JP2003132515A - Magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording/reproducing apparatus - Google Patents

Magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording/reproducing apparatus

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JP2003132515A
JP2003132515A JP2001323165A JP2001323165A JP2003132515A JP 2003132515 A JP2003132515 A JP 2003132515A JP 2001323165 A JP2001323165 A JP 2001323165A JP 2001323165 A JP2001323165 A JP 2001323165A JP 2003132515 A JP2003132515 A JP 2003132515A
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JP
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magnetic
layer
alloy
recording medium
magnetic recording
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JP2001323165A
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Japanese (ja)
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Hiroshi Osawa
弘 大澤
Kenzo Hanawa
健三 塙
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Resonac Holdings Corp
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Showa Denko KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium in which the thermal instability is improved and the decrease in the output is prevented, in which the magnetic coupling between magnetic layers provided on up and down sides of a nonmagnetic coupling layer is stronger, and which has a higher coercive force and a lower noise. SOLUTION: In the magnetic recording medium consisting of at least a nonmagnetic substrate, a nonmagnetic under layer, the magnetic layers, and a protective film, it is solved by the magnetic recording medium having at least one nonmagnetic coupling layer on the nonmagnetic under layer and having the structure in which the magnetic layers are provided on up and down sides of the nonmagnetic coupling layer, in which the first magnetic layer from the side of the nonmagnetic substrate is one selected from a CoRu based alloy, a CoRe based alloy, a CoIr based alloy, and a CoOs based alloy.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置などに用いられる磁気記録媒体、磁気記録媒体の製造
方法および磁気記録再生装置に関するものであり、特
に、記録再生特性に優れたものに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium used in a hard disk device and the like, a method for manufacturing the magnetic recording medium and a magnetic recording / reproducing apparatus, and more particularly to a magnetic recording medium having excellent recording / reproducing characteristics. .

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録再生装置の1種であるハードデ
ィスク装置(HDD)は、現在その記録密度が年率60
%で増えており今後もその傾向は続くと言われている。
高記録密度に適した磁気記録用ヘッドの開発、磁気記録
媒体の開発が進められている。そこに用いられる磁気記
録媒体は、高記録密度化が要求されておりこれに伴い保
磁力の向上、媒体ノイズの低減が求められている。
2. Description of the Related Art A hard disk drive (HDD), which is one type of magnetic recording / reproducing apparatus, currently has an annual recording density of 60.
%, And that trend is said to continue.
A magnetic recording head suitable for high recording density and a magnetic recording medium are being developed. The magnetic recording medium used therein is required to have a high recording density, and accordingly, improvement of coercive force and reduction of medium noise are required.

【0003】ハードディスク装置に用いられる磁気記録
媒としては、磁気記録媒体用の基板にスパッタ法により
金属膜を積層した構造が主流となっている。磁気記録媒
体に用いられる基板としては、アルミニウム基板とガラ
ス基板が広く用いられている。アルミニウム基板とは鏡
面研磨したAl−Mg合金の基体上にNiP膜を無電解
メッキで10μm程度の厚さに形成し、その表面を更に
鏡面仕上げしたものである。ガラス基板にはアモルファ
スガラスと結晶化ガラスの2種類がある。どちらのガラ
ス基板も鏡面仕上げしたものが用いられる。
As a magnetic recording medium used in a hard disk device, a structure in which a metal film is laminated on a substrate for a magnetic recording medium by a sputtering method is mainly used. Aluminum substrates and glass substrates are widely used as substrates for magnetic recording media. The aluminum substrate is a mirror-polished Al—Mg alloy substrate on which a NiP film is formed by electroless plating to a thickness of about 10 μm and the surface of which is further mirror-finished. There are two types of glass substrates, amorphous glass and crystallized glass. Both glass substrates are mirror-finished.

【0004】現在一般的に用いられているハードディス
ク装置用磁気記録媒体においては、非磁性基板上に非磁
性下地層(NiAl、Cr、Cr合金等)、非磁性中間
層(CoCr、CoCrTa合金等)、磁性層(CoC
rPtTa、CoCrPtB合金等)、保護膜(カーボ
ン等)が順次成膜されており、その上に液体潤滑剤から
なる潤滑膜が形成されている。
In a magnetic recording medium for a hard disk device which is generally used at present, a nonmagnetic underlayer (NiAl, Cr, Cr alloy, etc.) and a nonmagnetic intermediate layer (CoCr, CoCrTa alloy, etc.) are formed on a nonmagnetic substrate. , Magnetic layer (CoC
rPtTa, CoCrPtB alloy, etc.) and a protective film (carbon, etc.) are sequentially formed, and a lubricating film made of a liquid lubricant is formed thereon.

【0005】記録密度を向上させるためには、高周波で
記録した際のSNR(Signalto Noise R
atio)を向上させる必要性がある。Kenneth
E.J.,“Magnetic materials
and structures for thin−f
ilm recording media”、JOUR
NAL OF APPLIED PHYSICS Vo
l87、No9、5365(2000)では、SNRを
向上させるためには、記録層の結晶粒子の直径を小さ
く、かつ均一にする必要があると論ぜられている。
In order to improve recording density, SNR (Signal to Noise R) when recording at high frequency is performed.
There is a need to improve the audio. Kenneth
E. J. , "Magnetic materials"
and structures for thin-f
ilm recording media ”, JOUR
NAL OF APPLIED PHYSICS Vo
187, No. 9, 5365 (2000), it is argued that in order to improve the SNR, it is necessary to make the diameter of the crystal grains of the recording layer small and uniform.

【0006】一方、記録層の結晶粒子の直径を小さくす
ることは体積を小さくすることを伴うので、熱的に磁化
状態が不安定になることが、Sharat Batra
et al.,“Temperature Depe
ndence of Thermal Stabili
ty in Longitudinal Medi
a”,IEEE Trans.Magn.Vol35,
No5,2736(1999)で報告されている。磁気
記録媒体のSNRを向上させるためには、記録層の結晶
粒子の直径を小さくする必要性があるが、これは結晶粒
子の体積を小さくさせ、磁化の熱的な不安定さをもたら
す。
On the other hand, reducing the diameter of the crystal grains in the recording layer is accompanied by reducing the volume, so that the magnetization state becomes thermally unstable.
et al. , "Temperature Depe
Ndence of Thermal Stabili
ty in Longitudinal Medi
a ", IEEE Trans. Magn. Vol 35,
No. 5,2736 (1999). In order to improve the SNR of the magnetic recording medium, it is necessary to reduce the diameter of the crystal grains in the recording layer, but this reduces the volume of the crystal grains and causes thermal instability of magnetization.

【0007】特開2001−56921号公報では、記
録層に反強磁性結合を用いることにより、この問題の解
決策の一つを提案している。ルテニウムなどの非磁性結
合層の上下に記録層として磁性層を成膜することによ
り、上下の磁性層の磁化が反転した状態となることを利
用している。磁化方向が上下で逆になることにより、磁
気的に記録再生に関与している部分は記録層全体の厚さ
よりも実質的には薄くなる。このためSNRの向上を図
ることができる。一方、記録層全体の結晶粒子の体積は
大きくなるために、磁化の熱的な不安定さの改善を図る
ことができる。この技術を用いた媒体は、AFC媒体
(AntiFerromagnetically−Co
upled Media)または、SFM(Synth
etic Ferrimagnetic Media)
と一般的に呼ばれている。本明細書中ではAFC媒体と
表現するものとする。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-56921 proposes one solution to this problem by using antiferromagnetic coupling in the recording layer. By utilizing the fact that the magnetizations of the upper and lower magnetic layers are reversed by forming the magnetic layers as recording layers above and below the non-magnetic coupling layer such as ruthenium. Since the magnetization directions are reversed in the vertical direction, the portion magnetically involved in the recording / reproducing becomes substantially thinner than the thickness of the entire recording layer. Therefore, the SNR can be improved. On the other hand, since the volume of crystal grains in the entire recording layer is large, it is possible to improve thermal instability of magnetization. A medium using this technique is an AFC medium (Anti-ferromagnetically-Co).
upmedia) or SFM (Synth)
(etic Ferrimagnetic Media)
Is commonly called. In this specification, the term "AFC medium" is used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来のAFC媒体の構
造図を図5、6に示す。図5のAFC媒体は、ひとつの
非磁性結合層を、2つの磁性膜で挟んだ構造である。図
6のAFC媒体は、図5の磁性層の上に、さらに、もう
ひとつの非磁性結合層と磁性層を積層させた構造であ
る。各図における層は、501:非磁性基板、502:
非磁性下地層、503:非磁性中間層、504:第1磁
性層、505:非磁性結合層、506:第2磁性層、5
07:保護膜、508:潤滑層、601:非磁性基板、
602:非磁性下地層、603:非磁性中間層、60
4:第1磁性層、605:非磁性結合層、606:第2
磁性層、607:非磁性結合層、608:第3磁性層、
609:保護膜、610:潤滑層である。
The structure of a conventional AFC medium is shown in FIGS. The AFC medium in FIG. 5 has a structure in which one nonmagnetic coupling layer is sandwiched between two magnetic films. The AFC medium of FIG. 6 has a structure in which another non-magnetic coupling layer and a magnetic layer are further laminated on the magnetic layer of FIG. The layers in each figure are 501: non-magnetic substrate, 502:
Non-magnetic underlayer, 503: non-magnetic intermediate layer, 504: first magnetic layer, 505: non-magnetic coupling layer, 506: second magnetic layer, 5
07: protective film, 508: lubricating layer, 601: non-magnetic substrate,
602: non-magnetic underlayer, 603: non-magnetic intermediate layer, 60
4: first magnetic layer, 605: non-magnetic coupling layer, 606: second
Magnetic layer, 607: non-magnetic coupling layer, 608: third magnetic layer,
609: a protective film and 610: a lubricating layer.

【0009】第1磁性層の磁化をM1、結晶粒子の体積
をV1、第2磁性層の磁化をM2、結晶粒子の体積をV
2とすると、磁性層全体としての体積は(V1+V2)
となるとめに、増加し熱的な安定性を向上させる。しか
し、磁性層全体としての磁化は(M2―M1)となると
ために全体の磁化は低下し、記録層としての出力が低下
してしまう。
The magnetization of the first magnetic layer is M1, the volume of the crystal grains is V1, the magnetization of the second magnetic layer is M2, the volume of the crystal grains is V1.
2, the total volume of the magnetic layer is (V1 + V2)
And increase the thermal stability. However, since the magnetization of the magnetic layer as a whole becomes (M2-M1), the magnetization of the magnetic layer as a whole is lowered and the output of the recording layer is lowered.

【0010】Akira Kakeihi、“Prom
ising SFM(Synthetic Ferri
magnetic Media) Technolog
y”,technical conference,S
ession 2a,DISKCON USA2001
で報告されているように、図5に示すAFC媒体におい
て、第1磁性層の膜厚を5nmとすると、磁性層の熱的
な不安定さを示す熱減磁(Signal Decay)
は−0.1(dB/decade)から−0.025
(dB/decade)に改善されるが、磁性層の磁化
は0.37(memu/cm2)から0.30(mem
u/cm2)に減少してしまう。熱減磁とは出力の時間
経過に伴う減少を示す値であり、この値の絶対値が小さ
いほど熱的に安定といえる。具体的には出力(dB)を
縦軸にとり、時間を常用対数として横軸にとったときの
傾きが熱減磁(dB/decade)となる。このよう
に従来のAFC媒体の手法によって、熱的な不安定さを
改善しようとすると出力の低下を招くという問題があ
る。
Akira Kakeihi, "Prom
ising SFM (Synthetic Ferri)
magnetic Media) Technology
y ", technical conference, S
session 2a, DISKCON USA 2001
As reported in, in the AFC medium shown in FIG. 5, when the thickness of the first magnetic layer is set to 5 nm, thermal demagnetization (Signal Decay) indicating thermal instability of the magnetic layer is exhibited.
Is -0.1 (dB / decade) to -0.025
(DB / decade), but the magnetization of the magnetic layer is 0.37 (memu / cm 2 ) to 0.30 (mem)
u / cm 2 ). The thermal demagnetization is a value indicating a decrease in the output over time, and it can be said that the smaller the absolute value of this value, the more thermally stable. Specifically, when the output (dB) is plotted on the ordinate and the time is plotted on the abscissa with the common logarithm, the slope is the thermal demagnetization (dB / decade). As described above, the conventional AFC medium method has a problem that an attempt to improve thermal instability causes a decrease in output.

【0011】逆に、従来のAFC媒体において、熱的な
不安定さを改善しようとすると第1磁性層の膜厚を厚く
する必要性がある。第1磁性層の膜厚を厚くすると非磁
性結合層の上下に設けられた磁性層同士の磁気的な結合
が弱くなってしまうという問題がある。
On the contrary, in the conventional AFC medium, in order to improve thermal instability, it is necessary to increase the thickness of the first magnetic layer. If the thickness of the first magnetic layer is increased, there is a problem that the magnetic coupling between the magnetic layers provided above and below the non-magnetic coupling layer becomes weak.

【0012】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、熱的な不安定さを改善しかつ出力の低下を抑えて、
非磁性結合層の上下に設けられた磁性層同士の磁気的な
結合がより強い、より高保磁力を有してより低ノイズで
ある磁気記録媒体、およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and improves thermal instability and suppresses a decrease in output,
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having stronger magnetic coupling between magnetic layers provided above and below a non-magnetic coupling layer, having higher coercive force and lower noise, and a manufacturing method thereof. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は上記問題を解決
するために、第1磁性層にCoRu系合金,CoRe系
合金,CoIr系合金、CoOs系合金を用いることに
より、薄い膜厚でもより高い保磁力と高い角型比を発現
でき、再生信号出力の低下を起こさずに熱的安定性を向
上できるAFC媒体を得ることができることを見出し本
発明を完成した。 (1)上記課題を解決する第1の発明は、少なくとも非
磁性基板、非磁性下地層、磁性層及び保護膜からなる磁
気記録媒において、非磁性下地層の上に少なくとも1つ
の非磁性結合層を有し磁性層が該非磁性結合層の上下に
設けられた構造を有して、非磁性基板側から第1番目の
磁性層がCoRu系合金、CoRe系合金、CoIr系
合金、CoOs系合金から選ばれるいずれか1種である
ことを特徴とする磁気記録媒体である。 (2)上記課題を解決する第2の発明は、第1番目の磁
性層の合金の有する格子定数がa=0.25nm〜0.
26nm、c=0.407nm〜0.422nmである
ことを特徴とする(1)に記載の磁気記録媒体である。 (3)上記課題を解決する第3の発明は、第1番目の磁
性層の合金が、hcp構造からfcc構造に転移する温
度が600℃以上であることを特徴とする(1)または
(2)に記載の磁気記録媒体である。 (4)上記課題を解決する第4の発明は、第1番目の磁
性層の合金がCoRu系合金の場合は、Ruの含有量が
5〜30at%、CoRe系合金の場合はReの含有量
が5〜30at%、CoIr系合金の場合はIrの含有
量が8〜30at%、CoOs系合金の場合はOsの含
有量が5〜30at%であることを特徴とする(1)乃
至(3)の何れか1項に記載の磁気記録媒体である。 (5)上記課題を解決する第5の発明は、第1番目の磁
性層の膜厚が0.5〜3nmであることを特徴とする
(1)乃至(4)のいずれか1項に記載の磁気記録媒体
である。 (6)上記課題を解決する第6の発明は、非磁性結合層
が、Ru、Rh、Ir、Cr、Re、Ru系合金、Rh
系合金、Ir系合金、Cr系合金、Re系合金から選ば
れるいずれか1種であって、その膜厚が0.5〜1.5
nmであることを特徴とする(1)乃至(5)のいずれ
か1項に記載の磁気記録媒体である。 (7)上記課題を解決する第7の発明は、磁気特性が非
磁性基板に対して円周方向の異方性を有していて、非磁
性下地層が、Cr、またはCrとTi、Mo、Al、T
a、W、Ni、B、SiおよびVから選ばれる1種もし
くは2種類以上とからなるCr合金のいずれかからなる
層を含む多層構造であることを特徴とする(1)乃至
(6)のいずれか1項に記載の磁気記録媒体である。 (8)上記課題を解決する第8の発明は、磁気特性が非
磁性基板に対して面内に等方性を有していて、非磁性下
地層が、NiAl系合金、RuAl系合金、またはCr
とTi、Mo、Al、Ta、W、Ni、B、Siおよび
Vから選ばれる1種もしくは2種類以上とからなるCr
合金のいずれかからなる層を含む多層構造であることを
特徴とする(1)乃至(6)のいずれか1項に記載の磁
気記録媒体である。 (9)上記課題を解決する第9の発明は、非磁性基板は
ガラス基板、シリコン基板から選ばれるいずれか1種で
あることを特徴とする(1)乃至(8)のいずれか1項
に記載の磁気記録媒体である。 (10)上記課題を解決する第10の発明は、非磁性基
板はAl基板、ガラス基板、シリコン基板から選ばれる
何れか1種の表面にNiPをメッキしたものであること
を特徴とする(1)乃至(8)のいずれか1項に記載の
磁気記録媒体である。 (11)上記課題を解決する第11の発明は、第2番目
の磁性層または第3番目の磁性層がCoCrPt系合
金、CoCrPtTa系合金、CoCrPtB系合金、
CoCrPtBY系合金(YはTa、Cuから選ばれる
いずれか1種以上である。)から選ばれるいずれか1種
であることを特徴とする(1)乃至(10)のいずれか
1項に記載の磁気記録媒体である。 (12)上記課題を解決する第12の発明は、非磁性基
板上に、非磁性下地層を形成する工程と、磁性層を形成
する工程と、保護膜を形成する工程を含む磁気記録媒体
の製造方法において、非磁性下地層の上に少なくとも1
つの非磁性結合層を形成する工程を有し、その工程の前
にCoRu系合金、CoRe系合金、CoIr系合金、
CoOs系合金から選ばれるいずれか1種からなる第1
番目の磁性層を形成する工程と、非磁性結合層を形成し
た後に第2番目の磁性層を形成する工程を含むことを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 (13)上記課題を解決する第13の発明は、磁気記録
媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッ
ドとを備えた磁気記録再生装置であって、磁気記録媒体
が(1)乃至(11)のいずれか1項に記載の磁気記録
媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置である。
In order to solve the above problems, the present invention uses a CoRu-based alloy, a CoRe-based alloy, a CoIr-based alloy, and a CoOs-based alloy for the first magnetic layer, so that even a thin film thickness can be obtained. The inventors have found that it is possible to obtain an AFC medium capable of exhibiting a high coercive force and a high squareness ratio and improving the thermal stability without causing a reduction in the reproduction signal output, and completed the present invention. (1) A first invention for solving the above-mentioned problems, in a magnetic recording medium comprising at least a non-magnetic substrate, a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective film, at least one non-magnetic coupling layer on the non-magnetic under-layer. Having a structure in which the magnetic layer is provided above and below the non-magnetic coupling layer, and the first magnetic layer from the non-magnetic substrate side is made of CoRu-based alloy, CoRe-based alloy, CoIr-based alloy, CoOs-based alloy. It is a magnetic recording medium characterized in that it is any one selected. (2) In the second invention for solving the above-mentioned problems, the lattice constant of the alloy of the first magnetic layer is a = 0.25 nm to 0.
26 nm, c = 0.407 nm to 0.422 nm is the magnetic recording medium described in (1). (3) The third invention for solving the above-mentioned problems is characterized in that the alloy of the first magnetic layer has a transition temperature from the hcp structure to the fcc structure of 600 ° C. or higher (1) or (2) ) Is a magnetic recording medium. (4) A fourth invention for solving the above-mentioned problem is that, when the alloy of the first magnetic layer is a CoRu-based alloy, the Ru content is 5 to 30 at%, and when the alloy is a CoRe-based alloy, the Re content is Re. Is 5 to 30 at%, the content of Ir is 8 to 30 at% in the case of CoIr-based alloy, and the content of Os is 5 to 30 at% in the case of CoOs-based alloy (1) to (3). (4) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (4). (5) The fifth invention for solving the above-mentioned problems is characterized in that the film thickness of the first magnetic layer is 0.5 to 3 nm, (1) to (4) Magnetic recording medium. (6) In the sixth invention for solving the above-mentioned problems, the nonmagnetic coupling layer is made of Ru, Rh, Ir, Cr, Re, Ru-based alloy, Rh.
It is any one selected from a group alloy, an Ir alloy, a Cr alloy, and a Re alloy, and has a film thickness of 0.5 to 1.5.
The magnetic recording medium according to any one of (1) to (5), which has a thickness of nm. (7) According to a seventh invention for solving the above-mentioned problems, magnetic characteristics have anisotropy in a circumferential direction with respect to a non-magnetic substrate, and the non-magnetic underlayer is made of Cr, or Cr and Ti, Mo. , Al, T
(1) to (6), which has a multilayer structure including a layer made of any one of Cr alloys composed of one or more selected from a, W, Ni, B, Si and V. The magnetic recording medium according to any one of items. (8) An eighth invention for solving the above-mentioned problems, wherein the magnetic property is in-plane isotropic with respect to the non-magnetic substrate, and the non-magnetic underlayer is a NiAl-based alloy, a RuAl-based alloy, or Cr
And Cr consisting of one or more selected from Ti, Mo, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V
The magnetic recording medium according to any one of (1) to (6), which has a multilayer structure including a layer made of any one of alloys. (9) A ninth invention for solving the above-mentioned problems is characterized in that the non-magnetic substrate is any one selected from a glass substrate and a silicon substrate. (1) to (8) It is the magnetic recording medium described. (10) The tenth invention for solving the above-mentioned problems is characterized in that the non-magnetic substrate is one in which a surface of any one selected from an Al substrate, a glass substrate and a silicon substrate is plated with NiP (1 ) To (8) is the magnetic recording medium according to any one of items. (11) According to an eleventh invention for solving the above-mentioned problems, the second magnetic layer or the third magnetic layer is a CoCrPt-based alloy, a CoCrPtTa-based alloy, a CoCrPtB-based alloy,
The CoCrPtBY alloy (Y is at least one selected from Ta and Cu) selected from the group consisting of any one of (1) to (10). It is a magnetic recording medium. (12) A twelfth invention for solving the above-mentioned problems provides a magnetic recording medium including a step of forming a nonmagnetic underlayer on a nonmagnetic substrate, a step of forming a magnetic layer, and a step of forming a protective film. In the manufacturing method, at least 1 is formed on the non-magnetic underlayer.
And a CoRu-based alloy, a CoRe-based alloy, a CoIr-based alloy,
First of any one selected from CoOs alloys
A method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a step of forming a second magnetic layer; and a step of forming a second magnetic layer after forming a nonmagnetic coupling layer. (13) A thirteenth invention for solving the above-mentioned problems is a magnetic recording / reproducing apparatus comprising a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium is (1). A magnetic recording / reproducing apparatus, which is the magnetic recording medium as described in any one of (1) to (11).

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の磁気記録媒体の
一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、
非磁性基板101の上に、非磁性下地層102、第1磁
性層103、非磁性結合層104、第2磁性層105、
保護膜106、潤滑層107を順次積層したのもであ
る。
FIG. 1 shows an embodiment of a magnetic recording medium of the present invention. The magnetic recording medium shown here is
On the non-magnetic substrate 101, the non-magnetic underlayer 102, the first magnetic layer 103, the non-magnetic coupling layer 104, the second magnetic layer 105,
The protective film 106 and the lubricating layer 107 are sequentially laminated.

【0015】図2は、本発明の磁気記録媒体の別の実施
形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、図1の
磁性層の上に、さらに、もうひとつの非磁性結合層と磁
性層を積層させた構造である。非磁性基板101の上
に、非磁性下地層102、第1磁性層103、非磁性結
合層104、第2磁性層105、非磁性結合層104、
第3磁性層202、保護膜106、潤滑層107を順次
積層させたものである。
FIG. 2 shows another embodiment of the magnetic recording medium of the present invention. The magnetic recording medium shown here has a magnetic layer of FIG. 1 and another non-magnetic coupling layer. It has a structure in which magnetic layers are laminated. On the non-magnetic substrate 101, a non-magnetic underlayer 102, a first magnetic layer 103, a non-magnetic coupling layer 104, a second magnetic layer 105, a non-magnetic coupling layer 104,
The third magnetic layer 202, the protective film 106, and the lubricating layer 107 are sequentially laminated.

【0016】本発明における非磁性基板としては、磁気
記録媒体用基板として一般的に用いられているNiPメ
ッキ膜が形成されたAl合金(以下、NiPメッキAl
基板と呼ぶ。)に加え、非磁性基板としては、ガラス、
セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボ
ン、樹脂などの非金属材料からなるもの、及びこれらの
非金属材料の基板の上にNiPまたはNiP合金の膜を
形成したものを挙げることができる。
As the non-magnetic substrate in the present invention, an Al alloy having a NiP plated film, which is generally used as a substrate for a magnetic recording medium, (hereinafter, referred to as NiP plated Al) is used.
Call it the substrate. ), As a non-magnetic substrate, glass,
Examples thereof include those made of non-metal materials such as ceramics, silicon, silicon carbide, carbon, and resins, and those having a film of NiP or NiP alloy formed on a substrate made of these non-metal materials.

【0017】記録密度の上昇に伴い、ヘッドの低フライ
ングハイト化が要求されているために、基板表面の高い
平滑性が必要となる。すなわち、本発明に用いられる非
磁性層基板は、平均表面粗さRaが2nm(20Å)以
下、好ましくは1nm以下であるとことが望ましい。
As the recording density is increased, the head is required to have a lower flying height, so that a high smoothness of the substrate surface is required. That is, the non-magnetic layer substrate used in the present invention has an average surface roughness Ra of 2 nm (20 Å) or less, preferably 1 nm or less.

【0018】非金属材料としては、コスト、耐久性の点
からガラス基板を用いるのが好ましい。表面平滑性の点
からはガラス基板、シリコン基板等を用いることが好ま
しい。
As the non-metal material, it is preferable to use a glass substrate in terms of cost and durability. From the viewpoint of surface smoothness, it is preferable to use a glass substrate, a silicon substrate or the like.

【0019】ガラス基板は結晶化ガラスまたはアモルフ
ァスガラスを用いることができる。アモルファスガラス
としては汎用のソーダライムガラス、アルミノシリケー
トを使用できる。また結晶化ガラスとしては、リチウム
系結晶化ガラスを用いることができる。より多様な使用
環境に適応できる点からは化学的な耐久性に優れた結晶
化ガラスが好ましい。ここで結晶化ガラスの構成成分と
してはSiO2、Li2Oが含まれているものが、実際に
ドライブ装置に組み込んで使用した場合に他の部品との
熱膨張係数の整合性の点、あるいは組み立て時、使用時
の剛性の点から好ましい。
As the glass substrate, crystallized glass or amorphous glass can be used. General-purpose soda lime glass and aluminosilicate can be used as the amorphous glass. As the crystallized glass, lithium-based crystallized glass can be used. From the viewpoint of being adaptable to a wider variety of usage environments, crystallized glass having excellent chemical durability is preferable. Here, the constituents of the crystallized glass containing SiO 2 and Li 2 O are the points of matching the thermal expansion coefficient with other parts when actually used by incorporating them into the drive device, or It is preferable in terms of rigidity during assembly and use.

【0020】セラミックス基板としては、汎用の酸化ア
ルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体やそれ
らの繊維強化物が挙げられる。
Examples of the ceramic substrate include a general-purpose sintered body containing aluminum oxide, silicon nitride or the like as a main component, and fiber reinforced products thereof.

【0021】非磁性基板上には、非磁性下地層が形成さ
れている。磁気特性が非磁性基板に対して円周方向の異
方性を有している場合は、非磁性下地層は、CrとT
i,Mo,Al,Ta,W,Ni,B,SiおよびVか
ら選ばれる1種もしくは2種類以上とからなるCr合金
で構成される層とすることができる。その膜厚は1〜4
0nmとすることが好ましい。磁気特性が非磁性基板に
対して面内に等方性を有している場合には、非磁性下地
層は、NiAl系合金や、RuAl系合金などの常温で
B2構造を有する層、または、CrとTi,Mo,A
l,Ta,W,Ni,B,SiおよびVから選ばれる1
種もしくは2種類以上とからなるCr合金で構成される
層とすることができる。その膜厚は1〜40nmとする
ことが好ましい。いずれの膜厚も1nm未満では結晶成
長が不充分であり。40nmを超える膜厚では結晶粒子
が大きくなりすぎ媒体ノイズを悪化させるおそれがある
からである。
A nonmagnetic underlayer is formed on the nonmagnetic substrate. When the magnetic property has anisotropy in the circumferential direction with respect to the non-magnetic substrate, the non-magnetic underlayer is made of Cr and T.
The layer can be a layer composed of a Cr alloy composed of one or more selected from i, Mo, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V. The film thickness is 1 to 4
It is preferably 0 nm. When the magnetic property is in-plane isotropic with respect to the non-magnetic substrate, the non-magnetic underlayer is a layer having a B2 structure at room temperature, such as a NiAl-based alloy or a RuAl-based alloy, or Cr and Ti, Mo, A
1 selected from 1, Ta, W, Ni, B, Si and V
It is possible to form a layer composed of one kind or two or more kinds of Cr alloys. The film thickness is preferably 1 to 40 nm. If the film thickness is less than 1 nm, crystal growth is insufficient. This is because if the film thickness exceeds 40 nm, the crystal grains may become too large and the medium noise may be deteriorated.

【0022】非磁性下地層は、前述した層を任意に組み
合わせて積層した多層構造であるのが好ましい。その全
体の膜厚は5〜150nmとすることが好ましい。多層
構造とすることにより結晶配向がそろい、電磁変換特性
が良好になるからである。例えば、磁気特性が非磁性基
板に対して円周方向に異方性を有している場合には、非
磁性下地層は、Crからなる層の上にCrとTi,M
o,Al,Ta,W,Ni,B,SiおよびVから選ば
れる1種もしくは2種類以上とからなるCr合金からな
る層を積層することが好ましい。例えば、磁気特性が非
磁性基板に対して面内に等方性を有している場合には、
非磁性下地層は、NiAl系合金や、RuAl系合金な
どの常温でB2構造を有する層の上に、CrとTi,M
o,Al,Ta,W,Ni,B,SiおよびVから選ば
れる1種もしくは2種類以上とからなるCr合金からな
る層を積層することが好ましい。
The non-magnetic underlayer preferably has a multi-layer structure in which the above-mentioned layers are laminated in any combination. The total film thickness is preferably 5 to 150 nm. This is because the multi-layered structure ensures uniform crystal orientation and good electromagnetic conversion characteristics. For example, when the magnetic characteristics have anisotropy in the circumferential direction with respect to the non-magnetic substrate, the non-magnetic underlayer is made of Cr, Ti, and M on the layer made of Cr.
It is preferable to stack a layer made of a Cr alloy composed of one or more selected from o, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V. For example, when the magnetic property is in-plane isotropic with respect to the non-magnetic substrate,
The nonmagnetic underlayer is formed by depositing Cr, Ti, and M on a layer having a B2 structure at room temperature, such as a NiAl alloy or a RuAl alloy.
It is preferable to stack a layer made of a Cr alloy composed of one or more selected from o, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V.

【0023】本発明の磁気記録媒体は、非磁性下地層の
上に少なくとも1つの非磁性結合層を有している。非磁
性結合層はその上側、下側に磁性層を設けた構造を有し
ている。例えば、下側の磁性層は非磁性基板側から第1
番目の磁性層である場合は第1磁性層とし、上側に磁性
層を第2磁性層とする。
The magnetic recording medium of the present invention has at least one nonmagnetic coupling layer on the nonmagnetic underlayer. The non-magnetic coupling layer has a structure in which magnetic layers are provided on the upper side and the lower side. For example, the lower magnetic layer is the first from the non-magnetic substrate side.
In the case of the th magnetic layer, the first magnetic layer is used, and the magnetic layer on the upper side is the second magnetic layer.

【0024】非磁性結合層は、Ru、Rh、Ir、C
r、Re、Ru系合金、Rh系合金、Ir系合金、Cr
系合金、Re系合金から選ばれるいずれかからなる。こ
れらの物質は結合性エネルギー係数(Exchange Energy
Constant)が大きいので、非磁性結合層として用いた
場合、その層の上下に設けられた磁性層の磁化の反転の
度合いを大きくできる。結合性エネルギー係数とは、上
下に設けられた磁性層の交換相互作用の強さを表す値で
あり、その値が大きいほど良い。特にRuは上記物質の
中でも一番、結合性エネルギー係数が大きいので、非磁
性結合層にはRuを使用することが望ましい。
The non-magnetic coupling layer is made of Ru, Rh, Ir, C.
r, Re, Ru-based alloy, Rh-based alloy, Ir-based alloy, Cr
It is made of any one selected from the group alloys and Re alloys. These substances have a binding energy coefficient (Exchange Energy
When used as a non-magnetic coupling layer, it is possible to increase the degree of reversal of the magnetization of the magnetic layers provided above and below that layer. The binding energy coefficient is a value representing the strength of exchange interaction between the magnetic layers provided above and below, and the larger the value, the better. In particular, since Ru has the largest binding energy coefficient among the above substances, it is desirable to use Ru for the nonmagnetic coupling layer.

【0025】非磁性結合層は、その膜厚は0.2〜1.
5nm(より好ましくは0.6〜1.0nmである。)
であることが好ましい。この範囲であるものが十分な反
強磁性結合が得られるからである。Ru系合金として
は、RuCo、RuCr、RuNb、RuTa、RuW
が挙げられる。Rh系合金としては、RhCo、RhC
r、RhTaが挙げられる。Ir系合金としては、Tr
Co、IrCr、IrTaが挙げられる。Cr系合金と
しては、CrCoが挙げられる。Re系合金としては、
ReCo、ReCr、ReTaが挙げられる。
The thickness of the non-magnetic coupling layer is 0.2-1.
5 nm (more preferably 0.6 to 1.0 nm)
Is preferred. This is because those within this range can obtain sufficient antiferromagnetic coupling. Ru-based alloys include RuCo, RuCr, RuNb, RuTa, RuW
Is mentioned. Rh-based alloys include RhCo and RhC
r and RhTa are mentioned. As an Ir-based alloy, Tr
Examples include Co, IrCr, and IrTa. Examples of the Cr-based alloy include CrCo. As Re alloy,
Examples include ReCo, ReCr, and ReTa.

【0026】また、第1磁性層をCoRu系合金、Co
Re系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選ば
れるいずれかとしているので、非磁性中間層を設けるこ
となく、非磁性下地層上に直接第1磁性層を設けること
ができるので好ましい。
The first magnetic layer is made of CoRu alloy, Co
Since it is selected from Re-based alloy, CoIr-based alloy, and CoOs-based alloy, the first magnetic layer can be directly provided on the non-magnetic underlayer without providing the non-magnetic intermediate layer, which is preferable.

【0027】従来の磁気記録媒体においては、磁性層の
下に非磁性中間層を用いて磁性膜のエピタキシャル成長
を促進させている。非磁性下地層には、CrやCr合金
の構造と同様のfcc構造を持った物質や、hcp構造
を有していないがNiAlやRuAlなどようにB2構
造を持った物質が用いられる。しかし非hcp構造の膜
の直上に磁性膜を成膜すると初期成長がうまくいかず成
膜初期の配向性が悪くなってしまう。そのために非磁性
中間層としてCoCrなどのhcp構造を持った物質を
成膜し磁性層が初期成長の時点からうまく配向性をよく
することが図られてきた。
In the conventional magnetic recording medium, a nonmagnetic intermediate layer is used under the magnetic layer to promote the epitaxial growth of the magnetic film. For the non-magnetic underlayer, a substance having an fcc structure similar to that of Cr or a Cr alloy, or a substance having no Bcp structure such as NiAl or RuAl, which does not have an hcp structure, is used. However, when a magnetic film is formed directly on the non-hcp structure film, the initial growth is not successful and the orientation at the initial stage of film formation becomes poor. For this reason, it has been attempted to form a material having an hcp structure such as CoCr as a non-magnetic intermediate layer to improve the orientation of the magnetic layer from the time of initial growth.

【0028】本発明では、CoRu合金、CoRe合
金、CoIr合金、CoOs合金が非hcp構造の直上
でも初期成長の時点から良好な配向性を維持して成膜す
ることができることの知見に基づいてこれらのいずれか
を第1磁性層としている。
In the present invention, based on the finding that CoRu alloys, CoRe alloys, CoIr alloys, and CoOs alloys can be formed on the non-hcp structure while maintaining good orientation from the time of initial growth. Either of them is used as the first magnetic layer.

【0029】従来用いられている、CoCrPtB合
金、CoCrPtTa合金、CoCrPtBCu合金な
どの物質からなる層は、磁性粒子の分離状態を良好にす
るために粒界を形成させるためにCr、Pt、B、Cu
などを添加している。磁性粒子はhcp構造であるが、
Cr、Pt、B、Cuなどの添加による粒界部分は非h
cp構造となるので、磁性粒子のhcp構造の成長が阻
害される。一方、本発明の第1磁性層のCoRu合金、
CoRe合金、CoIr合金、CoOs合金はhcp構
造を有する。含有量が好ましい範囲内ではCoに全率固
容するのでより純粋なhcp構造となり好ましい。した
がって、非hcp構造の直上でも初期成長の時点から良
好な配向性を維持した状態で成長させることができる。
特に第1磁性層がCoRe合金の場合、Reのhcp構
造のa軸とc軸の比は1.61であるので、Coのhc
p構造のa軸とc軸の比1.62に近いので、第2磁性
層がCo合金であることを考慮すると、各磁性層のエピ
タキシャル成長の点から好ましい。
Conventionally used layers made of materials such as CoCrPtB alloy, CoCrPtTa alloy, and CoCrPtBCu alloy are made of Cr, Pt, B, Cu to form grain boundaries in order to improve the separation state of magnetic particles.
Are added. The magnetic particles have an hcp structure,
The grain boundary part due to addition of Cr, Pt, B, Cu, etc. is non-h
Because of the cp structure, the growth of the hcp structure of the magnetic particles is hindered. On the other hand, the CoRu alloy of the first magnetic layer of the present invention,
CoRe alloy, CoIr alloy, and CoOs alloy have an hcp structure. When the content is within the preferable range, Co is completely contained in Co, so that a more pure hcp structure is obtained, which is preferable. Therefore, even on the non-hcp structure, it is possible to grow in a state where good orientation is maintained from the time of initial growth.
In particular, when the first magnetic layer is a CoRe alloy, the ratio of the a-axis to the c-axis of the hcp structure of Re is 1.61.
Since the ratio of the a-axis to the c-axis of the p structure is close to 1.62, considering that the second magnetic layer is a Co alloy, it is preferable from the viewpoint of epitaxial growth of each magnetic layer.

【0030】第1番目の磁性層の合金結晶はhcp構造
を有しており、その格子定数がa=0.250nm〜
0.260nm(より好ましくは0.252〜0.25
7nm。)、c=0.407nm〜0.422nm(よ
り好ましくは0.410〜0.419nm。)であるこ
とが好ましい。Coはhcp構造を有しておりその格子
定数はa=0.251nm、c=0.407nmである
が、非磁性基板側から第2番目の磁性層である第2磁性
層または非磁性基板側から第3番目の磁性層である第3
磁性層に用いられるCo合金には保磁力の増加やSNR
の向上を目的としてPtが添加されるために、それらの
格子定数は広がる。好ましいとされるPtの添加量8〜
16at%においてCo合金の格子定数はa=0.25
5〜0.260nm、c=0.413〜0.422nm
の値になる。第2磁性層または第3磁性層に用いられる
Co合金との格子マッチングは0〜2%程度が良好であ
るとされる。よってPtの添加された第2磁性層のCo
合金とマッチングの状態を良好にするためには、第1磁
性層のCoRu系合金,CoRe系合金,CoIr系合
金、CoOs系合金の格子定数が上記値を取ることが好
ましい。なお、格子マッチングは、(第2磁性層または
第3磁性層に用いられるCo合金の格子定数−第1磁性
層のCo合金の格子定数)÷(第2磁性層または第3磁
性層に用いられるCo合金の格子定数)×100(%)
で計算される。
The alloy crystal of the first magnetic layer has an hcp structure, and its lattice constant is a = 0.250 nm.
0.260 nm (more preferably 0.252 to 0.25
7 nm. ), C = 0.407 nm to 0.422 nm (more preferably 0.410 to 0.419 nm). Co has an hcp structure and its lattice constants are a = 0.251 nm and c = 0.407 nm, but the second magnetic layer which is the second magnetic layer from the nonmagnetic substrate side or the nonmagnetic substrate side. To the third magnetic layer, which is the third
The Co alloy used in the magnetic layer has an increased coercive force and SNR.
Since Pt is added for the purpose of improving Pt, their lattice constants are widened. A preferable addition amount of Pt is 8 to
The lattice constant of Co alloy at 16 at% is a = 0.25.
5 to 0.260 nm, c = 0.413 to 0.422 nm
Becomes the value of. It is considered that the lattice matching with the Co alloy used for the second magnetic layer or the third magnetic layer is about 0 to 2%. Therefore, Co of the second magnetic layer to which Pt is added
In order to obtain a good matching state with the alloy, it is preferable that the lattice constants of the CoRu-based alloy, the CoRe-based alloy, the CoIr-based alloy, and the CoOs-based alloy of the first magnetic layer take the above values. Lattice matching is used (lattice constant of Co alloy used for second magnetic layer or third magnetic layer-lattice constant of Co alloy of first magnetic layer) / (second magnetic layer or third magnetic layer). Lattice constant of Co alloy) x 100 (%)
Calculated by

【0031】第1番目の磁性層の合金が、hcp構造か
らfcc構造に転移する温度が600度以上であること
が好ましい。非磁性基板上に磁性膜を成膜するときは、
通常、非磁性基板が150℃〜300℃に加熱されてい
る。さらに成膜時にスパッタされた原子は10eV程度
のエネルギーを持っているので、非磁性基板上に衝突し
成膜されたときの温度はされにそれ以上と推測される。
Coのhcp構造からfcc構造に転移する温度は42
2℃であるので、非磁性基板が高温に加熱されていると
き、成膜されたCo合金は一部がfcc構造になってし
まう場合がある。fcc構造が増加すれば、Co合金の
エピタキシャル成長が阻害され、出力の低下やSNRの
低下が生じる。fcc構造の割合を抑えるために、hc
p構造からfcc構造に転移する温度が600度以上で
あることが好ましい。Ru、Re、Ir、Osは添加す
ることによりhcp構造からfcc構造に転移する温度
を高めることができるので好ましい。
It is preferable that the alloy of the first magnetic layer has a transition temperature from the hcp structure to the fcc structure of 600 ° C. or higher. When forming a magnetic film on a non-magnetic substrate,
Usually, the nonmagnetic substrate is heated to 150 ° C to 300 ° C. Further, since the atoms sputtered during film formation have an energy of about 10 eV, it is presumed that the temperature at which the film collides with the non-magnetic substrate to form a film is even higher.
The transition temperature from the hcp structure of Co to the fcc structure is 42
Since the temperature is 2 ° C., when the nonmagnetic substrate is heated to a high temperature, a part of the deposited Co alloy may have an fcc structure. If the fcc structure increases, the epitaxial growth of the Co alloy is hindered, and the output and the SNR decrease. In order to suppress the ratio of fcc structure, hc
The transition temperature from the p structure to the fcc structure is preferably 600 degrees or higher. Ru, Re, Ir, and Os are preferable because addition of Ru, Re, Ir, and Os can increase the temperature at which the hcp structure transitions to the fcc structure.

【0032】CoRu系合金において、Ruの含有量は
5〜30at%(より好ましくは15〜25at%であ
る。)であることが好ましい。CoRe系合金におい
て、Reの含有量は5〜30at%(より好ましくは1
5〜25at%である。)であることが好ましい。Co
Ir系合金において、Irの含有量は8〜30at%
(より好ましくは15〜25at%である。)であるこ
とが好ましい。CoOs系合金において、Osの含有量
は5〜30at%(より好ましくは15〜25at%で
ある。)であることが好ましい。
In the CoRu alloy, the Ru content is preferably 5 to 30 at% (more preferably 15 to 25 at%). In the CoRe alloy, the Re content is 5 to 30 at% (more preferably 1
It is 5 to 25 at%. ) Is preferable. Co
In the Ir-based alloy, the Ir content is 8 to 30 at%
(More preferably 15 to 25 at%). In the CoOs-based alloy, the content of Os is preferably 5 to 30 at% (more preferably 15 to 25 at%).

【0033】各成分の含有量が、Ru:5at%未満、
Re:5at%未満、Ir:8at%未満、Os:5a
t%未満では、hcp構造からfcc構造に転移する温
度が600度以下であるので好ましくない。Ru:30
at%以上、Re:30at%以上、Ir:30at%
以上、Os:30at%以上ではCo合金の格子定数が
a=0.26nmを超えてしまうおそれがあり、格子マ
ッチングが取りにくくなってしまう。
The content of each component is Ru: less than 5 at%,
Re: less than 5 at%, Ir: less than 8 at%, Os: 5a
If it is less than t%, the temperature of transition from the hcp structure to the fcc structure is 600 ° C. or less, which is not preferable. Ru: 30
at% or more, Re: 30 at% or more, Ir: 30 at%
As described above, when Os: 30 at% or more, the lattice constant of the Co alloy may exceed a = 0.26 nm, which makes it difficult to achieve lattice matching.

【0034】第1磁性層に用いるCoRu系合金,Co
Re系合金,CoIr系合金、CoOs系合金の膜厚は
いずれの場合も0.5〜3nmであることが好ましい。
0.5nm未満ではエピタキシャル成長が十分ではなく
より高い保磁力を得ることが困難になる。3nmを超え
ると反強磁性結合により、再生信号出力の低下が起きる
おそれがある。
CoRu alloy, Co used for the first magnetic layer
The film thickness of the Re-based alloy, the CoIr-based alloy, and the CoOs-based alloy is preferably 0.5 to 3 nm in any case.
If it is less than 0.5 nm, the epitaxial growth is not sufficient and it becomes difficult to obtain a higher coercive force. If the thickness exceeds 3 nm, the reproduction signal output may be reduced due to antiferromagnetic coupling.

【0035】第2磁性層または第3磁性層には、Coを
主原料としたCo合金であってhcp構造である材料と
することができる。例えば、CoCrTa系合金、Co
CrPt系合金、CoCrPtTa系合金、CoCrP
tBTa系合金、CoCrPtBCu系合金から選ばれ
たいずれか一種を含むものとすることができる。
The second magnetic layer or the third magnetic layer may be made of a Co alloy containing Co as a main material and having a hcp structure. For example, CoCrTa alloy, Co
CrPt-based alloy, CoCrPtTa-based alloy, CoCrP
It may include any one selected from tBTa-based alloys and CoCrPtBCu-based alloys.

【0036】例えば、CoCrPt系合金の場合、Cr
の含有量は10〜25at%、Ptの含有量は8〜16
at%とするのがSNRの点から好ましい。
For example, in the case of CoCrPt type alloy, Cr
Content of Pt is 10-25 at%, Pt content is 8-16
At% is preferable from the viewpoint of SNR.

【0037】例えば、CoCrPtB系合金の場合、C
rの含有量は10〜25at%、Ptの含有量は8〜1
6at%、Bの含有量は1〜20at%とするのがSN
Rの点から好ましい。
For example, in the case of CoCrPtB type alloy, C
The content of r is 10 to 25 at% and the content of Pt is 8 to 1
6 at% and B content of 1 to 20 at% is SN
It is preferable from the viewpoint of R.

【0038】例えば、CoCrPtBTa系合金の場
合、Crの含有量は10〜25at%、Ptの含有量は
8〜16at%、Bの含有量は1〜20at%、Taの
含有量は1〜4at%とするのがSNRの点から好まし
い。
For example, in the case of CoCrPtBTa type alloy, the Cr content is 10 to 25 at%, the Pt content is 8 to 16 at%, the B content is 1 to 20 at%, and the Ta content is 1 to 4 at%. Is preferable from the viewpoint of SNR.

【0039】例えば、CoCrPtBCu系合金の場
合、Crの含有量は10〜25at%、Ptの含有量は
8〜16at%、Bの含有量は2〜20at%、Cuの
含有量は1〜4at%とするのがSNRの点から好まし
い。
For example, in the case of CoCrPtBCu alloy, the Cr content is 10 to 25 at%, the Pt content is 8 to 16 at%, the B content is 2 to 20 at%, and the Cu content is 1 to 4 at%. Is preferable from the viewpoint of SNR.

【0040】磁性層が第1磁性層と第2磁性層のみで構
成される場合は、第2磁性層の膜厚は15nm以上であ
れば熱揺らぎを抑える点から好ましいが、高記録密度へ
の要求から40nm以下であるのが好ましい。40nm
を越えると、好ましい記録再生特性が得られにくいから
である。
When the magnetic layer is composed of only the first magnetic layer and the second magnetic layer, it is preferable that the thickness of the second magnetic layer is 15 nm or more from the viewpoint of suppressing thermal fluctuation. From the requirement, it is preferably 40 nm or less. 40 nm
If it exceeds, it is difficult to obtain preferable recording and reproducing characteristics.

【0041】磁性層が第1磁性層と第2磁性層と第3磁
性層で構成される場合は、第3磁性層の膜厚は15nm
以上であれば熱揺らぎを抑える点から好ましいが、高記
録密度への要求から40nm以下であるのが好ましい。
40nmを越えると、好ましい記録再生特性が得られな
いからである。この場合、第2磁性層の膜厚は2〜10
nmであることが好ましい。2nm未満では磁化が十分
ではなく、10nmを超えると良好な反強磁性結合が得
られにくくなる。
When the magnetic layer is composed of the first magnetic layer, the second magnetic layer and the third magnetic layer, the thickness of the third magnetic layer is 15 nm.
The above values are preferable from the viewpoint of suppressing thermal fluctuations, but are preferably 40 nm or less in view of the demand for high recording density.
This is because if the thickness exceeds 40 nm, preferable recording / reproducing characteristics cannot be obtained. In this case, the film thickness of the second magnetic layer is 2 to 10
It is preferably nm. If it is less than 2 nm, the magnetization is not sufficient, and if it exceeds 10 nm, it becomes difficult to obtain good antiferromagnetic coupling.

【0042】非磁性結合層の上下に設けられた磁性層同
士は、非磁性結合層により、磁気的結合している。この
結合の強さを表す指標として、Hex(Exchang
ecoupling strength)が用いられ
る。本発明の磁気記録媒体は、Hexの値が800Oe
以上となっている。
The magnetic layers provided above and below the non-magnetic coupling layer are magnetically coupled by the non-magnetic coupling layer. As an index showing the strength of this bond, Hex (Exchang
ecoupling strength) is used. The magnetic recording medium of the present invention has a Hex value of 800 Oe.
That is all.

【0043】Hexは保磁力測定おいて、マイナールー
プを測定したときのマイナーループの中心から磁界0ま
での磁界強度として定義される。Hexが大きいほど非
磁性結合層の上下に設けられた磁性層同士の磁気的な結
合は強く安定であるといえる。なお、マイナーループの
測定は、磁界0から測定最大磁界(例えば10000O
e)まで、さらに磁界を反転させ測定最大磁界(例えば
10000Oe)から磁化曲線が第4象現において減少
し始める1000Oe程度手前(例えば−3000O
e)までループを測定し、さらに磁界を反転させその磁
界から(例えば−3000Oe)から測定最大磁界(例
えば10000Oe)まで測定する。このとき、磁化曲
線の第1象現に観察されるヒステリシスカーブがマイナ
ーループである。
Hex is defined as the magnetic field strength from the center of the minor loop to the magnetic field 0 when the minor loop is measured in the coercive force measurement. It can be said that the larger Hex, the stronger and more stable the magnetic coupling between the magnetic layers provided above and below the non-magnetic coupling layer. In addition, the measurement of the minor loop is performed from the magnetic field 0 to the maximum measurement magnetic field (for example, 10000O).
e), the magnetic field is further reversed, and the magnetization curve begins to decrease in the fourth quadrant from the maximum measured magnetic field (eg, 10,000 Oe) to about 1000 Oe (eg, -3000 Oe).
The loop is measured up to e), the magnetic field is further reversed, and from that magnetic field (for example, -3000 Oe) to the maximum measured magnetic field (for example, 10,000 Oe) is measured. At this time, the hysteresis curve observed in the first quadrant of the magnetization curve is a minor loop.

【0044】それぞれの磁性層は、多層構造としても良
く、その材料は上記のなかから選ばれるいずれかを用い
た組み合わせとすることができる。多層構造とした場
合、非磁性結合層の直上は、CoCrPtBTa系合金
またはCoCrPtBCu系合金またはCoCrPtB
系からなるものであるのが、記録再生特性のSNR特性
の改善の点からは好ましい。最上層は、CoCrPtB
Cu系合金またはCoCrPtB系合金からなるもので
あるのが、記録再生特性のSNR特性の改善の点からは
好ましい。
Each magnetic layer may have a multi-layer structure, and the material thereof may be a combination using any one selected from the above. In the case of a multi-layer structure, a CoCrPtBTa-based alloy, CoCrPtBCu-based alloy, or CoCrPtB is formed immediately above the non-magnetic coupling layer.
It is preferable to use a system from the viewpoint of improving the SNR characteristics of the recording / reproducing characteristics. The top layer is CoCrPtB
It is preferable to use a Cu-based alloy or a CoCrPtB-based alloy from the viewpoint of improving the recording / reproducing characteristics and the SNR characteristics.

【0045】磁性層にBを含む場合には、非磁性下地層
と磁性層との境界付近において、B濃度が1at%以上
の領域におけるCr濃度が40at%以下となっている
のが好ましい。CrとBとが高濃度で共存するのを防
ぎ、CrとBとの共有結合性化合物の生成を極力抑え、
その結果それによる磁性層中の配向の低下を防ぐことが
できるからである。
When the magnetic layer contains B, it is preferable that the Cr concentration is 40 at% or less in the region where the B concentration is 1 at% or more near the boundary between the non-magnetic underlayer and the magnetic layer. Prevents Cr and B from coexisting at a high concentration, and suppresses the formation of a covalent bond compound of Cr and B as much as possible.
As a result, it is possible to prevent the deterioration of the orientation in the magnetic layer due to it.

【0046】さらに、基板と非磁性下地層の間に非磁性
下地層のエピタキシャル成長を助長することを目的とし
た、金属材料からなる配向調整膜を設けてもよい。配向
調整膜の膜厚は5〜50nmであるのがエピタキシャル
成長を助長の点から好ましい。さらに、基板と配向調整
膜との密着性を上げるために、非金属基板と配向調整膜
との間に密着層を設けても良い。密着層はCr、Ti、
Wから選ばれたいずれかを用いることができる。密着層
の膜厚は1〜100nm(より好ましくは5〜80nm
である。さらに好ましくは7〜70nmである。)であ
るのが密着性、生産性の点から好ましい。図3に配向調
整膜301、密着層302を設けた例を示す。
Further, an orientation adjusting film made of a metal material may be provided between the substrate and the nonmagnetic underlayer for the purpose of promoting the epitaxial growth of the nonmagnetic underlayer. The thickness of the orientation adjusting film is preferably 5 to 50 nm from the viewpoint of promoting epitaxial growth. Further, an adhesion layer may be provided between the non-metal substrate and the orientation adjustment film in order to improve the adhesion between the substrate and the orientation adjustment film. Adhesion layer is Cr, Ti,
Any one selected from W can be used. The thickness of the adhesive layer is 1 to 100 nm (more preferably 5 to 80 nm).
Is. More preferably, it is 7 to 70 nm. It is preferable from the viewpoints of adhesion and productivity. FIG. 3 shows an example in which the orientation adjustment film 301 and the adhesion layer 302 are provided.

【0047】保護膜は、従来の公知の材料、例えば、カ
ーボン、SiCの単体またはそれらを主成分とした材料
を使用することができる。保護膜の膜厚は1〜10nm
であるのが高記録密度状態で使用した場合のスペーシン
グロスまたは耐久性の点から好ましい。
For the protective film, a conventionally known material, for example, carbon or SiC alone or a material containing them as a main component can be used. The thickness of the protective film is 1 to 10 nm
Is preferable from the viewpoint of spacing loss or durability when used in a high recording density state.

【0048】保護膜上には必要に応じ、従来の公知の材
料、例えばパーフルオロポリエーテルのフッ素系潤滑剤
からなる潤滑層を設けることができる。
If necessary, a lubricating layer made of a conventionally known material, for example, a fluorine-based lubricant of perfluoropolyether can be provided on the protective film.

【0049】非磁性基板は、その表面に、テクスチャー
処理によるテクスチャー痕を有したものとしても良い。
テクスチャー痕を有した基板の表面の平均粗さが、0.
1nm以上0.7nm以下(より好ましくは0.1nm
以上0.5nm以下。さらに好ましくは0.1nm以上
0.35nm以下。)となるように加工するのが好まし
い。テクスチャー痕はほぼ円周方向に形成されているの
が磁気記録媒体の円周方向の磁気的異方性を強める点か
ら好ましい。テクスチャー加工は、オッシレーションを
加えたテクスチャー加工とすることができる。オッシレ
ーションとは、テープを基板の円周方向に走行させると
同時に、テープを基板の半径方向に揺動させる操作のこ
とである。オッシレーションの条件は60〜1200回
/分とすることが、テクスチャーによる表面研削量が均
一になるので好ましい。テクスチャー加工の方法として
は、線密度が7500[本/mm]以上のテクスチャー
痕を形成する方法を用いることができ、前述したテープ
を用いたメカニカルテクスチャーによる方法以外に固定
砥粒を用いた方法、固定砥石を用いた方法、レーザー加
工を用いた方法を用いることができる。
The non-magnetic substrate may have a texture mark on the surface due to the texture treatment.
The average roughness of the surface of the substrate having the texture marks is 0.
1 nm or more and 0.7 nm or less (more preferably 0.1 nm
Above 0.5 nm. More preferably, it is 0.1 nm or more and 0.35 nm or less. ) Is preferably processed. It is preferable that the texture marks are formed substantially in the circumferential direction in order to enhance the magnetic anisotropy in the circumferential direction of the magnetic recording medium. The texture processing can be texture processing with addition of oscillation. Oscillation is an operation of running the tape in the circumferential direction of the substrate and simultaneously swinging the tape in the radial direction of the substrate. Oscillation conditions of 60 to 1200 times / minute are preferable because the amount of surface grinding by the texture becomes uniform. As a method of texture processing, a method of forming a texture mark having a linear density of 7500 [lines / mm] or more can be used, and a method using fixed abrasive grains in addition to the mechanical texture method using the tape described above, A method using a fixed grindstone or a method using laser processing can be used.

【0050】本発明の磁気記録媒体は、非磁性下地層の
上に少なくとも1つの非磁性結合層を有し磁性層が該非
磁性結合層の上下に設けられた構造を有して、非磁性基
板側から第1番目の磁性層がCoRu系合金、CoRe
系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選ばれる
いずれかとしているので、熱的な不安定さを改善しかつ
出力の低下を起こさない、非磁性結合層の上下に設けら
れた磁性層同士の磁気的な結合が強い、より高保磁力を
有してより低ノイズ特性を有した高記録密度に適した磁
気記録媒体である。
The magnetic recording medium of the present invention has a structure in which at least one non-magnetic coupling layer is provided on the non-magnetic underlayer, and the magnetic layer is provided above and below the non-magnetic coupling layer. The first magnetic layer from the side is a CoRu-based alloy, CoRe
One of the alloys selected from the group consisting of Co-based alloys, CoIr-based alloys, and CoOs-based alloys improves the thermal instability and does not reduce the output. It is a magnetic recording medium having a strong magnetic coupling, a high coercive force, and a low noise characteristic suitable for a high recording density.

【0051】図4は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記
録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記録
再生装置は、図1乃至図3のいずれかに示す構成の磁気
記録媒体40と、磁気記録媒体40を回転駆動させる媒
体駆動部41と、磁気記録媒体40に情報を記録再生す
る磁気ヘッド42と、この磁気ヘッド42を磁気記録媒
体40に対して相対運動させるヘッド駆動部43と、記
録再生信号処理系44とを備えている。記録再生信号処
理系44は、外部から入力されたデータを処理して記録
信号を磁気ヘッド42に送ったり、磁気ヘッド42から
の再生信号を処理してデータを外部に送ることができる
ようになっている。本発明の磁気記録再生装置に用いる
磁気ヘッド42には、再生素子として異方性磁気抵抗効
果(AMR)を利用したMR(magnetoresi
stance)素子だけでなく、巨大磁気抵抗効果(G
MR)を利用したGMR素子などを有したより高記録密
度に適したヘッドを用いることができる。
FIG. 4 shows an example of a magnetic recording / reproducing apparatus using the above magnetic recording medium. The magnetic recording / reproducing apparatus shown here includes a magnetic recording medium 40 having the configuration shown in any of FIGS. 1 to 3, a medium drive unit 41 for rotationally driving the magnetic recording medium 40, and recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium 40. A magnetic head 42, a head drive unit 43 for moving the magnetic head 42 relative to the magnetic recording medium 40, and a recording / reproducing signal processing system 44. The recording / reproducing signal processing system 44 can process the data inputted from the outside and send the recording signal to the magnetic head 42, or can process the reproducing signal from the magnetic head 42 and send the data to the outside. ing. In the magnetic head 42 used in the magnetic recording / reproducing apparatus of the present invention, an MR (magnetoresi) that utilizes an anisotropic magnetoresistive effect (AMR) as a reproducing element.
a giant magnetoresistive effect (G)
It is possible to use a head suitable for higher recording density, which has a GMR element utilizing MR).

【0052】上記磁気記録再生装置によれば、非磁性下
地層の上に少なくとも1つの非磁性結合層を有し磁性層
が該非磁性結合層の上下に設けられた構造を有して、非
磁性基板側から第1番目の磁性層がCoRu系合金、C
oRe系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選
ばれるいずれかとしている磁気記録媒を用いているの
で、高記録密度に適した磁気記録再生装置となる。
According to the above magnetic recording / reproducing apparatus, the non-magnetic underlayer has at least one non-magnetic coupling layer, and the magnetic layer is provided above and below the non-magnetic coupling layer. The first magnetic layer from the substrate side is a CoRu-based alloy, C
Since the magnetic recording medium selected from the group consisting of oRe alloy, CoIr alloy, and CoOs alloy is used, the magnetic recording / reproducing apparatus is suitable for high recording density.

【0053】次に本発明の製造方法の一例を説明する。
非磁性基板として、磁気記録媒体用基板として一般的に
用いられているNiPメッキ膜が形成されたAl合金
(以下、NiPメッキAl基板とも呼ぶ)またはガラ
ス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カ
ーボン、樹脂の非金属材料からなるものもしくはこれら
の非金属材料の基板の上にNiPまたはNiP合金の膜
を形成したものから選ばれるいずれかを用いる。
Next, an example of the manufacturing method of the present invention will be described.
As a non-magnetic substrate, an Al alloy (hereinafter also referred to as a NiP-plated Al substrate) on which a NiP plating film is formed, which is generally used as a substrate for a magnetic recording medium, or glass, ceramics, silicon, silicon carbide, carbon, resin Of non-metallic material or a substrate of these non-metallic materials on which a film of NiP or NiP alloy is formed is used.

【0054】非磁性基板は、平均表面粗さRaが2nm
(20Å)以下、好ましくは1nm以下であるとことが
望ましい。
The non-magnetic substrate has an average surface roughness Ra of 2 nm.
It is desirable that it is (20 Å) or less, preferably 1 nm or less.

【0055】また、表面の微小うねり(Wa)が0.3
nm以下(より好ましくは0.25[nm]以下。)で
あるのが好ましい。端面のチャンファー部の面取り部、
側面部の少なくとも一方のいずれの表面平均粗さRaが
10nm以下(より好ましくは9.5nm以下。)のも
のを用いることが磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ま
しい。微少うねり(Wa)は、例えば、表面荒粗さ測定
装置P−12(KLM−Tencor社製)を用い、測
定範囲80μmでの表面平均粗さとして測定することが
できる。
The surface microwaviness (Wa) is 0.3.
It is preferably not more than nm (more preferably not more than 0.25 [nm]). Chamfer of chamfer part of the end face,
It is preferable for the flight stability of the magnetic head that at least one of the side surface portions has a surface average roughness Ra of 10 nm or less (more preferably 9.5 nm or less). The minute waviness (Wa) can be measured as a surface average roughness in a measurement range of 80 μm using a surface roughness measuring device P-12 (manufactured by KLM-Tencor).

【0056】必要に応じて非磁性基板の表面にテクスチ
ャー加工を施した後、基板を洗浄して、基板を成膜装置
のチャンバ内に設置する。必要に応じて基板は、例えば
ヒータより100〜400℃に加熱される。
If necessary, the surface of the non-magnetic substrate is textured, the substrate is washed, and the substrate is placed in the chamber of the film forming apparatus. If necessary, the substrate is heated to 100 to 400 ° C. by a heater, for example.

【0057】非磁性基板1上に、非磁性下地層2、非磁
性結合層、磁性層4を各層の材料と同じ組成の材料を原
料とするスパッタリング用ターゲットを用いてDC或い
はRFマグネトロンスパッタリング法により形成する。
この時、非磁性結合層を形成する前にCoRu系合金、
CoRe系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から
選ばれるいずれかからなる非磁性基板側から第1番目の
磁性層を形成し、非磁性結合層を形成した後に第2番目
の磁性層を形成する。第3番目の磁性層を形成する場合
はその前に第2の非磁性結合層を形成した後に磁性層を
形成する。
The non-magnetic underlayer 2, the non-magnetic coupling layer and the magnetic layer 4 are formed on the non-magnetic substrate 1 by a DC or RF magnetron sputtering method using a sputtering target made of a material having the same composition as that of each layer. Form.
At this time, before forming the non-magnetic coupling layer, a CoRu-based alloy,
The first magnetic layer is formed from the non-magnetic substrate side made of any one selected from CoRe-based alloy, CoIr-based alloy, and CoOs-based alloy, and the second magnetic layer is formed after forming the non-magnetic coupling layer. . When forming the third magnetic layer, the magnetic layer is formed after forming the second non-magnetic coupling layer before the formation.

【0058】各膜を形成するためのスパッタリングの条
件は例えば次のようにする。形成に用いるチャンバ内は
真空度が10-4〜10-7Paとなるまで排気する。チャ
ンバ内に基板を収容して、スパッタ用ガスとして例えば
Arガスを導入して放電させてスパッタ成膜をおこな
う。このとき、供給するパワーは0.2〜2.0kWと
し、放電時間と供給するパワーを調節することによっ
て、所望の膜厚を得ることができる。
The sputtering conditions for forming each film are as follows, for example. The inside of the chamber used for formation is evacuated until the degree of vacuum reaches 10 −4 to 10 −7 Pa. The substrate is housed in the chamber, and Ar gas, for example, is introduced as a sputtering gas and discharged to perform sputtering film formation. At this time, the power supplied is 0.2 to 2.0 kW, and the desired film thickness can be obtained by adjusting the discharge time and the power supplied.

【0059】非磁性下地層を、Cr、Cr合金、NiA
l、RuAlから選ばれるいずれかからなるスパッタリ
ング用ターゲットを用いて、5〜15nmの厚さで形成
する。
The nonmagnetic underlayer is formed of Cr, Cr alloy, NiA.
It is formed with a thickness of 5 to 15 nm using a sputtering target made of any one selected from Ru and RuAl.

【0060】次に、CoRu系合金、CoRe系合金、
CoIr系合金、CoOs系合金から選ばれるいずれか
を原料としたスパッタリング用ターゲットを用いて第1
磁性層を0.5〜3nmの厚さで形成する。
Next, a CoRu type alloy, a CoRe type alloy,
Using a sputtering target made of any one of CoIr-based alloy and CoOs-based alloy as a raw material, the first
The magnetic layer is formed with a thickness of 0.5 to 3 nm.

【0061】次に Ru、Rh、Ir、Cr、Re、R
u系合金、Rh系合金、Ir系合金、Cr系合金、Re
系合金から選ばれるいずれかからなるスパッタリング用
ターゲットを用いて、非磁性結合層を、0.2〜1.5
nm(より好ましくは0.6〜1.0nmである。)の
厚さで形成する。
Next, Ru, Rh, Ir, Cr, Re, R
u-based alloy, Rh-based alloy, Ir-based alloy, Cr-based alloy, Re
The non-magnetic coupling layer is formed with a sputtering target made of any one selected from the group-based alloys by 0.2 to 1.5.
It is formed to have a thickness of nm (more preferably 0.6 to 1.0 nm).

【0062】次に第2番目の磁性層を、CoCrPt系
合金、CoCrPtTa系合金、CoCrPtB系合
金、CoCrPtBY系合金(YはTa、Cuから選ば
れるいずれか1種以上である。)から選ばれるいずれか
からなるスパッタリング用ターゲットを用いて、15n
m〜40nmの厚さで形成する。
Next, the second magnetic layer is selected from CoCrPt type alloy, CoCrPtTa type alloy, CoCrPtB type alloy and CoCrPtBY type alloy (Y is at least one selected from Ta and Cu). Using a sputtering target consisting of
It is formed with a thickness of m to 40 nm.

【0063】第3番目の磁性層である第3磁性層を形成
する場合には、前述と同様に非磁性結合層を形成した後
に、磁性層を前述と同様に形成する。この場合、第2磁
性膜は、2〜10nmの厚さで形成し、第3磁性層は、
15〜40nmの厚さで形成する。
When the third magnetic layer, which is the third magnetic layer, is formed, the magnetic layer is formed in the same manner as described above after the nonmagnetic coupling layer is formed in the same manner as described above. In this case, the second magnetic film is formed with a thickness of 2 to 10 nm, and the third magnetic layer is
It is formed with a thickness of 15 to 40 nm.

【0064】基板と非磁性下地層の間に配向調整膜を、
また非金属基板と配向調整膜との間に密着層を設ける場
合は、同様に各膜の成分を原料としたスパッタリング用
ターゲットを用いてスパッタ法により形成する。
An orientation adjustment film is provided between the substrate and the nonmagnetic underlayer.
When an adhesion layer is provided between the non-metal substrate and the orientation adjustment film, it is similarly formed by a sputtering method using a sputtering target using the components of each film as a raw material.

【0065】保護膜を従来の公知のスパッタ法、プラズ
マCVD法により形成する。
The protective film is formed by a conventionally known sputtering method or plasma CVD method.

【0066】潤滑層を従来の公知のスピン法、ディップ
法により形成する。
The lubricating layer is formed by the conventionally known spin method and dip method.

【0067】本発明の製造方法で製造された磁気記録媒
体は、非磁性基板、非磁性下地層、磁性層及び保護膜か
らなる磁気記録媒であって、非磁性下地層の上に少なく
とも1つの非磁性結合層を有し磁性層が該非磁性結合層
の上下に設けられた構造を有して、非磁性基板側から第
1番目の磁性層がCoRu系合金、CoRe系合金、C
oIr系合金、CoOs系合金から選ばれるいずれかで
ある磁気記録媒体となるので、高記録密度に適した磁気
記録媒体となる。
The magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the present invention is a magnetic recording medium composed of a nonmagnetic substrate, a nonmagnetic underlayer, a magnetic layer and a protective film, and at least one magnetic recording medium is formed on the nonmagnetic underlayer. The structure has a non-magnetic coupling layer and the magnetic layers are provided above and below the non-magnetic coupling layer, and the first magnetic layer from the non-magnetic substrate side is a CoRu-based alloy, CoRe-based alloy, C
Since the magnetic recording medium is one selected from the oIr alloy and the CoOs alloy, the magnetic recording medium is suitable for high recording density.

【0068】また、本発明の製造方法は、各層の材料と
同じ組成の材料を原料とするスパッタリング用ターゲッ
トを用いてDC或いはRFマグネトロンスパッタリング
法により形成するので、容易に、非磁性下地層の上に少
なくとも1つの非磁性結合層を有し磁性層が該非磁性結
合層の上下に設けられた構造を有して、非磁性基板側か
ら第1番目の磁性層がCoRu系合金、CoRe系合
金、CoIr系合金、CoOs系合金から選ばれるいず
れかである磁気記録媒体を製造することができる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, since the sputtering target is made of the material having the same composition as the material of each layer, the target is easily formed on the non-magnetic underlayer by the DC or RF magnetron sputtering method. Has a structure in which at least one non-magnetic coupling layer is provided above and below the non-magnetic coupling layer, and the first magnetic layer from the non-magnetic substrate side is a CoRu-based alloy, a CoRe-based alloy, It is possible to manufacture a magnetic recording medium that is any one selected from CoIr-based alloys and CoOs-based alloys.

【0069】[0069]

【実施例】以下、具体例を示して本発明の作用効果を明
確にする。 [実施例1]非磁性基板としてアルミニウム合金基板
(外径95mm、内径25mm、厚さ1.270mm)
にNiPを無電解メッキで12μmつけてをテクスチャ
ーを施し平均表面粗さRa=0.5nmにしたものを用
いた。この基板にDCマグネトロンスパッタ装置(アネ
ルバ社製C3010)内にセットした。真空到達度を2
×10 7Torr(2.7×10 5Pa)まで排気し
た後、250℃に加熱した。非磁性下地層として、Cr
からなるターゲットを用いて50Å積層しさらにCrW
合金(Cr:90at%、W:20at%)からなるタ
ーゲットを用いてCrW合金層を20Å積層した。第1
磁性層にはCoRu合金(Co15Ru:Ru含有量1
5at%を意味する。)からなるターゲットを用いてC
oRu合金を15Å積層した。非磁性結合層は、Ruか
らなるターゲットを用いて8Å積層した。第2磁性層と
してCoCrPtB合金(各含有率は、Co:60at
%、Cr:22at%、Pt:12at%、B:6at
%である。)からなるターゲットを用いて磁性層である
CoCrPtB合金層を200Åの膜厚で形成し、保護
膜(カーボン)50Åを積層した。成膜時のAr圧は3
mTorrとした。パーフルオロポリエーテルからなる
潤滑剤を20Åをディップ法で塗布し潤滑層を形成し
た。
EXAMPLES Hereinafter, the working effects of the present invention will be clarified by showing concrete examples. [Example 1] Aluminum alloy substrate (outer diameter 95 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1.270 mm) as a non-magnetic substrate
Then, NiP was applied by electroless plating to a thickness of 12 μm, and the resultant was textured to have an average surface roughness Ra = 0.5 nm. This substrate was set in a DC magnetron sputtering device (C3010 manufactured by Anerva Co.). Vacuum reach 2
× 10 - 7 Torr (2.7 × 10 - 5 Pa) was evacuated to, and heated to 250 ° C.. As a non-magnetic underlayer, Cr
Using a target consisting of 50 Å and further stacking CrW
A CrW alloy layer was laminated 20Å using a target made of an alloy (Cr: 90 at%, W: 20 at%). First
CoRu alloy (Co15Ru: Ru content 1
It means 5 at%. ) Using a target consisting of
15 Å of oRu alloy was laminated. The non-magnetic coupling layer was 8Å laminated using a target made of Ru. As a second magnetic layer, a CoCrPtB alloy (each content is Co: 60 at)
%, Cr: 22 at%, Pt: 12 at%, B: 6 at
%. Was used to form a CoCrPtB alloy layer, which is a magnetic layer, with a film thickness of 200Å, and a protective film (carbon) of 50Å was laminated. Ar pressure during film formation is 3
It was mTorr. 20 Å of a lubricant made of perfluoropolyether was applied by a dip method to form a lubricating layer.

【0070】その後グライドテスターを用いて、テスト
条件のグライド高さを0.4μinchとして、グライ
ドテストを行ない、合格した磁気記録媒体をリードライ
トアナライザーRWA1632(GUZIK社製)を用
いて記録再生特性を調べた。記録再生特性は、再生信号
出力(TAA)、孤立波再生出力の半値幅(PW5
0)、SNR、オーバライト(OW)などの電磁変換特
性を測定した。記録再生特性の評価には、再生部に巨大
磁気抵抗(GMR)素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘ
ッドを用いた。ノイズの測定は500kFCIのパター
ン信号を書き込んだ時の、1MHzから500kFCI
相当周波数までの積分ノイズを測定した。再生出力を2
50kFCIで測定し、SNR=20×log(再生出
力/1MHzから500kFCI相当周波数までの積分
ノイズ)として算出した。熱減磁は80℃の条件下で、
上記再生出力の低下を、1s、10s、100s後に測
定し、その結果を外挿して10年後の出力低下率として
求めた。単位は(dB/Decade)で10年間でこ
のdBだけ再生出力が低下するという指標であり値が小
さいほど良好な特性である。保磁力(Hc)および角形
比(S*)およびHexの測定にはカー効果式磁気特性
測定装置(RO1900、日立電子エンジニアリング社
製)を用いた。評価結果を表1に示した。 [実施例2]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20Ru)
からなるターゲットを用いて10Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例3]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20Ru)
からなるターゲットを用いて15Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例4]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20Ru)
からなるターゲットを用いて25Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例5]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co25Ru)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例6]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRe合金(Co15Re)
からなるターゲットを用いて15Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例7]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRe合金(Co20Re)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例8]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRe合金(Co25Re)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例9]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoIr合金(Co15Ir)
からなるターゲットを用いて15Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [実施例10]実施例1の第1磁性層CoRu合金(C
o15Ru)のかわりに、CoIr合金(Co20I
r)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実
施例1と同様の処理をした。 [実施例11]実施例1の第1磁性層CoRu合金(C
o15Ru)のかわりに、CoIr合金(Co25I
r)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実
施例1と同様の処理をした。 [実施例12]実施例1の第1磁性層CoRu合金(C
o15Ru)のかわりに、CoOs合金(Co15O
s)からなるターゲットを用いて15Å積層した他は実
施例1と同様の処理をした。 [実施例13]実施例1の第1磁性層CoRu合金(C
o15Ru)のかわりに、CoOs合金(Co20O
s)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実
施例1と同様の処理をした。
After that, a glide test was conducted using a glide tester with a glide height of 0.4 μinch as a test condition, and the passed magnetic recording medium was examined for read / write characteristics using a read / write analyzer RWA1632 (manufactured by GUZIK). It was The recording / reproducing characteristics are the reproduction signal output (TAA) and the half-value width of the solitary wave reproduction output (PW5
0), SNR, overwrite (OW), and other electromagnetic conversion characteristics were measured. A composite thin film magnetic recording head having a giant magnetoresistive (GMR) element in the reproducing portion was used for evaluating the recording / reproducing characteristics. Noise is measured from 1 MHz to 500 kFCI when a pattern signal of 500 kFCI is written.
The integrated noise up to the corresponding frequency was measured. Play output 2
It was measured at 50 kFCI and calculated as SNR = 20 × log (reproduction output / integrated noise from 1 MHz to 500 kFCI equivalent frequency). Thermal demagnetization is under the condition of 80 ℃,
The decrease in the reproduction output was measured after 1s, 10s, and 100s, and the result was extrapolated to obtain the output decrease rate after 10 years. The unit is (dB / Decade), which is an index that the reproduction output decreases by this dB in 10 years, and the smaller the value, the better the characteristic. A Kerr effect type magnetic characteristic measuring device (RO1900, manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.) was used for measuring the coercive force (Hc), the squareness ratio (S *) and Hex. The evaluation results are shown in Table 1. [Embodiment 2] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co20Ru)
The same process as in Example 1 was carried out except that 10 Å of the target consisting of was laminated. [Embodiment 3] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co20Ru)
The same treatment as in Example 1 was carried out except that a 15 Å laminated target was used. [Embodiment 4] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co20Ru)
The same treatment as in Example 1 was carried out except that a 25 Å laminated target was used. [Embodiment 5] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co25Ru)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Embodiment 6] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRe alloy (Co15Re)
The same treatment as in Example 1 was carried out except that a 15 Å laminated target was used. [Embodiment 7] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRe alloy (Co20Re)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Embodiment 8] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRe alloy (Co25Re)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Embodiment 9] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoIr alloy (Co15Ir)
The same treatment as in Example 1 was carried out except that a 15 Å laminated target was used. [Example 10] The first magnetic layer CoRu alloy (C
o15Ru) instead of CoIr alloy (Co20I
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å was laminated using the target composed of r). [Embodiment 11] The first magnetic layer CoRu alloy (C
Instead of O15Ru, CoIr alloy (Co25I)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å was laminated using the target composed of r). [Embodiment 12] The first magnetic layer CoRu alloy (C
o15Ru) instead of CoOs alloy (Co15O
The same treatment as in Example 1 was carried out except that 15 Å was laminated using the target consisting of s). [Example 13] First magnetic layer CoRu alloy (C
Instead of o15Ru) CoOs alloy (Co20O
The same treatment as in Example 1 was carried out except that 20 Å was laminated using the target consisting of s).

【0071】[実施例14]非磁性基板としてガラス基
板(外径65mm、内径20mm、厚さ0.635m
m、表面粗さ3Å)をDCマグネトロンスパッタ装置
(アネルバ社製C3010)内にセットした。真空到達
度を2×10 7Torr(2.7×10 5Pa)まで
排気した後、250℃に加熱した。非磁性下地層とし
て、RuAl合金(Ru:50at%、Al:50at
%)からなるターゲットを用いて300Å積層しさらに
CrTi合金(Cr:90at%、Ti:20at%)
からなるターゲットを用いてCrTi合金層を50Å積
層した。第1磁性層にはCoRu合金(Co20Ru:
Ru含有量20at%。)からなるターゲットを用いて
CoRu合金を20Å積層した。非磁性結合層は、Ru
からなるターゲットを用いて8Å積層した。第2磁性層
としてCoCrPtB合金(Co:60at%、Cr:
22at%、Pt:12at%、B:6at%)からな
るターゲットを用いて磁性層であるCoCrPtB合金
層を200Åの膜厚で形成し、保護膜(カーボン)50
Åを積層した。成膜時のAr圧は3mTorrとした。
パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤を20Åをデ
ィップ法で塗布し潤滑層を形成した。 [実施例15]実施例14の第1磁性層CoRu合金
(Co20Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20
Re)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は
実施例14と同様の処理をした。 [実施例16]実施例14の第1磁性層CoRu合金
(Co20Ru)のかわりに、CoIr合金(Co20
Ir)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は
実施例14と同様の処理をした。 [実施例17]実施例14の第一磁性層CoRu合金
(Co20Ru)のかわりに、CoOs合金(Co20
Os)からなるターゲットを用いて20Å積層した他は
実施例14と同様の処理をした。
Example 14 A glass substrate (outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, thickness 0.635 m) as a non-magnetic substrate
m, surface roughness 3Å) was set in a DC magnetron sputtering device (C3010 manufactured by Anerva Co.). Ultimate vacuum degree of 2 × 10 - 7 Torr (2.7 × 10 - 5 Pa) was evacuated to, and heated to 250 ° C.. As a non-magnetic underlayer, a RuAl alloy (Ru: 50 at%, Al: 50 at)
%) Is used to stack 300Å and a CrTi alloy (Cr: 90 at%, Ti: 20 at%)
A CrTi alloy layer was laminated by 50 Å using a target made of. A CoRu alloy (Co20Ru:
Ru content 20 at%. 20 Å of a CoRu alloy was laminated using a target made of (1). The nonmagnetic coupling layer is Ru
8Å was laminated using a target consisting of As the second magnetic layer, a CoCrPtB alloy (Co: 60 at%, Cr:
22 at%, Pt: 12 at%, B: 6 at%) is used to form a CoCrPtB alloy layer which is a magnetic layer with a thickness of 200 Å, and a protective film (carbon) 50
Å laminated. The Ar pressure during film formation was 3 mTorr.
20 Å of a lubricant made of perfluoropolyether was applied by a dip method to form a lubricating layer. [Example 15] Instead of the first magnetic layer CoRu alloy (Co20Ru) of Example 14, a CoRu alloy (Co20) was used.
The same treatment as in Example 14 was carried out except that 20 Å was laminated using a target composed of Re). [Example 16] Instead of the first magnetic layer CoRu alloy (Co20Ru) of Example 14, a CoIr alloy (Co20) was used.
The same process as in Example 14 was carried out except that 20 Å was laminated using a target made of Ir). [Example 17] Instead of the first magnetic layer CoRu alloy (Co20Ru) of Example 14, a CoOs alloy (Co20) was used.
The same treatment as in Example 14 was performed except that a 20 Å layer was stacked using a target made of Os).

【0072】[実施例18]実施例1において、第2磁
性層の膜厚を30Åとし、さらにその直上に非磁性結合
層としてもう1層、Ruからなるターゲットを用いて8
Å積層し、第3磁性層としてCoCrPtB合金(C
o:60at%、Cr:22at%、Pt:12at
%、B:6at%)からなるターゲットを用いて磁性層
であるCoCrPtB合金層を200Åの膜厚で形成し
た以外は、実施例1と同様の処理を施した。
[Embodiment 18] In Embodiment 1, the thickness of the second magnetic layer is set to 30 Å, and another layer as a non-magnetic coupling layer, a target made of Ru, is used immediately above the second magnetic layer.
Å Laminate the CoCrPtB alloy (C
o: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 at
%, B: 6 at%), and the same treatment as in Example 1 was performed except that the CoCrPtB alloy layer as the magnetic layer was formed to a thickness of 200 Å.

【0073】[比較例1]非磁性基板としてアルミニウ
ム合金基板(外径95mm、内径25mm、厚さ1.2
70mm)にNiPを無電解メッキで12μmつけてを
テクスチャーを施し平均表面粗さRa=0.5nmにし
たものを用いた。この基板にDCマグネトロンスパッタ
装置(アネルバ社製C3010)内にセットした。真空
到達度を2×10 7Torr(2.7×10 5Pa)
まで排気した後、250℃に加熱した。非磁性下地層と
して、Crからなるターゲットを用いて50Å積層しさ
らにCrW合金(Cr:90at%、W:20at%)
からなるターゲットを用いてCrW合金層を20Å積層
した。さらに非磁性中間層としてCoCr合金(Co:
65at%、Cr:35at%)からなるターゲットを
用いてCoCr合金を15Å積層した。第1磁性層には
CoCrPtB合金(Co:60at%、Cr:22a
t%、Pt:12at%、B:6at%)からなるター
ゲットを用いてCoCrPtB合金を20Å積層した。
非磁性結合層は、Ruからなるターゲットを用いて8Å
積層した。第2磁性層としてCoCrPtB合金(C
o:60at%、Cr:22at%、Pt:12at
%、B:6at%)からなるターゲットを用いて磁性層
であるCoCrPtB合金層を200Åの膜厚で形成
し、保護膜(カーボン)50Åを積層した。成膜時のA
r圧は3mTorrとした。パーフルオロポリエーテル
からなる潤滑剤を20Åをディップ法で塗布し潤滑層を
形成した。 [比較例2]比較例1の第1磁性層CoCrPtB合金
(Co:60at%、Cr:22at%、Pt:12a
t%、B:6at%)からなるターゲットを用いてCo
CrPtB合金を40Å積層した他は比較例1と同様の
処理をした。 [比較例3]比較例1の第1磁性層CoCrPtB合金
(Co:60at%、Cr:22at%、Pt:12a
t%、B:6at%)からなるターゲットを用いてCo
CrPtB合金を60Å積層した他は比較例1と同様の
処理をした。 [比較例4]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20Ru)
からなるターゲットを用いて40Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [比較例5]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co20Ru)
からなるターゲットを用いて60Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [比較例6]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoRu合金(Co40Ru)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [比較例7]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoIr合金(Co40Re)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [比較例8]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoIr合金(Co40Ir)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。 [比較例9]実施例1の第1磁性層CoRu合金(Co
15Ru)のかわりに、CoOs合金(Co40Os)
からなるターゲットを用いて20Å積層した他は実施例
1と同様の処理をした。
[Comparative Example 1] An aluminum alloy substrate (outer diameter 95 mm, inner diameter 25 mm, thickness 1.2) as a non-magnetic substrate.
70 mm) was coated with NiP by 12 μm by electroless plating and textured to have an average surface roughness Ra = 0.5 nm. This substrate was set in a DC magnetron sputtering device (C3010 manufactured by Anerva Co.). The ultimate vacuum degree of 2 × 10 - 7 Torr (2.7 × 10 - 5 Pa)
After evacuating to 250 ° C., it was heated to 250 ° C. As the non-magnetic underlayer, a target made of Cr is used to stack 50Å and further CrW alloy (Cr: 90 at%, W: 20 at%)
A CrW alloy layer of 20 Å was laminated using a target composed of. Furthermore, a CoCr alloy (Co:
A CoCr alloy was laminated by 15 Å using a target composed of 65 at% and Cr: 35 at%). CoCrPtB alloy (Co: 60 at%, Cr: 22a) is used for the first magnetic layer.
20% of a CoCrPtB alloy was laminated using a target composed of t%, Pt: 12 at%, B: 6 at%).
The non-magnetic coupling layer is 8Å using a target made of Ru.
Laminated. CoCrPtB alloy (C
o: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 at
%, B: 6 at%) was used to form a CoCrPtB alloy layer as a magnetic layer with a film thickness of 200 Å, and a protective film (carbon) of 50 Å was laminated. A at the time of film formation
The r pressure was 3 mTorr. 20 Å of a lubricant made of perfluoropolyether was applied by a dip method to form a lubricating layer. [Comparative Example 2] First magnetic layer CoCrPtB alloy of Comparative Example 1 (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 a)
t%, B: 6 at%)
The same treatment as in Comparative Example 1 was carried out except that a CrPtB alloy of 40 Å was laminated. Comparative Example 3 First magnetic layer CoCrPtB alloy of Comparative Example 1 (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 a
t%, B: 6 at%)
The same treatment as in Comparative Example 1 was carried out except that a CrPtB alloy was laminated by 60 liters. [Comparative Example 4] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co20Ru)
The same treatment as in Example 1 was carried out except that 40 Å was laminated using the target consisting of. [Comparative Example 5] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co20Ru)
The same process as in Example 1 was carried out except that a target consisting of 60 Å was laminated. Comparative Example 6 First magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoRu alloy (Co40Ru)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Comparative Example 7] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoIr alloy (Co40Re)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Comparative Example 8] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoIr alloy (Co40Ir)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated. [Comparative Example 9] The first magnetic layer CoRu alloy (Co
15Ru) instead of CoOs alloy (Co40Os)
The same process as in Example 1 was carried out except that 20 Å of the target consisting of was laminated.

【0074】[比較例10]非磁性基板としてガラス基
板(外径65mm、内径20mm、厚さ0.635m
m、表面粗さ3Å)をDCマグネトロンスパッタ装置
(アネルバ社製C3010)内にセットした。真空到達
度を2×10 7Torr(2.7×10 5Pa)まで
排気した後、250℃に加熱した。非磁性下地層とし
て、RuAl合金(Ru:50at%、Al:50at
%)からなるターゲットを用いて300Å積層しさらに
CrTi合金(Cr:90at%、Ti:20at%)
からなるターゲットを用いてCrTi合金層を50Å積
層した。さらに非磁性中間層としてCoCr合金(C
o:65at%、Cr:35at%)からなるターゲッ
トを用いてCoCr合金を15Å積層した。第1磁性層
にはCoCrPtB合金(Co:60at%、Cr:2
2at%、Pt:12at%、B:6at%)からなる
ターゲットを用いてCoCrPtB合金を20Å積層し
た。非磁性結合層は、Ruからなるターゲットを用いて
8Å積層した。第2磁性層としてCoCrPtB合金
(Co:60at%、Cr:22at%、Pt:12a
t%、B:6at%)からなるターゲットを用いて磁性
層であるCoCrPtB合金層を200Åの膜厚で形成
し、保護膜(カーボン)50Åを積層した。成膜時のA
r圧は3mTorrとした。パーフルオロポリエーテル
からなる潤滑剤をディップ法で20Åを塗布し潤滑層を
形成した。 [比較例11]比較例10の第1磁性層CoCrPtB
合金(Co:60at%、Cr:22at%、Pt:1
2at%、B:6at%)からなるターゲットを用いて
CoCrPtB合金を40Å積層した他は比較例1と同
様の処理をした。 [比較例12]比較例10の第1磁性層CoCrPtB
合金(Co:60at%、Cr:22at%、Pt:1
2at%、B:6at%)からなるターゲットを用いて
CoCrPtB合金を60Å積層した他は比較例1と同
様の処理をした。
[Comparative Example 10] A glass substrate (outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, thickness 0.635 m) as a non-magnetic substrate.
m, surface roughness 3Å) was set in a DC magnetron sputtering device (C3010 manufactured by Anerva Co.). Ultimate vacuum degree of 2 × 10 - 7 Torr (2.7 × 10 - 5 Pa) was evacuated to, and heated to 250 ° C.. As a non-magnetic underlayer, a RuAl alloy (Ru: 50 at%, Al: 50 at)
%) Is used to stack 300Å and a CrTi alloy (Cr: 90 at%, Ti: 20 at%)
A CrTi alloy layer was laminated by 50 Å using a target made of. Further, a CoCr alloy (C
O: 65 at%, Cr: 35 at%) was used to deposit a 15 Cr CoCr alloy. CoCrPtB alloy (Co: 60 at%, Cr: 2) is used for the first magnetic layer.
A CoCrPtB alloy was laminated at 20Å using a target composed of 2 at%, Pt: 12 at% and B: 6 at%). The non-magnetic coupling layer was 8Å laminated using a target made of Ru. As a second magnetic layer, a CoCrPtB alloy (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 a
tCo, B: 6 at%) was used to form a CoCrPtB alloy layer as a magnetic layer with a film thickness of 200 Å, and a protective film (carbon) of 50 Å was laminated. A at the time of film formation
The r pressure was 3 mTorr. 20 Å of a lubricant made of perfluoropolyether was applied by a dipping method to form a lubricating layer. [Comparative Example 11] First magnetic layer CoCrPtB of Comparative Example 10
Alloy (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 1
2 at%, B: 6 at%) was used, and the same treatment as in Comparative Example 1 was performed except that a CoCrPtB alloy of 40 Å was stacked. [Comparative Example 12] First magnetic layer CoCrPtB of Comparative Example 10
Alloy (Co: 60 at%, Cr: 22 at%, Pt: 1
2 at%, B: 6 at%) was used, and the same treatment as in Comparative Example 1 was performed except that a CoCrPtB alloy was laminated at 60 Å using a target.

【0075】[比較例13]比較例1において、第2磁
性層の膜厚を30Åとし、さらにその直上に非磁性結合
層として1層、Ruからなるターゲットを用いて8Å積
層し、第3磁性層としてCoCrPtB合金(Co:6
0at%、Cr:22at%、Pt:12at%、B:
6at%)からなるターゲットを用いて磁性層であるC
oCrPtB合金層を200Åの膜厚で形成した以外
は、実施例1と同様の処理を施した。
[Comparative Example 13] In Comparative Example 1, the thickness of the second magnetic layer was set to 30 Å, and one layer as a non-magnetic coupling layer, 8 Å was laminated using a target made of Ru immediately above the third magnetic layer. CoCrPtB alloy (Co: 6
0 at%, Cr: 22 at%, Pt: 12 at%, B:
6 at%) and a magnetic layer of C
The same process as in Example 1 was performed except that the oCrPtB alloy layer was formed to have a film thickness of 200Å.

【0076】得られた各磁気記録媒体を実施例1と同様
に各種の測定を実施し、その結果を表1に示した。
Various measurements were carried out on each of the obtained magnetic recording media in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0077】また表2に、各膜の格子定数を示した。Table 2 shows the lattice constant of each film.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】[0079]

【表2】 [Table 2]

【0080】実施例1〜13は比較例1と比較して、保
磁力が高く、SNR、熱減磁、Hexが優れていること
が分かる。比較例2〜4は第1磁性層膜厚を厚くして熱
減磁の特性を向上させたものであるが、その結果とし
て、出力、Hexの減少が生じてしまっていることがわ
かる。比較例6〜9はCoRu系合金,CoRe系合
金,CoIr系合金、CoOs系合金の磁化がほとんど
無くなってしまっているので、保磁力、出力、SNR、
熱減磁等すべて劣る結果となってしまったことがわか
る。なお、Hexについては、ほとんど磁化が無いため
に測定不能である。実施例14〜17は等方性媒体であ
るために、他の実施例と比較すると特性は落ちるが、同
じ等方性媒体である比較例10と比較すると、保磁力が
高く、SNR、熱減磁、Hexが優れていることが分か
る。比較例11、12は等方性媒体において、第1磁性
層膜厚を厚くして熱減磁の特性を向上させたものである
が、その結果として、出力、Hexの減少が生じてしま
っていることがわかる。
As compared with Comparative Example 1, Examples 1 to 13 have higher coercive force, and are superior in SNR, thermal demagnetization, and Hex. In Comparative Examples 2 to 4, the thickness of the first magnetic layer is increased to improve the thermal demagnetization characteristics, but as a result, it can be seen that the output and Hex are reduced. In Comparative Examples 6 to 9, since the CoRu-based alloy, the CoRe-based alloy, the CoIr-based alloy, and the CoOs-based alloy have almost no magnetization, the coercive force, output, SNR,
It can be seen that the results are all inferior such as thermal demagnetization. Note that Hex cannot be measured because there is almost no magnetization. Since Examples 14 to 17 are isotropic media, their characteristics are lower than those of the other Examples. However, compared with Comparative Example 10 which is the same isotropic medium, coercive force is high, and SNR and thermal loss are low. It can be seen that magnetism and Hex are excellent. Comparative Examples 11 and 12 are isotropic media in which the thickness of the first magnetic layer is increased to improve the property of thermal demagnetization, but as a result, the output and Hex are reduced. You can see that

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、非磁性下地層
の上に少なくとも1つの非磁性結合層を有し磁性層が該
非磁性結合層の上下に設けられた構造を有して、非磁性
基板側から第1番目の磁性層がCoRu系合金、CoR
e系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選ばれ
るいずれかであることを特徴とする磁気記録媒体である
ので、第1番目の磁性層がより薄い膜厚でも、より高い
保磁力と角型比を発現でき、出力の低下を起こさずに熱
的安定性を向上するので、高記録密度に適した磁気記録
媒体となる。
The magnetic recording medium of the present invention has a structure in which at least one non-magnetic coupling layer is provided on the non-magnetic underlayer, and the magnetic layer is provided above and below the non-magnetic coupling layer. The first magnetic layer from the magnetic substrate side is a CoRu-based alloy, CoR
Since the magnetic recording medium is characterized by being selected from the group consisting of e-based alloys, CoIr-based alloys, and CoOs-based alloys, it has a higher coercive force and a square shape even if the first magnetic layer has a thinner film thickness. Since the ratio can be expressed and the thermal stability is improved without lowering the output, the magnetic recording medium is suitable for high recording density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒の一実施形態を示す一断面
図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】本発明の磁気記録媒の別の一実施形態を示す一
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.

【図3】本発明の磁気記録媒の他の一実施形態を示す一
断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.

【図4】本発明の磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装
置の一例を示す概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of a magnetic recording / reproducing apparatus using the magnetic recording medium of the present invention.

【図5】従来の2層の磁性層を用いるAFC媒体の一実
施形態を示す一断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an embodiment of an AFC medium using two conventional magnetic layers.

【図6】従来の3層の磁性層を用いるAFC媒体の一実
施形態を示す一断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an embodiment of an AFC medium using three conventional magnetic layers.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101:非磁性基板、102:非磁性下地層、103:
第1磁性層、104:非磁性結合層、105:第2磁性
層、106:保護膜、107:潤滑層、202:第3磁
性層、301:配向調整膜、302:密着層、40:磁
気記録媒体、41;媒体駆動部、42:磁気ヘッド、4
3:ヘッド駆動部、44:記録再生信号処理系、50
1:非磁性基板、502:非磁性下地層、503:非磁
性中間層、504:第1磁性層、505:非磁性結合
層、506:第2磁性層、507:保護膜、508:潤
滑層 601:非磁性基板、602:非磁性下地層、603:
非磁性中間層、604:第1磁性層、605:非磁性結
合層、606:第2磁性層、607:非磁性結合層、6
08:第三磁性層、609:保護膜、610:潤滑層
101: non-magnetic substrate, 102: non-magnetic underlayer, 103:
First magnetic layer, 104: non-magnetic coupling layer, 105: second magnetic layer, 106: protective film, 107: lubricating layer, 202: third magnetic layer, 301: orientation adjusting film, 302: adhesion layer, 40: magnetic Recording medium, 41; medium driving unit, 42: magnetic head, 4
3: head drive unit, 44: recording / reproducing signal processing system, 50
1: non-magnetic substrate, 502: non-magnetic underlayer, 503: non-magnetic intermediate layer, 504: first magnetic layer, 505: non-magnetic coupling layer, 506: second magnetic layer, 507: protective film, 508: lubricating layer 601: Non-magnetic substrate, 602: Non-magnetic underlayer, 603:
Non-magnetic intermediate layer, 604: first magnetic layer, 605: non-magnetic coupling layer, 606: second magnetic layer, 607: non-magnetic coupling layer, 6
08: third magnetic layer, 609: protective film, 610: lubricating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/851 G11B 5/851 H01F 10/16 H01F 10/16 10/28 10/28 10/30 10/30 Fターム(参考) 4K029 AA02 AA06 AA09 AA24 BA21 BA24 BB02 BB07 BC06 BD11 EA01 FA07 5D006 BB01 BB07 BB08 CA01 CA05 CB04 DA03 EA03 FA09 5D112 AA02 AA03 AA05 AA06 AA11 AA24 BA02 BA03 BB05 BD03 BD04 BD06 FA04 5E049 AA04 BA06 DB04 GC02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11B 5/851 G11B 5/851 H01F 10/16 H01F 10/16 10/28 10/28 10/30 10 / 30 F term (reference) 4K029 AA02 AA06 AA09 AA24 BA21 BA24 BB02 BB07 BC06 BD11 EA01 FA07 5D006 BB01 BB07 BB08 CA01 CA05 CB04 DA03 EA03 FA09 5D112 AA02 AA03 AA05 BA04 BA04 BD04 A04 BA04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD02 BD02 BD04 BD02 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD04 BD02 B04 BD04 B04 BD04 BD04 BD02 BD02 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD04 BD02 BD04 BD04 BD02 BD $ 000 MB.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも非磁性基板、非磁性下地層、磁
性層及び保護膜からなる磁気記録媒において、非磁性下
地層の上に少なくとも1つの非磁性結合層を有し磁性層
が該非磁性結合層の上下に設けられた構造を有して、非
磁性基板側から第1番目の磁性層がCoRu系合金、C
oRe系合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選
ばれるいずれか1種であることを特徴とする磁気記録媒
体。
1. A magnetic recording medium comprising at least a non-magnetic substrate, a non-magnetic underlayer, a magnetic layer and a protective film, wherein at least one non-magnetic coupling layer is provided on the non-magnetic under layer, and the non-magnetic coupling layer comprises the non-magnetic coupling layer. The first magnetic layer from the nonmagnetic substrate side has a structure provided above and below the layer, and the first magnetic layer is a CoRu-based alloy, C
A magnetic recording medium, which is one selected from an oRe alloy, a CoIr alloy, and a CoOs alloy.
【請求項2】第1番目の磁性層の合金の有する格子定数
がa=0.25nm〜0.26nm、c=0.407n
m〜0.422nmであることを特徴とする請求項1に
記載の磁気記録媒体。
2. The lattice constant of the alloy of the first magnetic layer is a = 0.25 nm to 0.26 nm, and c = 0.407n.
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein m is 0.422 nm.
【請求項3】第1番目の磁性層の合金が、hcp構造か
らfcc構造に転移する温度が600℃以上であること
を特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the alloy of the first magnetic layer has a transition temperature from the hcp structure to the fcc structure of 600 ° C. or higher.
【請求項4】第1番目の磁性層の合金がCoRu系合金
の場合は、Ruの含有量が5〜30at%、CoRe系
合金の場合はReの含有量が5〜30at%、CoIr
系合金の場合はIrの含有量が8〜30at%、CoO
s系合金の場合はOsの含有量が5〜30at%である
ことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の
磁気記録媒体。
4. When the alloy of the first magnetic layer is a CoRu-based alloy, the Ru content is 5 to 30 at%, and when the alloy is a CoRe-based alloy, the Re content is 5 to 30 at%, and CoIr.
In the case of a system alloy, the Ir content is 8 to 30 at%, CoO
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the s-based alloy has an Os content of 5 to 30 at%.
【請求項5】第1番目の磁性層の膜厚が0.5〜3nm
であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
に記載の磁気記録媒体。
5. The film thickness of the first magnetic layer is 0.5 to 3 nm.
The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 4, wherein
【請求項6】非磁性結合層が、Ru、Rh、Ir、C
r、Re、Ru系合金、Rh系合金、Ir系合金、Cr
系合金、Re系合金から選ばれるいずれか1種であっ
て、その膜厚が0.5〜1.5nmであることを特徴と
する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の磁気記録媒
体。
6. The nonmagnetic coupling layer comprises Ru, Rh, Ir, C
r, Re, Ru-based alloy, Rh-based alloy, Ir-based alloy, Cr
The magnetic recording according to any one of claims 1 to 5, which is one kind selected from a group-based alloy and a Re-based alloy and has a film thickness of 0.5 to 1.5 nm. Medium.
【請求項7】磁気特性が非磁性基板に対して円周方向の
異方性を有していて、非磁性下地層が、Cr、またはC
rとTi、Mo、Al、Ta、W、Ni、B、Siおよ
びVから選ばれる1種もしくは2種類以上とからなるC
r合金のいずれかからなる層を含む多層構造であること
を特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の磁
気記録媒体。
7. The magnetic property has anisotropy in the circumferential direction with respect to a non-magnetic substrate, and the non-magnetic underlayer comprises Cr or C.
C consisting of r and one or more selected from Ti, Mo, Al, Ta, W, Ni, B, Si and V
7. The magnetic recording medium according to claim 1, which has a multi-layer structure including a layer made of any one of r alloys.
【請求項8】磁気特性が非磁性基板に対して面内に等方
性を有していて、非磁性下地層が、NiAl系合金、R
uAl系合金、またはCrとTi、Mo、Al、Ta、
W、Ni、B、SiおよびVから選ばれる1種もしくは
2種類以上とからなるCr合金のいずれかからなる層を
含む多層構造であることを特徴とする請求項1乃至6の
いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
8. A magnetic property is in-plane isotropic with respect to a non-magnetic substrate, and the non-magnetic underlayer is a NiAl-based alloy, R
uAl-based alloy, or Cr and Ti, Mo, Al, Ta,
7. A multi-layer structure including a layer made of any one of Cr alloys selected from W, Ni, B, Si and V or at least two kinds. 7. The magnetic recording medium according to 1.
【請求項9】非磁性基板はガラス基板、シリコン基板か
ら選ばれるいずれか1種であることを特徴とする請求項
1乃至8のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
9. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the non-magnetic substrate is any one selected from a glass substrate and a silicon substrate.
【請求項10】非磁性基板はAl基板、ガラス基板、シ
リコン基板から選ばれる何れか1種の表面にNiPをメ
ッキしたものであることを特徴とする請求項1乃至8の
いずれか1項に記載の磁気記録媒体。
10. The non-magnetic substrate is one in which a surface of any one selected from an Al substrate, a glass substrate, and a silicon substrate is plated with NiP, and the non-magnetic substrate is characterized in that. The magnetic recording medium described.
【請求項11】第2番目の磁性層または第3番目の磁性
層がCoCrPt系合金、CoCrPtTa系合金、C
oCrPtB系合金、CoCrPtBY系合金(YはT
a、Cuから選ばれるいずれか1種以上である。)から
選ばれるいずれか1種であることを特徴とする請求項1
乃至10のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
11. The second magnetic layer or the third magnetic layer is a CoCrPt-based alloy, a CoCrPtTa-based alloy, or C.
oCrPtB-based alloy, CoCrPtBY-based alloy (Y is T
Any one or more selected from a and Cu. 1) any one selected from the above.
11. The magnetic recording medium according to any one of items 1 to 10.
【請求項12】非磁性基板上に、非磁性下地層を形成す
る工程と、磁性層を形成する工程と、保護膜を形成する
工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、非磁性下
地層の上に少なくとも1つの非磁性結合層を形成する工
程を有し、その工程の前にCoRu系合金、CoRe系
合金、CoIr系合金、CoOs系合金から選ばれるい
ずれか1種からなる第1番目の磁性層を形成する工程
と、非磁性結合層を形成した後に第2番目の磁性層を形
成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
12. A method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising the steps of forming a nonmagnetic underlayer on a nonmagnetic substrate, forming a magnetic layer, and forming a protective film. A step of forming at least one non-magnetic coupling layer on the top, and prior to the step, the first step consisting of any one selected from CoRu alloy, CoRe alloy, CoIr alloy and CoOs alloy A method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising: a step of forming a magnetic layer; and a step of forming a second magnetic layer after forming a nonmagnetic coupling layer.
【請求項13】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報
を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置
であって、磁気記録媒体が請求項1乃至11のいずれか
1項に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気
記録再生装置。
13. A magnetic recording / reproducing apparatus comprising a magnetic recording medium and a magnetic head for recording / reproducing information on / from the magnetic recording medium, wherein the magnetic recording medium is any one of claims 1 to 11. Magnetic recording / reproducing apparatus characterized by being a magnetic recording medium of.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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