JP2003107201A - Optical film, protective film for polarizing plate, optical retardation film, polarizing plate, method for manufacturing optical film, method for manufacturing polarizing plate, method for manufacturing protective film of polarizing plate and display device - Google Patents

Optical film, protective film for polarizing plate, optical retardation film, polarizing plate, method for manufacturing optical film, method for manufacturing polarizing plate, method for manufacturing protective film of polarizing plate and display device

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JP2003107201A
JP2003107201A JP2001303576A JP2001303576A JP2003107201A JP 2003107201 A JP2003107201 A JP 2003107201A JP 2001303576 A JP2001303576 A JP 2001303576A JP 2001303576 A JP2001303576 A JP 2001303576A JP 2003107201 A JP2003107201 A JP 2003107201A
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JP
Japan
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film
cellulose ester
optical film
polarizing plate
metal compound
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JP2001303576A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Murakami
隆 村上
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Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which can prevent the degradation of the flatness of a cellulose ester film. SOLUTION: The optical film contains a cellulose ester film. A metal compound layer containing at least either oxygen atoms or nitrogen atoms and metal atoms is formed directly or with another layer interposed on at least one surface of the cellulose ester film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルフィルムを含んで構成される光学フィルム、偏光板保
護フィルム、位相差フィルム、および偏光板と、前記光
学フィルムの製造方法、前記偏光板の製造方法、前記偏
光板保護フィルムの製造方法、および、前記光学フィル
ムを含む表示装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical film including a cellulose ester film, a polarizing plate protective film, a retardation film, a polarizing plate, a method for producing the optical film, and a method for producing the polarizing plate. The present invention relates to a method for producing the polarizing plate protective film, and a display device including the optical film.

【0002】[0002]

【従来の技術】セルロースエステルフィルムは、光学的
に優れた性質を有するため、偏光板保護フィルム、位相
差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルム
に利用されている。例えば、特開平2000−3526
20号公報に記載の光学フィルムは、溶融流延により形
成されたセルロースエステルフィルムを有している。こ
の構成により、光学的、物理的、寸法安定性に優れた光
学フィルムを得ることができる。
2. Description of the Related Art Cellulose ester films are used in various optical films such as polarizing plate protective films, retardation films and optical compensation films because they have excellent optical properties. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-3526
The optical film described in Japanese Patent No. 20 has a cellulose ester film formed by melt casting. With this configuration, an optical film having excellent optical, physical and dimensional stability can be obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、セルロース
エステルフィルムは、ロール状に巻かれた状態で保存さ
れることが多く、このことはフィルムの平面性を悪化さ
せる原因となっていた。
By the way, the cellulose ester film is often stored in a rolled state, which causes deterioration of the flatness of the film.

【0004】また、セルロースエステルフィルムには、
通常、可塑剤や紫外線吸収剤といった添加剤が含まれて
いる。これらの添加剤は、セルロースエステルフィルム
の加工性や透湿性を改善するために添加されている。し
かし、その一方、これらの添加剤を含むことにより、各
種塗布層をセルロースエステルフィルム上に設ける際の
塗布性が悪くなる、という問題が生じていた。特に、こ
れらの添加剤のブリードアウトや、揮発による物性変化
により、未加工のセルロースエステルフィルムの保存安
定性が悪化する、という問題が生じていた。
The cellulose ester film also contains
Usually, additives such as a plasticizer and an ultraviolet absorber are included. These additives are added to improve the processability and moisture permeability of the cellulose ester film. However, on the other hand, the inclusion of these additives causes a problem that the coating properties of various coating layers on the cellulose ester film are deteriorated. In particular, there has been a problem that the storage stability of the unprocessed cellulose ester film is deteriorated due to bleed-out of these additives and change in physical properties due to volatilization.

【0005】さらに、セルロースエステルフィルムが水
分を吸収して、膨張したり収縮したりしてしまう、とい
う問題があった。特に、長尺のロールフィルムにおいて
フィルム端部にナーリング加工を施している場合には、
吸湿による膨張によってフィルムに伸びやたるみが生
じ、これによりフィルムに凹凸や筋、折れ、しわなどが
入ってしまうことがあった。この問題は、特に薄膜のフ
ィルムで顕著であり、改善が求められていた。
Further, there is a problem that the cellulose ester film absorbs water and expands or contracts. In particular, when knurling is applied to the film end in a long roll film,
Swelling due to moisture absorption causes the film to stretch or sag, which may cause the film to have irregularities, streaks, folds, or wrinkles. This problem is remarkable especially in a thin film, and improvement has been demanded.

【0006】本発明の課題は、セルロースエステルフィ
ルムの平面性が悪化するのを防止できる光学フィルム、
これを用いて構成される偏光板保護フィルム、位相差フ
ィルム、偏光板、および、光学フィルムの製造方法、偏
光板の製造方法、偏光板保護フィルムの製造方法、光学
フィルムを含む表示装置を提供することである。さら
に、別の課題は、セルロースエステルフィルムへの塗布
性や、長尺ロール状のセルロースエステルフィルムの保
存安定性を改善し、また、セルロースエステルフィルム
による吸湿を防止することである。さらに、位相差フィ
ルムのリタデーション変動を抑制し、又、耐久性の優れ
た偏光板を提供することである。
An object of the present invention is to provide an optical film capable of preventing the flatness of a cellulose ester film from deteriorating.
Provided is a polarizing plate protective film, a retardation film, a polarizing plate, and a method for producing an optical film, a method for producing a polarizing plate, a method for producing a polarizing plate protective film, and a display device including the optical film, which are formed using the same. That is. Further, another object is to improve the coating property on the cellulose ester film, the storage stability of the long roll-shaped cellulose ester film, and prevent moisture absorption by the cellulose ester film. Further, it is to provide a polarizing plate which suppresses the retardation variation of the retardation film and has excellent durability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
め、請求項1記載の発明は、セルロースエステルフィル
ムを含んで構成される光学フィルムであって、酸素原子
(O)と窒素原子(N)のうち少なくともいずれか一方
と、金属原子と、を含んで構成される金属化合物層が、
前記セルロースエステルフィルムの少なくとも一方の面
に、直接又は他の層を介して設けられていることを特徴
とする光学フィルムである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is an optical film comprising a cellulose ester film, wherein an oxygen atom (O) and a nitrogen atom (N ), And a metal compound layer containing at least one of the above, and a metal atom,
The optical film is provided on at least one surface of the cellulose ester film directly or via another layer.

【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の光
学フィルムにおいて、セルロースエステルフィルムの膜
厚が10〜500μmであることを特徴とする。請求項
3記載の発明は、請求項1または2記載の光学フィルム
において、金属化合物層の膜厚が0.005〜1μmで
あることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the optical film according to claim 1, wherein the thickness of the cellulose ester film is 10 to 500 μm. The invention according to claim 3 is the optical film according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the metal compound layer is 0.005 to 1 µm.

【0009】請求項4記載の発明は、請求項1〜3のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層に
含まれる金属原子は珪素原子(Si)であり、前記金属
原子の数に対する、前記金属化合物層に含まれる酸素原
子、窒素原子の数の比を、それぞれx、yとした場合
に、xは0以上2以下であり、yは0以上4/3以下で
あることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical film according to any one of the first to third aspects, the metal atom contained in the metal compound layer is a silicon atom (Si), and the number of the metal atom is When the ratios of the numbers of oxygen atoms and nitrogen atoms contained in the metal compound layer are x and y, respectively, x is 0 or more and 2 or less, and y is 0 or more and 4/3 or less. To do.

【0010】請求項5記載の発明は、請求項1〜4のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層
が、セルロースエステルフィルムの両面に、直接又は他
の層を介して設けられていることを特徴とする。請求項
6記載の発明は、請求項5記載の光学フィルムにおい
て、セルロースエステルフィルムの一方の面に設けられ
る金属化合物層の膜厚は、前記セルロースエステルフィ
ルムの他方の面に設けられる金属化合物層の膜厚よりも
厚いことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the invention, in the optical film according to any one of the first to fourth aspects, the metal compound layer is provided on both surfaces of the cellulose ester film, either directly or via another layer. It is characterized by The invention according to claim 6 is the optical film according to claim 5, wherein the thickness of the metal compound layer provided on one surface of the cellulose ester film is the same as that of the metal compound layer provided on the other surface of the cellulose ester film. It is characterized by being thicker than the film thickness.

【0011】請求項7記載の発明は、請求項1〜6のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層
は、炭素原子を含むことを特徴とする。請求項8記載の
発明は、請求項7記載の光学フィルムにおいて、金属化
合物層の炭素原子の含有量は、0.1〜10質量%であ
ることを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the optical film according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the metal compound layer contains carbon atoms. The invention according to claim 8 is the optical film according to claim 7, wherein the content of carbon atoms in the metal compound layer is 0.1 to 10% by mass.

【0012】請求項9記載の発明は、請求項1〜8のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、少なくとも一つ
の金属化合物層の上に、直接又は他の層を介して樹脂層
が設けられていることを特徴とする。請求項10記載の
発明は、請求項9記載の光学フィルムにおいて、樹脂層
は、活性線硬化樹脂層又は熱硬化性樹脂層であることを
特徴とする。
According to a ninth aspect of the invention, in the optical film according to any one of the first to eighth aspects, a resin layer is provided on at least one metal compound layer directly or via another layer. It is characterized by being According to a tenth aspect of the invention, in the optical film according to the ninth aspect, the resin layer is an actinic ray curable resin layer or a thermosetting resin layer.

【0013】請求項11記載の発明は、請求項1〜10
のいずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物
層の膜厚が、0.1μmよりも大きく、かつ、0.8μ
m以下であることを特徴とする。請求項12記載の発明
は、請求項1〜11のいずれかに記載の光学フィルムに
おいて、セルロースエステルフィルムの膜厚が10〜6
0μmであることを特徴とする。
The invention according to claim 11 is the invention according to claims 1 to 10.
The optical film as described in any one of 1 to 3, wherein the thickness of the metal compound layer is greater than 0.1 μm and is 0.8 μm.
It is characterized by being m or less. The invention according to claim 12 is the optical film according to any one of claims 1 to 11, wherein the cellulose ester film has a thickness of 10 to 6
It is characterized in that it is 0 μm.

【0014】請求項13記載の発明は、請求項1〜12
のいずれかに記載の光学フィルムにおいて、セルロース
エステルフィルムは、共流延法により形成された積層構
造を有することを特徴とする。請求項14記載の発明
は、請求項1〜13のいずれかに記載の光学フィルムに
おいて、端部には、高さがセルロースエステルフィルム
の膜厚の25%以下であるナーリングが設けられている
ことを特徴とする。
The invention according to claim 13 is the invention according to claims 1 to 12.
The optical film according to any one of items 1 to 3, wherein the cellulose ester film has a laminated structure formed by a co-casting method. According to a fourteenth aspect of the present invention, in the optical film according to any one of the first to thirteenth aspects, knurling having a height of 25% or less of a film thickness of the cellulose ester film is provided at an end portion. Is characterized by.

【0015】請求項15記載の発明は、請求項1〜14
のいずれかに記載の光学フィルムを用いて構成されてい
ることを特徴とする偏光板保護フィルムである。請求項
16記載の発明は、請求項1〜14のいずれかに記載の
光学フィルムを用いて構成されており、下記式(1)で
定義する膜厚方向のリターデーション値(Rt値)が7
0〜300nmであるか、下記式(2)で定義する面内
方向のリターデーション値(Ro値)が40〜1000
nmであるか、Rt値が70〜300nmであるととも
にRo値が40〜1000nmであることを特徴とする
位相差フィルムである。 Rt値=((nx+ny)/2−nz)×d …(1) Ro値=(nx−ny)×d …(2) (nxはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折
率、nyはnxに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、
zはフィルムの厚み方向の屈折率、dはフィルムの厚
み(nm)をそれぞれ表す。)
The invention as defined in claim 15 is defined by claim 1 through claim 14.
A polarizing plate protective film comprising the optical film according to any one of 1. The invention according to claim 16 is configured using the optical film according to any one of claims 1 to 14, and has a retardation value (Rt value) in the film thickness direction defined by the following formula (1) of 7:
0 to 300 nm or a retardation value (Ro value) in the in-plane direction defined by the following formula (2) is 40 to 1000.
or a Rt value of 70 to 300 nm and a Ro value of 40 to 1000 nm. Rt value = ((n x + n y ) / 2-n z) × d ... (1) Ro value = (n x -n y) × d ... (2) (n x is a refractive index in the film plane is most Refractive index in the larger direction, n y is the in-plane refractive index in the direction perpendicular to n x ,
nz represents the refractive index in the thickness direction of the film, and d represents the thickness (nm) of the film. )

【0016】請求項17記載の発明は、請求項15記載
の偏光板保護フィルムを有することを特徴とする偏光板
である。請求項18記載の発明は、請求項17記載の偏
光板において、少なくとも一方の面から、活性線硬化樹
脂層、膜厚が0.01〜1μmである金属化合物層、セ
ルロースエステルフィルム、偏光子、セルロースエステ
ルフィルム、膜厚が0.01〜1μmである金属化合物
層、の順に積層される積層構造を有することを特徴とす
る。
The invention according to claim 17 is a polarizing plate comprising the polarizing plate protective film according to claim 15. The invention according to claim 18 is the polarizing plate according to claim 17, wherein from at least one surface, an actinic ray curable resin layer, a metal compound layer having a film thickness of 0.01 to 1 μm, a cellulose ester film, a polarizer, It is characterized by having a laminated structure in which a cellulose ester film and a metal compound layer having a film thickness of 0.01 to 1 μm are laminated in this order.

【0017】請求項19記載の発明は、セルロースエス
テルを含む溶液を支持体上に流延し、剥離後乾燥させ
て、残留溶媒量が3〜40質量%であるときに幅手方向
に1.00〜2.0倍延伸し、さらに乾燥させ、これに
より得られたセルロースエステルフィルムの少なくとも
一方の面に、珪素化合物を含む反応ガスを供給しなが
ら、大気圧プラズマ処理によって、酸素原子と窒素原子
のうち少なくともいずれか一方と、珪素原子と、を含ん
で構成される金属化合物層を設けることを特徴とする光
学フィルムの製造方法である。
According to a nineteenth aspect of the present invention, a solution containing a cellulose ester is cast on a support, peeled and dried, and when the residual solvent amount is 3 to 40% by mass, 1. Oxygen atoms and nitrogen atoms are drawn by atmospheric pressure plasma treatment while supplying a reaction gas containing a silicon compound to at least one surface of the cellulose ester film obtained by stretching the film by 00 to 2.0 times and further drying. A method for producing an optical film, which comprises providing a metal compound layer containing at least one of the above and a silicon atom.

【0018】請求項20記載の発明は、請求項19記載
の光学フィルムの製造方法において、大気圧プラズマ処
理を、100kHzを越える高周波電圧で、かつ、1W
/cm2以上の電力を供給して放電させることにより行
うことを特徴とする。請求項21記載の発明は、請求項
19または20記載の光学フィルムの製造方法におい
て、少なくとも一つの金属化合物層の上に、直接又は他
の層を介して活性線硬化樹脂層を設けることを特徴とす
る。
According to a twentieth aspect of the present invention, in the method for producing an optical film according to the nineteenth aspect, the atmospheric pressure plasma treatment is performed at a high frequency voltage exceeding 100 kHz and for 1 W.
It is characterized in that it is performed by supplying electric power of / cm 2 or more and discharging. The invention according to claim 21 is the method for producing an optical film according to claim 19 or 20, characterized in that an actinic radiation curable resin layer is provided on at least one metal compound layer directly or through another layer. And

【0019】請求項22記載の発明は、請求項19〜2
1のいずれかに記載の光学フィルム製造方法により製造
された光学フィルムを鹸化処理し、偏光子と貼合するこ
とを特徴とする偏光板の製造方法である。
The invention according to claim 22 is a method according to claims 19 to 2.
1. A method for producing a polarizing plate, which comprises subjecting an optical film produced by the method for producing an optical film according to any one of 1 to saponification treatment and laminating it with a polarizer.

【0020】請求項23記載の発明は、セルロースエス
テルを含む溶液を支持体上に流延し、剥離後乾燥させ
て、残留溶媒量が3〜40質量%であるときに幅手方向
に1.00〜2.0倍延伸し、さらに乾燥させ、これに
より得られたセルロースエステルフィルムの両面を鹸化
処理した後、鹸化処理した一方の面を残して、鹸化処理
した他方の面に、大気圧プラズマ処理により、酸素原子
と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、珪素原子
と、を含んで構成される金属化合物層を設けることを特
徴とする偏光板保護フィルムの製造方法である。
In a twenty-third aspect of the present invention, a solution containing a cellulose ester is cast on a support, peeled and dried, and when the residual solvent amount is 3 to 40% by mass, 1. The film is stretched by 00 to 2.0 times and further dried, and both surfaces of the cellulose ester film thus obtained are saponified. Then, one surface saponified is left, and the other surface saponified is subjected to atmospheric pressure plasma. A method for producing a polarizing plate protective film, comprising providing a metal compound layer containing at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom and a silicon atom by treatment.

【0021】請求項24記載の発明は、セルロースエス
テルフィルムを含む偏光板保護フィルムと、偏光子と、
を貼合して偏光板を作製する偏光板の製造方法であっ
て、前記偏光板保護フィルムと前記偏光子との貼合前も
しくは貼合後に、前記偏光板保護フィルム上に、大気圧
プラズマ処理によって、酸素原子と窒素原子のうち少な
くともいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成され
る金属化合物層を設けることを特徴とする。請求項25
記載の発明は、請求項1〜14のいずれかに記載の光学
フィルムを含むことを特徴とする表示装置である。
The invention according to claim 24 is a polarizing plate protective film containing a cellulose ester film, a polarizer,
A method for manufacturing a polarizing plate, which comprises laminating a polarizing plate, to bond the polarizing plate protective film to the polarizing plate before or after the polarizing plate protective film is bonded to the polarizing plate protective film. Accordingly, a metal compound layer including at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom and a silicon atom is provided. Claim 25
The described invention is a display device including the optical film according to any one of claims 1 to 14.

【0022】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光学フィルムは、セルロースエステルフィルムを含んで
構成されており、このセルロースエステルフィルムの一
方の面もしくは両面には、直接又は他の層を介して、酸
素原子(O)と窒素原子(N)のうちの少なくともいず
れか一方と金属原子とを含んで構成される金属化合物層
が設けられている。
The present invention will be described in detail below. The optical film of the present invention is configured to include a cellulose ester film, and an oxygen atom (O) and a nitrogen atom (N) can be formed on one surface or both surfaces of the cellulose ester film directly or through another layer. )) And a metal compound layer including a metal atom.

【0023】ここで、「酸素原子(O)と窒素原子
(N)のうちの少なくともいずれか一方と金属原子とを
含んで構成される金属化合物層」は、金属酸化物、金属
酸窒化物、金属窒化物、これらのうちの二つ以上を混合
した混合物、のいずれでも良い。
Here, the "metal compound layer containing at least one of oxygen atom (O) and nitrogen atom (N) and a metal atom" is a metal oxide, a metal oxynitride, Either a metal nitride or a mixture of two or more of these may be used.

【0024】金属化合物層は、薄すぎると効果に乏し
く、厚すぎると割れ、クラック等の問題が発生するた
め、その膜厚は、0.005〜1μm程度であるのが好
ましく、特に0.1μmよりも大きく、かつ、0.8μ
m以下であるのが好ましく、さらには0.5μm以下で
あるのがより好ましく、0.2μm以下であるのが特に
好ましい。また、金属化合物層は、反射防止層を構成す
るSiO2層よりも厚い層であるのが好ましい。
If the metal compound layer is too thin, the effect is poor, and if it is too thick, problems such as cracks and cracks occur. Therefore, the film thickness is preferably about 0.005 to 1 μm, and particularly 0.1 μm. Greater than and 0.8μ
The thickness is preferably m or less, more preferably 0.5 μm or less, and particularly preferably 0.2 μm or less. The metal compound layer is preferably a layer thicker than the SiO 2 layer forming the antireflection layer.

【0025】金属化合物層に含まれる金属原子として
は、例えば、珪素(Si)、アルミニウム(Al)、チ
タン(Ti)、亜鉛(Zn)、ジルコニウム(Zr)、
マグネシウム(Mg)、スズ(Sn)、銅(Cu)、鉄
(Fe)、ゲルマニウム(Ge)などが挙げられるが、
特に珪素原子(Si)が好ましい。金属化合物層に含ま
れる金属原子が珪素原子である場合には、金属化合物層
において、珪素原子の数に対する酸素原子、窒素原子の
数の比をそれぞれx、yとした場合、xは0以上2以下
であり、yは0以上4/3以下である。
Examples of the metal atom contained in the metal compound layer include silicon (Si), aluminum (Al), titanium (Ti), zinc (Zn), zirconium (Zr),
Examples include magnesium (Mg), tin (Sn), copper (Cu), iron (Fe), germanium (Ge),
Particularly, silicon atom (Si) is preferable. When the metal atom contained in the metal compound layer is a silicon atom, x is 0 or more and 2 when the ratios of the number of oxygen atoms and the number of nitrogen atoms to the number of silicon atoms in the metal compound layer are x and y, respectively. And y is 0 or more and 4/3 or less.

【0026】また、金属化合物層には、所定量の炭素原
子(C)が含まれるのが好ましい。これにより、膜の柔
軟性と、積層時の密着性を得ることができる。ここで、
金属化合物層の炭素含有量は、0.1〜10質量%であ
るのが好ましく、さらに0.2〜8質量%であればより
好ましく、0.2〜5質量%であるのが特に好ましい。
炭素含有量が0.1質量%よりも小さいと、膜の柔軟性
が不足する傾向があり、10質量%よりも大きいと、金
属化合物層を設けることによる改善効果が低下し、金属
化合物層に必要な膜厚が厚くなるので、好ましくない。
The metal compound layer preferably contains a predetermined amount of carbon atoms (C). Thereby, the flexibility of the film and the adhesiveness at the time of stacking can be obtained. here,
The carbon content of the metal compound layer is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 8% by mass, and particularly preferably 0.2 to 5% by mass.
If the carbon content is less than 0.1% by mass, the flexibility of the film tends to be insufficient, and if it is more than 10% by mass, the improvement effect due to the provision of the metal compound layer decreases, and This is not preferable because the required film thickness becomes thick.

【0027】金属化合物層は、蒸着、スパッタ、プラズ
マCVD、真空プラズマ等の各種方法により形成するこ
とができるが、特に、大気圧プラズマ処理によって形成
するのが好ましい。大気圧プラズマ処理は、例えば、特
願2001−127649号あるいは特願2001−1
31663号に記載されている処理方法及び装置により
行うことが出来る。
The metal compound layer can be formed by various methods such as vapor deposition, sputtering, plasma CVD and vacuum plasma, but it is particularly preferable to form it by atmospheric pressure plasma treatment. The atmospheric pressure plasma treatment is performed, for example, in Japanese Patent Application No. 2001-127649 or Japanese Patent Application No. 2001-1.
It can be performed by the processing method and apparatus described in No. 31663.

【0028】大気圧プラズマ処理においては、大気圧ま
たは大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に放
電することにより反応ガスをプラズマ状態とし、セルロ
ースエステルフィルムをプラズマ状態の反応ガスにさら
すことにより、セルロースエステルフィルム上に金属化
合物層を形成する。
In the atmospheric pressure plasma treatment, the reaction gas is brought into a plasma state by discharging between the opposing electrodes under the atmospheric pressure or a pressure near the atmospheric pressure, and the cellulose ester film is exposed to the reaction gas in the plasma state. Forming a metal compound layer on the cellulose ester film.

【0029】大気圧プラズマ処理では、高いプラズマ密
度を得て製膜速度を大きくするため、高周波電圧で、あ
る程度大きな電力を供給するのが好ましく、対向する電
極間に、100kHzを越えた高周波電圧で、1W/c
2以上の電力を供給して、反応ガスを励起してプラズ
マを発生させるのが好ましい。このようなハイパワーの
電界を印加することによって、緻密で、膜厚均一性の高
い高機能性を有する薄膜を、生産効率高く得ることが出
来る。
In the atmospheric pressure plasma treatment, in order to obtain a high plasma density and increase the film forming rate, it is preferable to supply a certain amount of high power with a high frequency voltage, and a high frequency voltage exceeding 100 kHz is applied between the opposing electrodes. 1 W / c
It is preferable to supply electric power of m 2 or more to excite the reaction gas and generate plasma. By applying such a high-power electric field, a dense, highly functional thin film with high film thickness uniformity can be obtained with high production efficiency.

【0030】対向する電極間に印加する高周波電圧の周
波数は、好ましくは150MHz以下である。また、高
周波電圧の周波数は、好ましくは200kHz以上、さ
らに好ましくは800kHz以上である。また、対向す
る電極間に供給する電力は、好ましくは1.2W/cm
2以上であり、好ましくは50W/cm2以下、さらに好
ましくは20W/cm2以下である。なお、対向する電
極における電圧の印加面積(/cm2)は、放電が起こ
る範囲の面積のことを示している。対向する電極間に印
加する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連
続したサイン波であっても構わないが、本発明の効果を
高く得るためには、連続したサイン波であることが好ま
しい。
The frequency of the high frequency voltage applied between the opposing electrodes is preferably 150 MHz or less. The frequency of the high frequency voltage is preferably 200 kHz or higher, more preferably 800 kHz or higher. The power supplied between the electrodes facing each other is preferably 1.2 W / cm.
2 or more, preferably 50 W / cm 2 or less, and more preferably 20 W / cm 2 or less. The voltage application area (/ cm 2 ) at the electrodes facing each other indicates the area in which discharge occurs. The high-frequency voltage applied between the electrodes facing each other may be an intermittent pulse wave or a continuous sine wave, but in order to obtain the effect of the present invention high, it is a continuous sine wave. It is preferable.

【0031】また、溶液流延法によりセルロースエステ
ル製膜工程終了後、セルロースエステルフィルムを巻き
取る前に、大気圧プラズマ処理によって金属化合物層を
連続的に形成するのが好ましい。
After the cellulose ester film-forming step by the solution casting method and before winding the cellulose ester film, it is preferable to continuously form the metal compound layer by atmospheric pressure plasma treatment.

【0032】以下、大気圧プラズマ処理によって金属化
合物層の薄膜を形成するのに用いられるプラズマ放電処
理装置の一例を、図1を参照して説明する。プラズマ放
電処理装置1は、回転電極2と、これに対向して配置さ
れた複数の対向電極3を有している。図示していない元
巻きロールまたは前工程から搬送されて来る基材フィル
ムFは、ガイドロール4、ニップロール5を経て、回転
電極2に導かれ、回転電極2に接した状態で回転電極2
の回転と同期しながら移送されるようになっている。
An example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a thin film of a metal compound layer by atmospheric pressure plasma treatment will be described below with reference to FIG. The plasma discharge treatment apparatus 1 has a rotary electrode 2 and a plurality of counter electrodes 3 arranged to face the rotary electrode 2. The original film roll (not shown) or the base film F conveyed from the previous step is guided to the rotary electrode 2 through the guide roll 4 and the nip roll 5, and is brought into contact with the rotary electrode 2 to rotate the rotary electrode 2.
It is designed to be transferred in synchronization with the rotation of the.

【0033】大気圧もしくはその近傍の圧力下にある放
電部6には、反応ガス発生装置7で調製された反応ガス
Gが給気管8から供給されるようになっており、対向電
極3に対向している側の基材フィルムF表面に薄膜(金
属化合物層)が形成されるようになっている。図1では
図示を省略しているが、基材フィルムFの幅手方向にお
いて、均一な濃度、流量で反応ガスGを供給出来るよう
にするため、それぞれの対向電極3の間に反応ガスGを
導入する給気管8が複数設けられていることが望まし
い。
The reaction gas G prepared by the reaction gas generator 7 is supplied from the air supply pipe 8 to the discharge part 6 under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and the discharge part 6 faces the counter electrode 3. A thin film (metal compound layer) is formed on the surface of the base film F on the side where the film is formed. Although not shown in FIG. 1, in order to supply the reaction gas G at a uniform concentration and flow rate in the width direction of the base film F, the reaction gas G is provided between the respective counter electrodes 3. It is desirable that a plurality of air supply pipes 8 to be introduced are provided.

【0034】回転電極2と対向電極3には、プラズマ放
電を発生させるための電圧を印加出来る電源9が、電圧
供給手段10・11を介して接続されている。回転電極
2、対向電極3、放電部6はプラズマ放電処理容器12
で覆われており、外界と遮断されている。処理に使用さ
れた排ガスG’は、処理室の上部にあるガス排気口13
から排出されるようになっている。また、対向電極3の
間に設けられたガス排気口(図示略)から、排ガスG’
を排気することも出来るようになっている。
A power supply 9 capable of applying a voltage for generating plasma discharge is connected to the rotary electrode 2 and the counter electrode 3 via voltage supply means 10 and 11. The rotating electrode 2, the counter electrode 3, and the discharge part 6 are the plasma discharge processing container 12
It is covered with and is isolated from the outside world. The exhaust gas G ′ used for the treatment is the gas exhaust port 13 at the top of the treatment chamber.
Is to be discharged from. Further, the exhaust gas G ′ is supplied from a gas exhaust port (not shown) provided between the counter electrodes 3.
Can be exhausted.

【0035】プラズマ放電処理された基材フィルムF
は、ニップロール14及びガイドロール15を経て、次
工程または図示してない巻き取りロールへ搬送されるよ
うになっている。外界から基材フィルムFに同伴して侵
入してくる空気を遮断し、また出口においても、内部に
空気が侵入するのを防止するため、プラズマ放電処理容
器12の出入り部分のニップロール5・14のところに
は、外界との仕切板16・17が設けられていることが
望ましい。上述の同伴される空気は、プラズマ放電処理
容器12内の気体の全体積に対し、1体積%以下に抑え
ることが好ましく、0.1体積%以下に抑えることがよ
り好ましい。このことは、ニップロール5により達成す
ることが可能である。
Base film F subjected to plasma discharge treatment
Is conveyed through the nip roll 14 and the guide roll 15 to the next step or a winding roll (not shown). In order to block the air that is entrained from the outside and accompanies the base film F, and also to prevent the air from entering the inside at the outlet, the nip rolls 514 of the plasma discharge processing container 12 are placed in and out. However, it is desirable that partition plates 16 and 17 from the outside are provided. The above-mentioned entrained air is preferably suppressed to 1% by volume or less, more preferably 0.1% by volume or less with respect to the total volume of the gas in the plasma discharge processing container 12. This can be achieved with the nip roll 5.

【0036】プラズマ放電処理容器12内の圧力は、高
くすることが好ましく、外に対して+0.1kPa以
上、更には0.3〜10kPa圧力を高くすることが好
ましい。なお、図示はしてないが、必要に応じて、回転
電極2及び対向電極3は、温度調節のため、温度制御さ
れた媒体を循環するようになっている。媒体としては、
蒸留水、油等の絶縁性材料を好ましく用いることができ
る。
The pressure inside the plasma discharge treatment container 12 is preferably high, and the pressure outside is preferably +0.1 kPa or more, and more preferably 0.3 to 10 kPa. Although not shown, the rotary electrode 2 and the counter electrode 3 circulate a temperature-controlled medium for temperature adjustment, if necessary. As a medium,
Insulating materials such as distilled water and oil can be preferably used.

【0037】電源9より対向電極3に印加される電圧の
値は適宜決定されるが、例えば、電圧が0.5〜10k
V程度で、電源周波数は100kHzを越えて150M
Hz以下に調整されていることが好ましい。ここで、電
圧の印加法としては、連続モードと呼ばれる連続サイン
波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるON
/OFFを断続的に行う断続発振モードのどちらを採用
しても良いが、連続モードの方がより緻密で良質な薄膜
を得ることができる。対向する電極間に電圧を印加する
電源9としては、例えば、パール工業製高周波電源(2
00kHz)、パール工業製高周波電源(800kH
z)、日本電子製高周波電源(13.56MHz)、パ
ール工業製高周波電源(150MHz)等が使用出来る
が、特にこれらに限定されるものではない。
The value of the voltage applied from the power source 9 to the counter electrode 3 is appropriately determined. For example, the voltage is 0.5 to 10 k.
At about V, the power supply frequency exceeds 100 kHz and 150M
It is preferably adjusted to Hz or less. Here, as a voltage application method, a continuous sine wave continuous oscillation mode called a continuous mode and an ON state called a pulse mode are used.
Either of the intermittent oscillation modes in which ON / OFF is intermittently performed may be adopted, but the continuous mode can obtain a denser and higher quality thin film. The power source 9 for applying a voltage between the opposing electrodes is, for example, a high frequency power source (2
00kHz), high frequency power supply made by Pearl Industry (800kHz)
z), a high frequency power source (13.56 MHz) manufactured by JEOL Ltd., a high frequency power source (150 MHz) manufactured by Pearl Industrial Co., Ltd. can be used, but the invention is not particularly limited thereto.

【0038】放電部6の電極間隔は、電極の母材に設置
した固体誘電体(図示略)の厚さ、印加電圧や周波数、
プラズマを利用する目的等を考慮して決定されている。
上記電極(電極2・3)の一方に固体誘電体を設置した
場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に
固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離は、
均一な放電を行う観点から、何れについても0.5mm
〜20mmが好ましく、更に好ましくは0.5〜5mm
であり、特に好ましくは1mm±0.5mmである。
The electrode interval of the discharge part 6 is the thickness of the solid dielectric (not shown) installed on the base material of the electrode, the applied voltage and frequency,
It is determined in consideration of the purpose of using plasma.
The shortest distance between the solid dielectric and the electrode when the solid dielectric is installed on one of the electrodes (electrodes 2 and 3) and the distance between the solid dielectrics when the solid dielectric is installed on both of the electrodes are:
From the viewpoint of uniform discharge, 0.5 mm in each case
~ 20 mm is preferable, and more preferably 0.5-5 mm.
And particularly preferably 1 mm ± 0.5 mm.

【0039】プラズマ放電処理容器12にはパイレック
ス(R)ガラス製あるいはプラスティック製の処理容器
等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金
属製を用いることも可能である。例えば、アルミまた
は、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を
張り付けても良く、この金属フレームにセラミックス溶
射を行い絶縁性をとっても良い。
As the plasma discharge processing container 12, a processing container made of Pyrex (R) glass or plastic is preferably used, but a metallic one can be used as long as it can be insulated from the electrodes. For example, a polyimide resin or the like may be attached to the inner surface of an aluminum or stainless steel frame, and the metal frame may be sprayed with ceramics to have an insulating property.

【0040】また、放電プラズマ処理の際、基材フィル
ムの温度によって得られる薄膜の物性や組成が変化する
ことがあり、基材フィルムへの影響を最小限に抑制する
ために、放電プラズマ処理時の基材フィルムの温度を適
宜制御することが好ましい。基材フィルムの温度は処理
条件によって異なるが、室温〜200℃が好ましく、よ
り好ましくは室温〜120℃である。より詳細には、常
温(15℃〜25℃)以上、200℃未満の温度に調整
することが好ましく、更に好ましくは50℃以上、15
0℃未満に調整することであり、更に好ましくは60℃
以上、120℃未満に調整することである。上記の温度
範囲に調整する為、必要に応じて電極、基材フィルムは
冷却手段で冷却あるいは加熱しながら放電プラズマ処理
される。
Further, during discharge plasma treatment, the physical properties and composition of the thin film obtained may change depending on the temperature of the base film, and in order to suppress the influence on the base film to a minimum, during the discharge plasma treatment It is preferable to appropriately control the temperature of the base film. The temperature of the substrate film varies depending on the processing conditions, but is preferably room temperature to 200 ° C, more preferably room temperature to 120 ° C. More specifically, it is preferable to adjust the temperature to room temperature (15 to 25 ° C.) or higher and lower than 200 ° C., more preferably 50 ° C. or higher and 15
The temperature should be adjusted to less than 0 ° C, more preferably 60 ° C.
As described above, the temperature is adjusted to less than 120 ° C. In order to adjust the temperature within the above range, the electrodes and the base material film are subjected to discharge plasma treatment while being cooled or heated by a cooling means, if necessary.

【0041】上記の放電プラズマ処理は、大気圧または
大気圧近傍で行われる。ここで、大気圧近傍とは、20
kPa〜200kPaの圧力を表す。本発明に記載の効
果を好ましく得るためには、90〜110kPa、特に
93kPa〜104kPaが好ましい。
The above discharge plasma treatment is carried out at or near atmospheric pressure. Here, near atmospheric pressure is 20
It represents a pressure of kPa to 200 kPa. In order to preferably obtain the effect described in the present invention, 90 to 110 kPa, particularly 93 kPa to 104 kPa are preferable.

【0042】また、大気圧プラズマ処理に使用する放電
用の電極(電極2・3)において、電極の少なくとも基
材フィルムFと接する側の表面は、JIS B 060
1で規定される表面粗さの最大高さ(Rmax)が10μ
m以下になるように調整されていることが好ましく、更
に、表面粗さの最大値が8μm以下であるのが好まし
く、特に7μm以下であるのが好ましい。
In the discharge electrodes (electrodes 2 and 3) used in the atmospheric pressure plasma treatment, at least the surface of the electrode which is in contact with the base film F is JIS B 060.
Maximum height of surface roughness (Rmax) specified in 1 is 10μ
The surface roughness is preferably adjusted to m or less, and the maximum surface roughness is preferably 8 μm or less, more preferably 7 μm or less.

【0043】上記電極の表面は固体誘電体で被覆されて
いることが望ましく、特に金属等の導電性母材に対し固
体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体
としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン
テレフタレート等のプラスティック、ガラス、二酸化珪
素、酸化アルミニウム(Al23)、酸化ジルコニウム
(ZrO2)、酸化チタン(TiO2)等の金属酸化物、
チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが出来
る。特に、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封
孔処理したセラミック被覆処理誘電体であることが望ま
しい。ここで、金属等の導電性母材としては、銀、白
金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等を挙げる
ことが出来るが、加工の観点からステンレスが好まし
い。また、ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、
ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系
ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バ
ナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中で
もホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用
いられる。
The surface of the electrode is preferably coated with a solid dielectric material, and in particular, the conductive base material such as metal is preferably coated with the solid dielectric material. Examples of solid dielectrics include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, glass, silicon dioxide, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), and other metal oxides,
Examples thereof include double oxides such as barium titanate. In particular, a ceramic-coated dielectric material obtained by performing a pore-sealing treatment using an inorganic material after spraying ceramics is preferable. Here, examples of the conductive base material such as metal include metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum and iron, and stainless steel is preferable from the viewpoint of processing. As the lining material, silicate glass,
Borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass, etc. are preferably used, but among these, borate glass is processed. Since it is easy, it is more preferably used.

【0044】上記電極は、その裏面側(内側)から、必
要に応じて、加熱あるいは冷却することが出来るように
なっている。電極がベルトの場合には、その裏面より気
体で冷却することも出来るが、ロールを用いた回転電極
2では、内部に媒体を供給して電極表面の温度及び基材
フィルムの温度を制御することが好ましい。
The above-mentioned electrode can be heated or cooled from the back side (inside) of the electrode, if necessary. When the electrode is a belt, it can be cooled with gas from the back surface, but in the rotating electrode 2 using a roll, the medium is supplied inside to control the temperature of the electrode surface and the temperature of the base film. Is preferred.

【0045】プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは
長手方向での基材フィルムの温度ムラが出来るだけ生じ
ないようにするため、ロールを用いた回転電極2の内部
の温度を制御することが望ましい。温度ムラは±10℃
以内であることが好ましく、更に好ましくは±5℃以内
であり、より好ましくは±1℃以内であり、最も好まし
くは±0.1℃以内である。
During the plasma discharge treatment, it is desirable to control the temperature inside the rotary electrode 2 using a roll in order to prevent temperature unevenness of the base film in the width direction or the longitudinal direction as much as possible. . Temperature unevenness is ± 10 ° C
Is preferably within ± 5 ° C., more preferably within ± 5 ° C., more preferably within ± 1 ° C., and most preferably within ± 0.1 ° C.

【0046】大気圧プラズマ処理で使用する反応ガスG
は、基材フィルムF上に設けたい薄膜の種類によって異
なるが、基本的には、不活性ガスと、薄膜を形成するた
めの反応性ガスとが混合された反応ガスである。反応性
ガスは、反応ガスに対し、0.01〜10体積%含有さ
せることが好ましい。
Reaction gas G used in atmospheric pressure plasma treatment
Is basically a reaction gas in which an inert gas and a reactive gas for forming the thin film are mixed, although it depends on the type of the thin film to be provided on the base film F. The reactive gas is preferably contained in the reaction gas in an amount of 0.01 to 10% by volume.

【0047】上記不活性ガスとしては、周期表の第18
属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、ク
リプトン、キセノン、ラドン等が挙げられるが、本発明
に記載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好
ましく用いられる。
As the above-mentioned inert gas, the 18th of the periodic table is used.
Group elements, such as helium, neon, argon, krypton, xenon, and radon, are mentioned, but helium and argon are preferably used in order to obtain the effects described in the present invention.

【0048】反応性ガスとしては、金属化合物が用いら
れ、金属水素化合物、金属アルコキシド等の有機金属化
合物が好ましく用いられる。また、これらの有機金属化
合物を放電空間である電極間に導入するには、両者は常
温常圧で、気体、液体、固体何れの状態であっても構わ
ない。気体の場合は、そのまま放電空間に導入でき、液
体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段に
より気化させて使用される。上記金属化合物ガスは、反
応ガス中0.01〜10体積%含有されることが好まし
く、0.1〜5体積%含有されるのがより好ましい。
As the reactive gas, a metal compound is used, and an organic metal compound such as a metal hydrogen compound or a metal alkoxide is preferably used. Further, in order to introduce these organometallic compounds between the electrodes which are the discharge spaces, they may be in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure. In the case of gas, it can be introduced into the discharge space as it is, and in the case of liquid or solid, it is used by being vaporized by means such as heating, decompression, and ultrasonic irradiation. The metal compound gas is preferably contained in the reaction gas in an amount of 0.01 to 10% by volume, more preferably 0.1 to 5% by volume.

【0049】上記金属化合物ガスとして珪素化合物を用
い、これを含む反応ガスを供給しながら大気圧プラズマ
処理を行うことにより、珪素原子を含む金属化合物層を
形成することができる。ここで、上記珪素化合物として
は、例えば、一般式Si(OR1)4(R1はアルキル
基であり、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基であ
る。)や、一般式(R2)nSi(OR3)4-n(R2及
びR3はアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜5の
アルキル基である。また、nは1〜3の整数である。)
で表される有機珪素化合物や、シラン(SiH4)など
が挙げられる。具体的には、テトラエトキシシラン(T
EOS)、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、
テトラメチルジシロキサン(TMDSO)、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリ
メトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロ
ピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシ
ラン、n−ブチルトリメトキシシラン、i−ブチルトリ
メトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、デカメチルシクロペン
タシロキサンが挙げられる。また、1,1,3,3−テ
トラメチルジシラザン、1,3−ビス(クロロメチル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、ヘキサメ
チルジシラザン、1,3−ジビニルー1,1,3,3−
テトラメチルジシラザン、アミノメチルトリメチルシラ
ン、ジメチルジメチルアミノシラン、ジメチルアミノト
リメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、ジエ
チルアミノジメチルシラン、1−トリメチルシリルピロ
ール、1−トリメチルシリルピロリジン、イソプロピル
アミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメ
チルシラン、アニリノトリメチルシラン、2−ピペリジ
ノエチルトリメチルシラン、3−ブチルアミノプロピル
トルメチルシラン、3−ピペリジノプロピルトリメチル
シラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、1−ト
リメチルシリルイミダゾール、ビス(エチルアミノ)ジ
メチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラ
ン、ビス(ブチルアミノ)ジメチルシラン、2−アミノ
エチルアミノメチルジメチルフェニルシラン、3−(4
−メチルピペラジノプロピル)トリメチルシラン、ジメ
チルフェニルピペラジノメチルシラン、ブチルジメチル
−3−ピペラジノプロピルシラン、ジアニリノジメチル
シラン、ビス(ジメチルアミノ)ジフェニルシランなど
も用いることができる。また、メチルトリメトキシシラ
ンとTEOSを比率1:1で混合したもの、エチルトリ
エトキシシランとTEOSを比率1:2で混合したもの
など、上記の珪素化合物を所定比率で混合して用いるこ
ともできる。これらの有機珪素化合物に、さらに、酸素
ガスや窒素ガスなどを所定割合で組み合わせて、O原子
とN原子の少なくともいずれかと、Si原子とを含む金
属化合物層を形成することができる。
By using a silicon compound as the metal compound gas and performing atmospheric pressure plasma treatment while supplying a reaction gas containing this, a metal compound layer containing silicon atoms can be formed. Here, as the above-mentioned silicon compound, for example, general formula Si (OR1) 4 (R1 is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms) and general formula (R2) n Si ( OR3) 4-n (R2 and R3 are alkyl groups, preferably alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 3.)
Examples include organic silicon compounds represented by and silane (SiH 4 ). Specifically, tetraethoxysilane (T
EOS), hexamethyldisiloxane (HMDSO),
Tetramethyldisiloxane (TMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane, hexamethylcyclotrisiloxane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltri Ethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, i-butyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltri Examples include ethoxysilane and decamethylcyclopentasiloxane. In addition, 1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,3-bis (chloromethyl)
-1,1,3,3-tetramethyldisilazane, hexamethyldisilazane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-
Tetramethyldisilazane, aminomethyltrimethylsilane, dimethyldimethylaminosilane, dimethylaminotrimethylsilane, allylaminotrimethylsilane, diethylaminodimethylsilane, 1-trimethylsilylpyrrole, 1-trimethylsilylpyrrolidine, isopropylaminomethyltrimethylsilane, diethylaminotrimethylsilane, anilino Trimethylsilane, 2-piperidinoethyltrimethylsilane, 3-butylaminopropyltolumethylsilane, 3-piperidinopropyltrimethylsilane, bis (dimethylamino) methylsilane, 1-trimethylsilylimidazole, bis (ethylamino) dimethylsilane, Bis (dimethylamino) dimethylsilane, bis (butylamino) dimethylsilane, 2-aminoethylaminomethyl Methylphenyl silane, 3- (4
-Methylpiperazinopropyl) trimethylsilane, dimethylphenylpiperazinomethylsilane, butyldimethyl-3-piperazinopropylsilane, dianilinodimethylsilane, bis (dimethylamino) diphenylsilane and the like can also be used. Further, the above silicon compounds may be mixed at a predetermined ratio, such as a mixture of methyltrimethoxysilane and TEOS at a ratio of 1: 1 and a mixture of ethyltriethoxysilane and TEOS at a ratio of 1: 2. . By further combining these organosilicon compounds with oxygen gas, nitrogen gas, or the like at a predetermined ratio, a metal compound layer containing at least one of O atom and N atom and Si atom can be formed.

【0050】又、反応ガス中に酸素、オゾン、過酸化水
素、二酸化炭素、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒
素、水素、窒素から選択される成分を好ましくは0.0
1〜10体積%、より好ましくは0.1〜5体積%含有
させることにより、反応が促進され、かつ、薄膜の硬度
を著しく向上させたり、緻密で良質な薄膜を形成したり
することが出来る。特に、酸素または水素を添加するこ
とが好ましい。
The reaction gas preferably contains 0.0 or more components selected from oxygen, ozone, hydrogen peroxide, carbon dioxide, carbon monoxide, nitric oxide, nitrogen dioxide, hydrogen and nitrogen.
By containing 1 to 10% by volume, more preferably 0.1 to 5% by volume, the reaction can be promoted, the hardness of the thin film can be significantly improved, and a dense and high-quality thin film can be formed. . In particular, it is preferable to add oxygen or hydrogen.

【0051】このように、セルロースエステルフィルム
の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して金属
化合物層を設けることにより、巻き取られたロール状セ
ルロースエステルフィルムの保存安定性を著しく改善す
ることができ、巻き取り後、防眩層、クリアハードコー
ト層、反射防止層等の各種機能層を設けるまでの間に、
平面性や面品質が劣化しないロール状セルロースエステ
ルフィルムを提供することができる。特に、大気圧プラ
ズマ処理によって金属化合物層を形成した場合には、密
度の高い緻密な膜が形成されるので、セルロースエステ
ルフィルムによる吸湿を防止でき、また、強度が強く、
耐傷性に優れた光学フィルムを提供することができる。
As described above, by providing the metal compound layer on at least one surface of the cellulose ester film directly or via another layer, the storage stability of the wound roll-shaped cellulose ester film is remarkably improved. After winding, before providing various functional layers such as an antiglare layer, a clear hard coat layer and an antireflection layer,
It is possible to provide a roll-shaped cellulose ester film that does not deteriorate in flatness and surface quality. In particular, when the metal compound layer is formed by atmospheric pressure plasma treatment, a dense and dense film is formed, so that moisture absorption by the cellulose ester film can be prevented, and the strength is high,
An optical film having excellent scratch resistance can be provided.

【0052】本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィ
ルムとして好ましく用いられる。なお、従来より、セル
ロースエステルフィルムは、偏光板保護フィルムとして
好ましく用いられている。これは、鹸化処理により、偏
光板との優れた接着性が得られるためである。
The optical film of the present invention is preferably used as a polarizing plate protective film. Incidentally, conventionally, the cellulose ester film has been preferably used as a polarizing plate protective film. This is because the saponification treatment provides excellent adhesion to the polarizing plate.

【0053】本発明の光学フィルムを鹸化処理して、こ
れを偏光子と貼合することにより、偏光板を製造するこ
とができる。ここで、偏光子に貼合される光学フィルム
(偏光板保護フィルム)には、両面に金属化合物層が設
けられているのが特に好ましい。なお、本発明の光学フ
ィルムでは、セルロースエステルフィルムの少なくとも
一方の面に金属化合物層が設けられていれば、上述の効
果を期待できるので、鹸化処理を施す面に金属化合物層
を設けないようにしておくこともできる。また、光学フ
ィルムにおいて、セルロースエステルフィルムの両面に
金属化合物層が設けられている場合には、偏光子と貼合
する側の金属化合物層を強い鹸化処理により溶解させ
て、偏光板製造上の障害とならないようにすることがで
きる。
A polarizing plate can be manufactured by subjecting the optical film of the present invention to a saponification treatment and bonding it to a polarizer. Here, it is particularly preferable that the optical film (polarizing plate protective film) attached to the polarizer is provided with metal compound layers on both sides. In the optical film of the present invention, if the metal compound layer is provided on at least one surface of the cellulose ester film, the above effect can be expected, so do not provide the metal compound layer on the surface to be saponified. You can also keep it. Further, in the optical film, when the metal compound layer is provided on both sides of the cellulose ester film, the metal compound layer on the side to be bonded to the polarizer is dissolved by a strong saponification treatment, which causes an obstacle to the production of a polarizing plate. Can be prevented.

【0054】鹸化処理条件や金属化合物層の製膜条件を
コントロールすることによって、鹸化処理後に、セルロ
ースエステルフィルムの少なくとも一方の面の金属化合
物層が残るようにすることもできる。ここで、セルロー
スエステルフィルムの両面に金属化合物層を設ける場合
には、セルロースエステルフィルムの一方の面に設けら
れる金属化合物層の膜厚を、他方の面に設けられる金属
化合物層の膜厚よりも厚くするのが好ましい。これによ
り、薄い方の金属化合物層と、この金属化合物層が設け
られている側のセルロースエステルフィルムの面を鹸化
処理により溶解でき、厚い方の金属化合物層は、鹸化処
理により一部は溶解されるものの、残しておくことがで
きる。
The metal compound layer on at least one surface of the cellulose ester film can be left after the saponification treatment by controlling the saponification treatment conditions and the film formation conditions of the metal compound layer. Here, when providing the metal compound layer on both sides of the cellulose ester film, the thickness of the metal compound layer provided on one surface of the cellulose ester film, than the thickness of the metal compound layer provided on the other surface It is preferable to make it thick. Thereby, the thin metal compound layer and the surface of the cellulose ester film on the side where the metal compound layer is provided can be dissolved by the saponification treatment, and the thick metal compound layer is partially dissolved by the saponification treatment. But you can leave it.

【0055】以上のようにして、金属化合物層を有する
光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いることに
より、偏光板の耐久性を著しく改善することができる。
なお、あらかじめ金属化合物層が設けられた光学フィル
ムを鹸化処理して、偏光子と貼合する場合に限らず、セ
ルロースエステルフィルムの両面を鹸化処理した後、鹸
化処理した一方の面を残して、他方の面に、大気圧プラ
ズマ処理により金属化合物層を形成して偏光板保護フィ
ルムを作製し、この偏光板保護フィルムを偏光子と貼合
するものとしても良い。また、金属化合物層が設けられ
た光学フィルムと偏光子とを貼合して偏光板を作製する
場合に限らず、セルロースエステルフィルムを含む偏光
板保護フィルムと偏光子とを貼合した後に、偏光板保護
フィルム上に大気圧プラズマにより金属化合物層を設け
るものとしても、偏光板の耐久性を改善することができ
る。
As described above, the durability of the polarizing plate can be remarkably improved by using the optical film having the metal compound layer as the polarizing plate protective film.
The saponification treatment of the optical film provided with a metal compound layer in advance is not limited to the case of laminating with a polarizer, and after saponifying both surfaces of the cellulose ester film, one side subjected to saponification is left, A metal compound layer may be formed on the other surface by atmospheric pressure plasma treatment to prepare a polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film may be bonded to a polarizer. Further, not only in the case of producing a polarizing plate by laminating an optical film and a polarizer provided with a metal compound layer, after the polarizing plate protective film containing a cellulose ester film and the polarizer are laminated, Even when the metal compound layer is provided on the plate protective film by atmospheric pressure plasma, the durability of the polarizing plate can be improved.

【0056】より安定した耐久性を得るには、光学フィ
ルムに設けられる金属化合物層の上に、直接又は他の層
を介して、樹脂層を設けるのがより好ましい。ここで、
光学フィルムに金属化合物層が設けられていることによ
り、塗布むらやブラッシングといった塗布故障が起こり
にくく、塗布加工しやすいので、本発明の光学フィルム
は、樹脂層を設けるのにより好ましい。
In order to obtain more stable durability, it is more preferable to provide a resin layer directly or through another layer on the metal compound layer provided on the optical film. here,
Since the optical compound is provided with the metal compound layer, coating failure such as coating unevenness or brushing is less likely to occur, and the coating process is easy. Therefore, the optical film of the present invention is more preferably provided with the resin layer.

【0057】前記樹脂層としては、熱可塑性樹脂層、活
性線硬化樹脂層、又は熱硬化性樹脂層が好ましく、特に
活性線硬化樹脂層が好ましい。ここで、活性線硬化樹脂
層とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋
反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をい
う。活性線硬化樹脂層または熱硬化性樹脂層は、防眩層
として設けられるものであっても、クリアハードコート
層として設けられるものであっても良い。また、これら
樹脂層の上に、更に反射防止層や防汚層を設けることが
できる。
The resin layer is preferably a thermoplastic resin layer, an actinic ray curable resin layer, or a thermosetting resin layer, and particularly preferably an actinic ray curable resin layer. Here, the actinic radiation curable resin layer refers to a layer containing as a main component a resin which is cured by a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams. The actinic radiation curable resin layer or the thermosetting resin layer may be provided as an antiglare layer or a clear hard coat layer. Further, an antireflection layer or an antifouling layer can be further provided on these resin layers.

【0058】防眩層あるいはクリアハードコート層等の
活性線硬化樹脂層は、エチレン性不飽和モノマーを含む
成分を重合させて形成した樹脂層であることが好まし
い。活性線硬化樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子
線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、
その他、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化
する樹脂でもよい。
The actinic radiation curable resin layer such as the antiglare layer or the clear hard coat layer is preferably a resin layer formed by polymerizing a component containing an ethylenically unsaturated monomer. Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin.
In addition, a resin that is cured by irradiation with active rays other than ultraviolet rays and electron beams may be used.

【0059】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ
とが出来る。
Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin. Etc. can be mentioned.

【0060】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に、更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートと記載
した場合、メタクリレートを包含するものとする)、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有する
アクリレート系のモノマーを反応させることによって容
易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−1511
10号公報等を参照)。
The ultraviolet curable acrylic urethane resin is
In general, a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer, or a prepolymer, further includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, when described as acrylate, methacrylate is included), Two
It can be easily obtained by reacting an acrylate-based monomer having a hydroxyl group such as -hydroxypropyl acrylate (for example, JP-A-59-1511).
No. 10, etc.).

【0061】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る(例えば、特開昭59−151112号公報を参
照)。
The UV-curable polyester acrylate resin can generally be easily obtained by reacting a polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer (for example, JP-A-59-151112). See the bulletin).

【0062】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る(例えば、特開平1
−105738号公報を参照)。光反応開始剤として
は、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾ
フェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、
1種もしくは2種以上を選択して使用することが出来
る。
As a specific example of the ultraviolet-curable epoxy acrylate resin, an epoxy acrylate as an oligomer, to which a reactive diluent and a photoreaction initiator are added and reacted, can be mentioned. Kaihei 1
-105738). Examples of the photoreaction initiator include benzoin derivatives, oxime ketone derivatives, benzophenone derivatives, thioxanthone derivatives,
One kind or two or more kinds can be selected and used.

【0063】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。
Specific examples of the UV-curable polyol acrylate resin include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipenta. Examples thereof include erythritol pentaacrylate.

【0064】これらの樹脂は、通常公知の光増感剤と共
に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤として
も使用出来る。光増感剤としては、具体的には、アセト
フェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノ
ン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チ
オキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来
る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤を使用す
る際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n
−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。
塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹
脂組成物に含まれる光反応開始剤または光増感剤は、こ
の組成物の通常1〜10質量%添加することができ、添
加量は2.5〜6質量%であることがより好ましい。
These resins are usually used together with a known photosensitizer. The above photoreaction initiator can also be used as a photosensitizer. Specific examples of the photosensitizer include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. When using an epoxy acrylate-based photoreactive agent, n-butylamine, triethylamine, tri-n
-A sensitizer such as butylphosphine can be used.
The photoreaction initiator or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component which volatilizes after coating and drying can be added in an amount of usually 1 to 10% by mass of this composition, and the addition amount is 2 It is more preferably 0.5 to 6 mass%.

【0065】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニ
ル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−
シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることが出来る。
As the resin monomer, for example, a monomer having one unsaturated double bond such as methyl acrylate,
Common monomers such as ethyl acrylate, butyl acrylate, vinyl acetate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate and styrene can be mentioned. Further, as a monomer having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-
Cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyl dimethyl adiacrylate, the above-mentioned trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylic ester, etc. can be mentioned.

【0066】紫外線硬化樹脂は、例えば、アデカオプト
マーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−41
0、KR−550、KR−566、KR−567、BY
−320B(以上、旭電化工業株式会社製)、あるいは
コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、
C−302、C−401−N、C−501、M−10
1、M−102、T−102、D−102、NS−10
1、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−1
06、M−101−C(以上、広栄化学工業株式会社
製)、あるいはセイカビームPHC2210(S)、P
HC X−9(K−3)、PHC2213、DP−1
0、DP−20、DP−30、P1000、P110
0、P1200、P1300、P1400、P150
0、P1600、SCR900(以上、大日精化工業株
式会社製)、あるいはKRM7033、KRM703
9、KRM7130、KRM7131、UVECRYL
29201、UVECRYL29202(以上、ダイセ
ル・ユーシービー株式会社)、あるいはRC−501
5、RC−5016、RC−5020、RC−503
1、RC−5100、RC−5102、RC−512
0、RC−5122、RC−5152、RC−517
1、RC−5180、RC−5181(以上、大日本イ
ンキ化学工業株式会社製)、あるいはオーレックスN
o.340クリヤ(中国塗料株式会社製)、あるいはサ
ンラッドH−601(三洋化成工業株式会社製)、ある
いはSP−1509、SP−1507(昭和高分子株式
会社製)、あるいはRCC−15C(グレース・ジャパ
ン株式会社製)、アロニックスM−6100、M−80
30、M−8060(以上、東亞合成株式会社製)ある
いはこの他の市販のものから適宜選択して利用出来る。
The UV curable resin is, for example, ADEKA OPTOMER KR / BY series: KR-400, KR-41.
0, KR-550, KR-566, KR-567, BY
-320B (all manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), or Koei Hard A-101-KK, A-101-WS,
C-302, C-401-N, C-501, M-10
1, M-102, T-102, D-102, NS-10
1, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-1
06, M-101-C (all manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.), or Seika Beam PHC2210 (S), P
HC X-9 (K-3), PHC2213, DP-1
0, DP-20, DP-30, P1000, P110
0, P1200, P1300, P1400, P150
0, P1600, SCR900 (above, manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.), or KRM7033, KRM703
9, KRM7130, KRM7131, UVECRYL
29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB Co., Ltd.), or RC-501
5, RC-5016, RC-5020, RC-503
1, RC-5100, RC-5102, RC-512
0, RC-5122, RC-5152, RC-517
1, RC-5180, RC-5181 (above, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) or Aurex N
o. 340 Kuriya (Chugoku Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601 (Sanyo Kasei Co., Ltd.), SP-1509, SP-1507 (Showa High Polymer Co., Ltd.), or RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.) Company made), Aronix M-6100, M-80
30, M-8060 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) or other commercially available ones can be appropriately selected and used.

【0067】活性線硬化樹脂層は、公知の方法で塗設す
ることが出来る。活性線硬化性樹脂を光硬化反応により
硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発
生する光源を何れも使用でき、例えば、低圧水銀灯、中
圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いる
ことが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異
なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm2程度
あればよく、好ましくは、50〜2000mJ/cm2
である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけては、その
領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用
出来る。
The actinic radiation curable resin layer can be applied by a known method. As a light source for forming a cured film layer of an actinic ray curable resin by a photocuring reaction, any light source that generates ultraviolet rays can be used, and examples thereof include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, and carbon. An arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation light amount may be about 20 to 10000 mJ / cm 2 , and preferably 50 to 2000 mJ / cm 2.
Is. From the near-ultraviolet region to the visible light region, it can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in that region.

【0068】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
ては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、
エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中
から適宜選択して、あるいはこれらを混合して利用出来
る。好ましくは、プロピレングリコールモノ(炭素数1
〜4のアルキル基)アルキルエーテルやプロピレングリ
コールモノ(炭素数1〜4のアルキル基)アルキルエー
テルエステルを5質量%以上、さらに好ましくは5〜8
0質量%以上含有する溶媒が用いられる。
As the solvent for applying the actinic radiation curable resin layer, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones,
It can be used by appropriately selecting from esters, glycol ethers and other solvents, or by mixing these. Preferably, propylene glycol mono (1 carbon atom
To 4% alkyl group) alkyl ether or propylene glycol mono (alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) alkyl ether ester is 5% by mass or more, more preferably 5 to 8%.
A solvent containing 0% by mass or more is used.

【0069】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押し出しコーター、エアードクターコーター等公知
の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で
0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15
μmである。
As a method for applying the ultraviolet-curable resin composition coating solution, known methods such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater and an air doctor coater can be used. Appropriate application amount is 0.1 to 30 μm in wet film thickness, preferably 0.5 to 15
μm.

【0070】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射する。照射時間は0.5秒〜
5分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率と
から、3秒〜2分がより好ましい。
The ultraviolet curable resin composition is applied and dried, and then irradiated with ultraviolet rays from a light source. Irradiation time is 0.5 seconds
5 minutes is preferable, and 3 seconds to 2 minutes is more preferable from the viewpoint of curing efficiency and work efficiency of the ultraviolet curable resin.

【0071】ブロッキングを防止するため、また、耐擦
り傷性等を高めるために、得られた硬化皮膜層に無機あ
るいは有機の微粒子を加えることが好ましい。例えば、
無機微粒子としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ア
ルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げ
ることが出来、また有機微粒子としては、ポリメタアク
リル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリ
コン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボ
ネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミ
ン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステ
ル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹
脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げ
ることが出来、これらの微粒子粉末を紫外線硬化性樹脂
組成物に加えることが出来る。
In order to prevent blocking and to improve scratch resistance and the like, it is preferable to add inorganic or organic fine particles to the obtained cured film layer. For example,
Examples of the inorganic fine particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, calcium sulfate, and the like, and organic fine particles include polymethyl methacrylate. Acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethylmethacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, Examples thereof include polyamide-based resin powder, polyimide-based resin powder, polyfluorinated ethylene-based resin powder, and the like, and these fine particle powders can be added to the ultraviolet curable resin composition.

【0072】これらの微粒子粉末の平均粒径としては、
0.005μm〜45μmが好ましく0.01〜1μm
であることが特に好ましい。また、微粒子粉末は、樹脂
組成物(紫外線硬化樹脂組成物)100質量部に対し
て、0.1〜10質量部となるように配合することが望
ましい。
The average particle size of these fine particle powders is as follows.
0.005 μm to 45 μm is preferable and 0.01 to 1 μm
Is particularly preferable. Further, it is desirable that the fine particle powder is blended in an amount of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition (ultraviolet curable resin composition).

【0073】紫外線硬化樹脂を硬化させた層は、中心線
平均粗さRaが1〜50nmのクリアハードコート層で
あっても、Raが0.1〜1μm程度の防眩層であって
もよい。また、これらの層の上に、公知の方法で反射防
止層を形成することが出来る。
The layer obtained by curing the ultraviolet curable resin may be a clear hard coat layer having a center line average roughness Ra of 1 to 50 nm or an antiglare layer having Ra of about 0.1 to 1 μm. . Further, an antireflection layer can be formed on these layers by a known method.

【0074】金属化合物層の上に活性線硬化樹脂層を設
けた場合には、金属化合物層を設けなかった場合に比べ
て活性線硬化樹脂層の表面の硬度を硬くすることがで
き、より耐擦り傷性や鉛筆硬度の優れた光学フィルムを
得ることができる。
When the actinic radiation curable resin layer is provided on the metal compound layer, the surface hardness of the actinic radiation curable resin layer can be made harder as compared with the case where the metal compound layer is not provided, and the resistance is further improved. An optical film having excellent scratch resistance and pencil hardness can be obtained.

【0075】以上のような樹脂層が設けられている偏光
板としては、例えば、少なくとも一方の面から、反射防
止層、活性線硬化樹脂層、金属化合物層、セルロースエ
ステルフィルム、偏光子、セルロースエステルフィル
ム、金属化合物層、の順に積層される積層構造を有して
いるもの等が挙げられる。ここで、金属化合物層の膜厚
は0.01〜1μmであるのが好ましい。
The polarizing plate provided with the resin layer as described above includes, for example, an antireflection layer, an actinic radiation curable resin layer, a metal compound layer, a cellulose ester film, a polarizer, and a cellulose ester from at least one surface. Examples thereof include those having a laminated structure in which a film and a metal compound layer are laminated in this order. Here, the film thickness of the metal compound layer is preferably 0.01 to 1 μm.

【0076】金属化合物層が設けられた光学フィルム
は、位相差フィルムとしても好ましく用いられる。光学
フィルムを位相差フィルムとして用いる場合には、膜厚
方向のリターデーション値Rtが70〜300nmであ
るか、面内方向のリターデーション値Roが40〜10
00nmであるか、Rt値、Ro値それぞれが上記の範
囲内にあるのが特に好ましい。この構成とすることによ
り、環境によってこれらの特性が変動するのを極めて少
なくすることができ、耐久性に優れた位相差性能を有す
る位相差フィルムを提供することができる。
The optical film provided with the metal compound layer is also preferably used as a retardation film. When the optical film is used as the retardation film, the retardation value Rt in the film thickness direction is 70 to 300 nm or the retardation value Ro in the in-plane direction is 40 to 10 nm.
It is particularly preferable that the value is 00 nm or the Rt value and the Ro value are within the above ranges. With this configuration, it is possible to extremely reduce the fluctuation of these characteristics due to the environment, and it is possible to provide a retardation film having excellent retardation performance with excellent durability.

【0077】位相差フィルムとして本発明の光学フィル
ムを用い、透過型、半透過型、反射型の各種液晶表示装
置や、TN型、STN型、VA型、OCB型、HAN型
の各種駆動方式の液晶表示装置、プラズマディスプレ
イ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、あ
るいはその他の表示装置に利用することができる。これ
により、高温高湿環境においても位相差の変動が少な
く、表示性能の変化が少ない、安定性のある、耐久性に
優れた表示装置を提供することができる。
By using the optical film of the present invention as a retardation film, various transmissive, semi-transmissive and reflective liquid crystal display devices and various driving systems of TN type, STN type, VA type, OCB type and HAN type can be used. It can be used for a liquid crystal display device, a plasma display, an organic EL display, an inorganic EL display, or other display devices. As a result, it is possible to provide a stable and durable display device in which the fluctuation of the phase difference is small even in a high temperature and high humidity environment, the change in the display performance is small.

【0078】なお、本発明の光学フィルムにおいては、
セルロースエステルフィルムの膜厚は、10〜500μ
mであるのが好ましい。膜厚が10μmより薄いと機械
強度が不足し、また500μmを越えると取り扱い性や
加工性が悪くなるため、好ましくない。セルロースエス
テルフィルムの膜厚は、10〜200μmであるのがよ
り好ましく、特に、10〜60μmの薄膜フィルムであ
るのが好ましい。金属化合物層を設けることによる効果
が、薄膜のセルロースエステルフィルムでは特に顕著で
あるからである。
In the optical film of the present invention,
The thickness of the cellulose ester film is 10 to 500 μ.
It is preferably m. If the film thickness is less than 10 μm, the mechanical strength will be insufficient, and if it exceeds 500 μm, the handleability and processability will be poor, such being undesirable. The thickness of the cellulose ester film is more preferably 10 to 200 μm, and particularly preferably a thin film of 10 to 60 μm. This is because the effect of providing the metal compound layer is particularly remarkable in the thin cellulose ester film.

【0079】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムは、共流延法により形成された積層構造を有している
のが好ましい。より具体的には、セルロースエステルフ
ィルムは、基層の両面に表層を有する3層以上の構成で
あることが好ましい。ここで、表層には、主に滑り性を
付与するための微粒子(マット剤)が添加され、基層に
は、紫外線吸収剤や可塑剤が含まれる。紫外線吸収剤や
可塑剤のうち、ブリードアウト性の成分は、主に基層に
添加するのが好ましい。なお、表層に可塑剤を入れない
場合や、添加量や成分比率が異なる場合には、その上に
塗設する防眩層やクリアハードコート層等の塗布性が変
わる恐れがあるが、本発明では、金属化合物層を設ける
ことによりフィルムに一定の特性を持たせることができ
るので、塗布加工適性に優れたセルロースエステルフィ
ルムを提供することができる。
The cellulose ester film of the present invention preferably has a laminated structure formed by a co-casting method. More specifically, the cellulose ester film preferably has a constitution of three or more layers having surface layers on both sides of the base layer. Here, fine particles (matting agent) for mainly imparting slipperiness are added to the surface layer, and the base layer contains an ultraviolet absorber and a plasticizer. Of the ultraviolet absorber and the plasticizer, the bleed-out component is preferably added mainly to the base layer. When the plasticizer is not added to the surface layer, or when the addition amount or the component ratio is different, the coating properties of the antiglare layer, the clear hard coat layer, etc. coated thereon may change, but the present invention Then, by providing the metal compound layer, the film can have a certain property, and thus a cellulose ester film having excellent suitability for coating and processing can be provided.

【0080】本発明に用いられるセルロースエステルの
原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リ
ンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来
る。また、これらから得られたセルロースエステルは、
それぞれを単独であるいは任意の割合で混合使用するこ
とが出来るが、綿花リンターを50質量%以上使用する
ことが好ましい。
The cellulose as the raw material of the cellulose ester used in the present invention is not particularly limited, but cotton linter, wood pulp, kenaf and the like can be mentioned. In addition, the cellulose ester obtained from these,
Each can be used alone or in a mixture at an arbitrary ratio, but it is preferable to use 50% by mass or more of cotton linter.

【0081】本発明に用いられるセルロースエステル
は、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物(無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢
酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を
用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応を行っ
て得ることができる。アシル化剤が酸クロライド(CH
3COCl、C25COCl、C37COCl)の場合
には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて
反応を行って得ることができる。具体的には、特開平1
0−45804号公報に記載の方法で合成することが出
来る。
The cellulose ester used in the present invention is an organic acid such as acetic acid or methylene chloride when the acylating agent of the cellulose raw material is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can be obtained by carrying out the reaction using an organic solvent and a protic catalyst such as sulfuric acid. The acylating agent is acid chloride (CH
(3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 COCl) can be obtained by carrying out the reaction using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, JP-A-1
It can be synthesized by the method described in 0-45804.

【0082】セルロースエステルの合成においては、ア
シル基がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロー
ス分子はグルコースユニットが多数連結したものからな
っており、グルコースユニットに3個の水酸基がある。
この3個の水酸基に誘導されたアシル基の数を置換度と
いう。例えば、セルローストリアセテートでは、グルコ
ースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合し
ている。
In the synthesis of cellulose ester, the acyl group reacts with the hydroxyl group of the cellulose molecule. The cellulose molecule is composed of a large number of glucose units linked together, and each glucose unit has three hydroxyl groups.
The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution. For example, in cellulose triacetate, an acetyl group is bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit.

【0083】本発明のセルロースエステルフィルムに用
いることが出来るセルロースエステルには特に限定はな
いが、総アシル基の置換度が2.5〜3.0であること
が好ましく、特に2.6〜2.9であることが好まし
い。アシル基のうちのアセチル基の置換度が1.4以上
であるものが好ましく用いられる。アシル基の置換度
は、ASTM−D817−96に準じて測定することが
出来る。
The cellulose ester that can be used in the cellulose ester film of the present invention is not particularly limited, but the total acyl group substitution degree is preferably 2.5 to 3.0, and particularly 2.6 to 2 It is preferably 1.9. Among the acyl groups, those having a substitution degree of acetyl group of 1.4 or more are preferably used. The substitution degree of the acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.

【0084】本発明に係わるセルロースエステルは、セ
ルローストリアセテートやセルロースジアセテート等の
セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、またはセル
ロースアセテートプロピオネートブチレートのようなア
セチル基の他にプロピオネート基あるいはブチレート基
が結合したセルロースエステルであることが好ましい。
また、セルロースエステルとしては、上記の例の他に、
セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレ
ート等も挙げられる。なお、ブチレートは、n−の他に
iso−も含む。プロピオネート基の置換度が大きいセ
ルロースアセテートプロピオネートは耐水性が優れてい
る。
The cellulose ester according to the present invention includes cellulose acetate such as cellulose triacetate and cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or propionate in addition to acetyl group such as cellulose acetate propionate butyrate. A cellulose ester having a group or a butyrate group bonded thereto is preferable.
As the cellulose ester, in addition to the above examples,
Cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate, etc. may also be mentioned. Note that butyrate includes iso-in addition to n-. Cellulose acetate propionate having a large degree of substitution of propionate groups has excellent water resistance.

【0085】本発明のセルロースエステルの数平均分子
量Mn(測定法は下記)は、70,000〜250,0
00の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く、
且つ適度のドープ粘度となり好ましく、更には80,0
00〜150,000の範囲がより好ましい。また、重
量平均分子量Mwとの比Mw/Mnが1.0〜5.0の
セルロースエステルが好ましく使用され、更には1.5
〜4.5のセルロースエステルが好ましく使用される。
The number average molecular weight Mn (measurement method described below) of the cellulose ester of the present invention is 70,000 to 250,000.
In the range of 00, the mechanical strength of the obtained film is high,
It also has an appropriate dope viscosity, which is preferable, and further 80,0.
The range of 00 to 150,000 is more preferable. Further, a cellulose ester having a ratio Mw / Mn to the weight average molecular weight Mw of 1.0 to 5.0 is preferably used, and further 1.5
Cellulose esters of ˜4.5 are preferably used.

【0086】セルロースエステルの数平均分子量は、高
速液体クロマトグラフィーにより、下記条件で測定でき
る。 溶媒 :アセトン カラム :MPW×1(東ソー(株)製) 試料濃度 :0.2(質量/体積)% 流量 :1.0mL/分 試料注入量:300μL 標準試料 :ポリメチルメタクリレート(重量平均分子
量188,200) 温度 :23℃
The number average molecular weight of cellulose ester can be measured by high performance liquid chromatography under the following conditions. Solvent: Acetone column: MPW × 1 (manufactured by Tosoh Corporation) Sample concentration: 0.2 (mass / volume)% Flow rate: 1.0 mL / min Sample injection amount: 300 μL Standard sample: Polymethylmethacrylate (weight average molecular weight 188 , 200) Temperature: 23 ° C

【0087】また、セルロースエステルの製造中に使用
する、または使用材料に微量ながら混在しているセルロ
ースエステル中の金属(Ca、Mg、Fe、Na等)
は、出来るだけ少ない方が好ましく、金属の総含有量は
100ppm以下が好ましい。
Metals (Ca, Mg, Fe, Na, etc.) in the cellulose ester used during the production of the cellulose ester or mixed in the used material in a small amount.
Is preferably as small as possible, and the total metal content is preferably 100 ppm or less.

【0088】セルロースエステルを溶解したセルロース
エステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒として
は、塩素系有機溶媒のメチレンクロライド(塩化メチレ
ン)を挙げることが出来、これは、セルロースエステ
ル、特にセルローストリアセテートの溶解に適してい
る。また、非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒド
ロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサ
ン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリ
フルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ
−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパ
ノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2
−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,
3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエ
タン等を挙げることが出来る。これらの有機溶媒をセル
ローストリアセテートに対して使用する場合には、常温
での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却
溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることが、
不溶解物を少なく出来るので好ましい。
Examples of the organic solvent useful for forming a cellulose ester solution or dope in which cellulose ester is dissolved include methylene chloride (methylene chloride), which is a chlorine-based organic solvent, which is a solvent for dissolving cellulose ester, particularly cellulose triacetate. Suitable for Examples of the non-chlorine organic solvent include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoro. Ethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2
-Methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3
-Hexafluoro-2-propanol, 2,2,3
Examples thereof include 3,3-pentafluoro-1-propanol and nitroethane. When using these organic solvents for cellulose triacetate, it is possible to use a dissolution method at room temperature, but it is possible to use a dissolution method such as a high temperature dissolution method, a cooling dissolution method, or a high pressure dissolution method.
Insoluble matter can be reduced, which is preferable.

【0089】セルローストリアセテート以外のセルロー
スエステルに対しては、メチレンクロライドを用いるこ
とも出来るが、メチレンクロライドを使用せずに、酢酸
メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用すること
が出来る。特に酢酸メチルが好ましい。ここで、以下、
上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する
有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示
し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒
または主たる(有機)溶媒という。
For cellulose esters other than cellulose triacetate, methylene chloride can be used, but methyl acetate, ethyl acetate and acetone can be preferably used without using methylene chloride. Methyl acetate is particularly preferable. Where:
An organic solvent having good solubility in the above cellulose ester is referred to as a good solvent, and an organic solvent having a main effect on dissolution is referred to as a main (organic) solvent or a main (organic) solvent. .

【0090】ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜4
0質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させる
ことが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延
した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くな
ることでウェブをゲル化させ、ウェブを丈夫にし金属支
持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用
いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶
媒のセルロースエステルの溶解を促進したりする役割も
ある。
For the dope, in addition to the above organic solvent, 1 to 4
It is preferable to contain 0% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. These are gelling that, after casting the dope on the metal support, the solvent begins to evaporate and the alcohol content increases, causing the web to gel, making the web tougher and easier to peel from the metal support. It is also used as a solvent, and when these ratios are small, it also has a role of promoting dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent.

【0091】炭素原子数1〜4のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−
プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、
tert−ブタノールを挙げることが出来る。これらの
うち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥
性も良く、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ま
しい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースエステ
ルに対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。
As the alcohol having 1 to 4 carbon atoms,
Methanol, ethanol, n-propanol, iso-
Propanol, n-butanol, sec-butanol,
Mention may be made of tert-butanol. Of these, ethanol is preferable because it is excellent in stability of the dope, has a relatively low boiling point, has good drying property, and has no toxicity. These organic solvents alone have no solubility in cellulose ester and are called poor solvents.

【0092】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムは、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子
(マット剤)、リタデーション調製剤等を含有するのが
好ましい。
In the present invention, the cellulose ester film preferably contains a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, fine particles (matting agent), a retardation adjusting agent and the like.

【0093】可塑剤としては、特に限定はないが、リン
酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリ
メリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑
剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑
剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることが
出来る。
The plasticizer is not particularly limited, but it is a phosphoric acid ester plasticizer, a phthalic acid ester plasticizer, a trimellitic acid ester plasticizer, a pyromellitic acid plasticizer, a glycolate plasticizer, a quenching agent. Acid ester plasticizers, polyester plasticizers and the like can be preferably used.

【0094】リン酸エステル系では、トリフェニルホス
フェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェ
ニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、
ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホス
フェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステ
ル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタ
レート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレー
ト、ジシクロヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタ
レート等、トリメリット酸系可塑剤として、トリブチル
トリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエ
チルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑
剤として、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニ
ルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グ
リコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリ
ン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレ
ート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチル
シトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルト
リエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレ
ート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シト
レート、フタル酸ジシクロヘキシル等を好ましく用いる
ことができる。その他のカルボン酸エステルの例には、
オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバ
シン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含ま
れる。ポリエステル系可塑剤として、脂肪族二塩基酸、
脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコ
ールの共重合体を用いることが出来る。脂肪族二塩基酸
としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン
酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシル
ジカルボン酸などを用いることが出来る。グリコールと
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレング
リコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチ
レングリコール、1,2−ブチレングリコールなどを用
いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールは
それぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して用い
ても良い。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、
加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜20
質量%であることが好ましい。
In the phosphate ester system, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate,
Diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc., in the phthalate ester system, diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate,
Dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, butylbenzyl phthalate, etc. as trimellitic acid plasticizers, such as tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl trimellitate, pyromellitic acid ester plasticizers As, tetrabutylpyromellitate, tetraphenylpyromellitate, tetraethylpyromellitate, etc., in glycolic acid ester series, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethylglycolate, methylphthalylethylglycolate, butylphthalylbutylglycolate. As citric acid ester plasticizers, triethyl citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl citrate. -n-(2-ethylhexyl) citrate, it can be preferably used dicyclohexyl phthalate. Examples of other carboxylic acid esters include:
It includes butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. As a polyester plasticizer, an aliphatic dibasic acid,
A copolymer of dibasic acid such as alicyclic dibasic acid and aromatic dibasic acid and glycol can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, but adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyldicarboxylic acid and the like can be used. As glycol, ethylene glycol, diethylene glycol,
1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more. The amount of these plasticizers used depends on the film performance,
1 to 20 relative to cellulose ester in terms of processability
It is preferably mass%.

【0095】紫外線吸収剤としては、波長370nm以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸
収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系
化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリ
レート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられ
るが、これらに限定されない。又、特開平6−1484
30号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用い
られる。
As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display property. Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds, but are not limited thereto. Not done. In addition, JP-A-6-1484
The polymer ultraviolet absorber described in JP-A-30 is also preferably used.

【0096】本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例とし
て、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチル−フェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−tert−ブチル−フェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−ter
t−ブチル−5’−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−te
rt−ブチル−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−(3”,4”,
5”,6”−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5’
−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メ
チレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フ
ェノール)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert
−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチル−
フェノール<<チヌビン(TINUVIN)171>>、2
−オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル
−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
フェニル〕プロピオネートの混合物<<チヌビン(TIN
UVIN)109>>、2−(2H−ベンゾトリアゾール
−2イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニル
エチル)フェノール<<チヌビン234>>等を挙げること
が出来るが、これらに限定されない。また、上記のチヌ
ビン109、チヌビン171、チヌビン326等チヌビ
ンは何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の市
販品で、好ましく使用出来る。
Specific examples of the ultraviolet absorber useful in the present invention include 2- (2'-hydroxy-5'-methyl-phenyl) benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-).
3 ', 5'-di-tert-butyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-ter
t-Butyl-5'-methyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-te
rt-Butyl-phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4",
5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5 '
-Methyl-phenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2 '-Hydroxy-3'-tert
-Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazole-2-
Yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methyl-
Phenol << TINUVIN 171 >>, 2
-Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazole-2-
Iyl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5-
(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)
Phenyl] propionate mixture << Tinuvin (TIN
UVIN) 109 >>, 2- (2H-benzotriazol-2yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol << Tinuvin 234 >>, and the like. Not limited. All of the above-mentioned tinuvins such as tinuvin 109, tinuvin 171, and tinuvin 326 are commercial products manufactured by Ciba Specialty Chemicals and can be preferably used.

【0097】ベンゾフェノン系化合物の具体例として、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス
(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェ
ニルメタン)等を挙げることが出来るが、これらに限定
されない。
Specific examples of the benzophenone compound include:
2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane), etc. Examples include, but are not limited to:

【0098】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムに用いることのできる紫外線吸収剤は、プラズマ処理
工程の汚染が少なく、また、各種塗布層の塗布性にも優
れる為、特願平11−295209号に記載されている
分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤を含むことが好ま
しく、特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用
いることが好ましい。
Further, the ultraviolet absorber which can be used in the cellulose ester film of the present invention is less contaminated in the plasma treatment step and is excellent in the coating property of various coating layers. Therefore, it is disclosed in Japanese Patent Application No. 11-295209. It is preferable to include an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 9.2 or more, and it is particularly preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

【0099】また、特開平6−148430号公報及び
特願2000−156039号記載の高分子紫外線吸収
剤(または紫外線吸収性ポリマー)を好ましく用いるこ
とができる。特開平6−148430号の一般式
(1)、あるいは一般式(2)、あるいは特願2000
−156039の一般式(3)(6)(7)記載の高分
子紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
Further, the high molecular weight ultraviolet absorbers (or ultraviolet absorbing polymers) described in JP-A-6-148430 and Japanese Patent Application No. 2000-156039 can be preferably used. General formula (1) or general formula (2) of JP-A-6-148430, or Japanese Patent Application No. 2000
The polymeric ultraviolet absorbers represented by the general formulas (3), (6) and (7) of -156039 are particularly preferably used.

【0100】また、酸化防止剤としては、ヒンダードフ
ェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリ
チル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレ
ングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,
6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、
2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,
5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ト
リス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特
に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタ
エリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ト
リエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−
5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕が好ましい。また、例えば、N,N’−ビス〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活
性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォ
スファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。こ
れらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して
質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜10
00ppmが更に好ましい。
As the antioxidant, hindered phenol compounds are preferably used, for example, 2,
6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4)
-Hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,
6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate],
2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3
5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
Propionate], octadecyl-3- (3,5-di-
t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,
3,5-Trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, Tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)- Isocyanurate and the like can be mentioned. In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3 -(3-t-butyl-
5-Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. In addition, for example, N, N′-bis [3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
A hydrazine-based metal deactivator such as propionyl] hydrazine and a phosphorus-based processing stabilizer such as tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite may be used in combination. The addition amount of these compounds is preferably 1 ppm to 1.0% by mass ratio with respect to the cellulose ester, and 10 to 10%.
00 ppm is more preferable.

【0101】この酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれ
る。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた
場合には、セルロースエステルフィルムの劣化が起こる
場合がある。酸化防止剤は、例えば、セルロースエステ
ルフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤
のリン酸等によりセルロースエステルフィルムが分解す
るのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前
記セルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ま
しい。セルロースエステルフィルム中に添加される微粒
子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸
カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カ
オリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カ
ルシウムを挙げることが出来る。中でもケイ素を含むも
のが濁度が低くなり、また、フィルムのヘイズを小さく
出来るので好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸
化珪素のような微粒子は有機物により表面処理されてい
る場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを
低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物と
しては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザ
ン、シロキサンなどを挙げることが出来る。二酸化珪素
微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合
させたものを1000〜1200℃にて空気中で燃焼さ
せることで得ることが出来る。二酸化珪素の微粒子は、
1次平均粒子径が20nm以下、見かけ比重が70g/
L以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5〜
16nmであるのがより好ましく、5〜12nmである
のが更に好ましい。1次粒子の平均径が小さい方がヘイ
ズが低く好ましい。見かけ比重は90〜200g/L以
上がより好ましく、さらに100〜200g/L以上が
より好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の微粒子
分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が発生
せず好ましい。なお、本発明において、リットルをLで
表すこととする。微粒子の添加量は、セルロースエステ
ルフィルム1m2当たり0.01〜1.0gが好まし
く、0.03〜0.3gがより好ましく、0.08〜
0.16gが更に好ましい。これにより、セルロースエ
ステルフィルム表面に0.1〜1μmの凸部が好ましく
形成される。
This antioxidant is also called a deterioration inhibitor. When the liquid crystal image display device or the like is placed in a high humidity and high temperature state, the cellulose ester film may be deteriorated. The antioxidant, for example, has a role of delaying or preventing the decomposition of the cellulose ester film due to halogen of the residual solvent amount in the cellulose ester film or phosphoric acid of the phosphoric acid-based plasticizer, and the like. It is preferably contained in the film. Examples of the fine particles added to the cellulose ester film include inorganic compounds such as silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, and hydrated silica. Calcium acid,
Mention may be made of aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Among them, those containing silicon are preferable because they have a low turbidity and can reduce the haze of the film, and silicon dioxide is particularly preferable. Although fine particles such as silicon dioxide are often surface-treated with an organic substance, such particles are preferable because they can reduce the haze of the film. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazanes, siloxanes and the like. The silicon dioxide fine particles can be obtained, for example, by burning a mixture of vaporized silicon tetrachloride and hydrogen at 1000 to 1200 ° C. in the air. The particles of silicon dioxide are
Primary average particle diameter is 20 nm or less, apparent specific gravity is 70 g /
It is preferably L or more. The average diameter of the primary particles is 5
The thickness is more preferably 16 nm, further preferably 5 to 12 nm. The smaller the average diameter of the primary particles, the lower the haze, which is preferable. The apparent specific gravity is more preferably 90 to 200 g / L or more, and further preferably 100 to 200 g / L or more. The larger the apparent specific gravity is, the higher the concentration of the fine particle dispersion liquid can be made, and the haze and the aggregate are not generated, which is preferable. In the present invention, liter is represented by L. The amount of the fine particles added is preferably 0.01 to 1.0 g, more preferably 0.03 to 0.3 g, and 0.08 to 1 g per 1 m 2 of the cellulose ester film.
0.16 g is more preferred. As a result, convex portions of 0.1 to 1 μm are preferably formed on the surface of the cellulose ester film.

【0102】好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例
えば、日本アエロジル(株)製のアエロジルR972、
R972V、R974、R812、200、200V、
300、R202、OX50、TT600(以上日本ア
エロジル(株)製)の商品名で市販されているものを挙
げることが出来、アエロジル200V、R972、R9
72V、R974、R202、R812を好ましく用い
ることが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子としては、
例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本ア
エロジル(株)製)の商品名で市販されており、何れも
使用することが出来る。これらの中でアエロジル200
V、アエロジルR972V、アエロジルTT600が本
発明のセルロースエステルフィルムの濁度を低くし、且
つ摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
Preferred silicon dioxide fine particles include, for example, Aerosil R972 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.,
R972V, R974, R812, 200, 200V,
300, R202, OX50, and TT600 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) are commercially available. Aerosil 200V, R972, R9
72V, R974, R202 and R812 can be preferably used. As fine particles of zirconium oxide,
For example, they are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and any of them can be used. Among these Aerosil 200
V, Aerosil R972V, and Aerosil TT600 are particularly preferable because they have a large effect of reducing the turbidity and the coefficient of friction of the cellulose ester film of the present invention.

【0103】ポリマーの微粒子の例として、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来
る。これらのうちシリコーン樹脂が好ましく、特に三次
元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパ
ール103、同105、同108、同120、同14
5、同3120及び同240(東芝シリコーン(株)
製)を挙げることが出来る。
Examples of polymer fine particles include silicone resin, fluorine resin and acrylic resin. Of these, silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 14
5, 3120 and 240 (Toshiba Silicone Co., Ltd.)
Made).

【0104】微粒子の1次平均粒子径の測定において
は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒
子を観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値を
もって、1次平均粒子径とすることができる。また、上
記記載の見掛比重は、二酸化珪素微粒子を一定量メスシ
リンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出
することができる。 見掛比重(g/L)=二酸化珪素質量(g)/二酸化珪
素の容積(L)
In the measurement of the primary average particle diameter of the fine particles, the particles were observed with a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to 2,000,000 times), 100 particles were observed, and the average value was used to determine the primary average. It can be a particle size. In addition, the apparent specific gravity described above can be calculated by the following formula, by taking a certain amount of silicon dioxide fine particles in a graduated cylinder and measuring the weight at this time. Apparent specific gravity (g / L) = mass of silicon dioxide (g) / volume of silicon dioxide (L)

【0105】また、セルロースエステルフィルムは、溶
液流延製膜でつくられたものであることが好ましい。特
に、セルロースエステルを含む溶液を支持体上に流延
し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が3〜40質量%で
あるときに幅手方向に1.00〜2.0倍延伸し、さら
に乾燥させて得られたセルロースエステルフィルムであ
ることが好ましい。
The cellulose ester film is preferably made by solution casting film formation. In particular, a solution containing a cellulose ester is cast on a support, dried after peeling, and stretched 1.00 to 2.0 times in the width direction when the residual solvent amount is 3 to 40% by mass, It is preferably a cellulose ester film obtained by further drying.

【0106】以下、本発明に係わるセルロースエステル
フィルムの製膜方法について述べる。セルロースエステ
ルフィルムは溶液流延製膜方法により作製できる。
The method for forming the cellulose ester film according to the present invention will be described below. The cellulose ester film can be produced by a solution casting film forming method.

【0107】溶解工程:セルロースエステル(フレー
ク状の)に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜
中で該セルロースエステル、ポリマーや添加剤を攪拌し
ながら溶解しドープを形成する工程、あるいはセルロー
スエステル溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合して
ドープを形成する工程である。セルロースエステルの溶
解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方
法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−
95544号公報、特開平9−95557号公報、また
は特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法
で行う方法、特開平11−21379号公報に記載の如
き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来
るが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ま
しい。ドープ中のセルロースエステルの濃度は10〜3
5質量%が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤
を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して
送液ポンプで次工程に送る。
Dissolution step: a step of dissolving the cellulose ester, polymer and additives in an organic solvent mainly composed of a good solvent for cellulose ester (flakes) while stirring to form a dope, or cellulose In this step, a polymer solution or an additive solution is mixed with an ester solution to form a dope. The dissolution of the cellulose ester is carried out under normal pressure, below the boiling point of the main solvent, under pressure above the boiling point of the main solvent, and disclosed in JP-A-9-
Various melting methods, such as the method of cooling and melting as described in JP-A-95544, JP-A-9-95557 or JP-A-9-95538, and the method of performing at high pressure as described in JP-A-11-21379. Although a method can be used, a method in which the pressure is higher than the boiling point of the main solvent is preferably used. The concentration of cellulose ester in the dope is 10 to 3
5 mass% is preferable. An additive is added to the dope during or after the dissolution to dissolve and disperse it, and the dope is filtered through a filter medium, defoamed, and sent to the next step by a liquid sending pump.

【0108】流延工程:ドープを送液ポンプ(例え
ば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイに送液
し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレ
スベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体
上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延す
る工程である。ダイの口金部分のスリット形状を調整出
来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイ
には、コートハンガーダイやTダイ等があるが、何れも
好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となって
いる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上
に2基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。
あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によっ
て積層構造のセルロースエステルフィルムを得ることが
好ましい。
Casting step: An endless metal belt, such as a stainless steel belt, or a rotating metal drum, which feeds the dope to a pressure die through a liquid feed pump (for example, a pressure type fixed gear pump) and transfers it infinitely. This is a step of casting the dope from the pressure die slit at the casting position on the support. It is preferable to use a pressure die that can adjust the slit shape of the die of the die and can easily make the film thickness uniform. The pressure die includes a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film formation speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided to form multiple layers.
Alternatively, it is preferable to obtain a cellulose ester film having a laminated structure by a co-casting method in which a plurality of dopes are simultaneously cast.

【0109】溶媒蒸発工程:ウェブ(金属支持体上に
ドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとす
る)を金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが
剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒
を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び
/または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方
法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏
面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれ
らを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合
は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を
有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
Solvent Evaporation Step: A web (the dope film after casting the dope on the metal support is referred to as a web) is heated on the metal support so that the web can be peeled from the metal support. Up to the step of evaporating the solvent. To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side and / or a method of transferring heat from the back surface of the metal support by a liquid, a method of transferring heat from the front and back sides by radiant heat, and the like. Is preferable because of good drying efficiency. A method of combining them is also preferable. In the case of rear surface liquid heat transfer, it is preferable to heat at a temperature not higher than the boiling point of the main solvent of the organic solvent used for the dope or the organic solvent having the lowest boiling point.

【0110】剥離工程:金属支持体上で溶媒が蒸発し
たウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離され
たウェブは次工程に送られる。なお、剥離する時点での
ウェブの残留溶媒量(下記式)があまり大き過ぎると剥
離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過
ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたり
する。
Peeling step: This is a step of peeling the web having the solvent evaporated on the metal support at the peeling position. The peeled web is sent to the next step. In addition, if the residual solvent amount (the following formula) of the web at the time of peeling is too large, peeling is difficult, or conversely, if the web is peeled off after being sufficiently dried on the metal support, a part of the web It peels off.

【0111】ここで、製膜速度を上げる方法(残留溶媒
量が出来るだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上
げることが出来る)としてゲル流延法(ゲルキャスティ
ング)がある。例えば、ドープ中にセルロースエステル
に対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方
法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等があ
る。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げ
ておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げること
が出来るのである。金属支持体上でのウェブの乾燥が条
件の強弱、金属支持体の長さ等により5〜150質量%
の範囲で剥離することが出来るが、残留溶媒量がより多
い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時
平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発
生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の
残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支
持体上の剥離位置における温度を10〜40℃とするの
が好ましく、15〜30℃とするのがより好ましい。ま
た、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を10〜1
20質量%とすることが好ましい。残留溶媒量は下記の
式で表わすことが出来る。 残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100 ここで、Mはウェブの任意時点での質量、Nは質量Mの
ものを110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
Here, there is a gel casting method (gel casting) as a method of increasing the film forming speed (the film forming speed can be increased by peeling while the residual solvent amount is as large as possible). For example, there is a method in which a poor solvent for cellulose ester is added to the dope and gelling is performed after casting the dope, and a method in which the temperature of the metal support is lowered to cause gelation. By gelling on the metal support to increase the strength of the film at the time of peeling, the peeling can be accelerated and the film forming speed can be increased. Drying of the web on the metal support is 5 to 150% by mass depending on the strength of the condition and the length of the metal support.
However, if the web is too soft, the flatness is impaired at the time of peeling, and cracks and vertical streaks due to peeling tension tend to occur. The amount of residual solvent at the time of peeling is determined by the trade-off between quality and quality. In the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support is preferably 10 to 40 ° C, more preferably 15 to 30 ° C. In addition, the residual solvent amount of the web at the peeling position is 10 to 1
It is preferably 20% by mass. The amount of residual solvent can be represented by the following formula. Residual solvent amount (mass%) = {(M−N) / N} × 100 Here, M is the mass of the web at an arbitrary time point, and N is the mass of the mass M when dried at 110 ° C. for 3 hours. Is.

【0112】乾燥及び延伸工程:剥離後、ウェブを乾
燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する
乾燥装置、及び/またはクリップでウェブの両端をクリ
ップして搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥
する。本発明においては、クリップ間の幅手方向に対し
て1.00〜2.0倍延伸する方法として、テンター装
置を用いて延伸することが好ましい。更に好ましくは縦
及び横方向に2軸延伸されたものである。延伸倍率は目
的の光学特性(Ro、Rt)に応じて設定される。又、
位相差フィルムを製造する場合、長尺方向に一軸延伸す
ることもできる。乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹
かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエ
ーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は
出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通し
て、通常乾燥温度は40〜250℃の範囲で行われる。
使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時
間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件
を適宜選べばよい。
Drying and Stretching Process: After peeling, using a drying device that alternately conveys the web through a plurality of rolls arranged in the drying device, and / or a tenter device that clips both ends of the web with a clip and conveys the web. , Dry the web. In the present invention, it is preferable to use a tenter device as a method of stretching 1.00 to 2.0 times in the width direction between the clips. More preferably, it is biaxially stretched in the longitudinal and transverse directions. The draw ratio is set according to the desired optical characteristics (Ro, Rt). or,
When producing a retardation film, it may be uniaxially stretched in the longitudinal direction. As a drying means, hot air is generally blown on both sides of the web, but a microwave may be applied instead of the air to heat the web. Drying too rapidly tends to impair the flatness of the finished film. Throughout, the drying temperature is usually in the range of 40 to 250 ° C.
The drying temperature, the amount of drying air and the drying time vary depending on the solvent used, and the drying conditions may be appropriately selected depending on the type and combination of the solvents used.

【0113】また、光学フィルムの透過率は、90%以
上であるのが好ましく、92%以上であるのがより好ま
しく、94%以上であるのが特に好ましい。また、セル
ロースエステルフィルムのヘイズは、0〜1%であるの
が好ましく、0〜0.1%であるのが特に好ましい。光
学フィルムに防眩層を設けた場合には、光学フィルム全
体のヘイズ値は、3〜30%であるのが好ましい。
Further, the transmittance of the optical film is preferably 90% or more, more preferably 92% or more, and particularly preferably 94% or more. Further, the haze of the cellulose ester film is preferably 0 to 1%, and particularly preferably 0 to 0.1%. When the antiglare layer is provided on the optical film, the haze value of the entire optical film is preferably 3 to 30%.

【0114】また、本発明の光学フィルムにおいては、
透湿度を250g/m2・24時間以下とするのが好ま
しく、更に0〜220g/m2・24時間とするのが好
ましく、特に1〜200g/m2・24時間とするのが
好ましい。なお、透湿性が低すぎると、偏光子と貼合す
る際にポリビニルアルコール水溶液等の接着剤に含まれ
る水分の蒸発速度が遅くなり好ましくないが、セルロー
スエステルフィルム自身は透湿性・吸水性を有している
ので、本発明においては大きな問題はない。
Further, in the optical film of the present invention,
The water vapor transmission rate is preferably 250 g / m 2 · 24 hours or less, more preferably 0 to 220 g / m 2 · 24 hours, and particularly preferably 1 to 200 g / m 2 · 24 hours. If the moisture permeability is too low, the evaporation rate of water contained in an adhesive such as an aqueous polyvinyl alcohol solution at the time of bonding with a polarizer will be slow, which is not preferable, but the cellulose ester film itself has moisture permeability and water absorbency. Therefore, there is no big problem in the present invention.

【0115】また、本発明の光学フィルムは、膜厚方向
のリターデーション値Rtが0〜300nm、面内方向
のリターデーション値Roが0〜1000nmであるも
のが特に好ましく用いられる。また、本発明の光学フィ
ルムの端部には、ナーリングが設けられているのが好ま
しい。特に、ナーリングの高さは、セルロースエステル
フィルムの膜厚の25%以下であるのが好ましく、ロー
ル状フィルムの保管における安定性が改善される。
Further, as the optical film of the present invention, those having a retardation value Rt in the thickness direction of 0 to 300 nm and a retardation value Ro in the in-plane direction of 0 to 1000 nm are particularly preferably used. Further, it is preferable that knurling is provided at the end of the optical film of the present invention. In particular, the height of the knurling is preferably 25% or less of the film thickness of the cellulose ester film, and the stability of the rolled film during storage is improved.

【0116】[0116]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す「部」は、「質量部」を意味している。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, the "part" shown below means the "mass part."

【0117】[実施例1] <基材フィルムの作製>以下に示す方法に従って、基材
であるセルロースエステルフィルムを作製した。
[Example 1] <Preparation of substrate film> A cellulose ester film as a substrate was prepared according to the method described below.

【0118】(ドープの調製)以下に記載の素材を密閉
容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解、濾
過して、ドープ1〜7を調製した。なお、二酸化珪素微
粒子(アエロジルR972V)はエタノールに分散した
後に添加した。2次粒子の平均粒径は0.44μmであ
った。
(Preparation of Dope) The following materials were placed in a closed container, heated, stirred and completely dissolved and filtered to prepare dopes 1 to 7. The silicon dioxide fine particles (Aerosil R972V) were added after being dispersed in ethanol. The average particle size of the secondary particles was 0.44 μm.

【0119】 ドープ1 セルローストリアセテート(アセチル置換度2.88) 100部 トリフェニルホスフェート 8部 エチルフタリルエチルグリコレート 2部 チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 0.4部 チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 0.4部 チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 0.3部 メチレンクロライド 415部 エタノール 30部 アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.13部[0119]   Dope 1   Cellulose triacetate (acetyl substitution degree 2.88) 100 parts   Triphenyl phosphate 8 parts   Ethylphthalyl ethyl glycolate 2 parts   Chinubin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 parts   Chinubin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.4 parts   TINUVIN 326 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.3 part   Methylene chloride 415 parts   30 parts of ethanol   Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.13 parts

【0120】 ドープ2 セルローストリアセテート(アセチル置換度2.68) 100部 エチルフタリルエチルグリコレート 4部 チヌビン171 0.4部 チヌビン109 0.4部 チヌビン326 0.3部 メチレンクロライド 415部 エタノール 30部 アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.13部[0120]   Dope 2   Cellulose triacetate (acetyl substitution degree 2.68) 100 parts   Ethylphthalyl ethyl glycolate 4 parts   Chinubin 171 0.4 part   Tinuvin 109 0.4 part   Tinuvin 326 0.3 parts   Methylene chloride 415 parts   30 parts of ethanol   Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.13 parts

【0121】 ドープ3 セルローストリアセテート(アセチル置換度2.88) 100部 フタル酸ジシクロヘキシル 10部 チヌビン171 0.4部 チヌビン109 0.4部 チヌビン326 0.3部 メチレンクロライド 400部 エタノール 22部[0121]   Dope 3   Cellulose triacetate (acetyl substitution degree 2.88) 100 parts   Dicyclohexyl phthalate 10 parts   Chinubin 171 0.4 part   Tinuvin 109 0.4 part   Tinuvin 326 0.3 parts   Methylene chloride 400 parts   22 parts of ethanol

【0122】 ドープ4 セルローストリアセテート(アセチル置換度2.88) 100部 メチレンクロライド 415部 エタノール 30部 アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.15部[0122]   Dope 4   Cellulose triacetate (acetyl substitution degree 2.88) 100 parts   Methylene chloride 415 parts   30 parts of ethanol   Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.15 parts

【0123】 ドープ5 セルロースアセテートプロピオネート (アセチル置換度1.9、プロピオニル置換度0.7) 100部 トリフェニルホスフェート 8部 エチルフタリルエチルグリコレート 2部 チヌビン171 0.4部 チヌビン109 0.4部 チヌビン326 0.3部 メチレンクロライド 380部 エタノール 50部[0123]   Dope 5   Cellulose acetate propionate   (Acetyl substitution degree 1.9, propionyl substitution degree 0.7) 100 parts   Triphenyl phosphate 8 parts   Ethylphthalyl ethyl glycolate 2 parts   Chinubin 171 0.4 part   Tinuvin 109 0.4 part   Tinuvin 326 0.3 parts   Methylene chloride 380 parts   50 parts of ethanol

【0124】 ドープ6 セルロースアセテートプロピオネート (アセチル置換度1.9、プロピオニル置換度0.7) 100部 メチレンクロライド 380部 エタノール 50部 アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.16部[0124]   Dope 6   Cellulose acetate propionate   (Acetyl substitution degree 1.9, propionyl substitution degree 0.7) 100 parts   Methylene chloride 380 parts   50 parts of ethanol   Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.16 parts

【0125】 ドープ7 セルロースアセテートプロピオネート (アセチル置換度2.0、プロピオニル置換度0.8) 100部 トリフェニルホスフェート 8部 エチルフタリルエチルグリコレート 2部 チヌビン171 0.4部 チヌビン109 0.4部 チヌビン326 0.3部 酢酸エチル 250部 エタノール 80部 アエロジル R972V(日本アエロジル(株)製) 0.12部[0125]   Dope 7   Cellulose acetate propionate   (Acetyl substitution degree 2.0, propionyl substitution degree 0.8) 100 parts   Triphenyl phosphate 8 parts   Ethylphthalyl ethyl glycolate 2 parts   Chinubin 171 0.4 part   Tinuvin 109 0.4 part   Tinuvin 326 0.3 parts   250 parts ethyl acetate   80 parts of ethanol   Aerosil R972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.12 part

【0126】(セルロースエステルフィルムの作製)得
られたドープ1〜7を用いて、以下のようにして下記の
表1に記載のセルロースエステルフィルム1〜15をそ
れぞれ作製した。まず、ドープを濾過した後、ベルト流
延装置を用い、ドープ温度34℃で33℃のステンレス
バンド支持体上に均一に流延した。支持体上で60秒間
乾燥させた後、ステンレスバンド支持体上からウェブを
剥離した。ここで、セルロースエステルフィルム12〜
15は共流延法により積層構成とした。すなわち、2種
のドープを1つのダイの中で合流させて流延し、3層構
成とした。
(Production of Cellulose Ester Film) Using the obtained dopes 1 to 7, cellulose ester films 1 to 15 shown in Table 1 below were produced as follows. First, the dope was filtered and then uniformly cast on a stainless band support at 33 ° C. at a dope temperature of 34 ° C. using a belt casting device. After being dried on the support for 60 seconds, the web was peeled off from the stainless band support. Here, the cellulose ester film 12-
No. 15 has a laminated structure by the co-casting method. That is, two types of dope were combined in one die and cast to form a three-layer structure.

【0127】ステンレスバンド支持体から剥離した後、
80℃の雰囲気でロール搬送し、縦方向に搬送張力をか
けながら乾燥させた後、テンターで、残留溶媒量10%
のときに80℃の雰囲気内で幅方向に延伸した(なお、
セルロースエステルフィルム15については、テンター
を用いた幅手方向の延伸は行わず、長手方向に延伸し
た)。その後、幅保持を解放して、さらにロール搬送し
ながら120℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィル
ム両端に幅10mm、所定の高さのナーリング加工を施
して、ロール状に巻き取り、セルロースエステルフィル
ム1〜15を作製した。表1に、各々のドープから形成
された層の乾燥膜厚を示す。
After peeling from the stainless band support,
After roll-conveying in an atmosphere of 80 ° C and drying while applying conveyance tension in the longitudinal direction, the amount of residual solvent is 10% in a tenter.
At that time, the film was stretched in the width direction in an atmosphere of 80 ° C (note that
The cellulose ester film 15 was stretched in the longitudinal direction without stretching in the width direction using a tenter). After that, the width retention is released, the drying is completed in the drying zone at 120 ° C. while the roll is further conveyed, the both ends of the film are subjected to knurling with a width of 10 mm and a predetermined height, and the film is wound into a roll, and the cellulose ester is used. Films 1 to 15 were produced. Table 1 shows the dry film thickness of the layer formed from each dope.

【表1】 [Table 1]

【0128】また、得られたセルロースエステルフィル
ム1〜15に、連続的に大気圧プラズマ処理を行って酸
化珪素層を片面もしくは両面に形成し、下記の表2に記
載の光学フィルム1〜30を得た。フィルム幅は130
0mm、巻き取り長は2500mとした。
Further, the obtained cellulose ester films 1 to 15 were continuously subjected to atmospheric pressure plasma treatment to form a silicon oxide layer on one side or both sides, and the optical films 1 to 30 shown in Table 2 below were obtained. Obtained. Film width is 130
The winding length was 0 mm and the winding length was 2500 m.

【0129】ここで、大気圧プラズマ処理においては、
対向する電極間に下記の放電条件で放電することによ
り、反応ガスをプラズマ状態とし、このプラズマ状態の
反応ガスにフィルムを晒すことにより、フィルムの表面
に酸化珪素層を形成した。 放電条件 電源周波数 800kHz 電力 10W/cm2 気圧 大気圧+0.1kPa 反応ガス 不活性ガス:アルゴン 99.0体積% 反応ガス1:酸素ガス 0.7体積% 反応ガス2:テトラエトキシシラン蒸気(アルゴンガス
にてバブリング)0.3体積%
Here, in the atmospheric pressure plasma treatment,
A reaction gas was brought into a plasma state by discharging between opposing electrodes under the following discharge conditions, and the film was exposed to the reaction gas in the plasma state to form a silicon oxide layer on the surface of the film. Discharge conditions Power frequency 800 kHz Electric power 10 W / cm 2 atmosphere Atmospheric pressure +0.1 kPa Reactive gas Inert gas: Argon 99.0 vol% Reactive gas 1: Oxygen gas 0.7 vol% Reactive gas 2: Tetraethoxysilane vapor (Argon gas Bubbling in) 0.3% by volume

【0130】<炭素含有率の測定>作製した光学フィル
ム1〜15の炭素含有率を、XPS(X-ray Photoelect
ron Spectroscopy)表面分析装置を用いて測定した。X
PS表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機
種も使用することができるが、本実施例においてはVG
サイエンティフィックス社製ESCALAB−200R
を用いた。X線アノードにはMgを用い、出力600W
(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測
定した。エネルギー分解能は、清浄なAg3d5/2ピ
ークの半値幅で規定したとき、1.5〜1.7eVとな
るように設定した。
<Measurement of Carbon Content> The carbon content of each of the optical films 1 to 15 prepared was measured by XPS (X-ray Photoelect).
ron Spectroscopy) was measured using a surface analyzer. X
The PS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used, but in this embodiment, the VG is used.
ESCALAB-200R made by Scientific Fix Co.
Was used. Mg is used for the X-ray anode and the output is 600W
(Acceleration voltage 15 kV, emission current 40 mA). The energy resolution was set to be 1.5 to 1.7 eV when defined by the full width at half maximum of a clean Ag3d5 / 2 peak.

【0131】測定をおこなう前に、汚染による影響を除
くために、フィルム膜厚の10〜20%の厚さに相当す
る表面層をエッチング除去する必要がある。この表面層
の除去には、希ガスイオンが利用できるイオン銃を用い
ることが好ましく、イオン種としては、He、Ne、A
r、Xe、Krなどが利用できる。本測定においては、
Arイオンエッチングを用いて表面層を除去した。
Before carrying out the measurement, it is necessary to etch away the surface layer corresponding to 10 to 20% of the film thickness in order to eliminate the influence of contamination. For removing the surface layer, it is preferable to use an ion gun capable of utilizing rare gas ions, and as the ion species, He, Ne, A
r, Xe, Kr, etc. can be used. In this measurement,
The surface layer was removed using Ar ion etching.

【0132】XPS表面分析において、結合エネルギー
0eVから1100eVの範囲を、データ取り込み間隔
1.0eVで測定し、いかなる原子が検出されるかを求
めた。
In the XPS surface analysis, the binding energy range from 0 eV to 1100 eV was measured at a data acquisition interval of 1.0 eV to determine which atom was detected.

【0133】次に、検出された、エッチングイオン種を
除く全ての原子について、データの取り込み間隔を0.
2eVとして、その最大強度を与える光電子ピークにつ
いてナロースキャンをおこない、各原子のスペクトルを
測定した。得られたスペクトルは、測定装置、あるい
は、コンピューターの違いによる含有率算出結果の違い
を生じせしめなくするために、VAMAS−SCA−J
APAN製のCOMMON DATA PROCESS
ING SYSTEM (Ver.2.3以降が好まし
い。ここでは、Ver.2.3を使用した)上に転送し
た後、同ソフトで処理をおこない、炭素含有率の値を原
子数濃度(atomic concentration)として求めた。
Next, with respect to all the detected atoms except for the etching ion species, the data acquisition interval is set to 0.
At 2 eV, a narrow scan was performed on the photoelectron peak giving the maximum intensity, and the spectrum of each atom was measured. The obtained spectrum is VAMAS-SCA-J in order to prevent the difference in the content calculation result due to the difference of the measuring device or the computer.
APAN-made COMMON DATA PROCESS
ING SYSTEM (Ver. 2.3 or later is preferable. Here, Ver. 2.3 was used), and then the same software was used to process the value of carbon content to atomic concentration (atomic concentration). Sought as.

【0134】定量処理をおこなう前に、各原子について
Count Scaleのキャリブレーションをおこな
い、5ポイントのスムージング処理をおこなった。定量
処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強
度(cps*eV)を用いた。バックグラウンド処理に
は、Shirleyによる方法を用いた。Shirle
y法については、D.A.Shirley,Phys.
Rev.,B5,4709(1972)を参考にするこ
とができる。測定の結果、形成した酸化珪素層の炭素含
有率は0.5%であった。
Before performing the quantitative treatment, the Count Scale was calibrated for each atom, and the 5-point smoothing treatment was performed. In the quantitative treatment, the peak area intensity (cps * eV) from which the background was removed was used. The method by Shirley was used for the background treatment. Shirle
For the y method, see D.Y. A. Shirley, Phys.
Rev. , B5, 4709 (1972) can be referred to. As a result of the measurement, the carbon content of the formed silicon oxide layer was 0.5%.

【0135】<高温高湿の巻き形状変化>光学フィルム
1〜15をそれぞれロール状に2000m巻き取ったも
のを埃付着防止のためのビニールシートで覆い、これを
35℃、80%RH(relativehumidity)の環境下に2
週間放置し、巻き状態での表面の形状の変化を目視で確
認した。比較として、これらの層を形成していないロー
ル状に巻き取ったセルロースエステルフィルム1〜15
についても形状変化を確認した(比較例31〜45)。
<High-Temperature and High-Humidity Rolling Shape Change> Each of the optical films 1 to 15 wound in a roll shape for 2000 m is covered with a vinyl sheet for preventing dust adhesion, and this is wrapped at 35 ° C. and 80% RH (relative humidity). Under the environment of 2
After leaving it for a week, the change of the surface shape in the wound state was visually confirmed. As a comparison, cellulose ester films 1 to 15 wound in a roll shape without forming these layers.
The shape change was also confirmed (Comparative Examples 31 to 45).

【0136】以下に、巻き形状変化の確認結果を示す。 ◎:変化は認められない。 ○:ロールの表面に弱い皺が認められる。 △:ロール表面付近には著しい形状の劣化があり、皺や
凹みが全面に認められる。 ×:ロール表面には著しい形状の劣化があり、皺や凹み
が全面に認められ、さらにロールの内部まで形状の劣化
が及んでいる。
The results of confirmation of changes in the winding shape are shown below. A: No change is observed. ◯: Weak wrinkles are recognized on the surface of the roll. Δ: The shape is significantly deteriorated near the roll surface, and wrinkles and dents are observed on the entire surface. X: The surface of the roll is significantly deteriorated in shape, wrinkles and dents are observed on the entire surface, and the shape of the roll is also deteriorated.

【表2】 ここで、流延の際にステンレスバンド支持体に接してい
た面をB面とし、その反対側をA面としている。
[Table 2] Here, the surface that was in contact with the stainless band support during casting was designated as surface B, and the opposite side was designated as surface A.

【0137】[実施例2]下記の方法に従って、実施例
1で作製した光学フィルム1〜15の酸化珪素層の上に
クリアハードコート層をそれぞれ設け、光学フィルム4
6〜60を作製した。
Example 2 According to the following method, a clear hard coat layer was provided on each of the silicon oxide layers of the optical films 1 to 15 produced in Example 1 to form an optical film 4.
6-60 were produced.

【0138】<クリアハードコート層(CHC層)の塗
設>下記の塗布組成物(1)をグラビアコートし、次い
で80℃に設定された乾燥部で乾燥した後、118mJ
/cm2で紫外線照射し、乾燥膜厚で3μmの中心線平
均粗さ(Ra)10nmのクリアハードコート層を設け
た。ここで、上記の中心線平均粗さ(Ra)は、JIS
B 0601で規定される値である。
<Coating of Clear Hard Coat Layer (CHC Layer)> The following coating composition (1) was gravure coated and then dried in a drying section set at 80 ° C., then 118 mJ
/ Cm 2 was irradiated with ultraviolet rays to form a clear hard coat layer having a dry film thickness of 3 μm and a center line average roughness (Ra) of 10 nm. Here, the above-mentioned center line average roughness (Ra) is JIS
It is a value defined by B0601.

【0139】 塗布組成物(1)(クリアハードコート層(CHC層)塗布組成物) ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4部 酢酸エチル 50部 メチルエチルケトン 50部 イソプロピルアルコール 50部[0139]   Coating composition (1) (clear hard coat layer (CHC layer) coating composition)   Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts   Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts   Dipentaerythritol hexaacrylate trimer 20 parts or more   Dimethoxybenzophenone photoinitiator 4 parts   50 parts of ethyl acetate   Methyl ethyl ketone 50 parts   Isopropyl alcohol 50 parts

【0140】また、下記の方法に従って、光学フィルム
1〜15の酸化珪素層の上に防眩層をそれぞれ設け、光
学フィルム61〜75を作製した。いずれも塗布すじや
ブラッシングも発生せず、良好な塗布性であった。
Further, according to the following method, antiglare layers were respectively provided on the silicon oxide layers of the optical films 1 to 15 to produce optical films 61 to 75. In all cases, coating streaks and brushing did not occur, and the coating properties were good.

【0141】<防眩層の塗設>下記の素材を高速攪拌機
(TKホモミキサー、特殊機化工業(株)製)で攪拌し
た後、衝突型分散機(マントンゴーリン、ゴーリン
(株)製)で分散した。 酢酸エチル 50部 メチルエチルケトン 50部 イソプロピルアルコール 50部 アエロジルR972V(1次粒子平均粒径16nm) (日本アエロジル(株)製)) 5部
<Coating of Antiglare Layer> After stirring the following materials with a high-speed stirrer (TK homomixer, manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), a collision type disperser (Manton Gorin, manufactured by Gorin Co., Ltd.) Dispersed. Ethyl acetate 50 parts Methyl ethyl ketone 50 parts Isopropyl alcohol 50 parts Aerosil R972V (primary particle average particle size 16 nm) (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 5 parts

【0142】分散後、下記の成分を添加し、塗布組成物
(2)(防眩層(AG層)塗布組成物)を調製した。 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4部 得られた塗布組成物(2)をグラビアコートし、次いで
80℃に設定された乾燥部で乾燥した後、118mJ/
cm2で紫外線照射し、乾燥膜厚で4μmの防眩層(中
心線平均粗さ(Ra)0.25μm)を設けた。
After dispersion, the following components were added to prepare coating composition (2) (antiglare layer (AG layer) coating composition). Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts Dipentaerythritol hexaacrylate trimer The above components 20 parts Dimethoxybenzophenone photoreaction initiator 4 parts Coating composition obtained (2) Is gravure-coated and then dried in a drying section set at 80 ° C., then 118 mJ /
Ultraviolet irradiation was performed at a cm 2 to provide an antiglare layer (center line average roughness (Ra) of 0.25 μm) having a dry film thickness of 4 μm.

【0143】作製した光学フィルム46〜75につい
て、実施例1と同様にして高温高湿の巻き形状変化の評
価を行った。光学フィルム46〜75いずれについて
も、高温高湿処理による巻き状態の変化は認められなか
った。
With respect to the produced optical films 46 to 75, the change in the winding shape under high temperature and high humidity was evaluated in the same manner as in Example 1. No change in the winding state due to the high temperature and high humidity treatment was observed in any of the optical films 46 to 75.

【0144】[実施例3]実施例1で作製した光学フィ
ルム4、5、14、15、19、20、29、30、3
4、35、44、45について、23℃、55%RHに
24時間放置した後、自動複屈折率計KOBRA−21
ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、5
5%RHの環境下で、波長590nmで3次元屈折率測
定を行い、膜厚方向のリターデーション値Rtと面内方
向のリターデーション値Roを求めた。また、これらの
サンプルを、35℃、80%RHに72時間放置した
後、同様に3次元屈折率測定を行い、リターデーション
値Rt、Roを求め、高温高湿処理前後の変動を求め
た。結果を表3に示す。
[Example 3] Optical films 4, 5, 14, 15, 19, 20, 29, 30, 3 produced in Example 1
4, 35, 44 and 45 were left at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, and then the automatic birefringence meter KOBRA-21
Using ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), 23 ° C, 5
Three-dimensional refractive index measurement was performed at a wavelength of 590 nm in an environment of 5% RH, and a retardation value Rt in the film thickness direction and a retardation value Ro in the in-plane direction were obtained. Further, these samples were allowed to stand at 35 ° C. and 80% RH for 72 hours, and then the three-dimensional refractive index was similarly measured to obtain retardation values Rt and Ro, and variations before and after the high temperature and high humidity treatment. The results are shown in Table 3.

【表3】 比較例である34、35、44、45では、Rt値、R
o値がいずれも低減しているのに対し、光学フィルム
4、5、14、15では、Rt値、Ro値の変動はほと
んど認められなかった。また、光学フィルム19、2
0、29、30については、Rt値、Ro値の変動は認
められなかった。
[Table 3] In Comparative Examples 34, 35, 44 and 45, the Rt value, R
While the o values were all reduced, the optical films 4, 5, 14, and 15 showed almost no fluctuations in the Rt value and the Ro value. In addition, the optical films 19 and 2
Regarding 0, 29 and 30, no change in Rt value and Ro value was observed.

【0145】[実施例4]実施例1で作製したセルロー
スエステルフィルム12のA面に、実施例1と同様の条
件で、プラズマ処理により膜厚0.3μmの酸化珪素層
を設け、同様にして、B面に膜厚0.01μmの酸化珪
素層を設け、光学フィルム76を得た。光学フィルム7
6のB面側に設けられた酸化珪素層の上に、実施例2記
載の方法でクリアハードコート層を設け、光学フィルム
77とした。また、光学フィルム76のB面側に設けら
れた酸化珪素層の上に、実施例2記載の方法で防眩層を
設け、光学フィルム78とした。
Example 4 A silicon oxide layer having a thickness of 0.3 μm was formed by plasma treatment on the A side of the cellulose ester film 12 produced in Example 1 under the same conditions as in Example 1, and the same procedure was performed. A silicon oxide layer having a film thickness of 0.01 μm was provided on the surfaces B and B to obtain an optical film 76. Optical film 7
A clear hard coat layer was provided on the silicon oxide layer provided on the B side of 6 by the method described in Example 2 to obtain an optical film 77. Further, an antiglare layer was provided on the silicon oxide layer provided on the B surface side of the optical film 76 by the method described in Example 2 to obtain an optical film 78.

【0146】実施例1で作製したセルロースエステルフ
ィルム1のA面に、下記のように放電条件を変更した点
以外は実施例1と同様の方法で、プラズマ処理により膜
厚0.05μmの酸化珪素層を設け、下記のように放電
条件を変更した点以外は同様にして、B面に膜厚0.5
μmの酸化珪素層を設け、光学フィルム79を得た。
A silicon oxide film having a thickness of 0.05 μm was formed by plasma treatment in the same manner as in Example 1 except that the discharge conditions were changed as follows on the A side of the cellulose ester film 1 produced in Example 1. A layer having a thickness of 0.5 is formed on the B side in the same manner except that the discharge conditions are changed as described below.
An optical film 79 was obtained by providing a silicon oxide layer having a thickness of μm.

【0147】放電条件(A面側) 周波数 200kHz 電力 2W/cm2 反応ガス アルゴン 98.7% 水素 1% テトラエトキシシラン 0.25%(アルゴンガスでバ
ブリング) ジメチルジエトキシシラン 0.05%(アルゴンガス
でバブリング) ここで、A面側に設けられた酸化珪素膜の炭素含有量
は、6%であった。
Discharge conditions (Side A side) Frequency 200 kHz Power 2 W / cm 2 Reaction gas Argon 98.7% Hydrogen 1% Tetraethoxysilane 0.25% (Bubbling with argon gas) Dimethyldiethoxysilane 0.05% (Argon Bubbling with gas) Here, the carbon content of the silicon oxide film provided on the A surface side was 6%.

【0148】放電条件(B面側) 周波数 2MHz 電力 8W/cm2 反応ガス アルゴン 98.7% 水素 1% テトラエトキシシラン 0.25%(アルゴンガスでバ
ブリング) ジメチルジエトキシシラン 0.05%(アルゴンガス
でバブリング) ここで、B面側に設けられた酸化珪素膜の炭素含有量
は、2%であった。
Discharge conditions (B side) Frequency 2 MHz Power 8 W / cm 2 Reactive gas Argon 98.7% Hydrogen 1% Tetraethoxysilane 0.25% (Bubbling with argon gas) Dimethyldiethoxysilane 0.05% (Argon Bubbling with gas) Here, the carbon content of the silicon oxide film provided on the B surface side was 2%.

【0149】光学フィルム79のB面側に設けられた酸
化珪素層の上に、実施例2記載の方法でクリアハードコ
ート層を設け、光学フィルム80とした。また、光学フ
ィルム79のB面側に設けられた酸化珪素層の上に、実
施例2記載の方法で防眩層を設け、光学フィルム81と
した。
On the silicon oxide layer provided on the B side of the optical film 79, a clear hard coat layer was provided by the method described in Example 2 to obtain an optical film 80. Further, an antiglare layer was provided on the silicon oxide layer provided on the B surface side of the optical film 79 by the method described in Example 2 to obtain an optical film 81.

【0150】光学フィルム76〜81をロール状に巻き
取り、実施例1と同様にして高温高湿の巻き形状変化の
評価を行った。高温高湿条件で保管しても、巻き形状の
劣化は認められなかった。
The optical films 76 to 81 were wound into rolls, and the change in the winding shape under high temperature and high humidity was evaluated in the same manner as in Example 1. No deterioration of the winding shape was observed even when stored under high temperature and high humidity conditions.

【0151】実施例1で作製した長尺のセルロースエス
テルフィルム1を、2mol/Lの水酸化ナトリウム溶
液に50℃で80秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ、
更に実施例1と同様の方法でB面側に膜厚0.2μmの
酸化珪素層をプラズマ処理で形成し、これを光学フィル
ム82とした。また、セルロースエステルフィルム1を
実施例1で作製した長尺のセルロースエステルフィルム
12に変えた点以外は同様にして、B面側に膜厚0.3
μmの酸化珪素層をプラズマ処理で形成し、これを光学
フィルム83とした。
The long cellulose ester film 1 produced in Example 1 was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 80 seconds, then washed with water and dried,
Further, in the same manner as in Example 1, a silicon oxide layer having a film thickness of 0.2 μm was formed on the B side by plasma treatment, and this was used as an optical film 82. Further, the cellulose ester film 1 was replaced with the long cellulose ester film 12 produced in Example 1 in the same manner, and the film thickness on the side B was 0.3.
A μm silicon oxide layer was formed by plasma treatment, and this was used as an optical film 83.

【0152】長尺の光学フィルム76〜81を、2mo
l/Lの水酸化ナトリウム溶液に55℃で90秒間浸漬
し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理された光学フィ
ルム76〜81を得た。長尺の光学フィルム1、12
を、2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に45℃で3
0秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理され
た光学フィルム1、12を得た。
The long optical films 76 to 81 are set to 2 mo.
It was dipped in a 1 / L sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 90 seconds, washed with water and dried to obtain saponified optical films 76 to 81. Long optical film 1, 12
In a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 45 ° C.
It was dipped for 0 seconds, washed with water and dried to obtain saponified optical films 1 and 12.

【0153】実施例1で作製したセルロースエステルフ
ィルム1、12に、実施例2記載の方法でクリアハード
コート層を設け、これにより得られた長尺フィルムを、
各々2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に55℃で9
0秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理を行
った。これらは後述する偏光板21、23の作製にそれ
ぞれ使用した。偏光板21のクリアハードコート層の鉛
筆硬度は2Hであったのに対し、偏光板1〜19は3H
であり優れていることが確認された。鉛筆硬度は、JI
S K−5400に従って測定した。
A clear hard coat layer was provided on the cellulose ester films 1 and 12 produced in Example 1 by the method described in Example 2, and the long film thus obtained was
9 mol at 2 ℃ / L of sodium hydroxide solution at 55 ℃
It was dipped for 0 second, washed with water and dried to perform saponification treatment. These were used for producing the polarizing plates 21 and 23 described later, respectively. While the clear hard coat layer of the polarizing plate 21 had a pencil hardness of 2H, the polarizing plates 1 to 19 had a pencil hardness of 3H.
It was confirmed that it was excellent. Pencil hardness is JI
It was measured according to SK-5400.

【0154】鹸化処理された光学フィルムを偏光板用保
護フィルムとして用い、下記の方法に従って、下記の表
4に記載された偏光板1〜23を作製した。 <偏光膜の作製>厚さ120μmの長尺なポリビニルア
ルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍
率5倍)した。これを、ヨウ素0.08g、ヨウ化カリ
ウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間
浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、
水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。
その後、これを水洗、乾燥して、長尺な偏光膜を得た。
Using the saponified optical film as a protective film for a polarizing plate, polarizing plates 1 to 23 shown in Table 4 below were produced according to the following method. <Production of Polarizing Film> A long polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution containing 0.08 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then 6 g of potassium iodide and 7.5 g of boric acid,
It was immersed in a 68 ° C. aqueous solution consisting of 100 g of water.
Then, this was washed with water and dried to obtain a long polarizing film.

【0155】<偏光板の作製>次いで、下記工程1〜5
に従って、得られた偏光膜と光学フィルムとを貼り合わ
せて、偏光板を作製した。 工程1:本発明の光学フィルム又はセルロースエステル
フィルムを、偏光板保護フィルムとして、前述の方法で
各々鹸化処理した。 工程2:前述の長尺な偏光膜を、固形分2質量%のポリ
ビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒間浸漬した。 工程3:工程2で偏光膜に過剰に付着した接着剤を軽く
取り除き、これを表4の組み合わせで偏光板保護フィル
ムの鹸化処理面で挟み込んで、積層配置した。 工程4:2つの回転するローラにより、20〜30N/
cm2の圧力、約2m/minの速度で、偏光膜と光学
フィルムを貼り合わせた。このとき、気泡が入らないよ
うに注意した。 工程5:工程4で作製した試料を80℃の乾燥機中で乾
燥処理し、偏光板を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate> Next, the following steps 1 to 5
According to the above, the obtained polarizing film and the optical film were attached to each other to prepare a polarizing plate. Step 1: The optical film or cellulose ester film of the present invention was saponified by the above method as a polarizing plate protective film. Step 2: The long polarizing film described above was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds. Step 3: The adhesive excessively attached to the polarizing film in Step 2 was lightly removed, and the combination of Table 4 was sandwiched between the saponification treated surfaces of the polarizing plate protective film, and laminated. Step 4: 20-30 N / with two rotating rollers
The polarizing film and the optical film were bonded together at a pressure of cm2 and a speed of about 2 m / min. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering. Step 5: The sample prepared in Step 4 was dried in a dryer at 80 ° C. to prepare a polarizing plate.

【0156】<耐久性試験>偏光板1〜23を65℃、
95%RHの高温高湿条件下で、12日間放置し、その
前後の偏光度の変化量を求めた。ここで、測定検体であ
る二枚の偏光板を、それぞれの偏光子の配向方向が同一
になるように重ねた場合の透過率を平行位透過率Tpと
し、二枚の偏光板を、それぞれの偏光子の配向が直交す
るように重ねた場合の透過率を直交位透過率Tcとし、
下記式(3)により偏光度Pを算出した。
<Durability Test> Polarizing plates 1 to 23 were heated to 65 ° C.
It was left for 12 days under a high temperature and high humidity condition of 95% RH, and the amount of change in polarization degree before and after that was determined. Here, the transmittance when the two polarizing plates which are the measurement samples are stacked so that the orientation directions of the respective polarizers are the same is defined as the parallel transmittance Tp, and the two polarizing plates are respectively The transmittance in the case where the polarizers are stacked so that the orientations thereof are orthogonal to each other is defined as an orthogonal transmittance Tc,
The polarization degree P was calculated by the following formula (3).

【数1】 [Equation 1]

【0157】以下に、耐久性試験の結果を示す。 ◎ 偏光度変化量 0%以下、かつ、−0.3
%より大 ○ 偏光度変化量 −0.3%以下、かつ、−0.5
%より大 △ 偏光度変化量 −0.5%以下、かつ、−1.0
%より大 × 偏光度変化量 −1.0%以下、かつ、−2.0
%より大 ×× 偏光度変化量 −2.0%以下
The results of the durability test are shown below. ◎ Polarization degree change 0% or less, and -0.3
% Greater than the degree of polarization change −0.3% or less, and −0.5
% Polarization change amount −0.5% or less, and −1.0
% Greater than the degree of polarization change −1.0% or less, and −2.0
%% xx Polarization degree change -2.0% or less

【表4】 本発明の光学フィルム75〜83を偏光板保護フィルム
として用いた偏光板1〜19は、高温高湿処理を行って
も偏光度の変動は著しく低く、耐久性に優れることが確
認された。また、本発明の光学フィルムに鹸化処理を施
すことも可能であり、偏光板保護フィルムとして特に好
ましいことが確認された。
[Table 4] It has been confirmed that the polarizing plates 1 to 19 using the optical films 75 to 83 of the present invention as the polarizing plate protective film have excellent fluctuations in the degree of polarization even when subjected to high temperature and high humidity treatment and have excellent durability. It was also confirmed that the optical film of the present invention can be subjected to saponification treatment, which is particularly preferable as a polarizing plate protective film.

【0158】[実施例5]市販の液晶表示パネル(NE
C製 カラー液晶ディスプレイ MultiSync
LCD1525J 型名 LA−1529HM)の最表
面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせ
た耐久性試験後の偏光板1〜23を各々貼り付けた。そ
の結果、本発明の偏光板である偏光板1〜19では、コ
ントラストも高く、高い表示性能を維持していた。一
方、比較の偏光板20〜23では、明らかにコントラス
トが低いことが認められた。
Example 5 Commercially available liquid crystal display panel (NE
Color liquid crystal display made by C MultiSync
The polarizing plate on the outermost surface of LCD1525J (model name: LA-1529HM) was carefully peeled off, and the polarizing plates 1 to 23 after the durability test in which the polarization directions were matched were attached to each. As a result, in the polarizing plates 1 to 19 which are the polarizing plates of the present invention, the contrast was high and the high display performance was maintained. On the other hand, it was confirmed that the contrasts of the comparative polarizing plates 20 to 23 were clearly low.

【0159】[0159]

【発明の効果】本発明によれば、セルロースエステルフ
ィルムの少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介し
て、酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方
と金属原子とを含んで構成される金属化合物層が設けら
れているので、ロール状セルロースエステルフィルムの
平面性や面品質が悪化するのを防止することができる。
また、金属化合物層が設けられていることにより、巻き
取られたロール状セルロースエステルフィルムの保存安
定性を著しく改善することができる。また、塗布むらや
ブラッシングといった塗布故障を起こりにくくさせて、
フィルムへの塗布性を改善することができる。また、大
気圧プラズマ処理によって金属化合物層を設けることに
より、密度の高い緻密な膜が形成されるので、セルロー
スエステルフィルムによる吸湿を防止することができ
る。
According to the present invention, at least one of oxygen atom and nitrogen atom and a metal atom are formed on at least one surface of the cellulose ester film directly or through another layer. Since the metal compound layer is provided, it is possible to prevent the flatness and surface quality of the rolled cellulose ester film from being deteriorated.
Further, since the metal compound layer is provided, the storage stability of the rolled cellulose ester film can be significantly improved. Also, to prevent coating failures such as uneven coating and brushing,
The coating property on the film can be improved. Further, since the dense metal film is formed by providing the metal compound layer by the atmospheric pressure plasma treatment, moisture absorption by the cellulose ester film can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の金属化合物層の薄膜形成に用いられる
プラズマ放電処理装置の一例を示す図面である。
FIG. 1 is a view showing an example of a plasma discharge treatment apparatus used for forming a thin film of a metal compound layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラズマ放電処理装置 2 回転電極 3 対向電極 F 基材フィルム G 反応ガス 10・11 電圧供給手段 1 Plasma discharge treatment device 2 rotating electrodes 3 Counter electrode F Base film G reaction gas 10.11 Voltage supply means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/30 G02F 1/1335 510 4F205 G02F 1/1335 510 1/13363 1/13363 B29K 1:00 // B29K 1:00 B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 1:10 C08L 1:10 G02B 1/10 Z Fターム(参考) 2H049 BA02 BA25 BA27 BB33 BB43 BB51 BC03 BC14 BC22 2H091 FA08 FA11 FA50 FB03 FB08 FC07 GA16 LA30 2K009 BB28 CC01 CC03 CC42 DD04 EE00 4F006 AA02 AB76 BA00 BA02 CA05 DA01 EA03 4F100 AA01B AA01D AA17B AA17D AA20B AA20D AJ06C AK01A AK01E AK25 BA03 BA05 BA10A BA10E BA25B BA25C BA25D EH46C EJ61B EJ61D EJ612 JB13A JB13E JB14A JB14E JN06 4F205 AA01 AG01 AG03 AH73 GA07 GB02 GW21 GW34 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 5/30 G02F 1/1335 510 4F205 G02F 1/1335 510 1/13363 1/13363 B29K 1:00 // B29K 1:00 B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 1:10 C08L 1:10 G02B 1/10 Z F Term (reference) 2H049 BA02 BA25 BA27 BB33 BB43 BB51 BC03 BC14 BC22 2H091 FA08 FA11 FA50 FB03 FB08 FC07 GA16 LA30 2K009 BB28 CC01 CC03 CC42 DD04 EE00 4F006 AA02 AB76 BA00 BA02 CA05 DA01 EA03 4F100 AA01B AA01D AA17B AA17D AA20B AA20D AJ06C AK01A AK01E AK25 BA03 BA05 BA10A BA10E BA25B BA25C BA25D EH46C EJ61B EJ61D EJ612 JB13A JB13E JB14A JB14E JN06 4F205 AA01 AG01 AG03 AH73 GA07 GB02 GW21 GW34

Claims (25)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セルロースエステルフィルムを含んで構
成される光学フィルムであって、 酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、
金属原子と、を含んで構成される金属化合物層が、前記
セルロースエステルフィルムの少なくとも一方の面に、
直接又は他の層を介して設けられていることを特徴とす
る光学フィルム。
1. An optical film including a cellulose ester film, comprising at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom,
With a metal atom, a metal compound layer comprising containing at least one surface of the cellulose ester film,
An optical film, which is provided directly or through another layer.
【請求項2】 セルロースエステルフィルムの膜厚が1
0〜500μmであることを特徴とする請求項1記載の
光学フィルム。
2. A cellulose ester film having a thickness of 1
It is 0-500 micrometers, The optical film of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 金属化合物層の膜厚が0.005〜1μ
mであることを特徴とする請求項1または2記載の光学
フィルム。
3. The thickness of the metal compound layer is 0.005 to 1 μm.
The optical film according to claim 1 or 2, wherein m is m.
【請求項4】 金属化合物層に含まれる金属原子は珪素
原子であり、 前記金属原子の数に対する、前記金属化合物層に含まれ
る酸素原子、窒素原子の数の比を、それぞれx、yとし
た場合に、xは0以上2以下であり、yは0以上4/3
以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載の光学フィルム。
4. The metal atom contained in the metal compound layer is a silicon atom, and the ratio of the number of oxygen atoms and nitrogen atoms contained in the metal compound layer to the number of metal atoms is x and y, respectively. In this case, x is 0 or more and 2 or less, and y is 0 or more and 4/3.
It is the following, The optical film in any one of Claims 1-3.
【請求項5】 金属化合物層が、セルロースエステルフ
ィルムの両面に、直接又は他の層を介して設けられてい
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光
学フィルム。
5. The optical film according to claim 1, wherein the metal compound layer is provided on both surfaces of the cellulose ester film directly or via another layer.
【請求項6】 セルロースエステルフィルムの一方の面
に設けられる金属化合物層の膜厚は、前記セルロースエ
ステルフィルムの他方の面に設けられる金属化合物層の
膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項5記載の光学フ
ィルム。
6. The film thickness of the metal compound layer provided on one surface of the cellulose ester film is larger than the film thickness of the metal compound layer provided on the other surface of the cellulose ester film. 5. The optical film according to item 5.
【請求項7】 金属化合物層は、炭素原子を含むことを
特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光学フィル
ム。
7. The optical film according to claim 1, wherein the metal compound layer contains carbon atoms.
【請求項8】 金属化合物層の炭素原子の含有量は、
0.1〜10質量%であることを特徴とする請求項7記
載の光学フィルム。
8. The content of carbon atoms in the metal compound layer is
It is 0.1-10 mass%, The optical film of Claim 7 characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 少なくとも一つの金属化合物層の上に、
直接又は他の層を介して樹脂層が設けられていることを
特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の光学フィル
ム。
9. On at least one metal compound layer,
The optical film according to any one of claims 1 to 8, wherein a resin layer is provided directly or via another layer.
【請求項10】 樹脂層は、活性線硬化樹脂層又は熱硬
化性樹脂層であることを特徴とする請求項9記載の光学
フィルム。
10. The optical film according to claim 9, wherein the resin layer is an actinic ray curable resin layer or a thermosetting resin layer.
【請求項11】 金属化合物層の膜厚が、0.1μmよ
りも大きく、かつ、0.8μm以下であることを特徴と
する請求項1〜10のいずれかに記載の光学フィルム。
11. The optical film according to claim 1, wherein the thickness of the metal compound layer is greater than 0.1 μm and 0.8 μm or less.
【請求項12】 セルロースエステルフィルムの膜厚が
10〜60μmであることを特徴とする請求項1〜11
のいずれかに記載の光学フィルム。
12. A cellulose ester film having a thickness of 10 to 60 μm.
The optical film according to any one of 1.
【請求項13】 セルロースエステルフィルムは、共流
延法により形成された積層構造を有することを特徴とす
る請求項1〜12のいずれかに記載の光学フィルム。
13. The optical film according to claim 1, wherein the cellulose ester film has a laminated structure formed by a co-casting method.
【請求項14】 端部には、高さがセルロースエステル
フィルムの膜厚の25%以下であるナーリングが設けら
れていることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに
記載の光学フィルム。
14. The optical film according to claim 1, wherein a knurling having a height of 25% or less of a film thickness of the cellulose ester film is provided at an end portion.
【請求項15】 請求項1〜14のいずれかに記載の光
学フィルムを用いて構成されていることを特徴とする偏
光板保護フィルム。
15. A polarizing plate protective film comprising the optical film according to any one of claims 1 to 14.
【請求項16】 請求項1〜14のいずれかに記載の光
学フィルムを用いて構成されており、下記式(1)で定
義する膜厚方向のリターデーション値(Rt値)が70
〜300nmであるか、下記式(2)で定義する面内方
向のリターデーション値(Ro値)が40〜1000n
mであるか、Rt値が70〜300nmであるとともに
Ro値が40〜1000nmであることを特徴とする位
相差フィルム。 Rt値=((nx+ny)/2−nz)×d …(1) Ro値=(nx−ny)×d …(2) (nxはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折
率、nyはnxに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、
zはフィルムの厚み方向の屈折率、dはフィルムの厚
み(nm)をそれぞれ表す。)
16. A retardation value (Rt value) in the film thickness direction defined by the following formula (1) is 70, which is constituted by using the optical film according to any one of claims 1 to 14.
Is 300 nm or the retardation value (Ro value) in the in-plane direction defined by the following formula (2) is 40 to 1000 n.
or a R0 value of 70 to 300 nm and a Ro value of 40 to 1000 nm. Rt value = ((n x + n y ) / 2-n z) × d ... (1) Ro value = (n x -n y) × d ... (2) (n x is a refractive index in the film plane is most Refractive index in the larger direction, n y is the in-plane refractive index in the direction perpendicular to n x ,
nz represents the refractive index in the thickness direction of the film, and d represents the thickness (nm) of the film. )
【請求項17】 請求項15記載の偏光板保護フィルム
を有することを特徴とする偏光板。
17. A polarizing plate comprising the polarizing plate protective film according to claim 15.
【請求項18】 少なくとも一方の面から、活性線硬化
樹脂層、膜厚が0.01〜1μmである金属化合物層、
セルロースエステルフィルム、偏光子、セルロースエス
テルフィルム、膜厚が0.01〜1μmである金属化合
物層、の順に積層される積層構造を有することを特徴と
する請求項17記載の偏光板。
18. An actinic radiation curable resin layer, a metal compound layer having a film thickness of 0.01 to 1 μm from at least one surface,
The polarizing plate according to claim 17, which has a laminated structure in which a cellulose ester film, a polarizer, a cellulose ester film, and a metal compound layer having a film thickness of 0.01 to 1 µm are laminated in this order.
【請求項19】 セルロースエステルを含む溶液を支持
体上に流延し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が3〜4
0質量%であるときに幅手方向に1.00〜2.0倍延
伸し、さらに乾燥させ、これにより得られたセルロース
エステルフィルムの少なくとも一方の面に、珪素化合物
を含む反応ガスを供給しながら、大気圧プラズマ処理に
よって、酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか
一方と、珪素原子と、を含んで構成される金属化合物層
を設けることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
19. A solution containing a cellulose ester is cast on a support, peeled and dried to give a residual solvent amount of 3-4.
When it was 0% by mass, the film was stretched 1.00 to 2.0 times in the width direction and further dried, and a reaction gas containing a silicon compound was supplied to at least one surface of the cellulose ester film thus obtained. However, the method for producing an optical film, wherein a metal compound layer containing at least one of oxygen atoms and nitrogen atoms and silicon atoms is provided by atmospheric pressure plasma treatment.
【請求項20】 大気圧プラズマ処理を、100kHz
を越える高周波電圧で、かつ、1W/cm2以上の電力
を供給して放電させることにより行うことを特徴とする
請求項19記載の光学フィルムの製造方法。
20. Atmospheric pressure plasma treatment is performed at 100 kHz.
20. The method for producing an optical film according to claim 19, wherein the method is performed by supplying a power of 1 W / cm 2 or more and discharging with a high-frequency voltage exceeding the above.
【請求項21】 少なくとも一つの金属化合物層の上
に、直接又は他の層を介して活性線硬化樹脂層を設ける
ことを特徴とする請求項19または20記載の光学フィ
ルムの製造方法。
21. The method for producing an optical film according to claim 19, wherein an actinic radiation curable resin layer is provided on at least one metal compound layer directly or via another layer.
【請求項22】 請求項19〜21のいずれかに記載の
光学フィルム製造方法により製造された光学フィルムを
鹸化処理し、偏光子と貼合することを特徴とする偏光板
の製造方法。
22. A method for producing a polarizing plate, which comprises subjecting the optical film produced by the method for producing an optical film according to any one of claims 19 to 21 to a saponification treatment and laminating it with a polarizer.
【請求項23】 セルロースエステルを含む溶液を支持
体上に流延し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が3〜4
0質量%であるときに幅手方向に1.00〜2.0倍延
伸し、さらに乾燥させ、これにより得られたセルロース
エステルフィルムの両面を鹸化処理した後、鹸化処理し
た一方の面を残して、鹸化処理した他方の面に、大気圧
プラズマ処理により、酸素原子と窒素原子のうち少なく
ともいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成される
金属化合物層を設けることを特徴とする偏光板保護フィ
ルムの製造方法。
23. A solution containing a cellulose ester is cast on a support, peeled and dried to give a residual solvent amount of 3-4.
When it was 0% by mass, the film was stretched 1.00 to 2.0 times in the width direction and further dried, and both surfaces of the cellulose ester film thus obtained were saponified, and one surface saponified was left. And a metal compound layer containing at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom and a silicon atom is provided on the other surface subjected to the saponification treatment by atmospheric pressure plasma treatment. Method for manufacturing plate protection film.
【請求項24】 セルロースエステルフィルムを含む偏
光板保護フィルムと、偏光子と、を貼合して偏光板を作
製する偏光板の製造方法であって、 前記偏光板保護フィルムと前記偏光子との貼合前もしく
は貼合後に、前記偏光板保護フィルム上に、大気圧プラ
ズマ処理によって、酸素原子と窒素原子のうち少なくと
もいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成される金
属化合物層を設けることを特徴とする偏光板の製造方
法。
24. A method of manufacturing a polarizing plate, which comprises manufacturing a polarizing plate by laminating a polarizing plate protective film containing a cellulose ester film and a polarizer, wherein the polarizing plate protective film and the polarizer are Before or after bonding, a metal compound layer containing at least one of oxygen atoms and nitrogen atoms and a silicon atom is provided on the polarizing plate protective film by atmospheric pressure plasma treatment. A method of manufacturing a polarizing plate, comprising:
【請求項25】 請求項1〜14のいずれかに記載の光
学フィルムを含むことを特徴とする表示装置。
25. A display device comprising the optical film according to claim 1.
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