JP2003029036A - Low reflection polarizing plate and display device using the same - Google Patents

Low reflection polarizing plate and display device using the same

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JP2003029036A
JP2003029036A JP2001215080A JP2001215080A JP2003029036A JP 2003029036 A JP2003029036 A JP 2003029036A JP 2001215080 A JP2001215080 A JP 2001215080A JP 2001215080 A JP2001215080 A JP 2001215080A JP 2003029036 A JP2003029036 A JP 2003029036A
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cellulose ester
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low reflection polarizing plate showing good curling and flatness and excellent display characteristics such as visibility, viewing angle and so on, and to provide a display device which uses the above polarizing plate. SOLUTION: In the low reflection polarizing plate having a polarizing layer held between two transparent supporting bodies (A), (B), the transparent supporting bodies (A), (B) contain cellulose esters. The transparent supporting body (A) has an antireflection layer on the opposite face to the polarizing layer. The film thickness of the supporting bodies (A), (B) is represented by formula (1). The average substitution degree A of the cellulose esters in the supporting body (A) and the average substitution degree B of the cellulose esters in the transparent supporting body (B) are represented by formula (2). (1): film thickness of supporting body (A) <= film thickness of supporting body (B) <= film thickness of supporting body (A)+100 (2): average substitution degree B+0.05 <= average substitution degree A <= average substitution degree B+0.35.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止機能が付
与された低反射偏光板とそれを用いた表示装置に関する
ものであり、詳しくは、高い表示品質を安定して長期間
提供することができる低反射偏光板及びそれを用いた表
示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low reflection polarizing plate provided with an antireflection function and a display device using the same, and more specifically, it can provide high display quality stably for a long period of time. The present invention relates to a low-reflection polarizing plate and a display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、薄型軽量ノートパソコンの開発が
進んでいる。それに伴って、液晶表示装置等の表示装置
で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、
高性能化への要求が強くなってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, thin and lightweight notebook personal computers have been developed. Along with that, protective films for polarizing plates used in display devices such as liquid crystal display devices are becoming thinner and thinner.
The demand for higher performance is increasing.

【0003】最近、視認性向上のために反射防止機能を
付与したディスプレイが多く使用されている。反射防止
層や防眩層は用途に応じてさまざまな種類や性能の改良
がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶デ
ィスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプ
レイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能
等を付与する方法が用いられている。これら、前面板と
して用いる光学用フィルムには、塗布またはスパッタリ
ング等で形成した反射防止機能層が設けられている。
Recently, a display having an antireflection function has been widely used to improve visibility. Various kinds of antireflection layers and antiglare layers have been improved in performance depending on the application, and various front plates having these functions can be attached to a polarizer of a liquid crystal display to improve visibility. Therefore, a method of imparting an antireflection function or an antiglare function is used. The optical film used as the front plate is provided with an antireflection layer formed by coating or sputtering.

【0004】反射防止機能層は、表面の反射率を低くす
ることで、反射像の写り込みの視認性を低下させて、液
晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディ
スプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の
映り込みが気にならないようにするものである。
The antireflection functional layer reduces the reflectance of the surface to reduce the visibility of the reflected image, and is reflected when an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display or a plasma display is used. This is to prevent the reflection of the image from being noticeable.

【0005】また、最近の検討の結果、表示装置に用い
られる偏光板には反射防止機能を付与することによっ
て、コントラスト低下を防止したり、像の写り込みを防
止することが求められており、反射防止層としては様々
な方法で設けることが可能であるが、表示装置の高精細
化にともなって、単に反射防止層を設けただけでは、十
分な性能を発揮することが困難となってきており、早急
な改良手段の開発が要望されている。
Further, as a result of recent studies, it has been demanded that a polarizing plate used for a display device is provided with an antireflection function to prevent a reduction in contrast and an image from being reflected. Although it is possible to provide the antireflection layer by various methods, it is becoming difficult to exhibit sufficient performance simply by providing the antireflection layer, as the display device becomes finer. Therefore, there is a demand for urgent development of improvement means.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
鑑みなされたものであり、その目的は、カール、平面性
が良好で、視認性、視野角等の表示特性に優れた低反射
偏光板とそれを用いた表示装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is a low reflection polarized light having good curl, flatness, and excellent display characteristics such as visibility and viewing angle. To provide a plate and a display device using the plate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。
The above objects of the present invention have been achieved by the following constitutions.

【0008】1.2枚の透明支持体A、Bにより、偏光
層を挟持してなる低反射偏光板において、透明支持体
A、Bのいずれもがセルロースエステルを含有し、該透
明支持体Aが偏光層とは反対の面に直接または他の層を
介して反射防止層を有し、該透明支持体Aと該透明支持
体Bとの膜厚が、前記式(1)で表される関係であり、
かつ反射防止層を有する該透明支持体Aに含まれるセル
ロースエステルの平均置換度Aと、該透明支持体Bに含
まれるセルロースエステルの平均置換度Bとが、前記式
(2)で表される関係にあることを特徴とする低反射偏
光板。
In a low reflection polarizing plate having a polarizing layer sandwiched between 1.2 transparent supports A and B, both of the transparent supports A and B contain a cellulose ester, and the transparent support A Has an antireflection layer on the surface opposite to the polarizing layer directly or via another layer, and the film thickness of the transparent support A and the transparent support B is represented by the formula (1). Is a relationship,
The average substitution degree A of the cellulose ester contained in the transparent support A having the antireflection layer and the average substitution degree B of the cellulose ester contained in the transparent support B are represented by the above formula (2). A low-reflection polarizing plate characterized by having a relationship.

【0009】2.前記透明支持体A、Bが、各々の膜厚
が200μm以下であり、各々の透明支持体の膜厚差
(透明支持体B膜厚−透明支持体A膜厚)をΔMとし、
各々に用いられているセルロースエステルの平均置換度
の差(透明支持体Aで用いるセルロースエステルの平均
置換度−透明支持体Bで用いるセルロースエステルの平
均置換度)をΔSとしたとき、前記式(3)の条件を満
たすことを特徴とする前記1項に記載の低反射偏光板。
2. The transparent supports A and B each have a film thickness of 200 μm or less, and the film thickness difference between the transparent supports (transparent support B film thickness−transparent support A film thickness) is ΔM,
When the difference in the average substitution degree of the cellulose ester used for each (average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support A-average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support B) is ΔS, the above formula ( 3. The low reflection polarizing plate as described in 1 above, which satisfies the condition 3).

【0010】3.2枚の透明支持体A、Bが、2軸延伸
されたセルロースエステルフィルムであることを特徴と
する前記1または2項に記載の低反射偏光板。
3. The low reflection polarizing plate as described in 1 or 2 above, wherein the two transparent supports A and B are biaxially stretched cellulose ester films.

【0011】4.2枚の透明支持体A、Bにより、偏光
層を挟持してなる偏光板において、透明支持体Aが偏光
層とは反対の面に活性線硬化樹脂層を介して反射防止層
を有し、かつ透明支持体Bが偏光層とは反対の面に活性
線硬化樹脂層を有することを特徴とする前記1〜3項の
いずれか1項に記載の低反射偏光板。
4. In a polarizing plate in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent supports A and B, the transparent support A is provided on the surface opposite to the polarizing layer through an actinic radiation curable resin layer to prevent reflection. 4. The low reflection polarizing plate as described in any one of 1 to 3 above, which has a layer, and the transparent support B has an actinic radiation curable resin layer on the surface opposite to the polarizing layer.

【0012】5.前記透明支持体Aの活性線硬化樹脂層
の膜厚UVaと前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の
膜厚UVbとの膜厚比(UVb/UVa)が0.1〜1
0であることを特徴とする前記4項に記載の低反射偏光
板。
5. The film thickness ratio (UVb / UVa) of the film thickness UVa of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support A and the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 0.1 to 1
The low reflection polarizing plate as described in the above item 4, which is 0.

【0013】6.前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層
の膜厚UVbが、1.3μm以上であることを特徴とす
る前記4または5項に記載の低反射偏光板。
6. 6. The low reflection polarizing plate as described in 4 or 5 above, wherein the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 1.3 μm or more.

【0014】7.前記透明支持体Aの活性線硬化樹脂層
の膜厚UVaと前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の
膜厚UVbとの膜厚比(UVb/UVa)が0.2〜
0.95であることを特徴とする前記5項に記載の低反
射偏光板。
7. The film thickness ratio (UVb / UVa) between the film thickness UVa of the active ray-curable resin layer of the transparent support A and the film thickness UVb of the active ray-curable resin layer of the transparent support B is 0.2 to.
The low reflection polarizing plate as described in the above item 5, wherein the polarizing plate has a value of 0.95.

【0015】8.前記透明支持体Aまたは透明支持体B
が、炭素含有量0.2〜5%の金属酸化物層を有するこ
とを特徴とする前記1〜7項のいずれか1項に記載の低
反射偏光板。
8. The transparent support A or the transparent support B
Is a metal oxide layer having a carbon content of 0.2 to 5%, and the low reflection polarizing plate as described in any one of the above items 1 to 7.

【0016】9.前記透明支持体Aが、屈折率2.0以
上の金属酸化物層を含む反射防止層を有することを特徴
とする前記1〜8項のいずれか1項に記載の低反射偏光
板。
9. 9. The low reflection polarizing plate as described in any one of 1 to 8 above, wherein the transparent support A has an antireflection layer including a metal oxide layer having a refractive index of 2.0 or more.

【0017】10.前記透明支持体Aが、大気圧プラズ
マ処理によって形成された反射防止層を有することを特
徴とする前記1〜9項のいずれか1項に記載の低反射偏
光板。
10. Item 10. The low-reflection polarizing plate according to any one of Items 1 to 9, wherein the transparent support A has an antireflection layer formed by atmospheric pressure plasma treatment.

【0018】11.450〜650nmの平均反射率
が、0.5%未満であることを特徴とする前記1〜10
項のいずれか1項に記載の低反射偏光板。
1 to 10 characterized in that the average reflectance from 11.450 to 650 nm is less than 0.5%.
The low-reflection polarizing plate according to any one of items.

【0019】12.前記1〜11項のいずれか1項に記
載の低反射偏光板を用い、前記透明支持体A面側が表面
側になるように配置されたことを特徴とする表示装置。
12. 12. A display device using the low reflection polarizing plate according to any one of items 1 to 11 and arranged so that the transparent support A surface side is the front surface side.

【0020】以下、本発明の詳細について説明する。本
発明者は、偏光板保護フィルムとして2枚のセルロース
エステルフィルムを用いて、反射防止層を設ける側のセ
ルロースエステルフィルムに対して、もう一方の側のセ
ルロースエステルフィルムのセルロースエステルの置換
度を低くすることによって、高い表示品質を提供できる
偏光板が得られることを見いだした。このとき、より好
ましくは反射防止層を有する側のセルロースエステルフ
ィルムの膜厚がもう一方に対して、同じか薄くすること
が好ましく、特に膜厚が200μm以下であって、透明
支持体A、Bの膜厚差をΔMとし、透明支持体A、Bに
用いられているセルロースエステルの平均置換度の差を
ΔSとしたとき、0.05+ΔM/200<ΔSの関係
を満たすような偏光板とすることが好ましいことを新た
に見いだした。
The details of the present invention will be described below. The present inventor uses two cellulose ester films as a polarizing plate protective film, and lowers the degree of substitution of the cellulose ester of the cellulose ester film on the other side with the cellulose ester film on the side on which the antireflection layer is provided. It was found that by doing so, a polarizing plate that can provide high display quality can be obtained. At this time, more preferably, the thickness of the cellulose ester film on the side having the antireflection layer is equal to or thinner than that of the other side, and particularly, the thickness is 200 μm or less, and the transparent support A, B Is ΔM and the difference in the average degree of substitution of the cellulose ester used in the transparent supports A and B is ΔS, the polarizing plate satisfies the relationship of 0.05 + ΔM / 200 <ΔS. It has been newly found that it is preferable.

【0021】上記で規定した条件とすることによって、
高温、高湿条件であっても偏光板の特性が変化しにく
く、高い表示品質を維持することができる。より好まし
くは本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは
2軸延伸されたものであり、これによって、更に良好な
表示品質を提供することができる。
By setting the conditions defined above,
The characteristics of the polarizing plate hardly change even under high temperature and high humidity conditions, and high display quality can be maintained. More preferably, the cellulose ester film used in the present invention is biaxially stretched, which can provide even better display quality.

【0022】更に好ましくは、両方の透明支持体に活性
線硬化樹脂層が設けられていることが特徴であり、保存
中における反りの問題が更に少なく、優れた表示性能を
有する偏光板を提供することである。
More preferably, both transparent supports are provided with an actinic ray curable resin layer, and a polarizing plate having excellent display performance with less problems of warpage during storage is provided. That is.

【0023】本発明においては、反射防止層が金属酸化
物層で形成されることが特徴であるが、特に炭素含有量
が0.2〜5%であることが好ましく、これにより耐擦
り傷性を改善することができる。特に、屈折率2.0以
上の金属酸化物層を有することが好ましく、これによっ
てより表示品質に優れたフィルムとすることができる。
これらの反射防止層は、好ましくは大気圧プラズマ法に
よって形成することが特徴であり、上記構成からなる3
層以上の積層反射防止層を設けることにより、耐久性に
優れる偏光板を得ることができる。特に、反射防止層の
高屈折率層が屈折率2.0以上であると、より反射率の
低い反射防止層とすることができるため好ましく、湿度
等の影響で偏光板がカールしたり、うねったりすると視
認性が悪化するが、本発明の偏光板はそのような問題が
なく、優れた表示性能を提供することができたのであ
る。
The present invention is characterized in that the antireflection layer is formed of a metal oxide layer, but it is particularly preferable that the carbon content is 0.2 to 5%, whereby scratch resistance is improved. Can be improved. In particular, it is preferable to have a metal oxide layer having a refractive index of 2.0 or more, and this makes it possible to obtain a film having more excellent display quality.
These antireflection layers are characterized in that they are preferably formed by an atmospheric pressure plasma method and have the above-mentioned structure.
By providing a laminated antireflection layer having more layers, a polarizing plate having excellent durability can be obtained. In particular, when the high refractive index layer of the antireflection layer has a refractive index of 2.0 or more, the antireflection layer having a lower reflectance can be obtained, which is preferable, and the polarizing plate is curled or wavy due to the influence of humidity or the like. However, the polarizing plate of the present invention does not have such a problem and can provide excellent display performance.

【0024】特に、垂直配向方式(バーティカルアライ
ンメント方式)を採用した液晶セルで耐久性よく視野角
を広げる効果を得ることができる。また、本発明は、保
存中における反りやうねりの問題もなく優れた表示性能
を有する低反射偏光板を得ることができ、本発明に至っ
た次第である。
In particular, the effect of widening the viewing angle can be obtained with good durability in the liquid crystal cell adopting the vertical alignment method (vertical alignment method). Further, the present invention has made it possible to obtain a low-reflection polarizing plate having excellent display performance without problems such as warpage and waviness during storage, and the present invention has been completed.

【0025】本発明の低反射偏光板の基本的構成につい
て、以下説明する。図1は、本発明の低反射偏光板の典
型的な構成の一例を示す構成図である。
The basic structure of the low reflection polarizing plate of the present invention will be described below. FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of a typical configuration of the low-reflection polarizing plate of the present invention.

【0026】本発明の低反射偏光板6は、偏光子を有す
る偏光層1を2つの透明支持体A、透明支持体Bで挟持
されている。図1(a)において、低反射偏光板6を表
示装置に用いた場合、主に表面側となる透明支持体A
は、セルロースエステルフィルム2と偏光層1に隣接し
た面にバックコート層3を設け、また偏光層1とは反対
側の面に、活性線硬化樹脂層4と1層あるいは複数の層
からなる反射防止層5が設けられている。一方、透明支
持体Bは、セルロースエステルフィルム2′と偏光層1
に隣接した面に設けたバックコート層3′からなってい
る。透明支持体Bとしては、バックコート層3′を設け
ずに、セルロースエステルフィルム2′単独でも良い
が、好ましくは、図1(a)に記載の構成である。
In the low reflection polarizing plate 6 of the present invention, the polarizing layer 1 having a polarizer is sandwiched between two transparent supports A and B. In FIG. 1A, when the low-reflection polarizing plate 6 is used for a display device, the transparent support A mainly on the front surface side is used.
Is provided with a back coat layer 3 on the surface adjacent to the cellulose ester film 2 and the polarizing layer 1, and on the surface opposite to the polarizing layer 1, the actinic radiation curable resin layer 4 and one or more reflection layers. The prevention layer 5 is provided. On the other hand, the transparent support B includes a cellulose ester film 2'and a polarizing layer 1
And a back coat layer 3'provided on the surface adjacent to. As the transparent support B, the cellulose ester film 2 ′ alone may be used without providing the back coat layer 3 ′, but preferably, it has the structure shown in FIG. 1 (a).

【0027】また、図1(b)は、請求項4に係る発明
である活性線硬化樹脂層4を、透明支持体A、Bに設け
た一例であり、透明支持体Aの反射防止層5とセルロー
スエステルフィルム2の間に、活性線硬化樹脂層4が設
けられて、また透明支持体Bの偏光層1とは反対側の面
に活性線硬化樹脂層4′が設けられている。
FIG. 1B is an example in which the actinic radiation curable resin layer 4 according to the invention of claim 4 is provided on the transparent supports A and B, and the antireflection layer 5 of the transparent support A is shown. The actinic radiation curable resin layer 4 is provided between the film and the cellulose ester film 2, and the actinic radiation curable resin layer 4'is provided on the surface of the transparent support B opposite to the polarizing layer 1.

【0028】請求項1に係る発明では、2枚の透明支持
体A、Bにより、偏光層を挟持してなる低反射偏光板に
おいて、透明支持体A、Bのいずれもがセルロースエス
テルを含有し、透明支持体Aが偏光層とは反対の面に直
接または他の層を介して反射防止層を有し、透明支持体
Bの膜厚が、透明支持体Aの膜厚以上で、透明支持体A
+100μmの膜厚以下であり、更に反射防止層を有す
る透明支持体Aに含まれるセルロースエステルの平均置
換度Aが、透明支持体Bに含まれるセルロースエステル
の平均置換度B+0.05以上で、平均置換度B+0.
35以下であることが特徴である。
In the invention according to claim 1, in a low reflection polarizing plate in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent supports A and B, both of the transparent supports A and B contain cellulose ester. The transparent support A has an antireflection layer on the surface opposite to the polarizing layer directly or through another layer, and the transparent support B has a film thickness equal to or larger than that of the transparent support A. Body A
The average substitution degree A of the cellulose ester contained in the transparent support A having a film thickness of +100 μm or less and further having an antireflection layer is an average substitution degree B of the cellulose ester contained in the transparent support B + 0.05 or more, and the average. Substitution degree B + 0.
The feature is that it is 35 or less.

【0029】本発明でいう各透明支持体の膜厚とは、図
1の(a)、(b)で示すごとく、透明支持体Aにおい
ては、反射防止層5、セルロースエステルフィルム2及
びバックコート層3の総膜厚をいい、また活性線硬化樹
脂層4を設ける場合にはそれを加えた総膜厚を指す。同
様に、透明支持体Bにおいては、セルロースエステルフ
ィルム2とバックコート層3の総膜厚、あるいは活性線
硬化樹脂層4を設ける場合にはそれを加えた総膜厚を指
す。
In the present invention, the film thickness of each transparent support means, as shown in FIGS. 1A and 1B, in the transparent support A, the antireflection layer 5, the cellulose ester film 2 and the back coat. It means the total film thickness of the layer 3 and, when the actinic radiation curable resin layer 4 is provided, the total film thickness including it. Similarly, in the transparent support B, it means the total film thickness of the cellulose ester film 2 and the back coat layer 3, or the total film thickness when the active ray curable resin layer 4 is added.

【0030】次いで、セルロースエステルフィルムにつ
いて説明する。一般に、透明支持体としては、例えば、
セルローストリアセテート等のセルロースエステル支持
体、ポリエステル支持体、ポリカーボネート支持体、ポ
リスチレン支持体、更にこれら支持体の上層にゼラチ
ン、ポリビニルアルコール(PVA)、アクリル樹脂、
ポリエステル樹脂、セルロースエステル系樹脂等を塗設
した支持体等が知られているが、本発明においてはセル
ロースエステルフィルムであることが特徴の一つであ
る。
Next, the cellulose ester film will be described. Generally, as a transparent support, for example,
Cellulose ester support such as cellulose triacetate, polyester support, polycarbonate support, polystyrene support, and further gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), acrylic resin on the upper layer of these supports,
A support or the like coated with a polyester resin, a cellulose ester-based resin or the like is known, and one of the characteristics of the present invention is that it is a cellulose ester film.

【0031】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムを用いることにより、低い反射率の積層体が得られ
る点で好ましい。セルロースエステルとしては、例え
ば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、セルロースアセテートプロピオネートが好まし
く、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロー
スアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。な
お、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状
でも、分岐していてもよい。
In the present invention, the use of a cellulose ester film is preferable in that a laminate having a low reflectance can be obtained. As the cellulose ester, for example, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable, and among them, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate are preferably used. The butyryl group forming butyrate may be linear or branched.

【0032】プロピオネート基を置換基として含むセル
ロースアセテートプロピオネートは、耐水性に優れ、液
晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。
Cellulose acetate propionate containing a propionate group as a substituent has excellent water resistance and is useful as a film for liquid crystal image display devices.

【0033】セルロースエステルとして、セルロースト
リアセテートを用いることが好ましいが、更に、一定以
上の光学補償性能を得るためには、特定の置換基、すな
わちアセチル基およびプロピオニル基を有する低級脂肪
酸セルロースエステルを用いることが極めて効果的であ
る。
Cellulose triacetate is preferably used as the cellulose ester, but in order to obtain a certain level of optical compensation performance, a lower fatty acid cellulose ester having a specific substituent, that is, an acetyl group and a propionyl group is used. Is extremely effective.

【0034】本発明に係るセルロースエステルフィルム
作製に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜4
のアシル基を置換基として有しており、特に、請求項1
に係る発明では、アセチル基の置換度をX、プロピオニ
ル基及びまたはブチリル基の置換度をYとしたとき、本
発明でいう平均置換度はX+Yで表され、透明支持体
A、Bにおける平均置換度の関係が、前記式(2)の条
件を満足するセルロースの混合脂肪酸エステルを用いて
作製されたフィルム上に各機能層を設けた低反射偏光板
であることが特徴である。
The cellulose ester used for producing the cellulose ester film according to the present invention has 2 to 4 carbon atoms.
The acyl group of 1 is included as a substituent, and in particular,
In the invention according to, when the substitution degree of the acetyl group is X and the substitution degree of the propionyl group and / or butyryl group is Y, the average substitution degree in the present invention is represented by X + Y, and the average substitution in the transparent supports A and B is It is characterized in that it is a low reflection polarizing plate in which each functional layer is provided on a film produced using a mixed fatty acid ester of cellulose satisfying the condition of the above formula (2).

【0035】また、請求項2に係る発明では、透明支持
体A、Bの各々の膜厚が200μm以下であり、各々の
透明支持体の膜厚差(透明支持体B膜厚−透明支持体A
膜厚)をΔMとし、各々に用いられているセルロースエ
ステルの平均置換度の差(透明支持体Aで用いるセルロ
ースエステルの平均置換度−透明支持体Bで用いるセル
ロースエステルの平均置換度)をΔSとしたとき、前記
式(3)の条件を満たすことが特徴である。
Further, in the invention according to claim 2, the film thickness of each of the transparent supports A and B is 200 μm or less, and the film thickness difference between the respective transparent supports (transparent support B film thickness-transparent support). A
The film thickness) is ΔM, and the difference in the average substitution degree of the cellulose ester used for each (average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support A−average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support B) is ΔS. In this case, the condition of the equation (3) is satisfied.

【0036】これらのアシル基は、グルコース単位の2
位、3位、6位に平均的に置換していても良いし、例え
ば6位に高い比率で置換するなどの分布を持った置換が
なされていても良い。
These acyl groups have 2 units of glucose units.
The 3rd, 6th, and 6th positions may be substituted on average, and, for example, 6th position may be substituted at a high ratio.

【0037】ここで、置換度とは、いわゆる結合脂肪酸
量の百分率をいい、ASTM−D817−91(セルロ
ースアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測
定および計算に従い算出される数値である。アシル基の
置換度の測定法はASTM−D817−96に従って測
定できる。本発明に係る平均置換度は、各々のアシル基
の置換度を合計したものであり、複数のセルロースエス
テルが混合されている場合には、それらを平均した置換
度で表す。
Here, the substitution degree means a percentage of the so-called bound fatty acid amount, and is a numerical value calculated according to the measurement and calculation of the acetylation degree in ASTM-D817-91 (testing method for cellulose acetate etc.). The acyl group substitution degree can be measured according to ASTM-D817-96. The average substitution degree according to the present invention is the sum of the substitution degrees of the respective acyl groups, and when a plurality of cellulose esters are mixed, they are represented by the average substitution degree.

【0038】アセチル基と炭素数3〜4個のアシル基の
置換度が上記の範囲にあることで、長波長ほど位相差が
大きくなる特性があり、かつ、良好な水分率や水バリア
ー性を備えたセルロースエステルフィルム支持体を得る
ことができるのである。
When the substitution degree of the acetyl group and the acyl group having 3 to 4 carbon atoms is within the above range, there is a characteristic that the retardation becomes larger as the wavelength becomes longer, and good water content and water barrier property are obtained. The provided cellulose ester film support can be obtained.

【0039】特に、アセチル基の平均置換度が2.0未
満であると延伸時の位相差のばらつきが少ないため特に
好ましい。
Particularly, when the average degree of substitution of acetyl groups is less than 2.0, there is little variation in retardation during stretching, which is particularly preferable.

【0040】本発明に係るセルロースエステルフィルム
を用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロース
としては、特に限定はないが、例えば、綿花リンター、
木材パルプ(針葉樹由来、広葉樹由来)、ケナフなどを
挙げることができる。また、それらから得られたセルロ
ースエステルは、それぞれ任意の割合で混合して使用す
ることができる。これらのセルロースエステルは、セル
ロース原料を、例えば、アシル化剤が酸無水物(例え
ば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場
合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の
有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて
反応させてえることができる。また、アシル化剤が酸ク
ロライド(CH3COCl、C25COCl、C37
OCl)である場合には、触媒としてアミンのような塩
基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開
平10−45804号に記載の方法等を参考にして得る
ことができる。また、本発明で用いることのできるセル
ロースエステルは、各置換度に合わせて、上記アシル化
剤量を調製混合して反応させたものであり、セルロース
エステルは、これらアシル基がセルロース分子の水酸基
と反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多
数連結した構造からなっており、グルコースユニットに
3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル基が導
入された数を置換度(モル%)という。例えば、セルロ
ーストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸
基全てにアセチル基が結合している。実際には、置換度
として2.6〜3.0である。
When the cellulose ester film according to the present invention is used, cellulose as a raw material of the cellulose ester is not particularly limited, but for example, cotton linter,
Examples thereof include wood pulp (derived from coniferous trees and hardwood) and kenaf. Moreover, the cellulose ester obtained from them can be mixed and used in an arbitrary ratio, respectively. These cellulose esters are prepared by using a cellulose raw material such as an organic acid such as acetic acid or an organic acid such as methylene chloride when the acylating agent is an acid anhydride (for example, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can be obtained by using a solvent and a protic catalyst such as sulfuric acid. Further, the acylating agent is an acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 C
OCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, it can be obtained by referring to the method described in JP-A-10-45804. Further, the cellulose ester that can be used in the present invention is prepared by mixing and reacting the above-mentioned acylating agent in accordance with each degree of substitution, and the cellulose ester has these acyl groups with the hydroxyl groups of the cellulose molecule. react. The cellulose molecule has a structure in which a large number of glucose units are linked, and the glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups introduced into these three hydroxyl groups is called the degree of substitution (mol%). For example, cellulose triacetate has an acetyl group bonded to all three hydroxyl groups of a glucose unit. Actually, the substitution degree is 2.6 to 3.0.

【0041】セルロースエステルの数平均分子量は、7
0,000〜250,000が、成型した場合の機械的
強度が強く、かつ適度なドープ粘度となり好ましく、更
に好ましくは、80,000〜150,000である。
The number average molecular weight of cellulose ester is 7
20,000 to 250,000 has a high mechanical strength when molded, and provides an appropriate dope viscosity, and is more preferably 80,000 to 150,000.

【0042】これらセルロースエステルの製造方法は、
基材フィルムとして溶液流延製膜法によって製造された
セルロースエステルフィルムを用いるが、溶液流延製膜
方法そのものには、特に制限はなく、当業界で一般に用
いられている方法、例えば、米国特許第2,492,9
78号、同第2,739,070号、同第2,739,
069号、同第2,492,977号、同第2,33
6,310号、同第2,367,603号、同第2,6
07,704号、英国特許第64,071号、同第73
5,892号、特公昭45−9074号、同49−45
54号、同49−5614号、同60−27562号、
同61−39890号、同62−4208号等に記載の
方法を参考にすることができる。
The method for producing these cellulose esters is as follows.
A cellulose ester film produced by a solution casting film forming method is used as the base film, but the solution casting film forming method itself is not particularly limited, and a method generally used in the art, for example, US Patent Second 2,492,9
No. 78, No. 2,739,070, No. 2,739,
069, 2,492,977, 2,33
No. 6,310, No. 2,367,603, No. 2,6
07,704, British Patents 64,071, 73
No. 5,892, Japanese Patent Publication No. 45-9074, No. 49-45.
No. 54, No. 49-5614, No. 60-27562,
The methods described in No. 61-39890, No. 62-4208, etc. can be referred to.

【0043】以下に本発明に係るセルロースエステルフ
ィルムの製造方法を更に詳しく説明するが、本発明はこ
れに限定されるものではない。この中で、縦方向とは、
フィルムの製膜方向(長手方向)を、横方向(幅手方
向)とはフィルムの製膜方向と直角方向のことをいう。
The method for producing a cellulose ester film according to the present invention will be described in more detail below, but the present invention is not limited thereto. Of these, the vertical direction is
The film forming direction (longitudinal direction) of the film and the lateral direction (width direction) mean a direction perpendicular to the film forming direction of the film.

【0044】請求項3に係る発明では、セルロースエス
テルフィルムが、幅手方向若もしくは製膜方向に2軸延
伸製膜されたフィルムであることが特徴である。
The invention according to claim 3 is characterized in that the cellulose ester film is a film biaxially stretched in the width direction or in the film formation direction.

【0045】セルロースエステルフィルムの好ましい延
伸倍率は、一方向の延伸倍率が1.01〜2.0倍に延
伸され、もう一方の延伸倍率が1.00〜2.00倍に
延伸されたものであり、更に好ましくは一方向の延伸倍
率が1.00〜1.50倍に延伸され、もう一方の延伸
倍率が1.01〜1.50倍未満に延伸されたものであ
り、更に好ましくは一方向の延伸倍率が1.00〜1.
25倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が1.01〜
1.25倍未満に延伸されたものである。
The preferred stretch ratio of the cellulose ester film is such that the stretch ratio in one direction is 1.01 to 2.0 and the stretch ratio in the other is 1.00 to 2.00. It is more preferable that the stretching ratio in one direction is stretched to 1.00 to 1.50 times, and the stretching ratio in the other direction is stretched to 1.01 to less than 1.50 times. The draw ratio in the direction 1.00 to 1.
It is stretched 25 times and the other stretch ratio is 1.01
It was stretched to less than 1.25 times.

【0046】これにより、光学的等方性に優れたセルロ
ースエステルフィルムを好ましく得ることができる。製
膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンター
によって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリッ
プテンターでもよい。
As a result, a cellulose ester film having excellent optical isotropy can be preferably obtained. It is preferable that the width retention or the transverse stretching in the film forming step is performed by a tenter, and a pin tenter or a clip tenter may be used.

【0047】溶液流延製膜法で用いるセルロースエステ
ルのドープ液の調製に用いられる溶剤は、単独で用いて
も2種以上併用してもよいが、セルロースエステルの良
溶剤と貧溶剤を混合して使用することが、生産効率の点
で好ましく、更に、良溶剤が多い方がセルロースエステ
ルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率
の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、
貧溶剤が30〜2質量%である。
The solvent used for preparing the dope solution of the cellulose ester used in the solution casting film-forming method may be used alone or in combination of two or more kinds, but a good solvent of the cellulose ester and a poor solvent are mixed. It is preferable to use it in terms of production efficiency, and it is preferable that the amount of the good solvent is large in terms of the solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass of the good solvent,
The poor solvent is 30 to 2 mass%.

【0048】本発明でいう良溶剤、貧溶剤とは、使用す
るセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、
単独では膨潤するかあるいは溶解しないものを貧溶剤と
定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢
化度によっては、良溶剤、貧溶剤の対象が変化し、例え
ば、アセトンを溶剤として用いるときには、セルロース
エステルの結合酢酸量55%では良溶剤になり、結合酢
酸量60%では貧溶剤となる。
The good solvent and poor solvent referred to in the present invention are those which dissolve the cellulose ester to be used alone,
Those that swell or do not dissolve by themselves are defined as poor solvents. Therefore, depending on the average degree of acetylation of the cellulose ester, the target of good solvent and poor solvent changes. For example, when acetone is used as a solvent, the amount of bound acetic acid in the cellulose ester of 55% is a good solvent, and the amount of bound acetic acid is 60. % Is a poor solvent.

【0049】上記ドープの調製に用いられる有機溶媒と
しては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な
沸点であることが好ましく、例えば、メチレンクロライ
ド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、
テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−
ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,
2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサ
フルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2
−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,
2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、
ニトロエタン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の
有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒(即
ち、良溶媒)として挙げられる。
The organic solvent used for preparing the above dope is preferably one which can dissolve the cellulose ester and has an appropriate boiling point. For example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone,
Tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-
Dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2
2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2
-Propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,
3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,
2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol,
Examples thereof include nitroethane and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, but organic halogen compounds such as methylene chloride, dioxolane derivatives, methyl acetate, ethyl acetate, acetone and the like are preferable organic solvents (that is, good solvents). As.

【0050】また、下記の製膜工程に示すように、溶媒
蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ
(ドープ膜)から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の
発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点と
しては、30〜80℃が好ましく、例えば、上記記載の
各良溶媒の沸点は、メチレンクロライド(沸点40.4
℃)、酢酸メチル(沸点56.32℃)、アセトン(沸
点56.3℃)、酢酸エチル(沸点76.82℃)等で
ある。
Further, as shown in the following film forming step, when the solvent is dried from the web (dope film) formed on the casting support in the solvent evaporation step, the viewpoint of preventing foaming in the web. Therefore, the boiling point of the organic solvent used is preferably 30 to 80 ° C. For example, the boiling point of each good solvent described above is methylene chloride (boiling point 40.4).
C.), methyl acetate (boiling point 56.32 ° C.), acetone (boiling point 56.3 ° C.), ethyl acetate (boiling point 76.82 ° C.) and the like.

【0051】上記記載の良溶媒の中でも、溶解性に優れ
るメチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いら
れ、特に、メチレンクロライドが全有機溶媒に対して5
0質量%以上含まれていることが好ましい。
Among the above-mentioned good solvents, methylene chloride and methyl acetate, which are excellent in solubility, are preferably used, and in particular, methylene chloride is used for all organic solvents at 5%.
It is preferably contained in an amount of 0 mass% or more.

【0052】上記有機溶媒の他に、0.1〜30質量%
の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好
ましい。特に好ましくは、5〜30質量%でアルコール
が含まれることが好ましい。これらは、上記のドープを
流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの
比率が多くなるとウェブ(ドープ膜)がゲル化し、ウェ
ブを丈夫にし、流延用支持体からの剥離を容易にするゲ
ル化溶媒として用いられたり、アルコールの割合が少な
い時には、非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶
解を促進する役割も有している。
In addition to the above organic solvent, 0.1 to 30 mass%
It is preferable to include the alcohol having 1 to 4 carbon atoms. Particularly preferably, the alcohol is contained in an amount of 5 to 30% by mass. After casting the above dope on the casting support, when the solvent begins to evaporate and the ratio of alcohol increases, the web (dope film) gels, making the web strong and peeling from the casting support. It also has a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine type organic solvent when it is used as a gelling solvent for facilitating the reaction or when the proportion of alcohol is small.

【0053】上記の炭素原子数1〜4のアルコールとし
ては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec
−ブタノール、tert−ブタノール等を挙げることが
できる。
Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol and sec.
-Butanol, tert-butanol and the like can be mentioned.

【0054】これらアルコールの中では、ドープの安定
化効果を有し、比較的低沸点で、乾燥性も良く、かつ毒
性がないこと等からエタノールが好ましく、メチレンク
ロライド70〜95質量%に対して、エタノールを5〜
30質量%含む溶媒を用いることが好ましい。環境上の
制約でハロゲンを含む溶媒を避ける場合は、メチレンク
ロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。
このとき冷却溶解法によりセルロースエステル溶液を調
製することも好ましい。
Among these alcohols, ethanol is preferable because it has a dope stabilizing effect, has a relatively low boiling point, has good drying properties, and is not toxic. , Ethanol 5
It is preferable to use a solvent containing 30% by mass. Methyl acetate may be used in place of methylene chloride when a solvent containing halogen is avoided due to environmental restrictions.
At this time, it is also preferable to prepare the cellulose ester solution by a cooling dissolution method.

【0055】本発明に係る基材としてセルロースエステ
ルフィルムを用いる場合、このセルロースエステルフィ
ルムには、可塑剤を含有するのが好ましい。
When a cellulose ester film is used as the substrate according to the present invention, the cellulose ester film preferably contains a plasticizer.

【0056】用いることのできる可塑剤としては、特に
限定はないが、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタ
ル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑
剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、
クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤など
を好ましく用いることができる。リン酸エステル系とし
ては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジ
ルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オ
クチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニル
ホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチル
ホスフェート等、フタル酸エステル系としては、例え
ば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレー
ト、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブ
チルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、
ブチルベンジルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤
としては、例えば、トリブチルトリメリテート、トリフ
ェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、
ピロメリット酸エステル系可塑剤としては、例えば、テ
トラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテ
ート、テトラエチルピロメリテート等、グリコール酸エ
ステル系としては、例えば、トリアセチン、トリブチリ
ン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレ
ート等、クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、
トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、
アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブ
チルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキ
シル)シトレート等を好ましく用いることができる。そ
の他に、カルボン酸エステルの例としては、例えば、オ
レイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシ
ン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれ
る。また、ポリエステル系可塑剤としては、例えば、脂
肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二
塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることがで
きる。脂肪族二塩基酸としては、特に限定されないが、
例えば、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタ
ル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸などを用い
ることができる。グリコールとしては、例えば、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピ
レングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,
4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコー
ル、1,2−ブチレングリコールなどを用いることがで
きる。これらの二塩基酸及びグリコールは、それぞれ単
独で用いても良いし、二種以上混合して用いても良い。
The plasticizer which can be used is not particularly limited, and examples thereof include phosphoric acid ester plasticizers, phthalic acid ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, and glycosyl ester plasticizers. Rate plasticizer,
Citrate ester plasticizers, polyester plasticizers and the like can be preferably used. Examples of the phosphate ester system include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, and the like, and phthalate ester system such as diethyl phthalate. , Dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate,
Examples of trimellitic acid plasticizers such as butylbenzyl phthalate include tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl trimellitate, and the like.
Examples of the pyromellitic ester plasticizer include, for example, tetrabutylpyromellitate, tetraphenylpyromellitate, and tetraethylpyromellitate, and examples of the glycolic acid ester include, for example, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, Examples of the citric acid ester plasticizers such as methylphthalylethyl glycolate and butylphthalylbutyl glycolate include:
Triethyl citrate, tri-n-butyl citrate,
Acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. In addition, examples of the carboxylic acid ester include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters. Further, as the polyester plasticizer, for example, a copolymerized polymer of a dibasic acid such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, an aromatic dibasic acid and a glycol can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited,
For example, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyldicarboxylic acid, etc. can be used. Examples of glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,
4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol, etc. can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

【0057】特に、特願2000−338883に記載
のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の
添加物を有するセルロースエステルフィルムが好ましく
用いられる。
In particular, a cellulose ester film having additives such as epoxy compounds, rosin compounds, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, ketone resins and toluene sulfonamide resins described in Japanese Patent Application No. 2000-338883. It is preferably used.

【0058】これらの可塑剤を単独あるいは併用して用
いることができ、これらの可塑剤の使用量は、フィルム
性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1
〜20質量%であることが好ましい。
These plasticizers can be used alone or in combination. The amount of these plasticizers used is 1 with respect to the cellulose ester in view of film performance, processability and the like.
It is preferably about 20% by mass.

【0059】ついで、本発明に係る基材で用いることの
できる紫外線吸収剤について説明する。本発明に係る基
材には、液晶等の劣化防止の観点から紫外線吸収剤が含
有されていることが好ましい。
Next, the ultraviolet absorber which can be used in the base material according to the present invention will be described. From the viewpoint of preventing deterioration of liquid crystal and the like, the base material according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber.

【0060】本発明で用いることのできる紫外線吸収剤
としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優
れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm
以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられ
る。本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例
としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベ
ンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合
物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化
合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、これ
らに限定されない。また、特開平6−148430号に
記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
The ultraviolet absorber which can be used in the present invention has an excellent ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and has a wavelength of 400 nm from the viewpoint of good liquid crystal display.
A material that absorbs less visible light is preferably used. Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds and the like. , But not limited to these. Further, the polymeric ultraviolet absorber described in JP-A-6-148430 is also preferably used.

【0061】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、下記一般式〔1〕で表される化合物が好ましく用い
られる。
As the benzotriazole type ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula [1] is preferably used.

【0062】[0062]

【化1】 [Chemical 1]

【0063】式中、R1、R2、R3、R4及びR5は、各
々水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル
基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミ
ノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表
し、R4とR5は互いに閉環して5〜6員の炭素環を形成
してもよい。また、上記の各基では、任意の置換基を有
していて良い。
In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxyl group, an acyloxy group, Represents an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a mono- or dialkylamino group, an acylamino group or a 5- or 6-membered heterocyclic group, R 4 and R 5 are ring-closed to each other to form a 5- or 6-membered carbocycle. May be. Further, each of the above groups may have an arbitrary substituent.

【0064】以下に一般式〔1〕で表される紫外線吸収
剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されな
い。
Specific examples of the ultraviolet absorber represented by the general formula [1] are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0065】UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−
ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−
tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリア
ゾール UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,
4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,
3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)フェノール) UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−
ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェ
ノール(商品名:TINUVIN171、チバ・スペシ
ャルティー・ケミカルズ社製) UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4
−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチル
ヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(商品名:
TINUVIN109、チバ・スペシャルティー・ケミ
カルズ社製) 上記の中で、融点が20℃以下の紫外線吸収剤として
は、UV−8が融点が−56℃であり、UV−9が常温
(25℃)で黄色透明な粘調液体である。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5 '
-Methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) benzotriazole UV-3: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-
tert-Butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ",
4 ", 5", 6 "-tetrahydrophthalimidomethyl)
-5'-Methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3)
3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol) UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-
Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (trade name: TINUVIN171, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4]
-Hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole- Two
-Yl) phenyl] propionate mixture (trade name:
TINUVIN109, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Among the above, as an ultraviolet absorber having a melting point of 20 ° C. or lower, UV-8 has a melting point of −56 ° C., and UV-9 has a normal temperature (25 ° C.). It is a yellow and transparent viscous liquid.

【0066】また、本発明で用いることもできる紫外線
吸収剤のひとつであるベンゾフェノン系紫外線吸収剤と
しては、下記一般式〔2〕で表される化合物が好ましく
用いられる。
Further, as the benzophenone type ultraviolet absorber which is one of the ultraviolet absorbers which can be used in the present invention, the compound represented by the following general formula [2] is preferably used.

【0067】[0067]

【化2】 [Chemical 2]

【0068】式中、Yは水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシル基、またはフェニ
ル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基または
フェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原
子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロア
ルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル
基または−CO(NH)n-1−D基を表し、Dはアルキ
ル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフ
ェニル基を表す。m及びnはそれぞれ1または2を表
す。
In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group or a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group or phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a -CO (NH) n-1 -D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have. m and n each represent 1 or 2.

【0069】一般式〔2〕において、アルキル基として
は、例えば炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基
を表し、アルコキシル基としては、例えば炭素数18ま
でのアルコキシル基で、アルケニル基としては、例えば
炭素数16までのアルケニル基で、例えばアリル基、2
−ブテニル基などを表す。また、アルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基への置換基としては、ハロゲン原子、
例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロ
キシル基、フェニル基、(このフェニル基にはアルキル
基またはハロゲン原子などを置換していてもよい)など
が挙げられる。
In the general formula [2], the alkyl group represents, for example, a straight-chain or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, and the alkoxyl group represents, for example, an alkoxyl group having up to 18 carbon atoms and an alkenyl group. Is, for example, an alkenyl group having up to 16 carbon atoms, such as an allyl group, 2
-Represents a butenyl group and the like. Further, as a substituent for an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group, a halogen atom,
For example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom and the like, a hydroxyl group, a phenyl group, (the phenyl group may be substituted with an alkyl group or a halogen atom) and the like can be mentioned.

【0070】以下、一般式〔2〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。
Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula [2] are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0071】UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾ
フェノン UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スル
ホベンゾフェノン UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5
−ベンゾイルフェニルメタン) 本発明で好ましく用いられる上記記載の各紫外線吸収剤
において、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効
果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾ
フェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより
少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、特に好ま
しく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: bis ( 2-methoxy-4-hydroxy-5
-Benzoylphenylmethane) In each of the above-mentioned ultraviolet absorbers preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber or a benzophenone-based ultraviolet absorber having high transparency and an excellent effect of preventing deterioration of a polarizing plate or a liquid crystal is A benzotriazole-based UV absorber which causes less unnecessary coloring is particularly preferably used.

【0072】また、本発明に係る基材に用いられる紫外
線吸収剤は、特願平11−295209号に記載されて
いる分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤を含むこと
が、基材の面品質に優れ、配向層の配向阻害も少なく、
かつ塗布性にも優れ好ましく、特に分配係数が10.1
以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
The ultraviolet absorbent used in the base material according to the present invention may contain the ultraviolet absorbent having a distribution coefficient of 9.2 or more described in Japanese Patent Application No. 11-295209. The surface quality is excellent, and the alignment layer does not hinder the alignment.
In addition, the coating property is also excellent, and the partition coefficient is particularly 10.1.
It is preferable to use the above ultraviolet absorbers.

【0073】可塑剤や紫外線吸収剤吸収剤を含むセルロ
ースエステルフィルムを基材として用いた場合、これら
がブリードアウトするなどによって、プラズマ処理部に
付着するなどして工程を汚染し、これがフィルムに付着
するなどして故障の原因となることがあり、セルロース
エステルと可塑剤を有する基材においては、80℃、9
0%RHで50時間処理した前後の質量変化が±2質量
%未満である基材を用いることにより、このような工程
汚染が著しく低減でき、好ましい。このようなセルロー
スエステルフィルムとしは、特願2000−33888
3に記載のセルロースエステルフィルム等が好ましく用
いられる。また、この目的のための好ましい紫外線吸収
剤としては、特開平6−148430号、特願2000
−156039に記載の高分子紫外線吸収剤または紫外
線吸収性ポリマーを好ましく用いることができる。特
に、特開平6−148430号に記載の一般式(1)ま
たは一般式(2)で表される化合物、あるいは特願20
00−156039に記載の一般式(3)、(6)、
(7)で表される高分子紫外線吸収剤が、特に好ましく
用いられる。
When a cellulose ester film containing a plasticizer or an ultraviolet absorber absorbent is used as a base material, it bleeds out and adheres to the plasma-treated part to contaminate the process, which adheres to the film. May cause damage to the base material. If the base material contains cellulose ester and a plasticizer, it may be
By using a base material whose mass change before and after treatment with 0% RH for 50 hours is less than ± 2 mass%, such process contamination can be significantly reduced, which is preferable. Such a cellulose ester film is disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-33888.
The cellulose ester film described in 3 or the like is preferably used. Further, preferable ultraviolet absorbers for this purpose include JP-A-6-148430 and Japanese Patent Application No. 2000.
The high molecular weight UV absorbent or the UV absorbent polymer described in −156039 can be preferably used. In particular, the compound represented by formula (1) or formula (2) described in JP-A-6-148430, or Japanese Patent Application No. 20
The general formulas (3), (6),
The polymer ultraviolet absorber represented by (7) is particularly preferably used.

【0074】基材の光学特性としては、面内リターデー
ション値ROは0〜1000nmのものが好ましく用い
られ、厚さ方向のリターデーション値Rtは0〜300
nmのものが、用途に応じて好ましく用いられる。ま
た、波長分散特性はR600/R4 50は0.7〜1.3であ
ることが好ましく、特に1.0〜1.3であること好ま
しい。ここでR450は450nmの波長の光による面内
リターデーションであり、R600は600nmの波長の
光による面内リターデーションである。
As the optical characteristics of the substrate, those having an in-plane retardation value RO of 0 to 1000 nm are preferably used, and a retardation value Rt in the thickness direction is 0 to 300.
Those of nm are preferably used depending on the application. It is preferable that the wavelength dispersion characteristic R 600 / R 4 50 is 0.7 to 1.3, it particularly preferably 1.0-1.3. Here, R 450 is an in-plane retardation due to light having a wavelength of 450 nm, and R 600 is an in-plane retardation due to light having a wavelength of 600 nm.

【0075】請求項4に係る発明では、2枚の透明支持
体A、Bにより、偏光層を挟持してなる偏光板におい
て、透明支持体Aが偏光層とは反対の面に活性線硬化樹
脂層を介して反射防止層を有し、かつ透明支持体Bが偏
光層とは反対の面に活性線硬化樹脂層を有することが特
徴である。
In the invention according to claim 4, in a polarizing plate in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent supports A and B, an actinic ray curable resin is provided on the surface of the transparent support A opposite to the polarizing layer. It is characterized in that it has an antireflection layer through the layer and that the transparent support B has an actinic radiation curable resin layer on the surface opposite to the polarizing layer.

【0076】本発明でいう活性線硬化樹脂層とは、活性
線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射に
より架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とす
る層をいう。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂
や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられ
るが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化す
る樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポ
リエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ
アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレ
ート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げ
ることが出来る。また、具体例としては、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙
げることが出来る。
The actinic radiation curable resin layer referred to in the present invention is a layer mainly composed of a resin which is cured by a crosslinking reaction by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams. Typical examples of the actinic ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin which is cured by irradiation with an actinic ray other than ultraviolet rays and electron beams may be used. As the ultraviolet curable resin, for example,
Examples thereof include UV-curable acrylic urethane-based resin, UV-curable polyester acrylate-based resin, UV-curable epoxy acrylate-based resin, UV-curable polyol acrylate-based resin, and UV-curable epoxy resin. Further, as specific examples, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate,
Examples thereof include dipentaerythritol hexaacrylate and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

【0077】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂とし
ては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネート
モノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた
生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートに
はメタクリレートを包含するものとしてアクリレートの
みを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応さ
せる容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭
59−151110号に記載のものを用いることが出来
る。
As the UV-curable acrylic urethane resin, a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer is further added to 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl acrylate.
Examples include hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, acrylate is referred to as acrylate only including acrylate) and 2-hydroxypropyl acrylate, which are easily formed by reacting an acrylate-based monomer having a hydroxyl group, Those described in JP-A-59-151110 can be used.

【0078】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレ
ート系のモノマーを反応させる容易に形成されるものを
挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載
のものを用いることが出来る。
Examples of the UV-curable polyester acrylate resin include those which are easily formed by reacting a polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or a 2-hydroxy acrylate monomer. Those described in No. 151112 can be used.

【0079】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−
105738号に記載のものを用いることが出来る。
Specific examples of the ultraviolet-curable epoxy acrylate resin include epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and a reaction product. Kaihei 1-
The one described in No. 105738 can be used.

【0080】これらの光反応開始剤としては、具体的に
は、ベンゾイン及び誘導体、アセトフェノン、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケト
ン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び
これらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に
使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤としても
使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤
の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出
来る。
Specific examples of these photoreaction initiators include benzoin and derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone and their derivatives. You may use it with a photosensitizer. The above photoreaction initiator can also be used as a photosensitizer. Further, when the epoxy acrylate-based photoreactive agent is used, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine or tri-n-butylphosphine can be used.

【0081】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニ
ル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−
シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることが出来る。
As the resin monomer, for example, a monomer having one unsaturated double bond is methyl acrylate,
Common monomers such as ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate and styrene can be mentioned. Further, as a monomer having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-
Cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyl dimethyl adiacrylate, the above-mentioned trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylic ester, etc. can be mentioned.

【0082】また、モノマーが液晶性を有していても良
い。本発明において使用し得る市販品の紫外線硬化樹脂
としては、例えば、アデカオプトマーKR・BYシリー
ズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR
−566、KR−567、BY−320B(旭電化
(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−1
01−WS、C−302、C−401−N、C−50
1、M−101、M−102、T−102、D−10
2、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P
20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)
製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X
−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−
20、DP−30、P1000、P1100、P120
0、P1300、P1400、P1500、P160
0、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7
033、KRM7039、KRM7130、KRM71
31、UVECRYL29201、UVECRYL29
202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5
015、RC−5016、RC−5020、RC−50
31、RC−5100、RC−5102、RC−512
0、RC−5122、RC−5152、RC−517
1、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化
学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ
(中国塗料(株)製);サンラッドH−601(三洋化
成工業(株)製);SP−1509、SP−1507
(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・
ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−
8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜
選択して利用出来る。
Further, the monomer may have liquid crystallinity. Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include, for example, ADEKA OPTOMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR.
-566, KR-567, BY-320B (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.); Koei Hard A-101-KK, A-1
01-WS, C-302, C-401-N, C-50
1, M-101, M-102, T-102, D-10
2, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P
20, AG-106, M-101-C (Kouei Chemical Co., Ltd.)
Made); SEIKA BEAM PHC2210 (S), PHC X
-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-
20, DP-30, P1000, P1100, P120
0, P1300, P1400, P1500, P160
0, SCR900 (manufactured by Dainichiseika Kogyo KK); KRM7
033, KRM7039, KRM7130, KRM71
31, UVECRYL29201, UVECRYL29
202 (manufactured by Daicel UCB Ltd.); RC-5
015, RC-5016, RC-5020, RC-50
31, RC-5100, RC-5102, RC-512
0, RC-5122, RC-5152, RC-517
1, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.); Aurex No. 340 Clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.); SP-1509, SP-1507
(Showa High Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (Grace
Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-
8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like can be appropriately selected and used.

【0083】これらの活性線硬化樹脂層は公知の方法で
塗設することが出来る。紫外線硬化性樹脂を光硬化反応
により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外
線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例え
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれ
のランプによって異なるが、照射光量は20〜1000
0mJ/cm2程度あればよく、好ましくは、50〜2
000mJ/cm2である。近紫外線領域〜可視光線領
域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いる
ことによって効率よく形成することが出来る。
These actinic ray curable resin layers can be applied by a known method. As a light source for forming a cured coating layer by photo-curing a UV-curable resin, any light source that emits UV light can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a super high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is 20 to 1000.
It may be about 0 mJ / cm 2 , preferably 50 to 2
It is 000 mJ / cm 2 . It can be efficiently formed in the near-ultraviolet region to the visible light region by using a sensitizer having an absorption maximum in that region.

【0084】紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒
としては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン
類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の有機
溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合し利用
出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル
(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(ア
ルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以
上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有
機溶媒を用いるのが好ましい。
The organic solvent for the ultraviolet-curable resin layer composition coating liquid is appropriately selected from, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other organic solvents, or these are selected. Can be mixed and used. Propylene glycol monoalkyl ether (having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetic acid ester (having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl group) or the like is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the above-mentioned organic solvent that is contained by mass% or more.

【0085】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、製膜で用いられる公知の方法を適用すること
ができる。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μ
mが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。
As a method for applying the ultraviolet-curable resin composition coating solution, a known method used for film formation can be applied. The coating amount is 0.1 to 30μ as a wet film thickness.
m is suitable, and preferably 0.5 to 15 μm.

【0086】請求項5に係る発明では、透明支持体Aの
活性線硬化樹脂層の膜厚UVaと透明支持体Bの活性線
硬化樹脂層の膜厚UVbとの膜厚比(UVb/UVa)
が0.1〜10であることが特徴であり、更に請求項7
に係る発明では、その膜厚比(UVb/UVa)が0.
2〜0.95であることが特徴である。また、請求項6
に係る発明では、透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の膜
厚UVbが、1.3μm以上であることが特徴であり、
好ましくは1.5〜4.0μmである。
In the invention according to claim 5, the film thickness ratio (UVb / UVa) between the film thickness UVa of the active ray curable resin layer of the transparent support A and the film thickness UVb of the active ray curable resin layer of the transparent support B.
Is 0.1 to 10 and is further characterized by:
In the invention according to, the film thickness ratio (UVb / UVa) is 0.
The feature is that it is 2 to 0.95. In addition, claim 6
In the invention according to, the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 1.3 μm or more,
It is preferably 1.5 to 4.0 μm.

【0087】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中また
は後に、紫外線を照射するのがよく、照射時間としては
0.5秒〜5分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効
率または作業効率の観点から3秒〜2分がより好まし
い。
The UV-curable resin composition is preferably irradiated with UV rays during or after coating and drying, and the irradiation time is preferably about 0.5 seconds to 5 minutes. From the viewpoint, 3 seconds to 2 minutes are more preferable.

【0088】こうして得た硬化樹脂層に、ブロッキング
を防止するために、また対擦り傷性等を高めるために、
無機化合物あるいは有機化合物の微粒子を加えることも
出来、それらの種類としては、前述のマット剤の微粒子
とほぼ同様である。これらの微粒子粉末の一次平均粒径
としては、0.005〜1μmが好ましく0.01〜
0.1μmであることが特に好ましい。紫外線硬化樹脂
組成物と微粒子粉末との割合は、樹脂組成物100質量
部に対して、0.1〜10質量部となるように配合する
ことが望ましい。
To the cured resin layer thus obtained, in order to prevent blocking and enhance scratch resistance,
Fine particles of an inorganic compound or an organic compound can be added, and the types thereof are almost the same as the fine particles of the matting agent described above. The primary average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.005 to 1 μm and 0.01 to
Particularly preferably, it is 0.1 μm. The ratio of the ultraviolet curable resin composition to the fine particle powder is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

【0089】紫外線硬化樹脂層は、JIS B 060
1で規定される中心線平均表面粗さ(Ra)が1〜50
nmのクリアハードコート層であっても、Raが0.1
〜1μm程度の防眩層であってもよい。
The UV curable resin layer is JIS B 060.
The center line average surface roughness (Ra) defined by 1 is 1 to 50.
Ra is 0.1 even if it is a clear hard coat layer of nm.
It may be an antiglare layer having a thickness of about 1 μm.

【0090】請求項8に係る発明では、透明支持体Aま
たは透明支持体Bが、炭素含有量0.2〜5%の金属酸
化物層を有することが特徴であり、また、請求項9に係
る発明では、透明支持体Aが、屈折率2.0以上の金属
酸化物層を含む反射防止層を有することが特徴であり、
好ましくは屈折率が2.1〜2.6の金属酸化物層であ
る。
The invention according to claim 8 is characterized in that the transparent support A or the transparent support B has a metal oxide layer having a carbon content of 0.2 to 5%. In the invention, the transparent support A is characterized by having an antireflection layer containing a metal oxide layer having a refractive index of 2.0 or more,
It is preferably a metal oxide layer having a refractive index of 2.1 to 2.6.

【0091】本発明では、セルロースエステルフィルム
上に直接あるいは紫外線硬化樹脂層等の上に金属酸化物
層を形成することが特徴であり。このようにして形成さ
れた金属酸化物層を用いると、ピンホール欠陥が少ない
という特徴が得られることが判った。経時でもピンホー
ルは増加しないことも大きな効果である。
The present invention is characterized in that the metal oxide layer is formed directly on the cellulose ester film or on the ultraviolet curable resin layer or the like. It has been found that the use of the metal oxide layer thus formed has the characteristic that pinhole defects are few. It is also a great effect that the number of pinholes does not increase over time.

【0092】これらの金属酸化物層は、低屈折率層、中
屈折率層、高屈折率層等の反射防止層として有用であ
り、あるいは導電性層や帯電防止層等として好ましく用
いられる。
These metal oxide layers are useful as antireflection layers such as low refractive index layers, medium refractive index layers, and high refractive index layers, or are preferably used as conductive layers and antistatic layers.

【0093】本発明でいう炭素含有率は、以下の方法に
より求めることができる。本発明のフィルムの炭素含有
率は、XPS表面分析装置を用いてその値を測定するこ
とができる。XPS表面分析装置としては、特に限定な
く、いかなる機種も使用することができるが、例えば、
VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−20
0Rを用いた。具体的には、例えば、X線アノードには
Mgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッ
ション電流40mA)で測定する。エネルギー分解能
は、清浄なAg3d5/2ピークの半値幅で規定したと
き、1.5〜1.7eVとなるように設定する。測定を
行う前に、汚染による影響を除くために、膜厚の10〜
20%の厚さに相当する表面層をエッチング除去する必
要がある。表面層の除去には、希ガスイオンが利用でき
るイオン銃を用いることが好ましく、イオン種として
は、He、Ne、Ar、Xe、Krなどが利用できる。
先ず、結合エネルギー0eVから1100eVの範囲
を、データ取り込み間隔1.0eVで測定し、いかなる
元素が検出されるかを求める。次に、検出された、エッ
チングイオン種を除く全ての元素について、データの取
り込み間隔を0.2eVとして、その最大強度を与える
光電子ピークについてナロースキャンを行い、各元素の
スペクトルを測定する。得られたスペクトルは、測定装
置、あるいは、コンピューターの違いによる含有率算出
結果の違いを防止するために、VAMAS・SCA・JA
PAN製のCOMMON DATA PROCESSI
NG SYSTEM(Ver.2.3)上に転送した
後、同ソフトで処理を行い、炭素含有率の値を原子数濃
度(atomic concentration)とし
て求める。定量処理をおこなう前に、各元素についてC
ount Scaleのキャリブレーションを行い、5
ポイントのスムージング処理を行う。定量処理では、バ
ックグラウンドを除去したピークエリア強度(cps・
eV)を用いた。バックグラウンド処理には、Shir
leyによる方法を用いた。Shirley法について
は、D.A.Shirley,Phys.Rev.,B
5,4709(1972)を参考にすることができる。
The carbon content referred to in the present invention can be determined by the following method. The carbon content of the film of the present invention can be measured using an XPS surface analyzer. The XPS surface analyzer is not particularly limited, and any model can be used.
ESCALAB-20 manufactured by VG Scientific Co., Ltd.
0R was used. Specifically, for example, Mg is used for the X-ray anode, and the output is measured at 600 W (accelerating voltage 15 kV, emission current 40 mA). The energy resolution is set to be 1.5 to 1.7 eV when defined by the half width of a clean Ag3d5 / 2 peak. Before measuring, the thickness of the
It is necessary to etch away the surface layer, which corresponds to a thickness of 20%. For removing the surface layer, it is preferable to use an ion gun that can use rare gas ions, and as the ion species, He, Ne, Ar, Xe, Kr or the like can be used.
First, the binding energy range from 0 eV to 1100 eV is measured at a data acquisition interval of 1.0 eV to determine what element is detected. Next, with respect to all the detected elements except the etching ion species, the data capturing interval is set to 0.2 eV, and a narrow scan is performed on the photoelectron peak that gives the maximum intensity, and the spectrum of each element is measured. The obtained spectrum was analyzed by VAMAS / SCA / JA in order to prevent the difference in the content rate calculation result due to the difference of the measuring device or the computer.
PAN made COMMON DATA PROCESSES
After transferring onto NG SYSTEM (Ver. 2.3), the same software is used to determine the value of carbon content as the atomic concentration. Before performing quantitative processing, C for each element
Calibrate the out Scale and 5
Performs point smoothing processing. In the quantitative processing, the peak area intensity (cps.
eV) was used. For background processing, Shir
The method by ley was used. For the Shirley method, see D.W. A. Shirley, Phys. Rev. , B
5,4709 (1972) can be referred to.

【0094】本発明に係る金属酸化物層を形成する方法
としては、塗布により金属酸化物層を設けても良いが、
大気圧もしくはその近傍の圧力下におけるプラズマ放電
処理が好ましく用いられる。
As a method for forming the metal oxide layer according to the present invention, the metal oxide layer may be provided by coating.
Plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof is preferably used.

【0095】請求項10に係る発明では、透明支持体A
が、大気圧プラズマ処理によって形成された反射防止層
を有することが特徴である。
In the invention according to claim 10, the transparent support A
Is characterized by having an antireflection layer formed by atmospheric pressure plasma treatment.

【0096】以下、本発明で用いることのできるプラズ
マ処理について説明する。本発明において用いることの
できる大気圧プラズマ放電処理装置の一例としては、図
2に示すような装置を挙げることができる。図2におい
て、Fは長尺状の基材である。12は大気圧もしくはそ
の近傍の圧力下、連続的にプラズマ処理する処理室であ
り、13、14は一対の電極である。
The plasma processing that can be used in the present invention will be described below. An example of the atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus that can be used in the present invention is an apparatus as shown in FIG. In FIG. 2, F is a long-sized base material. Reference numeral 12 is a processing chamber for continuously performing plasma processing under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and reference numerals 13 and 14 are a pair of electrodes.

【0097】処理室12は前記基材Fの入口12Aと出
口12Bを有する間仕切りされた処理室によって構成さ
れている。以下処理部を処理室として説明する。
The processing chamber 12 is composed of a partitioned processing chamber having an inlet 12A and an outlet 12B for the base material F. Hereinafter, the processing unit will be described as a processing chamber.

【0098】図示の例では、処理室12に隣接して基材
の入口側に予備室10が設けられ、その予備室10に隣
接して予備室11が設けられている。出口側にも処理室
12に隣接して予備室17が設けられている。
In the illustrated example, the preliminary chamber 10 is provided adjacent to the processing chamber 12 on the inlet side of the base material, and the preliminary chamber 11 is provided adjacent to the preliminary chamber 10. A preparatory chamber 17 is also provided adjacent to the processing chamber 12 on the outlet side.

【0099】予備室を設ける場合、図2で示すように、
基材Fの入口側に二つ、出口側に一つを設ける態様であ
ってもよいが、これに限定されず、基材Fの出入口側に
一つづつ設ける態様、入口側に二つ設け、出口側に設け
ない態様、あるいは入口側に二つ以上、出口側に二つ以
上設ける態様でもよい。
When a spare chamber is provided, as shown in FIG.
There may be a mode in which two are provided on the inlet side of the base material F and one is provided on the outlet side, but the present invention is not limited to this. Alternatively, it may be a mode not provided on the outlet side, or a mode in which two or more are provided on the inlet side and two or more are provided on the outlet side.

【0100】いずれの態様であっても、処理室12内の
内圧が、処理室12と隣接する予備室の内圧より高いこ
とが好ましく、より好ましくは0.30Pa以上高いこ
とである。このように処理室12と予備室の間でも圧力
差を設けることにより、外部空気の混入を防止し、反応
ガスの有効使用が可能となり、処理効果も更に向上す
る。
In any of the embodiments, the internal pressure in the processing chamber 12 is preferably higher than the internal pressure in the preparatory chamber adjacent to the processing chamber 12, and more preferably 0.30 Pa or more. By thus providing a pressure difference between the processing chamber 12 and the preparatory chamber, it is possible to prevent external air from being mixed in, effectively use the reaction gas, and further improve the processing effect.

【0101】また、処理室12に隣接して入口側に二つ
以上、出口側に二つ以上予備室を設けた場合、その予備
室と隣り合う予備室の間の差圧は、処理室12に近い側
の予備室の内圧が高く設定されることが好ましく、0.
30Pa以上高く設定されることが好ましい。このよう
に複数の予備室同士の間でも圧力差を設けることによっ
て、外部空気の混入をより効率的に防止し、反応ガスの
有効使用がより可能となり、処理効果も更に向上する。
When two or more auxiliary chambers are provided adjacent to the processing chamber 12 on the inlet side and two or more auxiliary chambers on the outlet side, the differential pressure between the auxiliary chamber and the adjacent auxiliary chambers is It is preferable that the internal pressure of the preparatory chamber on the side closer to 0.
It is preferable to set it higher than 30 Pa. By providing a pressure difference between the plurality of preparatory chambers as described above, the mixing of external air is more efficiently prevented, the reaction gas can be effectively used, and the treatment effect is further improved.

【0102】予備室には、処理ガスの少なくとも1成
分、好ましくは希ガスを有していることが反応ガスの効
率的な使用と処理効果の向上の観点から好ましい。
It is preferable that the preliminary chamber contains at least one component of the processing gas, preferably a rare gas, from the viewpoint of efficient use of the reaction gas and improvement of the processing effect.

【0103】前記処理室12と予備室、予備室同士の部
屋には間仕切りされていることが必要であり、かかる間
仕切り手段としては、図示のように、入口側に一対のニ
ップローラ8、出口側に一対のニップローラ9を設ける
形態も好ましい。
It is necessary that the processing chamber 12, the spare chamber, and the spare chambers are partitioned from each other. As the partitioning means, as shown in the drawing, a pair of nip rollers 8 are provided on the inlet side and a pair of nip rollers 8 are provided on the outlet side. A form in which a pair of nip rollers 9 are provided is also preferable.

【0104】かかるニップローラは、基材Fに対して接
触しながら閉鎖ないし間仕切りする機能を有するが、部
屋同士を完全に間仕切りできないので、本実施の形態例
の様な圧力差を設ける手段が有効に機能するのである。
The nip roller has a function of closing or partitioning while contacting the base material F, but it cannot completely partition the rooms. Therefore, a means for providing a pressure difference as in the present embodiment is effective. It works.

【0105】また間仕切り手段としては、基材Fに対し
て所定の間隙を保ち、且つ非接触である態様であっても
よい。かかる態様としては図示しないエアーカーテン方
式等を採用できる。
Further, the partitioning means may have a mode in which a predetermined gap is maintained with respect to the base material F and it is not in contact with the base material F. As such a mode, an air curtain system or the like (not shown) can be adopted.

【0106】なお、予備室を設けない場合には、処理室
と外部の間に間仕切りがされればよい。
When the spare chamber is not provided, a partition may be provided between the processing chamber and the outside.

【0107】図示の例で、一対の電極13、14は、金
属母材と固体誘電体で構成され、該金属母材へライニン
グにより無機性質の誘電体を被覆した組み合わせ、また
は同母材に対しセラミックス溶射後、無機性物質により
封孔処理した誘電体を被覆した組み合わせで構成されて
いる。ここで金属母材は、銀、白金、ステンレス、アル
ミニウム、鉄等の金属が使えるが、ステンレスが加工し
易い。
In the illustrated example, the pair of electrodes 13 and 14 are composed of a metal base material and a solid dielectric material, and the metal base material is lined with a dielectric material having an inorganic property. It is composed of a combination of ceramics sprayed and coated with a dielectric material that has been sealed with an inorganic material. Here, as the metal base material, metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum and iron can be used, but stainless steel is easy to process.

【0108】また、ライニング材としては、ケイ酸塩系
ガラス、ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマ
ン酸塩系ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガ
ラス、バナジン酸塩ガラス等が用いることができる、こ
の中でもホウ酸塩系ガラスが加工し易い。
As the lining material, silicate glass, borate glass, phosphate glass, germanate glass, tellurite glass, aluminate glass, vanadate glass, etc. Can be used. Among them, borate glass is easy to process.

【0109】また溶射に用いるセラミックスとしては、
アルミナが良く、封孔材としては、アルコキシシラン等
をゾルゲル反応させて無機化させたものが用いられる。
As the ceramics used for thermal spraying,
Alumina is preferable, and as the sealing material, a material obtained by sol-gel reaction of alkoxysilane or the like to be inorganicized is used.

【0110】また、図2では一対の電極13、14のよ
うに平板電極を用いてあるが、一方もしくは双方の電極
を円筒状電極、角柱状電極、ロール状電極としてもよ
い。
In FIG. 2, a flat plate electrode is used like the pair of electrodes 13 and 14, but one or both electrodes may be a cylindrical electrode, a prismatic electrode, or a roll electrode.

【0111】この一対の電極13、14のうち一方の電
極13に高周波電源15が接続され、他方の電極14
は、アース16により接地されており、一対の電極1
3、14間に電界を印加できるように構成されている。
A high frequency power source 15 is connected to one electrode 13 of the pair of electrodes 13 and 14, and the other electrode 14 is connected to the other electrode 14.
Is grounded by a ground 16 and a pair of electrodes 1
It is configured so that an electric field can be applied between 3 and 14.

【0112】また、本手段により、被処理基材が帯電す
ることやそれに伴うゴミ付着等を引き起こすこともある
が、以下の解決手段により、特に問題とはならない。例
えば、除電手段としては、特開平7−263173号に
記載されている、通常のブロアー式、接触式以外に、複
数の正負のイオン生成用除電電極と基材を挟むようにイ
オン吸引電極を対向させた除電装置と、その後正負の直
流式除電装置を設けた高密度除電システムを用いること
も好ましい。また、このときの基材の帯電量は±500
V以下が好ましい。また、除電処理後のゴミ除去手段と
しては、特開平7−60211号等に記載されている非
接触式のジェット風式減圧型ゴミ除去装置が好ましい
が、これに限定される訳ではない。
The present means may cause the substrate to be treated to be charged and dust to be attached thereto. However, the following means for solving the problems do not cause a problem. For example, as the static elimination means, in addition to the ordinary blower type and contact type, which are described in JP-A-7-263173, a plurality of positive and negative ion generation static elimination electrodes and an ion suction electrode are opposed to sandwich the substrate. It is also preferable to use a high-density static elimination system provided with the static eliminator thus made and a positive / negative direct current type static eliminator thereafter. The charge amount of the base material at this time is ± 500.
V or less is preferable. Further, as the dust removing means after the static elimination treatment, a non-contact type jet decompression type dust removing device described in JP-A-7-60211 is preferable, but the dust removing means is not limited to this.

【0113】本発明でいう大気圧近傍の圧力とは、20
〜200kPaの圧力下であり、好ましくは93〜10
7kPaの範囲である。
In the present invention, the pressure near atmospheric pressure means 20
Under pressure of ~ 200 kPa, preferably 93-10
It is in the range of 7 kPa.

【0114】この方法では、上記対向する電極間に、1
00kHzから150MHzの範囲に周波数を有する高
周波電界を印加するのが好ましい。特に、周波数が高い
程、製膜速度を上げることができ好ましい。
In this method, one electrode is provided between the opposing electrodes.
It is preferable to apply a high frequency electric field having a frequency in the range of 00 kHz to 150 MHz. In particular, the higher the frequency, the higher the film forming speed, which is preferable.

【0115】また、一般にこのような高周波電界はサイ
ン波形を有すが、パルス化された電界を印加することも
可能である。このパルス化とは、ON/OFFのデュー
ティ比を変化させることでプラズマガス温度の変化が可
能になる。これにより、表面凹凸の形状を変化させるこ
とも可能となる場合がある。
Further, although such a high frequency electric field generally has a sine waveform, it is also possible to apply a pulsed electric field. This pulsing means that the plasma gas temperature can be changed by changing the ON / OFF duty ratio. Thereby, it may be possible to change the shape of the surface unevenness.

【0116】上記のパルス化された電界を印加すること
により、大気圧及びその近傍下でのプラズマ放電が希ガ
ス無しでも発生でき、プラズマ処理の効率を上げること
ができる。
By applying the above-mentioned pulsed electric field, plasma discharge under atmospheric pressure and its vicinity can be generated without a rare gas, and the efficiency of plasma treatment can be improved.

【0117】図2に示す装置を用いて処理するには、先
ず搬送される基材Fが処理室12内に入り、その処理室
12内で、高周波電界により発生させられたプラズマに
より、その表面が連続処理される。更に処理前に、予め
基材表面の除電処理を行い、更にゴミ除去を行うことに
よって、表面処理の均一性が更に向上するので好まし
い。除電手段及び除電処理後のゴミ除去手段としては、
上記装置で記載したのと同様の手段を用いることができ
る。
To perform processing using the apparatus shown in FIG. 2, first, the substrate F to be conveyed enters the processing chamber 12, and the surface of the substrate F is treated by the plasma generated by the high frequency electric field in the processing chamber 12. Are continuously processed. Further, it is preferable that before the treatment, the surface of the base material is subjected to static elimination treatment and then dust is removed, because the uniformity of the surface treatment is further improved. As the charge removing means and the dust removing means after the charge removing processing,
Means similar to those described for the above apparatus can be used.

【0118】図3は、本発明で用いられるプラズマ放電
処理装置に設置されるプラズマ放電処理容器の一例を示
す概略図であり、基材Fを巻回して搬送回転するロール
型の電極25に対して、複数の円筒で固定型の電極26
を対向させた一例であり、ロール型の電極25に巻回し
てニップローラ65、66で押圧され、基材Fはガイド
ローラ64、67を介して放電処理室30内に搬送さ
れ、電極25の回転に同期して、搬送及び処理される。
FIG. 3 is a schematic view showing an example of a plasma discharge treatment container installed in the plasma discharge treatment apparatus used in the present invention, with respect to a roll-type electrode 25 that winds the substrate F and conveys and rotates it. A plurality of cylindrical fixed electrodes 26
Are opposed to each other, and are wound around the roll-type electrode 25 and pressed by the nip rollers 65 and 66, the base material F is conveyed into the discharge processing chamber 30 through the guide rollers 64 and 67, and the electrode 25 rotates. Are transported and processed in synchronism with.

【0119】図4は、本発明で用いられるプラズマ放電
処理装置に設置されるプラズマ放電処理容器の他の一例
を示す概略図であり、図3に対し固定型電極として角柱
型の電極36に変更した装置の一例であり、円柱に比べ
放電範囲を広げる効果がある。
FIG. 4 is a schematic view showing another example of the plasma discharge processing container installed in the plasma discharge processing apparatus used in the present invention. In contrast to FIG. 3, a prismatic electrode 36 is used as the fixed electrode. This is an example of the above device, and has the effect of widening the discharge range compared to a cylinder.

【0120】更に、図5は、本発明に係るプラズマ放電
処理に用いられる円筒型のロール電極の一例を示す斜視
図であり、図6は、本発明に係るプラズマ放電処理に用
いられる固定型の円筒型電極の一例を示す斜視図であ
り、図7は、本発明に係るプラズマ放電処理に用いられ
る固定型の角柱型電極の一例を示す斜視図である。
Further, FIG. 5 is a perspective view showing an example of a cylindrical roll electrode used in the plasma discharge processing according to the present invention, and FIG. 6 is a fixed type used in the plasma discharge processing according to the present invention. FIG. 7 is a perspective view showing an example of a cylindrical electrode, and FIG. 7 is a perspective view showing an example of a fixed prismatic electrode used in the plasma discharge treatment according to the present invention.

【0121】電極25は、図5に示すように金属等の導
電性のある母材25aへライニングにより無機性物質の
誘電体25bを被覆した組み合わせ、または同母材25
Aに対しセラミックス溶射後、無機性物質により封孔処
理した誘電体25Bを被覆した組み合わせで構成されて
いる。電極26及び36も同様の組み合わせで構成され
る。
As shown in FIG. 5, the electrode 25 is a combination of a conductive base material 25a such as a metal covered with a dielectric 25b of an inorganic substance by lining, or the same base material 25.
A is coated with a dielectric 25B that has been subjected to pore-sealing treatment with an inorganic material after ceramics thermal spraying. The electrodes 26 and 36 are also configured in the same combination.

【0122】ここでも金属等の導電性のある母材25a
は、銀、白金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属
が使えるが、ステンレスが加工し易い。
Here again, the conductive base material 25a such as metal is used.
Can use metals such as silver, platinum, stainless steel, aluminum, and iron, but stainless steel is easy to process.

【0123】図8は、本発明に係る放電プラズマによる
放電処理装置の一例を示す概略図である。図8におい
て、放電処理装置部は図4と同様で、それにガス充填手
段50、電源40、電極冷却ユニット60等で構成され
ている。
FIG. 8 is a schematic view showing an example of a discharge processing apparatus using discharge plasma according to the present invention. In FIG. 8, the electric discharge treatment device section is the same as that in FIG. 4, and is provided with a gas filling means 50, a power supply 40, an electrode cooling unit 60 and the like.

【0124】また電極25、36は、図4、5、6等に
示すもので、対向する電極25、36間のギャップは、
例えば1mm程度となっている。
The electrodes 25 and 36 are shown in FIGS. 4, 5 and 6, and the gap between the opposing electrodes 25 and 36 is
For example, it is about 1 mm.

【0125】ガス充填手段50は、希ガス及び反応ガス
の混合ガスを放電処理室30に送気して充填する手段で
あり、混合ガスはヘリウム(He)またはアルゴン(A
r)の希ガスと酸素、水素、有機フッ素化合物またはそ
の混合ガスとを用いる。なお、比較的安価なアルゴンガ
スでの放電が望ましい。
The gas filling means 50 is means for feeding a mixed gas of a rare gas and a reaction gas to the discharge processing chamber 30 to fill the mixed gas, and the mixed gas is helium (He) or argon (A).
The rare gas of r) and oxygen, hydrogen, an organic fluorine compound or a mixed gas thereof are used. It should be noted that it is desirable to discharge with a relatively inexpensive argon gas.

【0126】電源40は、導電性の電極部分25a、2
5A、または26a、26A、または36a、36Aに
電圧を印加する。放電処理室30は、パイレックス
(R)ガラス製の処理容器31で構成され、処理容器3
1内に混合ガスが充填される。なお、実施形態では、処
理容器31はパイレックス(R)ガラス製であるが、電
極と絶縁がとれていれば金属製であってもよく、例え
は、アルミまたは、ステンレスのフレームの内面にポリ
イミド樹脂等を張り付けても良く、金属フレームにセラ
ミックス溶射を行い絶縁性をとっても良い。
The power supply 40 is composed of conductive electrode portions 25a, 2 and
A voltage is applied to 5A, or 26a, 26A, or 36a, 36A. The electric discharge processing chamber 30 is composed of a processing container 31 made of Pyrex (R) glass.
1 is filled with the mixed gas. In the embodiment, the processing container 31 is made of Pyrex (R) glass, but may be made of metal as long as it is insulated from the electrodes. For example, the inner surface of the aluminum or stainless steel frame may be made of polyimide resin. Etc. may be adhered, and ceramics may be sprayed on the metal frame to provide insulation.

【0127】処理容器31内にロール状の電極25、角
柱型の電極36を所定位置に配置し、ガス発生装置51
で発生させた混合ガスを流量制御して、給気口52より
放電処理室30の処理容器31内に入れ、該処理容器3
1内を混合ガスで充填し排気口53より排出するように
する。次に、電源40により電極36に電圧を印加し、
電極25はアースに接地し、放電プラズマを発生させ
る。ここでロール状のフィルム61より基材Fを供給
し、ガイドローラ64、67を介して、放電処理室30
内の電極25、36間を片面が電極25に接触する状態
で搬送される。基材Fは搬送中に放電プラズマにより表
面が放電処理され、その後に排出するようになってい
る。ここで基材Fは、電極25に接触していない面が放
電処理がなされる。
A roll-shaped electrode 25 and a prismatic electrode 36 are arranged at predetermined positions in the processing container 31, and a gas generator 51 is provided.
The mixed gas generated in step 3 is flow-controlled, and is introduced into the processing container 31 of the discharge processing chamber 30 through the air supply port 52.
The inside of 1 is filled with the mixed gas and discharged from the exhaust port 53. Next, a voltage is applied to the electrode 36 by the power source 40,
The electrode 25 is grounded to the ground to generate discharge plasma. Here, the base material F is supplied from the roll-shaped film 61, and the discharge processing chamber 30 is supplied through the guide rollers 64 and 67.
It is conveyed between the inner electrodes 25 and 36 with one surface in contact with the electrode 25. The surface of the base material F is subjected to discharge treatment by discharge plasma during transportation, and then discharged. Here, the surface of the base material F which is not in contact with the electrode 25 is subjected to the electric discharge treatment.

【0128】本発明に係る希ガス、あるいは不活性ガス
を含む混合ガスについて説明する。本発明に係る混合ガ
スは、希ガスと、酸素、あるいは水素を含有したものが
好ましく用いられる。更に、金属酸化物層を形成するた
めには、金属アルコキシドなどの有機金属化合物を含有
する。また、低屈折率層あるいは防眩層を有機フッ素化
合物を用いて形成することもできる。
A mixed gas containing a rare gas or an inert gas according to the present invention will be described. The mixed gas according to the present invention preferably contains a rare gas and oxygen or hydrogen. Further, in order to form the metal oxide layer, an organic metal compound such as metal alkoxide is contained. Further, the low refractive index layer or the antiglare layer can be formed by using an organic fluorine compound.

【0129】本発明に係るプラズマ処理方法を実施する
にあたり、使用するガスは、基材上に設けたい薄膜の種
類によって異なるが、基本的に、不活性ガスと、薄膜を
形成するための反応性ガスの混合ガスである。反応性ガ
スは、混合ガスに対し、0.01〜10体積%含有させ
ることが好ましい。薄膜の膜厚としては、0.1〜10
00nmの範囲の薄膜が得られる。
In carrying out the plasma processing method according to the present invention, the gas to be used varies depending on the kind of the thin film to be provided on the substrate, but basically it is an inert gas and the reactivity for forming the thin film. It is a mixed gas of gases. The reactive gas is preferably contained in the mixed gas in an amount of 0.01 to 10% by volume. The thickness of the thin film is 0.1 to 10
A thin film in the range of 00 nm is obtained.

【0130】上記不活性ガスとは、周期表の第18属元
素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプ
トン、キセノン、ラドン等が挙げられるが、本発明に記
載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好まし
く用いられる。
Examples of the above-mentioned inert gas include elements belonging to Group 18 of the periodic table, specifically, helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, etc. In order to obtain the effects described in the present invention. Helium and argon are preferably used.

【0131】反応性ガスに有機金属化合物を添加するこ
とにより、金属化合物層を形成することができ、例え
ば、有機金属化合物としてLi,Be,B,Na,M
g,Al,Si,K,Ca,Sc,Ti,V,Cr,M
n,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,R
b,Sr,Y,Zr,Nb,Mo,Cd,In,Ir,
Sn,Sb,Cs,Ba,La,Hf,Ta,W,T
l,Pb,Bi,Ce,Pr,Nd,Pm,Eu,G
d,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luから選
択される金属を含むことができる。より好ましくは、こ
れらの有機金属化合物が金属アルコキシド、アルキル化
金属、金属錯体から選ばれるものが好ましい。
A metal compound layer can be formed by adding an organometallic compound to the reactive gas. For example, Li, Be, B, Na, M as the organometallic compound can be formed.
g, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, M
n, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, R
b, Sr, Y, Zr, Nb, Mo, Cd, In, Ir,
Sn, Sb, Cs, Ba, La, Hf, Ta, W, T
l, Pb, Bi, Ce, Pr, Nd, Pm, Eu, G
It may include a metal selected from d, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu. More preferably, these organometallic compounds are selected from metal alkoxides, alkylated metals, and metal complexes.

【0132】また、反応性ガスとして、例えば、ジンク
アセチルアセトナート、トリエチルインジウム、トリメ
チルインジウム、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛、エトラ
エチル錫、エトラメチル錫、二酢酸ジ−n−ブチル錫、
テトラブチル錫、テトラオクチル錫などから選択された
少なくとも1つの有機金属化合物を含む反応性ガスを用
いて、導電性膜あるいは帯電防止膜、あるいは反射防止
膜の中屈折率層として有用な金属酸化物層を形成するこ
とができる。
As the reactive gas, for example, zinc acetylacetonate, triethylindium, trimethylindium, diethylzinc, dimethylzinc, etraethyltin, etramethyltin, di-n-butyltin diacetate,
A metal oxide layer useful as a medium refractive index layer of a conductive film, an antistatic film, or an antireflection film by using a reactive gas containing at least one organometallic compound selected from tetrabutyltin, tetraoctyltin, etc. Can be formed.

【0133】また、フッ素含有化合物ガスを用いること
によって、基材表面にフッ素含有基を形成させて表面エ
ネルギーを低くし、撥水性表面を得る撥水膜を得ること
が出来る。フッ素元素含有化合物としては、6フッ化プ
ロピレン(CF3CFCF2)、8フッ化シクロブタン
(C48)等のフッ素・炭素化合物が挙げられる。安全
上の観点から、有害ガスであるフッ化水素を生成しない
6フッ化プロピレン、8フッ化シクロブタンを用いる。
Further, by using the fluorine-containing compound gas, it is possible to obtain a water-repellent film which forms a fluorine-containing group on the surface of the substrate to lower the surface energy and obtain a water-repellent surface. Examples of the elemental fluorine-containing compound include fluorinated carbon compounds such as propylene hexafluoride (CF 3 CFCF 2 ) and cyclobutane octafluoride (C 4 F 8 ). From the viewpoint of safety, propylene hexafluoride and cyclobutane octafluoride that do not generate hydrogen fluoride, which is a harmful gas, are used.

【0134】また、分子内に親水性基と重合性不飽和結
合を有するモノマーの雰囲気下で処理を行うことによ
り、親水性の重合膜を堆積させることもできる。上記親
水性基としては、水酸基、スルホン酸基、スルホン酸塩
基、1級若しくは2級又は3級アミノ基、アミド基、4
級アンモニウム塩基、カルボン酸基、カルボン酸塩基等
の親水性基等が挙げられる。又、ポリエチレングリコー
ル鎖を有するモノマーを用いても同様に親水性重合膜を
堆積が可能である。
Further, a hydrophilic polymer film can be deposited by performing the treatment in an atmosphere of a monomer having a hydrophilic group and a polymerizable unsaturated bond in the molecule. Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonate group, a primary or secondary or tertiary amino group, an amide group, 4
Examples thereof include hydrophilic groups such as a primary ammonium group, a carboxylic acid group, and a carboxylic acid group. Also, a hydrophilic polymer film can be similarly deposited by using a monomer having a polyethylene glycol chain.

【0135】上記モノマーとしては、アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N
−ジメチルアクリルアミド、アクリル酸ナトリウム、メ
タクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、メタクリ
ル酸カリウム、スチレンスルホン酸ナトリウム、アリル
アルコール、アリルアミン、ポリエチレングリコールジ
メタクリル酸エステル、ポリエチレングリコールジアク
リル酸エステルなどが挙げられ、これらの少なくとも1
種が使用できる。
As the above-mentioned monomer, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, N, N
-Dimethylacrylamide, sodium acrylate, sodium methacrylate, potassium acrylate, potassium methacrylate, sodium styrenesulfonate, allyl alcohol, allylamine, polyethylene glycol dimethacrylic acid ester, polyethylene glycol diacrylic acid ester, and the like. At least 1
Seeds can be used.

【0136】また、有機フッ素化合物、珪素化合物また
はチタン化合物を含有する反応性ガスを用いることによ
り、反射防止膜の低屈折率層または高屈折率層を設ける
ことが出来る。
By using a reactive gas containing an organic fluorine compound, a silicon compound or a titanium compound, the low refractive index layer or the high refractive index layer of the antireflection film can be provided.

【0137】有機フッ素化合物としては、フッ化炭素ガ
ス、フッ化炭化水素ガス等が好ましく用いられる。フッ
化炭素ガスとしては、4フッ化炭素、6フッ化炭素、具
体的には、4フッ化メタン、4フッ化エチレン、6フッ
化プロピレン、8フッ化シクロブタン等が挙げられる。
前記のフッ化炭化水素ガスとしては、2フッ化メタン、
4フッ化エタン、4フッ化プロピレン、3フッ化プロピ
レン等が挙げられる。
As the organic fluorine compound, fluorocarbon gas, fluorohydrocarbon gas and the like are preferably used. Examples of the carbon fluoride gas include carbon tetrafluoride and carbon hexafluoride, specifically, tetrafluoromethane, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, octafluorocyclobutane, and the like.
As the above-mentioned fluorohydrocarbon gas, difluoromethane,
Examples include tetrafluoroethane, propylene tetrafluoride, propylene trifluoride, and the like.

【0138】更に、1塩化3フッ化メタン、1塩化2フ
ッ化メタン、2塩化4フッ化シクロブタン等のフッ化炭
化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン
等の有機化合物のフッ素置換体を用いることが出来るが
これらに限定されない。また、これらの化合物が分子内
にエチレン性不飽和基を有していても良い。前記の化合
物は単独でも混合して用いても良い。
Further, halogenated fluorocarbon compounds such as trifluoromethane trichloride, monofluorodifluoromethane, difluorotetrafluorocyclobutane and the like, and fluorine-substituted compounds of organic compounds such as alcohols, acids and ketones are used. It can be used, but is not limited thereto. Further, these compounds may have an ethylenically unsaturated group in the molecule. The above compounds may be used alone or in combination.

【0139】混合ガス中に上記記載の有機フッ素化合物
を用いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な
薄膜を形成する観点から、混合ガス中の有機フッ素化合
物の含有率は、0.1〜10体積%であることが好まし
いが、更に好ましくは、0.1〜5体積%である。
When the above-mentioned organic fluorine compound is used in the mixed gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the substrate by the discharge plasma treatment, the content of the organic fluorine compound in the mixed gas is 0.1 to 0.1%. The content is preferably 10% by volume, more preferably 0.1 to 5% by volume.

【0140】また、本発明に係る有機フッ素化合物が常
温、常圧で気体である場合は、混合ガスの構成成分とし
て、そのまま使用できるので最も容易に本発明の方法を
遂行することができる。しかし、有機フッ素化合物が常
温・常圧で液体又は固体である場合には、加熱、減圧等
の方法により気化して使用すればよく、また、又、適切
な溶剤に溶解して用いてもよい。
When the organic fluorine compound according to the present invention is a gas at normal temperature and pressure, it can be used as it is as a constituent component of a mixed gas, so that the method of the present invention can be most easily performed. However, when the organic fluorine compound is a liquid or a solid at room temperature and atmospheric pressure, it may be used after being vaporized by a method such as heating or depressurization, or may be dissolved in a suitable solvent before use. .

【0141】混合ガス中に上記記載のチタン化合物を用
いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜
を形成する観点から、混合ガス中のチタン化合物の含有
率は、0.1〜10体積%であることが好ましいが、更
に好ましくは、0.1〜5体積%である。
When the titanium compound described above is used in the mixed gas, the content of the titanium compound in the mixed gas is 0.1 to 10 volumes from the viewpoint of forming a uniform thin film on the substrate by the discharge plasma treatment. %, More preferably 0.1 to 5% by volume.

【0142】また、上記記載の混合ガス中に水素ガスを
0.1〜10体積%含有させることにより薄膜の硬度を
著しく向上させることが出来る。
The hardness of the thin film can be remarkably improved by adding 0.1 to 10% by volume of hydrogen gas in the mixed gas described above.

【0143】また、混合ガス中に酸素、オゾン、過酸化
水素、二酸化炭素、一酸化炭素、水素、窒素から選択さ
れる成分を0.01〜5体積%含有させることにより、
反応促進され、且つ、緻密で良質な薄膜を形成すること
ができる。
Further, by containing 0.01 to 5% by volume of a component selected from oxygen, ozone, hydrogen peroxide, carbon dioxide, carbon monoxide, hydrogen and nitrogen in the mixed gas,
The reaction can be accelerated, and a dense and high-quality thin film can be formed.

【0144】上記記載の珪素化合物、チタン化合物とし
ては、取り扱い上の観点から金属水素化合物、金属アル
コキシドが好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、
工程上の汚れなども少ないことから、金属アルコキシド
が好ましく用いられる。
As the above-mentioned silicon compound and titanium compound, a metal hydrogen compound and a metal alkoxide are preferable from the viewpoint of handling, and they are free from corrosive and harmful gases.
A metal alkoxide is preferably used because it is less likely to be contaminated during the process.

【0145】また、上記記載の珪素化合物、チタン化合
物を放電空間である電極間に導入するには、両者は常温
常圧で、気体、液体、固体いずれの状態であっても構わ
ない。気体の場合は、そのまま放電空間に導入できる
が、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の
手段により気化させて使用される。珪素化合物、チタン
化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシチタンなど、常温で液
体で、沸点が200℃以下である金属アルコキシドが反
射防止膜の形成に好適に用いられる。上記金属アルコキ
シドは、溶媒によって希釈して使用されても良く、溶媒
は、メタノール、エタノール、n−ヘキサンなどの有機
溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。尚、これらの
希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原
子状に分解される為、基材上への薄膜の形成、薄膜の組
成などに対する影響は殆ど無視することが出来る。
In order to introduce the above-mentioned silicon compound and titanium compound between the electrodes which are the discharge spaces, both may be in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure. In the case of gas, it can be introduced into the discharge space as it is, but in the case of liquid or solid, it is used after being vaporized by means such as heating, decompression, ultrasonic irradiation or the like. When a silicon compound or a titanium compound is used after being vaporized by heating, a metal alkoxide that is liquid at room temperature and has a boiling point of 200 ° C. or lower, such as tetraethoxysilane and tetraisopropoxytitanium, is preferably used for forming the antireflection film. The metal alkoxide may be used after diluting it with a solvent, and as the solvent, an organic solvent such as methanol, ethanol, n-hexane, or a mixed solvent thereof can be used. Since these diluting solvents are decomposed into molecules and atoms during the plasma discharge treatment, their influence on the formation of a thin film on the substrate and the composition of the thin film can be almost ignored.

【0146】上記記載の珪素化合物としては、例えば、
ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化
合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二
塩化シラン、三塩化シランなどの金属ハロゲン化合物、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシランなどのアルコキシシラン、オルガノ
シランなどを用いることが好ましいがこれらに限定され
ない。また、これらは適宜組み合わせて用いることが出
来る。
Examples of the silicon compound described above include:
Organometallic compounds such as dimethylsilane and tetramethylsilane, metal hydrogen compounds such as monosilane and disilane, metal halogen compounds such as silane dichloride and silane trichloride,
It is preferable to use alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane, and organosilanes, but not limited to these. Moreover, these can be used in appropriate combination.

【0147】混合ガス中に上記記載の珪素化合物を用い
る場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を
形成する観点から、混合ガス中の珪素化合物の含有率
は、0.1〜10体積%であることが好ましいが、更に
好ましくは、0.1〜5体積%である。
When the silicon compound described above is used in the mixed gas, the content of the silicon compound in the mixed gas is 0.1 to 10 volumes from the viewpoint of forming a uniform thin film on the substrate by the discharge plasma treatment. %, More preferably 0.1 to 5% by volume.

【0148】上記記載のチタン化合物としては、テトラ
ジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタ
ン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三
塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、
テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、
テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを用
いることが好ましいがこれらに限定されない。
Examples of the titanium compound described above include organometallic compounds such as tetradimethylaminotitanium, metal hydrogen compounds such as monotitanium and dititanium, metal halogen compounds such as titanium dichloride, titanium trichloride and titanium tetrachloride,
Tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium,
It is preferable to use a metal alkoxide such as tetrabutoxytitanium, but not limited thereto.

【0149】請求項11に係る発明では、低反射偏光板
の450〜650nmにおける平均反射率が0.5%以
下であることが特徴であり、この範囲における最低反射
率は0.00〜0.3%にあることが特に好ましい。
The invention according to claim 11 is characterized in that the low reflectance polarizing plate has an average reflectance of 0.5% or less at 450 to 650 nm, and the minimum reflectance in this range is 0.00 to 0. It is particularly preferably 3%.

【0150】本発明に係る各透明支持体には、上記説明
した各機能層の他に、フィルムの動摩擦係数を調整する
ため、裏面側に微粒子を含有するバックコート層を設け
ることもできる。添加する微粒子の大きさや添加量、材
質等によって動摩擦係数を調整することが出来る。
In addition to the functional layers described above, each transparent support according to the present invention may be provided with a back coat layer containing fine particles on the back surface side in order to adjust the dynamic friction coefficient of the film. The coefficient of dynamic friction can be adjusted by the size and amount of the fine particles to be added, the material, and the like.

【0151】本発明に有用なバックコート層に含ませる
微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物
の微粒子を挙げることが出来、前述のセルロースエステ
ルフィルムに含有させる微粒子、微粒子の粒径、微粒子
の見かけ比重、分散方法等ほぼ同様である。
As the fine particles contained in the back coat layer useful in the present invention, there may be mentioned fine particles of an inorganic compound or fine particles of an organic compound. The apparent specific gravity and dispersion method are almost the same.

【0152】バックコート層のバインダーに対する微粒
子の添加量は樹脂100質量部に対して、微粒子は0.
01〜1質量部が好ましく、0.05〜0.5質量部が
更に好ましく、0.08〜0.2質量部が最も好まし
い。添加量は多い方が、動摩擦係数が低くなり、また少
ない方がヘイズが低く、凝集物も少なくなる。
The amount of the fine particles added to the binder in the back coat layer was 100 parts by weight of the resin, and the amount of the fine particles was 0.
01 to 1 part by mass is preferred, 0.05 to 0.5 part by mass is more preferred, and 0.08 to 0.2 part by mass is most preferred. The larger the added amount, the lower the dynamic friction coefficient, and the smaller the added amount, the lower the haze and the less the agglomerates.

【0153】バックコート層に使用される有機溶媒は特
に限定されないが、バックコート層にアンチカール機能
を付与することも出来るので、基材フィルム及び基材フ
ィルムの素材の樹脂を溶解させる有機溶媒または膨潤さ
せる有機溶媒が有用である。これらを基材フィルムのカ
ール度合、樹脂の種類、混合割合、塗布量等により適宜
選べばよい。
The organic solvent used in the back coat layer is not particularly limited, but since an anti-curl function can be imparted to the back coat layer, an organic solvent that dissolves the base film and the resin of the material of the base film or Organic solvents that swell are useful. These may be appropriately selected depending on the curl degree of the base film, the type of resin, the mixing ratio, the coating amount, and the like.

【0154】バックコート層に使用し得る有機溶媒とし
ては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキ
サン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロ
エチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム
あるいはN−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2
−イミダゾリジノンなどがある。溶解させない有機溶媒
としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロ
ピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノ
ールなどがあるが、有機溶媒としては特にこれらに限定
されるものではない。
Examples of the organic solvent which can be used in the back coat layer include benzene, toluene, xylene, dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, ethylene chloride, and the like.
Tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform or N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2
-Imidazolidinone. Examples of the organic solvent that is not dissolved include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, and n-butanol, but the organic solvent is not particularly limited thereto.

【0155】バックコート層塗布組成物の塗布方法とし
ては、グラビアコーター、ディップコーター、ワイヤー
バーコーター、リバースコーター、押し出しコーター等
を用いて、塗布液膜厚(ウェット膜厚ということもあ
る)を1〜100μmとすることが好ましく、特に5〜
30μmが好ましい。
As a method for applying the coating composition for the back coat layer, a gravure coater, a dip coater, a wire bar coater, a reverse coater, an extrusion coater or the like is used, and the coating liquid film thickness (also referred to as wet film thickness) is 1 To 100 μm is preferable, and especially 5 to
30 μm is preferable.

【0156】バックコート層に用いられる樹脂として
は、例えば塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコー
ルの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル/酢酸ビニ
ルコポリマー、塩化ビニル/塩化ビニリデンコポリマ
ー、塩化ビニル/アクリロニトリルコポリマー、エチレ
ン/ビニルアルコールコポリマー、塩素化ポリ塩化ビニ
ル、エチレン/塩化ビニルコポリマー、エチレン/酢酸
ビニルコポリマー等のビニル系ホモポリマーあるいはコ
ポリマー、セルロースニトラート、セルロースアセテー
トプロピオネート、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、セルロースアセテートフタレート、
セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロースエ
ステル系樹脂、マレイン酸および/またはアクリル酸の
コポリマー、アクリル酸エステルコポリマー、アクリロ
ニトリル/スチレンコポリマー、塩素化ポリエチレン、
アクリロニトリル/塩素化ポリエチレン/スチレンコポ
リマー、メチルメタクリレート/ブタジエン/スチレン
コポリマー、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレ
タン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボ
ネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエー
テル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン/ブ
タジエン樹脂、ブタジエン/アクリロニトリル樹脂等の
ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリメ
チルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートとポリ
メチルアクリレートの共重合体等を挙げることが出来る
が、これらに限定されるものではない。特に好ましくは
セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピ
オネートのようなセルロース系樹脂層である。
The resin used in the back coat layer is, for example, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, copolymer of vinyl acetate and vinyl alcohol, partially hydrolyzed vinyl chloride / vinyl acetate. Vinyl homopolymers or copolymers such as copolymers, vinyl chloride / vinylidene chloride copolymers, vinyl chloride / acrylonitrile copolymers, ethylene / vinyl alcohol copolymers, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene / vinyl chloride copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, cellulose nitrate. , Cellulose acetate propionate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate phthalate,
Cellulose ester resins such as cellulose acetate butyrate resin, copolymers of maleic acid and / or acrylic acid, acrylic acid ester copolymers, acrylonitrile / styrene copolymers, chlorinated polyethylene,
Acrylonitrile / chlorinated polyethylene / styrene copolymer, methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer, acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin Examples include rubber resins such as amino resins, styrene / butadiene resins and butadiene / acrylonitrile resins, silicone resins, fluorine resins, polymethylmethacrylate, and copolymers of polymethylmethacrylate and polymethylacrylate. It is not limited to these. Particularly preferred is a cellulose resin layer such as cellulose diacetate or cellulose acetate propionate.

【0157】例えば、以上のようなバックコート層を設
けることにより、動摩擦係数を0.9以下にすることが
できる。
For example, by providing the back coat layer as described above, the dynamic friction coefficient can be made 0.9 or less.

【0158】本発明の低反射偏光板及び本発明の表示装
置について説明する。本発明の低反射偏光板に用いる偏
光子としては、従来公知のものを用いることができる。
例えば、ポリビニルアルコールの如き親水性ポリマーか
らなるフィルムを、ヨウ素の如き二色性染料で処理して
延伸したものや、塩化ビニルの如きプラスチックフィル
ムを処理してポリエンを配向させたものを用いることが
できる。そして、本発明の低反射偏光板が、少なくとも
液晶セルのセル側の表面側に設けられる。また、両側に
設けられる場合は、本発明に係る透明支持体Aが、偏光
子に対して液晶セルに近い方に貼りつけることができ
る。以上により、本発明の液晶表示装置を得ることが出
来る。本発明の低反射偏光板は、低い反射性、良好な紫
外線カット性能から液晶表示用装置に用いられるのが好
ましい。
The low reflection polarizing plate of the present invention and the display device of the present invention will be described. As the polarizer used in the low-reflection polarizing plate of the present invention, conventionally known ones can be used.
For example, it is possible to use a film made of a hydrophilic polymer such as polyvinyl alcohol, which is treated with a dichroic dye such as iodine and stretched, or a film of a plastic film such as vinyl chloride which is oriented with polyene. it can. The low reflection polarizing plate of the present invention is provided at least on the cell-side surface side of the liquid crystal cell. When provided on both sides, the transparent support A according to the present invention can be attached to the polarizer closer to the liquid crystal cell. From the above, the liquid crystal display device of the present invention can be obtained. The low reflection polarizing plate of the present invention is preferably used for a liquid crystal display device because of its low reflectivity and good ultraviolet ray cutting performance.

【0159】[0159]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0160】実施例1 《セルロースエステルフィルムの作製》以下に示す方法
に従って、基材フィルムであるセルロースエステルフィ
ルムを作製した。
Example 1 << Preparation of Cellulose Ester Film >> A cellulose ester film as a base film was prepared according to the method described below.

【0161】 〔ドープの調製〕 (酸化ケイ素分散液の調製) アエロジル200V(日本アエロジル(株)製) 1kg エタノール 9kg 上記素材をディゾルバで30分間撹拌混合した後、マン
トンゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行った。
[Preparation of Dope] (Preparation of Silicon Oxide Dispersion) Aerosil 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1 kg Ethanol 9 kg After stirring and mixing the above materials with a dissolver for 30 minutes, a Manton-Gaulin type high-pressure disperser was used. Dispersion was performed.

【0162】 (添加液Aの調製) セルロースアセテートプロピオネート (アセチル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.7) 4kg メチレンクロライド 76kg チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ社製) 3kg チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ社製) 4kg チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ社製) 4kg 上記素材を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完
全に溶解、濾過した。これに9kgの上記酸化ケイ素分
散液を撹拌しながら加えて、さらに30分間撹拌した
後、濾過し、添加液Aを調製した。
(Preparation of Additive Solution A) Cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.7) 4 kg Methylene chloride 76 kg Tinuvin 326 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 3 kg Tinuvin 109 (Ciba) Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 kg Tinuvin 171 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 kg The above materials were placed in a closed container and completely dissolved and filtered while heating and stirring. To this, 9 kg of the above silicon oxide dispersion was added with stirring, and the mixture was further stirred for 30 minutes and then filtered to prepare an addition liquid A.

【0163】 〔ドープAの調製〕 トリフェニルフォスフェート 15kg エチルフタリルエチルグリコレート 5kg メチレンクロライド 640kg エタノール 120kg セルロースアセテートプロピオネート(アセチル置換度:1.90、 プロピオニル基置換度0.70、平均置換度2.60) 220kg 上記素材を順に、攪拌しながら密閉容器に投入し、加
熱、撹拌しながら、完全に溶解、混合した。ドープを流
延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した
後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を
使用して濾過した。更に、この溶液100kgあたり添
加液Aを2kgの割合で添加し、インラインミキサー
(東レ静止型管内混合機Hi−Mixer SWJ)で
十分混合した後、濾過してドープAを調製した。
[Preparation of Dope A] Triphenyl phosphate 15 kg Ethylphthalylethyl glycolate 5 kg Methylene chloride 640 kg Ethanol 120 kg Cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.90, propionyl group substitution degree 0.70, average substitution) 2.60) 220 kg The above materials were sequentially charged into a closed container with stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The dope was cooled to a temperature at which it was cast, left standing overnight, and subjected to a defoaming operation. Then, the solution was added to Azumi Filter Paper No. Filtered using 244. Further, the additive liquid A was added at a ratio of 2 kg per 100 kg of this solution, sufficiently mixed with an in-line mixer (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer SWJ), and then filtered to prepare a dope A.

【0164】〔ドープBの調製〕上記添加液A及びドー
プAで使用したセルロースアセテートプロピオネート
(アセチル置換度:1.90、プロピオニル基置換度
0.70)をセルロースアセテートプロピオネート(ア
セチル置換度:2.00、プロピオニル基置換度0.8
0、平均置換度2.80)に変更した以外は同様にし
て、添加液B及びドープBを調製した。
[Preparation of Dope B] The cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.90, propionyl group substitution degree 0.70) used in the above-mentioned additive liquid A and dope A was replaced with cellulose acetate propionate (acetyl substitution). Degree: 2.00, propionyl group substitution degree 0.8
The additive liquid B and the dope B were prepared in the same manner except that the average substitution degree was changed to 0 and the average substitution degree was 2.80).

【0165】〔ドープCの調製〕上記添加液A及びドー
プAで使用したセルロースアセテートプロピオネート
(アセチル置換度:1.90、プロピオニル基置換度
0.70)をセルロースアセテート(アセチル置換度:
2.66)に変更した以外は同様にして、添加液C及び
ドープCを調製した。
[Preparation of Dope C] Cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.90, propionyl group substitution degree: 0.70) used in the above-mentioned additive liquid A and dope A was mixed with cellulose acetate (acetyl substitution degree:
An additive solution C and a dope C were prepared in the same manner except that the procedure was changed to 2.66).

【0166】〔ドープDの調製〕上記添加液A及びドー
プAで使用したセルロースアセテートプロピオネート
(アセチル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.
7)をセルロースアセテート(アセチル置換度:2.7
0)に変更した以外は同様にして、添加液D及びドープ
Dを調製した。
[Preparation of Dope D] The cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.
7) to cellulose acetate (acetyl substitution degree: 2.7
Additive liquid D and dope D were prepared in the same manner except that the content was changed to 0).

【0167】〔ドープEの調製〕上記添加液A及びドー
プAで使用したセルロースアセテートプロピオネート
(アセチル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.
7)をセルロースアセテート(アセチル置換度:2.7
5)に変更した以外は同様にして、添加液E及びドープ
Eを調製した。
[Preparation of Dope E] The cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.
7) to cellulose acetate (acetyl substitution degree: 2.7
Additive solution E and dope E were prepared in the same manner except that the procedure was changed to 5).

【0168】〔ドープFの調製〕上記添加液A及びドー
プAで使用したセルロースアセテートプロピオネート
(アセチル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.
7)をセルロースアセテート(アセチル置換度:2.8
5)に変更した以外は同様にして、添加液F及びドープ
Fを調製した。
[Preparation of Dope F] The cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.
7) to cellulose acetate (acetyl substitution degree: 2.8
An additive solution F and a dope F were prepared in the same manner except that the procedure was changed to 5).

【0169】〔ドープGの調製〕添加液A及びドープA
で使用したセルロースアセテートプロピオネート(アセ
チル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.7)を
セルロースアセテート(アセチル置換度:2.90)に
変更した以外は同様にして、添加液G及びドープGを調
製した。
[Preparation of Dope G] Additive liquid A and dope A
In the same manner as in Example 1, except that the cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.7) used in Example 2 was changed to cellulose acetate (acetyl substitution degree: 2.90). Dope G was prepared.

【0170】〔ドープHの調製〕添加液A及びドープA
で使用したセルロースアセテートプロピオネート(アセ
チル置換度:1.9、プロピオニル基置換度0.7)を
セルロースアセテート(アセチル置換度2.50)に変
更した以外は同様にして、添加液H及びドープHを調製
した。
[Preparation of Dope H] Additive liquid A and dope A
In the same manner as in Example 2, except that the cellulose acetate propionate (acetyl substitution degree: 1.9, propionyl group substitution degree: 0.7) used in Example 2 was changed to cellulose acetate (acetyl substitution degree: 2.50). H was prepared.

【0171】(セルロースエステルの置換度の測定)
尚、上記記載のドープA〜Hの各々の調製に用いたセル
ロースエステルの置換度は、ASTM−D817−96
に規定の方法に準じて測定した。
(Measurement of degree of substitution of cellulose ester)
The degree of substitution of the cellulose ester used in the preparation of each of the above dopes A to H is ASTM-D817-96.
The measurement was performed according to the method specified in 1.

【0172】〔セルロースエステルフィルムの作製〕
(セルロースエステルフィルム1の作製)上記調製した
ドープAを用いて下記のようにして透明支持体1を作製
した。
[Preparation of Cellulose Ester Film]
(Production of Cellulose Ester Film 1) Using the dope A prepared above, a transparent support 1 was prepared as follows.

【0173】ドープAを濾過した後、ベルト流延装置を
用い、ドープ温度35℃で30℃のステンレスバンド支
持体上に均一に流延した。その後、剥離可能な範囲まで
乾燥させた後、ステンレスバンド支持体上からウェブを
剥離した。このときのウェブの残留溶媒量は80%であ
った。
After the dope A was filtered, it was uniformly cast on a stainless band support at 30 ° C. at a dope temperature of 35 ° C. using a belt casting device. Then, after drying to a peelable range, the web was peeled from the stainless band support. The residual solvent amount of the web at this time was 80%.

【0174】ステンレスバンド支持体から剥離した後、
85℃の乾燥ゾーンをロール搬送しながら乾燥させた
後、残留溶媒量が35質量%未満となったところで、2
軸延伸テンターでTD方向(幅手方向)に1.07倍及
びMD方向(製膜方向)に1.01倍に延伸しながら9
0℃で乾燥させた後、幅把持を解放し、さらにロール搬
送しながら125℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フ
ィルム両端に幅10mm、高さ8μmのナーリング加工
を施して、膜厚41μmのセルロースエステルフィルム
1を作製した。フィルム幅は1300mm、巻き取り長
は2000mとした。巻き取り時の残留溶媒量は0.1
質量%未満であった。
After peeling from the stainless band support,
After drying while roll-conveying in a drying zone of 85 ° C., when the residual solvent amount became less than 35% by mass, 2
9 while stretching 1.07 times in the TD direction (width direction) and 1.01 times in the MD direction (film forming direction) with an axial stretching tenter.
After drying at 0 ° C., the width grip is released, the drying is completed in the drying zone at 125 ° C. while being transported by roll, and the both ends of the film are knurled to have a width of 10 mm and a height of 8 μm, and a film thickness of 41 μm. A cellulose ester film 1 was produced. The film width was 1300 mm and the winding length was 2000 m. The amount of residual solvent during winding is 0.1
It was less than mass%.

【0175】(セルロースエステルフィルム2〜30の
作製)上記セルロースエステルフィルム1の作製におい
て、ドープの種類と2軸延伸テンターにおける延伸倍率
及び膜厚を表1に記載のように変更した以外は同様にし
て、セルロースエステルフィルム2〜30を作製した。
(Production of Cellulose Ester Films 2 to 30) In the production of the above-mentioned cellulose ester film 1, the same procedure was performed except that the kind of dope, the stretching ratio and the film thickness in the biaxial stretching tenter were changed as shown in Table 1. Thus, cellulose ester films 2 to 30 were produced.

【0176】(リターデーション値:Rtの測定)自動
複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器
(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、
波長が590nmにおいて、3次元屈折率測定を行い、
屈折率nx、ny、nzを求めた。下記(式A)に従っ
て、リターデーション値(Rt)を算出した。
(Measurement of Retardation Value: Rt) Using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) in an environment of 23 ° C. and 55% RH,
Three-dimensional refractive index measurement is performed at a wavelength of 590 nm,
The refractive indices nx, ny and nz were obtained. The retardation value (Rt) was calculated according to the following (formula A).

【0177】 Rt=((nx+ny)/2−nz)×d (式A) 式中、nxはフィルム面内の製膜方向に平行な方向での
フィルムの屈折率。nyは製膜方向に直角な方向でのフ
ィルムの屈折率。nzはフィルムの厚み方向での屈折
率。dはフィルムの厚み(nm)をそれぞれ表す。
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d (Formula A) In the formula, nx is the refractive index of the film in the direction parallel to the film forming direction in the film plane. ny is the refractive index of the film in the direction perpendicular to the film forming direction. nz is the refractive index in the thickness direction of the film. d represents the thickness (nm) of the film, respectively.

【0178】(リターデーション値:ROの測定)上記
と同様の方法にて、屈折率nx、nyを求めた。下記
(式B)に従って、面方向のリタデーション値(RO)
を算出した。
(Measurement of Retardation Value: RO) The refractive indices nx and ny were determined by the same method as above. The retardation value (RO) in the surface direction according to the following (formula B)
Was calculated.

【0179】RO=(nx−ny)×d (式B) 式中、nxはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の
屈折率、nyはnxに直角な方向でのフィルム面内の屈
折率、dはフィルムの厚み(nm)をそれぞれ表す。
RO = (nx-ny) × d (Formula B) In the formula, nx is the refractive index in the direction in which the refractive index in the film surface is the largest, and ny is the refractive index in the film surface in the direction perpendicular to nx. , D represent the thickness (nm) of the film, respectively.

【0180】[0180]

【表1】 [Table 1]

【0181】《透明支持体の作製》 〔透明支持体1Cの作製〕上記作製したセルロースエス
テルフィルム1に、下記に記載のバックコート層及びク
リアハードコート層及び反射防止層を設けて、透明支持
体1Cを作製した。
<< Preparation of Transparent Support >> [Preparation of Transparent Support 1C] The above-prepared cellulose ester film 1 is provided with a back coat layer, a clear hard coat layer and an antireflection layer described below to form a transparent support. 1C was produced.

【0182】(バックコート層を塗設)下記のバックコ
ート層塗布組成物1をセルロースエステルフィルムのa
面(流延製膜の際にベルト支持体に接していた側(b
面)とは反対側の面)に、ウェット膜厚13μmとなる
ように押し出しコートし、乾燥温度80℃にて乾燥さ
せ、バックコート層を塗設した。
(Coating of Backcoat Layer) The following backcoat layer coating composition 1 was used to prepare a cellulose ester film a.
Surface (side that was in contact with the belt support during casting film formation (b
The surface opposite to the surface) was extrusion-coated to a wet film thickness of 13 μm and dried at a drying temperature of 80 ° C. to form a back coat layer.

【0183】 〈バックコート層塗布組成物1〉 アセトン 30質量部 酢酸エチル 45質量部 イソプロピルアルコール 10質量部 ジアセチルセルロース 0.5質量部 超微粒子シリカ2%アセトン分散液 (アエロジル200V:日本アエロジル社製) 0.11質量部 (クリアハードコート層の塗設)さらに透明支持体1の
b面(流延製膜時にベルト支持体にドープが接していた
側面)に、下記のクリアハードコート層塗布組成物1を
ウェット膜厚で13μmとなるように押し出しコート
し、次いで80℃に設定された乾燥部で乾燥した後、1
18mJ/cm2で紫外線照射し、乾燥膜厚で3.5μ
mの中心線平均表面粗さ(Ra)8nmのクリアハード
コート層を設けた。
<Backcoat Layer Coating Composition 1> Acetone 30 parts by mass Ethyl acetate 45 parts by mass Isopropyl alcohol 10 parts by mass Diacetyl cellulose 0.5 parts by mass Ultrafine particle silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.11 parts by mass (coating of a clear hard coat layer) Further, on the surface b of the transparent support 1 (side surface where the dope was in contact with the belt support during casting film formation), the following clear hard coat layer coating composition 1 was extrusion-coated to a wet film thickness of 13 μm, then dried in a drying unit set at 80 ° C., and then 1
UV irradiation at 18 mJ / cm 2 and dry film thickness of 3.5μ
A clear hard coat layer having a center line average surface roughness (Ra) of m of 8 nm was provided.

【0184】 〈クリアハードコート層(活性線硬化樹脂層)塗布組成物1〉 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4質量部 メチルエチルケトン 75質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部 更に、クリアハードコート層の上に下記の手順に従っ
て、反射防止層を設け、透明支持体1Cを得た(Cが付
与されている透明支持体はクリアハードコート層及び反
射防止層を有するものである)。
<Clear hard coat layer (actinic ray curable resin layer) coating composition 1> Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer The above components 20 parts by mass Dimethoxybenzophenone photoinitiator 4 parts by mass Methyl ethyl ketone 75 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by mass Furthermore, an antireflection layer is provided on the clear hard coat layer according to the following procedure, and the transparent support 1C is provided. (A transparent support having C added thereto has a clear hard coat layer and an antireflection layer).

【0185】(反射防止層の形成)図2に記載のプラズ
マ放電処理装置を用いて、クリアハードコート層上に反
射防止層を形成した。反射防止層形成の詳細を下記に示
す。
(Formation of Antireflection Layer) Using the plasma discharge treatment apparatus shown in FIG. 2, an antireflection layer was formed on the clear hard coat layer. Details of forming the antireflection layer are shown below.

【0186】図2に示すようなプラズマ放電処理容器を
3つ、プラズマ放電処理装置に設置し、透明支持体のク
リアハードコート層の上に連続的に大気圧プラズマ処理
して、順に酸化錫層(屈折率1.7、膜厚69nm、炭
素含有量0.3%)、酸化チタン層(屈折率2.14、
膜厚110nm、炭素含有量0.4%)、酸化珪素層
(屈折率1.45、膜厚87nm、炭素含有量0.2
%)の3層を設けた。
Two plasma discharge treatment vessels as shown in FIG. 2 were installed in the plasma discharge treatment apparatus, and continuous atmospheric pressure plasma treatment was carried out on the clear hard coat layer of the transparent support to successively form a tin oxide layer. (Refractive index 1.7, film thickness 69 nm, carbon content 0.3%), titanium oxide layer (refractive index 2.14,
Thickness 110 nm, carbon content 0.4%, silicon oxide layer (refractive index 1.45, thickness 87 nm, carbon content 0.2)
%).

【0187】〈炭素含有率の測定〉本発明のフィルムの
炭素含有率は、XPS表面分析装置を用いてその値を測
定した。XPS表面分析装置としては、VGサイエンテ
ィフィックス社製ESCALAB−200Rを用いた。
X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧
15kV、エミッション電流40mA)で測定した。エ
ネルギー分解能は、清浄なAg3d5/2ピークの半値
幅で規定したとき、1.5〜1.7eVとなるように設
定した。測定をおこなう前に、膜厚の10〜20%の厚
さに相当する表面層をエッチング除去した。表面層の除
去には、Arイオンエッチングを用いて表面層を除去し
た。先ず、結合エネルギー0eVから1100eVの範
囲を、データ取り込み間隔1.0eVで測定し、いかな
る元素が検出されるかを求めた。次に、検出された、エ
ッチングイオン種を除く全ての元素について、データの
取り込み間隔を0.2eVとして、その最大強度を与え
る光電子ピークについてナロースキャンを行い、各元素
のスペクトルを測定した。得られたスペクトルは、測定
装置、あるいは、コンピューターの違いによる含有率算
出結果の違いを生じせしめなくするために、VAMAS
−SCA−JAPAN製のCOMMONDATA PR
OCESSING SYSTEM(Ver.2.3)上
に転送した後、同ソフトで処理をおこない、炭素含有率
の値を原子数濃度(atomicconcentrat
ion)として求めた。定量処理をおこなう前に、各元
素についてCount Scaleのキャリブレーショ
ンをおこない、5ポイントのスムージング処理をおこな
った。定量処理では、バックグラウンドを除去したピー
クエリア強度を用いた。
<Measurement of Carbon Content> The carbon content of the film of the present invention was measured using an XPS surface analyzer. As the XPS surface analyzer, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific Co., Ltd. was used.
Mg was used for the X-ray anode, and the output was measured at 600 W (accelerating voltage 15 kV, emission current 40 mA). The energy resolution was set to be 1.5 to 1.7 eV when defined by the full width at half maximum of a clean Ag3d5 / 2 peak. Before the measurement, the surface layer corresponding to 10 to 20% of the film thickness was removed by etching. To remove the surface layer, Ar ion etching was used to remove the surface layer. First, the binding energy range from 0 eV to 1100 eV was measured at a data acquisition interval of 1.0 eV to determine what element was detected. Next, for all the detected elements except the etching ion species, the data capturing interval was set to 0.2 eV, a narrow scan was performed on the photoelectron peak giving the maximum intensity, and the spectrum of each element was measured. The obtained spectrum was analyzed by VAMAS in order to prevent the difference in the content rate calculation result due to the difference of the measuring device or the computer.
-COMCADATA PR made by SCA-JAPAN
After transferring to OCESSING SYSTEM (Ver.2.3), the same software was used to calculate the carbon content value by atomic concentration (atomicconcentrat).
Ion). Prior to the quantitative treatment, the Count Scale was calibrated for each element, and a 5-point smoothing treatment was performed. In the quantification process, the peak area intensity with the background removed was used.

【0188】〈プラズマ放電処理〉プラズマ放電処理は
以下の手順で実施した。図3に記載のプラズマ放電処理
装置において、ロール電極25として、冷却水による冷
却機能を有するステンレス製ジャケットロール母材(冷
却機能は図2には図示していない)に、セラミック溶射
によりアルミナを1mm被覆し、その後テトラメトキシ
シランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外
線照射により硬化させて封孔処理を行った誘電体を有す
るロール電極を製作しアース(接地)した。一方、印加
電極26としては、中空のステンレスパイプに対し、上
記同様の誘電体を同条件にて被覆し、対向する電極群と
し、低屈折率層、高屈折率層共に必要な膜厚が各々得ら
れるように調整した。また、放電プラズマ発生に用いる
使用電源は、日本電子製高周波電源を使用し、連続周波
数を13.56MHz、15W/cm2の電力を供給し
た。但し、ロール電極は、ドライブを用いて基材の搬送
に同期して回転させた。
<Plasma Discharge Treatment> Plasma discharge treatment was carried out by the following procedure. In the plasma discharge treatment apparatus shown in FIG. 3, as a roll electrode 25, a stainless steel jacket roll base material having a cooling function by cooling water (cooling function is not shown in FIG. 2) is ceramic sprayed with 1 mm of alumina. After coating, a solution prepared by diluting tetramethoxysilane with ethyl acetate was applied, dried, and then cured by UV irradiation to be cured, and a roll electrode having a dielectric material subjected to a sealing treatment was manufactured and grounded. On the other hand, as the application electrode 26, a hollow stainless steel pipe is coated with the same dielectric as the above under the same conditions to form an electrode group facing each other, and the required film thicknesses of the low refractive index layer and the high refractive index layer are respectively set. Adjusted to obtain. The power source used for generating the discharge plasma was a high frequency power source manufactured by JEOL Ltd., and a continuous frequency of 13.56 MHz and a power of 15 W / cm 2 were supplied. However, the roll electrode was rotated in synchronization with the conveyance of the substrate using a drive.

【0189】プラズマ処理に用いた混合ガス(反応ガ
ス)の組成を以下に記す。 (酸化錫層形成用反応ガス)アルゴンが98.7%、水
素ガスが1%、テトラブチル錫蒸気が0.3%の反応ガ
スである。
The composition of the mixed gas (reaction gas) used for the plasma treatment is described below. (Reaction Gas for Forming Tin Oxide Layer) Argon is 98.7%, hydrogen gas is 1%, and tetrabutyltin vapor is 0.3%.

【0190】(酸化チタン層形成用反応ガス)アルゴン
が98.7%、水素ガスが1%、テトライソプロポキシ
チタン蒸気が0.3%の反応ガスである。
(Titanium oxide layer forming reaction gas) Argon is 98.7%, hydrogen gas is 1%, and tetraisopropoxytitanium vapor is 0.3%.

【0191】(酸化珪素層形成用反応ガス)アルゴンが
98.7%、水素ガスが1%、テトラメトキシシラン蒸
気が0.3%の反応ガスである。
(Reaction Gas for Forming Silicon Oxide Layer) Argon is 98.7%, hydrogen gas is 1%, and tetramethoxysilane vapor is 0.3%.

【0192】〔透明支持体2C〜30Cの作製〕上記透
明支持体1Cの作製と同様に、セルロースエステルフィ
ルム2〜30に、上記記載の各層を塗設し、更にプラズ
マ処理を施して、透明支持体2C〜30Cを作製した。
[Preparation of Transparent Supports 2C to 30C] Similar to the preparation of the transparent support 1C, each layer described above is coated on the cellulose ester films 2 to 30 and further plasma-treated to give a transparent support. The bodies 2C to 30C were produced.

【0193】なお、セルロースエステルフィルム1〜3
0、透明支持体1C〜30Cはいずれもヘイズが0〜
0.2%であった。なお、ヘイズの測定は、ASTM−
D1003−52に従って測定した。
Cellulose ester films 1 to 3
0, transparent supports 1C to 30C all have a haze of 0
It was 0.2%. The haze is measured by ASTM-
It was measured according to D1003-52.

【0194】《偏光板の作製》表2、3に記載した組み
合わせで、透明支持体A(バックコート層、クリアハー
ドコート層及び反射防止層)及び透明支持体B(セルロ
ースエステルフィルム単独)で偏光層を挟んだ構成の偏
光板1〜34を下記に記載の方法により作製した。
<< Preparation of Polarizing Plate >> Polarization was carried out by the transparent support A (back coat layer, clear hard coat layer and antireflection layer) and the transparent support B (cellulose ester film alone) with the combinations shown in Tables 2 and 3. Polarizing plates 1 to 34 having a structure sandwiching layers were produced by the method described below.

【0195】透明支持体Aと透明支持体Bを、50℃の
1mol/LのNaOH水溶液で1分間処理して表面を
鹸化処理した。鹸化処理では、透明支持体Aの反射防止
層面には再剥離可能な粘着剤が付いたポリエチレンテレ
フタレート製保護フィルム(膜厚:50μm)を張り付
けて、アルカリから保護した。ヨウ素ドープした延伸ポ
リビニルアルコールからなる偏光層を鹸化処理した透明
支持体Aのバックコート層側と透明支持体Bで挟んで接
着し偏光板とした。このようにして表2、3に記載の偏
光板1〜34を作製した。
The transparent support A and the transparent support B were treated with a 1 mol / L NaOH aqueous solution at 50 ° C. for 1 minute to saponify the surfaces. In the saponification treatment, a protective film (thickness: 50 μm) made of polyethylene terephthalate having a removable adhesive was attached to the antireflection layer surface of the transparent support A to protect it from alkali. A polarizing layer made of stretched polyvinyl alcohol doped with iodine was sandwiched between the backcoat layer side of the transparent support A subjected to saponification treatment and the transparent support B to obtain a polarizing plate. In this way, the polarizing plates 1 to 34 shown in Tables 2 and 3 were produced.

【0196】《偏光板の評価》以上のようにして作製し
た各偏光板について、以下の評価を行った。
<< Evaluation of Polarizing Plate >> The following evaluation was performed on each polarizing plate prepared as described above.

【0197】(カール・平面性の評価)上記作製した各
偏光板を10cm×10cmにカットし、60℃、90
%RHの雰囲気下で48時間放置した後、常法に従いカ
ール度及び平面性の変化を評価し、以下の基準に則り判
定を行った。
(Evaluation of curl / planarity) Each of the above-prepared polarizing plates was cut into a size of 10 cm × 10 cm, and the temperature was kept at 60 ° C. for 90 minutes.
After being left in an atmosphere of% RH for 48 hours, changes in curl degree and flatness were evaluated according to a conventional method, and judgment was made according to the following criteria.

【0198】 ◎:カールが認められず、また平面性の劣化も認められ
ない ○:弱いカールが認められるが、平面性の大きな劣化は
認められない △:カール度が高いが、実用上問題なし ×:著しくカール度が高くなり、平面性も悪化する (反射率の測定)低反射積層体の分光反射率は分光光度
計U−4000型(日立製作所製)を用いて、5度正反
射の条件にて反射率の測定を行った。測定は、観察側の
裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸
収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、
反射率(400nm〜700nmの波長について)の測
定を行った。450nm〜650nmの範囲について平
均反射率を求めた。
⊚: No curl is observed and no deterioration of flatness is observed. ○: Weak curl is observed, but no significant deterioration of flatness is observed. Δ: Curling degree is high, but practically no problem. X: The curl degree is remarkably increased and the flatness is deteriorated (measurement of reflectance). The spectral reflectance of the low-reflectivity laminate is 5 degrees regular reflection using a spectrophotometer U-4000 type (manufactured by Hitachi Ltd.). The reflectance was measured under the conditions. Measurement, after roughening the back side of the observation side, perform light absorption treatment using a black spray, to prevent the reflection of light on the back side of the film,
The reflectance (for wavelengths of 400 nm to 700 nm) was measured. The average reflectance was calculated in the range of 450 nm to 650 nm.

【0199】図9に上記作製した偏光板2の反射スペク
トルデータを一例として示す。 (視認性の評価)上記作製した各偏光板を液晶パネルに
張り付けて評価した。このとき、反射防止層が外側を向
くように配置した。
FIG. 9 shows, as an example, the reflection spectrum data of the polarizing plate 2 produced above. (Evaluation of visibility) Each polarizing plate prepared above was attached to a liquid crystal panel for evaluation. At this time, the antireflection layer was arranged so as to face outward.

【0200】カラー液晶ディスプレイ(富士通(株)製
MODEL VL−1530S)の表裏両面の偏光板
を剥離して、上記作製した各偏光板を吸収軸をもとの偏
光板と同一となるように張り付けた。これを40℃、9
0%RHで1ヶ月間放置した後、画面のコントラストを
目視で評価し、下記に記載の基準に則り視認性の判定を
行った。
The polarizing plates on both the front and back sides of a color liquid crystal display (MODEL VL-1530S manufactured by Fujitsu Ltd.) were peeled off, and each of the above-prepared polarizing plates was attached so that the absorption axis was the same as the original polarizing plate. It was 40 ℃, 9
After standing for 1 month at 0% RH, the contrast of the screen was visually evaluated, and the visibility was determined according to the criteria described below.

【0201】 ◎:コントラスト低下は認められない ○:画面周辺部でわずかにコントラスト低下が認められ
る △:画面周辺部でコントラスト低下が認められる ×:著しいコントラストの低下が認められる 以上により得られた各評価結果を、表2、3に示す。
⊚: No decrease in contrast is observed ∘: A slight decrease in contrast is observed in the peripheral area of the screen Δ: A decrease in contrast is observed in the peripheral area of the screen ×: Significant decrease in contrast is observed Each of the above The evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

【0202】[0202]

【表2】 [Table 2]

【0203】[0203]

【表3】 [Table 3]

【0204】表2、3より明らかなように、本発明の低
反射偏光板は、比較例に対し、カール、平面性が良好
で、視認性に優れていることが判る。
As is clear from Tables 2 and 3, the low-reflection polarizing plate of the present invention has better curl and flatness than the comparative example, and is excellent in visibility.

【0205】実施例2 《透明支持体Aの作製》 (透明支持体24Aの作製)セルロースエステルフィル
ム24のa面側に実施例1と同様にしてバックコート層
を設けた。さらにb面側に下記の方法で所定膜厚の防眩
層を形成した。
Example 2 << Preparation of Transparent Support A >> (Preparation of Transparent Support 24A) A back coat layer was provided on the a-side of the cellulose ester film 24 in the same manner as in Example 1. Further, an antiglare layer having a predetermined film thickness was formed on the b side by the following method.

【0206】下記の塗布組成物2を押し出しコートし、
次いで80℃に設定された乾燥部で乾燥した後、120
mJ/cm2で紫外線照射し、乾燥膜厚で4μmの防眩
層(中心線平均粗さRa:0.3μm)を設けた。
The following coating composition 2 was extrusion coated,
Then, after drying in a drying unit set at 80 ° C., 120
Ultraviolet irradiation was performed at mJ / cm 2 to provide an antiglare layer (center line average roughness Ra: 0.3 μm) having a dry film thickness of 4 μm.

【0207】 〈塗布組成物2:防眩層作製用塗布液の調製〉 酢酸エチル 50質量部 メチルエチルケトン 50質量部 イソプロピルアルコール 50質量部 サイリシア431(平均粒径2.5μm 富士シリシア化学社製) 2.5質量部 アエロジルR972V(平均粒径16nm 日本アエロジル社製) 2質量部 以上を高速攪拌機(TKホモミキサー、特殊機化工業
(株)製)で攪拌し、その後、衝突型分散機(マントン
ゴーリン、ゴーリン(株)製)で分散した後、下記の各
成分を添加して、塗布組成物2を調製した。
<Coating Composition 2: Preparation of Coating Solution for Preparing Antiglare Layer> Ethyl acetate 50 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass Isopropyl alcohol 50 parts by mass Sylysia 431 (average particle size 2.5 μm, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.) 2. 5 parts by mass Aerosil R972V (average particle size: 16 nm, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 2 parts by mass or more are stirred with a high-speed stirrer (TK homomixer, manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), and then a collision type disperser (Manton Gorin, After dispersion with Gorin Co., Ltd., the following components were added to prepare coating composition 2.

【0208】 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4質量部 (透明支持体15A、20A、22A、23A、25A
の作製)上記透明支持体24Aの作製において、セルロ
ースエステルフィルム24をセルロースエステルフィル
ム15、20、22、23、25に変更し、表4に記載
の膜厚の防眩層を有する透明支持体15A、20A、2
2A、23A、25Aを作製した。なお、膜厚の調整
は、塗布時のウエット膜厚の増減及び塗布組成物2の希
釈で行った。希釈は塗布組成物2の溶媒比率を変更しな
いようにして行った。
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer 20 parts by mass Dimethoxybenzophenone photoinitiator 4 parts by mass (transparent Supports 15A, 20A, 22A, 23A, 25A
Production of the transparent support 24A in the production of the transparent support 24A, the cellulose ester film 24 is changed to cellulose ester films 15, 20, 22, 23, 25, and the transparent support 15A having an antiglare layer having a film thickness shown in Table 4. , 20A, 2
2A, 23A and 25A were produced. The film thickness was adjusted by increasing or decreasing the wet film thickness during coating and diluting the coating composition 2. The dilution was performed without changing the solvent ratio of the coating composition 2.

【0209】次いで、実施例1と同様にして、各々の透
明支持体について、形成した防眩層の上に連続的に大気
圧プラズマ処理して、順に酸化錫層(屈折率1.7、膜
厚69nm、炭素含有量0.3%)、酸化チタン層(屈
折率2.14、膜厚110nm、炭素含有量0.4%)
及び酸化珪素層(屈折率1.45、膜厚87nm、炭素
含有量0.2%)の3層を設けた。
Then, in the same manner as in Example 1, each transparent support was continuously subjected to atmospheric pressure plasma treatment on the formed antiglare layer to sequentially form a tin oxide layer (refractive index 1.7, film. Thickness 69 nm, carbon content 0.3%), titanium oxide layer (refractive index 2.14, film thickness 110 nm, carbon content 0.4%)
And a silicon oxide layer (refractive index 1.45, film thickness 87 nm, carbon content 0.2%).

【0210】《透明支持体Bの作製》 (透明支持体6Bの作製)セルロースエステルフィルム
6のa面側に、実施例1と同様にしてバックコート層を
設け、b面側に下記の塗布組成物3を押し出しコート
し、次いで80℃に設定された乾燥部で乾燥し、118
mJ/cm2で紫外線照射した後、下記に記載の構成か
らなるクリアハードコート層を設けて、透明支持体6B
を作製した。
<< Preparation of Transparent Support B >> (Preparation of Transparent Support 6B) A back coat layer was formed on the a-side of the cellulose ester film 6 in the same manner as in Example 1, and the coating composition described below was formed on the b-side. No. 3 was extrusion coated, then dried in a drying section set at 80 ° C., 118
After irradiating with ultraviolet light at mJ / cm 2 , a clear hard coat layer having the constitution described below is provided to give a transparent support 6B.
Was produced.

【0211】なお、透明支持体6Bは、表4に記載のよ
うにクリアハードコート層の乾燥膜厚が異なる6種を作
製した。
As the transparent support 6B, 6 kinds having different dry film thickness of the clear hard coat layer as shown in Table 4 were prepared.

【0212】 〈クリアハードコート層(活性線硬化樹脂層)塗布組成物3〉 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 4質量部 メチルエチルケトン 75質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 75質量部 (透明支持体4B、5B、14Bの作製)上記透明支持
体6Bの作製において、セルロースエステルフィルム6
に代えて、それぞれセルロースエステルフィルム4、
5、14を用い、更に表4に記載のクリアハードコート
層の乾燥膜厚に変更した以外は同様にして、それぞれク
リアハードコート層の乾燥膜厚の異なる透明支持体4
B、5B、14Bを作製した。
<Clear hard coat layer (actinic ray curable resin layer) coating composition 3> Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer Ingredients 20 parts by mass Dimethoxybenzophenone photoinitiator 4 parts by mass Methyl ethyl ketone 75 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 75 parts by mass (Preparation of transparent support 4B, 5B, 14B) Cellulose ester film in preparation of transparent support 6B 6
Instead of cellulose ester film 4,
5 and 14 were used, and the dry film thickness of the clear hard coat layer shown in Table 4 was changed, and the transparent support 4 having different dry film thickness of the clear hard coat layer was similarly prepared.
B, 5B and 14B were produced.

【0213】《偏光板の作製》表4に記載した組み合わ
せで、透明支持体A及び透明支持体Bで偏光層を挟んだ
構成の偏光板35〜61を、実施例1に記載の方法によ
り作製した。
<< Preparation of Polarizing Plates >> Using the combinations shown in Table 4, polarizing plates 35 to 61 each having a structure in which a polarizing layer is sandwiched between a transparent support A and a transparent support B are prepared by the method described in Example 1. did.

【0214】《偏光板の評価》 (カール・平面性、反射率の評価)上記作製した各偏光
板について、実施例1に記載の方法に従い評価を行っ
た。
<< Evaluation of Polarizing Plate >> (Evaluation of Curling / Flatness and Reflectance) Each polarizing plate prepared above was evaluated according to the method described in Example 1.

【0215】(視野角評価方法)上記作製した各偏光板
について、下記に記載の方法に従って、視野角測定を行
った。
(Evaluation Method of Viewing Angle) With respect to each of the above-prepared polarizing plates, the viewing angle was measured according to the method described below.

【0216】カラー液晶ディスプレイ(富士通(株)製
MODEL VL−1530S)の表裏両面の偏光板
を剥離して、実施例で作製した各偏光板を吸収軸をもと
の偏光板と同一となるように張り付けた。これを40
℃、90%RHで1ヶ月間放置した後、ELDIM社製
EZ−contrastにより視野角を測定した。視野
角は、液晶パネルの白表示と黒表示時のコントラスト比
が10以上を示すパネル面に対する斜め45度方向の面
(パネルの左上から右下へ斜め45度傾いた面)の視野
角範囲で評価を行った。
The polarizing plates on both the front and back sides of a color liquid crystal display (MODEL VL-1530S manufactured by Fujitsu Ltd.) were peeled off so that each polarizing plate prepared in the example became the same as the original polarizing plate with the absorption axis. Stuck to. 40 this
After standing at 90 ° C. and 90% RH for 1 month, the viewing angle was measured by EZ-contrast manufactured by ELDIM. The viewing angle is in the viewing angle range of the surface in the direction of an angle of 45 degrees (the surface inclined at an angle of 45 degrees from the upper left to the lower right of the panel) with respect to the panel surface showing a contrast ratio of 10 or more when displaying white and black on the liquid crystal panel. An evaluation was made.

【0217】 ◎:斜め45度方向の視野角が120〜130度 ○:斜め45度方向の視野角が110〜120度未満 △:斜め45度方向の視野角が100〜110度未満 ×:斜め45度方向の視野角が100度未満 以上により得られた各評価結果を表4に示す。[0217] ⊚: Viewing angle in the oblique direction of 45 degrees is 120 to 130 degrees ◯: Viewing angle in the oblique 45 degree direction is less than 110 to 120 degrees. Δ: Viewing angle in the oblique 45 ° direction is 100 to less than 110 ° ×: Viewing angle in the direction of 45 degrees obliquely is less than 100 degrees Table 4 shows each evaluation result obtained as described above.

【0218】[0218]

【表4】 [Table 4]

【0219】表4より明らかなように、本発明の偏光板
は比較の偏光板に対し、カール、平面性に優れ、かつ視
野角が広くなっていることが確認され、特に横方向から
も細かい文字まで読みとることができた。
As is clear from Table 4, it was confirmed that the polarizing plate of the present invention was excellent in curl and flatness and had a wide viewing angle as compared with the polarizing plate of the comparative example. I was able to read even the letters.

【0220】[0220]

【発明の効果】本発明により、カール、平面性が良好
で、視認性、視野角等の表示特性に優れた低反射偏光板
とそれを用いた表示装置を提供することができた。
According to the present invention, it is possible to provide a low-reflection polarizing plate having excellent curl and flatness and excellent display characteristics such as visibility and viewing angle, and a display device using the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の低反射偏光板の典型的な構成の一例を
示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of a typical configuration of a low-reflection polarizing plate of the present invention.

【図2】本発明で用いられる大気圧プラズマ放電処理装
置の一例を示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing an example of an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus used in the present invention.

【図3】本発明で用いられるプラズマ放電処理装置に設
置されるプラズマ放電処理容器の一例を示す概略図であ
る。
FIG. 3 is a schematic view showing an example of a plasma discharge treatment container installed in the plasma discharge treatment apparatus used in the present invention.

【図4】本発明で用いられるプラズマ放電処理装置に設
置されるプラズマ放電処理容器の他の一例を示す概略図
である。
FIG. 4 is a schematic view showing another example of the plasma discharge treatment container installed in the plasma discharge treatment apparatus used in the present invention.

【図5】本発明に係るプラズマ放電処理に用いられる円
筒型のロール電極の一例を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a cylindrical roll electrode used for plasma discharge treatment according to the present invention.

【図6】本発明に係るプラズマ放電処理に用いられる固
定型の円筒型電極の一例を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing an example of a fixed cylindrical electrode used for plasma discharge processing according to the present invention.

【図7】本発明に係るプラズマ放電処理に用いられる固
定型の角柱型電極の一例を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a fixed prismatic electrode used in the plasma discharge treatment according to the present invention.

【図8】本発明に係る放電プラズマによる放電処理装置
の一例を示す概略図である。
FIG. 8 is a schematic view showing an example of a discharge processing apparatus using discharge plasma according to the present invention.

【図9】本発明の低反射偏光板の反射スペクトルの一例
を示す。
FIG. 9 shows an example of a reflection spectrum of the low-reflection polarizing plate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 偏光層 2、2′ セルロースエステルフィルム 3、3′ バックコート層 4、4′ 活性線硬化樹脂層 5 反射防止層 A 透明支持体 B 透明支持体 6 低反射偏光板 F 基材 8、9 ニップローラ 10、11、17 予備室 12 処理室 13、14 電極 15 高周波電源 25、26、36 電極 25a、25A、26a、26A、36a、36A 金
属等の導電性母材 25b、26b、36b ライニング処理誘電体 25B、26B、36B セラミック被覆処理誘電体 30 放電処理室 31 処理容器 40 高周波電源 50 ガス充填手段 51 ガス発生装置 52 給気口(反応ガス導入口) 53 排気口 54 仕切板 60 電極冷却ユニット 61 フィルム 65、66 ニップローラ 64、67 ガイドローラ
1 Polarizing Layer 2, 2'Cellulose Ester Film 3, 3'Backcoat Layer 4, 4'Actinic Ray Curing Resin Layer 5 Antireflection Layer A Transparent Support B Transparent Support 6 Low Reflection Polarizing Plate F Substrate 8, 9 Nip Roller 10, 11, 17 Preliminary chamber 12 Processing chamber 13, 14 Electrode 15 High frequency power source 25, 26, 36 Electrode 25a, 25A, 26a, 26A, 36a, 36A Conductive base material 25b, 26b, 36b such as metal Lining treated dielectric 25B, 26B, 36B Ceramic coating processing dielectric material 30 Discharge processing chamber 31 Processing container 40 High frequency power supply 50 Gas filling means 51 Gas generator 52 Gas supply port (reaction gas introduction port) 53 Exhaust port 54 Partition plate 60 Electrode cooling unit 61 Film 65, 66 Nip rollers 64, 67 Guide rollers

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 1:10 C08L 1:10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C08L 1:10 C08L 1:10

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2枚の透明支持体A、Bにより、偏光層
を挟持してなる低反射偏光板において、透明支持体A、
Bのいずれもがセルロースエステルを含有し、該透明支
持体Aが偏光層とは反対の面に直接または他の層を介し
て反射防止層を有し、該透明支持体Aと該透明支持体B
との膜厚が、下式(1)で表される関係であり、かつ反
射防止層を有する該透明支持体Aに含まれるセルロース
エステルの平均置換度Aと、該透明支持体Bに含まれる
セルロースエステルの平均置換度Bとが、下式(2)で
表される関係にあることを特徴とする低反射偏光板。 式(1) 透明支持体Aの膜厚(μm)≦透明支持体Bの膜厚(μ
m)≦透明支持体Aの膜厚+100(μm) 式(2) 平均置換度B+0.05≦平均置換度A≦平均置換度B
+0.35
1. A low-reflection polarizing plate having a polarizing layer sandwiched between two transparent supports A and B.
Each of B contains a cellulose ester, the transparent support A has an antireflection layer on the surface opposite to the polarizing layer directly or through another layer, and the transparent support A and the transparent support B
And the average substitution degree A of the cellulose ester contained in the transparent support A having an antireflection layer and the transparent support B are contained in the transparent support B. A low-reflection polarizing plate characterized in that the average substitution degree B of the cellulose ester has a relationship represented by the following formula (2). Formula (1) Thickness of transparent support A (μm) ≦ thickness of transparent support B (μ
m) ≦ film thickness of transparent support A + 100 (μm) Formula (2) Average substitution degree B + 0.05 ≦ average substitution degree A ≦ average substitution degree B
+0.35
【請求項2】 前記透明支持体A、Bが、各々の膜厚が
200μm以下であり、各々の透明支持体の膜厚差(透
明支持体B膜厚−透明支持体A膜厚)をΔMとし、各々
に用いられているセルロースエステルの平均置換度の差
(透明支持体Aで用いるセルロースエステルの平均置換
度−透明支持体Bで用いるセルロースエステルの平均置
換度)をΔSとしたとき、下式(3)の条件を満たすこ
とを特徴とする請求項1に記載の低反射偏光板。 式(3) 0.05+ΔM/200<ΔS
2. The transparent supports A and B each have a film thickness of 200 μm or less, and the film thickness difference (transparent support B film thickness−transparent support A film thickness) between the transparent supports is ΔM. When the difference in the average substitution degree of the cellulose ester used in each (average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support A-average substitution degree of the cellulose ester used in the transparent support B) is ΔS, The low-reflection polarizing plate according to claim 1, wherein the condition of expression (3) is satisfied. Formula (3) 0.05 + ΔM / 200 <ΔS
【請求項3】 2枚の透明支持体A、Bが、2軸延伸さ
れたセルロースエステルフィルムであることを特徴とす
る請求項1または2に記載の低反射偏光板。
3. The low-reflection polarizing plate according to claim 1, wherein the two transparent supports A and B are biaxially stretched cellulose ester films.
【請求項4】 2枚の透明支持体A、Bにより、偏光層
を挟持してなる偏光板において、透明支持体Aが偏光層
とは反対の面に活性線硬化樹脂層を介して反射防止層を
有し、かつ透明支持体Bが偏光層とは反対の面に活性線
硬化樹脂層を有することを特徴とする請求項1〜3のい
ずれか1項に記載の低反射偏光板。
4. A polarizing plate in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent supports A and B, and the transparent support A is on the surface opposite to the polarizing layer via an actinic radiation curable resin layer to prevent reflection. The low-reflection polarizing plate according to any one of claims 1 to 3, which has a layer, and the transparent support B has an actinic radiation curable resin layer on a surface opposite to the polarizing layer.
【請求項5】 前記透明支持体Aの活性線硬化樹脂層の
膜厚UVaと前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の膜
厚UVbとの膜厚比(UVb/UVa)が0.1〜10
であることを特徴とする請求項4に記載の低反射偏光
板。
5. The film thickness ratio (UVb / UVa) between the film thickness UVa of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support A and the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 0.1. -10
The low-reflection polarizing plate according to claim 4, wherein
【請求項6】 前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の
膜厚UVbが、1.3μm以上であることを特徴とする
請求項4または5に記載の低反射偏光板。
6. The low reflection polarizing plate according to claim 4, wherein the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 1.3 μm or more.
【請求項7】 前記透明支持体Aの活性線硬化樹脂層の
膜厚UVaと前記透明支持体Bの活性線硬化樹脂層の膜
厚UVbとの膜厚比(UVb/UVa)が0.2〜0.
95であることを特徴とする請求項5に記載の低反射偏
光板。
7. The film thickness ratio (UVb / UVa) between the film thickness UVa of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support A and the film thickness UVb of the actinic radiation curable resin layer of the transparent support B is 0.2. ~ 0.
The low reflection polarizing plate according to claim 5, which is 95.
【請求項8】 前記透明支持体Aまたは透明支持体B
が、炭素含有量0.2〜5%の金属酸化物層を有するこ
とを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の低
反射偏光板。
8. The transparent support A or the transparent support B
Has a metal oxide layer having a carbon content of 0.2 to 5%, and the low reflection polarizing plate according to claim 1.
【請求項9】 前記透明支持体Aが、屈折率2.0以上
の金属酸化物層を含む反射防止層を有することを特徴と
する請求項1〜8のいずれか1項に記載の低反射偏光
板。
9. The low reflection as claimed in claim 1, wherein the transparent support A has an antireflection layer containing a metal oxide layer having a refractive index of 2.0 or more. Polarizer.
【請求項10】 前記透明支持体Aが、大気圧プラズマ
処理によって形成された反射防止層を有することを特徴
とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の低反射偏光
板。
10. The low reflection polarizing plate according to claim 1, wherein the transparent support A has an antireflection layer formed by atmospheric pressure plasma treatment.
【請求項11】 450〜650nmの平均反射率が、
0.5%未満であることを特徴とする請求項1〜10の
いずれか1項に記載の低反射偏光板。
11. The average reflectance between 450 and 650 nm is:
It is less than 0.5%, The low reflection polarizing plate according to any one of claims 1 to 10.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれか1項に記載
の低反射偏光板を用い、前記透明支持体A面側が表面側
になるように配置されたことを特徴とする表示装置。
12. A display device comprising the low reflection polarizing plate according to claim 1 and arranged so that the transparent support A side is a front side.
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