JP2003118029A - Gas-barrier organic base material and electroluminescent element using the base material - Google Patents

Gas-barrier organic base material and electroluminescent element using the base material

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JP2003118029A
JP2003118029A JP2001318105A JP2001318105A JP2003118029A JP 2003118029 A JP2003118029 A JP 2003118029A JP 2001318105 A JP2001318105 A JP 2001318105A JP 2001318105 A JP2001318105 A JP 2001318105A JP 2003118029 A JP2003118029 A JP 2003118029A
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JP
Japan
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base material
layer
meth
gas barrier
acrylate
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Application number
JP2001318105A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Ishizeki
健二 石関
Toshihiko Higuchi
俊彦 樋口
Hirotsugu Yamamoto
博嗣 山本
Hirokazu Wakabayashi
浩和 若林
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic base material having a gas-barrier coat which is excellent in adhesion to the base material and in gas-barrier properties to various gases such as oxygen and steam and an EL element using the base material. SOLUTION: A cured substance layer (A) of a cured coating composition (a) containing polysilazane is formed at least on one surface of the organic base material, and a gas-barrier layer (C) is formed on the surface of the layer (A) by a dry method to obtain the gas-barrier organic base material. The base material is used for the substrate and/or the protective layer of the EL element.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機基材との密着
性に優れ、かつ酸素または水蒸気など種々のガスに対す
るバリヤ性に優れたガスバリヤ性被膜を有する有機基
材、およびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic substrate having a gas barrier coating which has excellent adhesion to an organic substrate and excellent barrier properties against various gases such as oxygen or water vapor, and an electro substrate using the same. It relates to a luminescence element.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子(以下、
エレクトロルミネッセンスをELという。)には、湿気
や酸化からEL層を保護するため、一般にガスバリア性
に優れたガラスが用いられているが、ガラスは衝撃に弱
く、また重いため、その代替品としてガスバリア性を有
する有機基材(本発明においてはガスバリヤ性有機基材
という。)が用いられるようになっている。
2. Description of the Related Art Electroluminescent devices (hereinafter referred to as
Electroluminescence is called EL. In order to protect the EL layer from moisture and oxidation, a glass excellent in gas barrier property is generally used for), but since glass is weak against impact and heavy, an organic substrate having gas barrier property is used as a substitute for it. (In the present invention, a gas barrier organic base material) is used.

【0003】EL素子のような表示素子に用いられるガ
スバリア性有機基材としては、有機基材の表面に、真空
蒸着法またはスパッタリング法などの物理的方法、CV
Dなどの化学的方法などの気相法によってガスバリア性
被膜(たとえば金属酸化物の被膜)を形成したものが広
く用いられている。
As the gas-barrier organic base material used for a display device such as an EL device, a physical method such as a vacuum deposition method or a sputtering method or a CV is used on the surface of the organic base material.
A gas barrier film (for example, a metal oxide film) formed by a vapor phase method such as a chemical method such as D is widely used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
乾式法によって形成されるガスバリヤ性被膜は、被膜自
体のガスバリヤ性は高いものの、有機基材との密着性が
充分でないために、ガスバリヤ性を低下させる問題があ
った。また、有機基材を屈曲した場合、有機基材からガ
スバリヤ性被膜が剥離しやすい問題があった。
However, the gas barrier film formed by the dry method as described above has a high gas barrier property of the film itself, but the gas barrier property is not sufficient because the adhesiveness to the organic substrate is not sufficient. There was a problem that lowers. Further, when the organic base material is bent, there is a problem that the gas barrier coating is easily peeled off from the organic base material.

【0005】本発明は、有機基材との密着性に優れ、か
つ酸素または水蒸気など種々のガスに対するバリヤ性に
優れたガスバリヤ性被膜を有する有機基材、およびそれ
を用いた発光特性の劣化が少ないEL素子を提供するこ
とを目的とする。
The present invention has an organic base material having a gas barrier coating excellent in adhesion to an organic base material and excellent in barrier properties against various gases such as oxygen or water vapor, and deterioration of light emission characteristics using the same. An object is to provide a small number of EL elements.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の一つは、有機基材の少なくとも一方の表面
に、基材側から順に、ポリシラザンを含有する被覆組成
物(a)の硬化物からなる硬化物層(A)と、乾式法に
よって形成されたガスバリヤ層(C)とを有することを
特徴とするガスバリヤ性有機基材を提供する。
In order to achieve the above object, one of the present inventions is to provide a coating composition (a) containing polysilazane on at least one surface of an organic substrate in order from the substrate side. There is provided a gas barrier organic base material having a cured product layer (A) made of a cured product and a gas barrier layer (C) formed by a dry method.

【0007】上記ガスバリヤ性有機基材は、有機基材の
表面に、ポリシラザンを含有する被覆組成物(a)の硬
化物からなる硬化物層(A)を介して、乾式法によって
形成されたガスバリヤ層(C)を有するので、硬化物層
(A)がガスバリヤ層(C)の下地膜として機能し、有
機基材とガスバリア層(C)との密着性に優れる。ま
た、被覆組成物(a)は低温で硬化し、硬化収縮率が低
く、硬化物の密度も高いため、その硬化物からなる硬化
物層(A)は優れたガスバリヤ性を示し、ガスバリヤ層
(C)との相乗効果により優れたガスバリヤ性を発現す
る。
The above gas barrier organic substrate is a gas barrier formed by a dry method on the surface of the organic substrate through a cured product layer (A) made of a cured product of a coating composition (a) containing polysilazane. Since it has the layer (C), the cured product layer (A) functions as a base film of the gas barrier layer (C), and the adhesiveness between the organic base material and the gas barrier layer (C) is excellent. Further, since the coating composition (a) is cured at a low temperature, has a low curing shrinkage rate, and has a high density of the cured product, the cured product layer (A) formed of the cured product exhibits excellent gas barrier properties, and the gas barrier layer ( An excellent gas barrier property is exhibited by the synergistic effect with C).

【0008】本発明のガスバリヤ性有機基材は、前記有
機基材と前記硬化物層(A)との間に、活性エネルギ線
硬化性の重合性官能基を1個以上有する化合物を含有す
る被覆組成物(b)の硬化物からなる下地層(B)を有
することが好ましい。この態様によれば、下地層(B)
を介して硬化物層(A)を形成することになり、有機基
材と硬化物層(A)との密着性をさらに高めることがで
きるので、有機基材とガスバリア層(C)との密着性を
さらに向上できる。
The gas barrier organic substrate of the present invention is a coating containing a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group between the organic substrate and the cured product layer (A). It is preferable to have an underlayer (B) made of a cured product of the composition (b). According to this aspect, the underlayer (B)
Since the cured product layer (A) is formed through the adhesive, the adhesiveness between the organic base material and the cured product layer (A) can be further enhanced. Therefore, the adhesiveness between the organic base material and the gas barrier layer (C) Can be further improved.

【0009】また、前記被覆組成物(a)は、活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上有する化合物を
含有することが好ましい。この態様によれば、有機基材
およびガスバリア層(C)に対する硬化物層(A)の密
着性をさらに向上できる。また、硬化物層(A)の可撓
性が増すので、硬化物層(A)の厚さを厚くしても有機
基材のフレキシビリティを損うことがなく、耐屈曲性を
向上できる。
Further, the coating composition (a) preferably contains a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group. According to this aspect, the adhesion of the cured product layer (A) to the organic base material and the gas barrier layer (C) can be further improved. Further, since the flexibility of the cured product layer (A) is increased, even if the cured product layer (A) is thickened, the flexibility of the organic base material is not impaired, and the bending resistance can be improved.

【0010】また、本発明のもう一つは、EL層と、該
EL層の両面に設けられた電極と、一方の電極を覆うよ
うに配設された基板と、他方の電極を覆うように配設さ
れた保護層とからなる積層構造体を有するEL素子であ
って、前記基板および/または前記保護層が、前記ガス
バリヤ性有機基材であることを特徴とするEL素子を提
供する。
Another aspect of the present invention is to cover an EL layer, electrodes provided on both sides of the EL layer, a substrate arranged to cover one electrode, and another electrode. An EL element having a laminated structure including a disposed protective layer, wherein the substrate and / or the protective layer is the gas barrier organic base material.

【0011】上記EL素子は、基板および/または保護
層に上記ガスバリヤ性有機基材を用いているので、水分
または酸素などによる影響を受けにくいため、発光特性
の劣化が少ない。
Since the EL element uses the gas-barrier organic base material for the substrate and / or the protective layer, it is not easily affected by moisture or oxygen, so that the light emitting characteristics are less deteriorated.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のガスバリヤ性有機基材
は、有機基材の少なくとも一方の表面に、基材側から順
に、ポリシラザンを含有する被覆組成物(a)の硬化物
からなる硬化物層(A)と、乾式法によって形成された
ガスバリヤ層(C)とを有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The gas barrier organic substrate of the present invention is a cured product of a cured product of a coating composition (a) containing polysilazane on at least one surface of the organic substrate in order from the substrate side. It has a layer (A) and a gas barrier layer (C) formed by a dry method.

【0013】このガスバリヤ性有機基材は、前記有機基
材と前記硬化物層(A)との間に、活性エネルギ線硬化
性の重合性官能基を1個以上有する化合物を含有する被
覆組成物(b)の硬化物からなる下地層(B)を有する
ことが好ましい。
The gas barrier organic substrate is a coating composition containing a compound having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group between the organic substrate and the cured product layer (A). It is preferable to have an underlayer (B) made of the cured product of (b).

【0014】以下、基材および各層についてさらに詳し
く説明する。本発明で用いられる有機基材は、特に限定
されないが、透明性および入手が容易であることから、
熱可塑性ノルボルネン系樹脂、芳香族ポリカーボネート
樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂またはポリエチレ
ンテレフタレート樹脂から選ばれた1種からなる基材が
好ましい。また、上記各樹脂から選ばれた1種からなる
基材を2種類以上用い、それらを積層して得られる基材
を用いることもできる。本発明においては、特に、複屈
折率が低く、吸水性が低いことから、熱可塑性ノルボル
ネン系樹脂からなる基材が好ましい。
The substrate and each layer will be described in more detail below. The organic base material used in the present invention is not particularly limited, but since it is transparent and easily available,
A base material made of one selected from a thermoplastic norbornene-based resin, an aromatic polycarbonate resin, a polymethylmethacrylate resin or a polyethylene terephthalate resin is preferable. Further, it is also possible to use two or more kinds of base materials made of one kind selected from each of the above resins, and use a base material obtained by laminating them. In the present invention, a base material made of a thermoplastic norbornene resin is particularly preferable because it has a low birefringence and a low water absorption.

【0015】上記有機基材の厚さは、用途により適宜選
択できるが、たとえばEL素子の基板に用いる場合は
0.1〜2mmが好ましく、保護層に用いる場合は0.
05〜1mmが好ましい。
The thickness of the above-mentioned organic base material can be appropriately selected depending on the application, but is preferably 0.1 to 2 mm when it is used as a substrate of an EL element, and is 0.1 mm when it is used as a protective layer.
05-1 mm is preferable.

【0016】次に、被覆組成物(a)について説明す
る。なお、以下の説明において、アクリロイル基および
メタクリロイル基を総称して(メタ)アクリロイル基と
いい、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリ
ル酸、(メタ)アクリレートなどの表現も同様とする。
Next, the coating composition (a) will be described. In the following description, the acryloyl group and the methacryloyl group are collectively referred to as a (meth) acryloyl group, and the expressions (meth) acryloyloxy group, (meth) acrylic acid, (meth) acrylate and the like are also the same.

【0017】被覆組成物(a)に含まれるポリシラザン
としては、特開平11−240103号公報の段落番号
0097〜0104に記載されたポリシラザンが好まし
く挙げられる。本発明においては、ペルヒドロポリシラ
ザンが好ましく、また、その分子量は、数平均分子量で
200〜5万が好ましい。数平均分子量が200未満で
は焼成しても均一な硬化物が得られにくく、5万超では
溶剤に溶解しにくくなり好ましくない。
Preferred examples of the polysilazane contained in the coating composition (a) include the polysilazanes described in paragraph Nos. 0097 to 0104 of JP-A No. 11-240103. In the present invention, perhydropolysilazane is preferable, and its molecular weight is preferably 200 to 50,000 in terms of number average molecular weight. If the number average molecular weight is less than 200, it is difficult to obtain a uniform cured product even after firing, and if it exceeds 50,000, it is difficult to dissolve in a solvent, which is not preferable.

【0018】被覆組成物(a)は、活性エネルギ線硬化
性の重合性官能基を1個以上有する化合物(以下、活性
エネルギ線硬化性成分という。)を含有することが好ま
しい。活性エネルギ線硬化性成分のうち、活性エネルギ
線によって重合しうる重合性官能基を1個有する化合物
(以下、単に単官能性化合物という。)としては、(メ
タ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、特にア
クリロイル基を有する化合物が好ましい。また、その他
に水酸基、エポキシ基などの官能基を有していてもよ
い。上記単官能性化合物としては、たとえば以下のもの
が好ましく挙げられる。
The coating composition (a) preferably contains a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (hereinafter referred to as active energy ray-curable component). Of the active energy ray-curable components, the compound having one polymerizable functional group capable of being polymerized by active energy rays (hereinafter, simply referred to as a monofunctional compound) is preferably a compound having a (meth) acryloyl group, A compound having an acryloyl group is particularly preferable. In addition, it may have a functional group such as a hydroxyl group and an epoxy group. Preferred examples of the monofunctional compound include the following.

【0019】アルキル(メタ)アクリレート(アルキル
基の炭素数は1〜13)、アリル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、ブタンジオール(メタ)アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリレート、2−シアノエチル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンタニル(メタ)アクリレート、2,3−ジブロモプロ
ピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
(メタ)アクリレート、
Alkyl (meth) acrylate (wherein the alkyl group has 1 to 13 carbon atoms), allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butanediol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol. Mono (Meta)
Acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)
Acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ( (Meth) acrylate,

【0020】N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2(2−エトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリ
レート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グ
リセロール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)
アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシ
プロピルトリメチルアンモニウムクロリド、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メ
タ)アクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、2−メトキシエチル(メ
タ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリ
コール(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロデカト
リエン(メタ)アクリレート、
N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth)
Acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyltrimethylammonium chloride, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene Glycol (meth) acrylate, methoxylated cyclodecatriene (meth) acrylate,

【0021】モルホリン(メタ)アクリレート、ノニル
フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)ア
クリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アク
リレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、スル
ホン酸ソーダエトキシ(メタ)アクリレート、テトラフ
ルオロプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル
(メタ)アクリレート、ビニルアセテート、N−ビニル
カプロラクタム、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホ
ルムアミド、モルホリノ(メタ)アクリレート、2−モ
ルホリノエチル(メタ)アクリレート。
Morpholine (meth) acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate,
Phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate,
Polypropylene glycol (meth) acrylate, sodium sulfonate (meth) acrylate sulfonate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, vinyl acetate, N-vinylcaprolactam, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, morpholino (meth) acrylate, 2-morpholinoethyl (meth) acrylate.

【0022】また、活性エネルギ線硬化性成分のうち、
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を2個以上有する
化合物(以下、単に多官能性化合物という。)として
は、たとえば特開平11−240103号公報の段落番
号0016〜0020、0023〜0047に記載され
た化合物が挙げられる。好ましい多官能性化合物として
は、(メタ)アクリロイル基から選ばれる1種以上の重
合性官能基を2個以上(2〜50個が好ましく、より好
ましくは3〜30個)有する化合物が挙げられる。その
中でも(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上有する
化合物、すなわち多価アルコールなどの2個以上の水酸
基を有する化合物と(メタ)アクリル酸とのポリエステ
ルが好ましい。また、上記重合性官能基以外に種々の官
能基や結合を有する化合物であってもよい。特に、ウレ
タン結合を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物
(以下、アクリルウレタンという。)と、ウレタン結合
を有しない(メタ)アクリル酸エステル化合物が好まし
い。
Among the active energy ray-curable components,
The compound having two or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (hereinafter, simply referred to as a polyfunctional compound) is described, for example, in paragraphs 0016 to 0020 and 0023 to 0047 of JP-A No. 11-240103. The compound mentioned above is included. Preferred polyfunctional compounds include compounds having two or more (2 to 50 are preferable, and 3 to 30 are preferable) one or more kinds of polymerizable functional groups selected from (meth) acryloyl groups. Among them, a compound having two or more (meth) acryloyloxy groups, that is, a polyester of (meth) acrylic acid and a compound having two or more hydroxyl groups such as polyhydric alcohol is preferable. Further, it may be a compound having various functional groups or bonds other than the above-mentioned polymerizable functional groups. In particular, a (meth) acryloyl group-containing compound having a urethane bond (hereinafter referred to as acrylic urethane) and a (meth) acrylic acid ester compound having no urethane bond are preferable.

【0023】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタン
であり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を3
個以上(より好ましくは4〜20個)有する多官能性化
合物、または、ペンタエリスリトールやポリペンタエリ
スリトールの水酸基含有ポリ(メタ)アクリレートと、
ポリイソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレ
タンであり、かつ活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を3個以上(より好ましくは4〜20個)有する多官能
性化合物が挙げられる。
The above-mentioned acrylic urethane is an acrylic urethane which is a reaction product of pentaerythritol or polypentaerythritol which is a multimer thereof, polyisocyanate and hydroxyalkyl (meth) acrylate, and which is active energy ray-curable and polymerizable. 3 functional groups
A polyfunctional compound having one or more (more preferably 4 to 20) or a hydroxyl group-containing poly (meth) acrylate of pentaerythritol or polypentaerythritol,
A polyfunctional compound which is an acrylic urethane which is a reaction product with a polyisocyanate and which has 3 or more (more preferably 4 to 20) active energy ray-curable polymerizable functional groups can be mentioned.

【0024】また、ウレタン結合を有しない(メタ)ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ(メタ)アクリレートまたはイソシアヌレート
系ポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、ペン
タエリスリトール系ポリ(メタ)アクリレートとは、ペ
ンタエリスリトールまたはポリペンタエリスリトールと
(メタ)アクリル酸とのポリエステル(好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を4〜20個有す
る。)をいう。また、イソシアヌレート系ポリ(メタ)
アクリレートとは、トリス(ヒドロキシアルキル)イソ
シアヌレートまたはトリス(ヒドロキシアルキル)イソ
シアヌレートの1モルに、1〜6モルのカプロラクトン
またはアルキレンオキシドを付加して得られる化合物
と、(メタ)アクリル酸とのポリエステル(好ましくは
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を2〜3個有す
る。)をいう。
Examples of the (meth) acrylic acid ester compound having no urethane bond include pentaerythritol type poly (meth) acrylate and isocyanurate type poly (meth) acrylate. The pentaerythritol-based poly (meth) acrylate is a polyester of pentaerythritol or polypentaerythritol and (meth) acrylic acid (preferably having 4 to 20 active energy ray-curable polymerizable functional groups). Say. In addition, isocyanurate poly (meta)
Acrylate is a polyester of (meth) acrylic acid and a compound obtained by adding 1 to 6 mol of caprolactone or alkylene oxide to 1 mol of tris (hydroxyalkyl) isocyanurate or tris (hydroxyalkyl) isocyanurate. (Preferably having 2 to 3 active energy ray-curable polymerizable functional groups).

【0025】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を2個以上有する多官能性化合物(特に多価アルコール
のポリ(メタ)アクリレート)とを併用してもよい。
In the present invention, the above-mentioned preferred polyfunctional compound and a polyfunctional compound having two or more other active energy ray-curable polymerizable functional groups (particularly poly (meth) acrylate of polyhydric alcohol). You may use together with.

【0026】活性エネルギ線硬化性成分における、上記
単官能性化合物または上記多官能性化合物の割合は特に
制限されない。
The ratio of the monofunctional compound or the polyfunctional compound in the active energy ray-curable component is not particularly limited.

【0027】被覆組成物(a)におけるポリシラザンの
割合(ポリシラザン/(ポリシラザン+活性エネルギ線
硬化性成分))は、ガスバリヤ性を良好にするために、
40質量%以上が好ましい。
The proportion of polysilazane (polysilazane / (polysilazane + active energy ray-curable component)) in the coating composition (a) is set so as to improve the gas barrier property.
It is preferably 40% by mass or more.

【0028】被覆組成物(a)は、上記基本的成分の他
に、溶剤や種々の機能性配合剤を含むことができる。
The coating composition (a) may contain a solvent and various functional compounding agents in addition to the above basic components.

【0029】溶剤としては、炭化水素類、ハロゲン化水
素類、エーテル類、エステル類、ケトン類などが挙げら
れるが、キシレンまたはジブチルエーテルが特に好まし
い。溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を
調節するために、複数の種類の溶剤を混合して用いても
よい。溶剤の使用量は、採用される塗工方法およびポリ
シラザンの構造や平均分子量などによって異なるが、固
形分濃度で0.5〜80質量%となるように調製するこ
とが好ましい。
Examples of the solvent include hydrocarbons, hydrogen halides, ethers, esters and ketones, with xylene or dibutyl ether being particularly preferred. As the solvent, a plurality of kinds of solvents may be mixed and used in order to adjust the solubility of polysilazane and the evaporation rate of the solvent. The amount of the solvent used varies depending on the coating method used, the structure of polysilazane, the average molecular weight, and the like, but it is preferable to prepare the solvent so that the solid content concentration is 0.5 to 80% by mass.

【0030】また、機能性配合剤としては、光重合開始
剤、密着性付与剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止
剤、熱重合防止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈
降防止剤、分散剤および硬化触媒から選ばれる1種以上
が挙げられる。
The functional compounding agents include photopolymerization initiators, adhesion promoters, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, defoamers, thickeners, At least one selected from an anti-settling agent, a dispersant and a curing catalyst can be used.

【0031】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤(たとえばアセトフェノン類、ベンゾフェ
ノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など)、含硫黄系光重合開始剤
(たとえばスルフィド類、チオキサントン類など)、ア
シルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホス
フィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始剤
が挙げられる。具体的には、特開平11−240103
号公報の段落番号0081〜0085に記載された化合
物が挙げられる。本発明においては、アシルホスフィン
オキシド系光重合開始剤が特に好ましい。光重合開始剤
は、複数の種類を併用してもよく、アミン類などの光増
感剤と組み合わせて使用してもよい。
Examples of the photopolymerization initiator include arylketone type photopolymerization initiators (for example, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers, benzyl dimethyl ketals, benzoyl benzoates, α). -Acyloxime esters, etc.), sulfur-containing photopolymerization initiators (for example, sulfides, thioxanthones, etc.), acylphosphine oxide photopolymerization initiators, diacylphosphine oxide photopolymerization initiators, and other photopolymerization initiators. Can be mentioned. Specifically, JP-A-11-240103
The compounds described in paragraph Nos. 0081 to 0085 of the publication are listed. In the present invention, an acylphosphine oxide photopolymerization initiator is particularly preferable. A plurality of types of photopolymerization initiators may be used in combination, and a photosensitizer such as amines may be used in combination.

【0032】光重合開始剤の使用量は、ポリシラザンと
活性エネルギ線硬化性成分の合計100質量部に対して
0.01〜20質量部が好ましく、特に0.1〜10質
量部が好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.01 to 20 parts by mass, and particularly preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polysilazane and the active energy ray-curable component.

【0033】密着性付与剤としては、シランカップリン
グ剤などが挙げられる。紫外線吸収剤としては、合成樹
脂用紫外線吸収剤として使用されているベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外
線吸収剤などが好ましい。具体的には、特開平11−2
40103号公報の段落番号0093に記載された化合
物が挙げられる。本発明においては、2−{2−ヒドロ
キシ−5−(2−アクリロイルオキシエチル)フェニ
ル}ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシ−3−メタク
リロイルオキシプロピル−3−{3−(ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフ
ェニル}プロピオネートなどの、分子内に重合性官能基
を有するものが特に好ましい。
Examples of the adhesion-imparting agent include silane coupling agents and the like. As the ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, which is used as a synthetic resin ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber,
Salicylic acid-based UV absorbers, phenyltriazine-based UV absorbers and the like are preferable. Specifically, JP-A-11-2
The compound described in paragraph No. 0093 of 40103 is mentioned. In the present invention, 2- {2-hydroxy-5- (2-acryloyloxyethyl) phenyl} benzotriazole, 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl-3- {3- (benzotriazol-2-yl)- Particularly preferred are those having a polymerizable functional group in the molecule, such as 4-hydroxy-5-t-butylphenyl} propionate.

【0034】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ま
しい。具体的には、特開平11−240103号公報の
段落番号0094に記載された化合物が挙げられる。本
発明においては、1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジルメタクリレートなどの、分子内に重合性
官能基を有する化合物が特に好ましい。
The light stabilizer is preferably a hindered amine light stabilizer used as a light stabilizer for synthetic resins. Specific examples thereof include the compounds described in paragraph No. 0094 of JP-A No. 11-240103. In the present invention, 1,2,2,6,6-pentamethyl-
A compound having a polymerizable functional group in the molecule, such as 4-piperidyl methacrylate, is particularly preferable.

【0035】酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。レベリング剤としては、シリ
コーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング
剤などが挙げられる。
Examples of the antioxidants include hindered phenolic antioxidants such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol and phosphorus antioxidants such as triphenylphosphite. Examples of the leveling agent include silicone resin-based leveling agents and acrylic resin-based leveling agents.

【0036】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。増粘
剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水
添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げ
られる。
Examples of the defoaming agent include silicone resin defoaming agents such as polydimethylsiloxane. Examples of the thickener include polymethylmethacrylate-based polymers, hydrogenated castor oil-based compounds, and fatty acid amide-based compounds.

【0037】被覆組成物(a)の硬化物からなる硬化物
層(A)の厚さは0.005〜2μmが好ましく、特に
0.5〜1μmが好ましい。該硬化物層(A)の厚さが
0.005μm未満であると充分なガスバリヤ性が得ら
れず、2μmを超えるとクラックのない良好な外観の塗
膜が得られないため好ましくない。
The thickness of the cured product layer (A) composed of the cured product of the coating composition (a) is preferably 0.005 to 2 μm, and particularly preferably 0.5 to 1 μm. If the thickness of the cured product layer (A) is less than 0.005 μm, sufficient gas barrier properties cannot be obtained, and if it exceeds 2 μm, a coating film with good appearance without cracks cannot be obtained, which is not preferable.

【0038】次に、被覆組成物(b)について説明す
る。被覆組成物(b)に含まれる活性エネルギ線硬化性
成分は、被覆組成物(a)で説明したものと同様の化合
物が好ましく用いられる。
Next, the coating composition (b) will be described. As the active energy ray-curable component contained in the coating composition (b), the same compounds as those described in the coating composition (a) are preferably used.

【0039】また、被覆組成物(b)は、上記基本的成
分の他に、被覆組成物(a)で説明したものと同様の溶
剤や種々の機能性配合剤を含むことができる。
Further, the coating composition (b) may contain, in addition to the above-mentioned basic components, the same solvent as that described in the coating composition (a) and various functional compounding agents.

【0040】本発明においては、活性エネルギ線硬化性
成分を効率よく硬化させるために、光重合開始剤を含む
ことが好ましい。
In the present invention, it is preferable to include a photopolymerization initiator in order to efficiently cure the active energy ray-curable component.

【0041】被覆組成物(b)の硬化物からなる下地層
(B)の厚さは0.5〜20μmが好ましく、特に2〜
10μmが好ましい。該下地層(B)の厚さが0.5μ
m未満であると有機基材および硬化物層(A)との充分
な密着性が得られず、20μmを超えると屈曲性が低下
するため好ましくない。
The thickness of the underlayer (B) formed of the cured product of the coating composition (b) is preferably 0.5 to 20 μm, and particularly 2 to
10 μm is preferable. The thickness of the underlayer (B) is 0.5 μ
If it is less than m, sufficient adhesion to the organic base material and the cured product layer (A) cannot be obtained, and if it exceeds 20 μm, the flexibility is lowered, which is not preferable.

【0042】被覆組成物(a)および(b)を、有機基
材の表面に塗工する方法としては、特に制限されず公知
の方法を採用できる。たとえば、ディップ法、フロート
コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート
法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフ
コート法、スピンコート法、ダイコート法、スリットコ
ート法、マイクログラビアコート法などの種々の方法を
採用できる。本発明においては、枚様式の場合は生産性
や表面外観の点からスピンコート法またはスプレー法が
好ましく、連続式で塗布する場合はダイコート法または
グラビアコート法が好ましく採用される。
The method for applying the coating compositions (a) and (b) onto the surface of the organic base material is not particularly limited, and known methods can be adopted. For example, dip method, float coating method, spraying method, bar coating method, gravure coating method, roll coating method, blade coating method, air knife coating method, spin coating method, die coating method, slit coating method, micro gravure coating method, etc. Various methods can be adopted. In the present invention, the spin coating method or the spraying method is preferable in the case of the sheet method from the viewpoint of productivity and the surface appearance, and the die coating method or the gravure coating method is preferably used in the case of continuous coating.

【0043】被覆組成物(a)に含まれるポリシラザン
を硬化させる方法としては、塗工後、活性エネルギ線を
照射する、加熱する、室温に放置する、またはポリシラ
ザンの硬化触媒溶液の蒸気に曝す方法などが採用でき
る。本発明においては、基材の耐熱性の点から120℃
以下で焼成してポリシラザンを硬化させることが好まし
い。低温でポリシラザンを硬化させるためには、被覆組
成物(a)に触媒を添加するのが好ましく、より低温で
硬化できる触媒を用いることが好ましい。触媒の種類や
量によって、より低温で焼成でき、場合によっては室温
でも硬化できる。そのような触媒としては、たとえば特
開平7−196986号公報に記載されている金、銀、
パラジウム、白金、ニッケルなどの金属の微粒子、特開
平5−93275号公報に記載されている上記金属のカ
ルボン酸錯体、特開平9−31333号公報に記載され
ているアミン類や酸類が挙げられる。
As a method for curing the polysilazane contained in the coating composition (a), after coating, irradiation with active energy rays, heating, leaving at room temperature, or exposure to vapor of a curing catalyst solution of polysilazane is carried out. Can be adopted. In the present invention, from the viewpoint of heat resistance of the base material, the temperature is 120 ° C.
It is preferable that the polysilazane is cured by firing below. In order to cure the polysilazane at a low temperature, it is preferable to add a catalyst to the coating composition (a), and it is preferable to use a catalyst that can be cured at a lower temperature. Depending on the type and amount of the catalyst, it can be fired at a lower temperature, and in some cases, can be cured at room temperature. Examples of such a catalyst include gold and silver described in JP-A-7-196986.
Examples thereof include fine particles of metals such as palladium, platinum and nickel, carboxylic acid complexes of the metals described in JP-A-5-93275, and amines and acids described in JP-A-9-31333.

【0044】上記金属の微粒子の粒径は0.1μmより
小さいことが好ましく、さらに硬化物の透明性を確保す
るためには0.05μmより小さいことが好ましい。ま
た、粒径が小さいほど比表面積が増大して触媒能も増大
するので、触媒性能向上の点からもより小さい粒径の触
媒を使用することが好ましい。
The particle size of the fine metal particles is preferably smaller than 0.1 μm, and more preferably smaller than 0.05 μm in order to ensure the transparency of the cured product. Further, the smaller the particle size, the larger the specific surface area and the higher the catalytic activity. Therefore, it is preferable to use a catalyst having a smaller particle size from the viewpoint of improving the catalytic performance.

【0045】上記アミン類としては、たとえばモノアル
キルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミン、
モノアリールアミン、ジアリールアミン、環状アミンな
どが挙げられる。上記酸類としては、たとえば酢酸など
の有機酸や塩酸などの無機酸が挙げられる。
Examples of the above amines include monoalkylamine, dialkylamine, trialkylamine,
Examples include monoarylamine, diarylamine, cyclic amine and the like. Examples of the acids include organic acids such as acetic acid and inorganic acids such as hydrochloric acid.

【0046】被覆組成物(a)にあらかじめ触媒として
上記金属の微粒子を添加する場合、その添加量は、ポリ
シラザン100質量部に対して0.01〜10質量部が
好ましく、特に0.05〜5質量部が好ましい。添加量
が0.01質量部未満では充分な触媒効果が期待でき
ず、10質量部超では触媒どうしの凝集が起こりやすく
なり、透明性を損なうおそれがある。
When the fine particles of the above-mentioned metal are added to the coating composition (a) as a catalyst in advance, the addition amount thereof is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polysilazane. Parts by mass are preferred. If the amount added is less than 0.01 parts by mass, a sufficient catalytic effect cannot be expected, and if it exceeds 10 parts by mass, the catalysts tend to agglomerate and the transparency may be impaired.

【0047】また、上記アミン類や酸類は、被覆組成物
(a)に予め添加して用いてもよく、被覆組成物(a)
を塗工した後に、アミン類や酸類の溶液(水溶液を含
む。)、またはそれらの蒸気(水溶液からの蒸気を含
む。)に接触させてもよい。
The above amines and acids may be added to the coating composition (a) in advance and used.
After coating, it may be brought into contact with a solution of amines or acids (including an aqueous solution) or a vapor thereof (including a vapor from an aqueous solution).

【0048】硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸
素の存在する雰囲気が好ましい。焼成により、ポリシラ
ザンの窒素原子が酸素原子に置換してシリカが生成する
ので、充分な酸素の存在する雰囲気中で焼成することに
より緻密なシリカの層を形成できる。
The atmosphere in which oxygen is present, such as air, is preferable as the atmosphere for curing. By firing, nitrogen atoms of polysilazane are replaced with oxygen atoms to generate silica, so that a dense silica layer can be formed by firing in an atmosphere in which sufficient oxygen exists.

【0049】なお、特開平11−181290号公報に
は、ポリシラザンは光ラジカル発生剤の存在下、活性エ
ネルギ線の照射により硬化が促進されることが記載され
ており、光ラジカル発生剤や活性エネルギ線の照射条件
を最適化することにより、上記触媒を含まない場合で
も、活性エネルギ線により硬化できる。
JP-A-11-181290 describes that curing of polysilazane is promoted by irradiation with an active energy ray in the presence of a photoradical generator. By optimizing the irradiation conditions of the rays, even when the above catalyst is not included, curing can be performed with active energy rays.

【0050】また、被覆組成物(a)および(b)に含
まれる活性エネルギ線硬化性成分を硬化させる活性エネ
ルギ線としては、特に限定されず、紫外線、電子線やそ
の他の活性エネルギ線を使用できる。本発明において
は、紫外線が好ましい。紫外線源としては、キセノンラ
ンプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンア
ーク灯、タングステンランプなどを使用できる。
The active energy rays for curing the active energy ray-curable components contained in the coating compositions (a) and (b) are not particularly limited, and ultraviolet rays, electron beams or other active energy rays are used. it can. In the present invention, ultraviolet rays are preferred. As the ultraviolet ray source, a xenon lamp, a pulse xenon lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp, a tungsten lamp, etc. can be used.

【0051】次に、ガスバリヤ層(C)について説明す
る。本発明において、乾式法で形成されるガスバリヤ層
(C)の種類は特に限定されないが、透明性およびガス
バリヤ性の点から酸窒化珪素膜、シリカ膜、アルミナ
膜、シリカアルミナ複合膜またはダイヤモンドライクカ
ーボン膜から選ばれた一層以上の被膜を含むことが好ま
しい。これらの被膜は、硬化物層(A)との密着性に優
れている。
Next, the gas barrier layer (C) will be described. In the present invention, the type of the gas barrier layer (C) formed by the dry method is not particularly limited, but from the viewpoint of transparency and gas barrier property, a silicon oxynitride film, a silica film, an alumina film, a silica-alumina composite film or diamond-like carbon. It is preferable to include one or more films selected from the film. These coatings have excellent adhesion to the cured product layer (A).

【0052】たとえば、酸窒化珪素膜は、透明性の点か
らは酸素リッチであるほうが好ましいが、ガスバリヤ性
の点からは窒素リッチの方が好ましい。そのため、酸素
の割合(酸素原子/(酸素原子+窒素原子))は原子比
で100/0〜40/60が好ましく、特に50/50
〜80/20が好ましい。酸窒化珪素膜の膜厚はガスバ
リヤ性とクラックの点から400nm以下が好ましく、
特に100〜250nmが好ましい。
For example, the silicon oxynitride film is preferably oxygen-rich from the viewpoint of transparency, but is preferably nitrogen-rich from the viewpoint of gas barrier property. Therefore, the ratio of oxygen (oxygen atom / (oxygen atom + nitrogen atom)) is preferably 100/0 to 40/60, particularly 50/50.
-80/20 is preferable. The thickness of the silicon oxynitride film is preferably 400 nm or less from the viewpoint of gas barrier properties and cracks,
Particularly, 100 to 250 nm is preferable.

【0053】シリカ膜は、酸化珪素膜であり、好ましい
膜厚は上記の酸窒化珪素膜の場合と同様である。
The silica film is a silicon oxide film, and the preferable film thickness is the same as that of the above-mentioned silicon oxynitride film.

【0054】アルミナ膜は、緻密でありガスバリヤ性は
高いが、クラックが入りやすいため、その膜厚は20〜
100nmが好ましく、特に20〜50nmが好まし
い。
The alumina film is dense and has a high gas barrier property, but cracks easily occur.
100 nm is preferable, and 20 to 50 nm is particularly preferable.

【0055】アルミナの緻密さとシリカの可撓性とを併
せたシリカアルミナ複合膜は、高い透明性、ガスバリヤ
性、可撓性を併せ持つため、より好ましい。アルミナの
割合(シリカ/アルミナ)は質量比で70/30〜90
/10が好ましい。また、膜厚は50〜300nmが好
ましく、特に100〜200nmが好ましい。
A silica-alumina composite film combining the denseness of alumina and the flexibility of silica is more preferable because it has high transparency, gas barrier property and flexibility. The ratio of alumina (silica / alumina) is 70/30 to 90 by mass ratio.
/ 10 is preferable. The film thickness is preferably 50 to 300 nm, and particularly preferably 100 to 200 nm.

【0056】ダイヤモンドライクカーボン膜は、優れた
ガスバリヤ性を有するが、色の吸収が強いため、膜厚は
20〜200nmが好ましく、特に20〜100nmが
好ましい。
The diamond-like carbon film has an excellent gas barrier property, but since the color absorption is strong, the film thickness is preferably 20 to 200 nm, particularly preferably 20 to 100 nm.

【0057】ガスバリヤ層(C)を形成する乾式法とし
ては、特に限定されず、蒸着法、CVD法、スパッタ法
などを採用できる。本発明においては、低温でより緻密
な被膜が得られるCVD法またはスパッタ法が好ましく
採用される。
The dry method for forming the gas barrier layer (C) is not particularly limited, and a vapor deposition method, a CVD method, a sputtering method or the like can be adopted. In the present invention, a CVD method or a sputtering method that can obtain a denser film at a low temperature is preferably adopted.

【0058】本発明のガスバリア性有機基材は、たとえ
ば以下のようにして製造できる。すなわち、有機基材の
少なくとも一方の表面に被覆組成物(a)を塗工し、被
覆組成物(a)を硬化させた後、その表面に乾式法によ
りガスバリヤ層(C)を形成する。また、被覆組成物
(b)を塗工する場合は、有機基材の表面に被覆組成物
(b)を塗工し、活性エネルギ線を照射して被覆組成物
(b)を硬化または部分硬化させた後、その表面に被覆
組成物(a)を塗工して硬化すればよい。なお、各被覆
組成物が溶剤を含む場合は、塗工後、溶剤を除去してか
ら硬化させることが好ましい。
The gas barrier organic base material of the present invention can be produced, for example, as follows. That is, the coating composition (a) is applied to at least one surface of the organic base material, the coating composition (a) is cured, and then the gas barrier layer (C) is formed on the surface by a dry method. When the coating composition (b) is applied, the coating composition (b) is applied to the surface of the organic base material and irradiated with active energy rays to cure or partially cure the coating composition (b). After that, the coating composition (a) may be applied to the surface and cured. When each coating composition contains a solvent, it is preferable to cure the coating composition after removing the solvent.

【0059】本発明においては、より高いガスバリヤ性
を発現させるために、ガスバリヤ層(C)を形成した
後、その表面にさらに被覆組成物(a)の硬化物の層を
形成してもよい。
In the present invention, in order to develop a higher gas barrier property, after forming the gas barrier layer (C), a layer of the cured product of the coating composition (a) may be further formed on the surface thereof.

【0060】本発明のガスバリヤ性有機基材は、ガスバ
リヤ性の要求される様々な用途に用いることができ、た
とえば、EL素子の基板および/または保護層などに好
適に用いられる。なお、EL素子の基板に用いる場合
は、該ガスバリヤ性有機基材は透明であることが好まし
い。
The gas-barrier organic base material of the present invention can be used in various applications where gas barrier properties are required, and is preferably used, for example, as a substrate and / or a protective layer of an EL device. When used as a substrate of an EL device, the gas barrier organic base material is preferably transparent.

【0061】次に、本発明のEL素子について説明す
る。本発明のEL素子は、EL層と、該EL層の両面に
設けられた電極と、一方の電極を覆うように配設された
基板と、他方の電極を覆うように配設された保護層とか
らなる積層構造体を有するEL素子において、前記基板
および/または前記保護層に上記ガスバリヤ性有機基材
が用いられている。
Next, the EL device of the present invention will be described. The EL device of the present invention comprises an EL layer, electrodes provided on both sides of the EL layer, a substrate arranged to cover one electrode, and a protective layer arranged to cover the other electrode. In the EL element having a laminated structure including the above, the gas barrier organic base material is used for the substrate and / or the protective layer.

【0062】図1、2には、本発明の一実施例であるE
L素子の断面の模式図が示されている。図1に示すよう
に、有機EL素子1は、上記ガスバリヤ性有機基材から
なる基板2の片面に、透明電極3(陽極)、有機発光材
料層4および陰極5からなる積層構造体7が形成されて
いる。そして、該積層構造体7を被覆するように、上記
ガスバリヤ性有機基材からなる保護層6が熱圧着、熱融
着などの方法により積層されている。なお、図2に示す
ように、積層構造体7は、有機基材2aの表面に形成さ
れた硬化物層(A)2bおよびガスバリヤ層(C)2c
からなるガスバリヤ性被膜の上に形成されている。ま
た、保護層6は、有機基材6aの表面に形成された硬化
物層(A)6bおよびガスバリヤ層(C)6cからなる
ガスバリヤ性被膜が積層構造体7に接するようにして積
層されている。
1 and 2 show an embodiment E of the present invention.
A schematic view of a cross section of the L element is shown. As shown in FIG. 1, in the organic EL element 1, a laminated structure 7 composed of a transparent electrode 3 (anode), an organic light emitting material layer 4 and a cathode 5 is formed on one surface of a substrate 2 composed of the gas barrier organic base material. Has been done. Then, the protective layer 6 made of the gas barrier organic base material is laminated by a method such as thermocompression bonding or thermal fusion so as to cover the laminated structure 7. As shown in FIG. 2, the laminated structure 7 has a cured product layer (A) 2b and a gas barrier layer (C) 2c formed on the surface of the organic base material 2a.
Is formed on the gas barrier film. Further, the protective layer 6 is laminated such that a gas barrier coating film composed of a cured product layer (A) 6b and a gas barrier layer (C) 6c formed on the surface of the organic base material 6a is in contact with the laminated structure 7. .

【0063】本発明において、上記透明電極3、有機発
光材料層4および陰極5は、それぞれ公知の材料を用い
ることができ、その形成方法についても公知の方法を採
用できる。また、上記積層構造体7は、さらに正孔注入
層および電子注入層を有していてもよい。
In the present invention, known materials can be used for the transparent electrode 3, the organic light emitting material layer 4 and the cathode 5, respectively, and a known method can be adopted for forming them. The laminated structure 7 may further include a hole injection layer and an electron injection layer.

【0064】[0064]

【実施例】以下、本発明を例1〜7に基づき説明する
が、本発明はこれらに限定されない。なお、有機基材と
して、例1、5では熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂フ
ィルム(厚さ100μm、商品名「ZEONOR142
0R」、日本ゼオン株式会社製)、例2ではキャスト法
で製造したポリカーボネートフィルム(厚さ100μ
m)、例3、6ではPETフィルム(厚さ100μm、
商品名「A4300」、東洋紡績社製)を用いた。ま
た、各例で得られたサンプルについてのガス透過性など
の測定は以下に示す方法で行ない、その結果を表1に示
した。
EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples 1 to 7, but the present invention is not limited to these. As examples of the organic base material, in Examples 1 and 5, a thermoplastic saturated norbornene-based resin film (thickness 100 μm, trade name “ZEONOR 142” was used.
0R ", manufactured by Zeon Corporation), and in Example 2, a polycarbonate film (thickness 100 μm) manufactured by a casting method.
m), in Examples 3 and 6, PET film (thickness 100 μm,
The product name "A4300", manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used. Further, the gas permeability and the like of the samples obtained in each example were measured by the following methods, and the results are shown in Table 1.

【0065】[酸素透過性]酸素透過量(cc/m2
24hr・atm)を25℃、100RH%雰囲気下で
酸素透過度測定装置(型式「OCON OXTRAN 1
0/40A」、モダンコントロール社製)を用いて測定
した。
[Oxygen permeability] Oxygen permeability (cc / m 2 ·
Oxygen permeability measuring device (model “OCON OXTRAN 1
0 / 40A ", manufactured by Modern Control Co., Ltd.).

【0066】[水蒸気透過性]水蒸気透過量(g/m2
・24hr)を40℃、90RH%雰囲気下で水蒸気透
過度測定装置(型式「ERMATRAN W6」、モダ
ンコントロール社製)を用いて測定した。
[Water vapor permeability] Water vapor permeability (g / m 2
・ 24 hr) was measured at 40 ° C. in an atmosphere of 90 RH% using a water vapor permeability measuring device (model “ERMATRAN W6”, manufactured by Modern Control Co., Ltd.).

【0067】[透過率測定]視感透過率(光波長400
〜800nmの平均反射率)を測定した。
[Measurement of transmittance] Luminous transmittance (light wavelength 400
The average reflectance at 800 nm) was measured.

【0068】[例1]無水マレイン酸変性スチレン・エ
チレン・ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体の水
素添加物(商品名「タフテックM1943」、旭化成社
製)2質量部を、シクロヘキサン48質量部に溶解して
塗工液1を得た。
Example 1 2 parts by mass of a hydrogenated product of a maleic anhydride-modified styrene / ethylene / butadiene / styrene / block copolymer (trade name "Tuftec M1943", manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was dissolved in 48 parts by mass of cyclohexane. A coating liquid 1 was obtained.

【0069】有機基材の片面に、塗工液1をスピンコー
ト法により塗工し、80℃の熱風循環オーブン中で10
分間保持して硬化させ、膜厚0.2μmの被膜を形成し
た。
The coating liquid 1 was applied to one surface of the organic base material by the spin coating method, and the coating liquid 1 was applied in a hot air circulating oven at 80 ° C.
It was held for curing for a minute to form a film having a thickness of 0.2 μm.

【0070】次に、この表面に低温硬化性のペルヒドロ
ポリシラザンのジブチルエーテル溶液(固形分20質量
%、商品名「D120」、クラリアントジャパン社製)
をスピンコート法により塗工し、80℃の熱風循環オー
ブン中で10分間保持して溶剤を除去した後、120℃
の熱風循環オーブン中で120分間保持して充分に硬化
させて、総膜厚0.6μmの被膜を形成した基材Aを得
た。
Next, a low temperature-curable perhydropolysilazane dibutyl ether solution (solid content 20% by mass, trade name "D120", manufactured by Clariant Japan) was applied to this surface.
Was applied by a spin coating method and kept in a hot air circulation oven at 80 ° C. for 10 minutes to remove the solvent, and then 120 ° C.
The substrate was held in the hot air circulation oven for 120 minutes to be sufficiently cured to obtain a substrate A on which a coating having a total film thickness of 0.6 μm was formed.

【0071】この基材Aの表面を、まず密着性改善のた
め、酸素スパッタリングした後、スパッタリングターゲ
ットとして窒化珪素を用い、成膜ガスとしてアルゴンと
酸素を導入して、酸窒化珪素膜を100nm成膜し、基
材Bを得た。
To improve adhesion, the surface of the base material A was first oxygen sputtered, then silicon nitride was used as a sputtering target, and argon and oxygen were introduced as a film forming gas to form a silicon oxynitride film with a thickness of 100 nm. The film was formed into a base material B.

【0072】[例2]撹拌機および冷却管を装着した2
00mLの4つ口フラスコに、イソプロピルアルコール
20.5g、酢酸ブチル20.5g、1−メトキシ−2
−プロパノールを10.3g、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドを0.33
g、2−[4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ
プロピルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジンを0.66g、PMMA樹脂2.0g、および
N−メチル−4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンを0.44gを加えて溶解
させた。
[Example 2] 2 equipped with a stirrer and a cooling pipe
In a 00 mL four-necked flask, 20.5 g of isopropyl alcohol, 20.5 g of butyl acetate, 1-methoxy-2
-Propanol 10.3 g, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide 0.33
g, 2- [4- (2-hydroxy-3-dodecyloxypropyloxy) -2-hydroxyphenyl] -4,6
0.66 g of -bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2.0 g of PMMA resin, and N-methyl-4-methacryloyloxy-2,2,6,
0.44 g of 6-tetramethylpiperidine was added and dissolved.

【0073】続いて水酸基を有するジペンタエリスリト
ールポリアクリレートと部分ヌレート化ヘキサメチレン
ジイソシアネートの反応生成物であるウレタンアクリレ
ート(1分子あたり平均15個のアクリロイル基を含
有)10.0gと、カプロラクトン変性トリス(アクリ
ロイルオキシエチル)イソシアヌレート(商品名「アロ
ニクスM−325」、東亞合成社製)10.0gを加え
て常温で1時間撹拌して塗工液2を得た。
Subsequently, 10.0 g of urethane acrylate (containing an average of 15 acryloyl groups per molecule), which is a reaction product of dipentaerythritol polyacrylate having a hydroxyl group and partially nurated hexamethylene diisocyanate, and caprolactone-modified tris ( 10.0 g of acryloyloxyethyl) isocyanurate (trade name "Aronix M-325", manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was added and stirred at room temperature for 1 hour to obtain a coating liquid 2.

【0074】有機基材の片面に、塗工液2をスピンコー
ト法により塗工し、80℃の熱風循環オーブン中で10
分間保持して溶剤を除去した後、空気雰囲気中、高圧水
銀灯を用いて150mJ/cm2の紫外線を照射して、
膜厚3μmの部分硬化物層を形成した。
The coating liquid 2 was applied to one surface of the organic base material by the spin coating method, and the coating liquid 10 was applied in a hot air circulating oven at 80 ° C.
After holding for a minute to remove the solvent, it is irradiated with ultraviolet rays of 150 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp in an air atmosphere,
A partially cured product layer having a film thickness of 3 μm was formed.

【0075】次に、この表面に低温硬化性のペルヒドロ
ポリシラザンのキシレン溶液(固形分20質量%、商品
名「L110」、クラリアントジャパン社製)をスピン
コート法により塗工し、80℃の熱風循環オーブン中で
10分間保持して溶剤を除去した後、空気雰囲気中、高
圧水銀灯を用いて1500mJ/cm2の紫外線を照射
し、続いて100℃の熱風循環オーブン中で120分間
保持して充分に硬化させ、総膜厚3.6μmの被膜を形
成した基材Cを得た。
Then, a low temperature-curable xylene solution of perhydropolysilazane (solid content 20% by mass, trade name "L110", manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) was applied to this surface by spin coating, and hot air at 80 ° C was applied. After removing the solvent by holding it in the circulation oven for 10 minutes, irradiate it with 1500 mJ / cm 2 of ultraviolet light using a high pressure mercury lamp in an air atmosphere, and then keep it for 120 minutes in a hot air circulation oven at 100 ° C. To obtain a substrate C on which a coating having a total film thickness of 3.6 μm was formed.

【0076】この有機基材Cの表面を、まず密着性改善
のため、酸素スパッタリングした後、スパッタリングタ
ーゲットとして酸化珪素を用い、成膜ガスとしてアルゴ
ンと酸素を導入して、酸窒化珪素膜を200nm成膜
し、基材Dを得た。
To improve the adhesion, the surface of the organic base material C is first oxygen sputtered, then silicon oxide is used as a sputtering target, and argon and oxygen are introduced as a film forming gas to form a silicon oxynitride film with a thickness of 200 nm. A film was formed to obtain a base material D.

【0077】[例3]撹拌機および冷却管を装着した2
00mLの4つ口フラスコに、キシレン15g、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、2−メチル−1
−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−プロ
パン−1−オンを1g、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートを4g加えて溶解した。続いてペルヒドロ
ポリシラザンのキシレン溶液(固形分20質量%、商品
名「V110」、クラリアントジャパン社製)80gを
加えて窒素雰囲気下、常温で1時間撹拌して塗工液3を
得た。
[Example 3] 2 equipped with a stirrer and a cooling pipe
In a 00 mL four-necked flask, 15 g of xylene, dipentaerythritol hexaacrylate, 2-methyl-1.
1-g of-(4-methylthiophenyl) -2-morpholino-propan-1-one and 4 g of dipentaerythritol hexaacrylate were added and dissolved. Subsequently, 80 g of a xylene solution of perhydropolysilazane (solid content 20% by mass, trade name "V110", manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour under a nitrogen atmosphere to obtain a coating liquid 3.

【0078】有機基材の片面に、塗工液3をスピンコー
ト法により塗工し、90℃の熱風循環オーブン中で10
分間保持して溶剤を除去した後、高圧水銀灯を用いて5
00mJ/cm2の紫外線を照射して、充分に硬化させ
て、膜厚2μmの被膜を形成した基材Eを得た。
The coating liquid 3 was applied to one surface of the organic base material by the spin coating method, and the coating liquid 3 was applied in a hot air circulating oven at 90 ° C. for 10 hours.
After removing the solvent by holding for 5 minutes, use a high pressure mercury lamp to
It was irradiated with ultraviolet rays of 00 mJ / cm 2 and sufficiently cured to obtain a substrate E on which a film having a film thickness of 2 μm was formed.

【0079】この基材Eの表面に、プラズマCVD法に
より、ダイヤモンドライクカーボン膜を30nm成膜
し、基材Fを得た。なお、プラズマCVD法の条件は、
原料ガスとしてメタンガスおよびアルゴンガスを用い、
RFパワーを250W、チャンバ内圧力を0.9Tor
rとして行なった。
A diamond-like carbon film having a thickness of 30 nm was formed on the surface of the base material E by a plasma CVD method to obtain a base material F. The conditions of the plasma CVD method are as follows.
Using methane gas and argon gas as raw material gas,
RF power 250W, chamber pressure 0.9 Tor
It was performed as r.

【0080】[例4]例2で得られた基材Dの表面に、
さらに低温硬化性のペルヒドロポリシラザンのジブチル
エーテル溶液(固形分20質量%、クラリアントジャパ
ン社製、商品名「L120」)をスピンコート法により
塗工し、80℃の熱風循環オーブン中で10分間保持し
て溶剤を除去した後、100℃の熱風循環オーブン中で
120分間保持して充分に硬化させ、総膜厚3.9μm
の被膜を形成した基材Gを得た。
Example 4 On the surface of the substrate D obtained in Example 2,
Furthermore, a low-temperature curable dibutyl ether solution of perhydropolysilazane (solid content 20% by mass, manufactured by Clariant Japan Co., Ltd., product name "L120") was applied by spin coating and kept in a hot air circulation oven at 80 ° C for 10 minutes. After removing the solvent, the product is kept in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 120 minutes for sufficient curing, and the total film thickness is 3.9 μm.
A base material G on which the film of No. 1 was formed was obtained.

【0081】[例5]有機基材の片面に、例1と同様の
方法で酸窒化珪素膜を100nm成膜し、基材Hを得
た。
Example 5 A substrate H was obtained by depositing a 100 nm thick silicon oxynitride film on one surface of an organic substrate in the same manner as in Example 1.

【0082】[例6]有機基材の片面に、例3と同様の
方法でダイヤモンドライクカーボン膜を30nm成膜
し、基材Iを得た。
Example 6 A substrate I was obtained by forming a diamond-like carbon film with a thickness of 30 nm on one surface of an organic substrate in the same manner as in Example 3.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】[例7]例1で得られた基材Bのガスバリ
ヤ性被膜が形成された面に、透光性のITOからなる陽
極を電極パターンを形成するように蒸着した。その表面
に、順次、銅フタロシアニンからなる正孔注入層、TP
D(トリフェニルアミン誘導体)からなる正孔輸送層、
Alq3(アルミキレート錯体)からなる発光層、Li2
O(酸化リチウム)からなる電子注入層を蒸着した。さ
らに、この表面に、Alからなる陰極を蒸着し、陽極の
電極パターンと対向するようにパターニングした。
Example 7 On the surface of the base material B obtained in Example 1 on which the gas barrier coating was formed, an anode made of translucent ITO was vapor-deposited so as to form an electrode pattern. On its surface, a hole injection layer made of copper phthalocyanine, TP
A hole transport layer composed of D (triphenylamine derivative),
Light emitting layer made of Alq 3 (aluminum chelate complex), Li 2
An electron injection layer made of O (lithium oxide) was deposited. Further, a cathode made of Al was vapor-deposited on this surface and patterned so as to face the electrode pattern of the anode.

【0085】こうして得られた基材B表面の積層構造体
を大気に曝すことなく、さらにもう1枚別の基材Bを、
そのガスバリヤ性被膜が上記積層構造体に接するように
積層し、120℃で熱圧着して有機EL素子を作製し
た。
Without exposing the laminated structure on the surface of the base material B thus obtained to the atmosphere, another base material B
The gas barrier coating was laminated so as to be in contact with the laminated structure and thermocompression bonded at 120 ° C. to produce an organic EL device.

【0086】得られた有機EL素子の両極間に直流電圧
を印加して、輝度計で測定した初期の発光輝度を200
cd/m2とし、20℃、80RH%の雰囲気下で連続
的に発光させ、35時間経過後、70時間経過後におけ
る発光輝度をそれぞれ測定した。その結果、上記のよう
な高湿度雰囲気下においても安定した発光特性を維持
し、信頼性が極めて高いことが確認された。
A direct current voltage was applied between both electrodes of the obtained organic EL device, and the initial emission brightness measured by a brightness meter was 200.
The emission luminance was measured after 35 hours and 70 hours, respectively, by continuously emitting light in an atmosphere of 20 ° C. and 80 RH% at cd / m 2 . As a result, it was confirmed that stable light emission characteristics were maintained even in the high humidity atmosphere as described above, and the reliability was extremely high.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明のガスバリヤ性有機基材は、有機
基材の表面に、ポリシラザンを含有する被覆組成物
(a)の硬化物からなる硬化物層(A)を介して、乾式
法によって形成されたガスバリヤ層(C)を有するの
で、硬化物層(A)がガスバリヤ層(C)の下地膜とし
て機能し、有機基材とガスバリア層(C)との密着性に
優れる。また、被覆組成物(a)は低温で硬化し、硬化
収縮率が低く、硬化物の密度も高いため、その硬化物か
らなる硬化物層(A)は優れたガスバリヤ性を示す。そ
のため、本発明のガスバリヤ性有機基材は、ガスバリヤ
層(C)との相乗効果により、ガラスと同等のガスバリ
ヤ性を発現する。
The gas-barrier organic substrate of the present invention is produced by a dry method on the surface of an organic substrate through a cured product layer (A) made of a cured product of a coating composition (a) containing polysilazane. Since it has the formed gas barrier layer (C), the cured product layer (A) functions as a base film of the gas barrier layer (C), and the adhesiveness between the organic base material and the gas barrier layer (C) is excellent. Further, the coating composition (a) is cured at a low temperature, has a low curing shrinkage, and has a high density of the cured product, so that the cured product layer (A) made of the cured product exhibits excellent gas barrier properties. Therefore, the gas barrier organic base material of the present invention exhibits a gas barrier property equivalent to that of glass due to a synergistic effect with the gas barrier layer (C).

【0088】また、本発明のEL素子は、上記ガスバリ
ア性有機基材を用いることにより、水分または酸素など
による影響を受けず、発光特性が劣化しない。
In addition, the EL device of the present invention is not affected by moisture or oxygen and does not deteriorate the light emitting property by using the gas barrier organic base material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例であるEL素子の断面を表
す模式図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a cross section of an EL device which is an embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示すEL素子の断面を拡大した模式図
である。
FIG. 2 is an enlarged schematic view of a cross section of the EL element shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 有機EL素子 2 基板 2a、6a 有機基材 2b、6b 硬化物層(A) 2c、6c ガスバリヤ層(C) 3 透明電極 4 有機発光材料層 5 陰極 6 保護層 7 積層構造体 1 Organic EL element 2 substrates 2a, 6a Organic base material 2b, 6b cured product layer (A) 2c, 6c Gas barrier layer (C) 3 transparent electrodes 4 Organic light emitting material layer 5 cathode 6 protective layer 7 Laminated structure

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 博嗣 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 若林 浩和 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Fターム(参考) 4F100 AK01A AK02 AK04 AK42 AK45 AK52B AK52D AK73 AK79B AK79D AL02 AL05B AL05D AT00A BA03 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10C BA10E EH46 EH462 EH66 EH662 EJ42 EJ422 EJ86 EJ862 GB41 JB12B JB12D JD02 JD02C JD02E    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hiroshi Yamamoto             1150 Hazawa-machi, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Asahi Glass Co., Ltd. (72) Inventor Hirokazu Wakabayashi             1150 Hazawa-machi, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Asahi Glass Co., Ltd. F term (reference) 4F100 AK01A AK02 AK04 AK42                       AK45 AK52B AK52D AK73                       AK79B AK79D AL02 AL05B                       AL05D AT00A BA03 BA05                       BA06 BA07 BA10A BA10C                       BA10E EH46 EH462 EH66                       EH662 EJ42 EJ422 EJ86                       EJ862 GB41 JB12B JB12D                       JD02 JD02C JD02E

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機基材の少なくとも一方の表面に、基
材側から順に、ポリシラザンを含有する被覆組成物
(a)の硬化物からなる硬化物層(A)と、乾式法によ
って形成されたガスバリヤ層(C)とを有することを特
徴とするガスバリヤ性有機基材。
1. A cured product layer (A) made of a cured product of a coating composition (a) containing polysilazane, and a dry layer formed on at least one surface of an organic substrate in order from the substrate side. A gas-barrier organic base material having a gas barrier layer (C).
【請求項2】 前記有機基材と前記硬化物層(A)との
間に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上
有する化合物を含有する被覆組成物(b)の硬化物から
なる下地層(B)を有する、請求項1に記載のガスバリ
ヤ性有機基材。
2. A cured product of a coating composition (b) containing a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups between the organic base material and the cured product layer (A). The gas-barrier organic substrate according to claim 1, which has a base layer (B) consisting of.
【請求項3】 前記被覆組成物(a)が、活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を1個以上有する化合物を含有
するものである、請求項1または2に記載のガスバリヤ
性有機基材。
3. The gas barrier organic substrate according to claim 1, wherein the coating composition (a) contains a compound having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups. .
【請求項4】 エレクトロルミネッセンス層と、該エレ
クトロルミネッセンス層の両面に設けられた電極と、一
方の電極を覆うように配設された基板と、他方の電極を
覆うように配設された保護層とからなる積層構造体を有
するエレクトロルミネッセンス素子において、前記基板
および/または前記保護層が、請求項1〜3のいずれか
一つに記載のガスバリヤ性有機基材であることを特徴と
するエレクトロルミネッセンス素子。
4. An electroluminescent layer, electrodes provided on both sides of the electroluminescent layer, a substrate provided so as to cover one electrode, and a protective layer provided so as to cover the other electrode. In the electroluminescence element having a laminated structure consisting of, the substrate and / or the protective layer is the gas barrier organic base material according to any one of claims 1 to 3. element.
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