JP2003098676A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JP2003098676A
JP2003098676A JP2001291410A JP2001291410A JP2003098676A JP 2003098676 A JP2003098676 A JP 2003098676A JP 2001291410 A JP2001291410 A JP 2001291410A JP 2001291410 A JP2001291410 A JP 2001291410A JP 2003098676 A JP2003098676 A JP 2003098676A
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡素な構成でありながら各工程中に基板に塗
布される感光剤の特性に対応した光を照射することがで
き、かつ安価で効率よく製造することができる露光装置
を提供することを提供すること。 【解決手段】 露光装置は、露光台と第一の方向に相対
的に移動することにより、露光台全域にわたって均一な
積算露光量で露光できるように離散的に二次元配列され
た複数の発光素子を有する光源ユニットを複数有する発
光手段と、露光期間中に、前記発光手段と、露光台とを
第一の方向に沿って相対的に移動させる走査手段と、発
光手段の発光制御を行う制御手段と、を備えている。該
光源ユニットは、前記発光素子からの光を平行光束とし
て照射する第一ユニットと、前記発光素子からの光を発
散光束として照射する第二ユニットとに分類され、制御
手段は、所定の情報に対応して、少なくとも第一ユニッ
トと第二ユニットとのいずれか一方を選択して発光させ
る構成にした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マスクに描かれた所定
のパターンを基板に露光するために用いられる露光装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、露光装置は、超高圧水銀灯を備え
る光源部から照射された光によって露光台に固定された
基板に回路パターン等を露光していた。
【0003】例えば、回路パターン露光工程において
は、解像度の高いポジ感光剤が塗布される基板に対して
は、より解像度の高い露光が可能な平行光を照射する光
源部を備える露光装置(以下、平行光照射型の露光装置
という)による露光が行われ、液状ネガ感光剤が塗布さ
れる基板に対しては、スルーホール内壁も露光が可能な
発散光を照射する光源部を備える露光装置(以下、発散
光照射型の露光装置という)による露光が行われる。ま
た、回路パターン露光工程の後で行われるソルダレジス
ト露光工程においては、ソルダレジストの光に対する感
度が低いために、平行光よりも光強度の強い発散光を照
射する発散光照射型の露光装置が多用される。
【0004】このように、一連の基板作製工程中におい
て、工程の種類や該工程中に基板に塗布される感光剤の
特性に応じて、平行光照射型と発散光照射型とのいずれ
か一方の露光装置が選択されて、使用されている。従っ
て、感光剤を露光するという共通の工程に用いられる装
置であるにもかかわらず、平行光照射型および発散光照
射型という異なる二種類の露光装置を準備しなければな
らない。そのため、露光装置の製造ラインの統一化を図
ることが難しく、製造コストや製造期間がかさんでしま
い製造の非効率性が指摘されている。特に、従来の平行
光照射型の露光装置は、超高圧水銀灯から照射された光
を平行光にするために、光源部を非常に大型で複雑な構
成にする必要があるため、高価になってしまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記の従
来の問題点に鑑み、簡素な構成でありながら各工程中に
基板に塗布される感光剤の特性に対応した光を照射する
ことができ、かつ安価で効率よく製造することができる
露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成させる
ため、この発明は、マスクに描かれた所定のパターンを
露光台に載置された基板に露光する露光装置に関するも
のである。該露光装置は、露光台と第一の方向に相対的
に移動することにより、露光台全域にわたって隙間なく
均一な積算露光量で露光できるように離散的に二次元配
列された複数の発光素子を有する光源ユニットを複数有
する発光手段と、露光期間中に、前記発光手段と、露光
台とを第一の方向に沿って相対的に移動させる走査手段
と、発光手段の発光制御を行う制御手段と、を備えてい
る。該光源ユニットは、前記発光素子からの光を平行光
束として照射する第一ユニットと、前記発光素子からの
光を発散光束として照射する第二ユニットとに分類さ
れ、制御手段は、所定の情報に対応して、少なくとも第
一ユニットと第二ユニットとのいずれか一方を選択して
発光させることを特徴とする。
【0007】このように、光源部が平行光を照射するユ
ニットと発散光を照射するユニットとを備える構成にす
ることにより、一台の露光装置で容易に平行光束と発散
光束とを生成することが可能となった。つまり、本発明
の露光装置ならば、工程の種類や該工程中に基板に塗布
される感光剤の特性に対応した光を照射することがで
き、かつ安価で効率よく製造することができる。また、
一台でさまざまな感光剤に適した光束を照射可能である
ため、感光剤に対応する露光装置を複数台設置する必要
がなくなり、工場内での省スペース化に寄与することが
できる。
【0008】また超高圧水銀灯の代わりに発光素子を使
用することにより、上記光源部全体の規模を非常に小型
化させることができる。ここで発光素子自体にも以下の
ような利点がある。まず、点灯後すぐに安定した光量の
光を照射することができるため、必要に応じて点灯制御
することができる。つまり、常時点灯しつづける必要が
ある超高圧水銀灯に比べて、消費電力をはるかに抑える
ことができる。また、発光素子の寿命は長いため、光源
の交換に関するユーザにかかる負担を軽減することがで
きる。
【0009】平行光束を照射する第一ユニットは、複数
の発光素子の配列に対応して配設された複数の凸レンズ
を有する一枚の平面板を有し、平面板は、発光素子から
凸レンズまでの距離が、凸レンズの焦点距離に略等しく
なる位置に配設されることが望ましい。これにより、凸
レンズは、コリメータレンズレンズとして機能し、発光
素子からの光を平行光束にすることができる。また、一
枚の平面板、例えばガラス版に凸レンズを配設すること
により、ユニットの製造を簡素化させ、コストダウンを
図ることができる。
【0010】発散光束を照射する第二ユニットは、上記
第一ユニットと同様に複数の発光素子の配列に対応して
配設された複数の凸レンズを有する一枚の平面板を有し
ており、該平面板は、発光素子から凸レンズまでの距離
が、凸レンズの焦点距離と一致しない任意の位置に配設
される。このように、第一ユニットと第二ユニットとを
共通の部材を用いて構成することにより、露光装置を製
造する際のより一層のコストダウンを図ることができ
る。
【0011】より広い照射領域を得たい場合には、第二
ユニットを、複数の発光素子の配列に対応して配設され
た複数の凹レンズを有する一枚の平面板で構成すると良
い。
【0012】光源部内において、第一ユニットと第二ユ
ニットは、第一の方向に交互に並べて配設されていても
良いし、同種のユニットでまとめて配設されていてもよ
い。
【0013】また、光源システムには、複数の発光素子
から発光された各光束の露光台と平行な面での断面形状
を所定形状に成形する光束成形手段をさらに有すること
が望ましい。光束成形手段によって光束断面を所定形状
にすることにより、一つの光束における光強度が弱い照
射領域(光束の外延部近傍によって照射された領域)が
隣接する他の光束の照射領域で補完されることになり、
より均一な積算露光量での露光が可能になる。
【0014】上記光束成形手段としては、発光素子の配
列に対応して配設された複数の開口を有する一枚の平面
板であることが望ましい。該開口の形状は、光束断面を
どのような形状にするかによって異なり、例えば、円形
状や、台形状などが考えられる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる露光装置
の実施形態について説明する。図1は、実施形態の露光
装置100の光源部1、露光台2近傍を拡大した斜視図
である。図2は露光台2近傍の上面図、図3は露光台2
近傍の側面図である。実施形態の露光装置100は、マ
スクMに描かれた回路パターンを基板Sに露光するため
の装置であり、この露光装置100では、マスクMと基
板Sをわずか(10μm〜20μm)に離して露光するプロ
キシミティー法を用いている。なお各図中、X方向(お
よびX方向の逆方向)は、光源部1および露光台2が相
対的に移動する方向(第一の方向)、つまり露光装置1
00における走査方向である。Y方向は、基板の露光さ
れる面(被露光面)において、X方向と直交する方向
(第二の方向)である。Z方向は、被露光面と直交する
方向、つまり光源部1から照射される光の直進方向であ
る。
【0016】図1から図3に示すように、露光装置10
0は、光源部1(図1中二点鎖線で示す)、露光台2、
第一モータ3、第一レール4、第一ドライバ5、一対の
レール(第二レール)6、第一ボールねじ7a、テーブ
ル駆動モータ7b、ベース8、マスクホルダ部9を備え
ている。
【0017】光源部1は、第一モータ3の駆動によっ
て、第一レール4に沿ってX方向に移動する。第一モー
タ3は、第一ドライバ5を介して制御部10によって制
御されている。ここで光源部1から発光される光によっ
て露光されるY方向の最大幅は、露光装置100で露光
可能な基板Sが有するY方向における最大長さよりも十
分に長く構成される。つまり光源部1がX方向に平行移
動することにより、どのようなサイズの基板Sの被露光
面も全域を露光されることになる。
【0018】基板Sが載置される露光台2は、ベース8
上に設けられている。露光台2は、その下面がX方向に
延びる第二レール6に沿ってガイドされた状態で、第一
ボールねじ7aをテーブル駆動モータ7bにより回転さ
せることによって、X方向に駆動自在な状態にある。
【0019】各図中斜線部で示すマスクMは、マスクホ
ルダ部9によって保持されている。詳しくは、マスクホ
ルダ部9は、図3に示すように凹字状の断面形状を有し
ており、凹部にマスクMが載置される。該凹部に載置さ
れるマスクMは、X方向の位置決めを行うX調整機構9
aおよびY方向の位置決めを行う一対のY調整機構9b
によって所定位置に固定される。具体的には、各調整機
構9a、9bはL字状のマスク支持部材(図中、塗りつ
ぶし)を備えており、それぞれのマスク支持部材がX、
またはY方向に駆動することにより、マスクMの位置決
めが行われる。なお、位置決めの際に、一対のY調整機
構9bの駆動量をそれぞれ異ならせれば、マスクMをX
−Y平面内において回転させることもできる。マスクホ
ルダ部9は、Z軸ベース9cによって露光台2に取り付
けられているため、走査時(露光動作時)は、露光台2
とともにX方向に相対移動する。また、マスクホルダ部
9は、昇降機構9dによってZ方向に昇降自在な状態に
ある。
【0020】前工程において、感光材を表面に塗布され
た基板Sは、図示しない搬送路を介して露光装置100
に搬送されて、露光台2に載置、固定される。その際、
前述のX、Y調整機構9a、9bにより、マスクMの基
板Sに対する相対的な位置決めが行われる。このときマ
スクホルダ部9は、基板Sの移動の妨げにならぬような
高さまで、昇降機構9dによってZ方向の逆方向(つま
り光源部1方向)に上昇している。そして基板Sが、位
置決めされて露光台2に固定されると、マスクホルダ部
9は、マスクMと基板Sの間隔が、10μm〜20μm程度
になるまで昇降機構9dによってZ方向(つまり露光台
2方向)に下降する。
【0021】以下、本発明の特徴の一つである光源部1
の構成について詳説する。図4は、光源部1の概略を示
す図である。光源部1は、複数の発光素子12が離散的
に2次元配列された複数の光源ユニット(P1〜Pn、
W1〜Wn)を備える。本発明では、光源ユニットは、
各発光素子12からの光を平行光束として照射する平行
光ユニットP1〜Pnと、各発光素子12からの光を発
散光束として照射する発散光ユニットW1〜Wnとを総
括した名称である。図4に示すように、平行光ユニット
P1〜Pnと発散光ユニットW1〜Wnとは、光源部1内
において、X方向に交互に並べて設けられている。
【0022】まず、平行光ユニットP1〜Pnについて
図5を参照しつつ説明する。図5は、平行光ユニットP
1をY−Z面で切った断面図である。各平行光ユニット
はどれも同一の構成であるため、ここでは平行光ユニッ
トP1の構成についてのみ説明する。図5に示すよう
に、平行光ユニットP1は、プリント基板11に取り付
けられた複数の発光素子12と、レンズパネル13と、
開口パネル14とを有する。プリント基板11、レンズ
パネル13、開口パネル14は、光源ユニットの側面部
を形成する支持板15に取り付けられている。発光素子
12は、基板Sに塗布される感光材にとって最も感度の
高い紫外域の光を発光する紫外LEDを使用している。
【0023】図6は、平行光ユニットP1内にある紫外
LED12の配列を示した図である。ここで、露光装置
100は、露光期間中、回路パターンを正確に基板に焼
き付けるために、基板Sの被露光面全域をくまなく均一
な積算露光量で露光する必要がある。そこで、光源ユニ
ット内の紫外LED12は、X方向に注目すると、X−
Y面内でX方向に対して所定角度傾いた第三の方向に延
びる線分上に沿って複数個配置される。ここで、第三の
方向に延びる線分上に沿って配置された紫外LED12
は、隣接する他の紫外LED12とのY方向におけるず
れ量が互いに等しい。また、紫外LED12は、Y方向
に注目すると、Y方向に平行な線分上に等間隔で複数個
配置されている。つまり、紫外LED12は、Y方向と
第三の方向とによって規定される面(略平行四辺形状)
に二次元配列されている。
【0024】さらに、紫外LED12の配置ずれによっ
て露光されない領域が発生するのを回避するために、光
源部1は、第三の方向に配置された各紫外LED12か
ら発光された光によって被露光面上で形成されるスポッ
トのX方向の軌跡が、Y方向において互いに接してある
いは一部重複して描かれるように配置構成される。この
ように配置構成することにより、光源部1をX方向に走
査すれば、基板Sの被露光面全域をくまなく均一な積算
露光量で露光することができる。
【0025】図5に示すように、レンズパネル13は、
一枚のガラス製またはプラスティック製の平面板であ
り、所定位置に複数の凸レンズ13aを備えている。レ
ンズパネル13上において各凸レンズ13aは、レンズ
パネル13を支持板15に取り付けることにより、各紫
外LED12の基板11における配置位置に対応した位
置に設けられている。つまり、凸レンズ13aは、レン
ズパネル13において、図6に示すような配列と略同一
の配列状態にある。
【0026】平行光ユニットP1内において、レンズパ
ネル13は、紫外LED12と凸レンズ13aとの距離
が、該凸レンズ13aの焦点距離に略等しくなる位置に
取り付けられる。このように取り付けることにより、各
凸レンズ13aは、コリメータレンズとしての機能を有
することになる。すなわち紫外LED12から照射され
た光束は、平行光束となって凸レンズ13aから射出さ
れる。平行光束は、ポジ感光剤が塗布された基板Sを露
光するのに適している。
【0027】また、開口パネル14には、複数の開口1
4aが形成されている。各開口14aも、各凸レンズ1
3a同様、開口パネル14を支持板15に取り付ける
と、基板11における紫外LED12の配置位置(図6
参照)に対応するように開口パネル14の所定位置に形
成されている。開口パネル14に入射する光束が平行光
束である場合、開口14aがどの位置にあっても、該開
口通過後、被露光面に入射する光束の照射領域は略同一
である。そのため、平行光ユニットP1内において開口
パネル14は、レンズパネル12のZ方向における取り
付け位置とは無関係に予め定められた所定位置に取り付
けられる。
【0028】各開口14aは、各凸レンズ13aを透過
した光束の断面形状を該開口の形状に対応した所定形状
に成形する。各開口14aによって光束を成形すること
により、各光束の被露光面における照射領域が調整され
る。具体的には、各開口14aは、特定の光束の光強度
が弱い照射領域(光束の外延部近傍によって照射された
領域)が隣接する他の光束の照射領域で補完されて、被
露光面上ではどの場所でも均一な光量の光が入射するよ
うな所定形状に光束を成形している。所定形状として
は、例えば円形状、四角形状、六角形状、台形状などが
ある。
【0029】以上が平行光ユニットP1〜Pnの説明で
ある。上記のように構成される平行光ユニットP1〜P
nは、紫外LED12から発光された光を、凸レンズ1
3aによって平行光束とし、開口14aによって光束断
面を所定形状に成形して、露光台2へ向かって照射す
る。
【0030】次に発散光ユニットW1〜Wnについて説
明する。図7は、発散光ユニットW1をY−Z面で切っ
た断面図である。各発散光ユニットはどれも同一の構成
であるため、ここでは発散光ユニットW1の構成につい
てのみ説明する。また、発散光ユニットW1〜Wnは、
紫外LED12の配列やユニットを構成する部材が、上
述した平行光ユニットP1〜Pnと同一であるため、図
中の同一部材に同一符号を付してここでの説明は省略す
る。
【0031】発散光ユニットW1では、レンズパネル1
3は、紫外LED12と凸レンズ13aとの距離が、該
凸レンズ13aの焦点距離ではない所定の位置に取り付
けられる。図7(A)は、紫外LED12と凸レンズ1
3aとの距離が、該凸レンズ13aの焦点距離よりも短
く設定された発散光ユニットW1を表す。このようにレ
ンズパネル13を支持板15に取り付けることにより、
各紫外LED12からの光は、凸レンズ13から発散光
束となって射出される。発散光束は、液状ネガ感光剤が
塗布された基板Sを露光する場合に適している。
【0032】凸レンズ13aを透過した発散光束は、次
に開口パネル14に形成された開口14aを通過して所
定形状に成形される。発散光ユニットW1では、開口パ
ネル14を凸レンズ13aからどのくらい離して支持板
15に取り付けるかによって、被露光面に入射する各光
束の照射領域が変化することになる。具体的には、開口
パネル14(開口14a)をレンズパネル13(凸レン
ズ13a)近傍に配設すれば、特定の光束の照射領域は
広くなり、開口パネル14(開口14a)をレンズパネ
ル13(凸レンズ13a)から遠い位置に配設すれば、
特定の光束の照射領域は狭くなる。図7(A)では、開
口パネル14をレンズパネル13近傍に取り付けること
により、特定の光束の被露光面における照射領域をより
広くしている。
【0033】図7(B)は、紫外LED12と凸レンズ
13aとの距離が、該凸レンズ13aの焦点距離よりも
長く設定された発散光ユニットW1を表す。図7(B)
に示すようにレンズパネル13を取り付けることによっ
ても発散光束を生成することが可能である。このように
して発散光束を生成する場合、光強度の強い光束の中心
部近傍のみを抽出して被露光面に入射させることができ
る。ただし光束は、レンズパネル13を透過した後、露
光台2に入射するまでに一回収束するため、図7(A)
の構成に比べると、露光台2上における照射領域は狭く
なる。なお、図7(B)に示す構成の場合、開口パネル
14は紫外LED12から照射された光の収束位置より
も露光台2よりに配設する。
【0034】 以上が発散光ユニットW1〜Wnの説明
である。発散光ユニットW1〜Wnは、紫外LED12
から発光された光を凸レンズ13aによって発散光束と
し、開口14aによって光束断面を所定の形状に成形し
て、露光台2へ向かって照射する。なお、発散光ユニッ
トW1〜Wnについては、図7(A)と図7(B)との
二例を挙げて説明したが、より均一な積算露光量で露光
を行うためには、どの発散光ユニットも共通の構成であ
ったほうが良い。つまり、一つの光源部1の中には、図
7(A)の構成の発散光ユニットと、図7(B)に示す
構成の発散光ユニットとが混在しないほうがよい。
【0035】図8は、光源部1の制御系を示すブロック
図である。光源部1の制御系は、制御部10と、露光に
関するさまざまな設定を行うための露光情報入力部16
とを備えている。制御部10は発光ユニット選択部17
と、点灯制御部18P1〜18Wnを有する。各点灯制
御部18P1〜18Wnは、光源部1に設けられている
各光源ユニットP1〜Pn、W1〜Wnに接続されてお
り、一つの点灯制御部につき一つの光源ユニットの点
灯、消灯を制御している(例えば、点灯制御部18P1
なら平行光ユニットP1)。
【0036】制御部10の発光ユニット選択部17は、
露光情報入力部16に入力された、基板に塗布された感
光剤に関するデータ(以下、感光剤データという)に基
づいて、露光時に使用する光束(平行光束または発散光
束)を選択する。そして、発光ユニット選択部17は、
選択した光束を照射する光源ユニット後段の点灯制御部
18P1〜18Wnに発光指示信号を送信する。各点灯
制御部18P1〜18 Wnのうち、発光ユニット選択部
17から発光指示信号を受信したものは、対応する光源
ユニットを点灯制御する。例えば、感光剤データがポジ
感光剤であるならば発光ユニット選択部17は、平行光
束を選択して、該平行光束を照射する平行光ユニットP
1〜Pnを点灯制御する点灯制御部18P1、18P2
・・・18Pnに対して発光指示信号を送信する。これ
により、露光時、光源部1からは平行光束のみが照射さ
れることになる。
【0037】露光時は、まず、所定の感光材が塗布され
た基板Sが前工程(感光剤塗布工程)から露光装置10
0に搬送される。搬送された基板Sは、マスクMとの相
対的位置決めが行われつつ露光台2上に載置、固定され
る。そして、光源部を発光させた状態で光源部1と露光
台2(つまり基板SとマスクM)とを相対的にX方向へ
移動させる。よって、基板Sは、光源部1から照射され
る、基板Sに塗布された感光剤に対応した状態の光束に
よって、被露光面全域を隙間なくかつ均一な積算露光量
で露光される。
【0038】以上が本発明の実施形態である。本発明は
これらの実施形態に限定されるものではなく趣旨を逸脱
しない範囲で様々な変形が可能である。
【0039】上記実施形態では、便宜上、回路パターン
露光工程に使用される場合を想定して露光装置100を
説明したが、本発明の露光装置100は、他の感光剤を
塗布した基板Sを露光する工程にも適用することができ
る。例えば、基板表面を保護するためのソルダレジスト
が塗布された基板Sを露光する工程に対しても使用する
ことができる。ソルダレジスト露光工程に使用する場
合、光に対するソルダレジストの感度が低いために、平
行光よりも光強度の強い発散光束を照射する設定にする
ことが望ましい。または、一般的にソルダレジスト露光
工程時のマスクパターンが回路パターンよりも簡素な内
容であることから、制御部10は、感光剤データがソル
ダレジストである場合にはすべての光源ユニットP1〜
Pn、W1〜Wnを発光させて、露光台2における積算
露光量を増加させることも可能である。
【0040】上記実施形態の光源部1は、複数の平行光
ユニットP1〜Pnと複数の発散光ユニットW1〜Wn
とが互いに交互に配列していると説明したが、本発明の
光源部1の構成はこれに限定されるものではない。例え
ば、同種の光源ユニットはひとまとめに配設して、光源
部1内を平行光ユニットのみが配列するブロックと発散
光ユニットのみが配列するブロックとに分けてもよい。
この場合、上述した点灯制御部18P1〜18Wnを光
源ユニットごとに設ける必要はなく、平行光ユニットP
1〜Pnのみが配列されているブロック全体を制御する
点灯制御部と、発散光ユニットW1〜Wnのみが配列さ
れているブロック全体を制御する点灯制御部との二つあ
れば足りるため、制御部1の構成を簡素化させることが
できる。また、本発明を実施するために、光源部1は、
少なくとも一つの平行光ユニットと一つの発散光ユニッ
トがあれば足りる。
【0041】上記実施形態では、発散光ユニットW1〜
Wnに関して図7(A)、(B)を参照しつつ二種類の
構成を説明したが、これ以外の構成によって発散光ユニ
ットを形成してもよい。例えば、凸レンズ13aの代わ
りに凹レンズを設けたレンズパネル13を使用すれば、
より広い照射領域の発散光束を照射可能な発散光ユニッ
トを構成することができる。
【0042】さらに、光束断面を所定の形状に成形しな
くても、被露光面上におけるどの場所においても積算露
光量が略均一な状態で露光されるのであれば、光源ユニ
ットP1〜Pn、W1〜Wnは、光束成形手段としての
開口パネル14を設けない簡素な構成にすることもでき
る。特に、上記の凹レンズを設けたレンズパネル13を
使用する発散光ユニットの場合、その利点である広い照
射領域を確保するために開口パネル14は設けないほう
が好ましい。
【0043】なお、上記実施形態では、露光情報入力部
16に入力する感光剤データは、ユーザが手入力で入力
しても良い。また、露光装置100と前工程(感光剤塗
布工程)の装置とが接続されており、該前工程の装置か
ら自動的に入力される構成であっても良い。さらに、露
光情報入力部16に入力されるデータは、感光剤データ
である必要はなく、所望の光束そのものを直接入力する
構成であっても良い。
【0044】上記実施形態では、感光剤の感度が最も高
い紫外光を発光する紫外LED12を光源として使用し
ているが、半導体素子のように高速のオンオフ制御が可
能なランプ素子やプラズマ(放電による発光)等を発光
素子として使用することも可能である。
【0045】なお、上記実施形態では、便宜上、基板S
の片面のみを露光する露光装置を想定して説明したが、
本発明は両面露光装置にも適用することができる。ま
た、本発明は上記実施形態のようなプロキシミティー法
以外の手法、例えば密着法などで露光を行う装置にも適
用することができる。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光装置
は、平行光束と発散光束との少なくともいずれか一方を
選択して照射させることができる構成にすることによ
り、回路パターン露光工程のみならずソルダレジスト露
光工程にも対応して使用できる。特に回路パターン露光
工程においては、基板に塗布される感光剤の種類に対応
した光を照射することができる。このように、どの露光
工程、およびどの感光剤を塗布した基板に対しても共通
して使用可能な露光装置であるため、単一の製造ライン
で非常に効率よく製造することができる。
【0047】さらに、従来の回路パターン露光工程で
は、ポジ感光剤用に平行光照射型の露光装置と液状ネガ
感光剤用に発散光照射型の露光装置との二種類の装置が
必要であったが、本発明によれば一台の露光装置で対応
できることにより、基板作製工場の省スペース化を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の露光装置の概略構成図であ
る。
【図2】本発明の実施形態の露光装置の露光台近傍を示
す上面図である。
【図3】本発明の実施形態の露光装置の露光台近傍を示
す側面図である。
【図4】実施形態の露光装置の光源部の概略構成図であ
る。
【図5】平行光ユニットをY−Z面で切った断面図であ
る。
【図6】実施形態の発光素子の配列を表す図である。
【図7】発散光ユニットをY−Z面で切った断面図であ
る。
【図8】実施形態の光源部に関する制御系を示すブロッ
ク図である。
【符号の説明】
1 光源部 2 露光台 10 制御部 12 紫外LED 13 レンズパネル 13a 凸レンズ 14 開口パネル 14a 開口 17 発光ユニット選択部 18P1〜18Wn 点灯制御部 100 露光装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年7月5日(2002.7.5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】上記実施形態の光源部1は、複数の平行光
ユニットP1〜Pnと複数の発散光ユニットW1〜Wn
とが互いに交互に配列していると説明したが、本発明の
光源部1の構成はこれに限定されるものではない。例え
ば、同種の光源ユニットはひとまとめに配設して、光源
部1内を平行光ユニットのみが配列するブロックと発散
光ユニットのみが配列するブロックごとに分けてもよ
い。この場合、上述した点灯制御部18P1〜18Wn
を光源ユニットごとに設ける必要はなく、平行光ユニッ
トP1〜Pnのみが配列されているブロック全体を制御
する点灯制御部と、発散光ユニットW1〜Wnのみが配
列されているブロック全体を制御する点灯制御部との二
つあれば足りるため、制御部10の構成を簡素化させる
ことができる。また、本発明を実施するために、光源部
1は、少なくとも1つの平行光ユニットと一つの発散光
ユニットがあれば足りる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図7
【補正方法】変更
【補正内容】
【図7】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石橋 臣友 東京都板橋区前野町2丁目36番9号 旭光 学工業株式会社内 Fターム(参考) 2H097 AA04 AB09 BA01 BA10 BB10 CA03 CA12 EA01 GA45 LA09

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクに描かれた所定のパターンを露光
    台に載置された基板に露光する露光装置であって、 前記露光台と第一の方向に相対的に移動することによ
    り、前記露光台全域に渡って均一な積算露光量で露光で
    きるように離散的に二次元配列された複数の発光素子を
    有する光源ユニットを複数有する発光手段と、 露光期間中に、前記発光手段と、前記露光台とを前記第
    一の方向に沿って相対的に移動させる走査手段と、 前記発光手段の発光制御を行う制御手段と、を備え、 前記光源ユニットは、前記発光素子からの光を平行光束
    として照射する第一ユニットと、前記発光素子からの光
    を発散光束として照射する第二ユニットと、に分類さ
    れ、 前記制御手段は、所定の情報に対応して、少なくとも第
    一ユニットと第二ユニットとのいずれか一方を選択して
    発光させることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の露光装置において、 前記第一ユニットは、前記複数の発光素子の配列に対応
    して配設された複数の凸レンズを有する一枚の平面板を
    有し、 前記平面板は、前記発光素子から前記凸レンズまでの距
    離が、前記凸レンズの焦点距離に略等しくなる位置に配
    設されることを特徴とする露光装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の露光装
    置において、 前記第二ユニットは、前記複数の発光素子の配列に対応
    して配設された複数の凸レンズを有する一枚の平面板を
    有し、 前記平面板は、前記発光素子から前記凸レンズまでの距
    離が、前記凸レンズの焦点距離と一致しない任意の位置
    に配設されることを特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】 請求項1または請求項2に記載の露光装
    置において、 前記第二ユニットは、前記複数の発光素子の配列に対応
    して配設された複数の凹レンズを有する一枚の平面板を
    有することを特徴とする露光装置。
  5. 【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
    の露光装置において、 前記発光手段は、少なくとも1以上の前記第一ユニット
    と少なくとも1以上の前記第二ユニットとが、前記第一
    の方向に交互に並べて配設されていることを特徴とする
    露光装置。
  6. 【請求項6】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
    の露光装置において、 前記発光手段は、少なくとも2以上の前記第一ユニット
    と少なくとも2以上の前記第二ユニットとが、各々まと
    めて配設されていることを特徴とする露光装置。
  7. 【請求項7】 請求項1から請求項6に記載の露光装置
    において、 前記光源ユニットは、前記複数の発光素子から発光され
    た各光束の前記露光台と平行な面での断面形状を所定形
    状に成形する光束成形手段をさらに有することを特徴と
    する露光装置。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の露光装置において、 前記光束成形手段は、前記発光素子の配列に対応して配
    設され、前記所定形状と同一形状を有する複数の開口を
    有する一枚の平面板であることを特徴とする露光装置。
  9. 【請求項9】 請求項1から請求項8のいずれかに記載
    の露光装置において、 前記所定の情報とは、前記基板に塗布された感光剤の種
    類に関する情報であることを特徴とする露光装置。
  10. 【請求項10】 請求項1から請求項9のいずれかに記
    載の露光装置において、 前記発光素子は、紫外領域の光を発光する紫外LEDで
    あることを特徴とする露光装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006201476A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2006326970A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Cmet Inc 光学的立体造形装置
JP2008523451A (ja) * 2004-12-14 2008-07-03 ラドーフ ゲーエムベーハー フォトリソグラフィ転写用のコリメートされたuv光線を生成するプロセスおよび装置
KR101751382B1 (ko) 2016-12-07 2017-06-28 마이다스시스템주식회사 노광기용 uv led 유닛
CN113473746A (zh) * 2021-05-21 2021-10-01 广州美维电子有限公司 防止压延铜阻焊掉油方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008523451A (ja) * 2004-12-14 2008-07-03 ラドーフ ゲーエムベーハー フォトリソグラフィ転写用のコリメートされたuv光線を生成するプロセスおよび装置
JP2006201476A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Canon Inc 露光装置及びデバイスの製造方法
JP4587170B2 (ja) * 2005-01-20 2010-11-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2006326970A (ja) * 2005-05-25 2006-12-07 Cmet Inc 光学的立体造形装置
KR101751382B1 (ko) 2016-12-07 2017-06-28 마이다스시스템주식회사 노광기용 uv led 유닛
CN113473746A (zh) * 2021-05-21 2021-10-01 广州美维电子有限公司 防止压延铜阻焊掉油方法

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