JP2003086780A - Solid-state radiation detector - Google Patents

Solid-state radiation detector

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JP2003086780A
JP2003086780A JP2002121623A JP2002121623A JP2003086780A JP 2003086780 A JP2003086780 A JP 2003086780A JP 2002121623 A JP2002121623 A JP 2002121623A JP 2002121623 A JP2002121623 A JP 2002121623A JP 2003086780 A JP2003086780 A JP 2003086780A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently read accumulated electric charges in a solid-state radiation detector provided with a substripe electrode. SOLUTION: A 1st conductive layer 21, a photoconductive layer 22 for recording, a charge transfer layer 23, a photoconductive layer 24 for reading, a 2nd conductive layer 25 having a stripe electrode 26 composed of many linear elements 26a and a substripe electrode 27 composed of many linear elements 27a, an insulating layer 30, and a base 18, are arranged in this order. A shading film 31 is provided at parts matching the respective elements 27a on the base 18 and parts between the elements 26a and 27a to constitute a solid-state radiation detector 20a. In this case, one cycle is made 10 to 150 μm for circulating of a pair of elements 26a and 27a.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、照射された放射線
の線量或いは該放射線の励起により発せられる光の光量
に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄積する蓄電部を有
する放射線固体検出器に関するものである。 【0002】 【従来の技術】今日、医療診断等を目的とする放射線撮
影において、放射線を検出して得た電荷を潜像電荷とし
て蓄電部に一旦蓄積し、該蓄積した潜像電荷を放射線画
像情報を表す電気信号に変換して出力する放射線固体検
出器(以下単に検出器ともいう)を使用する放射線画像
情報記録読取装置が各種提案されている。この装置にお
いて使用される放射線固体検出器としては、種々のタイ
プのものが提案されているが、蓄積された電荷を外部に
読み出す電荷読出プロセスの面から、検出器に読取光
(読取用の電磁波)を照射して読み出す光読出方式のも
のがある。 【0003】本出願人は、読出しの高速応答性と効率的
な信号電荷の取り出しの両立を図ることができる光読出
方式の放射線固体検出器として、特開2000−105
297号、特開2000−284056号、特開200
0−284057号において、記録用の放射線或いは該
放射線の励起により発せられる光(以下記録光という)
に対して透過性を有する第1導電層、記録光を受けるこ
とにより導電性を呈する記録用光導電層、第1導電層に
帯電される電荷と同極性の電荷に対しては略絶縁体とし
て作用し、かつ、該同極性の電荷と逆極性の電荷に対し
ては略導電体として作用する電荷輸送層、読取光(読取
用の電磁波)の照射を受けることにより導電性を呈する
読取用光導電層、読取光に対して透過性を有する第2導
電層を、この順に積層して成り、記録用光導電層と電荷
輸送層との界面に形成される蓄電部に、画像情報を担持
する信号電荷(潜像電荷)を蓄積する検出器を提案して
いる。 【0004】そして、上記特開2000−284056
号および特開2000−284057号においては、特
に、読取光に対して透過性を有する第2導電層の電極を
多数の読取光に対して透過性を有する光電荷対発生線状
電極からなるストライプ電極とすると共に、蓄電部に蓄
積された潜像電荷の量に応じたレベルの電気信号を出力
させるための多数の光電荷対非発生線状電極を、前記光
電荷対発生線状電極と交互にかつ互いに平行となるよう
に、第2導電層内に設けた検出器を提案している。 【0005】このように、多数の光電荷対非発生線状電
極からなるサブストライプ電極を第2導電層内に設ける
ことにより、蓄電部とサブストライプ電極との間に新た
なコンデンサが形成され、記録光によって蓄電部に蓄積
された潜像電荷と逆極性の輸送電荷を、読取りの際の電
荷再配列によってこのサブストライプ電極にも帯電させ
ることが可能となる。これにより、読取用光導電層を介
してストライプ電極と蓄電部との間で形成されるコンデ
ンサに配分される前記輸送電荷の量を、このサブストラ
イプ電極を設けない場合よりも相対的に少なくすること
ができ、結果として検出器から外部に取り出し得る信号
電荷の量を多くして読取効率を向上させると共に、読出
しの高速応答性と効率的な信号電荷の取り出しの両立を
も図ることができるようになっている。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
なサブストライプ電極を備えた検出器においては、光電
荷対発生線状電極の幅、光電荷対非発生線状電極の幅お
よび各線状電極間の幅が、蓄積電荷の読取効率に大きく
影響する。 【0007】例えば、光電荷対発生線状電極の幅および
光電荷対非発生線状電極の幅を狭くした場合は、電気抵
抗が高くなるため読取信号の遅延が発生する虞や、ま
た、電極製造時においてエッチング不良等による断線が
発生する虞がある。 【0008】また、各線状電極間の幅を狭くした場合
は、各線状電極に対して高電圧を印加した際に放電が生
じ各線状電極間がショートする虞や、また、電極製造時
においてゴミ等の混入により各線状電極間がショートす
る虞がある。 【0009】また、光電荷対発生線状電極の幅、光電荷
対非発生線状電極の幅および各線状電極間の幅を広くし
た場合は、蓄電部に蓄積されている潜像電荷を光発生電
荷が消しにいく飛跳距離が長くなってしまうため、検出
器の読取効率が低下する。 【0010】以上のように、光電荷対発生線状電極の
幅、光電荷対非発生線状電極の幅および各線状電極間の
幅を最適化しないと種々の問題が発生する。 【0011】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、サブストライプ電極を設けた放射線固体検出器
において、効率よく蓄積電荷を読み出すことができる放
射線固体検出器を提供することを目的とするものであ
る。 【0012】 【課題を解決するための手段】本発明による放射線固体
検出器は、記録光に対して透過性を有する第1の導電層
と、記録光の照射を受けることにより光導電性を呈する
記録用光導電層と、記録光の光量に応じた量の電荷を潜
像電荷として蓄積する蓄電部と、読取光の照射を受ける
ことにより光導電性を呈する読取用光導電層と、読取光
に対して透過性を有する多数の光電荷対発生線状電極
と、多数の光電荷対非発生線状電極とを備え、光電荷対
発生線状電極と光電荷対非発生線状電極とが交互に配置
された第2の導電層とを、この順に積層してなる放射線
固体検出器において、光電荷対発生線状電極と光電荷対
非発生線状電極とのペアを1周期とするとき、該周期が
10μmから150μmの範囲であることを特徴とする
ものである。 【0013】ここで「光電荷対発生線状電極と光電荷対
非発生線状電極とのペアを1周期とする」とは、図2に
示すように、上記ペアAの光電荷対発生線状電極とペア
Aに隣接するペアBの光電荷対非発生線状電極との中間
から、ペアAの光電荷対非発生線状電極とペアAに隣接
するペアCの光電荷対発生線状電極との中間までを1周
期とすることを意味する。そのため、「周期」の幅は、
ペアAの光電荷対発生線状電極とペアAに隣接するペア
Bの光電荷対非発生線状電極との中間から、ペアAの光
電荷対非発生線状電極とペアAに隣接するペアCの光電
荷対発生線状電極との中間までの長さとなる。また、画
素ピッチは、上記周期と同一である必要は無く、例えば
4周期分の線状電極で1画素を構成するものとしてもよ
い。さらに、上記ペアは必ずしも連続的に配置する必要
は無く、例えば、図6に示すように、3ペア毎に1ペア
分の間隔を空けて配置する(間引く)等の態様とするこ
とも可能である。 【0014】また、「放射線固体検出器」は、第1の導
電層、記録用光導電層、読取用光導電層および第2の導
電層をこの順に有すると共に、記録用光導電層と読取用
光導電層との間に蓄電部が形成されて成るものであっ
て、さらに他の層や微小導電部材(マイクロプレート)
等を積層して成るものであってもかまわない。また、こ
の放射線固体検出器は、放射線画像情報を担持する光
(放射線もしくは放射線の励起により発生した光)を照
射することによって、画像情報を静電潜像として記録さ
せることができるものであればどのようなものでもよ
い。 【0015】なお、上記蓄電部を形成する方法として
は、電荷輸送層を設けてこの電荷輸送層と記録用光導電
層との界面に蓄電部を形成する方法(本出願人による特
開2000−105297号公報、特開2000−28
4056号公報参照)、トラップ層を設けこのトラップ
層内若しくはトラップ層と記録用光導電層との界面に蓄
電部を形成する方法(例えば、米国特許第453546
8号参照)、或いは潜像電荷を集中させて蓄電する微小
導電部材等を設ける方法(本出願人による特開2000
−284057号公報参照)等を用いるとよい。 【0016】また、「読取光に対して透過性を有する光
電荷対発生線状電極」とは、読取光を透過させ読取用光
導電層に電荷対を発生せしめる電極である。また、「光
電荷対非発生線状電極」とは、蓄電部に蓄積された潜像
電荷の量に応じたレベルの電気信号を出力させるための
電極であり、読取光に対して遮光性を有することが望ま
しいが、光電荷対非発生線状電極と読取光照射手段との
間に遮光性を有する遮光膜等を設ける場合は、光電荷対
非発生線状電極は必ずしも遮光性を有する必要はない。
ここで、「遮光性」とは、読取光を完全に遮断して全く
電荷対を発生させないものに限らず、その読取光に対す
る多少の透過性は有していてもそれにより発生する電荷
対が実質的に問題とならない程度のものも含むものとす
る。従って、読取用光導電層に発生する電荷対は全て光
電荷対発生線状電極を透過した読取光のみによるものと
は限らず、光電荷対非発生線状電極を僅かに透過した読
取光によっても読取用光導電層において電荷対が発生し
うるものとする。 【0017】さらに、「読取光」は、静電記録体におけ
る電荷の移動を可能として、電気的に静電潜像を読み取
ることを可能とするものであればよく、具体的には光や
放射線等である。 【0018】なお、本発明による検出器を使用して放射
線画像の記録や読取りを行うに際しては、例えば、特開
2000−284056号公報に記載されたような、本
発明を適用しない従来の検出器を用いた記録方法および
読取方法並びにその装置を変更することなく、そのまま
利用することができる。 【0019】 【発明の効果】本発明による放射線固体検出器によれ
ば、光電荷対発生線状電極と光電荷対非発生線状電極と
のペアを1周期とするとき、この周期を10μmから1
50μmと最適化したため、取り出し得る蓄積電荷量を
大きくすることができ、読取効率や画像のS/Nを向上
させることができる。 【0020】即ち、10μmより狭くした場合には、各
線状電極の電気抵抗が高くなるため読取信号の遅延が発
生する虞や、また、電極製造時においてエッチング不良
等による断線が発生する虞がある。また、線状電極間の
幅が狭くなるため、各線状電極に対して高電圧を印加し
た際に放電が生じ各線状電極間がショートする虞や、ま
た、電極製造時においてゴミ等の混入により各線状電極
間がショートする虞がある。 【0021】また、150μmより広くした場合には、
光電荷対発生線状電極の中心から、その光電荷対発生線
状電極と隣接する光電荷対非発生線状電極の中心までの
距離が長くなるため、蓄電部に蓄積されている潜像電荷
を光発生電荷が消しにいく飛跳距離が長くなってしまう
ため、検出器の読取効率が低下する。 【0022】そのため、上記の周期を10μmから15
0μmの範囲とすることによってこれらの問題を回避す
ることができ、信頼性の高い放射線固体検出器を提供す
ることが可能となる。 【0023】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明の放射線固体
検出器の第1の実施の形態の概略構成を示す図であり、
図1(A)は放射線固体検出器20aの斜視図、図1
(B)は放射線固体検出器20aのQ矢指部のXZ断面
図、図1(C)は放射線固体検出器20aのP矢指部の
XY断面図である。また、図2は、電荷対発生線状電極
と電荷対非発生線状電極のペアを1周期とするときの周
期を説明するための図1(B)と同様の断面図である。
なお、図2中においては、支持体18、絶縁層30およ
び遮光膜31は省略している。 【0024】この放射線固体検出器20aは、被写体を
透過したX線等の放射線の画像情報を担持する記録光
(放射線もしくは放射線の励起により発生した光)に対
して透過性を有する第1導電層21、この第1導電層2
1を透過した記録光の照射を受けることにより電荷対を
発生し導電性を呈する記録用光導電層22、前記電荷対
の内の潜像極性電荷(例えば負電荷)に対しては略絶縁
体として作用し、かつ該潜像極性電荷と逆極性の輸送極
性電荷(上述の例においては正電荷)に対しては略導電
体として作用する電荷輸送層23、読取光の照射を受け
ることにより電荷対を発生して導電性を呈する読取用光
導電層24、ストライプ電極26およびサブストライプ
電極27を備えた第2導電層25、読取光に対して透過
性を有する絶縁層30、読取光に対して透過性を有する
支持体18をこの順に配してなるものである。記録用光
導電層22と電荷輸送層23との界面に、記録用光導電
層22内で発生した画像情報を担持する潜像極性電荷を
蓄積する2次元状に分布した蓄電部29が形成される。 【0025】支持体18としては、読取光に対して透明
なガラス基板等を用いることができる。また、読取光に
対して透明であることに加えて、その熱膨張率が読取用
光導電層24の物質の熱膨張率と比較的近い物質を使用
するとより望ましい。例えば、読取用光導電層24とし
てa−Se(アモルファスセレン)を使用する場合であ
れば、Seの熱膨張率が3.68×10−5/K@40
℃ であることを考慮して、熱膨張率が1.0〜10.
0×10−5/K@40℃、より好ましくは、4.0〜
8.0×10−5/K@40℃である物質を使用する。
熱膨張率がこの範囲の物質としては、ポリカーボネート
やポリメチルメタクリレート(PMMA)等の有機ポリ
マー材料を使用することができる。これによって、基板
としての支持体18と読取用光導電層24(Se膜)と
の熱膨張のマッチングがとれ、特別な環境下、例えば寒
冷気候条件下での船舶輸送中等において、大きな温度サ
イクルを受けても、支持体18と読取用光導電層24と
の界面で熱ストレスが生じ、両者が物理的に剥離する、
読取用光導電層24が破れる、あるいは支持体18が割
れる等、熱膨張差による破壊の問題が生じることがな
い。さらに、ガラス基板に比べて有機ポリマー材料は衝
撃に強いというメリットがある。 【0026】記録用光導電層22の物質としては、a−
Se(アモルファスセレン)、PbO、PbI 等の
酸化鉛(II)やヨウ化鉛(II)、Bi12(Ge,S
i)O 20、Bi/有機ポリマーナノコンポジッ
ト等のうち少なくとも1つを主成分とする光導電性物質
が適当である。 【0027】電荷輸送層23の物質としては、例えば第
1導電層21に帯電される負電荷の移動度と、その逆極
性となる正電荷の移動度の差が大きい程良く(例えば1
以上、望ましくは10以上)ポリN−ビニルカル
バゾール(PVK)、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス
(3−メチルフェニル)−〔1,1'−ビフェニル〕−4,4'
−ジアミン(TPD)やディスコティック液晶等の有機
系化合物、或いはTPDのポリマー(ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、PUK)分散物、Clを10〜20
0ppmドープしたa−Se等の半導体物質が適当であ
る。特に、有機系化合物(PVK,TPD、ディスコテ
ィック液晶等)は光不感性を有するため好ましく、ま
た、誘電率が一般に小さいため電荷輸送層23と読取用
光導電層24の容量が小さくなり読取時の信号取り出し
効率を大きくすることができる。なお、「光不感性を有
する」とは、記録光や読取光の照射を受けても殆ど導電
性を呈するものでないことを意味する。 【0028】読取用光導電層24の物質としては、a−
Se,Se−Te,Se−As−Te,無金属フタロシ
アニン,金属フタロシアニン,MgPc(Magnesium ph
talocyanine),VoPc(phaseII of Vanadyl phthal
ocyanine),CuPc(Cupper phtalocyanine)等のう
ち少なくとも1つを主成分とする光導電性物質が好適で
ある。 【0029】記録用光導電層22の厚さは、記録光を十
分に吸収できるようにするには、50μm以上1000
μm以下であるのが好ましい。 【0030】また電荷輸送層23と読取用光導電層24
との厚さの合計は記録用光導電層22の厚さの1/2以
下であることが望ましく、また薄ければ薄いほど読取時
の応答性が向上するので、例えば1/10以下、さらに
は1/100以下等にするのが好ましい。 【0031】なお、上記各層の材料は、第1導電層21
に負電荷を、第2導電層25に正電荷を帯電させて、記
録用光導電層22と電荷輸送層23との界面に形成され
る蓄電部29に潜像極性電荷としての負電荷を蓄積せし
めるとともに、電荷輸送層23を、潜像極性電荷として
の負電荷の移動度よりも、その逆極性となる輸送極性電
荷としての正電荷の移動度の方が大きい、いわゆる正孔
輸送層として機能させるものとして好適なものの一例で
あるが、これらは、それぞれが逆極性の電荷であっても
良く、このように極性を逆転させる際には、正孔輸送層
として機能する電荷輸送層を電子輸送層として機能する
電荷輸送層に変更する等の若干の変更を行なうだけでよ
い。 【0032】例えば、記録用光導電層22として上述の
アモルファスセレンa−Se、酸化鉛(II)、ヨウ化鉛
(II)等の光導電性物質が同様に使用でき、電荷輸送層
23としてN−トリニトロフルオレニリデン・アニリン
(TNFA)誘電体、トリニトロフルオレノン( TNF)/ポ
リエステル分散系、非対称ジフェノキノン誘導体が適当
であり、読取用光導電層24として上述の無金属フタロ
シアニン、金属フタロシアニンが同様に使用できる。 【0033】また、上記検出器20aでは、蓄電部29
を記録用光導電層22と電荷輸送層23との界面に形成
していたが、これに限らず、例えば米国特許第 4535468
号に記載のように、潜像極性電荷をトラップとして蓄積
するトラップ層により蓄電部を形成してもよい。 【0034】第1導電層21としては、記録光に対して
透過性を有するものであればよく、例えば可視光に対し
て透過性を持たせる場合には、光透過性金属薄膜として
周知のネサ皮膜(SnO )、ITO(Indium Tin O
xide)、あるいはエッチングのし易いアモルファス状光
透過性酸化金属であるIDIXO(Idemitsu IndiumX-m
etal Oxide ;出光興産(株))等の酸化金属を50〜
200nm厚程度、好ましくは100nm以上にして用
いることができる。また、アルミニウムAl、金Au、
モリブデンMo、クロムCr等の純金属を、例えば20
nm以下(好ましくは10nm程度)の厚さにすること
によって可視光に対して透過性を持たせることもでき
る。なお、記録光としてX線を使用し、第1導電層21
側から該X線を照射して画像を記録する場合には、第1
導電層21としては可視光に対する透過性が不要である
から、該第1導電層21は、例えば100nm厚のAl
やAu等の純金属を用いることもできる。 【0035】第2導電層25は、多数の読取光透過性の
エレメント(光電荷対発生線状電極)26aをストライ
プ状に配列して成るストライプ電極26と多数の読取光
遮光性のエレメント(光電荷対非発生線状電極)27a
をストライプ状に配列してなるサブストライプ電極27
とを備えている。各エレメント26a,27aは、エレ
メント26aとエレメント27aとが交互にかつ互いに
平行に配置されるように配列されている。両エレメント
の間は読取用光導電層24の一部が介在しており、スト
ライプ電極26とサブストライプ電極27とは電気的に
絶縁されている。サブストライプ電極27は、記録用光
導電層22と電荷輸送層23との略界面に形成される蓄
電部29に蓄積された潜像電荷の量に応じたレベルの電
気信号を出力させるための導電部材である。 【0036】ここで、ストライプ電極26の各エレメン
ト26aを形成する電極材の材質としては、ITO(In
dium Tin Oxide)、IDIXO(Idemitsu Indium X-me
talOxide ;出光興産(株))、アルミニウムまたはモ
リブデン等を用いることができる。また、サブストライ
プ電極27の各エレメント27aを形成する電極材の材
質としては、アルミニウム、モリブデンまたはクロム等
を用いることができる。 【0037】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを10μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を15μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を10μm、すなわち周期を50μmとして
いる。また画素ピッチは50μmとし、1画素分の電極
を1ペアのエレメントにより構成している。 【0038】さらに支持体18上の各エレメント27a
およびエレメント26aとエレメント27aとの間に対
応する部分に、読取光のエレメント27aへの照射強度
が読取光のエレメント26aへの照射強度よりも小さく
なるように光透過性の劣る部材からなる遮光膜31が設
けられている。 【0039】この遮光膜31の部材としては、必ずしも
絶縁性を有しているものでなくてもよく、遮光膜31の
比抵抗が2×10−6以上(さらに好ましくは1×10
15Ω・cm以下)のものを使用することができる。例
えば金属材料であればAl、Mo、Cr等を用いること
ができ、有機材料であればMOS、WSi、TiN
等を用いることができる。なお、遮光膜31の比抵抗が
1Ω・cm以上のものを使用するとより好ましい。 【0040】また、少なくとも遮光膜31の部材として
金属材料等導電性の部材を使用したときには、遮光膜3
1とエレメント27aとの直接接触を避けるため両者の
間に絶縁物を配する。本実施形態の検出器20aは、こ
の絶縁物として、第2導電層25と支持体18との間に
SiO等からなる絶縁層30を設けている。この絶縁
層30の厚さは、0.01〜10μm程度、より好まし
くは0.1μ〜1μm程度、最も好ましくは0.5μm
程度がよい。 【0041】この検出器20aにおいては、記録用光導
電層22を挟んで第1導電層21と蓄電部29との間に
コンデンサC*aが形成され、電荷輸送層23および読
取用光導電層24を挟んで蓄電部29とストライプ電極
26(エレメント26a)との間にコンデンサC*bが
形成され、読取用光導電層24および電荷輸送層23を
介して蓄電部29とサブストライプ電極27(エレメン
ト27a)との間にコンデンサC*cが形成される。読
取時における電荷再配列の際に、各コンデンサC*a、
C*b、C*cに配分される正電荷の量Q+a、Q+
b、Q+cは、総計Q+が潜像極性電荷の量Q−と同じ
で、各コンデンサの容量Ca、Cb、Ccに比例した量
となる。これを式で示すと下記のように表すことができ
る。 【0042】 Q− =Q+ =Q+a+Q+b+Q+c Q+a=Q+ ×Ca /(Ca +Cb +Cc ) Q+b=Q+ ×Cb /(Ca +Cb +Cc ) Q+c=Q+ ×Cc /(Ca +Cb +Cc ) そして、検出器20aから取り出し得る信号電荷量はコ
ンデンサC*a、C*cに配分された正電荷の量Q+
a、Q+cの合計(Q+a+Q+c)と同じくなり、コ
ンデンサC*bに配分された正電荷は信号電荷として取
り出せない(詳細は特開2000−284056号公報
参照)。 【0043】ここで、ストライプ電極26およびサブス
トライプ電極27によるコンデンサC*b、C*cの容
量について考えてみると、容量比Cb:Ccは、各エレ
メント26a、27aの幅の比Wb:Wcとなる。一
方、コンデンサC*aの容量CaとコンデンサC*bの
容量Cbは、サブストライプ電極27を設けても実質的
に大きな影響は現れない。 【0044】この結果、読取時における電荷再配列の際
に、コンデンサC*bに配分される正電荷の量Q+bを
サブストライプ電極27を設けない場合よりも相対的に
少なくすることができ、その分だけ、サブストライプ電
極27を介して検出器20aから取り出し得る信号電荷
量をサブストライプ電極27を設けない場合よりも相対
的に大きくすることができる。 【0045】本実施の形態による放射線固体検出器にお
いては、エレメント26aとエレメント27aとのペア
を1周期とするとき、この周期を50μmとし、好まし
い範囲である10μmから150μmの範囲内に設定し
たため、取り出し得る蓄積電荷量を大きくすることがで
き、読取効率や画像のS/Nを向上させることができ
る。 【0046】次に、本発明による放射線固体検出器の第
2の実施の形態について図3を参照して説明する。図3
は本実施の形態による放射線固体検出器20bの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図3にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0047】この放射線固体検出器20bは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0048】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを30μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を30μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を20μm、すなわち周期を100μmとし
ている。また画素ピッチは100μmとし、1画素分の
電極を1ペアのエレメントにより構成している。 【0049】本実施の形態においても、周期を100μ
mとし、好ましい範囲である10μmから150μmの
範囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることが可能である。 【0050】次に、本発明による放射線固体検出器の第
3の実施の形態について図4を参照して説明する。図4
は本実施の形態による放射線固体検出器20cの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図4にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0051】この放射線固体検出器20cは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0052】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを10μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を15μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を10μm、すなわち周期を50μmとして
いる。また画素ピッチは100μmとし、1画素分の電
極を2ペアのエレメントにより構成している。 【0053】本実施の形態においても、周期を50μm
とし、好ましい範囲である10μmから150μmの範
囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果を
得ることが可能である。 【0054】次に、本発明による放射線固体検出器の第
4の実施の形態について図5を参照して説明する。図5
は本実施の形態による放射線固体検出器20dの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図5にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0055】この放射線固体検出器20dは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0056】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを5μmとし、エレメント26aおよ
びエレメント27aの幅を7.5μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を5μm、すなわち周期を25μmとしてい
る。また画素ピッチは100μmとし、1画素分の電極
を4ペアのエレメントにより構成している。 【0057】本実施の形態においても、周期を25μm
とし、好ましい範囲である10μmから150μmの範
囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果を
得ることが可能である。 【0058】次に、本発明による放射線固体検出器の第
5の実施の形態について図6を参照して説明する。図6
は本実施の形態による放射線固体検出器20eの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図6にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0059】この放射線固体検出器20eは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0060】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを5μmとし、エレメント26aおよ
びエレメント27aの幅を7.5μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を5μm、すなわち周期を25μmとしてい
る。また画素ピッチは100μmとし、また3ペアごと
に1ペア分の間隔を離して配置して1画素分の電極を3
ペアのエレメントにより構成している。 【0061】本実施の形態においても、周期を25μm
とし、好ましい範囲である10μmから150μmの範
囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果を
得ることが可能である。 【0062】次に、本発明による放射線固体検出器の第
6の実施の形態について図7を参照して説明する。図7
は本実施の形態による放射線固体検出器20fの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図7にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0063】この放射線固体検出器20fは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0064】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを10μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を15μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を10μm、すなわち周期を50μmとして
いる。また画素ピッチは150μmとし、1画素分の電
極を3ペアのエレメントにより構成している。 【0065】本実施の形態においても、周期を50μm
とし、好ましい範囲である10μmから150μmの範
囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果を
得ることが可能である。 【0066】次に、本発明による放射線固体検出器の第
7の実施の形態について図8を参照して説明する。図8
は本実施の形態による放射線固体検出器20gの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図8にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0067】この放射線固体検出器20gは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0068】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを10μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を45μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を30μm、すなわち周期を150μmとし
ている。また画素ピッチは150μmとし、1画素分の
電極を1ペアのエレメントにより構成している。 【0069】また、この検出器20gにおいては、記録
用光導電層22と電荷輸送層23との界面である蓄電部
29に、多数の離散した方形のマイクロプレート(微小
導電部材)28が、隣接したマイクロプレート28間に
間隔を置いて、エレメント26aおよびエレメント27
aのペアの真上に配設されている。このマイクロプレー
ト28の各辺の長さは、上記周期と略同一(隣接するマ
イクロプレートに対して間隔を設けるために若干小さめ
に設定)、つまり解像可能な最小の画素ピッチと略同一
の寸法に設定されている。マイクロプレート28の配設
される位置が検出器上の画素位置となる。 【0070】本実施の形態においても、周期を150μ
mとし、好ましい範囲である10μmから150μmの
範囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることが可能である。 【0071】次に、本発明による放射線固体検出器の第
8の実施の形態について図9を参照して説明する。図9
は本実施の形態による放射線固体検出器20hの断面図
である。なお、本図中においては、支持体18、絶縁層
30および遮光膜31は省略している。また、図9にお
いては、図1に示す第1の実施の形態による検出器20
aの要素と同等の要素には同番号を付し、それらについ
ての説明は特に必要のない限り省略する。 【0072】この放射線固体検出器20hは、第1導電
層21、記録用光導電層22、電荷輸送層23、読取用
光導電層24、ストライプ電極26およびサブストライ
プ電極27を備えた第2導電層25、絶縁層30、支持
体18をこの順に配してなるものである。また、支持体
18上の各エレメント27aおよびエレメント26aと
エレメント27aとの間に対応する部分に遮光膜31が
設けられている。各層には、第1の実施の形態による検
出器20aと同様のものを使用している。 【0073】なお、本実施の形態においては、読取用光
導電層24の厚さを30μmとし、エレメント26aお
よびエレメント27aの幅を30μm、隣り合うエレメ
ント間の幅を20μm、すなわち周期を100μmとし
ている。また画素ピッチは200μmとし、1画素分の
電極を2ペアのエレメントにより構成している。 【0074】本実施の形態においても、周期を100μ
mとし、好ましい範囲である10μmから150μmの
範囲内に設定したため、第1の実施の形態と同様の効果
を得ることが可能である。 【0075】以上、本発明による放射線固体検出器の好
ましい実施の形態について説明したが、本発明は上記実
施の形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変更
しない限りにおいて、種々変更することが可能である。 【0076】例えば、上記実施の形態による検出器は、
何れも、記録用光導電層が、記録用の放射線の照射によ
って導電性を呈するものであるが、本発明による検出器
の記録用光導電層は必ずしもこれに限定されるものでは
なく、記録用光導電層は、記録用の放射線の励起により
発せられる光の照射によって導電性を呈するものとして
もよい(特開2000−105297号公報参照)。こ
の場合、第1導電層の表面に記録用の放射線を、例えば
青色光等、他の波長領域の光に波長変換するいわゆるX
線シンチレータといわれる波長変換層を積層したものと
するとよい。この波長変換層としては、例えばヨウ化セ
シウム(CsI)等を用いるのが好適である。また、第
1導電層は、記録用の放射線の励起により波長変換層で
発せられた光に対して透過性を有するものとする。 【0077】また、上記実施の形態による検出器20a
〜gは、記録用光導電層と読取用光導電層との間に電荷
輸送層を設け、記録用光導電層と電荷輸送層との界面に
蓄電部を形成するようにしたものであるが、電荷輸送層
をトラップ層に置き換えたものとしてもよい。トラップ
層とした場合には、潜像電荷は、該トラップ層に捕捉さ
れ、該トラップ層内またはトラップ層と記録用光導電層
の界面に潜像電荷が蓄積される。また、このトラップ層
と記録用光導電層の界面に、画素毎に、格別に、マイク
ロプレートを設けるようにしてもよい。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
Dose or amount of light emitted by excitation of the radiation
A power storage unit that stores a charge corresponding to the
The present invention relates to a radiation solid state detector. [0002] Today, radiography for medical diagnosis and the like
In the shadow, the charge obtained by detecting the radiation is the latent image charge.
Once stored in the power storage unit, and the stored latent image charge is
Radiation solid state detection that is converted into electrical signals representing image information and output
Radiation image using a detector (hereinafter also simply referred to as a detector)
Various information recording / reading apparatuses have been proposed. This device
Various types of radiation solid-state detectors are used.
Have been proposed, but the accumulated charge is transferred to the outside.
Read light to the detector from the aspect of the charge readout process to read out
Light reading method that reads by reading (electromagnetic wave for reading)
There is. The applicant of the present invention has a high-speed response and efficient reading.
Optical readout that can achieve both good signal charge extraction
As a radiation solid state detector, JP-A-2000-105
297, JP 2000-284056, JP 200
In 0-284057, the recording radiation or the
Light emitted by radiation excitation (hereinafter referred to as recording light)
A first conductive layer transparent to the recording light
Recording photoconductive layer exhibiting electrical conductivity and the first conductive layer
For the charge of the same polarity as the charge to be charged
Against the charge of the same polarity and the opposite polarity.
A charge transport layer that acts as a substantially conductive material, reading light (reading)
It exhibits electrical conductivity when irradiated with electromagnetic waves)
A photoconductive layer for reading and a second conductor transparent to the reading light
The electric layers are stacked in this order, and the recording photoconductive layer and the charge
Image information is carried in the electricity storage unit formed at the interface with the transport layer
A detector that accumulates signal charge (latent image charge)
Yes. The above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2000-284056.
No. and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-284057
In addition, an electrode of the second conductive layer having transparency to the reading light is provided.
Photo-charge pair generating linear shape that is transparent to many reading lights
In addition to a stripe electrode consisting of electrodes,
Outputs electrical signals at a level corresponding to the amount of accumulated latent image charge
A plurality of photoelectric charge pair non-generating linear electrodes
Alternating with and parallel to the charge pair generating linear electrodes
Furthermore, a detector provided in the second conductive layer is proposed. In this way, a large number of photocharge pairs versus non-generating linear electricity
A sub-striped electrode comprising a pole is provided in the second conductive layer
As a result, a new
Capacitors are formed and stored in the electricity storage unit by recording light
The transport charge with the opposite polarity to the latent image charge is
This sub-striped electrode is also charged by reordering.
It is possible to This allows the read photoconductive layer to be
A capacitor formed between the stripe electrode and the power storage unit.
The amount of the transport charge distributed to the sensor is
Relatively less than when no electrode is provided
That can be taken out of the detector as a result
Increase the amount of charge to improve reading efficiency and read
Both high-speed response and efficient signal charge extraction
You can also plan. [0006] By the way, as described above.
In detectors equipped with various sub-striped electrodes,
The width of the load-generating linear electrode, the width of the photocharge versus the non-generating linear electrode
And the width between each linear electrode greatly increases the reading efficiency of the stored charge.
Affect. For example, the width of the photocharge pair generating linear electrode and
If the width of the non-generating linear electrode is reduced, the electrical resistance
There is a risk of delay in the read signal due to high resistance, and
Also, disconnection due to defective etching during electrode manufacturing
May occur. Also, when the width between each linear electrode is narrowed
Discharge occurs when a high voltage is applied to each linear electrode.
There is a risk of short-circuiting between the linear electrodes, and when manufacturing the electrodes
Between the linear electrodes due to contamination
There is a risk. Also, the width of the photocharge pair generating linear electrode, the photocharge
Increase the width of the non-generating linear electrodes and the width between each linear electrode.
The latent image charge accumulated in the power storage unit
Detects because the jumping distance that the load goes out becomes longer
The reading efficiency of the instrument is reduced. As described above, the photocharge pair generating linear electrode
Width, photocharge vs. non-generating linear electrode width and between each linear electrode
Various problems arise if the width is not optimized. The present invention has been made in view of the above circumstances.
Radiation solid state detector provided with sub-striped electrode
In this case, the stored charge can be read out efficiently.
It is intended to provide a ray solid state detector
The SUMMARY OF THE INVENTION Radiation solids according to the present invention
The detector includes a first conductive layer that is transmissive to recording light.
And exhibits photoconductivity when irradiated with recording light
The recording photoconductive layer and a charge corresponding to the amount of recording light
Power storage unit that stores image charge and irradiation of reading light
A photoconductive layer for reading that exhibits photoconductivity, and reading light
Photoelectric charge pair generating linear electrodes that are transparent to
A large number of photo-charge pair non-generating linear electrodes,
Alternating arrangement of generating linear electrodes and non-generating linear electrodes
Radiation formed by laminating the second conductive layer formed in this order
In a solid state detector, a photocharge pair generating linear electrode and a photocharge pair
When a pair with a non-generating linear electrode is one cycle, the cycle is
The range is from 10 μm to 150 μm
Is. Here, “photo charge pair generating linear electrode and photo charge pair”
“A pair with a non-generating linear electrode is defined as one cycle” in FIG.
As shown, paired with the pair A photo-charge pair generating linear electrode
Photo charge of pair B adjacent to A and intermediate between non-generating linear electrodes
From pair A photocharge pair non-generating linear electrode and adjacent to pair A
1 turn to the middle of the paired photo-charge pair generating linear electrode
It means to be a period. Therefore, the width of “period” is
Pair A of photocharge pair generating linear electrode and pair adjacent to pair A
The light of the pair A from the middle of the photocharge pair of B and the non-generating linear electrode
Non-charge pair generating linear electrode and photoelectric of pair C adjacent to pair A
The length is up to the middle of the load-generating linear electrode. In addition,
The elementary pitch need not be the same as the above period, for example,
One pixel may be composed of four periods of linear electrodes.
Yes. In addition, the above pairs need to be placed consecutively.
For example, as shown in FIG.
Make arrangements such as arranging (thinning out) at intervals of minutes.
Both are possible. Further, the “radiation solid state detector” is the first guide.
An electroconductive layer, a recording photoconductive layer, a reading photoconductive layer, and a second conductive layer.
It has a conductive layer in this order, a photoconductive layer for recording and a reading layer
A power storage unit is formed between the photoconductive layer and the photoconductive layer.
In addition, other layers and micro conductive members (micro plates)
It may be formed by laminating and the like. Also this
The radiation solid state detector is a light that carries radiation image information
(Radiation or light generated by radiation excitation)
The image information is recorded as an electrostatic latent image.
Anything that can be made
Yes. As a method of forming the power storage unit,
Is provided with a charge transport layer and the charge transport layer and the photoconductive layer for recording.
A method for forming a power storage unit at the interface with a layer
JP 2000-105297, JP 2000-28
4056), this trap is provided with a trap layer.
Stored in the layer or at the interface between the trap layer and the photoconductive layer for recording.
Methods for forming electrical parts (eg, US Pat. No. 4,453,546)
No. 8), or the latent image charge is concentrated and stored.
A method of providing a conductive member or the like (JP 2000
-284057)) or the like may be used. Further, “light having transparency to reading light”
“Charge pair generating linear electrode” means that reading light is transmitted and reading light is transmitted.
It is an electrode that generates charge pairs in the conductive layer. Also, "light
`` Charge pair non-generating linear electrode '' is a latent image accumulated in the electricity storage unit
To output an electrical signal at a level corresponding to the amount of charge
It is an electrode, and it is desirable to have a light shielding property against the reading light
However, there is no photocharge pair between the non-generating linear electrode and the reading light irradiation means.
When a light-shielding film having a light-shielding property is provided between them,
The non-generating linear electrode is not necessarily required to have a light shielding property.
Here, “light-shielding” means completely blocking the reading light.
Not limited to those that do not generate charge pairs,
Even though it has some permeability, the charge generated by it
Including those where the pair is not practically problematic
The Therefore, all charge pairs generated in the reading photoconductive layer
Only by reading light transmitted through the charge pair generating linear electrode
However, the reading is slightly transmitted through the non-generating linear electrode.
Charge pairs also generate charge pairs in the photoconductive layer for reading.
It shall be possible. Further, “reading light” is emitted from the electrostatic recording medium.
The electrostatic latent image can be electrically read.
Anything that makes it possible, specifically light or
Radiation etc. It should be noted that radiation using the detector according to the invention
When recording and reading line images, for example,
A book as described in 2000-284056
Recording method using a conventional detector to which the invention is not applied and
Without changing the reading method and its device
Can be used. According to the present invention, there is provided a radiation solid state detector.
For example, a photo-charge pair generating linear electrode and a non-photo-charge generating linear electrode
This period is changed from 10 μm to 1
Because it has been optimized to 50μm, the amount of stored charge that can be extracted is
Can be increased, improving reading efficiency and image S / N
Can be made. That is, when narrower than 10 μm,
Read signal delay occurs because the electrical resistance of the linear electrode increases.
Or etching failure during electrode manufacturing
There is a risk of disconnection due to the like. Also between the linear electrodes
Since the width becomes narrow, a high voltage is applied to each linear electrode.
There is a risk that electrical discharge will occur, causing a short circuit between the linear electrodes.
In addition, each linear electrode is caused by contamination of dust during electrode manufacturing.
There is a risk of short circuit. When the width is larger than 150 μm,
Photocharge pair generation line from the center of the linear electrode
To the center of the non-generating linear electrode
Since the distance becomes longer, the latent image charge accumulated in the power storage unit
The jump distance that the photo-generated charge goes away will be longer
Therefore, the reading efficiency of the detector is reduced. Therefore, the above period is changed from 10 μm to 15 μm.
Avoiding these problems by making the range 0 μm
Provide a reliable radiation solid state detector
It is possible to DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings.
The embodiment will be described. FIG. 1 shows a radiation solid according to the present invention.
It is a figure which shows schematic structure of 1st Embodiment of a detector,
1A is a perspective view of the radiation solid state detector 20a, FIG.
(B) is the XZ cross section of the Q arrow part of the radiation solid state detector 20a.
Fig. 1 (C) shows the arrow P part of the radiation solid detector 20a.
It is XY sectional drawing. FIG. 2 shows a charge pair generating linear electrode.
And a charge-pair non-generating linear electrode pair as one cycle
It is sectional drawing similar to FIG. 1 (B) for demonstrating a period.
In FIG. 2, support 18, insulating layer 30 and
The light shielding film 31 is omitted. The radiation solid detector 20a detects a subject.
Recording light carrying image information of radiation such as transmitted X-rays
Against (radiation or light generated by radiation excitation)
The first conductive layer 21 having transparency and the first conductive layer 2
1 by receiving recording light that has passed through 1
A photoconductive layer for recording 22 which is generated and exhibits conductivity;
Is substantially insulated against latent image polar charge (eg negative charge)
Transport pole that acts as a body and has a polarity opposite to that of the latent image polar charge
Almost conductive to ionic charge (positive charge in the above example)
Charge transport layer 23 acting as a body, irradiated with reading light
Reading light which generates charge pairs and exhibits conductivity
Conductive layer 24, stripe electrode 26, and sub stripe
Second conductive layer 25 provided with electrode 27, transmissive for reading light
Insulating layer 30, having transparency to reading light
The support 18 is arranged in this order. Light for recording
At the interface between the conductive layer 22 and the charge transport layer 23, the photoconductive layer for recording is used.
Latent image polar charge carrying image information generated in layer 22
Accumulating power storage units 29 are formed in a two-dimensional distribution. The support 18 is transparent to the reading light.
A glass substrate or the like can be used. Also for reading light
In addition to being transparent, its coefficient of thermal expansion is for reading
Use a material that is relatively close to the coefficient of thermal expansion of the material of the photoconductive layer 24
It is more desirable. For example, the reading photoconductive layer 24 is used.
When using a-Se (amorphous selenium)
Then, the coefficient of thermal expansion of Se is 3.68 × 10 -5 / K @ 40
Considering that it is ° C., the coefficient of thermal expansion is 1.0 to 10.
0x10 -5 / K @ 40 ° C., more preferably 4.0-
8.0 × 10 -5 Use material that is / K @ 40 ° C.
The material with a coefficient of thermal expansion in this range is polycarbonate.
And organic poly, such as polymethyl methacrylate (PMMA)
Mer material can be used. This makes the board
As a support 18 and a reading photoconductive layer 24 (Se film);
The thermal expansion of the
Large temperature support, such as during ship transport under cold climate conditions.
The support 18 and the reading photoconductive layer 24
Thermal stress occurs at the interface of the two, both physically peel off,
The reading photoconductive layer 24 is broken or the support 18 is broken.
The problem of destruction due to thermal expansion difference does not occur.
Yes. In addition, organic polymer materials are more resistant than glass substrates.
There is a merit that it is strong against hitting. The material of the recording photoconductive layer 22 includes a-
Se (amorphous selenium), PbO, PbI 2 Etc.
Lead oxide (II), lead iodide (II), Bi 12 (Ge, S
i) O 20 , Bi 2 I 3 / Organic polymer nanocomposite
A photoconductive substance mainly composed of at least one of
Is appropriate. As the substance of the charge transport layer 23, for example,
Mobility of negative charge charged on one conductive layer 21 and its opposite polarity
The larger the difference in positive charge mobility that becomes the property, the better (for example, 1
0 2 Or more, preferably 10 3 Above) Poly N-vinyl cal
Vazole (PVK), N, N'-diphenyl-N, N'-bis
(3-Methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4 ′
-Organics such as diamine (TPD) and discotic liquid crystals
Compounds or TPD polymers (polycarbonate
G, polystyrene, PUK) dispersion, Cl 10-20
A semiconductor material such as a-Se doped with 0 ppm is suitable.
The In particular, organic compounds (PVK, TPD, discote
Liquid crystal) is preferred because it has light insensitivity.
In addition, since the dielectric constant is generally small, the charge transport layer 23 and the reading layer are used.
The capacity of the photoconductive layer 24 is reduced, and the signal is extracted during reading.
Efficiency can be increased. In addition, "it has light insensitivity
“Perform” is almost conductive even when irradiated with recording light or reading light.
It means not exhibiting sex. As the material of the reading photoconductive layer 24, a-
Se, Se-Te, Se-As-Te, metal-free phthalos
Anine, metal phthalocyanine, MgPc (Magnesium ph
talocyanine), VoPc (phase II of Vanadyl phthal
cyanine), CuPc (Cupper phtalocyanine), etc.
A photoconductive substance mainly composed of at least one
is there. The thickness of the recording photoconductive layer 22 is sufficient to prevent recording light.
In order to be able to absorb in minutes, 50 μm or more and 1000
It is preferable that it is below μm. The charge transport layer 23 and the reading photoconductive layer 24 are also provided.
And the total thickness is less than 1/2 of the thickness of the recording photoconductive layer 22
It is desirable that
For example, 1/10 or less, and
Is preferably 1/100 or less. The material of each of the above layers is the first conductive layer 21.
Negative charge, and the second conductive layer 25 is charged positive charge.
Formed at the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23.
The negative charge as the latent image polar charge is accumulated in the power storage unit 29.
And charge transport layer 23 as latent image polar charge
Rather than the negative charge mobility of the
So-called holes with higher positive charge mobility as a load
An example of what is suitable for functioning as a transport layer
There are, however, these are charges of opposite polarity
Well, when reversing the polarity in this way, the hole transport layer
A charge transport layer that functions as an electron transport layer
Just make a few changes, such as changing to a charge transport layer
Yes. For example, the recording photoconductive layer 22 may be the above-described one.
Amorphous selenium a-Se, lead (II) oxide, lead iodide
A photoconductive substance such as (II) can be used in the same manner, and the charge transport layer
N-trinitrofluorenylidene aniline as 23
(TNFA) Dielectric, Trinitrofluorenone (TNF) / Po
Reester dispersion, asymmetric diphenoquinone derivatives are suitable
As the photoconductive layer 24 for reading, the above metal-free phthalo
Cyanine and metal phthalocyanine can be used as well. In the detector 20a, the power storage unit 29
At the interface between the recording photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23
However, the present invention is not limited to this. For example, US Pat. No. 4,535,468
Latent image polar charge is stored as a trap
The power storage unit may be formed by a trap layer. The first conductive layer 21 is used for recording light.
What is necessary is just to have transparency, for example for visible light
In order to make it transparent, as a light-transmissive metal thin film
Well known Nesa film (SnO 2 ), ITO (Indium Tin O
xide) or amorphous light that is easy to etch
IDIXO (Idemitsu IndiumX-m) is a permeable metal oxide
etal Oxide: Idemitsu Kosan Co., Ltd.)
For thickness of about 200 nm, preferably 100 nm or more
Can be. Also, aluminum Al, gold Au,
Pure metal such as molybdenum Mo, chromium Cr, etc., for example, 20
The thickness should be less than or equal to nm (preferably about 10 nm)
Can also be transparent to visible light.
The Note that X-rays are used as recording light, and the first conductive layer 21 is used.
When recording an image by irradiating the X-ray from the side, the first
The conductive layer 21 does not need to be transparent to visible light.
Thus, the first conductive layer 21 is made of, for example, 100 nm thick Al.
Pure metals such as Au and Au can also be used. The second conductive layer 25 has a large number of reading light transmission properties.
Strike element (photocharge pair generating linear electrode) 26a
Striped electrodes 26 arranged in a loop and a large number of reading lights
Light-shielding element (photocharge pair non-generating linear electrode) 27a
The sub-striped electrode 27 is formed by arranging them in a stripe shape.
And. Each element 26a, 27a
26a and element 27a alternately and one another
They are arranged in parallel. Both elements
A part of the photoconductive layer 24 for reading is interposed between
The live electrode 26 and the sub stripe electrode 27 are electrically
Insulated. The sub stripe electrode 27 is used for recording light.
Storage formed at substantially the interface between the conductive layer 22 and the charge transport layer 23.
The level of electric power according to the amount of latent image charge accumulated in the electric unit 29
This is a conductive member for outputting an air signal. Here, each element of the stripe electrode 26
As the material of the electrode material forming the top 26a, ITO (In
dium Tin Oxide), IDIXO (Idemitsu Indium X-me
talOxide; Idemitsu Kosan Co., Ltd.), aluminum or
Ribden or the like can be used. Sub strike
The material of the electrode material forming each element 27a of the electrode 27
As the quality, aluminum, molybdenum, chromium, etc.
Can be used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 10 μm, and the element 26a
And the element 27a has a width of 15 μm and adjacent elements
The width between the terminals is 10 μm, that is, the period is 50 μm.
Yes. The pixel pitch is 50 μm, and the electrode for one pixel
Is composed of a pair of elements. Further, each element 27a on the support 18 is provided.
And between the element 26a and the element 27a
Irradiation intensity of reading light to element 27a in the corresponding part
Is smaller than the irradiation intensity of the reading light to the element 26a.
A light-shielding film 31 made of a member having poor light transmittance is provided.
It is As a member of the light shielding film 31, it is not always necessary.
The light shielding film 31 may not have to be insulating.
Specific resistance is 2 × 10 -6 Or more (more preferably 1 × 10
15 Ω · cm or less) can be used. Example
For example, if it is a metal material, use Al, Mo, Cr, etc.
MOS for organic materials 2 , WSi 2 TiN
Etc. can be used. The specific resistance of the light shielding film 31 is
It is more preferable to use one having a resistance of 1 Ω · cm or more. At least as a member of the light shielding film 31
When a conductive member such as a metal material is used, the light shielding film 3
1 to avoid direct contact between the element 27a
An insulator is placed between them. The detector 20a of this embodiment is a
As an insulating material, between the second conductive layer 25 and the support 18
SiO 2 An insulating layer 30 made of or the like is provided. This insulation
The thickness of the layer 30 is preferably about 0.01 to 10 μm.
Or about 0.1 μm to 1 μm, most preferably 0.5 μm
The degree is good. In this detector 20a, a recording light guide is used.
Between the first conductive layer 21 and the power storage unit 29 with the electric layer 22 in between.
A capacitor C * a is formed, and the charge transport layer 23 and the reading
Power storage unit 29 and stripe electrode with taking photoconductive layer 24 in between
26 (element 26a) with a capacitor C * b
The read photoconductive layer 24 and the charge transport layer 23 are formed.
Power storage unit 29 and sub-strip electrode 27 (element
To the capacitor 27a). Reading
During the charge rearrangement at the time of taking, each capacitor C * a,
Amount of positive charge Q + a, Q + distributed to C * b, C * c
b, Q + c, the total Q + is the same as the amount Q- of latent image polar charge
The quantity proportional to the capacitance Ca, Cb, Cc of each capacitor
It becomes. This can be expressed as follows:
The Q− = Q + = Q + a + Q + b + Q + c Q + a = Q + × Ca / (Ca + Cb + Cc) Q + b = Q + × Cb / (Ca + Cb + Cc) Q + c = Q + × Cc / (Ca + Cb + Cc) and detector The signal charge is
Positive charge amount Q + distributed to the capacitors C * a and C * c
a, the same as the sum of Q + c (Q + a + Q + c)
Positive charge distributed to the capacitor C * b is taken as signal charge.
(For details, see JP-A-2000-284056)
reference). Here, the stripe electrode 26 and the substrate
Capacitors C * b and C * c by tripe electrode 27
Considering the quantity, the capacity ratio Cb: Cc is
The width ratio Wb: Wc of the ment 26a, 27a. one
On the other hand, the capacitance Ca of the capacitor C * a and the capacitor C * b
The capacitance Cb is substantially equal even if the sub-striped electrode 27 is provided.
There will be no significant impact on As a result, charge rearrangement during reading
And the amount of positive charge Q + b distributed to the capacitor C * b
Relative to the case where the sub stripe electrode 27 is not provided.
Substripe power can be reduced accordingly.
Signal charge that can be extracted from the detector 20a via the pole 27
The amount is relative to the case where the sub-striped electrode 27 is not provided.
Can be increased. In the radiation solid state detector according to the present embodiment,
A pair of element 26a and element 27a
This period is set to 50 μm, and is preferable.
Set within the range of 10μm to 150μm
Therefore, the amount of stored charge that can be extracted can be increased.
Reading efficiency and image S / N can be improved.
The Next, a radiation solid state detector according to the present invention is described.
A second embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of a radiation solid state detector 20b according to the present embodiment.
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20b has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, the reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 30 μm, and the element 26a
And the width of the element 27a is 30 μm, adjacent elements
The width between the terminals is 20 μm, that is, the period is 100 μm.
ing. Also, the pixel pitch is 100 μm, and it is for one pixel
The electrode is composed of a pair of elements. Also in this embodiment, the period is set to 100 μm.
m, a preferred range of 10 μm to 150 μm
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment
It is possible to obtain Next, the radiation solid state detector according to the present invention
A third embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of a radiation solid state detector 20c according to the present embodiment.
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20c has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 10 μm, and the element 26a
And the element 27a has a width of 15 μm and adjacent elements
The width between the terminals is 10 μm, that is, the period is 50 μm.
Yes. Also, the pixel pitch is 100 μm and the power for one pixel is set.
The pole is composed of two pairs of elements. Also in this embodiment, the period is 50 μm.
The preferred range is 10 μm to 150 μm.
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment is obtained.
It is possible to obtain. Next, the radiation solid state detector according to the present invention
The fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of a radiation solid state detector 20d according to the present embodiment.
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20d has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 5 μm, and the element 26a and
Element 27a has a width of 7.5 μm and adjacent elements
The width between the terminals is 5 μm, that is, the period is 25 μm.
The The pixel pitch is 100 μm, and the electrode for one pixel
Is composed of four pairs of elements. Also in this embodiment, the cycle is 25 μm.
The preferred range is 10 μm to 150 μm.
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment is obtained.
It is possible to obtain. Next, the radiation solid state detector according to the present invention
Embodiment 5 will be described with reference to FIG. FIG.
Is a cross-sectional view of a radiation solid state detector 20e according to the present embodiment
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20e has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 5 μm, and the element 26a and
Element 27a has a width of 7.5 μm and adjacent elements
The width between the terminals is 5 μm, that is, the period is 25 μm.
The The pixel pitch is 100 μm and every 3 pairs
3 pairs of electrodes for 1 pixel by placing them at an interval of 1 pair
It consists of a pair of elements. Also in this embodiment, the cycle is 25 μm.
The preferred range is 10 μm to 150 μm.
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment is obtained.
It is possible to obtain. Next, the radiation solid state detector according to the present invention
A sixth embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of the radiation solid state detector 20f according to the present embodiment.
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20f has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 10 μm, and the element 26a
And the element 27a has a width of 15 μm and adjacent elements
The width between the terminals is 10 μm, that is, the period is 50 μm.
Yes. Also, the pixel pitch is 150 μm and the power for one pixel is set.
The pole is composed of three pairs of elements. Also in this embodiment, the period is 50 μm.
The preferred range is 10 μm to 150 μm.
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment is obtained.
It is possible to obtain. Next, the radiation solid state detector according to the present invention will be described.
The seventh embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of a radiation solid state detector 20g according to the present embodiment.
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20g has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 10 μm, and the element 26a
And the width of the element 27a is 45 μm, adjacent elements
The width between the terminals is 30 μm, that is, the period is 150 μm.
ing. The pixel pitch is 150 μm, and it is for one pixel.
The electrode is composed of a pair of elements. In this detector 20g, recording is performed.
Power storage unit that is an interface between the photoconductive layer 22 and the charge transport layer 23
29, a number of discrete rectangular microplates
Between the adjacent microplates 28).
At an interval, element 26a and element 27
Arranged just above the pair of a. This micro play
The length of each side of the groove 28 is substantially the same as the above cycle (adjacent
Slightly smaller to provide space for the ichroplate
That is, almost the same as the smallest resolvable pixel pitch.
The dimensions are set. Arrangement of microplate 28
This position becomes the pixel position on the detector. Also in this embodiment, the period is 150 μm.
m, a preferred range of 10 μm to 150 μm
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment
It is possible to obtain Next, a radiation solid state detector according to the present invention is described.
An eighth embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Is a sectional view of a radiation solid state detector 20h according to the present embodiment
It is. In this figure, the support 18 and the insulating layer
30 and the light shielding film 31 are omitted. In addition, in FIG.
The detector 20 according to the first embodiment shown in FIG.
Elements that are the same as element a are given the same numbers, and
All explanations are omitted unless otherwise required. The radiation solid detector 20h has a first conductive property.
Layer 21, recording photoconductive layer 22, charge transport layer 23, for reading
Photoconductive layer 24, stripe electrode 26, and sub strike
A second conductive layer 25 having a positive electrode 27, an insulating layer 30, and a support
The body 18 is arranged in this order. Also support
18 on each element 27a and 26a
A light shielding film 31 is provided at a portion corresponding to the element 27a.
Is provided. Each layer has a test according to the first embodiment.
The same thing as the unloader 20a is used. In this embodiment, reading light is used.
The thickness of the conductive layer 24 is 30 μm, and the element 26a
And the width of the element 27a is 30 μm, adjacent elements
The width between the terminals is 20 μm, that is, the period is 100 μm.
ing. The pixel pitch is 200 μm, and it is for one pixel.
The electrode is composed of two pairs of elements. Also in this embodiment, the period is set to 100 μm.
m, a preferred range of 10 μm to 150 μm
Since it is set within the range, the same effect as the first embodiment
It is possible to obtain The preferred embodiments of the radiation solid detector according to the present invention have been described above.
Although preferred embodiments have been described, the present invention is
It is not limited to the embodiments, but changes the gist of the invention
As long as it is not, various changes can be made. For example, the detector according to the above embodiment is
In both cases, the recording photoconductive layer is exposed to recording radiation.
The detector according to the present invention is electrically conductive.
The recording photoconductive layer is not necessarily limited to this.
The recording photoconductive layer is not excited by the recording radiation.
As a thing that exhibits conductivity by irradiation of emitted light
(Refer to JP 2000-105297 A). This
In this case, the recording radiation is applied to the surface of the first conductive layer, for example,
So-called X for wavelength conversion to light in other wavelength regions such as blue light
A layered wavelength conversion layer called a line scintillator
Good. As this wavelength conversion layer, for example, iodine iodide is used.
It is preferable to use Cium (CsI) or the like. The second
One conductive layer is a wavelength conversion layer by excitation of recording radiation.
It shall be transparent to the emitted light. In addition, the detector 20a according to the above-described embodiment.
˜g is a charge between the recording photoconductive layer and the reading photoconductive layer.
A transport layer is provided at the interface between the recording photoconductive layer and the charge transport layer.
It is intended to form a power storage unit, but it is a charge transport layer
May be replaced with a trap layer. trap
In the case of a layer, the latent image charge is trapped in the trap layer.
The trap layer or the trap layer and the recording photoconductive layer
The latent image charge is accumulated at the interface. Also this trap layer
And a microphone at the interface of the recording photoconductive layer.
A roplate may be provided.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の第1の実施の形態による放射線固体検
出器の斜視図(A)、Q矢指部のXZ断面図(B)、P
矢指部のXY断面図(C) 【図2】本発明の第1の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図3】本発明の第2の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図4】本発明の第3の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図5】本発明の第4の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図6】本発明の第5の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図7】本発明の第6の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図8】本発明の第7の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【図9】本発明の第8の実施の形態による放射線固体検
出器の断面図 【符号の説明】 20a〜20h 放射線固体検出器 21 第1導電層 22 記録用光導電層 23 電荷輸送層 24 読取用光導電層 25 第2導電層 26 ストライプ電極 26a エレメント(光電荷対発生線状電極) 27 サブストライプ電極 27a エレメント(光電荷対非発生線状電極) 28 マイクロプレート 29 蓄電部
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view (A) of a radiation solid state detector according to a first embodiment of the present invention, an XZ sectional view (Q) of an arrow Q part, and P
FIG. 2 is a cross-sectional view of the radiation solid detector according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-section of the radiation solid detector according to the second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a sectional view of a radiation solid state detector according to a third embodiment of the present invention. FIG. 5 is a sectional view of a radiation solid state detector according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a sectional view of a radiation solid state detector according to the fifth embodiment. FIG. 7 is a sectional view of a radiation solid state detector according to the sixth embodiment of the present invention. FIG. 8 is a radiation diagram according to the seventh embodiment of the present invention. FIG. 9 is a sectional view of a radiation solid state detector according to an eighth embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 20a to 20h Radiation solid state detector 21 First conductive layer 22 Photoconductive layer for recording 23 charge transport layer 24 photoconductive layer for reading 25 second conductive layer 26 stripe electrode 6a element (photoelectric charge pair generating line electrodes) 27 sub stripe electrode 27a element (photoelectric charge pair non-generating line electrodes) 28 microplates 29 power storage unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G088 EE01 GG21 JJ31 4M118 AB01 BA05 CA14 CA31 CB05 FB03 FB09 GB02 GB11 5C024 AX16 AX17 GX07 5F088 AA11 AB05 BA02 BA16 BB07 HA10 LA07 LA08    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2G088 EE01 GG21 JJ31                 4M118 AB01 BA05 CA14 CA31 CB05                       FB03 FB09 GB02 GB11                 5C024 AX16 AX17 GX07                 5F088 AA11 AB05 BA02 BA16 BB07                       HA10 LA07 LA08

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 記録光に対して透過性を有する第1の導
電層と、 前記記録光の照射を受けることにより光導電性を呈する
記録用光導電層と、 前記記録光の光量に応じた量の電荷を潜像電荷として蓄
積する蓄電部と、 読取光の照射を受けることにより光導電性を呈する読取
用光導電層と、 前記読取光に対して透過性を有する多数の光電荷対発生
線状電極と、多数の光電荷対非発生線状電極とを備え、
前記光電荷対発生線状電極と前記光電荷対非発生線状電
極とが交互に配置された第2の導電層とを、この順に積
層してなる放射線固体検出器において、 前記光電荷対発生線状電極と前記光電荷対非発生線状電
極とのペアを1周期とするとき、該周期が10μmから
150μmの範囲であることを特徴とする放射線固体検
出器。
1. A first conductive layer that is transmissive to recording light, a recording photoconductive layer that exhibits photoconductivity when irradiated with the recording light, and the recording A power storage unit that accumulates a charge corresponding to the amount of light as a latent image charge, a reading photoconductive layer that exhibits photoconductivity when irradiated with reading light, and is transparent to the reading light A large number of photoelectric charge pair generating linear electrodes, and a large number of photoelectric charge pair non-generating linear electrodes,
In the radiation solid detector comprising the second conductive layer in which the photocharge pair generating linear electrodes and the photocharge pair non-generating linear electrodes are alternately arranged in this order, the photocharge pair generation A radiation solid state detector, wherein a period of a pair of a linear electrode and the non-generating linear electrode is set in a range of 10 μm to 150 μm.
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