phthalocyanine mentioned here, A type and B type are described in W.C. These are shown as Phase I and Phase II by Heller et al. (Zeit. K
ristallogr. 159 (1982) 173), type A is what is known as a stable type. D type is powder X using CuKα ray.
In a line diffraction, the crystal form is characterized in that a diffraction angle 2θ ± 0.2 ° shows a clear peak at 27.3 °. The phthalocyanine compound may be a single compound or a mixture of several compounds. As the phthalocyanine compound or a mixed state that can be placed in a crystalline state here, the respective components may be mixed and used later, or the mixed state may be used in the manufacturing and processing steps of the phthalocyanine compound such as synthesis, pigmentation, and crystallization. It may be the one that has occurred. Such treatments include acid paste treatment and
Grinding treatment, solvent treatment and the like are known.

【0048】電荷輸送層に含まれる電荷輸送物質として
は、2,4,7−トリニトロフルオレノンなどの芳香族
ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタン等のシアノ化
合物、ジフェノキノン等のキノン類などの電子吸引性物
質、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾ
ール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、チアジア
ゾール誘導体などの複素環化合物、アニリン誘導体、ヒ
ドラゾン化合物、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導
体、ブタジエン誘導体、エナミン化合物、これらの化合
物が複数結合されたもの、あるいはこれらの化合物から
なる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体などの電子供
与性物質が挙げられる。これらの中でもカルバゾール誘
導体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチル
ベン誘導体、ブタジエン誘導体及びこれらの誘導体が複
数結合されたものが好ましく、芳香族アミン誘導体、ス
チルベン誘導体、ブタジエン誘導体の複数結合されてな
るものが好ましい。
Examples of the charge transporting substance contained in the charge transporting layer include electron-withdrawing agents such as aromatic nitro compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, cyano compounds such as tetracyanoquinodimethane, and quinones such as diphenoquinone. Substances, carbazole derivatives, indole derivatives, imidazole derivatives, oxazole derivatives, pyrazole derivatives,
Heterocyclic compounds such as oxadiazole derivatives, pyrazoline derivatives, thiadiazole derivatives, aniline derivatives, hydrazone compounds, aromatic amine derivatives, stilbene derivatives, butadiene derivatives, enamine compounds, those in which a plurality of these compounds are bonded, or those compounds And an electron donating substance such as a polymer having a group consisting of Among these, carbazole derivatives, hydrazone derivatives, aromatic amine derivatives, stilbene derivatives, butadiene derivatives and those in which a plurality of these derivatives are bonded are preferable, and those in which a plurality of aromatic amine derivatives, stilbene derivatives, butadiene derivatives are bonded, are preferable. preferable.

【0049】具体的には、下記一般式(12)で表され
る構造を有するものが好ましく用いられる。
Specifically, those having a structure represented by the following general formula (12) are preferably used.

【0050】[0050]

【化27】 (一般式(12)中、Ar1〜Ar4は各々独立して、置
換基を有してもよいアリーレン基又は置換基を有しても
よい2価の複素環基を表す。Ar5、Ar6は、m 1
0、m2=0の時はそれぞれ、置換基を有してもよいア
ルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を
有してもよい1価の複素環基を表し、m1=1、m2=1
の時はそれぞれ置換基を有してもよいアルキレン基、置
換基を有してもよいアリーレン基又は置換基を有しても
よい2価の複素環基を表す。Qは直接結合または2価の
残基を表す。R1〜R8は各々独立して水素原子、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を
有してもよい複素環基を表す。n1〜n4は各々独立して
0〜4の整数を表す。また、m1、m2は各々独立して0
又は1を表す。また、Ar1〜Ar6は互いに結合して環
状構造を形成してもよい。) 一般式(12)中、R1〜R8は各々独立して水素原子、
置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有して
いても良いアリール基、置換基を有していても良いアラ
ルキル基、置換基を有していても良い複素環基を表す
が、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、へプチル基、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等が挙げられ、これらの内炭素数1〜6の
アルキル基が好ましい。
Embedded image (In the general formula (12), Ar1~ ArFourAre independent of each other
An arylene group which may have a substituent or a
Represents a good divalent heterocyclic group. ArFive, Ar6Is m 1=
0, mTwo= 0, each of which may have a substituent.
Alkyl group, an aryl group which may have a substituent,
Represents a monovalent heterocyclic group which may have1= 1, mTwo= 1
Is an alkylene group which may have a substituent,
An arylene group which may have a substituent or a
Represents a good divalent heterocyclic group. Q is a direct bond or divalent
Represents a residue. R1~ R8Are each independently a hydrogen atom, a substituent
An alkyl group which may have a substituent, an ant which may have a substituent
A aralkyl group, which may have a substituent,
Represents a heterocyclic group which may be possessed. n1~ NFourAre each independently
Represents an integer of 0 to 4; Also, m1, MTwoAre each independently 0
Or represents 1. Also, Ar1~ Ar6Are connected to each other
May be formed. ) In the general formula (12), R1~ R8Are each independently a hydrogen atom,
An alkyl group which may have a substituent,
Aryl group which may be present, ara which may have a substituent
Represents an alkyl group or an optionally substituted heterocyclic group
However, as the alkyl group, for example, methyl group, ethyl
Group, propyl group, isopropyl group, butyl group, pentyl
Group, hexyl group, heptyl group, cyclopentyl group, cycle
And a rohexyl group.
Alkyl groups are preferred.

【0051】また、アリール基としては、フェニル基、
トリル基、キシリル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙
げられ、炭素数6〜12のアリール基が好ましい。ま
た、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
等が挙げられ、炭素数7〜12のアラルキル基が好まし
い。また、複素環基は、芳香族性を有する複素環が好ま
しく、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基等のが
挙げられ、単環の芳香族複素環が更に好ましい。
As the aryl group, a phenyl group,
Examples thereof include a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group and a pyrenyl group, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferable. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms is preferable. Further, the heterocyclic group is preferably an aromatic heterocyclic ring, for example, a furyl group, a thienyl group, a pyridyl group and the like, and a monocyclic aromatic heterocyclic ring is more preferable.

【0052】また、R1〜R8において、最も好ましいも
のは、メチル基及びフェニル基である。また、一般式
(12)中、Ar1〜Ar4は各々独立して、置換基を有
していても良いアリーレン基又は置換基を有していても
良い2価の複素環基を表し、Ar 5、Ar6は、m1
0、m2=0の時はそれぞれ、置換基を有していても良
いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基、
置換基を有していても良い1価の複素環基を表し、m1
=1、m2=1の時はそれぞれ、置換基を有していても
良いアルキレン基、置換基を有していても良いアリーレ
ン基又は置換基を有していても良い2価の複素環基を表
すが、アリール基としては、フェニル基、トリル基、キ
シリル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられ、炭素
数6〜14のアリール基が好ましく;アリーレン基とし
ては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、フェ
ニレン基が好ましく;1価の複素環基としては、芳香族
性を有する複素環が好ましく、例えばフリル基、チエニ
ル基、ピリジル基等が挙げられ、単環の芳香族複素環が
更に好ましく;2価の複素環基としては、芳香族性を有
する複素環が好ましく、例えばピリジレン基、チエニレ
ン基等が挙げられ、単環の芳香族複素環が更に好まし
い。
Also, R1~ R8In the most preferred
Are a methyl group and a phenyl group. Also, the general formula
(12) Medium, Ar1~ ArFourEach independently has a substituent
May have an arylene group or a substituent
Represents a good divalent heterocyclic group, Ar Five, Ar6Is m1=
0, mTwoWhen = 0, each may have a substituent
Alkyl group, aryl group which may have a substituent,
Represents a monovalent heterocyclic group which may have a substituent;1
= 1, mTwoWhen = 1, even if each has a substituent
Good alkylene group, arylene optionally having substituent (s)
And a divalent heterocyclic group which may have a substituent.
However, as the aryl group, a phenyl group, a tolyl group,
A silyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, etc .;
Aryl groups of the formulas 6 to 14 are preferred;
Examples include phenylene group and naphthylene group.
A nylene group is preferred; the monovalent heterocyclic group is preferably an aromatic group;
Heterocycle having a property is preferable, for example, a furyl group, a thienyl
And a monocyclic aromatic heterocyclic ring.
More preferably, the divalent heterocyclic group has an aromatic property.
Are preferred, for example, a pyridylene group, a thienylene
Monocyclic aromatic heterocycles are more preferable.
No.

【0053】これらの内、最も好ましいものは、Ar1
及びAr2はフェニレン基であり、Ar5及びAr6はフ
ェニル基である。これらR1〜R8、Ar1〜Ar6で表さ
れる基の内、アルキル基、アリール基、アラルキル基、
複素環基はさらに置換基を有していても良いが、その置
換基としては、シアノ基;ニトロ基;水酸基;フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子;
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等のアルキル基;メトキシ基,エトキシ基,プ
ロピルオキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチ
ルチオ基等のアルキルチオ基;ビニル基、アリル基等の
アルケニル基;ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネ
チル基等のアラルキル基;フェノキシ基、トリロキシ基
等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基,フェネチル
オキシ基等のアリールアルコキシ基;フェニル基,ナフ
チル基等のアリール基;スチリル基,ナフチルビニル基
等のアリールビニル基;アセチル基、ベンゾイル基等の
アシル基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジ
アルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基、ジナフチルア
ミノ基等のジアリールアミノ基;ジベンジルアミノ基、
ジフェネチルアミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピ
リジルアミノ基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミ
ノ基;ジアリルアミノ基、又、上記のアミノ基の置換基
を組み合わせたジ置換アミノ基等の置換アミノ基等が挙
げられる。
Of these, the most preferred is Ar 1
And Ar 2 are phenylene groups, and Ar 5 and Ar 6 are phenyl groups. Among the groups represented by R 1 to R 8 and Ar 1 to Ar 6 , an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group,
The heterocyclic group may further have a substituent, and the substituent includes a cyano group; a nitro group; a hydroxyl group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom;
Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group,
Alkyl groups such as pentyl group, hexyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propyloxy group; alkylthio groups such as methylthio group and ethylthio group; alkenyl groups such as vinyl group and allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, naphthylmethyl group and phenethyl group; aryloxy groups such as phenoxy group and toloxy group; arylalkoxy groups such as benzyloxy group and phenethyloxy group; aryl groups such as phenyl group and naphthyl group; styryl group Arylvinyl groups such as phenyl, naphthylvinyl and the like; acyl groups such as acetyl and benzoyl; dialkylamino such as dimethylamino and diethylamino; diarylamino such as diphenylamino and dinaphthylamino; dibenzylamino ,
Diaralkylamino group such as diphenethylamino group, diheterocyclic amino group such as dipyridylamino group, dithienylamino group; substitution of diallylamino group or disubstituted amino group obtained by combining the above amino group substituents And an amino group.

【0054】また、これらの置換基は互いに結合して、
単結合、メチレン基、エチレン基、カルボニル基、ビニ
リデン基、エチレニレン基等を介した環状炭化水素基や
複素環基を形成してもよい。これらの内好ましい置換基
としては、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、炭素数1
〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素
数1〜6のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリール
オキシ基、炭素数6〜12のアリールチオ基、炭素数2
〜8のジアルキルアミノ基が挙げられ、ハロゲン原子、
炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基が更に好まし
く、メチル基、フェニル基が特に好ましい。
Further, these substituents are bonded to each other to form
A cyclic hydrocarbon group or a heterocyclic group may be formed via a single bond, a methylene group, an ethylene group, a carbonyl group, a vinylidene group, an ethylenylene group, or the like. Of these, preferred substituents include a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, and a group having 1 carbon atom.
Alkyl group of 6 to 6, alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, alkylthio group of 1 to 6 carbon atoms, aryloxy group of 6 to 12 carbon atoms, arylthio group of 6 to 12 carbon atoms, 2 carbon atoms
To 8 dialkylamino groups, a halogen atom,
An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a phenyl group are more preferable, and a methyl group and a phenyl group are particularly preferable.

【0055】一般式(12)中、n1〜n4は各々独立し
て0乃至4の整数を表すが、0乃至2が好ましく、1が
最も好ましい。m1、m2は0又は1を表すが、0が好ま
しい。一般式(12)中、Qは、直接結合又は2価の残
基を表すが、2価の残基として好ましいものは、16族
原子、置換基を有しても良いアルキレン、置換基を有し
ても良いアリーレン基、置換基を有しても良いシクロア
ルキリデン基、またはこれらが互いに結合した、例えば
[−O−A−O−]、[−A−O−A−]、[−S−A−S
−]、[−A−A−]等が挙げられる(但し、Aは置換基
を有しても良いアリーレン基または置換基を有しても良
いアルキレン基を表す)。
In the general formula (12), n 1 to n 4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, and most preferably 1. m 1 and m 2 represent 0 or 1, and 0 is preferred. In the general formula (12), Q represents a direct bond or a divalent residue, and a preferable divalent residue is a group 16 atom, an alkylene which may have a substituent, or a substituent. Arylene group which may be, a cycloalkylidene group which may have a substituent, or these are bonded to each other, for example,
[-O-A-O-], [-A-O-A-], [-S-A-S-S
-], [-AA-] and the like (provided that A represents an arylene group which may have a substituent or an alkylene group which may have a substituent).

【0056】Qを構成するアルキレン基としては、炭素
数1〜6のものが好ましく、中でもメチレン基及びエチ
レン基が更に好ましい。また、シクロアルキリデン基と
しては、炭素数5〜8のものが好ましく、中でもシクロ
ペンチリデン基及びシクロヘキシリデン基が更に好まし
い。アリーレン基としては、炭素数6〜14のものがこ
のましく、中でもフェニレン基及びナフチレン基が更に
好ましい。
As the alkylene group constituting Q, those having 1 to 6 carbon atoms are preferable, and among them, a methylene group and an ethylene group are more preferable. The cycloalkylidene group preferably has 5 to 8 carbon atoms, and more preferably a cyclopentylidene group and a cyclohexylidene group. The arylene group preferably has 6 to 14 carbon atoms, and among them, a phenylene group and a naphthylene group are more preferable.

【0057】また、これらアルキレン基、アリーレン
基、シクロアルキリデン基は置換基を有してもよいが、
好ましい置換基としては、水酸基、ニトロ基、シアノ
基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
1〜6のアルケニル基、炭素数6〜14のアリール基が
挙げられる。これら電荷輸送物質は単独で用いても良い
し、いくつかを混合してもちいてもよい。これらの電荷
輸送材料がバインダー樹脂に結着した形で電荷輸送層が
形成される。電荷輸送層は、単一の層から成っていても
良いし、構成成分あるいは組成比の異なる複数の層を重
ねたものでも良い。
The alkylene group, arylene group and cycloalkylidene group may have a substituent.
Preferred substituents include a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. These charge transporting substances may be used alone or in combination. The charge transport layer is formed in a state where these charge transport materials are bound to the binder resin. The charge transport layer may be composed of a single layer, or may be a layer in which a plurality of layers having different constituent components or composition ratios are stacked.

【0058】バインダー樹脂と電荷輸送物質の割合は、
通常、バインダー樹脂100重量部に対して30〜20
0重量部、好ましくは40〜150重量部の範囲で使用
される。また膜厚は一般に5〜50μm、好ましくは1
0〜45μmがよい。なお、電荷輸送層には成膜性、可
撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性などを向上
させるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、電子吸引性化合物、レベリング剤などの添加物を含
有させても良い。
The ratio between the binder resin and the charge transporting material is
Usually, 30 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin.
0 parts by weight, preferably in the range of 40 to 150 parts by weight. The thickness is generally 5 to 50 μm, preferably 1 to 50 μm.
It is preferably from 0 to 45 μm. The charge transport layer has a well-known plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an electron-attracting property in order to improve film formability, flexibility, coating properties, stain resistance, gas resistance, light resistance, and the like. Additives such as compounds and leveling agents may be included.

【0059】酸化防止剤の例としては、ヒンダードフェ
ノール化合物、ヒンダードアミン化合物などが挙げられ
る。分散型感光層の場合には、上記のような配合比の電
荷輸送媒体中に、前出の電荷発生物質が分散される。そ
の場合の電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが必要
であり、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5
μm以下で使用される。感光層内に分散される電荷発生
物質の量は少なすぎると充分な感度が得られず、多すぎ
ると帯電性の低下、感度の低下などの弊害があり、例え
ば好ましくは0.5〜50重量%の範囲で、より好まし
くは1〜20重量%の範囲で使用される。
Examples of antioxidants include hindered phenol compounds and hindered amine compounds. In the case of the dispersion type photosensitive layer, the above-mentioned charge generating substance is dispersed in the charge transporting medium having the above-described mixing ratio. In this case, the particle size of the charge generating substance needs to be sufficiently small, preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less.
Used below μm. If the amount of the charge generating substance dispersed in the photosensitive layer is too small, sufficient sensitivity cannot be obtained. If the amount is too large, there are adverse effects such as a decrease in chargeability and a decrease in sensitivity. %, More preferably in the range of 1 to 20% by weight.

【0060】感光層の膜厚は通常5〜50μm、より好
ましくは10〜45μmで使用される。またこの場合に
も成膜性、可とう性、機械的強度等を改良するための公
知の可塑剤、残留電位を抑制するための添加剤、分散安
定性向上のための分散補助剤、塗布性を改善するための
レベリング剤、界面活性剤、例えばシリコ−ンオイル、
フッ素系オイルその他の添加剤が添加されていても良
い。
The thickness of the photosensitive layer is usually 5 to 50 μm, more preferably 10 to 45 μm. Also in this case, a known plasticizer for improving film forming property, flexibility, mechanical strength, etc., an additive for suppressing residual potential, a dispersing aid for improving dispersion stability, a coating property. Leveling agents, surfactants such as silicone oil,
Fluorine-based oil and other additives may be added.

【0061】感光層の上に、感光層の損耗を防止した
り、帯電器等から発生する放電生成物等による感光層の
劣化を防止・軽減する目的で保護層を設けても良い。ま
た、感光体表面の摩擦抵抗や、摩耗を軽減する目的で、
表面の層にはフッ素系樹脂、シリコーン樹脂等を含んで
いても良い。また、これらの樹脂からなる粒子や無機化
合物の粒子を含んでいても良い。
A protective layer may be provided on the photosensitive layer for the purpose of preventing the photosensitive layer from being worn and preventing or reducing the deterioration of the photosensitive layer due to a discharge product or the like generated from a charger or the like. Also, in order to reduce the frictional resistance and wear of the photoconductor surface,
The surface layer may contain a fluorine resin, a silicone resin, or the like. Further, particles of these resins or particles of an inorganic compound may be included.

【0062】これらの感光体を構成する各層は、支持体
上に浸漬塗布、スプレー塗布、ノズル塗布、バーコー
ト、ロールコート、ブレード塗布等により塗布して形成
される。各層の形成方法としては、層に含有させる物質
を溶剤に溶解又は分散させて得られた塗布液を順次塗布
するなどの公知の方法が適用できる。
Each of the layers constituting the photoreceptor is formed by dip coating, spray coating, nozzle coating, bar coating, roll coating, blade coating or the like on a support. As a method for forming each layer, a known method such as sequentially applying a coating solution obtained by dissolving or dispersing a substance to be contained in a layer in a solvent can be applied.

【0063】本発明の電子写真感光体を使用する複写
機、プリンター等の電子写真装置は、少なくとも帯電、
露光、現像、転写の各プロセスを含むが、どのプロセス
も通常用いられる方法のいずれを用いても良い。帯電方
法(帯電器)としては、例えばコロナ放電を利用したコ
ロトロンあるいはスコロトロン帯電、導電性ローラーあ
るいはブラシ、フィルムなどによる接触帯電などいずれ
を用いても良い。このうち、コロナ放電を利用した帯電
方法では暗部電位を一定に保つためにスコロトロン帯電
が用いられることが多い。現像方法としては、磁性ある
いは非磁性の一成分現像剤、二成分現像剤などを接触あ
るいは非接触させて現像する一般的な方法が用いられ
る。転写方法としては、コロナ放電によるもの、転写ロ
ーラーあるいは転写ベルトを用いた方法等いずれでもよ
い。転写は、紙やOHP用フィルム等に対して直接行っ
ても良いし、一旦中間転写体(ベルト状あるいはドラム
状)に転写したのちに、紙やOHP用フィルム上に転写
しても良い。
An electrophotographic apparatus such as a copying machine or a printer using the electrophotographic photosensitive member of the present invention has at least a charge,
Although each of the processes includes exposure, development, and transfer, any of the processes may be used for each process. As a charging method (charging device), for example, any of corotron or scorotron charging using corona discharge, contact charging using a conductive roller, a brush, a film, or the like may be used. Of these, in the charging method using corona discharge, scorotron charging is often used to keep the dark area potential constant. As a developing method, a general method of developing by contacting or non-contacting a magnetic or non-magnetic one-component developer, a two-component developer or the like is used. The transfer method may be any of a method using corona discharge, a method using a transfer roller or a transfer belt, and the like. The transfer may be performed directly on paper, an OHP film, or the like, or may be performed once on an intermediate transfer member (belt or drum shape) and then transferred onto paper or an OHP film.

【0064】通常、転写の後、現像剤を紙などに定着さ
せる定着プロセスが用いられ、定着手段としては一般的
に用いられる熱定着、圧力定着などを用いることができ
る。これらのプロセスのほかに、通常用いられるクリー
ニング、除電等のプロセスを有しても良い。
Usually, after the transfer, a fixing process for fixing the developer onto paper or the like is used, and as a fixing means, generally used heat fixing, pressure fixing and the like can be used. In addition to these processes, a process that is generally used, such as cleaning and static elimination, may be provided.

【0065】[0065]

【実施例】以下、本発明を製造例、実施例及び比較例に
よりさらに詳細に説明する。なお、本発明はここに示し
た製造例による製造法に限定されるものではない。 <ポリアリレート樹脂の製造> [粘度平均分子量]ポリアリレート樹脂をジクロロメタ
ンに溶解し濃度Cが6.00g/Lの溶液を調整した。
溶媒(ジクロロメタン)の流下時間t0が136.16
秒のウベローデ型毛細管粘度計を用いて、20.0℃に
設定した恒温水槽中で試料溶液の流下時間tを測定し
た。以下の式に従って粘度平均分子量Mvを算出した。 a=0.438×ηsp+1 ηsp=t/t0−1 b=100×ηsp/C C=6.00(g/L) η=b/a Mv=3207×η1205
The present invention will be described below in more detail with reference to Production Examples, Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the manufacturing method according to the manufacturing example shown here. <Production of polyarylate resin> [Viscosity average molecular weight] A polyarylate resin was dissolved in dichloromethane to prepare a solution having a concentration C of 6.00 g / L.
The falling time t 0 of the solvent (dichloromethane) is 136.16.
The falling time t of the sample solution was measured in a thermostatic water bath set at 20.0 ° C. using an Ubbelohde capillary viscometer for 2 seconds. The viscosity average molecular weight Mv was calculated according to the following equation. a = 0.438 × η sp +1 η sp = t / t 0 −1 b = 100 × η sp / C C = 6.00 (g / L) η = b / a Mv = 3207 × η 1 . 205

【0066】製造例1(比較例1のポリアリレート樹脂
Aの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.26g)と水
(600ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.5463g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.089g)およびビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン [テトラメチル
ビスフェノールF] (17.86g)を添加、攪拌した
後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。
Production Example 1 (Method for Producing Polyarylate Resin A of Comparative Example 1) Sodium hydroxide (7.26 g) and water (600 ml) were weighed into a 1 L beaker, and dissolved by stirring while bubbling with nitrogen. Thereto, p-tert-butylphenol (0.5463 g), benzyltriethylammonium chloride (0.089 g) and bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (17.86 g) were added. After stirring, the aqueous alkali solution was transferred to a 1 L reaction tank.

【0067】別途、テレフタル酸クロライド(14.4
5g)をジクロロメタン(300ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.39ml)、ジクロロメ
タン(150ml)を加え30分攪拌した。その後、攪
拌を停止し有機層を分離した。この有機層を0.1N水
酸化ナトリウム水溶液(340ml)にて洗浄を1回行
い、次に0.1N塩酸(340ml)にて洗浄を2回行
い、さらに水(340ml)にて洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (14.4)
5 g) was dissolved in dichloromethane (300 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 1 hour. After stirring was further continued for 3 hours, acetic acid (2.39 ml) and dichloromethane (150 ml) were added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. The organic layer was washed once with a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution (340 ml), then twice with 0.1 N hydrochloric acid (340 ml), and twice with water (340 ml). went.

【0068】洗浄後の有機層をメタノール(2500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Aを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Aの粘度平均分子量は32,200であ
った。構造式を以下に示す。
The organic layer after washing was washed with methanol (2,500 m
The precipitate obtained by pouring in 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin A. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin A was 32,200. The structural formula is shown below.

【0069】[0069]

【化28】 製造例2(比較例2のポリアリレート樹脂Bの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(5.20g)と水
(400ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにp−tert−ブチルフェノール
(0.2173g)、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0647g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン [テトラメチルビ
スフェノールF] (6.31g)およびビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[ビスフェノールF](4.93
g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液を1L反
応槽に移した。
Embedded image Production Example 2 (Production Method of Polyarylate Resin B of Comparative Example 2) Sodium hydroxide (5.20 g) and water (400 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, p-tert-butylphenol (0.2173 g), benzyltriethylammonium chloride (0.0647 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (6.31 g) and bis (4-hydroxyphenyl) methane [bisphenol F] (4.93
After adding g) and stirring, the aqueous alkali solution was transferred to a 1 L reaction tank.

【0070】別途、テレフタル酸クロライド(10.1
5g)をジクロロメタン(200ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を1時間かけて滴下した。さらに3時
間攪拌を続けた後、酢酸(1.71ml)、ジクロロメ
タン(100ml)を加え30分攪拌した。その後、攪
拌を停止し有機層を分離した。この有機層を0.1N水
酸化ナトリウム水溶液(210ml)にて洗浄を1回行
い、次に0.1N塩酸(210ml)にて洗浄を2回行
い、さらに水(210ml)にて洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (10.1
5 g) was dissolved in dichloromethane (200 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 1 hour. After stirring was further continued for 3 hours, acetic acid (1.71 ml) and dichloromethane (100 ml) were added and stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. The organic layer was washed once with a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution (210 ml), then twice with 0.1 N hydrochloric acid (210 ml), and twice with water (210 ml). went.

【0071】洗浄後の有機層をメタノール(2000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Bを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Bの粘度平均分子量は33,700であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (2000 m
The precipitate obtained by pouring in 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin B. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin B was 33,700. The structural formula is shown below.

【0072】[0072]

【化29】 製造例3(比較例3のポリアリレート樹脂Cの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(15.62g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1953g)およびビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシ
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17] (2
9.44g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液
を2L反応槽に移した。その後p−tert−ブチルフ
ェノール(0.8833g)を添加した。
Embedded image Production Example 3 (Production Method of Polyarylate Resin C of Comparative Example 3) Sodium hydroxide (15.62 g) and water (1120 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1953 g) and bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o, p'-BP
F], bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o,
o'-BPF] [BPF-D manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd .;
p ′: o, p ′: o, o ′ = about 35:48:17] (2
After adding 9.44 g) and stirring, the aqueous alkali solution was transferred to a 2 L reaction tank. Thereafter, p-tert-butylphenol (0.8833 g) was added.

【0073】別途、テレフタル酸クロライド(30.4
8g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(5.15ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (30.4
8 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (5.15 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0074】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Cを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Cの粘度平均分子量は19,100であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring in l) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin C. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin C was 19,100. The structural formula is shown below.

【0075】[0075]

【化30】 製造例4(実施例1のポリアリレート樹脂Dの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.01g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1744g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](23.79g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (7.96g)を添加、攪拌した後、このアルカリ
水溶液を2L反応槽に移した。その後2,6−ジメチル
−4−tert−ブチル−フェノール(0.712g)
を添加した。
Embedded image Production Example 4 (Production Method of Polyarylate Resin D of Example 1) Sodium hydroxide (14.01 g) and water (1120 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1744 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (23.79 g) and bis (4-
Hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o,
p'-BPF], a mixture of bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o, o'-BPF] [BPF- manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.]
D; p, p ': o, p': o, o '= about 35: 48: 1
7] (7.96 g) was added and stirred, and then the alkaline aqueous solution was transferred to a 2 L reaction tank. Then 2,6-dimethyl-4-tert-butyl-phenol (0.712 g)
Was added.

【0076】別途、テレフタル酸クロライド(27.3
5g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.62ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (27.3)
5 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (4.62 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0077】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Dを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Dの粘度平均分子量は36,700であ
った。構造式を以下に示す。
The organic layer after washing was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring in 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin D. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin D was 36,700. The structural formula is shown below.

【0078】[0078]

【化31】 製造例5(実施例2のポリアリレート樹脂Eの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.19g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0899g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビ
スフェノールF](8.68g)、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF](4.75g)および
(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン[o,p'-BPF](2.03g)を添加、攪拌した
後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。その後
4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェノール
(0.4827g)を添加した。
Embedded image Production Example 5 (Production method of polyarylate resin E of Example 2) Sodium hydroxide (7.19 g) and water (560 ml) were weighed into a 1 L beaker, and dissolved by stirring while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.0899 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (8.68 g), bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p '-BPF] (4.75 g) and (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o, p'-BPF] (2.03 g) were added and stirred. Moved to Thereafter, 4-tert-butyl-2,6-dimethylphenol (0.4827 g) was added.

【0079】別途、テレフタル酸クロライド(14.0
4g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.37ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (14.0
4g) was dissolved in dichloromethane (280 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (2.37 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution (280 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (210m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (210 ml).

【0080】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Eを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Eの粘度平均分子量は33,300であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (1500 m
The precipitate obtained by pouring into 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin E. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin E was 33,300. The structural formula is shown below.

【0081】[0081]

【化32】 製造例6(実施例3のポリアリレート樹脂Fの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.46g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1791g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](17.62g)、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロキシ
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,p'-BP
F]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタン [o,
o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−D;p,
p’:o,p’:o,o’=約35:48:17]
(6.88g)さらにビス(4−ヒドロキシフェニル)
メタン[p,p'-BPF](6.88g)を添加、攪拌した後、
このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。その後4−
tert−ブチル−フェノール(0.4129g)を添
加した。
Embedded image Production Example 6 (Production method of polyarylate resin F of Example 3) Sodium hydroxide (14.46 g) and water (1120 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1791 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (17.62 g), bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p '-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o, p'-BP
F], bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o,
o'-BPF] [BPF-D manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd .;
p ′: o, p ′: o, o ′ = about 35:48:17]
(6.88 g) and bis (4-hydroxyphenyl)
After adding methane [p, p'-BPF] (6.88 g) and stirring,
This aqueous alkali solution was transferred to a 1 L reaction tank. Then 4-
Tert-butyl-phenol (0.4129 g) was added.

【0082】別途、テレフタル酸クロライド(28.2
2g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.77ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (28.2)
2 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (4.77 ml) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0083】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Fを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Fの粘度平均分子量は44,700であ
った。構造式を以下に示す。
The organic layer after washing was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring into 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin F. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin F was 44,700. The structural formula is shown below.

【0084】[0084]

【化33】 製造例7(実施例4のポリアリレート樹脂Gの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.22g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0894g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビ
スフェノールF](8.79g)、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF](3.44g)およびビ
ス(2−ヒドロキシフェニル)メタン[o,o'-BPF](3.
44g)を添加、攪拌した後、このアルカリ水溶液を1
L反応槽に移した。その後4−tert−ブチル−2,
6−ジメチルフェノール(0.2446g)を添加し
た。
Embedded image Production Example 7 (Production method of polyarylate resin G of Example 4) Sodium hydroxide (7.22 g) and water (560 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.0894 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (8.79 g), bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p '-BPF] (3.44 g) and bis (2-hydroxyphenyl) methane [o, o'-BPF] (3.
After adding 44 g) and stirring, the aqueous alkali solution was added to 1
Transferred to L reactor. Then 4-tert-butyl-2,
6-Dimethylphenol (0.2446 g) was added.

【0085】別途、テレフタル酸クロライド(14.0
9g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.38ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (14.0
9 g) was dissolved in dichloromethane (280 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (2.38 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution (280 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (210m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (210 ml).

【0086】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Gを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Gの粘度平均分子量は46,400であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was treated with methanol (1500 m
The precipitate obtained by pouring into 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin G. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin G was 46,400. The structural formula is shown below.

【0087】[0087]

【化34】 製造例8(実施例5のポリアリレート樹脂Hの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.46g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1791g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](17.62g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (13.76g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を2L反応槽に移した。その後p−tert−
ブチルフェノール(0.4129g)を添加した。
Embedded image Production Example 8 (Production Method of Polyarylate Resin H of Example 5) Sodium hydroxide (14.46 g) and water (1120 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1791 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (17.62 g) and bis (4-
Hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o,
p'-BPF], a mixture of bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o, o'-BPF] [BPF- manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.]
D; p, p ': o, p': o, o '= about 35: 48: 1
7] (13.76 g) was added and stirred, and then the alkaline aqueous solution was transferred to a 2 L reaction tank. Then p-tert-
Butylphenol (0.4129 g) was added.

【0088】別途、テレフタル酸クロライド(28.2
2g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.77ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (28.2)
2 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (4.77 ml) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0089】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Hを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Hの粘度平均分子量は29,800であ
った。構造式を以下に示す。
The organic layer after washing was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring into l) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin H. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin H was 29,800. The structural formula is shown below.

【0090】[0090]

【化35】 製造例9(比較例4のポリアリレート樹脂Iの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(7.44g)と水
(560ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪拌
し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウム
クロライド(0.0930g)、ビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチルビ
スフェノールF](5.39g)、ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン[p,p'-BPF](6.87g)および
(2−ヒドロキシフェニル)(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン[o,p'-BPF](2.95g)を添加、攪拌した
後、このアルカリ水溶液を1L反応槽に移した。その後
4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェノール
(0.4209g)を添加した。
Embedded image Production Example 9 (Method for Producing Polyarylate Resin I of Comparative Example 4) Sodium hydroxide (7.44 g) and water (560 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.0930 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (5.39 g), bis (4-hydroxyphenyl) methane [p, p '-BPF] (6.87 g) and (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o, p'-BPF] (2.95 g) were added and stirred. Moved to Then 4-tert-butyl-2,6-dimethylphenol (0.4209 g) was added.

【0091】別途、テレフタル酸クロライド(14.5
2g)をジクロロメタン(280ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(2.45ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(280m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(210m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(210ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (14.5)
2g) was dissolved in dichloromethane (280 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (2.45 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution (280 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (210m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (210 ml).

【0092】洗浄後の有機層をメタノール(1500m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Iを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Iの粘度平均分子量は33,500であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (1500 m
The precipitate obtained by pouring into 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin I. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin I was 33,500. The structural formula is shown below.

【0093】[0093]

【化36】 製造例10(実施例6のポリアリレート樹脂Kの製造
法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(13.62g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1703g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](29.58g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (2.57g)を添加、攪拌した後、このアルカリ
水溶液を2L反応槽に移した。その後2,3,6−トリ
メチルフェノール(0.6984g)を添加した。
Embedded image Production Example 10 (Production method of polyarylate resin K of Example 6) Sodium hydroxide (13.62 g) and water (1120 ml) were weighed into a 1 L beaker, and stirred and dissolved while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1703 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (29.58 g) and bis (4-
Hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o,
p'-BPF], a mixture of bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o, o'-BPF] [BPF- manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.]
D; p, p ': o, p': o, o '= about 35: 48: 1
7] (2.57 g) was added and stirred, and then the aqueous alkali solution was transferred to a 2 L reaction tank. Thereafter, 2,3,6-trimethylphenol (0.6984 g) was added.

【0094】別途、テレフタル酸クロライド(26.5
8g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.49ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (26.5)
8 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (4.49 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0095】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Kを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Kの粘度平均分子量は40,700であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring into l) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin K. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin K was 40,700. The structural formula is shown below.

【0096】[0096]

【化37】 製造例11(実施例7ポリアリレート樹脂Lの製造法) 1Lビーカーに水酸化ナトリウム(14.92g)と水
(1120ml)を秤取り、窒素バブリングしながら攪
拌し溶解させた。そこにベンジルトリエチルアンモニウ
ムクロライド(0.1848g)、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メタン[テトラメチル
ビスフェノールF](10.91g)およびビス(4−
ヒドロキシフェニル)メタン[p,p'-BPF]、(2−ヒドロ
キシフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタン[o,
p'-BPF]、ビス(2−ヒドロキシメチルフェニル)メタ
ン [o,o'-BPF]の混合物[本州化学(株)製 BPF−
D;p,p’:o,p’:o,o’=約35:48:1
7] (19.88g)を添加、攪拌した後、このアルカ
リ水溶液を2L反応槽に移した。その後p−tert−
ブチルフェノール(0.4260g)を添加した。
Embedded image Production Example 11 (Example 7: Method for producing polyarylate resin L) In a 1 L beaker, sodium hydroxide (14.92 g) and water (1120 ml) were weighed, and dissolved by stirring while bubbling with nitrogen. There, benzyltriethylammonium chloride (0.1848 g), bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) methane [tetramethylbisphenol F] (10.91 g) and bis (4-
Hydroxyphenyl) methane [p, p'-BPF], (2-hydroxyphenyl) (4-hydroxyphenyl) methane [o,
p'-BPF], a mixture of bis (2-hydroxymethylphenyl) methane [o, o'-BPF] [BPF- manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.]
D; p, p ': o, p': o, o '= about 35: 48: 1
7] (19.88 g) was added and stirred, and then the aqueous alkali solution was transferred to a 2 L reaction tank. Then p-tert-
Butylphenol (0.4260 g) was added.

【0097】別途、テレフタル酸クロライド(29.1
1g)をジクロロメタン(560ml)に溶解し滴下ロ
ート内に移した。重合槽の外温を20℃に保ち、反応槽
内のアルカリ水溶液を攪拌しながら、滴下ロートよりジ
クロロメタン溶液を30分かけて滴下した。さらに4時
間攪拌を続けた後、酢酸(4.92ml)を加え30分
攪拌した。その後、攪拌を停止し有機層を分離した。こ
の有機層を0.1N水酸化ナトリウム水溶液(560m
l)にて洗浄を1回行い、次に0.1N塩酸(420m
l)にて洗浄を2回行い、さらに水(420ml)にて
洗浄を2回行った。
Separately, terephthalic acid chloride (29.1)
1 g) was dissolved in dichloromethane (560 ml) and transferred into a dropping funnel. While maintaining the external temperature of the polymerization tank at 20 ° C., while stirring the aqueous alkali solution in the reaction tank, a dichloromethane solution was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. After stirring was further continued for 4 hours, acetic acid (4.92 ml) was added and the mixture was stirred for 30 minutes. Thereafter, the stirring was stopped and the organic layer was separated. This organic layer was washed with a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution (560 m
1) washing once, then 0.1N hydrochloric acid (420m
The washing was performed twice in 1), and the washing was further performed twice with water (420 ml).

【0098】洗浄後の有機層をメタノール(3000m
l)に注いで得られた沈殿物を濾過にて取り出し、乾燥
して目的のポリアリレート樹脂Lを得た。得られたポリ
アリレート樹脂Lの粘度平均分子量は27,200であ
った。構造式を以下に示す。
The washed organic layer was washed with methanol (3000 m
The precipitate obtained by pouring into 1) was taken out by filtration, and dried to obtain a target polyarylate resin L. The viscosity average molecular weight of the obtained polyarylate resin L was 27,200. The structural formula is shown below.

【0099】[0099]

【化38】 <感光体の製造> 実施例1 下記構造を有するβ型オキシチタニウムフタロシアニン
10重量部を、4−メトキシ−4−メチルペンタノン−
2 150重量部に加え、サンドグラインドミルにて粉
砕分散処理を行った。
Embedded image <Production of Photoconductor> Example 1 10 parts by weight of β-type oxytitanium phthalocyanine having the following structure was added to 4-methoxy-4-methylpentanone-
2 In addition to 150 parts by weight, pulverization and dispersion treatment was performed by a sand grind mill.

【0100】[0100]

【化39】 また、ポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製、
商品名デンカブチラール#6000C)の5% 1,2
−ジメトキシエタン溶液100部及びフェノキシ樹脂
(ユニオンカーバイド社製、商品名PKHH)の5%
1,2−ジメトキシエタン溶液100部を混合してバイ
ンダー溶液を作製した。
Embedded image In addition, polyvinyl butyral (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.,
5% of brand name Denka butyral # 6000C) 1,2
-100 parts of dimethoxyethane solution and 5% of phenoxy resin (PKHH, manufactured by Union Carbide Co.)
A binder solution was prepared by mixing 100 parts of a 1,2-dimethoxyethane solution.

【0101】先に作製した顔料分散液160重量部に、
バインダー溶液100重量部、適量の1,2−ジメトキ
シエタンを加え最終的に固形分濃度4.0%の分散液を
調製した。この様にして得られた分散液を表面にアルミ
蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルム上に膜厚
が0.4μmになるように塗布して電荷発生層を設け
た。次にこのフィルム上に、次に示す正孔輸送性化合物
[1]50重量部、
In 160 parts by weight of the previously prepared pigment dispersion,
100 parts by weight of a binder solution and an appropriate amount of 1,2-dimethoxyethane were added to finally prepare a dispersion having a solid content of 4.0%. The thus obtained dispersion was applied on a polyethylene terephthalate film on which aluminum was vapor-deposited on the surface so as to have a thickness of 0.4 μm to provide a charge generation layer. Next, on this film, 50 parts by weight of the following hole transporting compound [1]

【0102】[0102]

【化40】 および製造例4で製造したポリアリレート樹脂D100
重量部、酸化防止剤(イルガノックス1076)8重量
部、およびレベリング剤としてシリコーンオイル0.0
3重量部をテトラヒドロフラン、トルエンの混合溶媒
(テトラヒドロフラン80重量%、トルエン20重量
%)640重量部に溶解させた液を塗布し、125℃で
20分間乾燥し、乾燥後の膜厚が20μmとなるように
電荷輸送層を設けた。このときポリアリレート樹脂Dの
テトラヒドロフラン、トルエン混合溶媒に対する溶解性
は良好であった。また、この塗布溶液は室温で1週間放
置後も固化等の変化は見られなかった。これら溶解性及
び溶液安定性の結果を表2に示す。
Embedded image And polyarylate resin D100 produced in Production Example 4
Parts by weight, 8 parts by weight of an antioxidant (Irganox 1076), and 0.0% of silicone oil as a leveling agent.
A solution obtained by dissolving 3 parts by weight in 640 parts by weight of a mixed solvent of tetrahydrofuran and toluene (tetrahydrofuran 80% by weight, toluene 20% by weight) is applied and dried at 125 ° C. for 20 minutes, and the film thickness after drying becomes 20 μm. The charge transport layer was provided as described above. At this time, the solubility of the polyarylate resin D in a mixed solvent of tetrahydrofuran and toluene was good. The coating solution did not show any change such as solidification even after being left at room temperature for one week. Table 2 shows the results of the solubility and solution stability.

【0103】実施例2〜7、比較例1〜4 実施例1中のポリアリレート樹脂を、各製造例で製造し
たポリアリレート樹脂に代えて、実施例1と同様の操作
を行った。これらの樹脂の溶解性及び溶液安定性の結果
を表2に示す。
Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 The same operation as in Example 1 was performed, except that the polyarylate resin in Example 1 was replaced with the polyarylate resin produced in each of the production examples. Table 2 shows the results of the solubility and solution stability of these resins.

【0104】得られた各感光体については以下の評価を
行った。 [摩擦試験]トナーを上記で作成した感光体の上に0.
1mg/cm2となるよう均一に乗せ接触させる面にク
リーニングブレードと同じ材質のウレタンゴムを1cm
幅に切断したものを用い45度の角度で用い、荷重20
0g、速度5mm/sec、ストローク20mmでウレ
タンゴムを100回移動させたときの100回目の動摩
擦係数を協和界面化学(株)社製全自動摩擦摩耗試験機
DFPM−SSで測定した。結果を表2に示す。 [摩耗試験]感光体フィルムを直径10cmの円状に切
断しテーバー摩耗試験機(東洋精機社製)により、摩耗
評価を行った。試験条件は、23℃、50%RHの雰囲
気下、摩耗輪CS−10Fを用いて、荷重なし(摩耗輪
の自重)で1000回回転後の摩耗量を試験前後の重量
を比較することにより測定した。結果を表2に示す。
The obtained photosensitive members were evaluated as follows. [Friction test] The toner was placed on the photoreceptor prepared above at 0.1%.
1 cm / cm 2 of urethane rubber of the same material as the cleaning blade on the surface to be uniformly placed and contacted to 1 mg / cm 2
It is used at an angle of 45 degrees and cut at a load of 20
The 100th kinetic friction coefficient when urethane rubber was moved 100 times at 0 g, at a speed of 5 mm / sec, and a stroke of 20 mm was measured with a fully automatic friction and wear tester DFPM-SS manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the results. [Abrasion Test] The photoreceptor film was cut into a circle having a diameter of 10 cm, and abrasion was evaluated using a Taber abrasion tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). The test conditions were as follows: The wear amount after 1000 rotations without load (self-weight of the wear wheel) was measured by comparing the weight before and after the test with a wear wheel CS-10F in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH without using a load (the weight of the wear wheel). did. Table 2 shows the results.

【0105】[電気特性]電子写真学会測定標準に従っ
て作製された電子写真特性評価装置(続電子写真技術の
基礎と応用、電子写真学会編、コロナ社、404−40
5頁記載)を使用し、上記感光体をアルミニウム製ドラ
ムに貼り付けて円筒状にし、アルミニウム製ドラムと感
光体のアルミニウム基体との導通を取った上で、ドラム
を一定回転数で回転させ、帯電、露光、電位測定、除電
のサイクルによる電気特性評価試験を行った。その際、
初期表面電位を−700Vとし、露光は780nm、除
電は660nmの単色光を用い、780nmの光を2.
4μJ/cm2照射した時点の表面電位(VL)を測定
した。VL測定に際しては、露光−電位測定に要する時
間を139msとした。測定環境は、温度25℃、相対
湿度50%(VL:NN)及び、温度5℃、相対湿度1
0%(VL:LL)下で行った。この表面電位(VL)
の値の絶対値が小さいほど応答性がよいことを示す。結
果を表2に示す。
[Electrical Characteristics] An electrophotographic characteristic evaluation apparatus manufactured according to the Electrophotographic Society of Japan measurement standard (Basic and Application of Electrophotographic Technology, edited by the Electrophotographic Society, Corona, 404-40)
5), the photoreceptor was attached to an aluminum drum to form a cylinder, and the aluminum drum and the aluminum base of the photoreceptor were electrically connected to each other. An electrical property evaluation test was performed by a cycle of charging, exposure, potential measurement, and static elimination. that time,
The initial surface potential is -700 V, monochromatic light of 780 nm for exposure and 660 nm for static elimination, and light of 780 nm is used for 2.
The surface potential (VL) at the time of irradiation of 4 μJ / cm 2 was measured. In the VL measurement, the time required for the exposure-potential measurement was 139 ms. The measurement environment was a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% (VL: NN), and a temperature of 5 ° C. and a relative humidity of 1
Performed under 0% (VL: LL). This surface potential (VL)
Indicates that the smaller the absolute value of the value, the better the response. Table 2 shows the results.

【0106】以上の結果より、特定構造のポリアリレー
ト樹脂は、非ハロゲン系溶媒にも高い溶解性及び溶液安
定性を示し、これを用いることにより、機械物性、耐磨
耗性、滑り性が優れ、且つ電気特性、特に応答性に優れ
た電子写真感光体が得られることがわかる。
From the above results, the polyarylate resin having a specific structure has high solubility and solution stability even in a non-halogen solvent and, by using this, has excellent mechanical properties, abrasion resistance and slipperiness. It can be seen that an electrophotographic photoreceptor having excellent electrical characteristics, particularly excellent responsiveness, can be obtained.

【0107】[0107]

【表1】 [Table 1]

【0108】[0108]

【表2】 [Table 2]

【0109】[0109]

【発明の効果】本発明の電子写真感光体樹脂は、特定構
造のポリアリレート樹脂を用いることにより、十分な機
械的特性を有し、非ハロゲン系溶媒にも高い溶解性を有
し、且つ電気特性、特に応答性に優れる。
The electrophotographic photoreceptor resin of the present invention has sufficient mechanical properties by using a polyarylate resin having a specific structure, has high solubility in non-halogen solvents, and has good electrical properties. Excellent in characteristics, especially responsiveness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 5/06 321 G03G 5/06 321 (72)発明者 佐藤 ちよ子 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 (72)発明者 藤井 章照 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 (72)発明者 臨 護 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学 株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA13 AA20 BA13 BA16 BA21 BB27 BB52 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03G 5/06 321 G03G 5/06 321 (72) Inventor Chiyoko Sato 1000 Kamoshita-cho, Aoba-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsubishi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor, Akira Teruaki, Kanagawa Prefecture, Yokohama City, Aoba-ku, 1000 Kamoshita-cho, Mitsubishi, Japan Mitsubishi Chemical Co., Ltd. F-term (reference) 2H068 AA13 AA20 BA13 BA16 BA21 BB27 BB52

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性基体上に少なくとも感光層を有す
る電子写真感光体において、該感光層の結着樹脂が、下
記一般式(1)で表されるポリアリレート構造を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。 【化1】 (一般式(1)中の下記一般式(2)で表される構造
は、下記一般式(3)で表される構造から選ばれる少な
くとも一種である。) 【化2】 【化3】 (一般式(3)中のaおよびbは、0≦a≦1、0≦b
≦1であり、かつa+b=1である。) (また、一般式(1)中の下記一般式(4)で表される
構造は、下記一般式(5)、(6)、(7)で表される
構造から選ばれる少なくとも2種類である。) 【化4】 【化5】 【化6】 【化7】 (また、一般式(1)中のxおよびyは、樹脂中の量を
示す値である。) (また、一般式(1)で表されるポリアリレート構造を
構成する全ビスフェノール成分中の一般式(5)で表さ
れる構造成分は45%を上まわらない。)
1. An electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the binder resin of the photosensitive layer has a polyarylate structure represented by the following general formula (1). Electrophotographic photoreceptor. Embedded image (The structure represented by the following general formula (2) in the general formula (1) is at least one selected from the structures represented by the following general formula (3).) Embedded image (A and b in the general formula (3) are 0 ≦ a ≦ 1, 0 ≦ b
≦ 1 and a + b = 1. (In addition, the structure represented by the following general formula (4) in the general formula (1) is at least two types selected from the structures represented by the following general formulas (5), (6) and (7). There is.) Embedded image Embedded image Embedded image (In addition, x and y in the general formula (1) are values indicating amounts in the resin.) (Also, the general bisphenol component in all bisphenol components constituting the polyarylate structure represented by the general formula (1) (The structural component represented by the formula (5) does not exceed 45%.)
【請求項2】 導電性基体上に少なくとも感光層を有す
る電子写真感光体において、該感光層の結着樹脂が、下
記一般式(8)で表されるポリアリレート構造を有する
ことを特徴とする電子写真感光体。 【化8】 (一般式(8)中、xおよびyは樹脂中の量を示す値で
ある。) (また、一般式(8)中の下記一般式(4)で表される
構造は、下記一般式(5)、(6)、(7)で表される
構造から選ばれる少なくとも2種類である。) 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 (また、一般式(8)で表されるポリアリレート構造を
構成する全ビスフェノール成分中の一般式(5)で表さ
れる構造成分は45%を上まわらない。)
2. An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the binder resin of the photosensitive layer has a polyarylate structure represented by the following general formula (8). Electrophotographic photoreceptor. Embedded image (In the general formula (8), x and y are values indicating the amount in the resin.) (The structure represented by the following general formula (4) in the general formula (8) is represented by the following general formula ( (5), (6), and at least two types selected from the structures represented by (7).) Embedded image Embedded image Embedded image (The structural component represented by the general formula (5) does not exceed 45% of all the bisphenol components constituting the polyarylate structure represented by the general formula (8).)
【請求項3】 導電性基体上に少なくとも感光層を有す
る電子写真感光体において、該感光層の結着樹脂が、下
記一般式(9)で表されるポリアリレート構造に加え
て、下記一般式(10)、(11)で表される構造の少
なくとも一つを有することを特徴とする電子写真感光
体。 【化13】 【化14】 【化15】 (一般式中、m、n、oおよびpは樹脂中の量を示す値
であり0<n/(m+n+o+p)≦0.45であ
る。)
3. An electrophotographic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the binder resin of the photosensitive layer has the following general formula (9) in addition to the polyarylate structure represented by the following general formula (9): (10) An electrophotographic photosensitive member having at least one of the structures represented by (11). Embedded image Embedded image Embedded image (In the general formula, m, n, o, and p are values indicating the amount in the resin, and 0 <n / (m + n + o + p) ≦ 0.45.)
【請求項4】 一般式(9)、(10)、(11)中、
m,n,o,pが下式を満足する範囲の値であることを
特徴とする請求項3に記載の電子写真感光体。 0.2≦m/(m+n+o+p)≦0.8 0.01≦n/(m+n+o+p)<0.4 0≦o/(m+n+o+p)<0.3 0≦p/(m+n+o+p)<0.3 且つ 0.7≦(m+n)/(m+n+o+p)≦
0.95 0.05≦(o+p)/(m+n+o+p)≦0.3
4. In the general formulas (9), (10) and (11),
4. The electrophotographic photosensitive member according to claim 3, wherein m, n, o, and p are values in a range satisfying the following expression. 0.2 ≦ m / (m + n + o + p) ≦ 0.8 0.01 ≦ n / (m + n + o + p) <0.40 ≦ o / (m + n + o + p) <0.30 ≦ p / (m + n + o + p) <0.3 and 0 0.7 ≦ (m + n) / (m + n + o + p) ≦
0.95 0.05 ≦ (o + p) / (m + n + o + p) ≦ 0.3
【請求項5】 一般式(9)、(10)、(11)中、
m,n,o,pが下式を満足する範囲の値であることを
特徴とする請求項3に記載の電子写真感光体。 0.3≦m/(m+n+o+p)≦0.7 0.1≦n/(m+n+o+p)<0.4 0≦o/(m+n+o+p)<0.2 0≦p/(m+n+o+p)<0.1 且つ 0.8≦(m+n)/(m+n+o+p)≦
0.9 0.1≦(o+p)/(m+n+o+p)≦0.2
5. In the general formulas (9), (10) and (11),
4. The electrophotographic photosensitive member according to claim 3, wherein m, n, o, and p are values in a range satisfying the following expression. 0.3 ≦ m / (m + n + o + p) ≦ 0.7 0.1 ≦ n / (m + n + o + p) <0.40 ≦ o / (m + n + o + p) <0.20 ≦ p / (m + n + o + p) <0.1 and 0 .8 ≦ (m + n) / (m + n + o + p) ≦
0.9 0.1 ≦ (o + p) / (m + n + o + p) ≦ 0.2
【請求項6】 ポリアリレート構造を有する樹脂の、粘
度平均分子量が15,000〜100,000である請
求項1〜5のいずれかに記載の電子写真感光体。
6. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the resin having a polyarylate structure has a viscosity average molecular weight of 15,000 to 100,000.
【請求項7】 電荷輸送材料として、カルバゾール誘導
体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベ
ン誘導体、ブタジエン誘導体、及びこれらの誘導体が複
数結合したものからなる群から選ばれる少なくとも一種
を含有する請求項1〜6のいずれかに記載の電子写真感
光体。
7. A charge transporting material containing at least one selected from the group consisting of a carbazole derivative, a hydrazone derivative, an aromatic amine derivative, a stilbene derivative, a butadiene derivative, and a combination of a plurality of these derivatives. 7. The electrophotographic photosensitive member according to any one of items 1 to 6.
【請求項8】 電荷輸送材料が、芳香族アミン誘導体、
スチルベン誘導体及びブタジエン誘導体が複数結合して
なるのもである請求項7に記載の電子写真感光体。
8. The charge-transporting material is an aromatic amine derivative,
The electrophotographic photoreceptor according to claim 7, wherein a plurality of stilbene derivatives and butadiene derivatives are bonded.
【請求項9】 電荷輸送材料が、下記一般式(12)で
表される構造を有するものを含有する請求項7または8
に記載の電子写真感光体。 【化16】 (一般式(8)中、Ar1〜Ar4は各々独立して、置換
基を有してもよいアリーレン基又は置換基を有してもよ
い2価の複素環基を表す。Ar5、Ar6は、m1=0、
2=0の時はそれぞれ、置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有し
てもよい1価の複素環基を表し、m1=1、m2=1の時
はそれぞれ置換基を有してもよいアルキレン基、置換基
を有してもよいアリーレン基又は置換基を有してもよい
2価の複素環基を表す。Qは直接結合または2価の残基
を表す。R1〜R8は各々独立して水素原子、置換基を有
してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有し
てもよい複素環基を表す。n1〜n4は各々独立して0〜
4の整数を表す。また、m1、m2は各々独立して0又は
1を表す。また、Ar1〜Ar6は互いに結合して環状構
造を形成してもよい。)
9. The charge-transporting material contains a material having a structure represented by the following general formula (12).
2. The electrophotographic photoreceptor according to 1. Embedded image (In the general formula (8), Ar 1 to Ar 4 each independently represent an arylene group which may have a substituent or a divalent heterocyclic group which may have a substituent. Ar 5 , Ar 6 is m 1 = 0,
When m 2 = 0, each represents an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a monovalent heterocyclic group which may have a substituent, and m 1 When = 1 and m 2 = 1, it represents an alkylene group which may have a substituent, an arylene group which may have a substituent, or a divalent heterocyclic group which may have a substituent. Q represents a direct bond or a divalent residue. R 1 to R 8 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, and a substituent. Represents an optionally substituted heterocyclic group. n 1 to n 4 are each independently 0 to
Represents an integer of 4. M 1 and m 2 each independently represent 0 or 1. Ar 1 to Ar 6 may be bonded to each other to form a cyclic structure. )
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