JP2003124331A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JP2003124331A
JP2003124331A JP2001318367A JP2001318367A JP2003124331A JP 2003124331 A JP2003124331 A JP 2003124331A JP 2001318367 A JP2001318367 A JP 2001318367A JP 2001318367 A JP2001318367 A JP 2001318367A JP 2003124331 A JP2003124331 A JP 2003124331A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
pad
integrated circuit
semiconductor integrated
circuit device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001318367A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisami Saitou
比佐実 斎藤
Shuichi Sakai
修一 坂井
Ikuo Yoshii
郁夫 吉井
Kenji Hara
賢治 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2001318367A priority Critical patent/JP2003124331A/en
Publication of JP2003124331A publication Critical patent/JP2003124331A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect a circuit from being deteriorated in performance or broken down due to a current or a voltage generated by electrostatic discharge. SOLUTION: A semiconductor integrated circuit device comprises a first chip 12a, a second chip 12b independent from the first chip 12a electrically, pads 15a and 15b arranged on the first and second chips 12a and 12b, respectively and connected with GND pins, pads 23a and 23b connected with the pads 15a, respectively, a bonding wire 24 for connecting the pads 23a and 23b, and protective circuits 22a and 22b disposed between the pads 15a, 23a and between the pads 15b, 23b, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数に分離された
ベッド上に複数のチップがそれぞれ配置されて1つの外
囲器に集積された半導体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device in which a plurality of chips are arranged on a bed separated into a plurality of chips and integrated in one envelope.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体の集積技術の向上やアセン
ブリ技術が進んだことにより、複数のチップをまとめて
一つの外囲器へパッケージングすることが、しばしば行
われるようになってきている。また、チップに性能の異
なる複数の回路を搭載する場合は、干渉を避けるため
に、分離されたベッドに性能の異なる回路を搭載したチ
ップがそれぞれ配置される。このような半導体集積回路
装置の従来技術を以下に説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, due to improvements in semiconductor integration technology and advances in assembly technology, it has become common to package a plurality of chips into a single package. Further, when a plurality of circuits having different performances are mounted on a chip, in order to avoid interference, the chips having the circuits having different performances are arranged in separate beds. A conventional technique of such a semiconductor integrated circuit device will be described below.

【0003】図9は、従来技術による2チップで構成さ
れた半導体集積回路装置の構成図を示す。図9に示すよ
うに、基板10上に第1のベッド11a、第2のベッド
11bがそれぞれ配置され、これら第1のベッド11
a、第2のベッド11b上に回路性能の異なる第1のチ
ップ12a、第2のチップ12bがそれぞれ配置され
る。第1のチップ12a内には第1の内部回路部13a
が配置され、この第1の内部回路部13aにはパッド1
4a、15aがそれぞれ接続される。パッド14aはボ
ンディングワイヤ16aで電源ピン(図示せず)に接続
され、パッド15aはボンディングワイヤ18aでGN
Dピン(図示せず)に接続される。同様に、第2のチッ
プ12b内には第2の内部回路部13bが配置され、こ
の第2の内部回路部13bにはパッド14b、15bが
それぞれ接続される。パッド14bはボンディングワイ
ヤ16bで電源ピン(図示せず)に接続され、パッド1
5bはボンディングワイヤ18bでGNDピン(図示せ
ず)に接続される。そして、第1のチップ12aと第2
のチップ12bとの間で信号を伝達するために、第1の
内部回路部13aに接続するパッド20aと第2の内部
回路部13bに接続するパッド20bとが、ボンディン
グワイヤ21で接続される。
FIG. 9 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device composed of two chips according to the prior art. As shown in FIG. 9, the first bed 11 a and the second bed 11 b are arranged on the substrate 10, respectively.
The first chip 12a and the second chip 12b having different circuit performances are arranged on the a and the second bed 11b, respectively. A first internal circuit portion 13a is provided in the first chip 12a.
Are arranged in the first internal circuit portion 13a.
4a and 15a are respectively connected. The pad 14a is connected to a power supply pin (not shown) by a bonding wire 16a, and the pad 15a is a GN by a bonding wire 18a.
It is connected to the D pin (not shown). Similarly, a second internal circuit portion 13b is arranged in the second chip 12b, and pads 14b and 15b are connected to the second internal circuit portion 13b, respectively. The pad 14b is connected to a power supply pin (not shown) by a bonding wire 16b, and the pad 1
5b is connected to a GND pin (not shown) by a bonding wire 18b. Then, the first chip 12a and the second chip
The pads 20a connected to the first internal circuit section 13a and the pads 20b connected to the second internal circuit section 13b are connected by the bonding wires 21 in order to transmit signals to and from the chip 12b.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術による半
導体集積回路装置では、各チップ12a、12b間での
干渉を避けるために、ベッド11a、11bを分離する
ことにより複数のチップ12a、12bを分けて配置し
た。この結果、1つの外囲器内に1チップのみを配置し
た構成では存在しなかった静電放電モードが生じた。こ
の静電放電モードとは、複数のチップのうち、あるチッ
プ内のパッドに接続された外囲器の外に出るピンと、他
のチップ内のパッドに接続された外囲器の外に出るピン
との間で、静電放電が発生してしまうことである。この
ような静電放電モードが起こると、チップ間にまたがっ
て静電気により発生した瞬時的な放電電流や電圧が内部
回路に流れ込み、この回路内の素子の劣化や破壊が生じ
るという問題がある。
In the semiconductor integrated circuit device according to the above-mentioned prior art, in order to avoid interference between the chips 12a and 12b, the beds 11a and 11b are separated to divide the plurality of chips 12a and 12b. I placed it. As a result, an electrostatic discharge mode was generated which did not exist in the configuration in which only one chip was arranged in one envelope. In this electrostatic discharge mode, among the multiple chips, the pin that goes out of the envelope connected to the pad in one chip and the pin that goes out of the envelope connected to the pad in another chip That is, electrostatic discharge occurs between them. When such an electrostatic discharge mode occurs, there is a problem in that an instantaneous discharge current or voltage generated by static electricity across chips flows into an internal circuit, causing deterioration or destruction of elements in this circuit.

【0005】例えば、第2のチップ12b上のパッド1
5bにつながるGNDピンを基準として、第1のチップ
12aにある内部回路部13aの電源ピンにつながるパ
ッド14aに静電放電が発生した場合、第1のチップ1
2aと第2のチップ12bはボンディングワイヤ21で
接続されているため、第1のチップ12a内に発生した
瞬時的な放電電流や電圧は、図9に示す経路60を通っ
て第2のチップ12bに流れ込んでしまう。そして、こ
の第2のチップ12bに流れ込んだ電流や電圧は、第2
のチップ12bの内部回路部13b、すなわち半導体集
積回路に要求される回路機能や特性を実現するための回
路に印加して、回路素子の特性劣化や破壊が生じてしま
うという問題があった。
For example, the pad 1 on the second chip 12b
If electrostatic discharge occurs in the pad 14a connected to the power supply pin of the internal circuit portion 13a in the first chip 12a with reference to the GND pin connected to 5b, the first chip 1
2a and the second chip 12b are connected by the bonding wire 21, so that the instantaneous discharge current or voltage generated in the first chip 12a passes through the path 60 shown in FIG. Will flow into. Then, the current and voltage flowing into the second chip 12b are
There is a problem that the characteristic deterioration or destruction of the circuit element occurs when applied to the internal circuit portion 13b of the chip 12b, that is, the circuit for realizing the circuit function or characteristic required for the semiconductor integrated circuit.

【0006】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、その目的とするところは、回路の性能劣
化及び破壊を防止することが可能な半導体集積回路装置
を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of preventing deterioration and destruction of circuit performance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために以下に示す手段を用いている。
The present invention uses the following means in order to achieve the above object.

【0008】本発明の第1の視点による半導体集積回路
装置は、1つの外囲器に複数のチップを搭載した半導体
集積回路装置であって、第1のチップと、前記第1のチ
ップと電気的に独立して配置された第2のチップと、前
記第1のチップ上に配置され、第1のGNDピンへつな
がる第1のパッドと、前記第1のチップ上に配置され、
前記第1のパッドと接続する第2のパッドと、前記第2
のチップ上に配置され、第2のGNDピンへつながる第
3のパッドと、前記第2のチップ上に配置され、前記第
3のパッドと接続する第4のパッドと、前記第2のパッ
ドと前記第4のパッドとを接続する第1の接続部材と、
前記第1のパッドと前記第2のパッド間、前記第3のパ
ッドと前記第4のパッド間の少なくとも一方に配置され
た保護回路とを具備する。
A semiconductor integrated circuit device according to a first aspect of the present invention is a semiconductor integrated circuit device in which a plurality of chips are mounted in one envelope, and the first chip, the first chip and the electrical circuit A second chip disposed independently of each other, a first pad disposed on the first chip and connected to a first GND pin, and a first pad disposed on the first chip,
A second pad connected to the first pad;
A third pad disposed on the second chip and connected to the second GND pin, a fourth pad disposed on the second chip and connected to the third pad, and the second pad. A first connecting member for connecting the fourth pad;
A protection circuit is provided between at least one of the first pad and the second pad and between at least one of the third pad and the fourth pad.

【0009】本発明の第2の視点による半導体集積回路
装置は、1つの外囲器に複数のチップを搭載し、これら
チップが複数に分離されたベッド上にそれぞれ配置され
た半導体集積回路装置であって、第1のベッドと、前記
第1のベッド上に配置された第1のチップと、前記第1
のベッドと分離して配置された第2のベッドと、前記第
2のベッド上に配置された第2のチップと、前記第1の
チップ上に配置され、第1のGNDピンへつながる第1
のパッドと、前記第1のチップ上に配置され、前記第1
のパッドと接続する第2のパッドと、前記第2のチップ
上に配置され、第2のGNDピンへつながる第3のパッ
ドと、前記第2のチップ上に配置され、前記第3のパッ
ドと接続する第4のパッドと、前記第2のパッドと前記
第4のパッドとを接続する第1の接続部材と、前記第1
のパッドと前記第2のパッド間、前記第3のパッドと前
記第4のパッド間の少なくとも一方に配置された保護回
路とを具備する。
A semiconductor integrated circuit device according to a second aspect of the present invention is a semiconductor integrated circuit device in which a plurality of chips are mounted on one envelope, and these chips are respectively arranged on a bed separated into a plurality of chips. A first bed, a first chip disposed on the first bed, the first bed
A second bed disposed separately from the first bed, a second chip disposed on the second bed, and a first chip disposed on the first chip and connected to the first GND pin.
Pad and the first chip disposed on the first chip
A second pad connected to the pad, a third pad arranged on the second chip and connected to a second GND pin, and a third pad arranged on the second chip and A fourth pad for connection, a first connection member for connecting the second pad and the fourth pad, and the first
And a protection circuit disposed on at least one of the third pad and the fourth pad.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係る半導体
集積回路装置は、複数に分離されたベッド上に複数のチ
ップがそれぞれ配置されて1つの外囲器に集積されたも
のであり、静電放電により発生した瞬時的な電流や電圧
を、保護回路を経由して逃がすことで、素子の劣化や破
壊が生じることを回避することを可能にしたものであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention is one in which a plurality of chips are arranged on a bed divided into a plurality of pieces and integrated in one envelope. By allowing the instantaneous current and voltage generated by electrostatic discharge to escape via the protection circuit, it is possible to avoid deterioration or destruction of the element.

【0011】本発明の実施の形態を以下に図面を参照し
て説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する
部分には共通する参照符号を付す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this description, common reference numerals are given to common portions throughout the drawings.

【0012】[第1の実施形態]第1の実施形態は、静
電放電により発生した瞬時的な電流や電圧を逃がすため
に、複数のチップ上に保護回路をそれぞれ設けた例であ
る。
[First Embodiment] The first embodiment is an example in which a protection circuit is provided on each of a plurality of chips in order to release an instantaneous current or voltage generated by electrostatic discharge.

【0013】図1は、本発明の第1の実施形態に係る半
導体集積回路装置の概略的な斜視図を示す。図2は、図
1に示す半導体集積回路装置の一部拡大図を示す。
FIG. 1 is a schematic perspective view of a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partially enlarged view of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG.

【0014】図1、図2に示すように、基板10上に第
1のベッド11a、第2のベッド11bがそれぞれ配置
され、これら第1のベッド11a、第2のベッド11b
上に回路性能の異なる第1のチップ12a、第2のチッ
プ12bがそれぞれ配置される。第1のチップ12a内
には第1の内部回路部13aが配置され、この第1の内
部回路部13aにはパッド14a、15aがそれぞれ接
続される。パッド14aはボンディングワイヤ16aで
電源ピン17aに接続され、パッド15aはボンディン
グワイヤ18aでGNDピン19aに接続される。同様
に、第2のチップ12b内には第2の内部回路部13b
が配置され、この第2の内部回路部13bにはパッド1
4b、15bがそれぞれ接続される。パッド14bはボ
ンディングワイヤ16bで電源ピン17bに接続され、
パッド15bはボンディングワイヤ18bでGNDピン
19bに接続される。
As shown in FIGS. 1 and 2, a first bed 11a and a second bed 11b are arranged on a substrate 10, and the first bed 11a and the second bed 11b are arranged.
A first chip 12a and a second chip 12b having different circuit performances are arranged on the upper side. A first internal circuit section 13a is arranged in the first chip 12a, and pads 14a and 15a are connected to the first internal circuit section 13a. The pad 14a is connected to the power supply pin 17a by the bonding wire 16a, and the pad 15a is connected to the GND pin 19a by the bonding wire 18a. Similarly, in the second chip 12b, the second internal circuit portion 13b is included.
Are arranged in the second internal circuit portion 13b.
4b and 15b are respectively connected. The pad 14b is connected to the power supply pin 17b by a bonding wire 16b,
The pad 15b is connected to the GND pin 19b by a bonding wire 18b.

【0015】第1のチップ12aと第2のチップ12b
との間で信号を伝達するために、第1の内部回路部13
aに接続するパッド20aと第2の内部回路部13bに
接続するパッド20bとが、ボンディングワイヤ21で
接続される。
First chip 12a and second chip 12b
In order to transmit a signal to and from
The pad 20 a connected to a and the pad 20 b connected to the second internal circuit portion 13 b are connected by the bonding wire 21.

【0016】第1のチップ12aのパッド15aに第1
の保護回路22aが接続され、この第1の保護回路22
aにパッド23aが接続される。同様に、第2のチップ
12bのパッド15bに第2の保護回路22bが接続さ
れ、この第1の保護回路22bにパッド23bが接続さ
れる。そして、パッド23aとパッド23bとがボンデ
ィングワイヤ24で接続される。
First pad 15a of first chip 12a
Is connected to the first protection circuit 22a.
The pad 23a is connected to a. Similarly, the second protection circuit 22b is connected to the pad 15b of the second chip 12b, and the pad 23b is connected to the first protection circuit 22b. Then, the pad 23a and the pad 23b are connected by the bonding wire 24.

【0017】ここで、保護回路22a、22bは、各チ
ップ12a、12bの内部回路部13a、13bの外側
に配置されるように、各チップ12a、12bの外周部
に配置される。また、保護経路25を用いて静電気によ
る電流や電圧を逃がすためには、A領域の抵抗はB領域
の抵抗よりも低いことが必要である。
Here, the protection circuits 22a and 22b are arranged on the outer peripheral portions of the chips 12a and 12b so as to be arranged outside the internal circuit portions 13a and 13b of the chips 12a and 12b. Further, in order to release the current or voltage due to static electricity using the protection path 25, the resistance in the A region needs to be lower than the resistance in the B region.

【0018】尚、ワイヤボンディングでは、各チップの
基板はベッドにショートされているため、ベッドが複数
に分かれていない場合は各チップの基板が同一のベッド
で電気的にショートされ、各チップの基板は電気的に独
立な状態でなくなる。これに対し、本発明の第1の実施
形態では、分離されたベッド11a、11bを設け、こ
のベッド11a、11b上に第1及び第2のチップ12
a、12bをそれぞれ配置することにより、第1及び第
2のチップ12a、12bの基板を電気的に独立な状態
にしている。言い換えると、各チップ12a、12bの
基板が電気的配線で直接ショートされていない。これ
は、第1及び第2のチップ12a、12bが、以下に示
すような異なる回路性能を有することから、この回路性
能の異なりによる不具合を回避するためである。
In wire bonding, the substrate of each chip is short-circuited to the bed. Therefore, when the beds are not divided into a plurality of beds, the substrates of each chip are electrically short-circuited in the same bed, and the substrate of each chip is short-circuited. Are no longer electrically independent. On the other hand, in the first embodiment of the present invention, separate beds 11a and 11b are provided, and the first and second chips 12 are provided on the beds 11a and 11b.
By arranging a and 12b respectively, the substrates of the first and second chips 12a and 12b are brought into an electrically independent state. In other words, the substrates of the chips 12a and 12b are not directly short-circuited by the electrical wiring. This is because the first and second chips 12a and 12b have different circuit performances as described below, and therefore, a problem due to the difference in the circuit performances is avoided.

【0019】例えば、第1のチップ12aと第2のチッ
プ12bとで使用する周波数が異なる。また、第1のチ
ップ12aの電源電圧が10V、第2のチップ12aの
電源電圧が100Vであるように、第1のチップ12a
と第2のチップ12bの電源電圧値が少なくとも2倍以
上異なる。また、第1のチップ12aと第2のチップ1
2bとは電源のオン、オフのタイミングが異なり、第1
のチップ12aがオンの時に第2のチップ12bがオン
又はオフしたり、第1のチップ12aがオフの時に第2
のチップ12bがオンしたりする。また、第1のチップ
12aと第2のチップ12bの一方はアナログ信号を用
い、第1のチップ12aと第2のチップ12bの他方は
デジタル信号を用いる場合もある。
For example, the frequencies used by the first chip 12a and the second chip 12b are different. In addition, the first chip 12a has a power supply voltage of 10V and the second chip 12a has a power supply voltage of 100V.
And the power supply voltage value of the second chip 12b differs by at least twice. In addition, the first chip 12a and the second chip 1
The timing of turning on and off the power source is different from that of 2b.
The second chip 12b is turned on or off when the first chip 12a is turned on, and the second chip 12b is turned on or off when the first chip 12a is turned off.
The chip 12b of is turned on. In some cases, one of the first chip 12a and the second chip 12b uses an analog signal and the other of the first chip 12a and the second chip 12b uses a digital signal.

【0020】また、第1、第2の内部回路部13a、1
3bは、半導体集積回路に要求される回路機能や特性を
実現する回路である。
Also, the first and second internal circuit portions 13a, 1
Reference numeral 3b is a circuit that realizes circuit functions and characteristics required for a semiconductor integrated circuit.

【0021】図3乃至図5は、本発明の第1の実施形態
に係る保護回路の具体的な構成図を示す。尚、保護回路
22a、22bは、図3乃至図5に示す構造のいずれの
構造であってもよく、目的を達成するためには、特に、
図3(a)や図4(a)に示す構造が好ましい。
3 to 5 are specific block diagrams of the protection circuit according to the first embodiment of the present invention. The protection circuits 22a and 22b may have any of the structures shown in FIGS. 3 to 5, and in order to achieve the purpose,
The structure shown in FIG. 3A or FIG. 4A is preferable.

【0022】図3(a)に示すように、保護回路22
a、22bは、並列接続された2つのダイオード31、
32で構成されてもよい。また、図3(b)に示すよう
に、保護回路22a、22bは、直列接続された複数の
ダイオード31、33と、直列接続された複数のダイオ
ード32、34とが並列接続されてもよい。
As shown in FIG. 3A, the protection circuit 22
a and 22b are two diodes 31 connected in parallel,
32 may be included. Further, as shown in FIG. 3B, in the protection circuits 22a and 22b, a plurality of diodes 31 and 33 connected in series and a plurality of diodes 32 and 34 connected in series may be connected in parallel.

【0023】図4(a)に示すように、保護回路22
a、22bは、直列接続されたトランジスタ41及び抵
抗42と、直列接続されたトランジスタ43及び抵抗4
4とが並列接続されてもよい。また、図4(b)に示す
ように、保護回路22a、22bは、直列接続されたト
ランジスタ41、45及び抵抗42、46と、直列接続
されたトランジスタ43、47及び抵抗44、48とが
並列接続されてもよい。
As shown in FIG. 4A, the protection circuit 22
a and 22b are a transistor 41 and a resistor 42 connected in series, and a transistor 43 and a resistor 4 connected in series.
4 may be connected in parallel. Further, as shown in FIG. 4B, in the protection circuits 22a and 22b, transistors 41 and 45 and resistors 42 and 46 connected in series and transistors 43 and 47 and resistors 44 and 48 connected in series are connected in parallel. May be connected.

【0024】図5(a)に示すように、保護回路22
a、22bは、並列接続された2つのトランジスタ5
1、52で構成されてもよい。また、図5(b)に示す
ように、保護回路22a、22bは、直列接続された複
数のトランジスタ51、53と、直列接続された複数の
トランジスタ52、54とが並列接続されてもよい。
As shown in FIG. 5A, the protection circuit 22
a and 22b are two transistors 5 connected in parallel.
It may be composed of 1, 52. Further, as shown in FIG. 5B, in the protection circuits 22a and 22b, a plurality of transistors 51 and 53 connected in series and a plurality of transistors 52 and 54 connected in series may be connected in parallel.

【0025】上記第1の実施形態によれば、GNDピン
19a、19bにつながるパッド15a、15b間に、
第1の保護回路22a〜パッド23a〜ボンディングワ
イヤ24〜パッド23b〜第2の保護回路22bが配置
されているため、次のような効果が得られる。
According to the first embodiment, between the pads 15a and 15b connected to the GND pins 19a and 19b,
Since the first protection circuit 22a, the pad 23a, the bonding wire 24, the pad 23b, and the second protection circuit 22b are arranged, the following effects can be obtained.

【0026】例えば、第2のチップ12bのGNDピン
19bにつながるパッド15bを基準として、第1のチ
ップ12aにある内部回路部13aの電源ピン17aに
つながるパッド14aに静電放電が発生した場合を想定
する。この場合、第1の実施形態では、図2の波線で示
す保護経路25が形成できるため、第1のチップ12a
内に発生した静電気による電流や電圧は、ボンディング
ワイヤ21を介して第2のチップ12bに流れ込まず
に、保護経路25を通って第2のチップ12bのGND
ピン19bへ逃がすことができる。つまり、第2のチッ
プ12bの内部回路部13bに瞬時的な電流、電圧が印
加されることなく、外部へ放電させることができる。
For example, when electrostatic discharge occurs in the pad 14a connected to the power supply pin 17a of the internal circuit portion 13a in the first chip 12a, with reference to the pad 15b connected to the GND pin 19b in the second chip 12b. Suppose. In this case, in the first embodiment, since the protection path 25 shown by the broken line in FIG. 2 can be formed, the first chip 12a can be formed.
The current or voltage due to the static electricity generated inside does not flow into the second chip 12b via the bonding wire 21 and passes through the protection path 25 to the GND of the second chip 12b.
It can be released to the pin 19b. That is, the internal circuit portion 13b of the second chip 12b can be discharged to the outside without applying an instantaneous current or voltage.

【0027】このように、第1の実施形態では、複数の
チップにまたがった静電放電モードが生じた場合であっ
ても、内部回路における素子の劣化や破壊を避けること
ができる。このため、静電放電が発生した場合であって
も、半導体集積回路の製造工程、半導体集積回路が搭載
された電気製品の製造工程、半導体集積回路が搭載され
た電気製品の使用時等において、半導体集積回路及びこ
の半導体集積回路が搭載された電気製品の性能の劣化や
素子破壊の問題を回避することができる。従って、半導
体集積回路装置の静電放電に対する信頼性を高めること
ができる。
As described above, in the first embodiment, even when the electrostatic discharge mode across a plurality of chips occurs, it is possible to avoid deterioration or destruction of elements in the internal circuit. Therefore, even when electrostatic discharge occurs, in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit, the manufacturing process of the electric product equipped with the semiconductor integrated circuit, the use of the electric product equipped with the semiconductor integrated circuit, etc. It is possible to avoid the problems of performance deterioration and element destruction of the semiconductor integrated circuit and electrical products equipped with this semiconductor integrated circuit. Therefore, the reliability of the semiconductor integrated circuit device against electrostatic discharge can be improved.

【0028】また、保護回路22a、22bは、図3乃
至図5に示すように、簡単な構成で形成することができ
る上、保護経路25の形成にあたり保護回路22a、2
2bの複雑な接続を必要としない。このため、半導体集
積回路装置の製造が容易であり、かつ半導体集積回路装
置の製造コストを下げることができる。
Further, the protection circuits 22a and 22b can be formed with a simple structure as shown in FIGS. 3 to 5, and the protection circuits 22a and 2b can be formed when the protection path 25 is formed.
It does not require the complicated connection of 2b. Therefore, the semiconductor integrated circuit device can be easily manufactured, and the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device can be reduced.

【0029】尚、第1の実施形態では、2つのチップを
搭載した場合を例にあげて説明したが、チップを2つ以
上搭載してもよい。例えば、各チップ上に、チップ間を
接続する第1のパッドと、GNDピンへつながる第2の
パッドとをそれぞれ設け、各チップの第1のパッドはボ
ンディングワイヤで接続し、第1のパッドと第2のパッ
ド間には保護回路を設ければよい。この場合も、上記第
1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
In the first embodiment, the case where two chips are mounted has been described as an example, but two or more chips may be mounted. For example, a first pad for connecting the chips and a second pad connected to the GND pin are provided on each chip, and the first pad of each chip is connected by a bonding wire to form the first pad. A protection circuit may be provided between the second pads. Also in this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0030】[第2の実施形態]第2の実施形態は、第
1の実施形態で示した半導体集積回路装置において、一
方のチップ上の保護回路を省略し、保護経路を短くした
ものである。
[Second Embodiment] In the second embodiment, in the semiconductor integrated circuit device shown in the first embodiment, the protection circuit on one chip is omitted and the protection path is shortened. .

【0031】図6、図7は、本発明の第2の実施形態に
係る半導体集積回路装置の平面図を示す。以下に、第2
の実施形態に係る半導体集積回路装置について説明す
る。この第2の実施形態に係る半導体集積回路装置で
は、上記第1の実施形態に係る半導体集積回路装置と同
様の構造は説明を省略し、異なる構造のみ説明する。
6 and 7 are plan views of a semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention. Below, the second
The semiconductor integrated circuit device according to the embodiment will be described. In the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment, the description of the same structure as the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment will be omitted, and only the different structure will be described.

【0032】まず、図6に示す構造は、第1の実施形態
で第1のチップ12a上に配置していた保護回路22a
を無くし、GNDピン(図示せず)につながるパッド1
5aとチップ12a、12b間を接続するパッド23a
とを直接接続している。従って、GNDピンにつながる
パッド15a、15b間には、パッド23a〜ボンディ
ングワイヤ24〜パッド23b〜保護回路22bが配置
されている。
First, the structure shown in FIG. 6 has the protection circuit 22a arranged on the first chip 12a in the first embodiment.
Pad 1 connected to GND pin (not shown)
Pad 23a connecting between 5a and chips 12a, 12b
And are directly connected. Therefore, the pad 23a, the bonding wire 24, the pad 23b, and the protection circuit 22b are arranged between the pads 15a and 15b connected to the GND pin.

【0033】一方、図7に示す構造は、第1の実施形態
で第2のチップ12b上に配置していた保護回路22b
を無くし、GNDピン(図示せず)につながるパッド1
5bとチップ12a、12b間を接続するパッド23b
とを直接接続している。従って、GNDピンにつながる
パッド15a、15b間には、保護回路22a〜パッド
23a〜ボンディングワイヤ24〜パッド23bが配置
されている。
On the other hand, the structure shown in FIG. 7 has the protection circuit 22b arranged on the second chip 12b in the first embodiment.
Pad 1 connected to GND pin (not shown)
Pad 23b for connecting between 5b and chips 12a, 12b
And are directly connected. Therefore, the protection circuit 22a to the pad 23a to the bonding wire 24 to the pad 23b are arranged between the pads 15a and 15b connected to the GND pin.

【0034】上記第2の実施形態によれば、第1の実施
形態と同様の効果を得ることができる。
According to the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0035】さらに、第1の実施形態と比べて、少ない
保護回路で保護経路25を形成することができる。この
ため、より保護経路25での放電がしやすくなり、静電
放電による回路素子の劣化、破壊を回避することができ
る。
Further, compared to the first embodiment, the protection path 25 can be formed with a smaller number of protection circuits. For this reason, it becomes easier for the protection path 25 to be discharged, and deterioration and destruction of the circuit element due to electrostatic discharge can be avoided.

【0036】その他、本発明は、上記各実施形態に限定
されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しな
い範囲で、種々に変形することが可能である。つまり、
上記第1及び第2の実施形態では、パッド間の接続はボ
ンディングワイヤを用いた場合を例にあげて説明した
が、接続部材はボンディングワイヤに限定されない。例
えば、パッド間の接続は、図8(a)及び図8(b)に
示すTAB(Tape Automated Bonding)技術によるTA
BテープやBGA(Ball Grid Array)技術による接続
部材を用いて行ってもよい。また、配線基板を用いてパ
ッド間を接続することも可能である。
In addition, the present invention is not limited to each of the above-described embodiments, and can be variously modified in an implementation stage without departing from the scope of the invention. That is,
In the first and second embodiments, the case where the bonding wires are used for the connection between the pads has been described as an example, but the connecting member is not limited to the bonding wires. For example, the connection between the pads is made by TA using the TAB (Tape Automated Bonding) technique shown in FIGS. 8A and 8B.
The connection may be performed using a B tape or a connecting member using BGA (Ball Grid Array) technology. It is also possible to connect the pads using a wiring board.

【0037】さらに、上記実施形態には種々の段階の発
明が含まれており、開示される複数の構成要件における
適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例
えば、実施形態に示される全構成要件から幾つかの構成
要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄
で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられて
いる効果が得られる場合には、この構成要件が削除され
た構成が発明として抽出され得る。
Further, the embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements. For example, even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiment, the problem described in the section of the problem to be solved by the invention can be solved, and the effect described in the section of the effect of the invention can be solved. When the above is obtained, the configuration in which this constituent element is deleted can be extracted as the invention.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、回
路の性能劣化及び破壊を防止することが可能な半導体集
積回路装置を提供できる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit device capable of preventing deterioration and destruction of circuit performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係わる半導体集積回
路装置を示す概略的な斜視図。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す半導体集積回路装置の一部拡大図。2 is a partially enlarged view of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG.

【図3】本発明の第1の実施形態に係わる保護回路の具
体例を示す回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific example of a protection circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態に係わる保護回路の具
体例を示す回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific example of a protection circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施形態に係わる保護回路の具
体例を示す回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a specific example of a protection circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態に係わる半導体集積回
路装置を示す概略的な平面図。
FIG. 6 is a schematic plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施形態に係わる他の半導体集
積回路装置を示す概略的な平面図。
FIG. 7 is a schematic plan view showing another semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the invention.

【図8】図8(a)は本発明の第1及び第2の実施形態
に係わるTABを用いた半導体集積回路装置を示す概略
的な平面図、図8(b)は図8(a)に示すVIIIb−VI
IIb線に沿った半導体集積回路装置の断面図。
8 (a) is a schematic plan view showing a semiconductor integrated circuit device using a TAB according to the first and second embodiments of the present invention, and FIG. 8 (b) is FIG. 8 (a). VIIIb-VI shown in
Sectional drawing of the semiconductor integrated circuit device along the IIb line.

【図9】従来技術による半導体集積回路装置を示す概略
的な平面図。
FIG. 9 is a schematic plan view showing a semiconductor integrated circuit device according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…基板、 11a、11b…ベッド、 12a、12b…チップ、 13a、13b…内部回路部、 14a、14b、15a、15b、20a、20b、2
3a、23b…パッド、 16a、16b、18a、18b、21、24…ボンデ
ィングワイヤ、 17a、17b…電源ピン、 19a、19b…GNDピン、 22a、22b…保護回路、 25…保護経路。
10 ... Board, 11a, 11b ... Bed, 12a, 12b ... Chip, 13a, 13b ... Internal circuit part, 14a, 14b, 15a, 15b, 20a, 20b, 2
3a, 23b ... Pad, 16a, 16b, 18a, 18b, 21, 24 ... Bonding wire, 17a, 17b ... Power supply pin, 19a, 19b ... GND pin, 22a, 22b ... Protect circuit, 25 ... Protect path.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂井 修一 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 (72)発明者 吉井 郁夫 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 (72)発明者 原 賢治 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5F038 BE07 BH02 BH04 BH06 BH13 CA10 EZ07 EZ20 5F067 AA02    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shuichi Sakai             1st Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Ceremony Company Toshiba Microelectronics Sen             Inside (72) Inventor Ikuo Yoshii             1st Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Ceremony Company Toshiba Microelectronics Sen             Inside (72) Inventor Kenji Hara             1st Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa             Ceremony Company Toshiba Microelectronics Sen             Inside F-term (reference) 5F038 BE07 BH02 BH04 BH06 BH13                       CA10 EZ07 EZ20                 5F067 AA02

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1つの外囲器に複数のチップを搭載した
半導体集積回路装置であって、 第1のチップと、 前記第1のチップと電気的に独立して配置された第2の
チップと、 前記第1のチップ上に配置され、第1のGNDピンへつ
ながる第1のパッドと、 前記第1のチップ上に配置され、前記第1のパッドと接
続する第2のパッドと、 前記第2のチップ上に配置され、第2のGNDピンへつ
ながる第3のパッドと、 前記第2のチップ上に配置され、前記第3のパッドと接
続する第4のパッドと、 前記第2のパッドと前記第4のパッドとを接続する第1
の接続部材と、 前記第1のパッドと前記第2のパッド間、前記第3のパ
ッドと前記第4のパッド間の少なくとも一方に配置され
た保護回路とを具備することを特徴とする半導体集積回
路装置。
1. A semiconductor integrated circuit device in which a plurality of chips are mounted on one envelope, wherein a first chip and a second chip are arranged electrically independent of the first chip. A first pad disposed on the first chip and connected to a first GND pin; a second pad disposed on the first chip and connected to the first pad; A third pad disposed on the second chip and connected to the second GND pin; a fourth pad disposed on the second chip and connected to the third pad; A first connecting pad and the fourth pad
Integrated circuit, and a protection circuit disposed on at least one of the first pad and the second pad and between the third pad and the fourth pad. Circuit device.
【請求項2】 1つの外囲器に複数のチップを搭載し、
これらチップが複数に分離されたベッド上にそれぞれ配
置された半導体集積回路装置であって、 第1のベッドと、 前記第1のベッド上に配置された第1のチップと、 前記第1のベッドと分離して配置された第2のベッド
と、 前記第2のベッド上に配置された第2のチップと、 前記第1のチップ上に配置され、第1のGNDピンへつ
ながる第1のパッドと、 前記第1のチップ上に配置され、前記第1のパッドと接
続する第2のパッドと、 前記第2のチップ上に配置され、第2のGNDピンへつ
ながる第3のパッドと、 前記第2のチップ上に配置され、前記第3のパッドと接
続する第4のパッドと、 前記第2のパッドと前記第4のパッドとを接続する第1
の接続部材と、 前記第1のパッドと前記第2のパッド間、前記第3のパ
ッドと前記第4のパッド間の少なくとも一方に配置され
た保護回路とを具備することを特徴とする半導体集積回
路装置。
2. A plurality of chips are mounted on one envelope,
A semiconductor integrated circuit device in which these chips are respectively arranged on a bed separated into a plurality of, wherein a first bed, a first chip arranged on the first bed, and the first bed A second bed separately disposed, a second chip disposed on the second bed, a first pad disposed on the first chip and connected to a first GND pin A second pad disposed on the first chip and connected to the first pad; a third pad disposed on the second chip and connected to a second GND pin; A fourth pad arranged on a second chip and connected to the third pad; and a first pad connecting the second pad and the fourth pad.
Integrated circuit, and a protection circuit disposed on at least one of the first pad and the second pad and between the third pad and the fourth pad. Circuit device.
【請求項3】 前記第1のチップと前記第2のチップ
は、使用する周波数が異なることを特徴とする請求項1
又は2に記載の半導体集積回路装置。
3. The frequencies used in the first chip and the second chip are different from each other.
Or the semiconductor integrated circuit device according to 2.
【請求項4】 前記第1のチップと前記第2のチップ
は、電源電圧値が異なることを特徴とする請求項1又は
2に記載の半導体集積回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first chip and the second chip have different power supply voltage values.
【請求項5】 前記第1のチップと前記第2のチップ
は、電源電圧値が2倍以上異なることを特徴とする請求
項1又は2に記載の半導体集積回路装置。
5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first chip and the second chip are different in power supply voltage value by two times or more.
【請求項6】 前記第1のチップと前記第2のチップ
は、電源のオン、オフのタイミングが異なることを特徴
とする請求項1又は2に記載の半導体集積回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first chip and the second chip have different power-on and power-off timings.
【請求項7】 前記第1のチップと前記第2のチップの
一方はアナログ信号を用い、前記第1のチップと前記第
2のチップの他方はデジタル信号を用いることを特徴と
する請求項1又は2に記載の半導体集積回路装置。
7. The one of the first chip and the second chip uses an analog signal, and the other of the first chip and the second chip uses a digital signal. Or the semiconductor integrated circuit device according to 2.
【請求項8】 前記第1の接続部材は、ボンディングワ
イヤ、TABテープ、BGA技術による接続部材及び配
線基板のいずれかであることを特徴とする請求項1又は
2に記載の半導体集積回路装置。
8. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first connecting member is any one of a bonding wire, a TAB tape, a connecting member using a BGA technique, and a wiring board.
【請求項9】 前記第1の接続部材は、ボンディングワ
イヤ、TABテープ及びBGA技術による接続部材のい
ずれかであることを特徴とする請求項1又は2に記載の
半導体集積回路装置。
9. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first connecting member is any one of a bonding wire, a TAB tape, and a connecting member using BGA technology.
【請求項10】 前記第1の接続部材は、ボンディング
ワイヤであることを特徴とする請求項1又は2に記載の
半導体集積回路装置。
10. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the first connecting member is a bonding wire.
【請求項11】 前記第1のチップ上に配置され、前記
第2のチップへつながる第5のパッドと、 前記第2のチップ上に配置され、前記第1のチップへつ
ながる第6のパッドと、 前記第5のパッドと前記第6のパッドとを接続する第2
の接続部材とをさらに具備することを特徴とする請求項
1又は2に記載の半導体集積回路装置。
11. A fifth pad arranged on the first chip and connected to the second chip, and a sixth pad arranged on the second chip and connected to the first chip. A second pad connecting the fifth pad and the sixth pad
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising:
【請求項12】 前記第1のチップ上に配置され、前記
第1のパッド及び前記第5のパッドに接続する第1の内
部回路部と、 前記第2のチップ上に配置され、前記第3のパッド及び
前記第6のパッドに接続する第2の内部回路部とをさら
に具備することを特徴とする請求項11に記載の半導体
集積回路装置。
12. A first internal circuit portion arranged on the first chip and connected to the first pad and the fifth pad; a third internal circuit portion arranged on the second chip; 12. The semiconductor integrated circuit device according to claim 11, further comprising a second internal circuit portion connected to the pad and the sixth pad.
JP2001318367A 2001-10-16 2001-10-16 Semiconductor integrated circuit device Pending JP2003124331A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001318367A JP2003124331A (en) 2001-10-16 2001-10-16 Semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001318367A JP2003124331A (en) 2001-10-16 2001-10-16 Semiconductor integrated circuit device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003124331A true JP2003124331A (en) 2003-04-25

Family

ID=19136076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001318367A Pending JP2003124331A (en) 2001-10-16 2001-10-16 Semiconductor integrated circuit device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003124331A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005259914A (en) * 2004-03-10 2005-09-22 Nec Electronics Corp Semiconductor circuit device and multi-chip package
JP2009081293A (en) * 2007-09-26 2009-04-16 Oki Semiconductor Co Ltd Semiconductor chip, and semiconductor device having a plurality of semiconductor chips mounted thereon
JP2011082544A (en) * 2003-02-27 2011-04-21 Renesas Electronics Corp Semiconductor integrated device and method for designing the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082544A (en) * 2003-02-27 2011-04-21 Renesas Electronics Corp Semiconductor integrated device and method for designing the same
JP2005259914A (en) * 2004-03-10 2005-09-22 Nec Electronics Corp Semiconductor circuit device and multi-chip package
JP4652703B2 (en) * 2004-03-10 2011-03-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor circuit device and multi-chip package
JP2009081293A (en) * 2007-09-26 2009-04-16 Oki Semiconductor Co Ltd Semiconductor chip, and semiconductor device having a plurality of semiconductor chips mounted thereon
US8093629B2 (en) 2007-09-26 2012-01-10 Oki Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor chip and semiconductor device having a plurality of semiconductor chips

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6351040B1 (en) Method and apparatus for implementing selected functionality on an integrated circuit device
JPH04307943A (en) Semiconductor device
JPH09120974A (en) Semiconductor device
JPS6011462B2 (en) semiconductor equipment
JP2003124331A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP4472891B2 (en) Ball grid array package semiconductor device with integrated power wiring
JPH04349640A (en) Analog-digital hybrid integrated circuit device package
JP2685135B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0669276A (en) Semiconductor device
JP2004221260A (en) Semiconductor device
JP3308047B2 (en) Semiconductor device
JP3692186B2 (en) Semiconductor device
JPS60154644A (en) Semiconductor device
JP2003229530A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2004022777A (en) Semiconductor device
JPS629654A (en) Mounting package for ic device
JPS61180470A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2522455B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH05136206A (en) Semiconductor device
JP2972473B2 (en) Semiconductor device
JPH05175414A (en) Integrated-circuit mounting method
JPH01114049A (en) Integrated circuit chip of variable size
JPS61283137A (en) Semiconductor device
JPH03180052A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0429320A (en) Semiconductor device