JP2003103464A - Diamond coating dresser - Google Patents
Diamond coating dresserInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多孔性の樹脂、ゴ
ム、ポリウレタンラバーなどからなるパッドの研磨に用
いられるドレッサー、とくに、半導体ＬＳＩデバイスを
平坦化する研磨に用いられるパッドの表面を加工、調整
するためのドレッサーに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dresser used for polishing a pad made of porous resin, rubber, polyurethane rubber or the like, and particularly for processing the surface of a pad used for polishing to flatten a semiconductor LSI device, It is about the dresser for adjusting.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体ＬＳＩデバイスを平坦化
するために行われる研磨は、例えば、ポリウレタンラバ
ーなどからなるパッドを用いて、ＳｉＯ2スラリー等を
散布しながら行われている。そして、この研磨用のパッ
ドは、研磨時間が経過していくにつれ、目詰まりや圧縮
変形を起こし、研磨速度の低下など好ましくない現象が
生じてしまうので、研磨中あるいは定期的に、ドレッサ
ーによってパッドの表面を加工、調整して荒らすこと
で、パッドの表面状態を一定に保つことが行われる。こ
のようなパッドの表面を加工、調整するためのドレッサ
ーとしては、例えば、鉄などの基板の表面に、ダイヤモ
ンドなどの砥粒がニッケルなどの金属結合相で固着され
てなる砥粒層が形成された電着ドレッサーが一般的であ
る。2. Description of the Related Art Generally, polishing for flattening a semiconductor LSI device is carried out by using a pad made of polyurethane rubber or the like while spraying SiO 2 slurry or the like. This polishing pad causes clogging and compressive deformation as the polishing time elapses, which causes undesirable phenomena such as a decrease in polishing rate. The surface condition of the pad is kept constant by processing, adjusting and roughening the surface of the pad. As a dresser for processing and adjusting the surface of such a pad, for example, an abrasive grain layer formed by fixing abrasive grains of diamond or the like to a metal bonded phase of nickel or the like is formed on the surface of a substrate of iron or the like. Electroplated dressers are common.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
ＬＳＩでの積層が進むにつれて金属配線さえも研磨して
平坦化する必要が生じてきたため、上述した従来のＳｉ
Ｏ2スラリー等に代えて、アルミナ系の酸性スラリー
（ＰＨ１〜４）が使用されるようになってきた。する
と、電着ドレッサーにおけるニッケルなどの金属結合相
や鉄などの基板が、この酸性スラリーに侵されて溶出す
ることにより、半導体ＬＳＩデバイスを汚染してしまう
おそれが生じてしまう。加えて、金属結合相で保持され
ているダイヤモンドなどの砥粒が脱落することにより、
半導体ＬＳＩデバイスを損傷してしまうおそれもあっ
た。By the way, recently,
As it has become necessary to polish and planarize even metal wiring as the stacking in LSI progresses, the conventional Si described above is used.
Alumina-based acidic slurries (PH1 to 4) have come to be used in place of the O 2 slurry and the like. Then, a metal binding phase such as nickel in the electrodeposition dresser or a substrate such as iron is attacked by the acidic slurry and eluted, so that the semiconductor LSI device may be contaminated. In addition, by removing the abrasive grains such as diamond retained in the metal-bonded phase,
There is also a possibility that the semiconductor LSI device may be damaged.
【０００４】ここで、このような問題に対処するため
に、特開２０００−１２７０４６号公報には、電着ドレ
ッサーの表面に形成された砥粒層の全面を、耐酸化性非
金属の層でコーティングしたドレッサーが提案されてい
る。しかしながら、このようなドレッサーを用いたとし
ても、耐酸化性非金属のコーティング層にピンホールが
存在していた場合には、酸性スラリーがこの耐酸化性非
金属のコーティング層の下へ浸透し、金属結合相や基板
の成分が溶出してしまうおそれがあった。また、砥粒層
が、耐酸化性非金属のコーティング層で覆われていると
しても、金属結合相の接着力にバラツキがあるため、大
きな負荷がかかった場合には、接着力の弱いところか
ら、砥粒が剥離して脱落してしまうおそれもあった。In order to address such a problem, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-127046 discloses that the entire surface of the abrasive grain layer formed on the surface of the electrodeposition dresser is made of an oxidation-resistant non-metal layer. A coated dresser has been proposed. However, even if such a dresser is used, if there are pinholes in the oxidation-resistant non-metal coating layer, the acidic slurry penetrates below this oxidation-resistant non-metal coating layer, There was a possibility that the metal binder phase and the components of the substrate would be eluted. Even if the abrasive grain layer is covered with the oxidation-resistant non-metal coating layer, the adhesive strength of the metal bonding phase varies, so that if a large load is applied, the adhesive strength will be weak. However, the abrasive grains may be peeled off and fall off.
【０００５】また、特開平７−３２８９３７号公報や特
開平１０−４４０２３号公報には、気相合成ダイヤモン
ドの技術を応用したドレッサーが開示されている。これ
らは、基板の表面に、複数の溝、穴あるいは凸部が形成
されているとともに、その表面の全面が、気相合成ダイ
ヤモンドの層でコーティングされているものであるが、
このようなドレッサーを用いたとしても、気相合成ダイ
ヤモンドのコーティング層にピンホールが存在していた
場合には、基板の成分が溶出してしまうおそれがあっ
た。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-328937 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-44023 disclose dressers to which the technique of vapor phase synthetic diamond is applied. These are those in which a plurality of grooves, holes or convex portions are formed on the surface of the substrate, and the entire surface is coated with a layer of vapor phase synthetic diamond.
Even if such a dresser is used, if the pinhole is present in the coating layer of the vapor phase synthetic diamond, the components of the substrate may be eluted.
【０００６】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
で、砥粒の脱落や、溶出による汚染を生じることがない
ドレッサーを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a dresser in which abrasive grains do not drop off or contaminate due to elution.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決して、
このような目的を達成するために、本発明は、基板の表
面に複数の凸部が設けられ、この基板の表面の全面が、
炭化物、窒化物、炭窒化物、シリコン、のうちのいずれ
か１種の成分からなる層、または、この１種の成分から
なる層を複数積層したもの（異なる成分からなる複数の
層）でコーティングされ、さらに、このコーティング層
の全面が、気相合成ダイヤモンドの層でコーティングさ
れていることを特徴とする。このような構成とされた本
発明によれば、気相合成ダイヤモンドの層でコーティン
グされた基板の表面の凸部によって、パッドの表面を加
工、調整することになるので、従来のような砥粒層を形
成した電着ドレッサーを用いなくても、パッドの表面の
調整作用を効果的に維持でき、しかも、砥粒の脱落とい
った問題を生じることがない。また、基板の表面が、酸
性スラリーによっても侵食されることのない炭化物、窒
化物、炭窒化物、シリコンなどからなる少なくとも１層
のコーティング層と、同じく酸性スラリーによっても浸
食されることのない気相合成ダイヤモンドからなるコー
ティング層とによって覆われているため、たとえ酸性ス
ラリーが用いられているとしても、これらのコーティン
グ層によって、この酸性スラリーが基板まで浸透するこ
とを確実に防止することができ、基板の成分が溶出して
しまうことがない。[Means for Solving the Problems] By solving the above problems,
In order to achieve such an object, the present invention is provided with a plurality of convex portions on the surface of the substrate, the entire surface of the substrate,
Coating with a layer made of any one of carbide, nitride, carbonitride, and silicon, or a laminate of a plurality of layers made of this one component (a plurality of layers made of different components) Furthermore, the entire surface of this coating layer is coated with a layer of vapor phase synthetic diamond. According to the present invention having such a configuration, the surface of the pad is processed and adjusted by the convex portion of the surface of the substrate coated with the layer of vapor-phase synthetic diamond. Even if the electrodeposition dresser having the layer is not used, the adjusting action of the surface of the pad can be effectively maintained, and the problem of dropping of the abrasive grains does not occur. Further, the surface of the substrate has at least one coating layer made of carbide, nitride, carbonitride, silicon, etc., which is not corroded by the acid slurry, and a gas which is not corroded by the acid slurry. Since it is covered with the coating layer made of phase-synthesized diamond, even if an acidic slurry is used, these coating layers can reliably prevent the acidic slurry from penetrating to the substrate. The components of the substrate will not elute.
【０００８】また、前記炭化物、窒化物もしくは炭窒化
物が、４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属
もしくはシリコンの炭化物、窒化物もしくは炭窒化物、
または、４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金
属とシリコンとの炭化物、窒化物もしくは炭窒化物から
なる構成としてもよく、さらには、前記基板が、鉄基合
金、ニッケル基合金、コバルト基合金、ステンレス基合
金、ステンレス鋼、４ａ族、５ａ族もしくは６ａ族の金
属、のうちのいずれか１種からなる構成としてもよい。The carbide, nitride or carbonitride is a carbide, nitride or carbonitride of a metal or silicon of any of 4a group, 5a group and 6a group,
Alternatively, the substrate may be composed of a carbide, a nitride, or a carbonitride of a metal of any one of the 4a group, the 5a group, and the 6a group, and the substrate may be an iron-based alloy or a nickel-based alloy. , Cobalt-based alloy, stainless steel-based alloy, stainless steel, 4a group, 5a group, or 6a group metal.
【０００９】また、気相合成ダイヤモンドのコーティン
グ層の層厚は、０．５〜２０μｍの範囲に設定されてい
ることが好ましく、この層厚が、０．５μｍより小さく
なると、パッドの加工、調整に供される凸部に与えられ
る耐摩耗性が十分ではなく、寿命が低下してしまうおそ
れがあり、一方、コーティング層の層厚が、２０μｍよ
り大きくなっても、逆にコーティング層が脆くなって、
クラックを生じやすくなってしまう。Further, the layer thickness of the vapor phase synthetic diamond coating layer is preferably set in the range of 0.5 to 20 μm. When the layer thickness is smaller than 0.5 μm, the processing and adjustment of the pad are performed. The abrasion resistance imparted to the convex portions used for the coating is not sufficient, and the life may be shortened. On the other hand, even if the layer thickness of the coating layer exceeds 20 μm, the coating layer becomes brittle. hand,
Cracks are likely to occur.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付し
た図面を参照しながら説明する。図１は本実施形態によ
るダイヤモンドコーティングドレッサーの平面図、図２
は同ダイヤモンドコーティングドレッサーの要部拡大平
面図、図３は同ダイヤモンドコーティングドレッサーの
要部拡大断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view of the diamond coating dresser according to the present embodiment, and FIG.
Is an enlarged plan view of a main part of the diamond coating dresser, and FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part of the diamond coating dresser.
【００１１】本実施形態によるダイヤモンドコーティン
グドレッサーの基板１０は、略円板状をなすものであ
り、その表面１１における中央領域を除いた周辺領域に
は、上方に突出する凸部１２が、略等間隔に配置される
ように複数形成されている。これら複数の凸部１２は、
それぞれ同一形状の略正四角柱状を呈しており、その上
面１３は、基板１０の表面１１と平行な平坦面とされる
とともに、この上面１３の稜線部、すなわち、上面１３
と４つの側面との交差稜線部に４つの切刃１４が形成さ
れている。The substrate 10 of the diamond-coated dresser according to the present embodiment has a substantially disk shape, and in the peripheral region of the surface 11 excluding the central region, the protrusions 12 projecting upward are substantially equal. A plurality of them are formed so as to be arranged at intervals. The plurality of convex portions 12 are
Each of them has a substantially regular square columnar shape having the same shape, and the upper surface 13 is a flat surface parallel to the surface 11 of the substrate 10, and the ridge portion of the upper surface 13, that is, the upper surface 13 is formed.
And four cutting edges 14 are formed on the ridge line portion intersecting with the four side surfaces.
【００１２】また、基板１０は、凸部１２の形成しやす
さ等の観点から、以下に示すａ〜ｆのうちのいずれか１
種の成分から構成されている。
ａ：鉄基合金、
ｂ：ニッケル基合金、
ｃ：コバルト基合金、
ｄ：ステンレス基合金、
ｅ：ステンレス鋼、
ｆ：４ａ族、５ａ族もしくは６ａ族の金属、The substrate 10 has any one of the following a to f from the viewpoint of ease of forming the protrusions 12 and the like.
Composed of seed ingredients. a: iron-based alloy, b: nickel-based alloy, c: cobalt-based alloy, d: stainless steel-based alloy, e: stainless steel, f: 4a group, 5a group or 6a group metal,
【００１３】そして、複数の凸部１２を含む基板１０の
表面１１の全面が、酸性スラリーによっても浸食される
ことのない以下に示す〜のうちのいずれか１種の成
分からなる第１のコーティング層１５によってコーティ
ングされている。
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属もし
くはシリコンの炭化物、
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属もし
くはシリコンの窒化物、
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属もし
くはシリコンの炭窒化物、
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属とシ
リコンとの炭化物、
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属とシ
リコンとの窒化物、
４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属とシ
リコンとの炭窒化物、
シリコン
具体的には、例えば、Ｓｉ、ＳｉＣ、ＷＣ、Ｓｉ3Ｎ4、
ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＴａＮ、ＴｉＣＮ、
ＺｒＣ、ＺｒＮなどが挙げられる。これらの成分は、後
述する気相合成ダイヤモンドからなる第２のコーティン
グ層１６のコーティングのしやすさ等の観点からも選択
されたものである。Then, the entire surface 11 of the substrate 10 including the plurality of protrusions 12 is not eroded by the acidic slurry, and the first coating is formed of any one of the following components (1) to (4). Coated by layer 15. A metal or silicon carbide of any one of the groups 4a, 5a and 6a; a metal or silicon nitride of any one of the groups 4a, 5a and 6a of the groups 4a, 5a and 6a A carbonitride of any of the above metals or silicon, a carbide of any metal of the 4a group, 5a group, and 6a group and silicon, and a metal of any of the 4a group, 5a group, and 6a group Nitride with silicon, carbonitride with silicon of any one of 4a group, 5a group, and 6a group, and silicon. Specifically, for example, Si, SiC, WC, Si 3 N 4 ,
TiN, CrN, TiC, TaC, TaN, TiCN,
Examples include ZrC and ZrN. These components are also selected from the viewpoint of ease of coating the second coating layer 16 made of vapor phase synthetic diamond, which will be described later.
【００１４】さらに、基板１０の表面１１を被覆する第
１のコーティング層１５の全面が、酸性スラリーによっ
ても浸食されることのない気相合成ダイヤモンドからな
る第２のコーティング層１６によって、０．５〜２０μ
ｍの層厚ｔでコーティングされており、本実施形態にお
いては、層厚ｔは、例えば１０μｍとされている。Further, the entire surface of the first coating layer 15 which covers the surface 11 of the substrate 10 is made 0.5 by the second coating layer 16 made of vapor phase synthetic diamond which is not corroded by the acid slurry. ~ 20μ
It is coated with a layer thickness t of m, and in the present embodiment, the layer thickness t is, for example, 10 μm.
【００１５】このような気相合成ダイヤモンドからなる
第２のコーティング層１６は、上記のような第１のコー
ティング層１５が形成された複数の凸部１２を有する基
板１０に対して、例えば、マイクロ波プラズマを利用す
る方法や熱フィラメントを利用する方法などの既存の方
法を用いることにより、第１のコーティング層１５の全
面に亘って形成される。The second coating layer 16 made of such a vapor-phase synthetic diamond is applied to the substrate 10 having a plurality of convex portions 12 on which the above-mentioned first coating layer 15 is formed, for example, in a micro It is formed over the entire surface of the first coating layer 15 by using an existing method such as a method using a wave plasma or a method using a hot filament.
【００１６】上記のような構成とされたダイヤモンドコ
ーティングドレッサーは、その基板１０の表面１１を、
例えば、酸性スラリーが散布されながら半導体ＬＳＩデ
バイスの研磨を行っているパッドの表面に押し当てると
ともに、回転、場合によっては並進運動をすることによ
って、複数の凸部１２の上面１３の稜線部に形成された
切刃１４で、パッドの表面を加工、調整していく（実際
には、切刃１４をコーティングしている気相合成ダイヤ
モンドからなる第２のコーティング層１６が、パッドの
表面を加工、調整することになる）。The diamond-coated dresser having the above-mentioned structure has the surface 11 of the substrate 10
For example, while the acidic slurry is being sprayed, it is pressed against the surface of the pad that is polishing the semiconductor LSI device, and is rotated and, in some cases, translated to form ridges on the upper surface 13 of the plurality of protrusions 12. The surface of the pad is processed and adjusted by the cut edge 14 (actually, the second coating layer 16 made of vapor-phase synthetic diamond coating the cutting edge 14 processes the surface of the pad, Will be adjusted).
【００１７】本実施形態によるダイヤモンドコーティン
グドレッサーによれば、気相合成ダイヤモンドからなる
第２のコーティング層１６によってコーティングされた
複数の凸部１２が、パッドの表面を加工、調整していく
ので、従来の電着ドレッサーを用いなくても、安定した
パッドの表面の調整作用を得ることができ、さらには、
ダイヤモンドなどの砥粒を用いていないために、この砥
粒の脱落といった問題も生じることがない。According to the diamond coating dresser according to the present embodiment, the plurality of convex portions 12 coated with the second coating layer 16 made of vapor phase synthetic diamond process and adjust the surface of the pad. A stable pad surface adjusting action can be obtained without using the electrodeposition dresser of
Since no abrasive grains such as diamond are used, the problem of the abrasive grains falling off does not occur.
【００１８】また、上記のａ〜ｆのような溶出のおそれ
のある成分から構成された基板１０の表面１１が、酸性
スラリーによっても侵食されることのない上記の〜
のような成分からなる第１のコーティング層１５と、同
じく酸性スラリーによっても浸食されることのない気相
合成ダイヤモンドからなる第２のコーティング層１６と
の２つの層によって覆われているため、酸性スラリーを
用いて半導体ＬＳＩデバイスの金属配線までも研磨して
いるパッドを加工、調整するような場合であったとして
も、これら第１、２のコーティング層１５，１６によっ
て、この酸性スラリーが基板１０まで浸透することを確
実に防止することができ、基板１０の成分が溶出してし
まうことがない。In addition, the surface 11 of the substrate 10 composed of the components which may be eluted such as the above a to f is not corroded by the acidic slurry.
Since it is covered with two layers, a first coating layer 15 made of a component such as the above, and a second coating layer 16 made of vapor-phase synthetic diamond that is not corroded by an acidic slurry, Even in the case where the slurry is used to process and adjust a pad in which even a metal wiring of a semiconductor LSI device is polished, the acidic slurry is applied to the substrate 10 by the first and second coating layers 15 and 16. It can be reliably prevented that the components of the substrate 10 are eluted, and the components of the substrate 10 are not eluted.
【００１９】それゆえ、半導体ＬＳＩデバイスが、砥粒
の脱落によって損傷するおそれをなくすとともに、基板
１０の成分の溶出によって汚染されてしまう心配が生じ
ることもない。Therefore, the semiconductor LSI device is prevented from being damaged by the dropping of the abrasive grains, and is not contaminated by the elution of the components of the substrate 10.
【００２０】さらには、複数の凸部１２を含んで、基板
１０の表面１１の全面が、気相合成ダイヤモンドからな
る第２のコーティング層１６によって、その層厚ｔが
０．５〜２０μｍの範囲となるようにコーティングされ
ていることから、パッドの加工、調整に供される凸部１
２に対して、十分な耐摩耗性を与えることができ、高価
なダイヤモンド砥粒を用いなくても、長期間に亘って、
切れ味を劣化させることなく安定したパッドの調整作用
を維持していくことが可能となり、かつ、凸部１２の強
度をより向上させることができる。ここで、気相合成ダ
イヤモンドからなる第２のコーティング層１６の層厚ｔ
が、０．５μｍより小さくなると、凸部１２に与えられ
る耐摩耗性が十分ではなくなり、一方、第２のコーティ
ング層１６の層厚ｔが、２０μｍより大きくなると、逆
にコーティング層が脆くなって、クラックを生じやすく
なり、これにともない、酸性スラリーが基板１０まで浸
透してしまうおそれも生じてしまう。なお、上述したよ
うな効果をより確実にするためには、気相合成ダイヤモ
ンド１６のコーティング層の層厚ｔは、２〜１０μｍの
範囲に設定することが好ましい。Further, the entire surface 11 of the substrate 10 including the plurality of convex portions 12 is covered with the second coating layer 16 made of vapor phase synthetic diamond, and the layer thickness t thereof is in the range of 0.5 to 20 μm. Since it is coated so that it will be processed, the convex portion 1 used for pad processing and adjustment
2 can be provided with sufficient wear resistance, and even without using expensive diamond abrasive grains,
It is possible to maintain a stable pad adjusting action without deteriorating the sharpness, and it is possible to further improve the strength of the convex portion 12. Here, the layer thickness t of the second coating layer 16 made of vapor phase synthetic diamond
However, if it is smaller than 0.5 μm, the abrasion resistance given to the convex portions 12 becomes insufficient, while if the layer thickness t of the second coating layer 16 is larger than 20 μm, the coating layer becomes brittle. As a result, cracks are likely to occur, and accordingly, the acidic slurry may penetrate into the substrate 10. In order to secure the effect as described above, the layer thickness t of the coating layer of the vapor phase synthetic diamond 16 is preferably set in the range of 2 to 10 μm.
【００２１】また、本実施形態においては、基板１０の
表面１１の全面をコーティングしている第１のコーティ
ング層１５を一つとしているが、これに限定されること
なく、上述した成分〜のうちのいずれか１種の成分
からなる層を複数積層することによって第１のコーティ
ング層１５（互いに異なる〜の成分からなる層を複
数積層したもの）を形成したとしても構わない。例え
ば、基板１０の表面１１の全面に、ＴｉＮやＣｒＮなど
の成分からなるコーティング層を形成し、その上に、Ｓ
ｉやＳｉＣの成分からなるコーティング層を形成し、さ
らに、その上に、気相合成ダイヤモンドからなるコーテ
ィング層を形成したとしても、上述したような効果を何
の遜色もなく奏することができる。Further, in the present embodiment, the first coating layer 15 coating the entire surface 11 of the substrate 10 is one, but the present invention is not limited to this, and the above-mentioned components The first coating layer 15 (a plurality of layers each of which is different from each other) may be formed by stacking a plurality of layers each including one of the above components. For example, a coating layer made of a component such as TiN or CrN is formed on the entire surface 11 of the substrate 10, and S is formed on the coating layer.
Even if a coating layer made of a component of i or SiC is formed and a coating layer made of vapor-phase synthetic diamond is further formed thereon, the above-described effects can be achieved without any harm.
【００２２】さらに、本実施形態においては、略円板状
をなす基板１０を用いているがこれに限定されることな
く、他の形状の基板、例えば、略直方体状の基板を用い
て、パッド表面上を並進運動させることにより、パッド
の表面の加工、調整を行ったとしても構わない。Further, in the present embodiment, the substrate 10 having a substantially disc shape is used, but the present invention is not limited to this, and a substrate having another shape, for example, a substantially rectangular parallelepiped substrate is used, and the pad is used. The surface of the pad may be processed and adjusted by translating the surface.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるダイ
ヤモンドコーティングドレッサーによれば、気相合成ダ
イヤモンドの層でコーティングされた基板の表面の凸部
によって、パッドの表面を加工、調整することになるの
で、パッドの表面の調整作用を効果的に維持でき、か
つ、砥粒が脱落することによって生じる損傷の心配がな
い。また、基板の表面が、酸性スラリーによっても侵食
されることのない炭化物、窒化物、炭窒化物、シリコン
などからなる少なくとも１層のコーティング層と、同じ
く酸性スラリーによっても浸食されることのない気相合
成ダイヤモンドからなるコーティング層とによって覆わ
れているため、たとえ酸性スラリーが用いられたとして
も、これらのコーティング層によって、この酸性スラリ
ーが基板まで浸透することを確実に防止することがで
き、基板の成分が溶出することによる汚染が生じない。As described above, according to the diamond coating dresser of the present invention, the surface of the pad is processed and adjusted by the convex portion of the surface of the substrate coated with the layer of vapor phase synthetic diamond. Therefore, the adjusting action of the surface of the pad can be effectively maintained, and there is no risk of damage caused by the dropping of the abrasive grains. Further, the surface of the substrate has at least one coating layer made of carbide, nitride, carbonitride, silicon, etc., which is not corroded by the acid slurry, and a gas which is not corroded by the acid slurry. Since it is covered with a coating layer made of phase-synthesized diamond, even if an acidic slurry is used, these coating layers can reliably prevent the acidic slurry from penetrating to the substrate. Contamination does not occur due to the elution of the components of.
【図１】 本実施形態によるダイヤモンドコーティン
グドレッサーの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a diamond coating dresser according to the present embodiment.
【図２】 本実施形態によるダイヤモンドコーティン
グドレッサーの要部拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of an essential part of the diamond coating dresser according to the present embodiment.
【図３】 本実施形態によるダイヤモンドコーティン
グドレッサーの要部拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view of an essential part of the diamond coating dresser according to the present embodiment.
【符号の説明】 １０ 基板 １１ 表面 １２ 凸部 １３ 上面 １４ 切刃 １５ 第１のコーティング層 １６ 第２のコーティング層[Explanation of symbols] 10 substrates 11 surface 12 convex 13 Upper surface 14 cutting edge 15 First coating layer 16 Second coating layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 竜一 茨城県那珂郡那珂町向山1002−14 三菱マ テリアル株式会社総合研究所那珂研究セン ター内 (72)発明者 森田 啓介 茨城県那珂郡那珂町向山1002−14 三菱マ テリアル株式会社総合研究所那珂研究セン ター内 Ｆターム(参考） 3C047 BB01 BB16 EE02 EE11 3C058 AA07 AA19 CB02 DA17 3C063 AB05 BA24 BA33 BB02 BF08 BG04 BG07 CC11 EE26 FF22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Ryuichi Matsuki 1002-14 Mukoyama, Naka-machi, Naka-gun, Ibaraki Prefecture Terari Co., Ltd. Inside (72) Inventor Keisuke Morita 1002-14 Mukoyama, Naka-machi, Naka-gun, Ibaraki Prefecture Terari Co., Ltd. Inside F term (reference) 3C047 BB01 BB16 EE02 EE11 3C058 AA07 AA19 CB02 DA17 3C063 AB05 BA24 BA33 BB02 BF08 BG04 BG07 CC11 EE26 FF22
Claims (4)
の基板の表面の全面が、 炭化物、 窒化物、 炭窒化物、 シリコン、のうちのいずれか１種の成分からなる層、ま
たは、この１種の成分からなる層を複数積層したもので
コーティングされ、 さらに、このコーティング層の全面が、 気相合成ダイヤモンドの層でコーティングされているこ
とを特徴とするダイヤモンドコーティングドレッサー。1. A plurality of protrusions are provided on the surface of a substrate, and the entire surface of the substrate is a layer made of any one of carbide, nitride, carbonitride, and silicon, or A diamond coating dresser characterized by being coated with a stack of a plurality of layers each consisting of this one kind of component, and further, the entire surface of this coating layer is coated with a layer of vapor phase synthetic diamond.
ングドレッサーにおいて、 前記炭化物、窒化物もしくは炭窒化物が、 ４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属もしく
はシリコンの炭化物、窒化物もしくは炭窒化物、また
は、 ４ａ族、５ａ族、６ａ族のうちのいずれかの金属とシリ
コンとの炭化物、窒化物もしくは炭窒化物からなること
を特徴とするダイヤモンドコーティングドレッサー。2. The diamond coating dresser according to claim 1, wherein the carbide, nitride or carbonitride is a metal, silicon carbide or nitride of any one of 4a group, 5a group and 6a group. A diamond coating dresser comprising a carbonitride, or a carbide, a nitride or a carbonitride of silicon with a metal of any one of 4a group, 5a group and 6a group.
モンドコーティングドレッサーにおいて、 前記基板が、 鉄基合金、 ニッケル基合金、 コバルト基合金、 ステンレス基合金、 ステンレス鋼、 ４ａ族、５ａ族もしくは６ａ族の金属、のうちのいずれ
か１種からなることを特徴とするダイヤモンドコーティ
ングドレッサー。3. The diamond coating dresser according to claim 1, wherein the substrate is an iron-based alloy, a nickel-based alloy, a cobalt-based alloy, a stainless-based alloy, a stainless steel, a 4a group, a 5a group or 6a. A diamond coating dresser, characterized in that it is made of any one of the group metals.
のダイヤモンドコーティングドレッサーにおいて、 前記気相合成ダイヤモンドのコーティング層の層厚が、
０．５〜２０μｍの範囲に設定されていることを特徴と
するダイヤモンドコーティングドレッサー。4. The diamond coating dresser according to claim 1, wherein the coating layer of the vapor phase synthetic diamond has a layer thickness of:
A diamond coating dresser characterized by being set in a range of 0.5 to 20 μm.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001302737A JP2003103464A (en) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | Diamond coating dresser |
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| JP2001302737A JP2003103464A (en) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | Diamond coating dresser |
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|---|---|---|---|
| JP2001302737A Pending JP2003103464A (en) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | Diamond coating dresser |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011514848A (en) * | 2008-03-10 | 2011-05-12 | モルガン アドバンスド セラミックス， インコーポレイテッド | Non-planar CVD diamond coated CMP pad conditioner and method of manufacturing the same |
| KR101273157B1 (en) * | 2006-06-27 | 2013-06-14 | 강준모 | Polishing member and the method of manufacturing the same |
| KR101304630B1 (en) * | 2005-01-24 | 2013-09-05 | 강준모 | Substrate structure for abrading |
| US9956664B2 (en) | 2012-08-02 | 2018-05-01 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive element precursor with precisely shaped features and methods of making thereof |
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-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001302737A patent/JP2003103464A/en active Pending
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