JP2003094034A - 地盤中の全有機塩素化合物に対し、地盤中にラネイニッケル及び水素を注入し、接触還元(特願2001−269583)による脱塩素化を、従来の注入工法を利用して直接地盤内で行う方法。 - Google Patents

地盤中の全有機塩素化合物に対し、地盤中にラネイニッケル及び水素を注入し、接触還元(特願2001−269583)による脱塩素化を、従来の注入工法を利用して直接地盤内で行う方法。

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JP2003094034A
JP2003094034A JP2001333537A JP2001333537A JP2003094034A JP 2003094034 A JP2003094034 A JP 2003094034A JP 2001333537 A JP2001333537 A JP 2001333537A JP 2001333537 A JP2001333537 A JP 2001333537A JP 2003094034 A JP2003094034 A JP 2003094034A
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JP
Japan
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ground
injection
dechlorination
raney nickel
hydrogen
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JP2001333537A
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Kenichi Yoshida
憲一 吉田
Takushirou Yoshikawa
拓支良 吉川
Masayuki Hashimoto
正行 橋本
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YOSHIDA SHINNOSUKE
Original Assignee
YOSHIDA SHINNOSUKE
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】地盤中のトリ・テトラクロロエチレンに代表さ
れる有機塩素化合物の脱塩素化(無毒化)を直接地盤内
で確実に行うこと。 【解決手段】本発明は地盤中のトリ・テトラクロロエチ
レンに代表される有機塩素化合物に対し、地盤中にラネ
イニッケル及び水素を注入し、接触還元による脱塩素化
を従来の二重管ロッド法を利用して注入し、直接地盤内
で行う方法である。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する分野】本発明は、地盤中のトリ・テトラ
クロロエチレンに代表される全ての有毒有機塩素化合物
から塩素を離脱する方法に特願2001−269583
を用いるもので、従来型の二重管ロッドによる注入工法
にて接触還元を行う方法であり、環境汚染対策技術に属
する。 【0002】 【従来の技術】従来の有機塩素化合物の脱塩素による汚
染対策技術は、プラント処理では高温、高圧処理(特開
平5−192648、特表平9−501863、特開平
7−328596、特開平7−265461)が主流で
あり、現地処理では微生物分解処理(特表平9−508
854、特開平9−225450、特開平9−2254
51、特開平11−169839、特開平11−216
457)が主流となっている。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従来の高温・高圧処理
は排気ガスの冷却による2次化合物の特定が難しい。 【0004】化学処理は使用する化学物質が強酸性(P
H調整に塩酸{強酸性で管理が難しい}であったり、有
機物の化学反応の不確実性による2次化合物が特定でき
ない。 【0005】また従来の地下水を汚染しているトリ・テ
トラクロロエチレンなどの有機溶剤の現地処理では、減
圧や揚水して有機化合物を大気中に蒸発させる方法が多
く、大気中にそのまま有毒物質が放出し拡散され、大気
汚染を引き起こしている可能性がある。 【0006】さらに微生物による分解は、対象土壌中に
現存しない微生物を利用することから、自然環境の一義
的な生態系の保全を犯している可能性が非常に高く、処
理後の微生物の生体研究が成されていない。 【0007】本発明は、トリ・テトラクロロエチレンな
どに代表されるすべての有機塩素化合物の脱塩素化を生
体微量元素のニッケル触媒を用いるもので、反応は特願
2001−269583によるもので、不測の化合物の
生成や生態系の破壊、反応中の危険性を排除できるばか
りでなく、従来の注入工法を使用することにより注入に
関するノウハウが利用でき、まんべんなく地盤中で直接
接触還元反応を行うこと、及び地表には一切有毒物質を
ださないことを最大の目的としている。 【0008】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は地盤中のトリ・テトラクロロエチレンに代
表される有機塩素化合物の脱塩素化に特願2001−2
69583を用いて従来の注入工法により直接地盤内で
接触還元を行う方法である。反応は地盤中の有機塩素化
合物に対して、従来の注入工法を利用してラネイニッケ
ルと水素を汚染範囲に直接注入し接触還元させ、アルキ
ル基と塩化水素とに分解する。 【0009】 【化1】 (式中Rはアルカン、アルケン、アルキン、芳香族など
の炭化水素。Hは水素。Xはハロゲン。触媒はラネイニ
ッケル。)
【図面の簡単な説明】 【図1】還元剤活性プラント、還元剤注入状況、水素ガ
ス注入状況の全体図 【図2】注入及び脱塩素範囲の平面図 【記号の説明】 1.触媒タンク 2.触媒活性化タンク 3.水素ボンベ貯蔵庫 4.触媒注入ホース 5.水素注入ホース 6.従来型の注入マシン 7.注入2重管ロッド 8.汚染拡散範囲 9.地下水面 10.触媒注入範囲 11.難透水層上面 12.帯水層 13.隣地境界 14.水素注入個所
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 501186313 橋本 和美 埼玉県越谷市赤山町3丁目6番2 ライフ ピア越谷シンフォニア306 (72)発明者 吉田 憲一 埼玉県北本市本宿3丁目31番12 (72)発明者 吉川 拓支良 埼玉県所沢市北岩岡562−3 (72)発明者 橋本 正行 埼玉県越谷市赤山町3丁目6番2ライフピ ア越谷シンフォニア 306 Fターム(参考) 2E191 BA12 BB01 BC01 BD11 4D004 AA41 AB06 AC07 CA37 CC09

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】現場プラントにて水酸化ナトリウムの希薄
    溶液でラネイニッケルの活性化を行い、従来型の二重管
    ロッドによる注入工法で水酸化ナトリウム希薄溶液と活
    性化したラネイニッケルを二重管の一方の孔から汚染さ
    れた地盤中に注入し、同時に他方の孔から水素ガスを注
    入しラネイニッケルと接触還元(特願2001−269
    583)を直接地盤内で起こさせ、有機塩素化合物の脱
    塩素化を行い無害化する方法。
JP2001333537A 2001-09-25 2001-09-25 地盤中の全有機塩素化合物に対し、地盤中にラネイニッケル及び水素を注入し、接触還元(特願2001−269583)による脱塩素化を、従来の注入工法を利用して直接地盤内で行う方法。 Pending JP2003094034A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009545435A (ja) * 2006-08-03 2009-12-24 ロンゴーニ,ファビオ 六価クロムにより汚染された土壌の改善方法

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