JP2003130769A - Gas sampling device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、セメント焼成設備
の排ガス、溶鉱炉の排ガス、焼却炉の排ガス等の高濃度
の塵埃が混在する高温雰囲気内のガスの成分を測定する
ために、該雰囲気を囲む隔壁内からガスを取り出すため
に好適なガスサンプリング装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas of a cement firing facility, an exhaust gas of a blast furnace, an exhaust gas of an incinerator, etc. The present invention relates to a gas sampling device suitable for taking out gas from the surrounding partition wall.
【０００２】[0002]
【従来の技術】この種のガスサンプリング装置として
は、セメント焼成設備の排ガスの成分を測定するものと
して、例えば、特開昭５９−２６９５３号公報に記載さ
れたものが知られている。このガスサンプリング装置
は、サスペンションプレヒータにおけるサイクロンから
ガスを取り出すためのサンプリングプローブと、このサ
ンプリングプローブを上記サスペンションプレヒータの
上流側に配置されたダクトに接続するためのガス抜出管
およびバイパス管と、バイパス管から分岐された管に設
けられたフィルタと、このフィルタの下流側に設けられ
た分析計とを備えている。2. Description of the Related Art As a gas sampling device of this type, a device described in Japanese Patent Laid-Open No. 59-26953 is known as a device for measuring the components of exhaust gas from a cement burning facility. This gas sampling device includes a sampling probe for extracting gas from a cyclone in a suspension preheater, a gas extraction pipe and a bypass pipe for connecting the sampling probe to a duct arranged on the upstream side of the suspension preheater, and a bypass. A filter provided on a pipe branched from the pipe and an analyzer provided on the downstream side of the filter are provided.
【０００３】上記サンプリングプローブは、その外周部
が冷却水によって冷却されるような構造になっている。
また、フィルタには、ヒータが設けられており、結露を
防止するようになっている。The sampling probe has a structure in which the outer peripheral portion thereof is cooled by cooling water.
Further, the filter is provided with a heater to prevent dew condensation.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
ガスサンプリング装置においては、フィルタがガス抜出
管およびバイパス管を介してサンプリングプローブから
離れた位置に設けられているので、サンプリングプロー
ブからフィルタまでの間の距離が長い。このため、この
間に塵埃が溜まると、この塵埃を掃除するのが非常に面
倒であるという問題があった。また、サンプリングプロ
ーブを冷却するような構造になっているが、フィルタが
サンプリングプローブから離れた位置に設けられている
ので、その冷却による温度制御だけではフィルタに流入
する温度を一定に制御することができず、よってフィル
タにヒータを設けて、このヒータによりフィルタに流入
するガスの温度を制御しなければならないという欠点が
ある。By the way, in the above-mentioned conventional gas sampling device, since the filter is provided at a position apart from the sampling probe through the gas extraction pipe and the bypass pipe, the sampling probe to the filter are not provided. The distance between is long. Therefore, if dust collects during this period, there is a problem that cleaning this dust is very troublesome. Moreover, although the structure is such that the sampling probe is cooled, since the filter is provided at a position apart from the sampling probe, it is possible to control the temperature flowing into the filter at a constant temperature only by controlling the temperature by the cooling. Therefore, there is a drawback in that a heater must be provided in the filter and the temperature of the gas flowing into the filter must be controlled by this heater.
【０００５】この発明は、上記事情に鑑みてなされたも
のであり、フィルタおよびフィルタにガスを導入する部
分の清掃が簡単であり、かつヒータ等の加熱手段を設け
ることなくフィルタに流入するガスの温度を一定に制御
することのできるガスサンプリング装置を提供すること
を課題としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is easy to clean the filter and the portion for introducing the gas into the filter, and the gas flowing into the filter can be provided without providing heating means such as a heater. An object of the present invention is to provide a gas sampling device capable of controlling the temperature to be constant.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１に記載の発明は、塵埃が混在する雰囲気内
のガスの成分を測定するために、上記雰囲気を囲む隔壁
の外方に上記ガスを取り出すためのガスサンプリング装
置であって、先端部が上記隔壁内に挿入され、吸引手段
の吸引力が導入される吸引流路を介して、上記塵埃を含
むガスを上記隔壁内から取り出すためのプローブと、こ
のプローブに設けられ、上記塵埃を含むガスが上記吸引
力に引かれて下流側に流れる過程で該ガスの除塵を行う
フィルタとを備えてなり、上記プローブには、上記フィ
ルタの上流側に、上記吸引流路を筒状に囲む冷却部が設
けられていることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention according to claim 1 provides a method for measuring a gas component in an atmosphere in which dust is mixed, in order to measure the gas components outside the atmosphere. A gas sampling device for taking out the gas, wherein a tip portion is inserted into the partition wall, and the gas containing dust is taken out from the partition wall via a suction flow path into which a suction force of a suction means is introduced. And a filter provided on the probe for removing the dust-containing gas in the process in which the dust-containing gas is attracted by the suction force and flows toward the downstream side. A cooling portion that surrounds the suction flow path in a tubular shape is provided on the upstream side of the.
【０００７】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、上記吸引手段から作用する吸引力のオ
ン、オフを行うための第１のバルブと、エア源から供給
される所定の圧力のエアを上記フィルタの下流側に供給
するための第２のバルブと、上記エア源から供給される
所定の圧力のエアを上記フィルタの上流側に供給するた
めの第３のバルブと、上記プローブの吸引流路内にあっ
て噴出口が上記先端部側に向けられたノズルに、上記エ
ア源から供給される所定の圧力のエアを供給するための
第４のバルブとを備えていることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, a first valve for turning on and off the suction force acting from the suction means, and a predetermined valve supplied from an air source. A second valve for supplying air having a pressure of 5 to the downstream side of the filter, and a third valve for supplying air having a predetermined pressure supplied from the air source to the upstream side of the filter, A fourth valve for supplying air of a predetermined pressure supplied from the air source is provided to a nozzle in the suction flow path of the probe, the ejection port of which is directed to the tip end side. It is characterized by that.
【０００８】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、上記第１のバルブを閉じた後に、上記
第２のバルブを開いて、上記エアを上記フィルタの下流
側に供給し、その後上記第２のバルブを閉じるととも
に、上記第３のバルブを開いて、上記エアを上記フィル
タの上流側に供給し、その後上記第３のバルブを閉じる
とともに、上記第４のバルブを開いて、上記エアを上記
ノズルに供給し、その後上記第４のバルブを閉じるとと
もに、上記第１のバルブを開いて、ガスのサンプリング
を続行する制御手段を備えたことを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the invention, the second valve is opened after the first valve is closed to supply the air to the downstream side of the filter. Then, the second valve is closed, the third valve is opened to supply the air to the upstream side of the filter, and then the third valve is closed and the fourth valve is opened. Then, the air is supplied to the nozzle, and then the fourth valve is closed and the first valve is opened to provide a control means for continuing the gas sampling.
【０００９】上記のように構成された請求項１〜３に記
載の発明においては、プローブにフィルタが設けられて
いるので、塵埃を含むガスが流れる流路はプローブにお
けるフィルタの上流側の極めて短い部分となる。したが
って、塵埃が溜まるのはフィルタおよびフィルタの上流
側の狭い範囲に限られるので、塵埃の清掃が極めて簡単
になる。そして、例えばフィルタの下流側から所定の圧
力のエア（空気）を供給することにより、フィルタに詰
まった塵埃を上流側に吹き飛ばすことができるととも
に、フィルタから噴出するエアによって該フィルタの上
流側および吸引流路に溜まった塵埃を隔壁内に吹き飛ば
すことができる。したがって、プローブおよびフィルタ
を分解することなく容易に、フィルタおよびプローブ内
の清掃をすることができる。In the inventions according to claims 1 to 3 configured as described above, since the filter is provided in the probe, the flow path through which the gas containing dust flows is extremely short on the upstream side of the filter in the probe. It becomes a part. Therefore, since dust is collected only in the filter and a narrow range on the upstream side of the filter, cleaning of dust becomes extremely easy. Then, for example, by supplying air (air) having a predetermined pressure from the downstream side of the filter, the dust clogged in the filter can be blown off to the upstream side, and the air ejected from the filter sucks the upstream side and suction side of the filter. Dust collected in the flow path can be blown into the partition. Therefore, the inside of the filter and the probe can be easily cleaned without disassembling the probe and the filter.
【００１０】しかも、プローブにおけるフィルタの上流
側であって、該フィルタの近傍に冷却部が設けられてい
るので、フィルタに流入する直前のガスの温度を一定に
制御することができる。したがって、フィルタに流入す
るガスの温度をヒータ等の加熱手段で一定に制御する必
要がないので、部品点数およびコストの低減を図ること
ができる。また、プローブに冷却部を設けていることか
ら、例えばプローブでセメント焼成設備のサスペンショ
ンプレヒータ内の約８５０℃の排ガスを吸引した場合
に、プローブ内で、ＣａＣＯ３（炭酸カルシウム）がＣ
ａＯ（酸化カルシウム）とＣＯ２（二酸化炭素）に変化
するのを防止できる。したがって、隔壁内の排ガスの成
分を、プローブ内で発生したＣＯ２を加えたものとして
とらえ、誤った測定結果が生じてしまうのを防止するこ
とができる。Moreover, since the cooling unit is provided on the upstream side of the filter in the probe and in the vicinity of the filter, the temperature of the gas immediately before flowing into the filter can be controlled to be constant. Therefore, since it is not necessary to control the temperature of the gas flowing into the filter to a constant value by a heating means such as a heater, the number of parts and the cost can be reduced. Further, since the probe is provided with a cooling unit, for example, when exhaust gas of about 850 ° C. in the suspension preheater of the cement burning equipment is sucked by the probe, CaCO 3 (calcium carbonate) is converted into C in the probe.
It can prevent conversion to aO (calcium oxide) and CO 2 (carbon dioxide). Therefore, it is possible to prevent the component of the exhaust gas in the partition wall from being regarded as the one to which CO 2 generated in the probe is added and to generate an incorrect measurement result.
【００１１】請求項２に記載の発明においては、第１の
バルブを開状態にすることによってて、吸引手段からフ
ィルタおよびプローブに作用する吸引力をオン状態に
し、第２〜第４のバルブを閉状態にすることにより、隔
壁内のガスをプローブおよびフィルタを介して取り出す
ことができ、これにより隔壁内のガスの成分分析が可能
になる。According to the second aspect of the invention, the suction force acting on the filter and the probe from the suction means is turned on by opening the first valve, and the second to fourth valves are turned on. The closed state allows the gas in the partition wall to be taken out through the probe and the filter, which enables the component analysis of the gas in the partition wall.
【００１２】また、例えばフィルタに詰まった塵埃を排
除する際には、第１のバルブを閉状態にして、吸引手段
からフィルタおよびプローブに作用する吸引力をオフ状
態にする。そして、第２のバルブのみを開状態にして、
フィルタの下流側に所定の圧力のエアを供給する。そう
すると、エアがフィルタを下流側から上流側に流れるの
で、該フィルタに詰まった塵埃を上流側に吹き飛ばすこ
とができる。また、フィルタから噴出するエアは、フィ
ルタの周囲に溜まった塵埃やプローブの吸引流路に溜ま
った塵埃を隔壁内に排出することにもなる。Further, for example, when removing dust clogging the filter, the first valve is closed and the suction force acting from the suction means on the filter and the probe is turned off. Then, open only the second valve,
Air having a predetermined pressure is supplied to the downstream side of the filter. Then, air flows from the downstream side to the upstream side of the filter, so that the dust clogged in the filter can be blown off to the upstream side. Further, the air ejected from the filter also discharges the dust accumulated around the filter and the dust accumulated in the suction passage of the probe into the partition wall.
【００１３】さらに、上記のようにフィルタに詰まった
塵埃を吹き飛ばした後に、第２のバルブを閉状態にし、
第３のバルブのみを開状態にすることにより、フィルタ
の上流側に所定の圧力のエアを供給する。そうすると、
エアがフィルタの上流側の部分から吸引流路を通って隔
壁内に勢いよく噴出するので、フィルタから噴出するエ
アよりも確実に、フィルタの上流側や、吸引流路に溜ま
った塵埃を隔壁内に排出することができる。すなわち、
フィルタの周囲や吸引流路に溜まった塵埃をさらにきれ
いに清掃することができる。Further, after the dust clogged with the filter is blown off as described above, the second valve is closed.
By opening only the third valve, air having a predetermined pressure is supplied to the upstream side of the filter. Then,
The air blows out from the upstream side of the filter through the suction flow path into the partition, so that the dust collected in the upstream side of the filter and the suction flow path is more reliably stored in the partition than the air discharged from the filter. Can be discharged to. That is,
It is possible to further clean the dust accumulated around the filter and the suction flow path.
【００１４】次に、上記のように、フィルタの周囲およ
び吸引流路を清掃した後に、第３のバルブを閉状態に
し、第４のバルブのみを開状態にすることにより、ノズ
ルに所定の圧力のエアを供給する。そうすると、エアが
ノズルからプローブの吸引流路の先端部側に勢いよく噴
出するので、第３のバルブを開状態にしたときよりも確
実に、吸引流路の先端部に堆積した塵埃を取り除いて隔
壁内に排出することができる。Next, as described above, after cleaning the periphery of the filter and the suction flow path, the third valve is closed and only the fourth valve is opened so that the predetermined pressure is applied to the nozzle. Supply air. Then, the air is ejected from the nozzle toward the tip of the suction passage of the probe, so that the dust accumulated on the tip of the suction passage can be removed more reliably than when the third valve is opened. It can be discharged into the partition.
【００１５】そして、上記のように吸引流路の先端部の
塵埃を清掃した後に、第４のバルブを閉状態にし、第１
のバルブのみを開状態にすることにより、吸引手段の吸
引力がオン状態になり、プローブおよびフィルタを介し
て隔壁内のガスを吸引する状態になる。Then, after cleaning the dust at the tip of the suction flow path as described above, the fourth valve is closed and the first valve is closed.
By opening only this valve, the suction force of the suction means is turned on, and the gas in the partition wall is suctioned through the probe and the filter.
【００１６】以上のように、第１〜第４の各バルブの開
閉を切り替えることにより、ガスの成分測定、フィルタ
に詰まった塵埃の清掃、フィルタの周囲および吸引流路
の清掃、吸引流路の先端部の清掃を簡単に行うことがで
きる。As described above, by switching the opening and closing of each of the first to fourth valves, gas component measurement, cleaning of dust clogged in the filter, cleaning of the periphery of the filter and the suction passage, and suction passage The tip can be easily cleaned.
【００１７】請求項３に記載の発明においては、第１〜
第４の各バルブの開閉を制御手段によって自動的に行う
ことができるので、ガスの成分測定、フィルタに詰まっ
た塵埃の清掃、フィルタの周囲および吸引流路の清掃、
吸引流路の先端部の清掃を、全自動で行うことができ
る。したがって、隔壁内の塵埃を含むガスの成分測定を
連続的に行うことができる。According to the invention described in claim 3,
Since the opening and closing of each of the fourth valves can be automatically performed by the control means, gas component measurement, cleaning of dust clogged in the filter, cleaning of the periphery of the filter and the suction passage,
Cleaning of the tip of the suction channel can be performed fully automatically. Therefore, it is possible to continuously measure the component of the gas containing dust in the partition.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態とし
てのガスサンプリング装置について図面を参照して説明
する。図１において、１０はプローブであり、このプロ
ーブ１は、セメント焼成設備の排ガスの成分を測定する
ために設けられている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A gas sampling apparatus as an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, 10 is a probe, and this probe 1 is provided for measuring the components of the exhaust gas of the cement burning equipment.
【００１９】セメント焼成設備の概略の構成は、図４に
示すようになっている。すなわち、図において、１はサ
スペンションプレヒータ（以下「プレヒータ」とい
う）、２はロータリーキルン、３はクーラー、４は主燃
料バーナである。The general structure of the cement burning equipment is as shown in FIG. That is, in the figure, 1 is a suspension preheater (hereinafter referred to as "preheater"), 2 is a rotary kiln, 3 is a cooler, and 4 is a main fuel burner.
【００２０】プレヒータ１は、複数のサイクロン１ａ〜
１ｅをダクトＡ１〜Ａ５およびシュートＢ１〜Ｂ５で接
続した多段サイクロン式のもので構成されており、粉砕
されたセメント原料を、ロータリーキルン２の排ガスを
利用して所定温度（８００〜９００℃）まで余熱するよ
うになっている。すなわち、最上位置のダクトＡ１に投
入されたセメント原料は、サイクロン１ｂから流出する
排ガスの流れによって、サイクロン１ａに投入され、該
サイクロン１ａ内を沈降して、シュートＢ１から一段下
側のダクトＡ２に投入されることになる。このようし
て、セメント原料は、徐々に下方のサイクロンに移動す
ることになる。そして、最終的に最下位置のサイクロン
１ｅ内を沈降してシュートＢ５からロータリーキルン２
の窯尻部２ａに投入されることになる。最下位置のダク
トＡ５は、窯尻部２ａから流出する排ガスをサイクロン
１ｅ内に導入するようになっている。The preheater 1 includes a plurality of cyclones 1a.about.
It is composed of a multi-stage cyclone type in which 1e is connected by ducts A1 to A5 and chutes B1 to B5, and the crushed cement raw material is residual heat to a predetermined temperature (800 to 900 ° C) by using the exhaust gas of the rotary kiln 2. It is supposed to do. That is, the cement raw material charged into the uppermost duct A1 is charged into the cyclone 1a by the flow of the exhaust gas flowing out from the cyclone 1b, settles in the cyclone 1a, and moves from the chute B1 to the duct A2 one step below. Will be thrown in. In this way, the cement raw material gradually moves to the cyclone below. Finally, the cyclone 1e at the lowest position is settled and the chute B5 to the rotary kiln 2
It will be thrown into the kiln butt portion 2a. The duct A5 at the lowest position is adapted to introduce the exhaust gas flowing out from the kiln butt portion 2a into the cyclone 1e.
【００２１】ロータリーキルン２は、その回転によっ
て、セメント原料を徐々に窯前部２ｂ側に移動させ、こ
の間に窯前部２ｂに設けた主燃料バーナ４で加熱するこ
とによって、該セメント原料をクリンカに焼成するよう
になっている。クリンカは、クーラー３で冷却された
後、仕上工程に送られることになる。そして、クーラー
３でクリンカの冷却に使われた空気は、主燃料バーナ４
から噴出する燃料の燃焼のために使われ、高温の燃焼ガ
スとなって窯尻部２ａ側に移動し、排ガスとなって窯尻
部２ａからダクトＡ５内へと流出することになる。した
がって、窯尻部２ａから流出する排ガスの成分を測定す
ることにより、主燃料バーナ４の燃焼状態を管理するこ
とが可能になる。The rotary kiln 2 gradually moves the cement raw material toward the kiln front portion 2b by its rotation, and heats the cement raw material by the main fuel burner 4 provided in the kiln front portion 2b to make the cement raw material into a clinker. It is designed to be baked. The clinker is sent to the finishing process after being cooled by the cooler 3. The air used for cooling the clinker in the cooler 3 is the main fuel burner 4
It is used for combustion of fuel ejected from the furnace, becomes high-temperature combustion gas, moves to the kiln butt portion 2a side, and becomes exhaust gas, and flows out from the kiln butt portion 2a into the duct A5. Therefore, the combustion state of the main fuel burner 4 can be managed by measuring the components of the exhaust gas flowing out from the kiln butt portion 2a.
【００２２】上記プローブ１０は、窯尻部２ａから流出
直後の排ガスを案内するダクトＡ５内から排ガスを取り
出して成分を測定するために設けられている。すなわ
ち、図１において、Ａ５１は、排ガスを囲むダクトＡ５
の隔壁であり、この隔壁Ａ５１には、プローブ１０の挿
入孔Ａ５２が設けられている。また、隔壁Ａ５１の外壁
面には、挿入孔Ａ５２と同軸状に円筒状のスペーサ部材
１２が固定されるようになっている。スペーサ部材１２
は、軸方向の一方のフランジ部１２ａを介してねじによ
り隔壁Ａ５１に固定されるようになっており、軸方向の
他方のフランジ部１２ｂを介してプローブ１０をねじで
固定するようになっている。The probe 10 is provided to take out the exhaust gas from the duct A5 for guiding the exhaust gas immediately after flowing out from the kiln butt portion 2a and measure the components. That is, in FIG. 1, A51 is a duct A5 surrounding the exhaust gas.
The partition wall A51 is provided with an insertion hole A52 for the probe 10. A cylindrical spacer member 12 is fixed to the outer wall surface of the partition wall A51 coaxially with the insertion hole A52. Spacer member 12
Is fixed to the partition wall A51 with a screw via one axial flange portion 12a, and the probe 10 is fixed with a screw via the other axial flange portion 12b. .
【００２３】プローブ１０は、本体部１０ａと、この本
体部１０ａの基端側に設けられた連結部１０ｂとを備え
た構成になっている。本体部１０ａは、円筒状の内管１
０ｃと外管１０ｄとを同軸状に二重に配置し、これらの
間の先端と基端を閉塞したものとなっている。特に、基
端は、フランジ１０ｅによって閉塞されている。また、
内管１０ｃの外壁面には、図３に示すように、周方向に
４等分する各位置に、円筒を直径の位置で半分に分割し
た形状の溝状部材１０ｆが溶接等により固定されてい
る。The probe 10 has a body portion 10a and a connecting portion 10b provided on the base end side of the body portion 10a. The main body 10a is a cylindrical inner tube 1
0c and the outer tube 10d are coaxially doubly arranged, and the front end and the base end between them are closed. In particular, the base end is closed by the flange 10e. Also,
As shown in FIG. 3, on the outer wall surface of the inner pipe 10c, groove-shaped members 10f each having a shape obtained by dividing a cylinder into halves at a diameter position are fixed by welding or the like at respective positions equally divided into four in the circumferential direction. There is.
【００２４】各溝状部材１０ｆは、図１に示すように、
内管１０ｃの基端近傍から先端近傍まで延在するように
設けられている。そして、各溝状部材１０ｆは、その基
端部が流入室１０ｇに通じるものとなっている。流入室
１０ｇは、内管１０ｃと外管１０ｄとの間の基端部に設
けた閉塞した空間によって形成されている。そして、外
管１０ｄには、流入室１０ｇに通じる冷却水の流入口１
０ｈが設けられている。また、外管１０ｄには、その基
端側における流入室１０ｇの近傍位置に、外管１０ｄ内
に通じる冷却水の流出口１０ｉが設けられている。すな
わち、流入口１０ｈから流入した冷却水は、流入室１０
ｇに流入した後、各溝状部材１０ｆ内を先端側に移動し
て、該先端から内管１０ｃと外管１０ｄとの間に流出
し、この間を基端側に逆流して、流出口１０ｉから流出
するようになっている。そして、流入口１０ｈは、図２
に示すように、水配管２１、流量計２２等を介して冷却
水供給源２３に連結されており、流出口１０ｉは、水配
管２４、フロースイッチ２５等を介して冷却水排水口２
６に連結されている。Each groove-shaped member 10f, as shown in FIG.
The inner pipe 10c is provided so as to extend from the vicinity of the proximal end to the vicinity of the distal end. Each groove-shaped member 10f has its base end communicated with the inflow chamber 10g. The inflow chamber 10g is formed by a closed space provided at the base end portion between the inner pipe 10c and the outer pipe 10d. Then, the outer pipe 10d has an inlet 1 for cooling water leading to the inflow chamber 10g.
0h is provided. Further, the outer pipe 10d is provided with a cooling water outlet 10i communicating with the inside of the outer pipe 10d at a position near the inflow chamber 10g on the base end side thereof. That is, the cooling water that has flowed in from the inflow port 10h is
After flowing into g, it moves to the tip side in each groove-shaped member 10f, flows out between the inner tube 10c and the outer tube 10d from the tip, and flows back to the base end side between these, and the outlet 10i. It is supposed to flow out from. The inlet 10h is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the cooling water supply source 23 is connected via a water pipe 21, a flow meter 22 and the like, and the outlet 10i is connected to the cooling water drain port 2 via a water pipe 24, a flow switch 25 and the like.
It is connected to 6.
【００２５】また、外管１０ｄにおける軸方向の所定の
位置には、図１に示すように、スペーサ部材１２のフラ
ンジ部１２ｂにねじで固定するためのフランジ１０ｊが
設けられている。Further, as shown in FIG. 1, a flange 10j for fixing to the flange portion 12b of the spacer member 12 with a screw is provided at a predetermined axial position on the outer tube 10d.
【００２６】一方、上記連結部１０ｂは、内管１０ｃと
同径の円管部１０ｋと、この円管部１０ｋの軸方向の一
端部に設けられたフランジ１０ｍと、円管部１０ｋの軸
方向の他端部に設けられたフランジ１０ｎとによって一
体に形成されている。そして、連結部１０ｂは、フラン
ジ１０ｍを本体部１０ａのフランジ１０ｅにねじで固定
することにより、本体部１０ａと同軸状に連結されるよ
うになっている。On the other hand, the connecting portion 10b includes a circular pipe portion 10k having the same diameter as the inner pipe 10c, a flange 10m provided at one axial end of the circular pipe portion 10k, and an axial direction of the circular pipe portion 10k. Is integrally formed with a flange 10n provided at the other end of the. The connecting portion 10b is configured to be coaxially connected to the main body portion 10a by fixing the flange 10m to the flange 10e of the main body portion 10a with a screw.
【００２７】また、円管部１０ｋには、エア流入口１０
ｐが設けられており、このエア流入口１０ｐには、円管
部１０ｋの軸心部および内管１０ｃの軸心部を通って、
プローブ１０の先端に対して所定量手前の位置まで延在
するノズル１０ｑが連結されている。ノズル１０ｑは、
その噴出口がプローブ１０の先端側に向けられている。The air inlet 10 is provided in the circular pipe portion 10k.
p is provided, and the air inlet 10p passes through the axial center portion of the circular pipe portion 10k and the axial center portion of the inner pipe 10c,
A nozzle 10q is connected to the tip of the probe 10 and extends to a position before a predetermined amount. The nozzle 10q is
The ejection port is directed to the tip side of the probe 10.
【００２８】そして、プローブ１０は、内管１０ｃおよ
び円管部１０ｋの内側が吸引流路１０ｒになっており、
また内管１０ｃおよび外管１０ｄによる二重管の部分が
冷却部１０ｓになっている。Further, in the probe 10, the inside of the inner tube 10c and the circular tube portion 10k is a suction channel 10r,
Further, the double pipe portion including the inner pipe 10c and the outer pipe 10d serves as a cooling unit 10s.
【００２９】また、エア流入口１０ｐは、図２に示すよ
うに、プローブパージ配管３１を介して第４の電磁バル
ブ（第４のバルブ）ＭＶ４に連結され、さらに第５の電
磁バルブ（第５の電磁バルブ）ＭＶ５、レギュレータ３
４、エアフィルタ３５等を介してエア源３６に連結され
ている。As shown in FIG. 2, the air inlet 10p is connected to a fourth electromagnetic valve (fourth valve) MV4 via a probe purge pipe 31, and further a fifth electromagnetic valve (fifth electromagnetic valve). Electromagnetic valve) MV5, regulator 3
4, and is connected to an air source 36 via an air filter 35 and the like.
【００３０】また、プローブ１０の基端部には、図１に
示すように、フィルタユニット１１が設けられている。
このフィルタユニット１１は、連結部１０ｂのフランジ
１０ｎにねじで固定されるフランジ１１ｂを有するケー
シング１１ａと、このケーシング１１ａ内に設けられた
カートリッジ式のフィルタ１１ｃとを備えている。A filter unit 11 is provided at the base end of the probe 10, as shown in FIG.
The filter unit 11 includes a casing 11a having a flange 11b fixed to the flange 10n of the connecting portion 10b with a screw, and a cartridge-type filter 11c provided in the casing 11a.
【００３１】ケーシング１１ａには、その基端部におけ
るフィルタ１１ｃの上流側の位置に、エアパージ口１１
ｄが設けられているとともに、フィルタ１１ｃの下流側
の位置にエア吸引口１１ｅが設けられている。The casing 11a has an air purge port 11 at a position on the upstream side of the filter 11c at the base end thereof.
d is provided, and an air suction port 11e is provided at a position on the downstream side of the filter 11c.
【００３２】そして、エアパージ口１１ｄは、図２に示
すように、外吹パージ配管３７を介して第３の電磁バル
ブ（第３のバルブ）ＭＶ３に連結され、さらに第５の電
磁バルブＭＶ５、レギュレータ３４、エアフィルタ３５
等を介してエア源３６に連結されている。また、エア吸
引口１１ｅは、吸引配管３９を介して第１の電磁バルブ
ＭＶ１に連結され、さらにドレンセパレータ４１、サン
プリングポンプ（吸引手段）４３、フィルタ４４、冷却
装置４５を介してガス測定器４６に連結されている。As shown in FIG. 2, the air purge port 11d is connected to a third electromagnetic valve (third valve) MV3 through an external blowing purge pipe 37, and further a fifth electromagnetic valve MV5 and a regulator. 34, air filter 35
And the like, and is connected to the air source 36. Further, the air suction port 11e is connected to the first electromagnetic valve MV1 via a suction pipe 39, and further, via a drain separator 41, a sampling pump (suction means) 43, a filter 44, and a cooling device 45, a gas measuring device 46. Are linked to.
【００３３】ドレンセパレータ４１で分離されたドレン
は、コンデンスポット４７を介してドレンポット４８に
回収されるようになっている。また、冷却装置４５の手
前あるいは冷却装置４５内で発生したドレンは、ドレン
ポット４９に回収された後、ドレン排出口５０から排出
されるようになっている。さらに、上述したエアフィル
タ３５で発生したドレンもドレン排出口５１から排出さ
れるようになっている。The drain separated by the drain separator 41 is collected in the drain pot 48 via the condens spot 47. The drain generated before the cooling device 45 or in the cooling device 45 is collected in the drain pot 49 and then discharged from the drain discharge port 50. Further, the drain generated in the air filter 35 described above is also discharged from the drain discharge port 51.
【００３４】一方、上記吸引配管３９における第１の電
磁バルブＭＶ１の上流側の位置には、内吹パージ配管５
２を介して第２の電磁バルブＭＶ２が連結され、さらに
第５の電磁バルブＭＶ５、レギュレータ３４、エアフィ
ルタ３５等を介してエア源３６に連結されている。On the other hand, at the position on the upstream side of the first electromagnetic valve MV1 in the suction pipe 39, the internal blowing purge pipe 5
The second electromagnetic valve MV2 is connected via 2 and is further connected to the air source 36 via the fifth electromagnetic valve MV5, the regulator 34, the air filter 35 and the like.
【００３５】また、上記第１〜第５の電磁バルブＭＶ
１、ＭＶ２、ＭＶ３、ＭＶ４、ＭＶ５は、図示しない制
御装置（制御手段）によって制御されるようになってい
る。この制御装置は、表１に示すように、隔壁Ａ５１内
からガスを取り出す（（１）ガスサンプリング）の際に
は、第１の電磁バルブＭＶ１のみを開状態にし、第２〜
第５の電磁バルブＭＶ２、ＭＶ３、ＭＶ４、ＭＶ５を閉
状態に維持するようになっている。また、隔壁Ａ５１内
のダスト濃度（塵埃濃度）に応じて設定された所定の時
間ごとに、第１〜第５の電磁バルブＭＶ１、ＭＶ２、Ｍ
Ｖ３、ＭＶ４、ＭＶ５の開閉を制御することにより、フ
ィルタ１１ｃ、ケーシング１１ａ内およびプローブ１０
内の塵埃をパージして、ガスサンプリングが不能になる
のを防止するようになっている。Further, the above-mentioned first to fifth electromagnetic valves MV
1, MV2, MV3, MV4 and MV5 are controlled by a control device (control means) not shown. As shown in Table 1, this control device opens only the first electromagnetic valve MV1 when extracting gas from the partition wall A51 ((1) gas sampling), and
The fifth electromagnetic valves MV2, MV3, MV4 and MV5 are maintained in the closed state. In addition, the first to fifth electromagnetic valves MV1, MV2, M are set every predetermined time set according to the dust concentration (dust concentration) in the partition wall A51.
By controlling the opening and closing of V3, MV4, and MV5, the filter 11c, the casing 11a, and the probe 10 are controlled.
The dust inside is purged to prevent the gas sampling from being disabled.
【００３６】そして、制御装置は、塵埃をパージする際
には、まず第１の電磁バルブＭＶ１を閉じた後に、第５
の電磁バルブＭＶ５を開くとともに、第２の電磁バルブ
ＭＶ２の開閉を繰り返させて、パルス状に圧力および流
速が変化するエアをフィルタ１１ｃの下流側に供給し
（（２）内吹パージ）、その後第２の電磁バルブＭＶ２
を閉じるとともに、第３の電磁バルブＭＶ３の開閉を繰
り返させて、パルス状に圧力および流速が変化するエア
をフィルタ１１ｃの上流側に供給し（（３）外吹パー
ジ）、その後第３の電磁バルブＭＶ３を閉じるととも
に、第４の電磁バルブＭＶ４の開閉を繰り返させて、パ
ルス状に圧力および流速が変化するエアをノズル１０ｇ
に供給し（（４）プローブパージ）、その後第４の電磁
バルブＭＶ４を閉じるとともに、第５の電磁バルブＭＶ
５を閉じてから、第１の電磁バルブＭＶ１を開いて、
（１）ガスサンプリングを続行する制御を行うようにな
っている。When purging dust, the control device first closes the first electromagnetic valve MV1 and then the fifth electromagnetic valve MV1.
The electromagnetic valve MV5 is opened and the second electromagnetic valve MV2 is repeatedly opened and closed to supply the air whose pressure and flow velocity change in a pulsed manner to the downstream side of the filter 11c ((2) internal blowing purge). Second electromagnetic valve MV2
And the third electromagnetic valve MV3 is repeatedly opened and closed to supply the air whose pressure and flow velocity change in a pulsed manner to the upstream side of the filter 11c ((3) outside blowing purge), and then the third electromagnetic valve. While the valve MV3 is closed and the fourth electromagnetic valve MV4 is repeatedly opened and closed, air whose pulse-like pressure and flow velocity change is supplied to the nozzle 10g.
((4) probe purge), and then the fourth electromagnetic valve MV4 is closed and the fifth electromagnetic valve MV is closed.
5 is closed, then the first electromagnetic valve MV1 is opened,
(1) The control for continuing the gas sampling is performed.
【００３７】なお、図２において、Ｓは手動のストップ
バルブを示している。In FIG. 2, S indicates a manual stop valve.
【００３８】[0038]
【表１】 [Table 1]
【００３９】上記のように構成されたガスサンプリング
装置においては、プローブ１０がスペーサ部材１２を介
して隔壁Ａ５１に固定されるようになっているので、ス
ペーサ部材１２の軸方向の寸法によって、プローブ１０
が隔壁Ａ５１内に突出する量を設定することができる。In the gas sampling apparatus configured as described above, the probe 10 is fixed to the partition wall A51 via the spacer member 12, so that the probe 10 is fixed depending on the axial dimension of the spacer member 12.
It is possible to set the amount by which the protrusions enter the partition wall A51.
【００４０】そして、第１の電磁バルブＭＶ１を開状態
にするとともに、第２〜第５の電磁バルブＭＶ２、ＭＶ
３、ＭＶ４、ＭＶ５を閉状態にし、かつサンプリングポ
ンプ４３を作動させることにより、サンプリングポンプ
４３の吸引力をフィルタ１１ｃを介してプローブ１０の
吸引流路１０ｒに作用させることができる。このため、
隔壁Ａ５１内のガスを吸引流路１０ｒ、フィルタ１１ｃ
を介して取り出すことができる。ここで取り出されたガ
スは、第１の電磁バルブＭＶ１、ドレンセパレータ４
１、サンプリングポンプ４３、フィルタ４４、冷却装置
４５を介してガス測定器４６で成分を測定することがで
きる。Then, the first electromagnetic valve MV1 is opened and the second to fifth electromagnetic valves MV2 and MV are opened.
By closing 3, MV4 and MV5 and operating the sampling pump 43, the suction force of the sampling pump 43 can be applied to the suction passage 10r of the probe 10 via the filter 11c. For this reason,
The gas in the partition A51 is sucked into the suction passage 10r and the filter 11c.
Can be taken out through. The gas taken out here is the first electromagnetic valve MV1 and the drain separator 4
The components can be measured by the gas measuring device 46 via the sampling pump 43, the filter 44, and the cooling device 45.
【００４１】また、ガスに含まれる塵埃は、プローブ１
０の吸引流路１０ｒとフィルタ１１ｃの上流側の狭い範
囲に溜まることになる。したがって、塵埃の清掃が極め
て簡単になる。Further, the dust contained in the gas is detected by the probe 1
It will be accumulated in a narrow range on the upstream side of the suction passage 10r of 0 and the filter 11c. Therefore, cleaning of dust becomes extremely easy.
【００４２】また、上記塵埃の清掃は、制御装置によっ
て、所定の時間経過するごとに、自動的に行われる。そ
の清掃の手順は表１の（２）〜（５）に示すようにな
る。まず、第１の電磁バルブＭＶ１が開、第２〜第５の
電磁バルブＭＶ２、ＭＶ３、ＭＶ４、ＭＶ５が閉の状態
から、第１の電磁バルブＭＶ１を閉状態にするととも
に、第５の電磁バルブＭＶ５を開状態にし、かつ第２の
電磁バルブＭＶ２の開閉を繰り返す状態にする（２）。
これにより、サンプリングポンプ４３からフィルタ１１
ｃおよびプローブ１０に作用する吸引力がオフになると
ともに、エア源３６から供給される所定の圧力のエアが
パルス状の圧力および流速のエアとなって、フィルタ１
１ｃの下流側に作用することになる。このため、フィル
タ１１ｃには下流側から上流側に繰り返し空気が流れる
ので、定常的にエアを流す場合に比して効率良く、フィ
ルタ１１ｃに詰まった塵埃を上流側に吹き飛ばすことが
できる。また、この際にフィルタ１１ｃから取り除かれ
た塵埃は、その一部がフィルタ１１ｃから吹き出すエア
の流れに乗って上流側に流れ、吸引流路１０ｒを通って
隔壁Ａ５１内に排出されることになる。Further, the cleaning of the dust is automatically performed by the controller every time a predetermined time elapses. The cleaning procedure is shown in (2) to (5) of Table 1. First, the first electromagnetic valve MV1 is opened and the second to fifth electromagnetic valves MV2, MV3, MV4, MV5 are closed, and then the first electromagnetic valve MV1 is closed and the fifth electromagnetic valve MV1 is closed. The MV5 is opened and the second electromagnetic valve MV2 is repeatedly opened and closed (2).
As a result, the sampling pump 43 to the filter 11
The suction force acting on c and the probe 10 is turned off, and the air of the predetermined pressure supplied from the air source 36 becomes the air of the pulsed pressure and the flow velocity.
It will act on the downstream side of 1c. Therefore, the air repeatedly flows from the downstream side to the upstream side of the filter 11c, so that the dust clogged in the filter 11c can be blown off to the upstream side more efficiently than in the case where the air is constantly flowed. In addition, the dust removed from the filter 11c at this time is partly carried by the flow of air blown out from the filter 11c, flows upstream, and is discharged into the partition wall A51 through the suction passage 10r. .
【００４３】第２の電磁バルブＭＶ２の開閉が所定時間
繰り返された後は、第２の電磁バルブＭＶ２を閉状態に
切り換えるとともに、第３の電磁バルブＭＶ３の開閉を
繰り返す状態にする（３）。これにより、エア源３６か
ら供給される所定の圧力のエアがパルス状の圧力および
流速のエアとなって、エアパージ口１１ｄからケーシン
グ１１ａ内のフィルタ１１ｃの上流部の周囲に噴出する
とともに、このエアが吸引流路１０ｒを通って隔壁Ａ５
１内に噴出することになる。そして、エアの圧力および
流速がパルス状に急激に変化することから、定常的に高
速のエアが流れる場合に比して効率良く、フィルタ１１
ｃの周囲や、ケーシング１１ａ内や、吸引流路１０ｒに
溜まった塵埃を隔壁Ａ５１内に噴出させることができ
る。After the opening and closing of the second electromagnetic valve MV2 is repeated for a predetermined time, the second electromagnetic valve MV2 is switched to the closed state and the opening and closing of the third electromagnetic valve MV3 is repeated (3). As a result, the air having the predetermined pressure supplied from the air source 36 becomes the air having the pulsed pressure and the flow velocity, and is ejected from the air purge port 11d to the vicinity of the upstream portion of the filter 11c in the casing 11a, and this air is also ejected. Through the suction channel 10r
It will squirt into 1. Then, since the pressure and the flow velocity of the air rapidly change in a pulsed manner, the filter 11 is more efficient than the case where the high-speed air constantly flows.
Dust collected around c, inside the casing 11a, or in the suction passage 10r can be ejected into the partition A51.
【００４４】第３の電磁バルブＭＶ３の開閉が所定時間
繰り返された後は、第３の電磁バルブＭＶ３を閉状態に
切り換えるとともに、第４の電磁バルブＭＶ４の開閉を
繰り返す状態にする（４）。これにより、エア源３６か
ら供給された所定の圧力のエアがパルス状の圧力および
流速のエアとなって、ノズル１０ｇから高速で噴出する
ことになる。しかも、エアの圧力および流速がパルス状
に急激に変化するので、定常的に高速のエアを噴出する
場合に比して効率良く、吸引流路１０ｒの先端部に付着
した塵埃を隔壁Ａ５１内に排出することができる。After the opening and closing of the third electromagnetic valve MV3 is repeated for a predetermined time, the third electromagnetic valve MV3 is switched to the closed state and the opening and closing of the fourth electromagnetic valve MV4 is repeated (4). As a result, the air of the predetermined pressure supplied from the air source 36 becomes the air of the pulse pressure and the flow velocity, and is jetted from the nozzle 10g at a high speed. Moreover, since the pressure and the flow velocity of the air suddenly change in a pulsed manner, the dust adhering to the tip of the suction passage 10r can be efficiently introduced into the partition wall A51 as compared with the case of constantly ejecting high-speed air. Can be discharged.
【００４５】そして、第４の電磁バルブＭＶ４の電磁バ
ルブＭＶ３の開閉が所定時間繰り返された後は、第４の
電磁バルブＭＶ４および第５の電磁バルブＭＶ５を閉状
態に切り換えるとともに、第１の電磁バルブＭＶ１を開
状態に切り換える（５）。これにより、プローブ１０お
よびフィルタ１１ｃを介して隔壁Ａ５１内のガスを吸引
してこのガスの成分を測定することが可能になる。After the opening and closing of the electromagnetic valve MV3 of the fourth electromagnetic valve MV4 is repeated for a predetermined time, the fourth electromagnetic valve MV4 and the fifth electromagnetic valve MV5 are switched to the closed state and the first electromagnetic valve MV5 is closed. The valve MV1 is switched to the open state (5). This makes it possible to suck the gas in the partition A51 through the probe 10 and the filter 11c and measure the component of this gas.
【００４６】以上のように、ガスの成分測定の続行や、
フィルタ１１ｃに詰まった塵埃の清掃、フィルタ１１ｃ
の周囲および吸引流路１０ｒの清掃、吸引流路１０ｒの
先端部の清掃を全自動で行うことができる。したがっ
て、隔壁Ａ５１内の塵埃を含むガスの成分測定を連続的
に行うことができる。As described above, the measurement of gas components is continued,
Cleaning dust clogging the filter 11c, filter 11c
The cleaning of the periphery of the suction channel 10r and the suction channel 10r and the cleaning of the tip of the suction channel 10r can be performed fully automatically. Therefore, it is possible to continuously measure the component of the gas containing dust in the partition A51.
【００４７】しかも、プローブ１０の冷却部１０ｓの近
傍にフィルタ１１ｃを設けているので、フィルタ１１ｃ
に流入するガスの温度を一定に制御することができる。
したがって、フィルタ１１ｃに流入するガスの温度をヒ
ータ等で制御する必要がないので、部品点数およびコス
トの低減を図ることができる。Moreover, since the filter 11c is provided in the vicinity of the cooling portion 10s of the probe 10, the filter 11c
It is possible to control the temperature of the gas flowing into the chamber at a constant level.
Therefore, since it is not necessary to control the temperature of the gas flowing into the filter 11c with a heater or the like, the number of parts and the cost can be reduced.
【００４８】また、プローブ１０に冷却部１０ｓを設け
ていることから、窯尻部２ａから流出した例えば８５０
℃の排ガスを吸引しても、吸引後即座に温度を下げるこ
とができるので、プローブ１０内で、ＣａＣＯ３がＣａ
ＯとＣＯ２に変化するのを防止することができる。した
がって、隔壁Ａ５１内の排ガスの成分を、プローブ１０
内で発生したＣＯ２を加えたものとしてとらえ、誤った
測定結果が生じてしまうのを防止することができる。Further, since the probe 10 is provided with the cooling part 10s, for example, 850 flowing out from the kiln butt part 2a.
Even if the exhaust gas of ℃ is sucked, the temperature can be lowered immediately after the suction, so that CaCO 3 is not changed to Ca in the probe 10.
It is possible to prevent the change to O and CO 2 . Therefore, the components of the exhaust gas in the partition wall A51 are detected by the probe 10
It is possible to prevent the generation of an erroneous measurement result by treating it as the one to which CO 2 generated inside is added.
【００４９】なお、上記実施の形態においては、塵埃を
パージする際に、第２〜第４の各電磁バルブＭＶ２、Ｍ
Ｖ３、ＭＶ４について開閉を繰り返すように構成した
が、上記各電磁バルブＭＶ２、ＭＶ３、ＭＶ４を開状態
に維持することにより、定常的な圧力および流速のエア
をフィルタ１１ｃ等に供給するように構成してもよい。In the above embodiment, when purging dust, the second to fourth electromagnetic valves MV2 and M are used.
The V3 and MV4 are configured to be repeatedly opened and closed. However, by maintaining the electromagnetic valves MV2, MV3, and MV4 in the open state, the air having a constant pressure and flow velocity is configured to be supplied to the filter 11c and the like. May be.
【００５０】また、プローブ１０は、プレヒータ１の最
下位置のダクトＡ５に設けるように構成したが、他のダ
クトＡ１〜Ａ４やその他の位置に設けるようにしてもよ
い。そしてさらに、プローブ１０は、セメント焼成設備
の排ガス以外に、例えば溶鉱炉の排ガス、焼却炉の排ガ
ス等の高濃度の塵埃を含む高温雰囲気内のガスの成分を
測定するために用いてもよいことはいうまでもない。Although the probe 10 is arranged in the duct A5 at the lowest position of the preheater 1, it may be arranged in the other ducts A1 to A4 or in other positions. Further, the probe 10 may be used to measure a gas component in a high-temperature atmosphere containing high-concentration dust such as exhaust gas from a blast furnace and exhaust gas from an incinerator, in addition to the exhaust gas from a cement burning facility. Needless to say.
【００５１】[0051]
【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜３に記
載の発明によれば、塵埃が溜まるのはフィルタおよびフ
ィルタの上流側の狭い範囲に限られるので、塵埃の清掃
が極めて簡単になる。しかも、プローブにおけるフィル
タの上流側であって、該フィルタの近傍に冷却部が設け
られているので、フィルタに流入する直前のガスの温度
を一定に制御することができる。したがって、フィルタ
に流入するガスの温度をヒータ等の加熱手段で一定に制
御する必要がないので、部品点数およびコストの低減を
図ることができる。As described above, according to the invention described in claims 1 to 3, since dust is collected only in the filter and a narrow area on the upstream side of the filter, it is extremely easy to clean the dust. Become. Moreover, since the cooling unit is provided on the upstream side of the filter in the probe and in the vicinity of the filter, the temperature of the gas immediately before flowing into the filter can be controlled to be constant. Therefore, since it is not necessary to control the temperature of the gas flowing into the filter to a constant value by a heating means such as a heater, the number of parts and the cost can be reduced.
【００５２】請求項２に記載の発明によれば、第１〜第
４の各バルブの開閉を切り替えることにより、ガスの成
分測定、フィルタに詰まった塵埃の清掃、フィルタの周
囲および吸引流路の清掃、吸引流路の先端部の清掃を簡
単に行うことができる。According to the second aspect of the present invention, by switching the opening and closing of each of the first to fourth valves, the gas component measurement, the cleaning of dust clogged in the filter, the surroundings of the filter and the suction flow path are performed. It is possible to easily perform cleaning and cleaning of the tip portion of the suction passage.
【００５３】請求項３に記載の発明によれば、第１〜第
４の各バルブの開閉を制御手段によって自動的に行うこ
とができるので、ガスの成分測定、フィルタに詰まった
塵埃の清掃、フィルタの周囲および吸引流路の清掃、吸
引流路の先端部の清掃を、全自動で行うことができる。
したがって、隔壁内の塵埃を含むガスの成分測定を連続
的に行うことができる。According to the third aspect of the invention, since the control means can automatically open and close each of the first to fourth valves, gas component measurement, cleaning of dust clogged in the filter, It is possible to fully automatically clean the periphery of the filter, the suction flow passage, and the tip of the suction flow passage.
Therefore, it is possible to continuously measure the component of the gas containing dust in the partition.
【図１】この発明の一実施の形態として示したガスサン
プリング装置の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a gas sampling device shown as an embodiment of the present invention.
【図２】同ガスサンプリング装置で取り出したガスの成
分を測定するための回路およびガスサンプリング装置に
パージエアを供給するための回路を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a circuit for measuring a gas component taken out by the gas sampling apparatus and a circuit for supplying purge air to the gas sampling apparatus.
【図３】同ガスサンプリング装置における冷却部の断面
図である。FIG. 3 is a sectional view of a cooling unit in the gas sampling apparatus.
【図４】同ガスサンプリング装置を取り付けてガスサン
プリングする装置の一例として示したセメント焼成設備
の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of cement burning equipment shown as an example of an apparatus for mounting a gas sampling apparatus and performing gas sampling.
１０ プローブ １０ｑ ノズル １０ｒ 吸引流路 １０ｓ 冷却部 １１ｃ フィルタ ３６ エア源 ４３ ガスサンプリングポンプ（吸引手段） Ａ５１ 隔壁 ＭＶ１ 第１の電磁バルブ（第１のバルブ） ＭＶ２ 第２の電磁バルブ（第２のバルブ） ＭＶ３ 第３の電磁バルブ（第３のバルブ） ＭＶ４ 第４の電磁バルブ（第４のバルブ） 10 probes 10q nozzle 10r suction channel 10s cooling unit 11c filter 36 Air source 43 Gas sampling pump (suction means) A51 bulkhead MV1 First electromagnetic valve (first valve) MV2 Second electromagnetic valve (second valve) MV3 Third electromagnetic valve (third valve) MV4 4th solenoid valve (4th valve)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川内 兼司 福岡県京都郡苅田町松原町12番地 三菱マ テリアル株式会社九州工場内 Ｆターム(参考） 2G052 AA02 AB01 AB06 AC24 AC25 AC27 AD04 AD24 AD42 BA03 BA14 CA04 CA12 DA09 DA26 EA03 EB12 ED10 GA00 HA01 HA15 HC03 HC09 HC28 HC40 HC42 JA04 JA09 4G012 KA08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Kenji Kawauchi 12 Matsubara-cho, Kanda-cho, Kyoto-gun, Fukuoka Prefecture Terial Kyushu Factory F term (reference) 2G052 AA02 AB01 AB06 AC24 AC25 AC27 AD04 AD24 AD42 BA03 BA14 CA04 CA12 DA09 DA26 EA03 EB12 ED10 GA00 HA01 HA15 HC03 HC09 HC28 HC40 HC42 JA04 JA09 4G012 KA08
Claims (3)
測定するために、上記雰囲気を囲む隔壁の外方に上記ガ
スを取り出すためのガスサンプリング装置であって、 先端部が上記隔壁内に挿入され、吸引手段の吸引力が導
入される吸引流路を介して、上記塵埃を含むガスを上記
隔壁内から取り出すためのプローブと、 このプローブに設けられ、上記塵埃を含むガスが上記吸
引力に引かれて下流側に流れる過程で該ガスの除塵を行
うフィルタとを備えてなり、 上記プローブには、上記フィルタの上流側に、上記吸引
流路を筒状に囲む冷却部が設けられていることを特徴と
するガスサンプリング装置。1. A gas sampling device for taking out the gas to the outside of a partition wall surrounding the atmosphere in order to measure the components of the gas in the atmosphere in which dust is mixed, the tip of which is inside the partition wall. A probe for inserting the dust-containing gas from the partition wall through a suction flow path that is inserted and into which the suction force of the suction means is introduced; And a filter that removes dust of the gas in the process of flowing to the downstream side, and the cooling unit that surrounds the suction passage in a tubular shape is provided on the upstream side of the filter in the probe. Gas sampling device characterized in that
ン、オフを行うための第１のバルブと、 エア源から供給される所定の圧力のエアを上記フィルタ
の下流側に供給するための第２のバルブと、 上記エア源から供給される所定の圧力のエアを上記フィ
ルタの上流側に供給するための第３のバルブと、 上記プローブの吸引流路内にあって噴出口が上記先端部
側に向けられたノズルに、上記エア源から供給される所
定の圧力のエアを供給するための第４のバルブとを備え
ていることを特徴とする請求項１に記載のガスサンプリ
ング装置。2. A first valve for turning on and off a suction force acting from the suction means, and a first valve for supplying air of a predetermined pressure supplied from an air source to the downstream side of the filter. No. 2 valve, a third valve for supplying air of a predetermined pressure supplied from the air source to the upstream side of the filter, and a jet port in the suction flow path of the probe having the tip end portion. The gas sampling device according to claim 1, further comprising: a fourth valve for supplying air having a predetermined pressure supplied from the air source to the nozzle directed to the side.
２のバルブを開いて、上記エアを上記フィルタの下流側
に供給し、その後上記第２のバルブを閉じるとともに、
上記第３のバルブを開いて、上記エアを上記フィルタの
上流側に供給し、その後上記第３のバルブを閉じるとと
もに、上記第４のバルブを開いて、上記エアを上記ノズ
ルに供給し、その後上記第４のバルブを閉じるととも
に、上記第１のバルブを開いて、ガスのサンプリングを
続行する制御手段を備えたことを特徴とする請求項２に
記載のガスサンプリング装置。3. After closing the first valve, opening the second valve to supply the air to the downstream side of the filter, and then closing the second valve,
The third valve is opened to supply the air to the upstream side of the filter, and then the third valve is closed and the fourth valve is opened to supply the air to the nozzle, The gas sampling device according to claim 2, further comprising a control unit that closes the fourth valve and opens the first valve to continue sampling gas.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001330615A JP2003130769A (en) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Gas sampling device |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001330615A JP2003130769A (en) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Gas sampling device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003130769A true JP2003130769A (en) | 2003-05-08 |
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ID=19146321
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001330615A Pending JP2003130769A (en) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Gas sampling device |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003130769A (en) |
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- 2001-10-29 JP JP2001330615A patent/JP2003130769A/en active Pending
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