JP2003132527A - Manufacturing method of magnetic recording medium, method and machine for machining magnetic recording medium base - Google Patents

Manufacturing method of magnetic recording medium, method and machine for machining magnetic recording medium base

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JP2003132527A
JP2003132527A JP2001325386A JP2001325386A JP2003132527A JP 2003132527 A JP2003132527 A JP 2003132527A JP 2001325386 A JP2001325386 A JP 2001325386A JP 2001325386 A JP2001325386 A JP 2001325386A JP 2003132527 A JP2003132527 A JP 2003132527A
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JP
Japan
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substrate
magnetic recording
recording medium
texture
chuck
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Application number
JP2001325386A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Shimada
隆 島田
Takeshi Murakami
猛 村上
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Fuji Electric Co Ltd
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium at a low cost, which has the recording region only on one surface of a base plate while making an even texture over the whole surface. SOLUTION: The texture working machine 1 is the one used to form a texture only on one surface of the base plate of a magnetic recording medium. It has a grinder unit 4 disposed facing the front surface of the base plate D, a chuck 2 disposed facing the rear surface of the plate D with holes 22 extending axially, a motor M to rotate the chuck 2, and a vacuum pump P connected to the chuck 2. This texture working machine 1 makes a texture only on the front surface of the plate D by grinding it while keeping vacuum at the rear surface of the plate D.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造方法、磁気記録媒体用基板の加工方法、および、磁気
記録媒体用基板の加工装置に関し、特に、コンピュータ
の外部記憶装置を始めとした各種磁気記録装置に適用さ
れる磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用基板の加
工方法、および、磁気記録媒体用基板の加工装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium manufacturing method, a magnetic recording medium substrate processing method, and a magnetic recording medium substrate processing apparatus, and particularly to an external storage device of a computer. The present invention relates to a magnetic recording medium manufacturing method applied to various magnetic recording apparatuses, a magnetic recording medium substrate processing method, and a magnetic recording medium substrate processing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、コンピュータ用の外部記憶装
置等には、アルミニウム(A1)合金や強化型ガラスか
らなるディスク部材を基板とする磁気記録媒体が備えら
れている。このような磁気記録媒体を製造する場合、ま
ず、基板表面に、下地層として例えばニッケル−リン
(Ni−P)めっき膜を成層する。このめっき層の表面
には、クロム(Cr)やコバルト(Co)合金等からな
る磁性層が連続成膜され、更に、磁性層の表面は、カー
ボン系の保護層で被覆される。そして、最表面には、フ
ロロカーボン系の液体潤滑層が形成される。ここで、上
述したNi−Pめっき層の表面には、CSS(Cont
act Start Stop)に対する耐久性を確保
すべく、テクスチャと称される微細な粗さが付与され
る。このようなテクスチャによって、磁気ヘッドと媒体
との間に作用する吸着力や摩擦力が低減されるので、磨
耗、損傷が防止されることになる。
2. Description of the Related Art Conventionally, an external storage device for a computer is provided with a magnetic recording medium having a disk member made of aluminum (A1) alloy or tempered glass as a substrate. When manufacturing such a magnetic recording medium, first, for example, a nickel-phosphorus (Ni-P) plating film is formed as an underlayer on the substrate surface. A magnetic layer made of chromium (Cr), cobalt (Co) alloy, or the like is continuously formed on the surface of the plating layer, and the surface of the magnetic layer is covered with a carbon-based protective layer. Then, a fluorocarbon-based liquid lubricating layer is formed on the outermost surface. Here, CSS (Cont.
In order to secure durability against act Start Stop, fine roughness called a texture is given. Such a texture reduces the attractive force and frictional force acting between the magnetic head and the medium, so that abrasion and damage are prevented.

【0003】基板表面(めっき層の表面)に対するテク
スチャ加工は、所定のテクスチャ加工装置を用いて行わ
れる。まず、従来のテクスチャ加工装置について説明す
ると、この種のテクスチャ加工装置は、基板をクランプ
するチャックを含み、このチャックは、モータによって
回転駆動されるスピンドルの先端に取り付けられてい
る。また、テクスチャ加工装置は、チャックにクランプ
された基板を挟んで対向し合う少なくとも1対の研磨ユ
ニット、および、供給ノズルを有する研磨液供給装置等
を含む。研磨ユニットは、コンタクトローラに巻回され
た研磨テープを送りながら基板に対して接近離間させる
ものである。
Texture processing on the surface of the substrate (surface of the plating layer) is performed using a predetermined texture processing device. First, a conventional texture processing apparatus will be described. This type of texture processing apparatus includes a chuck that clamps a substrate, and the chuck is attached to the tip of a spindle that is rotationally driven by a motor. Further, the texture processing apparatus includes at least one pair of polishing units facing each other with the substrate clamped by the chuck interposed therebetween, and a polishing liquid supply device having a supply nozzle. The polishing unit moves the polishing tape wound around the contact roller and moves the polishing tape closer to and away from the substrate.

【0004】このようなテクスチャ加工装置を用いて、
基板表面にテクスチャ加工を施すに際しては、まず、ス
ピンドルの先端に取り付けられているチャックに、基板
の中心部に設けられている開口部の内周、または、当該
開口部周りの幅1mm程度の領域を保持させる。そし
て、モータを作動させて基板を回転させると共に、基板
の表裏面にコンタクトローラに巻回された研磨テープを
押し付ける。更に、この際、供給ノズルから、クーラン
トとして研磨液を基板と研磨テープとの間に滴下する。
Using such a texture processing device,
When performing texture processing on the substrate surface, first, on the chuck attached to the tip of the spindle, the inner circumference of the opening provided in the center of the substrate or a region around the opening with a width of about 1 mm. To hold. Then, the motor is operated to rotate the substrate, and the polishing tape wound around the contact roller is pressed against the front and back surfaces of the substrate. Further, at this time, a polishing liquid as a coolant is dropped from the supply nozzle between the substrate and the polishing tape.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年では、
磁気記録媒体の高記録密度が進んできており、従来、1
枚の媒体の表裏両面(2ヘッド)を利用しなければ得ら
れなかった記憶容量を、1枚の媒体の片面(1ヘッド)
のみで得られるようになってきている。また、これに伴
い、いわゆるローエンド市場をターゲットとする低コス
トな1ヘッド仕様の外部記憶装置等も出現してきてい
る。更に、近年では、磁気記録装置の用途も多用化して
きており、その一例として、家電用磁気記録装置の開発
が進められているが、この種の記録装置の中にも、片面
にのみ記録領域を有する磁気記録媒体や、開口部を有さ
ない磁気記録媒体を要求するものがある。これらの理由
から、開口部の有無、更には、ドライブ組込み用のボス
の有無等に拘わらず、基板の片面にのみ記録領域を有す
る磁気記録媒体を低コスト(従来比2分の1程度)で提
供することが求められている。
By the way, in recent years,
The high recording density of magnetic recording media has been advanced,
The storage capacity that could not be obtained without using both the front and back sides (2 heads) of one medium is one side (1 head) of one medium.
It is becoming available only by yourself. Along with this, a low-cost one-head external storage device, etc., which is targeted at the so-called low-end market, has also appeared. Further, in recent years, the use of magnetic recording devices has been diversified, and as one example, magnetic recording devices for home appliances are being developed. Even in this type of recording device, the recording area is only on one side. There is a demand for a magnetic recording medium having a magnetic recording medium or a magnetic recording medium having no opening. For these reasons, a magnetic recording medium having a recording area on only one side of a substrate can be manufactured at low cost (about one half of the conventional one) at a low cost regardless of the presence or absence of an opening and the presence or absence of a boss for incorporating a drive. It is required to provide.

【0006】しかしながら、上述したような従来のテク
スチャ加工法を通じて、基板の片面にのみ記録領域を有
する磁気記録媒体を得ようとした場合、次のような問題
が生じてしまう。すなわち、チャックに基板の開口部の
内周を保持させながらテクスチャ加工を行った場合、研
磨ユニットにより基板の被加工面側が押圧されることに
起因して、加工中に基板がチャックから外れてしまうと
いうトラブルが頻発してしまう。一方、チャックに開口
部周りの幅1mm程度の領域を保持させた場合、チャッ
クから基板が外れるというトラブルは回避されるもの
の、研磨ユニットによって押圧される基板の外周側がチ
ャック側に湾曲してしまい、被加工面の内周側から外周
側までの全体に均一なテクスチャ加工を施すことが困難
となってしまう。このようなテクスチャ加工に際しての
トラブルは、片面にのみ記録領域を有する磁気記録媒体
を低コストで提供することへの一つの妨げとなる。
However, in the case where an attempt is made to obtain a magnetic recording medium having a recording area on only one side of the substrate through the conventional texturing method as described above, the following problems occur. That is, when performing texture processing while holding the inner circumference of the opening of the substrate on the chuck, the substrate comes off the chuck during processing due to the polishing unit pressing the surface of the substrate to be processed. That trouble occurs frequently. On the other hand, when the chuck holds a region having a width of about 1 mm around the opening, the problem that the substrate is detached from the chuck is avoided, but the outer peripheral side of the substrate pressed by the polishing unit is curved toward the chuck, It becomes difficult to perform uniform texture processing on the entire surface from the inner peripheral side to the outer peripheral side of the surface to be processed. Such a trouble in texture processing is one obstacle to providing a magnetic recording medium having a recording area on only one side at low cost.

【0007】そこで、本発明は、基板の片面のみに対し
て全体に均一なテクスチャを付与可能であり、片面にの
み記録領域を有する磁気記録媒体を低コストで実現する
ことに寄与する磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体
用基板の加工方法、および、磁気記録媒体用基板の加工
装置の提供を目的とする。
Therefore, the present invention is capable of imparting a uniform texture to only one side of the substrate, which contributes to the realization of a magnetic recording medium having a recording area on only one side at low cost. And a method for processing a substrate for a magnetic recording medium, and an apparatus for processing a substrate for a magnetic recording medium.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
による磁気記録媒体の製造方法は、基板表面に記録領域
を有する磁気記録媒体の製造方法において、基板の裏面
を真空保持しながら、この基板の表面にのみテクスチャ
加工を施す工程を含むものである。
A method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention according to claim 1 is a method of manufacturing a magnetic recording medium having a recording area on a front surface of a substrate, while holding a back surface of the substrate in vacuum. This includes the step of performing texturing only on the surface of this substrate.

【0009】すなわち、この方法は、真空チャック等を
用いて、基板の裏面を真空保持しながら、研磨ユニット
等によって、当該基板の表面にのみテクスチャを付与す
る工程を含む。これにより、加工中、被加工面にテクス
チャを付与する研磨ユニット等から基板に加えられる押
圧力に対して十分に抗することができるように、真空保
持する位置、保持位置の数、面積等を保持対象となる基
板裏面の範囲内で適切かつ任意に選択可能となる。従っ
て、かかる方法によれば、テクスチャ加工の間、常に基
板を反りのない平坦な状態に維持することができる。こ
の結果、この方法を用いれば、基板の片面のみに対して
全体に均一なテクスチャを付与可能となり、片面にのみ
記録領域を有する磁気記録媒体を低コストで実現するこ
とができる。
That is, this method includes a step of applying a texture only to the front surface of the substrate by a polishing unit or the like while holding the back surface of the substrate in vacuum by using a vacuum chuck or the like. Thus, during processing, the vacuum holding position, the number of holding positions, the area, etc. can be set so as to sufficiently resist the pressing force applied to the substrate by the polishing unit or the like that gives a texture to the surface to be processed. It is possible to appropriately and arbitrarily select within the range of the back surface of the substrate to be held. Therefore, according to such a method, it is possible to always maintain the substrate in a flat state without warping during texturing. As a result, by using this method, it is possible to give a uniform texture to only one side of the substrate, and a magnetic recording medium having a recording area on only one side can be realized at low cost.

【0010】また、この方法は、中心部に開口部を有す
る基板は勿論のこと、開口部を有さない基板や、裏面中
心部にドライブ組み込み用のボス部を有する基板に対し
て適用可能である。そして、これらの場合、基板は、ガ
ラス材からなるものであると好ましい。
Further, this method can be applied not only to a substrate having an opening in the center, but also to a substrate having no opening or a substrate having a boss for incorporating a drive in the center of the back surface. is there. And in these cases, it is preferable that the substrate is made of a glass material.

【0011】請求項5に記載の磁気記録媒体用基板の加
工方法は、磁気記録媒体用の基板表面にテクスチャを付
与するための磁気記録媒体用基板の加工方法において、
基板の裏面を真空保持しながら、この基板の表面にのみ
研磨加工を施すことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of processing a magnetic recording medium substrate, wherein the magnetic recording medium substrate is processed to impart a texture to the surface of the magnetic recording medium substrate.
It is characterized in that only the front surface of the substrate is polished while the back surface of the substrate is held in vacuum.

【0012】請求項6に記載の本発明による磁気記録媒
体用基板の加工装置は、磁気記録媒体用の基板表面にテ
クスチャを付与するための磁気記録媒体用基板の加工装
置において、基板の表面側に配置される研磨手段と、基
板の裏面側に配置され、その軸方向に延びる複数の孔部
を有するチャック部と、チャック部を回転させる駆動手
段と、チャック部に接続された真空吸引手段とを備える
ことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a magnetic recording medium substrate processing apparatus which is a magnetic recording medium substrate processing apparatus for imparting a texture to a magnetic recording medium substrate surface. Polishing means arranged on the back surface side of the substrate, a chuck portion having a plurality of holes extending in the axial direction of the substrate, a driving means for rotating the chuck portion, and a vacuum suction means connected to the chuck portion. It is characterized by including.

【0013】この磁気記録媒体用基板の加工装置では、
チャック部と真空吸引手段とが、いわゆる真空チャック
として機能する。すなわち、この加工装置では、チャッ
ク部の端面に基板を当接させた状態で、真空吸引手段に
よって複数の孔部内の圧力を低下させることによって基
板を保持する。これにより、チャック部に配設する孔部
の数、断面積、位置等を対象となる基板に合わせて適切
に設定しておくことにより、加工中、被加工面にテクス
チャを付与する研磨ユニット等から基板に加えられる押
圧力に対して十分に抗することが可能となる。従って、
この加工装置を用いれば、中心部に開口部を有する基板
は勿論のこと、開口部を有さない基板や、裏面中心部に
ドライブ組み込み用のボス部を有する基板であっても、
加工中、常に反りのない平坦な状態に維持することがで
きる。この結果、この加工装置を用いれば、基板の片面
のみに対して全体に均一なテクスチャを付与可能とな
り、ひいては、片面にのみ記録領域を有する磁気記録媒
体を低コストで実現可能となる。
In this magnetic recording medium substrate processing apparatus,
The chuck section and the vacuum suction means function as a so-called vacuum chuck. That is, in this processing apparatus, the substrate is held by lowering the pressure inside the plurality of holes by the vacuum suction means while the substrate is in contact with the end surface of the chuck portion. With this, by appropriately setting the number, cross-sectional area, positions, etc. of the holes to be arranged in the chuck portion according to the target substrate, a polishing unit or the like that gives a texture to the surface to be processed during processing. It is possible to sufficiently resist the pressing force applied from the to the substrate. Therefore,
By using this processing apparatus, not only a substrate having an opening in the center, but also a substrate having no opening or a substrate having a boss for incorporating a drive in the center of the back surface,
During processing, it can always be kept flat without warpage. As a result, by using this processing apparatus, it is possible to give a uniform texture to only one surface of the substrate, and thus it is possible to realize a magnetic recording medium having a recording area on only one surface at low cost.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明による磁
気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用基板の加工方
法、および、磁気記録媒体用基板の加工装置の好適な実
施形態について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of a method for manufacturing a magnetic recording medium, a method for processing a substrate for a magnetic recording medium, and an apparatus for processing a substrate for a magnetic recording medium according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. .

【0015】図1は、本発明による磁気記録媒体用基板
の加工装置を示す概略構成図である。同図に示すテクス
チャ加工装置1は、磁気記録媒体用の基板Dに対し、C
SSに対する耐久性を確保すべく、テクスチャを付与す
るために用いられるものである。このため、テクスチャ
加工装置1は、基板Dを保持するチャック部2を備えて
いる。このチャック部2は、モータMによって回転駆動
されるスピンドル3の先端に固定される。また、テクス
チャ加工装置1は、研磨ユニット4と、供給ノズル5を
含む研磨液供給装置(全体は図示省略)とを有する。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a magnetic recording medium substrate processing apparatus according to the present invention. The texture processing apparatus 1 shown in FIG.
It is used for imparting texture in order to secure durability against SS. For this reason, the texture processing apparatus 1 includes the chuck unit 2 that holds the substrate D. The chuck portion 2 is fixed to the tip of a spindle 3 which is rotationally driven by a motor M. Further, the texture processing apparatus 1 has a polishing unit 4 and a polishing liquid supply device including a supply nozzle 5 (all are not shown).

【0016】研磨ユニット4は、コンタクトローラ4
1、研磨テープ42、図示を省略する駆動機構および移
動機構等を有し、チャック部2に保持された基板Dと対
向するように配置される。研磨ユニット4は、コンタク
トローラ41等に巻回された研磨テープ42を駆動機構
によって送りながら、移動機構によって基板Dに対して
接近離間させる。また、研磨液供給装置は、供給ノズル
5の他に、何れも図示を省略する研磨液タンク、供給ポ
ンプ等を含み、研磨ユニット4の研磨テープ42と基板
Dとの間に、ダイヤモンドスラリ等の研磨液Sを滴下す
る。
The polishing unit 4 includes a contact roller 4
1, a polishing tape 42, a drive mechanism, a moving mechanism, etc., which are not shown, and are arranged so as to face the substrate D held by the chuck portion 2. The polishing unit 4 moves the polishing tape 42 wound around the contact roller 41 and the like by a driving mechanism and moves the polishing tape 42 toward and away from the substrate D by a moving mechanism. In addition to the supply nozzle 5, the polishing liquid supply device includes a polishing liquid tank, a supply pump, etc., all of which are not shown in the drawing. Between the polishing tape 42 of the polishing unit 4 and the substrate D, a diamond slurry, etc. The polishing liquid S is dropped.

【0017】なお、図1では、1体の研磨ユニット4の
みを示しているが、テクスチャ加工装置1には、2体の
研磨ユニット4が備えられる。そして、一方の研磨ユニ
ット4には、粗研削用の研磨テープ42が装着され、他
方の研磨ユニット4には、仕上げ研削用の研磨テープ4
2が装着される。これにより、テクスチャ加工装置1で
は、研磨加工が2段階に分けて行われることになる。す
なわち、最初の工程では、一方の研磨ユニット4を用い
て基板Dの中心線平均粗さが数十Å程度になるよう粗研
削加工を行う。そして、次の工程では、他方の研磨ユニ
ット4を用いて前工程で発生した異常な突起等を除去す
る。
Although only one polishing unit 4 is shown in FIG. 1, the texture processing apparatus 1 is provided with two polishing units 4. A polishing tape 42 for rough grinding is attached to one polishing unit 4, and a polishing tape 4 for finish grinding is attached to the other polishing unit 4.
2 is attached. As a result, in the texture processing device 1, the polishing process is performed in two stages. That is, in the first step, one of the polishing units 4 is used to perform rough grinding so that the center line average roughness of the substrate D is about several tens of liters. Then, in the next step, the abnormal projection or the like generated in the previous step is removed by using the other polishing unit 4.

【0018】さて、テクスチャ加工装置1に含まれるチ
ャック部2は、金属等からなる円筒状の部材として構成
され、加工対象となる基板Dの外径よりも多少小さい
(略同一の)直径を有する。また、チャック部2のモー
タMと反対側の端面は、基板Dを保持させるために平坦
に形成されている。図1および図2に示すように、チャ
ック部2の中心部には、穴部21が形成されている。こ
の穴部21の内径は、基板の裏面中心に形成されること
があるドライブ組み込み用のボス部の外径よりも大きく
設定されると好ましい。更に、チャック部2には、図1
に示すように、その軸方向に延びる多数の孔部22が放
射状に形成されている。
The chuck portion 2 included in the texture processing apparatus 1 is formed as a cylindrical member made of metal or the like, and has a diameter slightly smaller (substantially the same) than the outer diameter of the substrate D to be processed. . Further, the end surface of the chuck portion 2 opposite to the motor M is formed flat so as to hold the substrate D. As shown in FIGS. 1 and 2, a hole portion 21 is formed in the central portion of the chuck portion 2. It is preferable that the inner diameter of the hole 21 is set larger than the outer diameter of the boss portion for incorporating the drive which may be formed at the center of the back surface of the substrate. Further, the chuck portion 2 has a structure shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a large number of holes 22 extending in the axial direction are radially formed.

【0019】すなわち、各孔部22は、図2に示すよう
に、所定角度で等分された半径上に所定の間隔を隔てて
複数(4個または2個)配設されている。この実施形態
では、図2に示すように、4個の孔部22の並びの間
に、更に2個の孔部22をチャック部2の外周側に位置
するように形成することにより、チャック部2の外周側
における孔部22の配設密度を内周側よりも高めてい
る。このように構成されたチャック部2には、図2に示
すように、適切な接続部やシール部(いずれも図示省
略)を介して、真空ポンプPが接続される。真空ポンプ
Pは、各孔部22(および穴部21)と連通して、各孔
部22内を真空吸引する(圧力低下させる)。
That is, as shown in FIG. 2, a plurality of holes (22) are arranged at a predetermined interval on a radius equally divided by a predetermined angle. In this embodiment, as shown in FIG. 2, by further forming two holes 22 between the four holes 22 so as to be located on the outer peripheral side of the chuck 2, The arrangement density of the holes 22 on the outer peripheral side of 2 is higher than that on the inner peripheral side. As shown in FIG. 2, the vacuum pump P is connected to the chuck portion 2 configured as described above through an appropriate connecting portion and sealing portion (neither is shown). The vacuum pump P communicates with each hole 22 (and the hole 21), and sucks vacuum (reduces the pressure) inside each hole 22.

【0020】次に、上述したテクスチャ加工装置1によ
って基板表面にテクスチャを付与しながら、片面にのみ
記録領域を有する磁気記録媒体を製造する方法について
説明する。
Next, a method of manufacturing a magnetic recording medium having a recording area on only one side while imparting a texture to the substrate surface by the above-described texture processing apparatus 1 will be described.

【0021】この場合、まず、基板Dの表面に、下地層
として、例えば、膜厚10μm程度のニッケル−リン
(Ni−P)めっき膜を成膜する。ここで、基板Dは、
中心部に開口部Dhを有する基板(図1参照)は勿論の
こと、開口部を有さない基板や、裏面中心部にドライブ
組み込み用のボス部を有する基板であってもよい。そし
て、これらの場合、基板Dは、ガラス材からなるもので
あると好ましい。基板Dの表面にめっき層を形成したな
らば、次に、上述したテクスチャ加工装置1を用いて、
基板Dの表面、すなわち、めっき層の表面に、テクスチ
ャを付与する。このように、めっき層の表面にテクスチ
ャを形成しておくことにより、磁気ヘッドと媒体間に作
用する吸着力や摩擦力が低減されるので、磨耗、損傷が
防止されることになる。
In this case, first, for example, a nickel-phosphorus (Ni-P) plating film having a film thickness of about 10 μm is formed on the surface of the substrate D as a base layer. Here, the substrate D is
The substrate having the opening Dh in the central portion (see FIG. 1) may be a substrate having no opening, or a substrate having a boss portion for incorporating a drive in the central portion of the back surface. In these cases, the substrate D is preferably made of a glass material. Once the plating layer is formed on the surface of the substrate D, next, using the above-described texture processing apparatus 1,
Texture is applied to the surface of the substrate D, that is, the surface of the plating layer. By thus forming the texture on the surface of the plating layer, the attractive force and the frictional force acting between the magnetic head and the medium are reduced, so that abrasion and damage are prevented.

【0022】ここで、上述したテクスチャ加工装置1で
は、チャック部2と真空吸引手段としての真空ポンプP
とが、いわゆる真空チャックとして機能する。すなわ
ち、このチャック部2に基板Dを保持させるに際して
は、チャック部2の端面に基板Dの裏面(めっき層の反
対側、すなわち、記録領域を形成しない側の面)を当接
させた状態で真空ポンプPを作動させる。
Here, in the above-described texture processing apparatus 1, the chuck portion 2 and the vacuum pump P as the vacuum suction means.
Function as a so-called vacuum chuck. That is, when holding the substrate D on the chuck portion 2, the back surface of the substrate D (the surface opposite to the plating layer, that is, the surface on which the recording area is not formed) is brought into contact with the end surface of the chuck portion 2. The vacuum pump P is operated.

【0023】これにより、真空ポンプPによって多数の
孔部22内の圧力が低下させられるので、基板Dはチャ
ック部2に吸引保持される。なお、裏面中心部にドライ
ブ組み込み用のボス部を有する基板を加工する場合、当
該基板は、ボス部が穴部21内に挿入されると共に、ボ
ス部の外側に位置する平坦な裏面部がチャック部2の端
面と当接する状態で、チャック部2に真空保持される。
この状態から、モータMを作動させて基板Dを回転させ
ると共に、基板Dの表面にコンタクトローラ41に巻回
された研磨テープ42を押し付ける。更に、この際、供
給ノズル5から、研磨液Sを基板Dの表面と研磨テープ
42との間に滴下する。
As a result, the pressure in the many holes 22 is reduced by the vacuum pump P, so that the substrate D is sucked and held by the chuck 2. When processing a substrate having a boss for incorporating a drive in the center of the back surface, the boss is inserted into the hole 21 and the flat back surface located outside the boss is chucked. The chuck portion 2 is vacuum-held while being in contact with the end surface of the portion 2.
From this state, the motor M is operated to rotate the substrate D, and the polishing tape 42 wound around the contact roller 41 is pressed against the surface of the substrate D. Further, at this time, the polishing liquid S is dropped from the supply nozzle 5 between the surface of the substrate D and the polishing tape 42.

【0024】このように、本発明によれば、チャック部
2に配設する孔部22の数、各孔部22の断面積、配段
位置等を対象となる基板Dに合わせて適切に設定してお
くことにより、加工中、被加工面(表面)にテクスチャ
を付与する研磨ユニット4から基板Dに加えられる押圧
力に対して十分に抗することが可能となる。従って、テ
クスチャ加工装置1を用いれば、中心部に開口部を有す
る基板Dは勿論のこと、開口部を有さない基板や、裏面
中心部にドライブ組み込み用のボス部を有する基板であ
っても、加工中、常に反りのない平坦な状態に維持する
ことができる。この結果、テクスチャ加工装置1を用い
れば、基板Dの片面(表面)に対して全体に均一なテク
スチャを付与可能となり、テクスチャを付与した基板D
の歩留まりを向上させることができる。
As described above, according to the present invention, the number of holes 22 arranged in the chuck portion 2, the cross-sectional area of each hole 22, the arrangement position, etc. are appropriately set according to the target substrate D. By doing so, it becomes possible to sufficiently resist the pressing force applied to the substrate D from the polishing unit 4 that gives a texture to the surface to be processed during processing. Therefore, if the texture processing apparatus 1 is used, not only the substrate D having an opening in the center, but also a substrate having no opening or a substrate having a boss for incorporating a drive in the center of the back surface is used. During processing, it can always be maintained in a flat state without warpage. As a result, if the texture processing apparatus 1 is used, it is possible to apply a uniform texture to one side (front surface) of the substrate D, and the textured substrate D is applied.
The yield can be improved.

【0025】なお、テクスチャ加工装置1の加工対象と
なる基板Dの直径等が変動する場合には、加工中に研磨
ユニット4から基板に加えられる押圧力に対して十分に
抗することができるように、真空保持する位置、保持位
置の数、孔部の断面積等が保持対象となる基板裏面の範
囲内で適切かつ任意に選択されたチャック部を複数用意
しておけばよい。また、この場合も、研磨ユニット4に
よって押圧される基板Dの外周側がチャック側(モータ
M側)に湾曲することを効果的に防止するために、チャ
ック部2の外周側における孔部22の配設密度を高めて
おくのが好ましい。
When the diameter or the like of the substrate D to be processed by the texture processing apparatus 1 varies, it is possible to sufficiently resist the pressing force applied from the polishing unit 4 to the substrate during processing. In addition, it suffices to prepare a plurality of chuck portions whose positions for vacuum holding, the number of holding positions, the cross-sectional area of the holes, etc. are appropriately and arbitrarily selected within the range of the back surface of the substrate to be held. Also in this case, in order to effectively prevent the outer peripheral side of the substrate D pressed by the polishing unit 4 from bending toward the chuck side (motor M side), the arrangement of the hole portions 22 on the outer peripheral side of the chuck portion 2 is performed. It is preferable to increase the installation density.

【0026】その後、テクスチャが付与された基板D
(めっき層)の表面には、クロム(Cr)やコバルト
(Co)合金等からなる磁性層が連続成膜され、更に、
磁性層の表面が、カーボン系の保護層で被覆される。そ
して、最表面には、フロロカーボン系の液体潤滑層が形
成され、磁気記録媒体が完成する。上述したように、本
発明によれば、テクスチャを付与した基板Dの歩留まり
を向上させることができるので、片面にのみ記録領域を
有する磁気記録媒体を低コストで実現可能となる。
After that, the textured substrate D
A magnetic layer made of chromium (Cr), cobalt (Co) alloy, or the like is continuously formed on the surface of the (plating layer).
The surface of the magnetic layer is covered with a carbon-based protective layer. Then, a fluorocarbon-based liquid lubricating layer is formed on the outermost surface to complete the magnetic recording medium. As described above, according to the present invention, since the yield of the textured substrate D can be improved, the magnetic recording medium having the recording area on only one side can be realized at low cost.

【0027】図3および図4に、本発明による磁気記録
媒体用基板の加工方法によりテクスチャが施された基板
における中心線平均粗さRaの測定結果を示す。
FIG. 3 and FIG. 4 show the results of measuring the center line average roughness Ra of a substrate textured by the method for processing a magnetic recording medium substrate according to the present invention.

【0028】図3は、チャック部2に基板の裏面を真空
保持させながらテクスチャ加工を施した実施例1(図3
におけるEX1)と、従来のチャックに基板の開口部周
りの幅1mm程度の領域を保持させながらテクスチャ加
工を施した比較例(図3におけるR)とを比較する図表
である。実施例1(EX1)では、中心部に開口部を有
する直径2.5インチ(63.5mm)のガラス製基板
をチャック部2に真空保持させながら、基板を300r
pmで回転させた。そして、ポリエステル極細繊維製の
織布からなる研磨テープ42を速度60mm/minで
送りながら、ゴム高度60°の押付け部材を介して押付
力0.85kgf/cm(8.33×10N/
)で基板表面に押し付けた。更に、基板表面と研磨
テープ42との間には、供給ノズル5から、平均粒度
0.2μmのダイアモンドスラリを滴下した。比較例
(R)は、基板の保持法以外、実施例1と同様の条件下
で行われた。加工後の中心線平均粗さRaの測定は、A
FM(Atomic ForceMicroscop
e)によって行われた。
FIG. 3 shows an embodiment 1 in which the chuck 2 is textured while the back surface of the substrate is held in vacuum (FIG. 3).
FIG. 4 is a table comparing EX1) in FIG. 3 with a comparative example (R in FIG. 3) in which a conventional chuck is textured while holding a region around the opening of the substrate having a width of about 1 mm. In Example 1 (EX1), a glass substrate having a diameter of 2.5 inches (63.5 mm) having an opening at the center was held by the chuck portion 2 in vacuum, and the substrate was moved to 300 r.
It was rotated at pm. Then, while the polishing tape 42 made of a woven fabric made of polyester ultrafine fiber is fed at a speed of 60 mm / min, a pressing force of 0.85 kgf / cm 2 (8.33 × 10 4 N /
m 2 ) and pressed against the surface of the substrate. Furthermore, a diamond slurry having an average particle size of 0.2 μm was dropped from the supply nozzle 5 between the substrate surface and the polishing tape 42. Comparative Example (R) was carried out under the same conditions as in Example 1 except for the method of holding the substrate. The centerline average roughness Ra after processing is measured by A
FM (Atomic Force Microscop)
e).

【0029】図3に示す結果からわかるように、従来の
手法により基板をチャックした場合、研磨ユニットによ
って押圧されて基板の外周側がチャック側に湾曲してし
まうことから、中心線平均粗さRaが中心から外周側に
向かうにつれて漸減し、全体として均一な中心線平均粗
さRaが得られてはいない。これに対して、本発明のよ
うに、基板をチャック部2に真空保持させた場合(実施
例1)、中心線平均粗さRaは中心側から外周までほぼ
一定となり、全体に均一なテクスチャを得られているこ
とがわかる。
As can be seen from the results shown in FIG. 3, when the substrate is chucked by the conventional method, the polishing unit presses the substrate so that the outer peripheral side of the substrate is curved toward the chuck side. It gradually decreases from the center toward the outer peripheral side, and a uniform center line average roughness Ra is not obtained as a whole. On the other hand, when the substrate is vacuum-held on the chuck portion 2 as in the present invention (Example 1), the center line average roughness Ra is almost constant from the center side to the outer periphery, and a uniform texture is obtained throughout. You can see that it has been obtained.

【0030】図4は、開口部を有さない基板の裏面をチ
ャック部2に真空保持させながらテクスチャ加工を施し
た実施例2(図4におけるEX2)と、中心部にボス部
を有する基板の裏面をチャック部2に真空保持させなが
らテクスチャ加工を施した実施例3(図4におけるEX
3)とを示すものである。
FIG. 4 shows an example 2 (EX2 in FIG. 4) in which the back surface of the substrate having no opening is textured while the chuck part 2 is held in vacuum, and a substrate having a boss part in the center. Example 3 (EX in FIG. 4) in which texture processing was performed while the back surface was held in the chuck portion 2 in vacuum.
3) and.

【0031】実施例2では、開口部を有さない直径1イ
ンチ(25.4mm)のガラス製基板をチャック部2に
真空保持させながら、基板を600rpmで回転させ
た。一方、実施例3では、ボス部をチャック部2の穴部
21に挿入した状態で、直径1インチ(25.4mm)
のボス付ガラス製基板をチャック部2に真空保持させな
がら、基板を600rpmで回転させた。そして、実施
例2および実施例3(EX2,EX3)の双方におい
て、ポリエステル極細繊維製の織布からなる研磨テープ
42を速度60mm/minで送りながら、ゴム高度6
0°の押付け部材を介して押付力0.5kgf/cm
(4.9×10N/m)で基板表面に押し付けた。
更に、基板表面と研磨テープ42との間には、供給ノズ
ル5から、平均粒度0.2μmのダイアモンドスラリを
滴下した。加工後の中心線平均粗さRaの測定は、AF
Mによって行われた。
In Example 2, a glass substrate having a diameter of 1 inch (25.4 mm) having no opening was held in the chuck portion 2 in vacuum, and the substrate was rotated at 600 rpm. On the other hand, in Example 3, with the boss portion inserted in the hole portion 21 of the chuck portion 2, the diameter is 1 inch (25.4 mm).
The substrate was rotated at 600 rpm while the glass substrate with a boss of No. 2 was vacuum-held on the chuck portion 2. Then, in both Example 2 and Example 3 (EX2, EX3), while the polishing tape 42 made of a woven fabric made of polyester ultrafine fiber was fed at a speed of 60 mm / min, the rubber altitude 6
Pressing force is 0.5 kgf / cm 2 via the pressing member of 0 °
It was pressed against the substrate surface with (4.9 × 10 4 N / m 2 ).
Furthermore, a diamond slurry having an average particle size of 0.2 μm was dropped from the supply nozzle 5 between the substrate surface and the polishing tape 42. AF of the centerline average roughness Ra after processing is measured by AF.
Made by M.

【0032】図4に示すように、基板をチャック部2に
真空保持させることにより、実施例2および実施例3の
双方、すなわち、開口部を有さない基板およびボス部を
有する基板の双方において、中心線平均粗さRaは中心
側から外周までほぼ一定となり、全体に均一なテクスチ
ャを得られていることがわかる。なお、回転する基板の
内周側では、周速が若干低下するため、図4に示すよう
に、外周側と比較して若干粗さが増加する傾向にある
が、これは実用上許容範囲内にある。
As shown in FIG. 4, by holding the substrate on the chuck portion 2 in vacuum, both the second embodiment and the third embodiment, that is, both the substrate having no opening and the substrate having the boss portion. It can be seen that the centerline average roughness Ra is almost constant from the center side to the outer periphery, and a uniform texture is obtained as a whole. Since the peripheral speed of the rotating substrate is slightly reduced on the inner peripheral side, the roughness tends to be slightly increased as compared with the outer peripheral side as shown in FIG. 4, but this is practically within an allowable range. It is in.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明では、磁気記録媒体用の基板の裏
面を真空保持しながら、この基板の表面にのみテクスチ
ャ加工、すなわち、研磨加工を施しており、これによ
り、基板の片面のみに対して全体に均一なテクスチャを
付与可能となり、片面にのみ記録領域を有する磁気記録
媒体を低コストで提供することが可能となる。
According to the present invention, while the back surface of the substrate for the magnetic recording medium is held in vacuum, only the front surface of this substrate is textured, that is, polished, so that only one surface of the substrate is processed. As a result, a uniform texture can be applied to the entire surface, and a magnetic recording medium having a recording area on one side can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による磁気記録媒体用基板の加工装置の
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for processing a magnetic recording medium substrate according to the present invention.

【図2】図1におけるII−II線についての断面図で
ある。
2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.

【図3】本発明による磁気記録媒体用基板の加工方法に
よりテクスチャが施された基板における中心線平均粗さ
の測定結果を示す図表である。
FIG. 3 is a chart showing the measurement results of the center line average roughness in a substrate textured by the method for processing a magnetic recording medium substrate according to the present invention.

【図4】本発明による磁気記録媒体用基板の加工方法に
よりテクスチャが施された基板における中心線平均粗さ
の測定結果を示す図表である。
FIG. 4 is a chart showing the measurement results of the center line average roughness in a substrate textured by the method for processing a magnetic recording medium substrate according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 テクスチャ加工装置 2 チャック部 3 スピンドル 4 研磨ユニット 5 供給ノズル 21 穴部 22 孔部 41 コンタクトローラ 42 研磨テープ D 基板 Dh 開口部 M モータ P 真空ポンプ S 研磨液 1 Texture processing device 2 Chuck part 3 spindles 4 polishing unit 5 supply nozzles 21 hole 22 holes 41 Contact roller 42 polishing tape D board Dh opening M motor P vacuum pump S polishing liquid

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 猛 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5D112 GA09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Takeshi Murakami             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. F-term (reference) 5D112 GA09

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板表面に記録領域を有する磁気記録媒
体の製造方法において、 前記基板の裏面を真空保持しながら、この基板の表面に
のみテクスチャ加工を施す工程を含む磁気記録媒体の製
造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic recording medium having a recording area on the front surface of a substrate, comprising the step of performing texture processing only on the front surface of the substrate while holding the back surface of the substrate in vacuum.
【請求項2】 前記基板として、開口部を有さないもの
を用いることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒
体の製造方法。
2. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a substrate having no opening is used as the substrate.
【請求項3】 前記基板として、裏面中心部にドライブ
組み込み用のボス部を有するものを用いることを特徴と
する請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a substrate having a boss portion for incorporating a drive in a central portion of a back surface is used as the substrate.
【請求項4】 前記基板として、ガラス材からなるもの
を用いることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に
記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a glass material is used as the substrate.
【請求項5】 磁気記録媒体用の基板表面にテクスチャ
を付与するための磁気記録媒体用基板の加工方法におい
て、 前記基板の裏面を真空保持しながら、この基板の表面に
のみ研磨加工を施すことを特徴とする磁気記録媒体用基
板の加工方法。
5. A method for processing a magnetic recording medium substrate for imparting a texture to the surface of a magnetic recording medium substrate, wherein only the front surface of this substrate is polished while the back surface of the substrate is held in vacuum. A method for processing a substrate for a magnetic recording medium, characterized in that.
【請求項6】 磁気記録媒体用の基板表面にテクスチャ
を付与するための磁気記録媒体用基板の加工装置におい
て、 前記基板の表面側に配置される研磨手段と、 前記基板の裏面側に配置され、その軸方向に延びる複数
の孔部を有するチャック部と、 前記チャック部を回転させる駆動手段と、 前記チャック部に接続された真空吸引手段とを備えるこ
とを特徴とする磁気記録媒体用基板の加工装置。
6. A magnetic recording medium substrate processing apparatus for imparting a texture to a magnetic recording medium substrate surface, comprising: a polishing means arranged on the front surface side of the substrate; and a rear surface side of the substrate. A chuck unit having a plurality of holes extending in the axial direction thereof; a driving unit for rotating the chuck unit; and a vacuum suction unit connected to the chuck unit. Processing equipment.
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