JP2003115191A - Optical memory element - Google Patents

Optical memory element

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JP2003115191A
JP2003115191A JP2001305941A JP2001305941A JP2003115191A JP 2003115191 A JP2003115191 A JP 2003115191A JP 2001305941 A JP2001305941 A JP 2001305941A JP 2001305941 A JP2001305941 A JP 2001305941A JP 2003115191 A JP2003115191 A JP 2003115191A
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JP
Japan
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layer
optical memory
light
core layer
memory device
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Application number
JP2001305941A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ishihara
啓 石原
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical memory of which an incident end plane of reproduction light and a light-emitting surface of scattered light of an optical memory element can be protected so that dirt and dust are not attached. SOLUTION: This element comprises core layers and clad layers laminated on both surfaces of the core layers, has one or a plurality of light guide members having a uneven part for information at least one side of boundary of the core layer and the clad layer, an incident end plane for guiding reproduction light to the core layer is formed, the reproduction light made incident from the incident end plane is guided to the core layer and scattered by the uneven part for information, scattered light is emitted to the outside from the surface, and reproduction image is obtained. At least, the element is provided with an antistatic layer at the incident end plane and/or a light-emitting surface of the scattered light of the reproduction light.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光メモリ素子に関
し、特に、光導波路デバイスを用いて構成される光メモ
リ素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical memory device, and more particularly to an optical memory device constructed by using an optical waveguide device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、予め所定の散乱光を生じるように
パターンが刻まれた平面型(カード型)の光導波路中に
光を導入し、光導波面の外部に画像を結像させる技術が
提案されている(IEEE Photon.Technol.Lett.,vol.9,p
p.958-960,JULY1997 等参照)。即ち、例えば図5に模
式的に示すように、光導波路として機能するように屈折
率や膜厚を調整されたコア(層)101と、このコア層
101を挟む形でその両側(両面部)に設けられた(第
1,第2の)クラッド(層)102とをそなえて成るカ
ード型のスラブ型光導波路デバイス100において、コ
ア層101とクラッド層102との界面に微細な凹凸が
存在していた場合、コア層(光導波路)101にレンズ
103を介して光(レーザ光)を導入すると、導入光の
一部がその凹凸部分で散乱し、散乱光がクラッド層10
2を通じて外部に出てくる。
2. Description of the Related Art In recent years, a technique has been proposed in which light is introduced into a plane type (card type) optical waveguide in which a pattern is engraved so as to generate predetermined scattered light, and an image is formed outside the optical waveguide surface. (IEEE Photon.Technol.Lett., Vol.9, p
p.958-960, JULY1997, etc.). That is, for example, as schematically shown in FIG. 5, a core (layer) 101 whose refractive index and film thickness are adjusted so as to function as an optical waveguide, and both sides (both sides) of the core layer 101 sandwiched therebetween. In the card type slab type optical waveguide device 100 including the (first and second) clads (layers) 102 provided in the above, fine irregularities are present at the interface between the core layer 101 and the clad layer 102. In this case, when the light (laser light) is introduced into the core layer (optical waveguide) 101 through the lens 103, a part of the introduced light is scattered by the uneven portion, and the scattered light is clad layer 10.
It goes out through 2

【0003】従って、光導波面(光導波路101)から
所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と
位相とを計算し、その計算に応じた微細な凹凸パターン
を予めコア層101に刻み込んでおけば、光導波面の外
部に所望の画像を結像させることができる。つまり、コ
ア層101は情報の記録層として機能することになる。
Therefore, the scattering intensity and phase of light such that a specific image is formed at a predetermined distance from the optical waveguide surface (optical waveguide 101) are calculated, and a fine concavo-convex pattern corresponding to the calculation is calculated in advance in the core layer 101. By engraving it in, it is possible to form a desired image on the outside of the optical waveguide surface. That is, the core layer 101 functions as an information recording layer.

【0004】そして、例えば、光導波面の外部に出てき
た散乱光を上記所定距離に設置したCCD受像器104
により受光して、結像画像を2次元のディジタルパター
ン〔例えば、明暗の2値のパターン、もしくは、明度
(グレイスケール)による多値のパターン等〕化してデ
ィジタル信号化すれば、既存のディジタル画像処理装置
(図示省略)で結像画像に対し所望の画像処理を実施す
ることができる。
Then, for example, the CCD image receiver 104 in which scattered light coming out of the optical waveguide surface is installed at the above-mentioned predetermined distance
The light is received by the light source, and the formed image is converted into a two-dimensional digital pattern [for example, a binary pattern of light and dark, or a multi-valued pattern based on lightness (gray scale)] and converted into a digital signal. A processing device (not shown) can perform desired image processing on the formed image.

【0005】また、例えば図6に模式的に示すように、
上記のクラッド層102とコア層101とを繰り返し積
層して、光導波路(記録層)101を複数個積層した場
合、或る光導波路101で散乱した光は、別の光導波路
101を横切ることになるが、通常、コア層101とク
ラッド層102の屈折率差が極めて小さいので、その散
乱光が別の光導波路101に形成された凹凸で再散乱す
ることは殆ど無く、結像画像が乱れることは無い。従っ
て、積層数に比例して数多くの画像やパターンを結像で
きることになる。
Further, for example, as schematically shown in FIG.
When the above-mentioned clad layer 102 and core layer 101 are repeatedly laminated to laminate a plurality of optical waveguides (recording layers) 101, the light scattered by one optical waveguide 101 will cross another optical waveguide 101. However, since the difference in refractive index between the core layer 101 and the clad layer 102 is usually extremely small, the scattered light is hardly re-scattered by the unevenness formed in another optical waveguide 101, and the formed image is disturbed. There is no. Therefore, many images and patterns can be formed in proportion to the number of stacked layers.

【0006】つまり、光導波路デバイス100はその積
層数に比例した容量を有する光メモリ素子(ROM等の
記録媒体)として使用できるのである。なお、この光メ
モリ素子は、理論上では、1層で約1ギガバイト程度の
容量をもたせることができ、100層程度まで積層する
ことが可能であるといわれており、将来的には、動画像
の記録等に十分対応できる大容量ROMとして使用され
ることが有望視されている。
That is, the optical waveguide device 100 can be used as an optical memory element (recording medium such as ROM) having a capacity proportional to the number of laminated layers. It is said that this optical memory device can theoretically have a capacity of about 1 gigabyte per layer, and can be stacked up to about 100 layers. It is considered promising to be used as a large-capacity ROM capable of sufficiently recording.

【0007】光導波路デバイス100のコア層101に
おける上記の微細な凹凸パターンは、例えば、次のよう
な手法で形成される。即ち、まず、図7(A)に模式的
に示すように、(第1の)クラッド層102となる平板
状のガラス等の上にフォトレジストを塗布し、光あるい
は電子線等の露光とその現像によりそのガラス(クラッ
ド層102)上に、結像させたい像に応じたピット(凹
凸パターン)を形成する。
The fine concave-convex pattern on the core layer 101 of the optical waveguide device 100 is formed, for example, by the following method. That is, first, as schematically shown in FIG. 7 (A), a photoresist is applied on a flat glass plate or the like to be the (first) clad layer 102, and exposure to light or an electron beam is performed. By development, pits (concavo-convex pattern) corresponding to an image to be formed are formed on the glass (clad layer 102).

【0008】その後、その凹凸パターン上にコア層10
1を形成する。これにより、凹凸パターンの形成された
コア層101が作製され、このコア層101上にさらに
第2のクラッド層102を形成することにより、1層分
の光導波路デバイス(光メモリ素子)が作製される。そ
して、上記と同様に、クラッド層102上に露光と現像
によって凹凸パターンを形成し、その上にコア層101
を形成することを繰り返し行なうことで、図7(B)に
模式的に示すように、多層構造の光メモリ素子(以下、
「多層光メモリ」ということがある)100aが作製さ
れる。
Thereafter, the core layer 10 is formed on the uneven pattern.
1 is formed. As a result, the core layer 101 on which the concavo-convex pattern is formed is formed, and the second cladding layer 102 is further formed on the core layer 101, whereby an optical waveguide device (optical memory element) for one layer is formed. . Then, similarly to the above, an uneven pattern is formed on the cladding layer 102 by exposure and development, and the core layer 101 is formed thereon.
7B is repeated to form an optical memory device (hereinafter, referred to as a multi-layered optical memory device) as schematically shown in FIG.
A “multilayer optical memory” may be produced) 100a.

【0009】しかしながら、このような露光と現像とを
用いた手法では、1層分の光メモリ素子100の作製に
非常に時間及びコストがかかってしまうので、大容量の
多層光メモリ100aを作製するには、膨大な時間とコ
ストがかかる。このため、コア層及びクラッド層を樹脂
製にすることで、上記の凹凸パターンを簡易に形成でき
るようにして、限られた体積でより大容量の情報を保持
できる光メモリ素子を容易、且つ、安価に実現できるよ
うにすることが提案されている(特願平11−1315
12号、特願平11−131513号)。
However, in the method using such exposure and development, it takes a very long time and cost to manufacture the optical memory element 100 for one layer, so that a large capacity multilayer optical memory 100a can be manufactured. , Takes a huge amount of time and cost. Therefore, by forming the core layer and the clad layer from resin, the above-mentioned concavo-convex pattern can be easily formed, and an optical memory device capable of holding a large amount of information in a limited volume is easy and inexpensive. Has been proposed (Japanese Patent Application No. 11-1315).
No. 12, Japanese Patent Application No. 11-131513).

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、光導波部材
に入射端面を形成されてなる光メモリ素子を、例えばカ
ード状等の光メモリとして実用化するに当たっては、光
メモリ素子がキズついたり、汚れたりしないように保護
する必要がある。この場合、例えば入射端面がキズつい
たり汚れたりしてしまうと、光メモリ素子の情報を再生
するための入射光を導入できなくなったり、十分な入射
光を導入できなくなったりし、光メモリ素子にとって致
命的な欠陥となりうるため、特に、入射端面を保護する
ことは重要である。
By the way, in practical use of an optical memory element having an incident end face formed on an optical waveguide member as an optical memory such as a card, the optical memory element is prevented from being scratched or soiled. Need to be protected. In this case, for example, if the incident end face is scratched or soiled, incident light for reproducing information of the optical memory element cannot be introduced or sufficient incident light cannot be introduced, which is fatal to the optical memory element. In particular, it is important to protect the incident end face because it can cause various defects.

【0011】また、光メモリ素子の散乱光が出力される
面(出射面)は、入射端面ほどではないものの、汚れや
キズがついたりすると再生像が劣化してしまうため、や
はり保護するのが好ましい。しかも出射面は素子の平面
上にあるので、ユーザが素子を取り扱う際に手や指で触
れてしまいやすく、従って汚れもつきやすい。更に、出
射面は光メモリ素子の保管中に、埃等の付着もおこりや
すい。
Further, the surface (emission surface) from which the scattered light of the optical memory element is output is not as close as the incident end surface, but if it is dirty or scratched, the reproduced image will be deteriorated, so it is also preferable to protect it. . In addition, since the emitting surface is on the plane of the element, the user is likely to touch it with his / her hand or finger when handling the element. Further, dust or the like is likely to adhere to the emission surface during storage of the optical memory element.

【0012】そこで、光メモリ素子の再生光の入射端面
や散乱光の出射面にキズが付かないよう保護部材で保護
することが考えられる。樹脂フィルムを貼り付けたり樹
脂を塗布したりすることで保護するといった方法や、素
子を透明窓や開口部を設けたカートリッジに収納してし
まう方法もある。しかしこの場合にも、樹脂フィルムや
樹脂層、カートリッジの透明窓などに汚れや埃がついて
しまったりすると、同様の問題が起こる。このため入射
端面や出射面を保護部材で覆ってあるか否かに関わら
ず、汚れや埃が付かないような方策をとることが望まれ
ていた。
Therefore, it is conceivable to protect the incident end face of the reproduction light of the optical memory element and the emission face of the scattered light with a protective member so as not to be scratched. There is a method of protecting by attaching a resin film or applying a resin, and a method of storing the element in a cartridge having a transparent window or an opening. However, also in this case, if the resin film, the resin layer, the transparent window of the cartridge, or the like is contaminated with dust or dirt, the same problem occurs. Therefore, it has been desired to take measures to prevent dirt and dust from adhering to the entrance end surface and the exit surface regardless of whether or not they are covered with a protective member.

【0013】本発明は、このような課題に鑑み創案され
たもので、光メモリ素子の再生光の入射端面や散乱光の
出射面に汚れや埃が付着しないよう保護できるようにし
た、光メモリを提供することを目的とする。
The present invention was devised in view of the above problems, and provides an optical memory capable of protecting the incident end face of the reproduction light of the optical memory device and the emission face of the scattered light from being contaminated with dirt and dust. The purpose is to do.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の本発明の
光メモリ素子は、コア層と、前記コア層の両面に積層さ
れたクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド
層との界面の少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光
導波部材を1個又は複数個有してなり、再生光を前記コ
ア層に導くための入射端面が形成され、前記入射端面よ
り入射された再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹
凸部で散乱させ、散乱光をその表面から外部へ出射させ
て再生像を得る光メモリ素子であって、少なくとも前記
再生光の入射端面及び/又は前記散乱光の出射面に、帯
電防止性層を設けてなることを特徴としている。
An optical memory device according to the present invention according to claim 1 comprises a core layer and a cladding layer laminated on both surfaces of the core layer, and an interface between the core layer and the cladding layer. At least one of which has one or a plurality of optical waveguide members having an uneven portion for information, an incident end face for guiding reproduction light to the core layer is formed, and reproduction light incident from the incident end face is formed. An optical memory device for obtaining a reproduced image by guiding the light to the core layer and scattering by the information concavo-convex portion and emitting scattered light from the surface to the outside, and at least the incident end face of the reproduced light and / or the scattered light. It is characterized in that the emission surface is provided with an antistatic layer.

【0015】好ましくは、帯電防止性層が帯電防止剤を
含む層である(請求項2)。或いは好ましくは帯電防止
性層が金属層である(請求項3)。また、再生光の入射
端面及び/又は散乱光の出射面に保護部材を設け、保護
部材表面に帯電防止性層を設けた構成とするのが好まし
い(請求項4)。特に好ましくは、保護部材が光メモリ
素子を収納するカートリッジである(請求項5)。
Preferably, the antistatic layer is a layer containing an antistatic agent (claim 2). Alternatively, preferably, the antistatic layer is a metal layer (claim 3). Further, it is preferable that a protective member is provided on the incident end surface of the reproduction light and / or the outgoing surface of the scattered light, and an antistatic layer is provided on the surface of the protective member (claim 4). Particularly preferably, the protective member is a cartridge that houses the optical memory device (claim 5).

【0016】コア層及び/又はクラッド層は樹脂製であ
るのが好ましい(請求項6)。請求項7記載の本発明の
光メモリ素子は、コア層と、前記コア層の両面に積層さ
れたクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド
層との界面の少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光
導波部材を1個又は複数個有してなり、再生光を前記コ
ア層に導くための入射端面が形成され、前記入射端面よ
り入射された再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹
凸部で散乱させ、散乱光をその表面から外部へ出射させ
て再生像を得る光メモリ素子であって、少なくとも前記
再生光の入射端面及び/又は散乱光出射面に、抗菌性層
を設けてなることを特徴としている。
The core layer and / or the cladding layer are preferably made of resin (claim 6). An optical memory element according to the present invention according to claim 7 is composed of a core layer and a cladding layer laminated on both surfaces of the core layer, and an information uneven portion is provided on at least one of the interfaces between the core layer and the cladding layer. One or a plurality of optical waveguide members are provided, and an incident end face for guiding reproducing light to the core layer is formed, and reproducing light incident from the incident end face is guided to the core layer for the information. An optical memory device which obtains a reproduced image by scattering scattered light from the uneven surface and emitting scattered light from the surface thereof, wherein an antibacterial layer is provided at least on the reproducing light incident end surface and / or scattered light emitting surface. It is characterized by that.

【0017】好ましくは、抗菌性層が抗菌剤を含む層で
ある(請求項8)。また、再生光の入射端面及び/又は
散乱光の出射面に保護部材を設け、保護部材表面に抗菌
性層を設けた構成とするのが好ましい(請求項9)。特
に好ましくは、保護部材が光メモリ素子を収納するカー
トリッジである(請求項10)。コア層及び/又はクラ
ッド層は樹脂製であるのが好ましい(請求項11)。
Preferably, the antibacterial layer is a layer containing an antibacterial agent (claim 8). Further, it is preferable that a protective member is provided on the incident end face of the reproduction light and / or the outgoing face of the scattered light and an antibacterial layer is provided on the surface of the protective member (claim 9). Particularly preferably, the protective member is a cartridge that houses the optical memory element (claim 10). The core layer and / or the cladding layer are preferably made of resin (claim 11).

【0018】請求項12記載の本発明の光メモリ素子
は、コア層と、前記コア層の両面に積層されたクラッド
層とからなり、前記コア層と前記クラッド層との界面の
少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光導波部材を1
個又は複数個有してなり、再生光を前記コア層に導くた
めの入射端面が形成され、前記入射端面より入射された
再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹凸部で散乱さ
せ、散乱光をその表面から外部へ出射させて再生像を得
る光メモリ素子であって、少なくとも前記再生光の入射
端面及び/又は散乱光出射面に、撥水性層を設けてなる
ことを特徴としている。
An optical memory device according to a twelfth aspect of the present invention comprises a core layer and a clad layer laminated on both sides of the core layer, and at least one of the interfaces between the core layer and the clad layer is used for information. 1 optical waveguide member having an uneven portion
An incident end face for guiding the reproduction light to the core layer is formed, and the reproduction light incident from the incidence end face is guided to the core layer and scattered by the information concavo-convex portion, An optical memory element for emitting scattered light from its surface to the outside to obtain a reproduced image, characterized in that a water-repellent layer is provided at least on the incident end surface of the reproduced light and / or the scattered light emitting surface.

【0019】好ましくは、撥水性層が撥水剤を含む層で
ある(請求項13)。また、再生光の入射端面及び/又
は散乱光の出射面に保護部材を設け、保護部材表面に撥
水性層を設けた構成とするのが好ましい(請求項1
4)。特に好ましくは、保護部材が光メモリ素子を収納
するカートリッジである(請求項15)。コア層及び/
又はクラッド層は樹脂製であるのが好ましい(請求項1
6)。
Preferably, the water repellent layer is a layer containing a water repellent agent (claim 13). Further, it is preferable that a protective member is provided on the incident end face of the reproduction light and / or the outgoing face of the scattered light, and a water repellent layer is provided on the protective member surface (claim 1).
4). Particularly preferably, the protection member is a cartridge that houses the optical memory element (claim 15). Core layer and /
Alternatively, the clad layer is preferably made of resin (claim 1
6).

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明についてより詳細に
説明する。本発明によれば、光メモリ素子(多層光メモ
リ,情報記録媒体)の、少なくとも再生光の入射端面及
び/又は散乱光の出射面に、帯電防止性層を設けること
で、保管、持ち運び中の塵埃の付着を防ぐことができ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below. According to the present invention, by providing an antistatic layer at least on the incident end face of reproduction light and / or the emission face of scattered light of an optical memory device (multilayer optical memory, information recording medium), it is possible to prevent dust during storage and transportation. Adhesion can be prevented.

【0021】そして、入射端面や出射面に塵埃が付着し
にくいので、再生時に信号品質の高い再生像が得られる
という利点がある。また、塵埃が付着しにくいので、ユ
ーザーが光メモリ素子を取扱いやすいという利点があ
る。帯電防止性層は、帯電防止剤を含む層とすることが
できる。例えば、帯電防止剤そのもの又は帯電防止剤溶
液を光メモリ素子の表面に塗布し必要に応じ乾燥して帯
電防止性層を形成してもよい。塗布方法は一般的なもの
を用いることができるが、例えばディップ法、スピンコ
ート法などである。或いは、帯電防止剤を含む樹脂層を
光メモリ素子の表面に形成してもよい。更には、光メモ
リ素子の表面のクラッド層が帯電防止剤を含む材料から
なってもよい。
Since dust is unlikely to adhere to the incident end surface and the exit surface, there is an advantage that a reproduced image with high signal quality can be obtained during reproduction. Further, since dust is unlikely to adhere, there is an advantage that the user can easily handle the optical memory element. The antistatic layer can be a layer containing an antistatic agent. For example, the antistatic agent itself or an antistatic agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried if necessary to form the antistatic layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. Alternatively, a resin layer containing an antistatic agent may be formed on the surface of the optical memory element. Furthermore, the cladding layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing an antistatic agent.

【0022】また、アルミニウム、銅、金などの金属、
合金からなる金属層を設けることで帯電を防ぐこともで
きる。金属層の成膜方法は一般的なものを用いることが
できるが、例えばスパッタリング法、蒸着法などであ
る。帯電防止性層を設ける領域は、少なくとも再生光の
入射端面又は散乱光の出射面であればよいが、両方に設
けても良いし、素子表面全体に設けても良い。
In addition, metals such as aluminum, copper and gold,
It is also possible to prevent electrification by providing a metal layer made of an alloy. A general method can be used for forming the metal layer, and examples thereof include a sputtering method and a vapor deposition method. The region where the antistatic layer is provided may be at least the incident end face of the reproduction light or the emission face of the scattered light, but it may be provided on both sides or on the entire surface of the element.

【0023】また、再生光の入射端面及び/又は散乱光
の出射面に保護部材を設け、保護部材表面に上記帯電防
止性層を設けた構成とすれば、キズつきを防止できると
ともに、塵埃の付着を抑えることができ、より好まし
い。例えば、光メモリ素子をカートリッジに収納し、カ
ートリッジ表面に帯電防止剤溶液を塗布してもよいし、
カートリッジそのものを帯電防止剤を含む材料で構成し
てもよい。
Further, when a protective member is provided on the incident end surface of the reproduction light and / or the outgoing surface of the scattered light and the antistatic layer is provided on the surface of the protective member, scratches can be prevented and dust particles can be prevented. Adhesion can be suppressed, which is more preferable. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and the surface of the cartridge may be coated with an antistatic agent solution,
The cartridge itself may be made of a material containing an antistatic agent.

【0024】また本発明においては、同様に光メモリ素
子(多層光メモリ,情報記録媒体)の、少なくとも再生
光の入射端面及び/又は散乱光の出射面に抗菌性層を設
けることで、入射端面や出射面に、カビや菌が付着し増
殖するのを防止することができる。そして、入射端面や
出射面にカビや菌が付着し増殖しにくいので、再生時に
信号品質の高い再生像が得られるという利点がある。ま
た、カビや菌が付着し増殖しにくいので、ユーザーが光
メモリ素子を取扱いやすいという利点がある。
Further, in the present invention, similarly, by providing an antibacterial layer at least on the incident end face of the reproduction light and / or the emission face of the scattered light of the optical memory element (multilayer optical memory, information recording medium), the incident end face or the emission end face is provided. It is possible to prevent mold and fungus from adhering to the surface and proliferating. Then, since molds and bacteria adhere to the incident end surface and the exit surface and are unlikely to grow, there is an advantage that a reproduced image with high signal quality can be obtained during reproduction. In addition, since molds and bacteria are hard to attach and proliferate, there is an advantage that the user can easily handle the optical memory element.

【0025】抗菌性層は、抗菌剤を含む層とすることが
できる。抗菌剤としては、例えば防かび剤を用いること
ができる。例えば、抗菌剤そのもの又は抗菌剤溶液を光
メモリ素子の表面に塗布し必要に応じ乾燥して抗菌性層
を形成してもよい。塗布方法は一般的なものを用いるこ
とができるが、例えばディップ法、スピンコート法など
である。或いは、抗菌剤を含む樹脂層を光メモリ素子の
表面に形成してもよい。更には、光メモリ素子の表面の
クラッド層が抗菌剤を含む材料からなってもよい。
The antibacterial layer can be a layer containing an antibacterial agent. As the antibacterial agent, for example, a fungicide can be used. For example, the antibacterial agent itself or the antibacterial agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried if necessary to form the antibacterial layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. Alternatively, a resin layer containing an antibacterial agent may be formed on the surface of the optical memory element. Furthermore, the clad layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing an antibacterial agent.

【0026】抗菌性層を設ける領域は、少なくとも再生
光の入射端面又は散乱光の出射面であればよいが、両方
に設けても良いし、素子表面全体に設けても良い。ま
た、再生光の入射端面及び/又は散乱光の出射面に保護
部材を設け、保護部材表面に上記抗菌性層を設けた構成
とすれば、キズつきを防止できるとともに、カビや菌の
付着、増殖を抑えることができ、より好ましい。例え
ば、光メモリ素子をカートリッジに収納し、カートリッ
ジ表面に抗菌剤溶液を塗布してもよいし、カートリッジ
そのものを抗菌剤を含む材料で構成してもよい。
The region in which the antibacterial layer is provided may be at least the reproducing light incident end face or the scattered light emitting face, but may be provided on both sides or on the entire element surface. Further, if a protective member is provided on the incident end surface of the reproduction light and / or the outgoing surface of the scattered light, and the antibacterial layer is provided on the surface of the protective member, scratches can be prevented and the adhesion of mold or bacteria, It is more preferable because it can suppress proliferation. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and the antibacterial agent solution may be applied to the surface of the cartridge, or the cartridge itself may be made of a material containing an antibacterial agent.

【0027】また本発明においては、同様に光メモリ素
子(多層光メモリ,情報記録媒体)の、少なくとも再生
光の入射端面及び/又は散乱光の出射面に撥水性層を設
けることで、入射端面や出射面の塗れ性を悪くすること
で、汚れが付着しにくくすることができる。そして、入
射端面や出射面に汚れが付着しにくいので、再生時に信
号品質の高い再生像が得られるという利点がある。ま
た、汚れが付着しにくいので、ユーザーが光メモリ素子
を取扱いやすいという利点がある。
Further, in the present invention, similarly, by providing a water-repellent layer on at least the reproducing light incident end face and / or the scattered light emitting face of the optical memory device (multilayer optical memory, information recording medium), the incident end face and the emitting face are emitted. By reducing the wettability of the surface, it is possible to make it difficult for dirt to adhere. Further, since dirt is unlikely to adhere to the incident end surface and the exit surface, there is an advantage that a reproduced image with high signal quality can be obtained during reproduction. Further, since dirt is unlikely to adhere, there is an advantage that the user can easily handle the optical memory element.

【0028】撥水性層は、撥水剤を含む層とすることが
できる。例えば、撥水剤そのもの又は撥水剤溶液を光メ
モリ素子の表面に塗布し必要に応じ乾燥して撥水性層を
形成してもよい。塗布方法は一般的なものを用いること
ができるが、例えばディップ法、スピンコート法などで
ある。或いは、撥水剤を含む樹脂層を光メモリ素子の表
面に形成してもよい。更には、光メモリ素子の表面のク
ラッド層が撥水剤を含む材料からなってもよい。
The water-repellent layer can be a layer containing a water-repellent agent. For example, the water repellent agent itself or a water repellent agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried as necessary to form the water repellent layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. Alternatively, a resin layer containing a water repellent agent may be formed on the surface of the optical memory element. Further, the cladding layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing a water repellent.

【0029】或いは、光メモリ素子の表面に撥水加工処
理を施すことで、撥水層を形成してもよい。撥水性層を
設ける領域は、少なくとも再生光の入射端面又は散乱光
の出射面であればよいが、両方に設けても良いし、素子
表面全体に設けても良い。また、再生光の入射端面及び
/又は散乱光の出射面に保護部材を設け、保護部材表面
に上記撥水性層を設けた構成とすれば、キズつきを防止
できるとともに、汚れを付着しにくくすることができ、
より好ましい。例えば、光メモリ素子をカートリッジに
収納し、カートリッジ表面に撥水剤溶液を塗布してもよ
いし、カートリッジそのものを撥水剤を含む材料で構成
してもよい。
Alternatively, the water repellent layer may be formed by subjecting the surface of the optical memory element to a water repellent treatment. The region where the water-repellent layer is provided may be at least the reproduction light incident end face or the scattered light emission face, but may be provided on both sides or on the entire element surface. Further, when a protective member is provided on the incident end face of the reproduction light and / or the outgoing face of the scattered light and the water repellent layer is provided on the protective member surface, scratches can be prevented and stains are less likely to adhere. It is possible,
More preferable. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and a water repellent solution may be applied to the surface of the cartridge, or the cartridge itself may be made of a material containing a water repellent.

【0030】以上の層のいずれを選択するかは、光メモ
リ素子の構成や用途等、必要に応じて選択すればよく、
また必要に応じて組み合わせて使用しても良い。例え
ば、帯電防止剤と抗菌剤の両方を含む層を設ければ、塵
埃の付着を防げるとともにカビ等の発生も抑えることが
できる。以下、本発明の一実施形態にかかる光メモリ素
子(多層光メモリ,情報記録媒体、光導波部材,積層
体)について、図面を参照しながら詳細に説明する。
Which of the above layers is to be selected may be selected according to the constitution and purpose of the optical memory device, etc.
Also, they may be used in combination as required. For example, if a layer containing both an antistatic agent and an antibacterial agent is provided, the adhesion of dust can be prevented and the occurrence of mold and the like can be suppressed. Hereinafter, an optical memory device (multilayer optical memory, information recording medium, optical waveguide member, laminated body) according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0031】まず、本実施形態にかかる光メモリ素子の
構造及びその製造方法について、図3,図4を参照しな
がら説明する。本実施形態にかかる光メモリ素子は、図
4に示すように、樹脂製クラッド層3,樹脂製コア層
2,樹脂製クラッド層3からなる光導波部材323を複
数個積層した積層体を備えるものとして構成される。な
お、ここでは、樹脂フィルム4も貼り付けたものとして
いる。
First, the structure of the optical memory device according to the present embodiment and the manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 4, the optical memory element according to the present embodiment is provided with a laminated body in which a plurality of optical waveguide members 323 each including a resin clad layer 3, a resin core layer 2, and a resin clad layer 3 are laminated. Composed. The resin film 4 is also attached here.

【0032】ここで、光導波部材323は、樹脂製コア
層2と、樹脂製コア層2の両面に積層された樹脂製クラ
ッド層3とからなり、かつ、樹脂製コア層2と樹脂製ク
ラッド層3との界面の少なくとも一方に凹凸部(情報用
凹凸部)5を有する。なお、情報用凹凸部5は、強度、
位相、角度などに関する情報を含むものとして構成され
る。情報用凹凸部5は、例えば強度情報と位相情報とを
含むものである場合もあるし、強度情報と角度情報とを
含むものである場合もあるし、強度情報のみを含むもの
である場合もある。また、再生像とは、このような凹凸
部からの散乱光により形成される光の濃淡であれば、ど
のような像であってもよい。
Here, the optical waveguide member 323 comprises a resin core layer 2 and a resin clad layer 3 laminated on both sides of the resin core layer 2, and the resin core layer 2 and the resin clad layer 3 are laminated. An uneven portion (information uneven portion) 5 is provided on at least one of the interfaces with the layer 3. In addition, the information uneven portion 5 has strength,
It is configured to include information about phases, angles, and the like. The information concavo-convex portion 5 may include, for example, intensity information and phase information, may include intensity information and angle information, or may include only intensity information. Further, the reproduced image may be any image as long as it is a light and shade of light formed by the scattered light from such uneven portions.

【0033】以下、このような光メモリ素子10を構成
する積層体の製造方法について説明する。始めに、図3
(A)に示すように、表面に結像させたい画像(情報)
に応じた所望の凹凸パターン(凹凸形状;ピット)の刻
まれたスタンパ1上に、所定の膜厚となるようにコア材
(液状コア樹脂)2′を塗布する。このコア材2′に
は、本実施形態では、紫外線(UV光)を照射すること
により硬化する紫外線硬化性樹脂剤から成るものを使用
し、このようにスタンパ1へ塗布した後、紫外線を照射
して完全に硬化させることで樹脂製のコア層2′を形成
する。
Hereinafter, a method of manufacturing the laminated body constituting the optical memory device 10 will be described. First, Figure 3
Image (information) to be formed on the surface as shown in (A)
A core material (liquid core resin) 2 ′ is applied to a stamper 1 having a desired uneven pattern (uneven shape; pit) according to the above so as to have a predetermined film thickness. In this embodiment, the core material 2'is made of an ultraviolet curable resin agent which is cured by irradiation with ultraviolet rays (UV light). After being applied to the stamper 1 in this way, it is irradiated with ultraviolet rays. Then, the resin core layer 2'is formed by completely curing it.

【0034】次に、このようにコア材2′を完全硬化さ
せた後、図3(B)に示すように、その上に、コア層
2′よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂剤から成る
クラッド材(液状クラッド樹脂)3a′を塗布し、紫外
線照射により硬化させてコア層2′よりも屈折率の小さ
い樹脂製クラッド層3a′を形成する。その後、図3
(C)に示すように、上記のクラッド層3a′上に、ク
ラッド材3a′と同じクラッド材3b′を塗布し、その
上から支持体となる樹脂フィルム(樹脂製フィルム部
材)4を、例えばローラ等を用いて加圧しながら貼着
(ラミネート)していく。つまり、クラッド層3a′に
クラッド材3b′を介して樹脂フィルム4をラミネート
する。
Next, after the core material 2'is completely cured in this way, as shown in FIG. 3 (B), an ultraviolet curable resin agent having a smaller refractive index than the core layer 2'is formed thereon. A clad material (liquid clad resin) 3a 'is applied and cured by irradiation with ultraviolet rays to form a resin clad layer 3a' having a smaller refractive index than the core layer 2 '. After that, FIG.
As shown in (C), the same clad material 3a 'as the clad material 3a' is applied onto the clad layer 3a ', and a resin film (resin film member) 4 serving as a support is formed on the clad material 3b'. Laminating is performed while applying pressure using a roller or the like. That is, the resin film 4 is laminated on the clad layer 3a 'via the clad material 3b'.

【0035】かかる状態で、紫外線を照射してクラッド
材3b′を硬化させれば、クラッド層3a′と同じ材質
のクラッド層3b′が形成されると共に、樹脂フィルム
4の接着が行われる。ここで、クラッド層3a′,3
b′はいずれも同じクラッド材から成るので、1層分の
クラッド層3′として機能する。そして、図3(D)に
示すように、スタンパ1から、上記のコア層2′とクラ
ッド層3′(3a′,3b′)と樹脂フィルム4とから
なる部材2′3′4を一体に剥離(分離)する。
In this state, when the clad material 3b 'is cured by irradiating with ultraviolet rays, the clad layer 3b' of the same material as the clad layer 3a 'is formed and the resin film 4 is adhered. Here, the cladding layers 3a ′, 3
Since b'is made of the same clad material, it functions as a clad layer 3'for one layer. Then, as shown in FIG. 3 (D), the member 2'3'4 composed of the core layer 2 ', the clad layers 3' (3a ', 3b') and the resin film 4 is integrally formed from the stamper 1. Peel (separate).

【0036】次に、図3(E)に示すように、次層の所
望の凹凸パターンが刻まれたスタンパ1″上に同様にコ
ア層2″,クラッド層3a″をそれぞれ塗布、紫外線照
射による硬化により形成する。その後、図3(F)に示
すように、上記クラッド層3a″上に、クラッド材3
a″と同じクラッド材3b″を塗布し、その上から、上
記部材2′3′4を貼着する。紫外線照射により、クラ
ッド材3b″を硬化した後、図3(G)に示すように、
スタンパ1″から、上記のコア層2″とクラッド層3″
(3a″、3b″)と部材2′3′4とを一体に剥離す
る。
Next, as shown in FIG. 3 (E), a core layer 2 ″ and a cladding layer 3a ″ are similarly coated on a stamper 1 ″ on which a desired concavo-convex pattern of the next layer is engraved, and ultraviolet irradiation is performed. Then, as shown in FIG. 3F, the cladding material 3 is formed on the cladding layer 3a ″.
The same clad material 3b "as a" is applied, and the above-mentioned members 2'3'4 are adhered on it. After curing the clad material 3b ″ by ultraviolet irradiation, as shown in FIG.
From the stamper 1 ″ to the core layer 2 ″ and the clad layer 3 ″
(3a ″, 3b ″) and the members 2′3′4 are integrally separated.

【0037】以上のプロセスを繰り返すことにより、図
4に示すような、支持体としての樹脂フィルム4の少な
くとも一面に、樹脂製クラッド層3と樹脂製コア層2と
からなり、かつ、樹脂製クラッド層3と樹脂製コア層2
との界面に凹凸部5を有するクラッド/コア部材が、2
以上積層されて積層体が形成される。ここでは、図4に
示すように、クラッド/コア部材はもろいため、支持体
としての樹脂フィルム4上に2以上のクラッド/コア部
材を積層させているが、さらに樹脂フィルム4を接着し
て2枚の樹脂フィルム4で挟み込んだ構造としている。
なお、樹脂フィルムで挟み込んだ構造としなくても良
く、例えば一方の面のみに樹脂フィルムを貼着しても良
いし、樹脂フィルムを貼着しなくても良い。
By repeating the above process, the resin clad layer 3 and the resin core layer 2 are formed on at least one surface of the resin film 4 as a support as shown in FIG. Layer 3 and resin core layer 2
The clad / core member having the uneven portion 5 at the interface with
The above is laminated to form a laminated body. Here, as shown in FIG. 4, since the clad / core member is fragile, two or more clad / core members are laminated on the resin film 4 as the support, but the resin film 4 is further adhered to The structure is such that it is sandwiched between the resin films 4.
It is not necessary to have a structure in which the resin film is sandwiched between the resin films. For example, the resin film may be attached to only one surface, or the resin film may not be attached.

【0038】なお、ここでは、樹脂製コア層2と、この
樹脂製コア層2の両面に積層された樹脂製クラッド層3
とを備え、これらの樹脂製コア層2と樹脂製クラッド層
3との界面の少なくとも一方に凹凸部5を設けられたス
ラブ型光導波路デバイス(光導波部材)323を、複数
個積層して積層体を形成していると見ることもできる。
Here, the resin core layer 2 and the resin clad layer 3 laminated on both surfaces of the resin core layer 2 are used.
And a plurality of slab type optical waveguide devices (optical waveguide members) 323 each having an uneven portion 5 provided on at least one of the interfaces between the resin core layer 2 and the resin clad layer 3 are laminated. It can also be seen as forming the body.

【0039】この場合、積層される複数の光導波部材3
23は、隣接する2つの光導波部材間で1層のクラッド
層を兼用している。このため、例えばクラッド層/コア
層/クラッド層/コア層/クラッド層というようにクラ
ッド層及びコア層を5層積層した場合には、2つの光導
波部材323を積層して積層体を形成したことになる。
In this case, a plurality of laminated optical waveguide members 3
Reference numeral 23 also serves as a single clad layer between two adjacent optical waveguide members. Therefore, when five layers of the clad layer and the core layer are laminated, for example, clad layer / core layer / clad layer / core layer / clad layer, two optical waveguide members 323 are laminated to form a laminated body. It will be.

【0040】なお、本実施形態では、隣接するクラッド
層を1層として共通に使用しているが、これに限られる
ものではなく、クラッド層/コア層/クラッド層の3層
積層体(光導波部材)323を基本構成とし、複数の光
導波部材323を樹脂フィルム4等の支持体を挟んで又
は挟まずに積層することもできる。また、光導波部材同
士を接着剤により積層することもできる。ここで、接着
剤としては、例えば硬化後にクラッド層として機能する
クラッド材を使用することができる。さらに、支持体と
しての樹脂フィルム4の裏面側にも同様にクラッド/コ
ア部材を積層したり、他の樹脂層を設けることで、積層
体のカールを抑える構成とすることもできる。
In this embodiment, the adjacent clad layers are commonly used as one layer, but the present invention is not limited to this, and a three-layer laminated body of clad layer / core layer / clad layer (optical waveguide (Member) 323 as a basic structure, a plurality of optical waveguide members 323 may be laminated with or without a support such as the resin film 4 interposed therebetween. Alternatively, the optical waveguide members may be laminated with an adhesive. Here, as the adhesive, for example, a clad material that functions as a clad layer after curing can be used. Further, a curl of the laminated body can be suppressed by similarly laminating a clad / core member on the back surface side of the resin film 4 as a support or providing another resin layer.

【0041】また、本実施形態では、光メモリ素子10
を構成するのに、光導波部材323を複数個積層して積
層体としているが、これに限られるものではなく、1個
の光導波部材(クラッド層/コア層/クラッド層の3層
積層体)323のみで光メモリ素子10を構成しても良
い。以上の説明において、コア材2には、塗布時には液
体で、その後、硬化させることのできる樹脂であればど
のような樹脂を適用してもよいが、好適な物質として
は、例えば、紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂や熱
硬化性樹脂等が挙げられる。ただし、上述のごとくスタ
ンパによる転写を行なう場合には、光硬化性樹脂を適用
するのが好ましく、例えば、アクリル系,エポキシ系,
チオール系の各樹脂などが好ましい。
Further, in this embodiment, the optical memory device 10 is used.
In order to configure the above, a plurality of optical waveguide members 323 are laminated to form a laminated body, but the present invention is not limited to this, and one optical waveguide member (three-layer laminated body of clad layer / core layer / clad layer). The optical memory device 10 may be composed of only 323. In the above description, any resin may be applied to the core material 2 as long as it is a liquid at the time of application and can be subsequently cured, but a suitable substance is, for example, an ultraviolet curable material. Examples thereof include photocurable resins such as resins and thermosetting resins. However, when the transfer is performed by the stamper as described above, it is preferable to apply a photocurable resin, for example, an acrylic type, an epoxy type,
Thiol-based resins are preferable.

【0042】また、上記のクラッド材3は、透明で屈折
率がコア材2よりも僅かに小さい物質(樹脂)であれば
何でも良いが、各種樹脂製のクラッド材3を塗布すると
簡便である。光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等から成るク
ラッド材3は樹脂フィルム4との接着性に優れ、好適で
ある。また、コア材2、クラッド材3の塗布方法には、
例えば、スピンコート法,ブレードコート法,グラビア
コート法,ダイコート法等があるが、塗布膜厚と均一性
を満足すればどのような塗布方法を用いてもよい。
The clad material 3 may be any material (resin) that is transparent and has a refractive index slightly smaller than that of the core material 2, but it is easy to apply the clad material 3 made of various resins. The clad material 3 made of a photocurable resin, a thermosetting resin, or the like has excellent adhesiveness to the resin film 4 and is suitable. The coating method of the core material 2 and the clad material 3 includes
For example, there are a spin coating method, a blade coating method, a gravure coating method, a die coating method and the like, but any coating method may be used as long as the coating film thickness and the uniformity are satisfied.

【0043】ここで、光導波部材323を積層してなる
積層体の厚さは、強度を得るために約0.3mm以上と
するのが好ましい。より好ましくは約0.5mm以上で
ある。ただし、光カード等の光メモリ(情報記録媒体)
としての携帯性を考慮すると約5mm以下とするのが好
ましい。より好ましくは約3mm以下である。本実施形
態において、支持体は、積層体(光メモリ素子10)を
保持する支持体として機能しうる物質であれば樹脂,金
属など各種のものが用いられるが、製造工程上、貼着
(ラミネート)を行うなど柔軟性が要求される場合は、
樹脂製の支持体とするのが好ましい。各種の硬化性樹脂
を塗布後硬化させたり、樹脂を溶剤に溶かして塗布し乾
燥させたりして樹脂製支持体としてもよいが、樹脂フィ
ルム4を用いると、スタンパ1上への貼着、剥離を繰り
返して行ないやすく、生産性、作業性の点で好ましい。
Here, the thickness of the laminated body formed by laminating the optical waveguide members 323 is preferably about 0.3 mm or more in order to obtain strength. More preferably, it is about 0.5 mm or more. However, optical memory such as optical card (information recording medium)
Considering the portability as above, the thickness is preferably about 5 mm or less. More preferably, it is about 3 mm or less. In the present embodiment, as the support, various materials such as resin and metal are used as long as they are substances capable of functioning as a support for holding the laminated body (optical memory element 10). If flexibility is required such as
It is preferable to use a resin support. Although various curable resins may be applied and then cured, or the resin may be dissolved in a solvent and applied and dried to form a resin support, but when the resin film 4 is used, the resin film 4 may be attached to or removed from the stamper 1. It is preferable from the viewpoint of productivity and workability that it is easy to repeat.

【0044】樹脂フィルム4には、具体的には、アート
ン(JSR社製)などの非晶質ポリオレフィン,ポリカ
ーボネート,PET(ポリエチレンテレフタレート),
PEN(ポリエチレンナフタレート)等の光学特性に優
れる(PENはさらに耐熱性にも優れる)熱可塑性の樹
脂フィルムが好適(特に、上記のPETやPENはいず
れも均一な厚みのフィルムを得られやすいので好適)
で、これらのいずれかを熱延伸或いは溶媒キャスト等の
方法で、例えば100μm以下の厚さにしたものがよ
い。
Specifically, the resin film 4 includes amorphous polyolefin such as Arton (manufactured by JSR), polycarbonate, PET (polyethylene terephthalate),
A thermoplastic resin film such as PEN (polyethylene naphthalate) having excellent optical properties (PEN is also excellent in heat resistance) is preferable (especially, since PET and PEN are each easily obtained as a film having a uniform thickness). Suitable)
Then, it is preferable that one of these is formed to a thickness of 100 μm or less by a method such as hot drawing or solvent casting.

【0045】また、一般に樹脂フィルム4は、その製造
工程で、無機粒子等の光学的には散乱体として機能する
ものがフィルム内に混入される。フィルム内の散乱体に
よる光の散乱が信号の読み取りに際し問題になる場合、
フィルムの片面にのみクラッド/コア部材が積層されて
いる態様であれば、フィルムとして遮光性フィルムを用
いるか、もしくはフィルムとクラッド/コア部材の間に
遮光膜を設けることが好ましい。これにより、樹脂フィ
ルム内への光の伝搬、もしくはフィルム内での散乱光の
信号光への干渉を防ぐことができる。
In general, the resin film 4 is mixed with inorganic particles or the like that optically function as a scatterer in the manufacturing process. If the scattering of light by the scatterers in the film is a problem when reading the signal,
In the case where the clad / core member is laminated only on one surface of the film, it is preferable to use a light-shielding film as the film or to provide a light-shielding film between the film and the clad / core member. Thereby, it is possible to prevent the propagation of light into the resin film or the interference of the scattered light in the film with the signal light.

【0046】この場合、支持体そのものを遮光性とする
ことが、光メモリ素子10の小型化が図れ、製造工程も
簡素化できるためより好ましい。ここで、上記遮光性フ
ィルム及び遮光膜としては、例えばカーボンを樹脂中に
練りこんだり、色素を添加したりして作製したPETフ
ィルムなどが挙げられる。なお、該遮光フィルムまたは
該遮光膜が作用する波長域については、再生に用いる導
入光(入射光,再生光)の波長を遮光することができれ
ば十分であり、可視光域全てを遮光する必要はない。遮
光性能については、フィルム厚さ方向で、90%以上の
光を遮断することができればよいが、99%以上の光を
遮断することができればより望ましい。
In this case, it is preferable that the support itself has a light-shielding property because the optical memory element 10 can be downsized and the manufacturing process can be simplified. Here, examples of the light-shielding film and the light-shielding film include a PET film produced by kneading carbon into a resin or adding a dye. Regarding the wavelength range in which the light-shielding film or the light-shielding film acts, it is sufficient if the wavelength of the introduced light (incident light, reproduction light) used for reproduction can be shielded, and it is not necessary to shield the entire visible light region. Absent. Regarding the light-shielding performance, it is sufficient that 90% or more of light can be blocked in the film thickness direction, but it is more desirable that 99% or more of light can be blocked.

【0047】なお、コア層2,クラッド層3の膜厚につ
いては、コア層2,クラッド層3が光導波路として機能
するだけの膜厚であればよく、例えば、使用光波長域が
可視光の波長域であれば、コア層2はおおよそ0.5〜
3.0μm程度になると考えられる。この場合、クラッ
ド層3の膜厚に関しては特に制限は無いが、全体の厚み
を薄くすることを考慮すれば、100μm以下にするの
が好ましい。あえて下限を規定するなら、0.1μm以
上になると思われる。
The thickness of the core layer 2 and the clad layer 3 may be any thickness as long as the core layer 2 and the clad layer 3 function as an optical waveguide. In the wavelength range, the core layer 2 is about 0.5-
It is considered to be about 3.0 μm. In this case, the film thickness of the clad layer 3 is not particularly limited, but it is preferably 100 μm or less in consideration of reducing the total thickness. If the lower limit is specified, it will be 0.1 μm or more.

【0048】クラッド層3は上記説明のように2層に分
けて形成するのが、膜厚が安定して好ましいが、1層と
して形成してもよい。また、上記では、樹脂フィルム4
として、枚葉のフィルムを用いた方式を説明したが、連
続フィルムによる実施も可能である。フィルム上へのコ
ア、クラッド材のダイコーター、マイクログラビア、バ
ーコータ等による塗布、スタンパを加圧した状態でのコ
ア、クラッド材の硬化等のプロセスを組み合わせること
により、支持体上にクラッド/コア部材を積層した構造
体を作製することができる。また、スタンパとしてロー
ルに巻き取り可能な形に加工したロールスタンパを用い
ることにより、スタンパからの転写プロセスの生産性を
向上させることも可能である。
It is preferable that the clad layer 3 is divided into two layers as described above because the film thickness is stable, but it may be formed as one layer. Further, in the above, the resin film 4
As the above, the method using a sheet of film has been described, but a continuous film can also be used. Clad / core member on the support by combining processes such as core coating on film, die coater of micro clad material, micro gravure, bar coater, etc., core under pressure of stamper, curing of clad material It is possible to fabricate a structure body in which Further, it is possible to improve the productivity of the transfer process from the stamper by using a roll stamper processed into a shape that can be wound into a roll as the stamper.

【0049】上述のごとく構成された光メモリ素子10
では、例えば、光導波路としてのコア層2に入射端面を
介して光を導入すると、その導入光が界面の凹凸部分で
散乱しながら伝播する。このときの散乱光は導入光に対
して上下方向(交差する方向)のそれぞれに伝搬(透
過)していき、最終的に光メモリ素子の両面部から外部
へ放出され、凹凸パターンに応じた画像が結像すること
になる。
The optical memory device 10 constructed as described above.
Then, for example, when light is introduced into the core layer 2 as an optical waveguide through the incident end face, the introduced light propagates while being scattered by the uneven portion of the interface. The scattered light at this time propagates (transmits) in each of the up and down directions (directions intersecting) with the introduced light, and finally is emitted from both sides of the optical memory element to the outside, and an image corresponding to the uneven pattern is formed. It will form an image.

【0050】以上のように、本実施形態によれば、積層
されたコア層2とクラッド層3とがいずれも樹脂製で、
しかも、凹凸の形成されるコア層(コア材)2に光や熱
等で硬化しうる硬化性樹脂を用いているので、従来のよ
うにフォトレジストの露光,現像処理等を用いなくて
も、スタンパからの転写によって、コア層2とクラッド
層3との界面に容易に所望形状の凹凸部5を形成するこ
とが可能になる。
As described above, according to this embodiment, both the laminated core layer 2 and clad layer 3 are made of resin,
In addition, since the core layer (core material) 2 on which irregularities are formed is made of a curable resin that can be cured by light, heat, etc. The transfer from the stamper makes it possible to easily form the uneven portion 5 having a desired shape at the interface between the core layer 2 and the cladding layer 3.

【0051】また、クラッド層3の膜厚を例えば10μ
m程度にすることによって、100層積層時にも素子の
膜厚を1mm程度に抑えることが可能となり、多層構造
の実用的な光メモリ素子10を製造することが可能とな
る。従って、多層構造の光メモリ素子10の大量生産が
可能になり、光メモリ素子10を従来よりも容易に(短
期間で)、且つ、安価に提供することができる。
The film thickness of the cladding layer 3 is, for example, 10 μm.
By setting the thickness to about m, the film thickness of the device can be suppressed to about 1 mm even when 100 layers are stacked, and the practical optical memory device 10 having a multilayer structure can be manufactured. Therefore, it becomes possible to mass-produce the optical memory device 10 having a multilayer structure, and the optical memory device 10 can be provided more easily (in a short period of time) and at a lower cost than ever before.

【0052】このようにして製造される光メモリ素子1
0には、図2(A),(B)に示すように、樹脂製コア
層2と樹脂製クラッド層3との両層の界面に設けられる
凹凸部5の情報を読み出すための入射光(再生光)を樹
脂製コア層2へ導くための入射端面(入射光導入端面)
11が形成される。ここでは、円形スタンパを用いて作
製される光メモリ素子から所望の大きさになるように切
り出した個々の光メモリ素子の90度(光導波部材の表
面とのなす角度が90度)の端面を入射端面(90度入
射端面)11としている。
Optical memory device 1 manufactured in this way
As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), the incident light (0) for reading information of the uneven portion 5 provided at the interface between the resin core layer 2 and the resin clad layer 3 is shown in FIG. Incident end face (incident light introduction end face) for guiding reproduction light) to the resin core layer 2
11 is formed. Here, the end surface of each optical memory element cut out to have a desired size from an optical memory element manufactured using a circular stamper at 90 degrees (the angle formed with the surface of the optical waveguide member is 90 degrees) is the incident end surface. (90 degree incident end face) is 11.

【0053】なお、入射光を樹脂製コア層2へ導くため
の入射端面11は、これに限られるものではなく、種々
のものが考えられる。例えば、光メモリ素子10の一方
の端面を45度(光導波部材の表面とのなす角度が45
度)に切断し、必要に応じて反射膜を形成してミラー端
面(傾斜端面,マイクロミラー)とし、このミラー端面
を入射端面(45度入射端面)としても良い。この場
合、光メモリ素子10の表面に対して垂直な方向から、
この45度入射端面に向かって光を入射させ、45度入
射端面で反射させて入射光を樹脂製コア層2へと導くこ
とになる。
The incident end face 11 for guiding the incident light to the resin core layer 2 is not limited to this, and various types can be considered. For example, one end face of the optical memory element 10 is 45 degrees (the angle formed by the surface of the optical waveguide member is 45 degrees).
The mirror end surface (inclined end surface, micromirror) may be formed by cutting a reflective film as necessary, and this mirror end surface may be used as the incident end surface (45 degree incident end surface). In this case, from the direction perpendicular to the surface of the optical memory element 10,
Light is incident on the 45-degree incident end face and reflected by the 45-degree incident end face to guide the incident light to the resin core layer 2.

【0054】このように、入射端面としては種々のもの
が考えられるが、一般的に入射端面を90度入射端面
[即ち、入射端面とコア層とのなす角度がほぼ90度
(ほぼ直角)]とすれば、45度入射端面とする場合よ
りも光メモリ素子10の作製コストを低く抑えることが
でき、また、入射光(再生光)を導入する関係上、情報
用凹凸部を設けることのできないデッドスペースも小さ
くすることができる点で好ましい。
As described above, various types of incident end faces are conceivable, but generally, the incident end face is a 90 ° incident end face [that is, the angle between the incident end face and the core layer is about 90 ° (substantially right angle)]. In that case, the manufacturing cost of the optical memory element 10 can be kept lower than in the case where the incident facet is at 45 degrees, and since the incident light (reproducing light) is introduced, the dead part in which the uneven portion for information cannot be provided cannot be provided. It is preferable in that the space can be reduced.

【0055】以上のように作製する光メモリ素子におい
て、コア層やクラッド層に用いられる材料としては、通
常、アクリル系等の光硬化性樹脂などであり、基体とし
てはPET、PEN、非晶質ポリオレフィンやポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート、ABS樹脂など
の熱可塑性樹脂が挙げられる。一般にこれら樹脂は絶縁
体であるため帯電しやすく空気中の塵埃を引きつけやす
いため、素子表面に塵埃が付着しやすい。また、樹脂で
あるためカビや菌などが付着し増殖してしまうおそれが
ある。
In the optical memory device manufactured as described above, the material used for the core layer and the clad layer is usually a photocurable resin such as acrylic resin, and the substrate is PET, PEN, or amorphous polyolefin. And thermoplastic resins such as polycarbonate, polymethylmethacrylate, and ABS resin. Generally, since these resins are insulators, they are easily charged and easily attract dust in the air, and thus dust easily attaches to the element surface. In addition, since it is a resin, mold and bacteria may adhere to it and proliferate.

【0056】[1]帯電防止性層 そこで、少なくとも入射端面及び/又は出射面に帯電防
止性層を設けることで、塵埃が付着しにくくし、以て再
生時に高品質の再生像を得るものである。また、特殊な
取扱いをしなくても塵埃が付着しないので、ユーザーが
光メモリ素子を保管、持ち運びする際に取扱いがしやす
い。
[1] Antistatic Layer Therefore, by providing an antistatic layer on at least the incident end surface and / or the exit surface, it is possible to prevent dust from adhering and to obtain a high-quality reproduced image during reproduction. is there. In addition, since dust does not adhere to the optical memory device without special handling, the user can easily handle the optical memory device when storing or carrying it.

【0057】光メモリ素子の表面全体に帯電防止性層を
形成する例について説明する。帯電防止性層としては、
例えば帯電防止剤を含む層とすることができる。例え
ば、帯電防止剤そのもの又は帯電防止剤溶液を、光メモ
リ素子の表面に塗布し必要に応じ乾燥して帯電防止性層
を形成してもよい。塗布方法は一般的なものを用いるこ
とができるが、例えばディップ法、スピンコート法など
である。但し、帯電防止効果の長期持続性の観点から
は、帯電防止剤を含む樹脂層を光メモリ素子の表面に形
成するのがよい。更には、光メモリ素子の表面のクラッ
ド層が帯電防止剤を含む材料からなってもよい。
An example of forming the antistatic layer on the entire surface of the optical memory element will be described. As the antistatic layer,
For example, it may be a layer containing an antistatic agent. For example, the antistatic agent itself or an antistatic agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried if necessary to form the antistatic layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. However, from the viewpoint of long-term sustainability of the antistatic effect, it is preferable to form a resin layer containing an antistatic agent on the surface of the optical memory element. Furthermore, the cladding layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing an antistatic agent.

【0058】帯電防止剤はその機能を果たせば種類は特
に限定されないが、例えばシロキサン系帯電防止剤、界
面活性剤系帯電防止剤などである。界面活性剤系帯電防
止剤は、陽イオン性、陰イオン性、非イオン性、両性に
大別される。陽イオン性界面活性剤としては、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロライドなどの第4級アンモ
ニウム塩があげられ、陰イオン性界面活性剤としては、
脂肪族スルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、
高級アルコール燐酸エステル塩があげられ、非イオン性
界面活性剤としては、高級アルコールエチレンオキサイ
ド、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、多価アル
コール脂肪酸エステルがあげられ、両性界面活性剤とし
ては、ベタインがあげられる。脂肪族スルホン酸塩型の
帯電防止剤としては、例えば以下が挙げられる。
The type of antistatic agent is not particularly limited as long as it fulfills its function, and examples thereof include siloxane type antistatic agents and surfactant type antistatic agents. Surfactant-based antistatic agents are roughly classified into cationic, anionic, nonionic and amphoteric. Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salts such as dodecyltrimethylammonium chloride, and examples of the anionic surfactant include:
Aliphatic sulfonate, higher alcohol sulfate ester salt,
Examples of the higher alcohol phosphate ester salt include nonionic surfactants such as higher alcohol ethylene oxide, polyethylene glycol fatty acid ester, and polyhydric alcohol fatty acid ester, and amphoteric surfactants include betaine. Examples of the aliphatic sulfonate-type antistatic agent include the following.

【0059】[0059]

【化1】 R1−SO3X ……(I) で表わされる高級脂肪族スルホン酸塩Embedded image Higher aliphatic sulfonate represented by R 1 —SO 3 X (I)

【0060】[0060]

【化2】 で表わされるスルホン化高級脂肪酸塩[Chemical 2] Sulfonated higher fatty acid salt represented by

【0061】[0061]

【化3】 R1−COOR3−SO3X ……(III) で表わされる高級脂肪族エステルスルホン酸塩Embedded image Higher aliphatic ester sulfonate represented by R 1 —COOR 3 —SO 3 X (III)

【0062】[0062]

【化4】 R1−O−R3−SO3X ……(IV) で表わされる高級エーテルスルホン酸塩Embedded image The higher ether sulfonate represented by R 1 —O—R 3 —SO 3 X (IV)

【0063】[0063]

【化5】 [Chemical 5]

【0064】で表わされるスルホコハク酸エステルの塩 式中、R1は高級脂肪族基 Xはアルカリ金属又はアルカリ土類金属 R2は水素又は低級アルキル基 R3は二価の低級脂肪族基 R4は水素又は(高級)脂肪族基であり、R1と同種のも
のでも異種のものでもよい。
In the salt formula of the sulfosuccinate represented by: R 1 is a higher aliphatic group X is an alkali metal or alkaline earth metal R 2 is hydrogen or a lower alkyl group R 3 is a divalent lower aliphatic group R 4 Is hydrogen or a (higher) aliphatic group, which may be the same as or different from R 1 .

【0065】上記一般式(I)〜(V)において、R1
としてはヘキシル基、オクチル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基があげられ、またR2としては水素又はメ
チル基、エチル基があげられ、さらにR3としてはメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン
基、2−ヒドロキシトリメチレン基等があげられる。ま
た、Xとしてはナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウム等があげられる。
In the above general formulas (I) to (V), R 1
Examples thereof include a hexyl group, an octyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a hexadecylene group, a heptadecyl group and an octadecyl group, and R 2 is hydrogen or a methyl group, an ethyl group. Examples of R 3 include methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, 2-hydroxytrimethylene group and the like. Examples of X include sodium, potassium, calcium, magnesium and the like.

【0066】これらの脂肪族スルホン酸塩型帯電防止剤
としては、ドデシルスルホン酸ナトリウム、テトラデシ
ルスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルスルホン酸ナト
リウム、オクタデシルスルホン酸ナトリウムまたはそれ
らの混合物、スルホコハク酸ジオクチルのナトリウム
塩、スルホコハク酸ビス(ドデシル)のナトリウム塩、
スルホコハク酸ビス(オクタデシル)のナトリウム塩ま
たはそれらの混合物などがあげられる。
Examples of these aliphatic sulfonate type antistatic agents include sodium dodecyl sulfonate, sodium tetradecyl sulfonate, sodium hexadecyl sulfonate, sodium octadecyl sulfonate or a mixture thereof, sodium salt of dioctyl sulfosuccinate, Sodium salt of bis (dodecyl) sulfosuccinate,
Examples thereof include sodium salt of bis (octadecyl) sulfosuccinate or a mixture thereof.

【0067】この中でもアルキルスルホネートのNa
塩、ジアルキルスルホサクシネートのNa塩が好まし
い。上記帯電防止剤を樹脂中に配合して用いる場合の配
合量は樹脂100重量部に対して通常0.1〜5重量
部、好ましくは0.5〜3重量部の範囲である。配合量
が少ないと帯電防止性の改良効果が少なく、また、逆に
多いと流動性、成形性が低下するので好ましくない。上
記樹脂に上記帯電防止剤と共に必要に応じて他の公知の
添加剤を配合してもかまわない。
Among these, alkyl sulfonate Na
Salts, Na salts of dialkyl sulfosuccinates are preferred. When the antistatic agent is blended in the resin and used, the blending amount is usually 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.5 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. If the blending amount is small, the effect of improving the antistatic property is small, and conversely if the blending amount is large, the fluidity and moldability are deteriorated, which is not preferable. If desired, other known additives may be blended with the above resin together with the above antistatic agent.

【0068】或いは、帯電防止剤として導電性微粒子を
添加してもよい。例えば、SnO2,TiO2,ZnO等
の金属酸化物や、Al,Sb等の金属にSnO2をコー
ティングしたものが用いられる。また、この導電性微粒
子としては、とりわけSnO 2のような透明性のものが
好ましく用いられる。本発明に用いられる導電性微粒子
の粒径は、0.3μm以下が好ましい。この粒径が0.
3μmを越えると、記録再生時にノイズ発生の原因とな
るので好ましくない。より好ましくは0.2μm以下で
ある。また、層に含まれる導電性微粒子の含有量は、1
0〜40重量%の範囲が好ましい。含有量が10%未満
であると、導電性の激減を招き帯電防止の効果が損なわ
れ、また、40%を越えると、接着力の低下を来して、
耐久性等が失われてしまい、好ましくない。
Alternatively, conductive fine particles may be used as the antistatic agent.
You may add. For example, SnO2, TiO2, ZnO, etc.
SnO in the metal oxides of Al and Sb and other metals2The code
The one that has been used is used. Also, this conductive fine particle
As a child, especially SnO 2Something transparent like
It is preferably used. Conductive fine particles used in the present invention
The particle size of is preferably 0.3 μm or less. This particle size is 0.
If it exceeds 3 μm, it may cause noise during recording and playback.
It is not preferable because More preferably 0.2 μm or less
is there. The content of the conductive fine particles contained in the layer is 1
The range of 0-40% by weight is preferred. Content is less than 10%
In that case, the conductivity is drastically reduced and the antistatic effect is impaired.
If it exceeds 40%, the adhesive strength will decrease,
Durability is lost, which is not preferable.

【0069】また、上記帯電防止剤を含む層に変えて、
アルミニウム、銅、金などの金属、合金からなる金属層
を帯電防止性層として設けることもできる。金属層の成
膜方法は一般的なものを用いることができるが、例えば
スパッタリング法、蒸着法などである。好ましくは、前
記所定の表面電気抵抗は1×1014Ω/□である。表面
電気抵抗を1×1014Ω/□以下とすることにより、帯
電に基づく静電作用による塵埃の付着が確実に防止され
る。樹脂材料に界面活性剤を多く添加する程表面電気抵
抗は低下する。この表面電気抵抗は、添加する界面活性
剤の種類および樹脂材料の種類により異なる。したがっ
て、界面活性剤の種類とこれを混合する樹脂材料に応じ
て適宜界面活性剤の混合量を選定することにより、スペ
ーサの表面電気抵抗を1×1014Ω/□以下とすること
ができる。
Further, instead of the layer containing the antistatic agent,
A metal layer made of a metal such as aluminum, copper or gold or an alloy may be provided as the antistatic layer. A general method can be used for forming the metal layer, and examples thereof include a sputtering method and a vapor deposition method. Preferably, the predetermined surface electric resistance is 1 × 10 14 Ω / □. By setting the surface electric resistance to 1 × 10 14 Ω / □ or less, adhesion of dust due to electrostatic action due to electrification can be reliably prevented. The surface resistance decreases as the amount of surfactant added to the resin material. This surface electric resistance differs depending on the type of surfactant and the type of resin material to be added. Therefore, the surface electric resistance of the spacer can be set to 1 × 10 14 Ω / □ or less by appropriately selecting the mixing amount of the surfactant depending on the kind of the surfactant and the resin material mixed with the surfactant.

【0070】[2]抗菌性層 次に、少なくとも入射端面及び/又は出射面に抗菌性層
を設けることで、カビや菌の付着や増殖を防止し、以て
再生時に高品質の再生像を得るものである。また、特殊
な取扱いをしなくてもカビや菌が増殖しないので、ユー
ザーが光メモリ素子を保管、持ち運びする際に取扱いが
しやすい。
[2] Antibacterial layer Next, by providing an antibacterial layer on at least the incident end surface and / or the exit surface, the attachment and growth of mold and fungi can be prevented, and a high quality reproduced image can be obtained during reproduction. It is a thing. In addition, since molds and fungi do not grow without special handling, the user can easily handle the optical memory device when storing or carrying it.

【0071】光メモリ素子の表面全体に抗菌性層を形成
する例について説明する。抗菌性層としては、例えば抗
菌剤を含む層とすることができる。例えば、抗菌剤その
もの又は抗菌剤溶液を、光メモリ素子の表面に塗布し必
要に応じ乾燥して抗菌性層を形成してもよい。塗布方法
は一般的なものを用いることができるが、例えばディッ
プ法、スピンコート法などである。但し、抗菌効果の長
期持続性の観点からは、抗菌剤を含む樹脂層を光メモリ
素子の表面に形成するのがよい。更には、光メモリ素子
の表面のクラッド層が抗菌剤を含む材料からなってもよ
い。
An example of forming an antibacterial layer on the entire surface of the optical memory element will be described. The antibacterial layer may be, for example, a layer containing an antibacterial agent. For example, the antibacterial agent itself or the antibacterial agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried if necessary to form the antibacterial layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. However, from the viewpoint of long-term antibacterial effect, it is preferable to form a resin layer containing an antibacterial agent on the surface of the optical memory element. Furthermore, the clad layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing an antibacterial agent.

【0072】抗菌剤はその機能を果たせば種類は特に限
定されないが、例えば防かび剤などである。防かび剤と
しては例えば、ベンズイミダゾール系化合物、チオファ
ーネートメチル系化合物、ジオキソイミダゾリジン系化
合物、イソチアゾロン系化合物などが挙げられる。具体
的には、特開平9−161317号公報、特開平10−
27381号公報などに記載されたものなどを用いるこ
とができる。
The type of the antibacterial agent is not particularly limited as long as it fulfills its function, and examples thereof include antifungal agents. Examples of the fungicides include benzimidazole compounds, thiphonate methyl compounds, dioxoimidazolidine compounds, isothiazolone compounds and the like. Specifically, JP-A-9-161317 and JP-A-10-
For example, those described in Japanese Patent No. 27381 can be used.

【0073】[3]撥水性層 次に、少なくとも入射端面及び/又は出射面に撥水性層
を設けることで、汚れが付着しにくくし、以て再生時に
高品質の再生像を得るものである。また、特殊な取扱い
をしなくても汚れが付着しないので、ユーザーが光メモ
リ素子を保管、持ち運びする際に取扱いがしやすい。
[3] Water-repellent layer Next, by providing a water-repellent layer on at least the incident end surface and / or the exit surface, dirt is less likely to adhere, and a reproduced image of high quality can be obtained during reproduction. Further, since dirt does not adhere without special handling, the user can easily handle the optical memory device when it is stored or carried.

【0074】光メモリ素子の表面全体に撥水性層を形成
する例について説明する。撥水性層としては、例えば撥
水剤を含む層とすることができる。例えば、撥水剤その
もの又は撥水剤溶液を、光メモリ素子の表面に塗布し必
要に応じ乾燥して撥水性層を形成してもよい。塗布方法
は一般的なものを用いることができるが、例えばディッ
プ法、スピンコート法などである。但し、撥水効果の長
期持続性の観点からは、撥水剤を含む樹脂層を光メモリ
素子の表面に形成するのがよい。更には、光メモリ素子
の表面のクラッド層が撥水剤を含む材料からなってもよ
い。
An example of forming the water repellent layer on the entire surface of the optical memory element will be described. The water-repellent layer can be, for example, a layer containing a water-repellent agent. For example, the water repellent agent itself or the water repellent agent solution may be applied to the surface of the optical memory element and dried as necessary to form the water repellent layer. A general coating method can be used, and examples thereof include a dipping method and a spin coating method. However, from the viewpoint of long-term sustainability of the water repellent effect, it is preferable to form a resin layer containing a water repellent agent on the surface of the optical memory element. Further, the cladding layer on the surface of the optical memory element may be made of a material containing a water repellent.

【0075】撥水剤はその機能を果たせば種類は特に限
定されないが、例えばフッ素系やケイ素系の無機薄膜、
フッ素系ポリマー、ケイ素化合物、パラフィン系ワック
ス、オレフィン系のフィルムなどが挙げられる。例え
ば、フッ素化マグネシウム、フッ素化グラファイト、フ
ッ素化ランタン、フッ素かシリコン、窒化ケイ素、炭化
ケイ素などの薄膜を、蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティングなどの通常の成膜方法により形成してもよ
い。
The type of the water repellent is not particularly limited as long as it fulfills its function. For example, a fluorine-based or silicon-based inorganic thin film,
Fluorine-based polymers, silicon compounds, paraffin-based waxes, olefin-based films, etc. may be mentioned. For example, a thin film of fluorinated magnesium, fluorinated graphite, fluorinated lanthanum, fluorine or silicon, silicon nitride, silicon carbide or the like may be formed by a usual film forming method such as vapor deposition, sputtering or ion plating.

【0076】或いは、テフロン(登録商標)などのパー
フルオロカーボン、ポリジメチルシロキサン、シリコー
ンなどのケイ素化合物からなる層を形成してもよい。ま
た、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのフィルムを光
メモリ素子表面にラミネート(貼り付け)してもよい。
ところで、上述のような光導波部材323に入射端面1
1を形成してなる光メモリ素子10を、例えばカード状
等の光メモリとして実用化するに当たっては、光メモリ
素子10の情報再生に支障をきたさないようしながら、
光メモリ素子10の入射端面11や再生面がキズつかな
いように保護するのが好ましい。
Alternatively, a layer made of perfluorocarbon such as Teflon (registered trademark), polydimethylsiloxane, or a silicon compound such as silicone may be formed. Further, a film such as polyethylene or polypropylene may be laminated (attached) on the surface of the optical memory element.
By the way, the incident end face 1 is formed on the optical waveguide member 323 as described above.
In practical use of the optical memory element 10 formed by 1 as an optical memory such as a card, the information reproduction of the optical memory element 10 is not hindered,
It is preferable to protect the incident end surface 11 and the reproducing surface of the optical memory element 10 from being scratched.

【0077】例えばカード状等の光メモリのように持ち
歩くことを想定する場合には、携帯性を考慮し、高い保
護効果が得られるようにする。このため、本実施形態で
は、光メモリ素子10の全体を覆って光メモリ素子10
(特に入射端面11)を保護すべく、図1(A),
(B)に示すように、光メモリ素子10をカートリッジ
(保護部材,保護ケース;光メモリ素子10を保持する
容器)20内に収納している。
For example, when carrying around like an optical memory in the form of a card, portability is taken into consideration so that a high protection effect can be obtained. Therefore, in the present embodiment, the optical memory element 10 is covered with the entire optical memory element 10.
In order to protect (particularly the incident end face 11), FIG.
As shown in (B), the optical memory device 10 is housed in a cartridge (protective member, protective case; container that holds the optical memory device 10) 20.

【0078】ここで、カートリッジ20は、図1
(A),(B)に示すように、光メモリ素子10を内部
に収納しうるカートリッジ本体部21と、光メモリ素子
10の入射端面11を覆うように設けられる開閉可能な
蓋部(カバー部,保護蓋)22とを備える。ここでは、
蓋部22は、カートリッジ本体部21にヒンジ(継手,
ジョイント部)23を介して回転可能に取り付けられて
いる。そして、蓋部22は、図2(A),(B)中、矢
印で示すように、情報再生時にドライブ(再生装置)に
よってヒンジ23を介して回転させられて開けられ、こ
れにより、カートリッジ20の内部に収納されている光
メモリ素子10の入射端面11が露出(曝露)されるよ
うになっている。このため、このような蓋部22を回転
式蓋部という。このような回転式蓋部22を有するカー
トリッジ20は、ドライブによって蓋部22を確実に開
閉させることができ、保護部材を信頼性の高いものとし
て構成することができる。
The cartridge 20 is shown in FIG.
As shown in (A) and (B), a cartridge main body 21 capable of accommodating the optical memory element 10 therein and an openable / closable lid portion (cover portion, protection provided so as to cover the incident end surface 11 of the optical memory element 10). Lid 22). here,
The lid 22 is hinged to the cartridge body 21 (joint,
It is rotatably attached via a joint part) 23. 2A and 2B, the lid 22 is rotated and opened by the drive (reproducing device) via the hinge 23 during the information reproduction, whereby the cartridge 20 is opened. The incident end face 11 of the optical memory element 10 housed inside is exposed (exposed). Therefore, such a lid 22 is referred to as a rotary lid. The cartridge 20 having such a rotary lid portion 22 can surely open and close the lid portion 22 by the drive, and the protective member can be configured to have high reliability.

【0079】このように、蓋部21を開閉しうるように
構成することで、情報再生時にのみ蓋部21を開けて入
射端面11を露出させ、情報を再生することができ、そ
れ以外の時には蓋部21を閉じて入射端面11を蓋部2
1によって覆うことで入射端面11を確実に保護するこ
とができるようになる。なお、ここでは、蓋部22を回
転可能な回転式蓋部として構成しているが、例えば、蓋
部を入射端面11と平行にスライドさせることにより、
入射端面11を露出させるようにしても良い。また、例
えば蓋部を可撓性のあるシート状部材により構成し、こ
のシート状部材によって光メモリ素子10の入射端面1
1を覆っておき、情報再生時に、カートリッジ本体部2
1の表面に沿って、このシート状部材をずらす(スライ
ドさせる)ことで、入射端面11を露出(曝露)させる
ようにしても良い。これを、スライド式蓋部という。
As described above, by constructing the lid portion 21 so that it can be opened and closed, the lid portion 21 can be opened to expose the entrance end face 11 only when reproducing information, and information can be reproduced, and at other times. The lid 21 is closed and the incident end face 11 is covered with the lid 2.
By covering with 1 the incident end face 11 can be reliably protected. In addition, although the lid portion 22 is configured as a rotatable lid portion here, for example, by sliding the lid portion in parallel with the incident end face 11,
The incident end face 11 may be exposed. Further, for example, the lid portion is formed of a flexible sheet-like member, and the incident end face 1 of the optical memory element 10 is formed by this sheet-like member.
1 to cover the cartridge main body 2 when reproducing information.
The incident end face 11 may be exposed (exposed) by shifting (sliding) the sheet-like member along the surface of 1. This is called a sliding lid.

【0080】また、蓋部付きカートリッジ20を用いれ
ば、保護効果が高いため、例えば携帯性に優れたものと
なり、また、例えば保護シートを入射端面11に貼り付
けて保護する場合のように、その使用が数回程度に限ら
れることがなく、何回でも繰り返し使用可能となる。ま
た、カートリッジ20は、再生光を透過しうる材料(再
生光に対して透明な材料)で構成するのが好ましい。こ
の場合、少なくともカートリッジ20の一側の表面[図
1(A),(B)では、上側の面]、即ち、光メモリ素
子10がドライブ内に装着された場合にCCD受像機等
の側(出力側)の表面を再生光を透過しうる材料で構成
すれば良い。
If the cartridge 20 with a lid is used, the protection effect is high, and therefore, the portability is excellent. For example, as in the case where a protective sheet is attached to the incident end face 11 to protect it, The use is not limited to several times, and can be used repeatedly as many times as desired. Further, it is preferable that the cartridge 20 is made of a material that can transmit reproduction light (a material that is transparent to reproduction light). In this case, at least one surface of the cartridge 20 [the upper surface in FIGS. 1 (A) and 1 (B)], that is, the side of the CCD receiver or the like (output) when the optical memory device 10 is mounted in the drive. The surface (side) may be made of a material that can transmit the reproduction light.

【0081】これにより、光メモリ素子10をカートリ
ッジ20内に収納したまま、蓋部22を開けるだけで、
光メモリ素子10の凹凸部5で散乱した散乱光が、透明
材料で構成されたカートリッジ20を通って外部へ出力
されるようになり、これをCCD受像機等によって検出
できるようになる。そして、光メモリ素子10の凹凸部
5の情報を再生する際に、蓋部22が閉じられているカ
ートリッジ20内に収納されている光メモリ素子10
を、そのままドライブ(再生装置)に装着(挿入)する
と、ドライブ内でドライブの開閉機構によって機械的に
カートリッジ20の蓋部22が開けられ、光メモリ素子
10の入射端面11を露出させるようになっている。
As a result, the optical memory device 10 can be stored in the cartridge 20 and the lid 22 can be opened.
The scattered light scattered by the uneven portion 5 of the optical memory element 10 is output to the outside through the cartridge 20 made of a transparent material, and can be detected by a CCD receiver or the like. Then, when reproducing the information of the concave-convex portion 5 of the optical memory element 10, the optical memory element 10 housed in the cartridge 20 with the lid 22 closed.
When it is mounted (inserted) into the drive (reproducing apparatus) as it is, the lid 22 of the cartridge 20 is mechanically opened by the opening / closing mechanism of the drive to expose the incident end face 11 of the optical memory element 10. There is.

【0082】一方、情報再生後に、カートリッジ20内
に収納されている光メモリ素子10をドライブから取り
出す際には、カートリッジ20の蓋部22が閉じられる
ようになっている。なお、ドライブは、カートリッジ2
0の蓋部22を開閉する開閉機構を備えるものとする必
要がある。このようにドライブ内でカートリッジ20の
蓋部22を開閉するようにすれば、カートリッジ20の
蓋部22を開閉する際に光メモリ素子10に手を触れて
しまうことがないため、光メモリ素子10(特に、入射
端面11)にキズをつけたり、汚れをつけたりすること
がなく、保護効果が高い。
On the other hand, after reproducing the information, when the optical memory device 10 housed in the cartridge 20 is taken out from the drive, the lid portion 22 of the cartridge 20 is closed. The drive is the cartridge 2
It is necessary to provide an opening / closing mechanism for opening / closing the zero lid part 22. By thus opening and closing the lid portion 22 of the cartridge 20 in the drive, the optical memory element 10 is not touched when the lid portion 22 of the cartridge 20 is opened and closed. Since the incident end surface 11) is not scratched or dirty, the protective effect is high.

【0083】なお、ここでは、ドライブ内でカートリッ
ジ20の蓋部22を開閉するようになっているが、これ
に限られるものではなく、ドライブに装着する直前に人
がカートリッジ20の蓋部22を開けて、蓋部22を開
けた状態でカートリッジ20をドライブに装着(挿入)
するようにしても良い。そして、この場合には、ドライ
ブから取り出される時には例えば蓋部22がばね等によ
って自動的に閉じるようにすれば良い。
Although the lid portion 22 of the cartridge 20 is opened and closed in the drive here, the present invention is not limited to this, and a person may open the lid portion 22 of the cartridge 20 immediately before mounting on the drive. With the lid 22 open, attach the cartridge 20 to the drive (insert)
It may be done. In this case, for example, the lid 22 may be automatically closed by a spring or the like when it is taken out from the drive.

【0084】また、ここでは、保護部材を、蓋部22を
備えるカートリッジ20としているが、これに限られる
ものではなく、例えば、以下の〜のように構成する
こともできる。 保護部材を、光メモリ素子10の全体を覆うようなカ
ートリッジ(蓋部を有しないもの)として構成し、その
内部に収納される光メモリ素子10の入射端面11に対
向する面に開口部を形成したものとして構成する。この
場合、カートリッジの端面に形成された開口部を介して
光メモリ素子10の入射端面11へ入射光が導入され、
光メモリ素子10の凹凸部5の情報が再生されることに
なる。
Further, here, the protective member is the cartridge 20 provided with the lid portion 22, but the present invention is not limited to this, and it may be constructed as follows. The protective member is configured as a cartridge (without a lid) that covers the entire optical memory element 10, and an opening is formed on the surface facing the incident end surface 11 of the optical memory element 10 housed inside. Configure as. In this case, incident light is introduced to the incident end surface 11 of the optical memory element 10 through the opening formed in the end surface of the cartridge,
The information on the uneven portion 5 of the optical memory element 10 is reproduced.

【0085】保護部材を、光メモリ素子10の全体を
覆うようなカートリッジ(蓋部を有しないもの)として
構成し、その内部に収納される光メモリ素子10の入射
端面11に対向する面を、入射光を透過しうる材料(入
射光に対して透明な材料)により構成する。この場合、
光メモリ素子10の凹凸部5の情報を再生するための入
射光は、カートリッジの透明材料で構成された面を通じ
て導入され、光メモリ素子10の凹凸部5の情報が再生
されることになる。
The protective member is configured as a cartridge (without a lid) that covers the entire optical memory element 10, and the surface facing the incident end surface 11 of the optical memory element 10 housed inside is protected by the incident light. It is made of a material that is transparent to light (a material that is transparent to incident light). in this case,
Incident light for reproducing information on the concave-convex portion 5 of the optical memory element 10 is introduced through the surface of the cartridge made of the transparent material, and the information on the concave-convex portion 5 of the optical memory element 10 is reproduced.

【0086】本発明においては、再生光の入射端面及び
/又は散乱光の出射面に保護部材を設け、保護部材表面
に帯電防止性層を設けた構成とすれば、キズつきを防止
できるとともに、塵埃の付着を抑えることができ、より
好ましい。例えば、光メモリ素子をカートリッジに収納
し、カートリッジ表面に帯電防止剤溶液を塗布してもよ
いし、カートリッジそのものを帯電防止剤を含む材料で
構成してもよい。
In the present invention, when a protective member is provided on the incident end face of the reproduction light and / or the outgoing face of the scattered light and the antistatic layer is provided on the surface of the protective member, scratches can be prevented and It is more preferable because it can suppress the adhesion of dust. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and the surface of the cartridge may be coated with an antistatic agent solution, or the cartridge itself may be made of a material containing an antistatic agent.

【0087】また、保護部材表面に抗菌性層を設けた構
成とすれば、キズつきを防止できるとともに、カビや菌
の付着、増殖を抑えることができ、より好ましい。例え
ば、光メモリ素子をカートリッジに収納し、カートリッ
ジ表面に抗菌剤溶液を塗布してもよいし、カートリッジ
そのものを抗菌剤を含む材料で構成してもよい。或い
は、保護部材表面に撥水性層を設けた構成とすれば、キ
ズつきを防止できるとともに、汚れを付着しにくくする
ことができ、より好ましい。例えば、光メモリ素子をカ
ートリッジに収納し、カートリッジ表面に撥水剤溶液を
塗布してもよいし、カートリッジそのものを撥水剤を含
む材料で構成してもよい。
Further, it is more preferable that the surface of the protective member is provided with an antibacterial layer because scratches can be prevented and the attachment and growth of mold and bacteria can be suppressed. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and the antibacterial agent solution may be applied to the surface of the cartridge, or the cartridge itself may be made of a material containing an antibacterial agent. Alternatively, a structure in which a water-repellent layer is provided on the surface of the protective member can prevent scratches and prevent dirt from adhering, which is more preferable. For example, the optical memory element may be housed in a cartridge and a water repellent solution may be applied to the surface of the cartridge, or the cartridge itself may be made of a material containing a water repellent.

【0088】保護部材表面への上記層の形成方法や好ま
しい材料等は、光メモリ素子に直接形成する場合と同様
である。
The method of forming the above-mentioned layer on the surface of the protective member, the preferable material and the like are the same as the case of forming directly on the optical memory element.

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明の光メモリ素子によれば、再生光
の入射端面や散乱光の出射面に汚れや埃が付着しないよ
う保護できるので、信号品質の高い再生像が得られると
いう利点がある。また、汚れや埃が付着しにくいので、
ユーザーが光メモリ素子を取扱いやすいという利点があ
る。
According to the optical memory element of the present invention, since it is possible to protect the incident end face of the reproduction light and the emission face of the scattered light from being attached with dirt and dust, there is an advantage that a reproduction image with high signal quality can be obtained. . Also, since dirt and dust are hard to attach,
There is an advantage that the user can easily handle the optical memory device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の1実施形態にかかる光メモリの全体構
成を示す模式図であって、(A)はその斜視図であり、
(B)はその側面図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an overall configuration of an optical memory according to an embodiment of the present invention, FIG.
(B) is a side view thereof.

【図2】本発明の1実施形態にかかる光メモリの蓋部の
開いた状態を示す模式図であって、(A)はその斜視図
であり、(B)はその側面図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an open state of a lid portion of an optical memory according to an embodiment of the present invention, (A) is a perspective view thereof, and (B) is a side view thereof.

【図3】(A)〜(G)は、本発明の1実施形態にかか
る光メモリ素子を構成する積層体の製造方法を説明する
ための模式的断面図である。
FIG. 3A to FIG. 3G are schematic cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a laminated body that constitutes the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の1実施形態にかかる光メモリ素子を構
成する積層体の積層構造の一例を説明するための模式的
断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a laminated structure of a laminated body that constitutes the optical memory element according to the embodiment of the present invention.

【図5】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するため
の模式的斜視図である。
FIG. 5 is a schematic perspective view for explaining the operation principle of a conventional optical memory device.

【図6】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するため
の模式的斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view for explaining the operation principle of a conventional optical memory device.

【図7】(A),(B)はいずれも従来の光メモリ素子
の動作原理を説明するための模式的斜視図である。
7A and 7B are schematic perspective views for explaining the operation principle of a conventional optical memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スタンパ 2 コア層 3 クラッド層 4 樹脂フィルム(支持体) 5 凹凸部 10 光メモリ素子 11 入射端面 20 カートリッジ(保護部材) 21 カートリッジ本体部 22 蓋部 23 ヒンジ 1 stamper 2 core layers 3 Clad layer 4 Resin film (support) 5 uneven parts 10 Optical memory device 11 Incident end face 20 Cartridge (protective member) 21 Cartridge body 22 Lid 23 Hinge

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コア層と、前記コア層の両面に積層され
たクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層
との界面の少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光導
波部材を1個又は複数個有してなり、再生光を前記コア
層に導くための入射端面が形成され、前記入射端面より
入射された再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹凸
部で散乱させ、散乱光をその表面から外部へ出射させて
再生像を得る光メモリ素子であって、 少なくとも前記再生光の入射端面及び/又は前記散乱光
の出射面に、帯電防止性層を設けてなることを特徴とす
る、光メモリ素子。
1. An optical waveguide member comprising a core layer and a clad layer laminated on both surfaces of the core layer, the optical waveguide member having an uneven portion for information on at least one of the interfaces between the core layer and the clad layer. Or, it has a plurality of incident end faces for guiding the reproduction light to the core layer, and guides the reproduction light incident from the incidence end face to the core layer to scatter at the uneven portion for information, and scatter. An optical memory element for emitting light from its surface to the outside to obtain a reproduced image, wherein an antistatic layer is provided on at least the incident end face of the reproduced light and / or the emitted face of the scattered light. Optical memory device.
【請求項2】 前記帯電防止性層が帯電防止剤を含む層
である、請求項1に記載の光メモリ素子。
2. The optical memory element according to claim 1, wherein the antistatic layer is a layer containing an antistatic agent.
【請求項3】 前記帯電防止性層が金属層である、請求
項1に記載の光メモリ素子。
3. The optical memory device according to claim 1, wherein the antistatic layer is a metal layer.
【請求項4】 前記再生光の入射端面及び/又は前記散
乱光の出射面に保護部材を設け、前記保護部材表面に前
記帯電防止性層を設けてなる、請求項1乃至3のいずれ
かに記載の光メモリ素子。
4. The protection member is provided on the incident end surface of the reproduction light and / or the emission surface of the scattered light, and the antistatic layer is provided on the surface of the protection member. The optical memory device described.
【請求項5】 前記保護部材が、前記光メモリ素子を収
納するカートリッジである、請求項4に記載の光メモリ
素子。
5. The optical memory device according to claim 4, wherein the protection member is a cartridge that houses the optical memory device.
【請求項6】 前記コア層及び/又はクラッド層が樹脂
製である、請求項1乃至5のいずれかに記載の光メモリ
素子。
6. The optical memory device according to claim 1, wherein the core layer and / or the clad layer is made of resin.
【請求項7】 コア層と、前記コア層の両面に積層され
たクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層
との界面の少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光導
波部材を1個又は複数個有してなり、再生光を前記コア
層に導くための入射端面が形成され、前記入射端面より
入射された再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹凸
部で散乱させ、散乱光をその表面から外部へ出射させて
再生像を得る光メモリ素子であって、 少なくとも前記再生光の入射端面及び/又は散乱光出射
面に、抗菌性層を設けてなることを特徴とする、光メモ
リ素子。
7. An optical waveguide member comprising a core layer and a clad layer laminated on both surfaces of the core layer, and having at least one interface between the core layer and the clad layer, an optical waveguide member having an uneven portion for information. Or, it has a plurality of incident end faces for guiding the reproduction light to the core layer, and guides the reproduction light incident from the incidence end face to the core layer to scatter at the uneven portion for information, and scatter. An optical memory device for obtaining a reproduced image by emitting light from the surface thereof, wherein an antibacterial layer is provided on at least the incident end surface of the reproduced light and / or the scattered light emitting surface. element.
【請求項8】 前記抗菌性層が抗菌剤を含む層である、
請求項7に記載の光メモリ素子。
8. The antibacterial layer is a layer containing an antibacterial agent,
The optical memory device according to claim 7.
【請求項9】 前記再生光の入射端面及び/又は前記散
乱光の出射面に保護部材を設け、前記保護部材表面に前
記抗菌性層を設けてなる、請求項7又は8に記載の光メ
モリ素子。
9. The optical memory device according to claim 7, wherein a protective member is provided on an incident end face of the reproduction light and / or an outgoing face of the scattered light, and the antibacterial layer is provided on a surface of the protective member. .
【請求項10】 前記保護部材が、前記光メモリ素子を
収納するカートリッジである、請求項9に記載の光メモ
リ素子。
10. The optical memory device according to claim 9, wherein the protection member is a cartridge that houses the optical memory device.
【請求項11】 前記コア層及び/又はクラッド層が樹
脂製である、請求項7乃至9のいずれかに記載の光メモ
リ素子。
11. The optical memory device according to claim 7, wherein the core layer and / or the clad layer is made of resin.
【請求項12】 コア層と、前記コア層の両面に積層さ
れたクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド
層との界面の少なくとも一方に情報用凹凸部を有する光
導波部材を1個又は複数個有してなり、再生光を前記コ
ア層に導くための入射端面が形成され、前記入射端面よ
り入射された再生光を前記コア層に導いて前記情報用凹
凸部で散乱させ、散乱光をその表面から外部へ出射させ
て再生像を得る光メモリ素子であって、 少なくとも前記再生光の入射端面及び/又は散乱光出射
面に、撥水性層を設けてなることを特徴とする、光メモ
リ素子。
12. An optical waveguide member comprising a core layer and a clad layer laminated on both surfaces of the core layer, the optical waveguide member having an unevenness portion for information on at least one of the interfaces between the core layer and the clad layer. Or, it has a plurality of incident end faces for guiding the reproduction light to the core layer, and guides the reproduction light incident from the incidence end face to the core layer to scatter at the uneven portion for information, and scatter. An optical memory device for obtaining a reproduced image by emitting light from its surface to the outside, characterized in that a water-repellent layer is provided on at least the incident end face of the reproduced light and / or the scattered light emitting face. element.
【請求項13】 前記撥水性層が撥水剤を含む層であ
る、請求項12に記載の光メモリ素子。
13. The optical memory element according to claim 12, wherein the water-repellent layer is a layer containing a water-repellent agent.
【請求項14】 前記再生光の入射端面及び/又は前記
散乱光の出射面に保護部材を設け、前記保護部材表面に
前記撥水性層を設けてなる、請求項12又は13に記載
の光メモリ素子。
14. The optical memory device according to claim 12, wherein a protective member is provided on the incident end face of the reproduction light and / or the outgoing face of the scattered light, and the water repellent layer is provided on the protective member surface. .
【請求項15】 前記保護部材が、前記光メモリ素子を
収納するカートリッジである、請求項14に記載の光メ
モリ素子。
15. The optical memory device according to claim 14, wherein the protection member is a cartridge that houses the optical memory device.
【請求項16】 前記コア層及び/又はクラッド層が樹
脂製である、請求項12乃至15のいずれかに記載の光
メモリ素子。
16. The optical memory device according to claim 12, wherein the core layer and / or the clad layer is made of resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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