JP2003129254A - Surface treatment agent for copper or copper alloy - Google Patents
Surface treatment agent for copper or copper alloyInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、銅及び銅合金の表
面処理剤に関し、特に銅又は銅合金を使用したプリント
配線板に用いる水溶性表面処理剤に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a surface treatment agent for copper and copper alloys, and more particularly to a water-soluble surface treatment agent used for a printed wiring board using copper or a copper alloy.
【0002】[0002]
【従来の技術】電気製品や電子部品実装に用いるプリン
ト配線板は、大部分が回路に銅又は銅合金を用いてい
る。そのため、その配線部分が表面酸化等で劣化するの
を防止し、かつ、良好なはんだ付け性を保つために様々
な方法が開発されている。代表的な方法としては、回路
部分を他の金属で覆う方法と有機被膜で覆う方法が知ら
れている。2. Description of the Related Art Most printed wiring boards used for mounting electric products and electronic parts use copper or copper alloys for circuits. Therefore, various methods have been developed in order to prevent the wiring portion from deteriorating due to surface oxidation and to maintain good solderability. As a typical method, a method of covering the circuit portion with another metal and a method of covering with an organic film are known.
【0003】有機被膜を形成する方法では、銅を含む回
路部分と化学反応を起こさせ、この部分に選択的に被膜
を形成するイミダゾール系プリフラックス(表面処理剤)
でプリント配線板を表面処理する方法が有用である。現
在、このようなプリフラックスとして、アルキル基やア
リール基の結合した2位変性ベンズイミダゾールを主成
分とした水溶性プリフラックスが提案されている。それ
らは、例えば、特許第2913410号公報、特許第2
686168号公報、特許第2575242号公報、特
許第2923596号公報に開示されている。In the method of forming an organic film, an imidazole-based preflux (surface treatment agent) which causes a chemical reaction with a circuit part containing copper and selectively forms a film on this part.
The method of surface-treating the printed wiring board is useful. At present, as such a preflux, a water-soluble preflux containing a 2-position modified benzimidazole having an alkyl group or an aryl group bonded as a main component has been proposed. They are, for example, Japanese Patent No. 2913410 and Japanese Patent No. 2
It is disclosed in Japanese Patent No. 686168, Japanese Patent No. 2575242, and Japanese Patent No. 2923596.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来技術では、耐熱性及び水溶性に関して実使用上十分に
満足のできる性質を示すものがいまだ見出されていな
い。特に耐熱性に関して、最近の鉛フリーはんだを用い
た実装技術においては、従来よりも高温の実装温度で製
品が製造されるようになってきているが、この実装温度
の上昇にこれまでの表面処理剤の耐熱性が追随できてい
ないのが現状である。具体的には、プリント配線板が高
温高湿に曝されると、はんだ濡れ性が低下したり、銅又
は銅合金表面が酸化して劣化したりといった問題が生じ
ていた。However, none of the above-mentioned prior arts has yet been found to exhibit heat-resistant and water-soluble properties which are sufficiently satisfactory for practical use. With regard to heat resistance in particular, with the recent mounting technology using lead-free solder, products have been manufactured at higher mounting temperatures than before, but due to this mounting temperature rise, surface treatment The current situation is that the heat resistance of the agent has not been able to follow. Specifically, when the printed wiring board is exposed to high temperature and high humidity, there have been problems that the solder wettability is deteriorated and the surface of copper or copper alloy is oxidized and deteriorated.
【0005】そこで、本発明では、耐熱性に優れ、加熱
によって銅及び銅合金の良好なはんだ濡れ性が損なわれ
ることのない水溶性表面処理剤、及び、その表面処理剤
で表面処理した銅又は銅合金を提供することを目的とす
る。また、本発明の今ひとつの目的は、銅及び銅合金の
表面が高温高湿に曝された後でも表面酸化被膜が形成し
にくい水溶性表面処理剤、及び、その表面処理剤で表面
処理した銅又は銅合金を提供することにある。Therefore, in the present invention, a water-soluble surface treating agent which is excellent in heat resistance and which does not impair the good solder wettability of copper and copper alloys by heating, and copper which is surface-treated with the surface treating agent or The purpose is to provide a copper alloy. Further, another object of the present invention is to provide a water-soluble surface treatment agent in which a surface oxide film is difficult to form even after the surfaces of copper and copper alloy are exposed to high temperature and high humidity, and copper surface-treated with the surface treatment agent. Or to provide a copper alloy.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、後述する2位にオキシ化合物が結合したベンズイ
ミダゾール誘導体を主成分として用いると、表面処理剤
の種々の性質が改善され、特に耐熱性が向上することを
見出した。Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors, the use of a benzimidazole derivative having an oxy compound bonded at the 2-position described below as a main component improves various properties of the surface treatment agent, It has been found that the heat resistance is particularly improved.
【0007】すなわち、本発明によれば、銅及び銅合金
の表面処理剤であって、下記一般式(1)〜(3)のベ
ンズイミダゾール誘導体の少なくとも一種を主成分とし
て含有する銅及び銅合金の表面処理剤が提供される。That is, according to the present invention, a surface treatment agent for copper and copper alloys, which contains as a main component at least one of the benzimidazole derivatives of the following general formulas (1) to (3): The surface treatment agent is provided.
【0008】[0008]
【化2】
式(1)〜(3)中、置換基X及びZはアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ハ
ロゲン原子及び水素原子からなる群から選ばれた一種を
表し、置換基Yはアルキレン基、アルケニレン基、アル
キニレン基、アリーレン基及びアラルキレン基からなる
群から選ばれた一種を表す。aは0〜4、bは0又は
1、cは0〜7の整数を表す。[Chemical 2] In the formulas (1) to (3), the substituents X and Z represent one selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a halogen atom and a hydrogen atom, and a substituent Y Represents one selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group and an aralkylene group. a represents 0 to 4, b represents 0 or 1, and c represents an integer of 0 to 7.
【0009】本発明において、上記X、Z及びYの表す
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、アラルキル基、アルキレン基、アルケニレン基、ア
ルキニレン基、アリーレン基、アラルキレン基は、好ま
しくは炭素数1〜20である。また、X、Z及びYがそ
れぞれ複数あるときは、同一でも異なっていてもよい。In the present invention, the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, aralkyl group, alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group and aralkylene group represented by X, Z and Y preferably have carbon atoms. 1 to 20. When there are a plurality of Xs, Zs, and Ys, they may be the same or different.
【0010】次に、本発明の金属表面処理剤の浴組成に
ついて詳細に説明する。まず、上記一般式(1)〜
(3)のいずれかで表される主成分のベンズイミダゾー
ル誘導体は、浴中に0.01〜50g/L、より好まし
くは0.1〜10g/L含有させる。Next, the bath composition of the metal surface treating agent of the present invention will be described in detail. First, the general formula (1) to
The main component benzimidazole derivative represented by any of (3) is contained in the bath in an amount of 0.01 to 50 g / L, more preferably 0.1 to 10 g / L.
【0011】上記一般式(1)〜(3)のベンズイミダ
ゾール誘導体は、次のようにして製造できる。すなわ
ち、オルトフェニレンジアミン又はオルトフェニレンジ
アミン誘導体と、各種オキシカルボン酸と、パラトルエ
ンスルホン酸とを等モルずつ添加して、約200℃で合
成される。The benzimidazole derivatives represented by the above general formulas (1) to (3) can be produced as follows. That is, ortho-phenylenediamine or an ortho-phenylenediamine derivative, various oxycarboxylic acids, and paratoluenesulfonic acid are added in equimolar amounts, and synthesis is performed at about 200 ° C.
【0012】一般式(1)で表されるベンズイミダゾー
ル誘導体の具体例としては、2−(ペントキシメチル)
ベンズイミダゾール、2−(ヘプトキシメチル)ベンズ
イミダゾール、2−(ノニルオキシメチル)ベンズイミ
ダゾール、2−(ウンデシルオキシメチル)ベンズイミ
ダゾール、2−(トリデシルオキシメチル)ベンズイミ
ダゾール、2−(ペンタデシルオキシメチル)ベンズイ
ミダゾール、2−(ヘプタデシルオキシメチル)ベンズ
イミダゾール、2−(ノニルオキシプロピル)ベンズイ
ミダゾール、2−(ノニルオキシペンチル)ベンズイミ
ダゾール、2−(ノニルオキシヘプチル)ベンズイミダ
ゾール、2−(ノニルオキシノニル)ベンズイミダゾー
ルが挙げられる。Specific examples of the benzimidazole derivative represented by the general formula (1) include 2- (pentoxymethyl).
Benzimidazole, 2- (heptoxymethyl) benzimidazole, 2- (nonyloxymethyl) benzimidazole, 2- (undecyloxymethyl) benzimidazole, 2- (tridecyloxymethyl) benzimidazole, 2- (pentadecyloxymethyl) ) Benzimidazole, 2- (heptadecyloxymethyl) benzimidazole, 2- (nonyloxypropyl) benzimidazole, 2- (nonyloxypentyl) benzimidazole, 2- (nonyloxyheptyl) benzimidazole, 2- (nonyloxy) Nonyl) benzimidazole.
【0013】一般式(2)で表されるベンズイミダゾー
ル誘導体の具体例としては、2−(フェノキシメチル)
ベンズイミダゾール、2−(4−クロロフェノキシメチ
ル)ベンズイミダゾール、2−(2,4−ジクロロフェ
ノキシメチル)ベンズイミダゾール、2−(2−クロロ
−4−メチルフェノキシメチル)ベンズイミダゾール、
2−(1−(4−クロロフェノキシ)エチル)ベンズイ
ミダゾール、2−(2−(4−クロロフェノキシ)エチ
ル)ベンズイミダゾール、2−(3−(4−クロロフェ
ノキシ)プロピル)ベンズイミダゾール、2−(4−
(4−クロロフェノキシ)ブチル)ベンズイミダゾー
ル、2−(1−(4−クロロフェノキシ)−1−メチル
エチル)ベンズイミダゾール、2−(1−(4−クロロ
フェノキシ)プロピル)ベンズイミダゾール、2−(フ
ェノキシメチル)−5−メチルベンズイミダゾール、2
−(4−クロロフェノキシメチル)−5−メチルベンズ
イミダゾール、2−(2,4−ジクロロフェノキシメチ
ル)−5−メチルベンズイミダゾール、2−(フェノキ
シメチル)−5−クロロベンズイミダゾール、2−(4
−クロロフェノキシメチル)−5−クロロベンズイミダ
ゾール、2−(2,4−ジクロロフェノキシメチル)−
5−クロロベンズイミダゾールが挙げられる。Specific examples of the benzimidazole derivative represented by the general formula (2) include 2- (phenoxymethyl).
Benzimidazole, 2- (4-chlorophenoxymethyl) benzimidazole, 2- (2,4-dichlorophenoxymethyl) benzimidazole, 2- (2-chloro-4-methylphenoxymethyl) benzimidazole,
2- (1- (4-chlorophenoxy) ethyl) benzimidazole, 2- (2- (4-chlorophenoxy) ethyl) benzimidazole, 2- (3- (4-chlorophenoxy) propyl) benzimidazole, 2- (4-
(4-Chlorophenoxy) butyl) benzimidazole, 2- (1- (4-chlorophenoxy) -1-methylethyl) benzimidazole, 2- (1- (4-chlorophenoxy) propyl) benzimidazole, 2- ( Phenoxymethyl) -5-methylbenzimidazole, 2
-(4-chlorophenoxymethyl) -5-methylbenzimidazole, 2- (2,4-dichlorophenoxymethyl) -5-methylbenzimidazole, 2- (phenoxymethyl) -5-chlorobenzimidazole, 2- (4
-Chlorophenoxymethyl) -5-chlorobenzimidazole, 2- (2,4-dichlorophenoxymethyl)-
5-chlorobenzimidazole is mentioned.
【0014】一般式(3)で表されるベンズイミダゾー
ル誘導体の具体例としては、2−(ナフトキシメチル)
ベンズイミダゾール、2−(4−クロロナフトキシメチ
ル)ベンズイミダゾール、2−(2,4−ジクロロナフ
トキシメチル)ベンズイミダゾール、2−(2−クロロ
−4−メチルナフトキシメチル)ベンズイミダゾール、
2−(1−(4−クロロナフトキシ)エチル)ベンズイ
ミダゾール、2−(2−(4−クロロナフトキシ)エチ
ル)ベンズイミダゾール、2−(3−(4−クロロナフ
トキシ)プロピル)ベンズイミダゾール、2−(4−
(4−クロロナフトキシ)ブチル)ベンズイミダゾー
ル、2−(1−(4−クロロナフトキシ)−1−メチル
エチル)ベンズイミダゾール、2−(1−(4−クロロ
ナフトキシ)プロピル)ベンズイミダゾール、2−(ナ
フトキシメチル)−5−メチルベンズイミダゾール、2
−(4−クロロナフトキシメチル)−5−メチルベンズ
イミダゾール、2−(2,4−ジクロロナフトキシメチ
ル)−5−メチルベンズイミダゾール、2−(ナフトキ
シメチル)−5−クロロベンズイミダゾール、2−(4
−クロロナフトキシメチル)−5−クロロベンズイミダ
ゾール、2−(2,4−ジクロロナフトキシメチル)−
5−クロロベンズイミダゾールが挙げられる。Specific examples of the benzimidazole derivative represented by the general formula (3) include 2- (naphthoxymethyl).
Benzimidazole, 2- (4-chloronaphthoxymethyl) benzimidazole, 2- (2,4-dichloronaphthoxymethyl) benzimidazole, 2- (2-chloro-4-methylnaphthoxymethyl) benzimidazole,
2- (1- (4-chloronaphthoxy) ethyl) benzimidazole, 2- (2- (4-chloronaphthoxy) ethyl) benzimidazole, 2- (3- (4-chloronaphthoxy) propyl) benzimidazole, 2- (4-
(4-Chloronaphthoxy) butyl) benzimidazole, 2- (1- (4-chloronaphthoxy) -1-methylethyl) benzimidazole, 2- (1- (4-chloronaphthoxy) propyl) benzimidazole, 2- (naphthoxymethyl) ) -5-Methylbenzimidazole, 2
-(4-chloronaphthoxymethyl) -5-methylbenzimidazole, 2- (2,4-dichloronaphthoxymethyl) -5-methylbenzimidazole, 2- (naphthoxymethyl) -5-chlorobenzimidazole, 2 -(4
-Chloronaphthoxymethyl) -5-chlorobenzimidazole, 2- (2,4-dichloronaphthoxymethyl)-
5-chlorobenzimidazole is mentioned.
【0015】本発明の金属表面処理剤には、主成分を溶
解するために有機酸及び又は無機酸を0.1〜400g
/L、好ましくは5〜200g/L添加する。有機酸と
しては、例えば、蟻酸、酢酸、フルオロ酢酸、ジフルオ
ロ酢酸、トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、ブロモ酢酸、ジブロモ酢酸、トリ
ブロモ酢酸、ヨード酢酸、ジヨード酢酸、トリヨード酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ヘキサン酸、グリコール酸、
アクリル酸、安息香酸、乳酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、アジピン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、マ
レイン酸、フマール酸、サリチル酸、トルイル酸、メタ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸が挙げられる。無機
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸が挙げ
られる。The metal surface treating agent of the present invention contains 0.1 to 400 g of an organic acid and / or an inorganic acid in order to dissolve the main component.
/ L, preferably 5-200 g / L. Examples of the organic acid include formic acid, acetic acid, fluoroacetic acid, difluoroacetic acid, trifluoroacetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, bromoacetic acid, dibromoacetic acid, tribromoacetic acid, iodoacetic acid, diiodoacetic acid, triiodoacetic acid, propionic acid. , Butyric acid, hexanoic acid, glycolic acid,
Examples thereof include acrylic acid, benzoic acid, lactic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, maleic acid, fumaric acid, salicylic acid, toluic acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and nitric acid.
【0016】本発明の金属表面処理剤には、被膜形成
性、耐熱性をさらに向上させるために金属塩を1mg/
L〜10g/L、好ましくは10mg/L〜1g/L添
加する。金属塩としては、例えば、水酸化亜鉛、酸化亜
鉛、蟻酸亜鉛、酢酸亜鉛、塩化亜鉛、硫化亜鉛、リン酸
亜鉛、水酸化鉛、酸化鉛、蟻酸鉛、酢酸鉛、水酸化鉄、
酸化鉄、塩化鉄、水酸化ニッケル、酸化ニッケル、塩化
ニッケル、水酸化銅、酸化銅、塩化銅、硫酸銅、リン酸
銅、炭酸銅、蟻酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、臭化銅、水
酸化銀、酸化銀、ヨウ化銀、ヒダントイン銀、水酸化パ
ラジウム、酸化パラジウム、塩化パラジウム、硫酸パラ
ジウム、水酸化マンガン、酸化マンガン、塩化マンガ
ン、硫酸マンガン、蟻酸マンガン、酢酸マンガン、クロ
ム酸、クロム酸ナトリウム、クロム酸カリウムが挙げら
れる。The metal surface treating agent of the present invention contains a metal salt of 1 mg / in order to further improve the film-forming property and heat resistance.
L-10 g / L, preferably 10 mg / L-1 g / L is added. Examples of the metal salt include zinc hydroxide, zinc oxide, zinc formate, zinc acetate, zinc chloride, zinc sulfide, zinc phosphate, lead hydroxide, lead oxide, lead formate, lead acetate, iron hydroxide,
Iron oxide, iron chloride, nickel hydroxide, nickel oxide, nickel chloride, copper hydroxide, copper oxide, copper chloride, copper sulfate, copper phosphate, copper carbonate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper bromide, Silver hydroxide, silver oxide, silver iodide, silver hydantoin, palladium hydroxide, palladium oxide, palladium chloride, palladium sulfate, manganese hydroxide, manganese oxide, manganese chloride, manganese sulfate, manganese formate, manganese acetate, chromic acid, chromium Examples thereof include sodium acidate and potassium chromate.
【0017】本発明の金属表面処理剤には、被膜形成
性、耐熱性をさらに向上させるためにハロゲン化合物を
1mg/L〜10g/L、好ましくは10mg/L〜1
g/L添加する。ハロゲン化合物としては、例えば、フ
ッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウ
ム、塩化ナトリム、塩化カリウム、塩化アンモニウム、
臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウム、ヨ
ウ化ナトリム、ヨウ化カリウム、ヨウ化アンモニウムが
挙げられる。The metal surface treating agent of the present invention contains a halogen compound in an amount of 1 mg / L to 10 g / L, preferably 10 mg / L to 1 in order to further improve the film forming property and heat resistance.
Add g / L. Examples of the halogen compound include sodium fluoride, potassium fluoride, ammonium fluoride, sodium chloride, potassium chloride, ammonium chloride,
Examples include sodium bromide, potassium bromide, ammonium bromide, sodium iodide, potassium iodide, and ammonium iodide.
【0018】本発明の金属表面処理剤には、液の濡れ性
を向上するために、必要に応じてアニオン系、カチオン
系、ノニオン系の界面活性剤のいずれか又はそれらの混
合物を1μg/L〜10g/L、好ましくは10μg/
L〜1g/L添加する。界面活性剤の例としては、アル
キルフェノールエチレンオキサイド付加物が挙げられ
る。In the metal surface treating agent of the present invention, in order to improve the wettability of the liquid, 1 μg / L of an anionic, cationic or nonionic surfactant or a mixture thereof is added if necessary. -10 g / L, preferably 10 μg /
L to 1 g / L is added. Examples of surfactants include alkylphenol ethylene oxide adducts.
【0019】また、本発明の別の態様として、上述の表
面処理剤で表面を処理した銅又は銅合金が提供される。
この銅又は銅合金は、本発明の表面処理剤が適用されて
いるので、高温高湿下においても表面が劣化しにくい。Further, as another aspect of the present invention, there is provided copper or a copper alloy whose surface is treated with the above-mentioned surface treatment agent.
Since the surface treatment agent of the present invention is applied to this copper or copper alloy, the surface is unlikely to deteriorate even under high temperature and high humidity.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施例を用いて具
体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定
されない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
【0021】[0021]
【実施例1】本実施例では、表面処理剤の主成分として
一般式(1)で表される2−(ウンデシルオキシメチ
ル)ベンズイミダゾール1g/Lを用いた。その他に、
表面処理剤の浴組成として、酸、金属塩、ハロゲン化合
物及び界面活性剤を後述する表1に示した濃度の水溶液
になるように加えた。試験片としては10×50mm、
厚さ0.3mmの銅板を用意し、前処理として脱脂及び
ソフトエッチング処理を施した。この銅板を浴に浸漬
し、浴のpH3.3、処理温度40℃、処理時間60s
の条件で表面処理を施した。処理条件は浴組成とともに
表1に示した。Example 1 In this example, 1 g / L of 2- (undecyloxymethyl) benzimidazole represented by the general formula (1) was used as the main component of the surface treatment agent. Other,
As the bath composition of the surface treatment agent, an acid, a metal salt, a halogen compound and a surfactant were added so as to give an aqueous solution having a concentration shown in Table 1 described later. As a test piece, 10 × 50 mm,
A copper plate having a thickness of 0.3 mm was prepared and subjected to degreasing and soft etching as pretreatment. This copper plate is immersed in a bath, pH 3.3 of the bath, treatment temperature 40 ° C., treatment time 60 s
The surface treatment was performed under the conditions of. The treatment conditions are shown in Table 1 together with the bath composition.
【0022】上述のように表面処理した試験片は、以下
のようなはんだ濡れ性の試験を行った。下記のはんだ濡
れ性1及び2では、いずれも錫鉛共晶はんだを浴温24
0℃、市販ポストフラックスと共に用い、メニスコグラ
フ法によるゼロクロスタイムを測定した。
1) はんだ濡れ性1 室温40℃、湿度90%の
環境下に96時間放置後の試験片のはんだ濡れ性を評価
した。
2) はんだ濡れ性2 室温40℃、湿度90%の
環境下に96時間放置後、さらに200℃で30分間加
熱した試験片のはんだ濡れ性を評価した。
評価結果は、後述する表1に示すように、はんだ濡れ性
1が0.55s、はんだ濡れ性2が1.48sと良好な
結果であった。The test piece surface-treated as described above was subjected to the following solder wettability test. In the following solder wettability 1 and 2, tin-lead eutectic solder was used for bath temperature 24
The zero cross time was measured by the meniscograph method at 0 ° C. with a commercially available post flux. 1) Solder wettability 1 The solder wettability of the test piece after standing for 96 hours in an environment of room temperature of 40 ° C. and humidity of 90% was evaluated. 2) Solder wettability 2 After being left in an environment of room temperature of 40 ° C. and humidity of 90% for 96 hours, the test piece heated at 200 ° C. for 30 minutes was evaluated for solder wettability. As shown in Table 1 described later, the evaluation results were good, with solder wettability 1 of 0.55 s and solder wettability 2 of 1.48 s.
【0023】[0023]
【実施例2】実施例2では、表面処理剤の主成分として
一般式(1)で表される別のベンズイミダゾール誘導体
を含む表1に示した浴組成を用いた以外は、実施例1と
同様にして銅板に表面処理を行い、はんだ濡れ性を評価
した。評価結果は浴組成と合わせて後述する表1に示し
た。Example 2 In Example 2, except that the bath composition shown in Table 1 containing another benzimidazole derivative represented by the general formula (1) as the main component of the surface treatment agent was used. Similarly, the copper plate was subjected to surface treatment and solder wettability was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1 below together with the bath composition.
【0024】[0024]
【実施例3〜8】実施例3〜8では、表面処理剤の主成
分としてそれぞれ一般式(2)で表されるベンズイミダ
ゾール誘導体を含む表1に示した浴組成を用いた以外
は、実施例1と同様にして銅板に表面処理を行い、はん
だ濡れ性を評価した。評価結果は浴組成と合わせて後述
する表1及び2に示した。Examples 3 to 8 Examples 3 to 8 were carried out except that the bath compositions shown in Table 1 containing the benzimidazole derivative represented by the general formula (2) as the main component of the surface treatment agent were used. The copper plate was surface-treated in the same manner as in Example 1 to evaluate the solder wettability. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2 described later together with the bath composition.
【0025】[0025]
【実施例9及び10】実施例9及び10では、表面処理
剤の主成分としてそれぞれ一般式(3)で表されるベン
ズイミダゾール誘導体を含む表1に示した浴組成を用い
た以外は、実施例1と同様にして銅板に表面処理を行
い、はんだ濡れ性を評価した。評価結果は浴組成と合わ
せて後述する表3に示した。[Examples 9 and 10] Examples 9 and 10 were carried out except that the bath composition shown in Table 1 containing the benzimidazole derivative represented by the general formula (3) as the main component of the surface treatment agent was used. The copper plate was surface-treated in the same manner as in Example 1 to evaluate the solder wettability. The evaluation results are shown in Table 3 below together with the bath composition.
【0026】[0026]
【比較例1及び2】比較例1及び2では、表面処理剤の
主成分として、オキシ化合物の結合していないベンズイ
ミダゾール及び2−ノニルベンズイミダゾールをそれぞ
れ含む表3に示した浴組成を用いた以外は、実施例1と
同様にして銅板に表面処理を行い、はんだ濡れ性を評価
した。評価結果は浴組成と合わせて後述する表3に示し
た。Comparative Examples 1 and 2 In Comparative Examples 1 and 2, the bath compositions shown in Table 3 containing benzimidazole and 2-nonylbenzimidazole having no oxy compound bonded as the main components of the surface treatment agent were used. Other than the above, the copper plate was subjected to surface treatment in the same manner as in Example 1 and solder wettability was evaluated. The evaluation results are shown in Table 3 below together with the bath composition.
【0027】[0027]
【表1】 [Table 1]
【0028】[0028]
【表2】 [Table 2]
【0029】[0029]
【表3】 [Table 3]
【0030】上記表1〜3の評価結果から明らかなよう
に、比較例のはんだ濡れ性と比較して、本発明の表面処
理剤を用いた実施例ではいずれも、高湿下及び高温高湿
環境下に曝された後も優れたはんだ濡れ性を示した。こ
のことは同時に、形成した表面の有機被膜が安定で、銅
板が酸化されにくいことを示している。As is clear from the evaluation results of Tables 1 to 3, in comparison with the solder wettability of the comparative example, in all the examples using the surface treatment agent of the present invention, high humidity and high temperature and high humidity were used. It exhibited excellent solder wettability even after being exposed to the environment. This also indicates that the formed organic film on the surface is stable and the copper plate is not easily oxidized.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明の水溶性表面処理剤を適用すれ
ば、銅及び銅合金の表面に、耐熱性に優れ、加熱によっ
て銅及び銅合金のはんだ濡れ性を損なうことのない有機
被膜が形成できる。また、本発明の表面処理剤を適用す
れば、銅及び銅合金の表面が高温高湿に曝された後でも
表面酸化被膜が形成しにくく、処理表面が劣化しにく
い。When the water-soluble surface treatment agent of the present invention is applied, an organic coating film having excellent heat resistance and not impairing the solder wettability of copper and copper alloy by heating is formed on the surface of copper and copper alloy. it can. Further, when the surface treatment agent of the present invention is applied, a surface oxide film is not easily formed even after the surfaces of copper and copper alloys are exposed to high temperature and high humidity, and the treated surface is less likely to deteriorate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊谷 正志 茨城県北茨城市華川町臼場187番地4 株 式会社日鉱マテリアルズ磯原工場内 Fターム(参考) 4K026 AA06 BA01 BB10 CA16 CA33 CA37 CA38 5E319 AA03 AB05 AC13 CC33 CD60 GG03 GG15 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Masashi Kumagai 4 shares, 187 Usba, Hwagawa-cho, Kitaibaraki, Ibaraki Ceremony Company Nikko Materials Isohara Factory F-term (reference) 4K026 AA06 BA01 BB10 CA16 CA33 CA37 CA38 5E319 AA03 AB05 AC13 CC33 CD60 GG03 GG15
Claims (2)
記一般式(1)〜(3)のベンズイミダゾール誘導体の
少なくとも一種を主成分として含有する銅及び銅合金の
表面処理剤。 【化1】 (式(1)〜(3)中、置換基X及びZはアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、
ハロゲン原子及び水素原子からなる群から選ばれた一種
を表し、置換基Yはアルキレン基、アルケニレン基、ア
ルキニレン基、アリーレン基及びアラルキレン基からな
る群から選ばれた一種を表す。aは0〜4、bは0又は
1、cは0〜7の整数を表す。)1. A surface treatment agent for copper and a copper alloy, which contains as a main component at least one of benzimidazole derivatives represented by the following general formulas (1) to (3). [Chemical 1] (In the formulas (1) to (3), the substituents X and Z are an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group,
The substituent Y represents one selected from the group consisting of a halogen atom and a hydrogen atom, and the substituent Y represents one selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group and an aralkylene group. a represents 0 to 4, b represents 0 or 1, and c represents an integer of 0 to 7. )
した銅又は銅合金。2. A copper or copper alloy surface-treated with the surface treatment agent according to claim 1.
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