JP2003114532A - Negative image forming material - Google Patents

Negative image forming material

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JP2003114532A
JP2003114532A JP2001308790A JP2001308790A JP2003114532A JP 2003114532 A JP2003114532 A JP 2003114532A JP 2001308790 A JP2001308790 A JP 2001308790A JP 2001308790 A JP2001308790 A JP 2001308790A JP 2003114532 A JP2003114532 A JP 2003114532A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative image forming material capable of direct recording from digital data of a computer or the like by recording using a solid laser and a semiconductor laser which emit IR and capable of obtaining a planographic printing plate excellent in image forming property and printing resistance. SOLUTION: The negative image forming material is obtained by disposing a silicate film, an intermediate layer comprising an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the silicate film under heat and a photosensitive layer comprising (A) an IR absorbent, (B) a radical generator and (C) a radical polymerizable compound in order on an aluminum support.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査することに
より直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネ
ガ型画像形成材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called direct plate-making negative type image forming material capable of making a plate directly by scanning an infrared laser on the basis of a digital signal from a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic method, a photopolymerization system in which a laser emitting blue or green light is used for exposure, and a silver salt on a photosensitive resin are used. Layered products, silver salt diffusion transfer processes, etc. have been proposed.

【0003】しかしながら、の電子写真法を用いるも
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。
However, in the method using the electrophotographic method, the process of image formation such as charging, exposure and development is complicated, and the apparatus becomes complicated and large-scale. Further, with the photopolymerization system of (1), since a plate material having high sensitivity to blue and green light is used, handling in a bright room becomes difficult. The methods (1) and (2) have drawbacks such that the processing such as development is complicated because a silver salt is used, and silver is contained in the processing waste liquid.

【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have been readily available in high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive recording materials that are practically useful cannot be image-recorded with these infrared lasers because the photosensitive wavelength is in the visible light region of 760 nm or less. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0005】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、US4、708、925号に記載さ
れている、オニウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤
より成る記録材料がある。この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する現像液に対する溶
解抑止効果を利用したポジ型の画像記録材料であり、本
発明のようなネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録
材料としては、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂
及びノボラック樹脂より成る記録材料がUS5,34
0,699号に記載されている。しかしながら、このよ
うなネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレー
ザ露光後に140〜200℃で50〜120秒程度加熱
する加熱処理が必要であり、このため、露光後の加熱処
理に大掛かりな装置とエネルギーとを必要としていた。
例えば、特開平8−108621号公報には、光重合性
組成物を用いたネガ型の画像形成材料が開示され、ここ
では記録層の熱重合を促進させるために、画像露光と同
時に加熱を行う旨の記載がある。露光工程において同時
に加熱を行うことは、加熱により近傍の空気に熱ゆらぎ
を与え、レーザーの焦点をぼかし、画像形成性に影響を
与えたり、熱によりレーザー素子の寿命を短縮させるな
どの問題があり、好ましくない。
As an image recording material capable of recording with such an infrared laser, there is a recording material described in US Pat. No. 4,708,925, which comprises an onium salt, a phenol resin and a spectral sensitizer. This image recording material is a positive type image recording material utilizing the effect of suppressing dissolution in a developing solution which is exhibited by an onium salt and a phenol resin, and is not a negative type image recording material as in the present invention. On the other hand, as a negative image recording material, a recording material composed of an infrared absorber, an acid generator, a resole resin and a novolac resin is US Pat.
0,699. However, such a negative-type image recording material needs a heat treatment of heating at 140 to 200 ° C. for about 50 to 120 seconds after laser exposure for image formation. It required extensive equipment and energy.
For example, JP-A-8-108621 discloses a negative image-forming material using a photopolymerizable composition, in which heating is performed at the same time as image exposure in order to accelerate thermal polymerization of the recording layer. There is a statement to that effect. Simultaneous heating in the exposure process has problems such as heat fluctuations in the nearby air due to heating, defocusing the laser, affecting image forming properties, and shortening the life of the laser element due to heat. , Not preferable.

【0006】また、特公平7−103171号には、特
定の構造を有するシアニン色素、ヨードニム塩及びエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物よ
り成る、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材
料が記載されているが、この画像記録材料は、重合反応
時に空気中の酸素により重合阻害がおこり、感度の低下
や、形成された画像部の強度が不充分であり、耐刷性が
不充分であるという問題があった。
Further, Japanese Patent Publication No. 7-103171 discloses a heat treatment after imagewise exposure comprising a cyanine dye having a specific structure, an iodonium salt and an addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond. Although a recording material that is not required is described, this image recording material has a polymerization sensitivity due to oxygen in the air during the polymerization reaction, resulting in a decrease in sensitivity and insufficient strength of the formed image area. There was a problem that the printability was insufficient.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接記録可能であり、画像形成性及び耐刷性
に優れた平版印刷版を得ることができるネガ型画像形成
材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to record by using a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared rays, so that it is possible to record directly from digital data of a computer or the like, and image forming properties and It is an object of the present invention to provide a negative image-forming material capable of obtaining a lithographic printing plate having excellent printing durability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
形成材料の物性に着目し、鋭意検討の結果、支持体と画
像形成用の感光層との間に、特定の中間層を形成するこ
とで解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
The present inventor has paid attention to the physical properties of a negative image-forming material, and as a result of earnest studies, formed a specific intermediate layer between a support and a photosensitive layer for image formation. The inventors have found that this can be solved, and have completed the present invention.

【0009】本発明は、赤外線レーザで記録可能な、ア
ルミニウム支持体上に、シリケート皮膜、熱によってシ
リケート皮膜上の水酸基と反応を起こし得る官能基を有
するアルミニウム化合物を含む中間層、(A)赤外線吸
収剤、(B)ラジカル発生剤及び(C)ラジカル重合性
化合物を含む感光層を、順次設けてなることを特徴とす
るネガ型画像形成材料に関する。
The present invention is directed to an infrared laser recordable aluminum support, a silicate film, an intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the silicate film by heat, (A) infrared light The present invention relates to a negative image-forming material comprising a photosensitive layer containing an absorber, a radical generator (B) and a radically polymerizable compound (C), which are sequentially provided.

【0010】本発明は、アルミニウム支持体上に、シリ
ケート皮膜、熱によってシリケート皮膜上の水酸基と反
応を起こし得る官能基を有するアルミニウム化合物を含
む中間層、(A)赤外線吸収剤、(B)ラジカル発生剤
及び(C)ラジカル重合性化合物を含む感光層を、順次
設けたネガ型画像形成材料に赤外線レーザーを照射し、
赤外線レーザーの照射部に於いて、ラジカル重合性化合
物を重合させて感光層を硬化させるとともにシリケート
皮膜上の水酸基と中間層のアルミニウム化合物の官能基
とを反応させることを特徴とする画像形成方法に関す
る。
The present invention provides a silicate film on an aluminum support, an intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the silicate film by heat, an infrared absorber (A), and a radical (B). An infrared laser is irradiated to a negative image-forming material that is sequentially provided with a photosensitive layer containing a generator and a radically polymerizable compound (C).
The present invention relates to an image forming method characterized by polymerizing a radical-polymerizable compound to cure a photosensitive layer and reacting a hydroxyl group on a silicate film with a functional group of an aluminum compound in an intermediate layer in a portion irradiated with an infrared laser. .

【0011】本発明に於いては、露光によって発生した
熱でシリケート皮膜上の水酸基とアルミニウム化合物の
官能基とが反応を起こし結合し、シリケート皮膜上が感
光層と密着性の良いアルミニウム化合物と置き換わり、
アルミニウム支持体上に常法により形成された陽極酸化
皮膜やシリケート皮膜と、感光層の密着性、即ち、耐刷
性が向上する。
In the present invention, the heat generated by the exposure causes the hydroxyl groups on the silicate film and the functional groups of the aluminum compound to react with each other and bond with each other, and the aluminum compound on the silicate film is replaced with an aluminum compound having good adhesion to the photosensitive layer. ,
Adhesion between the anodized film or silicate film formed on the aluminum support by a conventional method and the photosensitive layer, that is, printing durability is improved.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のネガ型画像形成材料は、
アルミニウム基板に陽極酸化処理などの公知の表面処理
を行い、シリケート皮膜を形成して親水化した後、熱に
よりSi皮膜上の水酸基と反応を起こし得る官能基を有
するアルミニウム化合物を含む中間層を介して感光層を
形成してなることを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The negative image-forming material of the present invention comprises
After performing a known surface treatment such as anodizing treatment on the aluminum substrate to form a silicate film to make it hydrophilic, through an intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the Si film by heat. And a photosensitive layer is formed.

【0013】[中間層]本発明のネガ型画像形成材料
は、シリケート皮膜を形成して親水化処理を行った支持
体に熱によってシリケート皮膜上の水酸基と反応を起こ
し得る官能基(以下、反応性官能基ともいう)を有する
アルミニウム化合物を含む中間層を形成するものである
が、この中間層の形成は、アルミニウム化合物を原料と
して用いた中間層塗布液を調製し、前記支持体に塗設す
る方法により行われるのが好ましい。
[Intermediate Layer] The negative image-forming material of the present invention comprises a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on a silicate film by heat on a support having a silicate film formed thereon and subjected to a hydrophilic treatment (hereinafter, referred to as a reaction (Also referred to as a functional group) is formed to form an intermediate layer containing an aluminum compound. The formation of this intermediate layer is performed by preparing an intermediate layer coating solution using an aluminum compound as a raw material and coating the same on the support. It is preferable to carry out by the method.

【0014】上記の如くアルミニウム基板上に、陽極酸
化皮膜及びシリケート皮膜を設け、本発明の中間層を形
成してなる支持体上に、後述する感光層を形成すること
で、本発明のネガ型画像形成材料が得られるが、この中
間層に用いられるアルミニウム化合物としては、OH
基、O−R基、O−COR基、ハロゲン基、硝酸基、ス
ルホン酸基、アルコレート基、アルキル酢酸エチル基等
の反応性官能基を有するアルミニウム化合物を挙げるこ
とができ、例えば、水酸化アルミニウム、アルミン酸
塩、フッ化アルミニウム、フルオロアルミニウム酸塩、
塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニ
ウム、硫酸アルミニウム、ミョウバン、硝酸アルミニウ
ム、チオシアン化アルミニウム、硫化アルミニウム、窒
化アルミニウム、アルミニウムメチレート、アルミニウ
ムエチレート、アルミニウムイソプロピレート、モノse
c−ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミ
ニウムsec−ブチレート、エチルアセトアセテートアル
ミニウムジイソプロピレート、アルミニウム-トリス
(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテー
トアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノ
アセチルアセトネート-ビス(エチルアセトアセテー
ト)、アルミニウムートリス(アセチルアセトネート)
等が挙げられる。これらのうち、エチルアセトアセテー
トアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム-ト
リス(エチルアセトアセテート)等の有機アルミニウム化
合物が特に好ましい。尚、上記式中、Rは、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基を表
す。これらは1種単独で用いても良く、2種以上併用し
ても良い。
As described above, the anodic oxide film and the silicate film are provided on the aluminum substrate, and the photosensitive layer described below is formed on the support formed by forming the intermediate layer of the present invention. Although an image forming material is obtained, the aluminum compound used for this intermediate layer is OH.
Group, an OR group, an O-COR group, a halogen group, a nitric acid group, a sulfonic acid group, an alcoholate group, and an aluminum compound having a reactive functional group such as an alkyl ethyl acetate group. Aluminum, aluminate, aluminum fluoride, fluoroaluminate,
Aluminum chloride, aluminum bromide, aluminum iodide, aluminum sulfate, alum, aluminum nitrate, aluminum thiocyanide, aluminum sulfide, aluminum nitride, aluminum methylate, aluminum ethylate, aluminum isopropylate, mono se
c-Butoxy aluminum diisopropylate, aluminum sec-butyrate, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum-tris (ethylacetoacetate), alkylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum monoacetylacetonate-bis (ethylacetoacetate) , Aluminum-tris (acetylacetonate)
Etc. Of these, organic aluminum compounds such as ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate and aluminum-tris (ethylacetoacetate) are particularly preferable. In the above formula, R is a methyl group,
It represents an alkyl group such as an ethyl group, a propyl group and a butyl group. These may be used alone or in combination of two or more.

【0015】このような中間層は、例えば、次のような
方法で設けることが出来る。即ち、水またはメタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤も
しくはそれらの混合溶剤に上記の有機アルミニウム化合
物を溶解させた溶液をシリケート皮膜を設けた基板上に
塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に上記の有機アルミニウム化合物を溶
解させた溶液に、シリケート皮膜を設けた基板を浸漬し
て上記有機アルミニウム化合物を吸着させ、しかる後、
水などによって洗浄、乾燥して中間層を設ける方法であ
る。前者の方法では、上記の有機アルミニウム化合物の
0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗
布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよ
い。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜2
0重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬
温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、
浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分で
ある。
Such an intermediate layer can be provided, for example, by the following method. That is, water or methanol, ethanol, a method in which a solution prepared by dissolving the above organoaluminum compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied on a substrate provided with a silicate film and dried, and water or methanol , Ethanol, a solution prepared by dissolving the above organoaluminum compound in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof, a substrate provided with a silicate film is immersed to adsorb the organoaluminum compound, and then,
This is a method of providing an intermediate layer by washing with water and drying. In the former method, a solution of the organoaluminum compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01-2.
0% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50 ° C,
The immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.

【0016】中間層の膜厚は、5〜100mg/m2
好ましく、10〜50mg/m2がより好ましい。
The film thickness of the intermediate layer is preferably from 5 to 100 mg / m 2, and more preferably 10 to 50 mg / m 2.

【0017】以上のようにして、中間層を設けた支持体
上に、下記に詳述する感光層、さらには、所望により、
表面保護層、バックコート層等の他の任意の層を形成す
ることで、本発明のネガ型画像形成材料を得ることがで
きる。
As described above, on the support provided with the intermediate layer, the photosensitive layer described in detail below, and further, if desired,
The negative image forming material of the present invention can be obtained by forming any other layer such as a surface protective layer and a back coat layer.

【0018】本発明の画像形成材料に設けられる感光層
は、(A)赤外線吸収剤、(B)ラジカル発生剤及び
(C)ラジカル重合性化合物を含み、赤外線レーザで記
録可能であることを特徴とするものである。
The photosensitive layer provided in the image forming material of the present invention contains (A) an infrared absorber, (B) a radical generator and (C) a radical polymerizable compound, and is recordable by an infrared laser. It is what

【0019】[感光層]ここで、このネガ型画像形成材
料の感光層について説明する。このような画像形成材料
では赤外線レーザによる画像様露光により、露光部の
(A)赤外線吸収剤が光熱変換し、発生した熱により
(B)ラジカル発生剤が分解してラジカルが発生し、こ
のラジカルにより(C)ラジカル重合性化合物とを含む
感光層が硬化して画像部を形成し、さらに、前記中間層
と感光層中のラジカル重合性化合物とが強固に結合す
る。その後、後述するアルカリ性現像液により現像する
ことで、硬化していない未露光の感光層及び中間層が除
去され、親水性のシリケート皮膜が露出し、非画像部を
形成するものである。
[Photosensitive Layer] The photosensitive layer of the negative type image forming material will be described below. In such an image-forming material, the infrared absorbent (A) in the exposed portion undergoes photothermal conversion by imagewise exposure with an infrared laser, and the generated heat decomposes the radical generator (B) to generate radicals. As a result, the photosensitive layer containing the radically polymerizable compound (C) is cured to form an image portion, and the intermediate layer and the radically polymerizable compound in the photosensitive layer are firmly bonded. Then, by developing with an alkaline developer described later, the unexposed unexposed photosensitive layer and intermediate layer are removed, the hydrophilic silicate film is exposed, and a non-image area is formed.

【0020】感光層の各構成成分につき、順次説明す
る。 [(A)赤外線吸収剤]本発明の目的は、赤外線を発す
るレーザで画像記録することである。このためには、赤
外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤
は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。
この際発生した熱により、ラジカル発生剤が分解し、ラ
ジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸
収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を
有する染料又は顔料である。
Each constituent component of the photosensitive layer will be described in order. [(A) Infrared absorber] An object of the present invention is to record an image with a laser emitting infrared rays. For this purpose, it is essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared rays into heat.
The heat generated at this time decomposes the radical generator to generate radicals. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm.

【0021】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, published in 1945) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. Is mentioned.

【0022】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes are, for example, JP-A-5
Cyanine dyes described in JP-A No. 8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and JP-A-58-1736.
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in Japanese Patent Application No. 94595, JP-A-Sho 5
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, JP-A-58-1
Squarylium dyes described in No. 12792,
Examples thereof include cyanine dyes described in British Patent 434,875.

【0023】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
Further, the near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
Trimethine thiapyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,327,169, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363 and 59-11363.
-84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-13
The pyrylium compounds disclosed in Nos. 514 and 5-19702 are also preferably used.

【0024】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Another preferred example of the dye is represented by the formula (I) in US Pat. No. 4,756,993:
The near infrared absorbing dye described as (II) can be mentioned.

【0025】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferable are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.

【0026】[0026]

【化1】 [Chemical 1]

【0027】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。
In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Alternatively, it represents X 2 -L 1 . Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and further, R 1 and R 2
It is particularly preferable that and are bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

【0028】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要
ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of preferable substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. As a preferable substituent, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, hydrogen atom is preferable. Z 1− represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not necessary. Preferred Z 1− is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, in view of the storage stability of the photosensitive layer coating solution.
And a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, and an arylsulfonate ion.

【0029】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例([I
R−1]〜[IR−12])を以下に挙げるが、本発明は
これらに制限される物ではない。
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (I) which can be preferably used in the present invention ([I
R-1] to [IR-12]) are listed below, but the present invention is not limited thereto.

【0030】[0030]

【化2】 [Chemical 2]

【0031】[0031]

【化3】 [Chemical 3]

【0032】[0032]

【化4】 [Chemical 4]

【0033】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial pigment and color index (CI) handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
The pigments described in 1. can be used.

【0034】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment, inorganic pigment, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0035】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0036】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Particle size of pigment is 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the coating liquid for the image-sensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image-sensitive layer.

【0037】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, etc. can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1
986).

【0038】これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよいが、ネガ型画像形成材料を作成した際に、感光層
の波長760nm〜1200nmの範囲における吸収極
大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが好
ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾向
がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と感光層
の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者
の条件を制御することにより得られる。感光層の光学濃
度は常法により測定することができる。測定方法として
は、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の
塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定
された厚みの感光層を形成し、透過型の光学濃度計で測
定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に感光
層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbing agents may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided, but when the negative image forming material is prepared, The optical density at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the photosensitive layer is preferably 0.1 to 3.0. If it is out of this range, the sensitivity tends to be low. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorber added and the thickness of the photosensitive layer, the predetermined optical density can be obtained by controlling the conditions of both. The optical density of the photosensitive layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, a transparent or white support, a coating amount after drying to form a photosensitive layer having a thickness appropriately determined in the range necessary for a lithographic printing plate, with a transmission type optical densitometer Examples thereof include a measuring method and a method of forming a photosensitive layer on a reflective support such as aluminum and measuring the reflection density.

【0039】[(B)ラジカル発生剤]本発明において
用いられるラジカル発生剤は、(A)赤外線吸収剤と組
み合わせて用い、赤外線レーザを照射した際にラジカル
を発生する化合物を指す。ラジカル発生剤としては、オ
ニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合
物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノ
ンジアジドなどが挙げられるが、オニウム塩が高感度で
あり、好ましい。本発明においてラジカル発生剤として
好適に用い得るオニウム塩について説明する。好ましい
オニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム
塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、こ
れらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の
開始剤として機能する。本発明において好適に用いられ
るオニウム塩は、下記一般式(III)〜(V)で表され
るオニウム塩である。
[(B) Radical Generating Agent] The radical generating agent used in the present invention is a compound used in combination with (A) an infrared absorbing agent to generate a radical when irradiated with an infrared laser. Examples of the radical generator include an onium salt, a triazine compound having a trihalomethyl group, a peroxide, an azo-based polymerization initiator, an azide compound, and a quinonediazide, and an onium salt is preferable because of its high sensitivity. The onium salt that can be preferably used as the radical generator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as an acid generator but as an initiator of radical polymerization. The onium salt preferably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (III) to (V).

【0040】[0040]

【化5】 [Chemical 5]

【0041】式(III)中、Ar11とAr12は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
In the formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. When the aryl group has a substituent, preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an alkyl group having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 11 − represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and preferably a perchlorate ion and a hexafluorophosphate ion. An ion and an aryl sulfonate ion.

【0042】式(IV)中、Ar21は、置換基を有して
いても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭
素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以
下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオ
キシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭
素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数
12個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12
個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z 21-はZ
11-と同義の対イオンを表す。
In the formula (IV), Artwenty oneHas a substituent
It represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may be present.
Preferred substituents are halogen atom, nitro group, carbon
Alkyl group with 12 or less elementary atoms, 12 or less carbon atoms
The lower alkoxy group, arylo having 12 or less carbon atoms
Xy group, alkylamino group having 12 or less carbon atoms, charcoal
Dialkylamino group having 12 or less elementary atoms, number of carbon atoms
12 or less arylamino groups or 12 carbon atoms
Up to and including 4 diarylamino groups. Z twenty one-Is Z
11-Represents a counter ion having the same meaning as.

【0043】式(V)中、R31、R32及びR33は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

【0044】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特開2001−133969号公報の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of the onium salt which can be suitably used as the radical generator include:
Paragraph number [003 of JP 2001-133969 A
[0] to [0033] may be mentioned.

【0045】以下、本発明で使用されるラジカル発生剤
の好ましい具体例を挙げるが、本発明がこれに限定され
るものではない。
Preferred specific examples of the radical generator used in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.

【0046】[0046]

【化6】 [Chemical 6]

【0047】[0047]

【化7】 [Chemical 7]

【0048】[0048]

【化8】 [Chemical 8]

【0049】[0049]

【化9】 [Chemical 9]

【0050】本発明において用いられるラジカル発生剤
は、極大吸収波長が400nm以下であることが好まし
く、さらに360nm以下であることが好ましい。この
ように吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像形
成材料の取り扱いを白灯下で実施することができる。
The maximum absorption wavelength of the radical generator used in the present invention is preferably 400 nm or less, more preferably 360 nm or less. By thus setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image forming material can be handled under a white light.

【0051】これらのラジカル発生剤は、感光層塗布液
の全固形分に対し0.1〜50重量%、好ましくは0.
5〜30重量%、特に好ましくは1〜20重量%の割合
で感光層塗布液中に添加することができる。添加量が
0.1重量%未満であると感度が低くなり、また50重
量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これ
らのラジカル発生剤は、1種のみを用いても良いし、2
種以上を併用しても良い。また、これらのラジカル発生
剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を
設けそこへ添加してもよい。
These radical generators are contained in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution.
It can be added to the photosensitive layer coating liquid in an amount of 5 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight. If the amount added is less than 0.1% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by weight, non-image areas will be stained during printing. These radical generators may be used alone, or 2
You may use together more than one kind. Further, these radical generators may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided separately.

【0052】[(C)ラジカル重合性化合物]本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
[(C) Radical Polymerizable Compound] The radical polymerizable compound used in the present invention is a radical polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated bond. At least 1
, Preferably two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and these compounds can be used in the invention without particular limitation. These have a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. Examples of the monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and their esters and amides. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric amine compound are used. Further, unsaturated carboxylic acid esters having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group and a mercapto group, monofunctional or polyfunctional isocyanates with amides, addition reaction products with epoxies, monofunctional or polyfunctional, or A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, and halogens. A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which unsaturated phosphonic acid, styrene or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.

【0053】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特開2001−
133969号公報の段落番号[0037]〜[004
2]に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。
Specific examples of radically polymerizable compounds which are esters of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid, such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester and maleic acid ester. An example is JP-A-2001-
Paragraph Nos. [0037] to [004 of Japanese Patent No. 133969
2], and these can also be applied to the present invention.

【0054】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。
Examples of other esters include, for example, Japanese Patent Publication No. 46-27926, Japanese Patent Publication No. 51-473334, aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149, and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

【0055】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriamine tris acrylamide, xylylene bis acrylamide, and xylylene bis methacrylamide.

【0056】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Examples of other preferable amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0057】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(VI)で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性
ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。
Further, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, Japanese Examined Patent Publication No.
In a molecule obtained by adding a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula (VI) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-A-8-41708, Examples thereof include vinyl urethane compounds containing one or more polymerizable vinyl groups.

【0058】一般式(VI) CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH (ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示
す。)
General formula (VI) CH 2 = C (R 41 ) COOCH 2 CH (R 42 ) OH (wherein R 41 and R 42 represent H or CH 3 ).

【0059】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-
49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62
The urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0060】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Further, radically polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule, which are described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238, may be used. good.

【0061】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。
Another example is JP-A-48-641.
No. 83, Japanese Patent Publication No. 49-43191, Japanese Patent Publication No. 52-30
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in Japanese Patent No. 490 and each publication can be given. Also,
JP-B-46-43946, JP-B1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
The vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be used. In some cases, the structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Japan Adhesive Association magazine vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
Those introduced as photocurable monomers and oligomers in 4 years) can also be used.

【0062】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以
上のものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
無い場合がある。また、感光層中の他の成分(例えばバ
インダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分
散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は
重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2
種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうるこ
とがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性
を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり
得る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配合比に
関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場
合には、好ましく無い相分離が生じたり、画像記録層の
粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層成分の
転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出
が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジ
カル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組
成物全成分に対して5〜80重量%、好ましくは20〜
75重量%である。また、これらは単独で用いても2種
以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物
の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、か
ぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構
造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっ
ては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し
うる。
Regarding these radically polymerizable compounds,
The details of the method of use, such as what kind of structure is used, whether it is used alone or in combination, and how much is added, can be arbitrarily set according to the performance design of the final recording material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large content of unsaturated groups per molecule is preferable, and in many cases, bifunctional or more is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, a compound having a trifunctional or higher functionality is preferable, and further, a compound having different functional numbers and different polymerizable groups (for example, an acrylic ester compound, a methacrylic ester compound Compounds, styrenic compounds, etc.) are used in combination to control both photosensitivity and strength. Large molecular weight compounds and highly hydrophobic compounds have excellent sensitivity and film strength, but
It may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developing solution. In addition, compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, a binder polymer, an initiator, a colorant, etc.) are important factors in selecting and using the radical polymerization compound. Use of low purity compounds, 2
The compatibility may be improved by the combined use of one or more compounds. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesiveness of the support, the overcoat layer and the like. Regarding the blending ratio of the radical-polymerizable compound in the image recording layer, the larger the amount, the more advantageous in terms of sensitivity. However, if the amount is too large, undesired phase separation may occur or the adhesiveness of the image recording layer may affect the production process. May occur (for example, transfer of recording layer components, manufacturing failure due to adhesion), or precipitation from a developing solution. From these viewpoints, the preferable compounding ratio of the radically polymerizable compound is often 5 to 80% by weight, preferably 20 to 20% by weight based on the total components of the composition.
It is 75% by weight. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the radically polymerizable compound, the degree of inhibition of polymerization with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc., an appropriate structure, formulation, and addition amount can be arbitrarily selected. Depending on the case, a layer constitution / coating method such as undercoating or topcoating can be carried out.

【0063】[バインダーポリマー]本発明において
は、さらにバインダーポリマーを使用することが好まし
い。バインダーとしては線状有機ポリマーを用いること
が好ましい。このような「線状有機ポリマー」として
は、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像ある
いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水あるいは
弱アルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマ
ーが選択される。線状有機ポリマーは、感光層を形成す
るための皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ
水あるいは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使
用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水
現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとして
は、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例え
ば特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−2595
7号、特開昭54−92723号、特開昭59−538
36号、特開昭59−71048号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セ
ルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体
に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[Binder Polymer] In the present invention, it is preferable to further use a binder polymer. It is preferable to use a linear organic polymer as the binder. Any of these "linear organic polymers" may be used. A linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is preferably selected to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent for forming a photosensitive layer but also as a developer such as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, water development becomes possible by using a water-soluble organic polymer. As such a linear organic polymer, a radical polymer having a carboxylic acid group in its side chain, for example, JP-A-59-44615 and JP-B-54-34327.
No. 58-12577 / 54-2595
7, JP-A-54-92723, and JP-A-59-538.
36, JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partial Examples include esterified maleic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in its side chain. In addition to these, it is useful to add a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group.

【0064】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。
Among these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in its side chain is particularly preferable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability.

【0065】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
Further, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-2004
-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. 1-271741,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in Japanese Patent Application No. 10-116232 and the like is extremely excellent in strength and is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.

【0066】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。
In addition to these, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. Further, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. are also useful for increasing the strength of the cured film.

【0067】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは5000以上であり、さらに
好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは1000以上であり、さらに好まし
くは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, further preferably Is in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10.

【0068】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
These polymers are random polymers,
It may be either a block polymer or a graft polymer, but a random polymer is preferable.

【0069】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。本発明で
使用されるポリマーを合成する際に用いられるラジカル
重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等
公知の化合物が使用できる。
The polymer used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. As the solvent used in the synthesis, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-
Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate,
Dimethyl sulfoxide, water, etc. may be mentioned. These solvents may be used alone or in admixture of two or more. As the radical polymerization initiator used when synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0070】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、感光層塗布液の全固形分に対し20〜95重量%、
好ましくは30〜90重量%の割合で感光層中に添加さ
れる。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重量%
を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状
有機ポリマーは、重量比で1/9〜7/3の範囲とする
のが好ましい。
The binder polymers used in the present invention may be used alone or as a mixture. These polymers are 20 to 95% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer coating solution,
It is preferably added to the photosensitive layer in a proportion of 30 to 90% by weight. When the addition amount is less than 20% by weight, the strength of the image area is insufficient when an image is formed. The addition amount is 95% by weight.
If it exceeds, the image is not formed. The weight ratio of the compound having a radical-polymerizable ethylenically unsaturated double bond and the linear organic polymer is preferably 1/9 to 7/3.

【0071】[感光層のその他の成分]本発明では、さ
らに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加して
もよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。具体的には、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505
(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュ
アブルー、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、エチル
バイオレット、ローダミンB(CI145170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)等、及び特開昭62−29324
7号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。
[Other Components of Photosensitive Layer] In the present invention, various compounds other than these may be added, if necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for images. In particular,
Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black B
Y, Oil Black BS, Oil Black T-505
(All manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B),
Malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), etc., and JP-A-62-29324.
The dyes described in No. 7 can be mentioned. Further, pigments such as phthalocyanine-based pigments, azo-based pigments, carbon black and titanium oxide can also be preferably used.

【0072】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、感光層塗布液全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these coloring agents because it is easy to distinguish the image area from the non-image area after the image formation. The addition amount is based on the total solid content of the photosensitive layer coating liquid.
The proportion is 0.01 to 10% by weight.

【0073】また、本発明においては、感光層塗布液の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を
阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望
ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、
p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾ
ール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フ
ェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
1重量%〜約10重量%が好ましい。
Further, in the present invention, a small amount of thermal polymerization is prevented in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated double bond during preparation or storage of the photosensitive layer coating solution. It is desirable to add agents. Hydroquinone as a suitable thermal polymerization inhibitor,
p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4 -Methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by weight to about 5% by weight based on the weight of the entire composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process after coating. . The amount of higher fatty acid derivative added is about 0.
1 wt% to about 10 wt% is preferred.

【0074】また、本発明における感光層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
In the photosensitive layer coating solution of the present invention, in order to broaden the stability of processing under developing conditions, nonionic materials such as those described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used. Surfactants, JP 59
Amphoteric surfactants such as those described in JP-A-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

【0075】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride and polyoxyethylene nonylphenyl ether.

【0076】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感光
層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N. , N-betaine type (for example,
Examples of the brand name include Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd. The proportion of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the photosensitive layer coating liquid is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0077】さらに、本発明に係る感光層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。
Further, a plasticizer is added to the coating solution for the photosensitive layer according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

【0078】本発明に係る画像形成材料を製造するに
は、通常、感光層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶
かして、適当な支持体上に塗布し、その後、所望により
後述するオーバーコート層塗布液を塗布すればよい。感
光層塗布液に使用する溶媒としては、エチレンジクロラ
イド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるがこれに限定されるものではない。これらの溶
媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。
In order to produce the image-forming material according to the present invention, the above-mentioned components necessary for the photosensitive layer coating solution are usually dissolved in a solvent and coated on a suitable support, and then, if desired, an overcoat which will be described later. The coating liquid for the coat layer may be applied. As the solvent used for the photosensitive layer coating liquid, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2.
-Propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N,
N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-
Examples thereof include methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, toluene and water, but are not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1-5.
It is 0% by weight.

【0079】また塗布、乾燥後に得られる感光層塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、画像形成材料に
ついていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好まし
い。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録の機能を果たす感光層の皮膜特性は低
下する。
The coating amount (solid content) of the photosensitive layer obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 for the image forming material. Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive layer that functions as an image recording deteriorate.

【0080】本発明に係る感光層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−17
0950号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全感光層
の材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。
The photosensitive layer coating solution according to the present invention contains a surfactant for improving the coating property, such as JP-A-62-17.
Fluorine-based surfactants such as those described in No. 0950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the solid content of the material of the entire photosensitive layer.

【0081】[支持体]本発明の画像記録材料は好適な
支持体上に塗布して観光層を形成することで、平版印刷
版原版として使用しうる。本発明の画像記録材料を塗布
可能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であるア
ルミニウム板が挙げられる。
[Support] The image recording material of the present invention can be used as a lithographic printing plate precursor by coating it on a suitable support to form a tourist layer. Examples of the support to which the image recording material of the present invention can be applied include an aluminum plate which is a dimensionally stable plate.

【0082】本発明の画像記録材料を平版印刷版として
使用する場合、支持体としては軽量で表面処理性、加工
性、耐食性に優れたアルミニウム板を使用することが好
ましい。この目的に供されるアルミニウム材質として
は、JIS 1050材、JIS 1100材、JIS
1070材、Al−Mg系合金、Al−Mn系合金、
Al−Mn−Mg系合金、Al−Zr系合金。Al−M
g−Si系合金などが使用される。
When the image recording material of the present invention is used as a lithographic printing plate, it is preferable to use an aluminum plate which is lightweight and has excellent surface processability, processability and corrosion resistance as the support. Aluminum materials used for this purpose include JIS 1050 materials, JIS 1100 materials, and JIS materials.
1070 material, Al-Mg alloy, Al-Mn alloy,
Al-Mn-Mg based alloys, Al-Zr based alloys. Al-M
A g-Si alloy or the like is used.

【0083】支持体に使用しうるアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 (1) JIS 1050材に関しては、下記の技術が開
示されている。特開昭59−153861号、特開昭6
1−51395、特開昭62−146694、特開昭6
0−215725、特開昭60−215726、特開昭
60−215727、特開昭60−215728、特開
昭61−272357、特開昭58−11759、特開
昭58−42493、特開昭58−221254、特開
昭62−148295、特開平4−254545、特開
平4−165041、特公平3−68939、特開平3
−234594、特公平1−47545、特開昭62−
140894号公報など。また、特公平1−3591
0、特公昭55−28874等も知られている。
The publicly known techniques regarding aluminum materials that can be used for the support are listed below. (1) Regarding JIS 1050 material, the following technologies are disclosed. JP-A-59-153861, JP-A-6-
1-51395, JP-A-62-146694, JP-A-6-
0-215725, JP-A-60-215726, JP-A-60-215727, JP-A-60-215728, JP-A-61-272357, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58-42493. -212254, JP-A-62-148295, JP-A-4-254545, JP-A-4-165041, JP-B-3-68939, JP-A-3.
-234594, Japanese Patent Publication No. 1-447545, Japanese Patent Laid-Open No. 62-
140894, etc. In addition, Japanese Patent Publication No. 1-3591
No. 0, Japanese Patent Publication No. 55-28874 and the like are also known.

【0084】(2) JIS 1070材に関しては、下
記の技術が開示されている。特開平7−81264、特
開平7−305133、特開平8−49034、特開平
8−73974、特開平8−108659、特開平8−
92679号など。
(2) Regarding JIS 1070 material, the following techniques are disclosed. JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108659, JP-A-8-
92679, etc.

【0085】(3) Al−Mg系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特公昭62−5080、特公
昭63−60823、特公平3−61753、特開昭6
0−203496、特開昭60−203497、特公平
3−11635、特開昭61−274993、特開昭6
2−23794、特開昭63−47347、特開昭63
−47348、特開昭63−47349、特開昭64−
61293、特開昭63−135294、特開昭63−
87288、特公平4−73392、特公平7−100
844、特開昭62−149856、特公平4−733
94、特開昭62−181191、特公平5−7653
0、特開昭63−30294、特公平6−37116号
など。また、特開平2−215599、特開昭61−2
01747等も知られている。
(3) Regarding Al-Mg type alloys, the following techniques have been disclosed. Japanese Patent Publication No. 62-5080, Japanese Patent Publication No. 63-60823, Japanese Patent Publication No. 3-61753, and Japanese Unexamined Patent Publication No.
0-203496, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635, JP-A-61-274993, JP-A-6-63.
2-23794, JP-A-63-47347, JP-A-63.
-47348, JP-A-63-47349, JP-A-64-
61293, JP-A-63-135294, JP-A-63-135294
87288, Japanese Patent Publication 4-73392, Japanese Patent Publication 7-100
844, JP-A-62-149856, JP-B-4-733.
94, JP-A-62-181191, JP-B-5-7653.
0, JP-A-63-30294, JP-B-6-37116 and the like. Further, JP-A-2-215599 and JP-A-61-2
01747 and the like are also known.

【0086】(4) Al−Mn系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。特開昭60−230951、
特開平1−306288、特開平2−293189号な
ど。また、特公昭54−42284、特公平4−192
90、特公平4−19291、特公平4−19292、
特開昭61−35995、特開昭64−51992、U
S5009722、US5028276、特開平4−2
26394等も知られている。
(4) Regarding Al-Mn alloys, the following techniques have been disclosed. Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-230951,
JP-A-1-306288, JP-A-2-293189 and the like. In addition, Japanese Examined Patent Publication No. 54-42284, Japanese Examined Patent Publication No. 4-192
90, Japanese Patent Publication No. 4-19291, Japanese Patent Publication No. 4-19292,
JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, U
S5009722, US5028276, Japanese Patent Laid-Open No. 4-2
26394 and the like are also known.

【0087】(5) Al−Mn−Mg系合金に関して
は、下記の技術が開示されている。特開昭62−861
43、特開平3−222796。また、特公昭63−6
0824。特開昭60−63346、特開昭60−63
347、EP223737、特開平1−283350、
US4818300、BR1222777等が知られて
いる。
(5) Regarding Al-Mn-Mg based alloys, the following techniques have been disclosed. JP-A-62-861
43, JP-A-3-222796. In addition, Japanese Examined Japanese Patent Publication Sho 63-6
0824. JP-A-60-63346, JP-A-60-63
347, EP223737, JP-A-1-283350,
US4818300, BR1222777, etc. are known.

【0088】(6) Al−Zr系合金に関して、下記の
技術が知られている。特公昭63−15978、特開昭
61−51395。また、特開昭63−143234、
特開昭63−143235等も知られている。
(6) The following techniques are known for Al-Zr alloys. JP-B-63-15978 and JP-A-61-51395. Further, JP-A-63-143234,
JP-A-63-143235 is also known.

【0089】(7) Al−Mg−Si系合金に関して
は、BR1421710等が知られている。
(7) Regarding the Al-Mg-Si type alloy, BR1421710 and the like are known.

【0090】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Arガス、Clガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ、等のいわゆるリジッドメディアフィルター
や、アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とする
フィルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィル
タリング。あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合
わせた処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中
の、非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯に
とけ込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されるこ
とが望ましい。
The following contents can be used as the method for producing the aluminum plate for the support. The aluminum alloy melt having the above-mentioned content components and alloy component ratios is subjected to a cleaning treatment according to a conventional method and cast. For the cleaning process,
In order to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing treatment using Ar gas, Cl gas, etc., so-called rigid media filters such as ceramic tube filters, ceramic foam filters, etc., and alumina flakes Filtering using a filter that uses alumina, alumina balls, etc., or a glass cloth filter. Alternatively, a process that combines degassing and filtering is performed. It is desirable that these cleaning treatments be carried out in order to prevent defects due to foreign substances such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal and defects due to the gas melted into the molten metal.

【0091】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
6−57342、特開平3−162530、特開平5−
140659、特開平4−231425、特開平4−2
76031、特開平5−311261、特開平6−13
6466等が知られている。
Regarding the filtering of the molten metal, JP-A-6-57342, JP-A-3-162530, and JP-A-5-34253.
140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-4-2
76031, JP-A-5-311261, JP-A-6-13
6466 and the like are known.

【0092】溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51
659、特開平5−51660、実開平5−4914
8、特開平7−40017などが知られている。
Regarding the degassing of the molten metal, JP-A-5-51
659, Japanese Patent Laid-Open No. 5-51660, and Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-4914
8, JP-A-7-40017 and the like are known.

【0093】以上のように、清浄化処理を施された溶湯
を使って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造
法に代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法
に代表される、駆動鋳型を用いる方法がある。DC鋳造
法を用いた場合、冷却速度は、1〜300℃/秒の範囲
で凝固される。1℃/秒未満であると、粗大な金属間化
合物が多数形成される。
As described above, casting is performed using the molten metal that has been subjected to the cleaning treatment. Regarding the casting method, there are a method using a fixed mold represented by a DC casting method and a method using a driving mold represented by a continuous casting method. When the DC casting method is used, the cooling rate is solidified in the range of 1 to 300 ° C / sec. If it is less than 1 ° C./sec, many coarse intermetallic compounds are formed.

【0094】連続鋳造法には、ハンター法、3C法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、100〜1000℃/
秒の範囲で凝固される。一般的に、DC鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴が有る。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平3−7
9798、特開平5−201166、特開平5−156
414、特開平6−262203、特開平6−1229
49、特開平6−210406、特開平6−26230
8等が開示されている。
As the continuous casting method, a method using a cooling roll, represented by the Hunter method and the 3C method, a Hazley method, a method using a cooling belt represented by the Alsui caster II type, and a cooling block are industrial. Is done in a regular manner. The cooling rate when the continuous casting method is used is 100 to 1000 ° C /
It solidifies in the range of seconds. In general, the cooling rate is higher than that of the DC casting method, so that the solid solubility of the alloy component with respect to the aluminum matrix is high. Regarding the continuous casting method, the inventors of the present invention disclosed in JP-A-3-7
9798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156
414, JP-A-6-262203, and JP-A-6-1229.
49, JP-A-6-210406, JP-A-6-26230.
8 etc. are disclosed.

【0095】DC鋳造を行った場合、板厚300〜80
0mmの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の1〜30mm。望ましくは、1〜
10mmを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理を行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、450〜620℃で1
時間以上、48時間以下の熱処理が施される。1時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、350〜500
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280℃〜6
00℃で2〜20時間。望ましくは、350〜500℃
で2〜10時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて4
00〜600℃で360秒以下、望ましくは、450〜
550℃で120秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、10℃/秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。
When DC casting is performed, the plate thickness is 300-80.
A 0 mm ingot can be manufactured. The ingot, according to the usual method,
The surface is chamfered and the surface is 1 to 30 mm. Desirably 1 to
10 mm is cut. After that, soaking treatment is performed if necessary. When carrying out soaking treatment, it should be done at 450-620 ° C. for 1 hour so that the intermetallic compound does not become coarse.
The heat treatment is performed for not less than 48 hours and not more than 48 hours. If it is shorter than 1 hour, the effect of soaking treatment becomes insufficient. Then, hot rolling and cold rolling are performed to obtain an aluminum rolled plate. The starting temperature of hot rolling is 350 to 500
It shall be in the range of ° C. Intermediate annealing treatment may be performed before, after, or during the cold rolling. The intermediate annealing condition in this case is 280 ° C. to 6 using a batch type annealing furnace.
2 to 20 hours at 00 ° C. Desirably 350 ~ 500 ℃
By heating for 2 to 10 hours or using a continuous annealing furnace.
360 seconds or less at 00 to 600 ° C., preferably 450 to
Heat treatment at 550 ° C. for 120 seconds or less can be adopted. The crystal structure can be made finer by heating at a temperature rising rate of 10 ° C./sec or more using a continuous annealing furnace.

【0096】以上の工程によって、所定の厚さ0.1〜
0.5mmに仕上げられたAl板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。
Through the above steps, a predetermined thickness of 0.1 to
In order to improve the flatness of the Al plate finished to 0.5 mm, the flatness may be improved by a straightening device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the plate is cut into a sheet shape, but in order to improve the productivity, it is desirable to improve the flatness in a continuous coil state. Further, in order to process the plate width to a predetermined width, a slitter line is usually passed. The end surface of the plate cut by the slitter has a shear surface and / or a fracture surface when cut by the slitter blade.

【0097】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±10μm以内、望ましくは±6μm以内が良い。
また、幅方向の板厚差は6μm以内、望ましくは3μm
以内がよい。また、板幅の精度は、±1.0mm以内、
望ましくは±0.5mm以内が望ましい。Al板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ(Ra)で、Ra=0.1〜
1.0μm程度に仕上げるのがよい。Raが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感光層塗布をし
たとき、Alのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感光層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ra=0.1μm以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。
The accuracy of the plate thickness is within ± 10 μm, preferably within ± 6 μm over the entire length of the coil.
Also, the thickness difference in the width direction is within 6 μm, preferably 3 μm.
Within is good. Moreover, the accuracy of the plate width is within ± 1.0 mm,
Desirably, within ± 0.5 mm. The surface roughness of the Al plate is easily affected by the surface roughness of the rolling roll,
Finally, the centerline surface roughness (Ra) is Ra = 0.1.
It is good to finish to about 1.0 μm. If Ra is too large, the original roughness of Al, that is, the rough rolling marks transferred by the rolling rolls can be seen from the top of the photosensitive layer when the surface is roughened for a lithographic printing plate and the photosensitive layer is applied. , Is not preferable in appearance. The roughness of Ra = 0.1 μm or less is industrially undesirable because it is necessary to finish the surface of the rolling roll to an excessively low roughness.

【0098】また、Al板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Al板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は3mg/m2以上で100mg/m2以下、望
ましい上限は50mg/m2以下、更に望ましくは10
mg/m2以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平6
−210308等が開示されている。
A thin oil film may be provided on the surface of the Al plate in order to prevent the occurrence of scratches due to friction between the Al plates. If necessary, the oil film may be volatile or
A non-volatile material is appropriately used. If there is too much oil,
Slip failure occurs in the production line, but if there is no oil, scratches will occur during coil transportation. Therefore, the oil amount is 3 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, and the desirable upper limit is 50 mg / m 2. m 2 or less, more preferably 10
mg / m 2 or less is good. Regarding cold rolling, Japanese Unexamined Patent Publication No.
-210308 and the like are disclosed.

【0099】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚1〜10mmの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て0.1〜0.5mmの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平6−2205
93、特開平6−210308、特開平7−5411
1、特開平8−92709等が開示されている。
When continuous casting is performed, for example, when a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a plate thickness of 1 to 10 mm can be directly continuously cast and rolled, and a merit that a hot rolling step can be omitted can be obtained. Further, if a cooling roll such as the Hazley method is used, a cast plate having a plate thickness of 10 to 50 mm can be cast,
Generally, a continuous casting and rolling plate having a plate thickness of 1 to 10 mm is obtained by placing a hot rolling roll immediately after casting and continuously rolling. These continuously cast rolled plates are finished to a plate thickness of 0.1 to 0.5 mm through the steps of cold rolling, intermediate annealing, flatness improvement, slitting, etc. as described in the case of DC casting. To be Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition in the case of using the continuous casting method, see JP-A-6-2205.
93, JP-A-6-210308, JP-A-7-5411
1, JP-A-8-92709 and the like are disclosed.

【0100】上記方法で製造したアルミニウム板は表面
に粗面化処理等の表面処理を行い、感光層を塗布して平
版印刷板とすることが出来る。粗面化処理には、機械的
粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組
み合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保
するための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すため
の処理を行うことも好ましい。
The aluminum plate produced by the above method may be subjected to surface treatment such as surface roughening treatment and coated with a photosensitive layer to prepare a lithographic printing plate. The surface roughening treatment includes mechanical surface roughening, chemical surface roughening, and electrochemical surface roughening, either alone or in combination. In addition, it is also preferable to perform anodizing treatment for ensuring the scratch resistance of the surface and treatment for increasing the hydrophilicity.

【0101】以下に支持体として用いるアルミニウム板
の表面処理を説明する。アルミニウム板を粗面化するに
先立ち、必要に応じ、表面の圧延油を除去するための例
えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液など
による脱脂処理が行われてもよい。アルカリの場合、次
いで酸性溶液で中和、スマット除去などの処理を行って
もよい。
The surface treatment of the aluminum plate used as the support will be described below. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment for removing rolling oil on the surface may be performed with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. In the case of alkali, a treatment such as neutralization and smut removal with an acidic solution may be performed next.

【0102】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材/水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第896,563号公報、特開昭5
3−67507号公報、特開昭54−146234号公
報及び特公昭48−28123号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭53−1232
04号公報、特開昭54−63902号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭56−55261号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment is carried out to roughen the surface of the support. Specific means of this graining method include sand blasting, ball grain, wire grain, nylon brush and brush grain with abrasive / water slurry,
There is a mechanical graining method such as honing grain which sprays abrasive / water slurry onto the surface at high pressure, and there is also a chemical graining method where the surface is roughened with an etching agent consisting of alkali or acid or a mixture thereof. . Also, British Patent No. 896,563 and JP-A-5
3-67507, JP-A-54-146234 and JP-B-48-28123, or an electrochemical graining method, or JP-A-53-1232.
No. 04, JP-A-54-63902, a method combining a mechanical graining method and an electrochemical graining method, and a mechanical method described in JP-A-56-55261. It is also known to combine a graining method and a chemical graining method with a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid. Further, to the support material, a method of adhering a granular material with an adhesive or a method having its effect to roughen the surface, or a continuous band or roll having fine unevenness is pressure-bonded to the support material to form unevenness. A rough surface may be formed by transferring.

【0103】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ
水溶液の具体例としては、例えば弗酸、弗化ジルコン
酸、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化ナ
トリウム、珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、などのア
ルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカリ
水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用す
ることができる。化学的処理はこれらの酸またはアルカ
リの0.05〜40重量%水溶液を用い、40℃〜10
0℃の液温において5〜300秒処理するのが一般的で
ある。
A plurality of such surface-roughening methods may be used in combination, and the order, the number of repetitions, etc. can be arbitrarily selected. When a plurality of surface-roughening treatments are combined, chemical treatment with an acid or alkali aqueous solution can be performed during that time so that the subsequent surface-roughening treatment can be performed uniformly. Specific examples of the acid or alkali aqueous solution include acids such as hydrofluoric acid, fluorozirconic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, and alkaline aqueous solutions such as sodium hydroxide, sodium silicate and sodium carbonate. . These acid or alkali aqueous solutions may be used alone or in combination of two or more. The chemical treatment is carried out using a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis at 40 ° C to 10
Generally, the treatment is performed at a liquid temperature of 0 ° C. for 5 to 300 seconds.

【0104】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭4
8−28123号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭53−12739号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。
Since smut is formed on the surface of the support obtained by the above-mentioned roughening treatment, that is, graining treatment, appropriate treatment such as washing with water or alkali etching is carried out to remove the smut. It is generally preferred to do As such a process, for example, Japanese Patent Publication No.
Treatment methods such as the alkali etching method described in JP-A-8-28123 and the sulfuric acid desmutting method described in JP-A-53-12739 are mentioned.

【0105】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。
In the case of the aluminum support used in the present invention, after the above-mentioned pretreatment, the support is usually anodized in order to improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention. An oxide film is formed on.

【0106】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好まし
くは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮
膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film. Generally, sulfuric acid,
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte. The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because it varies depending on the electrolyte used, but generally the concentration of the electrolyte is 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., the current density is 5 to 60 A / dm 2. , Voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. If the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , printing durability is insufficient, or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and ink adheres to the scratched portion during printing. "Scratch dirt"
Is likely to occur.

【0107】陽極酸化処理された支持体は、水洗処理さ
れたあと、現像液への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感光層
成分の残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮膜
の親水性向上、感光層との密着性向上等を目的に、以下
のような処理を行うことができる。
The anodized support, after being washed with water, suppresses the dissolution of the anodized film in the developer, suppresses the residual film of the photosensitive layer components, improves the anodized film strength, and improves the hydrophilicity of the anodized film. For the purpose of improving the adhesion with the photosensitive layer, the following treatments can be performed.

【0108】[シリケート皮膜]ここで、前記陽極酸化
処理が施された後に施される親水化処理について説明す
る。本発明における親水化処理はシリケート皮膜の形成
であり、シリケート皮膜はSi元素量として2〜40m
g/m2、より好ましくは4〜30mg/m2形成され
る。塗布量はケイ光X線分析法により測定でき、Si元
素量を測定することができる。上記の親水化処理は、例
えば米国特許第2,714,066号、第3,181,
461号、第3,280,734号および第3,90
2,734号に開示されているようなアルカリ金属シリ
ケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法を適用する
ことができる。この方法に従い、アルカリ金属ケイ酸塩
が1〜30重量%、好ましくは2〜15重量%であり、
25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮
膜が形成されたアルミニウム基板を、例えば15〜80
℃で0.5〜120秒間浸漬し、続いて水洗、乾燥させ
シリケート処理基板が得られる。
[Silicate Film] Here, the hydrophilic treatment performed after the anodizing treatment will be described. The hydrophilic treatment in the present invention is formation of a silicate film, and the silicate film has an Si element amount of 2 to 40 m.
g / m 2 , more preferably 4 to 30 mg / m 2 . The coating amount can be measured by a fluorescent X-ray analysis method, and the amount of Si element can be measured. The above hydrophilic treatment is performed, for example, in U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181.
No. 461, No. 3,280,734 and No. 3,90
The alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in No. 2,734 can be applied. According to this method, the alkali metal silicate is 1 to 30% by weight, preferably 2 to 15% by weight,
An aluminum substrate on which an anodized film is formed is added to an aqueous solution having a pH of 10 to 13 at 25 ° C., for example, 15 to 80
The substrate is immersed at 0.5 ° C. for 0.5 to 120 seconds, washed with water and dried to obtain a silicate-treated substrate.

【0109】本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム
などが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを
高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。
なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IV
B族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩
酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性
の塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は
2以上組み合わせて使用することができる。これらの金
属塩の好ましい範囲は0.01〜10重量%であり、更
に好ましい範囲は0.05〜5.0重量%である。
As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. The hydroxides used to raise the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.
In addition, alkaline earth metal salt or IV
You may mix | blend a B group metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Can be mentioned. Examples of Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride oxide, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like. You can The alkaline earth metal salt or Group IVB metal salt may be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight.

【0110】このような親水化処理を行った支持体と反
応を起こし得る官能基を有するアルミニウム化合物を含
む中間層を形成するものである。具体的には、反応性官
能基とは露光時の熱によって基板表面の金属、金属酸化
物、水酸化物、−OH基、又は基板の化成処理によって
形成されたシラノール基などと結合し得る基を指し、O
H基、O−R基、O−COR基、ハロゲン基、硝酸基、
スルホン酸基、アルコレート基、及びアルキル酢酸エチ
ル基等を表す。
An intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with the support thus hydrophilized is formed. Specifically, the reactive functional group is a group capable of binding to a metal, a metal oxide, a hydroxide, an -OH group on the surface of the substrate by the heat at the time of exposure, or a silanol group formed by the chemical conversion treatment of the substrate. Refers to O
H group, OR group, O-COR group, halogen group, nitric acid group,
It represents a sulfonic acid group, an alcoholate group, an alkyl ethyl acetate group or the like.

【0111】支持体表面に以上のような処理が施された
後、支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設
けられる。かかるバックコートとしては特開平5−45
885号公報記載の有機高分子化合物および特開平6−
35174号記載の有機または無機金属化合物を加水分
解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆
層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Si
(OCH34 、Si(OC254、Si(OC37
4、Si(OC494などの珪素のアルコキシ化合物が
安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆
層が耐現像液に優れており特に好ましい。
After the surface of the support is subjected to the above-mentioned treatments, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, JP-A-5-45
Organic polymer compounds described in JP-A-885 and JP-A-6-
A coating layer made of a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic or inorganic metal compound described in 35174 is preferably used. Of these coating layers, Si
(OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 )
Silicon alkoxy compounds such as 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 are inexpensive and easily available, and a metal oxide coating layer obtained from them is excellent in developing solution resistance, and is particularly preferable.

【0112】支持体として好ましい特性としては、中心
線平均粗さで0.10〜1.2μmである。0.10μ
mより低いと感光層と密着性が低下し、著しい耐刷の低
下を生じてしまう。1.2μmより大きい場合、印刷時
の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持体の色濃度とし
ては、反射濃度値として0.15〜0.65であり、
0.15より白い場合、画像露光時のハレーションが強
すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、0.65より黒
い場合、現像後の検版作業において画像が見難くく、著
しく検版性が悪いものとなってしまう。
A preferable characteristic for the support is a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. 0.10μ
When it is less than m, the adhesion to the photosensitive layer is lowered and the printing durability is remarkably reduced. If it is larger than 1.2 μm, the stain resistance during printing will deteriorate. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.65 as the reflection density value,
When it is whiter than 0.15, halation during image exposure is too strong, which hinders image formation. When it is blacker than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection after development, and the plate inspection property is remarkably poor. It becomes a thing.

【0113】本発明のネガ型画像形成材料は、必要に応
じて支持体上にオーバーコート層を設けることができ
る。
In the negative image-forming material of the present invention, an overcoat layer can be provided on the support, if desired.

【0114】本発明のネガ型画像形成材料は、赤外線レ
ーザで記録できる。また、紫外線ランプやサーマルヘッ
ドによる熱的な記録も可能である。本発明においては、
波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固
体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが
好ましい。レーザの出力は100mW以上が好ましく、
露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイス
を用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時
間は20μ秒以内であることが好ましい。記録材料に照
射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2である
ことが好ましい。
The negative image-forming material of the present invention can be recorded with an infrared laser. Also, thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is possible. In the present invention,
Image exposure is preferably performed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. The laser output is preferably 100 mW or more,
To reduce the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 .

【0115】本発明の画像形成材料においては、照射さ
れた赤外線レーザー等のエネルギーが(A)赤外線吸収
剤によって熱に変換され、(B)ラジカル発生剤がその
熱によりラジカルを発生する。このラジカルの働きによ
り(C)ラジカル重合性化合物と、バインダーポリマー
とが、重合、硬化反応を促進することにより画像記録、
即ち製版が行われるものである。また、本発明の画像形
成材料においては、照射された赤外線レーザー等のエネ
ルギーが(A)赤外線吸収剤によって熱に変換され、そ
の熱によってシリケート皮膜上の水酸基と中間層中に含
まれるアルミニウム化合物の反応性官能基とが反応を起
こし結合し、感光層の密着性、即ち平版印刷版の耐刷性
が向上する。
In the image forming material of the present invention, the energy of the irradiated infrared laser or the like is converted into heat by the infrared absorbent (A), and the radical generator (B) generates radicals by the heat. By the action of the radicals, the radically polymerizable compound (C) and the binder polymer accelerate the polymerization and curing reaction, thereby recording an image,
That is, plate making is performed. Further, in the image-forming material of the present invention, the energy of the irradiated infrared laser or the like is converted into heat by the infrared absorbent (A), and the heat of the hydroxyl group on the silicate film and the aluminum compound contained in the intermediate layer The reactive functional groups react with each other and bond to each other, thereby improving the adhesion of the photosensitive layer, that is, the printing durability of the planographic printing plate.

【0116】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
ネガ型画像形成材料は、好ましくは、水又はアルカリ性
水溶液にて現像される。
After being exposed by an infrared laser, the negative image-forming material of the present invention is preferably developed with water or an alkaline aqueous solution.

【0117】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像形成材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わ
せて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as the developing solution, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developing solution and the replenishing solution of the image forming material of the present invention. For example,
Sodium silicate, potassium, sodium triphosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogencarbonate, potassium, ammonium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium hydroxide, ammonium borate, potassium borate and lithium borate. Also, monomethylamine, dimethylamine,
Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, etc. Organic alkaline agents are also used. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0118】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ
強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによ
って、長時間現像タンク中の現像液を交換することな
く、多量の平版印刷用版材を処理できることが知られて
いる。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用さ
れる。
Further, in the case of developing using an automatic processor, the same developer as the developer or an aqueous solution (replenisher) having a higher alkalinity than the developer is added to the developer, so that the developer is stored in the developer tank for a long time. It is known that a large amount of planographic printing plate material can be processed without replacing the developing solution. Also in the present invention, this replenishment system is preferably applied.

【0119】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。
Various surfactants, organic solvents and the like can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the development residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. . Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Benzyl alcohol etc. are mentioned as a preferable organic solvent. It is also preferable to add polyethylene glycol or its derivative, or polypropylene glycol or its derivative. Further, non-reducing sugars such as arabite, sorbit, mannitol and the like can be added.

【0120】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
Further, in the developing solution and the replenishing solution, if necessary, an inorganic salt reducing agent such as hydroquinone, resorcin, sodium salt and potassium salt of sulfurous acid or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent and hard water are further added. A softening agent can also be added.

【0121】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55ー155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
A developing solution containing such a surfactant, an organic solvent and a reducing agent is described in, for example, JP-A-51-51.
No. 77401, benzyl alcohol,
A developer composition consisting of an anionic surfactant, an alkaline agent and water, consisting of an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant and a water-soluble sulfite described in JP-A-53-44202. Developer composition,
Examples thereof include a developer composition containing an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkaline agent, and water, which are described in JP-A-55-155355, and are also suitable for the present invention. Used for.

【0122】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含
有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感
脂化液で後処理される。本発明の画像形成材料を印刷用
版材として使用する場合の後処理としては、これらの処
理を種々組み合わせて用いることができる。
The lithographic printing plate developed using the above-described developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinse solution containing a surfactant, a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. To be done. As the post-treatment when the image forming material of the present invention is used as a printing plate material, various combinations of these treatments can be used.

【0123】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making / printing industry in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate material, each processing liquid tank, and a spray device. Each of the processing liquids pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate material is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a treatment liquid tank filled with the treatment liquid for treatment. In such automatic processing,
It is possible to carry out the processing while supplementing the replenishing solution to each processing solution according to the processing amount, operating time and the like. Also, the electric conductivity can be detected by a sensor and automatically replenished. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.

【0124】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum if desired, but when a lithographic printing plate having higher printing durability is desired, Is subjected to a burning process.

【0125】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
When the lithographic printing plate is burned, before the burning, JP-B-61-2518 and 55-280.
62, JP-A-62-31859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a leveling solution as described in JP-A-55.

【0126】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
As a method for this, a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution may be applied onto the planographic printing plate, or
A method in which the printing plate is dipped in a vat filled with a surface-adjusting solution to be applied, or an application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results. The amount of the surface conditioning solution applied is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is suitable.

【0127】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary and then burned with a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature with a burning processor: BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and the heating time in this case depend on the kinds of components forming the image, but are within the range of 180 to 300 ° C.
The range of up to 20 minutes is preferred.

【0128】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。
The lithographic printing plate subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0129】[0129]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0130】実施例1〜4 [支持体]99.5%以上のアルミニウムと、Fe
0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、Cu
0.013%を含むJIS A1050合金の溶湯を清
浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の
水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、
セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法
はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊
を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化して
しまわないように550℃で10時間均質化処理を行っ
た。 次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で
500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板
圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロー
ルの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平
均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面
性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
Examples 1 to 4 [Support] 99.5% or more of aluminum and Fe
0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, Cu
A molten JIS A1050 alloy containing 0.013% was subjected to a cleaning treatment and cast. The cleaning process is a degassing process to remove unnecessary gases such as hydrogen in the melt.
Ceramic tube filter treatment was performed. The casting method was a DC casting method. The solidified ingot having a plate thickness of 500 mm was chamfered by 10 mm from the surface, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so as not to coarsen the intermetallic compound. Then, after hot rolling at 400 ° C., intermediate annealing at 500 ° C. for 60 seconds in a continuous annealing furnace, cold rolling was performed to obtain an aluminum rolled plate having a plate pressure of 0.30 mm. The center line average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm by controlling the roughness of the rolling roll. Then, a tension leveler was applied to improve the flatness.

【0131】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
Next, a surface treatment was carried out to obtain a lithographic printing plate support. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, degreasing treatment was performed with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, neutralization with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and smut removal treatment.

【0132】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%
の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30%%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、
スマット除去処理を行った。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment for roughening the surface of the support was performed. 1%
45 nitric acid and an aqueous solution containing 0.5% aluminum nitrate
While maintaining the temperature at ℃, while flowing the aluminum web in the aqueous solution, the anode side electricity quantity of 240 C / dm with an alternating waveform with a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect power supply cell.
Electrolytic graining was performed by giving 2 . Then 10%
Etching is performed with a sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C for 30 seconds, and neutralization is performed with a 30 %% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C for 30 seconds.
Smut removal processing was performed.

【0133】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
Further, in order to improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. Anodized film of 2.5 g / m 2 is obtained by using a 20% aqueous solution of sulfuric acid as an electrolyte at 35 ° C. and carrying out an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power supply cell while carrying the aluminum web through the electrolyte. It was created.

【0134】[シリケート皮膜]この後印刷版非画像部
としての親水性を確保するため、シリケート処理を行っ
た。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保
ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、
さらに水洗し、100℃で、60秒間乾燥させた。Si
の付着量は10mg/m2であった。以上により作成し
た支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであ
った。
[Silicate Film] Thereafter, a silicate treatment was carried out in order to secure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. The treatment was carried out by keeping a 1.5% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at 70 ° C so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds,
Further, it was washed with water and dried at 100 ° C. for 60 seconds. Si
Was 10 mg / m 2 . Ra (center line surface roughness) of the support prepared as described above was 0.25 μm.

【0135】[中間層]次に、このアルミニウム支持体
に下記中間層形成液(以後「下塗り液」と呼ぶ)をワイヤ
ーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で3
0秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は20mg/m2であ
った。
[Intermediate layer] Next, the following intermediate layer forming liquid (hereinafter referred to as "undercoating liquid") was applied to this aluminum support with a wire bar, and the aluminum support was dried at 90 ° C for 3 hours at 90 ° C.
It was dried for 0 seconds. The coating amount after drying was 20 mg / m 2 .

【0136】 <下塗り液A> ・AL化合物(表1に記載のアルミニウム化合物) 0.3g ・メタノール 100g[0136]   <Undercoat liquid A>   -AL compound (aluminum compound described in Table 1) 0.3 g   ・ Methanol 100g

【0137】[0137]

【表1】 [Table 1]

【0138】[感光層]次に、下記溶液[P]を調整
し、この溶液を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に
ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて11
5℃で45秒間乾燥してネガ型平版印刷用原版[P−
1]〜[P−4]を得た。乾燥後の被覆量は1.3g/m
2であった。
[Photosensitive layer] Next, the following solution [P] was prepared, and this solution was applied to the above-mentioned undercoated aluminum plate using a wire bar, and was applied with a warm air dryer 11
Dry for 45 seconds at 5 ° C. and dry negative lithographic printing plate [P-
1] to [P-4] were obtained. Coating amount after drying is 1.3 g / m
Was 2 .

【0139】 <感光層形成液[P]> ・赤外線吸収剤[IR−1] 0.10g ・表2に記載のラジカル発生剤 0.30g ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.00g ・アリルメタクリレートとメタクリル酸の モル比80:20の共重合体 (重量平均分子量12万) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g[0139]   <Photosensitive layer forming liquid [P]>   ・ Infrared absorber [IR-1] 0.10 g   ・ 0.30 g of the radical generator described in Table 2   ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 1.00 g   ・ Of allyl methacrylate and methacrylic acid     Copolymer with a molar ratio of 80:20     (Weight average molecular weight 120,000) 1.00 g   ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g   ・ Fluorosurfactant 0.01g   (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   ・ Methyl ethyl ketone 9.0 g   ・ Methanol 10.0g   ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g

【0140】[0140]

【表2】 [Table 2]

【0141】比較例1〜4 実施例1における下塗り層形成液Aを下記下塗り層形成
液Bに代えた外は、実施例1と同様にネガ型平版印刷版
用原版[P−5]〜[P−8]を作製し、実施例1と同様
の評価を行った。尚、下塗り層の乾燥後の被覆量は20
mg/m2であった。
Comparative Examples 1 to 4 In the same manner as in Example 1 except that the undercoat layer forming liquid A in Example 1 was replaced with the following undercoat layer forming liquid B, the negative type lithographic printing plate precursors [P-5] to [P-5] to [P-5]. P-8] was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The coating amount of the undercoat layer after drying was 20.
It was mg / m 2 .

【0142】 <下塗り液B> ・表3に記載の化合物 0.3g ・メタノール 100g[0142]   <Undercoat liquid B>   -0.3 g of the compounds listed in Table 3   ・ Methanol 100g

【0143】[0143]

【表3】 [Table 3]

【0144】[露光]得られたネガ型平版印刷用原版
[P−1]〜[P−4]、及び[P−5]〜[P―8]を水冷
式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製T
rendsetter3244VFSにて、出力9W、
外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100
mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光し
た。
[Exposure] The obtained negative type planographic printing plates [P-1] to [P-4] and [P-5] to [P-8] were Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. Company T
Output of 9W with the redsetter 3244VFS,
External drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100
Exposure was performed under the conditions of mJ / cm 2 and resolution of 2400 dpi.

【0145】[現像処理]露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム(株)製DN−3Cの1:2水希釈液を用い、未露
光部を除去してネガ画像を得た。この平版印刷版をハイ
デル社製印刷機SOR―KZに取り付け、印刷した。
[Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The developing solution used was a diluting solution of DN-3C 1: 2 in water from Fuji Photo Film Co., Ltd. for both the charging solution and the replenishing solution, and the unexposed area was removed to obtain a negative image. This lithographic printing plate was attached to a printing machine SOR-KZ manufactured by Heidel and printed.

【0146】[耐刷性の評価]前記ハイデルSOR―K
Z機を使用して、印刷した時に、どれだけの枚数が正常
に印刷できるかを評価した。この印刷枚数が大きいほ
ど、耐刷性が良好であることを示す。この結果を表4に
示す。
[Evaluation of Printing Durability] The Heidel SOR-K
The Z machine was used to evaluate how many sheets can be printed normally when printed. The larger the number of printed sheets, the better the printing durability. The results are shown in Table 4.

【0147】[0147]

【表4】 [Table 4]

【0148】表4の結果から、実施例1〜4の化合物を
含む中間層を持つネガ型平版印刷版用原版を用いると、
いずれも良好な印刷物が10万枚以上得られ、耐刷性に
優れていることがわかる。一方、比較例1及び2の印刷
原板は、約1万枚未満で画像部が劣化し、良好な印刷物
が得られなかった。また、比較例3及び4は地汚れ発生
してしまい良好な印刷物は得られなかった。
From the results shown in Table 4, using a negative lithographic printing plate precursor having an intermediate layer containing the compounds of Examples 1 to 4,
It can be seen that 100,000 or more good prints were obtained in each case and that the printing durability was excellent. On the other hand, in the printing base plates of Comparative Examples 1 and 2, the image area deteriorated after about 10,000 sheets, and good printed matter could not be obtained. Further, in Comparative Examples 3 and 4, a background stain was generated and a good printed matter was not obtained.

【0149】[0149]

【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で
あり、更に、汚れ性能及び耐刷性能が良好なネガ型平版
印刷版用原版を提供することができる。
According to the present invention, by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared rays,
It is possible to provide a negative type lithographic printing plate precursor which can be directly plate-formed from digital data of a computer or the like and has excellent stain performance and printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC42 CA00 CB13 CB14 CC11 DA18 DA35 DA36 FA17 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA04 GA08 2H114 AA04 AA14 AA23 AA24 AA28 BA02 BA10 DA04 DA05 DA14 DA41 EA01 EA03 EA08 GA01 GA34    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H025 AA04 AA12 AB03 AC08 AD01                       BC13 BC42 CA00 CB13 CB14                       CC11 DA18 DA35 DA36 FA17                 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA04                       GA08                 2H114 AA04 AA14 AA23 AA24 AA28                       BA02 BA10 DA04 DA05 DA14                       DA41 EA01 EA03 EA08 GA01                       GA34

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム支持体上に、シリケート皮
膜、熱によってシリケート皮膜上の水酸基と反応を起こ
し得る官能基を有するアルミニウム化合物を含む中間
層、(A)赤外線吸収剤、(B)ラジカル発生剤及び
(C)ラジカル重合性化合物を含む感光層を、順次設け
てなることを特徴とするネガ型画像形成材料。
1. A silicate film on an aluminum support, an intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the silicate film by heat, an infrared absorber (A), and a radical generator (B). And (C) a photosensitive layer containing a radically polymerizable compound, which is sequentially provided, and a negative type image forming material.
【請求項2】 アルミニウム支持体上に、シリケート皮
膜、熱によってシリケート皮膜上の水酸基と反応を起こ
し得る官能基を有するアルミニウム化合物を含む中間
層、(A)赤外線吸収剤、(B)ラジカル発生剤及び
(C)ラジカル重合性化合物を含む感光層を、順次設け
たネガ型画像形成材料に赤外線レーザーを照射し、赤外
線レーザーの照射部に於いて、ラジカル重合性化合物を
重合させて感光層を硬化させるとともにシリケート皮膜
上の水酸基と中間層のアルミニウム化合物の官能基とを
反応させることを特徴とする画像形成方法。
2. A silicate film on an aluminum support, an intermediate layer containing an aluminum compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group on the silicate film by heat, an infrared absorber (A), and a radical generator (B). And (C) a photosensitive layer containing a radically polymerizable compound is sequentially irradiated with an infrared laser on a negative image-forming material, and the radically polymerizable compound is polymerized in the irradiation portion of the infrared laser to cure the photosensitive layer. An image forming method characterized by reacting the hydroxyl groups on the silicate film with the functional groups of the aluminum compound in the intermediate layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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