JP2003112053A - 活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性ラジカル種発生方法 - Google Patents
活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性ラジカル種発生方法Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光触媒として有用で、かつ工業的に容易に入
手できる新規な活性ラジカル種発生剤、及びこのものを
用いて活性ラジカル種を発生させる方法を提供する。 【解決手段】 アルミニウム陽極酸化皮膜からなる活性
ラジカル種発生剤であって、アルミニウム陽極酸化皮膜
に、水の存在下で光照射することにより活性ラジカル種
を発生させる。
手できる新規な活性ラジカル種発生剤、及びこのものを
用いて活性ラジカル種を発生させる方法を提供する。 【解決手段】 アルミニウム陽極酸化皮膜からなる活性
ラジカル種発生剤であって、アルミニウム陽極酸化皮膜
に、水の存在下で光照射することにより活性ラジカル種
を発生させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光触媒として有用
な、新規な活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性
ラジカル種を発生させる方法に関するものである。
な、新規な活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性
ラジカル種を発生させる方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】二酸化チタンなどの半導体を光電極とす
ることにより、水が水素と酸素に光分解される、いわゆ
る本多−藤島効果［「工業化学雑誌」，第７２巻，第１
０８〜１１３ページ（１９６９年）］が見出されて以
来、光触媒の開発や実用化研究が盛んに行われるように
なってきた。
ることにより、水が水素と酸素に光分解される、いわゆ
る本多−藤島効果［「工業化学雑誌」，第７２巻，第１
０８〜１１３ページ（１９６９年）］が見出されて以
来、光触媒の開発や実用化研究が盛んに行われるように
なってきた。
【０００３】この光触媒は、例えば二酸化チタンなどの
光触媒活性物質を、そのバンドギャップ以上のエネルギ
ーの光で励起すると、伝導帯に電子（ｅ）が生じ、かつ
価電子帯に正孔（ｈ+）が生じ、このエネルギーに富ん
だ電子−正孔対を利用するものである。
光触媒活性物質を、そのバンドギャップ以上のエネルギ
ーの光で励起すると、伝導帯に電子（ｅ）が生じ、かつ
価電子帯に正孔（ｈ+）が生じ、このエネルギーに富ん
だ電子−正孔対を利用するものである。
【０００４】光触媒活性物質が光励起されると、上記の
ように電子−正孔対が生成し、生成した電子は表面酸素
を還元してスーパーオキシドアニオンラジカル（・
Ｏ2 -）を生成させると共に、正孔は表面吸着水の水酸基
を酸化してヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成させ、
これらの反応性の活性ラジカル種によって、共存する分
子を酸化又は還元し、高効率で分解することが知られて
いる。
ように電子−正孔対が生成し、生成した電子は表面酸素
を還元してスーパーオキシドアニオンラジカル（・
Ｏ2 -）を生成させると共に、正孔は表面吸着水の水酸基
を酸化してヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成させ、
これらの反応性の活性ラジカル種によって、共存する分
子を酸化又は還元し、高効率で分解することが知られて
いる。
【０００５】このような光触媒の機能を応用して、例え
ば脱臭、防汚、抗菌、殺菌、さらには廃水中や廃ガス中
の環境汚染上の問題となっている各種物質の分解・除去
などが検討されている。
ば脱臭、防汚、抗菌、殺菌、さらには廃水中や廃ガス中
の環境汚染上の問題となっている各種物質の分解・除去
などが検討されている。
【０００６】光触媒活性物質としては、これまで種々の
化合物、例えば二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングス
テン、チタン酸バリウム（ＢａＴｉ4Ｏ9）、チタン酸ス
トロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、チタン酸ナトリウム
（Ｎａ2Ｔｉ6Ｏ13）、二酸化ジルコニウム、α‐Ｆｅ2
Ｏ3、硫化カドミウム、硫化亜鉛などが知られている。
これらの中で、二酸化チタン、特にアナターゼ型二酸化
チタンは実用的な光触媒として有用である。この二酸化
チタンは、太陽光などの日常光に含まれる紫外線領域の
特定波長の光を吸収することによって優れた光触媒活性
を示す。
化合物、例えば二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングス
テン、チタン酸バリウム（ＢａＴｉ4Ｏ9）、チタン酸ス
トロンチウム（ＳｒＴｉＯ3）、チタン酸ナトリウム
（Ｎａ2Ｔｉ6Ｏ13）、二酸化ジルコニウム、α‐Ｆｅ2
Ｏ3、硫化カドミウム、硫化亜鉛などが知られている。
これらの中で、二酸化チタン、特にアナターゼ型二酸化
チタンは実用的な光触媒として有用である。この二酸化
チタンは、太陽光などの日常光に含まれる紫外線領域の
特定波長の光を吸収することによって優れた光触媒活性
を示す。
【０００７】上述のように、光照射により励起され、ス
ーパーオキシドアニオンラジカルやヒドロキシラジカル
のような活性ラジカル種を生成する物質は、二酸化チタ
ンなどと同様に光触媒としての機能を有することが予想
され、現在、光照射により活性ラジカル種を生成する工
業的に容易に入手しうる新規な光触媒活性物質の開発研
究が盛んに行われている。
ーパーオキシドアニオンラジカルやヒドロキシラジカル
のような活性ラジカル種を生成する物質は、二酸化チタ
ンなどと同様に光触媒としての機能を有することが予想
され、現在、光照射により活性ラジカル種を生成する工
業的に容易に入手しうる新規な光触媒活性物質の開発研
究が盛んに行われている。
【０００８】一方、アルミニウムを陽極酸化処理するこ
とにより、その表面に形成されたアルミニウム陽極酸化
皮膜は、特異な幾何学構造、すなわち構造の中心に細孔
を有するシリンダー状のセルが六方配列したハニカム状
構造を有している。そして、この細孔にニッケルやスズ
などの金属を電気的に析出させて着色する電解着色法が
開発され、現在アルミ電解コンデンサや様々なデバイス
の出発材料として利用されている。
とにより、その表面に形成されたアルミニウム陽極酸化
皮膜は、特異な幾何学構造、すなわち構造の中心に細孔
を有するシリンダー状のセルが六方配列したハニカム状
構造を有している。そして、この細孔にニッケルやスズ
などの金属を電気的に析出させて着色する電解着色法が
開発され、現在アルミ電解コンデンサや様々なデバイス
の出発材料として利用されている。
【０００９】Ａｌ2Ｏ3はバンドギャップが１０ｅＶの絶
縁体であるが、前記アルミニウム陽極酸化皮膜は、アル
ミニウムを過剰に含む電子過剰型のｎ型半導体と考えら
れており、また光電気効果などが観察されることから、
光触媒活性物質としての可能性があると期待できる。
縁体であるが、前記アルミニウム陽極酸化皮膜は、アル
ミニウムを過剰に含む電子過剰型のｎ型半導体と考えら
れており、また光電気効果などが観察されることから、
光触媒活性物質としての可能性があると期待できる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光触媒とし
て有用で、かつ工業的に容易に入手できる新規な活性ラ
ジカル種発生剤、及びこのものを用いて活性ラジカル種
を発生させる方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
て有用で、かつ工業的に容易に入手できる新規な活性ラ
ジカル種発生剤、及びこのものを用いて活性ラジカル種
を発生させる方法を提供することを目的としてなされた
ものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、光触媒と
して有用な新規な活性ラジカル種発生剤を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、アルミニウム陽極酸化皮膜に、水
の存在下で光照射すれば、スーパーオキシドアニオンラ
ジカルやヒドロキシラジカルが生成することを見出し、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
して有用な新規な活性ラジカル種発生剤を開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、アルミニウム陽極酸化皮膜に、水
の存在下で光照射すれば、スーパーオキシドアニオンラ
ジカルやヒドロキシラジカルが生成することを見出し、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１２】すなわち、本発明は、アルミニウム陽極酸
化皮膜からなる活性ラジカル種発生剤、及びアルミニウ
ム陽極酸化皮膜に、水の存在下で光照射することを特徴
とする活性ラジカル種発生方法を提供するものである。
化皮膜からなる活性ラジカル種発生剤、及びアルミニウ
ム陽極酸化皮膜に、水の存在下で光照射することを特徴
とする活性ラジカル種発生方法を提供するものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の活性ラジカル種発生剤
は、アルミニウム陽極酸化皮膜からなるものであり、こ
のアルミニウム陽極酸化皮膜は、アルミニウム材料を陽
極酸化処理することにより形成することができる。
は、アルミニウム陽極酸化皮膜からなるものであり、こ
のアルミニウム陽極酸化皮膜は、アルミニウム材料を陽
極酸化処理することにより形成することができる。
【００１４】前記陽極酸化処理に用いられるアルミニウ
ム材料としては、１０００系の純アルミニウムが好まし
い。この１０００系の純アルミニウムには、純度９９．
９９％より高い高純度アルミニウムや、１％までの不純
物と少量の添加元素を含む工業用純アルミニウムなどが
あるが、そのいずれでもよい。
ム材料としては、１０００系の純アルミニウムが好まし
い。この１０００系の純アルミニウムには、純度９９．
９９％より高い高純度アルミニウムや、１％までの不純
物と少量の添加元素を含む工業用純アルミニウムなどが
あるが、そのいずれでもよい。
【００１５】このアルミニウム材料の陽極酸化処理方法
としては、従来のアルミニウム材料の陽極酸化処理にお
いて慣用されている公知の方法の中から適宜選んで用い
ることができ、特に制限はない。例えば、アルミニウム
材料の表面を脱脂洗浄処理後、エッチング処理し、これ
を陽極として、またチタン、アルミニウム、グラファイ
トなどを陰極として、硫酸、シュウ酸、スルファミン酸
などの酸性電解液中で直流通電することにより行うこと
ができる。この陽極酸化処理を効果的に行うには、酸性
電解液として、好ましくは１３０〜２５０ｇ／リット
ル、より好ましくは１６０〜２２０ｇ／リットル濃度の
硫酸水溶液を用い、浴温度５〜４０℃程度、好ましくは
１０〜２５℃、電流密度７０〜２００Ａ／ｍ2程度、好
ましくは８０〜１５０Ａ／ｍ2、電解時間１０〜９０分
間程度、好ましくは２０〜６０分間の条件で直流通電す
る。このようにして形成された陽極酸化皮膜の厚さとし
ては、特に制限はないが、通常５〜５０μｍ程度であ
る。
としては、従来のアルミニウム材料の陽極酸化処理にお
いて慣用されている公知の方法の中から適宜選んで用い
ることができ、特に制限はない。例えば、アルミニウム
材料の表面を脱脂洗浄処理後、エッチング処理し、これ
を陽極として、またチタン、アルミニウム、グラファイ
トなどを陰極として、硫酸、シュウ酸、スルファミン酸
などの酸性電解液中で直流通電することにより行うこと
ができる。この陽極酸化処理を効果的に行うには、酸性
電解液として、好ましくは１３０〜２５０ｇ／リット
ル、より好ましくは１６０〜２２０ｇ／リットル濃度の
硫酸水溶液を用い、浴温度５〜４０℃程度、好ましくは
１０〜２５℃、電流密度７０〜２００Ａ／ｍ2程度、好
ましくは８０〜１５０Ａ／ｍ2、電解時間１０〜９０分
間程度、好ましくは２０〜６０分間の条件で直流通電す
る。このようにして形成された陽極酸化皮膜の厚さとし
ては、特に制限はないが、通常５〜５０μｍ程度であ
る。
【００１６】本発明に従い、活性ラジカル種を発生させ
るには、前記のアルミニウム陽極酸化皮膜に、水の存在
下で光照射する。照射する光として紫外線領域の波長の
光が好ましい。また水として、空気中の水分を用いるこ
ともできるし、水中で光照射を行ってもよい。発生する
活性ラジカル種は、スーパーオキシドアニオンラジカル
又はヒドロキシラジカルあるいはその両方である。
るには、前記のアルミニウム陽極酸化皮膜に、水の存在
下で光照射する。照射する光として紫外線領域の波長の
光が好ましい。また水として、空気中の水分を用いるこ
ともできるし、水中で光照射を行ってもよい。発生する
活性ラジカル種は、スーパーオキシドアニオンラジカル
又はヒドロキシラジカルあるいはその両方である。
【００１７】これらの活性ラジカル種は、電子スピン共
鳴（ＥＳＲ）分光装置を用いたスピントラップ法により
検出することができる。このスピントラップ法は、不対
電子をもたないスピントラップ剤により、不安定なスー
パーオキシドアニオンラジカル（・Ｏ2 -）やヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）をトラップし、比較的に安定なスピ
ンをもつスピンアダクトを生成させてＥＳＲ測定を行
い、不安定なラジカル種を同定する方法である。スピン
トラップ剤としては、例えば式
鳴（ＥＳＲ）分光装置を用いたスピントラップ法により
検出することができる。このスピントラップ法は、不対
電子をもたないスピントラップ剤により、不安定なスー
パーオキシドアニオンラジカル（・Ｏ2 -）やヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）をトラップし、比較的に安定なスピ
ンをもつスピンアダクトを生成させてＥＳＲ測定を行
い、不安定なラジカル種を同定する方法である。スピン
トラップ剤としては、例えば式
【化１】
で表わされるニトロキシド系スピントラップ剤ジメチル
ホスホキシド（ＤＭＰＯ）などが用いられる。
ホスホキシド（ＤＭＰＯ）などが用いられる。
【００１８】ところで、二酸化チタンのような光触媒活
性物質は、そのバンドギャップ以上のエネルギーの光で
励起すると、伝導帯に電子が生じ、かつ価電子帯に正孔
が生じる。生成した電子は表面酸素を還元してスーパー
オキシドアニオンラジカルを生成させ、一方正孔は表面
吸着水の水酸基を酸化してヒドロキシラジカルを生成さ
せることにより、光触媒機能を発揮する。
性物質は、そのバンドギャップ以上のエネルギーの光で
励起すると、伝導帯に電子が生じ、かつ価電子帯に正孔
が生じる。生成した電子は表面酸素を還元してスーパー
オキシドアニオンラジカルを生成させ、一方正孔は表面
吸着水の水酸基を酸化してヒドロキシラジカルを生成さ
せることにより、光触媒機能を発揮する。
【００１９】したがって、本発明方法において、アルミ
ニウム陽極酸化皮膜に、水の存在下で光照射することに
よって、スーパーオキシドアニオンラジカルやヒドロキ
シラジカルのような活性ラジカル種の発生が認められた
ことにより、該アルミニウム陽極酸化皮膜は、光触媒と
して有用であることが期待できる。
ニウム陽極酸化皮膜に、水の存在下で光照射することに
よって、スーパーオキシドアニオンラジカルやヒドロキ
シラジカルのような活性ラジカル種の発生が認められた
ことにより、該アルミニウム陽極酸化皮膜は、光触媒と
して有用であることが期待できる。
【００２０】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
するが、本発明は、これらの例によってなんら限定され
るものではない。
するが、本発明は、これらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２１】実施例１
（１）アルミニウム材料の陽極酸化処理
アルミニウム板（１１００）に、予め通常実施されてい
る方法で脱脂処理、水洗、エッチング処理、水洗、中和
及び水洗の操作を順次施して前処理したものを用いた。
２０質量％の硫酸を含む電解液中において、上記の前処
理アルミニウム板（１０×１０ｃｍ）を陽極、チタンを
陰極とし、浴温１０℃、電流密度３００Ａ／ｍ 2の条件
で２５分間直流通電して陽極酸化処理を施し、厚さ２０
μｍのアルミニウム陽極酸化皮膜を形成した。
る方法で脱脂処理、水洗、エッチング処理、水洗、中和
及び水洗の操作を順次施して前処理したものを用いた。
２０質量％の硫酸を含む電解液中において、上記の前処
理アルミニウム板（１０×１０ｃｍ）を陽極、チタンを
陰極とし、浴温１０℃、電流密度３００Ａ／ｍ 2の条件
で２５分間直流通電して陽極酸化処理を施し、厚さ２０
μｍのアルミニウム陽極酸化皮膜を形成した。
【００２２】（２）活性ラジカル種の生成
蒸留水２０ｃｍ3にスピントラップ剤として、ＤＭＰＯ
２０μｍ3を添加した水溶液中に、上記（１）で得られ
た陽極酸化皮膜を有するアルミニウム材を浸漬し、これ
に５００Ｗキセノンランプ（ウシオ電機社製、商品名）
を光源とし、ガラスフィルター（ＵＶ−Ｄ３５）を通し
て紫外線を強度１７ｍＷ／ｃｍ2で３０分間照射した。
その後、スピントラップ用の石英扁平セルで溶液を吸引
し、電子スピン共鳴装置（日本電子社製、商品名「ＪＥ
Ｓ−ＦＡ２００」）により、下記の条件でＥＳＲスペク
トルを測定した。図１にこのＥＳＲスペクトル図を示
す。
２０μｍ3を添加した水溶液中に、上記（１）で得られ
た陽極酸化皮膜を有するアルミニウム材を浸漬し、これ
に５００Ｗキセノンランプ（ウシオ電機社製、商品名）
を光源とし、ガラスフィルター（ＵＶ−Ｄ３５）を通し
て紫外線を強度１７ｍＷ／ｃｍ2で３０分間照射した。
その後、スピントラップ用の石英扁平セルで溶液を吸引
し、電子スピン共鳴装置（日本電子社製、商品名「ＪＥ
Ｓ−ＦＡ２００」）により、下記の条件でＥＳＲスペク
トルを測定した。図１にこのＥＳＲスペクトル図を示
す。
【００２３】ＥＳＲスペクトル測定条件
出力 ：４ｍＷ
磁場中心：３３６ｍＴ
変動幅 ：±７．５ｍＴ
【００２４】このスペクトルは、シグナル強度が１：
２：２：１の典型的な形を示し、パターンと超微細結合
定数から、このスピンアダクトはヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）によるものと確認した。
２：２：１の典型的な形を示し、パターンと超微細結合
定数から、このスピンアダクトはヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）によるものと確認した。
【００２５】図２は、照射時間とＤＭＰＯ・ＯＨアダク
トの濃度との関係を示すグラフである。この図２から分
かるように、ＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの濃度は、照射時
間に伴い増加しており、その増加割合は１０分間で０．
０５μｍｏｌ・ｄｍ-3であった。このＥＳＲの測定で
は、・ＯＨの生成のみが確認でき、・Ｏ2 -は検出されな
かった。これは、・ＯＨとＤＭＰＯの反応性が・Ｏ2 -と
ＤＭＰＯの反応性よりもはるかに大きいためと考えられ
る。
トの濃度との関係を示すグラフである。この図２から分
かるように、ＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの濃度は、照射時
間に伴い増加しており、その増加割合は１０分間で０．
０５μｍｏｌ・ｄｍ-3であった。このＥＳＲの測定で
は、・ＯＨの生成のみが確認でき、・Ｏ2 -は検出されな
かった。これは、・ＯＨとＤＭＰＯの反応性が・Ｏ2 -と
ＤＭＰＯの反応性よりもはるかに大きいためと考えられ
る。
【００２６】実施例２
実施例１（２）において、蒸留水を用いる代わりにジメ
チルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を用いた以外は、実施例
１と同様な操作を行った。図３にＥＳＲスペクトル図を
示す。この図３より、スーパーオキシドアニオンラジカ
ル（・Ｏ2 -）によるＤＭＰＯ・Ｏ2 -アダクトのシグナル
が確認された。実施例１及び実施例２の結果、アルミニ
ウム陽極酸化皮膜に光照射を行うことにより、・ＯＨや
・Ｏ2 -が生成することが分かった。
チルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を用いた以外は、実施例
１と同様な操作を行った。図３にＥＳＲスペクトル図を
示す。この図３より、スーパーオキシドアニオンラジカ
ル（・Ｏ2 -）によるＤＭＰＯ・Ｏ2 -アダクトのシグナル
が確認された。実施例１及び実施例２の結果、アルミニ
ウム陽極酸化皮膜に光照射を行うことにより、・ＯＨや
・Ｏ2 -が生成することが分かった。
【００２７】
【発明の効果】本発明の活性ラジカル種発生剤は、工業
的に入手が容易なアルミニウム陽極酸化皮膜からなるも
のであって、光照射によりスーパーオキシドアニオンラ
ジカルやヒドロキシラジカルを生成し、光触媒として有
用である。
的に入手が容易なアルミニウム陽極酸化皮膜からなるも
のであって、光照射によりスーパーオキシドアニオンラ
ジカルやヒドロキシラジカルを生成し、光触媒として有
用である。
【図１】 実施例１においてアルミニウム陽極酸化皮膜
に光照射した際のＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの生成を示す
ＥＳＲスペクトル図。
に光照射した際のＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの生成を示す
ＥＳＲスペクトル図。
【図２】 実施例１においてアルミニウム陽極酸化皮膜
に光照射した際の照射時間とＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの
濃度との関係を示すグラフ。
に光照射した際の照射時間とＤＭＰＯ・ＯＨアダクトの
濃度との関係を示すグラフ。
【図３】 実施例２においてアルミニウム陽極酸化皮膜
に光照射した際のＤＭＰＯ・Ｏ2 -アダクトの生成を示す
ＥＳＲスペクトル図。
に光照射した際のＤＭＰＯ・Ｏ2 -アダクトの生成を示す
ＥＳＲスペクトル図。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０２Ｆ 1/30 Ｃ０２Ｆ 1/30
1/72 １０１ 1/72 １０１
Ｃ２５Ｄ 11/04 Ｃ２５Ｄ 11/04 Ｅ
// Ａ６１Ｌ 2/16 Ａ６１Ｌ 2/16 Ｚ
(72)発明者 橋本 和明
千葉県習志野市津田沼２−17−１ 千葉工
業大学内
(72)発明者 戸田 善朝
千葉県習志野市津田沼２−17−１ 千葉工
業大学内
(72)発明者 宇田川 重和
千葉県習志野市津田沼２−17−１ 千葉工
業大学内
Ｆターム(参考） 4C058 AA20 BB02
4D037 AA11 BA18
4D050 AA12 AB04 AB06 BB20 BC04
BC09
4G069 AA03 AA08 BA01A BA01B
BA48A BB02C BC16C DA06
EA11 FA01 FA04 FB42 FB58
FC02
Claims (3)
- 【請求項１】 アルミニウム陽極酸化皮膜からなる活性
ラジカル種発生剤。 - 【請求項２】 アルミニウム陽極酸化皮膜に、水の存在
下で光照射することを特徴とする活性ラジカル種発生方
法。 - 【請求項３】 活性ラジカル種がヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）又はスーパーオキシドアニオンラジカル（・
Ｏ2 -）である請求項２記載の活性ラジカル種発生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001306531A JP2003112053A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性ラジカル種発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001306531A JP2003112053A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性ラジカル種発生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003112053A true JP2003112053A (ja) | 2003-04-15 |
Family
ID=19126154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001306531A Pending JP2003112053A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 活性ラジカル種発生剤及びそれを用いた活性ラジカル種発生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003112053A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006272146A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒組成物および光触媒含有層 |
| JP2007044596A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有層 |
| US8889075B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-11-18 | Kitakyushu Foundation For The Advancement Of Industry, Science And Technology | Apparatus for producing water having redox activity |
-
2001
- 2001-10-02 JP JP2001306531A patent/JP2003112053A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006272146A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒組成物および光触媒含有層 |
| US7732117B2 (en) | 2005-03-29 | 2010-06-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photocatalyst composition and photocatalyst containing layer |
| JP4526029B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2010-08-18 | 大日本印刷株式会社 | 光触媒組成物および光触媒含有層 |
| JP2007044596A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有層 |
| US8889075B2 (en) | 2007-09-26 | 2014-11-18 | Kitakyushu Foundation For The Advancement Of Industry, Science And Technology | Apparatus for producing water having redox activity |
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