JP2003101169A - Ceramic wiring board - Google Patents

Ceramic wiring board

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JP2003101169A
JP2003101169A JP2001292306A JP2001292306A JP2003101169A JP 2003101169 A JP2003101169 A JP 2003101169A JP 2001292306 A JP2001292306 A JP 2001292306A JP 2001292306 A JP2001292306 A JP 2001292306A JP 2003101169 A JP2003101169 A JP 2003101169A
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JP
Japan
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ceramic
film circuit
mother substrate
wiring board
thick film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001292306A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshige Ito
広繁 伊藤
Michiharu Ota
道治 大田
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a plating liquid and the like enters a thick- film circuit on the lower surface of a ceramic wiring board through a division groove to cause corrosion, peeling, etc., at the thick-film circuit, when a metal plate layer is coated on a metalized wiring conductor on the upper surface. SOLUTION: Related to a ceramic wiring board 7, division grooves 3 are formed in all directions at least on the lower surface of a ceramic mother board 1. A metalized wiring conductor 2 on which a metal plate layer is coated is formed on the upper surface of a square region 1a partitioned with the division groove 3, while a thick-film circuit 5 coated with a resin layer 6 comprising organic resin is formed on the lower surface. The division groove 3 positioned outside the square region of the ceramic mother board 1 is coated with a coating material 4 which is obtained by sintering a ceramics paste. Thus, entering of plating liquid or the like into the thick-film circuit 5 from the division groove 3 is effectively prevented to discourage corrosion, peeling, etc., for reliability of the ceramic wiring board 7.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、厚膜回路とメタラ
イズ配線導体とを具備し、半導体素子等の電子部品が搭
載されるセラミック配線基板に関するものであり、詳細
には、セラミック母基板を分割溝で区画してなる四角形
状の領域の上面にメタライズ配線導体を、下面に厚膜回
路をそれぞれ形成したセラミック配線基板に関するもの
である。 【0002】 【従来の技術】従来、例えば半導体集積回路素子等の半
導体素子や容量素子等の電子部品を搭載するためのセラ
ミック配線基板として、酸化アルミニウム質焼結体等の
電気絶縁体から成る絶縁基体の上面にタングステンやモ
リブデン等の高融点金属材料から成るメタライズ配線導
体を、下面に銅・ランタン−ボロン系合金・酸化錫系合
金等からなる厚膜配線や厚膜抵抗体等の厚膜回路をそれ
ぞれ被着させて成るセラミック配線基板が知られてい
る。なお、メタライズ配線導体と厚膜回路とは、通常、
絶縁基体の内部配線層等を介して電気的に接続されてい
る。 【0003】そして絶縁基体の上面に電子部品を搭載す
るとともにその電極を半田やボンディングワイヤを介し
てメタライズ配線導体に接続することにより、電子部品
・メタライズ配線導体および厚膜回路により電気回路が
形成され、必要に応じて電子部品を樹脂や蓋体で封止す
ることにより製品としての電子装置として完成する。 【0004】なお、メタライズ配線導体は電子部品の電
極を厚膜回路と接続したり、外部に導出したりする主導
電路として機能し、また厚膜回路は、上記の電気回路に
おいて抵抗や低電気抵抗回路・容量等の回路素子として
機能する。 【0005】この場合、メタライズ配線導体は、その酸
化腐食を防止するとともに、半田やボンディングワイヤ
の接続を確実かつ容易とするために、ニッケル・銅・金
等のめっき金属層が被着される。 【0006】また、厚膜回路は、銅・酸化錫等の酸化・
腐食し易い素材から成ることから、メタライズ配線導体
と同様に酸化防止のために被覆層を被着させる必要があ
るが、厚膜回路にめっき金属層を被着させると、厚膜回
路の電気特性が所定の数値からずれてしまうため、通常
は、有機樹脂から成る樹脂層で被覆されている。この有
機樹脂としては、一般に紫外線硬化型・熱硬化型等のエ
ポキシ樹脂が使用される。 【0007】なお、このようなセラミック配線基板は、
一般に、その取り扱いを容易にするため、製品となる四
角形状の領域の外側を取り囲む部位にダミーの耳部を設
け、このダミーの耳部と製品となる中央部の領域とを分
割溝で区画したセラミック母基板の形態で製作され、ダ
ミーの耳部は、電子部品の搭載等の所定の工程を終えた
後、分割溝に沿ってセラミック母基板から分割すること
によって除去される。 【0008】このようなセラミック配線基板は、例え
ば、以下のようにして製作される。 【0009】まず、セラミック母基板となるセラミック
グリーンシートを準備し、その少なくとも下面にこのセ
ラミックグリーンシートの中央部を配線基板領域として
四角形状に区画するような分割溝となる切り込みを形成
するとともに、この四角形状の領域の上面にタングステ
ン・モリブデン等の金属ペーストを印刷塗布し、その
後、高温で焼成して上面にメタライズ配線導体が形成さ
れたセラミック母基板を得る。 【0010】次に、このセラミック母基板の四角形状の
領域の下面に銅・ランタン−ボロン等の金属ペーストを
印刷塗布するとともに、上記の焼成温度よりも低い温度
で熱処理して、絶縁基体の下面に厚膜回路を形成する。 【0011】次に、厚膜回路をエポキシ樹脂等の有機樹
脂で被覆し、最後にメタライズ配線導体のみにめっき金
属層を被着させることにより、セラミック配線基板が製
作される。 【0012】なお、セラミック母基板の上面のメタライ
ズ配線導体にめっき金属層を被着させるとき、セラミッ
ク母基板の下面の厚膜回路および厚膜回路を被覆する有
機樹脂は、マスキングテープにより被覆される。これ
は、厚膜回路にめっき金属層が被着するのを防止するた
めであり、また、被覆用の有機樹脂が酸・アルカリ性溶
液により腐食し易いため、酸・アルカリ性のめっき用処
理液やめっき液から有機樹脂を保護するためである。 【0013】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のセラミック配線基板は、その少なくとも下面に分割
溝が形成されていることから、セラミック配線基板のメ
タライズ配線導体にめっき金属層を被着させる際に、厚
膜回路および厚膜回路を被覆する有機樹脂を被覆するた
めセラミック母基板の下面にマスキングテープを貼った
とき、分割溝を形成した部位において、マスキングテー
プとセラミック母基板とが密着せずに隙間が生じてしま
う。このため、この状態でセラミック配線基板をめっき
用処理液やめっき液に浸漬すると、これらの薬液が前述
の隙間から分割溝を伝ってマスキングテープとセラミッ
ク母基板およびセラミック母基板上に形成した厚膜回路
との間に浸入し、厚膜回路に腐食・剥離等が発生してし
まうという問題があった。 【0014】本発明は上記従来の技術における問題点に
鑑みて案出されたものであり、その目的は、セラミック
母基板においてセラミック配線基板の上面のメタライズ
配線導体にめっき金属層を被着させる際に、下面の厚膜
回路に腐食・剥離等を発生させることがないセラミック
配線基板を提供することにある。 【0015】 【課題を解決するための手段】本発明のセラミック配線
基板は、セラミック母基板の少なくとも下面に分割溝を
縦横に形成し、この分割溝によって区画された四角形状
の領域の上面にめっき金属層が被着されたメタライズ配
線導体を、下面に有機樹脂から成る樹脂層で被覆された
厚膜回路をそれぞれ形成して成るセラミック配線基板で
あって、前記セラミック母基板の前記四角形状の領域の
外側に位置する前記分割溝を、セラミックペーストを焼
結して成る被覆材で被覆していることを特徴とするもの
である。 【0016】本発明のセラミック配線基板によれば、セ
ラミック母基板の四角形状の領域の外側に位置する分割
溝を、セラミックペーストを焼結して成る被覆材で被覆
していることから、セラミック母基板の四角形状の外側
で分割溝が形成された部位においてもマスキングテープ
をセラミック母基板にセラミックペーストを焼結して成
る被覆材を介して十分に密着させることができ、セラミ
ック母基板の外周部の分割溝を形成した部位からのめっ
き用処理液やめっき液の厚膜回路上への浸入を効果的に
防ぐことができるため、厚膜回路に腐食・剥離等が発生
することを極めて有効に防ぐことができる。 【0017】 【発明の実施の形態】次に、本発明を添付の図面に基づ
き詳細に説明する。 【0018】図1(A)は本発明のセラミック配線基板
の実施の形態の一例を示す断面図であり、図1(B)は
その平面図である。 【0019】図中、1はセラミック母基板(絶縁基
体)、2はセラミック母基板1の上面に被着形成された
メタライズ配線導体、3はセラミック母基板1の下面に
形成された分割溝、4はセラミックペーストを焼結して
成る被覆材、5はセラミック母基板1の下面に被着形成
された厚膜回路、6はセラミック母基板1の下面を被覆
する有機樹脂から成る樹脂層である。このセラミック母
基板1・メタライズ配線導体2・分割溝3・被覆材4・
厚膜回路5・樹脂層6により、セラミック配線基板7が
構成される。 【0020】セラミック母基板1は、酸化アルミニウム
質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・ムライト質結晶
焼結体・炭化珪素質焼結体・窒化珪素質焼結体・ガラス
セラッミックス焼結体等の電気絶縁材料から成る。例え
ば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸
化アルミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カ
ルシウム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ
・溶剤を添加混合して得たセラミックスラリーを従来周
知のドクターブレード法によりシート状となすととも
に、これに適当な打ち抜き加工を施すことによりセラミ
ック母基板1用のセラミックグリーンシートを得、次い
でこれらのセラミックグリーンシートを上下に積層する
とともに適当な形状・大きさに切断してセラミック母基
板1用の生セラミック成形体となし、しかる後、この成
形体を還元雰囲気中にて約1600℃の温度で焼成すること
によって製作される。 【0021】セラミック母基板1は、その少なくとも下
面に分割溝3が形成され、この分割溝により中央部に四
角形状の領域(製品となる配線基板領域)1aが区画さ
れ、この四角形状の領域1aを区画する分割溝3よりも
外側の領域である外周部1bがダミーの耳部となる。こ
のような分割溝3は、セラミック母基板1となるセラミ
ックグリーンシートの下面にカッター刃等を押し込ん
で、溝状に切り込みを設けておくことにより形成するこ
とができる。 【0022】また、セラミック母基板1の四角形状の領
域1aは、上面にメタライズ配線導体2が形成されてい
る。 【0023】このメタライズ配線導体2は、セラミック
配線基板7に搭載した電子部品(図示せず)の電極が接
続されるとともに、この電極を外部に導出したり、厚膜
回路5と接続したりするための導電路として機能する。 【0024】メタライズ配線導体2は、タングステンや
モリブデン・銅・銀等の金属粉末から成り、タングステ
ン等の金属粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合
して得た金属ペーストをセラミック母基板1となるセラ
ミックグリーンシートに従来周知のスクリーン印刷法等
により所定のパターンに印刷塗布しておき、セラミック
グリーンシートと共に焼成されることにより形成され
る。 【0025】メタライズ配線導体2は、その露出表面
に、例えば電子部品の電極を低融点ロウ材やボンディン
グワイヤを介して接続するときのロウ材の接合性やボン
ディング性等を良くするために、1〜10μm程度の厚み
のニッケルめっき膜と0.1〜3μm程度の厚みの金めっ
き膜とからなるめっき金属膜を被着させておくことが好
ましい。 【0026】このニッケルめっき層と金めっき層とから
なるめっき金属膜は、例えば硫酸ニッケルおよびリン系
またはホウ素系の還元剤を主成分とする無電解ニッケル
めっき浴(酸性)と、シアン化金力リウムおよびホウ素
系還元剤を主成分とする無電解金めっき浴(アルカリ
性)とを準備し、各々のめっき浴にセラミック配線基板
7を順次、所定時間ずつ浸漬することによって、メタラ
イズ配線導体2の露出表面に所定厚みに被着形成され
る。 【0027】セラミック母基板1の四角形状の領域1a
の下面には、メタライズ配線導体2と電気的に接続する
ようにして厚膜回路5が被着形成されている。 【0028】このような厚膜回路5は、例えばランタン
−ボロン(LaB6)系合金や酸化錫(SnO2)等の抵
抗体粉末から成る。酸化錫から成る場合であれば、酸化
錫粉末に適当な有機バインダ・溶剤を添加混合して得た
抵抗体ペーストを、セラミック母基板1の四角形状の領
域1aの下面に、例えばセラミック母基板1の内部に予
め設けた内部配線(図示せず)を介してメタライズ配線
導体2と接続するようにして所定パターンに印刷塗布
し、これを約900℃の温度で熱処理して焼き付けること
により、セラミック母基板1の下面に被着形成される。 【0029】なお、メタライズ配線導体2と厚膜回路5
とを接続する内部配線は、セラミック母基板1となるセ
ラミックグリーンシートに貫通孔を設け、このセラミッ
クグリーンシートの表面および貫通孔内にメタライズ配
線導体2と同様の金属ペーストを印刷塗布・充填してお
くことにより形成することができる。 【0030】また、厚膜回路5上には、一般に、その表
面に保護ガラス(図示せず)が被着されている。この保
護ガラスは、厚膜回路5の酸化を防ぐとともに、例えば
厚膜回路5が厚膜抵抗体である場合、後述するように厚
膜抵抗体にレーザートリミングを施す際に、トリミング
される部位以外の部位の露出裏面がダメージを受けるこ
とを防ぐ作用をなす。 【0031】このような保護ガラスは、例えば酸化ホウ
素系ガラス等のガラスから成り、酸化ホウ素系ガラスの
粉末に適当な有機バインダ・液剤を添加・混合して得た
ガラスペーストを厚膜抵抗体の全面を覆うようにして印
刷塗布し、約600〜650℃で処理して焼き付けることによ
り被着形成される。 【0032】さらに、保護ガラスで覆われた厚膜回路5
は、レーザートリミングによりその電気抵抗値が所定の
値に調整されることによって、トリミングされた部位が
保護ガラスから露出するため、この露出部が酸化するこ
とを防ぐために、紫外線硬化型等の有機樹脂から成る樹
脂層6により被覆される。 【0033】有機樹脂から成る樹脂層6は、例えば、紫
外線硬化型のエポキシ樹脂で形成され、未硬化のエポキ
シ樹脂前駆体を適当な光重合開始剤等の添加成分と混合
し、厚膜回路5が形成されたセラミック母基板1の下面
の所定の場所を覆うようにして印刷塗布するとともに、
約300mJ/cm2の紫外線を照射して光硬化させること
によって、厚膜回路5および保護ガラスを被覆するよう
にしてセラミック母基板1の下面に被着形成される。 【0034】このセラミック母基板1の下面に形成した
厚膜回路5は、上述のようにセラミック母基板1上面の
メタライズ配線導体2にめっき金属層を被着させるため
にセラミック配線基板7をニッケル・金等のめっき液や
酸・アルカリ性の各種めっき用処理液に浸漬する際、こ
のめっき液等と接触しないように、マスキングテープ
(図示せず)により被覆される。なお、マスキングテー
プは、厚膜回路5および樹脂層6の全面を被覆するた
め、セラミック母基板1の下面のほぼ全面を覆うように
して貼る。 【0035】このようにセラミック母基板1の下面に樹
脂層6を被着させるとともにマスキングテープを貼り、
メタライズ配線導体2にめっき金属層を被着させる際、
本発明では、少なくともセラミック母基板1の四角形状
の領域の外側に位置する分割溝3を、セラミックペース
トを焼結して成る被覆材4で被覆しておくことが重要で
ある。 【0036】被覆材4でセラミック母基板1の四角形状
の領域の外側に位置する分割溝3を被覆していることに
より、前記四角形状の領域の外側に位置する分割溝3が
形成された部位においてもセラミック母基板1とマスキ
ングテープとの間にできる隙間を無くすことができ、セ
ラミック母基板1を金等のめっき液や塩酸・アルカリ脱
脂液等のめっき用処理液に浸漬させた際に、四角形状の
領域の外側に位置する分割溝から厚膜回路5へのめっき
液等の浸入を効果的に防止することができる。 【0037】これによって、厚膜回路5へのめっき液等
の浸入が効果的に防げることで厚膜回路5に腐食・剥離
等を生じることが有効に防止され、セラミック配線基板
6としての信頼性を優れたものとすることができる。 【0038】このようなセラミックペーストは、酸化ア
ルミニウム・窒化アルミニウム・ムライト・炭化珪素・
窒化珪素質・ホウ珪酸ガラス等のセラミック粉末に有機
溶剤・バインダを添加し混練したものを用いることがで
きる。 【0039】ここで、セラミック母基板1の四角形状の
領域の外側に位置する分割溝3上に施すセラミックペー
ストを焼結して成る被覆材4は、セラミック母基板1と
同一材質としておくことが好ましい。これは、セラミッ
クペーストをセラミック母基板1と同時焼成することが
でき、また被覆材4をセラミック母基板1に強固に被着
させることができるためである。 【0040】また、被覆材4は、その外縁部でセラミッ
ク母基板1の下面に形成された厚膜回路5上の樹脂層4
の厚みより薄くなるようにしておくことが好ましい。こ
れは、セラミック母基板1と被覆材4との間に熱応力等
の応力が生じたとき、応力が被覆材4の外縁部で大きく
なって被覆層4が外縁端から剥がれることを防ぎ、被覆
材4をセラミック母基板1により一層強固に被着させる
ことができるためである。 【0041】また、被覆材4は、その上面がセラミック
母基板1の表面に対して平行な一平面をなすようにして
形成しておくことが好ましく、この場合、セラミック母
基板1の全周にわたってほぼ均一にめっき液に対する被
覆効果を得ることができ、めっき液の浸入をより一層確
実に阻止することができる。このような被覆材4は、例
えば、被覆材4となるセラミックペーストをセラミック
母基板1となるセラミックグリーンシートに印刷した
後、このセラミックペーストを平らな加圧面で加圧する
ことにより形成することができる。 【0042】なお、本発明のセラミック配線基板は上述
の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能であ
る。 【0043】例えば、上述の例では分割溝3はセラミッ
ク母基板1の下面のみに形成していたが、下面の分割溝
3に対向させて、あるいはこれとは異なる分割を行なう
ために下面の分割溝3とは異なる位置に、セラミック母
基板1の上面にも分割溝を形成してよい。 【0044】また、上述の例では分割溝3によって区画
された四角形状の領域1aはセラミック母基板1の中央
部に1つだけ形成した例を示したが、この四角形状の領
域1aは、縦横の並びに配列された複数の四角形状の配
線基板領域に形成して、いわゆる多数個取りのセラミッ
ク配線基板としてもよく、その場合も、それら多数の配
線基板領域の下面にそれぞれ形成された厚膜回路5を樹
脂層6で被覆するとともに、そのセラミック母基板1の
配線基板領域の外側に位置する分割溝3を、セラミック
ペーストを焼結して成る被覆材4で被覆していればよ
い。 【0045】 【発明の効果】本発明のセラミック配線基板によれば、
少なくとも下面に分割溝を縦横に形成し、この分割溝に
よって区画された四角形状の領域の上面にメッキ金属層
が被着されたメタライズ配線導体を、下面に有機樹脂か
ら成る被覆層で被覆された厚膜回路をそれぞれ形成して
成るセラミック配線基板であって、セラミック母基板の
四角形状の領域の外側に位置する分割溝を、セラミック
ペーストを焼結して成る被覆材で被覆していることか
ら、セラミック母基板の下面に厚膜回路を形成後に、上
面のメタライズ配線導体にめっき金属層を被着させるた
めに、被覆層で被覆された厚膜回路を有する下面にマス
キングを施す際に、分割溝が形成された部位からのめっ
き液等の厚膜回路への浸入を効果的に防ぐことができる
ため、厚膜回路に腐食・剥離等が発生することを極めて
有効に防ぐことができる。 【0046】以上により、本発明によれば、セラミック
母基板においてセラミック配線基板の上面のメタライズ
配線導体にめっき金属層を被着させる際に、下面の厚膜
回路に腐食・剥離等を発生させることがないセラミック
配線基板を提供することができた。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic wiring board having a thick film circuit and a metallized wiring conductor, and on which electronic components such as semiconductor elements are mounted. More specifically, the present invention relates to a ceramic wiring substrate in which a metallized wiring conductor is formed on the upper surface of a rectangular region defined by dividing a ceramic mother substrate by dividing grooves, and a thick film circuit is formed on the lower surface. 2. Description of the Related Art Conventionally, as a ceramic wiring board for mounting electronic components such as a semiconductor device such as a semiconductor integrated circuit device and a capacitor, an insulating material such as an aluminum oxide sintered body is used. A metallized wiring conductor made of a refractory metal material such as tungsten or molybdenum on the upper surface of the substrate, and a thick film circuit such as a thick film wiring or a thick film resistor made of a copper, lanthanum-boron alloy or tin oxide alloy on the lower surface. Are known. The metallized wiring conductor and the thick film circuit are usually
They are electrically connected via an internal wiring layer or the like of the insulating base. An electronic circuit is formed by mounting the electronic component on the upper surface of the insulating base and connecting the electrode to a metallized wiring conductor via solder or a bonding wire, thereby forming the electronic circuit with the metalized wiring conductor and the thick film circuit. An electronic device as a product is completed by sealing the electronic component with a resin or a lid as needed. The metallized wiring conductor functions as a main conductive path for connecting an electrode of an electronic component to a thick-film circuit or leading it to the outside, and the thick-film circuit has a resistance or a low electric resistance in the above electric circuit. Functions as circuit elements such as circuits and capacitors. In this case, the metallized wiring conductor is covered with a plated metal layer of nickel, copper, gold or the like in order to prevent the oxidative corrosion of the metalized wiring conductor and to make the connection of solder and bonding wires reliable and easy. [0006] Further, the thick film circuit is formed by oxidizing copper or tin oxide.
Since it is made of a material that is easily corroded, it is necessary to apply a coating layer to prevent oxidation, as with metallized wiring conductors. Is deviated from a predetermined value, and is usually covered with a resin layer made of an organic resin. As this organic resin, an epoxy resin of an ultraviolet curing type, a thermosetting type or the like is generally used. [0007] Such a ceramic wiring board is
In general, in order to facilitate the handling, dummy ears are provided at a portion surrounding the outside of the rectangular region to be a product, and the dummy ears and the region at the center of the product are divided by dividing grooves. Manufactured in the form of a ceramic motherboard, the dummy ears are removed by dividing the ceramic motherboard along the dividing grooves after a predetermined process such as mounting of electronic components. [0008] Such a ceramic wiring board is manufactured, for example, as follows. First, a ceramic green sheet to be a ceramic mother substrate is prepared, and at least a lower surface of the ceramic green sheet is formed with a notch serving as a dividing groove for partitioning the central portion of the ceramic green sheet into a wiring board region in a square shape. A metal paste such as tungsten or molybdenum is printed and applied on the upper surface of the rectangular region, and then fired at a high temperature to obtain a ceramic mother substrate having a metallized wiring conductor formed on the upper surface. Next, a metal paste such as copper, lanthanum-boron, or the like is printed and applied to the lower surface of the square region of the ceramic mother substrate, and heat-treated at a temperature lower than the above-mentioned firing temperature to form a lower surface of the insulating base. To form a thick film circuit. Next, the thick-film circuit is coated with an organic resin such as an epoxy resin, and finally, a plating metal layer is applied only to the metallized wiring conductor, whereby a ceramic wiring board is manufactured. When the plating metal layer is applied to the metallized wiring conductor on the upper surface of the ceramic mother substrate, the thick film circuit on the lower surface of the ceramic mother substrate and the organic resin covering the thick film circuit are covered with a masking tape. . This is to prevent the plating metal layer from adhering to the thick film circuit, and because the coating organic resin is easily corroded by the acid / alkaline solution, the acid / alkaline plating solution or plating solution is used. This is for protecting the organic resin from the liquid. However, in this conventional ceramic wiring board, since a dividing groove is formed on at least the lower surface, a plating metal layer is applied to the metallized wiring conductor of the ceramic wiring board. When applying a masking tape to the lower surface of the ceramic mother substrate to cover the thick film circuit and the organic resin covering the thick film circuit, the masking tape and the ceramic mother substrate adhere to each other at the portion where the dividing groove is formed. Without doing so, a gap is created. For this reason, when the ceramic wiring board is immersed in the plating solution or plating solution in this state, these chemicals travel along the dividing groove from the above-mentioned gap and the masking tape, the ceramic mother board, and the thick film formed on the ceramic mother board. There is a problem that it penetrates into the circuit and causes corrosion and peeling of the thick film circuit. The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the prior art, and has as its object to apply a plating metal layer to a metallized wiring conductor on the upper surface of a ceramic wiring substrate in a ceramic mother substrate. Another object of the present invention is to provide a ceramic wiring board which does not cause corrosion, peeling, and the like in a thick film circuit on a lower surface. In the ceramic wiring board of the present invention, a dividing groove is formed vertically and horizontally on at least a lower surface of a ceramic mother substrate, and plating is performed on an upper surface of a quadrangular region defined by the dividing groove. A ceramic wiring board comprising a metallized wiring conductor on which a metal layer is adhered, and a thick film circuit formed by coating a lower surface with a resin layer made of an organic resin. Wherein the dividing groove located outside of the substrate is covered with a covering material formed by sintering a ceramic paste. According to the ceramic wiring board of the present invention, since the dividing grooves located outside the quadrangular region of the ceramic mother substrate are covered with the coating material obtained by sintering the ceramic paste, The masking tape can be sufficiently adhered to the ceramic mother substrate through the covering material formed by sintering the ceramic paste even at the portion where the dividing groove is formed outside the square shape of the substrate, and the outer peripheral portion of the ceramic mother substrate The plating solution and plating solution can be effectively prevented from entering the thick film circuit from the area where the dividing groove is formed, making it possible to extremely effectively prevent corrosion and peeling from occurring in the thick film circuit. Can be prevented. Next, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a sectional view showing an example of an embodiment of a ceramic wiring board according to the present invention, and FIG. 1B is a plan view thereof. In the figure, 1 is a ceramic mother substrate (insulating base), 2 is a metallized wiring conductor formed on the upper surface of the ceramic mother substrate 1, 3 is a dividing groove formed on the lower surface of the ceramic mother substrate 1, Is a coating material formed by sintering a ceramic paste, 5 is a thick film circuit formed on the lower surface of the ceramic mother substrate 1, and 6 is a resin layer made of an organic resin for coating the lower surface of the ceramic mother substrate 1. The ceramic mother board 1, the metallized wiring conductor 2, the dividing groove 3, the covering material 4,
The thick film circuit 5 and the resin layer 6 constitute a ceramic wiring board 7. The ceramic mother substrate 1 is made of aluminum oxide sintered body, aluminum nitride sintered body, mullite crystal sintered body, silicon carbide sintered body, silicon nitride sintered body, glass ceramics sintered body. It is made of an electrically insulating material such as a body. For example, in the case of an aluminum oxide-based sintered body, a ceramic slurry obtained by adding an appropriate organic binder and a solvent to a ceramic raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, and calcium oxide is mixed with a conventionally known ceramic slurry. The sheet is formed into a sheet shape by a doctor blade method, and the sheet is subjected to an appropriate punching process to obtain a ceramic green sheet for the ceramic mother substrate 1. Then, these ceramic green sheets are laminated one above the other and have an appropriate shape and size. Then, a green ceramic molded body for the ceramic mother substrate 1 is formed, and thereafter, the molded body is manufactured by firing at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. The ceramic mother substrate 1 has a dividing groove 3 formed at least on the lower surface thereof. The dividing groove divides a square region (a wiring substrate region serving as a product) 1a in the center, and the square region 1a. The outer peripheral portion 1b, which is an area outside of the dividing groove 3 that defines the area, serves as a dummy ear. Such a dividing groove 3 can be formed by pressing a cutter blade or the like into the lower surface of the ceramic green sheet serving as the ceramic mother substrate 1 and providing a cut in a groove shape. Further, a metallized wiring conductor 2 is formed on the upper surface of the rectangular region 1a of the ceramic mother substrate 1. The metallized wiring conductor 2 is connected to an electrode of an electronic component (not shown) mounted on the ceramic wiring board 7, leads the electrode to the outside, or connects to the thick film circuit 5. Function as a conductive path. The metallized wiring conductor 2 is made of a metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like. A metal paste obtained by adding a suitable organic binder and solvent to the metal powder such as tungsten is mixed with the ceramic mother substrate 1. The ceramic green sheet is formed by printing and applying a predetermined pattern on the ceramic green sheet by a conventionally known screen printing method or the like, and firing the ceramic green sheet together with the ceramic green sheet. The metallized wiring conductor 2 is provided on the exposed surface thereof with, for example, a soldering material for connecting an electrode of an electronic component through a low melting point brazing material or a bonding wire in order to improve the bonding property and bonding property of the brazing material. It is preferable that a plating metal film composed of a nickel plating film having a thickness of about 10 μm and a gold plating film having a thickness of about 0.1 to 3 μm is applied. The plating metal film composed of the nickel plating layer and the gold plating layer is made of, for example, an electroless nickel plating bath (acidic) containing nickel sulfate and a phosphorus-based or boron-based reducing agent as a main component, and a gold cyanide plating bath. An electroless gold plating bath (alkaline) containing a lithium and boron-based reducing agent as a main component is prepared, and the metallized wiring conductor 2 is exposed by sequentially immersing the ceramic wiring substrate 7 in each plating bath for a predetermined time. A predetermined thickness is formed on the surface. A rectangular region 1a of the ceramic mother substrate 1
A thick film circuit 5 is formed so as to be electrically connected to the metallized wiring conductor 2. The thick film circuit 5 is made of a resistor powder such as a lanthanum-boron (LaB 6 ) alloy or tin oxide (SnO 2 ). In the case of tin oxide, a resistor paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and solvent to tin oxide powder is applied to the lower surface of the rectangular region 1a of the ceramic mother substrate 1, for example, the ceramic mother substrate 1 Is printed and applied in a predetermined pattern so as to be connected to the metallized wiring conductor 2 via an internal wiring (not shown) provided in advance inside the substrate and heat-treated at a temperature of about 900 ° C. to be baked. It is formed on the lower surface of the substrate 1. The metallized wiring conductor 2 and the thick film circuit 5
Is formed by providing a through hole in a ceramic green sheet to be a ceramic mother substrate 1 and printing and filling the same metal paste as the metallized wiring conductor 2 on the surface of the ceramic green sheet and in the through hole. Can be formed. In general, a protective glass (not shown) is applied on the surface of the thick film circuit 5. This protective glass prevents oxidation of the thick-film circuit 5 and, for example, when the thick-film circuit 5 is a thick-film resistor, when the laser-trimming is performed on the thick-film resistor as described later, a portion other than a portion to be trimmed is used. And prevents the exposed back surface of the portion from being damaged. Such a protective glass is made of, for example, a glass such as a boron oxide glass, and a glass paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and a liquid agent to the powder of the boron oxide glass is used as a thick film resistor. It is printed and coated so as to cover the entire surface, processed at about 600 to 650 ° C., and baked to be formed. Further, a thick film circuit 5 covered with a protective glass
Because the electric resistance value is adjusted to a predetermined value by laser trimming, the trimmed portion is exposed from the protective glass, and in order to prevent this exposed portion from being oxidized, an organic resin such as an ultraviolet curing type is used. And a resin layer 6 made of The resin layer 6 made of an organic resin is formed of, for example, an ultraviolet-curable epoxy resin, and an uncured epoxy resin precursor is mixed with a suitable additive such as a photopolymerization initiator to form a thick film circuit 5. Is printed and applied so as to cover a predetermined place on the lower surface of the ceramic mother substrate 1 on which is formed
By irradiating ultraviolet rays of about 300 mJ / cm 2 and photo-curing, it is formed on the lower surface of the ceramic mother substrate 1 so as to cover the thick film circuit 5 and the protective glass. The thick-film circuit 5 formed on the lower surface of the ceramic mother substrate 1 is made of nickel-based ceramic wiring substrate 7 in order to apply a plating metal layer to the metallized wiring conductor 2 on the upper surface of the ceramic mother substrate 1 as described above. When immersed in a plating solution such as gold or various plating solutions of acid or alkali, it is covered with a masking tape (not shown) so as not to come into contact with the plating solution or the like. The masking tape is applied so as to cover almost the entire lower surface of the ceramic mother substrate 1 in order to cover the entire surface of the thick film circuit 5 and the resin layer 6. As described above, the resin layer 6 is adhered to the lower surface of the ceramic mother substrate 1 and a masking tape is attached.
When applying a plating metal layer to the metallized wiring conductor 2,
In the present invention, it is important that at least the divided groove 3 located outside the rectangular region of the ceramic mother substrate 1 be covered with a covering material 4 formed by sintering a ceramic paste. Since the covering material 4 covers the dividing grooves 3 located outside the rectangular region of the ceramic mother substrate 1, the portions where the dividing grooves 3 located outside the rectangular region are formed Also, the gap between the ceramic mother substrate 1 and the masking tape can be eliminated, and when the ceramic mother substrate 1 is immersed in a plating solution such as gold or a plating solution such as hydrochloric acid / alkali degreasing solution, It is possible to effectively prevent the plating solution or the like from entering the thick film circuit 5 from the division groove located outside the rectangular region. As a result, it is possible to effectively prevent the plating solution or the like from entering the thick film circuit 5, thereby effectively preventing the thick film circuit 5 from being corroded or peeled off, and to improve the reliability of the ceramic wiring board 6. Can be excellent. Such a ceramic paste includes aluminum oxide, aluminum nitride, mullite, silicon carbide,
A mixture obtained by adding an organic solvent and a binder to a ceramic powder such as silicon nitride or borosilicate glass and kneading it can be used. Here, the coating material 4 formed by sintering the ceramic paste applied to the divided grooves 3 located outside the rectangular region of the ceramic mother substrate 1 may be made of the same material as the ceramic mother substrate 1. preferable. This is because the ceramic paste can be fired simultaneously with the ceramic mother substrate 1 and the coating material 4 can be firmly applied to the ceramic mother substrate 1. The covering material 4 is formed on the resin layer 4 on the thick film circuit 5 formed on the lower surface of the ceramic mother substrate 1 at the outer edge.
It is preferable that the thickness be smaller than the thickness. This is because when a stress such as thermal stress is generated between the ceramic mother substrate 1 and the coating material 4, the stress is prevented from increasing at the outer edge of the coating material 4 and the coating layer 4 is prevented from peeling off from the outer edge. This is because the material 4 can be more firmly adhered to the ceramic mother substrate 1. It is preferable that the coating material 4 is formed so that the upper surface thereof forms a plane parallel to the surface of the ceramic mother substrate 1. The coating effect on the plating solution can be obtained almost uniformly, and the intrusion of the plating solution can be more reliably prevented. Such a coating material 4 can be formed, for example, by printing a ceramic paste to be the coating material 4 on a ceramic green sheet to be the ceramic mother substrate 1 and then pressing the ceramic paste on a flat pressing surface. . The ceramic wiring board of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the above-described example, the dividing groove 3 is formed only on the lower surface of the ceramic mother substrate 1. However, the dividing groove 3 is formed so as to face the dividing groove 3 on the lower surface or to divide the lower surface. A division groove may be formed on the upper surface of the ceramic mother substrate 1 at a position different from the groove 3. In the above example, only one rectangular region 1a defined by the dividing groove 3 is formed at the center of the ceramic mother substrate 1, but this rectangular region 1a is A so-called multi-cavity ceramic wiring board may be formed in a plurality of square-shaped wiring board areas arranged in a row. In this case, the thick film circuits respectively formed on the lower surfaces of the many wiring board areas 5 may be covered with a resin layer 6 and the dividing groove 3 located outside the wiring board region of the ceramic mother substrate 1 may be covered with a covering material 4 formed by sintering a ceramic paste. According to the ceramic wiring board of the present invention,
A metallized wiring conductor in which division grooves are formed vertically and horizontally on at least the lower surface, and a plating metal layer is adhered on the upper surface of a rectangular area defined by the division grooves, is coated on the lower surface with a coating layer made of an organic resin. This is a ceramic wiring board formed by forming a thick film circuit, and the division grooves located outside the rectangular area of the ceramic mother board are covered with a coating material formed by sintering a ceramic paste. After forming a thick film circuit on the lower surface of the ceramic mother board, the masking is performed when the lower surface having the thick film circuit covered with the coating layer is masked in order to apply a plating metal layer to the metallized wiring conductor on the upper surface. It is possible to effectively prevent the plating solution and the like from entering the thick film circuit from the portion where the groove is formed, so that corrosion and peeling of the thick film circuit can be extremely effectively prevented. That. As described above, according to the present invention, when a plating metal layer is applied to a metallized wiring conductor on the upper surface of a ceramic wiring substrate on a ceramic mother substrate, corrosion, peeling or the like is generated in the thick film circuit on the lower surface. It was possible to provide a ceramic wiring board without any.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明のセラミック配線基板の実施の形態の一
例を示す(A)は断面図、(B)は平面図である。 【符号の説明】 1・・・セラミック母基体(絶縁基体) 1a・・・四角形状の領域(製品となる配線基板領域) 1b・・・耳部(外周部) 2・・・メタライズ配線導体 3・・・分割溝 4・・・被覆材 5・・・厚膜回路 6・・・樹脂層 7・・・セラミック配線基板
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1A is a cross-sectional view and FIG. 1B is a plan view showing an embodiment of a ceramic wiring board according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ・ ・ ・ Ceramic mother substrate (insulating substrate) 1a ・ ・ ・ Rectangular area (wiring board area to be product) 1b ・ ・ ・ Ear part (outer peripheral part) 2 ・ ・ ・ Metalized wiring conductor 3 ... Division groove 4 ... Coating material 5 ... Thick film circuit 6 ... Resin layer 7 ... Ceramic wiring board

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 セラミック母基板の少なくとも下面に分
割溝を縦横に形成し、該分割溝によって区画された四角
形状の領域の上面にめっき金属層が被着されたメタライ
ズ配線導体を、下面に有機樹脂から成る樹脂層で被覆さ
れた厚膜回路をそれぞれ形成して成るセラミック配線基
板であって、前記セラミック母基板の前記四角形状の領
域の外側に位置する前記分割溝を、セラミックペースト
を焼結して成る被覆材で被覆していることを特徴とする
セラミック配線基板。
Claims: 1. A metallized wiring in which a dividing groove is formed vertically and horizontally on at least a lower surface of a ceramic mother substrate, and a plating metal layer is applied to an upper surface of a quadrangular region defined by the dividing groove. A ceramic wiring board formed by forming a thick film circuit in which a conductor is covered with a resin layer made of an organic resin on a lower surface, wherein the dividing groove located outside the rectangular region of the ceramic mother board is formed. A ceramic wiring board, which is covered with a coating material formed by sintering a ceramic paste.
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